JP2007114232A5 - - Google Patents

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Claims (14)

  1. 光学系から照射される直線偏光によって、金属膜に形成された光学的開口にて近接場を発生する光学素子であって、
    上記金属膜には、上記光学的開口から上記直線偏光の偏光方向に凹部又は凸部が設けられていることを特徴とする光学素子。
  2. 上記凹部又は凸部は、上記光学的開口の中心から上記直線偏光の偏光方向に設けられていることを特徴とする請求項1記載の光学素子。
  3. 近接場を発生するための複数の光学的開口が金属膜に形成された光学素子であって、
    上記複数の光学的開口の内、第1の光学的開口の周囲には、凹部又は凸部が少なくとも1つ以上設けられており、
    上記複数の光学的開口の内、第2の光学的開口の周囲には、第1の光学的開口の周囲に設けられている凹部又は凸部よりも少ない凹部又は凸部が設けられているか、或いは、凹部又は凸部が設けられていないことを特徴とする光学素子。
  4. 光学系から照射される直線偏光によって近接場を発生するための複数の光学的開口が金属膜に形成された光学素子であって、
    上記複数の光学的開口の内、第1の光学的開口の周囲には、凹部又は凸部が少なくとも1つ以上設けられ、該凹部又は凸部は、上記第1の光学的開口の中心から上記直線偏光の偏光方向に設けられており、
    上記複数の光学的開口の内、第2の光学的開口の周囲には、第1の光学的開口の周囲に設けられている凹部又は凸部よりも少ない凹部又は凸部が設けられ、該凹部又は凸部は、上記第2の光学的開口の中心から上記直線偏光の偏光方向に設けられていることを特徴とする光学素子。
  5. 上記凹部又は凸部は、上記照射側の上記金属膜表面に設けられていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学素子。
  6. 上記凹部又は凸部は、複数設けられていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学素子。
  7. 複数の上記凹部又は凸部は、上記光学的開口を挟んで設けられていることを特徴とする請求項記載の光学素子。
  8. 複数の上記凹部又は凸部は、上記金属膜の両面に、上記金属膜に対して対称の位置にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項6または7に記載の光学素子。
  9. 複数の上記凹部又は凸部は、上記光学的開口から所定の間隔で設けられていることを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項に記載の光学素子。
  10. 上記間隔の長さは上記直線偏光の波長λの1/10以上かつ1/2以下の長さであることを特徴とする請求項記載の光学素子。
  11. 上記金属膜は、銀、金、アルミニウム、白金、及び銅の何れか1つの金属、または該金属を含む合金からなることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の光学素子。
  12. 上記金属膜の表面に誘電体膜が設けられていることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の光学素子。
  13. 請求項1〜12のいずれか1項に記載の光学素子と、
    直線偏光を照射する光学系とを備えることを特徴とする近接場発生装置。
  14. 請求項13に記載の近接場発生装置を備え、被露光体の露光を行うことを特徴とする露光装置。
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KR101102554B1 (ko) * 2009-07-21 2012-01-03 연세대학교 산학협력단 적층형 나노 어퍼쳐 구조체, 이를 채용한 근접장 광 발생장치 및 정보 기록재생 장치

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6236033B1 (en) * 1998-12-09 2001-05-22 Nec Research Institute, Inc. Enhanced optical transmission apparatus utilizing metal films having apertures and periodic surface topography
US6285020B1 (en) * 1999-11-05 2001-09-04 Nec Research Institute, Inc. Enhanced optical transmission apparatus with improved inter-surface coupling
JP4345268B2 (ja) * 2002-07-29 2009-10-14 日本電気株式会社 光モジュール及び光ヘッド並びに光記憶/再生装置
JP4144870B2 (ja) * 2003-09-16 2008-09-03 キヤノン株式会社 近接場光を発生させる構造体、該構造体を有する近接場光ヘッド、該ヘッドを有する記録再生装置及び表面観察装置

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