JP2007076090A - 光造形物の製造方法および洗浄方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 光造形法によって形成した光造形硬化体を洗浄する時に、未硬化樹脂液が残存してしまい、光造形物に微細化に伴い、光造形物の内部空間の精度を高めることが困難であったが、この問題を解決するために、光造形硬化体の洗浄を確実に行う方法、及び造形精度の高い光造形物を製造する方法を提供する。
【解決手段】 光硬化性樹脂に光を照射することにより、光造形硬化体２を生成する工程と、前記光造形硬化体２に対し、毛細管現象により液体を吸収する性質を有する吸収体４を接触させ、当該吸収体に未硬化樹脂液３を吸収させる工程とを有する光造形物の製造方法。
【選択図】図５

Description

本発明は、光硬化性樹脂液の薄層に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層上にさらに、光硬化性樹脂液の薄層を積層する工程を繰り返すことにより、硬化樹脂層が順次積層された光造形硬化体を形成し、該光造形硬化体に付着した未硬化樹脂液を除去して光造形物とする、光造形物の製造方法および光造形硬化体の洗浄方法に関する。

従来の積層造形方法（以下、「光造形方法」という。）では、造形しようとする立体モデルを複数の層にスライスして得られる断面群のデータに基づいて造形する。通常、最初に最下段の断面に相当する領域において、光硬化性樹脂液からなる薄層の液面に光線を照射する。すると光照射された部分の光硬化性樹脂液の薄層は光硬化し、立体モデルの一断面の硬化樹脂層が造形される。光造形方法では、このような一断面の硬化を繰り返して積層された硬化物（以下、「光造形硬化体」という。）が形成される。つまり、光硬化性樹脂を積層しながら各層に対応する断面データに基づいて光を照射することにより、所望の３次元造形物が形成される（特許文献１、２参照）。

このような手法により形成された光造形硬化体の表面には、通常、未硬化の光硬化性樹脂が付着している。かかる付着した未硬化の光硬化性樹脂を、洗浄液（例えば、エタノールやケトン等の有機溶剤）で洗い流したり、洗浄液に浸漬されて除去することにより、光造形物が得られる。また、洗浄液を貯溜した容器内に浸漬して超音波を付与する（いわゆる、超音波洗浄）ことにより、未硬化の樹脂を除去する手法も知られている。
特開昭５６−１４４４７８号公報 特開昭６２−３５９６６号公報

ところが、光造形物の微小化、複雑化に伴い、複雑な表面の凹部や内部空間を有する光造形硬化体の洗浄において、未硬化の光硬化性樹脂が凹部や内部空間に残留してしまい、所望の光造形物を形成できない場合があった。付着した未硬化の光硬化性樹脂を除去できないと、残存した未硬化樹脂液が徐々に硬化して凹部や内部空間を失わせるため、造形精度が低下する結果となる。また、未硬化樹脂液を除去するために洗浄時間を長時間化させたり、洗浄液を勢いよく吹き付けたりした場合に光造形硬化体の破損などが生じてしまう場合があった。

本発明は、これら光造形方法の抱える課題を解決するためになされたものであり、光造形硬化体の洗浄を確実に行う方法を提供すると共に、造形精度の高い光造形物を製造する方法を提供することを目的とする。

本発明の光造形物の製造方法は、光硬化性樹脂に光を照射することにより、光造形硬化体を生成する工程と、前記光造形硬化体に対し、毛細管現象により液体を吸収する吸収体を接触させ、未硬化樹脂液を吸収させる工程とを有する。また、必要に応じて、さらに前記光造形硬化体を洗浄液によって洗浄する工程を有することも可能である。
吸収体によって未硬化樹脂液を吸収することにより、光造形硬化体を長時間洗浄液に浸漬することなく高精度な光造形物を得ることが可能となる。

また、本発明の光造形方法によって形成された光造形硬化体の洗浄方法は、前記光造形硬化体に対し、毛細管現象により液体を吸収する吸収体を接触させ、未硬化樹脂液を吸収させる工程とを有する。また、必要に応じて、さらに、前記光造形硬化体を洗浄液により洗浄する工程とを有することも可能である。
吸収体によって未硬化樹脂液を吸収した後に洗浄液によって洗浄することにより、効果的に未硬化樹脂液を取り除くことが可能となる。

