JP2007025040A - Antiglare film, method for producing antiglare film, antiglare antireflection film, polarizing plate and display device - Google Patents

Antiglare film, method for producing antiglare film, antiglare antireflection film, polarizing plate and display device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antiglare film which has a desired fine concave-convex structure formed effectively and stably with good productivity, and which can effectively prevent reflection of outside light and reduction of contrast without causing decrease in the sharpness of a high-definition image due to reduction in pixel size, and a method for producing the antiglare film, and to further provide an antiglare antireflection film, a polarizing plate and a display device using the antiglare film. <P>SOLUTION: The method for producing the antiglare film includes: forming a patterned first hard coat layer comprising a water- and oil-repellent coat portion and non-coat portions on a base film; and convexly or concavely forming a second hard coat layer on the non-coat portions of the first hard coat layer by applying a hard coat material by an arbitrary applying method on the base film on which the first hard coat layer has been formed. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置に関し、より詳しくは表示装置において外光の写り込みが少なく、コントラストの低下を抑えた防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム、それらを用いた偏光板及び表示装置に関する。   The present invention relates to an antiglare film, a method for producing an antiglare film, an antiglare antireflection film, a polarizing plate and a display device, and more particularly, the display device has little reflection of external light and suppresses a decrease in contrast. The present invention relates to an antiglare film, a method for producing an antiglare film, an antiglare antireflection film, a polarizing plate and a display device using them.

近年、薄型軽量ノートパソコンの開発が進んでいる。それに伴って、液晶表示装置等の表示装置で用いられる偏光板の保護フィルムもますます薄膜化、高性能化への要求が強くなってきている。また、視認性向上のために反射防止層を設けたり、また、写り込みを防いだり、ギラツキの少ない表示性能を得るために表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与した、コンピュータやワープロ等の液晶画像表示装置(液晶ディスプレイともいう)が多く使用されるようになってきた。   In recent years, development of thin and light notebook computers has been progressing. Along with this, the demand for thinner and higher performance protective films for polarizing plates used in display devices such as liquid crystal display devices is also increasing. Also, a computer provided with an anti-glare layer for improving visibility, and also provided with an anti-glare layer that prevents reflections and scatters the reflected light with a rough surface to obtain display performance with less glare. A liquid crystal image display device (also referred to as a liquid crystal display) such as a word processor or the like has been widely used.

反射防止層や防眩層は用途に応じてさまざまな種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々の前面板を液晶ディスプレイの偏光子等に貼り合わせることで、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能または防眩機能等を付与する方法が用いられている。   Various types and performance improvements have been made to the antireflection layer and antiglare layer depending on the application, and various front plates with these functions are attached to the polarizer of a liquid crystal display, etc., to improve visibility on the display. Therefore, a method of providing an antireflection function or an antiglare function is used.

防眩層は、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置などの使用時に反射像の写り込みが気にならないようにするものである。   The antiglare layer reduces the visibility of the reflected image by blurring the outline of the image reflected on the surface, and reflection of the reflected image is noticeable when using an image display device such as a liquid crystal display, an organic EL display, or a plasma display. It is to prevent it from becoming.

画像表示装置の前面板最表面に適切な微細凹凸構造を設けることによって、上記のような性質を持たせることが出来る。例えば、微粒子を用いる方法(例えば、特許文献1参照。)、表面にエンボス加工を施す方法(例えば、特許文献2参照。)等種々の方法がある。   By providing an appropriate fine concavo-convex structure on the outermost surface of the front plate of the image display device, the above properties can be provided. For example, there are various methods such as a method using fine particles (for example, refer to Patent Document 1) and a method for embossing the surface (for example, refer to Patent Document 2).

しかしながら、微粒子を用いる方法では、バインダー層中に微粒子を含有させることのみによって微細凹凸構造を形成する為、微粒子を適切に分散することが必要とされるため、所望の微細凹凸構造を効果的に安定に形成することがむずかしく、防眩フィルムとしての十分なぎらつき防止効果を得ることに大きな障害を有していた。またエンボス加工により微細凹凸構造を形成する方法は、生産性に劣り、特に微細凹凸構造を安定に形成することは極めて困難である。   However, in the method using fine particles, since the fine concavo-convex structure is formed only by containing the fine particles in the binder layer, it is necessary to disperse the fine particles appropriately. It was difficult to form stably, and it had a great obstacle to obtaining a sufficient antiglare effect as an antiglare film. Moreover, the method of forming a fine concavo-convex structure by embossing is inferior in productivity, and it is extremely difficult to form a fine concavo-convex structure stably.

また、近年、画像表示装置のカラー化、高精細化に伴って、より視認性の優れた表示装置が求められている。例えば液晶表示装置の最表面は、これらの従来の防眩性フィルムでは不充分であり、またクリアハードコート反射防止フィルムでは蛍光灯の写り込みが問題となり、防眩性フィルム上に光干渉による反射防止層(低屈折率層)をコーティングした防眩性反射防止フィルムに関する技術が多数提案されている(例えば、特許文献3〜8参照。)。しかしながら、これらによってもより視認性の優れた表示装置を得る上で、充分な防眩性や反射防止性を得るまでに至っていない。
特開昭59−58036号公報 特開平6−234175号公報 特開2001−281410号公報 特開2004−4404号公報 特開2004−125985号公報 特開2004−24967号公報 特開2004−4777号公報 特開2003−121620号公報
In recent years, display devices with higher visibility have been demanded as color display and higher definition of image display devices have been developed. For example, the outermost surface of a liquid crystal display device is insufficient with these conventional anti-glare films, and with a clear hard coat anti-reflection film, there is a problem of reflection of fluorescent light, and reflection due to light interference on the anti-glare film. Many techniques relating to an antiglare antireflection film coated with a prevention layer (low refractive index layer) have been proposed (see, for example, Patent Documents 3 to 8). However, these methods have not yet achieved a sufficient antiglare property and antireflection property in obtaining a display device with higher visibility.
JP 59-58036 A JP-A-6-234175 JP 2001-281410 A Japanese Patent Laid-Open No. 2004-4404 JP 2004-125985 A JP 2004-24967 A JP 2004-4777 A JP 2003-121620 A

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、及びその製造方法を提供し、更にそれを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to effectively prevent the reflection of external light and the decrease in contrast without deteriorating the sharpness of a high-definition image due to a reduction in pixel size or the like. An anti-glare film in which a desired fine concavo-convex structure can be formed effectively and stably with good productivity, and a method for producing the same, and an anti-glare anti-reflection film using the same, a polarizing plate, and a display device Is to provide.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

(請求項1)
基材フィルム上に撥水撥油性を有する塗布部、非塗布部からなるパターン状の第1ハードコート層を形成し、次に該第1ハードコート層を形成した基材フィルム上に任意の塗布方法によりハードコート素材を塗布することにより、第1ハードコート層形成部以外の部分に第2ハードコート層を凸又は凹状に形成することを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。
(Claim 1)
Forming a patterned first hard coat layer consisting of a water- and oil-repellent coating part and a non-coating part on the base film, and then applying any coating on the base film on which the first hard coat layer is formed A method for producing an antiglare film, wherein a second hard coat layer is formed in a convex or concave shape in a portion other than the first hard coat layer forming portion by applying a hard coat material by the method.

(請求項2)
前記第1ハードコート層を塗布部、非塗布部からなるパターン状に形成する塗布法がフレキソ印刷法によることを特徴とする請求項1に記載の防眩性フィルムの製造方法。
(Claim 2)
2. The method for producing an antiglare film according to claim 1, wherein a coating method for forming the first hard coat layer in a pattern comprising a coating part and a non-coating part is a flexographic printing method.

(請求項3)
前記第2ハードコート層の凸又は凹構造の凸部又は凹部の高さが、前記第1ハードコート層面に対し、0.1〜1.5μm高いかもしくは低く、該凸部又は凹部の長辺が5〜100μm、かつ隣り合う凸部又は凹部間の平均中心間距離が10〜200μmであることを特徴とする請求項1または2に記載の防眩性フィルムの製造方法。
(Claim 3)
The height of the convex part or concave part of the second hard coat layer is 0.1 to 1.5 μm higher or lower than the first hard coat layer surface, and the long side of the convex part or concave part The method for producing an antiglare film according to claim 1 or 2, wherein the average center distance between adjacent convex portions or concave portions is 10 to 200 µm.

(請求項4)
前記第1ハードコート層、第2ハードコート層のいずれかが、0.5〜5μmの粒径の微粒子を、各層に対し5〜50質量%含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法。
(Claim 4)
Either of the first hard coat layer and the second hard coat layer contains 5 to 50 mass% of fine particles having a particle diameter of 0.5 to 5 µm with respect to each layer. The manufacturing method of the anti-glare film of any one of Claims 1.

(請求項5)
前記基材フィルムがセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びポリカーボネート系フィルムから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法。
(Claim 5)
5. The prevention according to claim 1, wherein the base film is at least one selected from a cellulose ester film, a polyester film, a norbornene resin film, and a polycarbonate film. A method for producing a dazzling film.

(請求項6)
前記第1ハードコート層に使用されるフレキソ印刷のインキが活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂を含有し、フレキソ印刷後、活性光線を照射するかまたは加熱して第1ハードコート層を硬化・固定することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法。
(Claim 6)
The flexographic ink used for the first hard coat layer contains an actinic ray curable resin or a thermosetting resin. After flexographic printing, the actinic ray is irradiated or heated to cure the first hard coat layer. -The method for producing an antiglare film according to any one of claims 1 to 5, wherein the film is fixed.

(請求項7)
前記第2ハードコート層に使用されるハードコート素材が活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂を含有し、第1ハードコート層の上に任意の塗布方法で第2ハードコート層を形成後、活性光線を照射するかまたは加熱して第2ハードコート層を硬化・固定することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法。
(Claim 7)
The hard coat material used for the second hard coat layer contains an actinic ray curable resin or a thermosetting resin, and after the second hard coat layer is formed on the first hard coat layer by any coating method, The method for producing an antiglare film according to any one of claims 1 to 6, wherein the second hard coat layer is cured and fixed by irradiation with an actinic ray or heating.

(請求項8)
請求項1〜7のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする防眩性フィルム。
(Claim 8)
An anti-glare film produced by the method for producing an anti-glare film according to claim 1.

(請求項9)
請求項8に記載の防眩性フィルムの表面上に少なくとも低屈折率層が積層されたことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
(Claim 9)
An antiglare antireflection film, wherein at least a low refractive index layer is laminated on the surface of the antiglare film according to claim 8.

(請求項10)
請求項8に記載の防眩性フィルムまたは請求項9に記載の防眩性反射防止フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。
(Claim 10)
A polarizing plate comprising the antiglare film according to claim 8 or the antiglare antireflection film according to claim 9.

(請求項11)
請求項8に記載の防眩性フィルム、請求項9に記載の防眩性反射防止フィルムまたは請求項10に記載の偏光板の少なくともいずれか一つを用いたことを特徴とする表示装置。
(Claim 11)
A display device comprising at least one of the antiglare film according to claim 8, the antiglare antireflection film according to claim 9, or the polarizing plate according to claim 10.

(請求項12)
基材フィルム上に塗布部、非塗布部からなるパターン状に形成された第1ハードコート層と、該基材フィルムの該非塗布部上に形成された第2ハードコート層とにより構成された粗面を有することを特徴とする防眩性フィルム。
(Claim 12)
A rough structure composed of a first hard coat layer formed in a pattern comprising a coated part and a non-coated part on a base film, and a second hard coat layer formed on the non-coated part of the base film. An antiglare film having a surface.

本発明により、画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、及びその製造方法を提供出来、更にそれを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置を提供することが出来る。   According to the present invention, it is possible to effectively prevent the reflection of external light and a decrease in contrast without deteriorating the sharpness of a high-definition image due to a reduction in pixel size, etc. An antiglare film formed stably and stably, and a method for producing the same, and an antiglare antireflection film, a polarizing plate and a display device using the film can be provided.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明の防眩性フィルムの製造方法は、シームレス樹脂版を用い、活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂を含有する透明樹脂インキを用い、フレキソ印刷により基材フィルムの表面に長辺が5〜100μmの円形もしくは楕円形の無印刷部を設け、かつ隣り合う無印刷部間の平均距離が10〜200μmのパターン状の撥水撥油性第1ハードコート層を乾燥後膜厚で0.1〜10μm転移印刷する。次いで活性光線を照射するかまたは加熱して硬化・固定し、さらにその上に、マイクログラビア法、フレキソ印刷法、インクジェット法、押出し塗布法等の薄膜塗布方法により、第2ハードコート層を均一塗布し、この際、第1ハードコート層が撥水撥油性を有する為、第1ハードコート層上に第2ハードコート層が塗布されず、第1ハードコート層以外の部分にパターン状に第2ハードコート層が形成される。次いで溶媒等が乾燥除去された後に、活性光線を照射するかまたは加熱して、第2ハードコート層を硬化・固定することにより、長辺が5〜100μmの円形もしくは楕円形の第2ハードコート層を設け、かつ隣り合うパターン間の平均距離が10〜200μm、高さが第1ハードコート層の面に対し、0.1〜1.5μmの凸状もしくは凹状の第2ハードコート層により、基材フィルムに微細凹凸構造を設け、防眩性を付与することを特徴とするものである。   The method for producing an antiglare film of the present invention uses a seamless resin plate, a transparent resin ink containing an actinic ray curable resin or a thermosetting resin, and has a long side of 5 on the surface of the base film by flexographic printing. A pattern-shaped water / oil-repellent first hard coat layer having a circular or elliptical non-printing portion of -100 μm and an average distance between adjacent non-printing portions of 10-200 μm is 0.1 in terms of film thickness after drying. 10 μm transfer printing. Next, irradiate with actinic light or heat to cure and fix, and then apply a second hard coat layer on it by a thin film coating method such as microgravure method, flexographic printing method, ink jet method, extrusion coating method, etc. At this time, since the first hard coat layer has water and oil repellency, the second hard coat layer is not applied on the first hard coat layer, and the second hard coat layer is patterned in a portion other than the first hard coat layer. A hard coat layer is formed. Next, after the solvent and the like are dried and removed, the second hard coat layer is cured and fixed by irradiating actinic rays or heating to form a second hard coat having a circular or elliptical shape having a long side of 5 to 100 μm. A second hard coat layer having a convex or concave shape of 0.1 to 1.5 μm with respect to the surface of the first hard coat layer having an average distance between adjacent patterns of 10 to 200 μm and a height, The substrate film is provided with a fine concavo-convex structure to impart antiglare properties.

この方法によれば、印刷速度を10m/毎分以上、500m/毎分という速度でも防眩性フィルムを作製することが出来、高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、それを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置が得られることを見出したものである。   According to this method, an anti-glare film can be produced even at a printing speed of 10 m / min or more and 500 m / min, and reflection of external light can be achieved without deteriorating the sharpness of high-definition images. And an anti-glare film that can effectively and stably form a desired fine uneven structure with good productivity, an anti-glare anti-reflection film, a polarizing plate and a display device using the same Has been found to be obtained.

《第1ハードコート層、第2ハードコート層の形成》
《フレキソ印刷》
最初に、基材フィルム上に撥水撥油性を有する塗布部、非塗布部からなるパターン状の第1ハードコート層を形成する際に好ましく用いられるフレキソ印刷について説明する。
<< Formation of first hard coat layer and second hard coat layer >>
<Flexo printing>
First, flexographic printing that is preferably used when forming a patterned first hard coat layer composed of a coated portion and a non-coated portion having water and oil repellency on a base film will be described.

一般にフレキソ印刷とは、フレキシブルなゴム又は樹脂からなる凸版と、水又はアルコールを主とする溶剤系の蒸発乾燥型のインキを用いた印刷方法である。被印刷体は、紙の他にポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリスチレンなどの延伸、又は未延伸樹脂フィルムなど吸収性、非吸収性のフィルムの印刷に多用されていた。一方、ドラム型の印刷機(単胴型、共通圧胴型)は、中央の大きい単一の圧胴の周囲に4〜6個の印刷ユニットを設けたもので、長尺帯状の被印刷体は圧胴に巻かれた状態で走行・印刷される特徴がある。したがって、薄くて伸縮しやすい、プラスチックフィルムやアルミニウム箔などの印刷にも適するものである。   In general, flexographic printing is a printing method using a relief printing plate made of a flexible rubber or resin and a solvent-based evaporation-drying ink mainly composed of water or alcohol. In addition to paper, printed materials have been frequently used for printing absorbent and non-absorbable films such as polyethylene, polyvinyl chloride, polypropylene, polystyrene and other stretched or unstretched resin films. On the other hand, a drum-type printing machine (single cylinder type, common impression cylinder type) is provided with four to six printing units around a single large impression cylinder at the center, and is a long belt-shaped printing medium. Has the feature of running and printing in a state of being wound around an impression cylinder. Therefore, it is suitable for printing on a plastic film or aluminum foil that is thin and easily stretched.

本発明者らは防眩性フィルムに関する上記課題について鋭意検討した結果、基材フィルム表面へフレキソ印刷を用いて撥水撥油性を有する第1ハードコート層を塗布部、非塗布部からなるパターン状に形成し、更にその上に第2ハードコート層を、該第1ハードコート層の塗布部以外の部分に凸状又は凹状に形成することにより、高度な生産性を維持したまま微細凹凸構造を形成し、上記課題を改善出来ることを見出したものである。前記防眩性フィルムの製造方法を記載した先行文献の記載にはフレキソ印刷による製造を挙げているものもあるが、その方法名を挙げているのみであり、本発明を具体的に示唆するものは見当たらない。   As a result of intensive studies on the above-mentioned problems concerning the antiglare film, the present inventors have determined that the first hard coat layer having water and oil repellency by using flexographic printing on the surface of the base film is a pattern comprising an application part and a non-application part. In addition, the second hard coat layer is formed in a convex shape or a concave shape on the portion other than the coating portion of the first hard coat layer, thereby forming a fine concavo-convex structure while maintaining high productivity. It has been found that the above problem can be improved by forming. Some of the prior literatures describing the production method of the antiglare film mention the production by flexographic printing, but only mention the name of the method, and specifically suggest the present invention. Is not found.

