JP2007178318A - Substrate inspection device and method - Google Patents

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理夫 戒田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate inspection device capable of more efficiently performing four-terminal measurement for a high-density wiring pattern. <P>SOLUTION: In the substrate inspection device composed of first and second probes each brought into contact with an inspection point of the wiring of the substrate to be inspected, wherein one is used as the probe for voltage measurement and the other is used as the probe for current supply, and the resistance value of the wiring is calculated using a plurality of inspection probes with the first and second probes brought into contact with the inspection points; the substrate inspection device includes: a current supply means for supplying a current to the probe for current supply; a voltage measurement means for measuring the voltage between the probes for voltage measurement; a processing means for calculating the resistance value of the wiring by a current value supplied by the current supply means and a voltage value measured by the voltage measurement means; and an integrally formed conductive connection member conductively connecting the plurality of probes for current supply with the current supply means and electrically interconnecting the plurality of probes for current supply. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は基板検査装置及び方法に関し、より詳しくは、回路基板上の配線パターン間の抵抗値の測定や断線検査のために四端子測定方法を用いて行う基板検査装置及び方法に関する。   The present invention relates to a board inspection apparatus and method, and more particularly, to a board inspection apparatus and method using a four-terminal measurement method for measurement of resistance values between wiring patterns on a circuit board and disconnection inspection.

この出願書類で使用する用語の「回路基板」は、半導体パッケージ用のパッケージ基板やフィルムキャリアに限らず、プリント配線基板、例えば、フレキシブル基板、多層配線基板、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ用の電極板など種々の配線が施される基板を総称する。即ち、回路基板には、四端子測定の対象となり得る全ての基板が含まれる。   The term “circuit board” used in the application documents is not limited to a package substrate for a semiconductor package or a film carrier, but a printed wiring board, for example, a flexible board, a multilayer wiring board, an electrode plate for a liquid crystal display or a plasma display, etc. A generic term for substrates to which various wirings are applied. That is, the circuit board includes all boards that can be subjected to four-terminal measurement.

従来、半導体パッケージ基板の導通検査では、配線パターンを形成する配線の両端にそれぞれプローブを接触させて、その配線の導通のみを検出していた。しかし、近年になって、導通のみではなく、配線の抵抗値を正確に測定して導通検査を行う必要が生じたため、プローブの接触抵抗の影響を無くしながら、その抵抗値の測定のために四端子測定が一般的に使用されている。   Conventionally, in a continuity inspection of a semiconductor package substrate, probes are brought into contact with both ends of a wiring forming a wiring pattern, and only the continuity of the wiring is detected. However, in recent years, it has become necessary to accurately measure not only the continuity but also the resistance value of the wiring to conduct a continuity test. Terminal measurement is commonly used.

このような四端子測定では、電圧測定用プローブと電流印加用プローブとができるだけ近接して設けられ、実質上同一検査点に確実に接触する必要があり、そのための手段が種々提案されている。
特開2004−279133号 この文献1には、保持部材によって電流供給用ニードルピン及び電圧測定用ニードルピンが一体に保持された構成が開示されており、四端子測定で利用されるプローブが示されている。
In such four-terminal measurement, it is necessary that the voltage measurement probe and the current application probe are provided as close as possible to each other and reliably contact substantially the same inspection point, and various means have been proposed.
JP 2004-279133 A discloses a configuration in which a current supply needle pin and a voltage measurement needle pin are integrally held by a holding member, and a probe used in four-terminal measurement is shown. ing.

この特許文献1で示される如き四端子プローブは、比較的配線ピッチの間隔の広い配線パターンが形成されたボールグリッド面側においては利用することができたが、比較的配線ピッチが狭く高密度の配線パターンが形成されたフリップチップ面においては利用することが難しいという問題を有していた。   The four-terminal probe as disclosed in Patent Document 1 can be used on the side of the ball grid surface on which a wiring pattern having a relatively wide wiring pitch interval is formed, but the wiring pitch is relatively narrow and the density is high. The flip chip surface on which the wiring pattern is formed has a problem that it is difficult to use.

これは、フリップチップ面の如き比較的配線ピッチが狭く高密度の配線パターンが形成される検査面側に四端子プローブを接触させようとした場合に、単位面積当たりの四端子プローブの本数が増加することになり、十分配置することができないからであった。   This is because the number of four-terminal probes per unit area increases when an attempt is made to contact a four-terminal probe on the inspection surface side where a high-density wiring pattern is formed, such as a flip chip surface. This is because it cannot be arranged sufficiently.

このため、フリップチップ面のようにより高密度の配線パターンが形成されている面に対してもより効率よく四端子プローブを配置して、四端子測定により抵抗値の測定を行うことが望まれている。   For this reason, it is desired that a four-terminal probe be more efficiently arranged on a surface on which a higher-density wiring pattern is formed, such as a flip chip surface, and a resistance value is measured by four-terminal measurement. Yes.

上記課題を解決するために、本発明に係る基板検査装置は、被検査基板の配線の被検査点に夫々接触し、一方が電圧測定用のプローブとして用いられ、他方が電流供給用のプローブとして用いられる第1及び第2プローブからなり、第1及び第2プローブが被検査点に接触する検査用プローブを複数用いて配線の抵抗値を算出する基板検査装置であって、電流供給用のプローブへ電流を供給する電流供給手段と、電圧測定用のプローブ間の電圧を測定する電圧測定手段と、電流供給手段により供給される電流値と電圧測定手段により測定される電圧値により配線の抵抗値を算出する処理手段と、複数の電流供給用のプローブと電流供給手段を導通可能に接続するとともに複数の前記電流供給用のプローブを電気的に相互に接続する、一体的に形成された導電性の接続部材を有することを特徴とする。   In order to solve the above problems, a substrate inspection apparatus according to the present invention is in contact with inspection points of wiring on a substrate to be inspected, one of which is used as a voltage measurement probe and the other as a current supply probe. A substrate inspection apparatus for calculating a resistance value of a wiring by using a plurality of inspection probes in contact with a point to be inspected, the first and second probes being used, and a probe for supplying current Current supply means for supplying current to the voltage, voltage measurement means for measuring the voltage between the probes for voltage measurement, resistance value of the wiring by the current value supplied by the current supply means and the voltage value measured by the voltage measurement means And a plurality of current supply probes and a current supply means are connected so as to be conductive, and the plurality of current supply probes are electrically connected to each other. Characterized in that it has a made conductive connecting member.