また、前記未硬化樹脂液を吸収させる工程は、洗浄液に浸漬された前記光造形硬化体に対して、前記吸収体を接触させる工程であることが好ましい。あるいは、前記吸収体を前記光造形硬化体に接触させた後に、前記吸収体および光造形硬化体に対して洗浄液を滴下する工程を有することが好ましい。
ここで、洗浄液としては、未硬化樹脂液を溶解するが、光造形硬化体を溶解又は膨潤させない有機溶媒であれば特に限定されない。洗浄液の好ましい具体例としては、イソプロピルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類に代表されるアルコール系有機溶剤；アセトン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等に代表されるケトン系有機溶剤；テルペン類に代表される脂肪族系有機溶剤を挙げることができる。
洗浄液に浸漬させることにより、未硬化樹脂液が溶解あるいは粘度が低下するため吸収体による未硬化樹脂液の吸収が容易となる。さらに、前記未硬化樹脂液を吸収させる工程において、加温する、負圧を与えるなどの状態で行われるとより未硬化樹脂液の洗浄の効率を上げることが可能である。

本発明により、光造形硬化体の洗浄を確実に行うことができると共に形状精度の高い光造形物を製造することが可能となる。本発明は、投影領域を単位として一括露光を繰り返すことにより、光硬化性樹脂液に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層を順次積層して三次元構造を形成する光造形方法においては、該光造形方法で形成される光造形物が微小なものであるため、特に有用である。

以下に、本発明を適用可能な実施の形態が説明される。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであり、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。説明の明確化のため、以下の記載は、適宜、省略及び簡略化がなされている。又、当業者であれば、以下の実施形態の各要素を、本発明の範囲において容易に変更、追加、変換することが可能である。

まず、本発明の光造形物を形成する光造形動作について説明する。図２は、本発明における光造形硬化体２が洗浄される前の状態を示している。光造形硬化体２の形成工程においては、まず、未硬化の光硬化性樹脂液（以下、単に「光硬化性樹脂液」ともいう。）が所定量だけ造形テーブル１上に供給される。テーブル１上の光硬化性樹脂液は、図示しないリコータなどにより、引き伸ばすようにして掃引される。この掃引により、硬化させる一層分のコート層（「薄層」ともいう。）が形成される。このコート層を形成する光硬化性樹脂液の所定箇所に対し、レーザ光や紫外線などが照射される。レーザ光線の場合には、レーザ光線を走査して、照射位置を移動させて照射させる必要がある。このようにして、光の照射を実行することによって、光硬化性樹脂液が硬化し、第１層目の硬化樹脂層が形成される。

その後、この１層目の光硬化樹脂上に２層目のコート層となる光硬化性樹脂層が積層され、２層目の硬化樹脂層を形成する光照射が行われる。このように光の照射および次層に対応する光硬化樹脂液層の堆積が繰り返されて光造形物が形成される。１層分の積層ピッチ、すなわち、硬化樹脂層１層の厚みは、例えば、従来の一般的な光造形方法においては、２０〜２００μｍであり、後述の、投影領域を単位として一括露光を繰り返すことにより、光硬化性樹脂液に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層を順次積層して三次元構造を形成する光造形方法においては、５〜１０μｍである。

ここで、本発明の実施形態によって形成された光造形物は、例えば１０μｍ以下の穴状の構造をその内部に多数持つ多孔質状の形状をしており、従来の洗浄方法ではその穴形状の内部にまで洗浄液が到達しにくく、充分に洗浄を行うには長時間洗浄を行う必要がある造形物である。図２には、その穴が縦方向にのみ形成されている場合が示されているが横方向にも多数の穴が形成されているものとする。

本発明は、光造形物の寸法が例えば５００μｍ以下の微小であり、表面に複雑な形状の凹部や内部空間を有する場合に、特に有用である。よって、まず、微小な光造形物を形成する手段の一例として、投影領域を単位として一括露光を繰り返すことにより、光硬化性樹脂液に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層を順次積層して三次元構造を形成する光造形方法（以下、「マイクロ光造形方法」という。）について、説明する。

図１は、マイクロ光造形方法に係る光硬化造形装置（以下、「光造形装置」という）の装置構成の一例を説明するための図である。同図に示すように、光造形装置は、光源１０、ディジタルミラーデバイス（以下「ＤＭＤ」と略記する）２０、レンズ３０、造形テーブル４０、ディスペンサ５０、リコータ６０、制御部７０、記憶部８０等を備えている。

