JP2007179042A5 - - Google Patents
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Claims (30)
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方は画素電極と電気的に接続され、かつ当該ソース電極及びドレイン電極の一方は前記第3のスイッチを介して第3の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方は第1の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのゲート電極は、前記第2のスイッチを介して第2の配線と電気的に接続され、かつ当該ゲート電極は前記第1のスイッチを介して第4の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方は前記保持容量を介して前記トランジスタのゲート電極と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 A transistor, a storage capacitor, a first switch, a second switch, and a third switch;
One of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the pixel electrode, and one of the source electrode and the drain electrode is electrically connected to the third wiring through the third switch,
The other of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the first wiring,
A gate electrode of the transistor is electrically connected to a second wiring through the second switch, and the gate electrode is electrically connected to a fourth wiring through the first switch;
One of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the gate electrode of the transistor through the storage capacitor.
前記第3の配線は、前行の第1のスイッチを制御する配線乃至第3のスイッチを制御する配線及び次行の第1のスイッチを制御する配線乃至第3のスイッチを制御する配線のいずれかであることを特徴とする半導体装置。 In claim 1 ,
Any third wiring, before the first switch controlling the first wiring through the third switch to control the switch of the wiring to the wiring and the next line to control the third switch to control the wire line A semiconductor device characterized by the above.
前記第1のスイッチ乃至前記第3のスイッチはトランジスタであることを特徴とする半導体装置。 In claim 1 or 2 ,
Wherein a said first switch to said third switch is a transistor.
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方は画素電極と電気的に接続され、かつ当該ソース電極及びドレイン電極の一方は前記第3のスイッチを介して第3の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方は第1の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのゲート電極は、前記第4のスイッチ及び前記第2のスイッチを介して第2の配線と電気的に接続され、かつ当該ゲート電極は前記第4のスイッチ及び前記第1のスイッチを介して第4の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方は前記保持容量及び前記第4のスイッチを介して前記トランジスタのゲート電極と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 A transistor, a storage capacitor, a first switch, a second switch, a third switch, and a fourth switch;
One of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the pixel electrode, and one of the source electrode and the drain electrode is electrically connected to the third wiring through the third switch,
The other of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the first wiring,
The gate electrode of the transistor, the second is wired electrically connected via the fourth switch and the second switch, and the gate electrode through the fourth switch and the first switch Electrically connected to the fourth wiring,
One of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the gate electrode of the transistor through the storage capacitor and the fourth switch.
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方は画素電極と電気的に接続され、かつ当該ソース電極及びドレイン電極の一方は前記第3のスイッチを介して第3の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方は第1の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのゲート電極は、前記第2のスイッチを介して第2の配線と電気的に接続され、かつ当該ゲート電極は前記第4のスイッチ及び前記第1のスイッチを介して第4の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方は前記保持容量及び前記第4のスイッチを介して前記トランジスタのゲート電極と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 A transistor, a storage capacitor, a first switch, a second switch, a third switch, and a fourth switch;
One of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the pixel electrode, and one of the source electrode and the drain electrode is electrically connected to the third wiring through the third switch,
The other of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the first wiring,
The gate electrode of the transistor, and through said second switch is a second wiring electrically connected, and the gate electrode is the fourth wiring through the fourth switch and the first switch Electrically connected,
One of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the gate electrode of the transistor through the storage capacitor and the fourth switch.
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方は画素電極と電気的に接続され、かつ当該ソース電極及びドレイン電極の一方は前記第3のスイッチを介して第3の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方は前記第4のスイッチを介して第1の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのゲート電極は、前記第2のスイッチを介して第2の配線と電気的に接続され、かつ当該ゲート電極は前記第1のスイッチを介して第4の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方は前記保持容量を介して前記トランジスタのゲート電極と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 A transistor, a storage capacitor, a first switch, a second switch, a third switch, and a fourth switch;
One of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the pixel electrode, and one of the source electrode and the drain electrode is electrically connected to the third wiring through the third switch,
The other of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the first wiring through the fourth switch,
A gate electrode of the transistor is electrically connected to a second wiring through the second switch, and the gate electrode is electrically connected to a fourth wiring through the first switch;
One of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the gate electrode of the transistor through the storage capacitor.
