JP5995412B2 - Optical film manufacturing method, polarizing plate, and image display device manufacturing method - Google Patents

Optical film manufacturing method, polarizing plate, and image display device manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、基材フィルム上に活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工し、これを硬化させる光学フィルムの製造方法に関する。また本発明は、当該光学フィルムを用いた偏光板および画像表示装置に関する。   The present invention relates to a method for producing an optical film in which a coating liquid containing an active energy ray-curable resin is coated on a base film and cured. The present invention also relates to a polarizing plate and an image display device using the optical film.

基材フィルム上に所定の光学機能を有する樹脂層をコーティングにより形成した光学フィルムは、たとえば、防眩フィルム、光拡散フィルム、ハードコートフィルムなどとして、液晶表示装置などの各種画像表示装置に利用されている。   An optical film formed by coating a resin layer having a predetermined optical function on a base film is used in various image display devices such as a liquid crystal display device as an antiglare film, a light diffusion film, a hard coat film, etc. ing.

一般に、光学フィルムが備える上記樹脂層は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を基材フィルム上に塗工し、得られた塗工層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより形成される。光学フィルムに要求される光学特性によっては、樹脂層表面に所望の形状を付与するために、所定の表面形状を有する鋳型に塗工層表面を押し当て、この状態で硬化させる場合もある。   In general, the resin layer provided in the optical film is formed by applying a coating liquid containing an active energy ray-curable resin onto a substrate film, and irradiating the obtained coating layer with an active energy ray to be cured. It is formed by. Depending on the optical properties required for the optical film, in order to give a desired shape to the resin layer surface, the coating layer surface may be pressed against a mold having a predetermined surface shape and cured in this state.

たとえば、特許文献1には、基材フィルムに紫外線硬化性樹脂を塗工し、樹脂塗工面を基材フィルムに同期して回転する凹凸型ローラ(エンボスロール)に密着させた状態で紫外線を照射して樹脂を硬化させ、ついで、硬化樹脂と基材フィルムとの積層体を凹凸型ローラから剥離する方法が開示されている。   For example, Patent Document 1 irradiates ultraviolet rays in a state where an ultraviolet curable resin is applied to a base film, and the resin coated surface is in close contact with an uneven roller (embossing roll) that rotates in synchronization with the base film. Then, a method is disclosed in which the resin is cured, and then the laminate of the cured resin and the base film is peeled off from the uneven roller.

上記特許文献1に記載の方法のように、塗工層表面をエンボスロールのような所定の表面形状を有する鋳型に押し当てながら塗工層を硬化させることによって光学フィルムを製造する場合、得られた光学フィルムを鋳型から剥離する際に、塗工層における幅方向の両端部において、硬化樹脂が基材フィルムから剥離または剥離した硬化樹脂の少なくとも一部が脱離する「樹脂剥がれ」や、硬化樹脂が鋳型表面に残存する「樹脂残り」が発生することがあった。   When the optical film is produced by curing the coating layer while pressing the coating layer surface against a mold having a predetermined surface shape such as an embossing roll, as in the method described in Patent Document 1 above, it is obtained. When peeling the optical film from the mold, at the both ends of the coating layer in the width direction, at least a part of the cured resin from which the cured resin has been peeled off or peeled off from the base film is detached or cured. A “resin residue” in which the resin remains on the mold surface may occur.

樹脂剥がれが生じた部分はそれ自体欠陥となり得るだけでなく、剥離した硬化樹脂が基材フィルムから脱離した場合には、工程汚染を引き起こしたり、連続して生産される光学フィルムにさらなる欠陥を生じさせたりするおそれがある。また、鋳型表面への樹脂残りは、光学フィルムの連続生産において、得られる光学フィルムに連続的な欠陥(光学フィルム表面への硬化樹脂の転写や、光学フィルムの表面形状または光学特性の欠陥など)を生じさせるおそれがある。また、樹脂残りが発生するたびにこれを除去清掃することは、製造効率を大きく低下させる。   The part where the resin is peeled off can not only become a defect per se, but if the peeled cured resin is detached from the base film, it can cause process contamination or cause further defects in the continuously produced optical film. There is a risk of causing it. Resin residue on the mold surface is a continuous defect in the resulting optical film in the continuous production of the optical film (transfer of cured resin to the optical film surface, defects in the surface shape or optical properties of the optical film, etc.) May be caused. Also, removing and cleaning the resin residue every time it occurs will greatly reduce the production efficiency.

特許文献2〜4には、塗工層表面に凹凸を付与するためのロール(鋳型)において、その凹凸パターンの外側(ロールの幅方向両端部)に平滑な面を設けることによって、塗工層と鋳型との間の剥離性を向上させることが記載されている。   In Patent Documents 2 to 4, in a roll (mold) for imparting unevenness to the surface of the coating layer, a smooth surface is provided on the outer side (both ends in the width direction of the roll) of the uneven pattern, thereby providing a coating layer. It is described that the peelability between the mold and the mold is improved.

特開2007−76089号公報JP 2007-76089 A 特公平05−58788号公報Japanese Patent Publication No. 05-58788 特許第3546485号公報Japanese Patent No. 3546485 特許第3710901号公報Japanese Patent No. 3710901

上記特許文献2〜4に記載されている鋳型の両端部に平滑面を設ける方法は、鋳型表面への樹脂残りの低減にある程度有効であるが、なお改善の余地がある。また、当該方法は、基材フィルム上の樹脂の樹脂剥がれに対しては有効な方法とはいえない。   The method of providing smooth surfaces at both ends of the mold described in Patent Documents 2 to 4 is effective to some extent for reducing the resin residue on the mold surface, but there is still room for improvement. Moreover, the said method cannot be said to be an effective method with respect to resin peeling of resin on a base film.

一方、樹脂残りを防止する方法として、塗工層を形成する塗工液に離型剤を添加したり、鋳型表面にあらかじめ離型剤を塗布したりすることが考えられるが、離型剤の添加により光学フィルムの機械的強度や光学特性が損なわれるおそれがある。   On the other hand, as a method for preventing the resin residue, it is conceivable to add a release agent to the coating solution for forming the coating layer or to apply a release agent to the mold surface in advance. Addition may impair the mechanical strength and optical properties of the optical film.

本発明は上記に鑑みなされたものであり、その目的は、樹脂剥がれおよび樹脂残りの発生を効果的に防止することができ、もって欠陥等の不具合を生じさせることなく、光学フィルムを連続的に効率良く製造できる方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above, and the object thereof is to effectively prevent the occurrence of resin peeling and resin residue, and thus the optical film can be continuously produced without causing defects such as defects. An object of the present invention is to provide a method capable of producing efficiently.

本発明は、連続して搬送される基材フィルム上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程と、塗工層の表面を鋳型の表面に押し当てた状態で、基材フィルム側から活性エネルギー線を照射する硬化工程とを含み、該硬化工程において、塗工層の表面を鋳型の表面に押し当てたときに塗工層における幅方向の両端部領域に加わる圧力が、該両端部領域の間に位置する幅方向の中央部領域よりも小さい光学フィルムの製造方法を提供する。   The present invention provides a coating process for forming a coating layer by coating a coating film containing an active energy ray-curable resin on a continuously conveyed base film, and a surface of the coating layer. And a curing step of irradiating active energy rays from the base film side in a state where the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold, and in the curing step, coating is performed when the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold Provided is a method for producing an optical film in which the pressure applied to both end regions in the width direction of the layer is smaller than the central region in the width direction located between the both end regions.

本発明の好ましい実施形態において塗工層の表面は、硬化工程において、塗工層を有する基材フィルムを介して鋳型と対向するように配置されるニップロールによって鋳型の表面に押し当てられる。このニップロールは、これによって塗工層の表面を鋳型の表面に押し当てたときに塗工層における幅方向の両端部領域に加わる圧力が、該両端部領域の間に位置する幅方向の中央部領域よりも小さくなるように加工されたものである。このようなニップロールとしては、塗工層の上記中央部領域に対応する領域が、上記両端部領域に対応する領域よりも外側に突出するように加工されたものを好ましく用いることができる。   In a preferred embodiment of the present invention, the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold by a nip roll disposed so as to face the mold through the base film having the coating layer in the curing step. In this nip roll, when the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold, the pressure applied to both end regions in the width direction of the coating layer is the central portion in the width direction located between the both end regions. It is processed so as to be smaller than the region. As such a nip roll, the one processed so that the region corresponding to the central region of the coating layer protrudes outside the region corresponding to the both end regions can be preferably used.

また本発明は、偏光フィルムと、基材フィルム側が該偏光フィルムに対向するように該偏光フィルム上に積層される上記本発明の方法により製造された光学フィルムとを備える偏光板を提供する。さらに本発明は、上記本発明の偏光板と画像表示素子とを備える画像表示装置を提供する。当該画像表示装置において、偏光板は、その偏光フィルムが画像表示素子側となるように画像表示素子上に配置される。   Moreover, this invention provides a polarizing plate provided with the polarizing film and the optical film manufactured by the method of the said this invention laminated | stacked on this polarizing film so that a base film side may oppose this polarizing film. Furthermore, this invention provides an image display apparatus provided with the polarizing plate of the said invention, and an image display element. In the image display device, the polarizing plate is disposed on the image display element such that the polarizing film is on the image display element side.

