JP2007157913A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】酸化膜へのサイドエッチを防止でき、L型サイドウォールスペーサーの半導体基板の主面に沿って外方に伸びている部分の寸法を精度よく制御できるMOS型半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極表面に絶縁膜と該絶縁膜に対して十分なエッチング選択比が得られる異種膜を形成する工程と、前記異種膜と前記絶縁膜を異方性エッチングし、前記異種膜のみを除去して、前記ゲート電極の側面にL型サイドウォールスペーサーを形成する工程と、前記ゲート電極、前記L型サイドウォールスペーサーをマスクとして、前記半導体基板の素子形成領域に不純物イオンを注入して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成する工程と、前記半導体基板を熱処理して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を活性化する工程とを含むことを特徴とするLDD構造を有する構造のMOS型半導体装置の製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】ゲート電極表面に絶縁膜と該絶縁膜に対して十分なエッチング選択比が得られる異種膜を形成する工程と、前記異種膜と前記絶縁膜を異方性エッチングし、前記異種膜のみを除去して、前記ゲート電極の側面にL型サイドウォールスペーサーを形成する工程と、前記ゲート電極、前記L型サイドウォールスペーサーをマスクとして、前記半導体基板の素子形成領域に不純物イオンを注入して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成する工程と、前記半導体基板を熱処理して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を活性化する工程とを含むことを特徴とするLDD構造を有する構造のMOS型半導体装置の製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明は、酸化膜へのサイドエッチを防止でき、L型サイドウォールスペーサーの半導体基板の主面に沿って外方に伸びている部分の寸法を精度よく制御できるMOS型半導体装置の製造方法に関する。
MOS型半導体装置(トランジスタ)は、ゲート電極近傍における高電界中のホットキャリア耐性を向上させるためにLDD(Lightly Doped Drain)領域を有する構造を利用している。
以下に、LDD構造のMOS型半導体装置の製造方法について説明する。
以下に、LDD構造のMOS型半導体装置の製造方法について説明する。
まず、図3(a)に示すように、半導体基板1に素子分離層2を形成し、素子(トランジスタ)形成領域にゲート絶縁膜3を形成する。そして、例えば、減圧CVD法により多結晶シリコン膜を形成し、通常のフォトリソ技術とエッチング技術により多結晶シリコン膜からなるゲート電極6を形成する。
次に、図3(b)に示すように、素子形成領域以外をレジストパターン10により被覆し、LDD層(低濃度不純物層)の形成領域(低濃度イオン注入エリア)に不純物のイオン注入を行い(矢印)、低濃度不純物層9を形成する。
その後、図3(c)に示すように、レジストパターン10を除去した後、半導体基板1上に絶縁膜11を堆積させ、全面エッチバックすることにより、ゲート電極の側壁にサイドウォールスペーサー12を形成する。
次に、図3(d)に示すように、素子形成領域以外をレジストパターン10により被覆し、高濃度不純物層8の形成領域(高濃度イオン注入エリア)に不純物のイオン注入を行い(矢印)、高濃度不純物層8を形成する。
その後、レジストパターン10を除去した後、公知の方法により熱処理を行って不純物を活性化させ、さらに、層間絶縁膜、コンタクトホール、配線パターンを形成して半導体装置を完成させる。
しかしながら、上記の技術によれば、低濃度不純物層9と高濃度不純物層8を形成するために、少なくとも2回のマスク工程が必要である。また、CMOS回路においては、合計4回以上のマスク工程が必要である。
そこで、1回のマスク工程で高濃度不純物層と低濃度不純物層とを効率よく形成することができる半導体装置の製造方法が提案されている(特開平6−196495号公報:特許文献1)。
その方法は、半導体基板上に形成されたゲート電極の側面から基板の主面に沿って伸びる部分を有するL型サイドウォールスペーサーを形成し、該L型サイドウォールスペーサーをマスクにしてイオン注入を行うことにより、高濃度不純物層と低濃度不純物層を有するLDD構造のMOS型半導体装置を形成する。