まず本発明に好ましく用いられるフレキソ印刷について図をもって説明する。   First, flexographic printing preferably used in the present invention will be described with reference to the drawings.

図1、図2は本発明に係るフレキソ印刷の一例を示す模式図である。   1 and 2 are schematic views showing an example of flexographic printing according to the present invention.

連続走行する基材フィルム10は圧胴5と樹脂版ロール2と転移印刷後に基材フィルム上に微細凹凸構造を形成するシームレス樹脂版1によって構成される版胴3に挟まれ、ドクターブレード6によって転移インキ量が調整されたアニロックスロール4によってインキ8を版胴3に供給し基材フィルム上に転移印刷される。   The substrate film 10 that runs continuously is sandwiched between a plate cylinder 3 constituted by an impression cylinder 5, a resin plate roll 2, and a seamless resin plate 1 that forms a fine uneven structure on the substrate film after transfer printing. The ink 8 is supplied to the plate cylinder 3 by the anilox roll 4 in which the transfer ink amount is adjusted, and transfer printing is performed on the base film.

フレキソ印刷における、版胴3に対するインキ供給は、アニロックスロール4により行われ、アニロックスロール面のインキ量の制御は、図1に示すドクターブレード方式、又は図2に示すツーロール方式によるものなどが一般的に知られている。図2に示すツーロール方式は、インキパンからインキ8をファウンテンロール7でアニロックスロール4に、更に版胴3にインキを供給し、基材フィルム10にインキを転移印刷するものである。図2の方式によればインキ8は、アニロックスロール4の彫刻線数、セルの深さ及び形状で調整する他に、ファウンテンロール7とアニロックスロール4間の(変動し易い)ニップ圧の強弱でインキ供給量を制御するものでありインキの転移量が安定しないという問題がある為、本発明では図1の方法が好ましい。   In flexographic printing, ink supply to the plate cylinder 3 is performed by the anilox roll 4, and the amount of ink on the anilox roll surface is generally controlled by the doctor blade method shown in FIG. 1 or the two-roll method shown in FIG. Known to. In the two-roll system shown in FIG. 2, the ink 8 is transferred from the ink pan to the anilox roll 4 by the fountain roll 7 and further supplied to the plate cylinder 3 to transfer the ink to the base film 10. In addition to adjusting the number of engraved lines of the anilox roll 4, the depth of the cell, and the shape of the ink 8 according to the method of FIG. 2, the nip pressure between the fountain roll 7 and the anilox roll 4 (which tends to fluctuate) The method shown in FIG. 1 is preferred in the present invention because the ink supply amount is controlled and there is a problem that the ink transfer amount is not stable.

また別の方式として、図3にインキの供給を押出しコーターにより行うフレキソ印刷の模式図を示す。   As another method, FIG. 3 shows a schematic diagram of flexographic printing in which ink is supplied by an extrusion coater.

インキ8は押出しコーター9により樹脂版ロール2に装着されたシームレス樹脂版1上に直接押し出され、版胴3と圧胴5に挟まれ連続走行している基材フィルム10に転移印刷される。この装置の場合はアニロックスロールが無いため、インキの供給量は押出しコーターの精度に左右される。   The ink 8 is directly extruded onto the seamless resin plate 1 mounted on the resin plate roll 2 by an extrusion coater 9, and is transferred and printed onto a base film 10 that is sandwiched between the plate cylinder 3 and the impression cylinder 5 and continuously running. In this apparatus, since there is no anilox roll, the amount of ink supplied depends on the accuracy of the extrusion coater.

図1に示すドクターブレード方式における、版胴3へのインキ転移量は、アニロックスロール4の彫刻線数とセルの形状で決まりインキ転移量としては安定出来るものである。そして、アニロックスロールのセルに充填するインキは、アニロックスロール表面の過剰インキをドクターブレードで掻きとるため、転移するインキは彫刻線数とセルの形状、容積で決められるものである。そして、アニロックスロールのセルは、例えば鉄シリンダー表面に必要に応じて銅メッキを施して、その面に彫刻でセルを形成し、ニッケル或いはクロムメッキで硬度のある表面加工を行う。アニロックスロールの材質は、鉄シリンダー表面に銅メッキ等を行ったタイプ、またはセラミックコーテイングしたタイプがあるが、本発明では耐摩耗性及び、彫刻線数の細線化が容易な点からセラミックコーテイングしたタイプが好ましい。   In the doctor blade system shown in FIG. 1, the amount of ink transferred to the plate cylinder 3 is determined by the number of engraved lines of the anilox roll 4 and the shape of the cell, and can be stabilized as the amount of ink transferred. The ink that fills the cells of the anilox roll scrapes excess ink on the surface of the anilox roll with a doctor blade. Therefore, the transferred ink is determined by the number of engraving lines, the shape of the cell, and the volume. Then, the anilox roll cell is subjected to, for example, copper plating on the surface of the iron cylinder as necessary, the cell is formed on the surface by engraving, and the surface processing with hardness is performed by nickel or chromium plating. The material of anilox roll includes a type in which the surface of the iron cylinder is plated with copper or the like, or a type with ceramic coating. In the present invention, however, the type is ceramic coated in terms of wear resistance and easy thinning of the number of engraving lines. Is preferred.

図4はアニロックスロールの斜視図である。   FIG. 4 is a perspective view of the anilox roll.

図5はアニロックスのセルを説明するための斜視図である。   FIG. 5 is a perspective view for explaining an anilox cell.

アニロックスロール4は、図4に示すようにセラミックス面を、銅面に設けるグラビア版と同様に化学腐食によっても形成出来るが、腐食液の処理や深さのばらつきを生じ易い点から、機械もしくはレーザー彫刻によりセルbを設けることが望ましい。そして、アニロックスロールの表面は、通常ミルによる押圧加工の後クロムメッキ加工して作られるが耐摩耗性、耐食性及びインキ転移性の点から酸化クローム、タングステンカ−バイドなどの無機酸化物を熔射形成したものが好ましい。   As shown in FIG. 4, the anilox roll 4 can be formed by chemical corrosion in the same manner as a gravure plate provided on a copper surface. It is desirable to provide the cell b by engraving. The surface of anilox roll is usually made by chrome plating after pressing with a mill, but it is sprayed with inorganic oxides such as chromium oxide and tungsten carbide from the viewpoint of wear resistance, corrosion resistance and ink transferability. Those formed are preferred.

アニロックスロール4の彫刻形状は、格子型のセルの他に、図示はしないが、ヘリカル型、ピラミッド型、斜線型、六角形状のハニカムパターンなどの形状があり、特に限定されるものではないが、高速印刷時におけるインキ転移の再現性の点からハニカムパターンであることが好ましい。そして、図4及び図5に示す彫刻線数やセルbの深さdは、インキの転移量に大きな影響を与えるもので、本発明に係る防眩性フィルム表面上の微細凹凸構造を形成するには、600線/2.54cm以上、セルの深さdが5〜30μmであることが好ましい。彫刻形状と線数の選択は被印刷体の種類や印刷スクリーン線数に合せて考慮されるが、被吸収性が少ないプラスチックフィルムには線数の細かいものが好ましく使用される。そして、セルの土手a(非凹部)は、耐摩耗性に支障がない程度に小さく設けた方がインキチャージ量を多く出来る点から好ましく、具体的には土手幅wをセル幅の0.1〜0.5倍に設けることが好ましい。アニロックスロールは、フレキソ印刷において版面にインキ量の供給量をドクタリングで制御するものである。そして、ドクタリングの過程で摩耗・損傷が起こり、セルが浅くなりインキ転移量が減少する原因となる。したがって、従来の金属(鉄、又は銅に彫刻、クロームメッキ仕上げ)と比較して、セラミックスのアニロックスロールは、ドクターリングによる摩耗量が少なく凹凸パターンの繰り返し安定性に大きく貢献出来るものである。   The sculpture shape of the anilox roll 4 is not particularly limited in addition to the lattice type cell, although there are shapes such as a helical type, a pyramid type, a diagonal type, a hexagonal honeycomb pattern, etc. A honeycomb pattern is preferable from the viewpoint of reproducibility of ink transfer during high-speed printing. The number of engraving lines and the depth d of the cell b shown in FIGS. 4 and 5 greatly affect the amount of ink transferred, and form a fine uneven structure on the antiglare film surface according to the present invention. It is preferable that 600 lines / 2.54 cm or more and the cell depth d is 5 to 30 μm. The selection of the engraving shape and the number of lines is considered in accordance with the type of substrate to be printed and the number of lines on the printing screen. However, a plastic film with a small number of lines is preferably used for a plastic film with low absorbability. And it is preferable that the bank a (non-recessed portion) of the cell should be small enough not to affect the wear resistance from the viewpoint that the ink charge amount can be increased. Specifically, the bank width w is set to 0.1 as the cell width. It is preferable to provide it at ˜0.5 times. The anilox roll controls the amount of ink supplied to the plate surface by flexing in flexographic printing. And abrasion and damage occur in the process of doctoring, which causes the cell to become shallow and the ink transfer amount to decrease. Therefore, compared with the conventional metal (iron or copper engraving, chrome plating finish), the ceramic anilox roll has little wear due to doctor ring and can greatly contribute to the repetitive stability of the uneven pattern.

本発明は、好ましくは図1に示すようなフレキソ印刷装置により、50〜1000mm径のシームレス樹脂版1を樹脂版ロール2に装着した版胴3と、好ましくはセラミックスコーティングしたアニロックスロール4とを用いて、基材フィルム10にインキを転移印刷し、活性光線を照射するかまたは加熱して、基材フィルム上に撥水撥油性を有する塗布部、非塗布部からなるパターン状の第1ハードコート層を形成するものである。   The present invention preferably uses a plate cylinder 3 on which a seamless resin plate 1 having a diameter of 50 to 1000 mm is mounted on a resin plate roll 2 and preferably an anilox roll 4 coated with ceramics by a flexographic printing apparatus as shown in FIG. First, a patterned first hard coat comprising an application part and a non-application part having water and oil repellency on the base film by transferring and printing ink onto the base film 10 and irradiating or heating with actinic rays The layer is formed.

上記樹脂版ロール2の材質は特に限定されるものではなく、強度を維持出来るものであればよく、鉄、ステンレス、アルミ等の金属、または合成または天然ゴムであることが好ましく、金属とゴムの複合部材でもよい。本発明では樹脂版ロール2の径はシームレス樹脂版1が樹脂版ロール2に装着された時の径(ロールの直径)が50〜1000mmの範囲になるように選択されればよい。シームレス樹脂版1の径が50mm未満では回転速度が速過ぎて強度を維持出来ないこと、また撥水撥油性を有する塗布部、非塗布部からなるパターンの繰り返しの周期が短くて防眩効果が低下することがあり好ましくない。径が1000mmを超えると、装置が大きくなり過ぎて運転費用がかかりコスト的に不利であり、また回転むらが生じやすくパターン形成の精度が低下する。   The material of the resin plate roll 2 is not particularly limited as long as it can maintain strength, and is preferably a metal such as iron, stainless steel, or aluminum, or a synthetic or natural rubber. A composite member may be used. In the present invention, the diameter of the resin plate roll 2 may be selected so that the diameter (roll diameter) when the seamless resin plate 1 is mounted on the resin plate roll 2 is in the range of 50 to 1000 mm. If the diameter of the seamless resin plate 1 is less than 50 mm, the rotation speed is too fast to maintain the strength, and the repetition cycle of the pattern composed of the water- and oil-repellent coated part and the non-coated part is short, resulting in an anti-glare effect. It may decrease and is not preferable. If the diameter exceeds 1000 mm, the apparatus becomes too large, which is expensive to operate and disadvantageous in terms of cost. In addition, uneven rotation tends to occur, and the accuracy of pattern formation decreases.

本発明のシームレス樹脂版1に用いる樹脂版は、光反応物質であるポリマーとモノマーとの光重合を応用した感光性樹脂版を用いることが好ましい。この感光性樹脂版は、フォトポリマー、紫外線の露光により光重合するモノマー、ポリマーとモノマー間とで光重合を開始する増感剤、及び版材の物理的性状を調整する可塑剤等の組成物から構成され、感光性樹脂版上に従来のマスク製版により上記パターンを刻印するか、または、シリンダー(軸芯)の全面に塗布等により設けた感光性樹脂層にレーザー光を照射することにより直接該パターンを彫刻することも出来る。   The resin plate used in the seamless resin plate 1 of the present invention is preferably a photosensitive resin plate to which photopolymerization of a photoreactive substance polymer and a monomer is applied. This photosensitive resin plate is composed of a photopolymer, a monomer photopolymerized by exposure to ultraviolet light, a sensitizer that initiates photopolymerization between the polymer and the monomer, and a plasticizer that adjusts the physical properties of the plate material. The above pattern is engraved on the photosensitive resin plate by a conventional mask plate making, or directly applied by irradiating the photosensitive resin layer provided on the entire surface of the cylinder (axial core) by laser light. The pattern can also be engraved.

本発明において用いる感光性樹脂組成物は、フレキソ印刷版用として公知のものが使用出来る。一般的にはバインダーポリマーと少なくとも一種のエチレン性不飽和モノマーと光開始剤を主成分とする組成物が用いられる。さらに、この感光性樹脂層に要求される特性に応じて増感剤、熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤などの添加剤を含むことが出来る。   As the photosensitive resin composition used in the present invention, those known for flexographic printing plates can be used. In general, a composition mainly composed of a binder polymer, at least one ethylenically unsaturated monomer and a photoinitiator is used. Furthermore, additives such as a sensitizer, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, and a colorant can be included depending on the properties required for the photosensitive resin layer.

バインダーポリマーとしては、例えばモノビニル置換芳香族炭化水素モノマーと共役ジエンモノマーを重合して得られる熱可塑性エラストマーが用いられる。モノビニル置換芳香族炭化水素モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン等が、また共役ジエンモノマーとしてはブタジエン、イソプレン等が挙げられる。具体例としてはスチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体や、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体などを挙げることが出来る。   As the binder polymer, for example, a thermoplastic elastomer obtained by polymerizing a monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon monomer and a conjugated diene monomer is used. Examples of the monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon monomer include styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene and the like, and examples of the conjugated diene monomer include butadiene and isoprene. Specific examples include a styrene-butadiene-styrene block copolymer and a styrene-isoprene-styrene block copolymer.

少なくとも一種のエチレン性不飽和モノマーとしては、バインダーポリマーと相溶性のあるもので、例えばt−ブチルアルコールやラウリルアルコールなどのアルコールとアクリル酸、メタクリル酸とのエステル、或いはラウリルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミドなどのマレイミド誘導体、又はジオクチルフマレートなどのアルコールとフマール酸のエステル、さらにはヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなどの多価アルコールとアクリル酸、メタクリル酸とのエステルなどを挙げることが出来る。   The at least one ethylenically unsaturated monomer is compatible with a binder polymer, for example, an ester of an alcohol such as t-butyl alcohol or lauryl alcohol with acrylic acid or methacrylic acid, or lauryl maleimide, cyclohexyl maleimide, benzyl Maleimide derivatives such as maleimide, or alcohol and fumaric acid esters such as dioctyl fumarate, and polyhydric alcohols such as hexanediol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate And esters of acrylic acid and methacrylic acid.

光開始剤としては、ベンゾフェノンのような芳香族ケトン類やベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチロールベンゾインメチルエーテル、α−メトキシベンゾインメチルエーテル、2,2−ジエトキシフェニルアセトフェノン等のベンゾインエーテル類などの公知の光重合開始剤の中から選択し、また組み合わせて使用される。   Photoinitiators include aromatic ketones such as benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, α-methylol benzoin methyl ether, α-methoxybenzoin methyl ether, 2,2-diethoxyphenylacetophenone, etc. These are selected from known photopolymerization initiators such as benzoin ethers and used in combination.

感光性樹脂層は種々の方法で調製することが出来る。例えば配合される原料を適当な溶媒、例えばクロロホルム、テトラクロルエチレン、メチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に溶解させて混合し、コーターにより適当な支持体上に塗布して設けることも出来るし、型枠の中に流延して溶剤を蒸発させ、そのまま板とすることが出来る。また溶剤を用いず、ニーダー或いはロールミルで混練し、押し出し機、射出成形機、プレスなどにより所望の厚さの板に成形することが出来る。   The photosensitive resin layer can be prepared by various methods. For example, the raw materials to be blended can be dissolved and mixed in a suitable solvent such as chloroform, tetrachloroethylene, methyl ethyl ketone, toluene, etc., and coated on a suitable support with a coater. It can be cast into the plate as it is to evaporate the solvent. Moreover, it can knead | mix with a kneader or a roll mill, without using a solvent, and can shape | mold into the board of desired thickness with an extruder, an injection molding machine, a press.

感光性樹脂シートを樹脂版ロールに巻き付けるにあたっては、シームレス樹脂版を形成する為に感光性樹脂の端部同士に隙間が出来ないよう、正確にシートを切断して用いることが必要である。通常感光性樹脂版を樹脂版ロールに巻き付けた後、感光性樹脂の軟化点以上に加温して感光性樹脂の端部同士を溶融接着させる。加温時間は通常20分から1時間で、温度と樹脂の軟化点に応じて端部同士が融着することを目安に決められる。次いでグラインダーで感光性樹脂表面を研磨してつなぎ目を完全に無くすと同時に精度を出した後、感光性樹脂の軟化点以上に再度加温処理を行うことがシームレス化において好ましい。その時間は温度によるが10から40分程度で、感光性樹脂表面全体に光沢が見られるようになるまで行う。長時間加温し続けると印刷版としての精度が損なわれるので一時間以内で処理することが望ましい。またベース材であるゴム、ポリエステルフィルム、アルミニウム板、スチール板或いは、シリンダーに装着出来るアルミニウム製樹脂版ロールに直接継ぎ目がないように感光性樹脂層を塗設しシームレス化することも出来る。   When the photosensitive resin sheet is wound around the resin plate roll, it is necessary to accurately cut and use the sheet so that there is no gap between the ends of the photosensitive resin in order to form a seamless resin plate. Usually, after the photosensitive resin plate is wound around the resin plate roll, the photosensitive resin is heated to a temperature higher than the softening point of the photosensitive resin, and the ends of the photosensitive resin are melt-bonded. The heating time is usually 20 minutes to 1 hour, and is determined based on the fact that the ends are fused according to the temperature and the softening point of the resin. Next, it is preferable for seamlessness that the surface of the photosensitive resin is polished by a grinder to completely eliminate the joint, and at the same time the accuracy is increased, and then the heating treatment is performed again above the softening point of the photosensitive resin. Although the time depends on the temperature, it is about 10 to 40 minutes, and is performed until the entire surface of the photosensitive resin becomes glossy. If the heating is continued for a long time, the accuracy of the printing plate is impaired, so it is desirable to process within one hour. In addition, a photosensitive resin layer can be applied seamlessly so that there is no direct seam on the base material such as rubber, polyester film, aluminum plate, steel plate, or aluminum resin plate roll that can be mounted on a cylinder.

