JP2007187971A - Antiglare antireflection film, its manufacturing method, polarizing plate and display apparatus - Google Patents

Antiglare antireflection film, its manufacturing method, polarizing plate and display apparatus Download PDF

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壮太 川上
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antiglare antireflection film which can effectively prevent the reflecting-in of external light or the lowering of contrast without degrading the sharpness of a high-definition image due to the downsizing of a pixel size or the like and in which a desired fine rugged structure is effectively and stably formed in high productivity, and to provide a polarizing plate and a display apparatus using the film. <P>SOLUTION: The antiglare antireflection film has a hard coat layer and a low refractive index layer as projections formed on a substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は防眩性反射防止フィルム及びその製造方法に関し、ディスプレイ装置において外光の写り込みが少なく、かつコントラストの低下を押さえた防眩性反射防止フィルム及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an antiglare antireflection film and a method for producing the same, and more particularly to an antiglare antireflection film in which display of external light is small and suppresses a decrease in contrast in a display device, and a method for producing the same.

近年、薄型軽量ノートパソコンの開発が進んでいる。それに伴って、液晶表示装置等の表示装置で用いられる偏光板の保護フィルムもますます薄膜化、高性能化への要求が強くなってきている。また、視認性向上のために反射防止層を設けたり、また、写り込みを防いだり、ギラツキの少ない表示性能を得るために表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与した、コンピュータやワープロ等の液晶画像表示装置(液晶ディスプレイともいう)が多く使用されるようになってきた。   In recent years, development of thin and light notebook computers has been progressing. Along with this, the demand for thinner and higher performance protective films for polarizing plates used in display devices such as liquid crystal display devices is also increasing. Also, a computer provided with an anti-glare layer for improving visibility, and also provided with an anti-glare layer that prevents reflections and scatters the reflected light with a rough surface to obtain display performance with less glare. A liquid crystal image display device (also referred to as a liquid crystal display) such as a word processor or the like has been widely used.

反射防止層や防眩層は用途に応じてさまざまな種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々の前面板を液晶ディスプレイの偏光子等に貼り合わせることで、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能または防眩機能等を付与する方法が用いられている。   Various types and performance improvements have been made to the antireflection layer and antiglare layer depending on the application, and various front plates with these functions are attached to the polarizer of a liquid crystal display, etc., to improve visibility on the display. Therefore, a method of providing an antireflection function or an antiglare function is used.

防眩層は、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置などの使用時に反射像の写り込みが気にならないようにするものである。   The antiglare layer reduces the visibility of the reflected image by blurring the outline of the image reflected on the surface, and reflection of the reflected image is noticeable when using an image display device such as a liquid crystal display, an organic EL display, or a plasma display. It is to prevent it from becoming.

画像表示装置の前面板最表面に適切な微細凹凸構造を設けることによって、上記のような性質を持たせることが出来る。例えば、微粒子を用いる方法(例えば、特許文献1参照。)、表面にエンボス加工を施す方法(例えば、特許文献2参照。)等種々の方法がある。   By providing an appropriate fine concavo-convex structure on the outermost surface of the front plate of the image display device, the above properties can be provided. For example, there are various methods such as a method using fine particles (for example, refer to Patent Document 1) and a method for embossing the surface (for example, refer to Patent Document 2).

しかしながら、微粒子を用いる方法では、バインダー層中に微粒子を含有させることのみによって微細凹凸構造を形成する為、微粒子を適切に分散することが必要とされるため、所望の微細凹凸構造を効果的に安定に形成することがむずかしく、防眩性フィルムとしての十分なぎらつき防止効果を得ることに大きな障害を有していた。特に、微粒子を用いる方法は、微粒子の存在密度が制御できず、また微粒子が複数重なる部分で、凸部の高さが周囲より高くなるため、安定に均一な微細凹凸構造を作ることができない点が欠点であった。またエンボス加工により微細凹凸構造を形成する方法は、生産性に劣り、特に微細凹凸構造を安定に形成することは極めて困難である。   However, in the method using fine particles, since the fine concavo-convex structure is formed only by containing the fine particles in the binder layer, it is necessary to disperse the fine particles appropriately. It was difficult to form stably, and it had a great obstacle to obtaining a sufficient anti-glare effect as an antiglare film. In particular, the method using fine particles cannot control the existence density of fine particles, and the height of the convex portions is higher than the surroundings in a portion where a plurality of fine particles overlap, so that a stable and uniform fine concave-convex structure cannot be formed. Was a drawback. Moreover, the method of forming a fine concavo-convex structure by embossing is inferior in productivity, and it is extremely difficult to form a fine concavo-convex structure stably.

また、近年、画像の高画質化が進む中で、防眩性は有しつつ、かつコントラストの高い表示装置が求められている。例えば液晶表示装置の最表面は、微粒子法などの従来の防眩性フィルムではコントラストが不充分であり、またクリアハードコート反射防止フィルムでは外光の写り込みが問題となる。この欠点に対応するため、防眩性フィルム上に光干渉による反射防止層(低屈折率層)をコーティングした防眩性反射防止フィルムに関する技術が多数提案されている(例えば、特許文献3〜8参照。)。しかしながら、これらによってもより視認性の優れた表示装置を得る上で、充分な防眩性やコントラストを得るまでに至っていない。
特開昭59−58036号公報 特開平6−234175号公報 特開2001−281410号公報 特開2004−4404号公報 特開2004−125985号公報 特開2004−24967号公報 特開2004−4777号公報 特開2003−121620号公報
Further, in recent years, as image quality has been improved, a display device having high anti-glare property and high contrast has been demanded. For example, the outermost surface of the liquid crystal display device has insufficient contrast with a conventional antiglare film such as a fine particle method, and reflection of external light becomes a problem with a clear hard coat antireflection film. In order to cope with this drawback, many techniques relating to an antiglare antireflection film obtained by coating an antiglare film with an antireflection layer (low refractive index layer) due to light interference have been proposed (for example, Patent Documents 3 to 8). reference.). However, these methods have not yet achieved sufficient anti-glare properties and contrast in obtaining a display device with higher visibility.
JP 59-58036 A JP-A-6-234175 JP 2001-281410 A Japanese Patent Laid-Open No. 2004-4404 JP 2004-125985 A JP 2004-24967 A JP 2004-4777 A JP 2003-121620 A

従って本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性反射防止フィルムを提供し、更にそれを用いた偏光板、及び表示装置を提供することにある。   Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to effectively capture external light and reduce contrast without deteriorating the sharpness of a high-definition image due to a reduction in pixel size or the like. An object of the present invention is to provide an antiglare antireflection film which can be prevented and which has a desired fine concavo-convex structure formed effectively and stably with good productivity, and further provides a polarizing plate and a display device using the same.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.支持体上にハードコート層と凸部状に形成された低屈折率層とを有することを特徴とする防眩性反射防止フィルム。   1. An antiglare antireflection film comprising a hard coat layer and a low refractive index layer formed in a convex shape on a support.

2.前記凸部状に形成された低屈折率層がハードコート層表面の85%以上の面積を被覆していることを特徴とする前記1に記載の防眩性反射防止フィルム。   2. 2. The antiglare antireflection film as described in 1 above, wherein the low refractive index layer formed in the convex shape covers an area of 85% or more of the surface of the hard coat layer.

3.前記凸部状に形成された低屈折率層の屈折率が1.5以下であり、かつ前記防眩性反射防止フィルムの表面の中心線平均粗さ(Ra)が0.5μm以下であり、かつ平均山谷間隔(Sm)が5〜200μm以下であることを特徴とする前記1または2に記載の防眩性反射防止フィルム。   3. The refractive index of the low refractive index layer formed in the convex shape is 1.5 or less, and the center line average roughness (Ra) of the surface of the antiglare antireflection film is 0.5 μm or less, The average anti-glare antireflection film as described in 1 or 2 above, wherein the mean valley interval (Sm) is 5 to 200 μm or less.

4.前記凸部状に形成された低屈折率層が少なくとも活性エネルギー線硬化型材料と低屈折率微粒子とを含有することを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。   4). 4. The antiglare reflection according to any one of 1 to 3, wherein the low refractive index layer formed in the convex shape contains at least an active energy ray-curable material and low refractive index fine particles. Prevention film.

5.前記凸部状に形成された低屈折率層が少なくともゾルゲル素材と低屈折率微粒子とを含有することを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。   5. 4. The antiglare antireflection film as described in any one of 1 to 3 above, wherein the low refractive index layer formed in the convex shape contains at least a sol-gel material and low refractive index fine particles.

6.前記支持体がセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、およびポリカーボネート系フィルムから選ばれる少なくとも1種のフィルムであることを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。   6). 6. The prevention according to any one of 1 to 5, wherein the support is at least one film selected from a cellulose ester film, a polyester film, a norbornene resin film, and a polycarbonate film. Dazzling antireflection film.

7.前記1〜6のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルムを少なくとも一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。   7). A polarizing plate, wherein the antiglare antireflection film according to any one of 1 to 6 is bonded to at least one surface.

8.前記1〜6のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルムまたは前記7に記載の偏光板を用いたことを特徴とする表示装置。   8). A display device using the antiglare antireflection film described in any one of 1 to 6 or the polarizing plate described in 7 above.

9.支持体上にハードコート層と凸部状に形成される低屈折率層を有し、該低屈折率層が印刷法、インクジェット法またはスプレイ加工により形成されることを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。   9. An antiglare reflection characterized by having a hard coat layer and a low refractive index layer formed in a convex shape on a support, and the low refractive index layer is formed by a printing method, an inkjet method or a spray process The manufacturing method of a prevention film.

10.前記凸部状に形成される低屈折率層が複数回の印刷、インクジェット、またはスプレイ加工により形成されることを特徴とする前記9に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。   10. 10. The method for producing an antiglare antireflection film as described in 9 above, wherein the low refractive index layer formed in the convex shape is formed by a plurality of times of printing, ink jetting or spraying.

本発明により画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性反射防止フィルム及びその製造方法を提供し、更にそれを用いた偏光板、及び表示装置を提供することが出来る。   According to the present invention, it is possible to effectively prevent reflection of external light and a decrease in contrast without reducing the sharpness of a high-definition image due to a reduction in pixel size or the like, and a desired fine concavo-convex structure can be effectively produced with high productivity. -The anti-glare antireflection film formed stably and its manufacturing method can be provided, and also a polarizing plate and a display device using the same can be provided.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明の防眩性反射防止フィルムは、支持体上にハードコート層と凸部状に形成された低屈折率層とを有することを特徴とする。   The antiglare antireflection film of the present invention is characterized by having a hard coat layer and a low refractive index layer formed in a convex shape on a support.

本発明は、支持体上にハードコート層と凸部状に形成された低屈折率層を有し、凸部状の低屈折率層がハードコート層表面の85%以上の面積を被覆し、防眩性反射防止フィルムの表面の中心線平均粗さ(Ra)が0.5μm以下であり、かつ平均山谷間隔(Sm)が5〜200μm以下である防眩性反射防止フィルムにより、高精細でコントラスト低下を防止できる防眩性反射防止フィルムを安定的に提供するものである。   The present invention has a hard coat layer and a low refractive index layer formed in a convex shape on a support, and the convex low refractive index layer covers an area of 85% or more of the surface of the hard coat layer, With the antiglare antireflection film having an antiglare antireflection film having a center line average roughness (Ra) of 0.5 μm or less and an average peak-valley spacing (Sm) of 5 to 200 μm or less, high definition An antiglare antireflection film capable of preventing a decrease in contrast is stably provided.

従来の、微粒子を含有させて防眩性を付与したハードコート層全体を低屈折率層で覆い防眩性反射防止フィルムを形成する方法やエンボス加工により防眩性を付与する方法では、微細凹凸構造の均一性を保つことが難しい為に、防眩効果、ぎらつき、白濁、画像表示時の黒のしまりについて不十分なレベルにあった。   In the conventional method of forming an antiglare antireflection film by covering the entire hard coat layer containing fine particles and imparting antiglare properties with a low refractive index layer or embossing, fine unevenness Since it was difficult to maintain the uniformity of the structure, the antiglare effect, glare, white turbidity, and blackness at the time of image display were at insufficient levels.

本発明において上記低屈折率層を凸部状に形成するには、印刷法であるグラビア法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、若しくはインクジェット法、スプレイ加工等のパターン作製方法により、凸部(ドットとも言う)を作製し、該凸部を活性光線もしくは加熱により硬化固定することで得ることが出来る。この際、凸部は、面内ではFMスクリーニング等の手段により一定のランダム配置を取り、高さは一定の範囲内で均一に作製されることで、表面粗さ(Ra)は全面において安定し、かつ凹凸の形成は一律の間隔とならないことで、ディスプレイの画素との間でモアレを発生することがない。凸部の高さと間隔を適切に設定することで、防眩性反射防止フィルムの表面には適度で安定した表面粗さを持つ凹凸が形成され、防眩効果を維持しつつ、光散乱によるヘーズの増加が抑えられ、散乱光による白濁が押えられるため、コントラストの高い画像を見ることができる。   In the present invention, in order to form the low refractive index layer in a convex shape, a convex portion (dot dot) is formed by a pattern production method such as a gravure method, a screen printing method, a flexographic printing method, an ink jet method, or a spray process that is a printing method. It can also be obtained by curing and fixing the convex portions by actinic rays or heating. At this time, the convex portions are arranged in a random manner by means such as FM screening within the plane, and the height is uniformly produced within a certain range, so that the surface roughness (Ra) is stable over the entire surface. In addition, since the unevenness is not formed at uniform intervals, moire is not generated between the pixels of the display. By appropriately setting the height and spacing of the protrusions, irregularities with moderate and stable surface roughness are formed on the surface of the antiglare antireflection film, maintaining the antiglare effect and haze due to light scattering. Is suppressed, and white turbidity due to scattered light is suppressed, so that a high-contrast image can be seen.

上記方法によれば、印刷速度を10m/毎分以上、500m/毎分という速度でも防眩性反射防止フィルムを作製することが出来、高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性反射防止フィルム、それを用いた偏光板及び表示装置が得られることを見出したものである。   According to the above method, it is possible to produce an antiglare antireflection film even at a printing speed of 10 m / min or more and 500 m / min, and without reducing the sharpness of high-definition images. And anti-glare antireflection film in which a desired fine concavo-convex structure can be effectively and stably formed with good productivity, and a polarizing plate and a display device using the same can be obtained. This is what we found.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

《凸部状低屈折率層の形成》
本発明の凸部状の低屈折率層は、印刷法であるグラビア法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、若しくはインクジェット法、スプレイ加工等のパターン作製方法により得られることが好ましい。
<Formation of convex low refractive index layer>
The convex low refractive index layer of the present invention is preferably obtained by a pattern production method such as a gravure method, a screen printing method, a flexographic printing method, an ink jet method, or a spray process, which is a printing method.

以下に、凸部状の低屈折率層の形成方法の一例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。   Although an example of the formation method of a convex-shaped low refractive index layer is shown below, this invention is not limited to this.

〈フレキソ印刷による凸部の形成の例〉
一般にフレキソ印刷とは、フレキシブルなゴム又は樹脂からなる凸版と、水又はアルコールを主とする溶剤系の蒸発乾燥型のインキを用いた印刷方法である。本発明の場合、該インキが低屈折率層形成素材であることが特徴である。
<Example of forming convex portions by flexographic printing>
In general, flexographic printing is a printing method using a relief printing plate made of a flexible rubber or resin and a solvent-based evaporation-drying ink mainly composed of water or alcohol. In the present invention, the ink is a low refractive index layer forming material.

本発明に好ましく用いられるフレキソ印刷について図をもって説明する。   The flexographic printing preferably used in the present invention will be described with reference to the drawings.

図1、図2は本発明に係るフレキソ印刷の一例を示す模式図である。   1 and 2 are schematic views showing an example of flexographic printing according to the present invention.

連続走行する支持体10は圧胴5と樹脂版ロール2と転移印刷後に支持体上に微細凹凸構造を形成するシームレス樹脂版1によって構成される版胴3に挟まれ、ドクターブレード6によって転移インキ量が調整されたアニロックスロール4によってインキ8を版胴3に供給し支持体上に転移印刷される。   The continuously running support 10 is sandwiched between a plate cylinder 3 constituted by an impression cylinder 5, a resin plate roll 2, and a seamless resin plate 1 that forms a fine uneven structure on the support after transfer printing, and is transferred by a doctor blade 6 to transfer ink. The ink 8 is supplied to the plate cylinder 3 by the anilox roll 4 whose amount is adjusted, and transfer printing is performed on the support.

フレキソ印刷における、版胴3に対するインキ供給は、アニロックスロール4により行われ、アニロックスロール面のインキ量の制御は、図1に示すドクターブレード方式、又は図2に示すツーロール方式によるものなどが一般的に知られている。図2に示すツーロール方式は、インキパンからインキ8をファウンテンロール7でアニロックスロール4に、更に版胴3にインキを供給し、支持体10にインキを転移印刷するものである。図2の方式によればインキ8は、アニロックスロール4の彫刻線数、セルの深さ及び形状で調整する他に、ファウンテンロール7とアニロックスロール4間の(変動し易い)ニップ圧の強弱でインキ供給量を制御するものでありインキの転移量が安定しないという問題がある為、本発明では図1の方法が好ましい。   In flexographic printing, ink supply to the plate cylinder 3 is performed by the anilox roll 4, and the amount of ink on the anilox roll surface is generally controlled by the doctor blade method shown in FIG. 1 or the two-roll method shown in FIG. Known to. In the two-roll system shown in FIG. 2, the ink 8 is supplied from the ink pan to the anilox roll 4 by the fountain roll 7 and further supplied to the plate cylinder 3 to transfer the ink to the support 10. In addition to adjusting the number of engraved lines of the anilox roll 4, the depth of the cell, and the shape of the ink 8 according to the method of FIG. 2, the nip pressure between the fountain roll 7 and the anilox roll 4 (which tends to fluctuate) The method shown in FIG. 1 is preferred in the present invention because the ink supply amount is controlled and there is a problem that the ink transfer amount is not stable.

また別の方式として、図3にインキの供給を押出しコーターにより行うフレキソ印刷の模式図を示す。   As another method, FIG. 3 shows a schematic diagram of flexographic printing in which ink is supplied by an extrusion coater.

インキ8は押出しコーター9により樹脂版ロール2に装着されたシームレス樹脂版1上に直接押し出され、版胴3と圧胴5に挟まれ連続走行している支持体10に転移印刷される。この装置の場合はアニロックスロールが無いため、インキの供給量は押出しコーターの精度に左右される。   The ink 8 is directly extruded onto the seamless resin plate 1 mounted on the resin plate roll 2 by an extrusion coater 9, and is transferred and printed onto a support 10 that is sandwiched between the plate cylinder 3 and the impression cylinder 5 and continuously running. In this apparatus, since there is no anilox roll, the amount of ink supplied depends on the accuracy of the extrusion coater.

図1に示すドクターブレード方式における、版胴3へのインキ転移量は、アニロックスロール4の彫刻線数とセルの形状で決まりインキ転移量としては安定出来るものである。そして、アニロックスロールのセルに充填するインキは、アニロックスロール表面の過剰インキをドクターブレードで掻きとるため、転移するインキは彫刻線数とセルの形状、容積で決められるものである。そして、アニロックスロールのセルは、例えば鉄シリンダー表面に必要に応じて銅メッキを施して、その面に彫刻でセルを形成し、ニッケル或いはクロムメッキで硬度のある表面加工を行う。アニロックスロールの材質は、鉄シリンダー表面に銅メッキ等を行ったタイプ、またはセラミックコーテイングしたタイプがあるが、本発明では耐摩耗性及び、彫刻線数の細線化が容易な点からセラミックコーテイングしたタイプが好ましい。   In the doctor blade system shown in FIG. 1, the amount of ink transferred to the plate cylinder 3 is determined by the number of engraved lines of the anilox roll 4 and the shape of the cell, and can be stabilized as the amount of ink transferred. The ink that fills the cells of the anilox roll scrapes excess ink on the surface of the anilox roll with a doctor blade. Therefore, the transferred ink is determined by the number of engraving lines, the shape of the cell, and the volume. Then, the anilox roll cell is subjected to, for example, copper plating on the surface of the iron cylinder as necessary, the cell is formed on the surface by engraving, and the surface processing with hardness is performed by nickel or chromium plating. The material of anilox roll includes a type in which the surface of the iron cylinder is plated with copper or the like, or a type with ceramic coating. In the present invention, however, the type is ceramic coated in terms of wear resistance and easy thinning of the number of engraving lines. Is preferred.

図4はアニロックスロールの斜視図である。   FIG. 4 is a perspective view of the anilox roll.

図5はアニロックスのセルを説明するための斜視図である。   FIG. 5 is a perspective view for explaining an anilox cell.

アニロックスロール4は、図4に示すようにセラミックス面を、銅面に設けるグラビア版と同様に化学腐食によっても形成出来るが、腐食液の処理や深さのばらつきを生じ易い点から、機械もしくはレーザー彫刻によりセルbを設けることが望ましい。そして、アニロックスロールの表面は、通常ミルによる押圧加工の後クロムメッキ加工して作られるが耐摩耗性、耐食性及びインキ転移性の点から酸化クローム、タングステンカーバイドなどの無機酸化物を熔射形成したものが好ましい。   As shown in FIG. 4, the anilox roll 4 can be formed by chemical corrosion in the same manner as a gravure plate provided on a copper surface. It is desirable to provide the cell b by engraving. The surface of the anilox roll is usually made by chrome plating after pressing with a mill, but from the point of wear resistance, corrosion resistance and ink transfer properties, inorganic oxides such as chromium oxide and tungsten carbide are formed by spraying. Those are preferred.

アニロックスロール4の彫刻形状は、格子型のセルの他に、図示はしないが、ヘリカル型、ピラミッド型、斜線型、六角形状のハニカムパターンなどの形状があり、特に限定されるものではないが、高速印刷時におけるインキ転移の再現性の点からハニカムパターンであることが好ましい。そして、図4及び図5に示す彫刻線数やセルbの深さdは、インキの転移量に大きな影響を与えるもので、本発明に係る防眩性反射防止フィルム表面上の微細凹凸構造を形成するには、600線/2.54cm以上、セルの深さdが5〜30μmであることが好ましい。彫刻形状と線数の選択は被印刷体の種類や印刷スクリーン線数に合せて考慮されるが、被吸収性が少ないプラスチックフィルムには線数の細かいものが好ましく使用される。そして、セルの土手a(非凹部)は、耐摩耗性に支障がない程度に小さく設けた方がインキチャージ量を多く出来る点から好ましく、具体的には土手幅wをセル幅の0.1〜0.5倍に設けることが好ましい。アニロックスロールは、フレキソ印刷において版面にインキ量の供給量をドクタリングで制御するものである。そして、ドクタリングの過程で摩耗・損傷が起こり、セルが浅くなりインキ転移量が減少する原因となる。したがって、従来の金属(鉄、又は銅に彫刻、クロームメッキ仕上げ)と比較して、セラミックスのアニロックスロールは、ドクタリングによる摩耗量が少なく凹凸パターンの繰り返し安定性に大きく貢献出来るものである。   The sculpture shape of the anilox roll 4 is not particularly limited in addition to the lattice type cell, although there are shapes such as a helical type, a pyramid type, a diagonal type, a hexagonal honeycomb pattern, etc. A honeycomb pattern is preferable from the viewpoint of reproducibility of ink transfer during high-speed printing. The number of engraving lines and the depth d of the cell b shown in FIGS. 4 and 5 have a great influence on the amount of ink transferred, and the fine concavo-convex structure on the surface of the antiglare antireflection film according to the present invention can be obtained. In order to form, it is preferable that 600 lines / 2.54 cm or more and the cell depth d is 5 to 30 μm. The selection of the engraving shape and the number of lines is considered in accordance with the type of substrate to be printed and the number of lines on the printing screen. However, a plastic film with a small number of lines is preferably used for a plastic film with low absorbability. And it is preferable that the bank a (non-recessed portion) of the cell should be small enough not to affect the wear resistance from the viewpoint that the ink charge amount can be increased. Specifically, the bank width w is set to 0.1 as the cell width. It is preferable to provide it at ˜0.5. The anilox roll controls the amount of ink supplied to the plate surface by flexing in flexographic printing. And abrasion and damage occur in the process of doctoring, which causes the cell to become shallow and the ink transfer amount to decrease. Therefore, compared with the conventional metal (iron or copper engraving, chrome plating finish), the ceramic anilox roll has a small amount of wear due to doctoring and can greatly contribute to the repetitive stability of the concavo-convex pattern.

本発明は、好ましくは図1に示すようなフレキソ印刷装置により、50〜1000mm径のシームレス樹脂版1を樹脂版ロール2に装着した版胴3と、好ましくはセラミックスコーティングしたアニロックスロール4とを用いて、支持体10にインキを転移印刷し、活性光線を照射するかまたは加熱して、支持体上に凸部を形成するものである。   The present invention preferably uses a plate cylinder 3 on which a seamless resin plate 1 having a diameter of 50 to 1000 mm is mounted on a resin plate roll 2 and preferably an anilox roll 4 coated with ceramics by a flexographic printing apparatus as shown in FIG. Then, ink is transferred to the support 10 and irradiated with actinic rays or heated to form convex portions on the support.

上記樹脂版ロール2の材質は特に限定されるものではなく、強度を維持出来るものであればよく、鉄、ステンレス、アルミ等の金属、または合成または天然ゴムであることが好ましく、金属とゴムの複合部材でもよい。本発明では樹脂版ロール2の径はシームレス樹脂版1が樹脂版ロール2に装着された時の径(ロールの直径)が50〜1000mmの範囲になるように選択されればよい。シームレス樹脂版1の径が50mm未満では回転速度が速過ぎて強度を維持出来ないこと、また凸部のパターンの繰り返しの周期が短くて防眩効果が低下することがあり好ましくない。径が1000mmを超えると、装置が大きくなり過ぎて運転費用がかかりコスト的に不利であり、また回転むらが生じやすくパターン形成の精度が低下する。   The material of the resin plate roll 2 is not particularly limited as long as it can maintain strength, and is preferably a metal such as iron, stainless steel, or aluminum, or a synthetic or natural rubber. A composite member may be used. In the present invention, the diameter of the resin plate roll 2 may be selected so that the diameter (roll diameter) when the seamless resin plate 1 is mounted on the resin plate roll 2 is in the range of 50 to 1000 mm. If the diameter of the seamless resin plate 1 is less than 50 mm, the rotational speed is too fast to maintain the strength, and the repetition cycle of the convex pattern is short, and the anti-glare effect is lowered, which is not preferable. If the diameter exceeds 1000 mm, the apparatus becomes too large, which is expensive to operate and disadvantageous in terms of cost. In addition, uneven rotation tends to occur, and the accuracy of pattern formation decreases.

本発明においてシームレス樹脂版1に用いる樹脂版は、光反応物質であるポリマーとモノマーとの光重合を応用した感光性樹脂版を用いることが好ましい。この感光性樹脂版は、フォトポリマー、紫外線の露光により光重合するモノマー、ポリマーとモノマー間とで光重合を開始する増感剤、及び版材の物理的性状を調整する可塑剤等の組成物から構成され、感光性樹脂版上に従来のマスク製版により上記パターンを刻印するか、または、シリンダー(軸芯)の全面に塗布等により設けた感光性樹脂層にレーザー光を照射することにより直接該パターンを彫刻することも出来る。   In the present invention, the resin plate used for the seamless resin plate 1 is preferably a photosensitive resin plate to which photopolymerization of a polymer and a monomer as a photoreactive substance is applied. This photosensitive resin plate is composed of a photopolymer, a monomer photopolymerized by exposure to ultraviolet light, a sensitizer that initiates photopolymerization between the polymer and the monomer, and a plasticizer that adjusts the physical properties of the plate material. The above pattern is engraved on the photosensitive resin plate by a conventional mask plate making, or directly applied by irradiating the photosensitive resin layer provided on the entire surface of the cylinder (axial core) by laser light. The pattern can also be engraved.