本発明の方法によれば、鋳型から光学フィルムを剥離する際の硬化樹脂の樹脂剥がれおよび鋳型への樹脂残りの発生を効果的に防止することができる。これにより、長尺の基材フィルム上に連続的に樹脂層を形成する光学フィルムの連続生産において、欠陥等の不具合や工程汚染を生じさせることなく、光学フィルムを連続的に効率良く製造することができる。本発明により得られる光学フィルムは、偏光板や、液晶表示装置等の画像表示装置に好適に適用することができる。   According to the method of the present invention, it is possible to effectively prevent the peeling of the cured resin and the generation of the resin residue on the mold when peeling the optical film from the mold. Thereby, in continuous production of an optical film in which a resin layer is continuously formed on a long base film, the optical film is continuously and efficiently produced without causing defects such as defects and process contamination. Can do. The optical film obtained by the present invention can be suitably applied to image display devices such as polarizing plates and liquid crystal display devices.

本発明の光学フィルムの製造方法およびこれに用いられる製造装置の好ましい一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically a preferable example of the manufacturing method of the optical film of this invention, and the manufacturing apparatus used for this. 本発明において好適に用いることができるニップロールの形状の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the shape of the nip roll which can be used suitably in this invention. 本発明において好適に用いることができるニップロールの形状の他の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows another example of the shape of the nip roll which can be used suitably in this invention. 本発明において好適に用いることができるニップロールの形状のさらに他の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows another example of the shape of the nip roll which can be used suitably in this invention. 塗工層の両端部領域に対応する領域に切り欠き部を有するニップロールを用いて基材フィルム上の塗工層表面を鋳型表面に押し当てたときの状態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows a state when the coating layer surface on a base film is pressed on the casting_mold | template surface using the nip roll which has a notch in the area | region corresponding to the both-ends area | region of a coating layer. クラウン加工されたニップロールを用いて基材フィルム上の塗工層表面を鋳型表面に押し当てたときの状態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows a state when the coating layer surface on a base film is pressed on the mold surface using the nip roll by which the crown process was carried out.

<光学フィルムの製造方法>
本発明の光学フィルムの製造方法は、下記工程:
〔1〕連続して搬送される基材フィルム上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程、および
〔2〕塗工層の表面を鋳型の表面に押し当てた状態で、基材フィルム側から活性エネルギー線を照射し、塗工層を硬化させる硬化工程、
を含む。
<Method for producing optical film>
The method for producing an optical film of the present invention includes the following steps:
[1] A coating process in which a coating liquid containing an active energy ray-curable resin is coated on a continuously conveyed base film to form a coating layer, and [2] a coating layer In the state where the surface of the mold is pressed against the surface of the mold, a curing step of irradiating active energy rays from the base film side and curing the coating layer,
including.

以下、図面を参照しながら、各工程について詳細に説明する。図1は、本発明の光学フィルムの製造方法およびこれに用いられる製造装置の好ましい一例を模式的に示す図である。図中の矢印は、フィルムの搬送方向またはロールの回転方向を示す。   Hereafter, each process is demonstrated in detail, referring drawings. FIG. 1 is a diagram schematically showing a preferred example of the method for producing an optical film of the present invention and a production apparatus used therefor. The arrows in the figure indicate the film transport direction or roll rotation direction.

〔1〕塗工工程
本工程では、連続して搬送される基材フィルム上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する。塗工工程は、たとえば図1に示されるように、フィルム巻き出し装置31に取り付けられた原反(長尺の基材フィルムの巻回品)から、基材フィルム11を連続的に巻き出し、塗工装置32を用いて塗工液を基材フィルム11上に塗工することにより行なうことができる。
[1] Coating step In this step, a coating layer containing an active energy ray-curable resin is coated on a continuously transported substrate film to form a coating layer. For example, as shown in FIG. 1, the coating process continuously unwinds the base film 11 from an original fabric (a long base film wound product) attached to the film unwinding device 31, It can be performed by applying a coating solution onto the substrate film 11 using the coating device 32.

塗工液の基材フィルム11への塗工は、たとえば、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ロッドコート法、ナイフコート法、エアーナイフコート法、キスコート法、ダイコート法などによって行なうことができる。   Application of the coating liquid to the base film 11 can be performed by, for example, a gravure coating method, a micro gravure coating method, a rod coating method, a knife coating method, an air knife coating method, a kiss coating method, a die coating method, or the like.

(基材フィルム)
基材フィルム11は透光性のものであればよく、たとえばガラスやプラスチックフィルムなどを用いることができる。プラスチックフィルムとしては適度の透明性、機械強度を有していればよい。具体的には、たとえば、TAC(トリアセチルセルロース)等のセルロースアセテート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂などが挙げられる。基材フィルム11の厚みは、たとえば10〜500μmであり、光学フィルムの薄膜化等の観点から、好ましくは10〜300μmであり、より好ましくは20〜300μmである。
(Base film)
The base film 11 only needs to be translucent, and for example, glass or plastic film can be used. The plastic film only needs to have appropriate transparency and mechanical strength. Specific examples include cellulose acetate resins such as TAC (triacetylcellulose), acrylic resins, polycarbonate resins, polyester resins such as polyethylene terephthalate, and polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene. The thickness of the base film 11 is, for example, 10 to 500 μm, and is preferably 10 to 300 μm, more preferably 20 to 300 μm, from the viewpoint of reducing the thickness of the optical film.

塗工液の塗工性の改良または塗工層との接着性の改良を目的として、基材フィルム11の表面(塗工層側表面)には、各種表面処理を施してもよい。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、酸表面処理、アルカリ表面処理、紫外線照射処理などが挙げられる。また、基材フィルム11上に、たとえばプライマー層等の他の層を形成し、この他の層の上に、塗工液を塗工するようにしてもよい。   Various surface treatments may be applied to the surface of the base film 11 (surface on the coating layer side) for the purpose of improving the coating property of the coating liquid or improving the adhesion with the coating layer. Examples of the surface treatment include corona discharge treatment, glow discharge treatment, acid surface treatment, alkali surface treatment, and ultraviolet irradiation treatment. Moreover, other layers, such as a primer layer, may be formed on the base film 11, and a coating liquid may be applied on this other layer.

また、光学フィルムを、後述する偏光フィルムに接着して使用する場合には、基材フィルムと偏光フィルムとの接着性を向上させるために、基材フィルムの表面(塗工層とは反対側の表面)を各種表面処理によって親水化しておくことが好ましい。この表面処理は、光学フィルムの製造後に行なってもよい。   When the optical film is used after being bonded to a polarizing film described later, the surface of the base film (on the side opposite to the coating layer) is used in order to improve the adhesion between the base film and the polarizing film. The surface) is preferably hydrophilized by various surface treatments. You may perform this surface treatment after manufacture of an optical film.

(塗工液)
塗工液は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有し、通常は、光重合開始剤(ラジカル重合開始剤)をさらに含む。必要に応じて、透光性微粒子、有機溶剤等の溶剤、レベリング剤、分散剤、帯電防止剤、防汚剤、界面活性剤等のその他の成分を含有させてもよい。
(Coating fluid)
The coating liquid contains an active energy ray-curable resin and usually further contains a photopolymerization initiator (radical polymerization initiator). If necessary, other components such as translucent fine particles, a solvent such as an organic solvent, a leveling agent, a dispersant, an antistatic agent, an antifouling agent, and a surfactant may be contained.

(1)活性エネルギー線硬化性樹脂
活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などであることができ、たとえば、多官能(メタ)アクリレート化合物を含有するものを好ましく用いることができる。多官能(メタ)アクリレート化合物とは、分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物である。多官能(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、たとえば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン(メタ)アクリレート化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート化合物、エポキシ(メタ)アクリレート化合物等の(メタ)アクリロイル基を2個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。
(1) Active energy ray-curable resin The active energy ray-curable resin can be an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, or the like, and for example, one containing a polyfunctional (meth) acrylate compound is preferably used. be able to. The polyfunctional (meth) acrylate compound is a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include, for example, ester compounds of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, urethane (meth) acrylate compounds, polyester (meth) acrylate compounds, epoxy (meth) acrylate compounds, and the like. And a polyfunctional polymerizable compound containing two or more (meth) acryloyl groups.

多価アルコールとしては、たとえば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,2’−チオジエタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノールのような2価のアルコール;トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ジペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパンのような3価以上のアルコールが挙げられる。   Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetrapropylene glycol, polypropylene glycol, propanediol, butanediol, and pentanediol. , Hexanediol, neopentyl glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,2'-thiodiethanol, divalent alcohols such as 1,4-cyclohexanedimethanol; trimethylolpropane, glycerol, pentaerythritol , Trihydric or higher alcohols such as diglycerol, dipentaerythritol and ditrimethylolpropane.

多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化物として、具体的には、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。   Specific examples of esterified products of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and neopentyl glycol. Di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, tetramethylolmethanetetra ( (Meth) acrylate, pentaglycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, di Pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.

ウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、1分子中に複数個のイソシアネート基を有するイソシアネートと、水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体のウレタン化反応物を挙げることができる。1分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の1分子中に2個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート、それら有機イソシアネートをイソシアヌレート変性、アダクト変性、ビウレット変性した1分子中に3個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート等が挙げられる。水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートが挙げられる。   Examples of the urethane (meth) acrylate compound include urethanized reaction products of an isocyanate having a plurality of isocyanate groups in one molecule and a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group. Examples of organic isocyanates having a plurality of isocyanate groups in one molecule include two isocyanates in one molecule such as hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, and dicyclohexylmethane diisocyanate. Organic isocyanate having a group, organic isocyanate having three isocyanate groups in one molecule obtained by subjecting these organic isocyanates to isocyanurate modification, adduct modification, biuret modification, and the like. Examples of the (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2- Examples include hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate and pentaerythritol triacrylate.