本発明ではシームレス樹脂版のゴム硬度は30〜80度の範囲であることが好ましく、精度よく安定した微細凹凸構造の転移印刷を行う上で樹脂版のゴム硬度がこの範囲にあることが好ましい。ロール状シームレス樹脂版1のゴム硬度は、樹脂版の厚みによっても影響される為、厚みが0.5〜10mmの範囲の樹脂版において30〜80度の範囲であることが好ましい。より好ましくは40〜80度の範囲である。   In the present invention, the rubber hardness of the seamless resin plate is preferably in the range of 30 to 80 degrees, and it is preferable that the rubber hardness of the resin plate be in this range in order to perform transfer printing of a fine uneven structure with accuracy and stability. Since the rubber hardness of the roll-shaped seamless resin plate 1 is also affected by the thickness of the resin plate, it is preferably in the range of 30 to 80 degrees in the resin plate having a thickness in the range of 0.5 to 10 mm. More preferably, it is in the range of 40 to 80 degrees.

樹脂版のゴム硬度が30度未満であると、版が柔らか過ぎて所望の微細凹凸構造を形成するのに難があり、また版自体も摩耗し易くなる為好ましくない。樹脂版のゴム硬度が80度を超えると、版胴が高速回転して印刷する際の柔軟性に欠けインキ転移量の再現性に乏しくなる。ゴム硬度はJIS K 6253に記載の方法に準じてデュロメータ等で測定した値で示される。   If the rubber hardness of the resin plate is less than 30 degrees, the plate is too soft and it is difficult to form a desired fine concavo-convex structure, and the plate itself is easily worn, which is not preferable. When the rubber hardness of the resin plate exceeds 80 degrees, the plate cylinder rotates at a high speed and lacks flexibility when printing and the reproducibility of the ink transfer amount becomes poor. The rubber hardness is indicated by a value measured with a durometer or the like according to the method described in JIS K 6253.

シームレス樹脂版上に塗布部、非塗布部からなるパターンを刻印する方法としてマスク製版が利用される。マスク製版では、感光性樹脂材料の層を設けた樹脂版に原版マスクであるネガフィルムでカバーして露光する。感光性樹脂層は光、特に波長350〜450nmの紫外線エネルギーで硬化、或いは不溶化するものである。未露光部の未硬化樹脂は水、アルカリ水溶液、或いはアルコールなどの有機溶剤に可溶性の状態で維持される。したがって、未露光部をそれに応じた溶剤で洗い出す(現像工程)ことにより、露光された部分のみが残って凸版(フレキソ版)を形成するものである。   A mask plate making is used as a method for imprinting a pattern composed of a coating portion and a non-coating portion on a seamless resin plate. In mask plate making, a resin plate provided with a layer of a photosensitive resin material is covered with a negative film as an original mask and exposed. The photosensitive resin layer is cured or insolubilized by light, particularly ultraviolet energy having a wavelength of 350 to 450 nm. The uncured resin in the unexposed portion is maintained in a soluble state in water, an aqueous alkali solution, or an organic solvent such as alcohol. Therefore, by washing out the unexposed portion with a solvent corresponding to the unexposed portion (developing step), only the exposed portion remains and forms a relief plate (flexographic plate).

また、最近の刷版方法としては、修正画像信号に基づいて硬化済の樹脂版に直接レーザー光或いは彫刻機で彫刻することにより完全なエンドレス版を作製することが出来る。或いは、未露光の感光性樹脂版に円筒状のまま修正済画像信号で変調されたレーザー光で走査しパターニングした後通常の方法で現像する方法がエンドレスの版を形成する上からも好ましい。   Further, as a recent printing plate method, a complete endless plate can be produced by directly engraving a cured resin plate with a laser beam or an engraving machine based on a corrected image signal. Alternatively, an unexposed photosensitive resin plate is scanned with a laser beam modulated with a corrected image signal in the form of a cylinder and patterned, and then developed by a normal method, from the viewpoint of forming an endless plate.

本発明の第1ハードコート層は、基材フィルム上に撥水撥油性を有する塗布部、非塗布部からなるパターン状に形成されていることが特徴である。   The first hard coat layer of the present invention is characterized in that it is formed in a pattern comprising a coated part and a non-coated part having water and oil repellency on the substrate film.

本発明における撥水撥油性とは、第1ハードコート層のテトラデカンに対する接触角で規定することが出来、該接触角を10°以上とすることが撥水撥油性に対し好ましく、さらに好ましくは20°以上とすることである。   The water / oil repellency in the present invention can be defined by the contact angle of the first hard coat layer with respect to tetradecane, and the contact angle is preferably 10 ° or more with respect to the water / oil repellency, more preferably 20 It should be more than °.

本発明の第1ハードコート層用インキは撥水撥油性を発現させるために、撥水撥油成分を含んでいることが好ましい。本発明の第1ハードコート層用インキは、シリコーンオイル、変性シリコーンオイル、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、フッ素系樹脂、フッ素系オリゴマー、フッ素変性シリコーンオイル、フッ素系シランカップリング剤等の撥油剤を0.1質量部以上50質量部以下含有することが好ましい。さらに好ましくは、シリコーンオイル、変性シリコーンオイルを0.1質量部以上10質量部以下含有することが好ましい。添加量が多すぎると、ハードコート性が損われることがあり、少なすぎると撥水撥油効果が得られない。使用する撥水撥油剤の種類は、第1ハードコート層の上に塗布する第2ハードコート層溶媒にも依存する。   The first hard coat layer ink of the present invention preferably contains a water / oil repellent component in order to exhibit water / oil repellency. The first hard coat layer ink of the present invention includes silicone oil, modified silicone oil, silicone surfactant, fluorine surfactant, fluorine resin, fluorine oligomer, fluorine modified silicone oil, and fluorine silane coupling agent. It is preferable to contain an oil repellent such as 0.1 to 50 parts by mass. More preferably, it is preferable to contain 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less of silicone oil and modified silicone oil. If the amount added is too large, the hard coat property may be impaired, and if it is too small, the water / oil repellent effect cannot be obtained. The type of water / oil repellent used depends on the second hard coat layer solvent applied on the first hard coat layer.

(シリコーンオイルまたはシリコーン界面活性剤)
本発明に用いられるシリコーンオイルは、ケイ素原子に結合した有機基の種類により、ストレートシリコーンオイルと変性シリコーンオイルに大別できる。ストレートシリコーンオイルとは、メチル基、フェニル基、水素原子を置換基として結合したものをいう。変性シリコーンオイルとは、ストレートシリコーンオイルから二次的に誘導された構成部分をもつものである。一方、シリコーンオイルの反応性からも分類することができる。これらをまとめると、以下のようになる。
(Silicone oil or silicone surfactant)
Silicone oils used in the present invention can be broadly classified into straight silicone oils and modified silicone oils depending on the type of organic groups bonded to silicon atoms. Straight silicone oil refers to those bonded with a methyl group, a phenyl group, or a hydrogen atom as a substituent. A modified silicone oil is one having a component that is secondarily derived from a straight silicone oil. On the other hand, it can be classified from the reactivity of silicone oil. These are summarized as follows.

シリコーンオイル
1.ストレートシリコーンオイル
1−1.非反応性シリコーンオイル:ジメチル、メチルフェニル置換等
1−2.反応性シリコーンオイル:メチル水素置換等
2.変性シリコーンオイル
ジメチルシリコーンオイルに、さまざまな有機基を導入することで生まれたものが、変性シリコーンオイル
2−1.非反応性シリコーンオイル:アルキル、アルキル/アラルキル、アルキル/ポリエーテル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル置換等、
アルキル/アラルキル変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を長鎖アルキル基あるいはフェニルアルキル基に置換えたシリコーンオイル、
ポリエーテル変性シリコーンオイルは、親水性のポリオキシアルキレンを疎水性のジメチルシリコーンに導入したシリコーン系高分子界面活性剤、
高級脂肪酸変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を高級脂肪酸エステルに置換えたシリコーンオイル、
アミノ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をアミノアルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、
エポキシ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をエポキシ基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、
カルボキシル変性あるいはアルコール変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をカルボキシル基あるいは水酸基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル
2−2.反応性シリコーンオイル:アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコール置換等
これらの内、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1000〜100000、好ましくは2000〜50000が適当であり、数平均分子量が1000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。
Silicone oil Straight silicone oil 1-1. Non-reactive silicone oil: dimethyl, methylphenyl substitution, etc. 1-2. Reactive silicone oil: methyl hydrogen substitution, etc. Modified silicone oil Modified silicone oil was born by introducing various organic groups into dimethyl silicone oil 2-1. Non-reactive silicone oil: alkyl, alkyl / aralkyl, alkyl / polyether, polyether, higher fatty acid ester substitution, etc.
Alkyl / aralkyl-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of methyl group of dimethyl silicone oil is replaced with a long-chain alkyl group or a phenylalkyl group,
Polyether-modified silicone oil is a silicone-based polymer surfactant in which hydrophilic polyoxyalkylene is introduced into hydrophobic dimethyl silicone,
Higher fatty acid-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of methyl group of dimethyl silicone oil is replaced with higher fatty acid ester,
Amino-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of methyl group of silicone oil is substituted with aminoalkyl group,
The epoxy-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is replaced with an epoxy group-containing alkyl group,
The carboxyl-modified or alcohol-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with a carboxyl group or a hydroxyl group-containing alkyl group 2-2. Reactive silicone oil: amino, epoxy, carboxyl, alcohol substitution, etc. Of these, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2000 to 50,000. If the number average molecular weight is less than 1,000, the drying property of the coating film decreases, and conversely, the number average molecular weight. When it exceeds 100,000, it tends to be difficult to bleed out to the coating surface.

具体的な商品としては、日本ユニカー(株)社のL−45、L−9300、FZ−3704、FZ−3703、FZ−3720、FZ−3786、FZ−3501、FZ−3504、FZ−3508、FZ−3705、FZ−3707、FZ−3710、FZ−3750、FZ−3760、FZ−3785、FZ−3785、Y−7499、信越化学社のKF96L、KF96、KF96H、KF99、KF54、KF965、KF968、KF56、KF995、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、FL100等がある。   As specific products, Nippon Unicar Co., Ltd. L-45, L-9300, FZ-3704, FZ-3703, FZ-3720, FZ-3786, FZ-3501, FZ-3504, FZ-3508, FZ-3705, FZ-3707, FZ-3710, FZ-3750, FZ-3760, FZ-3785, FZ-3785, Y-7499, Shin-Etsu Chemical KF96L, KF96, KF96H, KF99, KF54, KF965, KF968, KF56, KF995, KF351, KF352, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, FL100, and the like.

本発明に用いられるシリコーン界面活性剤は、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換した界面活性剤である。置換の位置は、シリコーンオイルの側鎖、両末端、片末端、両末端側鎖等がある。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、4級塩等がある。   The silicone surfactant used in the present invention is a surfactant obtained by substituting a part of the methyl group of the silicone oil with a hydrophilic group. The position of substitution includes a side chain of silicone oil, both ends, one end, both end side chains, and the like. Examples of the hydrophilic group include polyether, polyglycerin, pyrrolidone, betaine, sulfate, phosphate, and quaternary salt.

シリコン界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。   As the silicon surfactant, a nonionic surfactant having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene is preferable.

非イオン界面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない界面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン)等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン鎖)が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。   A nonionic surfactant is a generic term for surfactants that do not have a group capable of dissociating into ions in an aqueous solution. In addition to a hydrophobic group, a hydrophilic group includes a hydroxyl group of a polyhydric alcohol, a polyoxyalkylene chain (poly Oxyethylene) or the like as a hydrophilic group. The hydrophilicity becomes stronger as the number of alcoholic hydroxyl groups increases and as the polyoxyalkylene chain (polyoxyethylene chain) becomes longer. The nonionic surfactant according to the present invention is characterized by having dimethylpolysiloxane as a hydrophobic group.

疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、前記の低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。   When a nonionic surfactant composed of a dimethylpolysiloxane having a hydrophobic group and a polyoxyalkylene having a hydrophilic group is used, the unevenness of the low refractive index layer and the antifouling property of the film surface are improved. It is thought that the hydrophobic group made of polymethylsiloxane is oriented on the surface and forms a film surface that is not easily soiled. This effect cannot be obtained by using other surfactants.

これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191等が挙げられる。   Specific examples of these nonionic surfactants include, for example, Nippon Unicar Co., Ltd., silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ- 2163, FZ-2164, FZ-2166, FZ-2191 and the like.

また、SUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805等が挙げられる。   Moreover, SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, etc. are mentioned.

また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を1つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。   In addition, as a preferable structure of the nonionic surfactant in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene, a dimethylpolysiloxane structure portion and a polyoxyalkylene chain are alternately and repeatedly bonded. It is preferably a linear block copolymer. Since the main chain skeleton has a long chain length and a linear structure, it is excellent. This is considered to be due to the fact that one activator molecule can be adsorbed on the surface of the silica fine particle at a plurality of locations so as to cover the surface of the silica fine particle by being a block copolymer in which hydrophilic groups and hydrophobic groups are alternately repeated.

これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208等が挙げられる。   Specific examples thereof include, for example, silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208 and the like manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.

これらのシリコーンオイルまたはシリコーン界面活性剤の中では、ポリエーテル基を有するものが好ましい。   Among these silicone oils or silicone surfactants, those having a polyether group are preferred.

他の界面活性剤も併用して用いてもよく、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。   Other surfactants may also be used in combination. For example, anionic surfactants such as sulfonates, sulfates, phosphates, etc., and ethers having polyoxyethylene chain hydrophilic groups Type, ether ester type nonionic surfactants and the like may be used in combination.

フッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキル基を含有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを母核としたもので、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン等の誘導体等が挙げられる。   Fluorosurfactants include perfluoroalkyl group-containing monomers, oligomers, and polymers as the core, and include derivatives such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl allyl ether, and polyoxyethylene. It is done.

フッ素系界面活性剤は市販品を用いることもでき、例えばサーフロン「S−381」、「S−382」、「SC−101」、「SC−102」、「SC−103」、「SC−104」(何れも旭硝子(株)製)、フロラード「FC−430」、「FC−431」、「FC−173」(何れもフロロケミカル−住友スリーエム製)、エフトップ「EF352」、「EF301」、「EF303」(何れも新秋田化成(株)製)、シュベゴーフルアー「8035」、「8036」(何れもシュベグマン社製)、「BM1000」、「BM1100」(いずれもビーエム・ヒミー社製)、メガファック「F−171」、「F−470」(いずれも大日本インキ化学(株)製)、などを挙げることができる。   Commercially available products may be used as the fluorosurfactant, for example, Surflon “S-381”, “S-382”, “SC-101”, “SC-102”, “SC-103”, “SC-104”. (All manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Florard “FC-430”, “FC-431”, “FC-173” (all manufactured by Fluorochemical-Sumitomo 3M), Ftop “EF352”, “EF301”, “EF303” (both manufactured by Shin-Akita Kasei Co., Ltd.), Schwego Fureer “8035”, “8036” (both manufactured by Schwegman), “BM1000”, “BM1100” (all manufactured by BM Himmy) , MegaFuck “F-171”, “F-470” (both manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and the like.

フッ素化合物系モノマーやオリゴマーとしては、下記に示す化合物が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、以下に記載のフッ素を含有しないモノマーと共重合し、フッ素変性樹脂として第1ハードコート層に添加しても良い。   Examples of the fluorine compound monomer or oligomer include the following compounds. These may be used alone, or may be copolymerized with the following monomer not containing fluorine and added to the first hard coat layer as a fluorine-modified resin.

