JP2007134336A - 真空プラズマプロセス装置の作動方法および真空プラズマプロセス装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1の動作状態では主プラズマが生成され、第2の動作状態では補助プラズマが生成される。この場合、第1の個数の高周波パワージェネレータ19〜22により主プラズマ電力が生成され、この第1の個数よりも少ない第2の個数の高周波パワージェネレータ、たとえば高周波パワージェネレータ19〜21を遮断し、高周波パワージェネレータ22により補助プラズマ電力が生成される。
【選択図】図1
Description
11 放電室
12〜15,63〜78 電極
16 ポンプシステム
19〜22,31〜46 高周波パワージェネレータ
30 真空プラズマプロセス装置
79 アナログ信号ライン
80 インタフェース
81 エラーメッセージライン
82 中央制御装置
83 同期パルス出力側
84 同期クロック出力側
Claims (15)
- 第1の動作状態では主プラズマが生成され、第2の動作状態では補助プラズマが生成される形式の真空プラズマプロセス装置(10,30)の作動方法において、
第1の個数の高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)により主プラズマ電力が生成され、該第1の個数よりも少ない第2の個数の高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)により補助プラズマ電力が生成されることを特徴とする、
真空プラズマプロセス装置(10,30)の作動方法。 - 請求項1記載の方法において、
高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)に対し1つの電極または電極ペア(12〜15,63〜78)が割り当てられ、主プラズマ生成のためにすべての高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)が使用されることを特徴とする方法。 - 請求項1または2記載の方法において、
前記プラズマ状態が監視され、たとえば補助プラズマが生じているのか、いかなるプラズマも生じていないのかについて監視されることを特徴とする方法。 - 請求項1から3のいずれか1項記載の方法にいて、
主プラズマ点弧のために高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)の駆動制御が、補助プラズマが存在しているのか否かに依存して行われることを特徴とする方法。 - 請求項1から4のいずれか1項記載の方法において、
所定の高周波電力が設けられており、該高周波電力よりも小さければ補助プラズマが消弧することを特徴とする方法。 - 請求項1から5のいずれか1項記載の方法において、
高周波プラズマが消弧する高周波電力が捕捉され記憶されることを特徴とする方法。 - 請求項1から6のいずれか1項記載の方法において、
電力調整が行われることを特徴とする方法。 - 放電室(11)と、第1の動作状態では主プラズマを生成し第2の動作状態では補助プラズマを生成する少なくとも1つの高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)が設けられている、
真空プラズマプロセス装置(10,30)において、
電極または電極ペア(12〜15,63〜78)がそれぞれ対応づけられている複数の高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)が設けられており、
主プラズマを生成するために第1の個数の高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)が駆動され、補助プラズマを生成するために、前記第1の個数よりも少ない個数の第2の高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)が駆動されることを特徴とする、
真空プラズマプロセス装置。 - 請求項8記載の装置において、
前記高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)に各々電極または電極ペア(12〜15,63〜78)が対応づけられていることを特徴とする装置。 - 請求項8または9記載の装置において、
前記高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)は1つの共通の制御装置(82)により駆動制御され、たとえばパラレルに駆動制御されることを特徴とする装置。 - 請求項8から10のいずれか1項記載の装置において、
プラズマ検出手段(85)が設けられており、該プラズマ検出手段(85)はたとえば中央制御装置(82)と接続されていることを特徴とする装置。 - 請求項8から11のいずれか1項記載の装置において、
前記プラズマ検出手段(85)はラングミュアプローブ、容量センサ、光学センサまたは温度センサとして構成されていることを特徴とする装置。 - 請求項8から12のいずれか1項記載の装置において、
前記プラズマ検出手段(85)は、電気的な量および/または電力量のための1つまたは複数の測定装置として構成されていることを特徴とする装置。 - 請求項8から13のいずれか1項記載の装置において、
前記高周波パワージェネレータ(19〜22,31〜46)は、インピーダンス整合素子(43〜62)を介して電極または電極ペア(12〜15,63〜78)と接続されていることを特徴とする装置。 - 請求項8から14のいずれか1項記載の装置において、
プラズマパワーの値のための記憶装置が設けられており、該プラズマ電力値よりも小さければ補助プラズマが消弧することを特徴とする装置。
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