JP2007130605A

JP2007130605A - 描画方法、および電気光学装置の製造方法、電気光学装置、ならびに電子機器

Info

Publication number: JP2007130605A
Application number: JP2005327926A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Ito; 淳伊藤
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2005-11-11
Filing date: 2005-11-11
Publication date: 2007-05-31

Abstract

【課題】基板のサイズの変化、リニアスケール等の検出精度の変化、液滴吐出装置自体の
機械精度の変化などが発生しても、描画精度を向上することが可能な描画方法、表示性能
の良好な電気光学装置、電子機器を提供する。
【解決手段】描画方法は、液滴吐出ヘッド５２と、基板Ｗとを相対的に移動させる移動工
程と、特徴点としてのアライメントマーク９１、９３の配置位置を検出して、間隔Ｈ２を
測定する工程と、測定された間隔Ｈ２と、設計値情報としての間隔Ｈ１とを比較して基板
Ｗの伸縮率δ（％）を確認する工程と、この伸縮率δ（％）に基づいてキャリッジユニッ
ト５の位置を調整する工程と、描画をする描画工程と、を備えている。
【選択図】図４

Description

本発明は、液滴吐出ヘッドに配列されたノズルから機能液を選択的に吐出することによ
り、基板上に描画を行う描画方法、および電気光学装置の製造方法、電気光学装置、なら
びに電子機器に関する。

従来、インクジェット方式の印刷ヘッドを用いた液滴吐出装置は、微小な液滴をドット
状に精度良く吐出することができるので、各種部品の製造分野で応用が期待されている。
ここで、例えば液晶表示装置や、有機ＥＬ表示装置などの製造方法にも用いられ、ガラス
基板上に、フィルタ材料や、発光材料などの機能液を吐出して、液晶表示装置におけるフ
ィルタエレメントの形成や、有機ＥＬ表示装置における画素の形成が行なわれている。

特許文献１に開示されているように、基板上に機能性材料を含む機能液を液滴として吐
出描画する液滴吐出装置としては、インクジェットプリンタのインクジェットヘッドを液
滴吐出ヘッドとして用い、複数の液滴吐出ヘッドが搭載されたキャリッジを介して複数の
液滴吐出ヘッドを主走査方向および副走査方向に移動させる移動手段を備えた描画装置や
、この描画装置を用いた描画方法が知られている。

液晶表示装置や、有機ＥＬ表示装置などを製造する場合、エンコーダがガラス基板の領
域にわたって移動走査して、この移動走査によって得られるリニアスケールからのフィー
ドバックパルスの分周クロックの情報を検出していた。さらに、この検出結果から液滴吐
出ヘッドの位置を制御して機能液を吐出する方法であって、あらかじめガラス基板の所定
方向の全領域を検出してから機能液の着弾位置を決める方法であった。

特開２００４−２６７９２７号公報

ところが、液晶表示装置や、有機ＥＬ表示装置などで用いられるようなガラス基板は、
サイズが大きいために、温度変化による熱膨張でガラス基板に生じたサイズ変化や、リニ
アスケールの伸び・縮みの変化、装置自体の機械精度の変化などが生じることで、結果的
に誤差が発生してしまう恐れがあった。そして、このような誤差があった場合に、ガラス
基板の所定方向の全領域を検出してから機能液の着弾位置を決める方法だと、個々の描画
領域の狙った位置に対して、ずれた位置に機能液が着弾してしまう恐れがあった。

本発明の目的は、基板のサイズの変化、リニアスケール等の検出精度の変化、液滴吐出
装置自体の機械精度の変化などが発生しても、描画精度を向上することが可能な描画方法
、表示性能の良好な電気光学装置、電子機器を提供することである。

本発明の描画方法は、キャリッジユニットに搭載された液滴吐出ヘッドが有するノズル
から機能液を選択的に吐出することにより、複数の特徴点を持つ基板上に描画を行う描画
方法であって、前記液滴吐出ヘッドと、前記基板とを相対的に移動させる移動工程と、前
記特徴点の配置位置を検出して、前記特徴点の間隔を測定する工程と、前記測定する工程
で測定された前記間隔と、設計値情報とを比較して前記基板の伸縮率を確認する工程と、
前記伸縮率に基づいて前記キャリッジユニットの位置を調整する工程と、描画をする描画
工程と、を備えていることを特徴とする。

この発明によれば、特徴点の間隔を測定しておいて、この測定結果と、設計値情報にお
ける間隔とを比較して基板の伸縮率を求めておき、この伸縮率に合わせてキャリッジユニ
ットの位置を調整してから描画をする描画方法なので、狙った位置に機能液を着弾するこ
とができる。したがって、描画位置精度を向上することができる。

本発明の描画方法は、前記キャリッジユニットは複数配置されており、前記キャリッジ
ユニットの位置を調整する工程では、前記伸縮率に基づき前記各キャリッジユニットの間
隔を按分してから、前記各キャリッジユニットの位置を調整することが望ましい。

この発明によれば、基板の伸縮率に基づいてキャリッジユニットの間隔を按分してから
、キャリッジユニットの位置を調整するから、キャリッジユニットの配置位置精度をより
向上させることができるので、より精度よく機能液を着弾することができる。

本発明の描画方法は、前記基板は、隔壁により区画された複数の区画領域を有し、前記
キャリッジユニットの位置を調整する工程では、予め決めておいた設計情報に基づく前記
区画領域の幅（画素幅）を選択することが望ましい。

この発明によれば、予め決めておいた設計情報に基づく画素幅を選択して、画素幅の配
置位置に合うようにキャリッジユニットの配置位置を決めるから、キャリッジユニットの
配置位置精度をより向上させることができるので、より精度よく機能液を着弾することが
できる。

