JP2007092037A5 - - Google Patents
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Description
即ち、本発明は、一般式(1)で表される化合物を有する液晶シール剤を提供する。
本発明により、水蒸気バリア性と、接着性(特に、接着性6MPa以上)を両立させた液晶シール剤を提供することができる。
(光重合開始剤)
本発明の液晶シール剤は、必要に応じて慣用の光重合開始剤や光増感剤を使用することができる。光重合開始剤の代表的なものとしては、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン等のアセトフェノン系化合物;ベンゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン系化合物;2,4,6−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド系化合物;ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル−4−フェニルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;2,4−ジメチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物;4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系化合物;ポリエーテル系マレイミドカルボン酸エステル化合物などが挙げられ、これらは併用して使用することもできる。光増感剤としては、例えば、トリエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル等のアミン類が挙げられる。
光重合開始剤は、硬化性成分全量に対して、0.1〜15質量%、好ましくは0.1〜8質量%使用する。0.1質量%未満では、光重合開始剤の効果が得られにくく、8質量%を超えると、接着性が低下したり、電圧保持率の著しい低下をもたらす傾向がある。
また、光重合開始能及び重合性能を有するマレイミド化合物を使用すると、電圧保持率の低下の原因となるような、光重合開始剤の光分解物あるいは未反応の光重合開始剤がシール部分に残存することがないのでなお好ましい。この場合、該マレイミド化合物と、光重合開始剤を、電圧保持率などの低下をもたらさない範囲で併用することも勿論できる。
中でも、365nmにおける吸光度が50M−1cm−1以上であるような、長波長に吸収を有する開始剤であると、A1,A2の環状π電子共役構造の光吸収による反応阻害が軽減できるので好ましい。このような開始剤・増感剤としては、例えば、イルガキュア651(吸光係数概算:100)、イルガキュア907(90)、ルシリンTPO(300)、イルガキュア819(600)、イルガキュア784(600)、イルガキュア369(700)、イルガキュアoxe01(2000)、2,4−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン等のチオキサントンおよびその誘導体(4000)などが挙げられる。
本発明の液晶シール剤は、必要に応じて慣用の光重合開始剤や光増感剤を使用することができる。光重合開始剤の代表的なものとしては、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン等のアセトフェノン系化合物;ベンゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン系化合物;2,4,6−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド系化合物;ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル−4−フェニルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;2,4−ジメチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物;4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系化合物;ポリエーテル系マレイミドカルボン酸エステル化合物などが挙げられ、これらは併用して使用することもできる。光増感剤としては、例えば、トリエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル等のアミン類が挙げられる。
光重合開始剤は、硬化性成分全量に対して、0.1〜15質量%、好ましくは0.1〜8質量%使用する。0.1質量%未満では、光重合開始剤の効果が得られにくく、8質量%を超えると、接着性が低下したり、電圧保持率の著しい低下をもたらす傾向がある。
また、光重合開始能及び重合性能を有するマレイミド化合物を使用すると、電圧保持率の低下の原因となるような、光重合開始剤の光分解物あるいは未反応の光重合開始剤がシール部分に残存することがないのでなお好ましい。この場合、該マレイミド化合物と、光重合開始剤を、電圧保持率などの低下をもたらさない範囲で併用することも勿論できる。
