JP2007087011A - Non-contact type ic tag and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、アンテナ、インターポーザ、ブリッジ等の非接触型データキャリア用導電部材を使用して作成される非接触型ICタグとその製造方法に関する。 The present invention relates to a non-contact type IC tag produced using a non-contact type data carrier conductive member such as an antenna, an interposer, and a bridge, and a manufacturing method thereof.
例えば、商品に使用される非接触型ICタグはアンテナ、インターポーザ等の非接触型データキャリア用導電部材を使用して作られる。 For example, a non-contact type IC tag used for a product is manufactured using a non-contact type data carrier conductive member such as an antenna or an interposer.
従来、図11及び図12に示す非接触型ICタグ1は、非接触型データキャリア用導電部材であるアンテナ2と、非接触型データキャリア用導電部材であるインターポーザ3を使用して作成される。アンテナ2は、層構成を有する。すなわち、シート状の基材4には、熱可塑性接着剤層5がアンテナ2のパターンと同じパターンで印刷され、この熱可塑性接着剤層5の上にアンテナ2のパターンで金属箔からなる導電層6が加熱接着される。そして、アンテナ2の端部間は、インターポーザ3により電気的に接続されている。
Conventionally, the non-contact
このインターポーザ3は、ICチップ7の両側の図示しない電極に短冊状の導電性シート8,8をそれぞれ電気的に接続してなる。これらの導電性シート8,8は、基材9上に接着剤層などを介して金属箔及び合金箔からなる導電層10が接着もしくはラミネートされることにより形成されている。
The
そして、図11に示す従来例では、アンテナ2のパターンの面側から絶縁層11を介してインターポーザ3のICチップ7がアンテナ2に対向する向きに実装されている。また、図12に示す従来例では、アンテナ2のパターンの面側から絶縁層11を介してインターポーザ3の基材9がアンテナ2に対向する向きに実装されている。
In the conventional example shown in FIG. 11, the
絶縁層11を形成する第1の手段としては、アンテナ2の表面に絶縁層11を形成する。また、第2の手段としては、アンテナ2のパターンの導電層6表面に絶縁層11を形成する。さらに、第3の手段としては、インターポーザ3表面に絶縁層11を形成する。
As a first means for forming the
なお、非接触型データキャリア用導電部材であるアンテナを形成する方法としては、例えば、特許文献1に開示されたものがある。
上述したように、図11に示すようにアンテナ2にインターポーザ3のICチップ7をアンテナ2に対向する向きに実装する場合には、アンテナ2のパターンと短絡するのを防止するため、樹脂や酸化膜等の絶縁層11を設ける必要がある。
As described above, when the
また、図12に示すようにインターポーザ3の基材9をアンテナ2に対向する向きに実装する場合には、インターポーザ3の基材9がPET(ポリエチレン‐テレフタラート)フィルムであれば、若干絶縁の役割を果たすものの、アンテナ2のパターン上に位置するインターポーザ3のエッジ部分で短絡する可能性があり、信頼性を確保する上では、上記のように絶縁層11を設ける必要がある。
In addition, when the
その結果、製造工程が増えるとともに、絶縁層11をアンテナ2とインターポーザ3との間に正確に位置決めして介在させる必要があり、生産効率が低いという問題がある。
As a result, the number of manufacturing steps is increased, and the
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、アンテナにインターポーザを接合する際に絶縁層を介在させることなく、アンテナのパターンに対してインターポーザを確実に絶縁することができ、生産効率を向上させる非接触型ICタグとその製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and the object of the present invention is to ensure that the interposer is securely attached to the antenna pattern without interposing an insulating layer when the interposer is joined to the antenna. An object of the present invention is to provide a non-contact type IC tag that can be insulated and improve production efficiency, and a method for manufacturing the same.
