JP2007090261A - セメント製造装置の排ガス処理方法及び処理システム - Google Patents

セメント製造装置の排ガス処理方法及び処理システム Download PDF

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修 山口
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康広 内山
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Abstract

【課題】 セメント製造装置の排ガス中においてダイオキシン類等の残留性有機汚染物質が再合成されるのを抑制し、排ガスを浄化する。
【解決手段】 本発明は、乾燥機1、粉砕機2、プレヒータ3及びロータリーキルン5を備えたセメント製造装置において発生する排ガスを処理するための、セメント製造装置の排ガス処理方法であって、(A)塩素分を含むセメント原料を用いたセメント製造過程において、塩化水素を含む排ガスが発生する工程と、(B)工程(A)において発生した塩化水素を含む排ガスに対し、乾燥機1又は粉砕機2の排ガス上流側の地点において、CaOとCa(OH)から選択された少なくとも1つのカルシウム化合物を投入し、該カルシウム化合物と前記排ガス中の塩化水素との中和生成物である塩化カルシウムを生成させる工程とを含むことを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、セメント製造装置の排ガス中でダイオキシン類等の残留性有機汚染物質が合成されるのを抑制し、排ガスを浄化するための排ガス処理方法及び処理システムに関する。
近年、資源循環の観点から、例えば、都市ごみ、都市ごみの焼却で発生する煤塵(飛灰)や燃え殻(主灰)、下水汚泥、製紙スラッジ、鋳物砂、石炭灰等の廃棄物を、セメント製造の原料として使用したり、廃プラスチック、廃タイヤ等の可燃性廃棄物を燃料として使用したりする機会が増えている。
この可燃性廃棄物は仮焼炉やロータリーキルンにおいて燃焼され、その燃焼時に発生する微量の有機物質成分と塩素成分とが反応して残留性有機汚染物質が排ガス中において若干量生成される。このように排ガス中において僅かに生成された残留性有機汚染物質の多くは、排ガスの下流側に設置された乾燥機や粉砕機(原料ミル)において排ガスの温度の低下に伴い、排ガスに含まれるダストの表面に吸着され、残留性有機汚染物質を吸着したダストは、排気途中に設置された電気集塵機、バグフィルター等によって、排ガスから分離され、捕集される。
したがって、セメントの製造時に発生する残留性有機汚染物質の大部分は、捕集され、系外に放出されることはない。しかしながら、ダストに吸着されなかった僅かな量の残留性有機汚染物質は、排ガスと共に大気中に排出されている。この排出濃度は十分低いものではあるが、更なる低減を図っていくことが望ましい。
このような事情の下、セメント製造装置の排ガス中に含まれるダイオキシン類等の残留性有機汚染物質を分解して、無害化する技術が、種々提案されている。
例えば、都市ごみまたは産業廃棄物の焼却灰を原料の一部に使用してセメントを製造する際に、未分解のダイオキシンを含有するキルンダストを捕集し、捕集されたキルンダストをダイオキシンの沸点以上の温度に加熱し、揮発したダイオキシンを含むガスを、セメント焼成用のロータリーキルンに導入し、セメント焼成時の熱によりダイオキシンを加熱分解する方法が知られている(特許文献1参照)。
また、都市ごみ焼却灰等の原料を焼成してセメントクリンカとする焼成冷却装置と、該焼成冷却装置から発生する排ガスを急冷してダイオキシン類の合成を抑制すると共に、排ガスを無害化する排ガス処理装置と、前記焼成冷却装置から発生するダストを捕集してダスト中のダイオキシン類を加熱分解するダイオキシン分解装置等とを備えたセメント製造装置が知られている(特許文献2参照)。
特開2000−16844号公報 特開平11−246247号公報