その方法は、半導体基板上に形成されたゲート電極の側面から基板の主面に沿って伸びる部分を有するL型サイドウォールスペーサーを形成し、該L型サイドウォールスペーサーをマスクにしてイオン注入を行うことにより、高濃度不純物層と低濃度不純物層を有するLDD構造のMOS型半導体装置を形成する。
図2(a)〜(e)を用いて、上記のMOS型半導体装置の製造方法について説明する。
まず、図2(a)に示すように、半導体基板1に素子分離層2を形成し、半導体基板1の主面上にゲート絶縁膜3を形成した後、ゲート絶縁膜3上にゲート電極6を形成する。その後、ゲート電極6を覆うように、半導体基板1上に酸化膜4(厚さ40nm程度)を堆積させる。さらに、酸化膜4上に窒化膜13(厚さ100nm程度)を堆積させる。
まず、図2(a)に示すように、半導体基板1に素子分離層2を形成し、半導体基板1の主面上にゲート絶縁膜3を形成した後、ゲート絶縁膜3上にゲート電極6を形成する。その後、ゲート電極6を覆うように、半導体基板1上に酸化膜4(厚さ40nm程度)を堆積させる。さらに、酸化膜4上に窒化膜13(厚さ100nm程度)を堆積させる。
次に、図2(b)に示すように、異方性ドライエッチングにより酸化膜4および窒化膜13をエッチングして、ゲート電極6の側面にのみ酸化膜4および窒化膜13の一部を残置させる。
次に、図2(c)に示すように、熱リン酸溶液を用いた選択性エッチングにより残置させた窒化膜13を完全に除去し、L型サイドウォールスペーサー7を形成する。
このようにして、特別なマスクを使用せずに、酸化膜からなるL型サイドウォールスペーサー7をゲート電極6の側壁に形成する。
L型サイドウォールスペーサー7は、図2(c)に示されるように、ゲート電極6の側面から半導体基板1の主面に沿って外方に伸びている部分を有している。この部分をチャネル方向に沿って計測したサイズは、窒化膜13の堆積厚さを制御することにより高い精度で調整することができる。
このようにして、特別なマスクを使用せずに、酸化膜からなるL型サイドウォールスペーサー7をゲート電極6の側壁に形成する。
L型サイドウォールスペーサー7は、図2(c)に示されるように、ゲート電極6の側面から半導体基板1の主面に沿って外方に伸びている部分を有している。この部分をチャネル方向に沿って計測したサイズは、窒化膜13の堆積厚さを制御することにより高い精度で調整することができる。
次に、図2(d)に示すように、素子形成領域以外をレジストパターン10により被覆し、半導体基板1に、例えば注入ドーズ量6×1015cm-2程度のヒ素イオンを加速エネルギー80KeVで注入して(基板の主面に対して鉛直方向の矢印)、高濃度不純物層8を形成する。
このイオン注入工程で、ヒ素イオンの一部は、L型サイドウォールスペーサー7のゲート電極6側面から半導体基板1の主面に沿って外方に伸びている部分を透過して、半導体基板1内に注入され、それによって相対的に注入イオン層の薄い部分が形成される。
一方、ヒ素イオンの他の部分は、L型サイドウォールスペーサー7を透過することなく、直接に半導体基板1内に注入され、それによって相対的に注入イオン層の厚い部分が形成される。
このようにして、L型サイドウォールスペーサー7の真下における注入イオン層の接合深さは、L型サイドウォールスペーサー7の外側の接合深さよりも浅くなる。また、L型サイドウォールスペーサー7の幅は、窒化膜13の厚さを制御することによって、高い精度で所望の幅に調整することができるので、高濃度不純物層8の端部の位置は、ゲート電極6の端部の真下にまで達するように高い精度で拡散を調整することができる。
このイオン注入工程で、ヒ素イオンの一部は、L型サイドウォールスペーサー7のゲート電極6側面から半導体基板1の主面に沿って外方に伸びている部分を透過して、半導体基板1内に注入され、それによって相対的に注入イオン層の薄い部分が形成される。
一方、ヒ素イオンの他の部分は、L型サイドウォールスペーサー7を透過することなく、直接に半導体基板1内に注入され、それによって相対的に注入イオン層の厚い部分が形成される。
このようにして、L型サイドウォールスペーサー7の真下における注入イオン層の接合深さは、L型サイドウォールスペーサー7の外側の接合深さよりも浅くなる。また、L型サイドウォールスペーサー7の幅は、窒化膜13の厚さを制御することによって、高い精度で所望の幅に調整することができるので、高濃度不純物層8の端部の位置は、ゲート電極6の端部の真下にまで達するように高い精度で拡散を調整することができる。