本発明に係る基板検査方法は、一方が電圧測定用のプローブとして用いられ、他方が電流供給用のプローブとして用いられる第1及び第2プローブからなる検査用プローブの第1及び第2プローブを被検査基板の配線の被検査点に接触するように配置する配置工程と、電流供給用のプローブへ電流を供給する供給工程と、電圧測定用のプローブ間の電圧を測定する測定工程と、供給工程によって供給した電流の値と、測定工程によって測定した電圧の値とにより配線の抵抗値を算出する処理工程とを含み、配置工程において一体的に形成された導電性の接続部材を用いて複数の検査用プローブを電気的に相互に接続して配置するとともに、供給工程において接続部材を介して複数の検査用プローブに対し同時に電流を供給することを特徴とする。   According to the substrate inspection method of the present invention, the first and second probes of the inspection probe comprising the first and second probes, one of which is used as a voltage measurement probe and the other is used as a current supply probe, are covered. Arrangement step for placing the test board wiring in contact with the point to be inspected, supplying step for supplying current to the probe for supplying current, measuring step for measuring the voltage between the probes for voltage measurement, and supplying step A process step of calculating a resistance value of the wiring based on the value of the current supplied by the voltage and the value of the voltage measured in the measurement step, and using a plurality of conductive connection members formed integrally in the arrangement step The inspection probes are arranged to be electrically connected to each other, and a current is simultaneously supplied to a plurality of inspection probes via a connection member in the supply process. .

本発明によれば、フリップチップ面のようにより高密度の配線パターンに対しても四端子測定を行うことのできる基板検査装置及び方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the board | substrate test | inspection apparatus and method which can perform a four-terminal measurement also to a higher-density wiring pattern like a flip chip surface can be provided.

また、本発明によれば、より効率よく四端子測定を行うことのできる基板検査装置及び方法を提供する。   In addition, according to the present invention, a substrate inspection apparatus and method capable of performing four-terminal measurement more efficiently are provided.

以下、本発明に係るプローブの望ましい実施形態について、添付の図面を参照しながら説明する。なお、図中、同じ要素に対しては同じ符号を付して、重複した説明を省略している。
[四端子測定装置]
図1は、四端子測定装置の概念を説明するための図である。その装置は、電流発生部10と電圧測定部12とを備える。電流発生部10には電流供給用の第1及び第2電流プローブ10F1,10F2が接続され、電圧測定部12には電圧測定用の第1及び第2電圧プローブ12S1,12S2が接続されている。
Hereinafter, preferred embodiments of a probe according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, in the figure, the same code | symbol is attached | subjected to the same element and the overlapping description is abbreviate | omitted.
[Four-terminal measuring device]
FIG. 1 is a diagram for explaining the concept of a four-terminal measuring apparatus. The apparatus includes a current generation unit 10 and a voltage measurement unit 12. The current generation unit 10 is connected to first and second current probes 10F1 and 10F2 for supplying current, and the voltage measurement unit 12 is connected to first and second voltage probes 12S1 and 12S2 for voltage measurement.

図1に示すように、回路基板16の配線の抵抗14を測定する場合には、第1及び第2電圧プローブ12S1,12S2と第1及び第2電流プローブ10F1,10F2とを、その配線の抵抗14の両端に接触するように配置し、第1及び第2電流プローブ10F1,10F2を経由して、電流発生部10から配線の抵抗14に測定用の所定の大きさの電流を供給する。それにより配線の抵抗14の両端部には電位差が発生するので、第1及び第2電圧プローブ12S1,12S2を介してその両端部の電位差を電圧測定部12で測定する。その電位差の値、つまり電圧値が求まると、測定用の電流値及びその測定した電圧値から配線の抵抗14の抵抗値を求めることができる。
[基板検査装置の構成]
図2(a)は、四端子測定によって基板の配線パターンの検査を行うための本発明に係る基板検査装置23の望ましい実施形態を示す。その装置による検査対象は、図2(a)においては、基板24の表側(図2に向かって上側)に形成された比較的配線ピッチが狭く高密度の配線パターン部のランド21a、21b・・・21nの中の所定のランドと、その基板の裏側(図2に向かって下側)に形成された配線パターン部のランド25との間の配線28の抵抗値及び断線の有無とする。
As shown in FIG. 1, when the resistance 14 of the wiring of the circuit board 16 is measured, the first and second voltage probes 12S1 and 12S2 and the first and second current probes 10F1 and 10F2 are connected to the resistance of the wiring. 14 is arranged so as to be in contact with both ends, and a current of a predetermined magnitude for measurement is supplied from the current generator 10 to the wiring resistor 14 via the first and second current probes 10F1 and 10F2. As a result, a potential difference is generated at both ends of the resistance 14 of the wiring, and the voltage measurement unit 12 measures the potential difference between the both ends via the first and second voltage probes 12S1 and 12S2. When the value of the potential difference, that is, the voltage value is obtained, the resistance value of the wiring resistor 14 can be obtained from the current value for measurement and the measured voltage value.
[Configuration of board inspection equipment]
FIG. 2A shows a preferred embodiment of the substrate inspection apparatus 23 according to the present invention for inspecting a wiring pattern on a substrate by four-terminal measurement. In FIG. 2 (a), the inspection object by the apparatus is the land 21a, 21b,. The resistance value of the wiring 28 between the predetermined land in 21n and the land 25 of the wiring pattern portion formed on the back side (downward in FIG. 2) of the substrate and the presence or absence of disconnection.

基板検査装置23は、検査用プローブ20−1、20−2、20−nと、検査用プローブ26とを用いて四端子測定を実施する。検査用プローブ20−1、20−2、20−nは測定対象の一方の端部に配置されるプローブであり、すべて同じ構造である。このため、代表的に検査用プローブ20−1について説明すると、検査用プローブ20−1は、電圧測定用の円柱状の電圧プローブ20S1と、それを囲むように同軸的に配置された電流供給用の電流プローブ20Fとからなる。それらの間には絶縁層(図示せず)が形成されている。   The substrate inspection apparatus 23 performs four-terminal measurement using the inspection probes 20-1, 20-2, 20-n and the inspection probe 26. Inspection probes 20-1, 20-2, and 20-n are probes arranged at one end of a measurement object, and all have the same structure. For this reason, the inspection probe 20-1 will be described as a representative example. The inspection probe 20-1 includes a cylindrical voltage probe 20S1 for voltage measurement and a current supply coaxially disposed so as to surround the voltage probe 20S1. Current probe 20F. An insulating layer (not shown) is formed between them.

図2(b)は、図2(a)において破線Aで囲んだ検査用プローブ20−nの先端部を拡大した図である。その図に示すように、検査用プローブ20−nの先端部は、電圧プローブ20Snのとがった先端部を囲むように、円環状の電流プローブ20Fのとがった先端部が配置されるように構成されていて、それらの両方ともがランド21aに当接している。   FIG. 2B is an enlarged view of the distal end portion of the inspection probe 20-n surrounded by a broken line A in FIG. As shown in the figure, the tip of the inspection probe 20-n is configured such that the pointed tip of the annular current probe 20F is disposed so as to surround the pointed tip of the voltage probe 20Sn. Both of them are in contact with the land 21a.

