JP2007157862A - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007157862A JP2007157862A JP2005348602A JP2005348602A JP2007157862A JP 2007157862 A JP2007157862 A JP 2007157862A JP 2005348602 A JP2005348602 A JP 2005348602A JP 2005348602 A JP2005348602 A JP 2005348602A JP 2007157862 A JP2007157862 A JP 2007157862A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- external lead
- terminal
- semiconductor device
- ferrite core
- out terminal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/0601—Structure
- H01L2224/0603—Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/45124—Aluminium (Al) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/4901—Structure
- H01L2224/4903—Connectors having different sizes, e.g. different diameters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
- H01L2924/13055—Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/30107—Inductance
Landscapes
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
Description
この発明はフィルターを内蔵した半導体装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor device incorporating a filter.
半導体スイッチング素子(以下、単に素子という)は、主にスイッチングのタイミングを行うゲート信号(ここではベース信号も含む)が入力されるゲート端子(ここではベース端子も含む)と主電流が流れる経路の入出力端子となる+主端子と−主端子の3端子を有している。ゲート信号が入ることにより素子のスイッチングが行われ、入出力端子を介して主電流がパワー経路に流れる。このスイッチング時において、ゲート信号がオフ信号になり素子に流れる主電流が遮断されるときに、主電流のdi/dtと回路のインダクタンスでノイズが発生することは良く知られており、このノイズは素子自身の誤動作や周辺機器への誤動作を起こす原因となっている。その対策として、素子自身のノイズ耐量を上げることや、素子の外部にフェライトコア(磁気コア)などのノイズフィルターを挿入するといった対策が取られる。
A semiconductor switching element (hereinafter simply referred to as an element) includes a gate terminal (including a base signal here) to which a gate signal (including a base signal here) for mainly performing switching timing and a path through which a main current flows. It has three terminals, a + main terminal and a −main terminal, which are input / output terminals. When the gate signal is input, the element is switched, and the main current flows through the power path via the input / output terminal. At the time of switching, it is well known that noise is generated by the main current di / dt and the inductance of the circuit when the gate signal is turned off and the main current flowing through the element is cut off. This may cause malfunction of the device itself or malfunction of peripheral devices. As countermeasures, measures such as increasing the noise tolerance of the element itself and inserting a noise filter such as a ferrite core (magnetic core) outside the element are taken.
図4は、従来の半導体装置の要部平面図である。この半導体装置はMOSFET200の場合である。
支持板51上にMOSFETチップ52をはんだで固着し、ゲートパッド54とゲート端子57をボンディングワイヤ61で接続し、ソースパッド53とソース端子56をボンディングワイヤ60で接続する。支持板51は図示しないMOSFETチップ52の裏面に形成されるドレイン電極と固着し、ドレイン端子55と一体となっている。MOSFETチップ52、支持板51、ゲート端子57の根元59、ドレイン端子55の根元59、ソース端子56の根元59およびボンディングワイヤ60,61をモールド樹脂62で封止して、MOSFET200が完成する。
図5は、図4の半導体装置にフェライトコアを固着したプリント基板の要部平面図である。このプリント基板70にはゲート駆動回路などの周辺回路64が形成されている。配線パターン63が形成されたプリント基板70にMOSFET200のゲート端子57、ドレイン端子55およびソース端子56のそれぞれの先端部を固着する。ドレイン端子55と接続する配線にはフェライトコア58が接続されている。このフェライトコア58の接続によりMOSFET200が遮断するときに発生するノイズを抑制することができる。
FIG. 4 is a plan view of an essential part of a conventional semiconductor device. This semiconductor device is a
The MOSFET chip 52 is fixed to the
FIG. 5 is a plan view of a principal part of a printed circuit board in which a ferrite core is fixed to the semiconductor device of FIG. A
また、特許文献1には、ノイズフィルター用プリント基板とコントロール用プリント基板の間を接続する配線に挿入していたフェライトコアをノイズフィルター用プリント基板に接続して配線の交換作業を容易にした例が記載されている。
しかし、前記のノイズに耐えるように素子自身のノイズ耐量を向上させるためには開発コスト・期間がかかる。
また、素子の外部にノイズフィルターとしてフェライトコア58を挿入するとフェライトコア58の取り付け工数がかかりコストが増大する。さらにフェライトコア58を取り付けるための面積(占有面積)が増加する。
この発明の目的は、前記の課題を解決して、小さな占有面積で、スイッチング動作時に発生するノイズを抑制できる半導体装置を提供することにある。
However, in order to improve the noise immunity of the device itself so as to withstand the noise, development cost and time are required.
