JP2007184215A - 荷電ビーム照射装置、静電偏向器、静電偏向器の製造方法 - Google Patents

荷電ビーム照射装置、静電偏向器、静電偏向器の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007184215A
JP2007184215A JP2006019013A JP2006019013A JP2007184215A JP 2007184215 A JP2007184215 A JP 2007184215A JP 2006019013 A JP2006019013 A JP 2006019013A JP 2006019013 A JP2006019013 A JP 2006019013A JP 2007184215 A JP2007184215 A JP 2007184215A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
electrodes
length
arrangement region
electrode arrangement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006019013A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4807835B2 (ja
Inventor
Masaya Kato
雅也 加藤
Akira Higuchi
朗 樋口
Masahiro Inoue
雅裕 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Topcon Corp filed Critical Topcon Corp
Priority to JP2006019013A priority Critical patent/JP4807835B2/ja
Publication of JP2007184215A publication Critical patent/JP2007184215A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4807835B2 publication Critical patent/JP4807835B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

【課題】静電偏向器において増幅器を減らすことができるほか、信号の演算を不要とすることにより、コストの低減を図る。
【解決手段】荷電ビーム軸Oの周囲に点対称に配置される8個所の電極配置領域a〜hに、電極板組110,120,130,140を備えるものとし、各電極板組110は複数の電極配置領域に配置される複数の電極板111〜114を備る。4つの電極板組110,120,130,140を配置することによりすべての電極配置領域に電極板を配置し、各電極板組110,120,130,140に信号を印加するアンプ101,102、103、104を備えた。
【選択図】図3