上記課題を解決するため、請求項1に係る発明は、基材(4)と、金属箔又は合金箔からなる導電層(6)とのいずれか一方に接着剤層(5)が形成され、この接着剤層(5)を介して基材(4)の一方の面上に導電層(6)が接着され、基材(4)の他方の面における導電層(6)の対向位置にインターポーザ(3)が接合され、このインターポーザ(3)が導電層(6)に電気的に接続されていることを特徴とする非接触型ICタグを採用する。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to
請求項2に係る発明は、請求項1に記載の非接触型ICタグにおいて、インターポーザ(3)は、ICチップ(7)の両側に、絶縁基材(9)上に金属箔(10)を積層した導電性シート(8)が接続され、金属箔(10)側を基材(4)の他方の面に接合することを特徴とする非接触型ICタグを採用する。
The invention according to
請求項3に係る発明は、請求項1に記載の非接触型ICタグにおいて、基材(4)におけるインターポーザ(3)の接合位置に開口部(4b)が形成され、この開口部(4b)を通してインターポーザ(3)と導電層(6)とが電気的に接続されていることを特徴とする非接触型ICタグを採用する。
The invention according to
請求項4に係る発明は、請求項3に記載の非接触型ICタグにおいて、インターポーザ(3)は、ICチップ(7)の両側に、絶縁基材(9)上に金属箔(10)を積層した導電性シート(8)が接続され、絶縁基材(9)の両側が金属箔(10)に対して短く形成され、絶縁基材(9)側が基材(4)の他方の面に接合される場合、開口部(4b)に金属箔(10)が対向していることを特徴とする非接触型ICタグを採用する。
The invention according to
請求項5に係る発明は、基材(4)を走行させつつその一方の表面に接着剤層(5)を介して導電層(6)を接着する接着工程と、基材(4)上で導電層(6)を打ち抜く打ち抜き工程と、基材(4)の他方の面における導電層(6)の対向位置に導電層(6)と電気的に接続するインターポーザ(3)を接合する接合工程とを包含してなることを特徴とする非接触型ICタグの製造方法を採用する。
The invention according to
請求項6に係る発明は、請求項5に記載の非接触型ICタグの製造方法において、基材(4)におけるインターポーザ(3)の接合位置に開口部(4b)を形成する開口部形成工程を含むことを特徴とする非接触型ICタグの製造方法を採用する。
The invention according to
請求項7に係る発明は、請求項5又は6に記載の非接触型ICタグの製造方法において、上記開口部形成工程を行った後に上記接着工程を行うことを特徴とする非接触型ICタグの製造方法を採用する。
The invention according to
請求項1に係る発明によれば、基材(4)と、金属箔又は合金箔からなる導電層(6)とのいずれか一方に接着剤層(5)が形成され、この接着剤層(5)を介して基材(4)の一方の面上に導電層(6)が接着され、基材(4)の他方の面における導電層(6)の対向位置にインターポーザ(3)が接合され、このインターポーザ(3)が導電層(6)に電気的に接続されている非接触型ICタグであるから、アンテナ(2)のパターンに対してインターポーザ(3)を確実に絶縁することができるので、インターポーザ(3)がアンテナ(2)のパターンと短絡することがなく、信頼性を高めることができる。
According to the invention which concerns on
請求項2に係る発明によれば、請求項1に記載の非接触型ICタグにおいて、インターポーザ(3)は、ICチップ(7)の両側に、絶縁基材(9)上に金属箔(10)を積層した導電性シート(8)が接続され、金属箔(10)側を基材(4)の他方の面に接合することにより、導電層(6)に金属箔(10)を電気的に接続する場合、絶縁層である基材(4)が介在するだけであるので、カシメ加工又は超音波加工等が容易になり、接続作業効率を高めることができる。
According to the invention according to
請求項3に係る発明によれば、請求項1に記載の非接触型ICタグにおいて、基材(4)におけるインターポーザ(3)の接合位置に開口部(4b)が形成され、この開口部(4b)を通してインターポーザ(3)と導電層(6)とが電気的に接続されていることにより、この開口部(4b)を通してインターポーザ(3)を簡易な固定機構により導電層(6)に電気的に容易に接続することができる。
According to the invention according to
