JP2012226038A - Optical film manufacturing method, polarizer, and image display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基材フィルム上に活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工し、これを硬化させる光学フィルムの製造方法に関する。また本発明は、当該光学フィルムを用いた偏光板および画像表示装置に関する。 The present invention relates to a method for producing an optical film in which a coating liquid containing an active energy ray-curable resin is coated on a base film and cured. The present invention also relates to a polarizing plate and an image display device using the optical film.
基材フィルム上に所定の光学機能を有する樹脂層をコーティングにより形成した光学フィルムは、たとえば、防眩フィルム、光拡散フィルム、ハードコートフィルムなどとして、液晶表示装置などの各種画像表示装置に利用されている。 An optical film formed by coating a resin layer having a predetermined optical function on a base film is used in various image display devices such as a liquid crystal display device as an antiglare film, a light diffusion film, a hard coat film, etc. ing.
一般に、光学フィルムが備える上記樹脂層は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を基材フィルム上に塗工し、得られた塗工層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより形成される。光学フィルムに要求される光学特性によっては、樹脂層表面に所望の形状を付与するために、所定の表面形状を有する鋳型を塗工層表面に押し当て、この状態で硬化させる場合もある。 In general, the resin layer provided in the optical film is formed by applying a coating liquid containing an active energy ray-curable resin onto a substrate film, and irradiating the obtained coating layer with an active energy ray to be cured. It is formed by. Depending on the optical properties required for the optical film, in order to give a desired shape to the resin layer surface, a mold having a predetermined surface shape may be pressed against the coating layer surface and cured in this state.
たとえば、特許文献１には、基材フィルムに紫外線硬化性樹脂を塗工し、樹脂塗工面を基材フィルムに同期して回転する凹凸型ローラ（エンボスロール）に密着させた状態で紫外線を照射して樹脂を硬化させ、ついで、硬化樹脂と基材フィルムとの積層体を凹凸型ローラから剥離する方法が開示されている。 For example, Patent Document 1 irradiates ultraviolet rays in a state where an ultraviolet curable resin is applied to a base film, and the resin coated surface is in close contact with an uneven roller (embossing roll) that rotates in synchronization with the base film. Then, a method is disclosed in which the resin is cured, and then the laminate of the cured resin and the base film is peeled off from the uneven roller.
上記特許文献１に記載の方法のように、塗工層表面にエンボスロールのような鋳型を押し当てながら塗工層を硬化させることによって光学フィルムを製造する場合、塗工層におけるフィルム搬送方向の先頭領域（塗工層の前方端部領域）のような塗工層の膜厚が急激に大きくなる場所では、得られた光学フィルムを鋳型から剥離する際に、硬化した樹脂が鋳型表面に残存する、いわゆる「樹脂残り」が発生することがあった。樹脂残りは、長尺の基材フィルム上に連続的に樹脂層を形成する光学フィルムの連続生産において、得られる光学フィルムに連続的な欠陥（光学フィルム表面への樹脂付着や、光学フィルムの表面形状または光学特性の欠陥など）を生じさせるおそれがある。また、樹脂残りが発生するたびにこれを除去清掃することは、製造効率を大きく低下させる。 When manufacturing an optical film by hardening a coating layer, pressing a casting_mold | template like an embossing roll on the coating layer surface like the method of the said patent document 1, it is the film conveyance direction of a coating layer. In places where the film thickness of the coating layer suddenly increases, such as the top area (front end area of the coating layer), the cured resin remains on the mold surface when the resulting optical film is peeled from the mold. The so-called “resin residue” may occur. Resin residue is a continuous defect in the optical film obtained in the continuous production of an optical film in which a resin layer is continuously formed on a long base film (resin adhesion to the optical film surface or the surface of the optical film). Such as defects in shape or optical properties). Also, removing and cleaning the resin residue every time it occurs will greatly reduce the production efficiency.
一方、樹脂残りを防止する方法として、塗工層を形成する塗工液に離型剤を添加したり、鋳型表面にあらかじめ離型剤を塗布したりすることが考えられるが、離型剤の添加により光学フィルムの機械的強度や光学特性が損なわれるおそれがある。 On the other hand, as a method for preventing the resin residue, it is conceivable to add a release agent to the coating solution for forming the coating layer or to apply a release agent to the mold surface in advance. Addition may impair the mechanical strength and optical properties of the optical film.
本発明は上記に鑑みなされたものであり、樹脂残りの発生を防止することができ、もって欠陥等の不具合を生じさせることなく、光学フィルムを連続的に効率良く製造できる方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above, and provides a method capable of preventing the occurrence of resin residue and continuously and efficiently producing an optical film without causing defects such as defects. is there.
本発明者らは、鋭意検討の結果、基材フィルム搬送方向の先頭領域（前方端部領域）における塗工層の膜厚プロファイルが特定の条件を満たすように塗工層を形成すると、鋳型から光学フィルムを剥離する際の樹脂残りを効果的に防止できることを見出した。 As a result of intensive studies, the inventors have formed a coating layer so that the film thickness profile of the coating layer in the leading region (front end region) in the base film transport direction satisfies a specific condition. It has been found that the resin residue when peeling off the optical film can be effectively prevented.
すなわち本発明は、連続して搬送される基材フィルム上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程と、塗工層の表面に鋳型の表面を押し当てた状態で、基材フィルム側から活性エネルギー線を照射する硬化工程とを含み、塗工工程において塗工液は、塗工層の先頭領域における塗工層の立ち上がりが、硬化工程後の膜厚で４μｍ未満の膜厚となるように塗工される光学フィルムの製造方法を提供する。 That is, the present invention comprises a coating step of forming a coating layer by coating a coating liquid containing an active energy ray-curable resin on a substrate film that is continuously conveyed; A curing step of irradiating active energy rays from the base film side with the surface of the mold pressed against the surface. In the coating step, the coating liquid rises in the leading area of the coating layer. However, the manufacturing method of the optical film coated so that it may become a film thickness of less than 4 micrometers by the film thickness after a hardening process is provided.
上記塗工工程における塗工液の塗工は、硬化工程後の塗工層の膜厚に関して、予め所定の膜厚を設定して行なわれ、塗工工程において塗工液は、塗工層の先頭から、上記予め設定される所定の膜厚に達するまでの間、塗工層の膜厚が増加し続けるように塗工されることが好ましい。 Application of the coating liquid in the coating process is performed by setting a predetermined film thickness in advance with respect to the film thickness of the coating layer after the curing process, and the coating liquid is applied to the coating layer in the coating process. It is preferable that coating is performed so that the film thickness of the coating layer continues to increase from the beginning until reaching the predetermined film thickness set in advance.
また、上記塗工工程において塗工液は、上記塗工層の立ち上がりの終了部からの、基材フィルムの搬送方向に沿う距離をＬ〔ｍｍ〕、距離Ｌにおける硬化工程後の塗工層の膜厚をＨ（Ｌ）〔ｍｍ〕とするとき、下記式（１）：
ΔＨ＝｛Ｈ（１０）−Ｈ（０）｝／１０ （１）
で表される、塗工層の長さ１０ｍｍにおける膜厚増加の傾きの平均が０．０００３以下となるように塗工されることが好ましい。
In the coating process, the coating solution is L [mm] from the end of the rising edge of the coating layer along the conveying direction of the base film, and the coating layer after the curing process at the distance L When the film thickness is H (L) [mm], the following formula (1):
ΔH = {H (10) −H (0)} / 10 (1)
It is preferable that the coating layer is coated so that the average of the increase in the thickness of the coating layer with a length of 10 mm is 0.0003 or less.
上記のような特定の条件を満たす塗工層の膜厚プロファイルは、たとえば、塗工装置としてダイコーターを用いる場合においては、基材フィルム上に吐出される塗工液の圧力を制御して塗工液を塗工することにより達成することができる。 For example, when a die coater is used as the coating apparatus, the coating layer thickness profile satisfying the above specific conditions is controlled by controlling the pressure of the coating liquid discharged onto the base film. This can be achieved by applying a working solution.
また本発明は、偏光フィルムと、基材フィルム側が該偏光フィルムに対向するように該偏光フィルム上に積層される上記本発明の方法により製造された光学フィルムとを備える偏光板を提供する。さらに本発明は、上記本発明の偏光板と画像表示素子とを備える画像表示装置を提供する。当該画像表示装置において、偏光板は、その偏光フィルムが画像表示素子側となるように画像表示素子上に配置される。 Moreover, this invention provides a polarizing plate provided with the polarizing film and the optical film manufactured by the method of the said this invention laminated | stacked on this polarizing film so that a base film side may oppose this polarizing film. Furthermore, this invention provides an image display apparatus provided with the polarizing plate of the said invention, and an image display element. In the image display device, the polarizing plate is disposed on the image display element such that the polarizing film is on the image display element side.