さらに、前記のヒ素イオン注入工程に連続して、半導体基板1に、例えば、ドーズ量4×1013cm-2程度のリンイオンを加速エネルギー70KeVで注入して(基板の主面に対して斜め方向の矢印)、低濃度不純物層9を形成する。この注入は、注入イオンビームと半導体基板1の主面との間の角度が45度になるように行われる。
このイオン注入工程で、リンイオンの一部は、L型サイドウォールスペーサー7を透過して、大仰角(=45度)で半導体基板1に注入され、低濃度不純物層9の接合深さはL型サイドウォールスペーサー7の真下における高濃度不純物層8の接合深さと同等かそれよりも浅く形成される。
このイオン注入工程で、リンイオンの一部は、L型サイドウォールスペーサー7を透過して、大仰角(=45度)で半導体基板1に注入され、低濃度不純物層9の接合深さはL型サイドウォールスペーサー7の真下における高濃度不純物層8の接合深さと同等かそれよりも浅く形成される。
次に、図2(e)に示すように、レジストパターン10を除去した後、公知の方法により熱処理を行って不純物を活性化させ、さらに、層間絶縁膜、コンタクトホール(コンタクト孔)、配線パターン(メタル配線)を形成して半導体装置を完成させる。
上記の従来技術では、酸化膜4と窒化膜13を堆積させ、これらを異方性ドライエッチングによりエッチングして酸化膜4と窒化膜13の一部を残し、さらに選択性エッチングにより窒化膜を除去することにより、L型サイドウォールスペーサーを形成している。これらの工程において、窒化膜13の表面が酸化し、この酸化膜を除去するために、選択性エッチング(熱リン酸溶液を使用)の前処理としてフッ酸(HF)処理が必要になる。
しかしながら、このフッ酸処理により酸化膜4にサイドエッチが発生し、L型サイドウォールスペーサーの半導体基板の主面に沿って外方に伸びている部分の寸法制御が悪くなる。
しかしながら、このフッ酸処理により酸化膜4にサイドエッチが発生し、L型サイドウォールスペーサーの半導体基板の主面に沿って外方に伸びている部分の寸法制御が悪くなる。
したがって、本発明は、酸化膜へのサイドエッチを防止でき、L型サイドウォールスペーサーの半導体基板の主面に沿って外方に伸びている部分の寸法を精度よく制御できるMOS型半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。
本発明の発明者は、上記の課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、均一な膜厚で成膜でき、かつO2ガスを用いて除去できる、絶縁膜に対して十分なエッチング選択比が得られる異種膜(例えば、アモルファスカーボン膜)を使用することで酸化膜へのサイドエッチを防止でき、L型サイドウォールスペーサーの半導体基板の主面に沿って外方に伸びている部分の寸法を精度よく制御できることを見出し、本発明を完成するに到った。
かくして、本発明によれば、
半導体基板上にゲート絶縁膜を形成し、該ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する工程と、
前記ゲート電極表面に絶縁膜を形成し、該絶縁膜上に該絶縁膜に対して十分なエッチング選択比が得られる異種膜を形成する工程と、
前記異種膜と前記絶縁膜を異方性エッチングし、その後、前記異種膜のみを除去して、前記ゲート電極の側面にL型サイドウォールスペーサーを形成する工程と、
次工程で高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成するのに必要な開口を有するフォトレジスト膜を形成する工程と、
前記ゲート電極、前記L型サイドウォールスペーサーおよび前記フォトレジスト膜をマスクとして、前記半導体基板の素子形成領域に不純物イオンを注入して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成する工程と、
前記フォトレジスト膜を除去し、その後、前記半導体基板を熱処理して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を活性化する工程と
を含むことを特徴とするLDD構造を有する構造のMOS型半導体装置の製造方法が提供される。
半導体基板上にゲート絶縁膜を形成し、該ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する工程と、
前記ゲート電極表面に絶縁膜を形成し、該絶縁膜上に該絶縁膜に対して十分なエッチング選択比が得られる異種膜を形成する工程と、
前記異種膜と前記絶縁膜を異方性エッチングし、その後、前記異種膜のみを除去して、前記ゲート電極の側面にL型サイドウォールスペーサーを形成する工程と、
次工程で高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成するのに必要な開口を有するフォトレジスト膜を形成する工程と、