請求項4に係る発明によれば、請求項3に記載の非接触型ICタグにおいて、インターポーザ(3)は、ICチップ(7)の両側に、絶縁基材(9)上に金属箔(10)を積層した導電性シート(8)が接続され、絶縁基材(9)の両側が金属箔(10)に対して短く形成され、絶縁基材(9)側が基材(4)の他方の面に接合される場合、開口部(4b)に金属箔(10)が対向していることにより、導電層(6)に金属箔(10)を導電性接着剤を介して接着することなく、直接接続することができので、接続作業が容易になる。
According to the invention according to
請求項5に係る発明によれば、基材(4)を走行させつつその一方の表面に熱可塑性接着剤層(5)を介して導電層(6)を接着する接着工程と、基材(4)上で導電層(6)を打ち抜く打ち抜き工程と、基材(4)の他方の面における導電層(6)の対向位置に導電層(6)と電気的に接続するインターポーザ(3)を接合する接合工程とを包含してなる非接触型ICタグの製造方法であるので、絶縁層を介在させることなく、アンテナ(2)のパターンに対してインターポーザ(3)を確実に絶縁することができるので、生産効率を向上させることができる。
According to the invention which concerns on
請求項6に係る発明によれば、請求項5に記載の非接触型ICタグの製造方法において、基材(4)におけるインターポーザ(3)の接合位置に開口部(4b)を形成する開口部形成工程を含むことにより、カシメ加工又は超音波加工等の固定装置(23)による導電層(6)への電気的な接続作業を簡素化することができる。
According to the invention which concerns on
請求項7に係る発明によれば、請求項5又は6に記載の非接触型ICタグの製造方法において、上記開口部形成工程を行った後に上記接着工程を行うことにより、基材(4)におけるインターポーザ(3)の接合位置に開口部(4b)を容易に形成することができる。
According to the invention of
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。なお、以下の各実施形態及び各変形例では、図10及び図11に示す従来の構成と同一又は対応する部分に同一の符号を用いて説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiments and modifications, the same reference numerals are used for the same or corresponding parts as those in the conventional configuration shown in FIGS. 10 and 11.
<第1実施形態>
図1に示す非接触型ICタグ1は、非接触型データキャリア用導電部材であるアンテナ2と、非接触型データキャリア用導電部材であるインターポーザ3を使用して作成される。アンテナ2の端部間は、後述するようにインターポーザ3により電気的に接続され、アンテナ2の表面が必要に応じて粘着層からなる保護層により覆われる。
<First Embodiment>
A non-contact
アンテナ2は、図2に示すような層構成を有する。すなわち、紙、樹脂等からなるシート状の基材4における表面(一方の面)上には、熱可塑性接着剤層5がアンテナ2のパターンと同じパターンで印刷され、この熱可塑性接着剤層5の上にアンテナ2のパターンでアルミニウム、銅、銅合金、リン青銅、SUS等の金属箔からなる導電層6が加熱接着される。
The
ここで、アンテナの形状は、渦巻状パターン以外にも通信周波数帯によってバー形状パターン、パット形状パターン、クロス形状パターンなど様々のパターンがある。そして、導電層6の上には、必要に応じて粘着層からなる保護層が積層される。
Here, the antenna has various patterns such as a bar-shaped pattern, a pad-shaped pattern, and a cross-shaped pattern depending on the communication frequency band in addition to the spiral pattern. And the protective layer which consists of an adhesion layer is laminated | stacked on the
また、熱可塑性接着剤層5は、インクジェット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷等の印刷方式によりアンテナ2のパターンに塗布される。