また、図2(a)に示すように、検査用プローブ20−1、20−2、20−nは、中間板22を貫通してそれに保持されている。中間板22は、導電性材料、例えば、導電性ゴムを板状に一体的に形成したもので、電流発生部12と電流プローブ20Fとを電気的に接続する接続部材として機能する。   As shown in FIG. 2A, the inspection probes 20-1, 20-2, and 20-n pass through the intermediate plate 22 and are held therein. The intermediate plate 22 is formed by integrally forming a conductive material, for example, conductive rubber in a plate shape, and functions as a connection member that electrically connects the current generator 12 and the current probe 20F.

図3は、その中間板22のみを上面から見た平面図である。中間板22には、ほぼ等間隔に多数の貫通孔34が形成されている。各々の貫通孔の大きさは検査用プローブ20−1、20−2、20−nの外径に対応する大きさであり、所定の貫通孔34に検査用プローブ20−1、20−2、20−nが挿入されると、それらの検査用プローブの電流プローブ20Fが、その貫通孔34を形成する中間板22に密接し、それにより、電流供給用の電流プローブ20Fと中間板22との間に電気的接続が形成される。   FIG. 3 is a plan view of only the intermediate plate 22 as viewed from above. A large number of through holes 34 are formed in the intermediate plate 22 at substantially equal intervals. The size of each through hole is a size corresponding to the outer diameter of the inspection probes 20-1, 20-2, 20-n, and the inspection probes 20-1, 20-2, When 20-n is inserted, the current probes 20F of the inspection probes are brought into close contact with the intermediate plate 22 forming the through hole 34, so that the current supply current probe 20F and the intermediate plate 22 are connected to each other. An electrical connection is formed between them.

図2に戻って説明を続けると、検査用プローブ20−1、20−2、20−nは中間板22に挿入されて固定されていて、中間板22は電流発生部12に接続されている。また、それぞれの検査用プローブの電圧プローブ20S1、20S2、20Snは、電圧測定部10に接続されている。このように、基板の表面側のすべての電圧測定用の電圧プローブを同じ電圧測定部に接続するようにしてもよいが、個々に又はいくつかのグループごとに別々の電圧測定部に接続するようにしてもよい。同一の電圧測定部にすべての電圧プローブを接続したときには、測定時間をずらしてそれぞれの電圧プローブの電圧測定を行えばよく、別々の電圧測定部を用いた場合には測定を同時に行うこともできる。   Returning to FIG. 2 and continuing the description, the inspection probes 20-1, 20-2 and 20-n are inserted and fixed to the intermediate plate 22, and the intermediate plate 22 is connected to the current generator 12. . Further, the voltage probes 20S1, 20S2, and 20Sn of the respective inspection probes are connected to the voltage measuring unit 10. In this way, all voltage probes for voltage measurement on the surface side of the substrate may be connected to the same voltage measuring unit, but connected to separate voltage measuring units individually or in several groups. It may be. When all the voltage probes are connected to the same voltage measuring unit, it is only necessary to measure the voltage of each voltage probe by shifting the measurement time, and when using different voltage measuring units, the measurement can be performed simultaneously. .

一方、図2においては、基板の裏側には、基板の表側で用いた検査用プローブ20−1、20−2、20−nと異なる構造の検査用プローブ26を用いている。その検査用プローブ26は、反対側に配置されるプローブで、電流供給用の電流プローブ26Fと電圧測定用の電圧プローブ26Sとを備え、それらが一体に固定されている。ただし、検査用プローブ26として検査用プローブ20−1、20−2、20−nと同じ構造のものを用いてもよい。   On the other hand, in FIG. 2, an inspection probe 26 having a structure different from that of the inspection probes 20-1, 20-2, 20-n used on the front side of the substrate is used on the back side of the substrate. The inspection probe 26 is a probe disposed on the opposite side, and includes a current probe 26F for supplying current and a voltage probe 26S for measuring voltage, which are fixed integrally. However, the inspection probe 26 having the same structure as the inspection probes 20-1, 20-2, and 20-n may be used.

検査用プローブ26の電流プローブ26Fと電圧測定用の電圧プローブ26Sとのそれぞれの先端部(図2に向かって上側の位置にある部位)は、ともにランド25に当接している。また、電流プローブ26Fは、電流発生部12に接続され、電圧プローブ26Sは、電圧測定部10に接続されている。   The tip portions of the current probe 26F of the inspection probe 26 and the voltage probe 26S for voltage measurement (the portion located on the upper side in FIG. 2) are both in contact with the land 25. The current probe 26 </ b> F is connected to the current generator 12, and the voltage probe 26 </ b> S is connected to the voltage measurement unit 10.

また、図示していないが、電流発生部12及び電圧測定部10には演算処理装置が接続されていて、電流発生部12から供給される電流の値及び電圧測定部10によって測定する電圧値のそれぞれのデータを受信して、それらの値から抵抗値を算出する処理を行う。また、その演算処理装置に表示装置が接続されていて、その算出した抵抗値等のデータを表示する(図示せず)。
[基板検査装置の動作]
図4は、例えば、図2に示すように、検査用プローブ20−1と検査用プローブ26とを用いる基板検査装置23によって、基板の表側のランド21aと基板の裏側のランド25との間の配線28を検査する場合の動作の流れを示す。
Although not shown, an arithmetic processing unit is connected to the current generation unit 12 and the voltage measurement unit 10, and the value of the current supplied from the current generation unit 12 and the voltage value measured by the voltage measurement unit 10 are determined. Each piece of data is received, and a resistance value is calculated from these values. Further, a display device is connected to the arithmetic processing unit, and data such as the calculated resistance value is displayed (not shown).
[Operation of substrate inspection equipment]
4, for example, as shown in FIG. 2, the substrate inspection apparatus 23 using the inspection probe 20-1 and the inspection probe 26 is used to connect the land 21a on the front side of the substrate and the land 25 on the back side of the substrate. The flow of operation when inspecting the wiring 28 is shown.

ステップS41では、まず、検査用プローブ20−1を中間板22ともにランド21aの位置まで移動して検査用プローブ20−1の先端をそのランド21aの表面に当接させる。この場合、基板の表面と平行な面内に沿ってX軸方向及びそれに直交するY軸方向と、その面と直交する鉛直方向のZ軸方向とを規定して、それらの座標によってランド21aの位置を特定し、図示せぬプローブ移動装置を用いて検査用プローブ20−1をランド21aの位置に移動してその検査用プローブの先端をそれに当接させるようにしてもよい。   In step S41, first, the inspection probe 20-1 is moved to the position of the land 21a together with the intermediate plate 22, and the tip of the inspection probe 20-1 is brought into contact with the surface of the land 21a. In this case, an X-axis direction and a Y-axis direction perpendicular to the X-axis direction along a plane parallel to the surface of the substrate and a vertical Z-axis direction perpendicular to the surface are defined, and the coordinates of the land 21a are defined by these coordinates. The position may be specified, and the inspection probe 20-1 may be moved to the position of the land 21a using a probe moving device (not shown) so that the tip of the inspection probe is brought into contact therewith.