光源１０には、レーザ光線を発振可能なものが搭載されている。光源１０から発生するレーザ光線を、後述する光硬化性樹脂液に照射せしめることにより、光硬化性樹脂液を硬化させることができる。従って、光硬化性樹脂液１００を硬化可能な波長のレーザ光線を搭載する必要がある。光源１０の具体例としては、４０５ｎｍのレーザ光を発生させるレーザダイオード（ＬＤ）や紫外線（ＵＶ）ランプ等を挙げることができる。

ディジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）２０は、テキサス・インスツルメンツ社によって開発されたデバイスであり、ＣＭＯＳ半導体上に独立して動くマイクロミラーが数十万〜数百万個、例えば、４８万〜１３１万個敷き詰められているものである。個々のマイクロミラーは、静電界作用によって、それぞれ独立に対角線を軸に約±１０度、例えば、±１２度程度傾けることが可能である。個々のマイクロミラーの角度を制御することにより、後述する造形テーブルに形成された光硬化性樹脂液の所望の位置に光照射することができる。

ＤＭＤ２０に備えられたマイクロミラーは、各マイクロミラーのピッチの１辺の長さが約１０μｍ、例えば、１３．６８μｍの四角形の形状を有している。隣接するマイクロミラーの間隔は、例えば１μｍである。本実施形態１で用いたＤＭＤ２０の全体は、４０．８×３１．８ｍｍの四角形状を有し（うち、ミラー部は、１４．０×１０．５ｍｍの四角形状を有する。）、１辺の長さが１３．６８μｍのマイクロミラー７８６，４３２個により構成されている。光源１０から出射されたレーザ光線は、ＤＭＤ２０の構成部材であるマイクロミラーによって反射される。そして、ＤＭＤ２０において、集光レンズ３０に向かって反射されたレーザ光線が造形テーブル４０上の光硬化性樹脂液１００に照射されることになる。

レンズ３０は、ＤＭＤ２０によって反射されたレーザ光線を光硬化性樹脂液１００上に導き、投影領域を形成する役割を担う。レンズ３０は、凸レンズを用いた集光レンズであってもよいし、凹レンズを用いてもよい。凹レンズを用いると、ＤＭＤ２０の実サイズよりも大きな投影領域を得ることができる。本実施形態に係るレンズ３０は、凸レンズからなる集光レンズであって、入射光を約１５倍縮小し、光硬化性樹脂液１００により形成されたコート層９０上に集光している。

造形テーブル４０は、平板状の載置台からなる。造形テーブル４０上で、光硬化性樹脂液１００のコート層９０が形成され、レンズ３０を介してレーザ光線が照射されて光硬化性樹脂液１００の硬化が行われる。造形テーブル４０は、図示しない駆動機構、即ち移動機構によって、水平移動及び垂直移動が移動自在に構成されている。この駆動機構により、所望の範囲に亘って光造形を行なうことができる。ディスペンサ５０は、光硬化性樹脂液１００を収容し、予め定められた量の光硬化性樹脂液１００を所定位置に供給可能なように構成されている。また、リコータ６０は、例えば、ブレード機構と移動機構を備え、光硬化性樹脂液１００を均一に塗布可能なように構成されている。

制御部７０は、露光データを含む制御データに応じて光源１０、ＤＭＤ２０、造形テーブル４０、ディスペンサ５０、リコータ６０を制御する。制御部７０は、典型的には、コンピュータに所定のプログラムをインストールすることによって構成することができる。典型的なコンピュータの構成は、中央処理装置（ＣＰＵ）とメモリとを含んでいる。ＣＰＵとメモリとは、バスを介して補助記憶装置としてのハードディスク装置などの外部記憶装置に接続される。この外部記憶装置が、制御部７０の記憶部８０として機能する。記憶部８０として機能するフレキシブルディスク装置、ハードディスク装置、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等の記憶媒体駆動装置は、各種コントローラを介してバスに接続される。フレキシブルディスク装置等の記憶媒体駆動装置には、フレキシブルディスク等の可搬型記憶媒体が挿入される。記憶媒体にはオペレーティングシステムと協働してＣＰＵなどに命令を与え、本実施形態を実施するための所定のコンピュータプログラムを記憶することができる。

記憶部８０には、造形しようとする立体モデルを複数の層にスライスして得られる断面群の露光データを含む制御データが格納されている。制御部７０は、記憶部８０に格納された露光データに基づいて、主としてＤＭＤ２０における各マイクロミラーの角度制御、造形テーブル４０の移動（即ち、立体モデルに対するレーザ光の照射範囲の位置）を制御し、立体モデルの造形を指示する。