本発明において用いられる感光性樹脂組成物は、フレキソ印刷版用として公知のものが使用出来る。一般的にはバインダーポリマーと少なくとも一種のエチレン性不飽和モノマーと光開始剤を主成分とする組成物が用いられる。さらに、この感光性樹脂層に要求される特性に応じて増感剤、熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤などの添加剤を含むことが出来る。   As the photosensitive resin composition used in the present invention, those known for flexographic printing plates can be used. In general, a composition mainly composed of a binder polymer, at least one ethylenically unsaturated monomer and a photoinitiator is used. Furthermore, additives such as a sensitizer, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, and a colorant can be included depending on the properties required for the photosensitive resin layer.

バインダーポリマーとしては、例えばモノビニル置換芳香族炭化水素モノマーと共役ジエンモノマーを重合して得られる熱可塑性エラストマーが用いられる。モノビニル置換芳香族炭化水素モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン等が、また共役ジエンモノマーとしてはブタジエン、イソプレン等が挙げられる。具体例としてはスチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体や、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体などを挙げることが出来る。   As the binder polymer, for example, a thermoplastic elastomer obtained by polymerizing a monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon monomer and a conjugated diene monomer is used. Examples of the monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon monomer include styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene and the like, and examples of the conjugated diene monomer include butadiene and isoprene. Specific examples include a styrene-butadiene-styrene block copolymer and a styrene-isoprene-styrene block copolymer.

少なくとも一種のエチレン性不飽和モノマーとしては、バインダーポリマーと相溶性のあるもので、例えばt−ブチルアルコールやラウリルアルコールなどのアルコールとアクリル酸、メタクリル酸とのエステル、或いはラウリルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミドなどのマレイミド誘導体、又はジオクチルフマレートなどのアルコールとフマール酸のエステル、さらにはヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなどの多価アルコールとアクリル酸、メタクリル酸とのエステルなどを挙げることが出来る。   The at least one ethylenically unsaturated monomer is compatible with a binder polymer, for example, an ester of an alcohol such as t-butyl alcohol or lauryl alcohol with acrylic acid or methacrylic acid, or lauryl maleimide, cyclohexyl maleimide, benzyl Maleimide derivatives such as maleimide, or alcohol and fumaric acid esters such as dioctyl fumarate, and polyhydric alcohols such as hexanediol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate And esters of acrylic acid and methacrylic acid.

光開始剤としては、ベンゾフェノンのような芳香族ケトン類やベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチロールベンゾインメチルエーテル、α−メトキシベンゾインメチルエーテル、2,2−ジエトキシフェニルアセトフェノン等のベンゾインエーテル類などの公知の光重合開始剤の中から選択し、また組み合わせて使用される。   Photoinitiators include aromatic ketones such as benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, α-methylol benzoin methyl ether, α-methoxybenzoin methyl ether, 2,2-diethoxyphenylacetophenone, etc. These are selected from known photopolymerization initiators such as benzoin ethers and used in combination.

感光性樹脂層は種々の方法で調製することが出来る。例えば配合される原料を適当な溶媒、例えばクロロホルム、テトラクロルエチレン、メチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に溶解させて混合し、コーターにより適当な支持体上に塗布して設けることも出来るし、型枠の中に流延して溶剤を蒸発させ、そのまま板とすることが出来る。また溶剤を用いず、ニーダー或いはロールミルで混練し、押し出し機、射出成形機、プレスなどにより所望の厚さの板に成形することが出来る。   The photosensitive resin layer can be prepared by various methods. For example, the raw materials to be blended can be dissolved and mixed in a suitable solvent such as chloroform, tetrachloroethylene, methyl ethyl ketone, toluene, etc., and coated on a suitable support with a coater. It can be cast into the plate as it is to evaporate the solvent. Moreover, it can knead | mix with a kneader or a roll mill, without using a solvent, and can shape | mold into the board of desired thickness with an extruder, an injection molding machine, a press.

感光性樹脂シートを樹脂版ロールに巻き付けるにあたっては、シームレス樹脂版を形成する為に感光性樹脂の端部同士に隙間が出来ないよう、正確にシートを切断して用いることが必要である。通常感光性樹脂版を樹脂版ロールに巻き付けた後、感光性樹脂の軟化点以上に加温して感光性樹脂の端部同士を溶融接着させる。加温時間は通常20分から1時間で、温度と樹脂の軟化点に応じて端部同士が融着することを目安に決められる。次いでグラインダーで感光性樹脂表面を研磨してつなぎ目を完全に無くすと同時に精度を出した後、感光性樹脂の軟化点以上に再度加温処理を行うことがシームレス化において好ましい。その時間は温度によるが10から40分程度で、感光性樹脂表面全体に光沢が見られるようになるまで行う。長時間加温し続けると印刷版としての精度が損なわれるので一時間以内で処理することが望ましい。またベース材であるゴム、ポリエステルフィルム、アルミニウム板、スチール板或いは、シリンダーに装着出来るアルミニウム製樹脂版ロールに直接継ぎ目がないように感光性樹脂層を塗設しシームレス化することも出来る。   When the photosensitive resin sheet is wound around the resin plate roll, it is necessary to accurately cut and use the sheet so that there is no gap between the ends of the photosensitive resin in order to form a seamless resin plate. Usually, after the photosensitive resin plate is wound around the resin plate roll, the photosensitive resin is heated to a temperature higher than the softening point of the photosensitive resin, and the ends of the photosensitive resin are melt-bonded. The heating time is usually 20 minutes to 1 hour, and is determined based on the fact that the ends are fused according to the temperature and the softening point of the resin. Next, it is preferable for seamlessness that the surface of the photosensitive resin is polished by a grinder to completely eliminate the joint, and at the same time the accuracy is increased, and then the heating treatment is performed again above the softening point of the photosensitive resin. Although the time depends on the temperature, it is about 10 to 40 minutes, and is performed until the entire surface of the photosensitive resin becomes glossy. If the heating is continued for a long time, the accuracy of the printing plate is impaired, so it is desirable to process within one hour. In addition, a photosensitive resin layer can be applied seamlessly so that there is no direct seam on the base material such as rubber, polyester film, aluminum plate, steel plate, or aluminum resin plate roll that can be mounted on a cylinder.

本発明ではシームレス樹脂版のゴム硬度は30〜80度の範囲であることが好ましく、精度よく安定した微細凹凸形状の転移印刷を行う上で樹脂版のゴム硬度がこの範囲にあることが好ましい。ロール状シームレス樹脂版1のゴム硬度は、樹脂版の厚みによっても影響される為、厚みが0.5〜10mmの範囲の樹脂版において30〜80度の範囲であることが好ましい。より好ましくは40〜80度の範囲である。   In the present invention, the rubber hardness of the seamless resin plate is preferably in the range of 30 to 80 degrees, and it is preferable that the rubber hardness of the resin plate be in this range in order to perform transfer printing with a fine uneven shape with high accuracy and stability. Since the rubber hardness of the roll-shaped seamless resin plate 1 is also affected by the thickness of the resin plate, it is preferably in the range of 30 to 80 degrees in the resin plate having a thickness in the range of 0.5 to 10 mm. More preferably, it is in the range of 40 to 80 degrees.

樹脂版のゴム硬度が30度未満であると、版が柔らか過ぎて所望の微細凹凸形状を形成するのに難があり、また版自体も摩耗し易くなる為好ましくない。樹脂版のゴム硬度が80度を超えると、版胴が高速回転して印刷する際の柔軟性に欠けインキ転移量の再現性に乏しくなる。ゴム硬度はJIS K 6253に記載の方法に準じてデュロメータ等で測定した値で示される。   If the rubber hardness of the resin plate is less than 30 degrees, it is not preferable because the plate is too soft and it is difficult to form a desired fine uneven shape, and the plate itself is easily worn. When the rubber hardness of the resin plate exceeds 80 degrees, the plate cylinder rotates at a high speed and lacks flexibility when printing and the reproducibility of the ink transfer amount becomes poor. The rubber hardness is indicated by a value measured with a durometer or the like according to the method described in JIS K 6253.

シームレス樹脂版上に微細凹凸形状のパターンを刻印する方法としてマスク製版が利用される。マスク製版では、感光性樹脂材料の層を設けた樹脂版に原版マスクであるネガフィルムでカバーして露光する。感光性樹脂層は光、特に波長350〜450nmの紫外線エネルギーで硬化、或いは不溶化するものである。未露光部の未硬化樹脂は水、アルカリ水溶液、或いはアルコールなどの有機溶剤に可溶性の状態で維持される。したがって、未露光部をそれに応じた溶剤で洗い出す(現像工程)ことにより、露光された部分のみが残って凸版(フレキソ版)を形成するものである。   Mask plate making is used as a method for imprinting a pattern with fine irregularities on a seamless resin plate. In mask plate making, a resin plate provided with a layer of a photosensitive resin material is covered with a negative film as an original mask and exposed. The photosensitive resin layer is cured or insolubilized by light, particularly ultraviolet energy having a wavelength of 350 to 450 nm. The uncured resin in the unexposed portion is maintained in a soluble state in water, an aqueous alkali solution, or an organic solvent such as alcohol. Therefore, by washing out the unexposed portion with a solvent corresponding to the unexposed portion (developing step), only the exposed portion remains and forms a relief plate (flexographic plate).

また、最近の刷版方法としては、修正画像信号に基づいて硬化済の樹脂版に直接レーザー光或いは彫刻機で彫刻することにより完全なエンドレス版を作製することが出来る。或いは、未露光の感光性樹脂版に円筒状のまま修正済画像信号で変調されたレーザー光で走査しパターニングした後通常の方法で現像する方法がエンドレスの版を形成する上からも好ましい。   Further, as a recent printing plate method, a complete endless plate can be produced by directly engraving a cured resin plate with a laser beam or an engraving machine based on a corrected image signal. Alternatively, an unexposed photosensitive resin plate is scanned with a laser beam modulated with a corrected image signal in the form of a cylinder and patterned, and then developed by a normal method, from the viewpoint of forming an endless plate.

フレキソ印刷に用いる低屈折率層形成インキの粘度は測定温度40℃において、0.1〜10Pa・sであることが好ましく、0.5〜8Pa・sの範囲が更に好ましい。粘度が0.1Pa・s未満の場合は粘度が低過ぎて所望の形状の微細凹凸構造が得られなくなり、10Pa・sを超えるとインキの流動性が悪くインキの転移性も低下する為好ましくない。インキの粘度の測定は、JIS Z 8809に規定されている粘度計校正用標準液で検定されたものであれば特に制限はなく、回転式、振動式や細管式の粘度計を用いることが出来る。粘度計としては、Saybolt粘度計、Redwood粘度計等で測定出来、例えば、トキメック社製、円錐平板型E型粘度計、東機産業社製のE Type Viscometer(回転粘度計)、東京計器社製のB型粘度計BL、山一電機社製のFVM−80A、Nametore工業社製のViscoliner、山一電気社製のVISCO MATE MODEL VM−1A等を挙げることが出来る。   The viscosity of the low refractive index layer forming ink used for flexographic printing is preferably 0.1 to 10 Pa · s, more preferably 0.5 to 8 Pa · s at a measurement temperature of 40 ° C. If the viscosity is less than 0.1 Pa · s, the viscosity is too low to obtain a fine uneven structure having a desired shape, and if it exceeds 10 Pa · s, the fluidity of the ink is poor and the transferability of the ink is also unfavorable. . The viscosity of the ink is not particularly limited as long as it is tested with a viscometer calibration standard solution specified in JIS Z 8809, and a rotary, vibration or capillary type viscometer can be used. . As a viscometer, it can be measured with a Saybolt viscometer, a Redwood viscometer, etc., for example, Tokimec Co., Ltd., conical plate type E type viscometer, Toki Sangyo E Type Viscometer, manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd. B-type viscometer BL, Yamaichi Denki Co., Ltd. FVM-80A, Nametor Kogyo Viscoliner, Yamaichi Denki Co., Ltd. VISCO MATE MODEL VM-1A, and the like.

いずれも、下記の低屈折率層形成組成物の構成を調整することにより、上記粘度範囲内の組成物を得ることが出来る。   In any case, a composition within the above viscosity range can be obtained by adjusting the constitution of the following low refractive index layer forming composition.

〈スクリーン印刷による凸部の形成の例〉
本発明においては、凸部をスクリーン印刷法で形成することも好ましい。スクリーン印刷により凸部の高さと凸部同士の配列を任意に加工することが出来、平面内、厚さ方向いずれも所望の防眩層を得ることができる。
<Example of forming convex parts by screen printing>
In the present invention, it is also preferable to form the convex portion by screen printing. The height of the convex portions and the arrangement of the convex portions can be arbitrarily processed by screen printing, and a desired antiglare layer can be obtained both in the plane and in the thickness direction.

スクリーン印刷法は、所定のパターンが形成されたスクリーンを支持体上に被せ、スクリーン上に印刷材料(凸部形成のための組成物、本発明の場合は低屈折率層形成素材など)を載せる。そして、スキージを所定の圧力、角度、速度で移動させる。これによって、印刷材料がスクリーンのパターンを介して該支持体上に転写される。次に、転写された材料を加熱、硬化、乾燥させる。スクリーン印刷法で凸部を形成する場合、樹脂材料は光硬化性樹脂に限られず、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂も使用できる。熱可塑性樹脂としては、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、フッ素樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩素化ポリエーテル樹脂等が挙げられる。樹脂材料は樹脂を適当な溶剤に溶解するなどしてペースト状にして用いることが望ましい。   In the screen printing method, a screen on which a predetermined pattern is formed is placed on a support, and a printing material (a composition for forming a convex portion, in the case of the present invention, a low refractive index layer forming material) is placed on the screen. . Then, the squeegee is moved at a predetermined pressure, angle, and speed. Thereby, the printing material is transferred onto the support through the pattern of the screen. Next, the transferred material is heated, cured, and dried. When forming a convex part by a screen printing method, resin material is not restricted to photocurable resin, For example, thermosetting resins and thermoplastic resins, such as an epoxy resin and an acrylic resin, can also be used. As thermoplastic resins, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyvinyl acetate resin, polymethacrylate resin, polyacrylate resin, polystyrene resin, polyamide resin, polyethylene resin, polypropylene resin, fluororesin, polyurethane resin , Polyacrylonitrile resin, polyvinyl ether resin, polyvinyl ketone resin, polyether resin, polyvinyl pyrrolidone resin, saturated polyester resin, polycarbonate resin, chlorinated polyether resin and the like. The resin material is preferably used in the form of a paste by dissolving the resin in an appropriate solvent.

〈インクジェット方式による凸部の形成の例〉
インクジェット印刷により凸部の高さと凸部同士の配列を任意に加工することが出来、平面内、厚さ方向いずれも所望の防眩層を得ることができる。インクジェット印刷でもモアレの問題が生じうる。この問題は、射出中のインクジェットヘッドに振動を与え、着弾位置の規則性を無くすことで解決できる。
<Example of forming protrusions by inkjet method>
The height of the convex portions and the arrangement of the convex portions can be arbitrarily processed by ink jet printing, and a desired antiglare layer can be obtained both in the plane and in the thickness direction. Even ink-jet printing can cause moire problems. This problem can be solved by applying vibration to the inkjet head during ejection and eliminating the regularity of the landing positions.

本発明に好ましく用いられるインクジェット方式よる凸部の形成の例について説明する。   An example of the formation of convex portions by the ink jet system preferably used in the present invention will be described.

図6は、本発明に用いられるインクジェット方法に用いることのできるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。   FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of an ink jet head that can be used in the ink jet method used in the present invention.

図6(a)はインクジェットヘッドの断面図であり、図6(b)は図6(a)のA−A線矢視拡大図である。図中、11は基板、12は圧電素子、13は流路板、13aはインク流路、13bは壁部、14は共通液室構成部材、14aは共通液室、15はインク供給パイプ、16はノズルプレート、16aはノズル、17は駆動用回路プリント板(PCB)、18はリード部、19は駆動電極、20は溝、21は保護板、22は流体抵抗、23、24は電極、25は上部隔壁、26はヒータ、27はヒータ電源、28は伝熱部材、30はインクジェットヘッドである。   6A is a cross-sectional view of the ink jet head, and FIG. 6B is an enlarged view taken along line AA in FIG. 6A. In the figure, 11 is a substrate, 12 is a piezoelectric element, 13 is a flow path plate, 13a is an ink flow path, 13b is a wall, 14 is a common liquid chamber constituent member, 14a is a common liquid chamber, 15 is an ink supply pipe, 16 Is a nozzle plate, 16a is a nozzle, 17 is a drive circuit printed board (PCB), 18 is a lead portion, 19 is a drive electrode, 20 is a groove, 21 is a protective plate, 22 is a fluid resistance, 23 and 24 are electrodes, 25 Is an upper partition, 26 is a heater, 27 is a heater power source, 28 is a heat transfer member, and 30 is an ink-jet head.

集積化されたインクジェットヘッド30において、電極23、24を有する積層された圧電素子12は、流路13aに対応して、該流路13a方向に溝加工が施され、溝20と駆動圧電素子12bと非駆動圧電素子12aに区分される。溝20には充填剤が封入されている。溝加工が施された圧電素子12には、上部隔壁25を介して流路板13が接合される。すなわち、前記上部隔壁25は、非駆動圧電素子12aと隣接する流路を隔てる壁部13bとで支持される。駆動圧電素子12bの幅は流路13aの幅よりも僅かに狭く、駆動用回路プリント板(PCB)上の駆動回路により選択された駆動圧電素子12bはパルス状信号電圧を印加すると、該駆動圧電素子12bは厚み方向に変化し、上部隔壁25を介して流路13aの容積が変化し、その結果ノズルプレート16のノズル16aよりインク液滴を吐出する。   In the integrated inkjet head 30, the laminated piezoelectric element 12 having the electrodes 23 and 24 is grooved in the direction of the flow path 13a corresponding to the flow path 13a, so that the groove 20 and the driving piezoelectric element 12b. And non-driving piezoelectric element 12a. The groove 20 is filled with a filler. The flow path plate 13 is joined to the piezoelectric element 12 subjected to the groove processing through the upper partition wall 25. That is, the upper partition 25 is supported by the non-driving piezoelectric element 12a and the wall 13b that separates the adjacent flow path. The width of the driving piezoelectric element 12b is slightly narrower than the width of the flow path 13a. When the driving piezoelectric element 12b selected by the driving circuit on the driving circuit printed board (PCB) is applied with a pulsed signal voltage, the driving piezoelectric element 12b. The element 12b changes in the thickness direction, and the volume of the flow path 13a changes via the upper partition wall 25. As a result, ink droplets are ejected from the nozzles 16a of the nozzle plate 16.

流路板13上には、伝熱部材28を介してヒータ26がそれぞれ接着されている。伝熱部材28はノズル面にまわり込んで設けられている。伝熱部材28は、ヒータ26からの熱を効率良く流路板13に伝え、かつ、ヒータ26からの熱をノズル面近傍に運びノズル面近傍の空気を温めることを目的としており、したがって、熱伝導率の良い材料が用いられる。例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、ステンレス等の金属、あるいは、SiC、BeO、AlN等のセラミックス等が好ましい材料として挙げられる。   Heaters 26 are bonded to the flow path plate 13 via heat transfer members 28, respectively. The heat transfer member 28 is provided around the nozzle surface. The heat transfer member 28 is intended to efficiently transfer the heat from the heater 26 to the flow path plate 13, carry the heat from the heater 26 to the vicinity of the nozzle surface, and warm the air in the vicinity of the nozzle surface. A material with good conductivity is used. For example, metals such as aluminum, iron, nickel, copper, and stainless steel, or ceramics such as SiC, BeO, and AlN are preferable materials.

圧電素子を駆動すると、流路の長手方向に垂直な方向に変位し、流路の容積が変化し、その容積変化によりノズルからインク液滴となって噴射する。圧電素子には常時流路容積が縮小するように保持する信号を与え、選択された流路に対して流路容積を増大する向きに変位させた後、再び流路の容積が縮小する変位を与えるパルス信号を印加することにより、流路と対応するノズルよりインクがインク液滴となって噴射する。   When the piezoelectric element is driven, the piezoelectric element is displaced in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the flow path, and the volume of the flow path is changed. By the change in volume, ink droplets are ejected from the nozzle. The piezoelectric element is given a signal that keeps the flow path volume constantly reduced, and after the displacement of the selected flow path in the direction of increasing the flow volume, the displacement that reduces the flow volume again is applied. By applying a pulse signal to be applied, ink is ejected as ink droplets from a nozzle corresponding to the flow path.

図7は、本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。   FIG. 7 is a schematic view showing an example of an inkjet head unit and a nozzle plate that can be used in the present invention.

図7において、図7の(a)はヘッド部の断面図、図7の(b)はノズルプレートの平面図である。図中、10は支持体、31はインク液滴、32はノズル、29は活性光線照射部である。ノズル32より噴射したインク液滴31は支持体10方向に飛翔して付着する。支持体10上に着弾したインク液滴は、その上流部に配置されている活性光線照射部より、活性光線を直ちに照射され、硬化する。なお、35は支持体10を保持するバックロールである。   7, (a) of FIG. 7 is a sectional view of the head portion, and (b) of FIG. 7 is a plan view of the nozzle plate. In the figure, 10 is a support, 31 is an ink droplet, 32 is a nozzle, and 29 is an actinic ray irradiation part. The ink droplet 31 ejected from the nozzle 32 flies in the direction of the support 10 and adheres. The ink droplets that have landed on the support 10 are immediately irradiated with actinic rays from an actinic ray irradiating unit disposed upstream thereof, and are cured. Reference numeral 35 denotes a back roll that holds the support 10.

本発明においては、図7の(b)に記載のように、インクジェットヘッド部のノズルは、千鳥状に配置することが好ましく、また、支持体10の搬送方向に並列に多段に設けることが好ましい。また、インク吐出の際にインクジェットヘッド部に微細な振動を与え、インク滴がランダムに支持体上に着弾するようにすることが好ましい。これによって、干渉縞の発生を抑制することができる。微細な振動は、高周波電圧、音波、超音波などによって与えることができるが、特にこれらに限定されない。   In the present invention, as shown in FIG. 7B, the nozzles of the inkjet head unit are preferably arranged in a staggered manner, and are preferably provided in multiple stages in parallel in the transport direction of the support 10. . In addition, it is preferable that fine vibrations are applied to the ink jet head portion during ink ejection so that ink droplets land randomly on the support. Thereby, generation | occurrence | production of an interference fringe can be suppressed. The fine vibration can be given by a high frequency voltage, a sound wave, an ultrasonic wave or the like, but is not particularly limited thereto.

本発明に係る凸部の形成方法は、多ノズルからインク小液滴を吐出して形成するインクジェット方式を用いることが好ましい。図8に、本発明で好ましく用いることのできるインクジェット方式の一例を示す。   It is preferable to use an ink jet method for forming the convex portions according to the present invention by ejecting small ink droplets from multiple nozzles. FIG. 8 shows an example of an ink jet system that can be preferably used in the present invention.

図8において、図8の(a)は、インクジェットヘッド30を支持体10の幅手方向に配置し、支持体10を搬送しながらその表面に凸部を形成する方法(ラインヘッド方式)であり、図8の(b)はインクジェットヘッド30が副走査方向に移動しながらその表面に凸部を形成する方法(フラットヘッド方式)であり、図8の(c)はインクジェットヘッド30が、支持体10上の幅手方向を走査しながらその表面に凸部を形成する方法(キャプスタン方式)であり、いずれの方式も用いることができるが、本発明においては、生産性の観点からラインヘッド方式が好ましい。なお、図8の(a)〜(c)に記載の29は、インクとして後述の低屈折率層形成素材を用いる場合に使用する活性光線照射部である。   8, (a) of FIG. 8 is a method (line head method) in which the inkjet head 30 is arranged in the width direction of the support 10 and a convex portion is formed on the surface of the support 10 while being conveyed. FIG. 8B shows a method (flat head method) in which the inkjet head 30 moves in the sub-scanning direction and forms a convex portion on the surface thereof, and FIG. 8C shows the inkjet head 30 with the support. 10 is a method (capstan method) for forming a convex portion on the surface while scanning in the width direction on the surface 10 and any method can be used. In the present invention, the line head method is used from the viewpoint of productivity. Is preferred. Note that reference numeral 29 in FIGS. 8A to 8C denotes an actinic ray irradiation unit used when a low refractive index layer forming material described later is used as the ink.

また、本発明においては、図8の(a)、(b)、(c)の支持体の搬送方向の下流側に、別の活性光線照射部を設けてもよい。   Moreover, in this invention, you may provide another actinic ray irradiation part in the downstream of the conveyance direction of the support body of (a), (b), (c) of FIG.

本発明において、微細な凸部を形成するため、低屈折率層形成インク液滴としては0.1〜100plが好ましく、0.1〜50plがより好ましく、0.1〜10plが特に好ましい。   In this invention, in order to form a fine convex part, 0.1-100 pl is preferable as an ink droplet for low refractive index layer formation, 0.1-50 pl is more preferable, and 0.1-10 pl is especially preferable.

また、上記インク液滴の粘度は、25℃において0.1〜100mPa・sであることが好ましく、更に好ましくは0.1〜50mPa・sである。   Further, the viscosity of the ink droplets is preferably 0.1 to 100 mPa · s at 25 ° C., more preferably 0.1 to 50 mPa · s.

〈スプレイ加工による凸部の形成の例〉
本発明の凸部形成に好ましく用いられるスプレイ加工は、特に限定されるものではないが、スロットノズルスプレイ装置を用いることが好ましい。スロットノズルスプレイ装置とは、塗布液を吐出する塗布液ノズル孔を塗布幅方向に複数有する。各塗布液ノズル孔は、塗布幅方向に一列に並んでいても、千鳥に並んでいてもよい。そして、前記塗布液ノズル孔に近接してガスを噴出するガスノズル孔を有し、ここから噴出されるガスを前記塗布液ノズル孔から吐出された塗布液に衝突させて液滴を形成する機構を有する。
<Example of convex formation by spraying>
Although the spraying process preferably used for forming the convex part of the present invention is not particularly limited, it is preferable to use a slot nozzle spraying device. The slot nozzle spray device has a plurality of coating liquid nozzle holes for discharging the coating liquid in the coating width direction. The coating solution nozzle holes may be arranged in a line in the coating width direction or in a staggered manner. And a gas nozzle hole for ejecting gas in the vicinity of the coating liquid nozzle hole, and a mechanism for colliding the gas ejected from the nozzle with the coating liquid ejected from the coating liquid nozzle hole to form a droplet. Have.

本発明に好ましく用いることのできるスロットノズルスプレイ装置としては、例えば、特開平6−170308号公報に記載されているものを適用することが可能である。   As a slot nozzle spray device that can be preferably used in the present invention, for example, a device described in JP-A-6-170308 can be applied.

また、特開平5−309310号公報に開示されるスロットノズルスプレイ塗布装置も、本発明に好ましく用いることができる。更に、本発明においては、特に、塗布均一性、塗布容易性等の観点から、特開2004−906号公報に記載のスロットノズルスプレイ塗布装置を好ましく用いることができる。   Also, a slot nozzle spray coating device disclosed in JP-A-5-309310 can be preferably used in the present invention. Further, in the present invention, the slot nozzle spray coating apparatus described in JP-A-2004-906 can be preferably used particularly from the viewpoint of coating uniformity, coating ease, and the like.

このようなスロットノズルスプレイ装置を用いて、塗布幅にわたって噴霧状態の均一性を高める方法としては、塗布液の粘度を比較的低くすること、ガスノズルから噴出するガス圧を高くすることにより可能である。また、スロットノズルスプレイ装置の塗布液ノズル開口端の面積を小さくすること、該開口端のピッチを狭くすることなどにより、噴霧の均一性を高めることができる。   As a method of improving the uniformity of the spray state over the coating width using such a slot nozzle spray device, it is possible to relatively reduce the viscosity of the coating liquid and to increase the gas pressure ejected from the gas nozzle. . Further, the uniformity of spraying can be improved by reducing the area of the opening end of the coating liquid nozzle of the slot nozzle spray device and by reducing the pitch of the opening end.

