JP2007076089A - Method for producing optical film having uneven surface and optical film having uneven surface - Google Patents

Method for producing optical film having uneven surface and optical film having uneven surface Download PDF

Info

Publication number
JP2007076089A
JP2007076089A JP2005265024A JP2005265024A JP2007076089A JP 2007076089 A JP2007076089 A JP 2007076089A JP 2005265024 A JP2005265024 A JP 2005265024A JP 2005265024 A JP2005265024 A JP 2005265024A JP 2007076089 A JP2007076089 A JP 2007076089A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
uneven
film
curable resin
optical film
roller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005265024A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Kurematsu
雅行 榑松
Toshiaki Shibue
俊明 渋江
Sota Kawakami
壮太 川上
Katsumi Maejima
勝己 前島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Opto Inc
Original Assignee
Konica Minolta Opto Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Opto Inc filed Critical Konica Minolta Opto Inc
Priority to JP2005265024A priority Critical patent/JP2007076089A/en
Publication of JP2007076089A publication Critical patent/JP2007076089A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an optical film having an uneven surface in which the uneven surface is reduced in defect and which is improved in adhesion to a reflection preventing layer and the optical film having the uneven surface. <P>SOLUTION: In the method for producing the optical film having the uneven surface, an ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet rays while being arranged between a film support and an uneven type roller having an uneven surface, and after the resin is polymerized/cured, the film support and the resin are peeled off from the roller. In relation to the adhesion surfaces of the roller and the resin, a gas containing no oxygen substantially is made to exist during the adhesion. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は表面凹凸形状光学フィルムの製造方法及び表面凹凸形状光学フィルムに関し、より詳しくは凹凸表面の欠陥が少なく、反射防止層との密着性が改善された表面凹凸形状光学フィルムの製造方法及び表面凹凸形状光学フィルムに関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a surface irregularity-shaped optical film and a surface irregularity-shaped optical film, and more specifically, a method for producing a surface irregularity-shaped optical film and a surface having fewer irregularities and improved adhesion to an antireflection layer. The present invention relates to an uneven optical film.

防眩性フィルムは、フィルム中に微粒子を含有させ該微粒子による光散乱を利用して防眩性を持たせることが一般的であるが、最近のフラットパネルデイスプレイ、特に大型TV用の防眩性フィルムとしては表示画面を暗くしないようにヘイズが小さいことが求められている。しかしながら十分な防眩性を持たせようとすると、微粒子を添加する量が増える為に必然的にヘイズ値は高くなる。   The antiglare film generally contains fine particles in the film and has antiglare properties by utilizing light scattering by the fine particles. However, the antiglare film for recent flat panel displays, particularly for large TVs. The film is required to have a low haze so as not to darken the display screen. However, if sufficient antiglare properties are to be provided, the amount of fine particles added increases, so that the haze value inevitably increases.

このため、微粒子を用いずフィルム表面を凹凸化することにより防眩性を持たせた表面凹凸フィルムを用いることがヘイズの点から好ましい。   For this reason, it is preferable from a haze point to use the surface uneven | corrugated film which gave antiglare property by roughening the film surface without using microparticles | fine-particles.

表面が塑性変形する状態の光学フィルムに、型押し部材を押し付けて表面を凹凸形状とし、次いで硬化させることで表面に凹凸形状を作製する光学フィルムの製造方法は、ハードコート上にエンボスを転写する製造方法(例えば特許文献1〜3参照)、エンボスロールを用いる製造方法(例えば特許文献4、5参照)、フィルム自身が凹凸を有する製造方法(例えば特許文献6〜8参照)が知られている。   An optical film manufacturing method in which an embossed member is pressed onto an optical film whose surface is plastically deformed to make the surface uneven, and then cured to produce an uneven shape on the surface. The emboss is transferred onto the hard coat. A manufacturing method (for example, refer to Patent Documents 1 to 3), a manufacturing method using an embossing roll (for example, refer to Patent Documents 4 and 5), and a manufacturing method in which the film itself has irregularities (for example, refer to Patent Documents 6 to 8) are known. .

しかしながら、エンボスロール(部材)は、凹み部に光学フィルム材料(樹脂材)が目詰りしやすく、目詰りすると、でき上がったフィルムが均一の凹凸ではなくなる。また目詰り防止に離型剤を使用すると微小な凹凸作製ではムラとなる。特に、TV等の液晶表示装置の最表面に使用される光学フィルムの場合は、僅かなムラ、欠陥は許容されない。   However, the embossing roll (member) is easily clogged with the optical film material (resin material) in the dent, and when clogged, the finished film is not uneven. In addition, if a release agent is used to prevent clogging, unevenness is produced in the production of minute irregularities. In particular, in the case of an optical film used on the outermost surface of a liquid crystal display device such as a TV, slight unevenness and defects are not allowed.

更に、紫外線硬化性樹脂と凹凸型ローラを用いてフィルム表面に凹凸を形成する方法として、紫外線硬化性樹脂に凹凸型ローラを型押している状態で紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させる製造方法(例えば特許文献9〜11参照。)、紫外線硬化性樹脂に凹凸型ローラで型押しして凹凸型ローラから剥がしてフィルム表面を凹凸形状として紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させる製造方法(例えば特許文献12参照。)の2つの方式がある。しかしいずれの製造方法でも、凹凸型ローラに光重合性樹脂が付着して防眩フィルム表面の均一性を低下させる問題点を生じることが分かった。   Furthermore, as a method of forming irregularities on the film surface using an ultraviolet curable resin and an uneven roller, the ultraviolet curable resin is cured by irradiating with ultraviolet rays while pressing the uneven roller on the ultraviolet curable resin. Method (for example, see Patent Documents 9 to 11), production of UV curable resin cured by irradiating the UV curable resin with a concavo-convex type roller and peeling it from the concavo-convex type roller so that the film surface is irradiated with ultraviolet rays. There are two types of methods (for example, see Patent Document 12). However, it has been found that, in any of the production methods, the photopolymerizable resin adheres to the concavo-convex roller and causes the problem of reducing the uniformity of the antiglare film surface.

そこで、安定した表面凹凸形状を得るために、特許文献13には、電子線硬化型樹脂を使用して電子線照射で硬化させる方法、特許文献14には未硬化の紫外線硬化樹脂を脱気手段により脱気させてから使用する方法が提案されている。しかし、これらの方法でも上記問題解決には不十分である。   Therefore, in order to obtain a stable surface uneven shape, Patent Document 13 discloses a method of curing by electron beam irradiation using an electron beam curable resin, and Patent Document 14 describes a method for degassing an uncured ultraviolet curable resin. The method of using after deaeration by is proposed. However, these methods are not sufficient for solving the above problem.

また、凹凸表面形状と光学干渉による反射防止膜を併用する防眩反射防止フィルムが最近TV大画面化で注目されているが、反射防止層との密着性がよく、反射防止膜が剥がれがたい防眩性反射防止フィルムが求められている。
特開昭61−76328号公報 特許第2556315号公報 特許第2604691号公報 特開2004−90187号公報 特開2004−106015号公報 特許第3192793号公報 特開平10−119067号公報 特開2005−156615号公報 登録402,025,668号公報 特開2001−347220号公報 特開2003−321559号公報 登録2,604,691号公報 特開2004−352897号公報 特開2005−138296号公報
In addition, antiglare and antireflection films that use an uneven surface shape and an antireflection film due to optical interference have been attracting attention recently for the enlargement of TV screens, but the adhesion to the antireflection layer is good and the antireflection film is difficult to peel off. There is a need for anti-glare antireflection films.
JP 61-76328 A Japanese Patent No. 2556315 Japanese Patent No. 2604691 JP 2004-90187 A JP 2004-106015 A Japanese Patent No. 3192793 Japanese Patent Laid-Open No. 10-119067 JP 2005-156615 A Registration No. 402,025,668 JP 2001-347220 A JP 2003-321559 A Registration No. 2,604,691 JP 2004-352897 A JP 2005-138296 A

本発明の目的は、凹凸表面の欠陥が少なく、反射防止層との密着性が改善された表面凹凸形状光学フィルムの製造方法及び表面凹凸形状光学フィルムを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method for producing a surface uneven-shaped optical film and a surface uneven-shaped optical film having few defects on the uneven surface and having improved adhesion to the antireflection layer.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

(1)紫外線硬化樹脂をフィルム支持体と凹凸表面を有する凹凸型ローラ間に介在させた状態で紫外線を照射し、該紫外線硬化樹脂を重合硬化した後に、該フィルム支持体及び該紫外線硬化樹脂を該凹凸型ローラより剥離する表面凹凸形状光学フィルムの製造方法において、
該凹凸型ローラと該紫外線硬化樹脂の密着面に対し、密着時に実質的に酸素を含まないガスを存在させることを特徴とする表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。
(1) After irradiating ultraviolet rays in a state where the ultraviolet curable resin is interposed between the film support and the concavo-convex type roller having the concavo-convex surface and polymerizing and curing the ultraviolet curable resin, the film support and the ultraviolet curable resin are In the method for producing a surface uneven optical film peeled off from the uneven roller,
A method for producing an optical film having a concavo-convex shape, wherein a gas containing substantially no oxygen is present at the time of close contact with the close contact surface between the uneven roller and the ultraviolet curable resin.

(2)前記凹凸型ローラと前記紫外線硬化樹脂の密着面に対し、密着時に実質的に酸素を含まないガスを存在させることが、前記凹凸型ローラと前記紫外線硬化樹脂の密着開始部分に、該実質的に酸素を含まないガスを吹き付ける方法であることを特徴とする前記(1)項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。   (2) The presence of a gas that does not substantially contain oxygen at the time of close contact with the contact surface between the uneven roller and the ultraviolet curable resin, The method for producing a concavo-convex-shaped optical film as described in (1) above, which is a method of blowing a gas substantially free of oxygen.

(3)前記実質的に酸素を含まないガスを吹き付ける部分の少なくとも1箇所が、前記凹凸型ローラ表面であることを特徴とする前記(2)項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。   (3) The method for producing a concavo-convex-shaped optical film as described in (2) above, wherein at least one portion of the portion to which the substantially oxygen-free gas is blown is the surface of the concavo-convex roller.

(4)前記紫外線硬化樹脂は前記凹凸型ローラとの密着を行う前に、該紫外線硬化樹脂中に前記実質的に酸素を含まないガスを吹き混む前処理を行なうことを特徴とする前記(1)〜(3)項の何れか1項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。   (4) The ultraviolet curable resin is subjected to a pretreatment in which the substantially oxygen-free gas is blown and mixed into the ultraviolet curable resin before the close contact with the uneven roller (1) )-(3) The manufacturing method of the surface uneven | corrugated shaped optical film any one of claim | items.

(5)前記凹凸型ローラは表面が凹凸を有する石英ガラス製であり、かつ該凹凸型ローラは空洞であって、該空洞部分に前記紫外線の光源を設けていることを特徴とする前記(1)〜(4)項の何れか1項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。   (5) The concave-convex roller is made of quartz glass having a concave-convex surface, and the concave-convex roller is hollow, and the ultraviolet light source is provided in the hollow portion. The manufacturing method of the surface uneven | corrugated shaped optical film of any one of claim | item (4) term | claim.

(6)前記実質的に酸素を含まないガスが窒素ガスであることを特徴とする前記(1)〜(5)項の何れか1項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。   (6) The method for producing a concavo-convex shape optical film according to any one of (1) to (5), wherein the gas substantially not containing oxygen is nitrogen gas.

(7)前記表面凹凸形状光学フィルムの表面上に、金属酸化物微粒子を固形成分として20〜90%(質量比率)の範囲で含有する反射防止膜を積層することを特徴とする前記(1)〜(6)項の何れか1項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。   (7) The antireflection film containing metal oxide fine particles as a solid component in the range of 20 to 90% (mass ratio) is laminated on the surface of the surface uneven optical film (1) The manufacturing method of the surface uneven | corrugated shaped optical film of any one of Claims (6).

(8)前記(1)〜(7)項の何れか1項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする表面凹凸形状光学フィルム。   (8) A concavo-convex optical film produced by the method for producing a concavo-convex optical film according to any one of (1) to (7).

本発明により、凹凸表面の欠陥が少なく、反射防止層との密着性が改善された表面凹凸形状光学フィルムの製造方法及び表面凹凸形状光学フィルムを提供することが出来る。   According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a surface uneven-shaped optical film and a surface uneven-shaped optical film having few defects on the uneven surface and improved adhesion to the antireflection layer.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明者は鋭意検討の結果、紫外線硬化樹脂をフィルム支持体と凹凸表面を有する凹凸型ローラ間に介在させた状態で紫外線を照射し、該紫外線硬化樹脂を重合硬化した後に、該フィルム支持体及び該紫外線硬化樹脂を該凹凸型ローラより剥離する表面凹凸形状光学フィルムの製造方法において、該凹凸型ローラと該紫外線硬化樹脂の密着面に対し、密着時に実質的に酸素を含まないガスを存在させることを特徴とする表面凹凸形状光学フィルムの製造方法により、凹凸表面の欠陥が少なく、反射防止層との密着性が改善された表面凹凸形状光学フィルムの製造方法が得られることを見出した。   As a result of intensive studies, the inventor irradiates ultraviolet rays in a state where an ultraviolet curable resin is interposed between a film support and a concavo-convex roller having a concavo-convex surface, and polymerizes and cures the ultraviolet curable resin. In addition, in the method for producing a concavo-convex-shaped optical film in which the ultraviolet curable resin is peeled from the concavo-convex roller, a gas substantially free of oxygen is present at the time of adhesion to the adhesion surface of the concavo-convex roller and the ultraviolet curable resin. It has been found that a method for producing a surface uneven-shaped optical film having a small number of defects on the uneven surface and improved adhesion to the antireflection layer can be obtained by the method for producing a surface uneven-shaped optical film.

すなわち、凹凸型ローラの微細凹凸表面に紫外線硬化樹脂面を押し付けた時に空間が出来、そこに存在する酸素、または紫外線硬化樹脂中に含まれる酸素が、紫外線を照射した際の凹凸型との接触面近傍での硬化を阻害して凹凸型に光重合性樹脂が付着することに対し、本発明は凹凸型ローラの微細凹凸表面に紫外線硬化樹脂面を押し付けた時に出来る空間のガスが無酸素である為凹凸型近傍でも重合反応が完全に行なわれ、結果として光重合性樹脂が凹凸型に付着残留しないことが特徴である。この為、極めて均一な表面凹凸形状有する光学フィルムを得ることが出来、更に反射防止層との密着性も改善されることを見出したものである。   In other words, a space is created when the UV curable resin surface is pressed against the fine rugged surface of the concavo-convex roller, and the oxygen present in the surface or the oxygen contained in the UV curable resin contacts the concavo-convex mold when irradiated with ultraviolet rays. In contrast to the fact that the photopolymerizable resin adheres to the concavo-convex type by inhibiting the curing in the vicinity of the surface, the present invention has no oxygen in the space gas generated when the ultraviolet curable resin surface is pressed against the fine concavo-convex surface of the concavo-convex roller. For this reason, the polymerization reaction is completely performed even in the vicinity of the concavo-convex mold, and as a result, the photopolymerizable resin does not remain attached to the concavo-convex mold. For this reason, it has been found that an optical film having a very uniform surface irregularity shape can be obtained, and that the adhesion with the antireflection layer is further improved.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

最初に図をもって本発明に係る凹凸型ローラを用いた表面凹凸形状光学フィルムの製造方法を例示する。但し、本発明はこれに限定されるものではない。   The manufacturing method of the surface uneven | corrugated shaped optical film using the uneven | corrugated type roller which concerns on this invention with a figure first is illustrated. However, the present invention is not limited to this.

図1は、本発明に係る凹凸型ローラを用いた凹凸面形成装置の概略図である。巻き出しロール21から繰り出されたフィルムF上にダイ22で紫外線硬化樹脂を層状に塗設し、フィルム乾燥装置23で乾燥した後、凹凸型ローラ24及びそれと対向したバックロール25により紫外線硬化樹脂層表面に凹凸面を形成する。その際、ガス吹き付け口28より、凹凸型ローラ24とフィルムF上の紫外線硬化樹脂間に実質的に酸素を含まないガスを吹き付けて凹凸型ローラと紫外線硬化樹脂の密着面に対し該ガスを存在させるようにする。次いで、凹凸型ローラと対向する位置にある硬化装置26で紫外線を照射して硬化させ、巻き取りロール27により巻き取る。その際、更に硬化装置26′を配置し紫外線を照射して硬化を完全に行うことも好ましい。   FIG. 1 is a schematic view of an uneven surface forming apparatus using an uneven roller according to the present invention. An ultraviolet curable resin is coated on the film F fed from the unwinding roll 21 in a layer form with a die 22 and dried with a film drying device 23, and then an ultraviolet curable resin layer is formed with an uneven roller 24 and a back roll 25 facing it. An uneven surface is formed on the surface. At that time, a gas substantially free of oxygen is blown between the concave-convex roller 24 and the ultraviolet curable resin on the film F from the gas spray port 28, and the gas exists on the contact surface of the concave-convex roller and the ultraviolet curable resin. I will let you. Next, it is cured by irradiating with ultraviolet rays with a curing device 26 located at a position facing the concavo-convex roller and wound by a winding roll 27. At this time, it is also preferable to dispose the curing device 26 'and to completely cure by irradiating with ultraviolet rays.

図2は、本発明に係る凹凸型ローラを用いた別の好ましい凹凸面形成装置の概略図である。本図によれば、調製タンク29内の紫外線硬化樹脂層塗布組成物31中に、ガス吹き込み管30より実質的に酸素を含まないガスを吹き込み、紫外線硬化樹脂に含有される酸素を不活性ガスと置換することが好ましい。次いで巻き出しロール21から繰り出されたフィルムF上にダイ22で紫外線硬化樹脂層を塗設し、フィルム乾燥装置23で乾燥した後、ガス吹き付け口28により紫外線硬化樹脂と凹凸型ローラとの密着面に、実質的に酸素を含まないガスの吹き付けを行う。   FIG. 2 is a schematic view of another preferable uneven surface forming apparatus using the uneven roller according to the present invention. According to this figure, a gas substantially free of oxygen is blown into the ultraviolet curable resin layer coating composition 31 in the preparation tank 29 from the gas blowing tube 30, and oxygen contained in the ultraviolet curable resin is converted into an inert gas. Is preferably substituted. Next, an ultraviolet curable resin layer is coated on the film F fed out from the unwinding roll 21 with the die 22 and dried with the film drying device 23, and then the adhesion surface between the ultraviolet curable resin and the concavo-convex roller through the gas blowing port 28. In addition, a gas containing substantially no oxygen is sprayed.

また凹凸型ローラとの密着を行う際に、図1のように凹凸型ローラと紫外線硬化樹脂の密着面に対し該ガスを存在させるばかりではなく、該凹凸型ローラ表面にガス吹き付け口28′のようにしてガスを吹き付けることも好ましい。更にガス吹き付け口28″をフィルムの剥離側に配置することも好ましい。次いで図1と同様にして、硬化装置26で紫外線を照射して硬化させ、巻き取りロール27により巻き取る。   Further, when the concavo-convex roller is brought into close contact, the gas is not only present on the contact surface between the concavo-convex roller and the ultraviolet curable resin as shown in FIG. It is also preferable to spray the gas in this manner. Further, it is also preferable to dispose a gas blowing port 28 ″ on the peeling side of the film. Next, as in FIG.

図3の方式は、本発明において凹凸型ローラとして石英ガラス管のように紫外線を透過する透明な空洞ローラ33を用い、ロール内部に高圧水銀灯等の硬化装置26を設置することにより紫外線硬化樹脂を硬化させることが出来る装置である。フィルムFに予め塗布された紫外線硬化樹脂層はゴム製ニップロール31により空洞ローラ33に密着され、図1、図2と同様にガス吹き付け口28、28′より実質的に酸素を含まないガスを吹き付けながら空洞ローラ33の円周状に形成された凹凸形状の鋳型により凹凸形成され、空洞ローラ33内部にある硬化装置26により照射される紫外線により硬化され、剥離ロール32により剥離される。   The method of FIG. 3 uses a transparent hollow roller 33 that transmits ultraviolet rays, such as a quartz glass tube, as an uneven roller in the present invention, and an ultraviolet curable resin is provided by installing a curing device 26 such as a high-pressure mercury lamp inside the roll. It is a device that can be cured. The UV curable resin layer preliminarily applied to the film F is brought into close contact with the hollow roller 33 by the rubber nip roll 31, and the gas substantially free of oxygen is sprayed from the gas spray ports 28 and 28 'as in FIGS. On the other hand, the concave / convex shape is formed by the concave / convex mold formed on the circumference of the hollow roller 33, is cured by the ultraviolet ray irradiated by the curing device 26 inside the hollow roller 33, and is peeled off by the peeling roll 32.