中でも、365nmにおける吸光度が50M−1cm−1以上であるような、長波長に吸収を有する開始剤であると、A1,A2の環状π電子共役構造の光吸収による反応阻害が軽減できるので好ましい。このような開始剤・増感剤としては、例えば、イルガキュア651(吸光係数概算:100)、イルガキュア907(90)、ルシリンTPO(300)、イルガキュア819(600)、イルガキュア784(600)、イルガキュア369(700)、イルガキュアoxe01(2000)、2,4−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン等のチオキサントンおよびその誘導体(4000)などが挙げられる。
本発明の液晶シール剤は、光照射によって充分な接着強度を有するが、ブラックマトリックス下などの非露光部を加熱によって硬化させるために、熱ラジカル発生剤を併用することができる。
熱ラジカル発生剤としては、気泡が発生しない有機過酸化物の使用が好ましい。有機過酸化物は汎用に使用されているものが使用でき、例えば、ペルオキシジカーボナート、ペルオキシエステル、ペルオキシケタール、ケトンペルオキシド、ヒドロペルオキシドなど、各種の過酸化物が挙げられる。このような有機過酸化物は1種を用いても2種以上を併用してもよく、また溶媒で希釈したり、粉体に吸着させて用いてもよい。熱ラジカル発生剤は、組成物全量に対して0.1〜10質量%使用することが好ましい。前記割合が0.1質量%未満では、加熱時の硬化が不充分となる傾向があり、10質量%を超えると、電圧保持率を低下させる傾向にある。
本発明の液晶シール剤は、光照射時と、加熱時において、いずれもラジカル重合反応によって硬化することから、光硬化部と熱硬化部の接着性などをほぼ同一にすることができ、光熱併用型シール剤としても好適に用いることができる。光熱併用型シール剤は、光が届かないような細部まで完全に硬化させることができる。この時の熱は、液晶パネルのアニール工程時にかかる熱を利用することができる。既に光硬化させているので、熱によるずれやモノマー成分が液晶に溶解することはなく、電圧保持率の低下の心配はない。
熱ラジカル発生剤としては、気泡が発生しない有機過酸化物の使用が好ましい。有機過酸化物は汎用に使用されているものが使用でき、例えば、ペルオキシジカーボナート、ペルオキシエステル、ペルオキシケタール、ケトンペルオキシド、ヒドロペルオキシドなど、各種の過酸化物が挙げられる。このような有機過酸化物は1種を用いても2種以上を併用してもよく、また溶媒で希釈したり、粉体に吸着させて用いてもよい。熱ラジカル発生剤は、組成物全量に対して0.1〜10質量%使用することが好ましい。前記割合が0.1質量%未満では、加熱時の硬化が不充分となる傾向があり、10質量%を超えると、電圧保持率を低下させる傾向にある。
本発明の液晶シール剤は、光照射時と、加熱時において、いずれもラジカル重合反応によって硬化することから、光硬化部と熱硬化部の接着性などをほぼ同一にすることができ、光熱併用型シール剤としても好適に用いることができる。光熱併用型シール剤は、光が届かないような細部まで完全に硬化させることができる。この時の熱は、液晶パネルのアニール工程時にかかる熱を利用することができる。既に光硬化させているので、熱によるずれやモノマー成分が液晶に溶解することはなく、電圧保持率の低下の心配はない。
(添加剤)
本発明の液晶シール剤には、その他成分として、接着性を向上させるために、公知慣用のシランカップリング剤を混合することもできる。そのようなシランカップリング剤の中でも、重合性基を有するシランカップリング剤は、光硬化の際、前記光重合性モノマーと共重合し、高い接着性を得ることができるため特に好ましい。重合性基を有するシランカップリング剤として、具体的には、ビニルトリクロルシラン(KA−1003、信越化学)、2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(KBM−303、信越化学)、p−スチリルトリメトキシシラン(KBM−1403、信越化学)、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン(KBM−502、信越化学)、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学)、3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−903、信越化学)等が挙げられる。
また、本発明の液晶シール剤には、粘度調整や保存安定性などの目的に応じて、アルミナ、シリカゲル、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウムなどのフィラーや、重合禁止剤等の公知慣用の添加剤を適宜添加することもできる。
本発明の液晶シール剤には、その他成分として、接着性を向上させるために、公知慣用のシランカップリング剤を混合することもできる。そのようなシランカップリング剤の中でも、重合性基を有するシランカップリング剤は、光硬化の際、前記光重合性モノマーと共重合し、高い接着性を得ることができるため特に好ましい。重合性基を有するシランカップリング剤として、具体的には、ビニルトリクロルシラン(KA−1003、信越化学)、2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(KBM−303、信越化学)、p−スチリルトリメトキシシラン(KBM−1403、信越化学)、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン(KBM−502、信越化学)、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学)、3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−903、信越化学)等が挙げられる。