塗布液の粘度としては、好ましくは0.1〜250mPa・s、より好ましくは0.1〜50mPa・s、更に好ましくは0.1〜20mPa・sであり、このような低粘度の塗布液をスロットノズルスプレイ装置に適用することで、塗布幅にわたって均一な液滴の噴霧が可能である。   The viscosity of the coating solution is preferably 0.1 to 250 mPa · s, more preferably 0.1 to 50 mPa · s, and still more preferably 0.1 to 20 mPa · s. By applying to a slot nozzle spray device, it is possible to spray droplets uniformly over the coating width.

また、塗布幅にわたって均一な液滴の噴霧を行うには、塗布液の静的表面張力を20〜70mN/mに調整すること、好ましくは20〜50mN/m、更に好ましくは20〜40mN/mとすることである。   In order to spray droplets uniformly over the coating width, the static surface tension of the coating solution is adjusted to 20 to 70 mN / m, preferably 20 to 50 mN / m, more preferably 20 to 40 mN / m. It is to do.

また、スロットノズルスプレイ装置等を用いて、ガスを塗布液に衝突させて液滴を形成するときのガス内圧は、10kPa以上、好ましくは20kPa以上、更に好ましくは50kPa以上とすると均一な噴霧が行い易い。ガスの流量としては、3.5CMM/m以上、好ましくは7CMM/m以上、更に好ましくは10CMM/m以上である。   Further, when a gas internal pressure is 10 kPa or more, preferably 20 kPa or more, more preferably 50 kPa or more when a gas is collided with a coating liquid to form a droplet using a slot nozzle spray device or the like, uniform spraying is performed. easy. The gas flow rate is 3.5 CMM / m or more, preferably 7 CMM / m or more, and more preferably 10 CMM / m or more.

上記手段を用いて、塗布幅にわたり、連続ファイバー状ではなく、不連続な液滴状に飛散させることにより、塗布液が少量であっても、均一に、塗布液を支持体上に供給できる。結果として、凸部形成を均一にすることができる。また、不連続な液滴の支持体上への供給であって、塗布液量が少なくなるので、乾燥負荷もかからない。   By using the above-mentioned means, the coating liquid can be evenly supplied onto the support even when the coating liquid is small, by scattering in the form of discontinuous droplets instead of continuous fibers over the coating width. As a result, the convex portion formation can be made uniform. Further, since the discontinuous droplets are supplied onto the support and the amount of the coating liquid is reduced, no drying load is applied.

次いで、凸部形成に用いるスロットノズルスプレイ塗布装置の具体的な形態について、説明する。   Next, a specific form of the slot nozzle spray coating device used for forming the convex portion will be described.

図9は、スロットノズルスプレイ部を含むスロットノズルスプレイ装置の一例を示す概略断面図である。   FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing an example of a slot nozzle spray device including a slot nozzle spray unit.

スロットノズルスプレイ部41は、一対の内部ダイブロック43a、43bと、該一対の内部ダイブロック43a、43bの各々の外側に外部ダイブロック42a、42bを有し、一対の内部ダイブロック43a、43b間に塗布液ノズルCが形成され、内部ダイブロック43aと外部ダイブロック42a間、及び内部ダイブロック43bと外部ダイブロック42b間にそれぞれガスノズルDが構成されている。   The slot nozzle spray unit 41 has a pair of internal die blocks 43a and 43b, and external die blocks 42a and 42b on the outer sides of the pair of internal die blocks 43a and 43b, and between the pair of internal die blocks 43a and 43b. The coating solution nozzle C is formed on the inner die block 43a and the outer die block 42a, and the gas nozzle D is formed between the inner die block 43b and the outer die block 42b.

図9において、スロットノズルスプレイ部41には、ガスポケットAを有する1対のガスノズルDと塗布液ポケットBを有する塗布液ノズルCを有している。塗布液は、ファイバー状にならず液滴を形成できる粘度(0.1〜250mPa・sが好ましい)を有する例えば機能賦与化合物含有溶液などの塗布液を調製釜44に入れ、ポンプ45、流量計46を経て、塗布液ポケットBに供給されて塗布液ノズル43に導かれる。一方、ガスノズル42へは、加圧空気源47より、弁48を介して、ガスポケットAに加圧空気が供給される。塗布に際しては、塗布液ノズルCより規定の塗布量となるように調製釜44より塗布液を供給すると同時に、一対のガスノズルDより加圧空気を吹き付け、塗布液を液滴状にして、支持体10上に噴霧、吐着させるものである。本発明の製造方法においては、塗布液を、ファイバー状ではなく、微細な液滴として噴霧することができることが大きな特徴である。塗布液を微細な液滴として、支持体10表面に供給することにより、極めて均一性の高い凸部形成を、乾燥負荷なく、高速で形成することができる。   In FIG. 9, the slot nozzle spray portion 41 has a pair of gas nozzles D having a gas pocket A and a coating liquid nozzle C having a coating liquid pocket B. The coating solution has a viscosity (preferably 0.1 to 250 mPa · s) that can form droplets without forming a fiber shape. For example, a coating solution such as a function-imparting compound-containing solution is placed in the preparation kettle 44, and a pump 45, a flow meter 46 is supplied to the coating liquid pocket B and guided to the coating liquid nozzle 43. On the other hand, pressurized air is supplied to the gas pocket A from the pressurized air source 47 through the valve 48 to the gas nozzle 42. At the time of coating, the coating liquid is supplied from the preparation tank 44 so that the coating amount becomes a prescribed coating amount from the coating liquid nozzle C, and at the same time, pressurized air is sprayed from the pair of gas nozzles D to form the coating liquid in droplets, 10 is sprayed and deposited. In the production method of the present invention, it is a great feature that the coating liquid can be sprayed as fine droplets instead of fibers. By supplying the coating liquid as fine droplets to the surface of the support 10, it is possible to form a highly uniform convex portion at high speed without a drying load.

次に、図10を用いて、スロットノズルスプレイ部とそこで形成される液滴の形成及び飛翔状態を説明する。   Next, with reference to FIG. 10, the slot nozzle spray section and the formation and flight state of the droplets formed there will be described.

図10において、塗布液ノズルCより吐出された塗布液Eは、塗布液ノズルCの両サイドに近接して設けられたガスノズルDより供給される圧縮空気Gにより、細分化、液滴化され球形に近い液滴粒子50となり、飛翔し、ギャップL5を隔てた支持体10表面に均一に着弾する。支持体10上に着地する塗布液の液滴粒子50の面積範囲は、常に均一であることが好ましいが、特に、搬送方向における長さ(図中、落下長さL5と記載)が塗布幅にわたって均一であることが好ましい。また、塗布液ノズルCの開口端を基点として被塗布体に対し、噴霧される液滴群の広がり角度θは、塗布幅にわたって均一であることが好ましい。   In FIG. 10, the coating liquid E discharged from the coating liquid nozzle C is subdivided into droplets by the compressed air G supplied from the gas nozzle D provided in the vicinity of both sides of the coating liquid nozzle C and is spherical. The droplet particles 50 are close to each other, fly and land uniformly on the surface of the support 10 across the gap L5. The area range of the droplet particles 50 of the coating liquid landing on the support 10 is preferably always uniform, but in particular, the length in the transport direction (denoted by the drop length L5 in the figure) extends over the coating width. It is preferable that it is uniform. Further, it is preferable that the spread angle θ of the droplet group sprayed on the object to be coated with the opening end of the coating liquid nozzle C as a base point is uniform over the coating width.

〈FMスクリーニング法〉
本発明において、凸部の配置は、FMスクリーニング等の方法により、ランダムは配置とされることが好ましい。
<FM screening method>
In the present invention, it is preferable that the protrusions are randomly arranged by a method such as FM screening.

FMスクリーニング法とはドットとドットの間隔すなわち周期性(frequency)を変調する(modulate)すること、基本ドットを打つ頻度(ドットの密度)で濃淡を表現する方法である。FMスクリーニング法は、ランダム・スクリーニング法またストカスティック・スクリニーング法と呼ばれることもある。FMスクリーニング法とは、ドットとドットの間隔すなわち周期性を変調する方法を指す。具体的には、クリスタル・ラスター・スクリーニング法(アグファ・ゲバルト社)、ダイヤモンド・スクリーン法(ライノタイプ・ヘル社)、クラス・スクリーニング法およびフルトーン・スクリーニング法(サイテックス社)、ベルベット・スクリーニング法(ウグラ・コーハン社)、アキュトーン・スクリーニング法(ダネリー社)、メガドット・スクリーニング法(アメリカン・カラー社)、クリア・スクリーニング法(シーカラー社)、モネット・スクリーニング法(バルコ社)等が知られている。これら方法はいずれもドット発生のアルゴリズムは異なっているが、ドット密度の変化により濃淡を表現する方法であり、FMスクリーニング法の種々の態様であるということができる。   The FM screening method is a method for expressing light and shade by modulating the interval between dots, that is, the frequency, and the frequency of hitting the basic dots (dot density). The FM screening method is sometimes called a random screening method or a stochastic screening method. The FM screening method refers to a method of modulating the interval between dots, that is, periodicity. Specifically, the crystal raster screening method (Agfa Gebalt), the diamond screen method (Rhinotype Hell), the class screening method and the full-tone screening method (Cytex), the velvet screening method ( Ugura Cohan), Accutone Screening (Dannery), Megadot Screening (American Color), Clear Screening (Seacolor), Monet Screening (Barco) Yes. Although all of these methods have different dot generation algorithms, it is a method of expressing shading by changing the dot density, and can be said to be various aspects of the FM screening method.

FMスクリーニングでは、インクが乗るドットのサイズは一定とし、画像の濃度に応じてドットの出現頻度が変化する。FMスクリーニングにおける各ドットのサイズはいわゆる網点に比べて小さいので、必要とするパターンを高分解能で再現することが可能である。FMスクリーニングにおけるドットは、いわゆる網点とは異なり、ドットの配列が周期的ではない。FMスクリーニングでは、ドットの配列が周期的でないので、モアレは生じないという特徴を持っている。   In FM screening, the size of dots on which ink is placed is constant, and the frequency of dot appearance changes according to the density of the image. Since the size of each dot in FM screening is smaller than a so-called halftone dot, a required pattern can be reproduced with high resolution. Unlike so-called halftone dots, dots in FM screening are not periodically arranged. The FM screening has a feature that moire does not occur because the dot arrangement is not periodic.

凸部形成方法は、前述のフレキソ法、スクリーン印刷、インクジェット法、スプレイ加工に限定されるものではなく、グラビア印刷法、平版印刷法等、所望のパターンを形成できる方法であれば何れでも良いが、フレキソ印刷法は生産速度が速いこと、微小な凸部を形成できることから、またインクジェット法は凸部の存在パターンをフレキシブルに変更できること、凸部の断面形状をお椀状に形成でき、透明樹脂層を設けたあとの表面形状をなだらかな凹凸にしやすいこと等で優れている。   The convex portion forming method is not limited to the above-described flexo method, screen printing, ink jet method, and spray processing, and any method can be used as long as it can form a desired pattern, such as a gravure printing method or a lithographic printing method. The flexographic printing method has a high production speed and can form minute convex parts, and the inkjet method can flexibly change the presence pattern of convex parts, and the cross-sectional shape of the convex parts can be formed into a bowl-like shape. It is excellent in that it is easy to make the surface shape after providing a gentle unevenness.

本発明の凸部状の低屈折率層は、離散的で支持体表面全体を覆わない凸部により形成されることが好ましい。該凸部は、結合していない独立した凸部が50%以上、望ましくは70%以上、更に好ましくは80%以上存在し、該凸部が支持体表面に設けるハードコート層全体の面積に対し50%以上被覆することが好ましく、85%以上被覆することがより好ましく、90%以上の面積を被覆することが特に好ましい。また、凸部状に形成される低屈折率層が複数回の印刷、インクジェットまたはスプレイ加工により形成されることが好ましい。   The convex-shaped low refractive index layer of the present invention is preferably formed by convex portions that are discrete and do not cover the entire support surface. The convex portions have 50% or more, preferably 70% or more, more preferably 80% or more, of independent convex portions that are not bonded to each other, and the convex portions have an area of the entire hard coat layer provided on the support surface. It is preferable to cover 50% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more. Moreover, it is preferable that the low refractive index layer formed in a convex shape is formed by a plurality of times of printing, ink jetting or spraying.

図11は、ハードコート層上に形成される本発明に好ましい凸部状の低屈折率層の模式図である。基材フィルム10表面に設けられたハードコート層11上に凸部状の低屈折率層12が塗設されている様子を示している。   FIG. 11 is a schematic view of a convex-shaped low refractive index layer preferable for the present invention formed on a hard coat layer. A mode that the convex-shaped low refractive index layer 12 is coated on the hard-coat layer 11 provided in the base film 10 surface is shown.

図11(a)は凸部の斜視図であり、図11(b)は凸部の断面図である。凸部の高さは図中eで示されるものであり凸部頂点と隣接する凹部底との高低差をいい、その高さは好ましくは0.5〜5μmである。0.5μm未満では防眩性の効果が得られ難く、5μmを超えると視認性においてざらつき感が増すため好ましくない。凸部の高さは市販の触針式表面粗さ測定機或いは市販の光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定することが出来る。例えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、一定の範囲内について凹凸を2次元的に測定し、凹凸を底部側より等高線のごとく色分けして表示する。ここで各凸部の隣接する凹部底を基準としたその高さを求め平均値とする。   Fig.11 (a) is a perspective view of a convex part, FIG.11 (b) is sectional drawing of a convex part. The height of the convex portion is indicated by e in the figure, and refers to the height difference between the convex portion apex and the adjacent concave portion bottom, and the height is preferably 0.5 to 5 μm. If it is less than 0.5 μm, it is difficult to obtain an antiglare effect, and if it exceeds 5 μm, the feeling of roughness increases in visibility, which is not preferable. The height of the convex portion can be measured by a commercially available stylus type surface roughness measuring machine or a commercially available optical interference type surface roughness measuring machine. For example, the unevenness is measured two-dimensionally within a certain range by an optical interference type surface roughness measuring device, and the unevenness is color-coded as contour lines from the bottom side and displayed. Here, the height with respect to the concave bottom adjacent to each convex portion is determined and used as an average value.

凸部の大きさとは図中fで示されるものであり、上記市販の光学干渉式表面粗さ測定機等を用いて、凹凸を底部側より等高線のごとく色分けした時に凹部底を基準として凸部の高さが5%高くなった時の凸部長辺を凸部の大きさと定義しその平均値で示す。この時に、本発明の凸部の大きさは1〜30μmであることが好ましく、1μm未満では防眩性の効果が得られ難く、30μmを超えると視認性においてざらつき感が増すため好ましくない。   The size of the convex portion is indicated by f in the figure, and when the concave and convex portions are color-coded like contour lines from the bottom side using the above-mentioned commercially available optical interference type surface roughness measuring machine or the like, the convex portion is based on the concave bottom. The length of the convex portion when the height of the convex portion is 5% higher is defined as the size of the convex portion, and is indicated by the average value. At this time, the size of the convex portion of the present invention is preferably 1 to 30 μm, and if it is less than 1 μm, it is difficult to obtain an antiglare effect, and if it exceeds 30 μm, the feeling of roughness increases in visibility, which is not preferable.

更に形成された凸部状の低屈折率層有する防眩性反射防止フィルム表面の中心線平均粗さ(Ra)が0.5μm以下であり、かつ平均山谷間隔(Sm)が5〜200μm以下であるように凸部形成を制御することが好ましい。   Furthermore, the center line average roughness (Ra) of the antiglare antireflection film surface having the convex-shaped low refractive index layer formed is 0.5 μm or less, and the average mountain-valley interval (Sm) is 5 to 200 μm or less. It is preferable to control the formation of the convex portion.

凸部の平均山谷間隔(Sm)は5〜200μmであることが好ましく、より好ましくは30〜150μmである。5μm未満でも、200μmを超えても防眩性の効果が小さくなり好ましくない。凸部間の平均距離は触針式表面粗さ測定機などにより測定出来、例えばダイヤモンドからなる先端部を頂角55度の円錐形とした直径1mmの測定針を介して凹凸構造面上を一定方向に3mmの長さで走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線として知見を得ることが出来、その結果より凸部間の距離を測定し平均値を求めることが出来る。或いは前述のごとく光学干渉式表面粗さ測定機によっても測定することが出来る。   It is preferable that the average peak-valley interval (Sm) of a convex part is 5-200 micrometers, More preferably, it is 30-150 micrometers. Even if it is less than 5 μm or more than 200 μm, the antiglare effect is reduced, which is not preferable. The average distance between the convex portions can be measured by a stylus type surface roughness measuring machine or the like. It is possible to obtain knowledge as a surface roughness curve by measuring the change in the vertical direction of the measuring needle in that case and measuring the change in the vertical direction of the measuring needle. The average value can be obtained by measurement. Alternatively, it can be measured by an optical interference type surface roughness measuring machine as described above.

上記、凸部の高さ、大きさ、平均山谷間隔(Sm)はいずれも凸部100個を測定したものの平均を求めればよい。   What is necessary is just to obtain | require the average of what measured the convex part height, the magnitude | size, and the average peak-valley space | interval (Sm) of 100 convex parts.

本発明に係る凸部状の低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム表面は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さRaが0.01〜0.5μmであることが好ましく、好ましくはRaが0.07〜0.5μm、最も好ましくはRaが0.1〜0.5μmである。例えば、防眩性を強くする部分はRaを大きくし、逆は小さくする。例えばRaで0.05μm以上異ならせることも出来る。   The antiglare antireflection film surface having a convex-shaped low refractive index layer according to the present invention preferably has a centerline average roughness Ra defined by JIS B 0601 of 0.01 to 0.5 μm. Ra is preferably 0.07 to 0.5 μm, and most preferably Ra is 0.1 to 0.5 μm. For example, Ra increases the anti-glare part, and vice versa. For example, Ra can be varied by 0.05 μm or more.

本発明で規定する中心線平均粗さ(Ra)は、JIS B0601により定義され、下式によって求められる値をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。   The centerline average roughness (Ra) defined in the present invention is defined by JIS B0601, and refers to a value obtained by the following formula expressed in micrometers (μm).

Figure 2007187971
Figure 2007187971

中心線平均粗さ(Ra)の測定方法としては、25℃、65%RH環境下で測定試料同士が重なり合わない条件で24時間調湿したのち、上記環境下で測定して求めることが出来る。ここでいう重なり合わない条件とは、例えば、試料のエッジ部分を高くした状態で巻き取る方法や試料と試料の間に紙を挟んで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。用いることの出来る測定装置としては、例えば、WYKO社製 RSTPLUS非接触三次元微小表面形状測定システム等を挙げることが出来る。   The measurement method of the center line average roughness (Ra) can be determined by measuring in the above environment after conditioning for 24 hours in a 25 ° C., 65% RH environment under conditions where the measurement samples do not overlap each other. . The non-overlapping conditions mentioned here are, for example, a method of winding with the edge portion of the sample raised, a method of stacking paper between the sample and the sample, a frame made of cardboard, etc., and fixing its four corners One of the methods. Examples of the measuring apparatus that can be used include a RSTPLUS non-contact three-dimensional micro surface shape measuring system manufactured by WYKO.

図12は、本発明に係る凸部形成の一例を示した断面図と平面図の模式図である。支持体上にまずハードコート層を設け、その表面上に第1低屈折率層をパターン状に凸部状に形成し、半硬化または硬化固定後、更に第2低屈折率層を所望のパターン状に凸部状に形成し硬化固定するフローを示している。第1低屈折率層をパターン状に凸部状に形成することで、本発明の効果を得ることが出来るが、第1低屈折率層上に更に第2低屈折率層を凸部状に形成することで、ぎらつきやモアレの発生を抑えることが出来好ましい。   FIG. 12 is a schematic view of a cross-sectional view and a plan view showing an example of the formation of a convex portion according to the present invention. First, a hard coat layer is provided on a support, and a first low refractive index layer is formed in a convex shape on the surface thereof. After semi-curing or curing and fixing, a second low refractive index layer is further formed in a desired pattern. The flow which forms in a convex-shaped shape and is fixed by hardening is shown. The effect of the present invention can be obtained by forming the first low refractive index layer in a convex shape in a pattern, but the second low refractive index layer is further formed in a convex shape on the first low refractive index layer. The formation is preferable because it can suppress the occurrence of glare and moire.

図13は基材フィルム上にフレキソ印刷により(a)一回、及び(b)複数回のフレキソ印刷で凸部形成を行う製造方法の一例である。詳しくは、基材フィルム上にハードコート層を塗布方式で塗設した後、フレキソ印刷で凸部状の低屈折率層を形成する製造工程の一例を示してある。   FIG. 13 shows an example of a manufacturing method in which convex portions are formed on a base film by flexographic printing (a) once and (b) multiple times of flexographic printing. Specifically, an example of a manufacturing process for forming a convex-shaped low refractive index layer by flexographic printing after coating a hard coat layer on a base film by a coating method is shown.

図13(a)において、ロール501より繰り出された基材フィルム502は、搬送されて、第1コータステーションAで、押出し方式の第1コータ503によりハードコート層を塗設する。このとき、ハードコート層は単層構成でも、複数から構成されている層でもよい。また、幅手方向で膜厚を変更して塗設してもよい。ハードコート層を塗設した基材フィルム502は、次いで乾燥ゾーン505Aで乾燥が行われる。乾燥は、基材フィルム502の両面より、温湿度が制御された温風により乾燥が施される。ハードコート層にバインダーとして活性エネルギー線硬化型樹脂を用いた場合には、乾燥後、活性エネルギー線照射部506Aで、活性エネルギー線、例えば紫外線等を照射して硬化させたり、或いは照射量や照射条件を制御してハーフキュア状態とすることも出来る。活性エネルギー線照射部506Aで基材フィルム502は、20〜120℃に温度制御されたバックロールに巻いた状態で照射することも出来る。   In FIG. 13A, the base film 502 fed out from the roll 501 is conveyed, and a hard coat layer is applied by the first coater 503 of the extrusion system at the first coater station A. At this time, the hard coat layer may be a single layer structure or a plurality of layers. Further, the film thickness may be changed in the width direction. Substrate film 502 coated with a hard coat layer is then dried in drying zone 505A. Drying is performed from both surfaces of the base film 502 by warm air with controlled temperature and humidity. When an active energy ray curable resin is used as a binder for the hard coat layer, after drying, the active energy ray irradiation unit 506A cures by irradiating active energy rays, for example, ultraviolet rays, etc. It is also possible to control the conditions to be in a half cure state. In the active energy ray irradiation unit 506A, the base film 502 can be irradiated in a state of being wound on a back roll whose temperature is controlled at 20 to 120 ° C.

次いで、フレキソ印刷を用いた低屈折率層を設けるフレキソ印刷部Bに搬送されるが、ハードコート層は、ハーフキュア状態であることが好ましい。インキ供給タンク508から低屈折率層形成インキ液がアニロックスロール510へ供給され、フレキソ印刷部である微細凹凸構造を有する樹脂版509にインキが転移される。   Subsequently, although it is conveyed to the flexographic printing part B which provides the low-refractive-index layer using flexographic printing, it is preferable that a hard-coat layer is a half-cure state. The ink liquid for forming the low refractive index layer is supplied from the ink supply tank 508 to the anilox roll 510, and the ink is transferred to the resin plate 509 having a fine concavo-convex structure which is a flexographic printing portion.

また、転移印刷による衝撃によって凸部の形状が大きく変形したり、つぶれないようにゆるやかに転移印刷させることも好ましく、例えばインキ粘度、樹脂版のゴム硬度、印刷速度等を調整することも好ましい。   Further, it is also preferable to perform transfer printing gently so that the shape of the convex portion is not greatly deformed or crushed by impact due to transfer printing. For example, it is also preferable to adjust the ink viscosity, the rubber hardness of the resin plate, the printing speed, and the like.

転移印刷したインキは、活性エネルギー線硬化型樹脂を用いている場合には、フレキソ印刷部である樹脂版509の後に配置されている活性光線照射部506Bで、活性光線、例えば紫外線等を照射して硬化させる。また、インキが熱硬化性樹脂を用いている場合には、乾燥ゾーン505B、例えば、ヒートプレートにより加熱、硬化される。また、バックロール504Bをヒートロールとして加熱する方法も好ましい。   When the active energy ray curable resin is used, the transfer-printed ink is irradiated with actinic rays, for example, ultraviolet rays or the like at the actinic ray irradiation unit 506B arranged after the resin plate 509 that is a flexographic printing unit. To cure. When the ink uses a thermosetting resin, the ink is heated and cured by a drying zone 505B, for example, a heat plate. A method of heating the back roll 504B as a heat roll is also preferable.

フレキソ印刷部Bにおいて、活性エネルギー線照射部506Bの照射光が、樹脂版509のインキに直接影響を与えないように、活性エネルギー線照射部506Bと樹脂版509とを適度な間隔で配置する、或いは活性エネルギー線照射部506Bと樹脂版509との間に、遮光壁等を設置することが好ましい。また、乾燥ゾーン505Bの熱が、樹脂版509のインキに直接影響を与えないように、樹脂版509を断熱カバーで被覆する、或いは図で示すように、乾燥ゾーン505Bの乾燥風が遮断されるような仕切りを設置することが好ましい。   In the flexographic printing part B, the active energy ray irradiation part 506B and the resin plate 509 are arranged at an appropriate interval so that the irradiation light of the active energy ray irradiation part 506B does not directly affect the ink of the resin plate 509. Alternatively, it is preferable to install a light shielding wall or the like between the active energy ray irradiation unit 506B and the resin plate 509. Further, the resin plate 509 is covered with a heat insulating cover so that the heat of the drying zone 505B does not directly affect the ink of the resin plate 509, or the drying air in the drying zone 505B is blocked as shown in the figure. It is preferable to install such a partition.

転移印刷したインキにより形成された微細凹凸構造が維持出来る程度に硬化処理を行った基材フィルム502は、乾燥ゾーン505Bで不要な有機溶媒等を蒸発させた後、更に活性エネルギー線照射部506Cで、活性エネルギー線を照射して、硬化を完了させる。   The base film 502 that has been cured to such an extent that the fine uneven structure formed by the transfer-printed ink can be maintained is evaporated in the drying zone 505B, and then an unnecessary organic solvent is evaporated in the active energy ray irradiation unit 506C. Irradiation with active energy rays completes the curing.

活性エネルギー線照射部506Cの部分では、20〜120℃に温度制御されたバックロール504C上の基材フィルム502に活性エネルギー線を照射することが好ましい。   In the portion of the active energy ray irradiation unit 506C, it is preferable to irradiate the base film 502 on the back roll 504C whose temperature is controlled to 20 to 120 ° C. with the active energy ray.

図13(b)は、複数回のフレキソ印刷で凸部形成を行う方法の一例であり、図13(a)のフレキソ印刷部Bの後に樹脂版の径を変えたフレキソ印刷部Cを設置し、2回の印刷を行う製造フローを示している。   FIG. 13B is an example of a method for forming a convex portion by a plurality of flexographic printings. A flexographic printing portion C in which the diameter of the resin plate is changed is installed after the flexographic printing portion B in FIG. The manufacturing flow for performing printing twice is shown.

本発明のフレキソ印刷による凸部形成方法は、基材フィルムを1〜500m/min、好ましくは10〜300m/minで移送しながら形成することが好ましい。   It is preferable to form the convex part formation method by flexographic printing of this invention, conveying a base film at 1-500 m / min, Preferably it is 10-300 m / min.