本発明において、実質的に酸素を含まないガスとは、不活性ガス(アルゴン、ネオン、窒素等)が好ましく、コスト面と使い勝手(回収が不要)より、窒素ガスが最も好ましい。実質的に酸素を含まないとは、酸素を含んでもよいが酸素の含有量が1質量%以下であることを言い、好ましくは全く含まないことを言う。ガスの供給量は特に限定されるものではないが、凹凸型ローラの近傍において酸素濃度が1質量%以下、好ましくは酸素濃度が測定限界値以下であるように、不活性ガスの供給量を決定することが好ましい。   In the present invention, the gas that does not substantially contain oxygen is preferably an inert gas (argon, neon, nitrogen, etc.), and nitrogen gas is most preferable from the viewpoint of cost and convenience (no need for recovery). “Substantially free of oxygen” means that oxygen may be contained but the oxygen content is 1% by mass or less, and preferably no oxygen is contained. The gas supply amount is not particularly limited, but the inert gas supply amount is determined so that the oxygen concentration is 1% by mass or less, preferably the oxygen concentration is less than the measurement limit value in the vicinity of the uneven roller. It is preferable to do.

次いで、本発明に用いる凹凸型ローラについて説明する。   Next, the concavo-convex roller used in the present invention will be described.

凹凸型ローラとは、フィルム表面に凹凸を形成する為に鋳型として働くように表面に微細凹凸形状を設けたローラを言うが、その大きさ、形状に制限はなく、また板状、フィルム状、ベルト状、空洞状の鋳型でもよい。   The concavo-convex roller is a roller provided with a fine concavo-convex shape on the surface so as to act as a mold for forming concavo-convex on the film surface, but the size and shape are not limited, and plate, film, A belt-shaped or hollow mold may be used.

本発明の凹凸面形成に用いられる凹凸型ローラとしては、凹凸が細かいもの、粗いものまで、適宜選択して適用でき、模様、マット状、レンチキュラーレンズ状、球面の一部からなる凹部または凸部、プリズム状の凹凸を形成するための鋳型が規則正しくもしくはランダムに配列されたものが使用出来る。例えば、凸部または凹部の直径が5〜100μm、高さが0.1〜2μmの球の一部からなる凹部または凸部等が挙げられるが、これらは大きな凹凸と小さな凹凸を組み合わせ用いることも好ましい。   As the concavo-convex roller used for forming the concavo-convex surface of the present invention, it is possible to select and apply as appropriate to fine rugged or rough rugged, concave or convex portions that are part of a pattern, mat shape, lenticular lens shape, or spherical surface. In addition, a template in which prisms for forming irregularities are regularly or randomly arranged can be used. For example, a concave portion or a convex portion made of a part of a sphere having a convex portion or a concave portion having a diameter of 5 to 100 μm and a height of 0.1 to 2 μm can be used. preferable.

図4は、凹凸型ローラの斜視図及び断面の凹凸形状の一例を示した。図に示したように型押し部材は凸部や凹部を組み合わせて形成されてもよく、形状は限定されず、四角錐状、三角錐状、円錐状、半球状の凸部または凹部の組み合わせでもよい。あるいは波形状のパターン等も好ましく用いられる。図5に本発明に好ましい凹凸形状パターンの具体例を示すが、これに限定されるものではなく、後述する紫外線硬化樹脂層の凹凸形状を再現出来るような凹凸形状パターンを有していればよい。   FIG. 4 shows a perspective view of an uneven roller and an example of an uneven shape in cross section. As shown in the figure, the embossing member may be formed by combining convex portions and concave portions, and the shape is not limited, and may be a combination of quadrangular pyramid shape, triangular pyramid shape, conical shape, hemispherical convex portion or concave portion. Good. Alternatively, a wave pattern or the like is preferably used. Although the specific example of the uneven | corrugated shaped pattern preferable for this invention is shown in FIG. 5, it is not limited to this, What is necessary is just to have the uneven | corrugated shaped pattern which can reproduce the uneven | corrugated shape of the ultraviolet curable resin layer mentioned later. .

更に、図6、7に示すような第一凹凸型ローラ、第二凹凸型ローラの少なくとも2種類の凹凸形状を有する凹凸型ローラを連続的に用いて網目状の凹凸部を形成してもよい。   Further, a concavo-convex portion having a mesh shape may be formed by continuously using a concavo-convex roller having at least two types of concavo-convex shapes such as a first concavo-convex roller and a second concavo-convex roller as shown in FIGS. .

凹凸型ローラにより型付けされる紫外線硬化樹脂層の凹凸形状は、表面の平均水準を基準とした高さが0.1μm〜2.0μmである凸部若しくは深さが0.1〜2.0μmの凹部を100μm2当たり1〜100個有する微細構造として形成されていることが好ましい。 The concave / convex shape of the ultraviolet curable resin layer molded by the concave / convex type roller has a height of 0.1 μm to 2.0 μm or a depth of 0.1 to 2.0 μm based on the average level of the surface. It is preferably formed as a fine structure having 1 to 100 recesses per 100 μm 2 .

紫外線硬化樹脂層表面の微細な凹凸は市販の触針式表面粗さ測定機或いは市販の光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定することが出来る。例えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、約4000μm2の範囲(55μm×75μm)について凹凸を測定し、凹凸を底部側より等高線のごとく色分けして2次元的に表示する。 Fine irregularities on the surface of the ultraviolet curable resin layer can be measured by a commercially available stylus type surface roughness measuring machine or a commercially available optical interference type surface roughness measuring machine. For example, the unevenness is measured in the range of about 4000 μm 2 (55 μm × 75 μm) by an optical interference type surface roughness measuring device, and the unevenness is color-coded like contour lines from the bottom side and displayed two-dimensionally.

ここで表面の平均水準を基準とした高さが0.1μm〜2.0μmである凸部または凹部の数をカウントし、100μm2の面積当たりの数で示すことが出来る。測定は防眩性低反射フィルム1m2当たり任意の10点を測定してその平均値として求められる。 Here, the number of convex portions or concave portions having a height of 0.1 μm to 2.0 μm based on the average level of the surface can be counted and represented by the number per 100 μm 2 area. The measurement is obtained as an average value by measuring 10 arbitrary points per 1 m 2 of the antiglare low reflection film.

更に、本発明に係る紫外線硬化樹脂層は、表面の微細な凹凸の平均山谷間隔が1μm〜80μmであることが好ましく、更に好ましくは、10μm〜40μmである。   Furthermore, the ultraviolet curable resin layer according to the present invention preferably has an average crest / valley spacing of fine irregularities on the surface of 1 μm to 80 μm, and more preferably 10 μm to 40 μm.

ここで、微細凹凸構造の形状は、触針式表面粗さ測定機などにより測定出来、例えばダイヤモンドからなる先端部を頂角55度の円錐形とした直径1mmの測定針を介して微細凹凸構造面上を一定方向に3mmの長さで走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線として知見を得ることが出きる。或いは前述のごとく光学干渉式表面粗さ測定機によっても測定することが出来る。   Here, the shape of the fine concavo-convex structure can be measured by a stylus type surface roughness measuring machine or the like. For example, the fine concavo-convex structure is formed via a measuring needle having a diameter of 1 mm with a tip portion made of diamond having a conical shape with an apex angle of 55 degrees. It is possible to obtain knowledge as a surface roughness curve obtained by scanning the surface with a length of 3 mm in a certain direction and measuring the movement change in the vertical direction of the measuring needle in that case. Alternatively, it can be measured by an optical interference type surface roughness measuring machine as described above.

ここで、平均山谷間隔とは、前記の表面粗さ曲線における凹凸変化が微小な部分(平坦に近い部分)に基づいて表面粗さ曲線の凹凸変化が凸部として評価出来る基準線を想定し、その基準線からの当該凸部の高さの平均を中心線として、表面粗さ曲線がその中心線を下から上(または上から下)に通過する際の交点に基づきその交点間の距離の平均として定義することが出来る。   Here, the average peak-and-valley interval is assumed to be a reference line on which the unevenness change of the surface roughness curve can be evaluated as a protrusion based on a portion where the unevenness change in the surface roughness curve is minute (portion close to flat), Based on the intersection of the surface roughness curve passing from the bottom to the top (or from the top to the bottom) of the surface roughness curve with the average height of the convex part from the reference line as the center line, the distance between the intersections Can be defined as average.

また、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.1〜1μm程度の防眩層となるような形状であることが好ましい。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製非接触表面微細形状計測装置WYKO NT−2000を用いて測定することができる。   Moreover, it is preferable that it is a shape which becomes a glare-proof layer whose centerline average roughness (Ra) prescribed | regulated by JISB0601 is about 0.1-1 micrometer. The center line average roughness (Ra) is preferably measured by an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured, for example, using a non-contact surface fine shape measuring device WYKO NT-2000 manufactured by WYKO.

凹凸型ローラの材質は、金属、ステンレス、炭素鋼、アルミニウム合金、チタン合金、セラミック、硬質ゴム、強化プラスチック、石英またはこれらを組み合わせた素材などが使用できるが、強度の点や加工のし易さの点から凹凸型ローラは金属が好ましい。特に洗浄のし易さ、耐久性も重要であり、ステンレス製の凹凸型ローラを使用することが好ましい。また、表面に撥水もしくは撥水加工を施してもよい。凹凸型ローラに所望の凹凸面を形成する方法としてはエッチングによる方法、サンドブラストによる方法、機械的に加工する方法、レーザーを用いる方法または金型等を使用して形成することが出来る。   The material of the concavo-convex roller can be metal, stainless steel, carbon steel, aluminum alloy, titanium alloy, ceramic, hard rubber, reinforced plastic, quartz, or a combination of these materials. From this point, the concavo-convex roller is preferably a metal. In particular, ease of cleaning and durability are also important, and it is preferable to use a stainless uneven roller. Further, the surface may be subjected to water repellency or water repellency treatment. As a method of forming a desired concavo-convex surface on the concavo-convex roller, it can be formed using an etching method, a sand blasting method, a mechanical processing method, a laser method, a mold, or the like.

図3で例示した表面に凹凸を形成した空洞の石英の凹凸型ローラは、石英ローラにサンドブラスト処理またはフッ化水素によるエッチング処理を施すことによって作製することができる。本発明に用いられる石英ロールは石英ガラスで出来ており、石英ガラス(quartz glass)は溶融石英(fused quartz)、シリカガラス(silica glass)、溶融シリカ(fused silica)とも呼ばれる二酸化ケイ素(SiO2)単独からなるガラスである。密度2.20g・cm-3、軟化点1650℃、比熱0.201cal・g-1、熱膨張率は5.5〜5.8×10-7/℃と極めて小さく、従って耐熱衝撃性に優れている。屈折率nD1.4585、紫外線透過能は大きい。石英ロールの作製は石英、水晶、ケイ石あるいはケイ砂を溶融した後、冷却、加工して作製される。石英は紫外線透過能が大きいため、本発明のように凹凸型ローラの内側より紫外線を照射する配置とすることができる。 The hollow quartz concave / convex type roller having irregularities formed on the surface illustrated in FIG. 3 can be produced by subjecting the quartz roller to sand blasting or etching with hydrogen fluoride. The quartz roll used in the present invention is made of quartz glass, and the quartz glass is also referred to as fused quartz, silica glass, fused silica, or silicon dioxide (SiO 2 ). It is a single glass. Density 2.20 g · cm −3 , softening point 1650 ° C., specific heat 0.201 cal · g −1 , coefficient of thermal expansion is 5.5 to 5.8 × 10 −7 / ° C. ing. Refractive index n D 1.4585, ultraviolet ray transmission ability is large. The quartz roll is produced by melting, cooling, and processing quartz, quartz, quartzite, or quartz sand. Since quartz has a high ultraviolet ray transmitting ability, it can be arranged to irradiate ultraviolet rays from the inside of the concavo-convex roller as in the present invention.

石英ロール表面に凹凸形状を形成するには下記サンドプラスト処理またはエッチング処理を行うことが好ましい。   In order to form an uneven shape on the surface of the quartz roll, it is preferable to perform the following sand plast treatment or etching treatment.

(サンドブラスト処理)
サンドブラスト処理においては、平均粒径10μm以下のブラスト粒子を200kPa以下のブラスト圧力(ゲージ圧)で使用することが好ましい。ブラスト粒子の平均粒径が10μmを超える場合、またはブラスト圧力が200kPaを超える場合には、初期の微細傷の深さが深くなりすぎ、好ましくない。また、ブラスト粒子の粒径分布はできるだけシャープであることが好ましい。粒径分布がブロードな場合、得られる防眩性光学フィルムの均質性が低下するため、好ましくない。ブラスト粒子としては、例えば、住友化学工業(株)製のスミコランダムAA−5(平均粒径5μm)、スミコランダムAA−18(平均粒径18μm)が挙げられる。
(Sand blasting)
In the sandblast treatment, it is preferable to use blast particles having an average particle size of 10 μm or less at a blast pressure (gauge pressure) of 200 kPa or less. When the average particle diameter of the blast particles exceeds 10 μm, or when the blast pressure exceeds 200 kPa, the depth of the initial fine scratches becomes too deep, which is not preferable. The particle size distribution of the blast particles is preferably as sharp as possible. When the particle size distribution is broad, the homogeneity of the obtained antiglare optical film is lowered, which is not preferable. Examples of the blast particles include Sumiko Random AA-5 (average particle size 5 μm) and Sumiko Random AA-18 (average particle size 18 μm) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.

揺動させている凹凸型ローラの表面の全面にわたって、圧搾空気等の力で噴射ノズルの先端から、ブラスト粒子が吹き付けられ、該ブラスト処理により、凹凸型ローラの表面の全面に微細な凹凸が砂目状に形成される。ロールの回転と揺動の量、ブラスト粒子の吹き付け量、吹き付け時間は所望の凹凸形状に合わせて適宜選択すればよい。   Blast particles are sprayed from the tip of the spray nozzle with the force of compressed air or the like over the entire surface of the oscillating concavo-convex roller, and fine concavo-convex is formed on the entire surface of the concavo-convex roller by the blast treatment. It is formed in an eye shape. The amount of rotation and swing of the roll, the amount of blast particles sprayed, and the spraying time may be appropriately selected according to the desired uneven shape.

(エッチング処理)
フッ化水素処理によるエッチングにおいて、用いるフッ化水素を含む水溶液は1〜10質量%程度の濃度のフッ化水素酸(フッ化水素の水溶液)が適当であり、より好ましくは5〜10質量%濃度のフッ化水素酸である。フッ化水素の濃度が10質量%を超える場合、エッチングにより生成する粗面の面内均一性が低下するため、好ましくない。フッ化水素の濃度が1質量%を下回る場合、エッチング速度が極端に遅くなるので、実用的でない。エッチングの温度は20〜50℃程度が好ましく、30〜40℃がより好ましい。エッチング温度が20℃を下回ると、実用的なエッチング速度が得られないため、好ましくない。また、エッチング温度が40℃を超える場合、エッチングにより生成する粗面の面内均一性が低下するため好ましくない。
(Etching process)
In the etching by hydrogen fluoride treatment, the aqueous solution containing hydrogen fluoride to be used is suitably hydrofluoric acid having a concentration of about 1 to 10% by mass (aqueous solution of hydrogen fluoride), more preferably 5 to 10% by mass. Of hydrofluoric acid. When the concentration of hydrogen fluoride exceeds 10% by mass, the in-plane uniformity of the rough surface generated by etching is lowered, which is not preferable. When the concentration of hydrogen fluoride is less than 1% by mass, the etching rate is extremely slow, which is not practical. The etching temperature is preferably about 20 to 50 ° C, more preferably 30 to 40 ° C. An etching temperature lower than 20 ° C. is not preferable because a practical etching rate cannot be obtained. Further, when the etching temperature exceeds 40 ° C., the in-plane uniformity of the rough surface generated by etching is not preferable.

なお、表面凹凸化のためには、サンドブラスト処理にて微小な傷をガラス表面に生成させ、その後にフッ化水素を含む水溶液によるエッチングを行って、微細な凹凸を形成させてもよい。   In order to make the surface uneven, fine scratches may be formed by generating fine scratches on the glass surface by sandblasting and then etching with an aqueous solution containing hydrogen fluoride.

凹凸型ローラの偏芯は50μm以内であることが好ましく、20μm以内が更に好ましく、0〜5μmであることが更に好ましい。   The eccentricity of the concavo-convex roller is preferably 50 μm or less, more preferably 20 μm or less, and further preferably 0 to 5 μm.

凹凸型ローラの直径は5〜200cmが好ましく、10〜100cmが更に好ましく、10〜50cmが特に好ましい。   The diameter of the concavo-convex roller is preferably 5 to 200 cm, more preferably 10 to 100 cm, and particularly preferably 10 to 50 cm.

本発明において、支持体フィルム上にコーティングする紫外線硬化樹脂の表面に型押し部材を押し付けてコーティング層の表面を凹凸加工する場合は、コーティング層を塗布した後、硬化前または硬化中に型押し部材を押し付けて凹凸形状を設けた後、紫外線の照射や熱により硬化する。このため、凹凸形成時の温度は0〜100℃の範囲で行なわれることが好ましい。凹凸型ローラは温度調整機構を有していることも好ましい。   In the present invention, when pressing the embossing member on the surface of the UV curable resin to be coated on the support film to process the surface of the coating layer, the embossing member is applied before or during curing after the coating layer is applied. After pressing to provide an uneven shape, it is cured by ultraviolet irradiation or heat. For this reason, it is preferable to perform the temperature at the time of uneven | corrugated formation in the range of 0-100 degreeC. It is also preferable that the uneven roller has a temperature adjusting mechanism.

凹凸形状の形成処理速度は0.3m/分以上10m/分以下とすることが好ましく、0.5m/分以上5m/分以下とすることがより好ましい。   The uneven shape forming treatment speed is preferably 0.3 m / min or more and 10 m / min or less, and more preferably 0.5 m / min or more and 5 m / min or less.

本発明の凹凸型ローラと対向する位置には、支持部材としてのバックロールを配置することが好ましく、該バックロールは弾性部材からなり、弾性部材としては、好ましくは、JIS K 6253によるゴム硬度で15〜90°、好ましくは、20〜50°のプラスチック、ゴム材料が好ましい。例えばシリコーンゴム製が好ましく、硬度、40〜80°のものが得られる。このような弾性部材を用いることにより、凹凸型ローラとバックロール間でフィルム支持体及び紫外線硬化樹脂をニップしたときに、紫外線硬化樹脂層を押圧する圧力が、フィルム、また、バックロールを構成する弾性部材によって吸収、分散され、この圧力分散により、紫外線硬化樹脂層の割れ等を防止出来る。   A back roll as a support member is preferably disposed at a position facing the concavo-convex roller of the present invention. The back roll is made of an elastic member, and the elastic member is preferably rubber hardness according to JIS K 6253. A plastic or rubber material of 15 to 90 °, preferably 20 to 50 ° is preferable. For example, silicone rubber is preferable, and a product having a hardness of 40 to 80 ° is obtained. By using such an elastic member, when the film support and the ultraviolet curable resin are nipped between the uneven roller and the back roll, the pressure pressing the ultraviolet curable resin layer constitutes the film and the back roll. Absorbed and dispersed by the elastic member, and the pressure dispersion can prevent the ultraviolet curable resin layer from cracking.

バックロールを構成する弾性部材の硬度は、90°以上の高硬度では、前記の圧力分散がなく、視認側において、チリやホコリによる欠陥が低減しない。また裏面からのエンボス部材の押圧により割れ等の欠陥が出やすい。また、15°以下の低硬度では、エンボス部材による凹凸に追従した凹凸が出来にくく、押圧(線圧)を上げても、充分な凹凸の形成が出来ない。   When the hardness of the elastic member constituting the back roll is 90 ° or higher, the pressure dispersion does not occur, and defects due to dust or dust are not reduced on the viewing side. Moreover, defects such as cracks are likely to appear due to the pressing of the embossed member from the back surface. Further, at a low hardness of 15 ° or less, it is difficult to make unevenness following the unevenness by the embossing member, and even if the pressing (linear pressure) is increased, sufficient unevenness cannot be formed.

紫外線硬化樹脂の塗布装置としては、図1に示したエクストルージョン法に限定されず、デイップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラコート法、ロッドコート法、グラビアコート法、インクジェット法等の既存の塗布装置を使用することができる。   The ultraviolet curable resin coating apparatus is not limited to the extrusion method shown in FIG. 1, but includes a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a rod coating method, a gravure coating method, an inkjet method, and the like. Existing application equipment can be used.

