JP2007168065A

JP2007168065A - 垂直コーム電極の構造ならびにこれを備えたマイクロ光スキャナー、マイクロアクチュエータ、及び静電センサー

Info

Publication number: JP2007168065A
Application number: JP2006302569A
Authority: JP
Inventors: Byeung-Leul Lee; 秉烈李
Original assignee: Samsung Electronics Co Ltd
Current assignee: Samsung Electronics Co Ltd
Priority date: 2005-12-19
Filing date: 2006-11-08
Publication date: 2007-07-05
Also published as: EP1798195A2; KR100723416B1; US20070139599A1

Abstract

【課題】線形性を有する大きな変位の動作が可能な垂直コーム電極の構造を提供する。
【解決手段】表面に対して垂直に形成された複数の固定コーム電極２２を備える第１基板２１と、第１基板２１の表面に積層されたものであって、第１基板２１に対して垂直に形成された複数の駆動コーム電極２７を備える第２基板２４と、を備え、固定コーム電極２２と駆動コーム電極２７との間に垂直方向の間隙が存在しないように、固定コーム電極２２が、駆動コーム電極２７に向って所定距離だけ垂直方向に移動変位している。
【選択図】図１０

Description

本発明は、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ−Ｅｌｅｃｔｒｏ−ＭｅｃｈａｎｉｃａｌＳｙｓｔｅｍ）技術により提供される垂直コーム電極の構造ならびにこれを備えたマイクロ光スキャナー、マイクロアクチュエータ、及び静電センサーに係り、さらに詳細には、線形性を有する大きな変位の動作が可能な垂直コーム電極の構造ならびにこれを備えたマイクロ光スキャナー、マイクロアクチュエータ、及び静電センサーに関する。

ＳＯＩ（ＳｉｌｉｃｏｎｏｎＩｎｓｕｌａｔｏｒ）基板の上下層にコーム状（櫛歯状）の駆動コーム電極（または、ローター）及び固定コーム電極（または、ステータ）がそれぞれ形成された垂直コーム電極の構造は、静電センサー、マイクロ光スキャナー、またはマイクロアクチュエータ等に一般的に利用されている。

図１は、一般的な垂直コーム電極の構造を概略的に示す斜視図である。図１に示すように、一般的な垂直コーム電極の構造１０は、固定コーム電極１２が形成された下部シリコン基板１１上に、駆動コーム電極１７が形成された上部シリコン基板１４を積層した構造である。上部および下部シリコン基板１１，１４の間には、酸化物層のような絶縁層１３が設けられている。駆動コーム電極１７は、バネ１６を通じて上部シリコン基板１４と連結される駆動板１５の両側に垂直に形成されている。一方、固定コーム電極１２は、駆動コーム電極１７と交差する位置で、下部シリコン基板１１内に形成されている。このような構造で、駆動コーム電極１７及び固定コーム電極１２に電圧を印加すれば、駆動コーム電極１７と固定コーム電極１２との間に作用する静電気力により、駆動板１５が揺動または垂直方向に変位する。

ところが、一般的な垂直コーム電極の構造の場合、大きな変位の動作を得るためには、非線形性の動作（非線形挙動）が発生し、線形な動作を得るためには、変位が小さくなるという問題がある。

図２Ａは、比較的大きな変位を得ることができる２層垂直コーム電極の構造を示す断面図である。図２Ａに示すように、駆動コーム電極１７は、上部シリコン基板１４に形成されており、固定コーム電極１２は、下部シリコン基板１１に形成されているため、駆動コーム電極１７と固定コーム電極１２との間には、絶縁層１３ほど垂直方向の間隙Ｔ_ＢＯＸが存在する。図２Ｂは、このような駆動コーム電極１７と固定コーム電極１２との間の相対的な位置を示している。駆動コーム電極１７が上下運動を行う場合、駆動コーム電極１７が固定コーム電極１２の間に重なり、その結果、固定コーム電極１２と駆動コーム電極１７との間にキャパシタンスの変化が発生する。したがって、図２Ｃに示すように、垂直コーム電極の構造の等価回路は、可変キャパシタが並列に連結された回路とみなされる。ここで、Ｃ１は、図面において右側の固定コーム電極１２と駆動コーム電極１７との間のキャパシタンスであり、Ｃ２は、図面において左側の固定コーム電極１２と駆動コーム電極１７との間のキャパシタンスである。

