JP2007095786A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007095786A5 JP2007095786A5 JP2005280052A JP2005280052A JP2007095786A5 JP 2007095786 A5 JP2007095786 A5 JP 2007095786A5 JP 2005280052 A JP2005280052 A JP 2005280052A JP 2005280052 A JP2005280052 A JP 2005280052A JP 2007095786 A5 JP2007095786 A5 JP 2007095786A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound semiconductor
- group iii
- nitride compound
- iii nitride
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- -1 nitride compound Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 8
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
Description
請求項1に係る発明は、サファイア基板と、その上に形成されたバッファ層と、ドナーをドープされたIII族窒化物系化合物半導体から成り、n電極が形成されたn型層とを有するIII族窒化物系化合物半導体発光素子において、バッファ層はスパッタリングにより形成されたAlN層であり、バッファ層とn型層との間に、アクセプタをドープされたIII族窒化物系化合物半導体層を有することを特徴とするIII族窒化物系化合物半導体発光素子である。
Claims (1)
- サファイア基板と、その上に形成されたバッファ層と、ドナーをドープされたIII族窒化物系化合物半導体から成り、n電極が形成されたn型層とを有するIII族窒化物系化合物半導体発光素子において、
前記バッファ層はスパッタリングにより形成されたAlN層であり、
前記バッファ層と前記n型層との間に、アクセプタをドープされたIII族窒化物系化合物半導体層を有することを特徴とするIII族窒化物系化合物半導体発光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005280052A JP2007095786A (ja) | 2005-09-27 | 2005-09-27 | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005280052A JP2007095786A (ja) | 2005-09-27 | 2005-09-27 | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007095786A JP2007095786A (ja) | 2007-04-12 |
JP2007095786A5 true JP2007095786A5 (ja) | 2008-01-31 |
Family
ID=37981156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005280052A Withdrawn JP2007095786A (ja) | 2005-09-27 | 2005-09-27 | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007095786A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8569794B2 (en) | 2008-03-13 | 2013-10-29 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Group III nitride semiconductor device and method for manufacturing the same, group III nitride semiconductor light-emitting device and method for manufacturing the same, and lamp |
JP2009283785A (ja) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物半導体積層構造体およびその製造方法 |
JP5346200B2 (ja) * | 2008-11-14 | 2013-11-20 | スタンレー電気株式会社 | ZnO系半導体層とその製造方法、ZnO系半導体発光素子、及びZnO系半導体素子 |
JP2009283895A (ja) * | 2008-12-15 | 2009-12-03 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物半導体積層構造体 |
JP5304605B2 (ja) * | 2009-11-13 | 2013-10-02 | 豊田合成株式会社 | 半導体発光素子の製造方法およびランプ、電子機器、機械装置 |
JP6146455B2 (ja) * | 2015-03-24 | 2017-06-14 | 日亜化学工業株式会社 | 発光素子の製造方法 |
CN109256443B (zh) * | 2018-09-03 | 2020-05-29 | 淮安澳洋顺昌光电技术有限公司 | 一种利用溅射GaN衬底的外延生长的半导体发光二极管及制备方法 |
-
2005
- 2005-09-27 JP JP2005280052A patent/JP2007095786A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008218746A5 (ja) | ||
JP2011160007A5 (ja) | ||
JP2007095786A5 (ja) | ||
JP2010531058A5 (ja) | ||
WO2008153130A1 (ja) | 窒化物半導体発光素子及び窒化物半導体の製造方法 | |
EP2775541A3 (en) | Luminescent ceramic for a light emitting device | |
TW200742126A (en) | Semiconductor light emitting device and its manufacturing method | |
WO2005020337A8 (ja) | 発光装置 | |
TW200635084A (en) | Light emitting device | |
EP2045889A3 (en) | Nitride semiconductor light-emitting device | |
TW200717863A (en) | Gallium nitride-based compound semiconductor light-emitting device | |
TW200739949A (en) | Gallium nitride type compound semiconductor light-emitting device and process for producing the same | |
TW200618355A (en) | Semiconductor light-emitting device and its manufacturing method | |
JP2007281257A5 (ja) | ||
WO2004075307A3 (en) | Group iii nitride contact structures for light emitting devices | |
EP1734590A3 (en) | Light-Emitting device | |
TW200746455A (en) | Group III nitride semiconductor light-emitting device | |
WO2009002129A3 (en) | Semiconductor light emitting device and method of manufacturing the same | |
JP2008277447A5 (ja) | ||
JP2007234918A5 (ja) | ||
ATE499709T1 (de) | Lichtemittierendes halbleiterbauelement | |
TW200614534A (en) | Structure of gallium-nitride based (GaN-based) light-emitting diode with high luminance | |
WO2008084834A1 (ja) | GaN系半導体発光素子 | |
JP2005123501A5 (ja) | ||
JP2007273446A5 (ja) |