また、本発明の液晶シール剤には、粘度調整や保存安定性などの目的に応じて、アルミナ、シリカゲル、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウムなどのフィラーや、重合禁止剤等の公知慣用の添加剤を適宜添加することもできる。
(粘度)
本発明の液晶シール剤は、調整後の粘度が、10〜1000Pa・sが好ましく、ODF(One Drop Fill:液晶滴下工法)用としては、50〜500Pa・sが好ましい。
本発明の液晶シール剤は、調整後の粘度が、10〜1000Pa・sが好ましく、ODF(One Drop Fill:液晶滴下工法)用としては、50〜500Pa・sが好ましい。
(液晶パネルの製造方法)
本発明の液晶シール剤は、具体的には、液晶パネルを作成するときのメインシール剤として、あるいは、液晶パネルに液晶材料を注入した後、注入口を封止する封止剤として使用するのが有用である。
液晶パネルは、例えば、薄膜トランジスタ、画素電極、配向膜、カラーフィルター、電極等を備えた前面又は背面基板の、どちらか一方の基板面に本発明の液晶シール剤を塗布した後、もう一方の基板を貼りあわせ、該基板の基板面側、または該基板の側面から光を照射して、あるいは基板を加熱して、本発明の液晶シール剤を硬化させる。次に、得られた液晶セルに液晶を注入後、封止剤で注入口を封止することによって、液晶パネルを作成することができる。
また、液晶パネルは、前記どちらか一方の基板面の外縁部に、額縁状に本発明の液晶シール剤を塗布し、この中に液晶を滴下した後、真空下で、もう一方の基板を貼り合わせてから光および熱硬化させる、いわゆるODF法によっても作成することができる。
本発明の液晶シール剤を基板面に塗布するには、ディスペンサーを使用するか、あるいはスクリーン印刷法を用いればよい。その場合、線幅0.08〜0.4mm、線高さ5〜50μmに塗布するのが、一般的である。
本発明の液晶シール剤を硬化させる為に使用する光は、紫外線又は可視光線が好ましく、中でも、300〜450nmの波長の光が好ましい。光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を使用することができる。該光源の照度は、20mW/cm2以上であると、硬化が速く好ましい。照射する光量は、積算光量に換算して500mJ/cm2以上であれば良好に硬化させることができる。また、本発明の液晶シール剤は、空気雰囲気下においても良好な光硬化性を示すが、窒素などの不活性ガス雰囲気下で光硬化させると、少ない積算光量で硬化させることができるので、より好ましい。
また、熱ラジカル発生剤を併用させた場合は、80〜130℃の加熱を20分〜2時間おこなうことが好ましい。特に、ODF法(液晶滴下工法)においては、光照射後に硬化不十分な箇所をさらに硬化させるために用いることができる。この加熱は、液晶パネルのアニール工程時の熱を同時に適用すると、生産プロセスが短縮でき、好ましい。
本発明の液晶シール剤は、具体的には、液晶パネルを作成するときのメインシール剤として、あるいは、液晶パネルに液晶材料を注入した後、注入口を封止する封止剤として使用するのが有用である。
液晶パネルは、例えば、薄膜トランジスタ、画素電極、配向膜、カラーフィルター、電極等を備えた前面又は背面基板の、どちらか一方の基板面に本発明の液晶シール剤を塗布した後、もう一方の基板を貼りあわせ、該基板の基板面側、または該基板の側面から光を照射して、あるいは基板を加熱して、本発明の液晶シール剤を硬化させる。次に、得られた液晶セルに液晶を注入後、封止剤で注入口を封止することによって、液晶パネルを作成することができる。
また、液晶パネルは、前記どちらか一方の基板面の外縁部に、額縁状に本発明の液晶シール剤を塗布し、この中に液晶を滴下した後、真空下で、もう一方の基板を貼り合わせてから光および熱硬化させる、いわゆるODF法によっても作成することができる。
本発明の液晶シール剤を基板面に塗布するには、ディスペンサーを使用するか、あるいはスクリーン印刷法を用いればよい。その場合、線幅0.08〜0.4mm、線高さ5〜50μmに塗布するのが、一般的である。
本発明の液晶シール剤を硬化させる為に使用する光は、紫外線又は可視光線が好ましく、中でも、300〜450nmの波長の光が好ましい。光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を使用することができる。該光源の照度は、20mW/cm2以上であると、硬化が速く好ましい。照射する光量は、積算光量に換算して500mJ/cm2以上であれば良好に硬化させることができる。また、本発明の液晶シール剤は、空気雰囲気下においても良好な光硬化性を示すが、窒素などの不活性ガス雰囲気下で光硬化させると、少ない積算光量で硬化させることができるので、より好ましい。
また、熱ラジカル発生剤を併用させた場合は、80〜130℃の加熱を20分〜2時間おこなうことが好ましい。特に、ODF法(液晶滴下工法)においては、光照射後に硬化不十分な箇所をさらに硬化させるために用いることができる。この加熱は、液晶パネルのアニール工程時の熱を同時に適用すると、生産プロセスが短縮でき、好ましい。
(Tgの測定)