Description

本発明は、電子ビームを含む荷電ビームを収束して試料上に照射し、ビーム発生源と試料との間に配置した偏向装置により試料上の任意の位置にビームを配置する荷電ビーム照射装置、静電偏向器及び静電偏向器の製造方法に関する。
従来から、荷電ビーム照射装置の偏向器として、以下のものがある。特許文献1には、フランジに8分割した電極を一体加工し、電極支持器に装着してなる静電偏向器が記載されている。即ち、電子線応用装置に用いられる複数の電極,電極支持器,偏向器制御系からなる電子線偏向器において、絶縁物からなる電極素材を軸方向に沿って複数個の電極に、円筒電極素材を円筒状に残すよう分割し、その上で前記各電極及び電子線経路から見える部分をメッキ,スッパタ、及び導電性膜などで被覆することにより、複数の電極を精度良く構成し配置する電子線偏向器、即ち、フランジに8分割した電極を一体加工し、電極支持器に装着してなる静電偏向器が記載されている。
また、特許文献2には、成形偏向器として8個の電極X,−X,Y,−Y,X+Y,−X−Y,Y−X,X−Yを備えてより構成され、それぞれ、アンプX,−X,Y,−Y,X+Y,−X−Y,Y−X,X−Yに接続されたものが記載されている。
さらに、特許文献3には、静電偏光器を電子ビーム照射装置に使用するものとして、先端TIPの半径Rが0.5〜数μmの熱電解放射型(TFE:Thermal Field Emission)の電子銃(電子ビーム源)が使用される走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)、半導体製造・検査装置において、電子ビームを高速に偏向させる静電偏向器が用いられているものが示されている。
しかしながら、上述した各例を含み、従来の偏向器にあっては、8個の電極にそれぞれ、必要な信号を印加するため8個の増幅器を必要としている。
図7に示す静電偏向器300では、電極は電極a、電極eをY軸上、電極c、電極gをX軸上に配置し、電極bを(+X,+Y)方向、電極dを(+X,−Y)方向、電極fを(−X,−Y)方向、電極hを(+X,−Y)方向に配置している。また、各電極a〜hには、アンプA〜Hをそれぞれ接続して、アンプAには信号y、アンプBには信号((x+y)/√2)、アンプCには信号(x)、アンプDには信号((x−y)/√2))、アンプEには信号(−y)アンプFには信号((−x−y)/√2)、アンプGには信号(−x)、アンプHには信号((−x+y)/√2)を印加するものとしていた。なお信号x、yはビームを所定方向に偏向させるときX方向及びY方向に加えるべき偏向力を発生させる信号であり、2枚で一組の2組(X方向,Y方向各1組)合計4枚の平行な平板電極の静電偏向器における信号である。
また、図8に示す静電偏向器400では、電極は電極a、電極bを(+X,+Y)方向、電極c、電極dを(+X,−Y)方向、電極e、電極fを(−X,−Y)方向、電極g、電極hを(+X,−Y)方向に順に配置している。また、各電極a〜hには、アンプA〜Hをそれぞれ接続して、アンプAには信号(√2−1)y)、アンプBには信号(x+(√2-1)y)、アンプCには信号(x-(√2-1)y)、アンプDには信号((√2-1)x+y)、アンプEには信号(-(√2-1)x-y)、アンプFには信号(-x-(√2-1)y)、アンプGには信号(-x+(√2-1)y)、アンプHには信号(-(√2)x+y))を印加するものとしていた。
特開平8−171881号公報 特開2000−269124号公報 特開2003−132834号公報
しかし、従来の静電偏向器にあっては、8個所に電極を備えた場合には、各電極に信号を印加する8個のアンプが必要となる。ところが、このような静電偏向器に使用される高速なアンプは高価であるため、全体として静電偏向器のコストが嵩むという問題がある。また、各アンプには信号x,−x,y,-yに所定の演算を行う信号演算器を備える必要がある。
そこで、本発明は、静電偏向器において増幅器を減らすことができる他、信号の演算を不要とすることにより、コストの低減を図ることができる静電偏向器を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明では以下の手段を備える。請求項1の発明は、荷電ビーム軸の周囲に点対称で放射状に分割され前記荷電ビーム軸に沿って配置される電極と、これらの電極に偏向信号を印加する増幅器とを備え、入射した荷電ビームを偏向する静電偏向器において、8電極を各々分割し、4つの電極組を形成し、それらの組に対応した4個の増幅器を配置したことを特徴とする静電偏向器である。
