JP2007103364A - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】放電セル内に蛍光体を均一に塗布することによって、輝度の低下を防止できるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上部に、所定の間隔に形成される複数個の隔壁３１と、隣り合う隔壁３１間における前記基板３２の上部に形成される補助隔壁３３と、補助隔壁３３の上部に所定深さに形成される少なくとも一つの溝３４と、を備えてなる。
【選択図】図３Ａ

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。

一般に、薄い厚さ及び大型の面積を有するディスプレイとしては、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：以下、‘ＰＤＰ’とも略す。）が挙げられる。

ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板とで構成され、前面ガラス基板には、対をなす複数の維持電極、誘電体層、ＭｇＯ層が順次に形成されている。

また、背面ガラス基板には、複数のアドレス電極が形成され、その上に誘電体層が形成され、誘電体層上には、放電セルを区画する隔壁が形成され、放電セル内には蛍光体層が形成される。

なお、前面ガラス基板の維持電極と背面ガラス基板のアドレス電極が互いに直交するように、前面ガラス基板と背面ガラス基板とが合着され、これら両基板間の空間内にガスが封入される。

このように構成されるＰＤＰでは、主として、蛍光体層を塗布するためにディスペンス法を用いる。

ディスペンス法は、蛍光体を隔壁と隔壁間の放電セル内に微細に塗布できる長所があるが、蛍光体の塗布が開始される領域には蛍光体の塗布ができないか、不均一になるという問題点があった。

かかる問題点を解決するために、隔壁と隔壁間に補助隔壁を形成し、ディスペンサと基板間の高さ差を減少させることによって、蛍光体の塗布不良を改善する方法が提案された。

例えば、図１に示すように、基板２の補助隔壁３は、隔壁１の長さ方向に対して垂直な方向に形成され、隔壁１の両端の領域に形成された。

ここで、補助隔壁３の高さは、隔壁１の高さよりも低く形成される。

補助隔壁３は、図２に示すように、ディスペンサ５と基板２間の高さ差を減少させることによって、蛍光体の塗布が開始される領域において、蛍光体の塗布不良を改善することができる。

すなわち、ディスペンサ５は、蛍光体ペースト４を基板２の方向に排出しながら隔壁１に沿って移動するようになる。

この場合、補助隔壁３がないと、基板２とディスペンサ５間の高さ差が相対的に大きいため、蛍光体の塗布が開始される領域に蛍光体ペースト４が過剰形成されるおそれがあるが、補助隔壁３があると、基板２とディスペンサ５間の高さ差が減少し、よって、蛍光体ペースト４の過剰形成が防止される。

しかしながら、補助隔壁３がある場合、補助隔壁３の上に形成された蛍光体ペースト４は、蛍光体の塗布量によっては補助隔壁３の上部表面から放電セルの方向に流下することがある。

こうなると、放電セルに形成される蛍光体層の形成が不均一になり、その結果、放電時にＰＤＰの輝度が低下するという問題につながる。

本発明は上記の問題点を解決するためのもので、その目的は、放電セル内に蛍光体を均一に塗布することによって、輝度の低下を防止できるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供することにある。

上記目的を達成するための本発明は、基板上部に所定の間隔に形成される複数個の隔壁と、隣り合う隔壁間で基板の上部に形成される補助隔壁と、補助隔壁の上部に、所定深さで形成される少なくとも一つの溝と、を備えてなることができる。

ここで、補助隔壁は、隔壁の長さ方向に対して垂直な方向に形成され、隔壁の両端領域から中心方向に所定距離移動した領域に位置することができる。

そして、補助隔壁の上部面の高さは、隔壁の上部面よりも低く形成され、溝の側面は、溝の底面に対して垂直であるか、溝の底面に対して所定角度傾斜して形成される。

溝の底面は、平坦面であっても良く、少なくとも一つのサブ溝を持つ凹凸形態であっても良い。

なお、溝は、周りの一部が外部に露出された開放構造にすることができ、開放構造の溝において外部に露出された領域には、隔壁の側面が位置することができる。

本発明に係るプラズマディスプレイパネルは、基板上部に所定の間隔に形成される複数の隔壁と、基板上部の非放電領域に形成される補助隔壁と、補助隔壁上部に所定深さに形成される少なくとも一つの溝と、を備えて構成されることができる。

ここで、隔壁は、相異なる蛍光体領域を区画し、補助隔壁内には蛍光体が形成されることができる。

なお、補助隔壁は、隔壁よりも高さが低く、補助隔壁の幅は、隔壁よりも大きく形成されても良い。

補助隔壁は、隔壁の長さ方向に対して少なくともいずれか一端領域に位置しても良い。

本発明に係るプラズマディスプレイパネル製造方法は、電極が形成された基板の上部に、所定の間隔に複数個の隔壁を形成する段階と、隣り合う隔壁間における基板の上部に補助隔壁を形成する段階と、補助隔壁の上部に所定深さの溝を形成する段階と、を含んでなることができる。

