JP2007131653A - カルコン類縁体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】カルコン類縁体を親水性高分子と反応させることにより、下記一般式で表される親水性高分子鎖と疎水性高分子鎖から成るブロック共重合体を合成することができる。このブロック共重合体を用いて配向方向が一定なミクロ相分離構造膜を形成することができる。
(式中、R1とR2はメチル基等、X及びYは1,4-フェニレン基等、Aは親水性高分子鎖、Bはハロゲン原子、aは5〜500の整数、lは4〜30の整数、m及びnの一方は1で他方が0を表す。)
【選択図】なし
Description
また、本願発明と同様にカルコンの配向性を利用して液晶配向剤(特許文献2)や配向性膜(特許文献3)が開発されている。
また、本発明化合物に含まれる芳香環に挟まれたカルボニルビニル部位は反応性に優れ、紫外線照射や電子線照射により液晶配向と光二量化反応を同時に進行させることができる。
R2は水素原子、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、メルカプト基、ニトロ基又はアミノ基を表し、好ましくは、アルキル基又はアルコキシル基を表す。このアルキル基とアルコキシル基の炭素数は好ましくは1〜10であり、これらの基は分枝鎖を有するものであってもよい。
lは4〜30、好ましくは11〜20の整数を表す。
X及びYは、それぞれ独立に、2価の芳香族基又は複素環基を表し、例えば、1,4−フェニレン、1,4−シクロヘキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、ナフタレン−2,6−ジイル、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル、1,4−ビシクロ[2.2.2]オクチレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイル、ピラジン−2,5−ジイル、ピリダジン−3,6−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイルであってもよい。これらの基は置換基を有していてもよい。
m及びnは、一方が1であり、他方が0である。
Bはハロゲン原子、好ましくは、塩素原子又は臭素原子を表す。
aは5〜500の整数を表す。
R1、R2、X、Y、l、m及びnは上記と同様に定義される。
このカルコン類縁体部分は、疎水性高分子鎖として機能し、親水性高分子鎖(A)と結合することにより、ブロック共重合体を形成する。
ブロック共重合体の分子量は、好ましくは5000〜100000、より好ましくは10000〜50000である。
基板としては、疎水性物質からなる基板や表面を疎水化処理した基板が好ましく用いられる。例えばポリエステル、ポリイミド、雲母板、シリコンウエハ、石英板、ガラス板等の基板や、これらの基板表面をカーボン蒸着処理やシリル化処理等の疎水化処理を施した基板が好ましく用いられる。
基板上にこのブロック共重合体を塗布する方法として、ブロック共重合体を適当な溶媒に溶解させて基板上に塗布し溶媒を乾燥させる方法が一般的である。この溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、四塩化炭素、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、二塩化エチレン、塩化メチル等が挙げられる。溶液中のブロック共重合体の濃度は0.1〜5質量%程度が好ましい。
このブロック共重合体の膜の膜厚は約30nm〜約10μmが好ましい。
一旦塗布したブロック共重合体を加熱して固化した後に、再度加熱して配向処理を行ってもよいし、基板上にこのブロック共重合体を塗布すると同時に配向処理と加熱とを同時に行ってもよい。
この加熱温度は、ブロック共重合体の融点(通常50〜80℃)の±20℃の温度範囲が好ましく、より好ましくは70〜90℃である。ブロック共重合体の融点は示差走査熱量測定の方法で測定する。
例えば、親水性表面をもつ磁性酸化鉄微粒子を共重合体の溶液に分散させ、この分散液をスライドガラスやPETフィルム等に塗布し、室温で乾燥させることにより、この共重合体の層構造の親水性部分にこの微粒子が集合した層構造を有する膜を得ることができる。
以下、実施例にて本発明を例証するが本発明を限定することを意図するものではない。
融点 57〜59℃
Anal.Calc.for C34H45O4 C(%)78.72% H(%)8.94%
Found: C(%)78.43% H(%)8.54%
1H NMR 270MHz (CDCl3 TMS) : ( 0.86 - 1.1 (-CH3, 3H); ( 1.2 - 2.0 (-CH2-, 22H& -CH3, 3H); δ2.57 - 2.72 (φ-CH2-, 2H); ( 3.95 - 4.2 (O-CH2, 2H & -CH2-O-φ, 2H); (5.5-5.6 (-CH, 1H); (6.0-6.10 (-CH, 1H); ( 6.93 - 7.0 (Ar-H, 2H); (7.19-7.30(Ar-H, 2H); δ7.46-7.58 ((C=O)-CH=, 1H & Ar-H, 2H); ( 7.7-7.90 (φ-CH=, 1H), ( 8.0-8.1 (Ar- H, 2H).
IR (KBr): 2957, 2934 and 2850 (CH); 1710 (C=O ester); 1657 (C=O conju); 1639 (CH2=CH); 1606 (CH=CH cinnamoyl), 1272 (Ar-O); 1225 (O=C-O); 1031 (O-CH2) and 984cm-1(E-vinyl C-H deformation).
この生成物のNMRスペクトルを図1に、IRスペクトルを図2に、UVスペクトルを図3に示す。
次に、実施例2で得たポリマ−をトルエン又はクロロホルムに2質量%となるように溶解して、ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をシリコンウエハ基板にスピンコートした後、得られた薄膜を80℃の温度で24時間加熱をした。膜厚は150nmであった。この膜について原子間力プローブ顕微鏡(AFM)観察を行った。その結果を図5に示す。ミクロ相分離構造は主に膜面内配向であった。図5の右上に挿入した図はAFM像の二次元フーリエ変換像を示す。高度にヘキサゴナルパッキングしたシリンダーの周期性を示す。
またこのシリコンウエハ基板を劈開し、膜の断面をAFMで観察した。その結果を図6に示す。膜面に対して垂直配向したシリンダー構造が観察される。
Claims (6)
- 下記一般式
- R1がメチル基、R2がブチル基、lが11、X及びYが1,4−フェニレン、mが0、nが1である請求項1に記載のカルコン類縁体。
- 請求項1に記載のカルコン類縁体を重合させてなる下式
- 前記Aが一般式R3(OCH2CH2)bOCO−(式中、R3はアルキル基を表し、bは5〜500の整数を表す。)で表されるポリエチレンオキシド鎖であり、Bが臭素原子又は塩素原子である請求項3に記載のブロック共重合体。
- R1がメチル基、R2がブチル基、lが11、X及びYが1,4−フェニレン、mが0、nが1である請求項3又は4に記載のブロック共重合体。
- 基板上に請求項3〜5のいずれか一項に記載のポリマーを塗布し固化して得られる、配向の制御されたブロック共重合体から成るミクロ相分離構造膜。
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2005
- 2005-11-08 JP JP2005323060A patent/JP4887486B2/ja active Active
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