ステップS42では、次に、検査用プローブ26をランド25の位置まで移動して、その検査用プローブ26の先端をランド25の表面に当接させる。この場合、上記の検査用プローブ20−1の位置決めの場合と同様に、検査用プローブ26の位置決めのために図示せぬプローブ移動装置を用いてもよい。   Next, in step S <b> 42, the inspection probe 26 is moved to the position of the land 25, and the tip of the inspection probe 26 is brought into contact with the surface of the land 25. In this case, a probe moving device (not shown) may be used for positioning the inspection probe 26 as in the case of positioning the inspection probe 20-1.

それらの検査用プローブの位置決めが完了すると、ステップS43では、電流発生部12から、中間板22に所定の大きさの電流を供給する。中間板は導電性材料から構成されているので、その中間板22に供給された電流はその中間板を経由して貫通孔34の周縁から電流プローブ20Fに伝わり、さらに電流プローブ20Fを経由してランド21aに供給される。電流はそのランド21aから配線28を経由して他方のランド25に到達し、そこから、検査用プローブ26の電流プローブ26Fを伝わって電流発生部12の他方の端子に流れ込む。この電流の流れの向きは逆でもよい。そのように、電流がランド21aから配線28を経由して他方のランド25に流れると、配線28の両端の位置、つまり、ランド21aとランド25との間に電位差が発生する。   When the positioning of these inspection probes is completed, a current having a predetermined magnitude is supplied from the current generator 12 to the intermediate plate 22 in step S43. Since the intermediate plate is made of a conductive material, the current supplied to the intermediate plate 22 is transmitted to the current probe 20F from the periphery of the through hole 34 via the intermediate plate, and further via the current probe 20F. It is supplied to the land 21a. The current reaches the other land 25 from the land 21 a via the wiring 28, and then flows through the current probe 26 F of the inspection probe 26 and flows into the other terminal of the current generator 12. The direction of this current flow may be reversed. As described above, when a current flows from the land 21 a to the other land 25 via the wiring 28, a potential difference is generated between the positions of both ends of the wiring 28, that is, between the land 21 a and the land 25.

ステップS44では、その電位差が電圧プローブ20S1と電圧プローブ26Sとの間に発生するので、それ電圧測定部10によって電圧値として測定する。   In step S44, since the potential difference is generated between the voltage probe 20S1 and the voltage probe 26S, the voltage measurement unit 10 measures the voltage difference.

次に、ステップS45では、演算処理装置によって、電流発生部12から供給した電流の値及びその測定した電圧値から抵抗値を算出してその値を保存する。   Next, in step S45, the resistance value is calculated from the value of the current supplied from the current generator 12 and the measured voltage value by the arithmetic processing unit, and the value is stored.

続いて、ステップS46では、その算出した抵抗値を既定の抵抗値のrオームと比較する。算出した抵抗値が既定の抵抗値より小さい場合には、ステップS48において、その算出した抵抗値を求める抵抗値として表示装置に表示する。一方、算出した抵抗値がその既定の抵抗値より大きい場合には、ステップS47において、配線28は断線していると判断して、その旨を表示装置に表示する。
[複数の検査用プローブを用いた場合の基板検査の流れ]
図5は、図2に示す基板検査装置23において、複数の検査用プローブを用いて、順に、所定の箇所の抵抗値等を求める場合の処理の流れを示す。この場合には、中間板22に、複数の検査用プローブ20−1、20−2、20−n・・・20−mを予め所定の貫通孔34に挿入して取り付けておく。
Subsequently, in step S46, the calculated resistance value is compared with a predetermined resistance value of r ohms. If the calculated resistance value is smaller than the predetermined resistance value, in step S48, the calculated resistance value is displayed on the display device as a calculated resistance value. On the other hand, if the calculated resistance value is larger than the predetermined resistance value, it is determined in step S47 that the wiring 28 is disconnected, and this is displayed on the display device.
[Flow of substrate inspection when multiple inspection probes are used]
FIG. 5 shows a flow of processing in the case of obtaining the resistance value or the like at a predetermined location in order using a plurality of inspection probes in the substrate inspection apparatus 23 shown in FIG. In this case, a plurality of inspection probes 20-1, 20-2, 20 -n... 20 -m are inserted into the predetermined through hole 34 and attached to the intermediate plate 22 in advance.

まず、ステップS51では、中間板22を移動してそれに取り付けられた複数の検査用プローブ20−1、20−2、20−n・・・20−mが、測定対象の一方の側にある所定のランドと接触するようにそれらの位置決めを行う。   First, in step S51, a plurality of inspection probes 20-1, 20-2, 20-n... 20-m attached to the intermediate plate 22 by moving the intermediate plate 22 are predetermined on one side of the measurement object. Position them so that they touch the lands.

次に、ステップS53では、所定の測定対象の他端に配置するために、検査用プローブ26を移動して基板の裏側のその測定対象に関連するランドに接触するように、その位置決めを行う。   Next, in step S53, in order to arrange at the other end of the predetermined measurement object, the inspection probe 26 is moved and positioned so as to contact the land related to the measurement object on the back side of the substrate.

それらの検査用プローブの位置決めが完了したら、ステップS54において、電流発生部10から中間板22に所定の値の電流を供給する。中間板22は導電性の材料で形成されているので、その中間板22に電流を供給すると、その中間板から貫通孔34を経由して各検査用プローブの電流プローブ20Fに電流が供給される。その電流はそれらの先端からそのランド21a等、配線28等及び他方のランド25等を経由し、さらに、検査用プローブ26の電流プローブ26F等を伝わって電流発生部12の他方の端子に流れ込む。   When the positioning of these inspection probes is completed, a current of a predetermined value is supplied from the current generator 10 to the intermediate plate 22 in step S54. Since the intermediate plate 22 is formed of a conductive material, when a current is supplied to the intermediate plate 22, a current is supplied from the intermediate plate to the current probe 20 </ b> F of each inspection probe via the through hole 34. . The current flows from the tip of the current 21 through the land 21a, the wiring 28, and the other land 25, and further through the current probe 26F of the inspection probe 26 and flows into the other terminal of the current generator 12.

ステップS55では、検査用プローブ20−1が接続されたランド21aと電流プローブ26が接続されたランド25との間に発生した電圧を測定する。   In step S55, the voltage generated between the land 21a to which the inspection probe 20-1 is connected and the land 25 to which the current probe 26 is connected is measured.

ステップS56では、演算処理装置によってその電圧値及び電流発生部12から供給した電流の値から抵抗値を算出してその値を保存する。   In step S56, a resistance value is calculated from the voltage value and the current value supplied from the current generator 12 by the arithmetic processing unit, and the value is stored.

それに続いて、基板検査装置は、次の測定対象を測定するように作動する。   Subsequently, the substrate inspection apparatus operates to measure the next measurement object.