前記ゲート電極、前記L型サイドウォールスペーサーおよび前記フォトレジスト膜をマスクとして、前記半導体基板の素子形成領域に不純物イオンを注入して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成する工程と、
前記フォトレジスト膜を除去し、その後、前記半導体基板を熱処理して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を活性化する工程と
を含むことを特徴とするLDD構造を有する構造のMOS型半導体装置の製造方法が提供される。
本発明によれば、酸化膜へのサイドエッチを防止でき、L型サイドウォールスペーサーの半導体基板の主面に沿って外方に伸びている部分の寸法を精度よく制御できるMOS型半導体装置の製造方法を提供することができる。
本発明は、半導体基板上にゲート絶縁膜を形成し、該ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する工程と、前記ゲート電極表面に絶縁膜を形成し、該絶縁膜上に該絶縁膜に対して十分なエッチング選択比が得られる異種膜を形成する工程と、前記異種膜と前記絶縁膜を異方性エッチングし、その後、前記異種膜のみを除去して、前記ゲート電極の側面にL型サイドウォールスペーサーを形成する工程と、次工程で高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成するのに必要な開口を有するフォトレジスト膜を形成する工程と、前記ゲート電極、前記L型サイドウォールスペーサーおよび前記フォトレジスト膜をマスクとして、前記半導体基板の素子形成領域に不純物イオンを注入して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成する工程と、前記フォトレジスト膜を除去し、その後、前記半導体基板を熱処理して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を活性化する工程とを含むことを特徴とする。
以下、本発明の半導体装置の製造方法について、図1(a)〜(e)に基づいて説明するが、これにより本発明が限定されるものではない。
なお、本発明の半導体装置の製造方法は、その製造過程に特徴を有するものであり、半導体装置の各構成要素の材料は特に限定されず、公知の材料により形成することができるる。
なお、本発明の半導体装置の製造方法は、その製造過程に特徴を有するものであり、半導体装置の各構成要素の材料は特に限定されず、公知の材料により形成することができるる。
まず、図1(a)に示すように、素子分離層2が形成された半導体基板1上の素子形成領域にゲート絶縁膜3を形成する。
ゲート絶縁膜3としては、例えば、熱酸化法、CVD法またはスパッタ法により形成されたシリコン酸化膜、シリコン窒化膜およびこれらの積層膜が挙げられる。
その膜厚は2〜10nm程度が好ましい。
ゲート絶縁膜3としては、例えば、熱酸化法、CVD法またはスパッタ法により形成されたシリコン酸化膜、シリコン窒化膜およびこれらの積層膜が挙げられる。
その膜厚は2〜10nm程度が好ましい。
次に、ゲート絶縁膜3上にゲート電極6を形成する。
例えば、減圧CVD法により、ゲート絶縁膜3上に膜厚50〜300nm程度の多結晶シリコン膜を形成し、次いで、例えば、通常のフォトリソ技術とエッチング技術を用いて、多結晶シリコン膜からなるゲート電極6を形成する。
例えば、減圧CVD法により、ゲート絶縁膜3上に膜厚50〜300nm程度の多結晶シリコン膜を形成し、次いで、例えば、通常のフォトリソ技術とエッチング技術を用いて、多結晶シリコン膜からなるゲート電極6を形成する。
次に、ゲート電極6表面に絶縁膜4を形成する。
例えば、半導体基板1とゲート電極6がシリコンからなる場合には、熱酸化法によりシリコン酸化膜を形成し、これを絶縁膜4とすることができる。また、半導体基板1またはゲート電極がシリコン以外の材料からなる場合には、CVD法により絶縁膜4を形成することができる。
その膜厚は10〜100nm程度が好ましい。
例えば、半導体基板1とゲート電極6がシリコンからなる場合には、熱酸化法によりシリコン酸化膜を形成し、これを絶縁膜4とすることができる。また、半導体基板1またはゲート電極がシリコン以外の材料からなる場合には、CVD法により絶縁膜4を形成することができる。
その膜厚は10〜100nm程度が好ましい。
次に、絶縁膜4上に該絶縁膜に対して十分なエッチング選択比が得られる材料(絶縁膜とは異なる材料)からなる異種膜5を形成する。