The thermoplastic
このような印刷方式で熱可塑性接着剤層5が基材4上に形成されるので、導電層6は大きく盛り上がることなく基材4上に形成され、また、導電層6下からの熱可塑性接着剤5の食み出しが防止される。
Since the thermoplastic
また、基材4の裏面(他方の面)上における導電層6が接着された対向位置には、インターポーザ3が接合されている。このインターポーザ3は、図1に示すようにICチップ7の両側の図示しない電極に短冊状の導電性シート8,8をそれぞれ電気的に接続してなるもので、両側の導電性シート8,8がカシメ加工又は超音波加工等の固定装置によりアンテナ2の端部における導電層6に電気的に接続される。
Moreover, the
導電性シート8,8は、図2に示すように上記アンテナ2と略同様な層構成を有し、アンテナ2の基材4よりも比較的薄い基材9上に図示しない接着剤層等を介してアルミニウム、銅、銅合金、リン青銅、SUS等の金属箔及び合金箔からなる導電層10が接着もしくはラミネートされることにより形成される。なお、導電層10の上には、アンテナ2と同様に必要に応じて保護層が積層されていてもよい。
As shown in FIG. 2, the
このように本実施形態では、基材4の裏面上における導電層6が接着された対向位置にインターポーザ3の導電性シート8,8の導電層10がカシメ加工又は超音波加工等の固定装置により基材4を通してアンテナ2の端部における導電層6に電気的に接続される。
As described above, in the present embodiment, the
上記構成を有する非接触型ICタグ1の使用に際し、ICチップ7に対して図示しない読取書込器により電磁界内において種々の情報の読み取り又は書き込みが行われる。
When the non-contact
次に、上記非接触型ICタグ1の製造方法について図3に示す製造装置に基づいて説明する。
Next, a method for manufacturing the non-contact
(1)まず、基材4の連続体4aと金属箔である導電層6の連続体6aとを用意し、双方の連続体4a,6aを矢印方向に同速度で連続走行させる。
(1) First, the
(2)基材4の連続体4aの走行路の上方にはインクジェットノズル13が配置され、このインクジェットノズル13が液状の熱可塑性接着剤5aを基材4の連続体4aの表面に向かって吐出する。これにより、基材4の連続体4aの表面にアンテナ2のパターンと同じパターンで熱可塑性接着剤層5が一定間隔で印刷される。なお、導電層6の連続体6aの表面にアンテナ2のパターンと同じパターンで熱可塑性接着剤層5が一定間隔で印刷されていてもよい。
(2) An
(3)インクジェットノズル13より下流側には乾燥機14が配置される。基材4の連続体4aの表面に印刷された熱可塑性接着剤層5は乾燥機14によりその含有する溶剤等が除去され乾燥される。乾燥機14は使用する熱可塑性接着剤5aの種類によっては省略される。
(3) A
(4)また、金属箔である導電層6の連続体6aがガイドローラ15により案内されつつ基材4の連続体4aにその熱可塑性接着剤層5の上から重なり合う。
(4) The
(5)ガイドローラ15の下流側には、加工シリンダ16と受けローラ17とが基材4の連続体4aと金属箔である導電層6の連続体6aとを挟むように配置される。
(5) On the downstream side of the
加工シリンダ16は図示しない電熱ヒータを内蔵した金属製ローラであり、その周面にはアンテナ2のパターンに対応した打ち抜き刃18が形成されている。一つのアンテナ2のパターンを打ち抜く打ち抜き刃18は、加工シリンダ16の周囲に例えば四組配置される。ただし、アンテナ寸法、加工シリンダ径等により配置される組数は異なる。打ち抜き刃18のパターン部の刃と刃の間には伝熱体19が挿入される。伝熱体19は、ゴム、耐熱樹脂等で出来たクッション性のある材料で作るのが望ましい。また、伝熱体19に相当する部分を打ち抜き刃18と同一材料で形成することも可能である。
The
さらに、受けローラ17は金属ローラで形成される。この金属ローラの位置を変更するなどして加工シリンダ16との間隔(ギャップ)を基材4の厚みに対応して調整することができる。この加工シリンダ16としてはロータリーダイを用いることができる。
Further, the receiving