715CH2OCOCH=CH2、C715CH2OCOC(Me)=CH2、CF3(CF22CH2OCOC(Me)=CH2、CF3(CF24(CH22OCOC(Me)=CH2、CF3(CF23(CH22OCOC(Me)=CH2、(CF32CF(CF28(CH22OCOCH=CH2、(CF32CF(CF28(CH22OCOC(Me)=CH2、C817CH2CH(OH)CH2OCOC(Me)=CH2、C817(CF211OCOC(Me)=CH2、C715CON(Et)(CH22OCOC(Me)=CH2、C613SO2N(Me)(CH22OCOCH=CH2、C817SO2N(Pr)(CH22OCOCH=CH2、C817SO2N(Me)(CH22OCOC(Me)=CH2、C817SO2N(Me)(CH218OCOCH2CH=CH2、C817SO2N(CH2CH2OCOCH=CH22、HCF2(CF27CH2OCOC(Me)=CH2、等のパーフルオロアルキル基含有(メタ)アクリル酸エステル;
715CH2OCH=CH2、C715CH2OCH2CH=CH2、等の上記と同様のパーフルオロアルキル基を有するビニルエーテル又はアリルエーテル;
817SO2NHCH2SO2CH=CH2、等の上記(メタ)アクリル酸エステルの場合と同様のパーフルオロアルキル基を有するビニルスルホンが挙げられる〔上記においてMeはメチル基、Etはエチル基及びPrはプロピル基を示す。〕。
C 7 F 15 CH 2 OCOCH = CH 2, C 7 F 15 CH 2 OCOC (Me) = CH 2, CF 3 (CF 2) 2 CH 2 OCOC (Me) = CH 2, CF 3 (CF 2) 4 ( CH 2 ) 2 OCOC (Me) = CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 3 (CH 2 ) 2 OCOC (Me) = CH 2 , (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 OCOCH = CH 2 , (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 OCOC (Me) = CH 2 , C 8 F 17 CH 2 CH (OH) CH 2 OCOC (Me) = CH 2 , C 8 F 17 (CF 2 ) 11 OCOC (Me) = CH 2 , C 7 F 15 CON (Et) (CH 2 ) 2 OCOC (Me) = CH 2 , C 6 F 13 SO 2 N (Me) (CH 2 ) 2 OCOCH = CH 2, C 8 F 17 SO 2 N (Pr) (CH 2) 2 OCOCH = CH 2, C 8 F 17 SO 2 N (Me (CH 2) 2 OCOC (Me ) = CH 2, C 8 F 17 SO 2 N (Me) (CH 2) 18 OCOCH 2 CH = CH 2, C 8 F 17 SO 2 N (CH 2 CH 2 OCOCH = CH 2 ) 2 , HCF 2 (CF 2 ) 7 CH 2 OCOC (Me) = CH 2 , and other perfluoroalkyl group-containing (meth) acrylic acid esters;
Vinyl ether or allyl ether having a perfluoroalkyl group similar to the above, such as C 7 F 15 CH 2 OCH═CH 2 , C 7 F 15 CH 2 OCH 2 CH═CH 2 , etc .;
Examples include vinyl sulfone having a perfluoroalkyl group similar to the case of the above (meth) acrylic acid ester such as C 8 F 17 SO 2 NHCH 2 SO 2 CH═CH 2 , wherein Me is a methyl group, Et is Ethyl group and Pr are propyl groups. ].

フッ素を含有しないモノマーとしては、一般にスチレンやその誘導体、アクリル酸、メタクリル酸、それらのアルキルエステル、アミド等が挙げられ、2−ヒドロキシエチルアクリレートやメタクリレート等を用いた場合、ポリマー中に−OH基が存在する為、ポリイソシアネートで硬化させることが出来る。これらのフッ素変性樹脂中に、ジメチルシロキサンの鎖を入れることは、フッ素を表面に出すことでは効果があり、具体的にはアクリロイル基又はメタクリロイル基を末端に有するポリジメチルシロキサンを共重合する方法又は上記した様にラジカル開始剤となりうるジアルコールと、両末端アルコール基を有するポリジメチルシロキサンとのイソシアネートを介してのウレタン化やラジカル開始剤となりうるジカルボン酸と両末端エポキシ基を有するポリジメチルシロキサンとの反応によってシリコーン変性含フッ素ポリマーが得られる。更に含フッ素シリコーン変性樹脂としては、両末端アルコール基を有するポリジメチルシロキサンと含フッ素アルコールとをポリイソシアネートによって高分子量化させることによって得られる。含フッ素アルコールの具体例としては、下記のものが挙げられる。   Examples of the monomer not containing fluorine generally include styrene and derivatives thereof, acrylic acid, methacrylic acid, alkyl esters and amides thereof, and when 2-hydroxyethyl acrylate or methacrylate is used, an —OH group is contained in the polymer. Can be cured with polyisocyanate. Putting a dimethylsiloxane chain in these fluorine-modified resins is effective in bringing out fluorine on the surface, specifically, a method of copolymerizing polydimethylsiloxane having an acryloyl group or a methacryloyl group at the end, or As described above, dialcohol which can be a radical initiator and polydimethylsiloxane having both terminal alcohol groups via urethanization or dicarboxylic acid which can be a radical initiator and polydimethylsiloxane having both terminal epoxy groups By this reaction, a silicone-modified fluorine-containing polymer is obtained. Further, the fluorine-containing silicone-modified resin can be obtained by increasing the molecular weight of polydimethylsiloxane having both terminal alcohol groups and fluorine-containing alcohol with polyisocyanate. Specific examples of the fluorinated alcohol include the following.

81724OH、C61324OH、(CF32CFC102024OH、C81724OH、C102124OH、C817SO2N(C25)C24OH、C817SO2N(Me)C24OH、(CF32CHOH。 C 8 F 17 C 2 H 4 OH, C 6 F 13 C 2 H 4 OH, (CF 3 ) 2 CFC 10 F 20 C 2 H 4 OH, C 8 F 17 C 2 H 4 OH, C 10 F 21 C 2 H 4 OH, C 8 F 17 SO 2 N (C 2 H 5) C 2 H 4 OH, C 8 F 17 SO 2 N (Me) C 2 H 4 OH, (CF 3) 2 CHOH.

更にシラノール基を有するジメチルポリシロキサンとフルオロアルキルシランとの反応によっても、含フッ素シリコーン変性樹脂が得られる。又、フッ素系シランカップリング剤としては下記のものが挙げられる。   Furthermore, a fluorine-containing silicone-modified resin can be obtained by a reaction between a dimethylpolysiloxane having a silanol group and a fluoroalkylsilane. Moreover, the following are mentioned as a fluorine-type silane coupling agent.

CF3CH2CH2Si(OMe)3
CF3CH2CH2SiCl3
CF3(CF25CH2CH2SiCl3
CF3(CH25CH2CH2Si(OMe)3
CF3(CF27CH2CH2SiCl3
CF3(CH27CH2CH2Si(OMe)3
CF3(CF27CH2CH2SiMeCl2
CF3(CF27CH2CH2SiMe(OMe)2
上記インキの屈折率は、1.45〜1.65の範囲であることが好ましく、インキの透過率は、80%以上、好ましくは90%以上であることが好ましい。
CF 3 CH 2 CH 2 Si (OMe) 3
CF 3 CH 2 CH 2 SiCl 3
CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 SiCl 3
CF 3 (CH 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OMe) 3
CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiCl 3
CF 3 (CH 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OMe) 3
CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiMeCl 2
CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiMe (OMe) 2
The refractive index of the ink is preferably in the range of 1.45 to 1.65, and the transmittance of the ink is preferably 80% or more, preferably 90% or more.

インキの粘度は測定温度40℃において、0.1〜10Pa・sであることが好ましく、0.5〜8Pa・sの範囲が更に好ましい。粘度が0.1Pa・s未満の場合は粘度が低過ぎて所望の形状のパターンが得られなくなり、10Pa・sを超えるとインキの流動性が悪くインキの転移性も低下する為好ましくない。インキの粘度の測定は、JIS Z 8809に規定されている粘度計校正用標準液で検定されたものであれば特に制限はなく、回転式、振動式や細管式の粘度計を用いることが出来る。粘度計としては、Saybolt粘度計、Redwood粘度計等で測定出来、例えば、トキメック社製、円錐平板型E型粘度計、東機産業社製のE Type Viscometer(回転粘度計)、東京計器社製のB型粘度計BL、山一電機社製のFVM−80A、Nametore工業社製のViscoliner、山一電気社製のVISCO MATE MODEL VM−1A等を挙げることが出来る。   The viscosity of the ink is preferably 0.1 to 10 Pa · s, more preferably 0.5 to 8 Pa · s at a measurement temperature of 40 ° C. If the viscosity is less than 0.1 Pa · s, the viscosity is too low to obtain a pattern having a desired shape, and if it exceeds 10 Pa · s, the fluidity of the ink is poor and the transferability of the ink is also unfavorable. The viscosity of the ink is not particularly limited as long as it is tested with a viscometer calibration standard solution specified in JIS Z 8809, and a rotary, vibration or capillary type viscometer can be used. . As a viscometer, it can be measured with a Saybolt viscometer, a Redwood viscometer, etc., for example, Tokimec Co., Ltd., conical plate type E type viscometer, Toki Sangyo E Type Viscometer, manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd. B-type viscometer BL, Yamaichi Denki Co., Ltd. FVM-80A, Nametor Kogyo Viscoliner, Yamaichi Denki Co., Ltd. VISCO MATE MODEL VM-1A, and the like.

いずれもインキ組成物の構成を調整することにより、上記範囲内のインキを得ることが出来る。主なインキ組成物について以下説明する。   In any case, an ink within the above range can be obtained by adjusting the constitution of the ink composition. The main ink composition will be described below.

始めに、本発明に好ましく用いられる活性光線硬化型樹脂について説明する。   First, the actinic ray curable resin preferably used in the present invention will be described.

活性光線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性光線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性光線硬化型樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性光線照射によって硬化する樹脂でもよい。   The actinic ray curable resin is a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams. Typical examples of the actinic ray curable resin include an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, and the like, but a resin that is cured by irradiation with actinic rays other than ultraviolet rays and electron beams may be used.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。   Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable acrylic urethane resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, and an ultraviolet curable epoxy resin. I can do it.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭59−151110号に記載の、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) described in JP-A-59-151110 is preferably used. .

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る(例えば、特開昭59−151112号公報)。   An ultraviolet curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, or acrylic acid with a hydroxyl group or carboxyl group at the end of the polyester (see, for example, JP-A No. 59-151112).

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。   The ultraviolet curable epoxy acrylate resin is obtained by reacting a terminal hydroxyl group of an epoxy resin with a monomer such as acrylic acid, acrylic acid chloride, or glycidyl acrylate.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Examples of ultraviolet curable polyol acrylate resins include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipenta. Examples include erythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、好ましく用いられるエポキシ系活性光線反応性化合物を示す。   As examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin and the ultraviolet curable epoxy resin, preferred examples of the epoxy actinic ray reactive compound are shown.

(a)ビスフェノールAのグリシジルエーテル(この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールAとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる)
(b)ビスフェノールA等のフェノール性OHを2個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び/またはプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
(c)4,4′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
(d)ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
(e)脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)オキザレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−シクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−1′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−6′−メチル−1′−シクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5′,5′−スピロ−3″,4″−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
(f)2塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
(g)グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)ジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
(h)ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
(i)多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
(j)2−フルオロアルキル−1,2−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
(k)含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることが出来る。
(A) Glycidyl ether of bisphenol A (this compound is obtained as a mixture having different degrees of polymerization by reaction of epichlorohydrin and bisphenol A)
(B) A compound having a glycidyl ether group by reacting epichlorohydrin, ethylene oxide and / or propylene oxide with a compound having two phenolic OHs such as bisphenol A. (c) Glycidyl ether of 4,4'-methylenebisphenol (D) Epoxy compound of phenol formaldehyde resin of novolak resin or resol resin (e) Compound having alicyclic epoxide, for example, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) oxalate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ) Adipate, bis (3,4-epoxy-6-cyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl pimelate), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxy Rhohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methyl-cyclohexylmethyl-3', 4'-epoxy-1 '-Methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-6-methyl-cyclohexylmethyl-3', 4'-epoxy-6'-methyl-1'-cyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl- 5 ', 5'-spiro-3 ", 4" -epoxy) cyclohexane-meta-dioxane (f) diglycidyl ethers of dibasic acids such as diglycidyl oxalate, diglycidyl adipate, diglycidyl tetrahydrophthalate, di Glycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl Phthalate (g) Diglycidyl ether of glycol, such as ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, copoly (ethylene glycol-propylene glycol) di Glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether (h) Glycidyl ester of polymer acid, for example, polyglycidyl ester of polyacrylic acid, polyester diglycidyl ester (i) Polyhydric alcohol Glycidyl ethers such as glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglyceride Dil ether, pentaerythritol diglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, glucose triglycidyl ether (j) As diglycidyl ether of 2-fluoroalkyl-1,2-diol, the low refractive index substance (K) Examples of the fluorine-containing alkane-terminated diol glycidyl ether include fluorine-containing epoxy compounds of the fluorine-containing resin of the low refractive index material, and the like. I can do it.

上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として2000以下で、好ましくは1000以下である。   The molecular weight of the said epoxy compound is 2000 or less as an average molecular weight, Preferably it is 1000 or less.

上記のエポキシ化合物を活性光線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、(h)または(i)の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。   When the above epoxy compound is cured with actinic rays, it is effective to use a compound having a polyfunctional epoxy group (h) or (i) in order to increase the hardness.

エポキシ系活性光線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、活性光線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。   The photopolymerization initiator or photosensitizer for cationically polymerizing an epoxy actinic light-reactive compound is a compound capable of releasing a cationic polymerization initiating substance upon irradiation with actinic light, and particularly preferably, cationic polymerization is initiated by irradiation. A group of double salts of onium salts that release potent Lewis acids.

活性光線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性光線反応性樹脂である。   The actinic ray-reactive compound epoxy resin forms a polymerized, crosslinked structure or network structure not by radical polymerization but by cationic polymerization. Unlike radical polymerization, it is a preferable actinic ray reactive resin because it is not affected by oxygen in the reaction system.

本発明に有用な活性光線反応性エポキシ樹脂は、活性光線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。   The actinic ray-reactive epoxy resin useful in the present invention is polymerized by a photopolymerization initiator or a photosensitizer that releases a substance that initiates cationic polymerization upon irradiation with actinic rays. As the photopolymerization initiator, a group of double salts of onium salts that release a Lewis acid that initiates cationic polymerization by light irradiation is particularly preferable.

かかる代表的なものは下記一般式(a)で表される化合物である。   A typical example is a compound represented by the following general formula (a).

一般式(a)
〔(R1a(R2b(R3c(R4dZ〕w+〔MeXvw-
式中、カチオンはオニウムであり、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、ハロゲン(例えば、I、Br、Cl)、またはN=N(ジアゾ)であり、R1、R2、R3、R4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。a、b、c、dはそれぞれ0〜3の整数であって、a+b+c+dはZの価数に等しい。Meはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属(metalloid)であり、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲンであり、wはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、vはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
Formula (a)
[(R 1 ) a (R 2 ) b (R 3 ) c (R 4 ) d Z] w + [MeX v ] w-
In the formula, the cation is onium, Z is S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, halogen (eg, I, Br, Cl), or N = N (diazo), and R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are organic groups which may be the same or different. a, b, c, and d are each an integer of 0 to 3, and a + b + c + d is equal to the valence of Z. Me is a metal or metalloid which is a central atom of a halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co, etc. X is halogen, w is the net charge of the halogenated complex ion, and v is the number of halogen atoms in the halogenated complex ion.

上記一般式(a)の陰イオン〔MeXvw-の具体例としては、テトラフルオロボレート(BF4 -)、テトラフルオロホスフェート(PF4 -)、テトラフルオロアンチモネート(SbF4 -)、テトラフルオロアルセネート(AsF4 -)、テトラクロロアンチモネート(SbCl4 -)等を挙げることが出来る。 Specific examples of the anion [MeX v ] w− of the general formula (a) include tetrafluoroborate (BF 4 ), tetrafluorophosphate (PF 4 ), tetrafluoroantimonate (SbF 4 ), tetra Examples thereof include fluoroarsenate (AsF 4 ) and tetrachloroantimonate (SbCl 4 ).

また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン(ClO4 -)、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CF3SO3 -)、フルオロスルホン酸イオン(FSO3 -)、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることが出来る。 Other anions include perchlorate ion (ClO 4 ), trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 ), fluorosulfonate ion (FSO 3 ), toluenesulfonate ion, and trinitrobenzene acid anion. An ion etc. can be mentioned.

この様なオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭50−151996号、同50−158680号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50−151997号、同52−30899号、同59−55420号、同55−125105号等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭56−8428号、同56−149402号、同57−192429号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭49−17040号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655号等に記載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることが出来る。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することが出来る。   Among such onium salts, it is particularly effective to use an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator. Among them, aromatic halonium salts described in JP-A-50-151996, 50-158680, etc. VIA group aromatic onium salts described in Kaisho 50-151997, 52-30899, 59-55420, 55-125105, JP-A-56-8428, 56-149402, Preference is given to oxosulfoxonium salts described in JP-A-57-192429, aromatic diazonium salts described in JP-B-49-17040, thiopyrilum salts described in US Pat. No. 4,139,655, and the like. Moreover, an aluminum complex, a photodegradable silicon compound type | system | group polymerization initiator, etc. can be mentioned. The cationic polymerization initiator can be used in combination with a photosensitizer such as benzophenone, benzoin isopropyl ether, or thioxanthone.

また、エポキシアクリレート基を有する活性光線反応性化合物の場合は、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることが出来る。この活性光線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物100質量部に対して0.1質量部〜15質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは1質量部〜10質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。   In the case of an actinic ray reactive compound having an epoxy acrylate group, a photosensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photosensitizer and photoinitiator used for the actinic ray reactive compound are sufficient to initiate the photoreaction at 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet reactive compound, Preferably they are 1 mass part-10 mass parts. The sensitizer preferably has an absorption maximum from the near ultraviolet region to the visible light region.

本発明に有用な活性光線硬化型樹脂組成物において、光重合開始剤は、一般的には、活性光線硬化性エポキシ樹脂(プレポリマー)100質量部に対して0.1質量部〜15質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、1質量部〜10質量部の範囲の添加が好ましい。   In the actinic ray curable resin composition useful in the present invention, the photopolymerization initiator is generally 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the actinic ray curable epoxy resin (prepolymer). Is more preferable, and addition of 1 mass part-10 mass parts is more preferable.

また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することも出来、この場合、活性光線ラジカル重合開始剤と活性光線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。   An epoxy resin can be used in combination with the urethane acrylate type resin, polyether acrylate type resin, or the like. In this case, it is preferable to use an actinic ray radical polymerization initiator and an actinic ray cationic polymerization initiator in combination.