異種膜5は、後述する工程において該異種膜5のみを除去するときに、絶縁膜4に対して十分なエッチング選択比が得られ、容易に除去できるものであれば特に限定されない。
異種膜5は、絶縁膜に対してエッチング速度の速い膜であるのが好ましく、CVD法により形成された膜であるのが好ましく、炭化水素化合物CxHyガス(式中、xは1〜4の整数であり、yは2〜10の整数である)を用いて、プラズマCVD法により形成された膜であるのがより好ましい。
異種膜5は、後述する工程において該異種膜5のみを除去するときに、絶縁膜4に対して十分なエッチング選択比が得られ、容易に除去できるものであれば特に限定されない。
異種膜5は、絶縁膜に対してエッチング速度の速い膜であるのが好ましく、CVD法により形成された膜であるのが好ましく、炭化水素化合物CxHyガス(式中、xは1〜4の整数であり、yは2〜10の整数である)を用いて、プラズマCVD法により形成された膜であるのがより好ましい。
このような炭化水素化合物CxHyガスとしては、例えば、メタン(CH4)、エタン(C2H6)、プロパン(C3H8)、ブタン(C4H10)、ペンタン(C5H12)、ヘキサン(C6H14)、ヘプタン(C7H16)、オクタン(C8H18)、ノナン(C9H20)、デカン(C10H22);エチレン(C2H4)、プロピレンおよびシクロプロパン(C3H6)、ブテン(C4H8)、ペンテン(C5H10)、ヘキセン(C6H12)、ヘプテン(C7H14)、オクテン(C8H16)、ノネン(C9H18)、デセン(C10H20);アセチレン(C2H2)、プロピン(C3H4)、ブチン(ブタジエン、C4H6)、ペンチン(C5H8)、ヘキシン(C6H10)、ヘプチン(C7H12)、オクチン(C8H14)、ノニン(C9H16)、デシン(C10H18)などが挙げられる。
異種膜5としては、アモルファスカーボン膜、ポジレジスト、ネガレジストなどが挙げられ、それらの中でもアモルファスカーボン膜が特に好ましい。
異種膜5としては、アモルファスカーボン膜、ポジレジスト、ネガレジストなどが挙げられ、それらの中でもアモルファスカーボン膜が特に好ましい。
例えば、以下の条件でプラズマCVD法により、絶縁膜4上にアモルファスカーボン膜を堆積させ、異種膜5を得る。
成膜設備 : プラズマCVD装置
基板温度 : 常温〜500℃
膜厚 : 50〜200nm
ガス1 : CxHy(x=1〜4、y=2〜10の整数)1〜10SLM
ガス2 : Ar 1〜10SLM
高周波出力 : 0.5〜7.0W/cm2
真空度 : 1〜10Torr
成膜設備 : プラズマCVD装置
基板温度 : 常温〜500℃
膜厚 : 50〜200nm
ガス1 : CxHy(x=1〜4、y=2〜10の整数)1〜10SLM
ガス2 : Ar 1〜10SLM
高周波出力 : 0.5〜7.0W/cm2
真空度 : 1〜10Torr
次に、図1(b)および(c)に示すように、異種膜5と絶縁膜4を異方性エッチングし、その後、異種膜5のみを除去して、ゲート電極6の側面にL型サイドウォールスペーサー7を形成する。
まず、図1(b)に示すように、例えば、以下の条件で異種膜5と絶縁膜4の異方性エッチングを行う。
エッチング設備 : マグネトロンRIE装置
ガス1 : Ar 100〜300sccm
ガス2 : CHF3 10〜100sccm
ガス3 : CF4 2〜10sccm
高周波出力 : 1.5〜3.5W/cm2
真空度 : 100〜400mTorr
まず、図1(b)に示すように、例えば、以下の条件で異種膜5と絶縁膜4の異方性エッチングを行う。
エッチング設備 : マグネトロンRIE装置
ガス1 : Ar 100〜300sccm
ガス2 : CHF3 10〜100sccm
ガス3 : CF4 2〜10sccm
高周波出力 : 1.5〜3.5W/cm2
真空度 : 100〜400mTorr
その後、図1(c)に示すように、例えば、以下の条件で異種膜5のみを除去する。
除去設備 : プラズマアッシング装置
基板温度 : 100℃〜300℃
ガス : O2 1〜5SLM
高周波出力 : 5.0〜10.0W/cm2
真空度 : 0.5〜3Torr
除去設備 : プラズマアッシング装置
基板温度 : 100℃〜300℃
ガス : O2 1〜5SLM
高周波出力 : 5.0〜10.0W/cm2
真空度 : 0.5〜3Torr
異種膜のみの除去は、O2ガス、O3ガス、O2/H2O混合ガス、O2/N2混合ガスおよびO2/CO2混合ガスから選択されるガスを用いた分解除去であるのが好ましく、O2ガスを用いた分解除去であるのが特に好ましい。
また、異種膜のみの除去は、プラズマアッシング法またはダウンストリームアッシング法による分解除去であるのが好ましい。