ポリエステル(メタ)アクリレート化合物として好ましいものは、水酸基含有ポリエステルと(メタ)アクリル酸とを反応させて得られるポリエステル(メタ)アクリレートである。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物および/またはその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコールとしては前述した化合物と同様のものが例示できる。また、多価アルコール以外にも、フェノール類としてビスフェノールA等が挙げられる。カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、ブチルカルボン酸、安息香酸等が挙げられる。複数のカルボキシル基を有する化合物および/またはその無水物としては、マレイン酸、フタル酸、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、トリメリット酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。   A preferable polyester (meth) acrylate compound is a polyester (meth) acrylate obtained by reacting a hydroxyl group-containing polyester with (meth) acrylic acid. The hydroxyl group-containing polyester preferably used is a hydroxyl group-containing polyester obtained by an esterification reaction of a polyhydric alcohol, a carboxylic acid, a compound having a plurality of carboxyl groups, and / or an anhydride thereof. Examples of the polyhydric alcohol include the same compounds as those described above. Moreover, bisphenol A etc. are mentioned as phenols other than a polyhydric alcohol. Examples of the carboxylic acid include formic acid, acetic acid, butyl carboxylic acid, benzoic acid and the like. The compounds having a plurality of carboxyl groups and / or their anhydrides include maleic acid, phthalic acid, fumaric acid, itaconic acid, adipic acid, terephthalic acid, maleic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic acid, cyclohexanedicarboxylic anhydride Thing etc. are mentioned.

以上のような多官能(メタ)アクリレート化合物の中でも、硬化物の強度向上や入手の容易性の点から、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等のエステル化合物;ヘキサメチレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの付加体;イソホロンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの付加体;トリレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの付加体;アダクト変性イソホロンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの付加体;およびビウレット変性イソホロンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの付加体が好ましい。さらに、これらの多官能(メタ)アクリレート化合物は、それぞれ単独でまたは2種以上を併用して用いることができる。   Among the polyfunctional (meth) acrylate compounds as described above, hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) from the viewpoint of improving the strength of the cured product and availability. Ester compounds such as acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; hexamethylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl ( Addition product of (meth) acrylate; addition product of isophorone diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate; addition of tolylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate ; Adduct-modified isophorone diisocyanate with 2-adduct of hydroxyethyl (meth) acrylate; adducts of, and biuret-modified isophorone diisocyanate with 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Furthermore, these polyfunctional (meth) acrylate compounds can be used alone or in combination of two or more.

活性エネルギー線硬化性樹脂は、上記の多官能(メタ)アクリレート化合物のほかに、単官能(メタ)アクリレート化合物を含有していてもよい。単官能(メタ)アクリレート化合物としては、たとえば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、N−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アセチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド(メタ)アクリレート、ノニルフェノール(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート類を挙げることができる。これらの化合物はそれぞれ単独でまたは2種類以上を併用して用いることができる。   The active energy ray curable resin may contain a monofunctional (meth) acrylate compound in addition to the polyfunctional (meth) acrylate compound. Examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth) ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, aceto (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate, ethylene oxide modified phenoxy (meta ) Acrylate, propylene oxide (meth) acrylate, nonylphenol (meth) acrylate, ethylene oxide modified (meth) acrylate, propylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2 -Hydroxypropyl phthalate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, etc. Meth) acrylate can be given. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

また、活性エネルギー線硬化性樹脂は重合性オリゴマーを含有していてもよい。重合性オリゴマーを含有させることにより、硬化物の硬度を調整することができる。重合性オリゴマーは、たとえば、前記多官能(メタ)アクリレート化合物、すなわち、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン(メタ)アクリレート化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート化合物またはエポキシ(メタ)アクリレート等の2量体、3量体などのようなオリゴマーであることができる。   Moreover, the active energy ray-curable resin may contain a polymerizable oligomer. By including the polymerizable oligomer, the hardness of the cured product can be adjusted. The polymerizable oligomer is, for example, the polyfunctional (meth) acrylate compound, that is, an ester compound of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, a urethane (meth) acrylate compound, a polyester (meth) acrylate compound, or an epoxy (meth). It can be an oligomer such as a dimer, trimer or the like such as an acrylate.

その他の重合性オリゴマーとしては、分子中に少なくとも2個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを挙げることができる。ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネートの重合物等が挙げられ、少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸のエステル化反応によって得られる水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルであって、多価アルコールとして、たとえば、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等であるものが挙げられる。この少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールは、多価アルコールのアルコール性水酸基の一部が(メタ)アクリル酸とエステル化反応しているとともに、アルコール性水酸基が分子中に残存するものである。   Other polymerizable oligomers include urethane (meth) acrylate oligomers obtained by reacting polyisocyanates having at least two isocyanate groups in the molecule with polyhydric alcohols having at least one (meth) acryloyloxy group. Can be mentioned. Examples of the polyisocyanate include hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and a polymer of xylylene diisocyanate. The polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group includes Hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester obtained by esterification reaction of alcohol and (meth) acrylic acid, and as polyhydric alcohol, for example, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6 -Hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, neopentyl glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol What is dipentaerythritol and the like. In this polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group, a part of the alcoholic hydroxyl group of the polyhydric alcohol is esterified with (meth) acrylic acid, and the alcoholic hydroxyl group is present in the molecule. It remains.

さらに、その他の重合性オリゴマーの例として、複数のカルボキシル基を有する化合物および/またはその無水物と、少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーを挙げることができる。複数のカルボキシル基を有する化合物および/またはその無水物としては、前記多官能(メタ)アクリレート化合物のポリエステル(メタ)アクリレートで記載したものと同様のものが例示できる。また、少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーで記載したものと同様のものが例示できる。   Furthermore, as another example of the polymerizable oligomer, a polyester (meta) obtained by reacting a compound having a plurality of carboxyl groups and / or an anhydride thereof with a polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group. ) Acrylate oligomers. Examples of the compound having a plurality of carboxyl groups and / or anhydrides thereof are the same as those described for the polyester (meth) acrylate of the polyfunctional (meth) acrylate compound. Examples of the polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group include those described for the urethane (meth) acrylate oligomer.

以上のような重合性オリゴマーに加えて、さらにウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの例として、水酸基含有ポリエステル、水酸基含有ポリエーテルまたは水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルの水酸基にイソシアネート類を反応させて得られる化合物が挙げられる。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物および/またはその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコールや、複数のカルボキシル基を有する化合物および/またはその無水物としては、それぞれ、多官能(メタ)アクリレート化合物のポリエステル(メタ)アクリレート化合物で記載したものと同様のものが例示できる。好ましく用いられる水酸基含有ポリエーテルは、多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドおよび/またはε−カプロラクトンを付加することによって得られる水酸基含有ポリエーテルである。多価アルコールは、前記水酸基含有ポリエステルに使用できるものと同じものであってよい。好ましく用いられる水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルとしては、重合性オリゴマーのウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーで記載したものと同様のものが例示できる。イソシアネート類としては、分子中に1個以上のイソシアネート基を持つ化合物が好ましく、トリレンジイソシアネートや、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの2価のイソシアネート化合物が特に好ましい。   In addition to the polymerizable oligomers as described above, examples of urethane (meth) acrylate oligomers are obtained by reacting isocyanates with hydroxyl groups of a hydroxyl group-containing polyester, a hydroxyl group-containing polyether or a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester. Compounds. The hydroxyl group-containing polyester preferably used is a hydroxyl group-containing polyester obtained by an esterification reaction of a polyhydric alcohol, a carboxylic acid, a compound having a plurality of carboxyl groups, and / or an anhydride thereof. Examples of the polyhydric alcohol, the compound having a plurality of carboxyl groups, and / or the anhydride thereof are the same as those described for the polyester (meth) acrylate compound of the polyfunctional (meth) acrylate compound. The hydroxyl group-containing polyether preferably used is a hydroxyl group-containing polyether obtained by adding one or more alkylene oxides and / or ε-caprolactone to a polyhydric alcohol. The polyhydric alcohol may be the same as that which can be used for the hydroxyl group-containing polyester. Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester preferably used include the same as those described for the polymerizable oligomeric urethane (meth) acrylate oligomer. As the isocyanates, compounds having one or more isocyanate groups in the molecule are preferable, and divalent isocyanate compounds such as tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate are particularly preferable.

これらの重合性オリゴマー化合物はそれぞれ単独でまたは2種以上を併用して用いることができる。   These polymerizable oligomer compounds can be used alone or in combination of two or more.

(2)光重合開始剤
光重合開始剤としては、たとえば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、オキサジアゾール系光重合開始剤などが用いられる。また、光重合開始剤として、たとえば、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−エチルアントラキノン、ベンジル、9,10−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等も用いることができる。光重合開始剤の使用量は、通常、活性エネルギー線硬化性樹脂100重量部に対して0.5〜20重量部であり、好ましくは1〜5重量部である。
(2) Photopolymerization initiator Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone photopolymerization initiators, benzoin photopolymerization initiators, benzophenone photopolymerization initiators, thioxanthone photopolymerization initiators, and triazine photopolymerization initiators. An oxadiazole-based photopolymerization initiator is used. Examples of the photopolymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 '-Biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compound and the like can also be used. The usage-amount of a photoinitiator is 0.5-20 weight part normally with respect to 100 weight part of active energy ray-curable resins, Preferably it is 1-5 weight part.