固定コーム電極１２と駆動コーム電極１７とが重なり合う面積が大きいほど、キャパシタンスも大きくなるため、駆動板１５が垂直方向に変位する場合、キャパシタンスの大きさは、図３Ａのグラフのように変化する。すなわち、固定コーム電極１２と駆動コーム電極１７とが重なり合う瞬間から、キャパシタンスは線形的に大きくなり始める。また、固定コーム電極１２と駆動コーム電極１７との間に作用する静電気力Ｆｅは、印加電圧が一定である場合、キャパシタンスの変化率に比例するので、図３Ｂのグラフのように、固定コーム電極１２と駆動コーム電極１７とが重なり合う瞬間（ｚ＝−Ｔ_ＢＯＸ）、急激に変化した後に一定の値を維持する。一方、静電気力Ｆｅは、印加電圧Ｖの２乗にも比例するので、印加電圧を調節して駆動板１５の変位を調節できる。ところで、静電気力Ｆｅが、ｚ＝−Ｔ_ＢＯＸで不連続性を有するため、図３Ｃのグラフのように、駆動板１５の変位は、印加電圧が閾値以上になるまで変化しない。印加電圧が閾値以上になれば、駆動板１５は、ｚ＝−Ｔ_ＢＯＸの位置まで急激に移動した後に線形的な運動を行う。したがって、図２Ａに示す２層垂直コーム電極の構造は、比較的に大きな変位を得ることができるが、閾値以下の印加電圧で線形性を有する動作が不可能である。

図４Ａは、線形性を有する動作を得るための一般的な垂直コーム電極の構造を示している。図４Ａに示す一般的な垂直コーム電極の構造の場合、固定コーム電極１２及び駆動コーム電極１７を同一平面上に形成して互いに重ねた後、上部カバー１８で固定コーム電極１２を下方にＴ_Ｄほど移動させた形態をしている。図４Ｂは、このような駆動コーム電極１７と固定コーム電極１２との間の相対的な位置を示している。

このような構造で、駆動板１５の変位によるキャパシタンスの変化は、図５Ａのグラフのようである。すなわち、駆動コーム電極１７がＴ_Ｄほど変位して固定コーム電極１２と完全に重なり合うとき、キャパシタンスが最大になる。図２Ａに示す垂直コーム電極の構造とは異なり、図４Ａに示す垂直コーム電極の構造の場合には、固定コーム電極１２と駆動コーム電極１７との間に初期間隙がないため、非線形な動作が発生しない。しかし、図５Ｂのグラフのように、駆動板１５がＴ_Ｄ以上に移動すれば、静電気力Ｆｅの方向が反転されるので、図５Ｃのグラフのように、駆動板１５は、Ｔ_Ｄ以上に移動できない。したがって、図４Ａに示す垂直コーム電極の構造の場合、大きな変位が得られないという問題がある。

本発明の目的は、構造が簡単で、かつ大きな変位の動作及び線形動作が何れも得られる垂直コーム電極の構造を提供することである。

また、本発明の他の目的は、前述の垂直コーム電極の構造を利用した静電センサー、マイクロアクチュエータ、及びマイクロ光スキャナーを提供することである。

本発明の垂直コーム電極の構造は、表面に対して垂直に形成された複数の固定コーム電極を備える第１基板と、前記第１基板の表面に積層されたものであって、前記第１基板に対して垂直に形成された複数の駆動コーム電極を備える第２基板と、を備え、前記固定コーム電極と前記駆動コーム電極との間に垂直方向の間隙が存在しないように、前記固定コーム電極が前記駆動コーム電極に向って所定距離だけ垂直方向に変位していることを特徴とする。

前記垂直コーム電極の構造は、前記第１基板の裏面に配置されたベース基板をさらに備える。また、前記ベース基板の表面には、前記固定コーム電極が前記駆動コーム電極と少なくとも部分的に重なるように、前記駆動コーム電極に向って前記固定コーム電極を垂直方向に加圧する突出部が形成されうる。