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方は前記第4のスイッチを介して画素電極と電気的に接続され、かつ当該ソース電極及びドレイン電極の一方は前記第4のスイッチ及び前記第3のスイッチを介して第3の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方は第1の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのゲート電極は、前記第2のスイッチを介して第2の配線と電気的に接続され、かつ当該ゲート電極は前記第1のスイッチを介して第4の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方は前記第4のスイッチ及び前記保持容量を介して前記トランジスタのゲート電極と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 A transistor, a storage capacitor, a first switch, a second switch, a third switch, and a fourth switch;
One of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the pixel electrode through the fourth switch, and one of the source electrode and the drain electrode is connected to the fourth switch and the third switch. Electrically connected to the third wiring via
The other of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the first wiring,
A gate electrode of the transistor is electrically connected to a second wiring through the second switch, and the gate electrode is electrically connected to a fourth wiring through the first switch;
One of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the gate electrode of the transistor through the fourth switch and the storage capacitor.
前記第3の配線は、前記第3のスイッチを制御する配線と同一であることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 4 thru | or 7 ,
The semiconductor device, wherein the third wiring is the same as a wiring for controlling the third switch.
前記第3の配線は、前行の第1のスイッチを制御する配線乃至第4のスイッチを制御する配線及び次行の第1のスイッチを制御する配線乃至第4のスイッチを制御する配線のいずれかであることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 4 thru | or 7 ,
Any third wiring, before the first wiring for controlling the switch to interconnect to control the fourth switch and a first control switch wiring or wiring for controlling the fourth switch of the next line after the line A semiconductor device characterized by the above.
前記第1のスイッチ乃至前記第4のスイッチはトランジスタであることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 4 thru | or 9 ,
Wherein a first switch to the fourth switch are transistors.
前記トランジスタのチャネル長は、前記トランジスタのチャネル幅よりも大きいことを特徴とする半導体装置。The semiconductor device is characterized in that a channel length of the transistor is larger than a channel width of the transistor.
前記トランジスタのチャネル長は、10μm以上50μm以下であることを特徴とする半導体装置。A channel length of the transistor is 10 μm to 50 μm.
前記トランジスタのチャネル長は、15μm以上40μm以下であることを特徴とする半導体装置。The transistor has a channel length of 15 μm to 40 μm.
前記トランジスタは、薄膜トランジスタであることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 4 thru | or 9 ,
The semiconductor device is a thin film transistor.
前記トランジスタは、Nチャネル型トランジスタであることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 4 thru | or 9 and 14 ,
The semiconductor device is an N-channel transistor.
前記トランジスタの半導体層は、非結晶性半導体膜からなることを特徴する半導体装置。 In any one of claims 4 to 9, 14 and 15 ,
A semiconductor device, wherein the semiconductor layer of the transistor is made of an amorphous semiconductor film.
前記トランジスタの半導体層は、アモルファスシリコンからなることを特徴する半導体装置。 In any one of Claims 4 thru | or 9 and 14 thru | or 16 ,
A semiconductor device, wherein the semiconductor layer of the transistor is made of amorphous silicon.
前記トランジスタの半導体層は、結晶性半導体膜からなることを特徴する半導体装置。 In any one of claims 4 to 9, 14 and 15 ,
A semiconductor device, wherein the semiconductor layer of the transistor is made of a crystalline semiconductor film.
前記第2の配線に供給される電位は前記第3の配線に供給される電位よりも高い電位であり、その差分は前記トランジスタのしきい値電圧分より大きいことを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 4 thru | or 9 and 14 thru | or 18 ,
The semiconductor device is characterized in that the potential supplied to the second wiring is higher than the potential supplied to the third wiring, and the difference is larger than the threshold voltage of the transistor.
前記トランジスタは、Pチャネル型トランジスタであることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 4 thru | or 9 and 14 ,
The semiconductor device is a P-channel transistor.
前記第2の配線に供給される電位は前記第3の配線に供給される電位よりも低い電位であり、その差分は前記トランジスタのしきい値電圧の絶対値分より大きいことを特徴とする半導体装置。 In any one of claims 4 to 9, 14 and 20 ,
The potential supplied to the second wiring is lower than the potential supplied to the third wiring, and the difference is larger than the absolute value of the threshold voltage of the transistor. apparatus.