乾燥装置23は、熱風による対流乾燥方式、赤外線等の輻射熱による輻射乾燥方式等の何れの乾燥方式でもよく、乾燥装置内のフィルム支持体Fの搬送方式としてはローラ搬送等の接触搬送方式、エアや気体で浮上させながら搬送する非接触方式の何れかでもよい。   The drying device 23 may be any drying method such as a convection drying method using hot air or a radiant drying method using radiant heat such as infrared rays. As a method for conveying the film support F in the drying device, a contact conveyance method such as roller conveyance, air, etc. Or a non-contact method of conveying while floating with gas.

本発明には除電装置を使用することも好ましく、特開2001−129839号公報段落番号[0028]〜[0032]及び[0034]〜[0035]に記載されているものが好ましく用いられるが、例えば、キーエンス社製のSJ−B01等の除電バーを凹凸形成用型押し部材ロールの近傍に設置することが静電気によるゴミ等の吸着を防ぎ、ウェブ上に均一な凹凸面を形成する上で好ましい。また、凹凸形成部でのフィルム破断が減るため好ましく用いられる。   In the present invention, it is also preferable to use a static eliminator, and those described in paragraph numbers [0028] to [0032] and [0034] to [0035] of JP-A No. 2001-129839 are preferably used. It is preferable to install a static elimination bar such as SJ-B01 manufactured by Keyence Corporation in the vicinity of the embossing-forming pressing member roll in order to prevent adsorption of dust and the like due to static electricity and to form a uniform uneven surface on the web. Moreover, since the film fracture | rupture in an uneven | corrugated formation part reduces, it is used preferably.

〔紫外線硬化樹脂層〕
本発明は、紫外線硬化樹脂をフィルム支持体と凹凸表面を有する凹凸型ローラ間に介在させた状態で紫外線を照射し、該紫外線硬化樹脂を重合硬化した後に、該フィルム支持体及び該紫外線硬化樹脂を該凹凸型ローラより剥離して表面凹凸形状光学フィルムを製造することが特徴である。
[UV curable resin layer]
The present invention irradiates ultraviolet rays in a state in which an ultraviolet curable resin is interposed between a film support and an uneven roller having an uneven surface, polymerizes and cures the ultraviolet curable resin, and then the film support and the ultraviolet curable resin. It is characterized in that a surface irregularity-shaped optical film is produced by peeling the film from the irregularity roller.

紫外線硬化樹脂層とは紫外線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。紫外線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線を照射することによって硬化させて紫外線硬化樹脂層が形成される
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
The UV curable resin layer refers to a layer mainly composed of a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by UV irradiation. As the ultraviolet curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and an ultraviolet curable resin layer is formed by being cured by irradiation with ultraviolet rays. An ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy resin, or the like is preferably used. Of these, ultraviolet curable acrylate resins are preferred.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭59−151110号に記載の、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) described in JP-A-59-151110 is preferably used. .

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る(例えば、特開昭59−151112号)。   An ultraviolet curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, or acrylic acid with a hydroxyl group or carboxyl group at the end of the polyester (see, for example, JP-A No. 59-151112).

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。   The ultraviolet curable epoxy acrylate resin is obtained by reacting a terminal hydroxyl group of an epoxy resin with a monomer such as acrylic acid, acrylic acid chloride, or glycidyl acrylate.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Examples of ultraviolet curable polyol acrylate resins include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipenta. Examples include erythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、用いられるエポキシ系紫外線反応性化合物を示す。   As examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin and the ultraviolet curable epoxy resin, an epoxy ultraviolet reactive compound to be used is shown.

(a)ビスフェノールAのグリシジルエーテル(この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールAとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる)
(b)ビスフェノールA等のフェノール性OHを2個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び/またはプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
(c)4,4′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
(d)ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
(e)脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)オキザレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−シクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−1′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−6′−メチル−1′−シクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5′,5′−スピロ−3″,4″−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
(f)2塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
(g)グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)ジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
(h)ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
(i)多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
(j)2−フルオロアルキル−1,2−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
(k)含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることが出来る。
(A) Glycidyl ether of bisphenol A (this compound is obtained as a mixture having different degrees of polymerization by reaction of epichlorohydrin and bisphenol A)
(B) A compound having a glycidyl ether group by reacting epichlorohydrin, ethylene oxide and / or propylene oxide with a compound having two phenolic OHs such as bisphenol A. (c) Glycidyl ether of 4,4'-methylenebisphenol (D) Epoxy compound of phenol formaldehyde resin of novolak resin or resol resin (e) Compound having alicyclic epoxide, for example, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) oxalate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ) Adipate, bis (3,4-epoxy-6-cyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl pimelate), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxy Rhohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methyl-cyclohexylmethyl-3', 4'-epoxy-1 '-Methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-6-methyl-cyclohexylmethyl-3', 4'-epoxy-6'-methyl-1'-cyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl- 5 ', 5'-spiro-3 ", 4" -epoxy) cyclohexane-meta-dioxane (f) diglycidyl ethers of dibasic acids such as diglycidyl oxalate, diglycidyl adipate, diglycidyl tetrahydrophthalate, di Glycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl Phthalate (g) Diglycidyl ether of glycol, such as ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, copoly (ethylene glycol-propylene glycol) di Glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether (h) Glycidyl ester of polymer acid, for example, polyglycidyl ester of polyacrylic acid, polyester diglycidyl ester (i) Polyhydric alcohol Glycidyl ethers such as glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglyceride Dil ether, pentaerythritol diglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, glucose triglycidyl ether (j) As diglycidyl ether of 2-fluoroalkyl-1,2-diol, the low refractive index substance (K) Examples of the fluorine-containing alkane-terminated diol glycidyl ether include fluorine-containing epoxy compounds of the fluorine-containing resin of the low refractive index material, and the like. I can do it.

上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として2000以下で、好ましくは1000以下である。   The molecular weight of the said epoxy compound is 2000 or less as an average molecular weight, Preferably it is 1000 or less.

上記のエポキシ化合物を紫外線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、(h)または(i)の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。   When the above epoxy compound is cured by ultraviolet rays, it is effective to use a compound having a polyfunctional epoxy group (h) or (i) in order to increase the hardness.

エポキシ系紫外線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、紫外線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。   The photopolymerization initiator or photosensitizer for cationically polymerizing an epoxy-based ultraviolet reactive compound is a compound capable of releasing a cationic polymerization initiator by ultraviolet irradiation, and particularly preferably has a cationic polymerization initiating ability by irradiation. It is a group of double salts that release certain Lewis acids.

紫外線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい紫外線反応性樹脂である。   The UV-reactive compound epoxy resin forms a polymerized, crosslinked structure or network structure by cationic polymerization, not by radical polymerization. Unlike radical polymerization, it is not affected by oxygen in the reaction system, so it is a preferable ultraviolet reactive resin.

本発明に有用な紫外線反応性エポキシ樹脂は、紫外線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。   The UV-reactive epoxy resin useful in the present invention is polymerized by a photopolymerization initiator or photosensitizer that releases a substance that initiates cationic polymerization by UV irradiation. As the photopolymerization initiator, a group of double salts of onium salts that release a Lewis acid that initiates cationic polymerization by light irradiation is particularly preferable.

かかる代表的なものは下記一般式(a)で表される化合物である。   A typical example is a compound represented by the following general formula (a).

一般式(a)
〔(R1a(R2b(R3c(R4dZ〕w+〔MeXvw-
式中、カチオンはオニウムであり、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、ハロゲン(例えばI、Br、Cl)、またはN=N(ジアゾ)であり、R1、R2、R3、R4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。a、b、c、dはそれぞれ0〜3の整数であって、a+b+c+dはZの価数に等しい。Meはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属(metalloid)であり、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲンであり、wはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、vはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
Formula (a)
[(R 1 ) a (R 2 ) b (R 3 ) c (R 4 ) d Z] w + [MeX v ] w-
Wherein cation is onium, Z is S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, halogen (eg I, Br, Cl), or N = N (diazo), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are organic groups which may be the same or different. a, b, c, and d are each an integer of 0 to 3, and a + b + c + d is equal to the valence of Z. Me is a metal or metalloid which is a central atom of a halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co, etc. X is halogen, w is the net charge of the halogenated complex ion, and v is the number of halogen atoms in the halogenated complex ion.

上記一般式(a)の陰イオン〔MeXvw-の具体例としては、テトラフルオロボレート(BF4 -)、テトラフルオロホスフェート(PF4 -)等を挙げることが出来る。 Specific examples of the anion [MeX v ] w− of the general formula (a) include tetrafluoroborate (BF 4 ), tetrafluorophosphate (PF 4 ) and the like.

また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン(ClO4 -)、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CF3SO3 -)、トルエンスルホン酸イオン等を挙げることが出来る。 Other anions include perchlorate ion (ClO 4 ), trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 ), toluene sulfonate ion, and the like.

このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でもVIA族芳香族オニウム塩、オキソスルホキソニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、チオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることが出来る。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することが出来る。   Among these onium salts, it is particularly effective to use an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator, and among them, a VIA group aromatic onium salt, an oxosulfoxonium salt, an aromatic diazonium salt, a thiopyrylium salt, and the like are preferable. . Moreover, an aluminum complex, a photodegradable silicon compound type | system | group polymerization initiator, etc. can be mentioned. The cationic polymerization initiator can be used in combination with a photosensitizer such as benzophenone, benzoin isopropyl ether, or thioxanthone.

また、エポキシアクリレート基を有する紫外線反応性化合物の場合は、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることが出来る。この紫外線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物100質量部に対して0.1質量部〜15質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは1質量部〜10質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。   In the case of an ultraviolet reactive compound having an epoxy acrylate group, a photosensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photosensitizer and photoinitiator used for this UV-reactive compound is sufficient to initiate the photoreaction at 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the UV-reactive compound, preferably Is 1-10 parts by mass. The sensitizer preferably has an absorption maximum from the near ultraviolet region to the visible light region.

本発明に有用な紫外線硬化樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、紫外線硬化性エポキシ樹脂(プレポリマー)100質量部に対して0.1質量部〜15質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、1質量部〜10質量部の範囲の添加が好ましい。   In the ultraviolet curable resin composition useful in the present invention, the polymerization initiator is generally preferably used in an amount of 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable epoxy resin (prepolymer). More preferably, addition in the range of 1 part by mass to 10 parts by mass is preferable.

また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することも出来、この場合、紫外線ラジカル重合開始剤と紫外線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。   An epoxy resin can be used in combination with the urethane acrylate type resin, polyether acrylate type resin, or the like. In this case, it is preferable to use an ultraviolet radical polymerization initiator and an ultraviolet cationic polymerization initiator in combination.

また、本発明に係る紫外線硬化樹脂層には、オキセタン化合物を用いることも出来る。   Moreover, an oxetane compound can also be used for the ultraviolet curable resin layer which concerns on this invention.

本発明に係る紫外線硬化樹脂層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダを上記記載の紫外線硬化樹脂に混合して使用することが出来る。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−COOM、−OH、−NR2、−NR3X、−SO3M、−OSO3M、−PO32、−OPO3M(ここで、Mは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を、Xはアミン塩を形成する酸を、Rは水素原子、アルキル基を表す)等を挙げることが出来る。 In the ultraviolet curable resin layer according to the present invention, a binder such as a known thermoplastic resin, thermosetting resin, or hydrophilic resin such as gelatin can be mixed with the above-described ultraviolet curable resin. These resins preferably have a polar group in the molecule. Examples of the polar group, -COOM, -OH, -NR 2, -NR 3 X, -SO 3 M, -OSO 3 M, -PO 3 M 2, -OPO 3 M ( wherein, M represents a hydrogen atom, an alkali A metal or an ammonium group, X represents an acid forming an amine salt, R represents a hydrogen atom or an alkyl group).

本発明に使用する紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、またはエキシマランプ等も用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20mJ/cm2以上が好ましく、更に好ましくは、50mJ/cm2〜10000mJ/cm2であり、特に好ましくは、50mJ/cm2〜2000mJ/cm2である。 As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound used in the present invention, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, or the like can also be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation light amount is preferably 20 mJ / cm 2 or more, more preferably 50 mJ / cm 2 to 10000 mJ / cm 2 , and particularly preferably 50 mJ / cm 2 to 2000 mJ / cm 2. It is.

また、紫外線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、付与する張力は30〜300N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよい。   Moreover, when irradiating an ultraviolet-ray, it is preferable to apply | coat tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, and the tension | tensile_strength to provide is preferable 30-300 N / m. The method for applying tension is not particularly limited, and tension may be applied in the transport direction on the back roll.

本発明に使用する上記紫外線硬化樹脂を光重合または光架橋反応を開始させるには、上記紫外線硬化樹脂のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることが出来る。   In order to initiate the photopolymerization or photocrosslinking reaction of the UV curable resin used in the present invention, the UV curable resin alone is started. However, since the polymerization induction period is long or the polymerization start is delayed, the photointensification is started. It is preferable to use a sensitizer or a photoinitiator, whereby the polymerization can be accelerated.

(光反応開始剤、光増感剤)
本発明に係る紫外線硬化樹脂は、紫外線の照射時において光反応開始剤、光増感剤を用いることが出来る。
(Photoinitiator, photosensitizer)
In the ultraviolet curable resin according to the present invention, a photoreaction initiator and a photosensitizer can be used at the time of ultraviolet irradiation.

具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤及び/または光増感剤の使用量は、組成物の1質量%〜10質量%が好ましく、特に好ましくは2.5質量%〜6質量%である。   Specific examples include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. Moreover, when using a photoreactant for the synthesis | combination of an epoxy acrylate-type resin, sensitizers, such as n-butylamine, a triethylamine, a tri-n-butylphosphine, can be used. The amount of the photoreaction initiator and / or photosensitizer contained in the ultraviolet curable resin composition excluding the solvent component that volatilizes after coating and drying is preferably 1% by mass to 10% by mass, particularly preferably. Is 2.5% by mass to 6% by mass.

また、紫外線硬化樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、後述する紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。   Moreover, when using an ultraviolet curable resin as an ultraviolet curable resin, you may include the ultraviolet absorber mentioned later in the ultraviolet curable resin composition to such an extent that the photocuring of the said ultraviolet curable resin is not prevented.

(酸化防止剤)
紫外線硬化樹脂層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることが出来る。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることが出来る。具体的には、例えば、4,4′−チオビス(6−tert−3−メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)メシチレン、ジ−オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることが出来る。
(Antioxidant)
In order to increase the heat resistance of the ultraviolet curable resin layer, an antioxidant that does not inhibit the photocuring reaction can be selected and used. For example, hindered phenol derivatives, thiopropionic acid derivatives, phosphite derivatives and the like can be mentioned. Specifically, for example, 4,4′-thiobis (6-tert-3-methylphenol), 4,4′-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) mesitylene, di-octadecyl-4- Examples thereof include hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl phosphate.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アデカオプトマーKR、BYシリーズのKR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(以上、旭電化工業(株)製)、コーエイハードのA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(以上、広栄化学工業(株)製)、セイカビームのPHC2210(S)、PHCX−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上、大日精化工業(株)製)、KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(以上、ダイセル・ユーシービー(株))、RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(以上、大日本インキ化学工業(株)製)、オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製)、サンラッド H−601(三洋化成工業(株)製)、SP−1509、SP−1507(以上、昭和高分子(株)製)、RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(以上、東亞合成(株)製)、またはその他の市販のものから適宜選択して利用することが出来る。   Examples of the ultraviolet curable resin include Adekaoptomer KR, BY series KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (above, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) ), Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS-101 FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), Seika Beam PHC2210 (S), PHCX-9 (K-3), PHC2213, DP-10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 )), KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (above, Daicel UC Corporation), RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102 RC-5120, RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), Aulex No. 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.), Sun Rad H-601 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.), SP-1509, SP-1507 (above, Showa Polymer Co., Ltd.), RCC-15C (Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), or other commercially available products can be used as appropriate.

紫外線硬化樹脂を含む塗布組成物は、固形分濃度は10質量%〜95質量%であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。   The coating composition containing the ultraviolet curable resin preferably has a solid content concentration of 10% by mass to 95% by mass, and an appropriate concentration is selected depending on the coating method.

(界面活性剤)
本発明に係る紫外線硬化樹脂層は界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、シリコン系またはフッ素系界面活性剤が好ましい。
(Surfactant)
The ultraviolet curable resin layer according to the present invention may contain a surfactant. As the surfactant, a silicon-based or fluorine-based surfactant is preferable.

シリコン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。   As the silicon-based surfactant, a nonionic surfactant having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene is preferable.

非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系界面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン)等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン鎖)が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。   A nonionic surfactant is a generic term for system surfactants that do not have a group capable of dissociating into ions in an aqueous solution. In addition to a hydrophobic group, a hydrophilic group includes a hydroxyl group of a polyhydric alcohol, a polyoxyalkylene chain ( Polyoxyethylene) or the like as a hydrophilic group. The hydrophilicity becomes stronger as the number of alcoholic hydroxyl groups increases and as the polyoxyalkylene chain (polyoxyethylene chain) becomes longer. The nonionic surfactant according to the present invention is characterized by having dimethylpolysiloxane as a hydrophobic group.

疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、紫外線硬化樹脂層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。   When a nonionic surfactant composed of a dimethylpolysiloxane having a hydrophobic group and a polyoxyalkylene having a hydrophilic group is used, the unevenness of the ultraviolet curable resin layer and the low refractive index layer and the antifouling property of the film surface are improved. It is thought that the hydrophobic group made of polymethylsiloxane is oriented on the surface and forms a film surface that is not easily soiled. This effect cannot be obtained by using other surfactants.

これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191等が挙げられる。   Specific examples of these nonionic surfactants include, for example, Nippon Unicar Co., Ltd., silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ- 2163, FZ-2164, FZ-2166, FZ-2191 and the like.

また、SUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805等が挙げられる。   Moreover, SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, etc. are mentioned.

また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を1つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することが出来るためと考えられる。   In addition, as a preferable structure of the nonionic surfactant in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene, a dimethylpolysiloxane structure portion and a polyoxyalkylene chain are alternately and repeatedly bonded. It is preferably a linear block copolymer. Since the main chain skeleton has a long chain length and a linear structure, it is excellent. This is considered to be due to the fact that one activator molecule can be adsorbed on the surface of the silica fine particle so as to cover the surface of the silica fine particle at a plurality of locations by being a block copolymer in which hydrophilic groups and hydrophobic groups are alternately repeated.

これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208等が挙げられる。   Specific examples thereof include, for example, silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208 and the like manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.

フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつ界面活性剤を用いることが出来る。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、N−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3−(フルオロアルキルオキシ)−1−アルキルスルホン酸ナトリウム、3−(ω−フルオロアルカノイル−N−エチルアミノ)−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、N−(3−パーフルオロオクタンスルホンアミド)プロピル−N,N−ジメチル−N−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、N−プロピル−N−(2−ヒドロキシエチル)パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−N−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス(N−パーフルオロオクチルスルホニル−N−エチルアミノエチル)等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。   As the fluorine-based surfactant, a surfactant having a hydrophobic group having a perfluorocarbon chain can be used. As types, fluoroalkylcarboxylic acid, N-perfluorooctanesulfonyl glutamate disodium, sodium 3- (fluoroalkyloxy) -1-alkylsulfonate, 3- (ω-fluoroalkanoyl-N-ethylamino) -1- Sodium propanesulfonate, N- (3-perfluorooctanesulfonamido) propyl-N, N-dimethyl-N-carboxymethyleneammonium betaine, perfluoroalkylcarboxylic acid, perfluorooctanesulfonic acid diethanolamide, perfluoroalkylsulfonic acid Salt, N-propyl-N- (2-hydroxyethyl) perfluorooctanesulfonamide, perfluoroalkylsulfonamidopropyltrimethylammonium salt, perfluoroalkyl-N-ethyl Ruhonirugurishin salts, phosphoric acid bis (N- perfluorooctylsulfonyl -N- ethylamino ethyl) and the like. In the present invention, nonionic surfactants are preferred.

これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フローラード、ゾニール等の商品名で市販されている。   These fluorosurfactants are commercially available under the trade names such as Megafac, F-Top, Surflon, Footagen, Unidyne, Florard, Zonyl and the like.

好ましい添加量は紫外線硬化樹脂層の塗布液に含まれる固形分当たり0.01〜3.0%であり、より好ましくは0.02〜1.0%である。   A preferable addition amount is 0.01 to 3.0%, more preferably 0.02 to 1.0%, based on the solid content contained in the coating solution of the ultraviolet curable resin layer.