Further, if the
An object of the present invention is to solve the above-described problems and provide a semiconductor device capable of suppressing noise generated during a switching operation with a small occupied area.
前記の目的を達成するために、支持台と、該支持台上に裏面主電極が固着する半導体チップと、前記支持台と接続する第1外部導出端子と、前記半導体チップの表面主電極とボンディングワイヤで接続する第2外部導出端子と、前記支持台、前記半導体チップ、前記ボンディングワイヤ、前記第1外部導出端子の一部および前記第2外部導出端子の一部を封止するモールド樹脂を具備する半導体装置において、
前記モールド樹脂内で少なくとも前記第1外部導出端子もしくは前記第2外部導出端子に磁気コアを挿入配置する構成とする。
また、支持台と、該支持台上に裏面主電極が固着する半導体チップと、前記支持台と接続する第1外部導出端子と、前記半導体チップの表面主電極とボンディングワイヤで接続する第2外部導出端子と、前記半導体チップの制御電極と接続する第3外部導出端子と、前記支持台、前記半導体チップ、前記ボンディングワイヤ、前記第1外部導出端子の一部、前記第2外部導出端子の一部および前記第3外部導出端子の一部を封止するモールド樹脂を具備する半導体装置において、
前記モールド樹脂内で少なくとも前記第1外部導出端子もしくは前記第2外部導出端子に磁気コアを挿入配置する構成とする。
To achieve the above object, a support base, a semiconductor chip having a back main electrode fixed on the support base, a first external lead terminal connected to the support base, and a front main electrode of the semiconductor chip and bonding A second external lead terminal connected by a wire; and a mold resin for sealing the support, the semiconductor chip, the bonding wire, a part of the first external lead terminal, and a part of the second external lead terminal. In the semiconductor device to
A magnetic core is inserted and disposed at least in the first external lead-out terminal or the second external lead-out terminal in the mold resin.
A support chip; a semiconductor chip having a back surface main electrode fixed on the support board; a first external lead terminal connected to the support board; and a second external terminal connected to the front surface main electrode of the semiconductor chip with a bonding wire. A lead terminal, a third external lead terminal connected to the control electrode of the semiconductor chip, the support, the semiconductor chip, the bonding wire, a part of the first external lead terminal, one of the second external lead terminals In a semiconductor device comprising a mold resin that seals a portion of the portion and the third external lead-out terminal,
A magnetic core is inserted and disposed at least in the first external lead-out terminal or the second external lead-out terminal in the mold resin.
また、前記第1外部導出端子もしくは前記第2外部導出端子の前記モールド樹脂内の個所に磁気コアが抜け出すことがないように突起が形成されているとよい。
また、前記磁気コアの中心部に前記第1外部導出端子もしくは前記第2外部導出端子が挿入できる大きさの穴が形成され、該穴に前記突起が通過できる大きさの凹部が形成されているとよいを特徴とする。
また、前記穴は、前記凹部がなければ前記突起が通過できない大きさの穴であるとよい。
また、前記磁気コアがフェライトコアであるとよい。
In addition, a protrusion may be formed so that the magnetic core does not come out at a location in the mold resin of the first external lead-out terminal or the second external lead-out terminal.
In addition, a hole having a size capable of inserting the first external lead-out terminal or the second external lead-out terminal is formed in a central portion of the magnetic core, and a recess having a size through which the protrusion can pass is formed in the hole. It is characterized by good.
Moreover, the said hole is good in it being a hole of the magnitude | size which cannot pass the said protrusion if there is no said recessed part.
The magnetic core may be a ferrite core.