後述する液晶シール剤をアプリケータにて厚さ約200μmに基板上に塗布し、窒素雰囲気下、高圧水銀灯を使用して250W/m2の紫外線を200秒間照射し、サンプルを得た。得られたサンプルをレオメトリックス社製の粘弾性測定装置「Solid Analyzer RSAII」(周波数 1Hz、5℃/分の速度で昇温)にて測定し、損失弾性率/貯蔵弾性率で表わされるtanδが極大となる温度をTgとした。
後述する液晶シール剤をアプリケータにて厚さ約200μmに基板上に塗布し、窒素雰囲気下、高圧水銀灯を使用して250W/m2の紫外線を200秒間照射し、サンプルを得た。得られたサンプルをレオメトリックス社製の粘弾性測定装置「Solid Analyzer RSAII」(周波数 1Hz、5℃/分の速度で昇温)にて測定し、損失弾性率/貯蔵弾性率で表わされるtanδが極大となる温度をTgとした。
[実施例1]
合成例1により得た化合物(1−28)で表されるモノマー60部、EO変性ビスフェノールFジアクリレート(アロニックスM−208東亞合成)25部、EO変性リン酸ジメタクリレート(P−2M、日本化薬)1部、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート(HOAHH共栄社)10部、ベンジルジメチルケタール(イルガキュア651、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ)2部、2−イソプロピルチオキサントン(ITX、日本シイベルへグナー)0.5部アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製の商品名「KBM5103」)2部、t−ブチルパーオキシベンゾエート(パーブチルZ、日本油脂)2部およびフィラーとしてシリカ3部を80℃で攪拌、脱泡し、液晶シール剤を得た。前記評価方法に従い評価して、その結果を表3に示した。
合成例1により得た化合物(1−28)で表されるモノマー60部、EO変性ビスフェノールFジアクリレート(アロニックスM−208東亞合成)25部、EO変性リン酸ジメタクリレート(P−2M、日本化薬)1部、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート(HOAHH共栄社)10部、ベンジルジメチルケタール(イルガキュア651、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ)2部、2−イソプロピルチオキサントン(ITX、日本シイベルへグナー)0.5部アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製の商品名「KBM5103」)2部、t−ブチルパーオキシベンゾエート(パーブチルZ、日本油脂)2部およびフィラーとしてシリカ3部を80℃で攪拌、脱泡し、液晶シール剤を得た。前記評価方法に従い評価して、その結果を表3に示した。
[実施例2]
合成例2により得た化合物(1−29)で表されるモノマー50部、ECH変性フタル酸ジアクリレート(デナコールアクリレートDA−721、共栄社化学)20部、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート(HOAHH、共栄社化学)15部、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(IRR214、ダイセルUCB)10部、ベンジルジメチルケタール2部、2−イソプロピルチオキサントン(ITX、日本シイベルへグナー)0.5部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン3部、t−ブチルパーオキシベンゾエート(パーブチルZ、日本油脂)2部およびフィラーとしてシリカ3部を80℃で攪拌、脱泡し、液晶シール剤を得た。前記評価方法に従い評価して、その結果を表3に示した。
合成例2により得た化合物(1−29)で表されるモノマー50部、ECH変性フタル酸ジアクリレート(デナコールアクリレートDA−721、共栄社化学)20部、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート(HOAHH、共栄社化学)15部、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(IRR214、ダイセルUCB)10部、ベンジルジメチルケタール2部、2−イソプロピルチオキサントン(ITX、日本シイベルへグナー)0.5部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン3部、t−ブチルパーオキシベンゾエート(パーブチルZ、日本油脂)2部およびフィラーとしてシリカ3部を80℃で攪拌、脱泡し、液晶シール剤を得た。前記評価方法に従い評価して、その結果を表3に示した。
化合物(1)で表わされるマレイミド化合物25部、イソホロン環を有し、かつ、一分子中に3個のアクリロイル基を有するウレタンアクリレート(ダイセルUCB社製 の商品名「EB4866」)22部、トリシクロデカンモノアクリレート(日立化成社製の商品名「FA513A」)35部、2−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタレート(共栄社化学社製の商品名「ライトアクリレートHOAHH」)16部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製の商品名「KBM5103」)2部を、60℃で攪拌・脱泡し、液晶シール剤を得た。前記評価方法に従い評価して、その結果を表3に示した。