しかしながら、他の界面活性剤も併用して用いてもよく、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。   However, other surfactants may be used in combination, and as appropriate, for example, anionic surfactants such as sulfonates, sulfates, and phosphates, and polyoxyethylene chain hydrophilic groups A nonionic surfactant such as an ether type or an ether ester type may be used in combination.

(紫外線硬化樹脂層の作製方法)
本発明に係る紫外線硬化樹脂層を塗設する際に溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中でもから適宜選択し、あるいはこれらを混合し利用できる。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。
(Method for producing UV curable resin layer)
When the ultraviolet curable resin layer according to the present invention is applied, a solvent may be contained, or it may be appropriately contained and diluted as necessary. Examples of the organic solvent contained in the coating solution include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), It can be appropriately selected from esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents, or a mixture thereof can be used. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

紫外線硬化樹脂層組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚で5μm〜30μmが適当で、好ましくは10μm〜20μmである。ドライ膜厚は0.1〜20μmが好ましく、3〜10μmがより好ましい。塗布速度は10m/分〜60m/分が好ましい。   As a method for applying the ultraviolet curable resin layer composition coating solution, a known method such as a gravure coater, a spinner coater, a wire bar coater, a roll coater, a reverse coater, an extrusion coater or an air doctor coater can be used. The coating amount is suitably 5 μm to 30 μm, preferably 10 μm to 20 μm in terms of wet film thickness. The dry film thickness is preferably from 0.1 to 20 μm, more preferably from 3 to 10 μm. The coating speed is preferably 10 m / min to 60 m / min.

紫外線硬化樹脂層組成物は塗布乾燥された後、紫外線照射により硬化処理される。前記紫外線の照射時間は0.5秒〜5分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、3秒〜2分である。   The ultraviolet curable resin layer composition is applied and dried, and then cured by ultraviolet irradiation. The irradiation time of the ultraviolet rays is preferably 0.5 seconds to 5 minutes, and more preferably 3 seconds to 2 minutes from the viewpoint of curing efficiency and work efficiency of the ultraviolet curable resin.

(微粒子)
こうして得た紫外線硬化樹脂層には耐傷性、滑り性や屈折率を調整し、また防眩性を調整するために無機化合物あるいは有機化合物の微粒子を含んでもよい。
(Fine particles)
The ultraviolet curable resin layer thus obtained may contain fine particles of an inorganic compound or an organic compound in order to adjust the scratch resistance, slipperiness and refractive index, and to adjust the antiglare property.

本発明における表面凹凸形状形成は凹凸型ローラを押し付けて形成するがのが基本である。しかし一般に行なわれる紫外線硬化樹脂層に凹凸形成を目的とした微粒子を含有させる方法を補助的に使用することもできる。   In the present invention, the surface uneven shape is basically formed by pressing the uneven roller. However, it is also possible to use a method of adding fine particles for the purpose of forming irregularities in an ultraviolet curable resin layer that is generally used.

また、微粒子を、巻取り状態のブロッキングの発生防止の目的や、反射防止層との密着性向上や、基材の紫外線硬化樹脂層の屈折率を高くして反射防止層を積層する場合に反射率低減に寄与させる目的や、帯電防止機能の付与の目的や、搬送時の帯電緩和等の各種の目的で紫外線硬化樹脂層に含有させることができる。この場合、少量の微粒子の添加で上記効果を得られるようにし、ヘイズの上昇を生じさせないようにすることが好ましい。   In addition, the fine particles are reflected when the antireflection layer is laminated for the purpose of preventing the occurrence of blocking in the wound state, improving the adhesion with the antireflection layer, or increasing the refractive index of the UV curable resin layer of the substrate. It can be contained in the ultraviolet curable resin layer for various purposes such as to contribute to reducing the rate, to impart an antistatic function, and to reduce charging during transportation. In this case, it is preferable to obtain the above effect by adding a small amount of fine particles and not to cause an increase in haze.

紫外線硬化樹脂層に使用される無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。   Examples of inorganic fine particles used in the UV curable resin layer include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, and firing. Mention may be made of kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.

また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物に加えることができる。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子(例えば、綜研化学製SX−130H、SX−200H、SX−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(例えば、綜研化学製MX150、MX300)が挙げられる。   Organic particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, and melamine resin powder. Polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluorinated ethylene resin powder can be added to the ultraviolet curable resin composition. Particularly preferred are cross-linked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H, manufactured by Soken Chemical) and polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150, MX300, manufactured by Soken Chemical).

これらの微粒子粉末の平均粒径としては、0.01〜5μmが好ましく0.1〜5.0μm、さらには、0.1〜4.0μmであることが特に好ましい。また、粒径の異なる2種以上の微粒子を含有することが好ましい。紫外線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜30質量部となるように配合することが望ましい。   The average particle size of these fine particle powders is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.1 to 5.0 μm, and particularly preferably 0.1 to 4.0 μm. Moreover, it is preferable to contain 2 or more types of microparticles | fine-particles from which a particle size differs. The proportion of the ultraviolet curable resin composition and the fine particles is desirably blended so as to be 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

本発明に係る紫外線硬化樹脂層の屈折率は、低反射性フィルムを得るための光学設計上から屈折率が1.5〜2.0、特に1.6〜1.7であることが好ましい。紫外線硬化樹脂層の屈折率は添加する微粒子あるいは無機バインダーの屈折率や含有量によって調製することができる。   The refractive index of the ultraviolet curable resin layer according to the present invention is preferably 1.5 to 2.0, particularly preferably 1.6 to 1.7 from the viewpoint of optical design for obtaining a low-reflective film. The refractive index of the ultraviolet curable resin layer can be adjusted depending on the refractive index and content of the fine particles to be added or the inorganic binder.

また、紫外線硬化樹脂層組成物塗布液には、特にシリコン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイル等が好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1,000〜100,000、好ましくは、2,000〜50,000が適当であり、数平均分子量が1,000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100,000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。   In addition, it is particularly preferable to add a silicon compound to the ultraviolet curable resin layer composition coating solution. For example, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2,000 to 50,000. When the number average molecular weight is less than 1,000, the coating film is dried. On the contrary, when the number average molecular weight exceeds 100,000, it tends to be difficult to bleed out on the surface of the coating film.

シリコン化合物の市販品としては、DKQ8−779(ダウコーニング社製商品名)、SF3771、SF8410、SF8411、SF8419、SF8421、SF8428、SH200、SH510、SH1107、SH3749、SH3771、BX16−034、SH3746、SH3749、SH8400、SH3771M、SH3772M、SH3773M、SH3775M、BY−16−837、BY−16−839、BY−16−869、BY−16−870、BY−16−004、BY−16−891、BY−16−872、BY−16−874、BY22−008M、BY22−012M、FS−1265(以上、東レ・ダウコーニングシリコーン社製商品名)、KF−101、KF−100T、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、シリコーンX−22−945、X22−160AS(以上、信越化学工業社製商品名)、XF3940、XF3949(以上、東芝シリコーン社製商品名)、ディスパロンLS−009(楠本化成社製)、グラノール410(共栄社油脂化学工業(株)製)、TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコーン製)、BYK−306、BYK−330、BYK−307、BYK−341、BYK−344、BYK−361(ビックケミ−ジャパン社製)日本ユニカー(株)製のLシリーズ、Yシリーズ、FZシリーズ等が挙げられ、好ましく用いられる。   Commercially available silicon compounds include DKQ8-779 (trade name, manufactured by Dow Corning), SF3771, SF8410, SF8411, SF8419, SF8421, SF8428, SH200, SH510, SH1107, SH3749, SH3771, BX16-034, SH3746, SH3749, SH8400, SH3771M, SH3772M, SH3773M, SH3775M, BY-16-837, BY-16-839, BY-16-869, BY-16-870, BY-16-004, BY-16-891, BY-16 872, BY-16-874, BY22-008M, BY22-012M, FS-1265 (above, product names manufactured by Toray Dow Corning Silicone), KF-101, KF-100T, KF351, KF3 2, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, Silicone X-22-945, X22-160AS (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), XF3940, XF3949 (trade name, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) ), Disparon LS-009 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), Granol 410 (manufactured by Kyoeisha Oil Chemical Co., Ltd.), TSF4440, TSF4441, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicone), BYK-306, BYK- 330, BYK-307, BYK-341, BYK-344, BYK-361 (manufactured by BYK-Japan), L series, Y series, FZ series, etc. manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. are preferably used.

これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   These components enhance the applicability to the substrate and the lower layer. When added to the outermost surface layer of the laminate, it not only improves the water repellency, oil repellency and antifouling properties of the coating film, but also exhibits an effect on the scratch resistance of the surface. These components are preferably added in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.

本発明の紫外線硬化樹脂層には導電性を有する金属酸化物微粒子を含有することも出来る。導電性を有する金属酸化物微粒子としては、Zr、Sn、Sb、As、Zn、Nb、In、Alから選択される金属酸化物微粒子が好ましく、具体的には、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO(インジウムティンオキサイド)、酸化亜鉛、ケイ酸アルミニウムを挙げることができる。特に、ITO等が好ましく用いられる。   The ultraviolet curable resin layer of the present invention may contain conductive metal oxide fine particles. The conductive metal oxide fine particles are preferably metal oxide fine particles selected from Zr, Sn, Sb, As, Zn, Nb, In, and Al. Specifically, aluminum oxide, tin oxide, and indium oxide. , ITO (indium tin oxide), zinc oxide, and aluminum silicate. In particular, ITO or the like is preferably used.

また、紫外線硬化樹脂層は、2層以上の重層構造を有していてもよく、その中の1層は例えば前記導電性微粒子、あるいは、イオン性ポリマーを含有する所謂帯電防止層としてもよいし、また、種々の表示素子に対する色補正用フィルタとして色調調整機能を有する色調調整剤を含有させてもよいし、また電磁波遮断剤あるいは赤外線吸収剤等を含有させそれぞれの機能を有するようにすることも出来る。   Further, the ultraviolet curable resin layer may have a multilayer structure of two or more layers, and one of the layers may be, for example, a so-called antistatic layer containing the conductive fine particles or an ionic polymer. In addition, a color tone adjusting agent having a color tone adjusting function may be included as a color correction filter for various display elements, or an electromagnetic wave blocking agent or an infrared absorber may be included to have each function. You can also.

〔フィルム支持体〕
一般に光学フィルムに用いられる支持体(基材フィルム)としては、セルロースエステルフィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができるが、本発明では、製造が容易であること、紫外線硬化樹脂層への接着性がよいこと、光学的に等方性であること、光学的に透明性であることから、セルロースエステルフィルムが好ましい。セルロースエステルフィルムの内では、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルムが、製造上、コスト面、透明性、等方性、接着性等の面から好ましい。具体的には、例えば、コニカミノルタタックKC8UX2M、KC4UX2M、KC4UY、KC8UT、KC5UN、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4(以上、コニカミノルタオプト(株)製)が好ましく用いられる。
[Film support]
As a support (base film) generally used for optical films, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyester film such as polyethylene naphthalate , Polyethylene film, polypropylene film, cellophane, cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin film, polymethyl Pentene film, polyetherketone film, Examples thereof include polyether ketone imide film, polyamide film, fluororesin film, nylon film, cycloolefin polymer film, polymethyl methacrylate film, and acrylic film. A cellulose ester film is preferred because it has good adhesion to the layer, is optically isotropic, and is optically transparent. Among the cellulose ester films, a cellulose triacetate film and a cellulose acetate propionate film are preferable from the viewpoint of production, cost, transparency, isotropic properties, adhesiveness, and the like. Specifically, for example, Konica Minoltak KC8UX2M, KC4UX2M, KC4UY, KC8UT, KC5UN, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4 (above, manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) is preferably used.

(セルロースエステルフィルム)
本発明に用いられるセルロースエステルは、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、特開平10−45804号、同8−231761号、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独または混合して用いることができる。
(Cellulose ester film)
The cellulose ester used in the present invention is preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. For example, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate and the like, and JP-A Nos. 10-45804 and 8-231761 , Mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate as described in US Pat. No. 2,319,052 can be used. Among the above descriptions, the lower fatty acid esters of cellulose particularly preferably used are cellulose triacetate and cellulose acetate propionate. These cellulose esters can be used alone or in combination.

セルロースエステルの分子量が小さ過ぎると引裂強度が低下するが、分子量を上げ過ぎるとセルロースエステルの溶解液の粘度が高くなり過ぎるため生産性が低下する。セルロースエステルの分子量は数平均分子量(Mn)で70000〜200000のものが好ましく、100000〜200000のものがさらに好ましい。   If the molecular weight of the cellulose ester is too small, the tear strength decreases. However, if the molecular weight is excessively increased, the viscosity of the cellulose ester solution becomes too high, resulting in a decrease in productivity. The molecular weight of the cellulose ester is preferably 70000-200000, more preferably 100,000-200000 in terms of number average molecular weight (Mn).

セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度(結合酢酸量)54.0〜62.5%のものが好ましく用いられ、さらに好ましいのは、平均酢化度が58.0〜62.5%のセルローストリアセテートである。平均酢化度が小さいと寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと溶剤に対する溶解度が低下し生産性が下がる。   In the case of cellulose triacetate, those having an average degree of acetylation (bound acetic acid amount) of 54.0 to 62.5% are preferably used, and more preferably an average degree of acetylation of 58.0 to 62.5%. Cellulose triacetate. When the average degree of acetylation is small, the dimensional change is large, and the polarization degree of the polarizing plate is lowered. When the average degree of acetylation is large, the solubility in a solvent is lowered and the productivity is lowered.

セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。   Preferred cellulose esters other than cellulose triacetate have an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, and when the substitution degree of acetyl group is X and the substitution degree of propionyl group or butyryl group is Y, the following formula ( It is a cellulose ester containing the cellulose ester which satisfy | fills I) and (II) simultaneously.

式(I) 2.6≦X+Y≦3.0
式(II) 0≦X≦2.5
この内、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Among these, cellulose acetate propionate is particularly preferably used, and it is particularly preferable that 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9. The portion that is not substituted with an acyl group usually exists as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独または混合して用いることができる。特に綿花リンター(以下、単にリンターとすることがある)から合成されたセルロースエステルを単独または混合して用いることが好ましい。   As the cellulose ester, a cellulose ester synthesized using cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to use a cellulose ester synthesized from cotton linter (hereinafter sometimes simply referred to as linter) alone or in combination.

本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは、溶液流延法で製造されるものでも、溶融流延法で製造されるものでもよいが、少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残留溶媒量が3〜40質量%である時に幅手方向に1.01〜1.5倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に2軸延伸することであり、剥離残留溶媒量が3〜40質量%である時に幅手方向及び長手方向に、各々1.01〜1.5倍に延伸されることが望ましい。こうすることによって、視認性に優れた反射防止フィルムを得ることができる。   The cellulose ester film used in the present invention may be either produced by a solution casting method or produced by a melt casting method, but is preferably at least stretched in the width direction, and in particular, solution casting. When the amount of residual solvent after peeling is 3 to 40% by mass in the process, it is preferably stretched 1.01 to 1.5 times in the width direction. More preferably, biaxial stretching is performed in the width direction and the longitudinal direction, and when the amount of the residual solvent is 3 to 40% by mass, the film is stretched by 1.01 to 1.5 times in the width direction and the longitudinal direction, respectively. It is desirable that By carrying out like this, the antireflection film excellent in visibility can be obtained.

このときの延伸倍率としては1.01〜1.5倍が好ましく、特に好ましくは、1.03〜1.45倍である。   The draw ratio at this time is preferably 1.01 to 1.5 times, and more preferably 1.03 to 1.45 times.

本発明においては長尺フィルムを用いることが好ましく、長尺とは具体的には100〜5000m程度のものをいう。また、フィルムの幅は1.3m以上が好ましく、1.3〜4m、好ましくは1.3〜2mであることがより好ましい。   In the present invention, it is preferable to use a long film, and the long film specifically refers to a film of about 100 to 5000 m. Further, the width of the film is preferably 1.3 m or more, more preferably 1.3 to 4 m, and more preferably 1.3 to 2 m.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは、光透過率が90%以上、より好ましくは93%以上の透明支持体であることが好ましい。   The cellulose ester film used in the present invention is preferably a transparent support having a light transmittance of 90% or more, more preferably 93% or more.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルム支持体は、その厚さが10〜100μmのものが好ましく、透湿性は、25℃、90±2%RHにおいて、200g/m2・24時間以下であることが好ましく、さらに好ましくは、10〜180g/m2・24時間以下であり、特に好ましくは、160g/m2・24時間以下である。 The cellulose ester film support used in the present invention preferably has a thickness of 10 to 100 μm, and its moisture permeability is 200 g / m 2 · 24 hours or less at 25 ° C. and 90 ± 2% RH. More preferably, it is 10 to 180 g / m 2 · 24 hours or less, and particularly preferably 160 g / m 2 · 24 hours or less.

特には、膜厚10〜60μmで透湿性が上記範囲内であることが好ましい。   In particular, it is preferable that the film thickness is 10 to 60 μm and the moisture permeability is within the above range.

ここで、支持体の透湿性は、JIS Z 0208に記載の方法に従い、各試料の透湿性を測定することができる。   Here, the moisture permeability of a support body can measure the moisture permeability of each sample according to the method of JISZ0208.

(可塑剤)
セルロースエステルフィルムには、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
(Plasticizer)
The cellulose ester film preferably contains the following plasticizer. Examples of plasticizers include phosphate ester plasticizers, phthalate ester plasticizers, trimellitic acid ester plasticizers, pyromellitic acid plasticizers, glycolate plasticizers, citrate ester plasticizers, and polyesters. A plasticizer, a polyhydric alcohol ester plasticizer, and the like can be preferably used.

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキシル)シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。   For phosphate plasticizers, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenylbiphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, etc. For phthalate ester plasticizers, diethyl phthalate, dimethoxy For trimellitic acid plasticizers such as ethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diphenyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, tributyl trimellitate, triphenyl trimellitate, triethyl For pyromellitic acid ester plasticizers such as trimellitate, tetrabutylpyromellitate, In the case of glycolate plasticizers such as lupyromelitate and tetraethylpyromellitate, triacetin, tributyrin, ethylphthalylethyl glycolate, methylphthalylethyl glycolate, butylphthalylbutyl glycolate, etc. Citrate, tri-n-butyl citrate, acetyl triethyl citrate, acetyl tri-n-butyl citrate, acetyl tri-n- (2-ethylhexyl) citrate and the like can be preferably used. Examples of other carboxylic acid esters include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters.

ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,2−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。   As the polyester plasticizer, a copolymer of a dibasic acid and a glycol such as an aliphatic dibasic acid, an alicyclic dibasic acid, or an aromatic dibasic acid can be used. The aliphatic dibasic acid is not particularly limited, and adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexyl dicarboxylic acid, and the like can be used. As glycol, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,2-butylene glycol and the like can be used. These dibasic acids and glycols may be used alone or in combination of two or more.

多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2ープロパンジオール、1,3ープロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2ーブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4ーブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5ーペンタンジオール、1,6ーヘキサンジオール、ヘキサントリオール、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールであることが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数1〜32の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数1〜20であることがさらに好ましく、炭素数1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸であることが好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量300〜1500の範囲であることが好ましく、350〜750の範囲であることがさらに好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The polyhydric alcohol ester plasticizer comprises an ester of a divalent or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid. Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, 2-n-butyl-2-ethyl-1,3- Examples thereof include propanediol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, xylitol and the like. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable. There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid used for polyhydric alcohol ester, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention. Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto. As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. It is more preferable that it is C1-C20, and it is especially preferable that it is C1-C10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid. Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanecarboxylic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid. Examples of preferred alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentane carboxylic acid, cyclohexane carboxylic acid, cyclooctane carboxylic acid, or derivatives thereof. Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, and tetralincarboxylic acid. And aromatic monocarboxylic acids possessed by them, or derivatives thereof. Particularly preferred is benzoic acid. Although there is no restriction | limiting in particular in the molecular weight of a polyhydric alcohol ester, It is preferable that it is the range of molecular weight 300-1500, and it is further more preferable that it is the range of 350-750. The larger one is preferable in terms of improvement in retention, and the smaller one is preferable in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基はカルボン酸で全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified with carboxylic acid, or a part of the OH groups may be left as they are.

これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。   These plasticizers are preferably used alone or in combination.

これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して1〜20質量%が好ましく、特に好ましくは、3〜13質量%である。   The amount of these plasticizers used is preferably from 1 to 20% by weight, particularly preferably from 3 to 13% by weight, based on the cellulose ester, in terms of film performance, processability and the like.