基材4の連続体4aと金属箔である導電層6の連続体6aは重なり合った状態で加工シリンダ16と受けローラ17との間に引き込まれ、金属箔上に打ち抜き刃18でアンテナ2のパターンが打ち抜かれる。また、打ち抜かれたアンテナ2のパターンの導電層6は、伝熱体19により基材4の連続体4a上のアンテナ2と同じパターンの熱可塑性接着剤層5に対して押圧される。その際、熱可塑性接着剤層5は伝熱体19からの伝熱により溶融し、導電層6はこの溶融した熱可塑性接着剤層5によって基材の連続体4a上に接着する。このように、導電層6の接着工程と打ち抜き工程とを同時に行うので、アンテナ2が簡易かつ正確に製造される。また、製造装置がコンパクト化されその設置スペースが低減する。
The
また、基材4の連続体4aには金属箔である導電層6の連続体6aを打ち抜いた打ち抜き刃18の先端によりアンテナ2の輪郭に沿って切り込みが形成される。これにより、導電層6はアンテナ2のパターン通りに正確に打ち抜かれ、アンテナ2のパターンの輪郭が綺麗に整えられる。
Further, in the
なお、図3に示すように、望ましくは加工シリンダ16における伝熱体19以外の不要部対応箇所に空気孔27が形成される。これらの空気孔27は、打ち抜き刃18側に不要部を吸引する吸引手段として機能し、また、打ち抜いた後に不要部を打ち抜き刃18側から排出する排出手段として機能する。すなわち、打ち抜き刃18が、金属箔である導電層6を打ち抜く時に空気孔27より空気を打ち抜き刃側すなわち矢印a方向に吸引することにより、不要部を打ち抜き刃側に吸引する。これにより、導電層6がより正確なパターンで打ち抜かれる。また、打ち抜いた後に空気孔27より空気を矢印b方向に吹き出して不要部を打ち抜き刃18の外へと押し出す。これにより、不要部の回収を容易に行うことができる。また、不要部が加工シリンダ16における伝熱体19以外の不要部対応箇所に詰まるのを防止することができる。
As shown in FIG. 3, the air holes 27 are preferably formed at locations corresponding to unnecessary portions other than the
なお、空気孔27は、図示しない吸気機構と排気機構に切換自在に接続しても良いし、吸気機構に接続された空気孔と排気機構に接続された空気孔を各々独立して設けてもよい。
The
加工シリンダ16よりも下流側には分離ローラ20a,20bが設けられ、基材4の連続体4aと金属箔である導電層6の連続体6aは分離ローラ20a,20bを通過したところで異方向に引っ張られ、アンテナ2は基材4の連続体4a上に担持されたまま矢印方向に走行し、金属箔の不要部6bは基材4の連続体4aから分離されつつ矢印方向に走行する。
(6)さらに、インターポーザ供給装置22から導電層6が接着された基材4の反対側の裏面にインターポーザ3が供給され、その導電性シート8,8が図4に示すようにカシメ加工又は超音波加工等を行う固定装置23により導電層6に電気的に接続される。
(6) Further, the
この後、基材4の連続体4aはアンテナ2ごとに分断され、例えば上述したような非接触ICタグ1の製造に供される。
Thereafter, the
なお、上記インターポーザ3の短冊状の導電性シート9も上記アンテナ2の製造に用いた方法及び装置と同様な方法及び装置により製造可能である。
The strip-shaped
このように本実施形態の非接触型ICタグによれば、基材4の裏面(他方の面)上における導電層6が接着された対向位置にインターポーザ3を接合し、このインターポーザ3を導電層6に電気的に接続したことにより、アンテナ2のパターンに対してインターポーザ3を確実に絶縁することができるので、インターポーザ3がアンテナ2のパターンと短絡することがなく、信頼性を高めることができる。
As described above, according to the non-contact type IC tag of the present embodiment, the
また、本実施形態では、基材4の裏面上における導電層6が接着された対向位置にインターポーザ3の導電層10側から接合するようにしたことにより、導電層6に導電層10を電気的に接続する場合、絶縁層である基材4が介在するだけであるので、カシメ加工又は超音波加工等が容易になり、接続作業効率を高めることができる。
In the present embodiment, the
さらに、本実施形態の非接触型ICタグの製造方法によれば、基材4を走行させつつその一方の表面に熱可塑性接着剤層5を所定のパターンで形成するパターン形成工程と、熱可塑性接着剤層5の上から導電層6を重ね合わせて加熱接着する接着工程と、基材4上で導電層6を上記パターンで打ち抜く打ち抜き工程と、基材4の他方の面における導電層6の位置に導電層6と電気的に接続するインターポーザ3を接合する接合工程とを包含してなることにより、絶縁層を介在させることなく、アンテナ2のパターンに対してインターポーザ3を確実に絶縁することができるので、生産効率を向上させることができる。