この発明によれば、主電流が流れる経路にフェライトコア(フィルター)を入れることでスイッチング動作時に発生するノイズを抑制できる。その結果、素子自身の誤動作と周辺回路の誤動作を抑制することができる。
また、フェライトコアを樹脂内に内蔵させることで、従来フェライトコアで必要とされる占有面積を減じることができる。その結果、周辺回路の面積を減少させることができる。
According to the present invention, noise generated during the switching operation can be suppressed by inserting the ferrite core (filter) in the path through which the main current flows. As a result, malfunction of the element itself and malfunction of the peripheral circuit can be suppressed.
In addition, by incorporating the ferrite core in the resin, it is possible to reduce the area occupied by the conventional ferrite core. As a result, the area of the peripheral circuit can be reduced.
実施の形態を以下の実施例で説明する。 Embodiments will be described in the following examples.
図1は、この発明の第1実施例の半導体装置の構成図であり、同図(a)は要部平面図、同図(b)はドレイン端子の拡大図、同図(c)は同図(b)のX―X線で切断した断面図、同図(d)はフェライトコアの要部平面図である。この半導体装置はMOSFET100を例に挙げたがIGBT(絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ)やバイポーラトランジスタなどであっても構わない。
支持板1上にMOSFETチップ2の裏面の図示しないドレイン電極をはんだで固着し、ゲートパッド4とゲート端子6をボンディングワイヤ11(アルミニウムワイヤなど)で接続し、ソースパッド3とソース端子6をボンディングワイヤ10で接続する。ゲートパッド4は図示しないMOSFETチップ2のゲート電極と接続し、ソースパッド3は図示しないMOSFETチップ2のソース電極と接続する。支持板1はドレイン電極と固着し、ドレイン端子5と一体となっている。ドレイン端子5にフェライトコア8を挿入する。フェライトコア8の中心にはソース端子5が挿入できる大きさの貫通孔13が形成されている。ドレイン端子5の幅をaとし、ドレイン端子5の厚さをbとし、貫通孔13の横幅をcとし、貫通孔13の縦幅をdとしたとき、a<c,b<dとする。また貫通孔13を円形の貫通孔孔13aとした場合、その円の直径をcとしたとき、a<cとする。またフェライトコア8の外径をD、図5に示すようにモールド樹脂12の厚さLとしたとき、D<Lとする。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 1 (a) is a plan view of a main part, FIG. 1 (b) is an enlarged view of a drain terminal, and FIG. Sectional drawing cut | disconnected by the XX line | wire of the figure (b), The figure (d) is a principal part top view of a ferrite core. The semiconductor device is exemplified by the
A drain electrode (not shown) on the back surface of the
MOSFETチップ2、支持板1、ゲート端子7の根元9、ドレイン端子5の根元9、ソース端子6の根元8およびフェライトコア8およびボンディングワイヤ10,11をモールド樹脂12で封止して、本発明のMOSFET100が完成する。
このように、フェライトコア8をモールド樹脂12内に内蔵させることで、図5で示す従来のMOSFET200の占有面積を増加させることなく、従来のフェライトコア58の占有面積を減じることができる。その結果、周辺回路64の占有面積を減少させることができる。
またプリント基板70に搭載する従来のフェライトコア58の取り付け工数が削除できて、製造コストを減少することができる。
また、この第1実施例では、ドレイン端子5にフェライトコア8を挿入したが、ソース端子6側に挿入してもよく、さらに両端子5,6に挿入してもよい。
The
Thus, by incorporating the
Further, the number of steps for attaching the
Further, in this first embodiment, the
尚、この第1実施例ではスイッチング素子を例に挙げて説明したが、ダイオードのアノード端子やカソード端子にフェライトコア8を挿入した場合もダイオードの逆回復動作時に発生するノイズを低減することができる。
In the first embodiment, the switching element has been described as an example. However, even when the
図2は、この発明の第2実施例の半導体装置の構成図であり、同図(a)は要部平面図、同図(b)はドレイン端子の拡大図、同図(c)は同図(b)のX―X線で切断した断面図、同図(d)はフェライトコアの要部平面図である。第1実施例との違いは、フェライトコア8がモールド樹脂12で封止されるとき、ドレイン端子5から抜けないようにドレイン端子5に突起部14を設けた点である。
フェライトコア8の中心部の貫通孔15にドレイン端子5の幅aより多少大きい貫通孔15と、ドレイン端子5に抜け落ち防止のために形成した突起部14が通過できるよう広げた個所(凹部16)を設ける。ドレイン端子5の横幅をa、ドレイン端子5の厚みをf、突起部14間の幅をe、フェライトコア8の第1幅をh、第2幅をg、凹部16の幅をkとしたとき、a<h<e、e<g、f<kとするとよい。また、D<Lとする。