本発明の方法によれば、鋳型から光学フィルムを剥離する際の樹脂残りの発生を有効に防止することができる。これにより、長尺の基材フィルム上に連続的に樹脂層を形成する光学フィルムの連続生産において、連続的な欠陥（表面への樹脂付着や、表面形状または光学特性の欠陥など）を生じさせることなく、光学フィルムを連続的に効率良く製造することができる。また、樹脂残りの除去清掃を要しないため、製造効率を大きく向上させることができる。本発明により得られる光学フィルムは、偏光板や、液晶表示装置等の画像表示装置に好適に適用することができる。 According to the method of the present invention, it is possible to effectively prevent the occurrence of resin residue when the optical film is peeled from the mold. This causes continuous defects (resin adhesion to the surface, defects in surface shape or optical characteristics, etc.) in the continuous production of optical films in which a resin layer is continuously formed on a long base film. The optical film can be produced continuously and efficiently without any trouble. Moreover, since it is not necessary to remove and clean the resin residue, the production efficiency can be greatly improved. The optical film obtained by the present invention can be suitably applied to image display devices such as polarizing plates and liquid crystal display devices.
＜光学フィルムの製造方法＞
本発明の光学フィルムの製造方法は、下記工程：
〔１〕連続して搬送される基材フィルム上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程、および
〔２〕塗工層の表面に鋳型の表面を押し当てた状態で、基材フィルム側から活性エネルギー線を照射し、塗工層を硬化させる硬化工程、
を含む。
<Method for producing optical film>
The method for producing an optical film of the present invention includes the following steps:
[1] A coating process in which a coating liquid containing an active energy ray-curable resin is coated on a continuously conveyed base film to form a coating layer, and [2] a coating layer In the state where the surface of the mold is pressed against the surface of the substrate, the active energy ray is irradiated from the base film side, and the curing step of curing the coating layer,
including.
以下、図面を参照しながら、各工程について詳細に説明する。図１は、本発明の光学フィルムの製造方法およびこれに用いられる製造装置の好ましい一例を模式的に示す図である。図中の矢印は、フィルムの搬送方向またはロールの回転方向を示す。 Hereafter, each process is demonstrated in detail, referring drawings. FIG. 1 is a diagram schematically showing a preferred example of the method for producing an optical film of the present invention and a production apparatus used therefor. The arrows in the figure indicate the film transport direction or roll rotation direction.
〔１〕塗工工程
本工程では、連続して搬送される基材フィルム上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する。塗工工程は、たとえば図１に示されるように、フィルム巻き出し装置３１に取り付けられた原反（長尺の基材フィルムの巻回品）から、基材フィルム１１を連続的に巻き出し、塗工装置３２を用いて塗工液を基材フィルム１１上に塗工することにより行なうことができる。
[1] Coating step In this step, a coating layer containing an active energy ray-curable resin is coated on a continuously transported substrate film to form a coating layer. For example, as shown in FIG. 1, the coating process continuously unwinds the base film 11 from an original fabric (a long base film wound product) attached to the
（基材フィルム）
基材フィルム１１は透光性のものであればよく、たとえばガラスやプラスチックフィルムなどを用いることができる。プラスチックフィルムとしては適度の透明性、機械強度を有していればよい。具体的には、たとえば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等のセルロースアセテート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂などが挙げられる。基材フィルム１１の厚みは、たとえば１０〜５００μｍであり、光学フィルムの薄膜化等の観点から、好ましくは１０〜３００μｍであり、より好ましくは２０〜３００μｍである。
(Base film)
The base film 11 only needs to be translucent, and for example, glass or plastic film can be used. The plastic film only needs to have appropriate transparency and mechanical strength. Specific examples include cellulose acetate resins such as TAC (triacetylcellulose), acrylic resins, polycarbonate resins, polyester resins such as polyethylene terephthalate, and polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene. The thickness of the base film 11 is, for example, 10 to 500 μm, and is preferably 10 to 300 μm, more preferably 20 to 300 μm, from the viewpoint of reducing the thickness of the optical film.
塗工液の塗工性の改良または塗工層との接着性の改良を目的として、基材フィルム１１の表面（塗工層側表面）には、各種表面処理を施してもよい。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、酸表面処理、アルカリ表面処理、紫外線照射処理などが挙げられる。また、基材フィルム１１上に、たとえばプライマー層等の他の層を形成し、この他の層の上に、塗工液を塗工するようにしてもよい。 Various surface treatments may be applied to the surface of the base film 11 (surface on the coating layer side) for the purpose of improving the coating property of the coating liquid or improving the adhesion with the coating layer. Examples of the surface treatment include corona discharge treatment, glow discharge treatment, acid surface treatment, alkali surface treatment, and ultraviolet irradiation treatment. Moreover, other layers, such as a primer layer, may be formed on the base film 11, and a coating liquid may be applied on this other layer.
また、光学フィルムを、後述する偏光フィルムに接着して使用する場合には、基材フィルムと偏光フィルムとの接着性を向上させるために、基材フィルムの表面（塗工層とは反対側の表面）を各種表面処理によって親水化しておくことが好ましい。この表面処理は、光学フィルムの製造後に行なってもよい。 When the optical film is used after being bonded to a polarizing film described later, the surface of the base film (on the side opposite to the coating layer) is used in order to improve the adhesion between the base film and the polarizing film. The surface) is preferably hydrophilized by various surface treatments. You may perform this surface treatment after manufacture of an optical film.
（塗工液）
塗工液は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有し、通常は、光重合開始剤（ラジカル重合開始剤）をさらに含む。必要に応じて、透光性微粒子、有機溶剤等の溶剤、レベリング剤、分散剤、帯電防止剤、防汚剤、界面活性剤等のその他の成分を含んでいてもよい。
(Coating fluid)
The coating liquid contains an active energy ray-curable resin and usually further contains a photopolymerization initiator (radical polymerization initiator). If necessary, other components such as translucent fine particles, solvents such as organic solvents, leveling agents, dispersants, antistatic agents, antifouling agents, and surfactants may be contained.
（１）活性エネルギー線硬化性樹脂
活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などであることができ、たとえば、多官能（メタ）アクリレート化合物を含有するものを好ましく用いることができる。多官能（メタ）アクリレート化合物とは、分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物である。多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、たとえば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。
(1) Active energy ray-curable resin The active energy ray-curable resin can be an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, or the like, and for example, one containing a polyfunctional (meth) acrylate compound is preferably used. be able to. The polyfunctional (meth) acrylate compound is a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include, for example, ester compounds of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, urethane (meth) acrylate compounds, polyester (meth) acrylate compounds, epoxy (meth) acrylate compounds, and the like. And a polyfunctional polymerizable compound containing two or more (meth) acryloyl groups.
多価アルコールとしては、たとえば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２’−チオジエタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールのような２価のアルコール；トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ジペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパンのような３価以上のアルコールが挙げられる。 Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetrapropylene glycol, polypropylene glycol, propanediol, butanediol, and pentanediol. , Hexanediol, neopentyl glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,2'-thiodiethanol, divalent alcohols such as 1,4-cyclohexanedimethanol; trimethylolpropane, glycerol, pentaerythritol , Trihydric or higher alcohols such as diglycerol, dipentaerythritol and ditrimethylolpropane.
多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化物として、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。 Specific examples of esterified products of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and neopentyl glycol. Di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, tetramethylolmethanetetra ( (Meth) acrylate, pentaglycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, di Pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.
ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、１分子中に複数個のイソシアネート基を有するイソシアネートと、水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体のウレタン化反応物を挙げることができる。１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の１分子中に２個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート、それら有機イソシアネートをイソシアヌレート変性、アダクト変性、ビウレット変性した１分子中に３個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート等が挙げられる。水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートが挙げられる。 Examples of the urethane (meth) acrylate compound include urethanized reaction products of an isocyanate having a plurality of isocyanate groups in one molecule and a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group. Examples of organic isocyanates having a plurality of isocyanate groups in one molecule include two isocyanates in one molecule such as hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, and dicyclohexylmethane diisocyanate. Organic isocyanate having a group, organic isocyanate having three isocyanate groups in one molecule obtained by subjecting these organic isocyanates to isocyanurate modification, adduct modification, biuret modification, and the like. Examples of the (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2- Examples include hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate and pentaerythritol triacrylate.