そこでは、ステップS53において、基板の裏側の検査用プローブ26を次の測定対象に関連するランドに移動してそれと接触するようにその位置決めを行う。   In step S53, the inspection probe 26 on the back side of the substrate is moved to the land associated with the next measurement object and positioned so as to come into contact therewith.

ステップS54では、その位置決めが完了すると、電流発生部10から中間板22に所定の値の電流を供給する。その電流は、中間板から貫通孔34を経由して、次の測定対象に関連するランドに接触する例えば検査用プローブ20−2に流れ、さらに、測定対象の配線を経由して検査用プローブ26が新たに接触しているランドからその検査用プローブ26の電流プローブ26Fを伝わって電流発生部12の他方の端子に流れ込む。   In step S54, when the positioning is completed, a current having a predetermined value is supplied from the current generator 10 to the intermediate plate 22. The current flows from the intermediate plate via the through hole 34 to, for example, the inspection probe 20-2 in contact with the land associated with the next measurement object, and further, via the measurement target wiring, the inspection probe 26. Flows from the newly contacted land through the current probe 26F of the inspection probe 26 and flows into the other terminal of the current generator 12.

ステップS55では、そのときに、測定対象の両端に発生する電圧を検査用プローブ20−2の電圧プローブ20S2及び検査用プローブ26の電圧プローブ26Sを経由して電圧測定部10によって測定する。   In step S55, the voltage generated at both ends of the measurement target at that time is measured by the voltage measurement unit 10 via the voltage probe 20S2 of the inspection probe 20-2 and the voltage probe 26S of the inspection probe 26.

ステップS56では、その電圧値及び供給した電流の値から演算処理装置が抵抗値を算出してその値を保存する。   In step S56, the arithmetic processing unit calculates a resistance value from the voltage value and the value of the supplied current, and stores the resistance value.

上記のように、この後は、測定対象を順次選択してそれに関連する電圧プローブ間の電圧測定を行うように、工程S53からS56までを繰り返す。
[検査用プローブの他の実施例]
図6は、他の実施例に係る検査用プローブ60を示す。
As described above, thereafter, steps S53 to S56 are repeated so that the measurement target is sequentially selected and the voltage measurement between the voltage probes related thereto is performed.
[Other Examples of Inspection Probe]
FIG. 6 shows an inspection probe 60 according to another embodiment.

図6に示すように、検査用プローブ80は、電圧測定用の円柱状の電圧プローブ60Sと、それを囲むように同軸的に配置された円筒状の電流プローブ60Fとを備える。電圧プローブ60Sの表面には絶縁膜(図示せず)が形成されており、電圧プローブ60Sは電流プローブ60Fの内部を移動することができる。図6から明らかなように、電流プローブ60Fの長さは、電圧プローブ60Sの長さよりも短く、電圧プローブ60Sの先端部の接触部63は、電圧プローブ60Fから突出している。また、電流プローブ60F及び電圧プローブ60Sは、可撓性及び弾性を有する材料から形成されている。これにより、後述するように、電流プローブ60F及び電圧プローブ60Sは、ベースプレートと測定対象の回路基板との間で撓んで湾曲するとともにそれらの先端部を回路基板に適切に当接させることができる。   As shown in FIG. 6, the inspection probe 80 includes a columnar voltage probe 60 </ b> S for voltage measurement, and a cylindrical current probe 60 </ b> F arranged coaxially so as to surround it. An insulating film (not shown) is formed on the surface of the voltage probe 60S, and the voltage probe 60S can move inside the current probe 60F. As is clear from FIG. 6, the length of the current probe 60F is shorter than the length of the voltage probe 60S, and the contact portion 63 at the tip of the voltage probe 60S protrudes from the voltage probe 60F. Further, the current probe 60F and the voltage probe 60S are formed of a material having flexibility and elasticity. As a result, as will be described later, the current probe 60F and the voltage probe 60S can bend and bend between the base plate and the circuit board to be measured, and the tip portions thereof can be brought into appropriate contact with the circuit board.

図7は、図6に示すプローブ60と同じ構造のプローブ60−1,60−2,60−3を備えた検査装置70を示す。その検査装置70では、各々のプローブ60−1,60−2,60−3の電流プローブ60Fの上端近くの部分は中間プレート74に固定されているが、その下端近くは、ガイドプレート72に形成された孔に移動自在に挿入されている。中間プレート74は、電流プローブ60Fを固定するだけでなく、導電性の材料から形成することによってそれに固定された電流プローブ60Fのすべてに共通に電流を供給するための電極として機能させてもよい。   FIG. 7 shows an inspection apparatus 70 provided with probes 60-1, 60-2, 60-3 having the same structure as the probe 60 shown in FIG. In the inspection apparatus 70, the portion near the upper end of the current probe 60F of each probe 60-1, 60-2, 60-3 is fixed to the intermediate plate 74, but the lower end is formed on the guide plate 72. It is movably inserted into the formed hole. The intermediate plate 74 may not only fix the current probe 60F but also function as an electrode for supplying a current to all of the current probes 60F fixed thereto by being formed of a conductive material.

次に、図7に基づいて、検査用プローブ60−1,60−2,60−3の先端部を測定対象の配線回路パターン66に当接させる際の検査装置70の動作を説明する。   Next, based on FIG. 7, the operation of the inspection apparatus 70 when the tip portions of the inspection probes 60-1, 60-2, 60-3 are brought into contact with the wiring circuit pattern 66 to be measured will be described.

まず、電圧プローブ60Sが固定されたベースプレート62と、電流プローブ60Fの上端部が固定された中間プレート74とをそれらの距離を一定に保持したまま同時に下降させて、電圧プローブ60Sの接触部63を回路基板68上の配線回路パターン66に当接させる。このときは、電流プローブ60F及び電圧プローブ60Sはまっすぐである。破線で示す部分60S’、60F’は、各プローブが撓んでいない状態を示す。   First, the base plate 62 to which the voltage probe 60S is fixed and the intermediate plate 74 to which the upper end portion of the current probe 60F is fixed are simultaneously lowered while keeping the distance therebetween, so that the contact portion 63 of the voltage probe 60S is moved. The wiring circuit pattern 66 on the circuit board 68 is brought into contact with the circuit board 68. At this time, the current probe 60F and the voltage probe 60S are straight. Portions 60S 'and 60F' indicated by broken lines indicate a state in which each probe is not bent.

次に、接触部63を配線回路パターン66に当接させた状態で、さらにベースプレート62及び中間プレート74を下降させて接触部63を配線回路パターン66に押し続ける。そうすると、ベースプレート62と配線回路パターン66との間の距離が、電圧プローブ60Sの長さより小さくなるので、弾性を有する電圧プローブ60Sが撓み始める。ベースプレート62及び中間プレート74の下降が続くと、電流プローブ60Fの先端部が配線回路パターン66に当接するようになる。その状態が図7における検査用プローブ60−1の状態に対応しており、電流プローブ60Fはまっすぐのままである。   Next, in a state where the contact portion 63 is in contact with the wiring circuit pattern 66, the base plate 62 and the intermediate plate 74 are further lowered to continue pressing the contact portion 63 against the wiring circuit pattern 66. Then, since the distance between the base plate 62 and the wiring circuit pattern 66 becomes smaller than the length of the voltage probe 60S, the elastic voltage probe 60S starts to bend. When the lowering of the base plate 62 and the intermediate plate 74 continues, the tip of the current probe 60F comes into contact with the wiring circuit pattern 66. The state corresponds to the state of the inspection probe 60-1 in FIG. 7, and the current probe 60F remains straight.