本発明の電気光学装置の製造方法は、前述に記載の描画方法で形成されたことを特徴と
する。

この発明によれば、描画位置精度を向上させることが可能な描画方法で製造されている
ので、高精度な電気光学装置を製造することができる。

本発明の電気光学装置は、前述に記載の電気光学装置の製造方法で製造されたことを特
徴とする。

この発明によれば、高精度な電気光学装置なので、表示性能の向上した電気光学装置を
提供できる。

本発明の電子機器は、前述に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。

この発明によれば、表示性能の向上した電気光学装置を備えることができるので、良好
な表示特性を有する電子機器を提供できる。

（第１実施形態）
以下、添付図面を参照して、本発明を適用した描画方法について説明する。本実施形態
で用いられる描画装置は、液滴吐出装置である。液滴吐出装置は、基板上に区画形成され
た色要素領域に、色要素形成材料を含む複数種の液状体を、キャリッジに搭載された複数
の液滴吐出ヘッドのノズルから吐出して複数種の色要素を形成するものである。ここで、
本実施形態に係る液滴吐出装置について説明する。
＜液滴吐出装置＞

図１は、液滴吐出装置を示す概略斜視図である。

図１に示すように、本実施形態の液滴吐出装置１は、ワークとしての基板Ｗを載置して
Ｘ軸方向（主走査方向）に移動させるワーク移動手段２と、複数（この場合、７つ）のキ
ャリッジユニット５をＹ軸方向（副走査方向）に移動させるヘッド移動手段３と、を備え
ている。複数のキャリッジユニット５には、複数（この場合、６つ）の液滴吐出ヘッド５
２（図２参照）を有しており、基板Ｗと対向するように搭載されたキャリッジ５１が、備
えられている。また、ワーク移動手段２による基板ＷのＸ軸方向への移動（主走査）に同
期して、複数の液滴吐出ヘッド５２を選択的に駆動して複数種の液状体を基板Ｗ上に吐出
させる描画制御手段としての制御部４（図３参照）を備えている。

ワーク移動手段２は、基板Ｗが載置されるセットテーブル２４と、セットテーブル２４
をエアスライダ（図示省略）を介してＸ軸方向に移動させるリニアモータ２２を備えた一
対のＸ軸ガイドレール２３とを有している。一対のＸ軸ガイドレール２３は、床上に設置
された共通架台９上に載置されＸ軸方向に延在する石定盤２１上に配設されている。

セットテーブル２４には、基板Ｗが真空吸着して固定される吸着テーブル（図示省略）
と、基板Ｗの表面が複数の液滴吐出ヘッド５２と所定の間隔を置いて精度よく対向するよ
うに基板Ｗの水平調整および角度調整が可能なθテーブル（図示省略）とを備えている。

ヘッド移動手段３は、複数のキャリッジユニット５をエアスライダ（図示省略）を介し
てＹ軸方向に移動させるリニアモータ３１を備えた一対のＹ軸ガイドレール３２を有して
いる。一対のＹ軸ガイドレール３２は、共通架台９上に間隔を置いて立脚した８本の支持
スタンド８上にワーク移動手段２を跨ぐように配設されている。

一対のＹ軸ガイドレール３２の間には、キャリッジ５１に搭載された複数の液滴吐出ヘ
ッド５２（図２（ａ）参照）のノズル６１の目詰まりの解消、ノズル面の異物や汚れの除
去などのメンテナンスを行うメンテナンス手段１４が、複数の液滴吐出ヘッド５２（図２
（ａ）参照）を臨む位置に配設されている。

キャリッジユニット５は、一対のＹ軸ガイドレール３２に差し渡されるようにして配置
されている。差し渡されたキャリッジユニット５のプレート上には、各液状体が貯留され
たタンクから配管を経由して送り込まれた液状体を所定量貯留して、各液滴吐出ヘッド５
２（図２（ａ）参照）に液状体を供給する液状体供給ユニット６と、各液滴吐出ヘッド５
２（図２（ａ）参照）を駆動するための電気信号を供給するヘッド用電装ユニット７とが
、載置されている。

また、共通架台９上には、ワークＷの位置を検出するためのワーク認識カメラ１５と、
液滴吐出ヘッド５２（図２（ａ）参照）の位置を検出するためのヘッド認識カメラ１６（
図示省略）とが、載置されている。そして、ワーク認識カメラ１５は、特徴点としてのア
ライメントマーク９１、９３（図４参照）の位置を検出することができる。

次に、本実施形態に係る液滴吐出ヘッドについて説明する。

図２は、液滴吐出ヘッドを示す図である。同図（ａ）は、概略斜視図であり、同図（ｂ
）は、ノズルの配置状態を示す平面図である。

図２（ａ）に示すように、本実施形態の液滴吐出ヘッド５２は、２連のものであり、２
連の接続針５４を有する液状体の導入部５３と、導入部５３に積層されたヘッド基板５５
と、ヘッド基板５５上に配置され内部に液状体のヘッド内流路が形成されたヘッド本体５
６とを備えている。接続針５４は、液状体供給ユニット６（図１参照）に配管を経由して
接続されており、液状体をヘッド内流路に供給することができる。ヘッド用電装ユニット
７に接続される２連のコネクタ５９が、フレキシブルフラットケーブル（図示省略）を介
して、ヘッド基板５５に設けられている。

ヘッド本体５６は、ピエゾ素子等で構成されたキャビティを有する加圧部５７と、ノズ
ル面５８ａに２つのノズル列６２、６２が、相互に平行に形成されたノズルプレート５８
とを有している。

図２（ｂ）に示すように、２つのノズル列６２、６２は、それぞれ複数（この場合、１
８０個）のノズル６１がピッチＰ１で略等間隔に並べられており、互いにピッチＰ１の半
分のピッチＰ２ずれた状態でノズルプレート５８に配設されている。ピッチＰ１は、およ
そ１４０μｍである。よって、ノズル列６２に直交する方向から見ると３６０個のノズル
６１がおよそ７０μｍのノズルピッチで配列した状態となっている。以降説明上、ノズル
６１の間隔は、ノズルピッチＰ２とする。

液滴吐出ヘッド５２は、ヘッド用電装ユニット７（図１参照）から電気信号としての駆
動波形がピエゾ素子等に印加されると、加圧部５７のキャビティの体積変動が起こり、こ
れによるポンプ作用でキャビティに充填された液状体が加圧され、ノズル６１から液状体
を液滴として吐出することができる。