ポリエステル（メタ）アクリレート化合物として好ましいものは、水酸基含有ポリエステルと（メタ）アクリル酸とを反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレートである。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコールとしては前述した化合物と同様のものが例示できる。また、多価アルコール以外にも、フェノール類としてビスフェノールＡ等が挙げられる。カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、ブチルカルボン酸、安息香酸等が挙げられる。複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物としては、マレイン酸、フタル酸、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、トリメリット酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。 A preferable polyester (meth) acrylate compound is a polyester (meth) acrylate obtained by reacting a hydroxyl group-containing polyester with (meth) acrylic acid. The hydroxyl group-containing polyester preferably used is a hydroxyl group-containing polyester obtained by an esterification reaction of a polyhydric alcohol, a carboxylic acid, a compound having a plurality of carboxyl groups, and / or an anhydride thereof. Examples of the polyhydric alcohol include the same compounds as those described above. Moreover, bisphenol A etc. are mentioned as phenols other than a polyhydric alcohol. Examples of the carboxylic acid include formic acid, acetic acid, butyl carboxylic acid, benzoic acid and the like. The compounds having a plurality of carboxyl groups and / or their anhydrides include maleic acid, phthalic acid, fumaric acid, itaconic acid, adipic acid, terephthalic acid, maleic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic acid, cyclohexanedicarboxylic anhydride Thing etc. are mentioned.
以上のような多官能（メタ）アクリレート化合物の中でも、硬化物の強度向上や入手の容易性の点から、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のエステル化合物；ヘキサメチレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；トリレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；アダクト変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；およびビウレット変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの付加体が好ましい。さらに、これらの多官能（メタ）アクリレート化合物は、それぞれ単独でまたは２種以上を併用して用いることができる。 Among the polyfunctional (meth) acrylate compounds as described above, hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) from the viewpoint of improving the strength of the cured product and availability. Ester compounds such as acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; hexamethylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl ( Addition product of (meth) acrylate; addition product of isophorone diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate; addition of tolylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate ; Adduct-modified isophorone diisocyanate with 2-adduct of hydroxyethyl (meth) acrylate; adducts of, and biuret-modified isophorone diisocyanate with 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Furthermore, these polyfunctional (meth) acrylate compounds can be used alone or in combination of two or more.
活性エネルギー線硬化性樹脂は、上記の多官能（メタ）アクリレート化合物のほかに、単官能（メタ）アクリレート化合物を含有していてもよい。単官能（メタ）アクリレート化合物としては、たとえば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アセチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類を挙げることができる。これらの化合物はそれぞれ単独でまたは２種類以上を併用して用いることができる。 The active energy ray curable resin may contain a monofunctional (meth) acrylate compound in addition to the polyfunctional (meth) acrylate compound. Examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth) ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, aceto (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate, ethylene oxide modified phenoxy (meta ) Acrylate, propylene oxide (meth) acrylate, nonylphenol (meth) acrylate, ethylene oxide modified (meth) acrylate, propylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2 -Hydroxypropyl phthalate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, etc. Meth) acrylate can be given. These compounds can be used alone or in combination of two or more.
また、活性エネルギー線硬化性樹脂は重合性オリゴマーを含有していてもよい。重合性オリゴマーを含有させることにより、硬化物の硬度を調整することができる。重合性オリゴマーは、たとえば、前記多官能（メタ）アクリレート化合物、すなわち、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物またはエポキシ（メタ）アクリレート等の２量体、３量体などのようなオリゴマーであることができる。 Moreover, the active energy ray-curable resin may contain a polymerizable oligomer. By including the polymerizable oligomer, the hardness of the cured product can be adjusted. The polymerizable oligomer is, for example, the polyfunctional (meth) acrylate compound, that is, an ester compound of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, a urethane (meth) acrylate compound, a polyester (meth) acrylate compound, or an epoxy (meth). It can be an oligomer such as a dimer, trimer or the like such as an acrylate.
その他の重合性オリゴマーとしては、分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを挙げることができる。ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネートの重合物等が挙げられ、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸のエステル化反応によって得られる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルであって、多価アルコールとして、たとえば、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等であるものが挙げられる。この少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールは、多価アルコールのアルコール性水酸基の一部が（メタ）アクリル酸とエステル化反応しているとともに、アルコール性水酸基が分子中に残存するものである。 Other polymerizable oligomers include urethane (meth) acrylate oligomers obtained by reacting polyisocyanates having at least two isocyanate groups in the molecule with polyhydric alcohols having at least one (meth) acryloyloxy group. Can be mentioned. Examples of the polyisocyanate include hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and a polymer of xylylene diisocyanate. The polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group includes Hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester obtained by esterification reaction of alcohol and (meth) acrylic acid, and as polyhydric alcohol, for example, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6 -Hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, neopentyl glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol What is dipentaerythritol and the like. In this polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group, a part of the alcoholic hydroxyl group of the polyhydric alcohol is esterified with (meth) acrylic acid, and the alcoholic hydroxyl group is present in the molecule. It remains.
さらに、その他の重合性オリゴマーの例として、複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物と、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーを挙げることができる。複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物としては、前記多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレートで記載したものと同様のものが例示できる。また、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで記載したものと同様のものが例示できる。 Furthermore, as another example of the polymerizable oligomer, a polyester (meta) obtained by reacting a compound having a plurality of carboxyl groups and / or an anhydride thereof with a polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group. ) Acrylate oligomers. Examples of the compound having a plurality of carboxyl groups and / or anhydrides thereof are the same as those described for the polyester (meth) acrylate of the polyfunctional (meth) acrylate compound. Examples of the polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group include those described for the urethane (meth) acrylate oligomer.
以上のような重合性オリゴマーに加えて、さらにウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの例として、水酸基含有ポリエステル、水酸基含有ポリエーテルまたは水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルの水酸基にイソシアネート類を反応させて得られる化合物が挙げられる。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコールや、複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物としては、それぞれ、多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレート化合物で記載したものと同様のものが例示できる。好ましく用いられる水酸基含有ポリエーテルは、多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドおよび／またはε−カプロラクトンを付加することによって得られる水酸基含有ポリエーテルである。多価アルコールは、前記水酸基含有ポリエステルに使用できるものと同じものであってよい。好ましく用いられる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルとしては、重合性オリゴマーのウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで記載したものと同様のものが例示できる。イソシアネート類としては、分子中に１個以上のイソシアネート基を持つ化合物が好ましく、トリレンジイソシアネートや、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの２価のイソシアネート化合物が特に好ましい。 In addition to the polymerizable oligomers as described above, examples of urethane (meth) acrylate oligomers are obtained by reacting isocyanates with hydroxyl groups of a hydroxyl group-containing polyester, a hydroxyl group-containing polyether or a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester. Compounds. The hydroxyl group-containing polyester preferably used is a hydroxyl group-containing polyester obtained by an esterification reaction of a polyhydric alcohol, a carboxylic acid, a compound having a plurality of carboxyl groups, and / or an anhydride thereof. Examples of the polyhydric alcohol, the compound having a plurality of carboxyl groups, and / or the anhydride thereof are the same as those described for the polyester (meth) acrylate compound of the polyfunctional (meth) acrylate compound. The hydroxyl group-containing polyether preferably used is a hydroxyl group-containing polyether obtained by adding one or more alkylene oxides and / or ε-caprolactone to a polyhydric alcohol. The polyhydric alcohol may be the same as that which can be used for the hydroxyl group-containing polyester. Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester preferably used include the same as those described for the polymerizable oligomeric urethane (meth) acrylate oligomer. As the isocyanates, compounds having one or more isocyanate groups in the molecule are preferable, and divalent isocyanate compounds such as tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate are particularly preferable.
これらの重合性オリゴマー化合物はそれぞれ単独でまたは２種以上を併用して用いることができる。 These polymerizable oligomer compounds can be used alone or in combination of two or more.
（２）光重合開始剤
光重合開始剤としては、たとえば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、オキサジアゾール系光重合開始剤などが用いられる。また、光重合開始剤として、たとえば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等も用いることができる。光重合開始剤の使用量は、通常、活性エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して０．５〜２０重量部であり、好ましくは１〜５重量部である。
(2) Photopolymerization initiator Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone photopolymerization initiators, benzoin photopolymerization initiators, benzophenone photopolymerization initiators, thioxanthone photopolymerization initiators, and triazine photopolymerization initiators. An oxadiazole-based photopolymerization initiator is used. Examples of the photopolymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 '-Biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compound and the like can also be used. The usage-amount of a photoinitiator is 0.5-20 weight part normally with respect to 100 weight part of active energy ray-curable resins, Preferably it is 1-5 weight part.
（３）透光性微粒子
透光性微粒子としては、特に限定されるものではなく、たとえば、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、有機シリコーン樹脂、アクリル−スチレン共重合体等からなる有機微粒子や、炭酸カルシウム、シリカ、酸化アルミニウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、酸化チタン、ガラス等からなる無機微粒子などを使用することができる。また、有機重合体のバルーンや中空ビーズを使用することもできる。これらの透光性微粒子は、１種類を単独で使用してもよく、２種類以上を混合して使用してもよい。透光性微粒子の形状は、球状、扁平状、板状、針状、不定形状等のいずれであってもよい。
(3) Translucent fine particles The translucent fine particles are not particularly limited. For example, organic fine particles made of acrylic resin, melamine resin, polyethylene, polystyrene, organic silicone resin, acrylic-styrene copolymer, and the like. Alternatively, inorganic fine particles made of calcium carbonate, silica, aluminum oxide, barium carbonate, barium sulfate, titanium oxide, glass, or the like can be used. An organic polymer balloon or hollow beads can also be used. These translucent fine particles may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them. The shape of the translucent fine particles may be any of a spherical shape, a flat shape, a plate shape, a needle shape, an indefinite shape, and the like.
