JP2007199091A - カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】着色画素の形成後に研磨による平坦化処理を行い、透明導電膜のスパッタリング法による形成はプラズマ処理にて表面改質を行ったのちに成膜する。研磨剤はアルミナを主成分とする。プラズマ処理が常圧プラズマ処理である。
【選択図】図2
Description
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、カラーフィルタは画素として形成されて使用される。この表示装置に用いるカラーフィルタの画素を形成する方法としては、フォトリソグラフィ法が広く用いられている。
図1、及び図2に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板(50)上にブラックマトリックス(51)、着色画素(52)、透明導電膜(54)が順次に形成されたものである。
図1、及び図2はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素(52)は12個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角17インチの画面に数百μm程度の着色画素が多数個配列されている。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
このブラックマトリックス(51)は、ガラス基板(50)上に、ブラックマトリックス形成用の黒色ホトレジストを用いてフォトリソグラフィ法によって形成された例であり、樹脂を用いて形成されたブラックマトリックスを樹脂ブラックマトリックス(51)と称している。
金属を用い真空装置で薄膜を成膜するブラックマトリックスよりも、黒色フォトレジストを用いてフォトリソグラフィ法によって形成する樹脂ブラックマトリックスの方が価格的に有利なものとなり、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。また、環境に配慮してクロムなどの金属を用いることを回避する傾向にある。
樹脂ブラックマトリックスの膜厚が、例えば、1.0μm程度と厚くなると、図2、及び部分を拡大した図3に示すように、樹脂ブラックマトリックス(51)上にその周縁部を重ねて形成された着色画素(52)は、その周縁部が樹脂ブラックマトリックス(51)の端部上にて突起(53)となる。
また、透明導電膜(54)の形成は、樹脂ブラックマトリックス、着色画素が形成され、平坦化処理が行われたガラス基板上に、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)を用いスパッタリング法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
透明導電膜の成膜は、室温で成膜した後にアニールをして結晶化させ目的とする特性を得る方法や、結晶化温度以上の温度で成膜する方法、或いは、100℃程度の結晶化する手前の低温加熱をした後にアニールをして目的とする特性を得る方法などがある。最近では、カラーフィルタへの影響を低減するために室温又は低温加熱にて形成する方法が一般的である。
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して下記のような、種々な機能が付加されるようになった。
この半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタには、透過表示の着色画素と反射表示の着色画素の2種の着色画素が形成される方式がある。
ってパターン状に形成される。
一方、基本的な機能を備えたカラーフィルタの透明導電膜(43)の上面に設けられる機能としては、例えば、スペーサー機能、配向分割機能などが挙げられる。
透明導電膜のクラックは、透明導電膜の成膜、或いはアニールの際に、既にガラス基板上に形成されているブラックマトリックス、着色画素、及び各付随する層の熱応力による歪みによって、膜厚の薄い透明導電膜が破壊されて生じるクラックである。
前記研磨によって着色画素の表面に露出した顔料がNMPに溶解し、また、着色画素を構成する樹脂が膨潤し、膜厚の薄い透明導電膜が破壊されてクラックが生じることがある。
尚、これらのクラックは、透明導電膜のピンホール、ヒロックなどの欠陥部分やカラーフィルタのパターン端を起点として発生する場合が多い。
製造する際に、表面の平坦化処理として研磨を施しても、透明導電膜に剥がれが発生することのない、また、カラーフィルタを構成する各層の熱応力による歪みや、配向膜の溶剤により透明導電膜にクラックが発生することのないカラーフィルタを製造方法を提供することを課題とするものである。
また、上記カラーフィルタの製造方法を用いて製造したカラーフィルタを提供することを課題とする。
1)前記着色画素の形成後に、研磨による表面の平坦化処理を行い、
2)前記透明導電膜のスパッタリング法による形成は、プラズマ処理にて表面改質を行ったのちに成膜して透明導電膜を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
本発明は、着色画素の表面を、或いは着色画素の表面を研磨により平坦化した表面を、プ
ラズマ処理にて改質を行い、その耐性を向上させたカラーフィルタの製造方法である。
これにより、透明導電膜の剥がれの発生、及び熱応力や配向膜の溶剤による透明導電膜のクラックの発生を防止したカラーフィルタを製造することができる。
<実施例1>
透明基板上にブラックマトリックス、着色画素を順次に形成しってなるカラーフィルタを作製した。次に、アルミナを主成分とする研磨剤を用いてカラーフィルタ表面をオスカー型研磨装置にて平坦化処理を施した。この時の研磨条件は回転数30rpm、圧力40g/cm2 、1分であった。
平坦化処理後の洗浄を行ったのちに、カラーフィルタ表面にプラズマ処理を施した。プラズマ処理は常圧プラズマにて着色画素の表面の改質を行った。この時の条件はN2 ガスを用いカラーフィルタ表面へダイレクトプラズマを照射した。
その後、230℃のオーブンにて熱処理を行い目的の特性をもったITO膜を得た。この構成のITO膜は、その後の熱処理による歪みに対してもクラックの発生のない良好なカラーフィルタを得ることができた。
透明基板上にブラックマトリックス、着色画素を順次に形成しってなるカラーフィルタを作製した。次に、アルミナを主成分とする研磨剤を用いてカラーフィルタ表面をオスカー型研磨装置にて平坦化処理を施した。この時の研磨条件は回転数30rpm、圧力40g/cm2 、1分であった。
平坦化処理後の洗浄を行ったのちに、カラーフィルタをスパッタリング装置に投入した。透明導電膜を成膜する前に、前室においてカラーフィルタ表面にプラズマ処理を施した。この時Ar:200SCCM導入してガス圧を0.67Paに調圧したのち、1500Vの電圧をかけ30秒間の処理を行った。
その後、230℃のオーブンにて熱処理を行い目的の特性をもったITO膜を得た。得られたカラーフィルタは、その後の配向膜の形成工程、及び配向膜の再生工程を経ても膨潤によるクラックは発生せず良好なものであった。
51・・・ブラックマトリックス
52・・・着色画素
53・・・突起
54・・・透明導電膜
Claims (7)
- ガラス基板上に少なくとも、ブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜を順次に形成するカラーフィルタの製造方法において、
1)前記着色画素の形成後に、研磨による表面の平坦化処理を行い、
2)前記透明導電膜のスパッタリング法による形成は、プラズマ処理にて表面改質を行ったのちに成膜して透明導電膜を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 前記研磨に用いる研磨剤が、アルミナを主成分とする研磨剤であることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタの製造方法。
- ガラス基板上に少なくとも、ブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜を順次に形成するカラーフィルタの製造方法において、前記透明導電膜のスパッタリング法による形成は、プラズマ処理にて表面改質を行ったのちに成膜して透明導電膜を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
- 前記プラズマ処理が、スパッタリング装置とは異なる装置による常圧プラズマ処理であることを特徴とする請求項1、請求項2、又は請求項3記載のカラーフィルタの製造方法。
- 前記プラズマ処理が、グロー放電を用いたプラズマ処理であることを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3、又は請求項4記載のカラーフィルタの製造方法。
- 前記透明導電膜が、ITO(酸化インジウムと酸化錫の混合体)であることを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、又は請求項5記載のカラーフィルタの製造方法。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ
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2006
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