次に、本実施形態に係る液滴吐出装置の制御系について説明する。

図３は、液滴吐出装置の制御系を示すブロック図である。

図３に示すように、液滴吐出装置１は、キーボード１２と、ディスプレイ１３と、が本
体１１に接続された上位コンピュータ１０と、液滴吐出ヘッド５２と、ワーク移動手段２
と、ヘッド移動手段３と、メンテナンス手段１４等を駆動する各種ドライバを有する駆動
部４６と、駆動部４６を含めた液滴吐出装置１を統括制御する制御部４と、を備えている
。

駆動部４６は、ワーク移動手段２およびヘッド移動手段３の各リニアモータ２２、３１
をそれぞれ駆動制御する移動用ドライバ４７と、液滴吐出ヘッド５２を吐出駆動制御する
ヘッドドライバ４８と、メンテナンス手段１４の各メンテ用ユニットを駆動制御するメン
テナンス用ドライバ４９と、を備えている。

制御部４は、ＣＰＵ４１と、ＲＯＭ４２と、ＲＡＭ４３と、Ｐ−ＣＯＮ４４と、を備え
、これらＣＰＵ４１と、ＲＯＭ４２と、ＲＡＭ４３と、Ｐ−ＣＯＮ４４は、互いにバス４
５を介して接続されている。ＲＯＭ４２は、ＣＰＵ４１で処理される制御プログラム等を
記憶する制御プログラム領域と、描画動作や機能回復処理等を行うための制御データ等を
記憶する制御データ領域と、を有している。

ＲＡＭ４３は、基板Ｗに描画を行うための描画データを記憶する描画データ記憶部と、
基板Ｗおよび液滴吐出ヘッド５２の位置データを記憶する位置データ記憶部等の各種記憶
部と、を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。Ｐ−ＣＯＮ４４には、
駆動部４６の各種ドライバのほか、ワーク認識カメラ１５や、ヘッド認識カメラ１６等が
接続されており、ＣＰＵ４１の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取
り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ４４は、上
位コンピュータ１０からの各種指令等をそのまま、あるいは加工してバス４５に取り込む
と共に、ＣＰＵ４１と連動して、ＣＰＵ４１等からバス４５に出力されたデータや、制御
信号をそのまま、あるいは加工して駆動部４６に出力することができる。ワーク認識カメ
ラ１５は、アライメントマーク９１、９３の位置を検出することができる。そして、制御
部４は、Ｐ−ＣＯＮ４４を介してアライメントマーク９１、９３の位置検出結果のデータ
をＲＯＭ４２内に格納することができる。液滴吐出装置１は、ＲＯＭ４２内に格納された
アライメントマーク９１、９３の位置検出結果に基づいて、キャリッジユニット５の配置
位置を制御することができる。

そして、制御部４は、ＲＯＭ４２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ４４を介し
て各種検出信号、各種指令、各種データ等を入力し、ＲＡＭ４３内の各種データ等を処理
した後、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して駆動部４６等に各種の制御信号を出力することにより、
液滴吐出装置１を制御している。制御部４は、ワーク移動手段２およびヘッド移動手段３
を制御することにより、所定の移動条件でワークＷを移動させて、基板Ｗに液滴吐出ヘッ
ド５２から液状体を吐出させて吐出制御することにより、所定の描画条件で描画を行うこ
とができる。
＜伸縮率補正方法＞

次に、本実施形態に係る基板の伸縮率補正方法について説明する。

図４は、基板の伸縮度合いを説明するための図である。

図４に示すように、基板Ｗは、液滴吐出装置１（図１参照）の上に載置されており、こ
こで示す基板Ｗ１は、熱などで膨張していない場合を示すものである。基板Ｗ１上には特
徴点としてのアライメントマーク９１、９１が配置されている。片方のアライメントマー
ク９１の中心をＯとして、他方のアライメントマーク９１の中心をＯ１とする。これら中
心Ｏと、中心Ｏ１とのＸ軸方向における距離がワーク認識カメラ１５によって測定できる
。この距離が間隔Ｈ１である。ここでは、ワーク認識カメラ１５は、１台使用した。なお
、基板Ｗ１が熱などで膨張していない状態であるので、間隔Ｈ１は、設計値情報と等しく
なる。また、これらアライメントマーク９１、９１は、実際の描画に影響の無いエリアに
形成されていることが好ましく、描画領域以外の非描画領域に形成されていることが望ま
しい。

次に、破線で示す基板Ｗ２は、基板Ｗに加えられた熱などで膨張した場合を示すもので
あり、基板Ｗより大きくなっている状態である。加熱されて膨張した基板Ｗ２は、特徴点
としてのアライメントマーク９３の位置がアライメントマーク９１の位置より多少ずれて
いる。ここでアライメントマーク９３の中心をＯ２として、中心Ｏと、中心Ｏ２とのＸ軸
方向における距離がワーク認識カメラ１５によって測定できる。この距離が間隔Ｈ２であ
る。

ここで、基板Ｗは、熱膨張によって中心Ｏ１と、中心Ｏ２との距離の分だけ伸びている
。この伸びは、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向ともに、等倍の度合いで伸びていることを前提にして
（逆に、縮むこともある）、伸びの度合いを伸縮率δ（％）で表す。

液滴吐出装置１のＸ軸方向におけるキャリッジユニット５の配置位置の調整方法は、伸
縮率δ（％）が決まったら、キャリッジユニット５の間隔ｈに伸縮率δ（％）を補正する
ことでできる。キャリッジユニット５の配置位置は、間隔ｈに伸縮率δ（％）を補正する
ことで、キャリッジユニット５の配置位置の誤差が少なくなるように按分される。そして
、描画領域としての色素領域Ａに対してキャリッジユニット５を精度よく配置することが
できる。そして、機能液を液滴吐出ヘッド５２（図２（ａ）参照）から基板Ｗ上に吐出さ
せて描画をすれば、液滴吐出装置１は、基板ＷのＸ軸方向において機能液の着弾位置精度
の高い描画ができる。