2A and 2B are configuration diagrams of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention, in which FIG. 2A is a plan view of an essential part, FIG. 2B is an enlarged view of a drain terminal, and FIG. Sectional drawing cut | disconnected by the XX line | wire of the figure (b), The figure (d) is a principal part top view of a ferrite core. The difference from the first embodiment is that a
A portion (recess 16) widened so that a through
フェライトコア8をドレイン端子5に挿入する仕方は、突起部14を凹部16が通過できるようにフェライトコア8の位置決めをし、突起部14を凹部16が通過した後、フェライトコア8を回転させて、突起部14の位置から凹部16の位置をずらす。こうすると、フェライトコア8は突起部14に引っかかってドレイン端子8から抜けることがなく、また、モールド樹脂12からはみ出すことがなくなる。
ここでは、突起部14を2個で凹部16が4個の場合を例に挙げて説明したが、凹部16は対角線上のみの2個であっても構わない。
また、突起部を1個とした場合は、凹部は1個以上あればよい。
また、実施例では貫通孔15を正方形としたが、図1(d)の点線で示す貫通孔13aのように円形としてその周囲に凹部を設けても構わない。
The
Here, the case where the number of the
Further, when there is one protrusion, it is sufficient that there are one or more recesses.
In the embodiment, the through-
また、図2(d)に示す凹部16を設けないで、貫通孔15の正方形の対角線の長さをeより大きくしてもよい。
また、貫通孔15を長方形にして、その対角線の長さをeより大きくし、長辺の長さをaより大きく、eより小さくしてもよい。
Moreover, the length of the diagonal of the square of the through-
Alternatively, the through
図3は、この発明の第3実施例の半導体装置のフェライトコアの要部平面図である。図2と異なる点は、フェライトコア8を2個に分割し、ドレイン端子を半月状のフェライト17、18でドレイン端子5を挟んで半月状のフェライト17、18同士を接着材19で固着した点である。フェライトコア8の貫通孔20の直径をmとすると、a<m<eとする。
また、フェライトをコノ字型に形成し、それを突き合わせて接着して、貫通孔を四角形に形成してもよい。この場合、貫通孔の短辺長がfより大きく、対角線長がeより小さくなるようにしておけばよい。
前記の第2実施例および第3実施例の場合も第1実施例と同様の効果が得られる。
FIG. 3 is a plan view of an essential part of the ferrite core of the semiconductor device according to the third embodiment of the present invention. The difference from FIG. 2 is that the
Further, the through holes may be formed in a quadrangular shape by forming the ferrite in a cono-shaped shape and bonding them together. In this case, the short side length of the through hole may be larger than f and the diagonal length may be smaller than e.
In the case of the second and third embodiments, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.
1 支持板
2 MOSFETチップ
3 ソースパッド
4 ゲートパッド
5 ドレイン端子
6 ソース端子
7 ゲート端子
8 フェライトコア
9 根元
10、11 ボンディングワイヤ
12 モールド樹脂
13、13a、15、20 貫通孔
14 突起部
16 凹部
17、18 半月状のフェライト
19 接着材
100 MOSFET
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (6)
前記モールド樹脂内で少なくとも前記第1外部導出端子もしくは前記第2外部導出端子に磁気コアを挿入配置することを特徴とする半導体装置。 A support chip, a semiconductor chip having a back main electrode fixed on the support board, a first external lead terminal connected to the support base, and a second external lead terminal connected to the front main electrode of the semiconductor chip with a bonding wire And a semiconductor device comprising a mold resin for sealing the support, the semiconductor chip, the bonding wire, a part of the first external lead-out terminal, and a part of the second external lead-out terminal,
A semiconductor device, wherein a magnetic core is inserted and disposed at least in the first external lead-out terminal or the second external lead-out terminal in the mold resin.