インキを転移印刷させる際の基材フィルムは帯電に斑がないことが好ましく、直前で徐電することが好ましく、或いは均一に帯電させてもよい。   The base film used for transfer printing of the ink is preferably free from unevenness in charging, and is preferably charged immediately before, or may be uniformly charged.

また、インキを転移印刷させて形成した微細凹凸構造をヘイズ、透過鮮明度などの防眩性を測定し、所定の値であることを確認し、ずれや変動が確認された場合、その結果をフィードバックしてインキの調整や樹脂版の交換を行うことが好ましい。測定は、全ての凹凸を形成し樹脂を硬化させた後に行うことが好ましく、凹凸形成の途中で行ってもよい。例えば、比較的大きな凹凸を形成した後とその後のより微細な凹凸を形成した後の測定を行うことで、さらに適切なフィードバック制御を行うことが出来る。   Also, measure the anti-glare properties such as haze and transmission sharpness of the fine concavo-convex structure formed by transfer printing of ink, confirm that it is a predetermined value, and if the deviation or fluctuation is confirmed, the result is It is preferable to adjust the ink and replace the resin plate by feedback. The measurement is preferably performed after all the irregularities are formed and the resin is cured, and may be performed during the formation of the irregularities. For example, more appropriate feedback control can be performed by performing measurement after forming a relatively large unevenness and then forming a finer unevenness.

(低屈折率層)
本発明は、支持体上にハードコート層と凸部状に形成された低屈折率層とを有することが特徴であり、該凸部は前記印刷法、インクジェット法またはスプレイ加工等により形成されるものである。以下、低屈折率層形成組成物である低屈折率層形成インキについて説明する。
(Low refractive index layer)
The present invention is characterized in that it has a hard coat layer and a low refractive index layer formed in a convex shape on a support, and the convex portion is formed by the printing method, the ink jet method or the spray processing. Is. Hereinafter, the low refractive index layer forming ink which is the low refractive index layer forming composition will be described.

本発明の低屈折率層は凸部がパターン状に形成されており、特に本発明においては、低屈折率層の屈折率は1.5以下であり、凸部状に形成された低屈折率層が少なくとも活性エネルギー線硬化型材料と低屈折率微粒子とを含有するか、または少なくともゾルゲル素材と低屈折率微粒子とを含有することが好ましい態様である。   The low refractive index layer of the present invention has convex portions formed in a pattern, and particularly in the present invention, the refractive index of the low refractive index layer is 1.5 or less, and the low refractive index formed in a convex shape. In a preferred embodiment, the layer contains at least an active energy ray-curable material and low refractive index fine particles, or contains at least a sol-gel material and low refractive index fine particles.

中でも、本発明に用いる低屈折率微粒子は外殻層を有し内部が多孔質または空洞となっている中空シリカ系微粒子であることが好ましい。   Among them, the low refractive index fine particles used in the present invention are preferably hollow silica fine particles having an outer shell layer and porous or hollow inside.

本発明の低屈折率層としては、活性エネルギー線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう)の架橋からなる低屈折率層、ゾルゲル法による低屈折率層、及び低屈折率微粒子とバインダーポリマーを用い、粒子間または粒子内部に空隙を有する低屈折率層等を用いることが好ましい。低屈折率層の屈折率は、低ければ反射防止性能が良化するため好ましいが、低屈折率層の強度付与の観点では困難となる。このバランスから、低屈折率層の屈折率は1.3〜1.5であることが好ましく、1.35〜1.49であることがさらに好ましい。   Examples of the low refractive index layer of the present invention include a low refractive index layer formed by crosslinking a fluorine-containing resin that is crosslinked by active energy rays (hereinafter also referred to as “fluorinated resin before crosslinking”), a low refractive index layer by a sol-gel method, In addition, it is preferable to use a low refractive index layer or the like having a low refractive index fine particle and a binder polymer and having voids between or inside the particles. If the refractive index of the low refractive index layer is low, it is preferable because the antireflection performance is improved, but it is difficult from the viewpoint of imparting strength to the low refractive index layer. From this balance, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.3 to 1.5, and more preferably 1.35 to 1.49.

架橋前の含フッ素樹脂として、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることができる。含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えば、ビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー(例えば、(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等)が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう1つ以上の反応性基を持つ化合物を加えることにより、架橋構造を導入できることが特開平10−25388号、同10−147739号に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、もしくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤もしくはエポキシ基と熱酸発生剤等の相み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤もしくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、活性エネルギー線(好ましくは紫外線、電子ビーム等)の照射により架橋する場合、活性エネルギー線硬化型である。本発明では活性エネルギー線硬化型樹脂を用いることが好ましい。   A preferred example of the fluorine-containing resin before crosslinking is a fluorine-containing copolymer formed from a fluorine-containing vinyl monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group. Specific examples of the fluorine-containing vinyl monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3- Dioxole, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. Can be mentioned. As monomers for imparting a crosslinkable group, glycidyl methacrylate, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, vinyl glycidyl ether, and other vinyl monomers having a crosslinkable functional group in advance in the molecule. , Vinyl monomers having a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, sulfonic acid group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyalkyl vinyl ether, hydroxyalkyl allyl) Ether, etc.). In the latter, it is possible to introduce a crosslinked structure by adding a compound having a group that reacts with a functional group in the polymer and one or more reactive groups after copolymerization, as disclosed in JP-A-10-25388 and 10-147739. In the issue. Examples of the crosslinkable group include acryloyl, methacryloyl, isocyanate, epoxy, aziridine, oxazoline, aldehyde, carbonyl, hydrazine, carboxyl, methylol, and active methylene group. When the fluorine-containing copolymer is cross-linked by heating due to a cross-linking group that reacts by heating, or a combination of an ethylenically unsaturated group and a thermal radical generator or an epoxy group and a thermal acid generator, the thermosetting type In the case of crosslinking by irradiation with active energy rays (preferably ultraviolet rays, electron beams, etc.) by a combination of an ethylenically unsaturated group and a photo radical generator or an epoxy group and a photo acid generator, active energy ray curing It is a type. In the present invention, it is preferable to use an active energy ray curable resin.

また上記モノマー加えて、含フッ素ビニルモノマー及び架橋性基付与のためのモノマー以外のモノマーを併用して形成された含フッ素共重合体を架橋前の含フッ素樹脂として用いてもよい。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。また、含フッ素共重合体中に、滑り性、防汚性付与のため、ポリオルガノシロキサン骨格や、パーフルオロポリエーテル骨格を導入することも好ましい。これは、例えば末端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと上記のモノマーとの重合、末端にラジカル発生基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルによる上記モノマーの重合、官能基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと、含フッ素共重合体との反応等によって得られる。   Further, in addition to the above monomers, a fluorine-containing copolymer formed by using a monomer other than the fluorine-containing vinyl monomer and the monomer for imparting a crosslinkable group may be used as the fluorine-containing resin before crosslinking. The monomer that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether) Etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, Ronitoriru derivatives and the like can be mentioned. In addition, it is also preferable to introduce a polyorganosiloxane skeleton or a perfluoropolyether skeleton into the fluorinated copolymer in order to impart slipperiness and antifouling properties. For example, polyorganosiloxane or perfluoropolyether having an acrylic group, methacrylic group, vinyl ether group, styryl group or the like at the terminal is polymerized with the above monomer, and polyorganosiloxane or perfluoropolyester having a radical generating group at the terminal. It can be obtained by polymerization of the above monomers with ether, reaction of a polyorganosiloxane or perfluoropolyether having a functional group with a fluorine-containing copolymer, or the like.

架橋前の含フッ素共重合体を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合は、含フッ素ビニルモノマーが好ましくは20〜70モル%、より好ましくは40〜70モル%、架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは1〜20モル%、より好ましくは5〜20モル%、併用されるその他のモノマーが好ましくは10〜70モル%、より好ましくは10〜50モル%の割合である。   The proportion of each of the above monomers used to form the fluorinated copolymer before crosslinking is preferably 20 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol% of the fluorinated vinyl monomer. The amount of the monomer is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 5 to 20 mol%, and the other monomer used in combination is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%.

含フッ素共重合体は、これらモノマーをラジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合法等の手段により重合することにより得ることができる。   The fluorine-containing copolymer can be obtained by polymerizing these monomers in the presence of a radical polymerization initiator by means such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization.

架橋前の含フッ素樹脂は、市販されており使用することができる。市販されている架橋前の含フッ素樹脂の例としては、サイトップ(旭硝子製)、テフロン(登録商標)AF(デュポン製)、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン(旭硝子製)、オプスター(JSR製)等が挙げられる。   The fluorine-containing resin before crosslinking is commercially available and can be used. Examples of commercially available fluorine-containing resins before cross-linking include Cytop (Asahi Glass), Teflon (registered trademark) AF (DuPont), polyvinylidene fluoride, Lumiflon (Asahi Glass), OPSTAR (JSR), etc. Can be mentioned.

また、低屈折率層形成インキとして、各種ゾルゲル素材を用いることも好ましい。このようなゾルゲル素材としては、金属アルコレート(シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート)、オルガノアルコキシ金属化合物及びその加水分解物を用いることができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等)、アルキルトリアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等)、アリールトリアルコキシシラン(フェニルトリメトキシシラン等)、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン(ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−(3,4−エポキジシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等)、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等)を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましい。   It is also preferable to use various sol-gel materials as the low refractive index layer forming ink. As such a sol-gel material, metal alcoholates (alcolates such as silane, titanium, aluminum, and zirconium), organoalkoxy metal compounds, and hydrolysates thereof can be used. In particular, alkoxysilane, organoalkoxysilane and its hydrolyzate are preferable. Examples of these include tetraalkoxysilane (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc.), alkyltrialkoxysilane (methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, etc.), aryltrialkoxysilane (phenyltrimethoxysilane, etc.), dialkyl. Examples thereof include dialkoxysilane and diaryl dialkoxysilane. In addition, organoalkoxysilanes having various functional groups (vinyl trialkoxysilane, methylvinyl dialkoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrialkoxysilane, γ-glycidyloxypropylmethyl dialkoxysilane, β- (3,4-epoxy) Dicyclohexyl) ethyltrialkoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrialkoxysilane, γ-aminopropyltrialkoxysilane, γ-mercaptopropyltrialkoxysilane, γ-chloropropyltrialkoxysilane, etc.), perfluoroalkyl group-containing silane compounds ( For example, it is also preferable to use (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, etc.). In particular, the use of a fluorine-containing silane compound is preferable in terms of lowering the refractive index of the layer and imparting water and oil repellency.

低屈折率層として、無機もしくは有機の微粒子を用い、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして形成した層を用いることも好ましい。微粒子の平均粒径は、0.5〜200nmであることが好ましく、1〜100nmであることがより好ましく、3〜70nmであることがさらに好ましく、5〜40nmの範囲であることが最も好ましい。微粒子の粒径は、なるべく均一(単分散)であることが好ましい。   As the low refractive index layer, it is also preferable to use a layer formed by using inorganic or organic fine particles and forming microvoids between or within the fine particles. The average particle diameter of the fine particles is preferably from 0.5 to 200 nm, more preferably from 1 to 100 nm, further preferably from 3 to 70 nm, and most preferably from 5 to 40 nm. The particle diameter of the fine particles is preferably as uniform (monodispersed) as possible.

無機微粒子としては、非晶質であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物または金属ハロゲン化物からなることがさらに好ましく、金属酸化物または金属フッ化物からなることが最も好ましい。金属原子としては、Na、K、Mg、Ca、Ba、Al、Zn、Fe、Cu、Ti、Sn、In、W、Y、Sb、Mn、Ga、V、Nb、Ta、Ag、Si、B、Bi、Mo、Ce、Cd、Be、Pb及びNiが好ましく、Mg、Ca、B及びSiがさらに好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いてもよい。特に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すなわちシリカである。   The inorganic fine particles are preferably amorphous. The inorganic fine particles are preferably made of a metal oxide, nitride, sulfide or halide, more preferably a metal oxide or metal halide, and most preferably a metal oxide or metal fluoride. . As metal atoms, Na, K, Mg, Ca, Ba, Al, Zn, Fe, Cu, Ti, Sn, In, W, Y, Sb, Mn, Ga, V, Nb, Ta, Ag, Si, B Bi, Mo, Ce, Cd, Be, Pb and Ni are preferable, and Mg, Ca, B and Si are more preferable. An inorganic compound containing two kinds of metals may be used. A particularly preferred inorganic compound is silicon dioxide, ie silica.

無機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒子を形成するシリカの分子を架橋させることにより形成することができる。シリカの分子を架橋させると体積が縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有する(多孔質)無機微粒子は、ゾル−ゲル法(特開昭53−112732号、特公昭57−9051号に記載)または析出法(APPLIED OPTICS,27巻,3356頁(1988)記載)により、分散物として直接合成することができる。また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に粉砕して分散物を得ることもできる。市販の多孔質無機微粒子(例えば、二酸化ケイ素ゾル)を用いてもよい。ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)が好ましい。   The microvoids in the inorganic fine particles can be formed, for example, by cross-linking silica molecules forming the particles. Crosslinking silica molecules reduces the volume and makes the particles porous. (Porous) inorganic fine particles having microvoids are prepared by a sol-gel method (described in JP-A-53-112732 and JP-B-57-9051) or a precipitation method (described in APPLIED OPTICS, 27, 3356 (1988)). Can be directly synthesized as a dispersion. Further, the powder obtained by the drying / precipitation method can be mechanically pulverized to obtain a dispersion. Commercially available porous inorganic fine particles (for example, silicon dioxide sol) may be used. The inorganic fine particles having microvoids are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol) and ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone) are preferable.

有機微粒子も非晶質であることが好ましい。有機微粒子は、モノマーの重合反応(例えば乳化重合法)により合成されるポリマー微粒子であることが好ましい。有機微粒子のポリマーはフッ素原子を含むことが好ましい。ポリマー中のフッ素原子の割合は、35〜80質量%であることが好ましく、45〜75質量%であることがさらに好ましい。また、有機微粒子内に、例えば、粒子を形成するポリマーを架橋させ、体積を縮小させることによりミクロボイドを形成させることも好ましい。粒子を形成するポリマーを架橋させるためには、ポリマーを合成するためのモノマーの20モル%以上を多官能モノマーとすることが好ましい。多官能モノマーの割合は、30〜80モル%であることがさらに好ましく、35〜50モル%であることが最も好ましい。上記有機微粒子の合成に用いられるモノマーとしては、含フッ素ポリマーを合成するために用いるフッ素原子を含むモノマーの例として、フルオロオレフィン類(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、アクリル酸またはメタクリル酸のフッ素化アルキルエステル類及びフッ素化ビニルエーテル類が挙げられる。フッ素原子を含むモノマーとフッ素原子を含まないモノマーとのコポリマーを用いてもよい。フッ素原子を含まないモノマーの例としては、オレフィン類(例えば、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステル類(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル)、スチレン類(例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン)、ビニルエーテル類(例えば、メチルビニルエーテル)、ビニルエステル類(例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル)、アクリルアミド類(例えば、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド)、メタクリルアミド類及びアクリルニトリル類が挙げられる。多官能モノマーの例としては、ジエン類(例えば、ブタジエン、ペンタジエン)、多価アルコールとアクリル酸とのエステル(例えば、エチレングリコールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)、多価アルコールとメタクリル酸とのエステル(例えば、エチレングリコールジメタクリレート、1,2,4−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート)、ジビニル化合物(例えば、ジビニルシクロヘキサン、1,4−ジビニルベンゼン)、ジビニルスルホン、ビスアクリルアミド類(例えば、メチレンビスアクリルアミド)及びビスメタクリルアミド類が挙げられる。   The organic fine particles are also preferably amorphous. The organic fine particles are preferably polymer fine particles synthesized by polymerization reaction of monomers (for example, emulsion polymerization method). The organic fine particle polymer preferably contains a fluorine atom. The proportion of fluorine atoms in the polymer is preferably 35 to 80% by mass, and more preferably 45 to 75% by mass. It is also preferable to form microvoids in the organic fine particles by, for example, cross-linking the polymer forming the particles and reducing the volume. In order to crosslink the polymer forming the particles, it is preferable to use 20 mol% or more of the monomer for synthesizing the polymer as a polyfunctional monomer. The ratio of the polyfunctional monomer is more preferably 30 to 80 mol%, and most preferably 35 to 50 mol%. Examples of the monomer used for the synthesis of the organic fine particles include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene) as examples of monomers containing fluorine atoms used to synthesize fluorine-containing polymers. , Perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), fluorinated alkyl esters of acrylic acid or methacrylic acid, and fluorinated vinyl ethers. A copolymer of a monomer containing a fluorine atom and a monomer not containing a fluorine atom may be used. Examples of monomers that do not contain fluorine atoms include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylic esters (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate). , Methacrylates (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate), styrenes (for example, styrene, vinyl toluene, α-methyl styrene), vinyl ethers (for example, methyl vinyl ether), vinyl esters ( Examples thereof include vinyl acetate and vinyl propionate), acrylamides (for example, N-tert-butylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide), methacrylamides and acrylonitriles. Examples of polyfunctional monomers include dienes (eg, butadiene, pentadiene), esters of polyhydric alcohols and acrylic acid (eg, ethylene glycol diacrylate, 1,4-cyclohexane diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate), Esters of polyhydric alcohol and methacrylic acid (for example, ethylene glycol dimethacrylate, 1,2,4-cyclohexanetetramethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate), divinyl compounds (for example, divinylcyclohexane, 1,4-divinylbenzene), divinyl Examples include sulfones, bisacrylamides (eg, methylenebisacrylamide) and bismethacrylamides.

粒子間のミクロボイドは、微粒子を少なくとも2個以上積み重ねることにより形成することができる。なお、粒径が等しい(完全な単分散の)球状微粒子を最密充填すると、26体積%の空隙率の微粒子間ミクロボイドが形成される。粒径が等しい球状微粒子を単純立方充填すると、48体積%の空隙率の微粒子間ミクロボイドが形成される。実際の低屈折率層では、微粒子の粒径の分布や粒子内ミクロボイドが存在するため、空隙率は上記の理論値からかなり変動する。   Microvoids between particles can be formed by stacking at least two fine particles. When spherical fine particles having the same particle diameter (completely monodispersed) are closely packed, microvoids between fine particles having a porosity of 26% by volume are formed. When spherical fine particles having the same particle diameter are simply filled with cubic particles, microvoids between fine particles having a porosity of 48% by volume are formed. In an actual low-refractive index layer, the particle size distribution of fine particles and intra-particle microvoids exist, so the porosity varies considerably from the above theoretical value.

本発明の低屈折率層の空隙率は3〜50%であることが好ましく、粒子の形状、粒径を選ぶことによりこの範囲の空隙率を得ることが出来る。   The porosity of the low refractive index layer of the present invention is preferably 3 to 50%, and a porosity in this range can be obtained by selecting the shape and particle size of the particles.

空隙率は、BET吸着法や水銀ポロシメーター、例えば、島津製作所製の水銀ポロシメーターにより測定することができる。   The porosity can be measured by a BET adsorption method or a mercury porosimeter, for example, a mercury porosimeter manufactured by Shimadzu Corporation.

空隙率を増加させると、低屈折率層の屈折率が低下する。微粒子を積み重ねてミクロボイドを形成と、微粒子の粒径を調整することで、粒子間ミクロボイドの大きさも適度の(光を散乱せず、低屈折率層の強度に問題が生じない)値に容易に調節できる。さらに、微粒子の粒径を均一にすることで、粒子間ミクロボイドの大きさも均一である光学的に均一な低屈折率層を得ることができる。これにより、低屈折率層は微視的にはミクロボイド含有多孔質膜であるが、光学的あるいは巨視的には均一な膜にすることができる。粒子間ミクロボイドは、微粒子及びポリマーによって低屈折率層内で閉じていることが好ましい。閉じている空隙には、低屈折率層表面に開かれた開口と比較して、低屈折率層表面での光の散乱が少ないとの利点もある。   When the porosity is increased, the refractive index of the low refractive index layer is lowered. By stacking microparticles to form microvoids and adjusting the particle size of microparticles, the size of interparticle microvoids can be easily adjusted to an appropriate value (does not scatter light and cause problems in the strength of the low refractive index layer). Can be adjusted. Furthermore, by making the particle diameters of the fine particles uniform, it is possible to obtain an optically uniform low refractive index layer in which the size of microvoids between particles is uniform. As a result, the low refractive index layer is microscopically a microvoided porous film, but can be made optically or macroscopically uniform. The interparticle microvoids are preferably closed in the low refractive index layer by fine particles and a polymer. The closed air gap also has an advantage that light scattering on the surface of the low refractive index layer is less than that of an opening opened on the surface of the low refractive index layer.

ミクロボイドを形成することにより、低屈折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する成分の屈折率の和よりも低い値になる。層の屈折率は、層の構成要素の体積当りの屈折率の和になる。微粒子やポリマーのような低屈折率層の構成成分の屈折率は1よりも大きな値であるのに対して、空気の屈折率は1.00である。そのため、ミクロボイドを形成することによって、屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることができる。   By forming the microvoids, the macroscopic refractive index of the low refractive index layer becomes lower than the sum of the refractive indexes of the components constituting the low refractive index layer. The refractive index of the layer is the sum of the refractive indices per volume of the layer components. The refractive index of the constituent component of the low refractive index layer such as fine particles or polymer is larger than 1, whereas the refractive index of air is 1.00. Therefore, a low refractive index layer having a very low refractive index can be obtained by forming microvoids.

低屈折率層形成インキは、5〜50質量%の量のポリマーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層形成インキの全量の10〜30質量%であることが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するためには、(1)微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、(2)微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成するか、あるいは(3)微粒子間のバインダーとして、ポリマーを使用することが好ましい。(1)の表面処理剤に結合させるポリマーは、(2)のシェルポリマーまたは(3)のバインダーポリマーであることが好ましい。(2)のポリマーは、低屈折率層形成インキの調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成することが好ましい。(3)のポリマーは、低屈折率層形成インキにモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重合反応により形成することが好ましい。上記(1)〜(3)のうちの二つまたは全てを組み合わせて実施することが好ましく、(1)と(3)の組み合わせ、または(1)〜(3)全てを組み合わせで実施することが特に好ましい。(1)表面処理、(2)シェル及び(3)バインダーについて順次説明する。   The low refractive index layer forming ink preferably contains a polymer in an amount of 5 to 50% by mass. The polymer has a function of adhering fine particles and maintaining the structure of a low refractive index layer including voids. The amount of the polymer used is adjusted so that the strength of the low refractive index layer can be maintained without filling the voids. The amount of the polymer is preferably 10 to 30% by mass of the total amount of the low refractive index layer forming ink. In order to adhere the fine particles with the polymer, (1) the polymer is bonded to the surface treatment agent of the fine particles, (2) the fine particles are used as a core, and a polymer shell is formed around the fine particles. It is preferable to use a polymer as the binder. The polymer to be bonded to the surface treatment agent (1) is preferably the shell polymer (2) or the binder polymer (3). The polymer (2) is preferably formed around the fine particles by a polymerization reaction before preparing the low refractive index layer forming ink. The polymer of (3) is preferably formed by adding a monomer to the low refractive index layer forming ink and by polymerization reaction at the same time as or after coating the low refractive index layer. It is preferable to carry out a combination of two or all of the above (1) to (3), and to carry out a combination of (1) and (3) or a combination of (1) to (3). Particularly preferred. (1) Surface treatment, (2) shell, and (3) binder will be described sequentially.

(1)表面処理
微粒子(特に無機微粒子)には、表面処理を実施して、ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類できる。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。微粒子が二酸化ケイ素からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理が特に有効に実施できる。具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。
(1) Surface treatment It is preferable that the fine particles (particularly inorganic fine particles) are subjected to a surface treatment to improve the affinity with the polymer. The surface treatment can be classified into physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, and chemical surface treatment using a coupling agent. It is preferable to carry out only chemical surface treatment or a combination of physical surface treatment and chemical surface treatment. As the coupling agent, an organoalkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. When the fine particles are made of silicon dioxide, surface treatment with a silane coupling agent can be carried out particularly effectively. Specific examples of the silane coupling agent include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane. Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxy Propyltriethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, Examples include N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.

また、ケイ素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。   Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethyl Kishishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.

これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ケイ素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。   Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy as those having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxy Propyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane are particularly preferred.

2種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリングを用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、またはこれらの塩(例えば、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。   Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane couplings may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate. The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the dispersion of fine particles and leaving the dispersion at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (for example, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.

(2)シェル
シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に含むポリマーがさらに好ましい。ポリアクリル酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好ましく、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリメタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリマーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるため、シェルポリマーは35〜80質量%のフッ素原子を含むことが好ましく、45〜75質量%のフッ素原子を含むことがさらに好ましい。フッ素原子を含むポリマーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例としては、フルオロオレフィン(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、フッ素化ビニルエーテル及びフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが挙げられる。
(2) Shell The polymer forming the shell is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. A polymer containing a fluorine atom in the main chain or side chain is preferred, and a polymer containing a fluorine atom in the side chain is more preferred. Polyacrylic acid esters or polymethacrylic acid esters are preferred, and esters of fluorine-substituted alcohols with polyacrylic acid or polymethacrylic acid are most preferred. The refractive index of the shell polymer decreases as the content of fluorine atoms in the polymer increases. In order to lower the refractive index of the low refractive index layer, the shell polymer preferably contains 35 to 80% by mass of fluorine atoms, and more preferably contains 45 to 75% by mass of fluorine atoms. The polymer containing a fluorine atom is preferably synthesized by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers containing fluorine atoms include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), Mention may be made of esters of fluorinated vinyl ethers and fluorine-substituted alcohols with acrylic acid or methacrylic acid.

シェルを形成するポリマーは、フッ素原子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの例としては、オレフィン(例えば、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステル(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル(例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート)、スチレン及びその誘導体(例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン)、ビニルエーテル(例えば、メチルビニルエーテル)、ビニルエステル(例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル)、アクリルアミド(例えば、N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド)、メタクリルアミド及びアクリロニトリルが挙げられる。   The polymer forming the shell may be a copolymer composed of a repeating unit containing a fluorine atom and a repeating unit not containing a fluorine atom. The repeating unit containing no fluorine atom is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing no fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers that do not contain fluorine atoms include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylic acid esters (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylic acid esters (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene and its derivatives (for example, styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ether ( For example, methyl vinyl ether), vinyl esters (for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamide (for example, N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylic) Amides), methacrylamide and acrylonitrile.

後述する(3)のバインダーポリマーを併用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入して、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋により化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温度(Tg)が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。ただし、Tgが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されない(その結果、強度が低下する)場合がある。その場合は、後述する(3)のバインダーポリマーを併用し、バインダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微粒子中に無機微粒子からなるコアが5〜90体積%含まれていることが好ましく、15〜80体積%含まれていることがさらに好ましい。二種類以上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェルのない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよい。   When the binder polymer (3) described later is used in combination, a crosslinkable functional group may be introduced into the shell polymer to chemically bond the shell polymer and the binder polymer by crosslinking. The shell polymer may have crystallinity. When the glass transition temperature (Tg) of the shell polymer is higher than the temperature at the time of forming the low refractive index layer, it is easy to maintain microvoids in the low refractive index layer. However, if Tg is higher than the temperature at which the low refractive index layer is formed, the fine particles are not fused, and the low refractive index layer may not be formed as a continuous layer (resulting in a decrease in strength). In that case, it is desirable to use a binder polymer (3) described later in combination, and form the low refractive index layer as a continuous layer with the binder polymer. By forming a polymer shell around the fine particles, core-shell fine particles are obtained. The core-shell fine particles preferably contain 5 to 90% by volume of a core composed of inorganic fine particles, and more preferably 15 to 80% by volume. Two or more kinds of core-shell fine particles may be used in combination. Further, inorganic fine particles having no shell and core-shell particles may be used in combination.