コンピュータプログラムは、メモリにロードされることによって実行される。コンピュータプログラムは、圧縮したり、複数に分割して記憶媒体に記憶することができる。さらに、ユーザ・インターフェース・ハードウェアを備えることができる。ユーザ・インターフェース・ハードウェアとしては、例えば、マウスなどの入力をするためのポインティング・デバイス、キーボード、あるいは視覚データをユーザに提示するためのディスプレイなどがある。

光硬化性樹脂液１００としては、レーザ光線によって硬化するものを選定する。レーザ光線としては、例えば可視光、紫外光を好適に用いることができる。例えば、１５μｍ以上（５００ｍＪ／ｃｍ^２）の硬化深度を有し、粘度が１５００〜２５００Ｐａ・ｓ（２５℃）の４０５ｎｍ対応のアクリル系樹脂を用いることができる。

次に、本実施形態に係る光造形装置の光造形動作について説明する。まず、ディスペンサ５０に未硬化状態の光硬化性樹脂液１００を収容する。造形テーブル４０は初期位置にある。ディスペンサ５０は、収容された光硬化性樹脂液１００を所定量だけ造形テーブル４０上に供給する。リコータ６０は、光硬化性樹脂液１００を引き伸ばすようにして掃引し、硬化させる一層分のコート層９０を形成する。

光源１０から出射したレーザ光線は、ＤＭＤ２０に入射する。ＤＭＤ２０は、記憶部８０に格納された露光データに応じて制御部７０により制御され、制御部７０により光硬化性樹脂液１００により形成されたコート層９０の所望の位置にレーザ光線が照射されるようにマイクロミラーの角度が調整される。これにより、そのマイクロミラーを反射したレーザ光線が集光レンズ３０を介して光硬化性樹脂液１００のコート層９０に照射され、その他のマイクロミラーを反射したレーザ光線は光硬化性樹脂液１００のコート層９０に照射されない。光硬化性樹脂液１００へのレーザ光線の照射は例えば０．４秒間行なわれる。このとき、光硬化性樹脂液１００のコート層９０への投影領域は例えば、１．３×１．８ｍｍ程度であり、０．６×０．９ｍｍ程度まで縮小することもできる。投影領域の面積は、通常、１００ｍｍ^２以下であることが望ましい。

レンズ３０に、凹レンズを用いることにより、投影領域を６×９ｃｍ程度まで拡大することもできる。投影領域をこのサイズを超えて拡大すると、投影領域に照射されるレーザ光線のエネルギー密度が低くなるため、光硬化性樹脂液１００の硬化が不十分となることがある。レーザ光線の投影領域のサイズよりも大きい立体モデルを形成する場合には、例えば造形テーブル４０を移動機構によって水平移動させることにより、レーザ光線の照射位置を移動させて全造形領域を照射する。投影領域毎に１ショットずつレーザ光線の照射を実行していく。

このようにして、投影領域を移動させて、各投影領域を単位としてレーザ光線の照射、即ち露光を実行することによって、光硬化性樹脂液１００のコート層９０が硬化し、第１層目の硬化樹脂層が形成される。１層分の積層ピッチ、即ち、硬化樹脂層１層の厚みは、例えば、１〜５０μｍ、好ましくは、２〜１０μｍ、さらに好ましくは、５〜１０μｍである。従来の光造形方法では、造形物の解像度を上げることが困難であり、典型的な解像度は、数１０μｍであって、より高解像度を要するマイクロ機械部品の製造に用いることは困難であった。本実施形態に係る光造形方法によれば、例えば、解像度を積層方向に５μｍ程度、造形テーブルと平行な平面方向解像度を２μｍ程度に上げることができる。

続いて、同様の工程で所望形状の立体モデルの２層目を同時形成する。具体的には、１層目として形成された硬化樹脂層の外側にディスペンサ５０より供給された光硬化性樹脂液１００をリコータ６０によって立体モデルを越えて引き伸ばされるように均一厚さに塗布する。そして、レーザ光線を照射することにより、第２層目の硬化樹脂層を第１層目の硬化樹脂層の上に形成する。以下同様にして第３層目以降の硬化樹脂層を順次堆積させる。そして、最終層の堆積終了後、造形テーブル４０上に形成された造形物を取り出す。造形物は、表面に付着した未硬化の光硬化性樹脂液を洗浄その他の方法で除去する。その後、必要に応じて造形物は、紫外線ランプ等により照射し又は加熱して、硬化を更に進行させてもよい。