(紫外線吸収剤)
本発明では、支持体に紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
(UV absorber)
In the present invention, an ultraviolet absorber is preferably used for the support.

紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。   As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.

本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of ultraviolet absorbers preferably used in the present invention include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, and the like. For example, but not limited to.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式(A)で示される化合物が好ましく用いられる。   As the benzotriazole ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula (A) is preferably used.

Figure 2007076089
Figure 2007076089

式中、R1、R2、R3、R4及びR5は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または5〜6員の複素環基を表し、R4とR5は閉環して5〜6員の炭素環を形成してもよい。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different, and are a hydrogen atom, halogen atom, nitro group, hydroxyl group, alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxyl group, acyloxy Represents a group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, mono- or dialkylamino group, acylamino group or 5- to 6-membered heterocyclic group, and R 4 and R 5 are closed to form a 5- to 6-membered carbocyclic ring May be.

また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。   Moreover, these groups described above may have an arbitrary substituent.

以下に本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of the ultraviolet absorber used for this invention is given to the following, this invention is not limited to these.

UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171、チバスペシャルティケミカルズ製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109、チバスペシャルティケミカルズ製)
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式(B)で表される化合物が好ましく用いられる。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6 (Linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN171, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- Mixture of 4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (TINUVIN109, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
As the benzophenone-based ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula (B) is preferably used.

Figure 2007076089
Figure 2007076089

式中、Yは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Aは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−CO(NH)n-1−D基を表し、Dはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。m及びnは1または2を表す。 In the formula, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxyl group, and a phenyl group, and these alkyl group, alkenyl group, and phenyl group may have a substituent. A represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, a cycloalkyl group, an alkylcarbonyl group, an alkylsulfonyl group or a —CO (NH) n-1 —D group, and D represents an alkyl group, an alkenyl group or a substituent. Represents a phenyl group which may have m and n represent 1 or 2.

上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数24までの直鎖または分岐の脂肪族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数18までのアルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数16までのアルケニル基でアリル基、2−ブテニル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェニル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい)等が挙げられる。   In the above, the alkyl group represents, for example, a linear or branched aliphatic group having up to 24 carbon atoms, the alkoxyl group represents, for example, an alkoxyl group having up to 18 carbon atoms, and the alkenyl group has, for example, carbon number An alkenyl group up to 16 represents an allyl group, a 2-butenyl group, or the like. In addition, as substituents to alkyl groups, alkenyl groups, and phenyl groups, halogen atoms such as chlorine atoms, bromine atoms, fluorine atoms, etc., hydroxyl groups, phenyl groups (this phenyl group is substituted with alkyl groups or halogen atoms, etc.) May be used).

以下に一般式(B)で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the benzophenone compound represented by the general formula (B) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
As the above-mentioned ultraviolet absorbers preferably used in the present invention, benzotriazole-based ultraviolet absorbers and benzophenone-based ultraviolet absorbers that are highly transparent and excellent in preventing deterioration of polarizing plates and liquid crystals are preferable, and unnecessary coloring A benzotriazole-based ultraviolet absorber with a lower content is particularly preferably used.

また、特願平11−295209号に記載されている分配係数が9.2以上の紫外線吸収剤は、支持体に用いた時、支持体の面品質に優れ、塗布性にも優れ好ましい。特に分配係数が10.1以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。   In addition, an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 9.2 or more described in Japanese Patent Application No. 11-295209 is excellent in surface quality of the support and excellent in coatability when used in the support. In particular, it is preferable to use an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 10.1 or more.

また、特開平6−148430号の一般式(1)または一般式(2)、特願2000−156039の一般式(3)、(6)、(7)記載の高分子紫外線吸収剤(または紫外線吸収性ポリマー)も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、PUVA−30M(大塚化学(株)製)等が市販されている。   Further, the polymer ultraviolet absorber (or ultraviolet ray) described in the general formula (1) or general formula (2) of JP-A-6-148430 and the general formulas (3), (6), and (7) of Japanese Patent Application No. 2000-156039. Absorbable polymers) are also preferably used. As a polymer ultraviolet absorber, PUVA-30M (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) and the like are commercially available.

(微粒子)
本発明において、セルロースエステルフィルム中に微粒子を含有していることが好ましく、微粒子としては、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましい。微粒子の2次粒子の平均粒径は0.01〜1.0μmの範囲で、その含有量はセルロースエステルに対して0.005〜0.3質量%が好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子には有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類(特にメチル基を有するアルコキシシラン類)、シラザン、シロキサン等が挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方がマット効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜50nmで、より好ましくは7〜16nmである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、通常、凝集体として存在しセルロースエステルフィルム表面に0.01〜1.0μmの凹凸を生成させることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としてはアエロジル社製のAEROSIL(アエロジル)200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812、OX50、TT600等を挙げることができ、好ましくはAEROSIL(アエロジル)200V、R972、R972V、R974、R202、R812である。これらの微粒子は2種以上併用してもよい。2種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えばAEROSIL(アエロジル)200VとR972Vを質量比で0.1:99.9〜99.9:0.1の範囲で使用できる。本発明において、微粒子はドープ調製時、セルロースエステル、他の添加剤及び有機溶媒とともに含有させて分散してもよいが、セルロースエステル溶液とは、別に微粒子分散液のような十分に分散させた状態でドープを調製するのが好ましい。微粒子を分散させるために、前もって有機溶媒にひたしてから高剪断力を有する分散機(高圧分散装置)で細分散させておくのが好ましい。その後により多量の有機溶媒に分散して、セルロースエステル溶液と合流させ、インラインミキサーで混合してドープとすることが好ましい。この場合、微粒子分散液に紫外線吸収剤を加え紫外線吸収剤液としてもよい。
(Fine particles)
In the present invention, the cellulose ester film preferably contains fine particles. Examples of the fine particles include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, and hydration. It is preferable to contain inorganic fine particles such as calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, and crosslinked polymer fine particles. Of these, silicon dioxide is preferable because it can reduce the haze of the film. The average particle size of the secondary particles of the fine particles is in the range of 0.01 to 1.0 μm, and the content is preferably 0.005 to 0.3% by mass with respect to the cellulose ester. In many cases, fine particles such as silicon dioxide are surface-treated with an organic substance, but such particles are preferable because they can reduce the haze of the film. Preferred organic substances for the surface treatment include halosilanes, alkoxysilanes (particularly alkoxysilanes having a methyl group), silazane, siloxane and the like. The larger the average particle size of the fine particles, the greater the mat effect, and on the contrary, the smaller the average particle size, the better the transparency. Therefore, the average particle size of the preferred primary particles is 5 to 50 nm, more preferably 7 to 16 nm. It is. These fine particles are usually present as aggregates in the cellulose ester film, and it is preferable to form irregularities of 0.01 to 1.0 μm on the surface of the cellulose ester film. Examples of the fine particles of silicon dioxide include Aerosil (Aerosil) 200, 200V, 300, R972, R972V, R974, R202, R812, OX50, TT600 manufactured by Aerosil Co., preferably AEROSIL (Aerosil) 200V, R972, R972V, R974, R202, and R812. Two or more kinds of these fine particles may be used in combination. When using 2 or more types together, it can mix and use in arbitrary ratios. In this case, fine particles having different average particle sizes and materials, for example, AEROSIL (Aerosil) 200V and R972V can be used in a mass ratio of 0.1: 99.9 to 99.9: 0.1. In the present invention, the fine particles may be dispersed together with cellulose ester, other additives, and an organic solvent at the time of preparing the dope, but in a sufficiently dispersed state like a fine particle dispersion separately from the cellulose ester solution. It is preferable to prepare the dope. In order to disperse the fine particles, it is preferably preliminarily dispersed in an organic solvent and then finely dispersed by a disperser (high pressure disperser) having a high shearing force. After that, it is preferable to disperse in a larger amount of organic solvent, merge with the cellulose ester solution, and mix with an in-line mixer to obtain a dope. In this case, an ultraviolet absorbent may be added to the fine particle dispersion to form an ultraviolet absorbent liquid.

上記の劣化防止剤、紫外線吸収剤及び/または微粒子は、セルロースエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。   The deterioration inhibitor, the ultraviolet absorber and / or the fine particles may be added together with the cellulose ester and the solvent during the preparation of the cellulose ester solution, or may be added during or after the solution preparation.

(有機溶媒)
本発明に用いられるドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル、芳香族環を少なくとも二つ有し、かつ少なくとも二つの芳香族環が平面構造を有する化合物、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。特に酢酸メチルが好ましい。
(Organic solvent)
The organic solvent useful for forming the dope used in the present invention is a cellulose ester, a compound having at least two aromatic rings, and at least two aromatic rings having a planar structure, and other additives at the same time. Any material that can be dissolved can be used without limitation. For example, as the chlorinated organic solvent, methylene chloride, as the non-chlorinated organic solvent, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro- Examples include 2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, and nitroethane. Methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate and acetone can be preferably used. Particularly preferred is methyl acetate.

ドープには、上記有機溶媒の他に、1〜40質量%の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数1〜4のアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。   The dope preferably contains 1 to 40% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms in addition to the organic solvent. When the proportion of alcohol in the dope increases, the web gels, facilitating peeling from the metal support, and when the proportion of alcohol is small, the role of promoting dissolution of cellulose esters in non-chlorine organic solvent systems There is also. Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, and tert-butanol. Ethanol is preferred because of the stability, boiling point of these inner dopes, relatively good drying, and no toxicity.

ドープ中のセルロースエステルの濃度は15〜40質量%、ドープ粘度は10〜50Pa・sの範囲に調整されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。   The concentration of the cellulose ester in the dope is preferably adjusted to 15 to 40% by mass, and the dope viscosity is preferably adjusted to a range of 10 to 50 Pa · s in order to obtain good film surface quality.

〔反射防止層〕
本発明では、前記表面凹凸形状光学フィルムの表面上に、金属酸化物微粒子を固形成分として20〜90%(質量比率)の範囲で含有する反射防止膜を設け防眩性反射防止フィルムとすることが好ましい。
(Antireflection layer)
In the present invention, an antireflection film containing metal oxide fine particles as a solid component in the range of 20 to 90% (mass ratio) is provided on the surface of the surface uneven optical film to provide an antiglare antireflection film. Is preferred.

本発明に用いられる反射防止層について説明する。   The antireflection layer used in the present invention will be described.

本発明に用いられる低屈折率層は、波長λの光に対して低屈折率層の光学膜厚をλ/4に設定して反射防止フィルムを作製する。光学膜厚とは、層の屈折率nと膜厚dとの積により定義される量である。屈折率の高低はそこに含まれる金属または化合物によってほぼ決まり、例えばTiは高く、Siは低く、Fを含有する化合物はさらに低く、このような組み合わせによって屈折率が設定される。屈折率と膜厚は、分光反射率の測定により計算して算出し得る。   For the low refractive index layer used in the present invention, an antireflection film is produced by setting the optical film thickness of the low refractive index layer to λ / 4 with respect to light of wavelength λ. The optical film thickness is an amount defined by the product of the refractive index n and the film thickness d of the layer. The level of the refractive index is largely determined by the metal or compound contained therein, for example, Ti is high, Si is low, F-containing compounds are further low, and the refractive index is set by such a combination. The refractive index and the film thickness can be calculated and calculated by measuring the spectral reflectance.

本発明の光学フィルムの一つである反射防止フィルムは低屈折率層を含め、多層の屈折率層を設けることも好ましい。透明なセルロースエステルフィルム支持体上に、紫外線硬化樹脂層を有し、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層できる。反射防止層は、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成したり、特に好ましくは、3層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる3層を、中屈折率層(支持体または紫外線硬化樹脂層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているものが好ましい。   The antireflection film which is one of the optical films of the present invention preferably includes a multilayer refractive index layer including a low refractive index layer. An ultraviolet curable resin layer is provided on a transparent cellulose ester film support, and can be laminated in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, and the like so that the reflectance is reduced by optical interference. The antireflection layer is composed of a combination of a high refractive index layer having a higher refractive index than that of the support and a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the support, and particularly preferably from three or more refractive index layers. An antireflection layer comprising three layers having different refractive indexes from the support side, a medium refractive index layer (a layer having a higher refractive index than that of the support or the UV curable resin layer and a lower refractive index than that of the high refractive index layer) ) / High refractive index layer / low refractive index layer are preferably laminated in this order.

または、2層以上の高屈折率層と2層以上の低屈折率層とを交互に積層した4層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。   Alternatively, an antireflection layer having a layer structure of four or more layers in which two or more high refractive index layers and two or more low refractive index layers are alternately laminated is also preferably used.

本発明に係る反射防止フィルムの好ましい層構成の例を下記に示す。ここで/は積層配置されていることを示している。   Examples of preferred layer configurations of the antireflection film according to the present invention are shown below. Here, / indicates that the layers are arranged in layers.

バックコート層/支持体/紫外線硬化樹脂層/低屈折率層
バックコート層/支持体/紫外線硬化樹脂層/中屈折率層/低屈折率層
バックコート層/支持体/紫外線硬化樹脂層/高屈折率層/低屈折率層
バックコート層/支持体/紫外線硬化樹脂層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
バックコート層/支持体/帯電防止層/紫外線硬化樹脂層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
帯電防止層/支持体/紫外線硬化樹脂層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
バックコート層/支持体/紫外線硬化樹脂層/高屈折率層/低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
汚れや指紋のふき取りが容易となるように、最表面の低屈折率層の上に、さらに防汚層を設けることもできる。防汚層としては、含フッ素有機化合物が好ましく用いられる。
Back coat layer / support / UV curable resin layer / low refractive index layer Back coat layer / support / UV curable resin layer / medium refractive index layer / low refractive index layer Back coat layer / support / UV curable resin layer / high Refractive index layer / Low refractive index layer Back coat layer / Support / UV curable resin layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Back coat layer / Support / Antistatic layer / UV curable resin layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Antistatic layer / Support / UV curable resin layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Back coat layer / Support / UV curable resin Layer / High Refractive Index Layer / Low Refractive Index Layer / High Refractive Index Layer / Low Refractive Index Layer An antifouling layer is further provided on the outermost low refractive index layer so that dirt and fingerprints can be easily wiped off. You can also. As the antifouling layer, fluorine-containing organic compounds are preferably used.

光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。また、帯電防止層は導電性ポリマー微粒子(例えば架橋カチオン微粒子)または金属酸化物微粒子(例えば、SnO2、ITO等)を含む層であることが好ましく、塗布によって設けることができる。または大気圧プラズマ処理、プラズマCVD等によって金属酸化物層(ZnO2、SnO2、ITO等)を設けることができる。 As long as the reflectance can be reduced by optical interference, it is not limited to these layer configurations. The antistatic layer is preferably a layer containing conductive polymer fine particles (for example, crosslinked cation fine particles) or metal oxide fine particles (for example, SnO 2 , ITO, etc.), and can be provided by coating. Alternatively, a metal oxide layer (ZnO 2 , SnO 2 , ITO, or the like) can be provided by atmospheric pressure plasma treatment, plasma CVD, or the like.

〈低屈折率層〉
本発明に用いられる低屈折率層では以下の中空シリカ系微粒子が好ましく用いられる。
<Low refractive index layer>
In the low refractive index layer used in the present invention, the following hollow silica fine particles are preferably used.

(中空シリカ系微粒子)
中空微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。
(Hollow silica fine particles)
The hollow fine particles are: (I) a composite particle comprising a porous particle and a coating layer provided on the surface of the porous particle, or (II) a cavity inside, and the content is a solvent, gas or porous substance It is a hollow particle filled with. The low refractive index layer may contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or may contain both.

尚、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空球状微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される中空球状微粒子は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層等の透明被膜の膜厚の2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの中空球状微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)が好ましい。   The hollow particles are particles having cavities inside, and the cavities are surrounded by particle walls. The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle diameter of such hollow spherical fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The hollow spherical fine particles used are appropriately selected according to the thickness of the transparent film to be formed, and are in the range of 2/3 to 1/10 of the film thickness of the transparent film such as the low refractive index layer to be formed. Is desirable. These hollow spherical fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), and ketone alcohol (for example, diacetone alcohol) are preferable.

複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することが出来ないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持出来ないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, when the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and it is easy to use silicate monomers and oligomers with a low polymerization degree, which are coating liquid components described later. In some cases, the composite particles enter the inside of the composite particle, the internal porosity is reduced, and the low refractive index effect cannot be obtained sufficiently. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, when the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. is there.

複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等との1種または2種以上を挙げることが出来る。このような多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表したときのモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、更に屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. In addition, components other than silica may be contained. Specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MO X / SiO 2 when the silica is expressed by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is expressed in terms of oxide (MO X ) is 0.0001 to 1.0, Preferably it is in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MO X / SiO 2 of less than 0.0001. Even if it is obtained, particles having a small pore volume and a low refractive index cannot be obtained. In addition, when the molar ratio MO X / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it is difficult to obtain a material having a lower refractive index. is there.

このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。尚、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることが出来る。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例表した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there. Incidentally, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Examples of the porous substance include those composed of the compounds exemplified for the porous particles. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

このような中空球状微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。   As a method for producing such hollow spherical fine particles, for example, the method for preparing complex oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed.

このようにして得られた中空微粒子の屈折率は、内部が空洞であるので屈折率が低く、それを用いた本発明に用いられる低屈折率層の屈折率は、1.30〜1.50であることが好ましく、1.35〜1.44であることが更に好ましい。   The refractive index of the hollow fine particles thus obtained is low because the inside is hollow, and the refractive index of the low refractive index layer used in the present invention using the hollow fine particle is 1.30 to 1.50. It is preferable that it is 1.35-1.44.

外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子の低屈折率層塗布液中の含量(質量)は、10〜80質量%が好ましく、更に好ましくは20〜60質量%である。   The content (mass) of the hollow silica fine particles having an outer shell layer and porous or hollow inside in the low refractive index layer coating solution is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 60% by mass. It is.

(テトラアルコキシシラン化合物またはその加水分解物)
本発明に用いられる低屈折率層には、ゾルゲル素材としてテトラアルコキシシラン化合物またはその加水分解物が含有されることが好ましい。
(Tetraalkoxysilane compound or its hydrolyzate)
The low refractive index layer used in the present invention preferably contains a tetraalkoxysilane compound or a hydrolyzate thereof as a sol-gel material.

本発明に用いられる低屈折率層用の素材として、前記無機珪素酸化物以外に有機基を有する珪素酸化物を用いることも好ましい。これらは一般にゾルゲル素材と呼ばれるが、金属アルコレート、オルガノアルコキシ金属化合物及びその加水分解物を用いることが出来る。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等)、アルキルトリアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等)、アリールトリアルコキシシラン(フェニルトリメトキシシラン等)、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。   As a material for the low refractive index layer used in the present invention, it is also preferable to use a silicon oxide having an organic group in addition to the inorganic silicon oxide. These are generally called sol-gel materials, but metal alcoholates, organoalkoxy metal compounds and hydrolysates thereof can be used. In particular, alkoxysilane, organoalkoxysilane and its hydrolyzate are preferable. Examples of these include tetraalkoxysilane (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc.), alkyltrialkoxysilane (methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, etc.), aryltrialkoxysilane (phenyltrimethoxysilane, etc.), dialkyl. Examples thereof include dialkoxysilane and diaryl dialkoxysilane.

本発明に用いられる低屈折率層は前記珪素酸化物と下記シランカップリング剤を含むことが好ましい。   The low refractive index layer used in the present invention preferably contains the silicon oxide and the following silane coupling agent.

具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the silane coupling agent include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane. Examples include methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, and phenyltriacetoxysilane.

また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the silane coupling agent having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and phenylmethyldiethoxysilane.

シランカップリング剤の具体例としては、信越化学工業株式会社製KBM−303、KBM−403、KBM−402、KBM−403、KBM−1403、KBM−502、KBM−503、KBE−502、KBE−503、KBM−603、KBE−603、KBM−903、KBE−903、KBE−9103、KBM−802、KBM−803等が挙げられる。   Specific examples of the silane coupling agent include: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBM-303, KBM-403, KBM-402, KBM-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE- 503, KBM-603, KBE-603, KBM-903, KBE-903, KBE-9103, KBM-802, KBM-803 and the like.

これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、前述の珪素酸化物粒子及び有機基を有する珪素酸化物の表面が反応し易く、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えてもよい。   These silane coupling agents are preferably hydrolyzed with a necessary amount of water in advance. When the silane coupling agent is hydrolyzed, the above-described silicon oxide particles and the surface of the silicon oxide having an organic group easily react, and a stronger film is formed. Moreover, you may add the hydrolyzed silane coupling agent in a coating liquid previously.