(3)バインダー
バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、ビニルベンゼン及びその誘導体(例えば、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例えば、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例えば、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミドが挙げられる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例としては、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が挙げられる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、架橋基は、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。バインダーポリマーの重合反応及び架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤や、光重合開始剤が用いられるが、光重合開始剤の方がより好ましい。光重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例としては、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン及び2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが挙げられる。ベンゾイン類の例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが挙げられる。ベンゾフェノン類の例としては、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン及びp−クロロベンゾフェノンが挙げられる。ホスフィンオキシド類の例としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが挙げられる。
(3) Binder The binder polymer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohols and (meth) acrylic acid (for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol). Tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate , Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate, vinylbenzene and its derivatives For example, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylene bisacrylamide) and methacrylamide Can be mentioned. The polymer having a polyether as the main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by the reaction of a crosslinkable group. Examples of crosslinkable functional groups include isocyanate groups, epoxy groups, aziridine groups, oxazoline groups, aldehyde groups, carbonyl groups, hydrazine groups, carboxyl groups, methylol groups, and active methylene groups. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. The cross-linking group is not limited to the above compound, and may be one that exhibits reactivity as a result of decomposition of the functional group. As the polymerization initiator used for the polymerization reaction and the crosslinking reaction of the binder polymer, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator is used, and the photopolymerization initiator is more preferable. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. Examples of benzoins include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

バインダーポリマーは、低屈折率層形成インキにモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に重合反応(必要ならばさらに架橋反応)により形成することが好ましい。低屈折率層形成インキに、少量のポリマー(例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂)を添加してもよい。   The binder polymer is preferably formed by adding a monomer to the low refractive index layer-forming ink and performing a polymerization reaction (if necessary, further a crosslinking reaction) simultaneously with or after the application of the low refractive index layer. A small amount of polymer (for example, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin) may be added to the low refractive index layer forming ink. .

更に、本発明の低屈折率層形成インキには微粒子として、低屈折率化の為に下記中空シリカ系微粒子を含有することも好ましい。   Furthermore, the low refractive index layer-forming ink of the present invention preferably contains the following hollow silica fine particles as fine particles in order to reduce the refractive index.

中空シリカ系微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率層形成インキには(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。   The hollow silica-based fine particles are (I) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (II) having cavities inside, and the contents are solvent, gas or porous It is a hollow particle filled with a porous material. The low refractive index layer forming ink may contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or may contain both.

尚、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される中空微粒子は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層等の透明被膜の膜厚の2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの中空微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)が好ましい。   The hollow particles are particles having cavities inside, and the cavities are surrounded by particle walls. The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle size of such hollow fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The hollow fine particles to be used are appropriately selected according to the thickness of the transparent coating to be formed, and may be in the range of 2/3 to 1/10 of the thickness of the transparent coating such as the low refractive index layer to be formed. desirable. These hollow fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), and ketone alcohol (for example, diacetone alcohol) are preferable.

複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することが出来ないことがあり、後述するインキ液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部に内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持出来ないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, if the coating layer thickness is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and it is easy to use silicate monomers and oligomers with a low degree of polymerization, which are ink components described later. In some cases, the inside of the composite particle enters the inside and the porosity of the inside is reduced, so that the effect of low refractive index cannot be obtained sufficiently. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, when the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. is there.

複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等との1種または2種以上を挙げることが出来る。このような多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表したときのモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、さらに屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. In addition, components other than silica may be contained. Specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MO X / SiO 2 when the silica is expressed by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is expressed in terms of oxide (MO X ) is 0.0001 to 1.0, Preferably it is in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MO X / SiO 2 of less than 0.0001. Even if it is obtained, particles having a small pore volume and a low refractive index cannot be obtained. In addition, when the molar ratio MO X / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it is difficult to obtain a low refractive index. is there.

このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.

尚、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることが出来る。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例表した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   Incidentally, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Examples of the porous substance include those composed of the compounds exemplified for the porous particles. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

このような中空微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。   As a method for producing such hollow fine particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed.

低屈折率層形成インキには、前述した成分(無機微粒子、ポリマー、分散媒体、重合開始剤、重合促進剤)以外に、重合禁止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤や接着付与剤を添加してもよい。   In addition to the components (inorganic fine particles, polymer, dispersion medium, polymerization initiator, polymerization accelerator) described above, the polymerization inhibitor, leveling agent, thickener, anti-coloring agent, ultraviolet absorber are included in the low refractive index layer forming ink. A silane coupling agent, an antistatic agent or an adhesion-imparting agent may be added.

本発明に係る低屈折率層形成インキは有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The low refractive index layer forming ink according to the present invention preferably contains an organic solvent. Specific examples of organic solvents include alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Group hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

有機溶媒の含有量は、低屈折率層形成インキ中の固形分濃度の1〜4質量%であることが好ましい。有機溶媒は印刷やインクジェットによる塗布ムラを防止して均一膜厚とするために1質量%以上が好ましく、4質量%を超えると乾燥負荷が大きくなり、乾燥装置の大型化、長時間化となり好ましくない。   The content of the organic solvent is preferably 1 to 4% by mass of the solid content concentration in the low refractive index layer forming ink. The organic solvent is preferably 1% by mass or more in order to prevent coating unevenness due to printing or ink jetting, and is preferably 1% by mass or more. Absent.

本発明に係る低屈折率層形成インキの粘度は、前記各印刷法、インクジェット法、スプレイ加工等の塗布方法により、上記材料を用いて各方法に適宜最適な粘度に調整することが好ましい。特に有機溶媒の含有量により調整することが有効である。   The viscosity of the low refractive index layer-forming ink according to the present invention is preferably adjusted to an optimum viscosity appropriately for each method using the above materials by coating methods such as the printing methods, ink jet methods, and spray processing. In particular, it is effective to adjust by the content of the organic solvent.

本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性させるエネルギー源であれば制限なく使用出来るが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20mJ/cm2〜10000mJ/cm2が好ましく、更に好ましくは、100mJ/cm2〜2000mJ/cm2であり、特に好ましくは、400mJ/cm2〜2000mJ/cm2である。 The active energy ray used in the present invention can be used without limitation as long as it is an energy source that activates a compound such as ultraviolet ray, electron beam, γ ray, etc., but ultraviolet ray and electron beam are preferable, particularly easy handling and high energy. Ultraviolet rays are preferred because they can be easily obtained. As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Irradiation conditions vary depending on individual lamps, irradiation dose is preferably 20mJ / cm 2 ~10000mJ / cm 2 , more preferably from 100mJ / cm 2 ~2000mJ / cm 2 , particularly preferably 400 mJ / cm 2 ~ 2000 mJ / cm 2 .

《ハードコート層》
本発明の防眩性反射防止フィルムは支持体上にハードコート層を設ける。ハードコート層の塗設方法としては、グラビアコーター、ダイコーター等後述のものを用いることができる。ハードコート層の膜厚は、ドライ膜厚として3〜20μmの範囲が好ましく、より好ましくは5〜15μmである。3μm未満では、耐擦傷性が不十分であり、20μmを超えると平面性が劣化する。
《Hard coat layer》
The antiglare antireflection film of the present invention is provided with a hard coat layer on a support. As a method for coating the hard coat layer, those described later such as a gravure coater and a die coater can be used. The film thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 3 to 20 μm, more preferably 5 to 15 μm, as a dry film thickness. If it is less than 3 μm, the scratch resistance is insufficient, and if it exceeds 20 μm, the flatness deteriorates.

本発明に係るハードコート層は活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましい。   The hard coat layer according to the present invention is preferably an active energy ray curable resin layer.

活性エネルギー線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。   The active energy ray-curable resin layer refers to a layer mainly composed of a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams. As the active energy ray curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and the active energy ray curable resin layer is cured by irradiation with an active ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. It is formed. Typical examples of the active energy ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and a resin curable by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used. Of these, ultraviolet curable acrylate resins are preferred.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号に記載のものを用いることができる。   The UV curable acrylic urethane resin generally includes 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate) in addition to a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, those described in JP-A-59-151110 can be used.

例えば、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) is preferably used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭59−151112号に記載のものを用いることができる。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those which are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyols. JP-A-59-151112 Can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光重合開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平1−105738号に記載のものを用いることができる。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photopolymerization initiator added thereto, and reacted to form an oligomer. Those described in US Pat. No. 105738 can be used.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. Can be mentioned.

これら紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。上記光重合開始剤も光増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の光重合開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光重合開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜15質量部であり、好ましくは1〜10質量部である。   Specific examples of photopolymerization initiators for these ultraviolet curable resins include benzoin and its derivatives, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. You may use with a photosensitizer. The photopolymerization initiator can also be used as a photosensitizer. In addition, when using an epoxy acrylate-based photopolymerization initiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photopolymerization initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 15 parts by mass, preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the composition.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。   Examples of the resin monomer may include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. In addition, monomers having two or more unsaturated double bonds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, and the above trimethylolpropane. Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.

本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成(株)製)等を適宜選択して利用できる。   Examples of commercially available ultraviolet curable resins that can be used in the present invention include ADEKA OPTMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (Asahi Denka ( Co., Ltd.); Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS -101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHC X-9 (K-3), PHC2213, DP -10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (manufactured by Daicel UCB Corporation); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120 RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (manufactured by Sanyo Chemical Industries); SP -1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan KK), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), etc. Can be selected as appropriate.

また、具体的化合物例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。   Examples of specific compounds include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and the like. .

こうして得た硬化樹脂層には耐擦傷性、滑り性や屈折率を調整するために無機化合物または有機化合物の微粒子を含んでもよい。   The cured resin layer thus obtained may contain fine particles of an inorganic compound or an organic compound in order to adjust the scratch resistance, slipperiness and refractive index.

ハードコート層は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.001〜0.1μmのハードコート層であることが好ましい。   The hard coat layer is preferably a hard coat layer having a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 0.001 to 0.1 μm.

これらのハードコート層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することができる。塗布後、加熱乾燥し、UV硬化処理を行う。   These hard coat layers can be coated by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an ink jet method. After application, it is heat-dried and UV-cured.

紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常5〜500mJ/cm2、好ましくは5〜150mJ/cm2であるが、特に好ましくは20〜100mJ/cm2である。 As a light source for curing an ultraviolet curable resin by a photocuring reaction to form a cured film layer, any light source that generates ultraviolet rays can be used without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 5 to 500 mJ / cm 2 , preferably 5 to 150 mJ / cm 2 , and particularly preferably 20 to 100 mJ / cm 2 .

ハードコート層は塗布乾燥後に、紫外線を照射するのがよく、必要な活性線の照射量を得るための照射時間としては、0.1秒〜1分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から0.1〜10秒がより好ましい。   The hard coat layer is preferably irradiated with ultraviolet rays after coating and drying, and the irradiation time for obtaining the necessary amount of active ray irradiation is preferably about 0.1 second to 1 minute, and the curing efficiency of the ultraviolet curable resin Or from the viewpoint of work efficiency, 0.1 to 10 seconds is more preferable.

また、これら活性線照射部の照度は50〜150mW/m2であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the illuminance of these active ray irradiation parts is 50-150 mW / m < 2 >.

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、さらに好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜300N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または2軸方向に張力を付与してもよい。これによってさらに平面性に優れたフィルムを得ることができる。   Moreover, when irradiating actinic radiation, it is preferable to carry out while applying tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performing applying tension | tensile_strength also in the width direction. The tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m. The method for applying tension is not particularly limited, and tension may be applied in the transport direction on the back roll, or tension may be applied in the width direction or biaxial direction by a tenter. As a result, a film having further excellent flatness can be obtained.

ハードコート層塗布液には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中でもから適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   The hard coat layer coating solution may contain a solvent, or may be appropriately contained and diluted as necessary. Examples of the organic solvent contained in the coating liquid include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), These may be appropriately selected from esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents, or may be used by mixing them. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

さらにハードコート層に後述するフッ素系またはシリコーン系界面活性剤を含有させることも好ましい。これらは下層への塗布性を高める。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   Furthermore, it is also preferable that the hard coat layer contains a fluorine-based or silicone-based surfactant described later. These improve the applicability to the lower layer. These components are preferably added in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.

シリコン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。   As the silicon-based surfactant, a nonionic surfactant having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene is preferable.

非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系界面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン)等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン鎖)が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。   A nonionic surfactant is a generic term for system surfactants that do not have a group capable of dissociating into ions in an aqueous solution. In addition to a hydrophobic group, a hydrophilic group includes a hydroxyl group of a polyhydric alcohol, a polyoxyalkylene chain ( Polyoxyethylene) or the like as a hydrophilic group. The hydrophilicity becomes stronger as the number of alcoholic hydroxyl groups increases and as the polyoxyalkylene chain (polyoxyethylene chain) becomes longer. The nonionic surfactant according to the present invention is characterized by having dimethylpolysiloxane as a hydrophobic group.

疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、紫外線硬化樹脂層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。   When a nonionic surfactant composed of a dimethylpolysiloxane having a hydrophobic group and a polyoxyalkylene having a hydrophilic group is used, the unevenness of the ultraviolet curable resin layer and the low refractive index layer and the antifouling property of the film surface are improved. It is thought that the hydrophobic group made of polymethylsiloxane is oriented on the surface and forms a film surface that is not easily soiled. This effect cannot be obtained by using other surfactants.

これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191等が挙げられる。   Specific examples of these nonionic surfactants include, for example, Nippon Unicar Co., Ltd., silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ- 2163, FZ-2164, FZ-2166, FZ-2191 and the like.

また、SUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805等が挙げられる。   Moreover, SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, etc. are mentioned.

また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を1つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することが出来るためと考えられる。   In addition, as a preferable structure of the nonionic surfactant in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene, a dimethylpolysiloxane structure portion and a polyoxyalkylene chain are alternately and repeatedly bonded. It is preferably a linear block copolymer. Since the main chain skeleton has a long chain length and a linear structure, it is excellent. This is considered to be due to the fact that one activator molecule can be adsorbed on the surface of the silica fine particle so as to cover the surface of the silica fine particle at a plurality of locations by being a block copolymer in which hydrophilic groups and hydrophobic groups are alternately repeated.

これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208等が挙げられる。   Specific examples thereof include, for example, silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208 and the like manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.

フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつ界面活性剤を用いることが出来る。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、N−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3−(フルオロアルキルオキシ)−1−アルキルスルホン酸ナトリウム、3−(ω−フルオロアルカノイル−N−エチルアミノ)−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、N−(3−パーフルオロオクタンスルホンアミド)プロピル−N,N−ジメチル−N−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、N−プロピル−N−(2−ヒドロキシエチル)パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−N−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス(N−パーフルオロオクチルスルホニル−N−エチルアミノエチル)等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。   As the fluorine-based surfactant, a surfactant having a hydrophobic group having a perfluorocarbon chain can be used. As types, fluoroalkylcarboxylic acid, N-perfluorooctanesulfonyl glutamate disodium, sodium 3- (fluoroalkyloxy) -1-alkylsulfonate, 3- (ω-fluoroalkanoyl-N-ethylamino) -1- Sodium propanesulfonate, N- (3-perfluorooctanesulfonamido) propyl-N, N-dimethyl-N-carboxymethyleneammonium betaine, perfluoroalkylcarboxylic acid, perfluorooctanesulfonic acid diethanolamide, perfluoroalkylsulfonic acid Salt, N-propyl-N- (2-hydroxyethyl) perfluorooctanesulfonamide, perfluoroalkylsulfonamidopropyltrimethylammonium salt, perfluoroalkyl-N-ethyl Ruhonirugurishin salts, phosphoric acid bis (N- perfluorooctylsulfonyl -N- ethylamino ethyl) and the like. In the present invention, nonionic surfactants are preferred.

これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フローラード、ゾニール等の商品名で市販されている。   These fluorosurfactants are commercially available under the trade names such as Megafac, F-Top, Surflon, Footagen, Unidyne, Florard, Zonyl and the like.

好ましい添加量は紫外線硬化樹脂層の塗布液に含まれる固形分当たり0.01〜3.0%であり、より好ましくは0.02〜1.0%である。   A preferable addition amount is 0.01 to 3.0%, more preferably 0.02 to 1.0%, based on the solid content contained in the coating solution of the ultraviolet curable resin layer.

しかしながら、他の界面活性剤も併用して用いてもよく、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。   However, other surfactants may be used in combination, and as appropriate, for example, anionic surfactants such as sulfonates, sulfates, and phosphates, and polyoxyethylene chain hydrophilic groups A nonionic surfactant such as an ether type or an ether ester type may be used in combination.

また、ハードコート層は、2層以上の重層構造を有し、その中の1層は例えば導電性微粒子、または、イオン性ポリマーを含有する所謂帯電防止層としてもよいし、また、種々の表示素子に対する色補正用フィルタとして色調調整機能を有する色調調整剤を含有させてもよいし、また電磁波遮断剤または赤外線吸収剤等を含有させそれぞれの機能を有するようにすることは好ましい。   The hard coat layer has a multilayer structure of two or more layers, and one of the layers may be a so-called antistatic layer containing, for example, conductive fine particles or an ionic polymer. As a color correction filter for the element, a color tone adjusting agent having a color tone adjusting function may be contained, and it is preferable to contain an electromagnetic wave blocking agent or an infrared absorber so as to have each function.

《支持体》
本発明に用いられる支持体は透明フィルムであることが好ましく、更に製造が容易であること、活性エネルギー線硬化型樹脂層との接着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。
<Support>
The support used in the present invention is preferably a transparent film, more easily manufactured, good adhesion to the active energy ray-curable resin layer, optically isotropic, optical It is mentioned as preferable requirements that it is transparent in particular.

本発明でいう透明とは、可視光の透過率60%以上であることをさし、好ましくは80%以上であり、特に好ましくは90%以上である。   The term “transparent” as used in the present invention means that the visible light transmittance is 60% or more, preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more.

上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム,ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることが出来る。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。   Although it will not specifically limit if it has said property, For example, cellulose ester-type films, such as a cellulose diacetate film, a cellulose triacetate film, a cellulose acetate propionate film, a cellulose acetate butyrate film, a polyester-type film, a polycarbonate Film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyester film such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol Film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, nor Runen resin film, a polymethylpentene film, a polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, may be mentioned acrylic film or a glass plate or the like. Among these, a polycarbonate film, a polyester film, a norbornene resin film, and a cellulose ester film are preferable.

本発明で好ましく用いられるポリカーボネート系フィルムを構成するポリカーボネートは、種々のものを用いることが出来るが、化学的性質及び物性の点から芳香族ポリカーボネートが好ましく、特にビスフェノールA系が好ましい。更に好ましくはビスフェノールAにベンゼン環、シクロヘキサン環、脂肪族炭化水素基などを導入したビスフェノールA誘導体中でも中央炭素に対して非対称に導入された誘導体を用いて得られた単位分子内の異方性を減少させた構造のポリカーボネートが好ましい。例えば、ビスフェノールAの中央炭素の2個のメチル基をベンゼン環に置換したもの、ビスフェノールAのそれぞれのベンゼン環の一つの水素をメチル基、フェニル基などで中央炭素に対し非対称に置換したものを用いて得られるポリカーボネートが挙げられる。   Various polycarbonates can be used as the polycarbonate constituting the polycarbonate film preferably used in the present invention, but aromatic polycarbonate is preferable from the viewpoint of chemical properties and physical properties, and bisphenol A is particularly preferable. More preferably, bisphenol A derivatives obtained by introducing a benzene ring, cyclohexane ring, aliphatic hydrocarbon group, etc. into bisphenol A have anisotropy in the unit molecule obtained using a derivative introduced asymmetrically with respect to the central carbon. Polycarbonate with reduced structure is preferred. For example, two methyl groups in the central carbon of bisphenol A are substituted with benzene rings, and one hydrogen in each benzene ring of bisphenol A is asymmetrically substituted with respect to the central carbon with methyl groups, phenyl groups, etc. The polycarbonate obtained by using is mentioned.

具体的には4,4′−ジヒドロキシジフェニルアルカン又はこれらのハロゲン置換体からホスゲン法又はエステル交換法によって得られるものであり、例えば4,4′−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルエタン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルブタン等を挙げることが出来る。   Specifically, 4,4′-dihydroxydiphenylalkane or a halogen-substituted product thereof is obtained by a phosgene method or a transesterification method. For example, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4′-dihydroxydiphenylethane, Examples include 4,4'-dihydroxydiphenylbutane.

本発明において使用するポリカーボネート系フィルムの作製方法は特に限定されるものではない。即ち押出し法、溶媒キャスト法及びカレンダー法等いずれによってもよい。本発明においては1軸延伸フィルム或いは2軸延伸フィルムを使用してもよいが、表面精度が優れるという点では溶媒キャスト法で作製したフィルムが、光学的等方性、異方性が小さいという点では押出し法で作製したフィルムが更に好ましい。   The production method of the polycarbonate film used in the present invention is not particularly limited. That is, any of an extrusion method, a solvent casting method, a calendar method, and the like may be used. In the present invention, a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film may be used, but in terms of excellent surface accuracy, a film produced by a solvent cast method has a small optical isotropy and anisotropy. Then, the film produced by the extrusion method is more preferable.

本発明において使用されるポリカーボネートはガラス転移点(Tg)が110℃以上であって、吸水率(23℃水中、24時間の条件で測定した値)が0.3%以下のものを使用するのが良い。より好ましくはTgが120℃以上であって、吸水率が0.2%以下のものが良い。   The polycarbonate used in the present invention has a glass transition point (Tg) of 110 ° C. or higher and a water absorption (measured under conditions of 23 ° C. water and 24 hours) of 0.3% or less. Is good. More preferably, Tg is 120 ° C. or higher and water absorption is 0.2% or less.

本発明に好ましく用いることの出来るポリエステル系フィルムを構成するポリエステルとしては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルである。   Although it does not specifically limit as polyester which comprises the polyester-type film which can be preferably used for this invention, It is polyester which has the film formation property which has a dicarboxylic acid component and a diol component as main structural components.

主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることが出来る。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることが出来る。   The main constituent dicarboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, Examples include cyclohexanedicarboxylic acid, diphenyldicarboxylic acid, diphenylthioether dicarboxylic acid, diphenylketone dicarboxylic acid, and phenylindanedicarboxylic acid. Examples of the diol component include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis ( 4-hydroxyphenyl) sulfone, bisphenol full orange hydroxyethyl ether, diethylene glycol, neopentyl glycol, hydroquinone, cyclohexanediol and the like.

これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸及び/または2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコール及び/または1,4−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−2,6−ナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、及びこれらのポリエステルの二種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。   Among the polyesters having these as main constituents, terephthalic acid and / or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as a dicarboxylic acid component and ethylene glycol as a diol component from the viewpoint of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc. And / or a polyester mainly composed of 1,4-cyclohexanedimethanol is preferred. Among them, a polyester mainly composed of polyethylene terephthalate or polyethylene-2,6-naphthalate, a copolymer polyester composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and two or more kinds of these polyesters A polyester having a mixture as a main constituent is preferred.

本発明に用いられるポリエステル系フィルムを構成するポリエステルは、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、さらに他の共重合成分が共重合されていても良いし、他のポリエステルが混合されていても良い。これらの例としては、先に挙げたジカルボン酸成分やジオール成分、またはそれらから成るポリエステルを挙げることが出来る。   As long as the polyester constituting the polyester film used in the present invention is within a range that does not impair the effects of the present invention, other copolymer components may be copolymerized or other polyesters may be mixed. Also good. Examples of these include the dicarboxylic acid components and diol components mentioned above, or polyesters composed thereof.

またフィルムの耐熱性を向上する目的では、ビスフェノール系化合物、ナフタレン環またはシクロヘキサン環を有する化合物を共重合することが出来る。これらの共重合割合としては、ポリエステルを構成する二官能性ジカルボン酸を基準として、1〜20モル%が好ましい。   For the purpose of improving the heat resistance of the film, a bisphenol compound, a compound having a naphthalene ring or a cyclohexane ring can be copolymerized. The copolymerization ratio is preferably 1 to 20 mol% based on the bifunctional dicarboxylic acid constituting the polyester.

また本発明で好ましく用いられるノルボルネン系樹脂フィルムとは、ノルボルネン構造を有する非晶性ポリオレフィンフィルムで、例えば三井石油化学(株)製のAPOや日本ゼオン(株)製のゼオネックス、JSR(株)製のARTON等がある。   The norbornene-based resin film preferably used in the present invention is an amorphous polyolefin film having a norbornene structure, such as APO manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd., ZEONEX manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., manufactured by JSR Co., Ltd. ARTON etc.

本発明においては、中でも特にセルロースエステル系フィルムを用いることが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。市販のセルロースエステルフィルムとしては、例えば、コニカミノルタタック、製品名KC8UX2MW、KC4UX2MW、KC8UY、KC4UY、KC5UN、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UCR−5(コニカミノルタオプト(株)製)が、製造上、コスト面、透明性、接着性等の観点から好ましく用いられる。これらのフィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。   In the present invention, it is particularly preferable to use a cellulose ester film. As the cellulose ester, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate are preferable. Among them, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose acetate propionate are preferably used. As a commercially available cellulose ester film, for example, Konica Minoltac, product names KC8UX2MW, KC4UX2MW, KC8UY, KC4UY, KC5UN, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5 (manufactured by Konica Minolta Opto, Inc.) From the viewpoint of production, cost, transparency, adhesiveness and the like are preferably used. These films may be films produced by melt casting film formation or films produced by solution casting film formation.

以下、本発明に特に好ましく用いられるセルロースエステルフィルムについて更に詳細に説明する。   Hereinafter, the cellulose ester film particularly preferably used in the present invention will be described in more detail.

(セルロースエステルフィルム)
本発明に用いられるセルロースエステルは、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、特開平10−45804号、同08−231761号、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独或いは混合して用いることが出来る。
(Cellulose ester film)
The cellulose ester used in the present invention is preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. For example, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate and the like, and JP-A Nos. 10-45804 and 08-231761 Further, mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate as described in US Pat. No. 2,319,052 can be used. Among the above descriptions, the lower fatty acid esters of cellulose particularly preferably used are cellulose triacetate and cellulose acetate propionate. These cellulose esters can be used alone or in combination.

セルロースエステルの分子量が小さ過ぎると引裂強度が低下するが、分子量が大き過ぎるとセルロースエステルの溶解液の粘度が高くなり過ぎるため生産性が低下する。セルロースエステルの分子量は数平均分子量(Mn)で70000〜200000のものが好ましく、100000〜200000のものが更に好ましい。   If the molecular weight of the cellulose ester is too small, the tear strength decreases. However, if the molecular weight is too large, the viscosity of the cellulose ester solution becomes too high, and the productivity decreases. The molecular weight of the cellulose ester is preferably 70000-200000 in terms of number average molecular weight (Mn), more preferably 100,000-200000.

セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度(結合酢酸量)54.0〜62.5%のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が58.0〜62.5%のセルローストリアセテートである。平均酢化度が小さいと寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと溶剤に対する溶解度が低下し生産性が下がる。   In the case of cellulose triacetate, those having an average degree of acetylation (bound acetic acid amount) of 54.0 to 62.5% are preferably used, and more preferably an average degree of acetylation of 58.0 to 62.5%. Cellulose triacetate. When the average degree of acetylation is small, the dimensional change is large, and the polarization degree of the polarizing plate is lowered. When the average degree of acetylation is large, the solubility in a solvent is lowered and the productivity is lowered.

セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。   Preferred cellulose esters other than cellulose triacetate have an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, and when the substitution degree of acetyl group is X and the substitution degree of propionyl group or butyryl group is Y, the following formula ( It is a cellulose ester containing the cellulose ester which satisfy | fills I) and (II) simultaneously.