透光性微粒子の粒子径や屈折率は特に制限されるものではないが、光学フィルムが光拡散フィルムや防眩フィルムである場合は、効果的に内部ヘイズを発現させる点から、粒子径は０．５μｍ〜２０μｍの範囲であることが好ましい。また、同様の理由から、硬化後の活性エネルギー線硬化性樹脂の屈折率と透光性微粒子の屈折率との差は０．０４〜０．１５の範囲であることが好ましい。透光性微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して、通常３〜６０重量部であり、好ましくは５〜５０重量部である。透光性微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して３重量部未満の場合は、光拡散性または防眩性が充分に付与されない。一方、６０重量部を超えると、光学フィルムの透明性が損なわれる場合があり、また、防眩性や光拡散性が過度に高くなり、コントラストが低下する傾向にある。 The particle diameter and refractive index of the light-transmitting fine particles are not particularly limited, but when the optical film is a light diffusion film or an antiglare film, the particle diameter is 0 from the viewpoint of effectively developing internal haze. It is preferably in the range of 5 μm to 20 μm. For the same reason, the difference between the refractive index of the cured active energy ray-curable resin and the refractive index of the translucent fine particles is preferably in the range of 0.04 to 0.15. The content of the translucent fine particles is usually 3 to 60 parts by weight, preferably 5 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin. When the content of the translucent fine particles is less than 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin, the light diffusibility or the antiglare property is not sufficiently imparted. On the other hand, when it exceeds 60 parts by weight, the transparency of the optical film may be impaired, and the antiglare property and the light diffusibility become excessively high, and the contrast tends to decrease.
なお、透光性微粒子を使用する場合、光学フィルムの光学特性および表面形状を均質なものとするために、塗工液中の透光性微粒子の分散は等方分散であることが好ましい。 In addition, when using translucent microparticles | fine-particles, in order to make the optical characteristic and surface shape of an optical film uniform, it is preferable that dispersion | distribution of translucent microparticles | fine-particles in a coating liquid is isotropic dispersion | distribution.
（４）溶剤
塗工液は有機溶剤等の溶剤を含むことができる。有機溶剤としては、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル化グリコールエーテル類；２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類；２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類などから、粘度等を考慮して選択して用いることができる。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。塗工後は、上記有機溶剤を蒸発させる必要がある。そのため、沸点は６０℃〜１６０℃の範囲であることが望ましい。また、２０℃における飽和蒸気圧は０．１ｋＰａ〜２０ｋＰａの範囲であることが好ましい。
(4) Solvent The coating solution may contain a solvent such as an organic solvent. Examples of organic solvents include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, and octane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; alcohols such as ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, and cyclohexanol; methyl ethyl ketone, methyl isobutyl Ketones such as ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate and isobutyl acetate; glycols such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether Ethers; ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. Stealted glycol ethers; Cellsolves such as 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol; 2- (2-methoxyethoxy) ethanol, 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol, 2- (2- It can be selected from carbitols such as butoxyethoxy) ethanol in consideration of viscosity and the like. These solvents may be used alone or as a mixture of several kinds as required. After coating, it is necessary to evaporate the organic solvent. Therefore, the boiling point is desirably in the range of 60 ° C to 160 ° C. The saturated vapor pressure at 20 ° C. is preferably in the range of 0.1 kPa to 20 kPa.
（塗工液の塗工）
上記のように、基材フィルム１１への塗工層の形成は、図１を参照して、フィルム巻き出し装置３１に取り付けられた原反（長尺の基材フィルムの巻回品）から、基材フィルム１１を連続的に巻き出し、塗工装置３２を用いて塗工液を基材フィルム１１上に塗工することにより行なうことができる。塗工液の塗工は、たとえば、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ロッドコート法、ナイフコート法、エアーナイフコート法、キスコート法、ダイコート法などによって行なうことができる。
(Coating liquid application)
As described above, the formation of the coating layer on the base film 11 can be performed by referring to FIG. 1 from an original fabric (a wound product of a long base film) attached to the
塗工液は、通常、硬化後の塗工層の膜厚（平均膜厚）を予め設定しておき、当該設定された所定の膜厚が得られるように、塗工量などを調整しながら塗工される。この際、塗工液は、後述する硬化工程後において、塗工層の膜厚プロファイルが下記（ｉ）を満たすように、好ましくはさらに下記（ｉｉ）および／または（ｉｉｉ）を満たすように、より好ましくは下記（ｉ）〜（ｉｉｉ）のすべてを満たすように塗工される。 The coating liquid usually sets the film thickness (average film thickness) of the cured coating layer in advance, and adjusts the coating amount and the like so as to obtain the set predetermined film thickness. Coated. At this time, after the curing step, which will be described later, the coating liquid is so that the film thickness profile of the coating layer satisfies the following (i), preferably further satisfies the following (ii) and / or (iii): More preferably, the coating is performed so as to satisfy all of the following (i) to (iii).
（ｉ）基材フィルム搬送方向における塗工層の先頭領域（前方端部領域）での塗工層の立ち上がりが、硬化工程後の膜厚で４μｍ未満となるように塗工される、
（ｉｉ）塗工層の先頭（塗工開始端部）から上記設定された所定の膜厚に達するまでの間、塗工層の膜厚が増加し続けるように、すなわち、膜厚が低下する部分が生じないように塗工される、
（ｉｉｉ）塗工層の立ち上がりの終了部からの、基材フィルムの搬送方向に沿う距離をＬ〔ｍｍ〕、距離Ｌにおける硬化工程後の塗工層の膜厚をＨ（Ｌ）〔ｍｍ〕とするとき、下記式（１）：
ΔＨ＝｛Ｈ（１０）−Ｈ（０）｝／１０ （１）
で表される、塗工層の長さ１０ｍｍにおける膜厚増加の傾きの平均が０．０００３以下となるように塗工される。
(I) Coating is performed so that the rising of the coating layer in the leading region (front end region) of the coating layer in the substrate film transport direction is less than 4 μm in the film thickness after the curing step.
(Ii) The film thickness of the coating layer continues to increase until the predetermined film thickness set above is reached from the top of the coating layer (coating start end), that is, the film thickness decreases. Coated so that no part occurs,
(Iii) The distance along the conveying direction of the base film from the end portion of the rising of the coating layer is L [mm], and the film thickness of the coating layer after the curing step at the distance L is H (L) [mm]. When the following formula (1):
ΔH = {H (10) −H (0)} / 10 (1)
It is applied so that the average of the slope of the increase in film thickness when the length of the coating layer is 10 mm is 0.0003 or less.
ここで、塗工層の「立ち上がり」とは、塗工層の先頭（塗工開始端部）から基材フィルムの搬送方向に沿って塗工層の硬化後の膜厚変化をみたときに、塗工層の先頭から、塗工層の膜厚変化曲線に最初の変曲点が生じている位置までの領域をいい、上記（ｉ）における「塗工層の立ち上がりが、硬化工程後の膜厚で４μｍ未満」とは、上記領域（立ち上がり）における塗工層の硬化後の膜厚が最大で４μｍ未満であることを意味する。また、上記（ｉｉｉ）における「塗工層の立ち上がりの終了部」とは、上述した塗工層の膜厚変化曲線に最初の変曲点が生じている位置を意味する。 Here, “rise” of the coating layer is when the change in film thickness after curing of the coating layer is observed along the transport direction of the base film from the top of the coating layer (coating start end), The area from the beginning of the coating layer to the position where the first inflection point occurs in the coating layer thickness change curve, and in “i) above,“ the rising of the coating layer is the film after the curing step. The term “thickness less than 4 μm” means that the film thickness after curing of the coating layer in the region (rise) is less than 4 μm at the maximum. Further, the “end portion of the rising of the coating layer” in (iii) means a position where the first inflection point is generated in the above-described coating layer thickness change curve.