前記垂直コーム電極の構造は、前記第１基板と第２基板との間に絶縁層がさらに介在されていることを特徴とする。

また、前記ベース基板の表面に形成された突出部の高さは、少なくとも前記絶縁層の高さよりも高いことが望ましい。

本発明の望ましい実施形態によれば、前記第１基板と前記固定コーム電極とは、同一平面上に一体的に形成され、前記固定コーム電極が前記第１基板に対して垂直方向に変位するように、前記第１基板と前記固定コーム電極との間にバネが一体的に形成されうる。

また、前記第２基板は、同一平面上に一体的に形成された駆動板をさらに備え、前記駆動板が前記第２基板に対して揺動または垂直方向に変位することができるように、前記第２基板と前記駆動板との間にバネが一体的に形成されうる。

前記複数の駆動コーム電極は、前記駆動板の側面に垂直にかつ相互に平行に形成されることが望ましい。

本発明のマイクロ光スキャナーは、前述の垂直コーム電極の構造を備えることを特徴とする。

本発明のマイクロアクチュエータは、前述の垂直コーム電極の構造を備えることを特徴とする。

本発明の静電センサーは、前述の垂直コーム電極の構造を備えることを特徴とする。

本発明によれば、ベース基板の突出部を利用して、固定コーム電極を駆動コーム電極と重ねることによって、簡単かつ安価で大きな変位の動作及び線形動作がいずれも可能な垂直コーム電極の構造を提供できる。

以下、添付された図面を参照して、本発明の望ましい実施形態を詳細に説明する。

図６Ａは、本発明の一実施形態に係る垂直方向に変位する垂直コーム電極の構造を概略的に示す断面図である。図６Ａに示すように、本実施形態に係る垂直コーム電極の構造は、下部シリコン基板２１及び上部シリコン基板２４からなるＳＯＩ基板がベース基板３０上に接合された構造を有している。接合方法としては、例えば、陽極接合、シリコン直接接合（ＳｉｌｉｃｏｎＤｉｒｅｃｔＢｏｎｄｉｎｇ：ＳＤＢ）、共融接合方法などがある。一般的な技術と同様に、下部シリコン基板２１と上部シリコン基板２４との間には、酸化物層と同じ絶縁層２３が設けられており、下部シリコン基板２１と上部シリコン基板２４とが相互に電気的に短絡されることを防止する。下部シリコン基板２１は、同一平面上に一体的に形成された複数の垂直な固定コーム電極２２を備える。また、上部シリコン基板２４は、同一平面上に一体的に形成された駆動板２６及び複数の垂直な駆動コーム電極２７を備える。図６Ａに示すように、複数の駆動コーム電極２７は、駆動板２６の両側面に垂直にかつ互いに平行に形成される。

一方、ベース基板３０において固定コーム電極２２と対応する表面には、駆動コーム電極２７に向かって固定コーム電極２２を加圧する突出部３１が形成されている。本実施形態によれば、ベース基板３０の表面に形成された突出部３１の高さは、少なくとも絶縁層２３の高さ（厚さ）よりも高いことが望ましい。したがって、図６Ａに示すように、固定コーム電極２２が駆動コーム電極２７に向って垂直方向に移動して、駆動コーム電極２７と少なくとも部分的に重なり合う。

図６Ｂは、図６Ａに示す固定コーム電極２２及び駆動コーム電極２７を図面に直交する方向に切り取った断面図であって、突出部３１により下部シリコン基板２１に対して垂直方向に移動した複数の固定コーム電極２２と駆動コーム電極２７との間の相対的な位置を示している。図６Ｂに示すように、本実施形態に係る垂直コーム電極の構造で、固定コーム電極２２及び駆動コーム電極２７は、垂直方向に所定の間隔Ｔ（Ｔ≧０）ほど重なり合っている。