また、本発明では、オキセタン化合物を用いることも出来る。用いられるオキセタン化合物は、酸素または硫黄を含む3員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、3,3−ビス(クロルメチル)オキセタン、3,3−ビス(ヨードメチル)オキセタン、3,3−ビス(メトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フェノキシメチル)オキセタン、3−メチル−3クロルメチルオキセタン、3,3−ビス(アセトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フルオロメチル)オキセタン、3,3−ビス(ブロモメチル)オキセタン、3,3−ジメチルオキセタン等が挙げられる。尚、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。   In the present invention, an oxetane compound can also be used. The oxetane compound used is a compound having a three-membered oxetane ring containing oxygen or sulfur. Among them, a compound having an oxetane ring containing oxygen is preferable. The oxetane ring may be substituted with a halogen atom, a haloalkyl group, an arylalkyl group, an alkoxyl group, an allyloxy group, or an acetoxy group. Specifically, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (iodomethyl) oxetane, 3,3-bis (methoxymethyl) oxetane, 3,3-bis (phenoxymethyl) oxetane, 3-methyl -3 chloromethyloxetane, 3,3-bis (acetoxymethyl) oxetane, 3,3-bis (fluoromethyl) oxetane, 3,3-bis (bromomethyl) oxetane, 3,3-dimethyloxetane and the like. In the present invention, any of a monomer, an oligomer and a polymer may be used.

本発明で用いることの出来る紫外線硬化性樹脂の具体例としては、例えば、アデカオプトマーKR、BYシリーズのKR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(以上、旭電化工業(株)製)、コーエイハードのA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(以上、広栄化学工業(株)製)、セイカビームのPHC2210(S)、PHCX−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上、大日精化工業(株)製)、KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(以上、ダイセル・ユーシービー(株))、RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(以上、大日本インキ化学工業(株)製)、オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製)、サンラッド H−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(以上、三洋化成工業(株)製)、SP−1509、SP−1507(以上、昭和高分子(株)製)、RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(以上、東亞合成(株)製)、またはその他の市販のものから適宜選択して利用することが出来る。   Specific examples of the ultraviolet curable resin that can be used in the present invention include, for example, Adekaoptomer KR, BY series KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B. (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T -102, D-102, NS-101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), Seika Beam PHC2210 (S), PHCX -9 (K-3), PHC2213, DP-10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, CR900 (above, manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.), KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (above, Daicel UCB), RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC -5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120, RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (above, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), Aurex No. 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.), Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (above, Sanyo Chemical Industries, Ltd.) , SP-1509, SP-1507 (above, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), RCC-15C (produced by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (above, Toagosei Co., Ltd.) (Made by Co., Ltd.), or other commercially available products.

本発明に係るインキには、公知の熱可塑性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダを上記記載の活性光線硬化型樹脂に混合して使用することが出来る。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−COOM、−OH、−NR2、−NR3X、−SO3M、−OSO3M、−PO32、−OPO3M(ここで、Mは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を、Xはアミン塩を形成する酸を、Rは水素原子、アルキル基を表す)等を挙げることが出来る。 In the ink according to the present invention, a binder such as a known thermoplastic resin or a hydrophilic resin such as gelatin can be mixed with the actinic ray curable resin described above. These resins preferably have a polar group in the molecule. Examples of the polar group, -COOM, -OH, -NR 2, -NR 3 X, -SO 3 M, -OSO 3 M, -PO 3 M 2, -OPO 3 M ( wherein, M represents a hydrogen atom, an alkali A metal or an ammonium group, X represents an acid forming an amine salt, R represents a hydrogen atom or an alkyl group).

本発明に使用する上記活性光線反応性化合物を光重合または光架橋反応を開始させるには、上記活性光線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を速めることが出来る。   In order to initiate photopolymerization or photocrosslinking reaction of the actinic ray reactive compound used in the present invention, the actinic ray reactive compound alone is initiated, but the induction period of polymerization is long or the initiation of polymerization is slow. Therefore, it is preferable to use a photosensitizer or a photoinitiator, which can speed up the polymerization.

本発明に係るインキが、活性光線硬化型樹脂を含有する場合、活性光線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることが好ましい。   When the ink which concerns on this invention contains actinic-light curable resin, it is preferable to use a photoreaction initiator and a photosensitizer at the time of irradiation of actinic light.

具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。   Specific examples include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. Moreover, when using a photoreactant for the synthesis | combination of an epoxy acrylate-type resin, sensitizers, such as n-butylamine, a triethylamine, a tri-n-butylphosphine, can be used.

また、活性光線硬化型樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。   Further, when an ultraviolet curable resin is used as the actinic ray curable resin, an ultraviolet absorber may be included in the ultraviolet curable resin composition to the extent that does not hinder the photocuring of the ultraviolet curable resin. As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.

本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of ultraviolet absorbers preferably used in the present invention include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, and the like. However, it is not limited to these.

また、フレキソ印刷により形成したパターンの耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることが出来る。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることが出来る。具体的には、例えば、4,4′−チオビス(6−tert−3−メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)メシチレン、ジ−オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることが出来る。   Moreover, in order to improve the heat resistance of the pattern formed by flexographic printing, an antioxidant that does not suppress the photocuring reaction can be selected and used. For example, hindered phenol derivatives, thiopropionic acid derivatives, phosphite derivatives and the like can be mentioned. Specifically, for example, 4,4′-thiobis (6-tert-3-methylphenol), 4,4′-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) mesitylene, di-octadecyl-4- Examples thereof include hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl phosphate.

本発明に係るインキには、SnO2、ITO、ZnO等の導電性微粒子や架橋カチオンポリマー粒子等の帯電防止剤を含有させることも好ましい。 The ink according to the present invention preferably contains an antistatic agent such as conductive fine particles such as SnO 2 , ITO, ZnO, and crosslinked cationic polymer particles.

本発明において、屈折率を調整するのにインキ中に微粒子を含有させることも好ましく、例えば、無機微粒子または有機微粒子を添加することが出来る。   In the present invention, it is also preferable to contain fine particles in the ink for adjusting the refractive index. For example, inorganic fine particles or organic fine particles can be added.

無機微粒子としては、例えば、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。これらは球状、平板状、無定形状等の形状の粒子が挙げられる。   Examples of the inorganic fine particles include silicon-containing compounds, silicon dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and Calcium phosphate and the like are preferable, and an inorganic compound containing silicon and zirconium oxide are more preferable, and silicon dioxide is particularly preferably used. These include particles having a shape such as a spherical shape, a flat plate shape, and an amorphous shape.

二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)等の市販品が使用出来る。   As the fine particles of silicon dioxide, for example, commercially available products such as Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used.

酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)等の市販品が使用出来る。   As the fine particles of zirconium oxide, commercially available products such as Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used.

また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、またはポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることが出来る。   The organic fine particles include polymethacrylate methyl acrylate resin fine particles, acrylic styrene resin fine particles, polymethyl methacrylate resin fine particles, silicon resin fine particles, polystyrene resin fine particles, polycarbonate resin fine particles, benzoguanamine resin fine particles, and melamine resin. Examples thereof include fine particles, polyolefin resin fine particles, polyester resin fine particles, polyamide resin fine particles, polyimide resin fine particles, and polyfluoroethylene resin fine particles.

本発明では、第1ハードコート層、第2ハードコート層のいずれかが上記微粒子を含有することが好ましく、その平均粒径は、0.01〜5μmが好ましく、更に好ましくは0.05〜5μmであり、特に好ましくは0.5〜5μmである。粒径や屈折率の異なる2種以上の微粒子を含有させてもよい。また、含有量は各層に対し5〜50質量%であることが好ましい。微粒子の屈折率はハードコート層バインダー樹脂の屈折率と0.02以上、0.1以下の差を持つことが好ましい。第2ハードコート層に粒径が0.5μm以上5μm以下でハードコート層バインダー樹脂との屈折率差が0.02以上、0.1以下の球形微粒子を含有させると、第2ハードコート層部分でのレンズ効果によるぎらつきを抑制するため、特に好ましい。   In the present invention, either the first hard coat layer or the second hard coat layer preferably contains the fine particles, and the average particle size is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.05 to 5 μm. And particularly preferably 0.5 to 5 μm. You may contain 2 or more types of microparticles | fine-particles from which a particle size and refractive index differ. Moreover, it is preferable that content is 5-50 mass% with respect to each layer. The refractive index of the fine particles preferably has a difference of 0.02 or more and 0.1 or less from the refractive index of the hard coat layer binder resin. When the second hard coat layer contains spherical fine particles having a particle size of 0.5 μm or more and 5 μm or less and a refractive index difference with the hard coat layer binder resin of 0.02 or more and 0.1 or less, the second hard coat layer portion This is particularly preferable in order to suppress glare due to the lens effect.

本発明において、フレキソ印刷により形成したパターンが活性光線硬化型樹脂を含む場合、活性光線の照射方法としては、インキを透明基体上に転移印刷させた後、活性光線を照射することが好ましい。照射のタイミングは形成するパターン形状を考慮して決定することが出来、例えば、転移印刷直後〜2min後に照射することが出来る。   In the present invention, when the pattern formed by flexographic printing contains an actinic ray curable resin, it is preferable to irradiate actinic rays after the ink is transferred onto a transparent substrate as an actinic ray irradiation method. The timing of irradiation can be determined in consideration of the pattern shape to be formed. For example, irradiation can be performed immediately after transfer printing to 2 minutes later.

本発明でいうインキを透明基体上に転移印刷させた直後とは、具体的にはインキが転移印刷後0.001〜2.0秒までの間に照射を始めることが好ましく、より好ましくは0.001〜1.0秒の間である。   The term “immediately after transfer printing the ink on the transparent substrate” in the present invention specifically means that the ink starts to be irradiated within 0.001 to 2.0 seconds after transfer printing, more preferably 0. Between 0.001 and 1.0 seconds.

また、インキが転移印刷した直後の活性光線の照射は、転移印刷したインキの流動性を低下させ、所望のパターン形状が形成出来る程度に照射すればよく、ハーフキュア状態でもよい。この場合には、別途下流側に設置した活性光源を照射して、完全に硬化させることが出来る。本発明では第1ハードコート層の形成及び第2ハードコート層の形成に活性線硬化樹脂を使用することが好ましい。   In addition, irradiation with actinic rays immediately after the ink is transferred and printed may be performed so that the fluidity of the transferred and printed ink is lowered and a desired pattern shape can be formed, and may be in a half-cured state. In this case, it can be cured completely by irradiating an active light source separately installed on the downstream side. In the present invention, it is preferable to use an actinic radiation curable resin for forming the first hard coat layer and the second hard coat layer.

本発明に使用することが出来る活性光線としては、紫外線、電子線、γ線等で、パターン状に形成された活性光線硬化型樹脂を活性化させる光源であれば制限なく使用出来るが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は1mJ/cm2以上が好ましく、更に好ましくは、20mJ/cm2〜10000mJ/cm2であり、特に好ましくは、50mJ/cm2〜2000mJ/cm2である。 The actinic ray that can be used in the present invention can be used without limitation as long as it is a light source that activates the actinic ray curable resin formed in a pattern with ultraviolet rays, electron beams, γ rays, etc. Electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferable in that they are easy to handle and high energy can be easily obtained. As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the amount of irradiation light is preferably 1 mJ / cm 2 or more, more preferably 20 mJ / cm 2 to 10000 mJ / cm 2 , and particularly preferably 50 mJ / cm 2 to 2000 mJ / cm 2. It is.

また、電子線も同様に使用出来る。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることが出来る。   Moreover, an electron beam can be used similarly. As an electron beam, 50 to 1000 keV, preferably 100 to 100, emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. An electron beam having an energy of 300 keV can be given.

本発明においては、活性線照射の時の雰囲気中の酸素濃度が10%以下、特に1%以下であることが好ましい。該雰囲気にするには窒素ガス等を導入することが有効である。   In the present invention, the oxygen concentration in the atmosphere at the time of active ray irradiation is preferably 10% or less, particularly preferably 1% or less. In order to obtain this atmosphere, it is effective to introduce nitrogen gas or the like.

また、本発明においては、活性光線の硬化反応を効率的に進めるため、基材フィルム等を加熱することも出来る。加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、或いは転移印刷したインキ表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、フレキソ印刷部の基材フィルムを挟んで反対側に用いられるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。   Moreover, in this invention, in order to advance the hardening reaction of actinic light efficiently, a base film etc. can also be heated. The heating method is not particularly limited, but it is preferable to use a heat plate, a heat roll, a thermal head, or a method such as spraying hot air on the surface of transfer-printed ink. Moreover, you may heat continuously by using the back roll used on the opposite side across the base film of a flexographic printing part as a heat roll.

加熱温度としては、使用する活性光線硬化型樹脂の種類により一概には規定出来ないが、基材フィルムへの熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、30〜200℃が好ましく、更に50〜120℃が好ましく、特に好ましくは70〜100℃である。   The heating temperature cannot be generally specified depending on the type of actinic ray curable resin to be used, but is preferably in a temperature range that does not affect the base film such as thermal deformation, and is preferably 30 to 200 ° C. Furthermore, 50-120 degreeC is preferable, Most preferably, it is 70-100 degreeC.

次いで、本発明のインキに用いることが出来る熱硬化性樹脂について説明する。   Next, a thermosetting resin that can be used in the ink of the present invention will be described.

本発明で用いることの出来る熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることが出来る。   Examples of the thermosetting resin that can be used in the present invention include unsaturated polyester resins, epoxy resins, vinyl ester resins, phenol resins, thermosetting polyimide resins, thermosetting polyamide imides, and the like.

不飽和ポリエステル樹脂としては、例えば、オルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは被膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂(ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど)を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Br2でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはIPN化した強靭性(高強度、高弾性率、高伸び率)の強靭性樹脂等がある。 As the unsaturated polyester resin, for example, orthophthalic acid resin, isophthalic acid resin, terephthalic acid resin, bisphenol resin, propylene glycol-maleic acid resin, dicyclopentadiene or derivatives thereof are introduced into the unsaturated polyester composition. Low styrene volatile resin with low molecular weight or added film-forming wax compound, low shrinkage with thermoplastic resin (polyvinyl acetate resin, styrene / butadiene copolymer, polystyrene, saturated polyester, etc.) Resin, unsaturated polyester brominated directly with Br 2 , or reactive type such as copolymerization of het acid or dibromoneopentyl glycol, halides such as chlorinated paraffin, tetrabromobisphenol and antimony trioxide, phosphorus Compound combinations Additive-type flame retardant resin that uses sesame or aluminum hydroxide as an additive, toughness resin that is hybridized with polyurethane or silicone, or toughened with IPN (high strength, high elastic modulus, high elongation), etc. is there.

エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールF型、臭素化ビスフェノールA型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。   Examples of the epoxy resin include glycidyl ether type epoxy resins including bisphenol A type, novolak phenol type, bisphenol F type, brominated bisphenol A type, glycidyl amine type, glycidyl ester type, cyclic aliphatic type, and heterocyclic epoxy type. Special epoxy resins containing

ビニルエステル樹脂としては、例えば、普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーをスチレン等のモノマーに溶解した物である。また、分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えば、ビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としてはビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。   As the vinyl ester resin, for example, an oligomer obtained by ring-opening addition reaction of an ordinary epoxy resin and an unsaturated monobasic acid such as methacrylic acid is dissolved in a monomer such as styrene. There are also special types such as vinyl monomers having vinyl groups at the molecular ends and side chains. Examples of vinyl ester resins of glycidyl ether type epoxy resins include bisphenol type, novolak type, brominated bisphenol type, etc., and special vinyl ester resins include vinyl ester urethane type, isocyanuric acid vinyl type, side chain vinyl ester type, etc. There is.

フェノール樹脂は、フェノール類とフォルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。   The phenol resin is obtained by polycondensation using phenols and formaldehyde as raw materials, and there are a resol type and a novolac type.

熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えば、マレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・O,O′−ジアリルビスフェノール−A樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。   Examples of thermosetting polyimide resins include maleic acid-based polyimides such as polymaleimide amine, polyamino bismaleimide, bismaleimide / O, O'-diallyl bisphenol-A resin, bismaleimide / triazine resin, and nadic acid-modified polyimide. And acetylene-terminated polyimide.

また、上述した活性光線硬化型樹脂の一部も、熱硬化性樹脂として用いることが出来る。   A part of the actinic ray curable resin described above can also be used as a thermosetting resin.

尚、本発明に用いられる熱硬化性樹脂からなるインキには、活性光線硬化型樹脂を含むインキに記載した酸化防止剤や紫外線吸収剤を適宜用いてもよい。   In addition, you may use suitably the antioxidant and ultraviolet absorber which were described in the ink containing actinic-light curable resin for the ink which consists of a thermosetting resin used for this invention.

本発明において、フレキソ印刷により形成したパターンが熱硬化性樹脂を含む場合、加熱方法としては、インキを基材フィルム上に転移印刷させた直後に加熱処理を行うことが好ましい。   In the present invention, when the pattern formed by flexographic printing contains a thermosetting resin, the heating method is preferably performed immediately after the ink is transferred onto the base film.

本発明でいうインキを基材フィルム上に転移印刷させた直後とは、具体的にはインキが転移印刷と同時または5秒以内に加熱が開始されることが好ましく、予め基材フィルムの温度を上げておくことが出来る。例えば、基材フィルムをヒートロール上に巻き付けて、これにインキを転移印刷させることが出来、より好ましくは転移印刷と同時または2.0秒の間である。また、ノズル部と加熱部の距離が接近し過ぎて、熱がヘッド部に伝達すると、ノズル部での硬化によりノズル詰まりを起こすため注意が必要である。また、必要に応じて加熱間隔が5.0秒を超えることによって、転移印刷したインキの流動、変形させなだらかな微細凹凸構造を得ることも出来る。   The term “immediately after the transfer transfer of the ink in the present invention on the base film” is specifically preferably the heating of the ink at the same time as the transfer printing or within 5 seconds. Can be raised. For example, the base film can be wound on a heat roll, and the ink can be transferred by transfer printing, more preferably at the same time as transfer printing or for 2.0 seconds. In addition, if the distance between the nozzle part and the heating part is too close and heat is transferred to the head part, the nozzle part is clogged due to curing at the nozzle part, so care must be taken. Further, if the heating interval exceeds 5.0 seconds as necessary, a smooth fine uneven structure can be obtained by causing the flow-printed ink to flow and deform.

