JP2007141908A - 抵抗器の製造方法 - Google Patents

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Hiroki Konaka
浩樹 小中
Takeshi Watanabe
岳 渡辺
Seiji Tsuda
清二 津田
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Abstract

【課題】本発明は、抵抗値の測定ばらつきを抑制することができる抵抗器の製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために本発明の抵抗器の製造方法は、金属板で構成した抵抗体11の両端部以外の表面に絶縁層13を形成する工程と、前記抵抗体11の両端部に2〜50μmの厚みの銅めっきを施して電極12を形成する工程と、前記電極12間の抵抗値を測定する工程とを備えるようにしたものである。
【選択図】図1

Description

本発明は、各種電子機器の電流値検出等に使用される抵抗器の製造方法に関するものである。
従来のこの種の抵抗器は、図4に示すように、板状の金属で構成された抵抗体1と、この抵抗体1の両端部の下面に形成された金属からなる一対の電極2と、前記抵抗体1の上面および下面における一対の電極2間に位置する部分に形成された絶縁層3とを備えた構成としていた。
また、この従来の抵抗器の製造方法は、まず、抵抗体1の下面の両端部に溶接やクラッド接合等により一対の電極2を形成し、その後、抵抗体1の上面および下面における一対の電極2間に位置する部分に絶縁層3を形成するようにしていた。
なお、この出願の発明に関する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。
特開2002−184601号公報
上記した従来の抵抗器の製造方法においては、電極2の形成箇所を特定することができないため、抵抗値の測定ばらつきが生じるという課題を有していた。
本発明は上記従来の課題を解決するもので、抵抗値の測定ばらつきを抑制することができる抵抗器の製造方法を提供することを目的とするものである。
上記目的を達成するために本発明は、以下の構成を有するものである。
本発明の請求項1に記載の発明は、金属板で構成した抵抗体の両端部以外の表面に絶縁層を形成する工程と、前記抵抗体の両端部に2〜50μmの厚みの銅めっきを施して電極を形成する工程と、前記電極間の抵抗値を測定する工程とを備えるようにしたもので、この製造方法によれば、絶縁層を形成した後、電極を形成するようにしているため、前記絶縁層によって電極の形成箇所を特定することができ、かつ電極としては2〜50μmの厚みの銅めっきを用いているため、抵抗値の測定ばらつきを抑制できるという作用効果が得られるものである。
本発明の請求項2に記載の発明は、特に、絶縁層としてレジストを用いたもので、この製造方法によれば、絶縁層を薄くすることができるため、実装し易くなるという作用効果が得られるものである。
本発明の請求項3に記載の発明は、特に、抵抗体に切欠部を形成したもので、この製造方法によれば、容易に抵抗値を調整することができるという作用効果が得られるものである。
以上のように本発明の抵抗器は、金属板で構成した抵抗体の両端部以外の表面に絶縁層を形成する工程と、前記抵抗体の両端部に2〜50μmの厚みの銅めっきを施して電極を形成する工程と、前記電極間の抵抗値を測定する工程とを備えるようにしているため、前記絶縁層によって電極の形成箇所を特定することができ、かつ電極としては2〜50μmの厚みの銅めっきを用いているため、抵抗値の測定ばらつきを抑制できるという優れた効果を奏するものである。
図1は本発明の一実施の形態における抵抗器の斜視図、図2は図1のA−A線断面図である。
本発明の一実施の形態における抵抗器は、図1、図2に示すように、板状の金属で構成された抵抗体11と、この抵抗体11の両端部に形成された金属からなる一対の電極12と、前記抵抗体11の両端部以外の表面に形成された絶縁層13とを備えており、そして抵抗値調整のための切欠部14を抵抗体11に形成しているものである。
上記構成において、前記抵抗体11は、ニクロム、銅ニッケル、マンガニン等の導電性の良好な板状の金属からなる金属板で構成され、その長さは1.0〜15mm、幅は0.5〜10mm、厚みは100〜1000μmとなっている。
また前記一対の電極12は、抵抗体11の両端部において抵抗体11の表面にめっきにより形成されているもので、2〜50μmの厚みの銅めっきを施すことにより構成されている。そしてこの電極12の少なくとも下面にはすずめっきが施されるもので、これにより抵抗器は実装基板に実装される。なお、このすずめっきと電極12の下面との間には必要に応じてニッケルめっき、金めっきを形成してもよいものである。