塗工層の先頭部分が上記（ｉ）を満たすように塗工液の塗工を行なうことにより、すなわち、塗工層の先頭部分が所定値以上に大きい膜厚を有しないように塗工液の塗工を行なうことにより、鋳型から光学フィルムを剥離する際の樹脂残りを効果的に防止できる。先頭領域での塗工層の立ち上がりが硬化工程後の膜厚で４μｍ以上となるような急激な膜厚の塗工層が形成されると、樹脂残りの原因となる、硬化後の塗工層の「樹脂剥がれ」が当該先頭領域で発生しやすくなる。塗工層の立ち上がりは、硬化工程後の膜厚で好ましくは３．５μｍ以下である。 By applying the coating liquid so that the top part of the coating layer satisfies the above (i), that is, the coating liquid so that the top part of the coating layer does not have a film thickness larger than a predetermined value. By performing this coating, it is possible to effectively prevent the resin residue when the optical film is peeled from the mold. When a coating layer having an abrupt thickness is formed such that the rising of the coating layer in the head region is 4 μm or more after the curing process, the coating layer after curing causes a resin residue. The “resin peeling” is likely to occur in the head region. The rising of the coating layer is preferably 3.5 μm or less in terms of the film thickness after the curing step.
また、上記（ｉｉ）および／または（ｉｉｉ）をさらに満たすように塗工液の塗工を行なうことで、樹脂残りをより効果的に防止することができる。上記（ｉｉ）を満たさず、塗工層の先頭領域における膜厚の膜厚変化曲線に極大値（いわゆる、塗工液の液だまり）が生じたり、上記（ｉｉｉ）を満たさず、塗工層の立ち上がり終了部直後において膜厚増加率が高すぎたりする場合には、樹脂残りが生じることがあり得る。 Moreover, the resin residue can be more effectively prevented by coating the coating solution so as to further satisfy the above (ii) and / or (iii). If the above (ii) is not satisfied, a maximum value (so-called puddle of coating liquid) occurs in the film thickness change curve of the film thickness in the leading region of the coating layer, or the coating layer does not satisfy (iii) above. If the film thickness increase rate is too high immediately after the rising end of the resin, a resin residue may occur.
上記（ｉ）、さらには（ｉｉ）〜（ｉｉｉ）を満たすように塗工層の膜厚プロファイルを調節する方法は特に制限されず、たとえば、塗工装置３２としてグラビアコーターを用いる場合において、ドロー比（グラビアロールの回転速度と基材フィルムの搬送速度との比）を制御して塗工液の供給量を調節する方法、塗工装置３２としてナイフコーターを用いる場合において、ウェブ上にウェブとのギャップを調整できるようにしたブレードを設置し、このブレードを用いて膜厚を調節する方法、塗工装置３２としてダイコーターを用いる場合において、基材フィルムに吐出される塗工液の圧力を調節することによって塗工液の供給量を調節する方法、その他各種の塗工装置を用いる場合において、その塗工装置によって供給される塗工液の供給量を調節する方法などを挙げることができる。
The method for adjusting the film thickness profile of the coating layer so as to satisfy the above (i), and further (ii) to (iii) is not particularly limited. For example, when a gravure coater is used as the
なお、塗工液が溶剤を含む場合、後述する硬化工程の前に、溶剤を蒸発させて乾燥を行なう乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は、たとえば図１に示される例のように、塗工層を備える基材フィルム１１を、乾燥炉３３内を通過させることによって行なうことができる。乾燥温度は、使用する溶剤や基材フィルムの種類により適宜選択される。一般に２０〜１２０℃の範囲であるが、これに限定されない。また、乾燥炉が複数ある場合は、乾燥炉毎に温度を変えてもよい。
In addition, when a coating liquid contains a solvent, it is preferable to provide the drying process of evaporating a solvent and drying before the hardening process mentioned later. Drying can be performed by allowing the substrate film 11 provided with a coating layer to pass through the drying
〔２〕硬化工程
本工程は、塗工層の表面に、所定の表面形状を有する鋳型の表面を押し当てた状態で、基材フィルム側から活性エネルギー線を照射し、上記塗工工程で形成した塗工層を硬化させることにより、基材フィルム上に硬化された樹脂層を形成する工程である。本工程により、塗工層が硬化されるとともに、鋳型の表面形状が塗工層表面に転写される。
[2] Curing step This step is performed by irradiating active energy rays from the base film side with the surface of the mold having a predetermined surface shape pressed against the surface of the coating layer. In this step, the cured resin layer is cured to form a cured resin layer on the base film. By this step, the coating layer is cured, and the surface shape of the mold is transferred to the coating layer surface.
本工程は、たとえば図１に示されるように、塗工工程を経た基材フィルム１１と塗工層との積層体の塗工層表面に、ニップロール１３等の圧着装置を用いて、ロール形状の鋳型１４を押し当て、この状態で活性エネルギー線照射装置１５を用いて、基材フィルム１１側から活性エネルギー線を照射して塗工層を硬化させることに行なうことができる。ニップロールの使用は、塗工層と鋳型との間への気泡の混入を防止するうえで有効である。活性エネルギー線照射装置は、１機もしくは複数機を使用することができる。
For example, as shown in FIG. 1, this step is performed by using a pressure bonding device such as a
活性エネルギー線の照射後、積層体は、出口側のニップロール１６を支点として鋳型１４から剥離される。得られた基材フィルムと硬化した樹脂層からなる光学フィルムは、通常、フィルム巻き取り装置３４によって巻き取られる。この際、樹脂層を保護する目的で、再剥離性を有した粘着剤層を介して、樹脂層表面にポリエチレンテレフタレートやポリエチレン等からなる保護フィルムを貼着しながら巻き取ってもよい。なお、用いる鋳型の形状はロール形状のものに限定されない。
After irradiation with the active energy ray, the laminate is peeled from the mold 14 with the nip roll 16 on the outlet side as a fulcrum. The obtained optical film consisting of the base film and the cured resin layer is usually wound up by a
鋳型から剥離された後に、追加の活性エネルギー線照射を行なってもよい。また、鋳型に押し付けた状態で活性エネルギー線照射を行なう代わりに、未硬化の塗工層が形成された基材フィルムを鋳型から剥離した後に、活性エネルギー線を照射して硬化させてもよい。 You may perform additional active energy ray irradiation after peeling from a casting_mold | template. Moreover, instead of performing active energy ray irradiation in a state of being pressed against the mold, the substrate film on which the uncured coating layer is formed may be peeled from the mold and then cured by irradiation with active energy rays.
活性エネルギー線としては、塗工液に含まれる活性エネルギー線硬化性樹脂の種類に応じて紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができるが、これらの中で紫外線および電子線が好ましく、取り扱いが簡便で高エネルギーが得られることから紫外線が特に好ましい。 The active energy ray can be appropriately selected from ultraviolet rays, electron rays, near ultraviolet rays, visible light, near infrared rays, infrared rays, X-rays and the like according to the type of the active energy ray curable resin contained in the coating liquid. Of these, ultraviolet rays and electron beams are preferred, and ultraviolet rays are particularly preferred because they are easy to handle and provide high energy.
紫外線の光源としては、たとえば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。これらの中でも、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンアーク、メタルハライドランプが好ましく用いられる。 As the ultraviolet light source, for example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a xenon arc, and a metal halide lamp are preferably used.
また、電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。 Further, as the electron beam, 50 to 1000 keV emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulation core transformation type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type, preferably 100 Mention may be made of electron beams having an energy of ˜300 keV.
活性エネルギー線が紫外線である場合、紫外線のＵＶＡにおける積算光量は、好ましくは４０ｍＪ／ｃｍ2以上２０００ｍＪ／ｃｍ2以下であり、より好ましくは７０ｍＪ／ｃｍ2以上１８００ｍＪ／ｃｍ2以下である。積算光量が４０ｍＪ／ｃｍ2未満である場合、塗工層の硬化が不十分となり、得られる樹脂層の硬度が低くなったり、未硬化の樹脂がガイドロール等に付着し、工程汚染の原因となったりする傾向がある。また、積算光量が２０００ｍＪ／ｃｍ2を超える場合、紫外線照射装置から放射される熱により、基材フィルムが収縮して皺の原因になることがある。 When the active energy ray is ultraviolet, the integrated amount of light at UVA ultraviolet is preferably at 40 mJ / cm 2 or more 2000 mJ / cm 2 or less, more preferably at 70 mJ / cm 2 or more 1800 mJ / cm 2 or less. When the integrated light quantity is less than 40 mJ / cm 2 , the coating layer is insufficiently cured, resulting in a low resin layer hardness or uncured resin adhering to the guide roll, etc. There is a tendency to become. Moreover, when the integrated light quantity exceeds 2000 mJ / cm 2 , the base film may contract due to heat radiated from the ultraviolet irradiation device, causing wrinkles.