加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、或いは転移印刷したインキ表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、フレキソ印刷部の基材フィルムを挟んで反対側に設けるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。加熱温度としては、使用する熱硬化性樹脂の種類により一概には規定出来ないが、透明基材への熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、30〜200℃が好ましく、更に50〜120℃が好ましく、特に好ましくは70〜100℃である。   The heating method is not particularly limited, but it is preferable to use a heat plate, a heat roll, a thermal head, or a method such as spraying hot air on the surface of transfer-printed ink. In addition, the back roll provided on the opposite side with the base film of the flexographic printing unit interposed therebetween may be continuously heated as a heat roll. The heating temperature cannot be generally defined by the type of thermosetting resin to be used, but is preferably in a temperature range that does not affect the heat deformation of the transparent substrate, preferably 30 to 200 ° C, Furthermore, 50-120 degreeC is preferable, Especially preferably, it is 70-100 degreeC.

本発明に係るインキにおいては、パターン形成組成物として、上述した活性光線硬化型樹脂、熱硬化性樹脂のいずれも用いることが出来るが、好ましくは活性光線硬化型樹脂を用いることである。   In the ink according to the present invention, any of the above-mentioned actinic ray curable resins and thermosetting resins can be used as the pattern forming composition, but preferably an actinic ray curable resin is used.

本発明に係る上記インキには、必要に応じて0〜99.9質量%の溶媒を含有させることが出来る。例えば、水系溶媒に前記活性光線硬化型樹脂モノマー成分、或いは熱硬化性樹脂モノマー成分を溶解もしくは分散させてもよく、或いは有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒は低沸点のものでも高沸点のものでも適宜選択して用いることが出来、これらの溶媒の添加量や種類、組成はインキの粘度を調整するため適宜調整することが好ましい。   The ink according to the present invention may contain 0 to 99.9% by mass of a solvent as necessary. For example, the actinic ray curable resin monomer component or the thermosetting resin monomer component may be dissolved or dispersed in an aqueous solvent, or an organic solvent may be used. An organic solvent having a low boiling point or a high boiling point can be appropriately selected and used, and the addition amount, type and composition of these solvents are preferably adjusted appropriately in order to adjust the viscosity of the ink.

本発明に係るインキで用いることが出来る溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;ジアセトンアルコール等のケトンアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;N−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げられ、それらを単独または2種以上混合して使用することが出来る。また、分子内にエーテル結合をもつものが特に好ましく、グリコールエーテル類も好ましく用いられる。   Examples of the solvent that can be used in the ink according to the present invention include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, and butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; ketones such as diacetone alcohol Alcohols; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol; ethyl cellsolve, butylcellsolve, ethylcarbitol, butylcarbitol, diethylcellsolve, Glycol ethers such as diethyl carbitol and propylene glycol monomethyl ether; N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, amino acetate Esters and the like; dimethyl ether, and diethyl ether, water and the like, they can be used alone or in combination. Further, those having an ether bond in the molecule are particularly preferred, and glycol ethers are also preferably used.

グリコールエーテル類としては、具体的には下記の溶媒が挙げられるが、特にこれらに限定されない。プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルAc、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルAc、エチレングリコールジエチルエーテル等を挙げることが出来る、尚Acはアセテートを表す。本発明に係るインキにおいては、上記溶媒の中でも、沸点が100℃未満の溶媒が好ましく用いられる。これらの溶媒は、転移印刷後に所望のパターン形状が維持される程度に速やかに揮発、乾燥されることが望ましい。或いは揮発性の異なる溶媒を混合してその比率を変更することでパターン形状を制御することも出来る。   Specific examples of glycol ethers include, but are not limited to, the following solvents. Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether Ac, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether Ac, ethylene glycol Examples thereof include diethyl ether, and Ac represents acetate. In the ink according to the present invention, among the above solvents, a solvent having a boiling point of less than 100 ° C. is preferably used. These solvents are desirably volatilized and dried as quickly as desired pattern shape is maintained after transfer printing. Alternatively, the pattern shape can be controlled by mixing different volatile solvents and changing the ratio.

第2ハードコート層は、上記第1ハードコート層の項で詳細に説明した活性光線硬化型樹脂、光重合開始剤、熱可塑性樹脂、光反応開始剤、光増感剤、紫外線吸収剤、微粒子、熱硬化性樹脂、溶媒を適宜用いてハードコート塗布組成物を調製することが出来、更に任意の塗布方法により第1ハードコート層の上に塗布を行う。   The second hard coat layer is composed of the actinic ray curable resin, photopolymerization initiator, thermoplastic resin, photoreaction initiator, photosensitizer, ultraviolet absorber, fine particles described in detail in the first hard coat layer. Further, a hard coat coating composition can be prepared by appropriately using a thermosetting resin and a solvent, and coating is performed on the first hard coat layer by any coating method.

第2ハードコート層の塗布方法は特に限定されるものではないが、前記ハードコート塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法、フレキソ印刷法等公知の方法で塗設することが好ましい。   The coating method of the second hard coat layer is not particularly limited, but the hard coat coating composition may be a known gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die coater, ink jet method, flexographic printing method or the like. It is preferable to apply by a method.

図6は基材フィルム上に撥水撥油性を有する第1ハードコート層を塗布部、非塗布部からなるパターン状に形成し、更に第2ハードコート層を塗布することで、第1ハードコート層非形成部に第2ハードコート層の凸部が形成される様子を示した模式図である。   FIG. 6 shows that a first hard coat layer is formed by forming a first hard coat layer having water and oil repellency on a base film in a pattern comprising an application part and a non-application part, and further applying a second hard coat layer. It is the schematic diagram which showed a mode that the convex part of the 2nd hard-coat layer was formed in a layer non-formation part.

本発明の第2ハードコート層の凹凸構造の凸部又は凹部の高さが、前記第1ハードコート層面に対し、0.1〜1.5μm高いかもしくは低く、該凸部又は凹部の長辺が5〜100μm、かつ隣り合う凸部又は凹部間の平均中心間距離が10〜200μmであることが好ましい。上記高さ、長辺の長さ、距離の調整は、第1ハードコート層による塗布部、非塗布部からなるパターン形状や印刷厚みの調整、第2ハードコート層に使用するハードコート用組成物の粘度等の物性調整、微粒子の添加等により制御することが出来る。   The height of the convex part or concave part of the concavo-convex structure of the second hard coat layer of the present invention is 0.1 to 1.5 μm higher or lower than the surface of the first hard coat layer, and the long side of the convex part or concave part Is preferably 5 to 100 μm and the average center-to-center distance between adjacent convex portions or concave portions is 10 to 200 μm. The adjustment of the height, the length of the long side, and the distance is carried out by adjusting the pattern shape and printing thickness of the coated portion and the non-coated portion by the first hard coat layer, and the hard coat composition used for the second hard coat layer. It can be controlled by adjusting physical properties such as viscosity and adding fine particles.

図7は、基材フィルム上に形成された本発明に好ましい第2ハードコート層による上記凹凸構造の模式図である。   FIG. 7 is a schematic view of the concavo-convex structure formed by the second hard coat layer preferable for the present invention formed on the base film.

図7(a)は微細凹凸構造の斜視図であり、(b)は断面図である。微細凹凸構造の高さは図中eで示されるものであり凸部頂点と第1ハードコート層との高低差をいい、その高さは0.1〜1.5μmであり、好ましくは0.2〜1.2μmである。0.1μm未満では防眩性の効果が得られず、1.5μmを超えると視認性においてざらつき感が増すため好ましくない。微細凹凸構造の凸部の高さは市販の触針式表面粗さ測定機或いは市販の光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定することが出来る。例えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、一定の範囲内について凹凸を2次元的に測定し、凹凸を底部側より等高線のごとく色分けして表示する。ここで各微細凹凸構造の隣接する凹部底を基準としたその高さを求め平均値とする。   FIG. 7A is a perspective view of a fine concavo-convex structure, and FIG. 7B is a cross-sectional view. The height of the fine concavo-convex structure is indicated by e in the figure, and refers to the difference in height between the top of the convex portion and the first hard coat layer, and the height is 0.1 to 1.5 μm, preferably 0. 2 to 1.2 μm. If it is less than 0.1 μm, the antiglare effect cannot be obtained, and if it exceeds 1.5 μm, the feeling of roughness increases in visibility, which is not preferable. The height of the convex part of the fine concavo-convex structure can be measured by a commercially available stylus type surface roughness measuring machine or a commercially available optical interference type surface roughness measuring machine. For example, the unevenness is measured two-dimensionally within a certain range by an optical interference type surface roughness measuring device, and the unevenness is color-coded as contour lines from the bottom side and displayed. Here, the height of each fine concavo-convex structure on the basis of the adjacent concave bottom is obtained and used as an average value.

凸部又は凹部の長辺とは図中fで示されるものであり(この場合は凸部)、上記市販の光学干渉式表面粗さ測定機等を用いて、凹凸を底部側又は表面側より等高線のごとく色分けした時に凹部底又は表面を基準として凸部又は凹部の高さが5%高く、又は低くなった時の凸部又は凹部長辺を凸部または凹部の長辺と定義しその平均値で示す。この時に、本発明の微細凹凸構造の凸部または凹部の長辺は5〜100μmであることが好ましく、5μm未満では防眩性の効果が得られず、100μmを超えると視認性においてざらつき感が増すため好ましくない。   The long side of the convex portion or the concave portion is indicated by f in the figure (in this case, the convex portion). The average of the convex or concave long side is defined as the long side of the convex or concave when the height of the convex or concave is 5% higher or lower than the concave bottom or surface as a reference when color-coded as contour lines. Shown by value. At this time, the long side of the convex portion or concave portion of the fine concavo-convex structure of the present invention is preferably 5 to 100 μm, and if it is less than 5 μm, an antiglare effect cannot be obtained, and if it exceeds 100 μm, a feeling of roughness is visible. Since it increases, it is not preferable.

隣り合う凸部又は凹部間の平均中心間距離g(この場合は凸部)は、凸部又は凹部の頂点を該凸部又は凹部の中心とし、隣り合う凸部又は凹部中心間の距離を平均したものである。10〜200μmであることが好ましく、より好ましくは30〜150μmである。10μm未満でも、200μmを超えても防眩性の効果が小さくなり好ましくない。凸部又は凹部間の平均距離は触針式表面粗さ測定機などにより測定出来、例えばダイヤモンドからなる先端部を頂角55度の円錐形とした直径1mmの測定針を介して微細凹凸構造面上を一定方向に3mmの長さで走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線として知見を得ることが出来、その結果より凸部又は凹部間の距離を測定し平均値を求めることが出来る。或いは前述のごとく光学干渉式表面粗さ測定機によっても測定することが出来る。   The average center-to-center distance g between adjacent convex portions or concave portions (in this case, the convex portion) is the average distance between adjacent convex portions or concave centers with the vertex of the convex portion or concave portion as the center of the convex portion or concave portion. It is a thing. It is preferable that it is 10-200 micrometers, More preferably, it is 30-150 micrometers. Even if it is less than 10 μm or more than 200 μm, the antiglare effect is reduced, which is not preferable. The average distance between protrusions or recesses can be measured by a stylus type surface roughness measuring machine, for example, a fine uneven structure surface through a measuring needle having a diameter of 1 mm with a tip portion made of diamond having a conical shape with an apex angle of 55 degrees. It is possible to obtain knowledge as a surface roughness curve by scanning the upper side with a length of 3 mm in a certain direction, measuring the movement change in the vertical direction of the measuring needle in that case, and recording it. The average value can be obtained by measuring the distance between the recesses. Alternatively, it can be measured by an optical interference type surface roughness measuring machine as described above.

上記、微細凹凸構造の凸部又は凹部の高さ、長辺、平均中心間距離はいずれも微細凹凸構造100個を測定したものの平均を求めることで得られる。   The height, long side, and average center-to-center distance of the convex or concave portion of the fine concavo-convex structure can be obtained by calculating the average of those obtained by measuring 100 fine concavo-convex structures.

本発明に係る微細凹凸構造を有する防眩性フィルム表面は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さRaが0.01〜5μmであることが好ましく、好ましくはRaが0.07〜1μm、最も好ましくはRaが0.1〜0.5μmである。例えば、防眩性を強くする部分はRaを大きくし、逆は小さくする。例えばRaで0.05μm以上異ならせることも出来る。   The antiglare film surface having a fine relief structure according to the present invention preferably has a center line average roughness Ra defined by JIS B 0601 of 0.01 to 5 μm, preferably Ra of 0.07 to 1 μm. Most preferably, Ra is 0.1 to 0.5 μm. For example, Ra increases the anti-glare part, and vice versa. For example, Ra can be varied by 0.05 μm or more.

本発明で規定する中心線平均粗さRaは、JIS B0601により定義され、下式によって求められる値をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。   The center line average roughness Ra defined in the present invention is defined by JIS B0601, and represents a value obtained by the following formula expressed in micrometers (μm).

Figure 2007025040
Figure 2007025040

中心線平均粗さ(Ra)の測定方法としては、25℃、65%RH環境下で測定試料同士が重なり合わない条件で24時間調湿したのち、上記環境下で測定して求めることが出来る。ここでいう重なり合わない条件とは、例えば、試料のエッジ部分を高くした状態で巻き取る方法や試料と試料の間に紙を挟んで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。用いることの出来る測定装置としては、例えば、WYKO社製 RSTPLUS非接触三次元微小表面形状測定システム等を挙げることが出来る。   The measurement method of the center line average roughness (Ra) can be determined by measuring in the above environment after conditioning for 24 hours in a 25 ° C., 65% RH environment under conditions where the measurement samples do not overlap each other. . The non-overlapping conditions mentioned here are, for example, a method of winding with the edge portion of the sample raised, a method of stacking paper between the sample and the sample, a frame made of cardboard, etc., and fixing its four corners One of the methods. Examples of the measuring apparatus that can be used include a RSTPLUS non-contact three-dimensional micro surface shape measuring system manufactured by WYKO.

次いで、図8に本発明に好ましく用いられるフレキソ印刷による第1ハードコート層の形成、引き続いて行われるコーターを用いた塗布法による第2ハードコート層の形成の一例を示す。   Next, FIG. 8 shows an example of the formation of the first hard coat layer by flexographic printing preferably used in the present invention and the formation of the second hard coat layer by a coating method using a coater that is subsequently performed.

図8において、ロール501より繰り出された基材フィルム502は搬送されて、フレキソ印刷部Aにおいてフレキソ印刷により撥水撥油性を有する塗布部、非塗布部からなるパターン状の第1ハードコート層が塗設される。ここではインキ供給タンク508からインキ液がアニロックスロール510へ供給され、フレキソ印刷部であるパターン構造を有する樹脂版509にインキが転移される。転移印刷したインキは、活性光線硬化型樹脂を用いている場合には、フレキソ印刷部である樹脂版509の後に配置されている活性光線照射部506Aで、活性光線、例えば紫外線等を照射して硬化させる。また、インキが熱硬化性樹脂を用いている場合には、乾燥ゾーン505A、例えば、ヒートプレートにより加熱、硬化される。また、バックロール504Aをヒートロールとして加熱する方法も好ましい。   In FIG. 8, the base film 502 fed out from the roll 501 is conveyed, and a patterned first hard coat layer comprising a coating portion and a non-application portion having water and oil repellency by flexographic printing in the flexographic printing portion A is provided. Painted. Here, the ink liquid is supplied from the ink supply tank 508 to the anilox roll 510, and the ink is transferred to the resin plate 509 having a pattern structure which is a flexographic printing unit. When the actinic ray curable resin is used for the transfer printed ink, the actinic ray irradiation unit 506A disposed after the resin plate 509 which is a flexographic printing unit is irradiated with actinic rays such as ultraviolet rays. Harden. When the ink uses a thermosetting resin, the ink is heated and cured by a drying zone 505A, for example, a heat plate. A method of heating the back roll 504A as a heat roll is also preferable.

フレキソ印刷部Aにおいて、活性光線照射部506Aの照射光が、樹脂版509のインキに直接影響を与えないように、活性光線照射部506Aと樹脂版509とを適度な間隔で配置する、或いは活性光線照射部506Aと樹脂版509との間に、遮光壁等を設置することが好ましい。また、乾燥ゾーン505Aの熱が、樹脂版509のインキに直接影響を与えないように、樹脂版509を断熱カバーで被覆する、或いは図で示すように、乾燥ゾーン505Aの乾燥風が遮断されるような仕切りを設置することが好ましい。   In the flexographic printing part A, the actinic ray irradiation part 506A and the resin plate 509 are arranged at an appropriate interval so that the irradiation light of the actinic ray irradiation part 506A does not directly affect the ink of the resin plate 509. It is preferable to install a light shielding wall or the like between the light irradiation unit 506A and the resin plate 509. Further, the resin plate 509 is covered with a heat insulating cover so that the heat of the drying zone 505A does not directly affect the ink of the resin plate 509, or the drying air in the drying zone 505A is blocked as shown in the figure. It is preferable to install such a partition.

転移印刷したインキにより形成されたパターンが維持出来る程度に硬化処理を行った基材フィルム502は、乾燥ゾーン505Aで不要な有機溶媒等を蒸発させて硬化を完了させる。   The base film 502 that has been cured to such an extent that the pattern formed by the transfer-printed ink can be maintained is cured by evaporating unnecessary organic solvent or the like in the drying zone 505A.

次いで、第2ハードコート層塗布部Bにおいて、コーター503より供給されるハードコート層用組成物が第1ハードコート層表面に塗布され、第1ハードコート層非形成部に凹部又は凸部を形成する。第2ハードコート層が活性光線硬化型樹脂を含有する場合は、活性光線照射部506B及び506Cにより活性光線が照射される。また、乾燥ゾーン505Bにより乾燥・固化される。   Next, in the second hard coat layer application part B, the hard coat layer composition supplied from the coater 503 is applied to the surface of the first hard coat layer, and a concave or convex part is formed in the first hard coat layer non-formation part. To do. When the second hard coat layer contains an actinic ray curable resin, actinic rays are irradiated by the actinic ray irradiation units 506B and 506C. Further, it is dried and solidified by the drying zone 505B.