実施の形態１
以下、本発明の実施の形態１の光造形硬化体の洗浄方法について図を参照して説明する。上述したように、図２は、光造形硬化体が、造形された直後の状態を示している。図２に示した状態では光造形硬化体２に対して未硬化樹脂液３が付着している。本実施の形態においては、この状態の光造形硬化体２に対し、図３に示すように未硬化樹脂液を吸収することが可能な吸収体４を接触させる。この吸収工程時に用いられる吸収体４としては、その吸収体４が有する毛細管現象によって液体（未硬化樹脂液）を吸収するものが好ましい。このように毛細管現象によって未硬化樹脂液３を吸収する吸収体４としては例えば、コットンなどの繊維間に液体を吸収し保持する材料、あるいは光造形物の微細性を考慮して産業用に開発された低発塵ワイパーなどが好ましい。また、吸収体４としては横方向の穴からも未硬化樹脂液３を吸収するために、その形状が光造形硬化体２の周囲を覆えるような布状の柔軟性を有するものが好ましい。

このように、毛細管現象によって液体を吸収する吸収体４を光造形硬化体２に接触させることにより、光造形物２に残存する未硬化樹脂液３が粘性を有していても毛細管現象により、未硬化樹脂液を吸収することが可能となる。また、毛細管現象を利用しているため光造形硬化体の数μｍ程度の孔からも効果的に未硬化樹脂液３を吸収することが可能となる。

その後、本実施の形態では、通常の洗浄液（例えば有機溶剤であるアセトンやエタノールなど）による浸漬洗浄あるいは超音波洗浄が行われる（不図示）。本実施の形態によれば、この洗浄液による洗浄は従来と同程度、あるいは従来よりも短時間であっても充分な効果が得られることが本件発明者らによって確認されている。その理由としては、洗浄液による洗浄の前に、吸収体４によって未硬化樹脂液３が吸収されているため、従来、未硬化樹脂液３が残っていたことにより洗浄液が浸透しにくくなっていた部分にも洗浄液が充分に浸透し、上記の吸収過程で吸収し切れなかった残存する未硬化樹脂液を洗浄できれば、未硬化樹脂液を効果的に除去することが可能となるためであると考えられる。

このように本実施の形態によれば、光造形法によって形成された光造形硬化体を洗浄するに際し、吸収体４を利用して毛細管現象により未硬化樹脂液３を吸収し、その後、洗浄液による洗浄を行うことで、従来では洗浄液が浸透せず、充分な洗浄が行われなかった部分に対しても効果的な洗浄を行うことができる。そのため、未硬化樹脂液の除去をより確実に行うことが可能となり、光造形物の精度を向上させることが可能となる。また、洗浄液による洗浄時間を短くすることができるため、有機溶剤に長時間浸されることもなく、光造形硬化体が変形してしまうのを防ぐことが可能である。

実施の形態２
以下に本発明の実施の形態２について説明する。本実施の形態では実施の形態１における吸収体４による未硬化樹脂液３の吸収工程に先立って、光造形硬化体２が有機溶剤などの洗浄液５（例えばエタノール）に浸漬される点が第１の実施形態と異なっている（図４参照）。ここで、光造形硬化体２が浸漬される洗浄液は未硬化樹脂液３を溶解し、硬化した樹脂は溶解しないような液体である。そして、洗浄液５に浸漬された光造形硬化体２に、上述した吸収体４を接触させる（図５参照）。この時、吸収体４には未硬化樹脂液３と洗浄液５が吸収される。その後、第１の実施の形態と同様に光造形硬化体２を洗浄液に浸漬しての超音波洗浄などが行われる（不図示）。この洗浄液による洗浄時間は、従来の洗浄時間に比して充分に短く設定することが可能である。

実施の形態２によれば吸収体４による未硬化樹脂液３の吸収に先立って、光造形硬化体２が洗浄液５に浸漬される。そのため、この時に未硬化樹脂液３が溶解あるいは粘度が低下し、吸収体４による未硬化樹脂液３の吸収がより容易となる。また、洗浄液として用いられる液体は通常揮発性が高いため、その揮発に伴い未硬化樹脂液３が押し出されるという効果も考えられる。そのため、揮発性を高めるために吸収体４を接触させるときに、数十度程度に加温しておくとより一層の効果を得ることが可能である。第２の実施の形態によれば、吸収体４を接触させたときに吸収体４によって吸収される未硬化樹脂液３の量が増加し、吸収体４による洗浄の効率が上昇する。また、その後の洗浄液による洗浄工程を短時間に設定することが可能となる。