これらにより、本発明の効果が顕著に得られる。
また、異種膜のみの除去は、プラズマアッシング法またはダウンストリームアッシング法による分解除去であるのが好ましい。
これらにより、本発明の効果が顕著に得られる。
上記の異種膜と絶縁膜の異方性エッチングと、異種膜のみの除去とを同一設備で行なうのが好ましい。これにより、製造方法をより簡略化できる。
次に、次工程で高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成するのに必要な開口を有するフォトレジスト膜10を形成する。
例えば、図1(d)に示すように、所定の素子形成領域に開口を有する、すなわち高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成するのに必要な開口を有するフォトレジスト膜10を形成する。
例えば、図1(d)に示すように、所定の素子形成領域に開口を有する、すなわち高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成するのに必要な開口を有するフォトレジスト膜10を形成する。
次に、ゲート電極6、L型サイドウォールスペーサー7および前記フォトレジスト膜10をマスクとして、半導体基板1の素子形成領域に不純物イオンを注入して、高濃度不純物層8と低濃度不純物層9を形成する。
例えば、図1(d)に示すように、半導体基板1に、注入ドーズ量6×1015cm-2程度のヒ素イオンを加速エネルギー80KeVで注入して(基板の主面に対して鉛直方向の矢印)、高濃度不純物層(高濃度ソース/ドレイン拡散層)8を形成する。
このイオン注入工程で、ヒ素イオンの一部は、L型サイドウォールスペーサー7のゲート電極6側面から半導体基板1の主面に沿って外方に伸びている部分を透過して、半導体基板1内に注入され、それによって相対的に注入イオン層の薄い部分が形成される。
一方、ヒ素イオンの他の部分は、L型サイドウォールスペーサー7を透過することなく、直接に半導体基板1内に注入され、それによって相対的に注入イオン層の厚い部分が形成される。
このようにして、L型サイドウォールスペーサー7の真下における注入イオン層の接合深さは、L型サイドウォールスペーサー7の外側の接合深さよりも浅くなる。
例えば、図1(d)に示すように、半導体基板1に、注入ドーズ量6×1015cm-2程度のヒ素イオンを加速エネルギー80KeVで注入して(基板の主面に対して鉛直方向の矢印)、高濃度不純物層(高濃度ソース/ドレイン拡散層)8を形成する。
このイオン注入工程で、ヒ素イオンの一部は、L型サイドウォールスペーサー7のゲート電極6側面から半導体基板1の主面に沿って外方に伸びている部分を透過して、半導体基板1内に注入され、それによって相対的に注入イオン層の薄い部分が形成される。
一方、ヒ素イオンの他の部分は、L型サイドウォールスペーサー7を透過することなく、直接に半導体基板1内に注入され、それによって相対的に注入イオン層の厚い部分が形成される。
このようにして、L型サイドウォールスペーサー7の真下における注入イオン層の接合深さは、L型サイドウォールスペーサー7の外側の接合深さよりも浅くなる。
さらに、前記のヒ素イオン注入工程に連続して、半導体基板1に、例えば、ドーズ量4×1013cm-2程度のリンイオンを加速エネルギー70KeVで注入して(基板の主面に対して斜め方向の矢印)、低濃度不純物層(低濃度ソース/ドレイン拡散層)9を形成する。この注入は、注入イオンビームと半導体基板1の主面との間の角度が20〜60度、例えば、45度になるように行われる。
このイオン注入工程で、リンイオンの一部は、L型サイドウォールスペーサー7を透過して、大仰角(=45度)で半導体基板1に注入され、低濃度不純物層9の接合深さはL型サイドウォールスペーサー7の真下における高濃度不純物層8の接合深さと同等かそれよりも浅く形成される。
このイオン注入工程で、リンイオンの一部は、L型サイドウォールスペーサー7を透過して、大仰角(=45度)で半導体基板1に注入され、低濃度不純物層9の接合深さはL型サイドウォールスペーサー7の真下における高濃度不純物層8の接合深さと同等かそれよりも浅く形成される。
次に、図1(e)に示すように、公知の方法で、フォトレジスト膜10を除去し、(9)半導体基板を熱処理する。熱処理により、半導体基板に注入された不純物を活性化させる。
さらに、層間絶縁膜、コンタクトホール、配線パターン(以上、図示せず)を形成して半導体装置を完成させる。
さらに、層間絶縁膜、コンタクトホール、配線パターン(以上、図示せず)を形成して半導体装置を完成させる。
1 半導体基板
2 素子分離層
3 ゲート絶縁膜
4 絶縁膜(酸化膜)
5 異種膜(アモルファスカーボン膜)