請求項2の発明は、前記8電極は、電極配置領域aに電極+Yを配置し、電極配置領域bに電極+Xと電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域cに電極+Xを配置し、電極配置領域dに電極+Xと電極ーYの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域eに電極−Yを配置し、電極配置領域fに電極−Xと電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域gに電極−Xを配置し、電極配置領域hに電極−Xと電極+Yの少なくとも2つの電極を配置してなることを特徴とする静電偏向器である。
請求項3の発明は、前記8電極は、電極配置領域aに長さhの電極+Yを配置し、電極配置領域bに長さh/√2の電極+Xと長さh/(2√2)の電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域cに長さhの電極+Xを配置し、電極配置領域dに長さh/√2の電極+Xと長さh/(2√2)の電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域eに長さhの電極−Yを配置し、電極配置領域fに長さh/√2の電極−Xと長さh/(2√2)の電極−Yの電極を配置し、電極配置領域gに長さhの電極−Xを配置し、電極配置領域hに長さh/√2の電極−Xと長さh/(2√2)の電極+Yの少なくとも2つの電極を配置してなることを特徴とする静電偏向器である。
請求項4の発明は、前記8電極は、電極配置領域a、bに電極+Xと電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域c、dに電極+Xと電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域e、fに電極−Xと電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域g、hに電極−Xと電極+Yの少なくとも2つの電極を配置してなることを特徴とする静電偏向器である。
請求項5の発明は、前記8電極は、電極配置領域aに長さ(√2−1)hの電極+Xと長さh/2の電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域bに長さh/2の電極+Xと長さ(√2−1)hの電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域cに長さh/2の電極+Xと長さ(√2−1)hの電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域dに長さ(√2−1)hの電極+Xと長さh/2の電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域eに長さ(√2−1)hの電極−Xと長さh/2の電極−Yを配置し、電極配置領域fに長さh/2の電極−Xと長さ(√2−1)hの電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域gに長さh/2の電極−Xと長さ(√2−1)hの電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域hに長さ(√2−1)hの電極−Xと長さh/2の電極+Yの少なくとも2つの電極を配置してなることを特徴とする静電偏向器である。
請求項6の発明は、前記8電極の各々の配置領域は、電極配置領域a、電極配置領域eをY軸上、電極配置領域c、電極配置領域gをX軸上に配置し、電極配置領域bを(+X,+Y)方向、電極配置領域dを(+X,−Y)方向、電極配置領域fを(−X,−Y)方向、電極配置領域hを(+X,−Y)方向に配置することを特徴とする静電偏向器である。
請求項7の発明は、前記8電極の各々の配置領域は、電極配置領域a、電極配置領域bを(+X,+Y)方向、電極配置領域c、電極配置領域dを(+X,−Y)方向、電極配置領域e、電極配置領域fを(−X,−Y)方向、電極配置領域g、電極配置領域hを(+X,−Y)方向に順に配置することを特徴とする静電偏向器である。
請求項8の発明は、前記4つの電極組は、各々配線で結合されていることを特徴とする静電偏向器である。
請求項9の発明は、前記4つの電極組は、各々結合され一体成形の電極板に形成されていることを特徴とする静電偏向器である。
請求項10の発明は、前記4つの増幅器は、前記荷電ビーム軸に垂直な面に設定される直行するX−Y軸に対応して、それぞれ符号が異なり絶対値が等しいX,−X,Y,−Y成分の偏向信号を各電極組に印加することを特徴とする静電偏向器である。
請求項11の発明は、請求項1ないし8のいずれかの静電偏向器を備えたことを特徴とする荷電ビーム照射装置である。
請求項12の発明は、上端に絶縁体への取付用のフランジ部を形成した略回転体状の電極素材に、その母線に沿った方向に複数のスリットを形成しておき、前記フランジ部を前記絶縁体に結合した後、前記スリットに連通するよう電極素材を切断加工して、電気的に分離した複数の電極部材から構成して、請求項1ないし7、9、10の静電偏向器の電極を製造することを特徴とする静電偏向器の製造方法である。