なお、上記の説明では光造形硬化体２を洗浄液に浸漬させた後に吸収体４を接触させるものとしたが、この工程は逆でも良い。つまり先に吸収体４を光造形硬化体２に接触させ、洗浄液５を造形物２上に滴下するなどして、未硬化樹脂液３と洗浄液５を吸収体４に吸収させても同様の効果を得ることが可能である。

実施の形態３
以下に本発明の実施の形態３について説明する。本実施の形態は、吸収体による吸収工程が第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態では、吸収体４が光造形硬化体２と接触する面の反対面に負圧機構６が設けられている（図６参照）。この負圧機構６とは例えば大気を吸引するバキューム機構であったり、吸収体が把持される把持部を減圧する機構であればよい。

このように吸収体４が光造形硬化体２と接触する面の反対側に負圧機構６を設けることで、吸収体によって吸収された未硬化樹脂液には、吸収体の反対面へ吸引される力が働く。その結果、毛細管現象を利用した吸収体４の吸収効率が上昇するため、吸収工程時に吸収される未硬化樹脂液３の量も増加する。つまり、吸収体４による洗浄の効率も上昇する。その結果、その後の洗浄液による洗浄工程もより短く設定することが可能となり、光造形硬化体の洗浄の効率がさらに向上する。

以上、本発明の実施の形態に基づいて詳細に説明したが、本発明によれば、数μｍ程度の穴を有するような光造形硬化体であっても効果的に未硬化樹脂液を除去することが可能であり、光造形物の高精度化が可能となる。また、本発明は、当業者であれば適宜変更が可能である。例えば、第２の実施の形態と第３の実施の形態を組み合わせてもよく、また、光硬化性樹脂と洗浄液の種類は、当業者において適宜好適な組み合わせを用いることが可能である。

マイクロ光造形方法に係る光造形装置の概略構成を示す図である。 光造形硬化体を示す概略図である。 発明の実施の形態１にかかる洗浄方法を示す図である。 発明の実施の形態２にかかる洗浄方法を示す図である。 発明の実施の形態２にかかる洗浄方法を示す図である。 発明の実施の形態２にかかる洗浄方法を示す図である。

符号の説明

１ 造形テーブル
２ 光造形硬化体
３ 未硬化樹脂液
４ 吸収体
５ 洗浄液
６ 負圧機構

Claims (7)

1. 光硬化性樹脂液の薄層に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層上にさらに、光硬化性樹脂液の薄層を積層する工程を繰り返すことにより、硬化樹脂層が順次積層された光造形硬化体を形成し、該光造形硬化体に付着した未硬化樹脂液を除去して光造形物とする、光造形物の製造方法において、
   光硬化性樹脂に光を照射することにより、光造形硬化体を生成する工程と、
   前記光造形硬化体に対し、毛細管現象により液体を吸収する吸収体を接触させ、未硬化樹脂液を吸収させる工程とを有する光造形物の製造方法。
2. 前記光造形物の製造方法はさらに前記光造形硬化体を洗浄液によって洗浄する工程を有することを特徴とする請求項１記載の光造形物の製造方法。
3. 光硬化性樹脂液の薄層に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層上にさらに、光硬化性樹脂液の薄層を積層する工程を繰り返すことにより、硬化樹脂層が順次積層された光造形硬化体を形成する光造形方法によって形成された光造形硬化体の洗浄方法であって、
   前記光造形硬化体に対し、毛細管現象により液体を吸収する吸収体を接触させ、未硬化樹脂液を吸収させる工程と、
   前記光造形物を洗浄液により洗浄する工程とを有する光造形硬化体の洗浄方法。
4. 前記未硬化樹脂液を吸収させる工程は、洗浄液に浸漬された前記光造形硬化体に対して、前記吸収体を接触させる工程であることを特徴とする請求項３に記載の光造形硬化体の洗浄方法。
5. 前記光造形硬化体の洗浄方法は、さらに、前記吸収体を前記光造形硬化体に接触させた後に、前記吸収体および光造形硬化体に対して洗浄液を滴下する工程を有することを特徴とする請求項３に記載の光造形硬化体の洗浄方法。
6. 前記未硬化樹脂液を吸収させる工程は、加温された状態で行われることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載の光造形硬化体の洗浄方法。
7. 前記未硬化樹脂液を吸収させる工程において、前記吸収体の前記光造形硬化体と接触しない面に負圧が与えられていることを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載の光造形硬化体の洗浄方法。
   

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