ここで、溝を形成する段階は、補助隔壁の上部面の周縁領域に所定高さの溝形成用ペーストを形成する段階と、溝形成用ペーストを乾燥させて補助隔壁の上部に溝を形成する段階と、を含んでなることができる。

そして、溝を形成する段階は、補助隔壁の上部に、所定パターンを持つマスクを形成する段階と、マスクのパターンに沿って補助隔壁の一部上部面を所定深さにエッチングして溝を形成する段階と、を含んでなっても良い。

本発明のプラズマディスプレイパネルによれば、溝を持つ補助隔壁を形成し、この溝に、不均一な蛍光体ペーストの初期塗布量を貯蔵させるため、放電セル内に均一に蛍光体ペーストを塗布することが可能になる。

以下、本発明に係るプラズマディスプレイパネル及びその製造方法の好適な実施例について、添付の図面を参照しつつ詳細に説明する。

本発明の概念は、補助隔壁の上部面に溝を形成することによって、蛍光体ペースト塗布時に、蛍光体ペーストの不均一な初期排出量を当該溝に貯蔵し、蛍光体ペーストを放電セル内に均一に塗布することである。

図３Ａ及び図３Ｂは、本発明第１実施例によるプラズマディスプレイの隔壁及び補助隔壁を示す図であり、図４は、本発明に第２実施例によるプラズマディスプレイの隔壁及び補助隔壁を示す図である。

図３Ａ乃至び図４に示すように、背面ガラス基板３２の上部に所定の間隔に複数個の隔壁３１が形成される。

なお、隣り合う隔壁３１間の背面ガラス基板３２の上部に、補助隔壁３３が形成され、補助隔壁３３の上部に所定深さを持つ、少なくとも一つの溝３４が形成される。

ここで、補助隔壁３３は、隔壁３１の長さ方向に対して垂直な方向に形成され、隔壁３１の両端領域から中心方向に所定距離移動した領域に位置する。

この場合、隔壁３１の両端領域から中心方向への所定距離は、約０．５ｍｍ以上とすることが好ましい。

そして、補助隔壁３３の上部面の高さは、隔壁３１の上部面よりも低く形成され、補助隔壁３３と隔壁３１との高さ差は、約２〜３０ｕｍが好ましく、補助隔壁３３の上部幅は、約０．０２〜１０ｍｍとすれば良い。

また、溝３４の側面は、溝の底面に対して垂直に形成されても良く、溝３４の底面に対して所定角度傾斜して形成されても良い。

そして、溝３４の底面は、平坦な面にしても良く、少なくとも一つのサブ溝を持つ凹凸形態の面にしても良い。

さらに、補助隔壁３３において、溝３４は、図３Ａに示すように、周りの一部が外部に露出された開放構造にしても良く、図４に示すように、溝３４の周りが閉じている構造にしても良い。

図３Ａのように溝３４が開いている構造では、外部に露出された周り領域に隔壁３１の側面が位置することが好ましい。

溝３４の深さは、溝３４の上部面から約１〜９０ｕｍとすれば良い。

補助隔壁３３の溝３４は、蛍光体ペーストの初期塗布量を貯蔵し、蛍光体ペーストの塗布量を均一にする役割を担う。

要するに、本発明によるプラズマディスプレイ用隔壁構造は、背面ガラス基板３２の縁部に補助隔壁３３が位置し、補助隔壁３３の上部面に溝３４が形成された構造である。

溝３４は、垂直方向にＵ字またはＶ字の形状を有し、かつ、所定深さを有するように構成される。

すなわち、本発明は、背面ガラス基板３２の縁部に位置する補助隔壁３３の上部面に溝３４を形成し、該溝３４内に蛍光体ペーストの初期塗布量を貯蔵することによって、補助隔壁３３の外部に蛍光体ペーストが流下する現象を防止することができる。

なお、図３Ａのように開放構造の溝を持つ補助隔壁３３においても、開放部分を隔壁３１が塞いでいるため、蛍光体ペーストが溝に貯留され、よって、補助隔壁３３の外部に流出されるのが防止される。

このとき、補助隔壁３３に形成された溝３４の容積は、蛍光体ペーストを貯蔵することが可能な最小体積であり、蛍光体ペーストの粘性によって蛍光体ペーストの貯蔵度合は変わる。

このように背面ガラス基板３２の縁部に、溝を持つ補助隔壁３３を形成すると、蛍光体ペースト塗布開始段階で発生する蛍光体ペースト塗布量の不均一性を防止することが可能になる。