したがって、駆動コーム電極２７が、図６Ｂの矢印で表示されたように、下部シリコン基板２１の表面に対して垂直方向に変位するときには、固定コーム電極２２と駆動コーム電極２７との間に発生するキャパシタンスの大きさは、図７Ａのグラフのように変化する。すなわち、駆動コーム電極２７の上下運動方向（すなわち、下部シリコン基板２１に対して垂直方向）をｚ軸と定義し、駆動コーム電極２７の下端部をｚ軸の原点とするとき、キャパシタンスは、駆動コーム電極２７がｚ＝＋Ｔから−ｚ方向に移動する間に線形的に大きくなる。また、キャパシタンスの変化により発生する静電気力（Ｆ_ｅ）は、印加電圧が一定であるとするとき、図７Ｂに示すように、駆動コーム電極２７がｚ＝＋Ｔから−ｚ方向に移動する間に一定に維持される。したがって、本実施形態に係る垂直コーム電極の構造の場合、駆動コーム電極２７の初期位置（ｚ＝０）が固定コーム電極２２と間隔Ｔほど重なり合った状態にあるので、駆動コーム電極２７は、線形駆動が可能になる。すなわち、図７Ｃに示すように、駆動コーム電極２７は、印加電圧の２乗に線形的に比例して駆動されうる。ここで、駆動コーム電極２７の変位範囲を大きくするためには、Ｔの値が小さい方が良い。特に、固定コーム電極２２の上端部と駆動コーム電極２７の下端部とが完全に一致する場合（すなわち、Ｔ＝０）にも、駆動コーム電極２７の線形性は維持されうる。

このような本発明に係る垂直コーム電極の構造は、図２Ａに示す一般的な技術と比較すれば、線形駆動が可能である。また、図４Ａに示す一般的な技術と比較すれば、より大きな変位が得られるという長所がある。

図８は、本発明の他の実施形態に係る揺動（シーソー運動）する垂直コーム電極の構造を概略的に示している。図６Ａに示す垂直コーム電極の構造の場合、矢印で表示されたように、駆動板２６が全体的に下部シリコン基板２１の表面に対して垂直方向に変位（並進運動）している。一方、図８に示す垂直コーム電極の構造の場合、矢印で表示されたように、駆動板２６が回転軸を中心に揺動（揺動運動）している。このような並進運動及び揺動運動は、同じ構造の垂直コーム電極の構造で、電圧の印加方式によって選択されうる。例えば、図６Ａのように並進運動を行うためには、固定コーム電極２２の両側と駆動コーム電極２７の両側とにそれぞれ同じ電圧を印加する。一方、図８のように揺動運動を行うためには、固定コーム電極２２の両側に相異なる電圧を印加するか、または固定コーム電極２２の両側に交互に電圧を印加する。

図８のように駆動板２６が揺動する場合、固定コーム電極２２と駆動コーム電極２７との間に発生するキャパシタンスは、図９Ａのグラフのように変化する。前記グラフで、Ｃ１は、図面で右側の固定コーム電極と駆動コーム電極との間のキャパシタンスであり、Ｃ２は、図面で左側の固定コーム電極と駆動コーム電極との間のキャパシタンスである。また、駆動板２６が水平状態を維持するときの角度θを０°とし、駆動板２６が時計回り方向に回転するときには、θ＞０、反時計回り方向に回転するときには、θ＜０と定義する。例えば、図面で右側の固定コーム電極と駆動コーム電極との間のキャパシタンスＣ１は、駆動板２６が時計回り方向に回転するとき（すなわち、θが大きくなるとき）に線形的に大きくなる。一方、図面で左側の固定コーム電極と駆動コーム電極との間のキャパシタンスＣ２は、駆動板２６が反時計回り方向に回転するとき（すなわち、θが小さくなるとき）に線形的に大きくなる。初期的に固定コーム電極２２と駆動コーム電極２７とが重なり合っているため、図９Ａに示すように、Ｃ１は、０°より小さい角度から大きくなり始め、Ｃ２は、０°より大きな角度から大きくなり始める。

これにより、キャパシタンスの変化により発生する静電気的なトルクτ_ｅの場合にも、図９Ｂのグラフのように変化する。例えば、時計回り方向に作用するトルクτ_ｅ１は、θ＞０である領域で常に一定の値を維持し、反時計回り方向に作用するトルクτ_ｅ２は、θ＜０である領域で常に一定の値を維持できる。その結果、図９Ｃに示すように、時計回り方向または反時計回り方向への駆動角度は、印加電圧の２乗に比例して線形的に変化しうる。