しかしながら、上記した特許文献1や特許文献2に記載された従来の技術では、セメント製造装置の排ガス中に含まれるダイオキシン類を加熱分解処理するために、ロータリーキルン等の本来のセメント製造に関わる装置とは別に加熱装置を設置する必要がある。したがって、システムが複雑化し、コスト増大の要因となり、効率的にダイオキシン類を分解処理することが難しいといった問題があった。
本発明は、上記した課題を解決すべくなされたものであり、簡易で低コストの設備を追加するだけで、セメント製造装置の排ガス中においてダイオキシン類等の残留性有機汚染物質が合成されるのを抑制し、排ガスを浄化することのできるセメント製造装置の排ガス処理方法及び処理システムを提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明は、乾燥機、粉砕機、プレヒータ及びロータリーキルンを備えたセメント製造装置において発生する排ガスを処理するための、セメント製造装置の排ガス処理方法であって、(A)塩素分を含むセメント原料を用いたセメント製造過程において、塩化水素を含む排ガスが発生する工程と、(B)工程(A)において発生した塩化水素を含む排ガスに対し、前記乾燥機又は粉砕機の排ガス上流側の地点において、CaOとCa(OH)から選択された少なくとも1つのカルシウム化合物を投入し、該カルシウム化合物と前記排ガス中の塩化水素との中和生成物である塩化カルシウムを生成させる工程とを含むことを特徴とする。
そして、(C)前記乾燥機又は粉砕機の排ガス下流側の地点において、前記排ガスから塩化カルシウムを含むダストを捕集し、該ダストをセメント原料の一部として利用する工程をさらに含んでいてもよい。
また、本発明は、セメント原料を乾燥するための乾燥機と、前記セメント原料を粉砕するための粉砕機と、前記セメント原料を予熱するためのプレヒータと、前記セメント原料からクリンカを焼成するためのロータリーキルンと、セメントの製造過程において発生し、前記プレヒータから排出された排ガスを前記乾燥機又は前記粉砕機を経由して大気中に放出するための排ガス路とを備えたセメント製造装置の排ガス処理システムであって、前記乾燥機又は前記粉砕機の排ガス上流側の地点において、CaOとCa(OH)から選択された少なくとも1つのカルシウム化合物を前記排ガス路内に投入して、前記排ガス中の塩化水素との中和生成物である塩化カルシウムを生成させるためのカルシウム化合物投入手段を備えていることを特徴とする。
本発明によれば、排ガスが乾燥機又は粉砕機に流入する手前で排ガス中にCaOとCa(OH)から選択された少なくとも1つの物質を投入することにより、排ガス中の塩化水素を反応し難い形態に変化させることができるため、残留性有機汚染物質の合成が盛んな乾燥機や粉砕機において残留性有機汚染物質の生成を抑制することができる。したがって、排ガスと共に大気中に排出される残留性有機汚染物質の排出濃度を効率的に低減することができる。
また、乾燥機又は前記粉砕機の排ガス上流側に簡易で低コストのカルシウム化合物投入手段を追加するだけで済むため、システムの単純化、及びコストの低減化を図ることができる。
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態に係るセメント製造装置の排ガス処理方法及び処理システムについて説明する。ここで、図1は本発明の実施の形態に係るセメント製造装置の排ガス処理システムの一例を模式的に示す概略構成図である。
本実施の形態において、セメント製造装置は、例えば、乾燥機1、粉砕機2、プレヒータ3、仮焼炉4、ロータリーキルン5、クリンカクーラ6、仕上げミル7から構成されている。
このような構成の下、先ず、石灰石、粘土、珪石、鉄滓、廃棄物(例えば、都市ごみの焼却で発生する主灰や、鋳物砂等)等のセメント原料は、乾燥機1で乾燥され、その後、図1において矢印付きの実線で示すように、粉砕機(原料ミル)2で粉砕、混合され、さらに必要に応じて石炭灰を添加されて、プレヒータ3に供給される。
このプレヒータ3は、熱交換を行いながらセメント原料を予熱するためのものであり、下から順次設けられた1段目サイクロン3a、2段目サイクロン3b、3段目サイクロン3c、4段目サイクロン3dの4段のサイクロンにより構成されている。なお、プレヒータ3は、5段のサイクロンにより構成されていてもよい。