本工程で用いる鋳型は、基材フィルム上に形成される樹脂層表面に所望の形状を付与するためのものであり、当該所望の形状の転写構造からなる表面形状を有している。塗工層の表面に、該表面形状を塗工層表面に押し当てながら塗工層を硬化させることにより、鋳型の表面形状を樹脂層表面に転写できる。鋳型としては、鏡面からなる表面を有する鋳型（たとえば鏡面ロール）および凹凸表面を有する鋳型（たとえばエンボスロール）を挙げることができる。 The mold used in this step is for imparting a desired shape to the surface of the resin layer formed on the base film, and has a surface shape composed of a transfer structure of the desired shape. The surface shape of the mold can be transferred onto the surface of the resin layer by curing the coating layer while pressing the surface shape against the surface of the coating layer. Examples of the mold include a mold having a mirror surface (for example, a mirror roll) and a mold having an uneven surface (for example, an emboss roll).
鋳型が凹凸表面を有する場合において、凹凸形状のパターンは、規則的なパターンであってもよいし、ランダムパターン、あるいは特定サイズの１種類以上のランダムパターンを敷き詰めた、擬似ランダムパターンであってもよいが、表面形状に起因する反射光の干渉により、反射像が虹色に色づくことを防止する点から、ランダムパターンまたは擬似ランダムパターンであることが好ましい。 In the case where the mold has an uneven surface, the uneven pattern may be a regular pattern, a random pattern, or a pseudo random pattern in which one or more random patterns of a specific size are spread. Although it is good, it is preferably a random pattern or a pseudo-random pattern from the viewpoint of preventing the reflected image from becoming iridescent due to interference of reflected light caused by the surface shape.
鋳型の外形形状は特に制限されるものではなく、平板状であってもよいし、円柱状または円筒状のロールであってもよいが、連続生産性の点から、鏡面ロールやエンボスロール等の、円柱状または円筒状の鋳型であることが好ましい。この場合、円柱状または円筒状の鋳型の側面に所定の表面形状が形成される。 The outer shape of the mold is not particularly limited, and may be a flat plate shape or a cylindrical or cylindrical roll. From the viewpoint of continuous productivity, a mirror surface roll, an emboss roll, etc. A columnar or cylindrical mold is preferred. In this case, a predetermined surface shape is formed on the side surface of the columnar or cylindrical mold.
鋳型の基材の材質は特に制限されるものではなく、金属、ガラス、カーボン、樹脂、あるいはそれらの複合体から適宜選択できるが、加工性等の点から金属が好ましい。好適に用いられる金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄、またはアルミニウムもしくは鉄を主体とする合金などが挙げられる。 The material of the base material of the mold is not particularly limited and can be appropriately selected from metal, glass, carbon, resin, or a composite thereof, but metal is preferable from the viewpoint of workability and the like. Suitable metal materials include aluminum, iron, or an alloy mainly composed of aluminum or iron from the viewpoint of cost.
鋳型を得る方法としては、たとえば、基材を研磨し、サンドブラスト加工を施した後、無電解ニッケルめっきを施す方法（特開２００６−５３３７１号公報）；基材に銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、クロムめっきを施す方法（特開２００７−１８７９５２号公報）；銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、エッチング工程または銅めっき工程を施し、ついでクロムめっきを施す方法（特開２００７−２３７５４１号公報）；基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、研磨された面に感光性樹脂膜を塗布形成し、該感光性樹脂膜上にパターンを露光した後、現像し、現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行ない、感光性樹脂膜を剥離し、さらにエッチング処理を行ない、凹凸面を鈍らせた後、形成された凹凸面にクロムめっきを施す方法；および旋盤等の工作機械を用いて、切削工具により鋳型となる基材を切削する方法（国際公開第２００７／０７７８９２号パンフレット）等が挙げられる。 As a method for obtaining a mold, for example, a base material is polished, sandblasted, and then subjected to electroless nickel plating (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-53371); the base material is subjected to copper plating or nickel plating After polishing, sandblasting, and chromium plating (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-187852); after copper plating or nickel plating, polishing and sandblasting, an etching step or A method of performing a copper plating step and then chromium plating (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-237541); applying copper plating or nickel plating to the surface of the substrate, polishing, and then applying a photosensitive resin film to the polished surface After coating and forming, the pattern is exposed on the photosensitive resin film, developed, and then etched using the developed photosensitive resin film as a mask. A method of performing a polishing process, peeling off the photosensitive resin film, further performing an etching process, dulling the uneven surface, and then applying chrome plating to the formed uneven surface; and cutting using a lathe or other machine tool Examples thereof include a method of cutting a base material to be a mold with a tool (International Publication No. 2007/077892 pamphlet).
ランダムパターンまたは擬似ランダムパターンからなる鋳型の表面凹凸形状は、たとえば、ＦＭスクリーン法、ＤＬＤＳ（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｌｏｗ−Ｄｉｓｃｒｅｐａｎｃｙ Ｓｅｑｕｅｎｃｅ）法、ブロック共重合体のミクロ相分離パターンを利用する方法またはバンドパスフィルター法等によって生成されたランダムパターンを感光性樹脂膜上に露光、現像し、現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行なうことにより形成することができる。 The surface irregularity shape of the mold consisting of a random pattern or a pseudo-random pattern is, for example, an FM screen method, a DLDS (Dynamic Low-Discretion Sequence) method, a method using a microphase separation pattern of a block copolymer, a bandpass filter method, or the like The random pattern generated by the above can be formed by exposing and developing on the photosensitive resin film, and performing an etching process using the developed photosensitive resin film as a mask.
以上のようにして得られる本発明の光学フィルムは、液晶表示装置などの画像表示装置に好適に適用されるものであり、たとえば、基材フィルム上の樹脂層が様々な外力に起因する傷付きを防止するためのハードコート層であるハードコートフィルム（透光性微粒子を含有する場合がある）；樹脂層が液晶セルから出射する光を拡散させて視野角を改善するための光拡散層（光拡散剤としての透光性微粒子を含有する）である視認側光拡散フィルム；樹脂層が外光の映り込みやギラツキを防止するための表面凹凸を有する防眩層（透光性微粒子を含有する場合がある）である防眩フィルム；樹脂層が液晶セルに入射する光を拡散させ、バックライトユニットに起因するモアレ等を防止するための光拡散層（光拡散剤としての透光性微粒子を含有する）である背面側光拡散フィルム（拡散板）などであることができる。ハードコートフィルム、視認側光拡散フィルムおよび防眩フィルムは、通常、視認側偏光板の視認側保護フィルムとして偏光フィルムに貼合して用いられる（すなわち、画像表示装置の表面に配置される。）。背面側光拡散フィルムは、通常、バックライト側偏光板のバックライト側保護フィルムとして偏光フィルムに貼合される。 The optical film of the present invention obtained as described above is suitably applied to an image display device such as a liquid crystal display device. For example, the resin layer on the base film is damaged due to various external forces. Hard coat film (which may contain translucent fine particles); a light diffusion layer for improving the viewing angle by diffusing light emitted from the liquid crystal cell ( Viewing-side light diffusing film that contains translucent fine particles as a light diffusing agent; Antiglare layer (containing translucent fine particles) with resin surface unevenness to prevent reflection of external light and glare A light diffusing layer (translucent fine particles as a light diffusing agent) for diffusing light incident on the liquid crystal cell and preventing moire caused by the backlight unit. Including Is to) the back side light-diffusing film (may be a diffusion plate) is like. The hard coat film, the viewing-side light diffusion film and the antiglare film are usually used by being bonded to a polarizing film as a viewing-side protective film for the viewing-side polarizing plate (that is, disposed on the surface of the image display device). . The back side light diffusion film is usually bonded to the polarizing film as a backlight side protective film of the backlight side polarizing plate.
本発明の光学フィルムは、樹脂層上（基材フィルムとは反対側の面）に積層された反射防止層をさらに備えていてもよい。反射防止層は、反射率を限りなく低くするために設けられるものであり、反射防止層の形成により、表示画面への映り込みを防止することができる。反射防止層としては、樹脂層の屈折率よりも低い材料から構成された低屈折率層；樹脂層の屈折率より高い材料から構成された高屈折率層と、この高屈折率層の屈折率より低い材料から構成された低屈折率層との積層構造などを挙げることができる。反射防止層の積層方法には特に制限はなく、樹脂層上に直接積層してもよいし、別途あらかじめ基材フィルム上に反射防止層を積層したものを用意し、粘着剤等を用いて樹脂層の上に貼合してもよい。 The optical film of the present invention may further include an antireflection layer laminated on the resin layer (surface opposite to the base film). The antireflection layer is provided to reduce the reflectance as much as possible, and reflection on the display screen can be prevented by forming the antireflection layer. As the antireflection layer, a low refractive index layer composed of a material lower than the refractive index of the resin layer; a high refractive index layer composed of a material higher than the refractive index of the resin layer, and the refractive index of the high refractive index layer A laminated structure with a low refractive index layer composed of a lower material can be exemplified. There is no particular limitation on the method of laminating the antireflection layer, and the antireflection layer may be laminated directly on the resin layer, or separately prepared by previously laminating the antireflection layer on the base film, and using a pressure sensitive adhesive or the like. You may paste on the layer.