式(I) 2.6≦X+Y≦3.0
式(II) 0≦X≦2.5
この内特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているのものである。これらは公知の方法で合成することが出来る。
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Of these, cellulose acetate propionate is preferably used, and it is particularly preferable that 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9. The portion that is not substituted with an acyl group is usually present as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロ−スエステルを単独或いは混合して用いることが出来る。特に綿花リンター(以下、単にリンタ−とすることがある)から合成されたセルロ−スエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。   As the cellulose ester, cellulose ester synthesized using cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to use a cellulose ester synthesized from cotton linter (hereinafter sometimes simply referred to as a linter) alone or in combination.

本発明にセルロースエステルフィルムを用いる場合、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることが出来る。   When a cellulose ester film is used in the present invention, the following plasticizer is preferably contained. Examples of plasticizers include phosphate ester plasticizers, phthalate ester plasticizers, trimellitic acid ester plasticizers, pyromellitic acid plasticizers, glycolate plasticizers, citrate ester plasticizers, and polyesters. A plasticizer, a polyhydric alcohol ester plasticizer, and the like can be preferably used.

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキシル)シトレート等を好ましく用いることが出来る。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。   For phosphate plasticizers, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenylbiphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, etc. For phthalate ester plasticizers, diethyl phthalate, dimethoxy For trimellitic acid plasticizers such as ethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diphenyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, tributyl trimellitate, triphenyl trimellitate, triethyl For pyromellitic acid ester plasticizers such as trimellitate, tetrabutylpyromellitate, In the case of glycolate plasticizers such as lupyromelitate and tetraethylpyromellitate, triacetin, tributyrin, ethylphthalylethyl glycolate, methylphthalylethylglycolate, butylphthalylbutylglycolate, etc. Citrate, tri-n-butyl citrate, acetyl triethyl citrate, acetyl tri-n-butyl citrate, acetyl tri-n- (2-ethylhexyl) citrate and the like can be preferably used. Examples of other carboxylic acid esters include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters.

ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることが出来る。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることが出来る。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,2−ブチレングリコール等を用いることが出来る。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。   As the polyester plasticizer, a copolymer of a dibasic acid such as an aliphatic dibasic acid, an alicyclic dibasic acid, or an aromatic dibasic acid and a glycol can be used. The aliphatic dibasic acid is not particularly limited, and adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexyl dicarboxylic acid and the like can be used. As the glycol, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,2-butylene glycol and the like can be used. These dibasic acids and glycols may be used alone or in combination of two or more.

多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトール、であることが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数1〜32の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数1〜20であることが更に好ましく、炭素数1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることが出来る。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を2個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に安息香酸であることが好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量300〜1500の範囲であることが好ましく、350〜750の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The polyhydric alcohol ester plasticizer comprises an ester of a divalent or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid. Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, 2-n-butyl-2-ethyl- Examples include 1,3-propanediol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, xylitol, and the like. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable. There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid used for polyhydric alcohol ester, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention. Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto. As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. It is more preferable that it is C1-C20, and it is especially preferable that it is C1-C10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid. Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanecarboxylic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, and laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid. Examples of preferable alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and derivatives thereof. Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenyl carboxylic acid, naphthalene carboxylic acid, and tetralin carboxylic acid. Aromatic monocarboxylic acids possessed by them, or their derivatives. Particularly preferred is benzoic acid. The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably in the range of 300 to 1500, and more preferably in the range of 350 to 750. The larger one is preferable in terms of improvement in retention, and the smaller one is preferable in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でも良いし、二種以上の混合であっても良い。また、多価アルコール中のOH基はカルボン酸で全てエステル化しても良いし、一部をOH基のままで残しても良い。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Further, all of the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified with carboxylic acid, or a part of the OH groups may be left as they are.

これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。   These plasticizers are preferably used alone or in combination.

これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して1〜20質量%が好ましく、特に好ましくは、3〜13質量%である。   The amount of these plasticizers used is preferably from 1 to 20% by weight, particularly preferably from 3 to 13% by weight, based on the cellulose ester, in terms of film performance, processability and the like.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムには、紫外線吸収剤を添加することが好ましい。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。   It is preferable to add an ultraviolet absorber to the cellulose ester film used in the present invention. As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.

本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of ultraviolet absorbers preferably used in the present invention include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, and the like. For example, but not limited to.

以下に本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of the ultraviolet absorber used for this invention is given to the following, this invention is not limited to these.

UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171、チバスペシャルティケミカルズ製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109、チバスペシャルティケミカルズ製)
UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明で好ましく用いられる上記の紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6 (Linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN171, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- Mixture of 4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (TINUVIN109, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
As the ultraviolet absorber preferably used in the present invention, a benzotriazole-based ultraviolet absorber and a benzophenone-based ultraviolet absorber, which are highly transparent and excellent in preventing the deterioration of the polarizing plate and the liquid crystal, are preferable, and unnecessary coloring occurs. Less benzotriazole-based UV absorbers are particularly preferably used.

また、特願平11−295209号に記載されている分配係数が9.2以上の紫外線吸収剤は、基材フィルムに用いた時、フィルムの面品質に優れ、塗布性にも優れ好ましい。特に分配係数が10.1以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。   Moreover, the ultraviolet absorber with the distribution coefficient described in Japanese Patent Application No. 11-295209 having a distribution coefficient of 9.2 or more is excellent in the surface quality of the film and in the coating property when used for the base film. In particular, it is preferable to use an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 10.1 or more.

また、特開平6−148430号の一般式(1)または一般式(2)、特願2000−156039の一般式(3)、(6)、(7)記載の高分子紫外線吸収剤(または紫外線吸収性ポリマー)も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、PUVA−30M(大塚化学(株)製)等が市販されている。   Further, the polymer ultraviolet absorber (or ultraviolet ray) described in the general formula (1) or general formula (2) of JP-A-6-148430 and the general formulas (3), (6), and (7) of Japanese Patent Application No. 2000-156039. Absorbable polymers) are also preferably used. As a polymer ultraviolet absorber, PUVA-30M (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) and the like are commercially available.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは微粒子を含有しているのが好ましく、微粒子としては、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さく出来るので好ましい。微粒子の2次粒子の平均粒径は0.01〜1.0μmの範囲で、その含有量はセルロースエステルに対して0.005〜0.3質量%が好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子には有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下出来るため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類(特にメチル基を有するアルコキシシラン類)、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方がマット効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜50nmで、より好ましくは7〜16nmである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、通常、凝集体として存在しセルロースエステルフィルム表面に0.01〜1.0μmの凹凸を生成させることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としてはアエロジル社製のAEROSIL(アエロジル)200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812、OX50、TT600等を挙げることが出来、好ましくはAEROSIL(アエロジル)200V、R972、R972V、R974、R202、R812である。これらの微粒子は2種以上併用してもよい。2種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することが出来る。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えばAEROSIL(アエロジル)200VとR972Vを質量比で0.1:99.9〜99.9〜0.1の範囲で使用出来る。本発明において、微粒子はドープ調製時、セルロースエステル、他の添加剤及び有機溶媒とともに含有させて分散してもよいが、セルロースエステル溶液とは、別に微粒子分散液のような十分に分散させた状態でドープを調製するのが好ましい。微粒子を分散させるために、前もって有機溶媒にひたしてから高剪断力を有する分散機(高圧分散装置)で細分散させておくのが好ましい。その後により多量の有機溶媒に分散して、セルロースエステル溶液と合流させ、インラインミキサーで混合してドープとすることが好ましい。この場合、微粒子分散液に紫外線吸収剤を加え紫外線吸収剤液としてもよい。   The cellulose ester film used in the present invention preferably contains fine particles. Examples of the fine particles include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, and hydration. It is preferable to contain inorganic fine particles such as calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, and crosslinked polymer fine particles. Of these, silicon dioxide is preferable because it can reduce the haze of the film. The average particle size of the secondary particles of the fine particles is in the range of 0.01 to 1.0 μm, and the content is preferably 0.005 to 0.3% by mass with respect to the cellulose ester. In many cases, fine particles such as silicon dioxide are surface-treated with an organic material, but such a material is preferable because it can reduce the haze of the film. Preferred organic substances for the surface treatment include halosilanes, alkoxysilanes (particularly alkoxysilanes having a methyl group), silazane, siloxane and the like. The larger the average particle size of the fine particles, the greater the mat effect, and on the contrary, the smaller the average particle size, the better the transparency. Therefore, the average particle size of the preferred primary particles is 5 to 50 nm, more preferably 7 to 16 nm. It is. These fine particles are usually present as aggregates in the cellulose ester film, and it is preferable to form irregularities of 0.01 to 1.0 μm on the surface of the cellulose ester film. Examples of the fine particles of silicon dioxide include Aerosil 200, 200V, 300, R972, R972V, R974, R202, R812, OX50, TT600, etc. manufactured by Aerosil, preferably AEROSIL (Aerosil) 200V, R972, R972V, R974, R202, and R812. Two or more kinds of these fine particles may be used in combination. When using 2 or more types together, it can mix and use in arbitrary ratios. In this case, fine particles having different average particle sizes and materials, for example, AEROSIL (Aerosil) 200V and R972V can be used in a mass ratio of 0.1: 99.9 to 99.9 to 0.1. In the present invention, the fine particles may be dispersed together with cellulose ester, other additives, and an organic solvent at the time of preparing the dope, but in a sufficiently dispersed state like a fine particle dispersion separately from the cellulose ester solution. It is preferable to prepare the dope. In order to disperse the fine particles, it is preferably preliminarily dispersed in an organic solvent and then finely dispersed by a disperser (high pressure disperser) having a high shearing force. After that, it is preferable to disperse in a larger amount of organic solvent, merge with the cellulose ester solution, and mix with an in-line mixer to obtain a dope. In this case, an ultraviolet absorbent may be added to the fine particle dispersion to form an ultraviolet absorbent liquid.

上記の劣化防止剤、紫外線吸収剤及び/または微粒子は、セルロースエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。   The deterioration inhibitor, the ultraviolet absorber and / or the fine particles may be added together with the cellulose ester and the solvent during the preparation of the cellulose ester solution, or may be added during or after the solution preparation.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムのドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることが出来る。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。特に酢酸メチルが好ましい。   The organic solvent useful for forming the dope of the cellulose ester film used in the present invention can be used without limitation as long as it dissolves cellulose ester and other additives simultaneously. For example, as a chlorinated organic solvent, methylene chloride, as a non-chlorinated organic solvent, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro- Examples include 2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, and nitroethane. Methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate and acetone can be preferably used. Particularly preferred is methyl acetate.

次に、本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the cellulose ester film used for this invention is demonstrated.

セルロースエステルフィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻きとる工程により行われる。   Cellulose ester film is produced by dissolving cellulose ester and additives in a solvent to prepare a dope, casting a dope onto an endless metal support that moves indefinitely, drying the cast dope as a web It is performed by the process of carrying out, the process of peeling from a metal support body, the process of extending | stretching or maintaining width, the process of drying further, and the process of winding up the finished film.

ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減出来て好ましいが、セルロースエステルの濃度が濃すぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、更に好ましくは、15〜25質量%である。   The concentration of cellulose ester in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced. However, if the concentration of cellulose ester is too high, the load during filtration increases and the filtration accuracy is poor. Become. As a density | concentration which makes these compatible, 10-35 mass% is preferable, More preferably, it is 15-25 mass%.

ドープで用いられる溶剤は、単独でも併用でもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70〜98質量%であり、貧溶剤が2〜30質量%である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルの平均酢化度(アセチル基置換度)によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いるときには、セルロースエステルの酢酸エステル(アセチル基置換度2.4)、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル(アセチル基置換度2.8)では貧溶剤となる。   The solvent used in the dope may be used alone or in combination, but it is preferable in terms of production efficiency to use a good solvent and a poor solvent of cellulose ester, and the more good solvent is, the more soluble the cellulose ester is. Is preferable. The preferable range of the mixing ratio of the good solvent and the poor solvent is 70 to 98% by mass for the good solvent and 2 to 30% by mass for the poor solvent. With a good solvent and a poor solvent, what dissolve | melts the cellulose ester to be used independently is defined as a good solvent, and what poorly swells or does not melt | dissolve is defined as a poor solvent. Therefore, depending on the average acetylation degree (acetyl group substitution degree) of the cellulose ester, the good solvent and the poor solvent change. For example, when acetone is used as the solvent, the cellulose ester acetate ester (acetyl group substitution degree 2.4), cellulose Acetate propionate is a good solvent, and cellulose acetate (acetyl group substitution degree 2.8) is a poor solvent.

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライド又は酢酸メチルがあげられる。   Although the good solvent used for this invention is not specifically limited, Organic halogen compounds, such as a methylene chloride, dioxolanes, acetone, methyl acetate, methyl acetoacetate, etc. are mentioned. Particularly preferred is methylene chloride or methyl acetate.

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が0.01〜2質量%含有していることが好ましい。   Moreover, although the poor solvent used for this invention is not specifically limited, For example, methanol, ethanol, n-butanol, cyclohexane, cyclohexanone, etc. are used preferably. Moreover, it is preferable that 0.01-2 mass% of water contains in dope.

上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることが出来る。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱出来る。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤あるいは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。   A general method can be used as a method of dissolving the cellulose ester when preparing the dope described above. When heating and pressurization are combined, it is possible to heat above the boiling point at normal pressure. It is preferable to stir and dissolve while heating at a temperature that is equal to or higher than the boiling point of the solvent at normal pressure and that the solvent does not boil under pressure, in order to prevent the generation of massive undissolved materials called gels and mamacos. A method in which a cellulose ester is mixed with a poor solvent and wetted or swollen, and then a good solvent is further added and dissolved is also preferably used.

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。   The pressurization may be performed by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or a method of increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.

溶剤を添加しての加熱温度は高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高すぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45〜120℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。   A higher heating temperature with the addition of a solvent is preferable from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester, but if the heating temperature is too high, the required pressure increases and the productivity deteriorates. A preferable heating temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 60 to 110 ° C, and still more preferably 70 ° C to 105 ° C. The pressure is adjusted so that the solvent does not boil at the set temperature.

もしくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。   Alternatively, a cooling dissolution method is also preferably used, whereby the cellulose ester can be dissolved in a solvent such as methyl acetate.

次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001〜0.008mmの濾材がより好ましく、0.003〜0.006mmの濾材が更に好ましい。   Next, this cellulose ester solution is filtered using a suitable filter medium such as filter paper. As the filter medium, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters and the like. However, if the absolute filtration accuracy is too small, there is a problem that the filter medium is likely to be clogged. For this reason, a filter medium with an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less is preferable, a filter medium with 0.001 to 0.008 mm is more preferable, and a filter medium with 0.003 to 0.006 mm is still more preferable.

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン(登録商標)等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。   There are no particular restrictions on the material of the filter medium, and ordinary filter media can be used. However, plastic filter media such as polypropylene and Teflon (registered trademark), and metal filter media such as stainless steel do not drop off fibers. preferable. It is preferable to remove and reduce impurities, particularly bright spot foreign matter, contained in the raw material cellulose ester by filtration.

輝点異物とは、2枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースエステルフィルムをおき、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察したときに反対側からの光が漏れて見える点(異物)のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下である事が好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、更に好ましくは50個/m2以下であり、更に好ましくは0〜10個/cm2以下である。又、0.01mm以下の輝点も少ないほうが好ましい。 Bright spot foreign matter is when two polarizing plates are placed in a crossed Nicol state, a cellulose ester film is placed between them, light is applied from the side of one polarizing plate, and observed from the side of the other polarizing plate The number of bright spots with a diameter of 0.01 mm or more is preferably 200 / cm 2 or less. More preferably 100 / cm 2 or less, more preferably 50 or / m 2 or less, more preferably 0 to 10 / cm 2 or less. Further, it is preferable that the number of bright spots of 0.01 mm or less is small.

ドープの濾過は通常の方法で行うことが出来るが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差(差圧という)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃であることが更に好ましい。   The dope can be filtered by an ordinary method, but the method of filtering while heating at a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal pressure and in a range where the solvent does not boil under pressure is the filtration pressure before and after filtration. The increase in the difference (referred to as differential pressure) is small and preferable. A preferred temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and still more preferably 45 to 55 ° C.

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることが更に好ましい。   A smaller filtration pressure is preferred. The filtration pressure is preferably 1.6 MPa or less, more preferably 1.2 MPa or less, and further preferably 1.0 MPa or less.

ここで、ドープの流延について説明する。   Here, the dope casting will be described.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方がウェブの乾燥速度が速く出来るので好ましいが、あまり高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度は0〜40℃であり、5〜30℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。   The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting process is −50 ° C. to a temperature lower than the boiling point of the solvent, and a higher temperature is preferable because the web drying speed can be increased. May deteriorate. A preferable support body temperature is 0-40 degreeC, and 5-30 degreeC is still more preferable. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When warm air is used, wind at a temperature higher than the target temperature may be used.

セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、更に好ましくは20〜40質量%または60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%または70〜120質量%である。   In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%.

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。   In the present invention, the amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
なお、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
Note that M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%以下である。   Further, in the drying step of the cellulose ester film, the web is peeled off from the metal support, and further dried, and the residual solvent amount is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, Especially preferably, it is 0-0.01 mass% or less.

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a tenter method is used while drying the web.

セルロースエステルフィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し、さらにウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが特に好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は1.05〜1.3倍であり、1.05〜1.15倍が更に好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が1.12倍〜1.44倍となっていることが好ましく、1.15倍〜1.32倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることが出来る。縦方向と横方向の延伸倍率のいずれかが1.05倍未満ではハードコート層を形成する際の紫外線照射による平面性の劣化が大きく、又、延伸倍率が1.3倍を超えても平面性が劣化し、ヘイズも増加する。   In order to produce a cellulose ester film, the web is stretched in the transport direction where the amount of residual solvent of the web immediately after peeling from the metal support is large, and further stretched in the width direction by a tenter method that grips both ends of the web with clips or the like. It is particularly preferred to do this. The preferred draw ratio in both the machine direction and the transverse direction is 1.05 to 1.3 times, and more preferably 1.05 to 1.15 times. It is preferable that the area is 1.12 times to 1.44 times, and preferably 1.15 times to 1.32 times due to longitudinal and lateral stretching. This can be determined by the draw ratio in the longitudinal direction × the draw ratio in the transverse direction. When either the machine direction or the transverse direction draw ratio is less than 1.05 times, the flatness is greatly deteriorated by ultraviolet irradiation when forming the hard coat layer, and even when the draw ratio exceeds 1.3 times Deteriorates and haze increases.

剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力を210N/m以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは220〜300N/mである。   In order to stretch in the longitudinal direction immediately after peeling, peeling is preferably performed at a peeling tension of 210 N / m or more, particularly preferably 220 to 300 N / m.

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことが出来るが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web is not particularly limited, and can be generally performed with hot air, infrared rays, a heating roll, microwave, or the like, but it is preferably performed with hot air in terms of simplicity.

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は40〜150℃で段階的に高くしていくことが好ましく、50〜140℃の範囲で行うことが寸法安定性を良くするため更に好ましい。   The drying temperature in the web drying step is preferably increased stepwise from 40 to 150 ° C, more preferably from 50 to 140 ° C in order to improve dimensional stability.

セルロースエステルフィルムの膜厚は、特に限定はされないが10〜200μmが好ましく用いられる。より好ましくは10〜70μmであり、さらに好ましくは20〜60μmである。最も好ましくは35〜60μmである。   Although the film thickness of a cellulose-ester film is not specifically limited, 10-200 micrometers is used preferably. More preferably, it is 10-70 micrometers, More preferably, it is 20-60 micrometers. Most preferably, it is 35-60 micrometers.

セルロースエステルフィルムは、幅1〜4mのものが好ましく用いられる。特に幅1.4〜4mのものが好ましく用いられ、特に好ましくは1.4〜2mである。4mを超えると搬送が困難となる。   A cellulose ester film having a width of 1 to 4 m is preferably used. In particular, those having a width of 1.4 to 4 m are preferably used, and particularly preferably 1.4 to 2 m. If it exceeds 4 m, conveyance becomes difficult.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは、光透過率が90%以上、より好ましくは93%以上の透明フィルムであることが好ましい。   The cellulose ester film used in the present invention is preferably a transparent film having a light transmittance of 90% or more, more preferably 93% or more.

本発明に係るセルロースエステルフィルムは、その厚さが10〜100μmのものが好ましく、透湿性は、25℃、90±2%RHにおいて、200g/m2・24時間以下であることが好ましく、更に好ましくは、10〜180g/m2・24時間以下であり、特に好ましくは、160g/m2・24時間以下である。特には、膜厚10〜60μmで透湿性が上記範囲内であることが好ましい。ここで、フィルムの透湿性は、JIS Z 0208に記載の方法に従い測定する。 The cellulose ester film according to the present invention preferably has a thickness of 10 to 100 μm, and the moisture permeability is preferably 200 g / m 2 · 24 hours or less at 25 ° C. and 90 ± 2% RH, Preferably, it is 10 to 180 g / m 2 · 24 hours or less, and particularly preferably 160 g / m 2 · 24 hours or less. In particular, it is preferable that the film thickness is 10 to 60 μm and the moisture permeability is within the above range. Here, the moisture permeability of the film is measured according to the method described in JIS Z 0208.

本発明の防眩性反射防止フィルムは、支持体上にに前記低屈折率層を設けた後、ロール状に巻き取った状態で50〜150℃、1〜30日の範囲で加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば、50℃であれば、好ましくは3日間以上30日未満の期間、150℃であれば1〜3日の範囲が好ましい。通常は、巻外部、巻中央部、巻き芯部の加熱処理効果が偏らないように、比較的低温に設定することが好ましく、50〜80℃付近で3〜7日間程度行うことが好ましい。加熱処理を安定して行うためには、温湿度が調整可能な場所で行うことが必要であり、塵のないクリーンルーム等の加熱処理室で行うことが好ましい。   The antiglare antireflection film of the present invention is subjected to heat treatment in the range of 50 to 150 ° C. for 1 to 30 days in a state of being wound in a roll after providing the low refractive index layer on a support. It is preferable. The period of the heat treatment may be appropriately determined depending on the set temperature. For example, if it is 50 ° C, it is preferably a period of 3 days or more and less than 30 days, and if it is 150 ° C, a range of 1 to 3 days is preferable. Usually, it is preferable to set it at a relatively low temperature so that the heat treatment effect on the outside of the winding, the center of the winding, and the core is not biased, and it is preferable to carry out at around 50 to 80 ° C. for about 3 to 7 days. In order to stably perform the heat treatment, it is necessary to perform in a place where the temperature and humidity can be adjusted, and it is preferable to perform in a heat treatment chamber such as a clean room without dust.

上記防眩性反射防止フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度に耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであっても良く、例えばフェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂が挙げられる。またガラス繊維などの充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。   When winding the antiglare antireflection film into a roll, the wound core may be any material as long as it is a cylindrical core, preferably a hollow plastic core, The plastic material may be any heat-resistant plastic that can withstand the heat treatment temperature, and examples thereof include resins such as phenol resin, xylene resin, melamine resin, polyester resin, and epoxy resin. A thermosetting resin reinforced with a filler such as glass fiber is preferable.

これらの巻きコアへの巻き数は、100巻き以上であることが好ましく、500巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は5cm以上であることが好ましい。   The number of windings on these winding cores is preferably 100 windings or more, more preferably 500 windings or more, and the winding thickness is preferably 5 cm or more.

(偏光板)
偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の防眩性反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UCR−5、以上コニカミノルタオプト(株)製)が好ましく用いられる。本発明の防眩性反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、30〜300nm、Rtが70〜400nmの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957、特願2002−155395記載の方法で作製することが出来る。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明の防眩性反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。
(Polarizer)
The polarizing plate can be produced by a general method. The back side of the antiglare antireflection film of the present invention is alkali saponified and bonded to at least one surface of a polarizing film produced by immersion and stretching in an iodine solution using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution. preferable. The film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. Commercially available cellulose ester films (for example, Konica Minoltac KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UY, KC4UY, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5, preferably Konica Minolta) Used. In contrast to the antiglare antireflection film of the present invention, the polarizing plate protective film used on the other surface has an in-plane retardation Ro of 590 nm, a phase difference of 30 to 300 nm, and Rt of 70 to 400 nm. Preferably it is. These can be produced, for example, by the method described in JP-A-2002-71957 and Japanese Patent Application No. 2002-155395. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. By using it in combination with the antiglare antireflection film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. On the surface of the polarizing film, one side of the optical film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

(表示装置)
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の防眩性反射防止フィルムは反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明の防眩性反射防止フィルムは平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上、特に30型〜54型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜けなどもなく、その効果が長期間維持され、MVA型液晶表示装置では顕著な効果が認められる。特に、色むら、ぎらつきや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
(Display device)
By incorporating the polarizing plate of the present invention into a display device, the display device of the present invention having various visibility can be manufactured. The anti-glare anti-reflection film of the present invention is a reflection type, transmission type, transflective LCD or TN type, STN type, OCB type, HAN type, VA type (PVA type, MVA type), IPS type, etc. It is preferably used in LCDs. Further, the antiglare antireflection film of the present invention is excellent in flatness and is preferably used for various display devices such as a plasma display, a field emission display, an organic EL display, an inorganic EL display, and electronic paper. In particular, in a large-screen display device having a screen size of 30 or more, especially 30 to 54, there is no white spot in the periphery of the screen, and the effect is maintained for a long time, and a remarkable effect is obtained in the MVA liquid crystal display device. Is recognized. In particular, there was little color unevenness, glare and wavy unevenness, and the eyes were not tired even during long viewing.

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
〔セルロースエステルフィルム1の作製〕
以下のセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子及び溶媒を用いてセルロースエステル溶液(ドープ)を調製し、溶液流延製膜法にてセルロースエステルフィルム1を作製した。
Example 1
[Production of Cellulose Ester Film 1]
A cellulose ester solution (dope) was prepared using the following cellulose ester, plasticizer, ultraviolet absorber, fine particles and solvent, and a cellulose ester film 1 was prepared by a solution casting film forming method.

セルロースエステル(セルローストリアセテート、アセチル基置換度2.9、Mn=160000、Mw/Mn=1.8) 100kg
可塑剤(トリメチロールプロパントリベンゾエート) 5kg
可塑剤(エチルフタリルエチルグリコレート) 5kg
紫外線吸収剤(チヌビン109、チバスペシャルティーケミカルズ(株)製)
1.0kg
紫外線吸収剤(チヌビン171、チバスペシャルティーケミカルズ(株)製)
1.0kg
微粒子(アエロジルR972V、日本アエロジル(株)製) 0.3kg
溶媒(酢酸メチル) 440kg
溶媒(エタノール) 110kg
上記のセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子及び溶媒を用いてセルロースエステル溶液(ドープ)を調製した。
Cellulose ester (cellulose triacetate, acetyl group substitution degree 2.9, Mn = 16000, Mw / Mn = 1.8) 100 kg
Plasticizer (trimethylolpropane tribenzoate) 5kg
Plasticizer (ethyl phthalyl ethyl glycolate) 5kg
UV absorber (Tinubin 109, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
1.0 kg
UV absorber (Tinuvin 171 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
1.0 kg
Fine particles (Aerosil R972V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.3kg
Solvent (methyl acetate) 440kg
Solvent (ethanol) 110kg
A cellulose ester solution (dope) was prepared using the above cellulose ester, plasticizer, ultraviolet absorber, fine particles and solvent.