請求項13の発明は、前記切断加工は、放電加工でなされることを特徴とする静電偏向器の製造方法である。
本発明によれば、例えば8極の静電偏向器であっても増幅器の数を4つにすることができ、アンプの数を減らすことができるほか、信号の演算を行う必要がなくなるので静電偏向器の製造コストを削減することができる。
以下、本発明に係る荷電ビーム照射装置の実施の形態について説明する。図1は実施の形態に係る荷電ビーム照射装置の構造を示す断面図、図2は図1に示した荷電ビーム照射装置の電極の配置位置を示す静電偏向器の横断面図、図3は図2に示した静電偏向器の電極の構成と増幅器の接続状態を示す展開図、図4は図2に示した静電偏向器における荷電ビームの軌跡と共に示した静電偏向器の縦断面図である。
本例に係る荷電ビーム照射装置は、走査電子顕微鏡などであり、本発明に係る静電偏向器を備える。この走査電子顕微鏡は、鏡筒10内上部の電子線源11から発生した電子線41を、アライメントコイル12(第1偏向手段)、スティグコイル13(第2偏向手段)で偏向させ、対物レンズコイル14(倍率調整手段)で倍率調整し、試料を走査する。そして、試料21から発生する二次電子、反射電子などの荷電粒子42を検出器30で検出し、図示しないモニター等の画像表示手段で試料像を表示し観察する。
本例では、静電偏向器100は、図2に示すように、電子ビーム軸Oに垂直な平面で前記電子ビーム軸Oを原点とするX−Y平面上に軸対象に8個所の電極配置領域a〜hを設定している。ここで、電子ビーム軸Oを原点とするX−Y平面は、いわば試料面上の座標である。即ち、本例では、各電極配置領域a〜hは、電子ビーム軸Oから略45°をなす角度で設けられ、電極配置領域a、電極配置領域eをY軸上、電極配置領域c、電極配置領域gをX軸上に配置し、電極配置領域bを(+X,+Y)方向、電極配置領域dを(+X,−Y)方向、電極配置領域fを(−X,−Y)方向、電極配置領域hを(+X,−Y)方向に配置している。したがって、Y軸上で電子線をふらせる場合には、電極a、電極eのみに印加するように増幅器で電気信号を増幅させる。同様に、X軸上で電子線をふらせる場合には、電極c、電極gを用いる。その他方向は、各々の電極を組み合わせて行う。
そして、本例ではこれらの電極配置領域a〜hに、それぞれ増幅器であるアンプ101,102,103,104のいずかが接続された4つの電極板組110,120,130,140を配置して、各電極配置領域a〜hに電極が配置されるようにしている。N=8、n=2としてアンプである増幅器の数を4個としている。そして、アンプ101には信号y、アンプ102には信号x、アンプ103には信号−y、アンプ104には信号−xを入力して増幅するようにしている。ここで、信号x、yは荷電ビームを所定方向に偏向させるときX方向及びY方向に加えるべき偏向力を発生させる信号であり、2枚で一組で2組(X方向,Y方向各1組)合計4枚の平行な平板電極の静電偏向器における信号と同じである。
次に、これら電極板組110,120,130,140について説明する。各電極板組110,120,130,140は同じ構成を備えるので、その1つである電極板組110を例として説明する。
本例において、電極板組110はそれぞれ幅wの4枚の電極板111,112,113,114を備えており、各電極板111,112,113,114は一体に成型され、接続部115で連結されている。
本例では、電極板111は高さhであり、図中右側には高さh/√2の電極板112がその横側に配置され、さらに左側には高さh/2√2の2枚の電極板113,114がその上下位置に配置される。電極板組110は、このような構成により電極板111を電極配置領域aに配置したとき、電極板112は電極配置領域b、電極板113,114は高さ電極配置領域hに配置される。また、他の電極板組120、130、140も同様に、電極板121,122,123,電極板131,132,133、134、電極板141,142,143,144を備え、電極板組110〜140を所定位置に配置したとき、電極配置領域aには、電極板111、電極配置領域bには電極板123,124及び電極板112が配置され、電極配置領域bには電極板123,124及び電極板122が配置されることになる。他の電極配置領域にも同様に1枚または3枚の電極板が配置されることとなる。
次に本例に係る静電偏向器100の製造方法について説明する。本例では、電極板組110〜140はそれぞれ一体に成形されている。本例では上端部に絶縁体への取付用のフランジ部を形成した略円筒状の電極素材に、その母線に沿った方向に複数のスリットを形成しておき、前記フランジ部を前記絶縁体に結合した後、前記スリットに連通するよう電極素材を放電加工で切断して、電気的に分離した複数の電極部材からなる電極組を製造するようにしている。このように製造することにより、電極組を位置決めのための部材を使用することなく、高精度でかつ容易に製造することができる。