Furthermore, according to the manufacturing method of the non-contact type IC tag of the present embodiment, the pattern forming step of forming the thermoplastic
<第1実施形態の非接触型ICタグの変形例>
図5は本発明に係る非接触型ICタグの第1実施形態の変形例を示す断面図である。
<Modification of Non-contact IC Tag of First Embodiment>
FIG. 5 is a sectional view showing a modification of the first embodiment of the non-contact type IC tag according to the present invention.
図5に示す変形例では、基材4の裏面(他方の面)上における導電層6が接着された対向位置に、インターポーザ3の導電性シート8,8の基材9側から接合するようにしている。
In the modification shown in FIG. 5, the
この変形例では、導電層6に導電層10を電気的に接続する場合、絶縁層である基材4及び基材9の双方が介在することで、前記第1実施形態と比較してカシメ加工又は超音波加工等がやや困難になるものの、導電層10をアンテナ2の端部における導電層6に電気的に接続され、前記第1実施形態と同様の効果が得られる。
In this modification, when the
なお、基材4の裏面にインターポーザ3の基材9側から接合する以外の構成及び製造方法は、前記第1実施形態と同様であるので、その説明を省略する。
In addition, since the structure and manufacturing method except joining to the back surface of the
<第1実施形態における非接触型ICタグの製造方法の変形例>
上記非接触型ICタグ1の製造方法の変形例について図6に示す製造装置に基づいて説明する。なお、以下の実施形態及び変形例の製造方法では、第1実施形態における非接触型ICタグの製造方法を説明する図3と同一又は対応する部分には,同一の符号を用いて説明する。
<Modification of Manufacturing Method of Non-Contact IC Tag in First Embodiment>
A modification of the method for manufacturing the non-contact
(1)まず、基材4の連続体4aと金属箔である導電層6の連続体6aとを用意し、双方の連続体4a,6aを矢印方向に同速度で連続走行させる。なお、金属箔である導電層6の連続体6aには、予め表面の全面に熱可塑性接着剤層5がベタ印刷又はコーティングにより形成されている。なお、基材4の連続体4aの表面の全面に予め熱可塑性接着剤層5がベタ印刷又はコーティングにより形成されていてもよい。
(1) First, the
(2)また、金属箔である導電層6の連続体6aがガイドローラ15により案内されつつ基材4の連続体4aにその熱可塑性接着剤層5の上から重なり合う。
(2) The
(3)さらに、基材4の連続体4aと金属箔である導電層6の連続体6aは重なり合った状態で加工シリンダ16と受けローラ17との間に引き込まれ、金属箔上に打ち抜き刃18でアンテナ2のパターンが打ち抜かれる。また、打ち抜かれたアンテナ2のパターンの導電層6は、伝熱体19により基材4の連続体4a上のアンテナ2と同じパターンの熱可塑性接着剤層5に対して押圧される。
(3) Furthermore, the
(4)加工シリンダ16よりも下流側には分離ローラ21が設けられ、基材4の連続体4aと金属箔である導電層6の連続体6aは分離ローラ21を通過したところで異方向に引っ張られ、アンテナ2は基材4の連続体4a上に担持されたまま矢印方向に走行し、金属箔の不要部6bは基材4の連続体4aから分離されつつ矢印方向に走行する。
(4) A
そして、以下の製造方法は、前記第1実施形態と同様であるので、その説明を省略する。 Since the following manufacturing method is the same as that of the first embodiment, the description thereof is omitted.