液滴吐出装置１のＹ軸方向におけるキャリッジユニット５の配置位置の調整方法は、伸
縮率δ（％）を加味した画素幅のデータを制御部４のＲＯＭ４２内に設計値情報として予
め格納しておいて、このＲＯＭ４２内に格納された画素幅のデータを制御部４から抽出し
てから、キャリッジユニット５の配置位置に合うように画素幅を選択する。そして、制御
部４に制御された液滴吐出装置１は、画素幅に合うようにキャリッジユニット５を精度よ
く配置しながら描画をする。したがって、液滴吐出装置１は、Ｙ軸方向においても機能液
の着弾位置精度の高い描画ができる。

基板Ｗが熱膨張などによって伸縮していたとしても、キャリッジユニット５の間隔ｈに
対して伸縮率δ（％）を補正することにより、液滴吐出装置１は、基板ＷのＸ軸方向およ
びＹ軸方向の両方向において、キャリッジユニット５の配置位置精度を向上させることが
できる。キャリッジユニット５の配置位置精度が向上すれば、機能液の着弾位置精度を向
上させることが可能な描画ができる。また、温度変化などによってリニアスケールや、液
滴吐出装置１の精度が変化したとしても、機能液の着弾位置精度を維持することが可能な
描画ができる。

次に、本実施形態に係る描画方法を用いて製造された液晶表示装置について説明する。
＜液晶表示装置＞

図５は、液晶表示装置の構造を示す概略斜視図である。

図５に示すように、本実施形態の液晶表示装置５００は、ＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍ
Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）透過型の液晶表示パネル５２０と、液晶表示パネル５２０を照
明する照明装置５１６と、を備えている。液晶表示パネル５２０は、色要素としてのカラ
ーフィルタを有する対向基板５０１と、画素電極５１０に３端子のうちの１つが接続され
たＴＦＴ素子５１１を有する素子基板５０８と、両基板５０１、５０８によって挟持され
た液晶（図示省略）と、を備えている。また、液晶表示パネル５２０の外面側となる両基
板５０１、５０８の表面には、透過する光を偏向させる上偏光板５１４と、下偏光板５１
５と、が配設される。

対向基板５０１は、透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に隔壁部５０４
によってマトリクス状に区画された複数の色要素領域に複数種の色要素としてＲＧＢ３色
のカラーフィルタ５０５Ｒ、５０５Ｇ、５０５Ｂが形成されている。隔壁部５０４は、Ｃ
ｒなどの遮光性を有する金属あるいはその酸化膜からなるブラックマトリクスと呼ばれる
下層バンク５０２と、下層バンク５０２の上（図５では、下向き）に形成された有機化合
物からなる上層バンク５０３と、で構成されている。また対向基板５０１は、隔壁部５０
４と隔壁部５０４によって区画されたカラーフィルタ５０５Ｒ、５０５Ｇ、５０５Ｂとを
覆う平坦化層としてのオーバーコート層（ＯＣ層）５０６と、ＯＣ層５０６を覆うように
形成されたＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）などの透明導電膜からなる対向
電極５０７と、を備えている。

素子基板５０８は、同じく透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に絶縁膜
５０９を介してマトリクス状に形成された画素電極５１０と、画素電極５１０に対応して
形成された複数のＴＦＴ素子５１１と、を有している。ＴＦＴ素子５１１の３端子のうち
、画素電極５１０に接続されない他の２端子は、互いに絶縁された状態で画素電極５１０
を囲むように格子状に配設された走査線５１２と、データ線５１３と、に接続されている
。

照明装置５１６は、光源として白色のＬＥＤ、ＥＬ、冷陰極管等を用い、これらの光源
からの光を液晶表示パネル５２０に向かって出射することができる導光板や拡散板や、反
射板等の構成を備えたものであれば、どのようなものでもよい。

液晶表示パネル５２０は、アクティブ素子としてＴＦＴ素子に限らずＴＦＤ（Ｔｈｉｎ
ＦｉｌｍＤｉｏｄｅ）素子を有したものでもよく、さらには、少なくとも一方の基板
にカラーフィルタを備えるものであれば、画素を構成する電極が互いに交差するように配
置されるパッシブ型の液晶表示装置でもよい。また、上下偏光板５１４、５１５は、視角
依存性を改善する目的等で用いられる位相差フィルムなどの光学機能性フィルムと組み合
わされたものでもよい。
＜液晶表示装置の製造方法＞

次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。

図６は、液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。図７（ａ）〜（ｅ）は
、液晶表示装置の製造方法を示す概略断面図である。

液晶表示装置の製造方法は、隔壁部を形成する工程と、表面処理する工程と、色要素描
画工程と、成膜工程と、ＯＣ層を形成する工程と、対向電極を形成する工程とで、概略構
成される。図６および図７を参照しながら、液晶表示装置の製造方法について詳細に説明
する。なお、基板に描画をする際には、図４に示した基板の伸縮度合いを確認してから描
画をする描画方法を採用したので、ここでは、これらの確認方法や、補正方法などについ
ての説明は、省略する。

図６のステップＳ１では、図７（ａ）に示すように、隔壁部５０４を形成する工程であ
る。まずブラックマトリクスとしての下層バンク５０２を対向基板５０１上に形成する。
下層バンク５０２の材料は、例えば、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ等の不透明な金属、あるいはこれ
ら金属の酸化物等の化合物を用いることができる。下層バンク５０２の形成方法としては
、蒸着法あるいはスパッタ法で上記材料からなる膜を対向基板５０１上に成膜する。膜厚
は、遮光性が保たれる膜厚を選定された材料に応じて設定すればよい。例えば、Ｃｒなら
ば、１００〜２００ｎｍが好ましい。そして、フォトリソグラフィ法により開口部５０２
ａに対応する部分以外をレジストで膜を覆い、上記材料に対応する酸等のエッチング液を
用いて膜をエッチングする。これにより開口部５０２ａを有する下層バンク５０２が形成
される。