前記トランジスタのゲートソース間電圧を保持する保持容量と、
前記第2の配線に供給される第1の電位及び前記第3の配線に供給される第2の電位を前記保持容量に印加することにより、前記保持容量に第1の電圧を保持させる手段と、
前記保持容量の電圧を第2の電圧まで放電させる手段と、
前記第1の電位に第3の電圧を加算した電位を前記第4の配線より前記保持容量に印加し、前記第2の電圧と第4の電圧とを加算した第5の電圧を前記保持容量に保持させる手段と、
前記第5の電圧に応じた前記トランジスタに設定された電流を負荷に供給する手段とを有することを特徴とする半導体装置。 One of the source electrode and the drain electrode is electrically connected to the first wiring, the other of the source electrode and the drain electrode is electrically connected to the third wiring, and the gate electrode is the second wiring and the fourth wiring. A transistor electrically connected to
A holding capacitor for holding a gate-source voltage of the transistor;
Means for applying a first potential supplied to the second wiring and a second potential supplied to the third wiring to the storage capacitor to hold the first voltage in the storage capacitor; ,
Means for discharging the voltage of the holding capacitor to a second voltage;
A potential obtained by adding a third voltage to the first potential is applied to the storage capacitor from the fourth wiring, and a fifth voltage obtained by adding the second voltage and the fourth voltage is applied to the storage capacitor. Means for holding,
And a means for supplying a current set to the transistor in accordance with the fifth voltage to a load.
前記トランジスタのゲートソース間電圧を保持する保持容量と、
前記第2の配線に供給される第1の電位及び前記第3の配線に供給される第2の電位を前記保持容量に印加することにより、前記保持容量に第1の電圧を保持させる手段と、
前記保持容量の電圧を前記トランジスタのしきい値電圧まで放電させる手段と、
前記第1の電位に第2の電圧を加算した電位を前記第4の配線より前記保持容量に印加し、前記トランジスタのしきい値電圧と第3の電圧とを加算した第4の電圧を前記保持容量に保持させる手段と、
前記第4の電圧に応じた前記トランジスタに設定された電流を負荷に供給する手段とを有することを特徴とする半導体装置。 One of the source electrode and the drain electrode is electrically connected to the first wiring, the other of the source electrode and the drain electrode is electrically connected to the third wiring, and the gate electrode is the second wiring and the fourth wiring. A transistor electrically connected to
A holding capacitor for holding a gate-source voltage of the transistor;
Means for applying a first potential supplied to the second wiring and a second potential supplied to the third wiring to the storage capacitor to hold the first voltage in the storage capacitor; ,
Means for discharging the voltage of the storage capacitor to the threshold voltage of the transistor;
A potential obtained by adding a second voltage to the first potential is applied to the storage capacitor from the fourth wiring, and a fourth voltage obtained by adding the threshold voltage of the transistor and a third voltage is added to the storage capacitor. Means for holding in the holding capacity;
And means for supplying a current set to the transistor in accordance with the fourth voltage to a load.
前記トランジスタは、Nチャネル型トランジスタであり、
前記第1の電位は前記第2の電位よりも高い電位であり、その差分は前記トランジスタのしきい値電圧分より大きいことを特徴とする半導体装置。 According to claim 22 or 23,
The transistor is an N-channel transistor,
The semiconductor device according to claim 1, wherein the first potential is higher than the second potential, and a difference between the first potential is larger than a threshold voltage of the transistor.
前記トランジスタは、Pチャネル型トランジスタであり、
前記第1の電位は前記第2の電位より低い電位であり、その差分は前記トランジスタのしきい値電圧の絶対値分より大きいことを特徴とする半導体装置。 In claim 22 or 23 ,
The transistor is a P-channel transistor,
The semiconductor device according to claim 1, wherein the first potential is lower than the second potential, and the difference is larger than an absolute value of a threshold voltage of the transistor.
前記負荷は発光素子であることを特徴とする半導体装置。 In any one of claims 22 to 25 ,
The semiconductor device according to claim 1, wherein the load is a light emitting element.
前記保持容量は容量素子であることを特徴とする半導体装置。 In any one of claims 1 to 26 ,
The semiconductor device, wherein the storage capacitor is a capacitor.
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方は画素電極及び前記第2のスイッチに電気的に接続され、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方は前記第1の配線に電気的に接続され、
前記トランジスタのゲート電極は前記第1のスイッチを介して前記第2の配線に電気的に接続され、
前記トランジスタのゲート電極には、前記画素の階調に従った信号が入力されることを特徴とする半導体装置。 A pixel including a transistor, a first switch, a second switch, a first wiring, and a second wiring;
One of a source electrode and a drain electrode of the transistor is electrically connected to the pixel electrode and the second switch;
The other of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the first wiring,
A gate electrode of the transistor is electrically connected to the second wiring through the first switch;
The semiconductor device is characterized in that a signal in accordance with the gradation of the pixel is input to the gate electrode of the transistor.
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