前記の構成についてより詳細に説明すると、背面ガラス基板３２の縁部には補助隔壁３３が配置され、該補助隔壁３３は、蛍光体ペーストを噴射するディスペンサと背面ガラス基板３２との高さ差を減らすことによって、蛍光体ペーストの初期塗布時に不均一に塗布される塗布量を所定レベル以下に下げる役割を果たす。

この場合、補助隔壁３３の上部面に形成された溝３４は所定容積を有し、蛍光体ペーストの初期塗布量を貯蔵するようになる。

すなわち、ディスペンサは、蛍光体ペーストを、隔壁３１と隔壁３１間の放電セル内に均一な厚さに塗布しなければならない。

しかしながら、蛍光体ペーストの初期塗布量は一定でなく、よって、本発明は、これを解決するために、まず、補助隔壁３３を形成することで、ディスペンサのノズル部分と基板間の距離に起因する塗布レベルの不規則性を最小限に抑え、補助隔壁３３に溝３４を形成することで、不規則に流出される蛍光体ペーストの初期塗布量を、溝３４内に貯蔵する。

続いて、ディスペンサを放電セル方向（本実施形態では、隔壁３１の延在方向）に移動させ、放電セル内に蛍光体ペーストを均一に塗布できる。

一方、補助隔壁３３の溝３４は、ディスペンサのノズルから蛍光体ペースト塗布が始まる位置に配置されることが好ましい。

また、補助隔壁３３の溝３４は、一側が開いた構造、または、閉じた構造を有し、溝３４の形態は平面上、一字、十字、格子など様々にすることができる。

溝３４は、蛍光体ペーストを所定量貯蔵しながら気泡を発生しないように、溝３４の平面上の形状を定め、該形状に対応する深さを持つように形成する。

ディスペンサ（図示せず）は、背面ガラス基板３２の縁部間を往復しながら隔壁３１間の放電セル内に蛍光体ペーストを塗布する。

ディスペンサの蛍光体ペースト塗布初期の塗布量は一定でないため、蛍光体ペーストの塗布が始まる背面ガラス基板３２の縁部に、上部面に溝３４を持つ補助隔壁３３が形成されなければならない。

すなわち、ディスペンサの塗布経路に応じて、背面ガラス基板３２縁部の上部面に、溝３４を有する補助隔壁３３を配置する。例えば、隔壁３１の塗布開始側として隔壁３１の片側端部の近傍のみに補助隔壁３３を配置しても良い。また、隔壁３１の両側端部の近傍に補助隔壁３３を配置しても良い。この場合、隔壁３１の何れの端部側からも塗布を開始することが可能である。

本発明の実施例によるプラズマディスプレイ製造方法を説明すると、下記の通りである。

まず、背面ガラス基板３２のアドレス電極に沿って所定の間隔に多数の隔壁３１を形成し、隣り合う隔壁３１間に補助隔壁３３の土台部分を形成する。

隔壁３１及び補助隔壁３３は、例えば感光性法で形成することができる。感光性法による形成では、まず、感光性ペーストを所定の高さで基板（背面ガラス基板３２）上に形成し、露光及び現像工程により隔壁３１及び補助隔壁３３に対応するパターンに加工する。このとき、隔壁３１及び補助隔壁３３の高さは同一である。続いて、補助隔壁３１に対応する領域をエッチングして、隔壁３１よりも高さが低い補助隔壁３１の土台部分を形成する。

なお、隔壁３１及び補助隔壁３３の形成には、感光性法の他にも、ラミネーション(laminating)法、サンドブラスト法、スクリーンプリンティング法などを用いることができる。

続いて、補助隔壁３３の上部面の周縁領域に、所定高さの溝形成用の感光性ペーストを塗布及び乾燥することで、補助隔壁３３の土台部分の上部に溝３４を形成する。すなわち、補助隔壁３３の土台部分の上に、溝３４となる領域の膜厚が他の領域よりも小さくなるように感光性ペーストを塗布し、乾燥させる。

ここで、溝形成用ペーストは、図３Ａに示すように、補助隔壁３３の上部面の一部周縁領域にのみ形成され、開放構造の溝を形成しても良く、図４に示すように、補助隔壁３３上部面の周縁領域全体に亘って形成され、閉じた構造の溝を形成しても良い。

また、溝形成用感光性ペーストは、無機微粒子や有機成分を所定の組成にして調製し、ローラや混練機で均質混合した後、溝形成に使用される。

こうして形成された溝３４は、蛍光体ペーストの初期塗布量を貯蔵し、補助隔壁３３の外部に蛍光体ペーストが流れる現象を防止する。

一方、他の実施例として、背面ガラス基板３２のアドレス電極に沿って所定の間隔に多数の隔壁３１を形成し、隣り合う隔壁３１間に補助隔壁３３を形成する。

続いて、補助隔壁３３の上部に所定パターンを持つマスクを形成し、マスクのパターンに沿って補助隔壁３３の上部面のうち一部分を所定深さにエッチングして溝を形成する。

要するに、本発明によるプラズマディスプレイパネルは、溝形成用感光性ペーストを用いて補助隔壁の上部に所望のパターンの溝を形成しても良く、マスクパターンを用いて補助隔壁をエッチングすることによって、所望のパターンの溝を形成しても良い。