そして、上層バンク５０３を下層バンク５０２の上に形成する。上層バンク５０３の材
料としては、アクリル系の感光性樹脂材料を用いることができる。また、感光性樹脂材料
は、遮光性を有することが好ましい。上層バンク５０３の形成方法としては、例えば、下
層バンク５０２が形成された対向基板５０１の表面に感光性樹脂材料をロールコート法や
スピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そ
して、色要素領域Ａに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを対向基板５０１と所
定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク５０３を形成する方法が挙
げられる。これにより対向基板５０１上に複数の色要素領域Ａをマトリクス状に区画する
隔壁部５０４が形成される。

次に、図７のステップＳ２では、Ｏ₂を処理ガスとするプラズマ処理とフッ素系ガスを
処理ガスとして、隔壁部５０４によって区画された色要素領域Ａに対してプラズマ処理を
行う表面処理工程である。色要素領域Ａが親液処理され、その後感光性樹脂からなる上層
バンク５０３の表面（壁面を含む）が撥液処理される。

次に、図６のステップＳ３では、図７（ｂ）に示すように、描画をする描画工程である
。ここでは、表面処理された各色要素領域Ａのそれぞれに、対応する液状体８０Ｒ、８０
Ｇ、８０Ｂを付与してカラーフィルタ５０５を描画する。液状体８０Ｒは、Ｒ（赤色）の
カラーフィルタ形成材料を含むものであり、液状体８０Ｇは、Ｇ（緑色）のカラーフィル
タ形成材料を含むものであり、液状体８０Ｂは、Ｂ（青色）のカラーフィルタ形成材料を
含むものである。各液状体８０Ｒ、８０Ｇ、８０Ｂを付与する方法は、液滴吐出装置１を
用い、液滴吐出ヘッド５２に各液状体８０Ｒ、８０Ｇ、８０Ｂを充填し、液滴として色要
素領域Ａに着弾させる。各液状体８０Ｒ、８０Ｇ、８０Ｂは、色要素領域Ａの面積に応じ
て必要量が付与され、色要素領域Ａに濡れ拡がり、表面張力によって盛り上がる。そして
、３種の異なる液状体８０Ｒ、８０Ｇ、８０Ｂを略同時に吐出して描画することができる
液滴吐出装置１を用いているため、各液状体８０Ｒ、８０Ｇ、８０Ｂごとに別々の液滴吐
出装置１で描画する場合に比べて、効率よく描画することが可能である。

次に、図６のステップＳ４では、図７（ｃ）に示すように、描画されたカラーフィルタ
５０５を乾燥して成膜化する工程である。ここでは、吐出描画されたカラーフィルタ５０
５を一括乾燥し、各液状体８０Ｒ、８０Ｇ、８０Ｂから溶剤成分を除去してカラーフィル
タ５０５Ｒ、５０５Ｇ、５０５Ｂを成膜する。乾燥方法としては、溶剤成分を均質に乾燥
可能な減圧乾燥などの方法が望ましい。

次に、図６のステップＳ５では、図７（ｄ）に示すように、ＯＣ層形成工程である。こ
こでは、カラーフィルタ５０５と、上層バンク５０３とを覆うようにＯＣ層５０６を形成
する。ＯＣ層５０６の材料としては、透明なアクリル系樹脂材料を用いることができる。
形成方法としては、スピンコート法、オフセット印刷などの方法が挙げられる。ＯＣ層５
０６は、カラーフィルタ５０５が形成された対向基板５０１の表面の凹凸を緩和して、後
にこの表面に膜付けされる対向電極５０７を平担化するために設けられている。また、対
向電極５０７との密着性を確保するために、ＯＣ層５０６の上にさらにＳｉＯ₂などの薄
膜を形成してもよい。

最後に、図６のステップＳ６では、図７（ｅ）に示すように、対向電極５０７を形成す
る工程である。スパッタ法や蒸着法を用いてＩＴＯなどの透明電極材料を真空中で成膜し
て、ＯＣ層５０６を覆うように全面に対向電極５０７を形成する。

第１実施形態では、以下の効果が得られる。

（１）液滴吐出装置１が、アライメントマーク９１、９３の間隔Ｈ２を測定しておいて
、この測定結果と、設計値情報における間隔Ｈ１とを比較してから伸縮率δ（％）を求め
る。そして、基板Ｗが熱膨張の影響などで伸縮をしても、この伸縮率δ（％）に合わせて
キャリッジユニット５の位置を調整してから描画をする描画方法なので、狙った位置に機
能液としての液状体８０Ｒ、８０Ｇ、８０Ｂを着弾することができる。したがって、描画
位置精度を向上することができる。
（２）液滴吐出装置１が、キャリッジユニット５の間隔ｈを伸縮率δ（％）に基づいて
按分してキャリッジユニット５の位置を調整するから、キャリッジユニット５の配置位置
精度をより向上させることができるので、より精度よく機能液としての液状体８０Ｒ、８
０Ｇ、８０Ｂを着弾させることができる。
（３）液滴吐出装置１が、予め決めておいた設計値情報に基づく画素幅を選択して、画
素幅の配置位置に合うようにキャリッジユニット５の配置位置を決めるから、キャリッジ
ユニット５の配置位置精度をより向上させることができるので、より精度よく機能液とし
ての液状体８０Ｒ、８０Ｇ、８０Ｂを着弾させることができる。
（４）液晶表示装置５００が、高精度な描画方法で製造されているので、精度が高く、
しかも品質の良好な液晶表示装置５００を製造することができる。
（５）そして、品質が良好で、表示性能の向上した電気光学装置としての液晶表示装置
５００を提供できる。

（第２実施形態）
次に、本実施形態に係る描画方法を用いて製造された電気光学装置としての有機ＥＬ表
示装置について説明する。第１実施形態と異なる点は、液晶表示装置でなく、有機ＥＬ表
示装置に本発明の描画方法を適用したことである。
＜有機ＥＬ表示装置＞