また、低屈折率層は、5〜50質量%の量のポリマーを含むことも出来る。ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持出来るように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の10〜30質量%であることが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するためには、(1)微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、(2)微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成するか、或いは(3)微粒子間のバインダーとして、ポリマーを使用することが好ましい。   The low refractive index layer can also contain a polymer in an amount of 5-50% by weight. The polymer has a function of adhering fine particles and maintaining the structure of a low refractive index layer including voids. The amount of the polymer used is adjusted so that the strength of the low refractive index layer can be maintained without filling the voids. The amount of the polymer is preferably 10 to 30% by mass of the total amount of the low refractive index layer. In order to adhere the fine particles with the polymer, (1) the polymer is bonded to the surface treatment agent of the fine particles, (2) the fine particles are used as a core, and a polymer shell is formed around the fine particles. It is preferable to use a polymer as the binder.

バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導体(例えば、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例えば、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例えば、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミドが挙げられる。   The binder polymer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohols and (meth) acrylic acid (for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol). Tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives For example, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylene bisacrylamide) and methacrylamide Can be mentioned.

また、本発明に用いられる低屈折率層が、熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう)の架橋からなる低屈折率層であってもよい。   Further, the low refractive index layer used in the present invention may be a low refractive index layer formed by crosslinking a fluorine-containing resin that is crosslinked by heat or ionizing radiation (hereinafter also referred to as “fluorine-containing resin before crosslinking”). .

架橋前の含フッ素樹脂としては、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることが出来る。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えば、ビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内に予め架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー(例えば、(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等)が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう1つ以上の反応性基を持つ化合物を加えることにより、架橋構造を導入出来ることが特開平10−25388号、同10−147739号に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、若しくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤若しくはエポキシ基と熱酸発生剤等の相み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤若しくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光(好ましくは紫外線、電子ビーム等)の照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。   Preferred examples of the fluorine-containing resin before crosslinking include a fluorine-containing copolymer formed from a fluorine-containing vinyl monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group. Specific examples of the fluorine-containing vinyl monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3 -Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (produced by Osaka Organic Chemicals) or M-2020 (produced by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. Is mentioned. As monomers for imparting a crosslinkable group, glycidyl methacrylate, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, vinyl glycidyl ether, and other vinyl monomers having a crosslinkable functional group in advance in the molecule. , Vinyl monomers having a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, sulfonic acid group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyalkyl vinyl ether, hydroxyalkyl allyl) Ether, etc.). The latter can introduce a crosslinked structure after copolymerization by adding a compound that reacts with a functional group in the polymer and one or more reactive groups. No. 147739. Examples of the crosslinkable group include acryloyl, methacryloyl, isocyanate, epoxy, aziridine, oxazoline, aldehyde, carbonyl, hydrazine, carboxyl, methylol, and active methylene group. When the fluorine-containing copolymer is cross-linked by heating by a cross-linking group that reacts by heating, or a combination of an ethylenically unsaturated group and a thermal radical generator or an epoxy group and a thermal acid generator, the thermosetting type In the case of crosslinking by irradiation with light (preferably ultraviolet rays, electron beams, etc.) by a combination of an ethylenically unsaturated group and a photo radical generator, or an epoxy group and a photo acid generator, etc., it is an ionizing radiation curable type. .

架橋前の含フッ素共重合体を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合は、含フッ素ビニルモノマーが好ましくは20〜70モル%、より好ましくは40〜70モル%、架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは1〜20モル%、より好ましくは5〜20モル%、併用されるその他のモノマーが好ましくは10〜70モル%、より好ましくは10〜50モル%の割合である。   The proportion of each of the above monomers used to form the fluorinated copolymer before crosslinking is preferably 20 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol% of the fluorinated vinyl monomer. The amount of the monomer is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 5 to 20 mol%, and the other monomer used in combination is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%.

本発明に用いられる低屈折率層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号)により、塗布により形成することが出来る。また、2以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許2,761,791号、同2,941,898号、同3,508,947号、同3,526,528号及び原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書店(1973)に記載がある。   The low refractive index layer used in the present invention is applied by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating or extrusion coating (US Pat. No. 2,681,294). Can be formed. Two or more layers may be applied simultaneously. For the method of simultaneous application, US Pat. Nos. 2,761,791, 2,941,898, 3,508,947, 3,526,528 and Yuji Harasaki, Coating Engineering, page 253, It is described in Asakura Shoten (1973).

本発明に用いられる低屈折率層の膜厚は50〜200nmであることが好ましく、60〜150nmであることがより好ましい。   The film thickness of the low refractive index layer used in the present invention is preferably 50 to 200 nm, and more preferably 60 to 150 nm.

〈高屈折率層及び中屈折率層〉
本発明においては、反射率の低減のために凹凸形状の紫外線硬化樹脂透層と低屈折率層との間に、高屈折率層を設けることが好ましい。また、該凹凸形状の紫外線硬化樹脂透層と高屈折率層との間に中屈折率層を設けることは、反射率の低減のために更に好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、透明支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の厚さは、5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度でH以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
<High refractive index layer and medium refractive index layer>
In the present invention, it is preferable to provide a high refractive index layer between the concave-convex ultraviolet curable resin permeable layer and the low refractive index layer in order to reduce the reflectance. In addition, it is more preferable to provide a middle refractive index layer between the uneven ultraviolet curable resin permeable layer and the high refractive index layer in order to reduce the reflectance. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.30, and more preferably 1.57 to 2.20. The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the transparent support and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55 to 1.80. The thickness of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm. The haze of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher, with a pencil hardness of 1 kg.

中、高屈折率層は下記一般式(1)で表される有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物を含有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させた屈折率1.55〜2.5の層であることが好ましい。   The middle refractive index layer is formed by applying a coating solution containing a monomer, oligomer or hydrolyzate of an organic titanium compound represented by the following general formula (1) and drying it. A 2.5 layer is preferred.

一般式(1) Ti(OR14
式中、R1としては炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基がよいが、好ましくは炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基である。また、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、アルコキシド基が加水分解を受けて−Ti−O−Ti−のように反応して架橋構造を作り、硬化した層を形成する。
General formula (1) Ti (OR 1 ) 4
In the formula, R 1 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. Moreover, the monomer, oligomer, or hydrolyzate thereof of an organic titanium compound reacts like -Ti-O-Ti- when an alkoxide group is hydrolyzed to form a crosslinked structure, thereby forming a cured layer.

本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーとしては、Ti(OCH34、Ti(OC254、Ti(O−n−C374、Ti(O−i−C374、Ti(O−n−C494、Ti(O−n−C374の2〜10量体、Ti(O−i−C374の2〜10量体、Ti(O−n−C494の2〜10量体等が好ましい例として挙げられる。これらは単独で、または2種以上組み合わせて用いることが出来る。中でもTi(O−n−C374、Ti(O−i−C374、Ti(O−n−C494、Ti(O−n−C374の2〜10量体、Ti(O−n−C494の2〜10量体が特に好ましい。 Examples of the monomer or oligomer of the organic titanium compound used in the present invention include Ti (OCH 3 ) 4 , Ti (OC 2 H 5 ) 4 , Ti (On-C 3 H 7 ) 4 , Ti (O-i- C 3 H 7) 4, Ti (O-n-C 4 H 9) 4, Ti (O-n-C 3 H 7) 4 2-10 mer, Ti (O-i-C 3 H 7) Preferred examples include 4 to 10 mer of 4 and 2 to 10 mer of Ti (On-C 4 H 9 ) 4 . These may be used alone or in combination of two or more. Of these Ti (O-n-C 3 H 7) 4, Ti (O-i-C 3 H 7) 4, Ti (O-n-C 4 H 9) 4, Ti (O-n-C 3 H 7 ) 4 to 10-mer and Ti (On-C 4 H 9 ) 4 to 10-mer are particularly preferable.

上記有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、塗布液に含まれる固形分中の50.0質量%〜98.0質量%を占めていることが望ましい。固形分比率は50質量%〜90質量%がより好ましく、55質量%〜90質量%が更に好ましい。この他、塗布組成物には有機チタン化合物のポリマー(予め有機チタン化合物の加水分解を行って架橋したもの)或いは酸化チタン微粒子を添加することも好ましい。   It is desirable that the monomer, oligomer or hydrolyzate thereof of the organic titanium compound occupy 50.0% by mass to 98.0% by mass in the solid content contained in the coating liquid. The solid content ratio is more preferably 50% by mass to 90% by mass, and further preferably 55% by mass to 90% by mass. In addition, it is also preferable to add to the coating composition a polymer of an organic titanium compound (a product obtained by crosslinking the organic titanium compound in advance by hydrolysis) or titanium oxide fine particles.

本発明に好ましく用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、金属酸化物微粒子を固形成分として20〜90%(質量比率)の範囲で含有し、更にバインダーポリマーを含むことが好ましい。   The high refractive index layer and medium refractive index layer preferably used in the present invention preferably contain metal oxide fine particles in the range of 20 to 90% (mass ratio) as a solid component, and further contain a binder polymer.

上記高屈折率層及び中屈折率層は、微粒子として金属酸化物粒子を含み、更にバインダーポリマーを含むことが好ましい。   The high refractive index layer and medium refractive index layer preferably contain metal oxide particles as fine particles, and further contain a binder polymer.

上記塗布液調製法で加水分解/重合した有機チタン化合物と金属酸化物粒子を組み合わせると、金属酸化物粒子と加水分解/重合した有機チタン化合物とが強固に接着し、粒子のもつ硬さと均一膜の柔軟性を兼ね備えた強い塗膜を得ることが出来る。   When the organic titanium compound hydrolyzed / polymerized by the coating liquid preparation method and the metal oxide particles are combined, the metal oxide particles and the hydrolyzed / polymerized organic titanium compound are firmly bonded, and the hardness and uniform film of the particles It is possible to obtain a strong coating film having both flexibility.

高屈折率層及び中屈折率層に用いる金属酸化物粒子は、屈折率が1.80〜2.80であることが好ましく、1.90〜2.80であることが更に好ましい。金属酸化物粒子の1次粒子の重量平均径は、1〜150nmであることが好ましく、1〜100nmであることが更に好ましく、1〜80nmであることが最も好ましい。層中での金属酸化物粒子の重量平均径は、1〜200nmであることが好ましく、5〜150nmであることがより好ましく、10〜100nmであることが更に好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。金属酸化物粒子の平均粒径は、20〜30nm以上であれば光散乱法により、20〜30nm以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。金属酸化物粒子の比表面積は、BET法で測定された値として、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることが更に好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The metal oxide particles used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer preferably have a refractive index of 1.80 to 2.80, and more preferably 1.90 to 2.80. The weight average diameter of the primary particles of the metal oxide particles is preferably 1 to 150 nm, more preferably 1 to 100 nm, and most preferably 1 to 80 nm. The weight average diameter of the metal oxide particles in the layer is preferably 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, still more preferably 10 to 100 nm, and more preferably 10 to 80 nm. Most preferred. The average particle diameter of the metal oxide particles is measured by a light scattering method if it is 20-30 nm or more, and by an electron micrograph if it is 20-30 nm or less. The specific surface area of metal oxide particles, as measured values by the BET method is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, with 30 to 150 m 2 / g Most preferably it is.

金属酸化物粒子の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物であり、具体的には二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化ジルコニウムが挙げられる。中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。金属酸化物粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことが出来る。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びS等が挙げられる。   Examples of the metal oxide particles include at least one selected from Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S. Specific examples of the metal oxide include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and zirconium oxide. Of these, titanium oxide, tin oxide, and indium oxide are particularly preferable. The metal oxide particles are mainly composed of oxides of these metals and can further contain other elements. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S.

金属酸化物粒子は表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することが出来る。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。   The metal oxide particles are preferably surface-treated. The surface treatment can be performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include alumina, silica, zirconium oxide and iron oxide. Of these, alumina and silica are preferable. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, a silane coupling agent is most preferable.

高屈折率層及び中屈折率層中の金属酸化物粒子の割合は、5〜95体積%であることが好ましく、より好ましくは20〜90体積%であり、更に好ましくは40〜85体積%である。   The ratio of the metal oxide particles in the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5 to 95% by volume, more preferably 20 to 90% by volume, and still more preferably 40 to 85% by volume. is there.

上記金属酸化物粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層及び中屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The metal oxide particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ester (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Group hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

また金属酸化物粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。   The metal oxide particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (for example, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

高屈折率層及び中屈折率層は、架橋構造を有するポリマー(以下、架橋ポリマーともいう)をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。   The high refractive index layer and the medium refractive index layer preferably use a polymer having a crosslinked structure (hereinafter also referred to as a crosslinked polymer) as a binder polymer. Examples of the crosslinked polymer include polymers having a saturated hydrocarbon chain such as polyolefin, and crosslinked products such as polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide and melamine resin. Among them, a crosslinked product of polyolefin, polyether and polyurethane is preferred, a crosslinked product of polyolefin and polyether is more preferred, and a crosslinked product of polyolefin is most preferred.

前記バインダーポリマー用いられるモノマーとしては、2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーが最も好ましいが、その例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミド等が挙げられる。アニオン性基を有するモノマー、及びアミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーは市販のモノマーを用いてもよい。好ましく用いられる市販のアニオン性基を有するモノマーとしては、KAYAMARPM−21、PM−2(日本化薬(株)製)、AntoxMS−60、MS−2N、MS−NH4(日本乳化剤(株)製)、アロニックスM−5000、M−6000、M−8000シリーズ(東亞合成化学工業(株)製)、ビスコート#2000シリーズ(大阪有機化学工業(株)製)、ニューフロンティアGX−8289(第一工業製薬(株)製)、NKエステルCB−1、A−SA(新中村化学工業(株)製)、AR−100、MR−100、MR−200(第八化学工業(株)製)等が挙げられる。また、好ましく用いられる市販のアミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーとしてはDMAA(大阪有機化学工業(株)製)、DMAEA,DMAPAA(興人(株)製)、ブレンマーQA(日本油脂(株)製)、ニューフロンティアC−1615(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。   The monomer used for the binder polymer is most preferably a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of the monomer include an ester of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di ( (Meth) acrylate, 1,4-dichlorohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate Polyester, polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone) ), Acrylamide (eg, methylenebisacrylamide), methacrylamide and the like. Commercially available monomers may be used as the monomer having an anionic group and the monomer having an amino group or a quaternary ammonium group. As a commercially available monomer having a commercially available anionic group, KAYAMAPMPM-21, PM-2 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Antox MS-60, MS-2N, MS-NH4 (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) , Aronix M-5000, M-6000, M-8000 series (manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.), Biscote # 2000 series (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), New Frontier GX-8289 (Daiichi Kogyo Seiyaku) NK ester CB-1, A-SA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), AR-100, MR-100, MR-200 (manufactured by Eighth Chemical Industry Co., Ltd.), and the like. It is done. Examples of commercially available monomers having a commercially available amino group or quaternary ammonium group include DMAA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), DMAEA, DMAPAA (manufactured by Kojin Co., Ltd.), and Bremer QA (Nippon Yushi Co., Ltd.). ) And New Frontier C-1615 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).

ポリマーの重合反応は、光重合反応または熱重合反応を用いることが出来る。特に光重合反応が好ましい。重合反応のため、重合開始剤を使用することが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂層のバインダーポリマーを形成するために用いられる熱重合開始剤、及び光重合開始剤が挙げられる。   For the polymerization reaction of the polymer, a photopolymerization reaction or a thermal polymerization reaction can be used. A photopolymerization reaction is particularly preferable. A polymerization initiator is preferably used for the polymerization reaction. For example, the thermal polymerization initiator used in order to form the binder polymer of an ultraviolet curable resin layer, and a photoinitiator are mentioned.

重合開始剤として市販の重合開始剤を使用してもよい。重合開始剤に加えて、重合促進剤を使用してもよい。重合開始剤と重合促進剤の添加量は、モノマーの全量の0.2〜10質量%の範囲であることが好ましい。   A commercially available polymerization initiator may be used as the polymerization initiator. In addition to the polymerization initiator, a polymerization accelerator may be used. The addition amount of the polymerization initiator and the polymerization accelerator is preferably in the range of 0.2 to 10% by mass of the total amount of monomers.

反射防止層の各層またはその塗布液には、前述した成分(金属酸化物粒子、ポリマー、分散媒体、重合開始剤、重合促進剤)以外に、重合禁止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤や接着付与剤を添加してもよい。   In addition to the above-mentioned components (metal oxide particles, polymer, dispersion medium, polymerization initiator, polymerization accelerator), each layer of the antireflection layer or its coating solution is a polymerization inhibitor, leveling agent, thickener, anti-coloring agent. An agent, an ultraviolet absorber, a silane coupling agent, an antistatic agent or an adhesion promoter may be added.

中〜高屈折率層及び低屈折率層の塗設後、金属アルコキシドを含む組成物の加水分解または硬化を促進するため、活性エネルギー線を照射することが好ましい。より好ましくは、各層を塗設するごとに活性エネルギー線を照射することである。   In order to accelerate the hydrolysis or curing of the composition containing the metal alkoxide after the coating of the medium to high refractive index layer and the low refractive index layer, it is preferable to irradiate active energy rays. More preferably, the active energy ray is irradiated every time each layer is coated.

前記活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性させるエネルギー源であれば制限なく使用出来るが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20mJ/cm2〜10000mJ/cm2が好ましく、更に好ましくは、100mJ/cm2〜2000mJ/cm2であり、特に好ましくは、400mJ/cm2〜2000mJ/cm2である。 The active energy ray is an ultraviolet ray, an electron beam, a γ ray or the like, and can be used without limitation as long as it is an energy source that activates the compound. However, the ultraviolet ray and the electron beam are preferable, and handling is particularly simple and high energy can be easily obtained. In this respect, ultraviolet rays are preferable. As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Irradiation conditions vary depending on individual lamps, irradiation dose is preferably 20mJ / cm 2 ~10000mJ / cm 2 , more preferably from 100mJ / cm 2 ~2000mJ / cm 2 , particularly preferably 400 mJ / cm 2 ~ 2000 mJ / cm 2 .

〔偏光板〕
本発明に用いられる偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明に係る防眩性反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UY、KC4UY、KC12UR、以上コニカミノルタオプト(株)製)が好ましく用いられる。本発明に係る防眩性反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、Rtが100〜400nmの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957、同2003−170492記載の方法で作製することができる。または、さらにディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348記載の方法で光学異方性層を形成することができる。本発明に係る防眩性反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。
〔Polarizer〕
The polarizing plate used in the present invention can be produced by a general method. The back side of the antiglare antireflection film according to the present invention is subjected to alkali saponification treatment, and is bonded to at least one surface of a polarizing film prepared by immersing and stretching in an iodine solution using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution. Is preferred. The film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. Commercially available cellulose ester films (for example, Konica Minoltak KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UY, KC4UY, KC12UR, and above, manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) are preferably used. With respect to the antiglare antireflection film according to the present invention, the polarizing plate protective film used on the other surface has an in-plane retardation Ro of 590 nm, a phase difference of 20 to 70 nm, and Rt of 100 to 400 nm. It is preferable. These can be produced by, for example, the methods described in JP-A-2002-71957 and 2003-170492. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. By using in combination with the antiglare antireflection film according to the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明に係る防眩性反射防止フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. On the surface of the polarizing film, one side of the antiglare antireflection film according to the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

従来の防眩性反射防止フィルムを使用した偏光板は平面性に劣り、反射像を見ると細かい波打ち状のムラが認められ、60℃、90%RHの条件での耐久性試験により、波打ち状のムラが増大したが、これに対して本発明に係る防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板は、平面性に優れていた。また、60℃、90%RHの条件での耐久性試験によっても波打ち状のムラが増加することはなかった。   A conventional polarizing plate using an antiglare antireflection film is inferior in flatness, and when a reflection image is seen, a fine wavy unevenness is recognized, and the endurance test under conditions of 60 ° C. and 90% RH shows a wavy shape. On the other hand, the polarizing plate using the antiglare antireflection film according to the present invention was excellent in flatness. Further, even in the durability test under the conditions of 60 ° C. and 90% RH, the wavy unevenness did not increase.