(3)透光性微粒子
透光性微粒子としては、特に限定されるものではなく、たとえば、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、有機シリコーン樹脂、アクリル−スチレン共重合体等からなる有機微粒子や、炭酸カルシウム、シリカ、酸化アルミニウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、酸化チタン、ガラス等からなる無機微粒子などを使用することができる。また、有機重合体のバルーンや中空ビーズを使用することもできる。これらの透光性微粒子は、1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を混合して使用してもよい。透光性微粒子の形状は、球状、扁平状、板状、針状、不定形状等のいずれであってもよい。
(3) Translucent fine particles The translucent fine particles are not particularly limited. For example, organic fine particles made of acrylic resin, melamine resin, polyethylene, polystyrene, organic silicone resin, acrylic-styrene copolymer, and the like. Alternatively, inorganic fine particles made of calcium carbonate, silica, aluminum oxide, barium carbonate, barium sulfate, titanium oxide, glass, or the like can be used. An organic polymer balloon or hollow beads can also be used. These translucent fine particles may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them. The shape of the translucent fine particles may be any of a spherical shape, a flat shape, a plate shape, a needle shape, an indefinite shape, and the like.

透光性微粒子の粒子径や屈折率は特に制限されるものではないが、光学フィルムが光拡散フィルムや防眩フィルムである場合は、効果的に内部ヘイズを発現させる点から、粒子径は0.5μm〜20μmの範囲であることが好ましい。また、同様の理由から、硬化後の活性エネルギー線硬化性樹脂の屈折率と透光性微粒子の屈折率との差は0.04〜0.15の範囲であることが好ましい。透光性微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化性樹脂100重量部に対して、通常3〜60重量部であり、好ましくは5〜50重量部である。透光性微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化性樹脂100重量部に対して3重量部未満の場合は、光拡散性または防眩性が充分に付与されない。一方、60重量部を超えると、光学フィルムの透明性が損なわれる場合があり、また、防眩性や光拡散性が過度に高くなり、光学フィルムを液晶表示装置等の画像表示装置に適用した際に、表示画面のコントラストが低下する傾向にある。   The particle diameter and refractive index of the light-transmitting fine particles are not particularly limited, but when the optical film is a light diffusion film or an antiglare film, the particle diameter is 0 from the viewpoint of effectively developing internal haze. It is preferably in the range of 5 μm to 20 μm. For the same reason, the difference between the refractive index of the cured active energy ray-curable resin and the refractive index of the translucent fine particles is preferably in the range of 0.04 to 0.15. The content of the translucent fine particles is usually 3 to 60 parts by weight, preferably 5 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin. When the content of the translucent fine particles is less than 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin, the light diffusibility or the antiglare property is not sufficiently imparted. On the other hand, if it exceeds 60 parts by weight, the transparency of the optical film may be impaired, and the antiglare property and the light diffusibility become excessively high, and the optical film is applied to an image display device such as a liquid crystal display device. However, the contrast of the display screen tends to decrease.

なお、透光性微粒子を使用する場合、光学フィルムの光学特性および表面形状を均質なものとするために、塗工液中の透光性微粒子の分散は等方分散であることが好ましい。   In addition, when using translucent microparticles | fine-particles, in order to make the optical characteristic and surface shape of an optical film uniform, it is preferable that dispersion | distribution of translucent microparticles | fine-particles in a coating liquid is isotropic dispersion | distribution.

(4)溶剤
塗工液は、有機溶剤等の溶剤を含むことができる。有機溶剤としては、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;エタノール、1−プロパノール、イソプロパノール、1−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル化グリコールエーテル類;2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール等のセルソルブ類;2−(2−メトキシエトキシ)エタノール、2−(2−エトキシエトキシ)エタノール、2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール等のカルビトール類などから、粘度等を考慮して選択して用いることができる。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。塗工後は、上記有機溶剤を蒸発させる必要がある。そのため、沸点は60℃〜160℃の範囲であることが望ましい。また、20℃における飽和蒸気圧は0.1kPa〜20kPaの範囲であることが好ましい。
(4) Solvent The coating solution can contain a solvent such as an organic solvent. Examples of organic solvents include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, and octane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; alcohols such as ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, and cyclohexanol; methyl ethyl ketone, methyl isobutyl Ketones such as ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate and isobutyl acetate; glycols such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether Ethers; ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. Stealted glycol ethers; Cellsolves such as 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol; 2- (2-methoxyethoxy) ethanol, 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol, 2- (2- It can be selected from carbitols such as butoxyethoxy) ethanol in consideration of viscosity and the like. These solvents may be used alone or as a mixture of several kinds as required. After coating, it is necessary to evaporate the organic solvent. Therefore, the boiling point is desirably in the range of 60 ° C to 160 ° C. The saturated vapor pressure at 20 ° C. is preferably in the range of 0.1 kPa to 20 kPa.

塗工液が溶剤を含む場合、上記塗工工程の後、後述する硬化工程の前に、溶剤を蒸発させて乾燥を行なう乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は、たとえば図1に示される例のように、塗工層を備える基材フィルム11を、乾燥炉33内を通過させることによって行なうことができる。乾燥温度は、使用する溶剤や基材フィルムの種類により適宜選択される。一般に20〜120℃の範囲であるが、これに限定されない。また、乾燥炉が複数ある場合は、乾燥炉毎に温度を変えてもよい。   When a coating liquid contains a solvent, it is preferable to provide the drying process of evaporating a solvent and drying after the said coating process and before the hardening process mentioned later. Drying can be performed by allowing the substrate film 11 provided with a coating layer to pass through the drying furnace 33, for example, as in the example shown in FIG. The drying temperature is appropriately selected depending on the solvent used and the type of substrate film. Generally, it is in the range of 20 to 120 ° C., but is not limited thereto. When there are a plurality of drying furnaces, the temperature may be changed for each drying furnace.

〔2〕硬化工程
本工程は、塗工層の表面を、所定の表面形状を有する鋳型の表面に押し当てた状態で、基材フィルム側から活性エネルギー線を照射し、上記塗工工程で形成した塗工層を硬化させることにより、基材フィルム上に硬化された樹脂層を形成する工程である。本工程により、塗工層が硬化されるとともに、鋳型の表面形状が塗工層表面に転写される。
[2] Curing process In this process, the surface of the coating layer is pressed against the surface of a mold having a predetermined surface shape, and an active energy ray is irradiated from the base film side to form the coating process. In this step, the cured resin layer is cured to form a cured resin layer on the base film. By this step, the coating layer is cured, and the surface shape of the mold is transferred to the coating layer surface.

本発明においては、塗工層の表面を鋳型の表面に押し当てたときに塗工層における幅方向(基材フィルムの搬送方向と直交する方向)の両端部領域に加わる圧力が、該両端部領域の間に位置する幅方向の中央部領域よりも小さくなるようにする。これにより、鋳型から光学フィルムを剥離する際の硬化樹脂の樹脂剥がれおよび鋳型への樹脂残りの発生を効果的に防止することができる。   In the present invention, when the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold, the pressure applied to both end regions of the coating layer in the width direction (direction perpendicular to the transport direction of the base film) It is made smaller than the central region in the width direction located between the regions. Thereby, it is possible to effectively prevent the peeling of the cured resin when the optical film is peeled from the mold and the generation of the resin residue on the mold.

上記のような効果の発現は、次の理由によるものと考えられる。すなわち、塗工層の表面を鋳型の表面に押し当てたときには、塗工層における幅方向の両端部領域では塗工層が押し広げられる。この押し広げられた部分においては、塗工層と基材フィルムとが接触してから硬化するまでの時間が短く、また塗工層が溶剤を含む場合には、基材フィルムが溶剤による浸漬を受けないため、硬化された樹脂と基材フィルムとの密着性が比較的低く、そのため樹脂剥がれや樹脂残りが生じやすいと考えられる。塗工層の表面を鋳型の表面に押し当てる際に、塗工層における幅方向の両端部領域に加わる圧力を中央部領域よりも小さくすることにより、塗工層が押し広げられなくなるため、樹脂剥がれおよび鋳型への樹脂残りの発生が有効に防止されると考えられる。   The expression of the above effects is considered to be due to the following reason. That is, when the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold, the coating layer is spread in both end regions in the width direction of the coating layer. In this spread part, the time from the contact between the coating layer and the base film to the curing is short, and when the coating layer contains a solvent, the base film is immersed in the solvent. Since it is not received, the adhesiveness between the cured resin and the base film is relatively low, and therefore, it is considered that resin peeling or resin residue is likely to occur. When the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold, the pressure applied to both end region in the width direction of the coating layer is made smaller than the central region, so that the coating layer cannot be spread out. It is considered that peeling and generation of resin residue on the mold are effectively prevented.

塗工層の表面を鋳型の表面に押し当てたときに塗工層の中央部領域に加わる圧力は、0.2MPa以上であることが好ましく、0.4MPa以上であることがより好ましい。圧力が0.2MPa未満であると、鋳型に押し当てたときに、塗工層と鋳型との界面に微小な気泡が混入したり、鋳型の表面形状を塗工層表面に良好に転写できなかったりすることがある。   The pressure applied to the central region of the coating layer when the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold is preferably 0.2 MPa or more, and more preferably 0.4 MPa or more. When the pressure is less than 0.2 MPa, when pressed against the mold, minute bubbles are mixed into the interface between the coating layer and the mold, or the surface shape of the mold cannot be transferred well to the coating layer surface. Sometimes.