したがって、本変形例では、前記第1実施形態のように基材4上の一方の面に熱可塑性接着剤層5を形成するのではなく、予め導電層6にベタ印刷又はコーティングにより形成している。
Therefore, in this modified example, the thermoplastic
このように本変形例の非接触型ICタグの製造方法によれば、導電層6の連続体6aに予め表面の全面に熱可塑性接着剤層5がベタ印刷又はコーティングにより形成されていることにより、熱可塑性接着剤層5を所定のパターンで形成するパターン形成工程が不要になるので、一段と生産効率を向上させることができる。
As described above, according to the manufacturing method of the non-contact type IC tag of the present modification, the thermoplastic
<第2実施形態>
図7は本発明に係る非接触型ICタグの第2実施形態を示す断面図、図8は本発明の第2実施形態に係る非接触型ICタグの製造装置を示す概略側面図である。
Second Embodiment
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the non-contact type IC tag according to the present invention, and FIG. 8 is a schematic side view showing a non-contact type IC tag manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention.
図7に示すように、本実施形態では、基材4のアンテナ2の端部における導電層6が形成される部分、すなわち基材4におけるインターポーザ3の接合位置に導通接合用の開口部4bが予め形成され、この開口部4bを通してインターポーザ3の導電層10がカシメ加工又は超音波加工等の固定装置23によりアンテナ2の端部における導電層6に電気的に接続される。
As shown in FIG. 7, in the present embodiment, a
また、本実施形態では、導通接合用の開口部4bが予め形成された基材4の反対側の裏面におけるインターポーザ3の接合位置に、インターポーザ3の導電性シート8,8の導電層10側から接合するようにしている。
Moreover, in this embodiment, from the
次に、第2実施形態に係る非接触型ICタグの製造方法について図8に示す製造装置に基づいて説明する。 Next, the manufacturing method of the non-contact type IC tag according to the second embodiment will be described based on the manufacturing apparatus shown in FIG.
まず、基材4の連続体4aと金属箔である導電層6の連続体6aとを用意し、双方の連続体4a,6aを矢印方向に同速度で連続走行させる。この時、基材4の連続体4aにおいては、開口部形成装置24によりインターポーザ3の接合位置に開口部4bを一定のピッチで形成しておく。このピッチは、基材4の連続体4a上に担持されるアンテナ2の端部の位置ごとに設定される。また、金属箔である導電層6の連続体6aには、予め表面の全面に熱可塑性接着剤層5がベタ印刷又はコーティングにより形成されている。
First, the
次いで、金属箔である導電層6の連続体6aがガイドローラ15により案内されつつ基材4の連続体4aにその熱可塑性接着剤層5の上から重なり合う。以下の製造方法は、前記第1実施形態と同様であるので、その説明を省略する。
Next, the
このように本実施形態の非接触型ICタグによれば、基材4におけるインターポーザ3の接合位置に開口部4bが形成されているので、この開口部4bを通してインターポーザ3を例えば熱を加えつつ弱いカシメを行う簡易な固定機構により導電層6に導電層10を電気的に容易に接続することができる。
As described above, according to the non-contact type IC tag of the present embodiment, the
また、本実施形態の非接触型ICタグの製造方法によれば、基材4におけるインターポーザ3の接合位置に開口部4bを形成する開口部形成工程を含むことにより、カシメ加工又は超音波加工等を行う固定装置23による導電層6への電気的な接続作業を簡素化することができる。
Moreover, according to the manufacturing method of the non-contact type IC tag of the present embodiment, by including the opening forming step of forming the
さらに、本実施形態の非接触型ICタグの製造方法によれば、開口部形成装置24により開口部形成工程を行った後、導電層6の連続体6aが基材4の連続体4aにその熱可塑性接着剤層5の上から重なり合う接着工程を行うことにより、基材4におけるインターポーザ3の接合位置に開口部4bを容易に形成することができる。
Furthermore, according to the manufacturing method of the non-contact type IC tag of the present embodiment, after the opening forming step is performed by the
<第2実施形態の変形例>
図9は本発明に係る非接触型ICタグの第2実施形態の変形例を示す断面図である。
<Modification of Second Embodiment>
FIG. 9 is a sectional view showing a modification of the second embodiment of the non-contact type IC tag according to the present invention.