このように構成された静電偏向器100では、例えば電極配置領域b及び電極配置領域fを通る断面について電子ビームの軌跡を見ると、図4に示すように、電極板123と電極板143との間、電極板144と電極板123との間で屈折するように電子ビームは進行するが、実際には、電極板132、112の真ん中が電極板の重心であるため、電極板132、112の真ん中で電子ビームが偏向される。
従って本例によれば、静電偏向器100の電極板組110,120,130,140を以上のように構成したので、増幅器であるアンプの数を4個と電極配置領域の数8の2分の1とすることができる他、増幅器に入力する信号を演算処理する必要がなくなり、静電偏向器100のコストを低減することができる。
次に本発明に係る静電偏向器の他の例について説明する。本例に係る静電偏向器200は、第1の例と同様に増幅器を4個であるアンプ101,102,103,104としている。また、本例では電極配置領域a〜hは、図5に示すように電極配置領域a、電極配置領域bを(+X,+Y)方向、電極配置領域c、電極配置領域dを(+X,−Y)方向、電極配置領域e、電極配置領域fを(−X,−Y)方向、電極配置領域g、電極配置領域hを(+X,−Y)方向に順に配置している。第1の例と同様に、X軸上で電子線をふらせる場合には、電極a〜hを組み合わせて印加するように増幅器で電気信号を増幅させる。同様に、Y軸上で電子線をふらせる場合にも、電極a〜hを組み合わせて行う。
また、本例でも静電偏向器200は4組の電極板組210,220,230,240を備える。各電極板組210〜240にはそれぞれ増幅器であるアンプ101,102、103、104が接続されている。各電極板組210,220,230,240は同じ構成を備えるので、その1つである電極板組210を例として説明する。電極板組210はそれぞれ電気的に連結されたそれぞれ幅wの6枚の電極板221,212,213,214,215,216からなる。
電極板211、212は高さ(√2―1)hであり、2つの電極配置領域b,cを挟んで電極配置領域a及び電極配置領域dに配置される。電極板213,214は電極配置領域bの上下部に配置され、高さ0.5hである。同様に電極板215,216は電極配置領域cの上下部に配置され、高さ0.5hである。
極板組210は、このような構成により電極板211を電極配置領域aに配置したとき、電極板212は電極配置領域d、電極板213,214は電極配置領域b、電極板215,126は電極配置領域cに配置される。また、他の電極板組220、230、240も同様に、電極板221〜226、電極板231〜236、電極板241〜246を備え、電極板組210〜240を所定位置に配置したとき、すべての電極配置領域a〜hに、3枚の電極板が配置されることになる。
また、本例に係る電極板組210〜240は上述した製造方法で製造することができ、この方法で製造することにより、電極組を位置決めのための部材を使用することなく、高精度でかつ容易に製造することができる
従って本例によれば、静電偏向器200の電極板組210〜240を以上のように構成したので、増幅器であるアンプの数を4個と電極配置領域の数8の2分の1とすることができる他、増幅器に入力する信号を演算処理する必要がなくなり、静電偏向器200のコストを低減することができる。
実施の形態に係る荷電ビーム照射装置の構造を示す断面図である。 図1に示した荷電ビーム照射装置の電極の配置位置を示す静電偏光器の横断面図である。 図2に示した静電偏向器の電極の構成と増幅器の接続状態を示す展開図である。 図2に示した静電偏向器における荷電ビームの軌跡と共に示した静電偏向器の縦断面図である。 他の例に係る荷電ビーム照射装置の電極の配置位置を示す静電偏向器の横断面図である。 図5に示した静電偏向器の電極の構成と増幅器の接続状態を示す展開図である。 従来の静電偏向器の電極の配置状態と増幅器の接続状態を示す静電偏向器の横断面図である。 従来の他の例に係る静電偏向器の電極の配置状態と増幅器の接続状態を示す静電偏向器の横断面図である。
符号の説明
100・・・静電偏向器
101,102、103、104・・・アンプ
110,120,130,140・・・電極板組
111,112,113,114・・・電極板
115・・・接続部
121,122,123,124・・・電極板
131,132,133,134・・・電極板
141,142,143,144・・・電極板
200・・・静電偏向器
210,220,230,240・・・電極板組
221〜216・・・電極板
221〜226・・・電極板
231〜236・・・電極板
241〜246・・・電極板