図１０は、本発明に係る垂直コーム電極の構造を製造するための例示的な構成を示す分解斜視図である。図１０に示すように、固定コーム電極２２を備える下部シリコン基板２１がベース基板３０上に積層され、下部シリコン基板２１上には、駆動コーム電極２７を備える上部シリコン基板２４が積層される。図１０には示されていないが、下部シリコン基板２１と上部シリコン基板２４との間には、絶縁のための酸化物層が積層されている。

前述のように、下部シリコン基板２１及び固定コーム電極２２は、同一平面上に形成されており、例えば、一つのシリコン基板をエッチングして一体的に形成されうる。図１０に示すように、固定コーム電極２２と対応するベース基板３０の上面には、突出部３１が形成されているため、下部シリコン基板２１を積層する過程で、固定コーム電極２２は、突出部３１の高さだけ上方に移動する。ここで、固定コーム電極２２が下部シリコン基板２１に対して変位することができるように、図１０の拡大した円で詳細に示したように、下部シリコン基板２１と固定コーム電極２２とは、板バネ２５を介して連結されることが望ましい。このような板バネ２５も、エッチング工程を通じて下部シリコン基板２１及び固定コーム電極２２と共に一体的に形成されうる。

また、上部シリコン基板２４は、当該上部シリコン基板２４に対して垂直方向に変位または当該上部シリコン基板２４に対して揺動する駆動板２６を備え、複数の駆動コーム電極２７は、駆動板２６の両側面に垂直にかつ相互に平行に形成されている。駆動板２６は、上部シリコン基板２４に対して垂直方向に変位または上部シリコン基板２４に対して揺動することができるように、図１０に示すように、トーションバネ２９を通じて上部シリコン基板２４と連結される。下部シリコン基板２１の場合と同様に、上部シリコン基板２４、駆動板２６、駆動コーム電極２７、及びトーションバネ２９は、一つのシリコン基板をエッチングして同一平面上に一体的に形成されうる。

前述のように、本発明に係る垂直コーム電極の構造は、大きな変位の動作及び線形動作をいずれも得ることができる。したがって、本発明に係る垂直コーム電極の構造は、目的によってマイクロ光スキャナー、マイクロアクチュエータ、または静電センサーなどに適切に利用されうる。例えば、レーザＴＶなどで映像の高速走査に使用されるマイクロ光スキャナーに垂直コーム電極の構造が利用される場合、駆動板２６の表面にはミラーが形成され、前記ミラーが形成された駆動板２６が高速に揺動するように、固定コーム電極２２及び駆動コーム電極２７に電圧が印加される。また、他の用途のマイクロアクチュエータとして使用される場合、駆動板２６が垂直方向に変位するように、固定コーム電極２２及び駆動コーム電極２７に電圧が印加されうる。また、固定コーム電極２２及び駆動コーム電極２７に電圧を印加して駆動板２６を駆動させる代わりに、駆動板２６の振動による固定コーム電極２２と駆動コーム電極２７との間のキャパシタンスを測定して、慣性などを感知する静電センサーとして利用されてもよい。

本発明は、ＭＥＭＳ技術により提供されるマイクロアクチュエータ、マイクロ光スキャナー、静電センサーなどの製造に利用できる。

一般的な垂直コーム電極の構造を概略的に示す斜視図である。一般的な垂直コーム電極の構造を概略的に示す断面図である。一般的な垂直コーム電極の構造で、固定コーム電極と駆動コーム電極との間の相対的な位置を示す図面である。一般的な垂直コーム電極の構造を示す等価回路図である。図２Ａに示す一般的な垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。図２Ａに示す一般的な垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。図２Ａに示す一般的な垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。一般的な他の垂直コーム電極の構造を概略的に示す断面図である。一般的な他の垂直コーム電極の構造で、固定コーム電極と駆動コーム電極との間の相対的な位置を示す図面である。図４Ａに示す一般的な垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。図４Ａに示す一般的な垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。図４Ａに示す一般的な垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。本発明の一実施形態に係る垂直方向に変位する垂直コーム電極の構造を概略的に示す断面図である。本発明の一実施形態に係る垂直コーム電極の構造で、固定コーム電極と駆動コーム電極との間の相対的な位置を示す図面である。図６Ａに示す本発明に係る垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。図６Ａに示す本発明に係る垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。図６Ａに示す本発明に係る垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。本発明の他の実施形態に係る揺動する垂直コーム電極の構造を概略的に示す断面図である。図８に示す本発明に係る垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。図８に示す本発明に係る垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。図８に示す本発明に係る垂直コーム電極の構造の特性を示すグラフである。本発明に係る垂直コーム電極の構造を製造するための例示的な構成を示す分解斜視図である。