塗工層の表面を鋳型の表面に押し当てたときに塗工層の両端部領域に加わる圧力は、0.2MPa以下であることが好ましく、0.1MPa以下であることがより好ましい。当該圧力をこの範囲に調整することにより、両端部領域に発生し得る樹脂剥がれおよび樹脂残りを有効に防止することができる。   The pressure applied to both end regions of the coating layer when the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold is preferably 0.2 MPa or less, and more preferably 0.1 MPa or less. By adjusting the pressure within this range, it is possible to effectively prevent resin peeling and resin residue that may occur in both end regions.

本硬化工程は、たとえば図1に示されるように、塗工工程を経た基材フィルム11と塗工層との積層体の塗工層表面を、塗工層を有する基材フィルム11を介してロール形状の鋳型14と対向するように配置されたニップロール13を用いて、鋳型14の表面に押し当て、この状態で活性エネルギー線照射装置15を用いて、基材フィルム11側から活性エネルギー線を照射して塗工層を硬化させることに行なうことができる。ニップロール13は、塗工層表面を鋳型14の表面に押し当てるための圧着装置であり、ニップロール13による塗工層と鋳型との圧着は、これらの界面への気泡混入を防止するうえでも有効である。なお、活性エネルギー線照射装置15は、1機もしくは複数機を使用することができる。   For example, as shown in FIG. 1, the main curing step is performed by applying the coating layer surface of the laminate of the base film 11 and the coating layer that has undergone the coating step via the base film 11 having the coating layer. The nip roll 13 disposed so as to face the roll-shaped mold 14 is pressed against the surface of the mold 14, and in this state, the active energy ray irradiation device 15 is used to emit active energy rays from the base film 11 side. Irradiation can be performed to cure the coating layer. The nip roll 13 is a pressure bonding device for pressing the surface of the coating layer against the surface of the mold 14, and the pressure bonding between the coating layer and the mold by the nip roll 13 is effective in preventing air bubbles from entering these interfaces. is there. In addition, the active energy ray irradiation apparatus 15 can use 1 machine or multiple machines.

ニップロール13を用いて塗工層表面を鋳型14の表面に押し当てる場合においては、ニップロール13として、所定の形状に加工されたものを用いることにより、塗工層における幅方向の両端部領域に加わる圧力が、中央部領域よりも小さくなるようにすることができる。所定の形状に加工されたニップロールとしては、塗工層の中央部領域に対応する領域が、塗工層の両端部領域に対応する領域よりも外側に突出するように加工されたものであることができ、具体的には次のようなものを挙げることができる。   When the nip roll 13 is used to press the surface of the coating layer against the surface of the mold 14, the nip roll 13 processed into a predetermined shape is used to add to the both end regions in the width direction of the coating layer. The pressure can be made smaller than the central region. As the nip roll processed into a predetermined shape, the region corresponding to the central region of the coating layer is processed so as to protrude outward from the region corresponding to both end regions of the coating layer. Specifically, the following can be mentioned.

a)図2に示されるような、塗工層の幅(有効幅)〔基材フィルムの搬送方向と直交する方向の長さ〕よりも短い幅(ロール長さ)を有するニップロール。このようなニップロールを用いると、塗工層の両端部領域に対応する領域にニップロールが存在せず、塗工層の両端部領域直下の基材フィルム部分にニップロールが接触しなくなるため、当該両端部領域に加わる圧力を中央部領域より小さくすることができる。   a) A nip roll having a width (roll length) shorter than the width (effective width) of the coating layer (length in the direction orthogonal to the conveying direction of the base film) as shown in FIG. When such a nip roll is used, there is no nip roll in the region corresponding to the both end region of the coating layer, and the nip roll does not come into contact with the base film portion immediately below the both end region of the coating layer. The pressure applied to the region can be made smaller than the central region.

b)図3に示されるような、塗工層の両端部領域に対応する領域(両端部領域直下の領域)に凹形状の切り欠き部を有するニップロール。図5は、塗工層12の両端部領域に対応する領域に切り欠き部を有するニップロール13を用いて、基材フィルム11上の塗工層12の表面を鋳型14の表面に押し当てたときの状態を示す概略断面図である。切り欠き部を有するニップロールを用いると、上記a)のニップロールと同様、塗工層の両端部領域直下の基材フィルム部分にニップロールが接触しなくなるため、当該両端部領域に加わる圧力を中央部領域より小さくすることができる。   b) A nip roll having a concave cutout in a region corresponding to both end regions of the coating layer (region immediately below both end regions) as shown in FIG. FIG. 5 shows a case where the surface of the coating layer 12 on the base film 11 is pressed against the surface of the mold 14 by using the nip roll 13 having a notch in a region corresponding to both end regions of the coating layer 12. It is a schematic sectional drawing which shows this state. When a nip roll having a notch is used, the nip roll does not come into contact with the base film portion immediately below the both end regions of the coating layer as in the case of the nip roll in the above a). It can be made smaller.

c)図4に示されるような、両端がクラウン加工されているニップロール。クラウン加工とは、ロール径がロール端部に向かうに従い徐々に小さくされた加工である。図6は、両端がクラウン加工されたニップロール13を用いて、基材フィルム11上の塗工層12の表面を鋳型14の表面に押し当てたときの状態を示す概略断面図である。このような両端がクラウン加工されたニップロールを用いることによっても、塗工層の両端部領域に加わる圧力を中央部領域より小さくすることができる。とりわけ、両端がクラウン加工されたニップロールの使用は、塗工層に加わる圧力が急激に変化する箇所が生じることなく、中央部領域から両端部に向かうに従い徐々に小さくなるため、上記急激に圧力が変化する箇所のような急激な膜厚変化が生じる箇所で発生し得る樹脂残りを有効に防止できる点で好ましい。   c) A nip roll having both ends crowned as shown in FIG. Crown processing is processing in which the roll diameter is gradually reduced toward the end of the roll. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a state when the surface of the coating layer 12 on the base film 11 is pressed against the surface of the mold 14 using the nip roll 13 having both ends crowned. By using such a nip roll having both ends crowned, the pressure applied to the both end regions of the coating layer can be made smaller than that in the central region. In particular, the use of a nip roll whose ends are crowned does not cause a point where the pressure applied to the coating layer changes rapidly, and gradually decreases from the central region toward both ends. This is preferable in that it can effectively prevent a resin residue that may be generated at a location where a rapid change in film thickness occurs, such as a location where it changes.

本工程での塗工層の硬化後、基材フィルムと硬化した樹脂層との積層体は、図1を参照して、出口側のニップロール16を支点として鋳型14から剥離される。得られた基材フィルムと硬化した樹脂層からなる光学フィルムは、通常、フィルム巻き取り装置34によって巻き取られる。この際、樹脂層を保護する目的で、再剥離性を有した粘着剤層を介して、樹脂層表面にポリエチレンテレフタレートやポリエチレン等からなる保護フィルムを貼着しながら巻き取ってもよい。   After the coating layer is cured in this step, the laminate of the base film and the cured resin layer is peeled from the mold 14 with the nip roll 16 on the outlet side as a fulcrum with reference to FIG. The obtained optical film consisting of the base film and the cured resin layer is usually wound up by a film winding device 34. At this time, for the purpose of protecting the resin layer, it may be wound up while a protective film made of polyethylene terephthalate, polyethylene or the like is attached to the surface of the resin layer through a pressure-sensitive adhesive layer having removability.

なお、鋳型14から剥離した後に、追加の活性エネルギー線照射を行なってもよい。また、鋳型14に押し当てた状態で活性エネルギー線照射を行なう代わりに、未硬化の塗工層が形成された基材フィルムを鋳型14から剥離した後に、活性エネルギー線を照射して硬化させてもよい。   In addition, after peeling from the casting_mold | template 14, you may perform additional active energy ray irradiation. Further, instead of performing active energy ray irradiation in a state of pressing against the mold 14, the base film on which the uncured coating layer is formed is peeled off from the mold 14 and then cured by irradiation with active energy rays. Also good.

活性エネルギー線としては、塗工液に含まれる活性エネルギー線硬化性樹脂の種類に応じて紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、X線などから適宜選択することができるが、これらの中で紫外線および電子線が好ましく、取り扱いが簡便で高エネルギーが得られることから紫外線が特に好ましい。   The active energy ray can be appropriately selected from ultraviolet rays, electron rays, near ultraviolet rays, visible light, near infrared rays, infrared rays, X-rays and the like according to the type of the active energy ray curable resin contained in the coating liquid. Of these, ultraviolet rays and electron beams are preferred, and ultraviolet rays are particularly preferred because they are easy to handle and provide high energy.

紫外線の光源としては、たとえば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザー、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。これらの中でも、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンアーク、メタルハライドランプが好ましく用いられる。   As the ultraviolet light source, for example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a xenon arc, and a metal halide lamp are preferably used.

また、電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。   Further, as the electron beam, 50 to 1000 keV emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulation core transformation type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type, preferably 100 Mention may be made of electron beams having an energy of ˜300 keV.