前記モールド樹脂内で少なくとも前記第1外部導出端子もしくは前記第2外部導出端子に磁気コアを挿入配置することを特徴とする半導体装置。 A support chip, a semiconductor chip having a back main electrode fixed on the support board, a first external lead terminal connected to the support base, and a second external lead terminal connected to the front main electrode of the semiconductor chip with a bonding wire A third external lead terminal connected to the control electrode of the semiconductor chip, the support, the semiconductor chip, the bonding wire, a part of the first external lead terminal, a part of the second external lead terminal, and In a semiconductor device comprising a mold resin for sealing a part of the third external lead-out terminal,
A semiconductor device, wherein a magnetic core is inserted and disposed at least in the first external lead-out terminal or the second external lead-out terminal in the mold resin.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005348602A JP2007157862A (en) | 2005-12-02 | 2005-12-02 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005348602A JP2007157862A (en) | 2005-12-02 | 2005-12-02 | Semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007157862A true JP2007157862A (en) | 2007-06-21 |
Family
ID=38241863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005348602A Withdrawn JP2007157862A (en) | 2005-12-02 | 2005-12-02 | Semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007157862A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019121745A (en) * | 2018-01-11 | 2019-07-22 | ローム株式会社 | Semiconductor device and mounting structure of the same |
WO2023157604A1 (en) * | 2022-02-15 | 2023-08-24 | ローム株式会社 | Semiconductor device and package structure of semiconductor device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03283559A (en) * | 1990-03-30 | 1991-12-13 | Toshiba Lighting & Technol Corp | Electronic component |
-
2005
- 2005-12-02 JP JP2005348602A patent/JP2007157862A/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03283559A (en) * | 1990-03-30 | 1991-12-13 | Toshiba Lighting & Technol Corp | Electronic component |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019121745A (en) * | 2018-01-11 | 2019-07-22 | ローム株式会社 | Semiconductor device and mounting structure of the same |
JP7018319B2 (en) | 2018-01-11 | 2022-02-10 | ローム株式会社 | Semiconductor device |
WO2023157604A1 (en) * | 2022-02-15 | 2023-08-24 | ローム株式会社 | Semiconductor device and package structure of semiconductor device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101990709B (en) | Stacked power converter structure and method | |
JP4945508B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2009043820A (en) | High-efficiency module | |
JP4829690B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2018107364A (en) | Semiconductor device | |
WO2013021647A1 (en) | Semiconductor module, semiconductor device provided with semiconductor module, and method for manufacturing semiconductor module | |
JP4878520B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2009278103A (en) | Semiconductor package featuring flip-chip die sandwiched between metal layers | |
JP2013045996A (en) | Semiconductor device | |
JP2009027090A (en) | Semiconductor apparatus | |
JP4977407B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2013098199A (en) | Power semiconductor device and manufacturing method therefor | |
JP2007157862A (en) | Semiconductor device | |
JP2008042086A (en) | Semiconductor device | |
JP2007081146A (en) | Semiconductor device with inductor | |
JP2006203048A (en) | Semiconductor chip | |
TWI767145B (en) | Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device | |
JP2007311829A (en) | Semiconductor device | |
JP6111973B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2005116687A (en) | Lead frame, semiconductor device and its manufacturing process | |
JP2005051109A (en) | Power semiconductor module | |
JP2017005009A (en) | Semiconductor device | |
JP2010518620A (en) | Quad flat no lead (QFN) integrated circuit (IC) package with improved paddle and method for designing the package | |
JP2005197554A (en) | Semiconductor device | |
JP2018160501A (en) | Semiconductor device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081015 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20081216 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090219 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20091112 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101102 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20101217 |