図9に示す変形例では、導通接合用の開口部4bが予め形成され、かつ導電層6が接着された基材4の反対側の裏面に、インターポーザ3の導電性シート8,8の基材9側から接合するようにしている。
In the modification shown in FIG. 9, the base material of the
この変形例では、導電層6に導電層10を電気的に接続する場合、絶縁層である基材9が介在することで、前記第2実施形態と比較してカシメ加工又は超音波加工等がやや困難になるものの、固定装置23により導電層10が基材9及び開口部4bを通してアンテナ2の端部における導電層6に電気的に接続され、前記第1実施形態と同様の効果が得られる。
In this modified example, when the
なお、基材4の裏面にインターポーザ3の基材9側から接合する以外の構成及び製造方法は、前記第2実施形態と同様であるので、その説明を省略する。
In addition, since the structure and manufacturing method except joining to the back surface of the
<第3実施形態>
図10は本発明に係る非接触型ICタグの第3実施形態を示す断面図である。
<Third Embodiment>
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a third embodiment of the non-contact type IC tag according to the present invention.
図10に示すように、本実施形態では、基材4におけるインターポーザ3の接合位置に導通接合用の開口部4bが予め形成されており、インターポーザ3の基材9の長さが導通接合用の開口部4bのピッチより予め短く形成されている。
As shown in FIG. 10, in this embodiment, the
したがって、基材4の裏面にインターポーザ3の基材9側から接合する場合、基材9の開口部4bに位置する部分が除去された状態となり、開口部4bに導電層10が対向することになる。
Therefore, when joining to the back surface of the
このように本実施形態の非接触型ICタグによれば、インターポーザ3の基材9の長さが導通接合用の開口部4bのピッチより予め短く形成され、基材4の裏面にインターポーザ3の基材9側から接合する場合、基材9の開口部4bに位置する部分が除去された状態となり、開口部4bに導電層10が対向するように形成したことにより、導電層6に導電層10を導電性接着剤を介して接着することなく、直接接続することができので、接続作業が容易になる。
Thus, according to the non-contact type IC tag of the present embodiment, the length of the
なお、その他の構成及び製造方法は、前記第2実施形態と同様であるので、その説明を省略する。 Since other configurations and manufacturing methods are the same as those of the second embodiment, description thereof is omitted.
また、上記各実施形態及び変形例では、接着剤層として熱可塑性接着剤を使用した例について説明したが、これに限定されることなく、UV(紫外線)硬化型接着剤又はEB(電子線)硬化型接着剤を使用してもよい。 Further, in each of the above-described embodiments and modifications, an example in which a thermoplastic adhesive is used as the adhesive layer has been described. However, the present invention is not limited thereto, and UV (ultraviolet) curable adhesive or EB (electron beam) A curable adhesive may be used.
3…インターポーザ
4…基材
4a…基材の連続体
4b…開口部
5…熱可塑性接着剤層(接着剤層)
6…導電層
6a…導電層の連続体
7…ICチップ
8…導電性シート
9…基材(絶縁基材)
10…導電層
15…ガイドローラ
16…加工シリンダ
17…受けローラ
18…打ち抜き刃
22…インターポーザ供給装置
23…固定装置
24…開口部形成装置
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6 ...
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