〔画像表示装置〕
本発明の偏光板を画像表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。本発明に係る防眩性反射防止フィルムは反射型、透過型、半透過型LCDまたはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明に係る防眩性反射防止フィルムは平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上、特に30型〜54型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜け等もなく、その効果が長期間維持され、特にMVA型画像表示装置では顕著な効果が認められる。また、色ムラ、ぎらつきや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
(Image display device)
By incorporating the polarizing plate of the present invention into an image display device, various image display devices with excellent visibility can be produced. The anti-glare antireflection film according to the present invention is of various types such as reflective, transmissive, transflective LCD or TN, STN, OCB, HAN, VA (PVA, MVA), IPS, etc. It is preferably used in the LCD of the type. Further, the antiglare antireflection film according to the present invention is excellent in flatness and is preferably used for various display devices such as a plasma display, a field emission display, an organic EL display, an inorganic EL display, and electronic paper. In particular, in a large-screen display device having a screen size of 30 or more, especially 30 to 54, there is no white spot at the periphery of the screen, and the effect is maintained for a long time. In particular, the MVA image display device has a remarkable effect. Is recognized. In addition, there was little color unevenness, glare and wavy unevenness, and the eyes were not tired even during long-time viewing.

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りない限り、実施例中の「%」は「質量%」を表す。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, “%” in the examples represents “mass%”.

実施例1
〔表面凹凸形状光学フィルム1の作製〕
(セルローストリアセテートフィルム1の作製)
下記のようにして、下記ドープ組成物1を用いて透明なセルローストリアセテートフィルム1を作製した。
Example 1
[Preparation of surface uneven optical film 1]
(Preparation of cellulose triacetate film 1)
A transparent cellulose triacetate film 1 was produced using the following dope composition 1 as described below.

〈ドープ組成物1〉
セルローストリアセテート(平均酢化度62.0%) 100質量部
可塑剤(トリメチロールプロパントリベンゾエート) 5質量部
可塑剤(エチルフタリルエチルグリコレート) 5質量部
紫外線吸収剤(2−〔5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル〕−4−メチル−6−(t−ブチル)フェノール) 1質量部
紫外線吸収剤(2−〔(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェノール) 1質量部
微粒子(アエロジルR972V、日本アエロジル(株)製) 0.3質量部
メチレンクロライド 430質量部
エタノール 90質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で80℃に保温し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物を得た。
<Dope composition 1>
Cellulose triacetate (average degree of acetylation 62.0%) 100 parts by mass Plasticizer (trimethylolpropane tribenzoate) 5 parts by mass Plasticizer (ethylphthalylethyl glycolate) 5 parts by mass UV absorber (2- [5-chloro (2H) -benzotriazol-2-yl] -4-methyl-6- (t-butyl) phenol) 1 part by mass UV absorber (2-[(2H) -benzotriazol-2-yl] -4,6 -Di-t-pentylphenol) 1 part by weight Fine particles (Aerosil R972V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.3 part by weight Methylene chloride 430 parts by weight Ethanol 90 parts by weight The dope composition was obtained by keeping it at 80 ° C. and completely dissolving it with stirring.

次に、このドープ組成物を濾過し、冷却して33℃に保ちステンレスバンド上に均一に流延した。ステンレスバンド上で、残留溶剤量が80%になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド上から剥離した。剥離したセルローストリアセテートフィルムのウェブを50℃で溶媒を蒸発させ、1.7m幅にスリットし、その後、テンターでTD方向(フィルムの搬送方向と直交する方向)に120℃で1.1倍に延伸した。テンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は20%であった。さらに加熱ゾーンを多数のロールで搬送しながら残留溶剤量が0.1%になるまで高温処理した後、1.5m幅にスリットし、フィルム両端にナーリング加工を施して巻き取り、膜厚80μmのセルローストリアセテートフィルム1を得た。   Next, this dope composition was filtered, cooled, kept at 33 ° C., and uniformly cast on a stainless steel band. On the stainless steel band, the solvent was evaporated until the residual solvent amount reached 80%, and then peeled off from the stainless steel band. The peeled cellulose triacetate film web was evaporated at 50 ° C, the solvent was slit to 1.7m width, and then stretched 1.1 times at 120 ° C in the TD direction (direction perpendicular to the film transport direction) with a tenter. did. The residual solvent amount when starting stretching with a tenter was 20%. Furthermore, after carrying out a high temperature process until the amount of residual solvents becomes 0.1%, conveying a heating zone with many rolls, it slits to 1.5m width, winds by giving a knurling process to both ends of a film, and a film thickness of 80 micrometers A cellulose triacetate film 1 was obtained.

(紫外線硬化樹脂層1の塗設)
上記セルローストリアセテートフィルム1上に下記紫外線硬化樹脂層塗布液1をダイコーターにてドライ膜厚として10μmになるように塗布した後、紫外線硬化樹脂層の残留溶剤量が2%以下になるまで乾燥した。
(Coating of UV curable resin layer 1)
The following UV curable resin layer coating solution 1 was applied onto the cellulose triacetate film 1 with a die coater so that the dry film thickness was 10 μm, and then dried until the residual solvent amount of the UV curable resin layer was 2% or less. .

〈紫外線硬化樹脂層塗布液1〉
下記材料を攪拌、混合し紫外線硬化樹脂層塗布液1とした。
<Ultraviolet curing resin layer coating solution 1>
The following materials were stirred and mixed to obtain an ultraviolet curable resin layer coating solution 1.

アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート) 226質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ製) 25質量部
FZ−2222(日本ユニカー製、10%プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液) 1質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 101質量部
酢酸エチル 101質量部
(凹凸形状の形成)
次に、塑性変形する状態のフィルム表面に、下記凹凸型ローラにより凹凸部を押し付けてフィルム表面を凹凸形状とした。次いでフィルム表面に紫外線照射を行い硬化させた。
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate) 226 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 25 parts by mass FZ-2222 (manufactured by Nippon Unicar, 10% propylene glycol monomethyl ether solution) 1 part by mass propylene glycol monomethyl ether 101 Part by mass Ethyl acetate 101 part by mass (formation of irregular shape)
Next, the uneven surface was pressed against the film surface in a plastically deformed state by the following uneven roller to make the film surface uneven. Subsequently, the film surface was irradiated with ultraviolet rays and cured.

〈凹凸型ローラ1〉
凹凸型ローラ1:図3で示した石英ガラス製空洞ローラ
ローラ表面に溝深さ1μm、ピッチ3μm、溝の断面形状は図5(A)、直径300mm、幅1.4m
石英ガラス製空洞ローラの表面凹凸形状は以下の要領で作製した。
<Uneven roller 1>
Concavity and convexity roller 1: quartz glass hollow roller shown in FIG. 3 Groove depth 1 μm, pitch 3 μm on the roller surface, the cross-sectional shape of the groove is FIG. 5A, diameter 300 mm, width 1.4 m
The surface irregularities of the quartz glass hollow roller were produced as follows.

石英ガラスロールを回転及び揺動しながら、住友化学工業(株)製の単分散アルミナ結晶「スミコランダムAA−5」(平均粒径5μm)でサンドブラスト処理を行った。ブラスト圧力は50kPa、ブラスト時間は120秒とした。こうしてサンドブラスト処理した石英ロールを超音波洗浄し、乾燥した後、10質量%のフッ化水素酸に40℃で1200秒間浸漬し、次に純水で十分洗浄し、乾燥して、石英ガラス製空洞凹凸型ローラを作製した。   While rotating and swinging the quartz glass roll, sandblast treatment was performed with a monodispersed alumina crystal “Sumicorundum AA-5” (average particle size 5 μm) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. The blast pressure was 50 kPa and the blast time was 120 seconds. The quartz roll thus sandblasted is ultrasonically cleaned and dried, then dipped in 10% by mass of hydrofluoric acid at 40 ° C. for 1200 seconds, then thoroughly washed with pure water and dried to form a quartz glass cavity. An uneven roller was produced.

紫外線照射光源、照射条件:高圧水銀ランプ(日本電池社製 HN−64NL)、500mJ/cm2、15秒照射
配置:図3参照
凹凸型ローラ1近傍の雰囲気:空気
〔反射防止層の塗設〕
反射防止層の屈折率と金属酸化物微粒子の粒径の測定は下記の通りである。
Ultraviolet irradiation light source, irradiation conditions: high pressure mercury lamp (HN-64NL manufactured by Nihon Batteries Co., Ltd.), 500 mJ / cm 2 , irradiation for 15 seconds Arrangement: see FIG.
The measurement of the refractive index of the antireflection layer and the particle size of the metal oxide fine particles is as follows.

(屈折率)
各屈折率層の屈折率は、各層を単独で下記で作製したハードコートフィルム上に塗設したサンプルについて、分光光度計の分光反射率の測定結果から求めた。分光光度計はU−4000型(日立製作所製)を用いて、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400nm〜700nm)の反射率の測定を行った。
(Refractive index)
The refractive index of each refractive index layer was calculated | required from the measurement result of the spectral reflectance of the spectrophotometer about the sample which coated each layer on the hard coat film produced below. The spectrophotometer uses U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.), and after roughening the back side of the measurement side of the sample, light absorption treatment is performed with black spray to prevent reflection of light on the back side. The reflectance in the visible light region (400 nm to 700 nm) was measured under the condition of regular reflection at 5 degrees.

(金属酸化物微粒子の粒径)
使用する金属酸化物微粒子の粒径は電子顕微鏡観察(SEM)にて各々100個の微粒子を観察し、各微粒子に外接する円の直径を粒子径としてその平均値を粒径とした。
(Particle size of metal oxide fine particles)
As for the particle diameter of the metal oxide fine particles used, 100 fine particles were observed with an electron microscope (SEM), the diameter of a circle circumscribing each fine particle was taken as the particle diameter, and the average value was taken as the particle diameter.

(中、低屈折率層の塗設)
上記フィルムの紫外線硬化樹脂層上に、下記中屈折率層塗布液1及び低屈折率層塗布液1を塗布、紫外線照射、乾燥して表面凹凸形状光学フィルム1を作製した。
(Medium, low refractive index layer coating)
The following medium refractive index layer coating solution 1 and low refractive index layer coating solution 1 were applied on the ultraviolet curable resin layer of the above film, irradiated with ultraviolet rays, and dried to produce a surface uneven optical film 1.

〈中屈折率層塗布液1〉
下記材料を攪拌、混合し中屈折率層塗布液1とした。
<Medium refractive index layer coating solution 1>
The following materials were stirred and mixed to obtain a medium refractive index layer coating solution 1.

導電性アンチモン酸亜鉛微粒子分散液(セルナックスCX−Z610M−F2、日産化学社製、溶媒MeOH、固形分60%) 200質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(マトリックス) 50質量部
イルガキュア184(光重合開始剤) 3質量部
γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン(信越化学社製KBM503)
8質量部
ポリ−n−ブチルメタクリレート(マトリックス) 5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 720質量部
イソプロピルアルコール 1470質量部
メチルエチルケトン(MEK) 250質量部
中屈折率層の厚さは78nm、屈折率は1.62であった。
Conductive zinc antimonate fine particle dispersion (Celnax CX-Z610M-F2, manufactured by Nissan Chemical Industries, solvent MeOH, solid content 60%) 200 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (matrix) 50 parts by mass Irgacure 184 (photopolymerization started) Agent) 3 parts by mass γ-methacryloxypropylmethoxysilane (KBM503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
8 parts by mass Poly-n-butyl methacrylate (matrix) 5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether (PGME) 720 parts by mass Isopropyl alcohol 1470 parts by mass Methyl ethyl ketone (MEK) 250 parts by mass The thickness of the medium refractive index layer is 78 nm, and the refractive index is 1.62.

〈低屈折率層塗布液1〉
下記材料を攪拌、混合し低屈折率層塗布液1とした。
<Low refractive index layer coating solution 1>
The following materials were stirred and mixed to obtain a low refractive index layer coating solution 1.

下記テトラエトキシシラン加水分解物A 59.5質量部
下記中空シリカ系微粒子分散液 35質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製、KBM503)
5質量部
FZ−2222(日本ユニカー製、10%プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液) 0.5質量部
イソプロピルアルコー−ル 500質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 300質量部
メチルエチルケトン(MEK) 100質量部
低屈折率層の厚さは95nm、屈折率は1.37であった。
The following tetraethoxysilane hydrolyzate A 59.5 parts by mass The following hollow silica-based fine particle dispersion 35 parts by mass γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM503)
5 parts by mass FZ-2222 (Nihon Unicar, 10% propylene glycol monomethyl ether solution) 0.5 parts by mass Isopropyl alcohol 500 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether (PGME) 300 parts by mass Methyl ethyl ketone (MEK) 100 parts by mass Low refraction The refractive index layer had a thickness of 95 nm and a refractive index of 1.37.

〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン58gとエタノール114gを混合し、これに酢酸水溶液(1%)を60g添加した後に、25℃で1時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。
<Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A>
Tetraethoxysilane hydrolyzate A was prepared by mixing 58 g of tetraethoxysilane and 114 g of ethanol and adding 60 g of an acetic acid aqueous solution (1%) thereto, followed by stirring at 25 ° C. for 1 hour.

〈中空シリカ系微粒子分散液の調製〉
平均粒径5nm、SiO2濃度20%のシリカゾル100gと純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として0.98%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAl23として1.02%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20%のSiO2・Al23核粒子分散液を調製した。(工程(a))
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO2濃度3.5%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程(b))
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、さらに濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO2・Al23多孔質粒子の分散液を調製した(工程(c))。上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1,750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO228%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20%の中空シリカ系微粒子分散液を調製した。
<Preparation of hollow silica-based fine particle dispersion>
A mixture of 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO 2 concentration of 20% and 1900 g of pure water was heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor was 10.5, and 9000 g of 0.98% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of 1.02% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 were simultaneously added to the mother liquor. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO 2 .Al 2 O 3 core particle dispersion with a solid content concentration of 20%. (Process (a))
1700 g of pure water is added to 500 g of this core particle dispersion and heated to 98 ° C., and while maintaining this temperature, a silicic acid solution (SiO 2) obtained by dealkalizing a sodium silicate aqueous solution with a cation exchange resin. A dispersion of core particles in which 3000 g (concentration 3.5%) was added to form a first silica coating layer was obtained. (Process (b))
Next, 1125 g of pure water was added to 500 g of the core particle dispersion formed with the first silica coating layer having a solid content of 13% by washing with an ultrafiltration membrane, and concentrated hydrochloric acid (35.5%) was further added dropwise. The pH was adjusted to 1.0 and dealumination was performed. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane was separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and SiO 2 · Al from which some of the constituent components of the core particles forming the first silica coating layer were removed. A dispersion of 2 O 3 porous particles was prepared (step (c)). A mixture of 1500 g of the porous particle dispersion, 500 g of pure water, 1,750 g of ethanol, and 626 g of 28% ammonia water was heated to 35 ° C., and 104 g of ethyl silicate (SiO 2 28%) was added. The surface of the porous particles on which the silica coating layer was formed was coated with a hydrolyzed polycondensate of ethyl silicate to form a second silica coating layer. Next, a hollow silica-based fine particle dispersion with a solid content concentration of 20% was prepared by replacing the solvent with ethanol using an ultrafiltration membrane.

この中空シリカ系微粒子の第1シリカ被覆層の厚さは3nm、平均粒径は47nm、MOx/SiO2(モル比)は0.0017、屈折率は1.28であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。 The thickness of the first silica coating layer of the hollow silica-based fine particles was 3 nm, the average particle size was 47 nm, MOx / SiO 2 (molar ratio) was 0.0017, and the refractive index was 1.28. Here, the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method.

〔表面凹凸形状光学フィルム2の作製〕
上記光学フィルム1の作製において、紫外線硬化樹脂層塗布液中に窒素ガスを15分間吹き込み、更に図3で示すガス吹き付け口28、28′より窒素ガスを紫外線硬化樹脂層と凹凸型ローラとの密着面及びローラ表面に吹き付けた以外は同様にして表面凹凸形状光学フィルム2を作製した。
[Preparation of surface uneven optical film 2]
In the production of the optical film 1, nitrogen gas was blown into the UV curable resin layer coating solution for 15 minutes, and nitrogen gas was further contacted between the UV curable resin layer and the concavo-convex roller through the gas spray ports 28 and 28 'shown in FIG. The surface uneven | corrugated shaped optical film 2 was produced similarly except having sprayed on the surface and the roller surface.

〔表面凹凸形状光学フィルム3の作製〕
上記光学フィルム2の作製において、紫外線硬化樹脂層塗布液中に窒素ガスを吹き込まないこと以外は同様にして、表面凹凸形状光学フィルム3を作製した。
[Preparation of surface uneven optical film 3]
In the production of the optical film 2, an optical film 3 having an uneven surface was produced in the same manner except that nitrogen gas was not blown into the UV curable resin layer coating solution.

〔表面凹凸形状光学フィルム4の作製〕
セルローストリアセテートフィルム1の作製において、紫外線吸収剤を除いた以外は同様にしてセルローストリアセテートフィルム2を作製し、これを用いて上記光学フィルム2の作製において、下記凹凸型ローラ、及び凹凸形成条件に替えた以外は同様にして表面凹凸形状光学フィルム4を作製した
(凹凸形状の形成)
下記凹凸型ローラにより凹凸部を押し付けてフィルム表面を凹凸形状とした。次いでフィルム表面に紫外線照射を行い硬化させた。
[Preparation of surface uneven optical film 4]
In the production of the cellulose triacetate film 1, the cellulose triacetate film 2 was produced in the same manner except that the ultraviolet absorber was removed, and in the production of the optical film 2 using the same, the following uneven roller and conditions for forming the irregularities were used. Except for the above, a surface uneven optical film 4 was produced in the same manner (formation of uneven shape)
The uneven surface was pressed by the following uneven roller to make the film surface uneven. Subsequently, the film surface was irradiated with ultraviolet rays and cured.

〈凹凸型ローラ2〉
凹凸型ローラ2:溝深さ1.5μm、ピッチ5μm、溝の断面形状は図5(A)、直径100mm、幅1.4m、鉄材に表面非晶質クロムメッキ(ローラ形状は図4参照)
紫外線照射光源、照射条件:高圧水銀ランプ(日本電池社製 HN−64NL)、500mJ/cm2、15秒照射
配置:図2参照
凹凸型ローラ2近傍の雰囲気:ガス吹き付け口28、28′、28″により窒素ガスを吹き付け
〔表面凹凸形状光学フィルム5の作製〕
光学フィルム4の作製において、紫外線硬化樹脂層塗布液中に窒素ガスを吹き込まないこと以外は同様にして、表面凹凸形状光学フィルム5を作製した。
<Uneven roller 2>
Concavity and convexity type roller 2: groove depth 1.5 μm, pitch 5 μm, groove cross-sectional shape as shown in FIG. 5A, diameter 100 mm, width 1.4 m, iron material surface amorphous chrome plating (see FIG. 4 for roller shape)
Ultraviolet irradiation light source, irradiation conditions: high-pressure mercury lamp (HN-64NL manufactured by Nippon Battery Co., Ltd.), 500 mJ / cm 2 , irradiation for 15 seconds Arrangement: see FIG. 2 Atmosphere in the vicinity of the concavo-convex roller 2: gas blowing ports 28, 28 ′, 28 "Natural gas is sprayed by [Preparation of surface uneven optical film 5]
In the production of the optical film 4, the surface uneven optical film 5 was produced in the same manner except that nitrogen gas was not blown into the ultraviolet curable resin layer coating solution.

〔表面凹凸形状光学フィルム6の作製〕
光学フィルム5の作製において、紫外線硬化樹脂層塗布液1を下記電子線硬化型樹脂塗布液に変更した。
[Preparation of surface uneven optical film 6]
In production of the optical film 5, the ultraviolet curable resin layer coating solution 1 was changed to the following electron beam curable resin coating solution.

〈電子線硬化型樹脂層塗布液1〉
ジシクロペンタジエニルアクリレート(東亞合成(株)製M−203) 58質量部
ビス〔4−(アクリロイロキシエトキシ)フェニル〕スルフィド(東亞合成(株)製TO−2066) 42質量部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャルティケミカルズ製、イルガキュア184) 0.5質量部
を、80℃で溶融混合してコーティング用樹脂とした。
<Electron beam curable resin layer coating solution 1>
Dicyclopentadienyl acrylate (M-203 manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 58 parts by mass Bis [4- (acryloyloxyethoxy) phenyl] sulfide (TO-2066 manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 42 parts by mass 1-hydroxy -Cyclohexyl-phenyl-ketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184) 0.5 parts by mass was melt-mixed at 80 ° C. to obtain a coating resin.

次いで、上記塗布液をダイコーターを利用して、セルローストリアセテートフィルム2表面にドライ膜厚10μmとなるようにコーティングした。リップ間隙500μm、リップと基材のクリアランスは30μm、液温は50℃とした。   Subsequently, the coating liquid was coated on the surface of the cellulose triacetate film 2 so as to have a dry film thickness of 10 μm using a die coater. The gap between the lips is 500 μm, the clearance between the lip and the substrate is 30 μm, and the liquid temperature is 50 ° C.