符号の説明

２１下部シリコン基板、
２２固定コーム電極、
２４上部シリコン基板、
２５板バネ、
２６駆動板、
２７駆動コーム電極、
２９トーションバネ、
３０ベース基板、
３１突出部。

Claims

表面に対して垂直に形成された複数の固定コーム電極を備える第１基板と、
前記第１基板の表面に積層されたものであって、前記第１基板に対して垂直に形成された複数の駆動コーム電極を備える第２基板と、を備え、
前記固定コーム電極と前記駆動コーム電極との間に垂直方向の間隙が存在しないように、前記固定コーム電極が前記駆動コーム電極に向かって所定距離だけ垂直方向に変位していることを特徴とする垂直コーム電極の構造。
前記第１基板の裏面に配置されるベース基板をさらに備え、
前記固定コーム電極が前記駆動コーム電極と少なくとも部分的に重なり合うように、前記駆動コーム電極に向かって前記固定コーム電極を垂直方向に加圧する突出部が前記ベース基板の表面に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の垂直コーム電極の構造。
前記第１基板と前記第２基板との間に絶縁層が介在されていることを特徴とする請求項２に記載の垂直コーム電極の構造。
前記ベース基板の表面に形成された突出部の高さは、少なくとも前記絶縁層の高さよりも高いことを特徴とする請求項３に記載の垂直コーム電極の構造。
前記第１基板と前記固定コーム電極とは、同一平面上に一体的に形成されており、
前記固定コーム電極が前記第１基板に対して垂直方向に変位するように、前記第１基板と前記固定コーム電極との間にバネが一体的に形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の垂直コーム電極の構造。
前記第２基板は、同一平面上に一体的に形成された駆動板をさらに備え、
前記駆動板が前記第２基板に対して揺動または垂直方向に変位することができるように、前記第２基板と前記駆動板との間にバネが一体的に形成されていることを特徴とする請求項５に記載の垂直コーム電極の構造。
前記複数の駆動コーム電極は、前記駆動板の側面に対して垂直にかつ相互に平行に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の垂直コーム電極の構造。
請求項１〜４のいずれか１項に記載の垂直コーム電極の構造を備えることを特徴とするマイクロ光スキャナー。
前記第１基板と前記固定コーム電極とは、同一平面上に一体的に形成されており、
前記固定コーム電極が前記第１基板に対して垂直方向に変位するように、前記第１基板と前記固定コーム電極との間にバネが一体的に形成されていることを特徴とする請求項８に記載のマイクロ光スキャナー。
前記第２基板は、同一平面上に一体的に形成された駆動ミラーをさらに備え、
前記駆動ミラーが前記第２基板に対して揺動することができるように、前記第２基板と前記駆動ミラーとの間にバネが一体的に形成されていることを特徴とする請求項９に記載のマイクロ光スキャナー。
前記複数の駆動コーム電極は、前記駆動ミラーの側面に対して垂直にかつ相互に平行に形成されていることを特徴とする請求項１０に記載のマイクロ光スキャナー。
請求項１〜４のいずれか１項に記載の垂直コーム電極の構造を備えることを特徴とするマイクロアクチュエータ。
前記第１基板と前記固定コーム電極とは、同一平面上に一体的に形成されており、
前記固定コーム電極が前記第１基板に対して垂直方向に変位するように、前記第１基板と前記固定コーム電極との間にバネが一体的に形成されていることを特徴とする請求項１２に記載のマイクロアクチュエータ。
請求項１〜４のいずれか１項に記載の垂直コーム電極の構造を備えることを特徴とする静電センサー。
前記第１基板と前記固定コーム電極とは、同一平面上に一体的に形成されており、
前記固定コーム電極が前記第１基板に対して垂直方向に変位するように、前記第１基板と前記固定コーム電極との間にバネが一体的に形成されていることを特徴とする請求項１４に記載の静電センサー。