次に、33℃に温度調整したセルロースエステル溶液を、ダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から37℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜(ステンレスベルトに流延以降はウェブという)に44℃の温風をあてて乾燥させ、剥離の残留溶媒量が120質量%で剥離し、剥離の際の張力をかけて1.1倍の縦延伸倍率となるように延伸し、次いで、残留溶媒量が35質量%から10質量%となる間にテンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に1.1倍の延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し、更に125℃に設定された第3乾燥ゾーンで20分間搬送させて、乾燥を行い、幅1.5m、膜厚80μm、長さ3000mのセルロースエステルフィルム1を作製した。   Next, the cellulose ester solution whose temperature was adjusted to 33 ° C. was fed to a die and uniformly cast from a die slit onto a stainless steel belt. The cast part of the stainless steel belt was heated from the back with hot water of 37 ° C. After casting, the dope film on the metal support (which is referred to as a web after casting on a stainless steel belt) is dried by applying hot air of 44 ° C., and the residual solvent in the peeling is peeled off at 120 mass%. The web end is gripped with a tenter while the residual solvent amount is from 35% by mass to 10% by mass in the width direction. It extended | stretched so that it might become 1.1 times the draw ratio. After stretching, the width is maintained for several seconds, then the tension in the width direction is relaxed, then the width is released, and further transported for 20 minutes in a third drying zone set at 125 ° C. for drying. The cellulose ester film 1 having a width of 1.5 m, a film thickness of 80 μm, and a length of 3000 m was produced.

〔微粒子添加による防眩性フィルム1の作製〕
上記セルロースエステルフィルム1の表面(B面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、下記のハードコート層用塗布液1を孔径20μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が0.1W/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ5μmの防眩性ハードコート層を形成し防眩性フィルム1を作製した。下記凸部径、凸部高さ、Ra、Smの測定法により、WYKO社製光学干渉式表面粗さ測定機を用いて形成した凹凸について測定した結果、凸部の大きさは25μm、凸部の高さは0.8μm、平均表面粗さ(Ra)は0.55μmであった。また、凸部の平均山谷間隔(Sm)は77μmであった。
[Preparation of antiglare film 1 by adding fine particles]
On the surface of the cellulose ester film 1 (B surface side; surface in contact with a support mirror surface such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the following coating solution 1 for hard coat layer has a pore diameter of 20 μm. A hard coat layer coating solution is prepared by filtration through a polypropylene filter, and this is applied using a micro gravure coater, dried at 90 ° C., and then irradiated with an ultraviolet lamp with an illuminance of 0.1 W / cm 2. Thus, the coating layer was cured with an irradiation dose of 0.1 J / cm 2 to form an anti-glare hard coat layer having a thickness of 5 μm, thereby producing an anti-glare film 1. As a result of measuring the unevenness formed by using the optical interference surface roughness measuring machine manufactured by WYKO by the following convexity diameter, convexity height, Ra, Sm measurement method, the size of the convexity is 25 μm, the convexity The height was 0.8 μm, and the average surface roughness (Ra) was 0.55 μm. Moreover, the average peak-valley interval (Sm) of the convex portions was 77 μm.

(ハードコート層塗布液1)
下記材料を攪拌、混合し、ハードコート層塗布液1とした。
(Hard coat layer coating solution 1)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer coating solution 1.

アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 200質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
25質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
合成シリカ微粒子 平均粒子径 1.8μm 40質量部
界面活性剤(シリコーン系界面活性剤;FZ2207(日本ユニカー製)10質量%プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液) 固形分で0.6質量部
〔エンボス加工による防眩フィルム2の作製〕
上記セルロースエステルフィルム1の作製において、テンターによる延伸処理後、鋳型を設けたロール(凹凸形成後、凸部高さ1μm、凸部大きさ(長辺)10μm、凸部間距離50μmになるような微細凹凸構造を刻印したもの)とバックロールから構成される凹凸形成部で溶媒を含むフィルムを挟んでフィルムのB面(ステンレスバンド支持体に接していた側をB面とし、その反対側をA面とする。)側に鋳型を設けた熱ロールを押し当てて、A面側にはバックロールを配置し、両ロール間を通すことによってB面側に凹凸を形成した以外は同様にして、エンボス加工したセルロースエステルフィルム2を作製した。尚、凹凸形成部近傍には、除電ワイヤーを設置してフィルムの帯電を抑制した。
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 200 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
25 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 110 parts by weight Ethyl acetate 110 parts by weight Synthetic silica fine particles Average particle size 1.8 μm 40 parts by weight Surfactant (silicone surfactant; FZ2207 (manufactured by Nippon Unicar)) 10% by weight propylene glycol monomethyl ether Solution) 0.6 parts by mass in solid content [Preparation of antiglare film 2 by embossing]
In the production of the cellulose ester film 1, a roll provided with a mold after the stretching treatment by a tenter (after forming the unevenness, the height of the convex part is 1 μm, the convex part size (long side) is 10 μm, and the distance between the convex parts is 50 μm. A B-side of the film (the side in contact with the stainless steel band support is the B-side, with the film containing the solvent sandwiched between the concavo-convex forming part consisting of a fine roll and the back roll, and the opposite side is the A side. In the same manner, except that a hot roll provided with a mold on the side is pressed, a back roll is placed on the A side, and irregularities are formed on the B side by passing between both rolls. An embossed cellulose ester film 2 was produced. In addition, the static elimination wire was installed in the uneven | corrugated formation vicinity vicinity, and charging of the film was suppressed.

上記エンボス加工したセルロースエステルフィルム2の表面(B面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、下記のハードコート層用塗布液2を孔径20μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が0.1W/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ5μmの防眩性ハードコート層を形成し防眩性フィルム2を作製した。 On the surface of the embossed cellulose ester film 2 (B side; surface in contact with a mirror surface of a support such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the following coating liquid 2 for hard coat layer Is filtered through a polypropylene filter having a pore size of 20 μm to prepare a hard coat layer coating solution, which is applied using a micro gravure coater, dried at 90 ° C., and then irradiated with an ultraviolet lamp with an illuminance of 0.1 W. / in cm 2, thereby curing the coated layer to irradiation dose as 0.1 J / cm 2, to prepare an antiglare film 2 to form an antiglare hard coat layer having a thickness of 5 [mu] m.

WYKO社製光学干渉式表面粗さ測定機を用いて形成した凹凸について測定した結果、凸部の大きさは20μm、凸部の高さは0.9μm、平均表面粗さ(Ra)は0.75μmであった。また、凸部の平均山谷間隔(Sm)は65μmであった。   As a result of measuring the unevenness formed using an optical interference type surface roughness measuring machine manufactured by WYKO, the size of the convex portion was 20 μm, the height of the convex portion was 0.9 μm, and the average surface roughness (Ra) was 0.00. It was 75 μm. Moreover, the average peak-valley interval (Sm) of the convex part was 65 μm.

(ハードコート層塗布液2)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 60質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 40質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
4質量部
酢酸エチル 50質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 50質量部
シリコン化合物 0.5質量部
(BYK−307(ビックケミージャパン社製))
〔防眩性反射防止フィルムの作製〕
次いで、防眩フィルム1、2のハードコート層上に下記低屈折率層を塗設した。
(Hard coat layer coating solution 2)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 60 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate 40 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
4 parts by mass Ethyl acetate 50 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 50 parts by mass Silicon compound 0.5 parts by mass (BYK-307 (manufactured by Big Chemie Japan))
[Preparation of antiglare antireflection film]
Subsequently, the following low refractive index layer was coated on the hard coat layers of the antiglare films 1 and 2.

(反射防止層の作製:低屈折率層)
下記の低屈折率層塗布組成物1を押出しコーターで塗布し、100℃で1分間乾燥させた後、紫外線を0.1J/cm2照射して硬化させ、更に120℃で5分間熱硬化させ、厚さ95nmとなるように低屈折率層を設け、防眩性反射防止フィルム1、2を作製した。尚、この低屈折率層の屈折率は1.37であった。
(Preparation of antireflection layer: low refractive index layer)
The following low refractive index layer coating composition 1 is applied by an extrusion coater, dried at 100 ° C. for 1 minute, cured by irradiation with ultraviolet rays of 0.1 J / cm 2 , and further thermally cured at 120 ° C. for 5 minutes. A low refractive index layer was provided so as to have a thickness of 95 nm, and antiglare and antireflection films 1 and 2 were produced. The refractive index of this low refractive index layer was 1.37.

また作製した防眩性反射防止フィルムについて、分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における分光反射率を測定した。反射防止性能は広い波長領域において反射率が小さいほど良好であるため、測定結果から450〜650nmにおける最低反射率を求めた。測定は、観察側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止して、反射率の測定を行った。測定の結果、上記防眩性反射防止フィルムはいずれも反射率で0.7〜1.2の間に反射率を有し良好な結果を示した。   Moreover, about the produced anti-glare antireflection film, a spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 380 to 780 nm using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation). Since the antireflection performance is better as the reflectance is smaller in a wide wavelength region, the minimum reflectance at 450 to 650 nm was obtained from the measurement results. In the measurement, the back surface on the observation side was roughened, and then light absorption processing was performed using a black spray to prevent reflection of light on the back surface of the film, and the reflectance was measured. As a result of the measurement, all of the antiglare antireflection films had a reflectance of 0.7 to 1.2 and showed good results.

(低屈折率層塗布組成物1の調製)
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン289gとエタノール553gを混和し、これに0.15%酢酸水溶液157gを添加し、25℃のウォーターバス中で30時間攪拌することで加水分解物Aを調製した。
(Preparation of low refractive index layer coating composition 1)
<Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A>
Hydrolyzate A was prepared by mixing 289 g of tetraethoxysilane and 553 g of ethanol, adding 157 g of 0.15% aqueous acetic acid solution thereto, and stirring in a water bath at 25 ° C. for 30 hours.

〈低屈折率層塗布組成物1〉
テトラエトキシシラン加水分解物A 110質量部
中空シリカ系微粒子(下記P−2)分散液 30質量部
KBM503(シランカップリング剤、信越化学(株)製) 4質量部
直鎖ジメチルシリコーン−EOブロックコポリマー(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 3質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 400質量部
イソプロピルアルコール 400質量部
〈中空シリカ系微粒子P−2分散液の調製〉
平均粒径5nm、SiO2濃度20質量%のシリカゾル100gと純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として0.98質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAl23として1.02質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO2・Al23核粒子分散液を調製した。(工程(a))
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO2濃度3.5質量%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程(b))
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、さらに濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO2・Al23多孔質粒子の分散液を調製した(工程(c))。上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1,750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO228質量%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%の中空シリカ系微粒子(P−2)分散液を調製した。
<Low refractive index layer coating composition 1>
Tetraethoxysilane hydrolyzate A 110 parts by mass Hollow silica-based fine particle (P-2 below) dispersion 30 parts by mass KBM503 (silane coupling agent, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 4 parts by mass Linear dimethyl silicone-EO block copolymer (FZ-2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 3 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 400 parts by mass Isopropyl alcohol 400 parts by mass <Preparation of hollow silica-based fine particle P-2 dispersion>
A mixture of 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO 2 concentration of 20% by mass and 1900 g of pure water was heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor was 10.5, and 9000 g of 0.98 mass% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of 1.02 mass% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 were simultaneously added to the mother liquor. did. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO 2 .Al 2 O 3 core particle dispersion having a solid content concentration of 20% by mass. (Process (a))
1700 g of pure water is added to 500 g of this core particle dispersion and heated to 98 ° C., and while maintaining this temperature, a silicic acid solution (SiO 2) obtained by dealkalizing a sodium silicate aqueous solution with a cation exchange resin. A dispersion of core particles in which 3000 g (concentration of 3.5% by mass) was added to form a first silica coating layer was obtained. (Process (b))
Next, 1125 g of pure water is added to 500 g of the core particle dispersion liquid that has been washed with an ultrafiltration membrane to form a first silica coating layer having a solid concentration of 13% by mass, and concentrated hydrochloric acid (35.5%) is further added dropwise. The pH was adjusted to 1.0 and dealumination was performed. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane was separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and SiO 2 · Al from which some of the constituent components of the core particles forming the first silica coating layer were removed. A dispersion of 2 O 3 porous particles was prepared (step (c)). A mixture of 1500 g of the above porous particle dispersion, 500 g of pure water, 1,750 g of ethanol, and 626 g of 28% ammonia water is heated to 35 ° C., and then 104 g of ethyl silicate (SiO 2 28 mass%) is added. The surface of the porous particles on which the first silica coating layer was formed was coated with a hydrolyzed polycondensate of ethyl silicate to form a second silica coating layer. Subsequently, a hollow silica-based fine particle (P-2) dispersion having a solid content concentration of 20% by mass in which the solvent was replaced with ethanol using an ultrafiltration membrane was prepared.

この中空シリカ系微粒子の第1シリカ被覆層の厚さは3nm、平均粒径は47nm、MOx/SiO2(モル比)は0.0017、屈折率は1.28であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。 The thickness of the first silica coating layer of the hollow silica-based fine particles was 3 nm, the average particle size was 47 nm, MOx / SiO 2 (molar ratio) was 0.0017, and the refractive index was 1.28. Here, the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method.

〔フレキソ印刷法による凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム3の作製〕
図13(a)の装置を用いて、上記作製したセルロースエステルフィルム1の表面(A面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、ハードコート層塗布液2をマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が0.1W/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ5μmのハードコート層を形成した。次いで下記凸部状低屈折率層形成インキ1を孔径20μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して調製し、下記シームレス樹脂版1を装着してフレキソ印刷で凸部状低屈折率層を形成した。フレキソ印刷の印刷パターンはアグファゲバルト社のクリスタル・ラスター・スクリーニング法を用い、2400〜4000dpi、1〜10%濃度のパターンを用いた。
[Preparation of antiglare antireflection film 3 having convex low refractive index layer by flexographic printing method]
Using the apparatus of FIG. 13 (a), on the surface of the cellulose ester film 1 produced as described above (A surface side; surface in contact with a support mirror surface such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side). The hard coat layer coating solution 2 is applied using a micro gravure coater, dried at 90 ° C., and then irradiated with an ultraviolet lamp with an illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation dose of 0.1 J / cm 2. As a result, the coating layer was cured to form a hard coat layer having a thickness of 5 μm. Subsequently, the following convex-shaped low refractive index layer-forming ink 1 was prepared by filtration through a polypropylene filter having a pore diameter of 20 μm, and the following seamless resin plate 1 was attached to form a convex-shaped low refractive index layer by flexographic printing. The flexographic printing pattern used was a crystal raster screening method manufactured by Agfa Gehwald, and a pattern having a density of 2400 to 4000 dpi and 1 to 10% density was used.

凸部形成後、乾燥ゾーン505Bにて90℃で乾燥の後、紫外線ランプ506Cを用い、紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させて、凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム3を作製した。 After forming the protrusion, after drying at 90 ° C. in the drying zone 505B, the UV lamp 506C is used to cure the ultraviolet light with an illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2. An antiglare antireflection film 3 having a partial low refractive index layer was produced.

得られた凸部状低屈折率層はハードコート層表面の85%の面積を被覆していた。凸部の大きさは30μm、凸部の高さが1.0μmであり、かつ凸部状低屈折率層の平均表面粗さ(Ra)の測定を行った結果、0.45μmであり、凸部の平均山谷間隔(Sm)は75μmであった。   The resulting convex low refractive index layer covered an area of 85% of the hard coat layer surface. The size of the convex portion is 30 μm, the height of the convex portion is 1.0 μm, and the average surface roughness (Ra) of the convex-shaped low refractive index layer is measured. As a result, the convex portion is 0.45 μm. The average interval between the peaks and valleys (Sm) was 75 μm.

(シームレス樹脂版1の仕様)
感光性樹脂版:2−ヒドロキシエチルアクリレート98部とブタンジオールジアクリレート1部を反応して得られたコアとメタアクリル酸20部とN−ブチルアクリレート80部を反応させて得られたコアシェル型ミクロゲル(コア/シェル=2/1)71g、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート25g、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン4gを混合して得られた感光性樹脂組成物を厚み2mmのポリエステルフィルムの上に塗布したのち、波長360nmの紫外線により、1000mJ/cmの露光を行いレーザー彫刻用印刷原版を得た。次いで下記レーザー彫刻条件で微細凹凸構造を彫刻し、樹脂版ロールに真空引きしながら装着し、全体を120℃20分間加熱を行ったところ継ぎ目が見えなくなりシームレス樹脂版になった。
(Specifications of seamless resin plate 1)
Photosensitive resin plate: Core-shell type microgel obtained by reacting 98 parts of 2-hydroxyethyl acrylate and 1 part of butanediol diacrylate, 20 parts of methacrylic acid and 80 parts of N-butyl acrylate A photosensitive resin composition obtained by mixing 71 g of (core / shell = 2/1), 25 g of trimethylolpropane ethoxytriacrylate and 4 g of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone on a polyester film having a thickness of 2 mm After coating, the substrate was exposed at 1000 mJ / cm with ultraviolet light having a wavelength of 360 nm to obtain a printing original plate for laser engraving. Subsequently, the fine concavo-convex structure was engraved under the following laser engraving conditions, mounted on the resin plate roll while evacuating, and the whole was heated at 120 ° C. for 20 minutes.

樹脂版径は500mm、樹脂版のゴム硬度は50とした。ゴム硬度はJIS K 6253に記載の方法に準じてデュロメータで測定した。   The resin plate diameter was 500 mm, and the rubber hardness of the resin plate was 50. Rubber hardness was measured with a durometer according to the method described in JIS K 6253.

(レーザー彫刻条件)
炭酸ガスレーザー出力:300W、50%出力
彫刻画像:印刷後として、凸部高さ1.0μm、凸部大きさ(長辺)30μm、凸部間距離80μmになるように、上記FMスクリーンパターンを用いて樹脂版上に微細凹凸構造を彫刻した。
(Laser engraving conditions)
Carbon dioxide laser output: 300 W, 50% output Engraving image: After printing, the FM screen pattern is adjusted so that the convex part height is 1.0 μm, the convex part size (long side) is 30 μm, and the distance between convex parts is 80 μm. The fine concavo-convex structure was engraved on the resin plate.

アニロックスロール:800線/2.54cm、セル容積4ml/m2(ニューロング(株)製、ハニカムパターン)
インキ供給:鋼製ドクターブレード方式(図1参照)
(凸部状低屈折率層形成インキ1)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 100質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
中空シリカ系微粒子(前記P−2)分散液 70質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
10質量部
シリコン化合物(BYK−307(ビックケミージャパン社製)) 0.2質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 100質量部
酢酸エチル 100質量部
〔フレキソ印刷法による凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム4の作製〕
下記凸状低屈折率層形成インキ2を用いた以外は防眩性反射防止フィルム3と同様にして、防眩性反射防止フィルム4を作製した。
Anilox roll: 800 lines / 2.54 cm, cell volume 4 ml / m 2 (manufactured by Neurong Co., Ltd., honeycomb pattern)
Ink supply: Steel doctor blade method (see Fig. 1)
(Convex-shaped low refractive index layer forming ink 1)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 100 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate 30 parts by mass Hollow silica-based fine particle (P-2) dispersion 70 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184) (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
10 parts by mass Silicon compound (BYK-307 (manufactured by Big Chemie Japan)) 0.2 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 100 parts by mass Ethyl acetate 100 parts by mass [Anti-glare having a convex low refractive index layer by flexographic printing method Production of antireflection film 4]
An antiglare antireflection film 4 was produced in the same manner as the antiglare antireflection film 3 except that the following convex low refractive index layer forming ink 2 was used.

得られた凸部状低屈折率層はハードコート層表面の86%の面積を被覆していた。また
凸部の大きさは29μm、凸部の高さが1.0μmであり、かつ凸部状低屈折率層の平均表面粗さ(Ra)の測定を行った結果、0.40μmであり、凸部の平均山谷間隔(Sm)は78μmであった。
The resulting convex low refractive index layer covered an area of 86% of the hard coat layer surface. Further, the size of the convex portion was 29 μm, the height of the convex portion was 1.0 μm, and the average surface roughness (Ra) of the convex-shaped low refractive index layer was measured, and as a result, it was 0.40 μm. The average peak-valley interval (Sm) of the convex portions was 78 μm.

(凸部状低屈折率層形成インキ2)
前記テトラエトキシシラン加水分解物A 100質量部
KBM503(シランカップリング剤、信越化学(株)製) 4質量部
中空シリカ系微粒子(前記P−2)分散液 70質量部
酢酸エチル 150質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 150質量部
シリコン化合物(BYK−307(ビックケミージャパン社製)) 0.2質量部
〔フレキソ印刷法による凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム5の作製〕
シームレス樹脂版の彫刻画像を印刷後として、凸部高さ0.8μm、凸部大きさ(長辺)25μm、凸部間距離70μmになるようにして作製したシームレス樹脂版2を用いた以外は防眩性反射防止フィルム4と同様にして、防眩性反射防止フィルム5を作製した。
(Convex-shaped low refractive index layer forming ink 2)
Tetraethoxysilane hydrolyzate A 100 parts by mass KBM503 (silane coupling agent, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 4 parts by mass Hollow silica-based fine particle (P-2) dispersion 70 parts by mass Ethyl acetate 150 parts by mass Propylene glycol Monomethyl ether 150 parts by mass Silicon compound (BYK-307 (manufactured by Big Chemie Japan)) 0.2 parts by mass [Preparation of antiglare antireflection film 5 having convex low refractive index layer by flexographic printing method]
Except for using the seamless resin plate 2 produced after printing the engraved image of the seamless resin plate so that the height of the convex portion is 0.8 μm, the size of the convex portion (long side) is 25 μm, and the distance between the convex portions is 70 μm. In the same manner as the antiglare antireflection film 4, an antiglare antireflection film 5 was produced.

得られた凸部状低屈折率層はハードコート層表面の92%の面積を被覆していた。また
凸部の大きさは23μm、凸部の高さが0.8μmであり、かつ凸部状低屈折率層の平均表面粗さ(Ra)の測定を行った結果、0.35μmであり、凸部の平均山谷間隔(Sm)は71μmであった。
The resulting convex low refractive index layer covered an area of 92% of the hard coat layer surface. Further, the size of the convex portion was 23 μm, the height of the convex portion was 0.8 μm, and the average surface roughness (Ra) of the convex-shaped low refractive index layer was measured, and as a result, it was 0.35 μm. The average peak-valley interval (Sm) of the convex portions was 71 μm.

〔フレキソ印刷法による凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム6の作製〕
図13(b)の装置を用いて、シームレス樹脂版1と、シームレス樹脂版の彫刻画像を印刷後として、凸部高さ0.3μm、凸部大きさ(長辺)15μm、凸部間距離100μmになるようにして作製したシームレス樹脂版3とを用いた以外は、防眩性反射防止フィルム4と同様にして、防眩性反射防止フィルム6を作製した。
[Preparation of antiglare antireflection film 6 having a convex low refractive index layer by flexographic printing]
Using the apparatus of FIG. 13B, after printing the seamless resin plate 1 and the engraved image of the seamless resin plate, the height of the convex portion is 0.3 μm, the size of the convex portion (long side) is 15 μm, and the distance between the convex portions. An antiglare antireflection film 6 was produced in the same manner as the antiglare antireflection film 4 except that the seamless resin plate 3 produced so as to have a thickness of 100 μm was used.

得られた凸部状低屈折率層はハードコート層表面の95%の面積を被覆していた。また
凸部の大きさは28μm、凸部の高さが1.1μmであり、かつ凸部状低屈折率層の平均表面粗さ(Ra)の測定を行った結果、0.35μmであり、凸部の平均山谷間隔(Sm)は77μmであった。
The resulting convex low refractive index layer covered an area of 95% of the hard coat layer surface. Further, the size of the convex portion was 28 μm, the height of the convex portion was 1.1 μm, and the average surface roughness (Ra) of the convex-shaped low refractive index layer was measured, and as a result, it was 0.35 μm. The average peak-valley interval (Sm) of the convex portions was 77 μm.

〔インクジェット法による凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム7の作製

上記作製したセルロースエステルフィルム1の表面(A面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、ハードコート層塗布液2をマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が0.1W/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ5μmのハードコート層を形成した。次いで、凸部状低屈折率層形成インキ1を用いてインクジェット方式によりインク液滴として2〜16plで出射し、乾燥後0.2秒後に活性線照射部より紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させ、凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム7を作製した。
[Preparation of antiglare antireflection film 7 having convex low refractive index layer by inkjet method]
On the surface of the cellulose ester film 1 produced as described above (A surface side; surface in contact with a mirror surface of a support such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the hard coat layer coating solution 2 is applied to the microgravure coater. After drying at 90 ° C., the coating layer is cured using an ultraviolet lamp with an irradiation part with an illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 , and a thickness of 5 μm. A hard coat layer was formed. Next, 2 to 16 pl of ink droplets are ejected as an ink droplet by an ink jet method using the convex-shaped low refractive index layer forming ink 1, and the illuminance of ultraviolet rays is 0.1 W / cm from the active ray irradiated portion 0.2 seconds after drying. 2 was cured at an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 to produce an antiglare antireflection film 7 having a convex low refractive index layer.

インクジェット出射装置は、ラインヘッド方式(図8の(a))を使用し、ノズル径が3.5μmのノズルを256個有するインクジェットヘッドを10基を準備した。インクジェットヘッドは図7に記載の構成のものを使用した。インク供給系は、インク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッド及び配管から構成されており、インク供給タンクからインクジェットヘッド部までは、断熱及び加温(40℃)し、出射温度は40℃、駆動周波数は20kHzで行った。   As the inkjet emitting device, a line head method (FIG. 8A) was used, and 10 inkjet heads having 256 nozzles having a nozzle diameter of 3.5 μm were prepared. An ink jet head having the structure shown in FIG. 7 was used. The ink supply system is composed of an ink supply tank, a filter, a piezo-type ink jet head, and piping. The ink supply tank to the ink jet head section is insulated and heated (40 ° C.), and the emission temperature is 40 ° C. The driving frequency was 20 kHz.

得られた凸部状低屈折率層はハードコート層表面の95%の面積を被覆していた。また
凸部の大きさは35μm、凸部の高さが0.9μmであり、かつ凸部状低屈折率層の平均表面粗さ(Ra)の測定を行った結果、0.30μmであり、凸部の平均山谷間隔(Sm)は85μmであった。
The resulting convex low refractive index layer covered an area of 95% of the hard coat layer surface. Further, the size of the convex portion was 35 μm, the height of the convex portion was 0.9 μm, and the average surface roughness (Ra) of the convex-shaped low refractive index layer was measured, and as a result, it was 0.30 μm. The average peak-valley interval (Sm) of the convex portions was 85 μm.

〔スクリーン印刷による凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム8の作製〕
上記作製したセルロースエステルフィルム1の表面(A面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、ハードコート層塗布液2をマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が0.1W/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ5μmのハードコート層を形成した。次いで、凸部状低屈折率層形成インキ1を用いて、下記スクリーン版により、スクリーン印刷で凸部を形成した後、乾燥ゾーンにて90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い、紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させ凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム8を作製した。
[Preparation of antiglare antireflection film 8 having convex low refractive index layer by screen printing]
On the surface of the cellulose ester film 1 produced as described above (A surface side; surface in contact with a mirror surface of a support such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the hard coat layer coating solution 2 is applied to the microgravure coater. After drying at 90 ° C., the coating layer is cured using an ultraviolet lamp with an irradiation part with an illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 , and a thickness of 5 μm. A hard coat layer was formed. Next, using the convex-shaped low refractive index layer forming ink 1, after forming convex portions by screen printing with the following screen plate, drying at 90 ° C. in a drying zone, and then using an ultraviolet lamp to illuminate ultraviolet rays. Was cured at 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 to prepare an antiglare antireflection film 8 having a convex low refractive index layer.

(スクリーン版の作製)
ステンレスメッシュの織物をエアーストレッチャーによりスクリーン張力機で引っ張りスクリーンフレームに接着剤した後、感光乳剤をスクリーンメッシュにムラなく均一に塗布した。次に、フォトマスク(パターン原板)を感光乳剤面に密着させ、平行露光機でパターンを焼き付けた。これを自動現像装置により現像し、スクリーン版を得た。
(Preparation of screen plate)
A stainless mesh fabric was pulled by a screen tension machine with an air stretcher and adhered to the screen frame, and then the photosensitive emulsion was uniformly applied to the screen mesh evenly. Next, a photomask (pattern original plate) was brought into intimate contact with the photosensitive emulsion surface, and the pattern was printed with a parallel exposure machine. This was developed by an automatic developing device to obtain a screen plate.