[比較例4]
PO4モル変性ビスフェノールAジアクリレート(BP−4PA、共栄社)60部、EO変性ビスフェノールFジアクリレート(アロニックスM−208東亞合成)25部、EO変性リン酸ジメタクリレート(P−2M、日本化薬)1部、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート(HOAHH共栄社)10部、ベンジルジメチルケタール(イルガキュア651、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ)2部、2−イソプロピルチオキサントン(ITX、日本シイベルへグナー)0.5部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製の商品名「KBM5103」)2部、t−ブチルパーオキシベンゾエート(パーブチルZ、日本油脂)2部およびフィラーとしてシリカ8部を80℃で攪拌、脱泡し、液晶シール剤を得た。前記評価方法に従い評価して、その結果を表3に示した。
PO4モル変性ビスフェノールAジアクリレート(BP−4PA、共栄社)60部、EO変性ビスフェノールFジアクリレート(アロニックスM−208東亞合成)25部、EO変性リン酸ジメタクリレート(P−2M、日本化薬)1部、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート(HOAHH共栄社)10部、ベンジルジメチルケタール(イルガキュア651、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ)2部、2−イソプロピルチオキサントン(ITX、日本シイベルへグナー)0.5部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製の商品名「KBM5103」)2部、t−ブチルパーオキシベンゾエート(パーブチルZ、日本油脂)2部およびフィラーとしてシリカ8部を80℃で攪拌、脱泡し、液晶シール剤を得た。前記評価方法に従い評価して、その結果を表3に示した。
この結果、実施例1〜10の液晶シール剤は、全て接着力が6MPa以上であり、且つ透湿度が10g/m2 day以下であり、高い接着力と耐湿性とを兼ね備えていた。一方、比較例1は、一般式(1)におけるA1及びA2が環状π電子共役構造を有しない例であるが、これは耐湿性が悪かった。比較例2はB1が炭素原子数8の脂肪族炭化水素基の例であるが、これも耐湿性が悪かった。比較例3は脂環式構造を有するマレイミド化合物を使用した例であるが、耐湿性に優れるが接着性が悪かった。比較例4はシール剤として汎用に使用されるビスフェノールAジアクリレートを使用した例であるが、耐湿性が悪かった。
Claims (7)
- 一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする、液晶シール剤。
Y1及びY2は各々独立して、一般式(4)で表される2価の基であり、
B1は、(i)2価の脂環式炭化水素基、(ii)2価の芳香族炭化水素基、(iii)2価の複素環基、(iv)炭素原子数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基、又は、(v)2価の脂環式炭化水素基、2価の芳香族炭化水素基、2価の複素環基、炭素原子数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基、カルボニル基、エーテル基、チオエーテル基、及びSO2基からなる群から選ばれる少なくとも2つ以上が連結した2価の基を表す。) - 前記一般式(1)において、A1及びA2は各々独立して、2〜4の環からなる縮合環構造の一価の基(但し、縮合環を形成する環は、芳香環、複素環、または炭素原子数3〜10の脂環である。)、又は一般式(3)で表される基であり、
B1は、2価の炭素原子数3〜10の脂環式炭化水素基、炭素原子数6〜20の2価の芳香族炭化水素基、炭素原子数1〜6のアルキレン基、又は−b1−b2−b3−で表される構造(但しb1及びb3は、炭素原子数3〜10の2価の脂環式炭化水素基、又は炭素原子数6〜12の2価の芳香族炭化水素基を表し、b2は単結合、炭素原子数1〜6のアルキレン基、又はSO2基を表す。)である、請求項1に記載の液晶シール剤。 - 前記一般式(1)において、
A1及びA2は各々独立して、下記構造式A−1〜A−23から選ばれる基であり、
y3に結合する、−y4−y5−y6の構造が、下記構造式y−51〜y−56から選ばれる基であり、
B1は、下記構造式B−1〜B−16から選ばれる基を表す
- 365nmにおける吸光度が50M−1cm−1以上である光重合開始剤を含有する、請求項1〜3のいずれかに記載の液晶シール剤。
- 前記一般式(1)で表される化合物の分子量に対する、A1、A2、及びB1の構造を構成する原子の原子量の和が40質量%以上である、請求項1〜4のいずれかに記載の液晶シール剤。
- 燐酸(メタ)アクリレートを含有する、請求項1〜5のいずれかに記載の液晶シール剤。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の液晶シール剤を使用した液晶パネル。
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