一方、基板68又は配線回路パターン66の表面に凹凸があることがある。このため、検査用プローブ60−1の先端が、配線回路パターン66の表面に当接する前に、既に、他の検査用プローブの先端が、対応する配線回路パターン66の表面に既に当接している場合がある。その場合に、ベースプレート62及び中間プレート74の下降を続けると、既に先端が当接している検査用プローブは、可撓性を有するため撓んで湾曲し始める。その後、全ての検査用のプローブの電圧プローブ60S及び電流プローブ60Fの先端が、対応する配線回路パターン66の表面に当接すると、ベースプレート62及び中間プレート74の下降が止められる。そのときは、図7に示すように、先に配線回路パターン66に当接していた検査用プローブ60−2及び60−3の電流プローブ60Fは、撓んで湾曲している。このように電流プローブ60Fが撓むのは、電流プローブ60Fが取り付けられた中間プレート74と、それに対応する配線回路パターン66の表面との間隔が、複数の検査用プローブの間で相違することがあるため、その相違を吸収するためである。
図6及び図7の実施例に係る検査用プローブ60−1等を用いて、配線の検査を行う場合には、電流発生部12を中間板74に接続するとともに、電圧測定部10を検査用プローブ60−1,60−2,60−3等に接続して、図2に示す検査装置と同様に、図4及び図5に示す手順に基づいて配線の抵抗値の測定を行う。つまり、検査用プローブ60−1等を配線(ランド)に接触させて、電流供給部12から中間板74を経由して電流プローブ60Fに電流を供給し、さらにその電流プローブから配線に電流を供給する。その電流の供給によって、検査対象の配線の2つの被接触点の間には電圧が発生する。それらの被接触点には電圧プローブ60Sが接触しているので、電圧測定部10を用いてそれらの一対の電圧プローブ60Sの間に発生した電圧を測定する。次に測定した電圧の値及び供給電流の値から配線の抵抗値を算出して配線の状態を検査する。
On the other hand, the surface of the substrate 68 or the wiring circuit pattern 66 may be uneven. For this reason, before the tip of the inspection probe 60-1 comes into contact with the surface of the wiring circuit pattern 66, the tip of another inspection probe has already come into contact with the surface of the corresponding wiring circuit pattern 66. There is a case. In this case, when the base plate 62 and the intermediate plate 74 continue to descend, the inspection probe with which the tip is already in contact begins to bend and bend because it has flexibility. Thereafter, when the tips of the voltage probes 60S and the current probes 60F of all the probes for inspection come into contact with the surfaces of the corresponding wiring circuit patterns 66, the descent of the base plate 62 and the intermediate plate 74 is stopped. At that time, as shown in FIG. 7, the current probes 60 </ b> F of the inspection probes 60-2 and 60-3 that have been in contact with the wiring circuit pattern 66 previously are bent and curved. The reason why the current probe 60F bends in this way is that the interval between the intermediate plate 74 to which the current probe 60F is attached and the surface of the wiring circuit pattern 66 corresponding to the intermediate plate 74 may be different among a plurality of inspection probes. This is to absorb the difference.
When the wiring inspection is performed using the inspection probe 60-1 or the like according to the embodiment of FIGS. 6 and 7, the current generation unit 12 is connected to the intermediate plate 74 and the voltage measurement unit 10 is used for the inspection. Connected to the probes 60-1, 60-2, 60-3, etc., the resistance value of the wiring is measured based on the procedure shown in FIGS. 4 and 5 similarly to the inspection apparatus shown in FIG. That is, the inspection probe 60-1 or the like is brought into contact with the wiring (land), current is supplied from the current supply unit 12 to the current probe 60F via the intermediate plate 74, and current is supplied from the current probe to the wiring. To do. By supplying the current, a voltage is generated between the two contact points of the wiring to be inspected. Since the voltage probe 60S is in contact with those contact points, the voltage measuring unit 10 is used to measure the voltage generated between the pair of voltage probes 60S. Next, the wiring resistance value is calculated from the measured voltage value and supply current value, and the wiring state is inspected.

図6及び図7の実施例によると、電流プローブ60Fを測定対象に押し付けるだけで、電圧プローブ60S及び電流プローブ60Fの両方の先端部を測定対象にしっかりと接触させることができる。   According to the embodiment of FIGS. 6 and 7, the tip portions of both the voltage probe 60 </ b> S and the current probe 60 </ b> F can be brought into firm contact with the measurement object simply by pressing the current probe 60 </ b> F against the measurement object.

上記の測定装置70の動作の説明においては、ベースプレート62と中間プレート74との間を一定に保持して、電圧プローブ60Sの先端を最初に配線回路パターン66の表面に当接させ、次に、電流プローブ60Fの先端を配線回路パターン66に当接させた。それに代えて、次のように測定装置70を動作させるようにしてもよい。   In the description of the operation of the measuring device 70, the gap between the base plate 62 and the intermediate plate 74 is held constant, the tip of the voltage probe 60S is first brought into contact with the surface of the wiring circuit pattern 66, and then The tip of the current probe 60F was brought into contact with the wiring circuit pattern 66. Instead, the measuring device 70 may be operated as follows.

つまり、測定装置70において、まず、中間プレート74とそれに上端部が固定された電流プローブ60Fを下降させて、電流プローブ60Fの先端部を配線回路パターン66の表面に当接させる。その際、基板68又は配線回路パターン66の表面に凹凸があることがあるため、すべての電流プローブ60Fの先端部が、配線回路パターン66の表面に同時に当接しない場合がある。そのため、すべての電流プローブ60Fの先端部が、配線回路パターン66の表面に当接するまで中間プレート74の下降が続けられる。その下降に伴い、先に配線回路パターン66の表面に当接した電流プローブ60Fは、中間プレート74の下降に伴って湾曲することになる。すべての電流プローブ60Fの先端部が配線回路パターン66の表面に当接した段階で、中間プレート74の下降は止められる。   That is, in the measuring apparatus 70, first, the intermediate plate 74 and the current probe 60F having the upper end fixed thereto are lowered, and the tip of the current probe 60F is brought into contact with the surface of the wiring circuit pattern 66. At this time, since the surface of the substrate 68 or the wiring circuit pattern 66 may be uneven, the tip portions of all the current probes 60F may not contact the surface of the wiring circuit pattern 66 at the same time. Therefore, the lowering of the intermediate plate 74 is continued until the tips of all the current probes 60F are in contact with the surface of the wiring circuit pattern 66. Along with the lowering, the current probe 60F previously abutting on the surface of the wiring circuit pattern 66 is bent as the intermediate plate 74 is lowered. At the stage where the tips of all the current probes 60F are in contact with the surface of the wiring circuit pattern 66, the lowering of the intermediate plate 74 is stopped.