図８は、有機ＥＬ表示装置の構造を示す概略断面図である。

図８に示すように、本実施形態の電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置６００は、発
光素子部６０３を有する素子基板６０１と、素子基板６０１と空間６２２を隔てて封着さ
れた封止基板６２０とを備えている。また素子基板６０１は、素子基板６０１上に回路素
子部６０２を備えており、発光素子部６０３は、回路素子部６０２上に重畳して形成され
、回路素子部６０２により駆動されるものである。発光素子部６０３には、３色の発光層
６１７Ｒ、６１７Ｇ、６１７Ｂがそれぞれの色要素領域Ａに形成され、ストライプ状とな
っている。素子基板６０１は、３色の発光層６１７Ｒ、６１７Ｇ、６１７Ｂに対応する３
つの色要素領域Ａを１組の絵素とし、この絵素が素子基板６０１の回路素子部６０２上に
マトリクス状に配置されたものである。有機ＥＬ表示装置６００は、発光素子部６０３か
らの発光が素子基板６０１側に出射するものである。

封止基板６２０は、ガラス又は金属からなるもので、封止樹脂を介して素子基板６０１
に接合されており、封止された内側の表面には、ゲッター剤６２１が貼り付けられている
。ゲッター剤６２１は、素子基板６０１と封止基板６２０との間の空間６２２に侵入した
水又は酸素を吸収して、発光素子部６０３が侵入した水又は酸素によって劣化することを
防ぐものである。

素子基板６０１は、回路素子部６０２上に複数の色要素領域Ａを有するものであって、
複数の色要素領域Ａを区画する隔壁部としてのバンク６１８と、複数の色要素領域Ａに形
成された電極６１３と、電極６１３に積層された正孔注入／輸送層６１７ａとを備えてい
る。また複数の色要素領域Ａ内に発光層形成材料を含む３種の液状体を付与して形成され
た発光層６１７Ｒ、６１７Ｇ、６１７Ｂを有する色要素としての発光素子部６０３を備え
ている。バンク６１８は、下層バンク６１８ａと色要素領域Ａを実質的に区画する上層バ
ンク６１８ｂとからなり、下層バンク６１８ａは、色要素領域Ａの内側に張り出すように
設けられて、電極６１３と各発光層６１７Ｒ、６１７Ｇ、６１７Ｂとが直接接触して電気
的に短絡することを防止するためにＳｉＯ₂等の無機絶縁材料により形成されている。

素子基板６０１は、例えばガラス等の透明な基板からなり、素子基板６０１上にシリコ
ン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上に多結晶シリコ
ンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。尚、半導体膜６０７には、ソース領
域６０７ａ及びドレイン領域６０７ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。
なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域６０７ｃとなっている。さらに下地保護
膜６０６及び半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、ゲート絶縁膜
６０８上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極６０９が形成され、ゲー
ト電極６０９及びゲート絶縁膜６０８上には透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶
縁膜６１１ｂが形成されている。ゲート電極６０９は、半導体膜６０７のチャネル領域６
０７ｃに対応する位置に設けられている。また、第１層間絶縁膜６１１ａおよび第２層間
絶縁膜６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７
ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール６１２ａ、６１２ｂが形成されている。そして
、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に、ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）等からな
る透明な電極６１３が所定の形状にパターニングされて配置され（電極形成工程）、一方
のコンタクトホール６１２ａがこの電極６１３に接続されている。また、もう一方のコン
タクトホール６１２ｂが電源線６１４に接続されている。このようにして、回路素子部６
０２には、各電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５が形成されている
。尚、回路素子部６０２には、保持容量とスイッチング用の薄膜トランジスタも形成され
ている（図示省略）。

発光素子部６０３は、陽極としての電極６１３と、電極６１３上に順次積層された正孔
注入／輸送層６１７ａ、各発光層６１７Ｒ、６１７Ｇ、６１７Ｂ（総称して発光層６１７
ｂ）と、上層バンク６１８ｂと発光層６１７ｂとを覆うように積層された陰極６０４とを
備えている。尚、陰極６０４と封止基板６２０およびゲッター剤６２１を透明な材料で構
成すれば、封止基板６２０側から発光する光を出射させることができる。

有機ＥＬ表示装置６００は、ゲート電極６０９に接続された走査線（図示省略）とソー
ス領域６０７ａに接続された信号線（図示省略）とを有し、走査線に伝わった走査信号に
よりスイッチング用の薄膜トランジスタ（図示省略）がオンになると、そのときの信号線
の電位が保持容量に保持され、該保持容量の状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ６
１５のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ６１５のチャネル領
域６０７ｃを介して、電源線６１４から電極６１３に電流が流れ、更に正孔注入／輸送層
６１７ａと発光層６１７ｂとを介して陰極６０４に電流が流れる。発光層６１７ｂは、こ
れを流れる電流量に応じて発光する。有機ＥＬ表示装置６００は、このような発光素子部
６０３の発光メカニズムにより、所望の文字や画像などを表示することができる。また発
光層６１７ｂが液滴吐出装置１を用いて精度の高い描画方法で形成されているため、表示
不具合の少ない高い表示品質を有している。
＜有機ＥＬ表示装置の製造方法＞

次に、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法について説明する。

図９は、有機ＥＬ表示装置の製造方法を示すフローチャートであり、図１０（ａ）〜（
ｆ）は、有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す概略断面図である。

有機ＥＬ表示装置の製造方法は、電極を形成する工程と、バンク（隔壁部）を形成する
工程と、表面処理をする工程と、正孔注入／輸送層を描画する工程と、乾燥・成膜をする
工程と、表面処理をする工程と、発光層を描画する工程と、乾燥・成膜をする工程と、陰
極を形成する工程とで、概略構成される。図９および図１０を参照しながら、有機ＥＬ表
示装置の製造方法について詳細に説明する。なお、基板に描画をする際には、図４に示し
た基板の伸縮度合いを確認してから描画をする描画方法を採用したので、ここでは、これ
らの確認方法や、補正方法などについての説明は、省略する。

図９のステップＳ１１では、図１０（ａ）に示すように、電極（陽極）形成工程である
。回路素子部６０２がすでに形成された素子基板６０１の色要素領域Ａに対応する位置に
電極６１３を形成する。形成方法としては、例えば、素子基板６０１の表面にＩＴＯ等の
透明電極材料を用いて真空中でスパッタ法あるいは蒸着法で透明電極膜を形成する。その
後、フォトリソグラフィ法にて必要な部分だけを残してエッチングして電極６１３を形成
する方法が挙げられる。また、フォトレジストで素子基板６０１を先に覆って、電極６１
３を形成する領域が開口するように露光・現像する。そして開口部にＩＴＯ等の透明電極
膜を形成し、残存したフォトレジストを除去する方法でもよい。