活性エネルギー線が紫外線である場合、紫外線のUVAにおける積算光量は、好ましくは40mJ/cm2以上2000mJ/cm2以下であり、より好ましくは70mJ/cm2以上1800mJ/cm2以下である。積算光量が40mJ/cm2未満である場合、塗工層の硬化が不十分となり、得られる樹脂層の硬度が低くなったり、未硬化の樹脂がガイドロール等に付着し、工程汚染の原因となったりする場合がある。また、積算光量が2000mJ/cm2を超える場合、紫外線照射装置から放射される熱により、基材フィルムが収縮して皺の原因になることがある。 When the active energy ray is ultraviolet, the integrated amount of light at UVA ultraviolet is preferably at 40 mJ / cm 2 or more 2000 mJ / cm 2 or less, more preferably at 70 mJ / cm 2 or more 1800 mJ / cm 2 or less. When the integrated light quantity is less than 40 mJ / cm 2 , the coating layer is insufficiently cured, resulting in a low resin layer hardness or uncured resin adhering to the guide roll, etc. It may become. Moreover, when the integrated light quantity exceeds 2000 mJ / cm 2 , the base film may contract due to heat radiated from the ultraviolet irradiation device, causing wrinkles.

本工程で用いる鋳型は、基材フィルム上に形成される樹脂層表面に所望の形状を付与するためのものであり、当該所望の形状の転写構造からなる表面形状を有している。該表面形状に塗工層表面を押し当てながら(または押し当てた後)塗工層を硬化させることにより、鋳型の表面形状を樹脂層表面に転写することができる。鋳型としては、鏡面からなる表面を有する鋳型(たとえば鏡面ロール)および凹凸表面を有する鋳型(たとえばエンボスロール)を挙げることができる。   The mold used in this step is for imparting a desired shape to the surface of the resin layer formed on the base film, and has a surface shape composed of a transfer structure of the desired shape. The surface shape of the mold can be transferred to the surface of the resin layer by curing the coating layer while (or after) pressing the surface of the coating layer against the surface shape. Examples of the mold include a mold having a mirror surface (for example, a mirror roll) and a mold having an uneven surface (for example, an emboss roll).

鋳型が凹凸表面を有する場合において、凹凸形状のパターンは、規則的なパターンであってもよいし、ランダムパターン、あるいは特定サイズの1種類以上のランダムパターンを敷き詰めた、擬似ランダムパターンであってもよいが、得られる光学フィルムを液晶表示装置等の画像表示装置に適用した際に、表面形状に起因する反射光の干渉により、反射像が虹色に色づくことを防止する点から、ランダムパターンまたは擬似ランダムパターンであることが好ましい。   In the case where the mold has an uneven surface, the uneven pattern may be a regular pattern, a random pattern, or a pseudo random pattern in which one or more random patterns of a specific size are spread. However, when the obtained optical film is applied to an image display device such as a liquid crystal display device, it is possible to prevent the reflected image from being colored iridescent due to interference of reflected light caused by the surface shape. A pseudo random pattern is preferred.

鋳型の外形形状は特に制限されるものではなく、平板状であってもよいし、図1に示されるような円柱状または円筒状のロールであってもよいが、連続生産性の点から、鏡面ロールやエンボスロール等の、円柱状または円筒状の鋳型であることが好ましい。この場合、円柱状または円筒状の鋳型の側面に所定の表面形状が形成される。   The outer shape of the mold is not particularly limited, and may be a flat plate shape or a cylindrical or cylindrical roll as shown in FIG. 1, but from the viewpoint of continuous productivity, It is preferably a columnar or cylindrical mold such as a mirror surface roll or an embossing roll. In this case, a predetermined surface shape is formed on the side surface of the columnar or cylindrical mold.

鋳型の基材の材質は特に制限されるものではなく、金属、ガラス、カーボン、樹脂、あるいはそれらの複合体から適宜選択できるが、加工性等の点から金属が好ましい。好適に用いられる金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄、またはアルミニウムもしくは鉄を主体とする合金などが挙げられる。   The material of the base material of the mold is not particularly limited and can be appropriately selected from metal, glass, carbon, resin, or a composite thereof, but metal is preferable from the viewpoint of workability and the like. Suitable metal materials include aluminum, iron, or an alloy mainly composed of aluminum or iron from the viewpoint of cost.

鋳型を得る方法としては、たとえば、基材を研磨し、サンドブラスト加工を施した後、無電解ニッケルめっきを施す方法(特開2006−53371号公報);基材に銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、クロムめっきを施す方法(特開2007−187952号公報);銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、エッチング工程または銅めっき工程を施し、ついでクロムめっきを施す方法(特開2007−237541号公報);基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、研磨された面に感光性樹脂膜を塗布形成し、該感光性樹脂膜上にパターンを露光した後、現像し、現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行ない、感光性樹脂膜を剥離し、さらにエッチング処理を行ない、凹凸面を鈍らせた後、形成された凹凸面にクロムめっきを施す方法;および旋盤等の工作機械を用いて、切削工具により鋳型となる基材を切削する方法(国際公開第2007/077892号パンフレット)等が挙げられる。   As a method for obtaining a mold, for example, a base material is polished, sandblasted, and then subjected to electroless nickel plating (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-53371); the base material is subjected to copper plating or nickel plating After polishing, sandblasting, and chromium plating (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-187852); after copper plating or nickel plating, polishing and sandblasting, an etching step or A method of performing a copper plating step and then chromium plating (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-237541); applying copper plating or nickel plating to the surface of the substrate, polishing, and then applying a photosensitive resin film to the polished surface After coating and forming, the pattern is exposed on the photosensitive resin film, developed, and then etched using the developed photosensitive resin film as a mask. A method of performing a polishing process, peeling off the photosensitive resin film, further performing an etching process, dulling the uneven surface, and then applying chrome plating to the formed uneven surface; and cutting using a lathe or other machine tool Examples thereof include a method of cutting a base material to be a mold with a tool (International Publication No. 2007/077892 pamphlet).

ランダムパターンまたは擬似ランダムパターンからなる鋳型の表面凹凸形状は、たとえば、FMスクリーン法、DLDS(Dynamic Low−Discrepancy Sequence)法、ブロック共重合体のミクロ相分離パターンを利用する方法またはバンドパスフィルター法等によって生成されたランダムパターンを感光性樹脂膜上に露光、現像し、現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行なうことにより形成することができる。   The surface irregularity shape of the mold consisting of a random pattern or a pseudo-random pattern is, for example, an FM screen method, a DLDS (Dynamic Low-Discretion Sequence) method, a method using a microphase separation pattern of a block copolymer, a bandpass filter method, or the like The random pattern generated by the above can be formed by exposing and developing on the photosensitive resin film, and performing an etching process using the developed photosensitive resin film as a mask.

以上のようにして得られる本発明に係る光学フィルムは、液晶表示装置などの画像表示装置に好適に適用されるものであり、たとえば、基材フィルム上の樹脂層が様々な外力に起因する傷付きを防止するためのハードコート層であるハードコートフィルム(透光性微粒子を含有する場合がある);樹脂層が液晶セルから出射する光を拡散させて視野角を改善するための光拡散層(光拡散剤としての透光性微粒子を含有する)である視認側光拡散フィルム;樹脂層が外光の映り込みやギラツキを防止するための表面凹凸を有する防眩層(透光性微粒子を含有する場合がある)である防眩フィルム;樹脂層が液晶セルに入射する光を拡散させ、バックライトユニットに起因するモアレ等を防止するための光拡散層(光拡散剤としての透光性微粒子を含有する)である背面側光拡散フィルム(拡散板)などであることができる。ハードコートフィルム、視認側光拡散フィルムおよび防眩フィルムは、通常、視認側偏光板の視認側保護フィルムとして偏光フィルムに貼合して用いられる(すなわち、画像表示装置の表面に配置される。)。背面側光拡散フィルムは、通常、バックライト側偏光板のバックライト側保護フィルムとして偏光フィルムに貼合される。   The optical film according to the present invention obtained as described above is suitably applied to an image display device such as a liquid crystal display device. For example, the resin layer on the base film is scratched due to various external forces. Hard coat film that is a hard coat layer for preventing sticking (may contain translucent fine particles); light diffusion layer for resin layer to diffuse light emitted from liquid crystal cell and improve viewing angle Viewing side light diffusing film (containing translucent fine particles as a light diffusing agent); antiglare layer (translucent fine particles comprising a resin layer having surface irregularities to prevent reflection of external light and glare) Anti-glare film, which may be contained); light diffusion layer (translucent as a light diffusing agent) for diffusing light incident on the liquid crystal cell and preventing moire caused by the backlight unit Fine particles It can be located in such as the back-side light-diffusing film is contained to) (diffuser). The hard coat film, the viewing-side light diffusion film and the antiglare film are usually used by being bonded to a polarizing film as a viewing-side protective film for the viewing-side polarizing plate (that is, disposed on the surface of the image display device). . The back side light diffusion film is usually bonded to the polarizing film as a backlight side protective film of the backlight side polarizing plate.

本発明に係る光学フィルムは、樹脂層上(基材フィルムとは反対側の面)に積層された反射防止層をさらに備えていてもよい。反射防止層は、反射率を限りなく低くするために設けられるものであり、反射防止層の形成により、表示画面への映り込みを防止することができる。反射防止層としては、樹脂層の屈折率よりも低い材料から構成された低屈折率層;樹脂層の屈折率より高い材料から構成された高屈折率層と、この高屈折率層の屈折率より低い材料から構成された低屈折率層との積層構造などを挙げることができる。反射防止層の積層方法には特に制限はなく、樹脂層上に直接積層してもよいし、別途あらかじめ基材フィルム上に反射防止層を積層したものを用意し、粘着剤等を用いて樹脂層の上に貼合してもよい。   The optical film according to the present invention may further include an antireflection layer laminated on the resin layer (surface opposite to the base film). The antireflection layer is provided to reduce the reflectance as much as possible, and reflection on the display screen can be prevented by forming the antireflection layer. As the antireflection layer, a low refractive index layer composed of a material lower than the refractive index of the resin layer; a high refractive index layer composed of a material higher than the refractive index of the resin layer, and the refractive index of the high refractive index layer A laminated structure with a low refractive index layer composed of a lower material can be exemplified. There is no particular limitation on the method of laminating the antireflection layer, and the antireflection layer may be laminated directly on the resin layer, or separately prepared by previously laminating the antireflection layer on the base film, and using a pressure sensitive adhesive or the like. You may paste on the layer.