活性光線照射部506A、B、Cの部分では、20〜120℃に温度制御されたバックロール504C上の基材フィルム502に活性光線を照射することが好ましい。   In the actinic ray irradiation sections 506A, B, and C, it is preferable to irradiate the base film 502 on the back roll 504C whose temperature is controlled to 20 to 120 ° C. with actinic rays.

本発明のフレキソ印刷による塗布部、非塗布部からなるパターン状の第1ハードコート層を形成する方法は、基材フィルムを1〜500m/min、好ましくは10〜300m/minで移送しながら形成することが好ましい。   The method for forming a patterned first hard coat layer comprising a coated portion and a non-coated portion by flexographic printing according to the present invention is formed while the substrate film is transferred at 1 to 500 m / min, preferably 10 to 300 m / min. It is preferable to do.

インキを転移印刷させる際の基材フィルムは帯電に斑がないことが好ましく、直前で徐電することが好ましく、或いは均一に帯電させてもよい。   The base film used for transfer printing of the ink is preferably free from unevenness in charging, and is preferably charged immediately before, or may be uniformly charged.

また、インキを転移印刷させて形成したパターンをヘイズ、透過鮮明度などの防眩性を測定し、所定の値であることを確認し、ずれや変動が確認された場合、その結果をフィードバックしてインキの調整や樹脂版の交換を行うことが好ましい。   Also, the anti-glare property such as haze and transmission sharpness is measured for the pattern formed by transfer printing of ink, and it is confirmed that it is a predetermined value, and when the deviation or fluctuation is confirmed, the result is fed back. It is preferable to adjust the ink and replace the resin plate.

《基材フィルム》
本発明に用いられる基材フィルムとしては、製造が容易であること、活性線硬化型樹脂層との接着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。
<Base film>
The base film used in the present invention is easy to manufacture, has good adhesion to the actinic radiation curable resin layer, is optically isotropic, is optically transparent, etc. Is mentioned as a preferable requirement.

本発明でいう透明とは、可視光の透過率60%以上であることをさし、好ましくは80%以上であり、特に好ましくは90%以上である。   The term “transparent” as used in the present invention means that the visible light transmittance is 60% or more, preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more.

上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム,ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることが出来る。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。   Although it will not specifically limit if it has said property, For example, cellulose ester-type films, such as a cellulose diacetate film, a cellulose triacetate film, a cellulose acetate propionate film, a cellulose acetate butyrate film, a polyester-type film, a polycarbonate Film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyester film such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol Film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, nor Runen resin film, a polymethylpentene film, a polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, may be mentioned acrylic film or a glass plate or the like. Among these, a polycarbonate film, a polyester film, a norbornene resin film, and a cellulose ester film are preferable.

本発明で好ましく用いられるポリカーボネート系樹脂フィルムを構成するポリカーボネートは、種々のものを用いることが出来るが、化学的性質及び物性の点から芳香族ポリカーボネートが好ましく、特にビスフェノールA系が好ましい。更に好ましくはビスフェノールAにベンゼン環、シクロヘキサン環、脂肪族炭化水素基などを導入したビスフェノールA誘導体中でも中央炭素に対して非対称に導入された誘導体を用いて得られた単位分子内の異方性を減少させた構造のポリカーボネートが好ましい。例えば、ビスフェノールAの中央炭素の2個のメチル基をベンゼン環に置換したもの、ビスフェノールAのそれぞれのベンゼン環の一つの水素をメチル基、フェニル基などで中央炭素に対し非対称に置換したものを用いて得られるポリカーボネートが挙げられる。   Various polycarbonates can be used for the polycarbonate-based resin film preferably used in the present invention, but aromatic polycarbonate is preferable from the viewpoint of chemical properties and physical properties, and bisphenol A-based is particularly preferable. More preferably, bisphenol A derivatives obtained by introducing a benzene ring, cyclohexane ring, aliphatic hydrocarbon group, etc. into bisphenol A have anisotropy in the unit molecule obtained using a derivative introduced asymmetrically with respect to the central carbon. Polycarbonate with reduced structure is preferred. For example, two methyl groups in the central carbon of bisphenol A are substituted with benzene rings, and one hydrogen in each benzene ring of bisphenol A is asymmetrically substituted with respect to the central carbon with methyl groups, phenyl groups, etc. The polycarbonate obtained by using is mentioned.

具体的には4,4′−ジヒドロキシジフェニルアルカン又はこれらのハロゲン置換体からホスゲン法又はエステル交換法によって得られるものであり、例えば4,4′−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルエタン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルブタン等を挙げることが出来る。   Specifically, 4,4′-dihydroxydiphenylalkane or a halogen-substituted product thereof is obtained by a phosgene method or a transesterification method. For example, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4′-dihydroxydiphenylethane, Examples include 4,4'-dihydroxydiphenylbutane.

本発明において使用するポリカーボネート系樹脂フィルムの作製方法は特に限定されるものではない。即ち押出し法、溶媒キャスト法及びカレンダー法等いずれによってもよい。本発明においては1軸延伸フィルム或いは2軸延伸フィルムを使用してもよいが、表面精度が優れるという点では溶媒キャスト法で作製したフィルムが、光学的等方性、異方性が小さいという点では押出し法で作製したフィルムが更に好ましい。   The production method of the polycarbonate resin film used in the present invention is not particularly limited. That is, any of an extrusion method, a solvent casting method, a calendar method, and the like may be used. In the present invention, a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film may be used, but in terms of excellent surface accuracy, a film produced by a solvent cast method has a small optical isotropy and anisotropy. Then, the film produced by the extrusion method is more preferable.

本発明において使用されるポリカーボネート系樹脂はガラス転移点(Tg)が110℃以上であって、吸水率(23℃水中、24時間の条件で測定した値)が0.3%以下のものを使用するのが良い。より好ましくはTgが120℃以上であって、吸水率が0.2%以下のものが良い。   The polycarbonate resin used in the present invention has a glass transition point (Tg) of 110 ° C. or higher and a water absorption rate (measured under conditions of 23 ° C. water for 24 hours) of 0.3% or less. Good to do. More preferably, Tg is 120 ° C. or higher and water absorption is 0.2% or less.

本発明に好ましく用いることの出来るポリエステル系樹脂を構成するポリエステルとしては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルである。   Although it does not specifically limit as polyester which comprises the polyester-type resin which can be preferably used for this invention, It is polyester which has the film formation property which has a dicarboxylic acid component and a diol component as main structural components.

主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることが出来る。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることが出来る。   The main constituent dicarboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, Examples include cyclohexanedicarboxylic acid, diphenyldicarboxylic acid, diphenylthioether dicarboxylic acid, diphenylketone dicarboxylic acid, and phenylindanedicarboxylic acid. Examples of the diol component include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis ( 4-hydroxyphenyl) sulfone, bisphenol full orange hydroxyethyl ether, diethylene glycol, neopentyl glycol, hydroquinone, cyclohexanediol and the like.

これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸及び/または2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコール及び/または1,4−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−2,6−ナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、及びこれらのポリエステルの二種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。   Among the polyesters having these as main constituents, terephthalic acid and / or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as a dicarboxylic acid component and ethylene glycol as a diol component from the viewpoint of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc. And / or a polyester mainly composed of 1,4-cyclohexanedimethanol is preferred. Among them, a polyester mainly composed of polyethylene terephthalate or polyethylene-2,6-naphthalate, a copolymer polyester composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and two or more kinds of these polyesters A polyester having a mixture as a main constituent is preferred.

本発明に用いられるポリエステル系フィルムを構成するポリエステルは、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、さらに他の共重合成分が共重合されていても良いし、他のポリエステルが混合されていても良い。これらの例としては、先に挙げたジカルボン酸成分やジオール成分、またはそれらから成るポリエステルを挙げることが出来る。   As long as the polyester constituting the polyester film used in the present invention is within a range that does not impair the effects of the present invention, other copolymer components may be copolymerized or other polyesters may be mixed. Also good. Examples of these include the dicarboxylic acid components and diol components mentioned above, or polyesters composed thereof.

またフィルムの耐熱性を向上する目的では、ビスフェノール系化合物、ナフタレン環またはシクロヘキサン環を有する化合物を共重合することが出来る。これらの共重合割合としては、ポリエステルを構成する二官能性ジカルボン酸を基準として、1〜20モル%が好ましい。   For the purpose of improving the heat resistance of the film, a bisphenol compound, a compound having a naphthalene ring or a cyclohexane ring can be copolymerized. The copolymerization ratio is preferably 1 to 20 mol% based on the bifunctional dicarboxylic acid constituting the polyester.

また本発明で好ましく用いられるノルボルネン系樹脂フィルムとは、ノルボルネン構造を有する非晶性ポリオレフィンフィルムで、例えば三井石油化学(株)製のAPOや日本ゼオン(株)製のゼオネックス、JSR(株)製のARTON等がある。   The norbornene-based resin film preferably used in the present invention is an amorphous polyolefin film having a norbornene structure, such as APO manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd., ZEONEX manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., manufactured by JSR Co., Ltd. ARTON etc.

本発明においては、中でも特にセルロースエステル系フィルムを用いることが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。市販のセルロースエステルフィルムとしては、例えば、コニカミノルタタック、製品名KC8UX2MW、KC4UX2MW、KC8UY、KC4UY、KC5UN、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UCR−5(コニカミノルタオプト(株)製)が、製造上、コスト面、透明性、接着性等の観点から好ましく用いられる。これらのフィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。   In the present invention, it is particularly preferable to use a cellulose ester film. As the cellulose ester, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate are preferable. Among them, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose acetate propionate are preferably used. As a commercially available cellulose ester film, for example, Konica Minoltac, product names KC8UX2MW, KC4UX2MW, KC8UY, KC4UY, KC5UN, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5 (manufactured by Konica Minolta Opto, Inc.) From the viewpoint of production, cost, transparency, adhesiveness and the like are preferably used. These films may be films produced by melt casting film formation or films produced by solution casting film formation.

以下、本発明に特に好ましく用いられるセルロースエステルフィルムについて更に詳細に説明する。   Hereinafter, the cellulose ester film particularly preferably used in the present invention will be described in more detail.

(セルロースエステルフィルム)
本発明に用いられるセルロースエステルは、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、特開平10−45804号、同08−231761号、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独或いは混合して用いることが出来る。
(Cellulose ester film)
The cellulose ester used in the present invention is preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. For example, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate and the like, and JP-A Nos. 10-45804 and 08-231761 Further, mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate as described in US Pat. No. 2,319,052 can be used. Among the above descriptions, the lower fatty acid esters of cellulose particularly preferably used are cellulose triacetate and cellulose acetate propionate. These cellulose esters can be used alone or in combination.

セルロースエステルの分子量が小さ過ぎると引裂強度が低下するが、分子量を上過ぎるとセルロースエステルの溶解液の粘度が高くなり過ぎるため生産性が低下する。セルロースエステルの分子量は数平均分子量(Mn)で70000〜200000のものが好ましく、100000〜200000のものが更に好ましい。   If the molecular weight of the cellulose ester is too small, the tear strength is reduced. However, if the molecular weight is too high, the viscosity of the cellulose ester solution becomes too high, and the productivity is lowered. The molecular weight of the cellulose ester is preferably 70000-200000 in terms of number average molecular weight (Mn), more preferably 100,000-200000.

セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度(結合酢酸量)54.0〜62.5%のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が58.0〜62.5%のセルローストリアセテートである。平均酢化度が小さいと寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと溶剤に対する溶解度が低下し生産性が下がる。   In the case of cellulose triacetate, those having an average degree of acetylation (bound acetic acid amount) of 54.0 to 62.5% are preferably used, and more preferably an average degree of acetylation of 58.0 to 62.5%. Cellulose triacetate. When the average degree of acetylation is small, the dimensional change is large, and the polarization degree of the polarizing plate is lowered. When the average degree of acetylation is large, the solubility in a solvent is lowered and the productivity is lowered.

セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。   Preferred cellulose esters other than cellulose triacetate have an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, and when the substitution degree of acetyl group is X and the substitution degree of propionyl group or butyryl group is Y, the following formula ( It is a cellulose ester containing the cellulose ester which satisfy | fills I) and (II) simultaneously.

式(I) 2.6≦X+Y≦3.0
式(II) 0≦X≦2.5
この内特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているのものである。これらは公知の方法で合成することが出来る。
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Of these, cellulose acetate propionate is preferably used, and it is particularly preferable that 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9. The portion that is not substituted with an acyl group is usually present as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロ−スエステルを単独或いは混合して用いることが出来る。特に綿花リンタ−(以下、単にリンタ−とすることがある)から合成されたセルロ−スエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。   As the cellulose ester, cellulose ester synthesized using cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to use a cellulose ester synthesized from a cotton linter (hereinafter sometimes simply referred to as linter) alone or in combination.

本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは、溶液流延法で製造されたものでも、溶融流延法で製造されたものでもよいが、少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残溶量が3〜40質量%である時に幅手方向に1.01〜1.5倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に2軸延伸することであり、剥離残溶量が3〜40質量%である時に幅手方向及び長手方向に、各々1.01〜1.5倍に延伸されることが望ましい。こうすることによって、視認性に優れた防眩性フィルムを得ることが出来る。更に、2軸延伸し、ナーリング加工をすることによって、長尺状低反射フィルムのロール状での保管中の巻き形状の劣化を著しく改善することが出来る。このときの延伸倍率としては特に好ましくは、1.03〜1.45倍である。   The cellulose ester film used in the present invention may be one produced by a solution casting method or one produced by a melt casting method, but is preferably at least stretched in the width direction, and particularly solution casting. It is preferable that the film is stretched 1.01 to 1.5 times in the width direction when the amount of the residual dissolution in the process is 3 to 40% by mass. More preferably, it is biaxially stretched in the width direction and the lengthwise direction, and when the amount of residual dissolution is 3 to 40% by mass, it is stretched by 1.01 to 1.5 times in the width direction and the lengthwise direction, respectively. It is desirable that By carrying out like this, the anti-glare film excellent in visibility can be obtained. Further, by performing biaxial stretching and knurling, it is possible to remarkably improve the deterioration of the winding shape during storage in the form of a roll of a long low-reflection film. The draw ratio at this time is particularly preferably 1.03 to 1.45.

本発明においては、長尺フィルムを用いることが好ましく、具体的には、100m〜5000m程度のものを用いる。また、基材フィルムの幅は1.4m以上が好ましく、1.4〜4mであることがより好ましい。   In the present invention, it is preferable to use a long film, and specifically, about 100 m to 5000 m is used. Moreover, 1.4 m or more is preferable and, as for the width | variety of a base film, it is more preferable that it is 1.4-4m.

本発明に係るセルロースエステルフィルムは、光透過率が90%以上、より好ましくは93%以上の透明フィルムであることが好ましい。   The cellulose ester film according to the present invention is preferably a transparent film having a light transmittance of 90% or more, more preferably 93% or more.

本発明に係るセルロースエステルフィルムは、その厚さが10〜100μmのものが好ましく、透湿性は、25℃、90±2%RHにおいて、200g/m2・24時間以下であることが好ましく、更に好ましくは、10〜180g/m2・24時間以下であり、特に好ましくは、160g/m2・24時間以下である。 The cellulose ester film according to the present invention preferably has a thickness of 10 to 100 μm, and the moisture permeability is preferably 200 g / m 2 · 24 hours or less at 25 ° C. and 90 ± 2% RH, Preferably, it is 10 to 180 g / m 2 · 24 hours or less, and particularly preferably 160 g / m 2 · 24 hours or less.

特には、膜厚10〜60μmで透湿性が上記範囲内であることが好ましい。   In particular, it is preferable that the film thickness is 10 to 60 μm and the moisture permeability is within the above range.

ここで、基材フィルムの透湿性は、JIS Z 0208に記載の方法に従い、各試料の透湿性を測定した。   Here, the moisture permeability of each sample was measured according to the method described in JIS Z 0208.

(可塑剤)
本発明に用いられる基材フィルムにセルロースエステルフィルムを用いる場合、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることが出来る。
(Plasticizer)
When using a cellulose ester film for the base film used in the present invention, it is preferable to contain the following plasticizer. Examples of plasticizers include phosphate ester plasticizers, phthalate ester plasticizers, trimellitic acid ester plasticizers, pyromellitic acid plasticizers, glycolate plasticizers, citrate ester plasticizers, and polyesters. A plasticizer, a polyhydric alcohol ester plasticizer, and the like can be preferably used.

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキシル)シトレート等を好ましく用いることが出来る。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。   For phosphate plasticizers, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenylbiphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, etc. For phthalate ester plasticizers, diethyl phthalate, dimethoxy Ethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diphenyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, and other trimellitic acid plasticizers include tributyl trimellitate, triphenyl trimellitate, triethyl For pyromellitic acid ester plasticizers such as trimellitate, tetrabutylpyromellitate, In the case of glycolate plasticizers such as lupyromelitate and tetraethylpyromellitate, triacetin, tributyrin, ethylphthalylethyl glycolate, methylphthalylethylglycolate, butylphthalylbutylglycolate, etc. Citrate, tri-n-butyl citrate, acetyl triethyl citrate, acetyl tri-n-butyl citrate, acetyl tri-n- (2-ethylhexyl) citrate and the like can be preferably used. Examples of other carboxylic acid esters include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters.

ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることが出来る。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることが出来る。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,2−ブチレングリコール等を用いることが出来る。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。   As the polyester plasticizer, a copolymer of a dibasic acid such as an aliphatic dibasic acid, an alicyclic dibasic acid, or an aromatic dibasic acid and a glycol can be used. The aliphatic dibasic acid is not particularly limited, and adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexyl dicarboxylic acid and the like can be used. As the glycol, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,2-butylene glycol and the like can be used. These dibasic acids and glycols may be used alone or in combination of two or more.