このように得られた印刷版の枠にインクを入れ、スキージと呼ばれるヘラでスクリーンの上面を押し付けながら移動させインクを膜のない部分のスクリーン目を透過させ、被印刷物上面に押し出して印刷物を得た。   Ink is put into the frame of the printing plate obtained in this way, moved while pressing the upper surface of the screen with a spatula called a squeegee, the ink is passed through the screen where there is no film, and extruded onto the upper surface of the printed material to obtain a printed material. It was.

得られた凸部状低屈折率層はハードコート層表面の88%の面積を被覆していた。また凸部の大きさは31μm、凸部の高さが1.1μmであり、かつ凸部状低屈折率層の平均表面粗さ(Ra)の測定を行った結果、0.50μmであり、凸部の平均山谷間隔(Sm)は100μmであった。   The resulting convex low refractive index layer covered an area of 88% of the hard coat layer surface. Further, the size of the convex portion was 31 μm, the height of the convex portion was 1.1 μm, and the average surface roughness (Ra) of the convex-shaped low refractive index layer was measured, and as a result, it was 0.50 μm. The average peak-valley interval (Sm) of the convex portions was 100 μm.

〔スプレイ加工による凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム9の作製〕
上記作製したセルロースエステルフィルム1の表面(A面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、ハードコート層塗布液2をマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が0.1W/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ5μmのハードコート層を形成した。次いで、凸部状低屈折率層形成インキ1を用いて、図9のスロットノズルスプレイ装置により凸部を形成した後、印刷部の下流に設けられた乾燥部で90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い、紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させ、防眩性反射防止フィルム9を作製した。
[Preparation of antiglare antireflection film 9 having convex low refractive index layer by spraying]
On the surface of the cellulose ester film 1 produced as described above (A surface side; surface in contact with a mirror surface of a support such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the hard coat layer coating solution 2 is applied to the microgravure coater. After drying at 90 ° C., the coating layer is cured using an ultraviolet lamp with an irradiation part with an illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 , and a thickness of 5 μm. A hard coat layer was formed. Next, using the convex-shaped low refractive index layer forming ink 1, a convex portion is formed by the slot nozzle spray device of FIG. 9, and then dried at 90 ° C. in a drying unit provided downstream of the printing unit, and then ultraviolet rays are formed. An antiglare antireflection film 9 was produced by using a lamp and curing at an ultraviolet illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 .

得られた凸部状低屈折率層はハードコート層表面の94%の面積を被覆していた。また
凸部の大きさは30μm、凸部の高さが1.0μmであり、かつ凸部状低屈折率層の平均表面粗さ(Ra)の測定を行った結果、0.45μmであり、凸部の平均山谷間隔(Sm)は90μmであった。
The resulting convex low refractive index layer covered an area of 94% of the hard coat layer surface. Further, the size of the convex portion is 30 μm, the height of the convex portion is 1.0 μm, and the average surface roughness (Ra) of the convex-shaped low refractive index layer is measured, and as a result, is 0.45 μm. The average peak-valley interval (Sm) of the convex portions was 90 μm.

《測定、評価》
(凸部径、凸部高さ、Ra、Smの測定)
凸部径、凸部高さは上記作製したフィルム試料を用いて、WYKO社製光学干渉式表面粗さ測定機を用いて、約4000μm2の範囲(55μm×75μm)について2次元的に測定し、凸部を底部側より等高線のごとく色分けして表示し、フィルム面を基準とした凸部高さ及び凸部の大きさである凸部径を測定した。
<Measurement, evaluation>
(Measurement of convex part diameter, convex part height, Ra, Sm)
The convex part diameter and convex part height were measured two-dimensionally in a range of about 4000 μm 2 (55 μm × 75 μm) using the above-prepared film sample and using an optical interference surface roughness measuring machine manufactured by WYKO. The convex portions were color-coded as contour lines from the bottom side, and the convex portion height and the convex portion diameter as the size of the convex portions were measured with reference to the film surface.

表面粗さ(Ra)、平均中心間距離(Sm)は、WYKO社製光学干渉式表面粗さ測定機を用いて、JIS B0601の測定方法により測定した。   The surface roughness (Ra) and the average center-to-center distance (Sm) were measured by a measuring method of JIS B0601 using an optical interference type surface roughness measuring machine manufactured by WYKO.

(防眩効果)
窓のあるオフィスにて、各フィルムを机の上に広げ、天井の蛍光灯照明及び外光のフィルムへの写り込みを下記のように評価した。
(Anti-glare effect)
In an office with a window, each film was spread on a desk, and fluorescent lighting on the ceiling and reflection of external light on the film were evaluated as follows.

5:蛍光灯の輪郭、及び外光がぼけて写り込みが全く気にならない
4:5と3の中間
3:蛍光灯の輪郭、及び外光の写り込みが僅かに認められる
2:3と1の中間
1:蛍光灯の輪郭、及び外光が分かり写り込みが気になる
(ぎらつき)
作製したフィルムについて、目視にてぎらつきを判定した。
5: The outline of the fluorescent lamp and the external light are blurred and I don't care about the reflection at all 4: Between 5 and 3 3: The outline of the fluorescent lamp and the reflection of the external light are slightly recognized 2: 3: 1 Middle of 1: The outline of the fluorescent lamp and the external light are understood and the reflection is worrisome (glare)
About the produced film, the glare was determined visually.

5:ぎらつきが全く分からない
4:ぎらつきが極僅かに分かる
3:ややぎらつきが分かる
2:3と1の中間
1:ぎらつきがかなり気になる
(白濁)
作製したフィルムについて、目視にて白濁を判定した。
5: I don't know the glare at all. 4: I can understand the glare very slightly. 3: I can see a slight glare. 2: Between 3 and 1. 1: I'm worried about the glare.
About the produced film, the cloudiness was determined visually.

5:白濁が全く気にならない
4:5と3の中間
3:白濁がやや気になる
2:3と1の中間
1:白濁がかなり気になる
以上の測定、評価結果を下記表1に示す。
5: I don't care about white turbidity at all 4: Intermediate between 5 and 3 3: Somewhat anxious about white turbidity 2: Intermediate between 3 and 1 1: Very anxious about white turbidity Table 1 shows the above measurement and evaluation results .

Figure 2007187971
Figure 2007187971

表1より、微粒子添加による微細凹凸構造を付与した防眩性反射防止フィルム1は、微粒子の分散性のばらつきの為か、ぎらつきが劣り、白濁も見られた。エンボス加工により微細凹凸構造を付与した防眩性反射防止フィルム2は防眩効果、ぎらつきがやや劣っており白濁も見られた。また、防眩性反射防止フィルム2の先頭と後尾で微細凹凸構造の高さ、大きさが異なっており、鋳型を観察すると鋳型の一部に溶けたフィルムによる目詰まりを起こしていた。   From Table 1, the anti-glare antireflection film 1 provided with a fine uneven structure by addition of fine particles was inferior in glare or white turbidity due to dispersion of fine particle dispersibility. The antiglare antireflection film 2 provided with a fine concavo-convex structure by embossing was slightly inferior in the antiglare effect and glare, and white turbidity was also observed. Further, the height and size of the fine concavo-convex structure differed between the head and tail of the antiglare antireflection film 2, and when the mold was observed, clogging was caused by the film dissolved in a part of the mold.

それに対し、本発明の防眩性反射防止フィルム3〜9は、防眩効果、ぎらつきに優れ、白濁も気にならないレベルであった。また、防眩性反射防止フィルムの先頭と後尾の微細凹凸構造の高さ、大きさが揃っており、高い均一性、生産安定性を有していることが分かった。   On the other hand, the anti-glare antireflection films 3 to 9 of the present invention were excellent in anti-glare effect and glare, and at a level where the cloudiness was not a concern. In addition, the height and size of the fine concavo-convex structure at the head and tail of the antiglare antireflection film are uniform, and it has been found that the antiglare antireflection film has high uniformity and production stability.

実施例2
〔偏光板の作製〕
次いで、実施例1で作製した各防眩性反射防止フィルム1〜9を用いて下記工程により偏光板を作製した。
Example 2
[Preparation of polarizing plate]
Subsequently, the polarizing plate was produced by the following process using each anti-glare antireflection film 1-9 produced in Example 1.

厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。   A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. This was washed with water and dried to obtain a polarizing film.

次いで、下記工程1〜5に従って偏光膜と前記防眩性反射防止フィルム1〜9、裏面側のセルロースエステルフィルムKC8UCR−5(コニカミノルタオプト(株)製)を貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムは位相差を有するセルロースエステルフィルムであり、リターデーション値はRo=43nm、Rt=132nmであった。   Then, according to the following processes 1-5, the polarizing film, the said anti-glare antireflection film 1-9, the cellulose ester film KC8UCR-5 (made by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) on the back side were bonded together, and the polarizing plate was produced. The polarizing plate protective film on the back side was a cellulose ester film having a retardation, and retardation values were Ro = 43 nm and Rt = 132 nm.

工程1:50℃の1モル/Lの水酸化ナトリウム溶液に60秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光膜と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。   Step 1: Soaked in a 1 mol / L sodium hydroxide solution at 50 ° C. for 60 seconds, then washed with water and dried to obtain a saponified cellulose ester film bonded to the polarizing film.

工程2:前記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。   Step 2: The polarizing film was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理したセルロースエステルフィルムの上にのせて、更に反射防止層が外側になるように積層し、配置した。   Step 3: Lightly wipe off the excess adhesive adhering to the polarizing film in Step 2, place it on the cellulose ester film treated in Step 1, and then stack and arrange so that the antireflection layer is on the outside did.

工程4:工程3で積層した防眩性反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料を圧力20〜30N/cm2、搬送スピードは約2m/分で貼合した。 Step 4: The antiglare antireflection film, the polarizing film, and the cellulose ester film sample laminated in Step 3 were bonded at a pressure of 20 to 30 N / cm 2 and a conveyance speed of about 2 m / min.

工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと防眩性反射防止フィルム1〜9とを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、偏光板1〜9を作製した。   Step 5: The polarizing film prepared in Step 4 in a dryer at 80 ° C., the cellulose ester film, and the antiglare antireflection films 1 to 9 are dried for 2 minutes to prepare polarizing plates 1 to 9. did.

《液晶表示装置の作製》
液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
<Production of liquid crystal display device>
A liquid crystal panel was produced as follows, and the characteristics as a liquid crystal display device were evaluated.

市販の32型液晶テレビ(MVA型セル)の予め貼合されていた表面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板1〜9をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。   The polarizing plate on the surface of the commercially available 32-inch liquid crystal television (MVA cell) previously bonded was peeled off, and the above-prepared polarizing plates 1 to 9 were each bonded to the glass surface of the liquid crystal cell.

その際、その偏光板の貼合の向きは、位相差を有するセルロースエステルフィルムの面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置1〜9を各々作製した。   At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is such that the surface of the cellulose ester film having a retardation is on the liquid crystal cell side, and the absorption axis is in the same direction as the polarizing plate previously bonded. It carried out so that it might face, and produced the liquid crystal display devices 1-9, respectively.

《評価》
得られた液晶表示装置1〜9を用いて、図14で示した様な環境で観察し、前記防眩効果、ぎらつき、及び下記視認性及び動画を表示したときの黒のしまりを各々下記の基準に従い目視にて評価した。尚、照明は40W蛍光灯(松下電器製FLR40S−EX−D/M)10本を天井に設置した。また窓から外光が差し込む状態で評価した。
<Evaluation>
The obtained liquid crystal display devices 1 to 9 are observed in an environment as shown in FIG. 14, and the anti-glare effect, glare, and the blackness when the following visibility and moving images are displayed are shown below. Visual evaluation was made according to the criteria. In addition, 10 40W fluorescent lamps (FLR40S-EX-D / M manufactured by Matsushita Electric) were installed on the ceiling. Moreover, it evaluated in the state which external light inserts from a window.

(視認性及び動画を表示したときの黒のしまり)
前述の様に天井からは蛍光灯による人工照明と窓からの外光が差し込んでいる環境下でTV番組の動画像を同ディスプレイに表示し、比較実験を行った。ディスプレイ正面から1m離れた位置で動画像を観察し官能評価を行った。
(Visibility and black spots when displaying video)
As described above, a moving image of a TV program was displayed on the same display in an environment where artificial lighting by a fluorescent lamp and external light from a window were inserted from the ceiling, and a comparative experiment was performed. A moving image was observed at a position 1 m away from the front of the display, and sensory evaluation was performed.

5:画面上部の蛍光灯の写り込みが気にならず、画面中央部は外光があっても黒がしまって見え、観察中、観察直後においても疲れず違和感がない
4:5と3の中間
3:画面上部の蛍光灯の写り込みが僅かに認められ、画面中央部は外光があると黒がややしまりに欠け、観察後やや疲れる
2:3と1の中間
1:画面上部の蛍光灯の写り込みが認められ、画面中央部は外光の影響で黒のしまりに欠け、見ていると目が疲れる
防眩性反射防止フィルム/液晶表示装置の構成及び上記評価結果を下記表2に示す。
5: I don't mind the reflection of the fluorescent lamp at the top of the screen, and the center of the screen looks black even when there is external light. Middle 3: Slight reflection of fluorescent light at the top of the screen is observed, and the center of the screen is slightly tired after observation if there is external light 2: Intermediate between 1: 3 and 1: 1: Fluorescence at the top of the screen The reflection of the light is recognized, the center of the screen lacks black spots due to the influence of external light, and eyes are tired when looking at the structure of the antiglare antireflection film / liquid crystal display device and the evaluation results are shown in Table 2 below. Shown in

Figure 2007187971
Figure 2007187971

表2より、微粒子添加による微細凹凸構造を付与した液晶表示装置1は、微粒子の分散性のばらつきの為か防眩効果、ぎらつきの改善が中途であり黒のしまりに劣っていた。エンボス加工により微細凹凸構造を付与した液晶表示装置2は均一な凹凸構造の形成に難があり、ぎらつき、黒のしまりに劣っていた。   From Table 2, the liquid crystal display device 1 provided with a fine concavo-convex structure by addition of fine particles was inferior in blackness because of the dispersion of fine particle dispersibility and the improvement of antiglare effect and glare. The liquid crystal display device 2 provided with a fine concavo-convex structure by embossing had difficulty in forming a uniform concavo-convex structure, and was inferior in glaring and blackening.

それに対して、本発明の防眩性反射防止フィルムを用いた液晶表示装置3〜9は、防眩効果、ぎらつき、黒のしまりに優れていることが明らかである。   On the other hand, it is clear that the liquid crystal display devices 3 to 9 using the antiglare antireflection film of the present invention are excellent in the antiglare effect, glare and blackness.

実施例3
〈ポリカーボネート系フィルムの作製〉
下記のドープ組成物を調製した。
Example 3
<Production of polycarbonate film>
The following dope composition was prepared.

〈ドープ組成物〉
ポリカーボネート樹脂(粘度平均分子量4万、ビスフェノールA型) 100部
2−(2′ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)−ベンゾトリアゾール 1.0部
メチレンクロライド 430部
メタノール 90部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で80℃に保温し撹拌しながら完全に溶解して、ドープ組成物Aを得た。
<Dope composition>
Polycarbonate resin (viscosity average molecular weight 40,000, bisphenol A type) 100 parts 2- (2'hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) -benzotriazole 1.0 part Methylene chloride 430 parts Methanol 90 parts Above The composition was put into a sealed container, kept at 80 ° C. under pressure, and completely dissolved with stirring to obtain a dope composition A.

次にこのドープ組成物Aを濾過し、冷却して33℃に保ち、ステンレスバンド上に均一に流延し、33℃で5分間乾燥した。次に65℃でレタデーション5nmになるように乾燥時間を調整し、ステンレスバンド上から剥離後、多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ膜厚80μmのポリカーボネート系フィルムを得た。   Next, this dope composition A was filtered, cooled and kept at 33 ° C., cast uniformly on a stainless steel band, and dried at 33 ° C. for 5 minutes. Next, the drying time was adjusted to 65 nm at a retardation of 5 nm, and after peeling from the stainless steel band, drying was terminated while being conveyed by a number of rolls to obtain a polycarbonate film having a thickness of 80 μm.

〈ノルボルネン系樹脂フィルムの作製〉
窒素で置換した内容量1000mlの反応容器に、Pd(CH3CN)4(BF421.5gをニトロメタン100mlに溶かした溶液を仕込み、これを室温下で撹拌しながら、8−カルボキシメチルテトラシクロ[4.4.0.12.5.17.10]−3−ドデセン150gをニトロメタン150mlに溶解した溶液を加え、1時間反応させた後、500mlのメタノールを加え、析出した樹脂を濾過して回収した。得られた樹脂をメタノール300mlと濃塩酸40mlの混合液で洗浄した。さらにメタノールで洗浄した後、60℃で真空乾燥し、ノルボルネン系樹脂を得た。
<Preparation of norbornene resin film>
A reaction container having a capacity of 1000 ml substituted with nitrogen was charged with a solution of 1.5 g of Pd (CH 3 CN) 4 (BF 4 ) 2 dissolved in 100 ml of nitromethane. A solution prepared by dissolving 150 g of tetracyclo [4.4.0.12.5.17.10] -3-dodecene in 150 ml of nitromethane was added and reacted for 1 hour, 500 ml of methanol was added, and the precipitated resin was filtered. And recovered. The obtained resin was washed with a mixed solution of 300 ml of methanol and 40 ml of concentrated hydrochloric acid. Further, after washing with methanol, vacuum drying was performed at 60 ° C. to obtain a norbornene resin.

下記のドープ組成物を調製した。   The following dope composition was prepared.

〈ドープ組成物〉
ノルボルネン系樹脂 100部
2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール 1.0部
メチレンクロライド 430部
メタノール 90部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で80℃に保温し撹拌しながら完全に溶解した。
<Dope composition>
Norbornene-based resin 100 parts 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) benzotriazole 1.0 part Methylene chloride 430 parts Methanol 90 parts The solution was kept at 80 ° C. under pressure and dissolved completely with stirring.

次にこのドープ組成物を濾過し、冷却して33℃に保ち、ステンレスバンド上に均一に流延し、33℃で5分間乾燥させ、次に65℃でレタデーション5nmになるように乾燥時間を調整し、ステンレスバンド上から剥離後、多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ膜厚80μmのノルボルネン系樹脂フィルムを得た。   The dope composition is then filtered, cooled and kept at 33 ° C., cast evenly on a stainless steel band, dried at 33 ° C. for 5 minutes, and then dried at 65 ° C. to a retardation of 5 nm. After adjusting and peeling from the stainless steel band, drying was completed while being conveyed by a number of rolls to obtain a norbornene-based resin film having a thickness of 80 μm.

〈ポリエステル系フィルムの作製〉
2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチル100部とエチレングリコール60部の混合物にチタンテトラブトキサイド(TBT)0.0111部を添加し、150℃から240℃に徐々に昇温しながらエステル交換反応を行った。エステル交換反応率が98%となった時点で、反応生成物を重合反応器に移し、高温真空下(最終内温290℃)にて重合反応を行ってポリエチレン−2,6−ナフタレートを得た。
<Production of polyester film>
0.0111 parts of titanium tetrabutoxide (TBT) was added to a mixture of 100 parts of dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate and 60 parts of ethylene glycol, and the ester exchange reaction was carried out while gradually raising the temperature from 150 ° C to 240 ° C. It was. When the transesterification rate reached 98%, the reaction product was transferred to a polymerization reactor and subjected to a polymerization reaction under high temperature vacuum (final internal temperature 290 ° C.) to obtain polyethylene-2,6-naphthalate. .

このポリエチレン−2,6−ナフタレート100部にフェニルホスホン酸0.0104部を添加し、V型ブレンダーにて混合した後、170℃にて5時間乾燥処理を行った。その後常法に従ってダイより溶融押出し、急冷して厚さ800μmの未延伸フィルムを作製し、次いで未延伸フィルムを縦方向に140℃で4.0倍、横方向に155℃で5.0倍の逐次二軸延伸を行い、更に220℃で10秒間熱固定を行って厚さ80μmの二軸配向フィルムを作製した。   0.0104 part of phenylphosphonic acid was added to 100 parts of this polyethylene-2,6-naphthalate, mixed with a V-type blender, and then dried at 170 ° C. for 5 hours. Thereafter, it is melt-extruded from a die according to a conventional method, and rapidly cooled to produce an unstretched film having a thickness of 800 μm. Sequential biaxial stretching was performed, and heat setting was further performed at 220 ° C. for 10 seconds to prepare a biaxially oriented film having a thickness of 80 μm.

上記作製したポリカーボネート系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリエステル系フィルムを、実施例1のセルロースエステルフィルム1の代わりに各々用いて、実施例1の微粒子添加による防眩性反射防止フィルム1、フレキソ印刷法による凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム6、インクジェット法による凸部状低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム7の作製方法と同様にして表3に記載の防眩性反射防止フィルム11〜19を作製し、次いで得られた防眩性反射防止フィルム11〜19を用いて実施例1と同様にして偏光板11〜19、液晶表示装置11〜19を作製し、実施例1と同様な評価を行い下記表3に結果を記載した。   The above-prepared polycarbonate film, norbornene resin film, and polyester film are used in place of the cellulose ester film 1 of Example 1, respectively, and the antiglare antireflection film 1 and the flexographic printing method by adding fine particles of Example 1 are used. The antiglare antireflection film 6 having a convex-shaped low refractive index layer by the anti-glare antireflection film 6 having a convex low-refractive index layer by the ink jet method and the anti-glare antireflection film 7 having a convex low-refractive index layer by the inkjet method are described in Table 3. Antiglare antireflection films 11 to 19 were prepared, and then polarizing plates 11 to 19 and liquid crystal display devices 11 to 19 were prepared using the obtained antiglare antireflection films 11 to 19 in the same manner as in Example 1. The same evaluation as in Example 1 was performed, and the results are shown in Table 3 below.

Figure 2007187971
Figure 2007187971

上表から、支持体を変更しても実施例1の結果を再現し、微粒子添加による防眩性反射防止フィルムに比較して、本発明の防眩性反射防止フィルムは、防眩効果、ぎらつき、コントラストに優れていることが確認された。   From the above table, even if the support is changed, the result of Example 1 is reproduced, and compared with the antiglare antireflection film by adding fine particles, the antiglare antireflection film of the present invention has an antiglare effect, glare. It was confirmed that the contrast was excellent.

本発明に用いられるフレキソ印刷の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the flexographic printing used for this invention. ツーロール方式によるものフレキソ印刷の模式図である。It is a schematic diagram of the flexographic printing by a two-roll system. インキの供給を押出しコーターにより行うフレキソ印刷の模式図である。It is a schematic diagram of the flexographic printing which supplies ink with an extrusion coater. アニロックスロールの斜視図である。It is a perspective view of an anilox roll. アニロックスのセルを説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the cell of an anilox. 本発明に係るインクジェット方法に用いることの出来るインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the inkjet head which can be used for the inkjet method which concerns on this invention. 本発明で用いることの出来るインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the inkjet head part and nozzle plate which can be used by this invention. 本発明で好ましく用いることの出来るインクジェット方式の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the inkjet system which can be preferably used by this invention. スロットノズルスプレイ部を含むスロットノズルスプレイ装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the slot nozzle spray apparatus containing a slot nozzle spray part. スロットノズルスプレイ部とそこで形成される液滴の形成及び飛翔状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the formation and flight state of a slot nozzle spray part and the droplet formed there. ハードコート層上に形成される本発明に好ましい凸部状の低屈折率層の模式図である。It is a schematic diagram of the convex-shaped low refractive index layer preferable for this invention formed on a hard-coat layer. 本発明に係る凸部形成の一例を示した断面図と平面図の模式図である。It is a schematic diagram of a cross-sectional view and a plan view showing an example of forming a convex portion according to the present invention. フレキソ印刷により凸部形成を行う製造フローの一例である。It is an example of the manufacturing flow which performs convex part formation by flexographic printing. 防眩性反射防止フィルムを液晶表示装置に適用した時の観察時の環境を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the environment at the time of observation when an anti-glare antireflection film is applied to a liquid crystal display device.

符号の説明Explanation of symbols

1 シームレス樹脂版
2 樹脂版ロール
3 版胴
4 アニロックスロール
5 圧胴
6 ドクターブレード
7 ファンテンロール
8 インキ
9 押出しコーター
11 ハードコート層
10、502 基材フィルム
501 フィルムロール
503 コータ
504A、B、C バックロール
505A、B 乾燥ゾーン
506A、B、C UV照射部
508 インキ供給タンク
509 フレキソ樹脂版
510 アニロックスロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Seamless resin plate 2 Resin plate roll 3 Plate cylinder 4 Anilox roll 5 Impression cylinder 6 Doctor blade 7 Fan ten roll 8 Ink 9 Extrusion coater 11 Hard coat layer 10, 502 Base film 501 Film roll 503 Coater 504A, B, C Back roll 505A, B Drying zone 506A, B, C UV irradiation unit 508 Ink supply tank 509 Flexographic resin plate 510 Anilox roll

Claims (10)

支持体上にハードコート層と凸部状に形成された低屈折率層とを有することを特徴とする防眩性反射防止フィルム。 An antiglare antireflection film comprising a hard coat layer and a low refractive index layer formed in a convex shape on a support. 前記凸部状に形成された低屈折率層がハードコート層表面の85%以上の面積を被覆していることを特徴とする請求項1に記載の防眩性反射防止フィルム。 The anti-glare antireflection film according to claim 1, wherein the low refractive index layer formed in the convex shape covers an area of 85% or more of the surface of the hard coat layer. 前記凸部状に形成された低屈折率層の屈折率が1.5以下であり、かつ前記防眩性反射防止フィルムの表面の中心線平均粗さ(Ra)が0.5μm以下であり、かつ平均山谷間隔(Sm)が5〜200μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の防眩性反射防止フィルム。 The refractive index of the low refractive index layer formed in the convex shape is 1.5 or less, and the center line average roughness (Ra) of the surface of the antiglare antireflection film is 0.5 μm or less, The anti-glare antireflection film according to claim 1, wherein an average mountain valley interval (Sm) is 5 to 200 μm or less. 前記凸部状に形成された低屈折率層が少なくとも活性エネルギー線硬化型材料と低屈折率微粒子とを含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。 The anti-glare property according to any one of claims 1 to 3, wherein the low refractive index layer formed in the convex shape contains at least an active energy ray-curable material and low refractive index fine particles. Antireflection film. 前記凸部状に形成された低屈折率層が少なくともゾルゲル素材と低屈折率微粒子とを含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。 The anti-glare antireflection film according to any one of claims 1 to 3, wherein the low refractive index layer formed into a convex shape contains at least a sol-gel material and low refractive index fine particles. 前記支持体がセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、およびポリカーボネート系フィルムから選ばれる少なくとも1種のフィルムであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。 The said support body is at least 1 sort (s) of film chosen from a cellulose-ester type film, a polyester-type film, a norbornene-type resin film, and a polycarbonate-type film, The any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. Antiglare antireflection film. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルムを少なくとも一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。 A polarizing plate, wherein the antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 6 is bonded to at least one surface. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルムまたは請求項7に記載の偏光板を用いたことを特徴とする表示装置。 A display device using the antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 6 or the polarizing plate according to claim 7. 支持体上にハードコート層と凸部状に形成される低屈折率層を有し、該低屈折率層が印刷法、インクジェット法またはスプレイ加工により形成されることを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。 An antiglare reflection characterized by having a hard coat layer and a low refractive index layer formed in a convex shape on a support, and the low refractive index layer is formed by a printing method, an inkjet method or a spray process The manufacturing method of a prevention film. 前記凸部状に形成される低屈折率層が複数回の印刷、インクジェット、またはスプレイ加工により形成されることを特徴とする請求項9に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。 The method for producing an antiglare antireflection film according to claim 9, wherein the low refractive index layer formed in the convex shape is formed by a plurality of times of printing, ink jetting, or spraying.
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