<偏光板>
本発明の偏光板は、偏光フィルムと、基材フィルム側が該偏光フィルムに対向するように該偏光フィルム上に積層される前述の製造方法により得られる光学フィルムとを備えるものである。偏光フィルムは、入射光から直線偏光を取り出す機能を有するものであって、その種類は特に限定されない。好適な偏光フィルムの例として、ポリビニルアルコール系樹脂に二色性色素が吸着配向している偏光フィルムを挙げることができる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、酢酸ビニルのケン化物であるポリビニルアルコールのほか、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン/酢酸ビニル共重合体のケン化物などが挙げられる。二色性色素としては、ヨウ素または二色性の有機染料が用いられる。また、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物のポリエン配向フィルムも、偏光フィルムとなり得る。偏光フィルムの厚さは、通常5〜80μm程度である。
<Polarizing plate>
The polarizing plate of this invention is equipped with a polarizing film and the optical film obtained by the above-mentioned manufacturing method laminated | stacked on this polarizing film so that a base film side may oppose this polarizing film. A polarizing film has a function which takes out linearly polarized light from incident light, The kind is not specifically limited. As an example of a suitable polarizing film, there can be mentioned a polarizing film in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol resin. Examples of the polyvinyl alcohol-based resin include polyvinyl alcohol, which is a saponified product of vinyl acetate, partially formalized polyvinyl alcohol, and a saponified product of an ethylene / vinyl acetate copolymer. As the dichroic dye, iodine or a dichroic organic dye is used. In addition, a polyene-oriented film of a polyvinyl alcohol dehydrated product or a polyvinyl chloride dehydrochlorinated product can also be a polarizing film. The thickness of the polarizing film is usually about 5 to 80 μm.

本発明の偏光板は、上記偏光フィルムの片面または両面(通常は片面である)に本発明に係る光学フィルムを積層したものであってもよく、上記偏光フィルムの一方の面に透明保護層を積層し、他方の面に本発明に係る光学フィルムを積層したものであってもよい。この際、光学フィルムは、偏光フィルムの透明保護層(保護フィルム)としての機能も有する。透明保護層は、透明樹脂フィルムを、接着剤等を用いて貼合する方法や透明樹脂含有塗工液を塗布する方法などによって偏光フィルム上に形成することができる。同様に、本発明に係る光学フィルムは、接着剤等を用いて偏光フィルムに貼合することができる。   The polarizing plate of the present invention may be one in which the optical film according to the present invention is laminated on one side or both sides (usually one side) of the polarizing film, and a transparent protective layer is provided on one side of the polarizing film. The optical film according to the present invention may be laminated on the other surface. At this time, the optical film also has a function as a transparent protective layer (protective film) of the polarizing film. The transparent protective layer can be formed on the polarizing film by a method of laminating a transparent resin film using an adhesive or the like, a method of applying a transparent resin-containing coating solution, or the like. Similarly, the optical film according to the present invention can be bonded to a polarizing film using an adhesive or the like.

透明保護層となる透明樹脂フィルムは、透明性や機械強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れることが好ましく、このようなものとしては、たとえば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースアセテートなどのセルロース系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレートなどの(メタ)アクリル系樹脂;ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレンなどの鎖状ポリオレフィン系樹脂;環状ポリオレフィン系樹脂;スチレン系樹脂;ポリサルフォン;ポリエーテルサルフォン;ポリ塩化ビニル系樹脂などからなるフィルムが例示される。これらの透明樹脂フィルムは、光学的に等方性のものであってもよいし、画像表示装置に組み込んだ際の視野角の補償を目的として、光学的に異方性を有するものであってもよい。   The transparent resin film serving as the transparent protective layer is preferably excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding properties, etc., and examples thereof include triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellulose acetate propio Cellulose resins such as cellulose acetate such as nates; Polycarbonate resins; (Meth) acrylic resins such as polyacrylate and polymethyl methacrylate; Polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; Chains such as polyethylene and polypropylene Examples thereof include films made of polyolefin resin; cyclic polyolefin resin; styrene resin; polysulfone; polyether sulfone; polyvinyl chloride resin. These transparent resin films may be optically isotropic, or have optical anisotropy for the purpose of compensating the viewing angle when incorporated in an image display device. Also good.

<画像表示装置>
本発明の画像表示装置は、上記本発明の偏光板と、種々の情報を画面に映し出す画像表示素子とを組み合わせたものである。本発明の画像表示装置の種類は特に限定されず、液晶パネルを使用した液晶ディスプレイ(LCD)のほか、ブラウン管(陰極線管:CRT)ディスプレイ、プラズマディスプレイ(PDP)、電解放出ディスプレイ(FED)、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ(SED)、有機ELディスプレイ、レーザーディスプレイ、プロジェクタテレビのスクリーン等が挙げられる。
<Image display device>
The image display device of the present invention is a combination of the polarizing plate of the present invention and an image display element that displays various information on a screen. The type of the image display device of the present invention is not particularly limited. In addition to a liquid crystal display (LCD) using a liquid crystal panel, a cathode ray tube (CRT) display, a plasma display (PDP), a field emission display (FED), a surface Examples thereof include a conduction electron-emitting device display (SED), an organic EL display, a laser display, and a projector television screen.

たとえば、本発明の偏光板を液晶セル上に配置して液晶パネルを製造する場合、偏光板は、その偏光フィルムが液晶セル側となるように(その樹脂層を外側にして)液晶セル上に配置される。他の画像表示装置についても同様である。光学フィルムは、画像表示素子の視認側に配してもよいし、バックライト側に配してもよいし、あるいはその両方に配してもよい。光学フィルムを視認側に配した場合、光学フィルムは、ハードコートフィルム、光拡散フィルム、防眩フィルムまたは反射防止フィルムなどとして機能し得る。一方、光学フィルムをバックライト側に配した場合、光学フィルムは、液晶セルに入射する光を拡散させ、モアレ等を防止する光拡散フィルム(拡散板)などとして機能し得る。   For example, when a liquid crystal panel is manufactured by arranging the polarizing plate of the present invention on a liquid crystal cell, the polarizing plate is placed on the liquid crystal cell so that the polarizing film is on the liquid crystal cell side (with the resin layer on the outside). Be placed. The same applies to other image display apparatuses. The optical film may be disposed on the viewing side of the image display element, on the backlight side, or on both. When the optical film is arranged on the viewing side, the optical film can function as a hard coat film, a light diffusion film, an antiglare film, an antireflection film, or the like. On the other hand, when the optical film is disposed on the backlight side, the optical film can function as a light diffusion film (diffusion plate) that diffuses light incident on the liquid crystal cell and prevents moiré or the like.

以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these Examples.

<実施例1>
以下の成分を混合して紫外線硬化性の塗工液を調製する。
・紫外線硬化性樹脂:ペンタエリスリトールトリアクリレート60重量部および多官能ウレタン化アクリレート(ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物) 40重量部、
・光重合開始剤:「ルシリン TPO」(BASF社製、化学名:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド) 5重量部、
・希釈溶剤:酢酸エチル 100重量部。
<Example 1>
The following components are mixed to prepare an ultraviolet curable coating solution.
UV curable resin: 60 parts by weight of pentaerythritol triacrylate and 40 parts by weight of polyfunctional urethanized acrylate (reaction product of hexamethylene diisocyanate and pentaerythritol triacrylate)
Photopolymerization initiator: “Lucillin TPO” (manufactured by BASF, chemical name: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide) 5 parts by weight,
-Diluting solvent: 100 parts by weight of ethyl acetate.

次に、上記塗工液を、厚さ80μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(基材フィルム)上に、硬化後の膜厚が10μmとなるようにグラビアコーターを用いて塗工し、基材フィルムと塗工層との積層体を得る〔塗工工程〕。ついで、得られる積層体を乾燥炉で乾燥させる。次に、表面が鏡面となるように研磨処理したクロムめっきロール(鋳型)に、積層体を介してクロムめっきロールと対向するように平行に配置され、両端がクラウン加工された図4に示されるようなニップロール(塗工層の幅方向両端部の直下にロール径がロール端部に向かうに従い徐々に小さくされたクラウン加工部分が配置されるようにする)を使用して塗工層表面を押し当て密着させる。この状態で基材フィルム側より、UVAにおける最大照度が700mW/cm2、UVAにおける積算光量が300mJ/cm2となるように紫外線を照射し、塗工層を硬化させる〔硬化工程〕。その後、クロムめっきロールから積層体を剥離することで、紫外線硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂層の平均膜厚が10μmである光学フィルムを得る。 Next, the above-mentioned coating solution is applied on a triacetyl cellulose (TAC) film (base film) having a thickness of 80 μm using a gravure coater so that the film thickness after curing is 10 μm. A laminate of the film and the coating layer is obtained [coating step]. Next, the obtained laminate is dried in a drying furnace. Next, it is arranged in parallel on the chrome plating roll (mold) polished so that the surface becomes a mirror surface so as to face the chrome plating roll through the laminate, and both ends are crowned as shown in FIG. Press the surface of the coating layer using a nip roll (such that the crown processed portion is gradually reduced as the roll diameter goes to the end of the roll, just below both ends of the coating layer in the width direction) Close contact. In this state, the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays from the base film side so that the maximum illuminance in UVA is 700 mW / cm 2 and the integrated light quantity in UVA is 300 mJ / cm 2 [curing step]. Then, the optical film whose average film thickness of the resin layer which consists of hardened | cured material of an ultraviolet curable resin is 10 micrometers is obtained by peeling a laminated body from a chromium plating roll.

