JP2007191392A - シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アーク回転溶融法において型中で二酸化珪素粉末6によって基体を形成しかつ基体3の内面に二酸化珪素粉末6によって内層4を形成するシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼの製造方法であり、二酸化珪素粉末6のガス含有量が30μl/g以下、二酸化珪素粉末6のOH基含有濃度が300ppm以下、溶融加熱電力が400〜1000kw、アーク中心点から二酸化珪素粉末6の落とし位置までの水平距離が50〜300mm、アーク中心点から堆積粉底内面までの距離が800mm以下、二酸化珪素粉末6の粒径が300μm以下及び二酸化珪素粉末6の落とし速度が200g/min以下の条件である。
【選択図】図1
Description
Claims (5)
- アーク回転溶融法において型中で二酸化珪素粉末によって基体を形成しかつ該基体の内面に二酸化珪素粉末によって内層を形成するシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼの製造方法であり、二酸化珪素粉末のガス含有量が30μl/g以下、二酸化珪素粉末のOH基含有濃度が300ppm以下、溶融加熱電力が400〜1000kw、アーク中心点から二酸化珪素粉末の落とし位置までの水平距離が50〜300mm、アーク中心点から堆積粉底内面までの距離が800mm以下、二酸化珪素粉末の粒径が300μm以下及び二酸化珪素粉末の落とし速度が200g/min以下の条件であることを特徴とするるつぼ径22″〜28″のシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼの製造方法。
- アーク回転溶融法において型中で二酸化珪素粉末によって基体を形成しかつ該基体の内面に二酸化珪素粉末によって内層を形成するシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼの製造方法であり、二酸化珪素粉末のガス含有量が20μl/g以下、二酸化珪素粉末のOH基含有濃度が300ppm以下、溶融加熱電力が200〜400kw、アーク中心点から二酸化珪素粉末の落とし位置までの水平距離が50〜300mm、アーク中心点から堆積粉底内面までの距離が800mm以下、二酸化珪素粉末の粒径が300μm以下及び二酸化珪素粉末の落とし速度が200g/min以下の条件であることを特徴とするるつぼ径22″〜28″のシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼの製造方法。
- アーク回転溶融法において型中で二酸化珪素粉末によって基体を形成しかつ該基体の内面に二酸化珪素粉末によって内層を形成するシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼの製造方法であり、二酸化珪素粉末のガス含有量が30μl/g以下、二酸化珪素粉末のOH基含有濃度が300ppm以下、溶融加熱電力が600〜2000kw、アーク中心点から二酸化珪素粉末の落とし位置までの水平距離が50〜300mm、アーク中心点から堆積粉底内面までの距離が1500mm以下、二酸化珪素粉末の粒径が300μm以下及び二酸化珪素粉末の落とし速度が200g/min以下の条件であることを特徴とするるつぼ径30″〜48″のシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼの製造方法。
- 前記型の内部粉体層を型内面より減圧引きして減圧状態とすることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼの製造方法。
- 前記減圧状態が10〜700mmHgであることを特徴とする請求項4記載のシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼの製造方法。
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