JP2007086050A5 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 36
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 11
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims 7
- 239000010408 film Substances 0.000 claims 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006042996A JP2007086050A (ja) | 2005-02-18 | 2006-02-20 | 透光性材料からなる透光性物品の検査方法、ガラス基板の欠陥検査方法及び装置、マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法、並びに、マスクブランク用ガラス基板、マスクブランク、露光用マスク、及び半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005043134 | 2005-02-18 | ||
| JP2005228598 | 2005-08-05 | ||
| JP2005244044 | 2005-08-25 | ||
| JP2006042996A JP2007086050A (ja) | 2005-02-18 | 2006-02-20 | 透光性材料からなる透光性物品の検査方法、ガラス基板の欠陥検査方法及び装置、マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法、並びに、マスクブランク用ガラス基板、マスクブランク、露光用マスク、及び半導体装置の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011130905A Division JP5288568B2 (ja) | 2005-02-18 | 2011-06-13 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007086050A JP2007086050A (ja) | 2007-04-05 |
| JP2007086050A5 true JP2007086050A5 (enExample) | 2009-03-26 |
Family
ID=37973157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006042996A Pending JP2007086050A (ja) | 2005-02-18 | 2006-02-20 | 透光性材料からなる透光性物品の検査方法、ガラス基板の欠陥検査方法及び装置、マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法、並びに、マスクブランク用ガラス基板、マスクブランク、露光用マスク、及び半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2007086050A (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4683416B2 (ja) * | 2005-06-10 | 2011-05-18 | Hoya株式会社 | マスクブランク用ガラス基板の欠陥検査方法、マスクブランク用ガラス基板、マスクブランク、露光用マスク、マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法 |
| WO2009031605A1 (ja) * | 2007-09-07 | 2009-03-12 | Nikon Corporation | ワーク欠陥検査装置およびそれを用いた光学部材の製造方法 |
| KR101692087B1 (ko) | 2009-01-09 | 2017-01-02 | 호야 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크용 글래스 기판의 제조 방법, 마스크 블랭크의 제조 방법 및 노광용 포토마스크의 제조 방법 |
| JP5090379B2 (ja) * | 2009-01-09 | 2012-12-05 | Hoya株式会社 | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用フォトマスクの製造方法 |
| JP5028437B2 (ja) * | 2009-01-27 | 2012-09-19 | Hoya株式会社 | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用フォトマスクの製造方法 |
| JP5346243B2 (ja) * | 2009-06-04 | 2013-11-20 | Hoya株式会社 | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法及びパターン転写方法 |
| JP5786211B2 (ja) * | 2011-01-21 | 2015-09-30 | Hoya株式会社 | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法 |
| JP5651032B2 (ja) * | 2011-02-03 | 2015-01-07 | Hoya株式会社 | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法 |
| JP5684028B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2015-03-11 | Hoya株式会社 | 転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| EP3926330A1 (en) * | 2014-12-05 | 2021-12-22 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and method for defect detection in work pieces |
| JP7154572B2 (ja) * | 2018-09-12 | 2022-10-18 | Hoya株式会社 | マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03221848A (ja) * | 1990-01-26 | 1991-09-30 | Canon Inc | 異物検査装置 |
| JP3101459B2 (ja) * | 1992-11-16 | 2000-10-23 | キヤノン株式会社 | 検査装置とこれを用いたシステム |
-
2006
- 2006-02-20 JP JP2006042996A patent/JP2007086050A/ja active Pending
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