そしてまた前記絶縁層13は、抵抗体11の両端部以外の表面に形成され、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等の絶縁材により構成されている。
さらに前記切欠部14は、絶縁層13が形成された抵抗体11に、抵抗値を調整するために形成されているものである。
次に、本発明の一実施の形態における抵抗器の製造方法について説明する。
図1、図2において、まず、板状の金属に、切断加工、打ち抜き加工、プレス加工等を施すことにより、方形状の抵抗体11を形成する。
次に、抵抗体11の両端部以外の部分の表面に絶縁層13を形成する。この場合、絶縁層13は抵抗体11の上下面だけでなく、抵抗体11の周囲を覆うように形成している。これにより、抵抗体11の側面も保護することができる。そして、この絶縁層13の厚みは電極12の厚みより薄くなるようにしている。
なお、前記絶縁層13はレジストを用いてもよく、この場合は、絶縁層13を薄くすることができるため、実装し易くなる。またこのレジストの表面にはさらに保護膜を形成してもよいものである。
次に、抵抗体11の両端部に、2〜50μmの厚みの銅めっきを施すことにより電極12を形成する。この場合、抵抗体11の両端部以外の部分の表面に絶縁層13をすでに形成しているため、電極12の形成箇所を特定することができ、これにより、電極12を所望の位置(抵抗体11の両端部)に形成することができる。その後、電極12の下面にすずめっきを形成する。
最後に、抵抗器の抵抗値を測定するために電極12間の抵抗値を測定し、所望の抵抗値より低い場合は、絶縁層13が形成された抵抗体11に切欠部14を形成することにより、抵抗値を調整する。このように、切欠部14を形成することにより、容易に抵抗値を調整することができる。
上記した本発明の一実施の形態においては、金属板で構成した抵抗体11の両端部以外の表面に絶縁層13を形成する工程と、前記抵抗体11の両端部に2〜50μmの厚みの銅めっきを施して電極12を形成する工程と、前記電極12間の抵抗値を測定する工程とを備え、前記絶縁層13を形成した後、電極12を形成するようにしているため、前記絶縁層13によって電極12の形成箇所を特定することができ、これにより、抵抗値の測定ばらつきを抑制することができるという効果が得られるものである。
また、図2において、dで測定した抵抗値とDで測定した抵抗値とが異なることにより、測定ばらつきが生じる場合があるが、本発明の一実施の形態においては、電極12として2〜50μmの厚みの銅めっきを用いているため、電極12間の抵抗値を測定する際、抵抗値の測定ばらつきを抑制することができるものである。
図3は、電極12の厚みと測定ばらつきとの関係を示した図である。このときの抵抗器としては、抵抗値が10mΩで、その材料が銅ニッケルである抵抗体11を用い、そして製品の長さ、幅がそれぞれ、6.4mm、3.2mmのものを使用した。また、それぞれの電極12の厚みについては、dでの抵抗値とDでの抵抗値を測定し、その誤差を測定ばらつきとし、さらに、抵抗値の測定ばらつきが5%以下のものを良品とした。
図3から明らかなように、電極12の厚みは2μm以上にすれば、抵抗値の測定ばらつきを5%以下に抑えることができるということがわかる。なお、電極12の厚みを50μm以下としたのは、コスト、実現性の観点からである。
本発明に係る抵抗器は、抵抗値の測定ばらつきを抑制できるものであり、各種電子機器の電流値検出等に使用される抵抗器において有用となるものである。
本発明の一実施の形態における抵抗器の斜視図 図1におけるA−A線断面図 同抵抗器の電極の厚みと測定ばらつきとの関係を示した図 従来の抵抗器の斜視図
符号の説明
11 抵抗体
12 電極
13 絶縁層
14 切欠部

Claims (3)

  1. 金属板で構成した抵抗体の両端部以外の表面に絶縁層を形成する工程と、前記抵抗体の両端部に2〜50μmの厚みの銅めっきを施して電極を形成する工程と、前記電極間の抵抗値を測定する工程とを備えた抵抗器の製造方法。
  2. 絶縁層としてレジストを用いた請求項1記載の抵抗器の製造方法。
  3. 抵抗体に切欠部を形成した請求項1記載の抵抗器の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009218552A (ja) * 2007-12-17 2009-09-24 Rohm Co Ltd チップ抵抗器およびその製造方法
JP2013089855A (ja) * 2011-10-20 2013-05-13 Rohm Co Ltd 電子部品の電極構造

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