Claims (13)

  1. 荷電ビーム軸の周囲に点対称で放射状に分割され前記荷電ビーム軸に沿って配置される電極と、これらの電極に偏向信号を印加する増幅器とを備え、入射した荷電ビームを偏向する静電偏向器において、
    8電極を各々分割し、4つの電極組を形成し、それらの組に対応した4個の増幅器を配置したことを特徴とする静電偏向器。
  2. 前記8電極は、電極配置領域aに電極+Yを配置し、電極配置領域bに電極+Xと電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域cに電極+Xを配置し、電極配置領域dに電極+Xと電極ーYの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域eに電極−Yを配置し、電極配置領域fに電極−Xと電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域gに電極−Xを配置し、電極配置領域hに電極−Xと電極+Yの少なくとも2つの電極を配置してなることを特徴とする請求項1に記載の静電偏向器。
  3. 前記8電極は、電極配置領域aに長さhの電極+Yを配置し、電極配置領域bに長さh/√2の電極+Xと長さh/(2√2)の電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域cに長さhの電極+Xを配置し、電極配置領域dに長さh/√2の電極+Xと長さh/(2√2)の電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域eに長さhの電極−Yを配置し、電極配置領域fに長さh/√2の電極−Xと長さh/(2√2)の電極−Yの電極を配置し、電極配置領域gに長さhの電極−Xを配置し、電極配置領域hに長さh/√2の電極−Xと長さh/(2√2)の電極+Yの少なくとも2つの電極を配置してなることを特徴とする請求項1に記載の静電偏向器。
  4. 前記8電極は、電極配置領域a、bに電極+Xと電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域c、dに電極+Xと電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域e、fに電極−Xと電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域g、hに電極−Xと電極+Yの少なくとも2つの電極を配置してなることを特徴とする請求項1に記載の静電偏向器。
  5. 前記8電極は、電極配置領域aに長さ(√2−1)hの電極+Xと長さh/2の電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域bに長さh/2の電極+Xと長さ(√2−1)hの電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域cに長さh/2の電極+Xと長さ(√2−1)hの電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域dに長さ(√2−1)hの電極+Xと長さh/2の電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域eに長さ(√2−1)hの電極−Xと長さh/2の電極−Yを配置し、電極配置領域fに長さh/2の電極−Xと長さ(√2−1)hの電極−Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域gに長さh/2の電極−Xと長さ(√2−1)hの電極+Yの少なくとも2つの電極を配置し、電極配置領域hに長さ(√2−1)hの電極−Xと長さh/2の電極+Yの少なくとも2つの電極を配置してなることを特徴とする請求項1に記載の静電偏向器。
  6. 前記8電極の各々の配置領域は、電極配置領域a、電極配置領域eをY軸上、電極配置領域c、電極配置領域gをX軸上に配置し、電極配置領域bを(+X,+Y)方向、電極配置領域dを(+X,−Y)方向、電極配置領域fを(−X,−Y)方向、電極配置領域hを(+X,−Y)方向に配置することを特徴とする請求項1ないし3に記載の静電偏向器。
  7. 前記8電極の各々の配置領域は、電極配置領域a、電極配置領域bを(+X,+Y)方向、電極配置領域c、電極配置領域dを(+X,−Y)方向、電極配置領域e、電極配置領域fを(−X,−Y)方向、電極配置領域g、電極配置領域hを(+X,−Y)方向に順に配置することを特徴とする請求項1、4または5に記載の静電偏向器。
  8. 前記4つの電極組は、各々配線で結合されていることを特徴とする請求項1ないし7に記載の静電偏向器。
  9. 前記4つの電極組は、各々結合され一体成形の電極板に形成されていることを特徴とする請求項1ないし7に記載の静電偏向器。
  10. 前記4つの増幅器は、前記荷電ビーム軸に垂直な面に設定される直行するX−Y軸に対応して、それぞれ符号が異なり絶対値が等しいX,−X,Y,−Y成分の偏向信号を各電極組に印加することを特徴とする請求項1ないし7のいずれかの静電偏向器。
  11. 請求項1ないし8のいずれかの静電偏向器を備えたことを特徴とする荷電ビーム照射装置。
  12. 上端に絶縁体への取付用のフランジ部を形成した略回転体状の電極素材に、その母線に沿った方向に複数のスリットを形成しておき、前記フランジ部を前記絶縁体に結合した後、前記スリットに連通するよう電極素材を切断加工して、電気的に分離した複数の電極部材から構成して、請求項1ないし7、9、10の静電偏向器の電極を製造することを特徴とする静電偏向器の製造方法。
  13. 前記切断加工は、放電加工でなされることを特徴とする請求項12の静電偏向器の製造方法。
JP2006019013A 2005-12-06 2006-01-27 荷電ビーム照射装置、静電偏向器、静電偏向器の製造方法 Expired - Fee Related JP4807835B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006019013A JP4807835B2 (ja) 2005-12-06 2006-01-27 荷電ビーム照射装置、静電偏向器、静電偏向器の製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005351572 2005-12-06
JP2005351572 2005-12-06
JP2006019013A JP4807835B2 (ja) 2005-12-06 2006-01-27 荷電ビーム照射装置、静電偏向器、静電偏向器の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007184215A true JP2007184215A (ja) 2007-07-19
JP4807835B2 JP4807835B2 (ja) 2011-11-02