＜偏光板＞
本発明の偏光板は、偏光フィルムと、基材フィルム側が該偏光フィルムに対向するように該偏光フィルム上に積層される前述の製造方法により得られる光学フィルムとを備えるものである。偏光フィルムは、入射光から直線偏光を取り出す機能を有するものであって、その種類は特に限定されない。好適な偏光フィルムの例として、ポリビニルアルコール系樹脂に二色性色素が吸着配向している偏光フィルムを挙げることができる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、酢酸ビニルのケン化物であるポリビニルアルコールのほか、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン／酢酸ビニル共重合体のケン化物などが挙げられる。二色性色素としては、ヨウ素または二色性の有機染料が用いられる。また、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物のポリエン配向フィルムも、偏光フィルムとなり得る。偏光フィルムの厚さは、通常５〜８０μｍ程度である。
<Polarizing plate>
The polarizing plate of this invention is equipped with a polarizing film and the optical film obtained by the above-mentioned manufacturing method laminated | stacked on this polarizing film so that a base film side may oppose this polarizing film. A polarizing film has a function which takes out linearly polarized light from incident light, The kind is not specifically limited. As an example of a suitable polarizing film, there can be mentioned a polarizing film in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol resin. Examples of the polyvinyl alcohol-based resin include polyvinyl alcohol, which is a saponified product of vinyl acetate, partially formalized polyvinyl alcohol, and a saponified product of an ethylene / vinyl acetate copolymer. As the dichroic dye, iodine or a dichroic organic dye is used. In addition, a polyene-oriented film of a polyvinyl alcohol dehydrated product or a polyvinyl chloride dehydrochlorinated product can also be a polarizing film. The thickness of the polarizing film is usually about 5 to 80 μm.
本発明の偏光板は、上記偏光フィルムの片面または両面（通常は片面である）に本発明に係る光学フィルムを積層したものであってもよく、上記偏光フィルムの一方の面に透明保護層を積層し、他方の面に本発明に係る光学フィルムを積層したものであってもよい。この際、光学フィルムは、偏光フィルムの透明保護層（保護フィルム）としての機能も有する。透明保護層は、透明樹脂フィルムを、接着剤等を用いて貼合する方法や透明樹脂含有塗工液を塗布する方法などによって偏光フィルム上に形成することができる。同様に、本発明に係る光学フィルムは、接着剤等を用いて偏光フィルムに貼合することができる。 The polarizing plate of the present invention may be one in which the optical film according to the present invention is laminated on one side or both sides (usually one side) of the polarizing film, and a transparent protective layer is provided on one side of the polarizing film. The optical film according to the present invention may be laminated on the other surface. At this time, the optical film also has a function as a transparent protective layer (protective film) of the polarizing film. The transparent protective layer can be formed on the polarizing film by a method of laminating a transparent resin film using an adhesive or the like, a method of applying a transparent resin-containing coating solution, or the like. Similarly, the optical film according to the present invention can be bonded to a polarizing film using an adhesive or the like.
透明保護層となる透明樹脂フィルムは、透明性や機械強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れることが好ましく、このようなものとしては、たとえば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースアセテートなどのセルロース系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレートなどの（メタ）アクリル系樹脂；ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレンなどの鎖状ポリオレフィン系樹脂；環状ポリオレフィン系樹脂；スチレン系樹脂；ポリサルフォン；ポリエーテルサルフォン；ポリ塩化ビニル系樹脂などからなるフィルムが例示される。これらの透明樹脂フィルムは、光学的に等方性のものであってもよいし、画像表示装置に組み込んだ際の視野角の補償を目的として、光学的に異方性を有するものであってもよい。 The transparent resin film serving as the transparent protective layer is preferably excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding properties, etc., and examples thereof include triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellulose acetate propio Cellulose resins such as cellulose acetate such as nates; Polycarbonate resins; (Meth) acrylic resins such as polyacrylate and polymethyl methacrylate; Polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; Chains such as polyethylene and polypropylene Examples thereof include films made of polyolefin resin; cyclic polyolefin resin; styrene resin; polysulfone; polyether sulfone; polyvinyl chloride resin. These transparent resin films may be optically isotropic, or have optical anisotropy for the purpose of compensating the viewing angle when incorporated in an image display device. Also good.
＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、上記本発明の偏光板と、種々の情報を画面に映し出す画像表示素子とを組み合わせたものである。本発明の画像表示装置の種類は特に限定されず、液晶パネルを使用した液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のほか、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電解放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（ＳＥＤ）、有機ＥＬディスプレイ、レーザーディスプレイ、プロジェクタテレビのスクリーン等が挙げられる。
<Image display device>
The image display device of the present invention is a combination of the polarizing plate of the present invention and an image display element that displays various information on a screen. The type of the image display device of the present invention is not particularly limited. In addition to a liquid crystal display (LCD) using a liquid crystal panel, a cathode ray tube (CRT) display, a plasma display (PDP), a field emission display (FED), a surface Examples thereof include a conduction electron-emitting device display (SED), an organic EL display, a laser display, and a projector television screen.
たとえば、本発明の偏光板を液晶セル上に配置して液晶パネルを製造する場合、偏光板は、その偏光フィルムが液晶セル側となるように（その樹脂層を外側にして）液晶セル上に配置される。他の画像表示装置についても同様である。光学フィルムは、画像表示素子の視認側に配してもよいし、バックライト側に配してもよいし、あるいはその両方に配してもよい。光学フィルムを視認側に配した場合、光学フィルムは、ハードコートフィルム、光拡散フィルム、防眩フィルムまたは反射防止フィルムなどとして機能し得る。一方、光学フィルムをバックライト側に配した場合、光学フィルムは、液晶セルに入射する光を拡散させ、モアレ等を防止する光拡散フィルム（拡散板）などとして機能し得る。 For example, when a liquid crystal panel is manufactured by arranging the polarizing plate of the present invention on a liquid crystal cell, the polarizing plate is placed on the liquid crystal cell so that the polarizing film is on the liquid crystal cell side (with the resin layer on the outside). Be placed. The same applies to other image display apparatuses. The optical film may be disposed on the viewing side of the image display element, on the backlight side, or on both. When the optical film is arranged on the viewing side, the optical film can function as a hard coat film, a light diffusion film, an antiglare film, an antireflection film, or the like. On the other hand, when the optical film is disposed on the backlight side, the optical film can function as a light diffusion film (diffusion plate) that diffuses light incident on the liquid crystal cell and prevents moiré or the like.
以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these Examples.
＜実施例１＞
以下の成分を混合して紫外線硬化性の塗工液を調製した。
・紫外線硬化性樹脂：ペンタエリスリトールトリアクリレート６０重量部および多官能ウレタン化アクリレート（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物） ４０重量部、
・光重合開始剤：「ルシリン ＴＰＯ」（ＢＡＳＦ社製、化学名：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド） ５重量部、
・希釈溶剤：酢酸エチル １００重量部。
<Example 1>
The following components were mixed to prepare an ultraviolet curable coating solution.
UV curable resin: 60 parts by weight of pentaerythritol triacrylate and 40 parts by weight of polyfunctional urethanized acrylate (reaction product of hexamethylene diisocyanate and pentaerythritol triacrylate)
Photopolymerization initiator: “Lucirin TPO” (manufactured by BASF, chemical name: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide) 5 parts by weight,
-Diluting solvent: 100 parts by weight of ethyl acetate.