6 ゲート電極
7 L型サイドウォールスペーサー
8 高濃度不純物層(高濃度ソース/ドレイン拡散層)
9 低濃度不純物層(低濃度ソース/ドレイン拡散層)
10 フォトレジスト膜(レジストパターン)
11 絶縁膜
12 サイドウォールスペーサー
13 窒化膜
2 素子分離層
3 ゲート絶縁膜
4 絶縁膜(酸化膜)
5 異種膜(アモルファスカーボン膜)
6 ゲート電極
7 L型サイドウォールスペーサー
8 高濃度不純物層(高濃度ソース/ドレイン拡散層)
9 低濃度不純物層(低濃度ソース/ドレイン拡散層)
10 フォトレジスト膜(レジストパターン)
11 絶縁膜
12 サイドウォールスペーサー
13 窒化膜
Claims (9)
- 半導体基板上にゲート絶縁膜を形成し、該ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する工程と、
前記ゲート電極表面に絶縁膜を形成し、該絶縁膜上に該絶縁膜に対して十分なエッチング選択比が得られる異種膜を形成する工程と、
前記異種膜と前記絶縁膜を異方性エッチングし、その後、前記異種膜のみを除去して、前記ゲート電極の側面にL型サイドウォールスペーサーを形成する工程と、
次工程で高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成するのに必要な開口を有するフォトレジスト膜を形成する工程と、
前記ゲート電極、前記L型サイドウォールスペーサーおよび前記フォトレジスト膜をマスクとして、前記半導体基板の素子形成領域に不純物イオンを注入して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を形成する工程と、
前記フォトレジスト膜を除去し、その後、前記半導体基板を熱処理して、高濃度不純物層と低濃度不純物層を活性化する工程と
を含むことを特徴とするLDD構造を有する構造のMOS型半導体装置の製造方法。 - 前記異種膜が、前記絶縁膜に対してエッチング速度の速い膜である請求項1に記載のMOS型半導体装置の製造方法。
- 前記異種膜が、CVD法により形成された膜である請求項1に記載のMOS型半導体装置の製造方法。
- 前記異種膜が、炭化水素化合物CxHyガス(式中、xは1〜4の整数であり、yは2〜10の整数である)を用いて、プラズマCVD法により形成された膜である請求項1に記載のMOS型半導体装置の製造方法。
- 前記異種膜が、アモルファスカーボン膜である請求項1に記載のMOS型半導体装置の製造方法。
- 前記異種膜のみの除去が、O2ガス、O3ガス、O2/H2O混合ガス、O2/N2混合ガスおよびO2/CO2混合ガスから選択されるガスを用いた分解除去である請求項1に記載のMOS型半導体装置の製造方法。
- 前記異種膜のみの除去が、O2ガスを用いた分解除去である請求項1に記載のMOS型半導体装置の製造方法。
- 前記異種膜のみの除去が、プラズマアッシング法またはダウンストリームアッシング法による分解除去である請求項1に記載のMOS型半導体装置の製造方法。
- 前記異種膜と前記絶縁膜の異方性エッチングと、前記異種膜のみの除去とを同一設備で行なう請求項1に記載のMOS型半導体装置の製造方法。
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JP2005349346A JP2007157913A (ja) | 2005-12-02 | 2005-12-02 | 半導体装置の製造方法 |
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JP2011151120A (ja) * | 2010-01-20 | 2011-08-04 | Toshiba Corp | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
-
2005
- 2005-12-02 JP JP2005349346A patent/JP2007157913A/ja active Pending
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US8604522B2 (en) | 2010-01-20 | 2013-12-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Field effect type semiconductor device and method for manufacturing the same |
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