JP2007211336A - 気相成長装置および気相成長方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】気相成長装置のチャンバー内には、被処理基板11を保持する基板保持部材12と、基板保持部材12の下面に接する熱伝達部材9と、被処理基板11を加熱するための基板ヒータ15が設けられている。基板ヒータ15が発した熱は、熱伝達部材9および基板保持部材12を介して、被処理基板11へ伝達される。また、熱伝達部材9の外周部が回転伝達部材16の支持部17によって支持されている。回転伝達部材16は、熱伝達部材9および基板保持部材12を介して被処理基板11へ回転力を伝達する。
【選択図】図2
Description
合物半導体の薄膜を形成する成膜処理技術として注目されている。
まず、図1および図2を用いて、本発明の実施の形態の気相成長装置の概要を説明する。
9の温度分布は、その全面にわたって均一になる。
31が形成され、熱伝達部材9には、フランジ31が嵌め込まれる座繰り穴部32および突出部30が貫通する貫通孔部33が設けられている。座繰り穴部32、貫通孔部33、フランジ31、および突出部30の大きさは、それぞれの熱膨張を考慮して決定されている。この構成によれば、突出部と熱伝達部材とが一体的に形成されている構成に比較して、突出部および熱伝達部材のそれぞれの特性に適した材料および製法を用いることが可能になる。また、熱伝達部材の量を低減することできる。そのため、より安価に熱伝達部材9を製造することが可能になる。
図10に示すように、熱電対25は、先端部26と先端部26に接続された保護管37とを有している。保護管37内において延びる2本の熱電対素線36が先端部26接続されている。先端部26は、略円柱状の金属チップからなる。つまり、熱電対25の先端部26は、その端部に平坦部34を有しており、かつ、その側面部が円柱形状の周面になっている。平坦部34は、熱伝達部材9に極めて近い位置に設置される。
従来の気相成長装置においては、図11に示すように、熱電対25は、円筒状の回転軸14内の空間に回転軸14が延びる方向に沿って挿入されており、隣接する回転軸14の内壁面によって囲まれており、回転軸14の外部のチャンバー1内の空間から隔離されている。また、サセプタの熱容量はかなり大きい。
Claims (13)
- 被処理基板を加熱するための基板ヒータと、
前記基板ヒータが発した熱を前記被処理基板へ伝達するための熱伝達部材と、
前記熱伝達部材を介して前記被処理基板へ回転力を伝達する回転伝達部材とを備え、
前記熱伝達部材の外周部が前記回転伝達部材の支持部によって支持された、気相成長装置。 - 前記支持部が石英を含む、請求項1に記載の気相成長装置。
- 前記熱伝達部材は、外周部に突起部を有し、
前記突起部が前記支持部によって支持された、請求項1に記載の気相成長装置。 - 前記熱伝達部材の中央部の極近傍に前記熱伝達部材の温度を測定する熱電対の先端部が設けられた、請求項1に記載の気相成長装置。
- 前記先端部は、円柱形状を有する、請求項4に記載の気相成長装置。
- 前記熱伝達部材は、前記先端部が挿入された挿入部を含む、請求項4に記載の気相成長装置。
- 前記先端部は、シールド部材内に挿入されている、請求項4に記載の気相成長装置。
- 前記挿入部は、前記先端部に沿って延びる突出部を有する、請求項6に記載の気相成長装置。
- 前記突出部は、前記熱伝達部材から分離され得る独立した構造体である、請求項8に記載の気相成長装置。
- 前記突出部は、シールド部材内に挿入されている、請求項8に記載の気相成長装置。
- 前記シールド部材は、光学的に透明な材料を含む、請求項10に記載の気相成長装置。
- 前記光学的に透明な材料は、サファイアである、請求項11に記載の気相成長装置。
- 前記請求項1〜12のいずれか1項に記載の気相成長装置を用いて所望の薄膜を形成する、気相成長方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2006-08-30 JP JP2006234156A patent/JP2007211336A/ja active Pending
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