<実施例2>
図3に示されるような、塗工層の有効幅における両端部領域に対応する領域(両端部領域直下の領域)に凹形状の切り欠き部を有するニップロールを使用すること以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを作製する。
<Example 2>
Example 1 except that a nip roll having a concave notch in the region corresponding to both end regions in the effective width of the coating layer (region immediately below both end regions) as shown in FIG. 3 is used. An optical film is produced in the same manner as described above.

<実施例3>
図2に示されるような、塗工層の有効幅よりも短い幅(ロール長さ)を有するニップロールを使用すること以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを作製する。
<Example 3>
An optical film is produced in the same manner as in Example 1 except that a nip roll having a width (roll length) shorter than the effective width of the coating layer as shown in FIG. 2 is used.

<比較例1>
塗工層の有効幅よりも長い幅(ロール長さ)を有する円筒状のニップロール(ロール表面は凹凸のない平滑面からなり、加工を施していない)を使用すること以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを作製する。
<Comparative Example 1>
Example 1 with the exception of using a cylindrical nip roll having a width (roll length) longer than the effective width of the coating layer (the roll surface is a smooth surface with no irregularities and is not processed). Similarly, an optical film is produced.

(樹脂残りの評価)
光学フィルムを作製した後のクロムめっきロールの表面をルーペで観察し、硬化した樹脂層の両端部に相当する位置A、および、実施例1〜3においては、塗工層に加わる圧力が変化する位置B(実施例1:クロムめっきロールにおけるクラウン加工されていない中央領域とクラウン加工された両端部領域との境界位置、実施例2:両切り欠き部における中央寄りの段差位置、実施例3:クロムめっきロールの幅方向両端部)での樹脂残りの有無を確認する。いずれの位置においても樹脂残りが確認されない場合を○、いずれかの位置において樹脂残りが確認されるが、樹脂残りの生じている部分が、ロール全周の1/3未満である場合を△、いずれかの位置において樹脂残りが確認され、樹脂残りの生じている部分が、ロール全周の1/3以上である場合を×とする。結果は表1に示すとおりとなる。
(Residual resin evaluation)
The surface of the chromium plating roll after producing the optical film is observed with a magnifying glass, and the position A corresponding to both ends of the cured resin layer and the pressure applied to the coating layer change in Examples 1 to 3. Position B (Example 1: Boundary position between the center region where crown processing is not performed on the chromium plating roll and both end region regions subjected to crown processing, Example 2: Step position near the center at both notches, Example 3: Chrome Check the presence or absence of resin residue at both ends of the plating roll in the width direction). A case where no resin residue is confirmed at any position, a resin residue is confirmed at any position, and a portion where the resin residue occurs is less than 1/3 of the entire circumference of the roll, Δ The case where the resin residue is confirmed at any position and the portion where the resin residue occurs is 1/3 or more of the entire circumference of the roll is indicated as x. The results are as shown in Table 1.

(樹脂剥がれの評価)
得られた光学フィルムの硬化した樹脂層における幅方向の両端部領域にテープ(ニチバン株式会社製「セロテープ(登録商標)」、24mm幅)を貼り付け、樹脂層表面に対して45度の角度で引き剥がす操作を3回繰り返した後、上記両端部領域をルーペで観察し、樹脂剥がれ(樹脂層の基材フィルムからの剥離または樹脂層の基材フィルムからの脱離)の有無を確認する。樹脂剥がれが確認されない場合を○、確認される場合を×とする。なお、上記テープを用いた操作は、基材フィルムから脱離はしていないが、基材フィルムから剥離しており、脱離しやすい状態にある樹脂層部分(このような部分は樹脂剥がれの範疇に含まれる)の存在を確認しやすくするためのものである。結果は表1に示すとおりとなる。
(Evaluation of resin peeling)
A tape (“Cello Tape (registered trademark)” manufactured by Nichiban Co., Ltd., 24 mm width) is attached to both end regions in the width direction of the cured resin layer of the obtained optical film, and at an angle of 45 degrees with respect to the resin layer surface. After repeating the peeling operation three times, the both end regions are observed with a magnifying glass, and the presence or absence of resin peeling (detachment of the resin layer from the base film or removal of the resin layer from the base film) is confirmed. The case where resin peeling is not confirmed is marked with ◯, and the case where it is confirmed is marked with x. The operation using the tape is not detached from the base film, but is peeled off from the base film and is in a state of being easily detached (such a part is a category of resin peeling). To make it easier to confirm the presence of The results are as shown in Table 1.

Figure 0005995412
Figure 0005995412

表1に示されるとおり、塗工層における幅方向の両端部領域に加わる圧力が、中央部領域よりも小さくなるように加工されたニップロールを用いることにより、何らの加工を施していないニップロールを用いる場合(比較例1)と比較して、樹脂剥がれおよび樹脂残りを有効に抑制できる。とりわけ、両端がクラウン加工されたニップロールを用いる場合には、塗工層に加わる圧力が中央部領域から両端部に向かうに従い徐々に小さくなるため、塗工層に加わる圧力が変化する位置Bにおいても効果的に樹脂残りを防止することができる。実施例2および3においては、位置Aでは樹脂残りは確認されないが、位置Bにおいて、わずかな樹脂残りが確認される。   As shown in Table 1, a nip roll that has not been subjected to any processing is used by using a nip roll that is processed so that the pressure applied to both end region in the width direction of the coating layer is smaller than that in the central region. Compared with the case (Comparative Example 1), resin peeling and resin residue can be effectively suppressed. In particular, in the case of using a nip roll whose both ends are crowned, the pressure applied to the coating layer gradually decreases from the central region toward both ends, so even at the position B where the pressure applied to the coating layer changes. Resin residue can be effectively prevented. In Examples 2 and 3, no resin residue is confirmed at position A, but a slight resin residue is confirmed at position B.

11 基材フィルム、12 塗工層、13,16 ニップロール、14 鋳型、15 活性エネルギー線照射装置、31 フィルム巻き出し装置、32 塗工装置、33 乾燥炉、34 フィルム巻き取り装置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Base film, 12 Coating layer, 13, 16 Nip roll, 14 Mold, 15 Active energy ray irradiation apparatus, 31 Film unwinding apparatus, 32 Coating apparatus, 33 Drying furnace, 34 Film winding apparatus.

Claims (3)

連続して搬送される基材フィルム上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程と、
前記塗工層の表面を鋳型の表面に押し当てた状態で、前記基材フィルム側から活性エネルギー線を照射する硬化工程と、
を含み、
前記硬化工程において、前記塗工層の表面は、前記塗工層を有する基材フィルムを介して前記鋳型と対向するように配置されるニップロールによって前記鋳型の表面に押し当てられ、
前記ニップロールは、これによって前記塗工層の表面を前記鋳型の表面に押し当てたときに前記塗工層における幅方向の両端部領域に加わる圧力が、前記両端部領域の間に位置する幅方向の中央部領域よりも小さくなるよう、前記塗工層の中央部領域に対応する領域が、前記両端部領域に対応する領域よりも外側に突出するように加工されたものであり、
前記ニップロールは、前記塗工層の中央部領域に対応する領域において一定の径を有している光学フィルムの製造方法。
A coating process that forms a coating layer by coating a coating liquid containing an active energy ray-curable resin on a substrate film that is continuously conveyed;
In a state where the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold, a curing step of irradiating active energy rays from the base film side;
Including
In the curing step, the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold by a nip roll disposed so as to face the mold through the base film having the coating layer,
The nip roll has a width direction in which pressure applied to both end region in the width direction of the coating layer when the surface of the coating layer is pressed against the surface of the mold is positioned between the both end regions. The region corresponding to the central region of the coating layer is processed so as to protrude outward from the region corresponding to the both end regions, so as to be smaller than the central region.
The said nip roll is a manufacturing method of the optical film which has a fixed diameter in the area | region corresponding to the center part area | region of the said coating layer.
偏光フィルムと光学フィルムとを備える偏光板を製造する方法であって、
請求項1に記載の製造方法により光学フィルムを得、
得られた光学フィルムを、前記基材フィルム側が前記偏光フィルムに対向するように、前記偏光フィルム上に積層することを特徴とする偏光板の製造方法
A method for producing a polarizing plate comprising a polarizing film and an optical film,
An optical film is obtained by the manufacturing method according to claim 1,
A method for producing a polarizing plate, comprising: laminating the obtained optical film on the polarizing film so that the base film side faces the polarizing film.
偏光板と画像表示素子とを備える画像表示装置を製造する方法であって、
請求項2に記載の製造方法により偏光板を得、
得られた偏光板、その偏光フィルムが前記画像表示素子側となるように前記画像表示素子上に配置することを特徴とする画像表示装置の製造方法
A method of manufacturing an image display device comprising a polarizing plate and an image display element,
A polarizing plate is obtained by the production method according to claim 2 ,
A method for producing an image display device, comprising: arranging the obtained polarizing plate on the image display element such that the polarizing film is on the image display element side.
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