このようにプレヒータ3に供給されたセメント材料は、プレヒータ3の4段目サイクロン3d及び3段目サイクロン3c内を下方に向かって順次移動しながら予熱され、2段目サイクロン3bから、仮焼炉4内に供給され、さらに加熱された後、1段目サイクロン3aを通って、ロータリーキルン5内に供給される。なお、仮焼炉4は、通常、800〜1000℃程度の温度に保たれているが、必要に応じて設けられるものであり、必須の装置ではない。
次いで、ロータリーキルン5内に供給されたセメント原料は、微粉炭等の燃料を用いたバーナによって、1500℃程度の温度下で焼成されてクリンカとなる。そして、ロータリーキルン5から排出されたクリンカは、クリンカクーラ6で冷却された後、石膏を添加され、仕上げミル7内で微粉砕され、セメントとなる。
一方、仮焼炉4やロータリーキルン5等の高温雰囲気下でセメント原料が加熱された後に発生する排ガスは、図1において矢印付きの破線で示すように、プレヒータ3内を、1段目サイクロン3a、2段目サイクロン3b、3段目サイクロン3c、4段目サイクロン3dの順に上昇して、4段目サイクロン3dに接続されている排ガス路8内に流入する。
この時、各サイクロンの出口における排ガス温度は、最下段のサイクロン3aが820〜870℃、2段目サイクロン3bが730〜790℃、3段目サイクロン3cが590〜650℃、4段目サイクロン3dが370〜440℃程度になる。また、プレヒータ3が5段のサイクロンにより構成されている場合、各サイクロンの出口における排ガス温度は、最下段のサイクロンが810〜870℃、2段目サイクロンが770〜820℃、3段目サイクロンが580〜720℃、4段目サイクロンが440〜490℃、5段目サイクロンが350〜370℃程度になる。
また、この時に発生する排ガス中には、残留性有機汚染物質、塩化水素(HCl)等の酸性ガス、及びダスト等が含まれている。ここで、残留性有機汚染物質(英語名:Persistent Organic Pollutants、略称:POPs)とは、難分解性で環境中に残留し、人間の健康や生態系に悪影響を及ぼす汚染物質のことを言い、例えば、ダイオキシン(DXNs)、ポリ塩化ビフェニル(PCB)、ヘキサクロロベンゼン(HCB)等が挙げられる。そして、この残留性有機汚染物質は、高温雰囲気下で分解されるが、300〜400℃において合成されることが知られている。
次いで、プレヒータ3から排ガス路8内に流入した排ガスは、廃熱ボイラ9に流入する手前に設けられたカルシウム化合物投入口13において、CaOとCa(OH)から選択された少なくとも1つのカルシウム化合物を投入される。この場合、CaO又はCa(OH)の投入方法としては、全乾式又は半乾式の方法が考えられる。全乾式は、CaO又はCa(OH)を乾燥固体の形態で投入する方法であり、カルシウム化合物を投入するための設備が簡易であり、設備費を低減できると共に、投入設備の取扱いや保守管理(メンテナンス)が容易であるという利点を有している。一方、半乾式は、CaO又はCa(OH)をスラリーの形態で投入する方法であり、スラリー中の水分が、排ガスの熱によって突沸して蒸発するため、多孔質の粒子が生じ、排ガス中の塩化水素との反応の効率が高いという利点を有している。
上記したようにカルシウム化合物投入口13から排ガス路8内に投入されたCaO又はCa(OH)は、排ガス中の塩化水素と次のように反応して、塩化カルシウム等を生成する。
CaO+2HCl → CaCl+H
Ca(OH)+2HCl → CaCl+2H
このように、塩化水素が中和されて、固体分である塩化カルシウムになることによって、排ガス中の塩化水素の量が低減し、その結果、カルシウム化合物投入口13の排ガス下流側の領域において、ダイオキシン類等の残留性有機汚染物質の生成が抑制される。