次に、図９のステップＳ１２では、図１０（ｂ）に示すように、バンク（隔壁部）形成
工程である。素子基板６０１の複数の電極６１３の一部を覆うように下層バンク６１８ａ
を形成する。下層バンク６１８ａの材料としては、無機材料である絶縁性のＳｉＯ₂（酸
化珪素）を用いている。下層バンク６１８ａの形成方法としては、例えば、後に形成され
る発光層６１７ｂに対応して、各電極６１３の表面をマスキングする。そしてマスキング
された素子基板６０１を真空装置に投入し、ＳｉＯ₂をターゲットあるいは原料としてス
パッタリングや真空蒸着することにより下層バンク６１８ａを形成する方法が挙げられる
。レジスト等のマスキングは、後に剥離する。尚、下層バンク６１８ａは、ＳｉＯ₂によ
り形成されているため、その膜厚が２００ｎｍ以下であれば十分な透明性を有しており、
後に正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが積層されても発光を阻害すること
はない。

続いて、各色要素領域Ａを実質的に区画するように下層バンク６１８ａの上に上層バン
ク６１８ｂを形成する。上層バンク６１８ｂの材料としては、後述する発光層形成材料を
含む３種の液状体１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂの溶媒に対して耐久性を有するものであ
ることが望ましい。さらに、フッ素系ガスを処理ガスとするプラズマ処理によりテトラフ
ルオロエチレン化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミド
などといった有機材料が好ましい。上層バンク６１８ｂの形成方法としては、例えば、下
層バンク６１８ａが形成された素子基板６０１の表面に感光性の前記有機材料をロールコ
ート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成
する。そして、色要素領域Ａに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを素子基板６
０１と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク６１８ｂを形成す
る方法が挙げられる。これにより下層バンク６１８ａと上層バンク６１８ｂとを有する隔
壁部としてのバンク６１８が形成される。

次に、図９のステップＳ１３では、バンク６１８が形成された素子基板６０１の表面の
色要素領域Ａを表面処理する工程である。ここでは、Ｏ₂ガスを処理ガスとしてプラズマ
処理する。これにより電極６１３の表面、下層バンク６１８ａの張り出し部および上層バ
ンク６１８ｂの表面（壁面を含む）を活性化させて親液処理する。つぎにＣＦ₄等のフッ
素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより有機材料である感光性樹脂から
なる上層バンク６１８ｂの表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液処理される。

次に、図９のステップＳ１４では、図１０（ｃ）に示すように、正孔注入／輸送層形成
工程である。ここでは、正孔注入／輸送層形成材料を含む液状体９０を色要素領域Ａに付
与する。液状体９０を付与する方法としては、液滴吐出装置１を用いる。液滴吐出ヘッド
５２から吐出された液状体９０は、液滴として素子基板６０１の電極６１３に着弾して濡
れ拡がる。液状体９０は、色要素領域Ａの面積に応じて必要量が液滴として吐出され表面
張力で盛り上がった状態となる。

次に、図９のステップＳ１５では、乾燥・成膜工程である。ここでは、素子基板６０１
を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、液状体９０の溶媒成分を乾燥さ
せて除去し、電極６１３の下層バンク６１８ａにより区画された領域に正孔注入／輸送層
６１７ａが形成される。ここでは、正孔注入／輸送層形成材料としてＰＥＤＯＴ（Ｐｏｌ
ｙｅｔｈｙｌｅｎｅＤｉｏｘｙＴｈｉｏｐｈｅｎｅ；ポリエチレンジオキシチオフェ
ン）を用いた。尚、この場合、各色要素領域Ａに同一材料からなる正孔注入／輸送層６１
７ａを形成したが、発光層の形成材料に対応して正孔注入／輸送層６１７ａの材料を色要
素領域Ａごとに変えてもよい。

次に、図９のステップＳ１６では、正孔注入／輸送層６１７ａが形成された素子基板６
０１を表面処理する工程である。ここでは、正孔注入／輸送層形成材料を用いて正孔注入
／輸送層６１７ａを形成した場合、その表面が、次のステップＳ１７で用いられる３種の
液状体１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂに対して撥液性を有するので、少なくとも色要素領
域Ａの領域内を再び親液性を有するように表面処理を行う。表面処理の方法としては、３
種の液状体１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂに用いられる溶媒を塗布して乾燥する。溶媒の
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法等の方法が挙げられる。

次に、図９のステップＳ１７では、図１０（ｄ）に示すように、ＲＧＢ発光層描画工程
である。ここでは、液滴吐出装置１を用いて異なる液滴吐出ヘッド５２から複数の色要素
領域Ａに発光層形成材料を含む３種の液状体１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂを付与する。
液状体１００Ｒは、発光層６１７Ｒ（赤色）を形成する材料を含み、液状体１００Ｇは、
発光層６１７Ｇ（緑色）を形成する材料を含み、液状体１００Ｂは、発光層６１７Ｂ（青
色）を形成する材料を含んでいる。着弾した各液状体１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂは、
色要素領域Ａに濡れ拡がって断面形状が円弧状に盛り上がる。

次に、図９のステップＳ１８では、図１０（ｅ）に示すように、乾燥・成膜工程である
。ここでは、吐出描画された各液状体１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂの溶媒成分を乾燥さ
せて除去し、各色要素領域Ａの正孔注入／輸送層６１７ａに各発光層６１７Ｒ、６１７Ｇ
、６１７Ｂが積層されるように成膜化する。各液状体１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂが吐
出描画された素子基板６０１の乾燥方法としては、溶媒の蒸発速度をほぼ一定とすること
が可能な、減圧乾燥法が好ましい。