以上説明した内容に基づき、当業者なら本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で種々の変更及び修正が可能であることは明らかである。

したがって、本発明の技術的範囲は、実施例に記載された内容に限定されてはいけなく、特許請求の範囲によって定めなければならない。

一般のプラズマディスプレイの隔壁及び補助隔壁を示す図である。 図１の補助隔壁の役割を説明するための図である。 本発明の第１実施例によるプラズマディスプレイの隔壁及び補助隔壁を示す図（斜視図）である。 本発明の第１実施例によるプラズマディスプレイの隔壁及び補助隔壁を示す図（断面図）である。 本発明の第２実施例によるプラズマディスプレイの隔壁及び補助隔壁を示す図である。

符号の説明

３１ 隔壁
３２ 背面ガラス基板
３３ 補助隔壁
３４ 溝

Claims (24)

1. 基板上部に所定の間隔に形成される複数個の隔壁と、
   前記隣り合う隔壁間で前記基板の上部に形成される補助隔壁と、
   前記補助隔壁の上部に、所定深さで形成される少なくとも一つの溝と、
   を備えてなることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
2. 前記補助隔壁は、前記隔壁の長さ方向に対して垂直な方向に形成され、前記隔壁の両端領域から中心方向に所定距離移動した領域に位置することを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
3. 前記所定距離は、０．５ｍｍ以上であることを特徴とする、請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
4. 前記補助隔壁の上部面の高さは、前記隔壁の上部面よりも低いことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
5. 前記補助隔壁と前記隔壁との高さ差は、２〜３０ｕｍであることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
6. 前記溝の側面は、溝の底面に対して垂直であることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
7. 前記溝の側面は、溝の底面に対して所定角度傾斜していることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
8. 前記溝の底面は、平坦面であることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
9. 前記溝の底面は、少なくとも一つのサブ溝を持つ凹凸形態であることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
10. 前記溝は、周りの一部が外部に露出された開放構造であることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
11. 前記開放構造の溝において外部に露出された領域には、前記隔壁の側面が位置することを特徴とする、請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネル。
12. 前記溝の深さは、前記溝の上部面から１〜９０ｕｍであることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
13. 前記溝は、蛍光体ペーストの塗布量を均一にするために、前記蛍光体ペーストの初期塗布量を貯蔵することを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
14. 基板上部に所定の間隔に形成される複数の隔壁と、
    前記基板上部の非放電領域に形成される補助隔壁と、
    前記補助隔壁上部に所定深さに形成される少なくとも一つの溝と、
    を備えて構成されることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
15. 前記隔壁は、相異なる蛍光体領域を区画することを特徴とする、請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネル。
16. 前記補助隔壁内には蛍光体が形成されることを特徴とする、請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネル。
17. 前記補助隔壁は、前記隔壁よりも高さが低いことを特徴とする、請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネル。
18. 前記補助隔壁の幅は、前記隔壁よりも大きいことを特徴とする、請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネル。
19. 前記補助隔壁は、前記隔壁の長さ方向に対して少なくともいずれか一端領域に位置することを特徴とする、請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネル。
20. 電極が形成された基板の上部に、所定の間隔に複数個の隔壁を形成する段階と、
    前記隣り合う隔壁間における前記基板の上部に補助隔壁を形成する段階と、
    前記補助隔壁の上部に所定深さの溝を形成する段階と、
    を含んでなることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル製造方法。
21. 前記溝を形成する段階は、
    前記補助隔壁の上部面の周縁領域に所定高さの溝形成用ペーストを形成する段階と、
    前記溝形成用ペーストを乾燥させて前記補助隔壁の上部に溝を形成する段階と、
    を含んでなることを特徴とする、請求項２０に記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。
22. 前記溝形成用ペーストは、前記補助隔壁の上部面の周縁領域全体に亘って形成され、閉じた構造の溝を形成することを特徴とする、請求項２１に記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。
23. 前記溝形成用ペーストは、前記補助隔壁の上部面の周縁領域の一部に形成され、開放構造の溝を形成することを特徴とする、請求項２２に記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。
24. 前記溝を形成する段階は、
    前記補助隔壁の上部に、所定パターンを持つマスクを形成する段階と、
    前記マスクのパターンに沿って前記補助隔壁の一部上部面を所定深さにエッチングして溝を形成する段階と、
    を含んでなることを特徴とする、請求項２０に記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。

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