なお、CaO又はCa(OH)の投入量は、排ガス中の塩化水素の量に応じて適宜定めればよく、具体的には、排ガス中の塩化水素1当量当たりのCaO又はCa(OH)の投入量を、1.0〜10当量とするのがよい。これは、CaO又はCa(OH)の投入量が1.0当量未満では、CaO又はCa(OH)の投入後に排ガス中に残る未反応の塩化水素の量が多くなり、排ガスの浄化を十分に達成することができなくなり、また、この投入量が10当量を超えると、効果が変わらず量ばかり増え、反応せずに残るCaO又はCa(OH)の量が多くなり、不経済になるからである。
そして、排ガスは、このような反応をしながら、廃熱ボイラ9において熱を回収された後、風車10により粉砕機2又は乾燥機1に送られ、熱源となるために、通常、200〜350℃の温度で粉砕機2又は乾燥機1に流入する。この時、粉砕機2又は乾燥機1内は、残留性有機汚染物質を合成し易い温度になっているが、上記したように、排ガス中の塩化水素は反応し難い形態(塩化カルシウム)に変化しているため、排ガス中における残留性有機汚染物質の生成を抑制することができる。そして、粉砕機2又は乾燥機1に流入した排ガス中の塩化カルシウムは、大部分が粉砕機2で粉砕され、セメント原料となる。
その後、熱源となるために粉砕機2及び乾燥機1を通過した排ガスは、通常、80〜150℃の温度で集塵機11内に流入し、集塵機11では、残存している塩化カルシウムを含むダストが排ガスから捕集される。そして、捕集されたダストはセメント原料の一部として再利用され、ダストを除去された排ガスは、最終的に浄化されて煙突12から大気中へ放出される。
なお、上記した実施の形態において、カルシウム化合物投入口13は、廃熱ボイラ9に流入する手前に設けられているが、これは単なる例示に過ぎず、プレヒータ3の排ガス出口より排ガス下流側であって、粉砕機2又は乾燥機1の排ガス上流側の地点であれば、例えば、廃熱ボイラ9の排ガス下流側等、他の地点に設けられてもよい。但し、排ガス中の塩化水素とCaO又はCa(OH)との反応を促進させるため、カルシウム化合物投入口13は、CaO又はCa(OH)の滞留時間が長くなるような地点に設けられているのが望ましい。
本発明の実施の形態に係るセメント製造装置の排ガス処理システムの一例を模式的に示す概略構成図である。
符号の説明
1 乾燥機
2 粉砕機
3 プレヒータ
5 ロータリーキルン
8 排ガス路
13 カルシウム化合物投入口

Claims (3)

  1. 乾燥機、粉砕機、プレヒータ及びロータリーキルンを備えたセメント製造装置において発生する排ガスを処理するための、セメント製造装置の排ガス処理方法であって、
    (A)塩素分を含むセメント原料を用いたセメント製造過程において、塩化水素を含む排ガスが発生する工程と、
    (B)工程(A)において発生した塩化水素を含む排ガスに対し、前記乾燥機又は粉砕機の排ガス上流側の地点において、CaOとCa(OH)から選択された少なくとも1つのカルシウム化合物を投入し、該カルシウム化合物と前記排ガス中の塩化水素との中和生成物である塩化カルシウムを生成させる工程と、
    を含むことを特徴とするセメント製造装置の排ガス処理方法。
  2. (C)前記乾燥機又は粉砕機の排ガス下流側の地点において、前記排ガスから塩化カルシウムを含むダストを捕集し、該ダストをセメント原料の一部として利用する工程をさらに含む請求項1に記載のセメント製造装置の排ガス処理方法。
  3. セメント原料を乾燥するための乾燥機と、前記セメント原料を粉砕するための粉砕機と、前記セメント原料を予熱するためのプレヒータと、前記セメント原料からクリンカを焼成するためのロータリーキルンと、セメントの製造過程において発生し、前記プレヒータから排出された排ガスを前記乾燥機又は前記粉砕機を経由して大気中に放出するための排ガス路とを備えたセメント製造装置の排ガス処理システムであって、
    前記乾燥機又は前記粉砕機の排ガス上流側の地点において、CaOとCa(OH)から選択された少なくとも1つのカルシウム化合物を前記排ガス路内に投入して、前記排ガス中の塩化水素との中和生成物である塩化カルシウムを生成させるためのカルシウム化合物投入手段を備えていることを特徴とするセメント製造装置の排ガス処理システム。
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