次に、電圧プローブ60Sとともにベースプレート62を下降させる。それにより、電圧プローブ60Sの先端部が、配線回路パターン66の表面に当接するようになる。その際、基板68又は配線回路パターン66の表面の凹凸のために、電流プローブ60Fの場合と同様に、複数の電圧プローブ60Sの先端部が同時に配線回路パターン66の表面に当接しなことがあるので、すべての電圧プローブ60Sの先端部が、配線回路パターン66の表面に当接するまでベースプレート62の下降が続けられる。その下降に伴い、先に配線回路パターン66の表面に当接した電圧プローブ60Sは湾曲することになる。すべての電圧プローブ60Sの先端部が配線回路パターン66の表面に当接した段階で、ベースプレート62の下降が止められる。   Next, the base plate 62 is lowered together with the voltage probe 60S. As a result, the tip of the voltage probe 60 </ b> S comes into contact with the surface of the wiring circuit pattern 66. At that time, due to the unevenness of the surface of the substrate 68 or the wiring circuit pattern 66, the tips of the plurality of voltage probes 60S may not contact the surface of the wiring circuit pattern 66 at the same time as in the case of the current probe 60F. Therefore, the lowering of the base plate 62 is continued until the tip portions of all the voltage probes 60S come into contact with the surface of the wiring circuit pattern 66. Along with the descending, the voltage probe 60 </ b> S that previously contacts the surface of the wiring circuit pattern 66 is curved. At the stage where the tips of all the voltage probes 60S come into contact with the surface of the wiring circuit pattern 66, the lowering of the base plate 62 is stopped.

上述のように、測定装置70を動作させると、電流プローブ60F及び電圧プローブ60Sの撓みによって、測定対象の面の凹凸による高さの相違やプローブの長さの相違等が吸収されてすべてのプローブの先端が適切に測定対象の面に接することができるとともに、それらの先端が適切な力でその面に押し付けられて良好な電気的接触を形成することができる。
[代替例等]
以上、本発明の係るプローブのいくつかの実施形態を説明したが、本発明はこれらの実施形態に拘束されるものではない。当業者が容易になしえる追加、削除、改変等は、本発明に含まれることを承知されたい。本発明の技術的範囲は、添付の特許請求の範囲の記載によって定められる。
As described above, when the measuring device 70 is operated, the difference in height and the length of the probe due to the unevenness of the surface to be measured are absorbed by the deflection of the current probe 60F and the voltage probe 60S, and all the probes are absorbed. The tip of each can properly contact the surface to be measured, and the tip can be pressed against the surface with an appropriate force to form a good electrical contact.
[Alternative examples]
As mentioned above, although several embodiment of the probe which concerns on this invention was described, this invention is not restrained by these embodiment. It should be understood that additions, deletions, modifications, and the like that can be easily made by those skilled in the art are included in the present invention. The technical scope of the present invention is defined by the description of the appended claims.

例えば、図2において、電流プローブ20Fと電圧プローブ20S1,20S2,20nとを入れ替えて、各検査用プローブ20−1,20−2,20−nを、中心に位置する円柱状の電流プローブ20Fの周囲に、それを囲むように電圧プローブ20S1,20S2,20nを形成するように構成してもよい。そのようなプローブを用いた場合には、各検査用プローブの内側に位置する電流プローブ20Fには電流発生部12を接続し、また、各電流プローブ20Fを囲むように形成された電圧プローブ20S1,20S2,20nには、中間板22を経由して電圧測定部10を接続する。この状態で、電流を各電流プローブ20Fと電流プローブ26Fとに流して、電圧プローブ26Sと、電圧プローブ20S1,20S2,20nとの間に発生した電圧を中間板22を経由して電圧測定部10で測定する。この後の処理装置での計算処理は図5で説明した場合と同じである。   For example, in FIG. 2, the current probe 20F and the voltage probes 20S1, 20S2, and 20n are interchanged, and the inspection probes 20-1, 20-2, and 20-n are replaced with the cylindrical current probes 20F that are located at the center. You may comprise so that voltage probe 20S1, 20S2, and 20n may be formed in the circumference | surroundings so that it may be enclosed. When such a probe is used, the current generating unit 12 is connected to the current probe 20F located inside each inspection probe, and the voltage probes 20S1, formed so as to surround each current probe 20F. The voltage measuring unit 10 is connected to 20S2 and 20n via the intermediate plate 22. In this state, a current is passed through each current probe 20F and current probe 26F, and a voltage generated between the voltage probe 26S and the voltage probes 20S1, 20S2, and 20n is passed through the intermediate plate 22 to the voltage measuring unit 10. Measure with Subsequent calculation processing in the processing apparatus is the same as that described with reference to FIG.

また、上記の図5における基板検査装置の動作の説明では、電圧の測定ごとに基板の裏側の検査用プローブを次の測定対象の位置に移動させたが、その基板の裏側においても、中間板に取り付けた複数の検査用プローブを用いて、それらの複数の検査用プローブの位置決めは最初に一度だけ行い、次に、基板の表側の検査用プローブ及び基板の裏側の検査用プローブのそれぞれの電圧プローブ間の電圧を測定することによって、同時にすべての測定対象の検査を行ってもよい。または、基板の表側の検査用プローブ及び基板の裏側の検査用プローブのそれぞれの電圧プローブ間の電圧を測定する際に、電圧測定装置と電圧プローブ対との間の接続の切り換えを行うことによって、所定の測定対象の電圧測定を順に行うようにしてもよい。   Further, in the explanation of the operation of the substrate inspection apparatus in FIG. 5 above, the inspection probe on the back side of the substrate is moved to the position of the next measurement object every time the voltage is measured. The plurality of inspection probes are first positioned only once, and then the respective voltages of the inspection probe on the front side of the substrate and the inspection probe on the back side of the substrate are used. By measuring the voltage between the probes, all the objects to be measured may be inspected at the same time. Or, when measuring the voltage between the voltage probes of the inspection probe on the front side of the substrate and the inspection probe on the back side of the substrate, by switching the connection between the voltage measuring device and the voltage probe pair, You may make it perform the voltage measurement of a predetermined measuring object in order.

さらに、上記の図2及び図3の実施例では、中間板を板状の部材で構成してそれによって複数の検査用プローブを支持した構成を説明したが、複数の電流プローブの支持は他の部材によって行い、中間板は導電性のソフトなフィルム上の部材で構成して、それに複数の電流プローブへ電流を供給する機能のみを持たせるようにしてもよい。   Further, in the above-described embodiments of FIGS. 2 and 3, the configuration in which the intermediate plate is configured by a plate-like member and thereby supports a plurality of inspection probes is described. The intermediate plate may be formed of a member on a conductive soft film, and may have only a function of supplying current to a plurality of current probes.