更に、高圧水銀ランプの替わりに電子線照射装置として、ウシオ電機(株)製のMin−EBを使用した。加速電圧は55kV、照射線量は100kGyとした。   Furthermore, instead of the high-pressure mercury lamp, Min-EB manufactured by Ushio Electric Co., Ltd. was used as an electron beam irradiation device. The acceleration voltage was 55 kV and the irradiation dose was 100 kGy.

これらの条件以外は光学フィルム5の作製と同様にして、表面凹凸形状光学フィルム6
を作製した。
Except for these conditions, the surface uneven optical film 6 is the same as the production of the optical film 5.
Was made.

〔光学フィルムの評価〕
得られた表面凹凸形状光学フィルム1〜6について、下記の評価を行った。光学フィルムの構成及び評価結果を表1に示す。
[Evaluation of optical film]
The following evaluation was performed about the obtained surface uneven | corrugated shaped optical films 1-6. Table 1 shows the configuration and evaluation results of the optical film.

(ムラ)
凹凸形状を形成し、製造開始時と1000m製造時の光学フィルム(中屈折率層塗布液1及び低屈折率層塗布液1を塗布する前)について、目視にて表面を観察し、以下の基準で評価した。
(village)
The surface is visually observed for the optical film (before applying the medium refractive index layer coating solution 1 and the low refractive index layer coating solution 1) at the start of production and at the time of 1000 m production after forming an uneven shape. It was evaluated with.

◎:膜表面にムラがほとんど認められない
○:膜表面にややムラが認められるが実用上問題ない
×:膜表面にムラが多く認められる
(SW耐性)
試料に23℃、55%RHの環境下で、#0000のスチールウール(SW)に200g/cm2の荷重をかけ、10往復したときの1cm幅当たりの傷の本数を測定した。なお、傷の本数は荷重をかけた部分の中で最も傷の本数の多い所で測定する。10本/cm以下であれば実用上問題ないが、5本/cm以下が好ましく、3本/cm以下が更に好ましい。
A: Almost no irregularity is observed on the film surface. O: Some irregularity is observed on the film surface, but there is no problem in practical use. X: Many irregularities are observed on the film surface (SW resistance)
A sample was subjected to a load of 200 g / cm 2 on # 0000 steel wool (SW) in an environment of 23 ° C. and 55% RH, and the number of scratches per 1 cm width was measured after 10 reciprocations. In addition, the number of scratches is measured at a place where the number of scratches is the largest among the portions where the load is applied. If it is 10 / cm or less, there is no practical problem, but 5 / cm or less is preferable, and 3 / cm or less is more preferable.

Figure 2007076089
Figure 2007076089

表1から明らかなように、比較例の光学フィルム1、6に対し、本発明の光学フィルム2〜5はムラが小さく、SW耐性も優れていることが分かる。特に紫外線硬化樹脂塗布液に窒素を吹き込んだ本発明の光学フィルム2、4はムラ、SW耐性が特に優れていた。   As is clear from Table 1, it can be seen that the optical films 2 to 5 of the present invention have less unevenness and excellent SW resistance with respect to the optical films 1 and 6 of the comparative examples. In particular, the optical films 2 and 4 of the present invention in which nitrogen was blown into the ultraviolet curable resin coating solution were particularly excellent in unevenness and SW resistance.

また、本発明の光学フィルムは、連続製造しても凹凸型ローラにセルローストリアセテートの付着はみられなかった。   Moreover, even if the optical film of this invention was manufactured continuously, the adhesion of cellulose triacetate was not observed on the concavo-convex roller.

実施例2
下記の方法に従って、実施例1で作製した表面凹凸形状光学フィルム1、2、4と、位相差フィルムであるコニカミノルタタックKC8UCR−5(コニカミノルタオプト(株)製)、各々1枚を偏光板保護フィルムとして用いて偏光板を作製した。
Example 2
According to the following method, the surface uneven-shaped optical films 1, 2, and 4 produced in Example 1, and Konica Minolta Tack KC8UCR-5 (made by Konica Minolta Opto Co., Ltd.), each of which is a retardation film, are each polarizing plate. A polarizing plate was produced using it as a protective film.

(a)偏光膜の作製
厚さ120μmの長尺のポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gの比率からなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gの比率からなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。
(A) Production of Polarizing Film A long polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide, and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution at 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid, and 100 g of water. . This was washed with water and dried to obtain a long polarizing film.

(b)偏光板の作製
次いで、下記工程1〜5に従って、偏光膜と偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。
(B) Production of Polarizing Plate Next, according to the following Steps 1 to 5, the polarizing film and the polarizing plate protective film were bonded together to produce a polarizing plate.

工程1:KC8UCR−5を2mol/Lの水酸化ナトリウム溶液に60℃で90秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。表面凹凸形状光学フィルムの反射防止層を設けた面には予め剥離性の保護フィルム(PET製)を張り付けて保護した。   Step 1: KC8UCR-5 was immersed in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried. The surface provided with the antireflection layer of the surface uneven optical film was previously protected by attaching a peelable protective film (made of PET).

工程2:前述の偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒間浸漬した。   Process 2: The above-mentioned polarizing film was immersed for 1 to 2 seconds in the polyvinyl alcohol adhesive tank of 2 mass% of solid content.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、それを工程1でアルカリ処理したKC8UCR−5と表面凹凸形状光学フィルムで挟み込んで、積層配置した。   Step 3: Excess adhesive adhered to the polarizing film in Step 2 was lightly removed, and it was sandwiched between KC8UCR-5 subjected to alkali treatment in Step 1 and a surface uneven-shaped optical film, and laminated.

工程4:2つの回転するロールにて20〜30N/cm2の圧力で約2m/minの速度で貼り合わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施した。 Process 4: It bonded together at the speed | rate of about 2 m / min with the pressure of 20-30 N / cm < 2 > with two rotating rolls. At this time, care was taken to prevent bubbles from entering.

工程5:80℃の乾燥機中にて工程4で作製した試料を2分間乾燥処理し、偏光板を作製した。   Step 5: The sample prepared in Step 4 in a dryer at 80 ° C. was dried for 2 minutes to prepare a polarizing plate.

市販の液晶表示パネル(NEC製 カラー液晶ディスプレイ MultiSync LCD1525J:型名 LA−1529HM)の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた上記偏光板を、表面凹凸形状光学フィルムが表面側になるように張り付け画像表示装置を作製した。   Carefully peel off the polarizing plate on the outermost surface of a commercially available liquid crystal display panel (NEC color liquid crystal display MultiSync LCD1525J: model name LA-1529HM). A sticking image display device was prepared so as to be on the side.

評価の結果、比較例の表面凹凸形状光学フィルム1を使用したものに比べ、本発明の表面凹凸形状光学フィルム2、4を使用した画像表示装置は防眩性に優れ、視認性、色調、表示性ともに良好であった。   As a result of the evaluation, the image display device using the surface uneven optical films 2 and 4 of the present invention is superior in antiglare property, and has visibility, color tone, and display as compared with the comparative example using the surface uneven optical film 1 of the comparative example. Both sexes were good.

本発明に係る凹凸型ローラを用いた凹凸面形成装置の概略図である。It is the schematic of the uneven | corrugated surface forming apparatus using the uneven | corrugated roller which concerns on this invention. 本発明に係る凹凸型ローラを用いた別の好ましい凹凸面形成装置の概略図である。It is the schematic of another preferable uneven surface forming apparatus using the uneven | corrugated roller which concerns on this invention. 本発明に係る凹凸型ローラを用いた別の好ましい凹凸面形成装置の概略図である。It is the schematic of another preferable uneven surface forming apparatus using the uneven | corrugated roller which concerns on this invention. 凹凸型ローラの斜視図及び断面の凹凸形状の一例である。It is an example of the uneven | corrugated shape of a perspective view and a cross section of an uneven | corrugated type | mold roller. 本発明に好ましい凹凸形状パターンの具体例である。It is a specific example of an uneven | corrugated shaped pattern preferable for this invention. 第一凹凸型ローラ、第二凹凸型ローラの模式図である。It is a schematic diagram of a 1st uneven | corrugated roller and a 2nd uneven | corrugated roller. 第一凹凸型ローラ、第二凹凸型ローラの模式図である。It is a schematic diagram of a 1st uneven | corrugated roller and a 2nd uneven | corrugated roller.

符号の説明Explanation of symbols

F フィルム
21 巻き出しロール
22 ダイ
23 フィルム乾燥装置
24 凹凸型ローラ
25 バックロール
26、26′ 硬化装置
27 巻き取りロール
28、28′、28″ ガス吹き付け口
29 調製タンク
30 ガス吹き込み管
31 紫外線硬化樹脂層塗布液
32 ニップロール
33 剥離ロール
34 空洞ローラ
F film 21 Unwinding roll 22 Die 23 Film drying device 24 Concave roller 25 Back roll 26, 26 'Curing device 27 Winding roll 28, 28', 28 "Gas blowing port 29 Preparation tank 30 Gas blowing tube 31 UV curable resin Layer coating liquid 32 Nip roll 33 Peeling roll 34 Hollow roller

Claims (8)

紫外線硬化樹脂をフィルム支持体と凹凸表面を有する凹凸型ローラ間に介在させた状態で紫外線を照射し、該紫外線硬化樹脂を重合硬化した後に、該フィルム支持体及び該紫外線硬化樹脂を該凹凸型ローラより剥離する表面凹凸形状光学フィルムの製造方法において、
該凹凸型ローラと該紫外線硬化樹脂の密着面に対し、密着時に実質的に酸素を含まないガスを存在させることを特徴とする表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。
The ultraviolet curable resin is irradiated between the film support and the concavo-convex type roller having the concavo-convex surface, irradiated with ultraviolet rays, and after the ultraviolet curable resin is polymerized and cured, the film support and the ultraviolet curable resin are converted into the concavo-convex mold. In the method of manufacturing the surface uneven optical film peeled off from the roller,
A method for producing an optical film having a concavo-convex shape, wherein a gas containing substantially no oxygen is present at the time of close contact with the close contact surface between the uneven roller and the ultraviolet curable resin.
前記凹凸型ローラと前記紫外線硬化樹脂の密着面に対し、密着時に実質的に酸素を含まないガスを存在させることが、前記凹凸型ローラと前記紫外線硬化樹脂の密着開始部分に、該実質的に酸素を含まないガスを吹き付ける方法であることを特徴とする請求項1に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。 The presence of a gas that does not substantially contain oxygen at the time of close contact with the contact surface between the uneven roller and the UV curable resin, The method for producing an optical film having a concavo-convex shape according to claim 1, wherein the method comprises spraying a gas not containing oxygen. 前記実質的に酸素を含まないガスを吹き付ける部分の少なくとも1箇所が、前記凹凸型ローラ表面であることを特徴とする請求項2に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。 The method for producing a surface uneven-shaped optical film according to claim 2, wherein at least one portion of the portion to which the gas containing substantially no oxygen is blown is the surface of the uneven roller. 前記紫外線硬化樹脂は前記凹凸型ローラとの密着を行う前に、該紫外線硬化樹脂中に前記実質的に酸素を含まないガスを吹き混む前処理を行なうことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。 The ultraviolet curable resin is subjected to a pretreatment in which the substantially oxygen-free gas is blown and mixed into the ultraviolet curable resin before the adhesion to the concave-convex roller. The manufacturing method of the surface uneven | corrugated shaped optical film of any one of Claims 1. 前記凹凸型ローラは表面が凹凸を有する石英ガラス製であり、かつ該凹凸型ローラは空洞であって、該空洞部分に前記紫外線の光源を設けていることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。 5. The uneven roller according to claim 1, wherein the uneven roller is made of quartz glass having an uneven surface, the uneven roller is a cavity, and the ultraviolet light source is provided in the cavity. The manufacturing method of the surface uneven | corrugated shaped optical film of any one of Claims 1. 前記実質的に酸素を含まないガスが窒素ガスであることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。 The method for producing a surface uneven optical film according to any one of claims 1 to 5, wherein the gas that does not substantially contain oxygen is nitrogen gas. 前記表面凹凸形状光学フィルムの表面上に、金属酸化物微粒子を固形成分として20〜90%(質量比率)の範囲で含有する反射防止膜を積層することを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法。 The antireflection film containing metal oxide fine particles as a solid component in a range of 20 to 90% (mass ratio) is laminated on the surface of the surface uneven optical film. The manufacturing method of the surface uneven | corrugated shaped optical film of [1]. 請求項1〜7の何れか1項に記載の表面凹凸形状光学フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする表面凹凸形状光学フィルム。 A surface irregularity-shaped optical film produced by the method for producing a surface irregularity-shaped optical film according to any one of claims 1 to 7.
JP2005265024A 2005-09-13 2005-09-13 Method for producing optical film having uneven surface and optical film having uneven surface Pending JP2007076089A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005265024A JP2007076089A (en) 2005-09-13 2005-09-13 Method for producing optical film having uneven surface and optical film having uneven surface

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005265024A JP2007076089A (en) 2005-09-13 2005-09-13 Method for producing optical film having uneven surface and optical film having uneven surface

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007076089A true JP2007076089A (en) 2007-03-29

Family

ID=37936860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005265024A Pending JP2007076089A (en) 2005-09-13 2005-09-13 Method for producing optical film having uneven surface and optical film having uneven surface

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007076089A (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007106025A (en) * 2005-10-14 2007-04-26 Fujifilm Corp Method and apparatus for manufacturing embossed sheet
JP2009098400A (en) * 2007-10-17 2009-05-07 Nippon Carbide Ind Co Inc Optical sheet
JP2009282300A (en) * 2008-05-22 2009-12-03 Fujifilm Corp Optical sheet and method of manufacturing the same
JP2009285915A (en) * 2008-05-28 2009-12-10 Kazufumi Ogawa Transfer roll, its manufacturing method, and film or sheet manufactured by using the same
JP2010230714A (en) * 2009-03-25 2010-10-14 Fujifilm Corp Optical sheet and method for manufacturing the same
JP2011125821A (en) * 2009-12-21 2011-06-30 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for manufacturing hard coat film, polarizing plate, and image display device
CN102207557A (en) * 2010-03-30 2011-10-05 住友化学株式会社 Hard coating film, polarized sheet, and image display device
CN102749665A (en) * 2011-04-18 2012-10-24 住友化学株式会社 Method for producing optical film, polaroid and image display device
CN102759760A (en) * 2011-04-28 2012-10-31 住友化学株式会社 Method for making optical film, polarizing film, and image display apparatus
KR20140046056A (en) 2011-09-08 2014-04-17 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤 Transparent film having micro-convexoconcave structure on surface thereof, method for producing same, and substrate film used in production of transparent film
WO2015047019A1 (en) * 2013-09-30 2015-04-02 코오롱인더스트리 주식회사 Light condensing optical sheet and method for manufacturing same
CN105593711A (en) * 2013-09-30 2016-05-18 可隆工业株式会社 Light condensing optical sheet and method for manufacturing same
JP2016083784A (en) * 2014-10-23 2016-05-19 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Method for producing film-shaped mold, and transfer apparatus
CN109153960A (en) * 2016-05-20 2019-01-04 株式会社小原石英 Cell culture substrate, the preparation method of cell inclusion, the preparation method of cell culture substrate, cell observation method and cell culture substrate maintenance liquid

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007106025A (en) * 2005-10-14 2007-04-26 Fujifilm Corp Method and apparatus for manufacturing embossed sheet
JP2009098400A (en) * 2007-10-17 2009-05-07 Nippon Carbide Ind Co Inc Optical sheet
JP2009282300A (en) * 2008-05-22 2009-12-03 Fujifilm Corp Optical sheet and method of manufacturing the same
JP2009285915A (en) * 2008-05-28 2009-12-10 Kazufumi Ogawa Transfer roll, its manufacturing method, and film or sheet manufactured by using the same
JP2010230714A (en) * 2009-03-25 2010-10-14 Fujifilm Corp Optical sheet and method for manufacturing the same
JP2011125821A (en) * 2009-12-21 2011-06-30 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for manufacturing hard coat film, polarizing plate, and image display device
CN102207557A (en) * 2010-03-30 2011-10-05 住友化学株式会社 Hard coating film, polarized sheet, and image display device
CN102207557B (en) * 2010-03-30 2015-07-22 住友化学株式会社 Hard coating film, polarized sheet, and image display device
CN102749665A (en) * 2011-04-18 2012-10-24 住友化学株式会社 Method for producing optical film, polaroid and image display device
JP2012226038A (en) * 2011-04-18 2012-11-15 Sumitomo Chemical Co Ltd Optical film manufacturing method, polarizer, and image display device
JP2012233989A (en) * 2011-04-28 2012-11-29 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for producing optical film, polarizing plate, and image display device
CN102759760A (en) * 2011-04-28 2012-10-31 住友化学株式会社 Method for making optical film, polarizing film, and image display apparatus
KR20140046056A (en) 2011-09-08 2014-04-17 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤 Transparent film having micro-convexoconcave structure on surface thereof, method for producing same, and substrate film used in production of transparent film
CN103813896A (en) * 2011-09-08 2014-05-21 三菱丽阳株式会社 Transparent film having micro-convexoconcave structure on surface thereof, method for producing same, and substrate film used in production of transparent film
WO2015047019A1 (en) * 2013-09-30 2015-04-02 코오롱인더스트리 주식회사 Light condensing optical sheet and method for manufacturing same
CN105593711A (en) * 2013-09-30 2016-05-18 可隆工业株式会社 Light condensing optical sheet and method for manufacturing same
TWI551449B (en) * 2013-09-30 2016-10-01 可隆股份有限公司 Condensing type optical sheet and method for preparing the same
JP2016083784A (en) * 2014-10-23 2016-05-19 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Method for producing film-shaped mold, and transfer apparatus
CN109153960A (en) * 2016-05-20 2019-01-04 株式会社小原石英 Cell culture substrate, the preparation method of cell inclusion, the preparation method of cell culture substrate, cell observation method and cell culture substrate maintenance liquid
US11286449B2 (en) * 2016-05-20 2022-03-29 Ohara, Inc. Cell culture substratum, method for producing cell-containing material, method for producing cell culture substratum, method for observing cells, and cell culture substratum maintenance fluid
CN109153960B (en) * 2016-05-20 2022-08-26 株式会社小原 Cell culture substrate, method for producing cell content, and method for producing cell culture substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4849068B2 (en) Antiglare antireflection film and method for producing antiglare antireflection film
JP2007076089A (en) Method for producing optical film having uneven surface and optical film having uneven surface
JP4747769B2 (en) Method for producing uneven pattern film
JP2007233129A (en) Manufacturing method of glare-proof film, glare-proof film, glare-proof antireflection film and image display device
JP2007052333A (en) Surface-roughened optical film, method for producing the same, polarizing plate and image display device
JP4622472B2 (en) Antiglare antireflection film, method for producing antiglare antireflection film, polarizing plate and display device
JP2006293201A (en) Antireflection film, manufacturing method thereof, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2007144301A (en) Curing method of ultraviolet curing resin layer and ultraviolet ray irradiation apparatus
JP2005156615A (en) Anti-glare film, glare-proof antireflection film, method for manufacturing them, polarizing plate and display device
JP2007240707A (en) Method of manufacturing glare-proof antireflection film, glare-proof antireflection film, and image display device
JP2007025040A (en) Antiglare film, method for producing antiglare film, antiglare antireflection film, polarizing plate and display device
JP4885441B2 (en) Antiglare antireflection film, polarizing plate and image display device
JP2006146027A (en) Antiglare antireflection film, polarizing plate and display
JP4896368B2 (en) Antiglare antireflection film
JP2007017946A (en) Antireflection film, method of forming antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2007156145A (en) Antireflection film, method of manufacturing same and image display device
JP2005309120A (en) Antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP5017775B2 (en) Antiglare antireflection film, method for producing antiglare antireflection film, polarizing plate and display device using the same
JP2005338549A (en) Antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP2007187971A (en) Antiglare antireflection film, its manufacturing method, polarizing plate and display apparatus
JP2007086255A (en) Antidazzle antireflection film, method of manufacturing antidazzle antireflection film, polarizing plate and image display apparatus
JP2005134609A (en) Antireflection film, method for manufacturing antireflection film, polarizing plate and display device
JP2005157037A (en) Antireflection film, polarizing plate and image display apparatus
JP2007062073A (en) Anti-glaring antireflection film, its manufacturing method and image display device
JPWO2008056525A1 (en) Application method of antistatic layer, antistatic film, polarizing plate and display device