次に、上記塗工液を、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（基材フィルム）上にグラビアコーターを用いて塗工し、基材フィルムと塗工層との積層体を得た〔塗工工程〕。この際、塗工液の塗工は、硬化後の塗工層の平均膜厚が１０μｍとなるように設定し、グラビアコーターによって供給される塗工液の供給量を、ドロー比（グラビアコーターの回転速度と基材フィルム搬送速度との比）の制御により調節しながら、後述する硬化工程後の塗工層（硬化樹脂層）の先頭領域の膜厚プロファイル〔上記定義に従う硬化樹脂層の立ち上がりの膜厚、上記式（１）に従うΔＨ（塗工層の立ち上がりの終了部から、該終了部より１０ｍｍの位置までの塗工層の長さ１０ｍｍにおける膜厚増加の傾きの平均）および上記条件（ｉｉ）の充足性（塗工層の先頭（塗工開始端部）から設定膜厚１０μｍに達するまでの間、塗工層の膜厚が増加し続けているか否か）〕が表１に示されるとおりになるように行なった。表１において、上記条件（ｉｉ）を充足する場合を○、充足しない場合を×としている。
Next, the coating liquid was applied on a triacetyl cellulose (TAC) film (base film) having a thickness of 80 μm using a gravure coater to obtain a laminate of the base film and the coating layer. [Coating process]. At this time, the coating liquid is set so that the average thickness of the coating layer after curing is 10 μm, and the supply amount of the coating liquid supplied by the gravure coater is set to a draw ratio (gravure coater The film thickness profile of the leading region of the coating layer (cured resin layer) after the curing process described later [the rising of the cured resin layer according to the above definition] The film thickness, ΔH according to the above formula (1) (average slope of increase in film thickness at a coating layer length of 10 mm from the end portion of the coating layer to the
ついで、得られた積層体を乾燥炉で乾燥させた後、塗工層表面に、表面が鏡面になるように研磨処理したクロムめっきロールを、ニップロールを用いて押し当て密着させた。この状態で基材フィルム側より、ＵＶＡにおける最大照度が７００ｍＷ／ｃｍ2、ＵＶＡにおける積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ2となるように紫外線を照射し、塗工層を硬化させた〔硬化工程〕。その後、クロムめっきロールから積層体を剥離することで、紫外線硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂層の平均膜厚が１０μｍである光学フィルムを得た。 Subsequently, after drying the obtained laminated body with a drying furnace, the chromium plating roll which grind | polished so that the surface might become a mirror surface was pressed and adhered to the coating layer surface using the nip roll. In this state, the coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays from the base film side so that the maximum illuminance in UVA was 700 mW / cm 2 and the integrated light amount in UVA was 300 mJ / cm 2 [curing step]. Then, the optical film whose average film thickness of the resin layer which consists of hardened | cured material of an ultraviolet curable resin was 10 micrometers was obtained by peeling a laminated body from a chromium plating roll.
図２は、本実施例で得られた光学フィルムが有する硬化樹脂層の先頭領域（塗工開始端部領域）における膜厚変化を示す図である。膜厚変化の測定には、安立電気（株）製の連続フィルム厚み測定器を用いた。図２における横軸（塗工長さ）は、基材フィルム端部（塗工層先頭側端部）からの基材フィルム搬送方向に沿う距離〔ｍｍ〕を表す。本実施例においては、硬化樹脂層（塗工層）の先頭は、塗工長さ約１０ｍｍの位置にある。 FIG. 2 is a diagram showing a change in film thickness in the head region (coating start end region) of the cured resin layer included in the optical film obtained in this example. A continuous film thickness measuring device manufactured by Anritsu Electric Co., Ltd. was used for measuring the change in film thickness. The horizontal axis (coating length) in FIG. 2 represents the distance [mm] along the base film transport direction from the base film end (coating layer leading end). In this embodiment, the head of the cured resin layer (coating layer) is at a position where the coating length is about 10 mm.
＜実施例２〜３、比較例１〜３＞
硬化樹脂層の先頭領域の膜厚プロファイルおよび設定平均膜厚が表１に示されるとおりになるようにグラビアコーターによって供給される塗工液の供給量を、ドロー比（グラビアコーターの回転速度と基材フィルム搬送速度との比）の制御により調節しながら塗工液の塗工を行なったこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。図３〜７はそれぞれ、実施例２〜３、比較例１〜３で得られた光学フィルムが有する硬化樹脂層の先頭領域（塗工開始端部領域）における膜厚変化を示す図である。
<Examples 2-3 and Comparative Examples 1-3>
The supply amount of the coating liquid supplied by the gravure coater so that the film thickness profile and the set average film thickness of the head region of the cured resin layer are as shown in Table 1 is determined by the draw ratio (rotation speed of gravure coater and base An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid was applied while being adjusted by controlling the ratio to the material film conveyance speed. 3-7 is a figure which shows the film thickness change in the head area | region (coating start edge part area | region) of the cured resin layer which the optical films obtained in Examples 2-3 and Comparative Examples 1-3 respectively have.
なお比較例１では、図５に示されるように、塗工層の先頭領域に塗工液の液だまり（膜厚の極大値）が生じるように塗工を行なった。当該極大値における膜厚（立ち上がりの膜厚）は７μｍであり、そのあとに続く極小値における膜厚は６μｍであった。 In Comparative Example 1, as shown in FIG. 5, coating was performed so that a liquid pool (maximum value of the film thickness) of the coating liquid occurred in the leading region of the coating layer. The film thickness at the maximum value (rise film thickness) was 7 μm, and the film thickness at the subsequent minimum value was 6 μm.
（樹脂残りの評価）
各実施例、比較例の光学フィルムを作製した後のクロムめっきロールの表面を観察し、硬化樹脂層先頭領域に対応する位置の樹脂残りの有無を確認した。樹脂残りが確認されなかった場合を○、確認された場合を×とした。結果を表１に示す。
(Residual resin evaluation)
The surface of the chromium plating roll after producing the optical film of each Example and a comparative example was observed, and the presence or absence of the resin residue of the position corresponding to the hardening resin layer head area | region was confirmed. The case where the resin residue was not confirmed was marked with ◯, and the case where it was confirmed was marked with ×. The results are shown in Table 1.
表１に示されるとおり、塗工層の立ち上がりを硬化工程後の膜厚で４μｍ未満とし、さらに好ましくは上記条件（ｉｉ）および／または（ｉｉｉ）を充足するように塗工層を形成することにより、樹脂残りを有効に防止できることがわかる。一方、塗工層の立ち上がりの膜厚が４μｍ以上になると樹脂残りが発生した。特に、塗工層の先頭領域で液だまりが発生した比較例１においては、樹脂残りが顕著であった。 As shown in Table 1, the rising of the coating layer is less than 4 μm in thickness after the curing step, and more preferably, the coating layer is formed so as to satisfy the above conditions (ii) and / or (iii) It can be seen that the resin residue can be effectively prevented. On the other hand, when the rising film thickness of the coating layer was 4 μm or more, a resin residue was generated. In particular, in Comparative Example 1 in which a liquid puddle occurred in the top region of the coating layer, the resin residue was significant.
１１ 基材フィルム、１３，１６ ニップロール、１４ 鋳型、１５ 活性エネルギー線照射装置、３１ フィルム巻き出し装置、３２ 塗工装置、３３ 乾燥炉、３４ フィルム巻き取り装置。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Base film, 13, 16 Nip roll, 14 Mold, 15 Active energy ray irradiation apparatus, 31 Film unwinding apparatus, 32 Coating apparatus, 33 Drying furnace, 34 Film winding apparatus.
Claims (6)
前記塗工層の表面に、鋳型の表面を押し当てた状態で、前記基材フィルム側から活性エネルギー線を照射する硬化工程と、
を含み、
前記塗工工程において前記塗工液は、前記塗工層の先頭領域における前記塗工層の立ち上がりが、前記硬化工程後の膜厚で４μｍ未満の膜厚となるように塗工される光学フィルムの製造方法。 A coating process that forms a coating layer by coating a coating liquid containing an active energy ray-curable resin on a substrate film that is continuously conveyed;
In the state of pressing the surface of the mold against the surface of the coating layer, a curing step of irradiating active energy rays from the base film side;
Including
In the coating step, the coating liquid is applied so that the rising of the coating layer in the leading region of the coating layer is less than 4 μm after the curing step. Manufacturing method.
前記塗工工程において前記塗工液は、前記塗工層の先頭から、前記予め設定される所定の膜厚に達するまでの間、前記塗工層の膜厚が増加し続けるように塗工される請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。 Application of the coating liquid in the coating step is performed by setting a predetermined film thickness in advance with respect to the thickness of the coating layer after the curing step,
In the coating step, the coating liquid is applied so that the thickness of the coating layer continues to increase from the top of the coating layer until the predetermined thickness is reached. The method for producing an optical film according to claim 1.
ΔＨ＝｛Ｈ（１０）−Ｈ（０）｝／１０ （１）
で表される、前記塗工層の長さ１０ｍｍにおける膜厚増加の傾きの平均が０．０００３以下となるように塗工される請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。 In the coating step, the coating solution is L [mm] from the end of the rising edge of the coating layer along the transport direction of the base film, and the coating after the curing step at a distance L When the thickness of the layer is H (L) [mm], the following formula (1):
ΔH = {H (10) −H (0)} / 10 (1)
The manufacturing method of the optical film of Claim 1 or 2 coated so that the average of the inclination of the film thickness increase in the length of 10 mm of the said coating layer represented by this may be 0.0003 or less.
前記基材フィルム側が前記偏光フィルムに対向するように、前記偏光フィルム上に積層される請求項１〜４のいずれかに記載の方法により製造された光学フィルムと、
を備える偏光板。 A polarizing film;
The optical film manufactured by the method according to any one of claims 1 to 4, which is laminated on the polarizing film so that the base film side faces the polarizing film;
A polarizing plate comprising:
前記偏光板は、その偏光フィルムが前記画像表示素子側となるように前記画像表示素子上に配置される画像表示装置。 A polarizing plate according to claim 5 and an image display element,
The said polarizing plate is an image display apparatus arrange | positioned on the said image display element so that the polarizing film may become the said image display element side.
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