JP2007206229A - レジストパターン形成方法および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フォトリソグラフィによるレジストパターン形成方法であって、基板上に酸解離性溶解抑制基を有するレジストを形成する工程と、アルコール系溶媒に溶解した酸性ポリマーをレジスト上に塗布し、上層膜を形成する工程と、マスクを通して露光する工程と、ベーク処理をする工程と、アルカリ現像液で処理する工程とを備え、ベーク処理をする工程において、上層膜によりレジストにミキシング層を形成し、マスクパターンのパターン密度の高い領域では、パターン密度の低い領域に比べて、未露光部にミキシング層が厚く形成されることを特徴とする。
【選択図】図11
Description
R1fCOOH・・・・・(1)
一般式(1)中、R1fは、炭素原子数1〜20の飽和または不飽和の炭化水素基の水素原子の一部または全部をフッ素原子で置換したフッ素化炭化水素基である。
R1fSO3H・・・・・・(2)
R2f(SO2R1f)n・・(3)
一般式(3)中、R2fは、炭素原子数1〜20の飽和または不飽和のフッ素置換または非置換の炭化水素基あるいはアミノ基であり、nは1〜4の整数である。
実施例1においては、化学増幅ポジ型レジストを用い、本発明のレジストパターン形成方法を使用し、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)を照射し、半導体装置を製造した。その工程図を図1に示す。まず、図1(a)に示すように、半導体基板7上に、シリコン酸化膜とポリシリコンなどの導電膜との積層膜からなる下地膜8を形成し、反射防止膜2(日産化学製ARC029A)を厚さ78nm形成した後、ポジ型レジスト1(東京応化工業(株)製TArF−P6111)をスピンコートした。つぎに、図1(b)に示すように、100℃〜150℃の露光前ベークにより、膜厚250nmのレジスト1を得た。つぎに、図1(c)に示すように、上層膜6(東京応化工業(株)製TILC−016)をスピンコートした。上層膜材料は、酸性ポリマーをイソブチルアルコールなどのアルコール系溶媒に溶解したものを用いた。
上層膜として、東京応化工業(株)製TILC−019を使用した以外は、実施例1と同様にして、半導体装置を得た。上層膜材料は、酸性ポリマーをイソブチルアルコールなどのアルコール系溶媒に溶解したものを用いた。本発明における露光工程から現像工程におけるレジストパターンの形成方法を図6に示す。図6(a)に示すように、基板67上に、下地膜68、反射防止膜62、レジスト61と上層膜66を形成した後、マスク63を通して露光した。つぎに、図6(b)に示すように、ベーク処理すると、上層膜66によりレジスト61にミキシング層69が形成され、その後、現像した(図6(c))。露光後、PEB処理を行ない、大気中のアミンにより酸触媒が失活し、レジストがT−トップ化する場合においても、T−トップ層を除去し、T−トップ化を防ぐことができた。そのため、レジスト形状劣化に伴うOPE特性の劣化も改善することができた。
Claims (8)
- フォトリソグラフィによるレジストパターン形成方法であって、
基板上に酸解離性溶解抑制基を有するレジストを形成する工程と、
アルコール系溶媒に溶解した酸性ポリマーを前記レジスト上に塗布し、上層膜を形成する工程と、
マスクを通して露光する工程と、
ベーク処理をする工程と、
アルカリ現像液で処理する工程と
を備え、
前記ベーク処理をする工程において、前記上層膜によりレジストにミキシング層を形成し、マスクパターンのパターン密度の高い領域では、前記パターン密度の低い領域に比べて、未露光部にミキシング層が厚く形成されることを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 前記酸性ポリマーは、屈折率ndが1.40〜1.80である請求項1に記載のレジストパターン形成方法。
- 前記酸性ポリマーは、前記アルカリ現像液に対する溶解速度が2500nm/s以下である請求項1または2に記載のレジストパターン形成方法。
- 前記酸性ポリマーは、酸発生剤および酸性化合物の中から選ばれる少なくとも1種を含有し、酸性化合物は、少なくともフッ素化炭化水素基を有する、カルボン酸、スルホン酸、およびスルホニル化合物の中から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜3のいずれかに記載のレジストパターン形成方法。
- 前記酸性ポリマーは、窒素化合物を含有し、前記窒素化合物は、第4級アンモニウム水酸化物、アルカノールアミン化合物およびアミノ酸誘導体から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜3のいずれかに記載のレジストパターン形成方法。
- 前記酸解離性溶解抑制基は、脂肪族多環式基を含有する請求項1に記載のレジストパターン形成方法。
- 前記多環式基は、フッ素原子またはフッ素化アルキル基で置換され、あるいは置換されていないビシクロアルカン、トリシクロアルカンまたはテトラシクロアルカンから1個の水素元素を除いた基である請求項6に記載のレジストパターン形成方法。
- 請求項1〜7のいずれかに記載のレジストパターン形成方法を用いて、半導体基板上または半導体基板に形成した下地膜上にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクにして、前記半導体基板または前記下地膜をパターンニングする工程と
を備える半導体装置の製造方法。
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