最後に、図９のステップＳ１９では、図１０（ｆ）に示すように、陰極形成工程である
。ここでは、素子基板６０１の各発光層６１７Ｒ、６１７Ｇ、６１７Ｂと上層バンク６１
８ｂの表面とを覆うように陰極６０４を形成する。陰極６０４の材料としては、Ｃａ、Ｂ
ａ、Ａｌ等の金属やＬｉＦ等のフッ化物を組み合わせて用いるのが好ましい。特に発光層
に近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大き
いＡｌ等の膜を形成するのが好ましい。また、陰極６０４の上にＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の保
護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極６０４の酸化を防止することができる。
陰極６０４の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に発
光層の熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。

以上のような第２実施形態では、前述の第１実施形態と同様の効果が得られる他に以下
の効果が得られる。

（６）有機ＥＬ表示装置６００が、高精度な描画方法で製造されているので、品質が良
好で、表示性能の向上した電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置６００を提供できる。

次に、本実施形態で説明した描画方法を用いて製造された液晶表示装置、あるいは有機
ＥＬ表示装置を搭載した電子機器について説明する。

図１１は、電子機器としての携帯型情報処理装置を示す概略斜視図である。

図１１に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯型情報処理装置７００は、入
力用のキーボード７０２を有する情報処理装置本体７０１と、表示部７０３とを備えてい
る。表示部７０３には、液晶表示装置５００あるいは有機ＥＬ表示装置６００が搭載され
ている。

携帯型情報処理装置７００は、液晶表示装置５００、あるいは有機ＥＬ表示装置６００
を搭載しているため、色ムラ等の表示不具合の少ない、高い表示品質で文字や画像等の情
報を確認することが可能な電子機器としての携帯型情報処理装置７００を提供することが
できる。

以上、好ましい実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記各実施の形態に
限定されるものではなく、以下に示すような変形をも含み、本発明の目的を達成できる範
囲で、他のいずれの具体的な構造および形状に設定できる。

（変形例１）前述の第１実施形態および第２実施形態で、ワークＷとしてガラス基板を
用いたが、これに限らない。例えば温度変化により熱膨張や変形を生じる樹脂製のフィル
ム状テープ基板などにも適用可能である。このようにしても、本発明の描画方法を適用で
きる上に、前述の第１実施形態および第２実施形態と同様の効果が得られる。

（変形例２）前述の第１実施形態および第２実施形態で、ワーク認識カメラ１５を１台
使用したが、これに限らない。例えば複数台（２台以上）使用してもよい。このようにす
れば、前述の第１実施形態および第２実施形態と同様の効果が得られる上に、アライメン
トマーク９１、９３の位置を短時間で測定できることになるから、測定効率を向上させる
ことができるので、効率的である。

（変形例３）前述の第１実施形態および第２実施形態で、液晶表示装置５００、あるい
は有機ＥＬ表示装置６００を電子機器としての携帯型情報処理装置７００に搭載したが、
これに限らない。例えば、携帯電話機、ＰＤＡ（ＰｅｒｓｏｎａｌＤｉｇｉｔａｌＡ
ｓｓｉｓｔａｎｔｓ）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯端末機器、卓上型パーソナルコン
ピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、
ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、
ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、Ｐ
ＯＳ端末機等々の画像表示手段として好適に用いることができる。このようにすれば、液
晶表示装置５００、あるいは有機ＥＬ表示装置６００の用途は広がり、いろいろな電子機
器を提供できる。

第１実施形態における液滴吐出装置を示す概略斜視図。液滴吐出ヘッドを示す図であり、（ａ）は、概略斜視図、（ｂ）は、ノズルの配置状態を示す平面図。液滴吐出装置の制御系を示すブロック図。基板の伸縮度合いを説明するための図。液晶表示装置の構造を示す概略斜視図。液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート。（ａ）〜（ｅ）は、液晶表示装置の製造方法を示す概略断面図。第２実施形態における有機ＥＬ表示装置の構造を示す概略断面図。有機ＥＬ表示装置の製造方法を示すフローチャート。（ａ）〜（ｆ）は、有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す概略断面図。電子機器としての携帯型情報処理装置を示す斜視図。

符号の説明

１…液滴吐出装置、５…キャリッジユニット、５１…キャリッジ、５２…液滴吐出ヘッ
ド、８０Ｒ、８０Ｇ、８０Ｂ…機能液としての液状体、９１、９３…アライメントマーク
としての特徴点、１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ…機能液としての液状体、５００…電気
光学装置としての液晶表示装置、６００…電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置、７０
０…電子機器としての携帯型情報処理装置、Ａ…描画領域としての色素領域、Ｈ１、Ｈ２
…間隔、ｈ…間隔、δ…伸縮率、Ｗ、Ｗ１、Ｗ２…基板。

Claims

キャリッジユニットに搭載された液滴吐出ヘッドが有するノズルから機能液を選択的に
吐出することにより、複数の特徴点を持つ基板上に描画を行う描画方法であって、
前記液滴吐出ヘッドと、前記基板とを相対的に移動させる移動工程と、
前記特徴点の配置位置を検出して、前記特徴点の間隔を測定する工程と、
前記測定する工程で測定された前記間隔と、設計値情報とを比較して前記基板の伸縮率
を確認する工程と、
前記伸縮率に基づいて前記キャリッジユニットの位置を調整する工程と、
描画をする描画工程と、
を備えていることを特徴とする描画方法。
請求項１に記載の描画方法において、
前記キャリッジユニットは複数配置されており、前記キャリッジユニットの位置を調整
する工程では、前記伸縮率に基づき前記各キャリッジユニットの間隔を按分してから、前
記各キャリッジユニットの位置を調整することを特徴とする描画方法。
請求項１に記載の描画方法において、
前記基板は、隔壁により区画された複数の区画領域を有し、前記キャリッジユニットの
位置を調整する工程では、予め決めておいた設計情報に基づく前記区画領域の幅を選択す
ることを特徴とする描画方法。
電気光学装置の製造方法であって、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の描画方
法で形成されたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
請求項４に記載の電気光学装置の製造方法で製造されたことを特徴とする電気光学装置
。
請求項５に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。