Family

ID=38340114

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006019013A Expired - Fee Related JP4807835B2 (ja) 2005-12-06 2006-01-27 荷電ビーム照射装置、静電偏向器、静電偏向器の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4807835B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010003484A (ja) * 2008-06-19 2010-01-07 Jeol Ltd 静電偏向器及びそれを用いた荷電粒子ビーム装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5441972A (en) * 1977-07-12 1979-04-03 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Preparation of laminated composite film of biaxially oriented propylene polymer having excellent gas barrier properties
JPS5931546A (ja) * 1982-08-13 1984-02-20 Rikagaku Kenkyusho 多重極電極
JPH01232652A (ja) * 1988-03-11 1989-09-18 Ulvac Corp イオン注入装置
JPH0278143A (ja) * 1988-06-24 1990-03-19 Hitachi Ltd 荷電粒子装置とその集束レンズ
JPH08171881A (ja) * 1994-12-19 1996-07-02 Hitachi Ltd 電子線偏向器
JP2000269124A (ja) * 1999-03-19 2000-09-29 Toshiba Corp 荷電ビーム描画装置
JP2003132834A (ja) * 2001-10-26 2003-05-09 Ebara Corp 電子線装置及びこの装置を用いたデバイス製造方法
JP2004214156A (ja) * 2003-01-09 2004-07-29 Ebara Corp 荷電粒子線用多極子レンズ、荷電粒子線用多極子レンズの使用方法及び荷電粒子線装置
JP2005209806A (ja) * 2004-01-21 2005-08-04 Toshiba Corp 荷電ビーム装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5441972A (en) * 1977-07-12 1979-04-03 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Preparation of laminated composite film of biaxially oriented propylene polymer having excellent gas barrier properties
JPS5931546A (ja) * 1982-08-13 1984-02-20 Rikagaku Kenkyusho 多重極電極
JPH01232652A (ja) * 1988-03-11 1989-09-18 Ulvac Corp イオン注入装置
JPH0278143A (ja) * 1988-06-24 1990-03-19 Hitachi Ltd 荷電粒子装置とその集束レンズ
JPH08171881A (ja) * 1994-12-19 1996-07-02 Hitachi Ltd 電子線偏向器
JP2000269124A (ja) * 1999-03-19 2000-09-29 Toshiba Corp 荷電ビーム描画装置
JP2003132834A (ja) * 2001-10-26 2003-05-09 Ebara Corp 電子線装置及びこの装置を用いたデバイス製造方法
JP2004214156A (ja) * 2003-01-09 2004-07-29 Ebara Corp 荷電粒子線用多極子レンズ、荷電粒子線用多極子レンズの使用方法及び荷電粒子線装置
JP2005209806A (ja) * 2004-01-21 2005-08-04 Toshiba Corp 荷電ビーム装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010003484A (ja) * 2008-06-19 2010-01-07 Jeol Ltd 静電偏向器及びそれを用いた荷電粒子ビーム装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4807835B2 (ja) 2011-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108885187B (zh) 多个带电粒子束的装置
JP6339247B2 (ja) 一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えている荷電粒子システム
KR101921351B1 (ko) 집속 전자 빔 장치의 처리량을 향상시키는 다중 극 정전 편향기
JP5855426B2 (ja) 一体化された静電エネルギーフィルタを有する荷電粒子源
JP7453314B2 (ja) マルチビーム検査装置
JP2018520495A (ja) 複数荷電粒子ビームの装置
US20230072858A1 (en) Charged particle manipulator device
JP4922747B2 (ja) 荷電粒子ビーム装置
US9620328B1 (en) Electrostatic multipole device, electrostatic multipole arrangement, charged particle beam device, and method of operating an electrostatic multipole device
KR20020070354A (ko) 하전 입자 빔 장치용 컬럼
JP4807835B2 (ja) 荷電ビーム照射装置、静電偏向器、静電偏向器の製造方法
JP5093831B2 (ja) 静電偏向装置
WO2018106833A1 (en) Method and system for aberration correction in electron beam system
JP2003168383A (ja) 走査電子顕微鏡装置
JPH1167130A (ja) 電子線光学装置
US11501946B2 (en) Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus
TWI658487B (zh) 多帶電粒子束裝置及用於觀測樣品表面之方法
JP7124216B2 (ja) 荷電粒子線装置
KR102650480B1 (ko) 하전 입자 디바이스를 위한 빔 분할기
WO2021185938A1 (en) An apparatus using enhanced deflectors to manipulate charged particle beams
TWI729368B (zh) 源轉換單元、多射束裝置及組態多射束裝置之方法
US20240087837A1 (en) Magnetic multipole device, charged particle beam apparatus, and method of influencing a charged particle beam propagating along an optical axis
US8890092B2 (en) Multi-particle beam column having an electrode layer including an eccentric aperture
TW202405855A (zh) 成像多電子束之方法及系統
WO2023126116A1 (en) A beam manipulator in charged particle-beam apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090108

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110427

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110510

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110707

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110812

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110812

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140826

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees