JP2007092108A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007092108A5 JP2007092108A5 JP2005281116A JP2005281116A JP2007092108A5 JP 2007092108 A5 JP2007092108 A5 JP 2007092108A5 JP 2005281116 A JP2005281116 A JP 2005281116A JP 2005281116 A JP2005281116 A JP 2005281116A JP 2007092108 A5 JP2007092108 A5 JP 2007092108A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- voltage
- pulse
- thin film
- discharge plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005281116A JP4646763B2 (ja) | 2005-09-28 | 2005-09-28 | 機能性薄膜の形成方法及び機能性薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005281116A JP4646763B2 (ja) | 2005-09-28 | 2005-09-28 | 機能性薄膜の形成方法及び機能性薄膜形成装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007092108A JP2007092108A (ja) | 2007-04-12 |
JP2007092108A5 true JP2007092108A5 (zh) | 2010-12-16 |
JP4646763B2 JP4646763B2 (ja) | 2011-03-09 |
Family
ID=37978158
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005281116A Active JP4646763B2 (ja) | 2005-09-28 | 2005-09-28 | 機能性薄膜の形成方法及び機能性薄膜形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4646763B2 (zh) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5741891B2 (ja) * | 2009-06-19 | 2015-07-01 | 株式会社ジェイテクト | Dlc膜形成方法 |
JP5817646B2 (ja) * | 2012-05-29 | 2015-11-18 | 株式会社島津製作所 | サンプルホルダ |
FR3004465B1 (fr) * | 2013-04-11 | 2015-05-08 | Ion Beam Services | Machine d'implantation ionique presentant une productivite accrue |
JP2015086406A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 日本軽金属株式会社 | 導電性保護被膜を有する部材及びその製造方法 |
JP6223875B2 (ja) * | 2014-03-14 | 2017-11-01 | 三井造船株式会社 | 皮膜形成装置、皮膜形成方法、及び皮膜付筒部材 |
JP6234860B2 (ja) | 2014-03-25 | 2017-11-22 | 株式会社Screenホールディングス | 成膜装置および成膜方法 |
JP6544762B2 (ja) * | 2014-09-19 | 2019-07-17 | 株式会社プラズマイオンアシスト | プラズマ処理装置 |
JP6496561B2 (ja) * | 2015-01-29 | 2019-04-03 | 株式会社Screenホールディングス | 成膜装置および成膜方法 |
CN106498362B (zh) * | 2016-11-23 | 2019-05-14 | 重庆理工大学 | 在钛合金表面制备减摩抗磨f-dlc薄膜的方法 |
KR102108261B1 (ko) * | 2018-12-21 | 2020-05-11 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3424182B2 (ja) * | 1994-09-13 | 2003-07-07 | アネルバ株式会社 | 表面処理装置 |
JP4150789B2 (ja) * | 2003-01-14 | 2008-09-17 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 非晶質窒化炭素膜及びその製造方法 |
JP2005023332A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Plasma Ion Assist Co Ltd | 微細溝内薄膜形成方法 |
JP2005126257A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Plasma Ion Assist Co Ltd | カーボンナノチューブの製造方法 |
-
2005
- 2005-09-28 JP JP2005281116A patent/JP4646763B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007092108A5 (zh) | ||
JP4646763B2 (ja) | 機能性薄膜の形成方法及び機能性薄膜形成装置 | |
US6849857B2 (en) | Beam processing apparatus | |
JP3912993B2 (ja) | 中性粒子ビーム処理装置 | |
US6949735B1 (en) | Beam source | |
JP2019526169A (ja) | 材料改質とrfパルスを用いた選択的エッチング | |
US20130220549A1 (en) | Using positive dc offset of bias rf to neutralize charge build-up of etch features | |
TW201505066A (zh) | 直流脈衝蝕刻機 | |
US20080317965A1 (en) | Plasma processing apparatus and method | |
US20120302065A1 (en) | Pulse-plasma etching method and pulse-plasma etching apparatus | |
CN114207785A (zh) | 用于处理基板的方法与设备 | |
TWI259037B (en) | Neutral particle beam processing apparatus | |
JP2000068227A (ja) | 表面処理方法および装置 | |
JP2010157483A (ja) | プラズマ発生装置 | |
CN113035677B (zh) | 等离子体处理设备以及等离子体处理方法 | |
JPH05243160A (ja) | 半導体デバイス製造用プラズマcvd装置 | |
JPS61238981A (ja) | 高周波エツチングの均一化方法 | |
CN109767967B (zh) | 基板处理方法和基板处理装置 | |
KR100576194B1 (ko) | 대출력 펄스 rf 플라즈마를 이용한 매몰 절연막제조장치 및 제조방법 | |
JPH07193049A (ja) | エッチング装置及びエッチング方法 | |
US20080087539A1 (en) | Apparatus and Method for Materials Processing with Ion-Ion Plasma | |
KR101081352B1 (ko) | 플라즈마 도핑장치 및 방법 | |
KR101081350B1 (ko) | 플라즈마 도핑장치 | |
JPH0992199A (ja) | イオンビーム発生方法およびその装置 | |
CN116631836A (zh) | 一种射频直流独立驱动的双腔室等离子体源 |