図1は、四端子測定法の概念を説明するための図である。FIG. 1 is a diagram for explaining the concept of the four-terminal measurement method. 図2(a)は、本発明に係る基板検査装置の一実施形態の概略側面図である。図2(b)は、その基板検査装置に用いる検査用プローブの先端部の拡大図である。FIG. 2A is a schematic side view of an embodiment of a substrate inspection apparatus according to the present invention. FIG. 2B is an enlarged view of the tip portion of the inspection probe used in the substrate inspection apparatus. 図3は、図2の本発明に係る基板検査装置に用いる中間板の平面図である。3 is a plan view of an intermediate plate used in the substrate inspection apparatus according to the present invention shown in FIG. 図4は、本発明に係る基板検査装置を用いて基板を検査する際の装置の動作の流れ図である。FIG. 4 is a flowchart of the operation of the apparatus when inspecting a substrate using the substrate inspection apparatus according to the present invention. 図5は、本発明に係る基板検査装置において複数の検査用プローブを用いて基板検査を行う際の流れ図である。FIG. 5 is a flowchart for performing substrate inspection using a plurality of inspection probes in the substrate inspection apparatus according to the present invention. 図6は、本発明に係る検査用プローブの他の実施例を説明するための図である。FIG. 6 is a view for explaining another embodiment of the inspection probe according to the present invention. 図7は、図6の検査用プローブを用いる他の実施例に係る基板検査装置を説明するための図である。FIG. 7 is a view for explaining a substrate inspection apparatus according to another embodiment using the inspection probe of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10:電圧測定部、 12:電流発生部、 20−1,20−2,20−n,26:検査用プローブ、 20S1,20S2,20Sn:電圧プローブ、 20F,26F:電流プローブ、 22,74:中間板、 34:貫通孔、 60:検査用プローブ、 70:基板検査装置 10: Voltage measurement unit, 12: Current generation unit, 20-1, 20-2, 20-n, 26: Probe for inspection, 20S1, 20S2, 20Sn: Voltage probe, 20F, 26F: Current probe, 22, 74: Intermediate plate 34: Through hole 60: Inspection probe 70: Substrate inspection device

Claims (7)

被検査基板の配線の被検査点に夫々接触し、一方が電圧測定用のプローブとして用いられ、他方が電流供給用のプローブとして用いられる第1及び第2プローブからなり、前記第1及び第2プローブが前記被検査点に接触する検査用プローブを複数用いて前記配線の抵抗値を算出する基板検査装置であって、
前記電流供給用のプローブへ電流を供給する電流供給手段と、
前記電圧測定用のプローブ間の電圧を測定する電圧測定手段と、
前記電流供給手段により供給される電流値と前記電圧測定手段により測定される電圧値により前記配線の抵抗値を算出する処理手段と、
複数の前記電流供給用のプローブと前記電流供給手段を導通可能に接続するとともに複数の前記電流供給用のプローブを電気的に相互に接続する、一体的に形成された導電性の接続部材を有することを特徴とする基板検査装置。
The first and second probes comprise first and second probes that are in contact with the test points of the wiring of the board to be inspected, one of which is used as a voltage measuring probe and the other of which is used as a current supply probe. A board inspection apparatus that calculates a resistance value of the wiring by using a plurality of inspection probes in which a probe contacts the inspection point,
Current supply means for supplying a current to the current supply probe;
Voltage measuring means for measuring a voltage between the voltage measuring probes;
Processing means for calculating a resistance value of the wiring based on a current value supplied by the current supply means and a voltage value measured by the voltage measurement means;
A plurality of the current supply probes and the current supply means are connected so as to be conductive, and the plurality of current supply probes are electrically connected to each other, and the conductive connection members are integrally formed. A substrate inspection apparatus.
請求項1の基板検査装置において、前記接続部材が、前記被検査基板の表側又は裏側に配置される複数の前記電流供給用プローブを電気的に相互に接続している、基板検査装置。   2. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the connection member electrically connects the plurality of current supply probes arranged on the front side or the back side of the substrate to be inspected. 請求項1又は2の基板検査装置において、前記接続部材が、前記表面又は前記裏面に配置される前記電流供給用プローブ全てを電気的に相互に接続している、基板検査装置。   3. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the connection member electrically connects all the current supply probes arranged on the front surface or the back surface. 請求項1乃至3いずれかの基板検査装置において、前記第1プローブが、絶縁層を介して前記第2プローブの周縁に配置される、基板検査装置。   4. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the first probe is disposed on a peripheral edge of the second probe via an insulating layer. 請求項4の基板検査装置において、前記第1プローブと前記第2プローブが同心状に形成される、基板検査装置。   5. The substrate inspection apparatus according to claim 4, wherein the first probe and the second probe are formed concentrically. 請求項1乃至5いずれかの基板検査装置において、前記接続部材が導電性材料から形成される板状部材であり、該板状部材に複数の貫通孔が形成され、該貫通孔に前記電流供給用のプローブが導通可能に固着されている、基板検査装置。   6. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the connecting member is a plate-like member formed of a conductive material, and a plurality of through holes are formed in the plate-like member, and the current supply is supplied to the through-hole. A substrate inspection device in which a probe for use is fixed in a conductive manner. 一方が電圧測定用のプローブとして用いられ、他方が電流供給用のプローブとして用いられる第1及び第2プローブからなる検査用プローブの該第1及び第2プローブを被検査基板の配線の被検査点に接触するように配置する配置工程と、
前記電流供給用のプローブへ電流を供給する供給工程と、
前記電圧測定用のプローブ間の電圧を測定する測定工程と、
前記供給工程によって供給した電流の値と、前記測定工程によって測定した電圧の値とにより前記配線の抵抗値を算出する処理工程とを含み、
前記配置工程において、一体的に形成された導電性の接続部材を用いて複数の前記検査用プローブを電気的に相互に接続して配置するとともに、前記供給工程において前記接続部材を介して前記複数の検査用プローブに対し同時に電流を供給することを特徴とする基板検査方法。
The first and second probes of the inspection probe composed of the first and second probes, one of which is used as a voltage measurement probe and the other is used as a current supply probe, are the inspection points of the wiring of the substrate to be inspected. An arrangement step of arranging to be in contact with
Supplying a current to the current supply probe; and
A measuring step of measuring a voltage between the voltage measuring probes;
A processing step of calculating a resistance value of the wiring based on a value of the current supplied by the supplying step and a voltage value measured by the measuring step;
In the arranging step, the plurality of inspection probes are electrically connected to each other using an integrally formed conductive connecting member, and the plurality of inspection probes are arranged via the connecting member in the supplying step. A method for inspecting a substrate, comprising simultaneously supplying current to the inspection probes.
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