多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトール、であることが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数1〜32の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数1〜20であることが更に好ましく、炭素数1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることが出来る。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を2個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に安息香酸であることが好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量300〜1500の範囲であることが好ましく、350〜750の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The polyhydric alcohol ester plasticizer comprises an ester of a divalent or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid. Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, 2-n-butyl-2-ethyl- Examples include 1,3-propanediol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, xylitol, and the like. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable. There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid used for polyhydric alcohol ester, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention. Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto. As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. It is more preferable that it is C1-C20, and it is especially preferable that it is C1-C10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid. Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanecarboxylic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, and laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid. Examples of preferable alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and derivatives thereof. Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenyl carboxylic acid, naphthalene carboxylic acid, and tetralin carboxylic acid. Aromatic monocarboxylic acids possessed by them, or their derivatives. Particularly preferred is benzoic acid. The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably in the range of 300 to 1500, and more preferably in the range of 350 to 750. The larger one is preferable in terms of improvement in retention, and the smaller one is preferable in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でも良いし、二種以上の混合であっても良い。また、多価アルコール中のOH基はカルボン酸で全てエステル化しても良いし、一部をOH基のままで残しても良い。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Further, all of the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified with carboxylic acid, or a part of the OH groups may be left as they are.

これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。   These plasticizers are preferably used alone or in combination.

これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して1〜20質量%が好ましく、特に好ましくは、3〜13質量%である。   The amount of these plasticizers used is preferably from 1 to 20% by weight, particularly preferably from 3 to 13% by weight, based on the cellulose ester, in terms of film performance, processability and the like.

(紫外線吸収剤)
本発明に用いる基材フィルムには、紫外線吸収剤を添加することが好ましい。
(UV absorber)
It is preferable to add an ultraviolet absorber to the base film used in the present invention.

紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。   As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.

本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of ultraviolet absorbers preferably used in the present invention include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, and the like. For example, but not limited to.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式(1)で示される化合物が好ましく用いられる。   As the benzotriazole ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula (1) is preferably used.

Figure 2007025040
Figure 2007025040

式中、R1、R2、R3、R4及びR5は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または5〜6員の複素環基を表し、R4とR5は閉環して5〜6員の炭素環を形成してもよい。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different, and are a hydrogen atom, halogen atom, nitro group, hydroxyl group, alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxyl group, acyloxy Represents a group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, mono- or dialkylamino group, acylamino group or 5- to 6-membered heterocyclic group, and R 4 and R 5 are closed to form a 5- to 6-membered carbocyclic ring May be.

また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。   Moreover, these groups described above may have an arbitrary substituent.

以下に本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of the ultraviolet absorber used for this invention is given to the following, this invention is not limited to these.

UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171、チバスペシャルティケミカルズ製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109、チバスペシャルティケミカルズ製)
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式(2)で表される化合物が好ましく用いられる。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6 (Linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN171, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- Mixture of 4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (TINUVIN109, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
As the benzophenone-based ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula (2) is preferably used.

Figure 2007025040
Figure 2007025040

式中、Yは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Aは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−CO(NH)n-1−D基を表し、Dはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。m及びnは1または2を表す。 In the formula, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxyl group, and a phenyl group, and these alkyl group, alkenyl group, and phenyl group may have a substituent. A represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, a cycloalkyl group, an alkylcarbonyl group, an alkylsulfonyl group or a —CO (NH) n-1 —D group, and D represents an alkyl group, an alkenyl group or a substituent. Represents a phenyl group which may have m and n represent 1 or 2.

上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数24までの直鎖または分岐の脂肪族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数18までのアルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数16までのアルケニル基でアリル基、2−ブテニル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェニル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい)等が挙げられる。   In the above, the alkyl group represents, for example, a linear or branched aliphatic group having up to 24 carbon atoms, the alkoxyl group represents, for example, an alkoxyl group having up to 18 carbon atoms, and the alkenyl group has, for example, carbon number An alkenyl group up to 16 represents an allyl group, a 2-butenyl group, or the like. In addition, as substituents to alkyl groups, alkenyl groups, and phenyl groups, halogen atoms such as chlorine atoms, bromine atoms, fluorine atoms, etc., hydroxyl groups, phenyl groups (this phenyl group is substituted with alkyl groups or halogen atoms, etc.) May be used).

以下に一般式(B)で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the benzophenone compound represented by the general formula (B) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明で好ましく用いられる上記の紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
As the ultraviolet absorber preferably used in the present invention, a benzotriazole-based ultraviolet absorber and a benzophenone-based ultraviolet absorber, which are highly transparent and excellent in preventing the deterioration of the polarizing plate and the liquid crystal, are preferable, and unnecessary coloring occurs. Less benzotriazole-based UV absorbers are particularly preferably used.

また、特願平11−295209号に記載されている分配係数が9.2以上の紫外線吸収剤は、基材フィルムに用いた時、フィルムの面品質に優れ、塗布性にも優れ好ましい。特に分配係数が10.1以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。   Moreover, the ultraviolet absorber with the distribution coefficient described in Japanese Patent Application No. 11-295209 having a distribution coefficient of 9.2 or more is excellent in the surface quality of the film and in the coating property when used for the base film. In particular, it is preferable to use an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 10.1 or more.

また、特開平6−148430号の一般式(1)または一般式(2)、特願2000−156039の一般式(3)、(6)、(7)記載の高分子紫外線吸収剤(または紫外線吸収性ポリマー)も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、PUVA−30M(大塚化学(株)製)等が市販されている。   Further, the polymer ultraviolet absorber (or ultraviolet ray) described in the general formula (1) or general formula (2) of JP-A-6-148430 and the general formulas (3), (6), and (7) of Japanese Patent Application No. 2000-156039. Absorbable polymers) are also preferably used. As a polymer ultraviolet absorber, PUVA-30M (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) and the like are commercially available.

(微粒子)
本発明において、セルロースエステルフィルム中に微粒子を含有しているのが好ましく、微粒子としては、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さく出来るので好ましい。微粒子の2次粒子の平均粒径は0.01〜1.0μmの範囲で、その含有量はセルロースエステルに対して0.005〜0.3質量%が好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子には有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下出来るため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類(特にメチル基を有するアルコキシシラン類)、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方がマット効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜50nmで、より好ましくは7〜16nmである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、通常、凝集体として存在しセルロースエステルフィルム表面に0.01〜1.0μmの凹凸を生成させることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としてはアエロジル社製のAEROSIL(アエロジル)200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812、OX50、TT600等を挙げることが出来、好ましくはAEROSIL(アエロジル)200V、R972、R972V、R974、R202、R812である。これらの微粒子は2種以上併用してもよい。2種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することが出来る。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えばAEROSIL(アエロジル)200VとR972Vを質量比で0.1:99.9〜99.9〜0.1の範囲で使用出来る。本発明において、微粒子はドープ調製時、セルロースエステル、他の添加剤及び有機溶媒とともに含有させて分散してもよいが、セルロースエステル溶液とは、別に微粒子分散液のような十分に分散させた状態でドープを調製するのが好ましい。微粒子を分散させるために、前もって有機溶媒にひたしてから高剪断力を有する分散機(高圧分散装置)で細分散させておくのが好ましい。その後により多量の有機溶媒に分散して、セルロースエステル溶液と合流させ、インラインミキサーで混合してドープとすることが好ましい。この場合、微粒子分散液に紫外線吸収剤を加え紫外線吸収剤液としてもよい。
(Fine particles)
In the present invention, the cellulose ester film preferably contains fine particles. Examples of the fine particles include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, and hydration. It is preferable to contain inorganic fine particles such as calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, and crosslinked polymer fine particles. Of these, silicon dioxide is preferable because it can reduce the haze of the film. The average particle size of the secondary particles of the fine particles is in the range of 0.01 to 1.0 μm, and the content is preferably 0.005 to 0.3% by mass with respect to the cellulose ester. In many cases, fine particles such as silicon dioxide are surface-treated with an organic material, but such a material is preferable because it can reduce the haze of the film. Preferred organic substances for the surface treatment include halosilanes, alkoxysilanes (particularly alkoxysilanes having a methyl group), silazane, siloxane and the like. The larger the average particle size of the fine particles, the greater the mat effect, and on the contrary, the smaller the average particle size, the better the transparency. Therefore, the average particle size of the preferred primary particles is 5 to 50 nm, more preferably 7 to 16 nm. It is. These fine particles are usually present as aggregates in the cellulose ester film, and it is preferable to form irregularities of 0.01 to 1.0 μm on the surface of the cellulose ester film. Examples of the fine particles of silicon dioxide include Aerosil 200, 200V, 300, R972, R972V, R974, R202, R812, OX50, TT600, etc. manufactured by Aerosil, preferably AEROSIL (Aerosil) 200V, R972, R972V, R974, R202, and R812. Two or more kinds of these fine particles may be used in combination. When using 2 or more types together, it can mix and use in arbitrary ratios. In this case, fine particles having different average particle sizes and materials, for example, AEROSIL (Aerosil) 200V and R972V can be used in a mass ratio of 0.1: 99.9 to 99.9 to 0.1. In the present invention, the fine particles may be dispersed together with cellulose ester, other additives, and an organic solvent at the time of preparing the dope, but in a sufficiently dispersed state like a fine particle dispersion separately from the cellulose ester solution. It is preferable to prepare the dope. In order to disperse the fine particles, it is preferably preliminarily dispersed in an organic solvent and then finely dispersed by a disperser (high pressure disperser) having a high shearing force. After that, it is preferable to disperse in a larger amount of organic solvent, merge with the cellulose ester solution, and mix with an in-line mixer to obtain a dope. In this case, an ultraviolet absorbent may be added to the fine particle dispersion to form an ultraviolet absorbent liquid.

上記の劣化防止剤、紫外線吸収剤及び/または微粒子は、セルロースエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。   The deterioration inhibitor, the ultraviolet absorber and / or the fine particles may be added together with the cellulose ester and the solvent during the preparation of the cellulose ester solution, or may be added during or after the solution preparation.

(有機溶媒)
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムのドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることが出来る。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。特に酢酸メチルが好ましい。
(Organic solvent)
The organic solvent useful for forming the dope of the cellulose ester film used in the present invention can be used without limitation as long as it dissolves cellulose ester and other additives simultaneously. For example, as the chlorinated organic solvent, methylene chloride, as the non-chlorinated organic solvent, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro- Examples include 2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, and nitroethane. Methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate and acetone can be preferably used. Particularly preferred is methyl acetate.

本発明に係わるドープには、上記有機溶媒の他に、1〜40質量%の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数1〜4のアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールを挙げることが出来る。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。   In addition to the organic solvent, the dope according to the present invention preferably contains 1 to 40% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms. When the proportion of alcohol in the dope increases, the web gels, facilitating peeling from the metal support, and when the proportion of alcohol is small, the role of promoting dissolution of cellulose esters in non-chlorine organic solvent systems There is also. Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, and tert-butanol. Ethanol is preferred because of the stability of these dopes, the relatively low boiling point, good drying properties, and no toxicity.

ドープ中のセルロースエステルの濃度は15〜40質量%、ドープ粘度は100〜500ポアズ(P)の範囲に調整されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。   The concentration of the cellulose ester in the dope is preferably adjusted to 15 to 40% by mass, and the dope viscosity is preferably adjusted to a range of 100 to 500 poise (P) in order to obtain good film surface quality.

《防眩性反射防止フィルム》
本発明は前記第1ハードコート層及び第2ハードコート層を有する防眩性フィルムの微細凹凸構造を有する面に、下記低屈折率層を設け防眩性反射防止フィルムとすることが好ましい。
《Anti-glare anti-reflection film》
In the present invention, it is preferable to provide an antiglare antireflection film by providing the following low refractive index layer on the surface having a fine uneven structure of the antiglare film having the first hard coat layer and the second hard coat layer.

特に、本発明においては、低屈折率層は、外殻層を有し内部が多孔質または空洞となっている中空シリカ系微粒子を含有する低屈折率層塗布液をコーティングすることが好ましい。   In particular, in the present invention, the low refractive index layer is preferably coated with a low refractive index layer coating solution containing hollow silica-based fine particles having an outer shell layer and porous or hollow inside.

〈低屈折率層〉
本発明に係る低屈折率層の屈折率は、支持体である基材フィルムの屈折率より低く、23℃、波長550nm測定で、1.30〜1.45の範囲であることが好ましい。
<Low refractive index layer>
The refractive index of the low refractive index layer according to the present invention is preferably lower than the refractive index of the substrate film as the support, and is preferably in the range of 1.30 to 1.45 at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm.

低屈折率層の膜厚は、5nm〜0.5μmであることが好ましく、10nm〜0.3μmであることがさらに好ましく、30nm〜0.2μmであることが最も好ましい。   The film thickness of the low refractive index layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably 30 nm to 0.2 μm.

本発明に用いられる低屈折率層形成用組成物は、(a)下記一般式(3)で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物及び、(b)外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子が組成物を構成することが好ましい。   The composition for forming a low refractive index layer used in the present invention comprises (a) an organosilicon compound represented by the following general formula (3) or a hydrolyzate thereof or a polycondensate thereof, and (b) an outer shell layer. It is preferable that hollow silica-based fine particles having a porous or hollow interior constitute the composition.

一般式(3) Si(OR)4
(式中、Rはアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基である。)
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤等を添加してもよい。
General formula (3) Si (OR) 4
(In the formula, R is an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
In addition, a silane coupling agent, a curing agent, and the like may be added as necessary.

〔中空シリカ系微粒子〕
まず、前記(b)で表される外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子について説明する。
[Hollow silica fine particles]
First, hollow silica-based fine particles having the outer shell layer represented by (b) and having a porous or hollow interior will be described.

中空シリカ系微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。   The hollow silica-based fine particles are (I) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (II) having cavities inside, and the contents are solvent, gas or porous It is a hollow particle filled with a porous material. The low refractive index layer may contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or may contain both.

尚、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される中空微粒子は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層等の透明被膜の膜厚の2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの中空微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)が好ましい。   The hollow particles are particles having cavities inside, and the cavities are surrounded by particle walls. The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle size of such hollow fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The hollow fine particles to be used are appropriately selected according to the thickness of the transparent coating to be formed, and may be in the range of 2/3 to 1/10 of the thickness of the transparent coating such as the low refractive index layer to be formed. desirable. These hollow fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), and ketone alcohol (for example, diacetone alcohol) are preferable.

複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することが出来ないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部に内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持出来ないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, when the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and it is easy to use silicate monomers and oligomers with a low polymerization degree, which are coating liquid components described later. In some cases, the inside of the composite particle enters the inside and the porosity of the inside is reduced, so that the effect of the low refractive index cannot be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, when the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. is there.

複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等との1種または2種以上を挙げることが出来る。このような多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表したときのモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、さらに屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. In addition, components other than silica may be contained. Specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MO X / SiO 2 when the silica is expressed by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is expressed in terms of oxide (MO X ) is 0.0001 to 1.0, Preferably it is in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MO X / SiO 2 of less than 0.0001. Even if it is obtained, particles having a small pore volume and a low refractive index cannot be obtained. In addition, when the molar ratio MO X / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it is difficult to obtain a low refractive index. is there.

このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.

尚、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることが出来る。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例表した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   Incidentally, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Examples of the porous substance include those composed of the compounds exemplified for the porous particles. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

このような中空微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第1〜第3工程から中空微粒子は製造される。   As a method for producing such hollow fine particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed. Specifically, when the composite particles are composed of silica and an inorganic compound other than silica, hollow fine particles are produced from the following first to third steps.

第1工程:多孔質粒子前駆体の調製
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
First Step: Preparation of Porous Particle Precursor In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica are prepared in advance. A mixed aqueous solution is prepared, and this aqueous solution is gradually added to an aqueous alkaline solution having a pH of 10 or more while stirring according to the composite ratio of the target composite oxide to prepare a porous particle precursor.

シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム(水ガラス)やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることが出来る。尚、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第4級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。   As the silica raw material, alkali metal, ammonium or organic base silicate is used. As an alkali metal silicate, sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used. Examples of the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The ammonium silicate or the organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound or the like to a silicic acid solution.

また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Al、B、Ti、Zr、Sn、Ce、P、Sb、Mo、Zn、W等から選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩を挙げることが出来る。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。   In addition, alkali-soluble inorganic compounds are used as raw materials for inorganic compounds other than silica. Specifically, an oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc., an alkali metal salt or alkaline earth metal salt of the oxo acid, ammonium Salts and quaternary ammonium salts. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, zirconyl ammonium carbonate, potassium antimonate, potassium stannate, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, cerium ammonium nitrate, and sodium phosphate are suitable.

これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のpH値は変化するが、このpH値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるpH値となる。このときの水溶液の添加速度には特に制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。当該シード粒子としては、特に制限はないが、SiO2、Al23、TiO2またはZrO2等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることが出来る。さらに前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のpHを10以上に調整した後、該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のpH制御を行う必要はない。このようにしてシード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることが出来る。 Although the pH value of the mixed aqueous solution changes simultaneously with the addition of these aqueous solutions, an operation for controlling the pH value within a predetermined range is not particularly required. The aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction | limiting in particular in the addition rate of the aqueous solution at this time. Further, in the production of composite oxide particles, a dispersion of seed particles can be used as a starting material. The seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used. Usually, these sols are used. I can do it. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion. When using a seed particle dispersion, the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or higher, and then an aqueous solution of the compound is added to the above-mentioned alkaline aqueous solution while stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion. When seed particles are used in this way, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles with uniform particle sizes can be obtained.

上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいpH領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、または、シード粒子上に析出して粒子成長が起こる。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなpH制御は必ずしも行う必要がない。   The silica raw material and inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side. However, when both are mixed in this highly soluble pH region, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into fine particles, or seed particles. Particle deposition occurs on the top. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of fine particles.

第1工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物(MOX)に換算し、MOX/SiO2のモル比が、0.05〜2.0、好ましくは0.2〜2.0の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が2.0を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が0.05未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、MOX/SiO2のモル比は、0.25〜2.0の範囲内にあることが望ましい。 The composite ratio of the silica and the inorganic compound other than silica in the first step is calculated by converting the inorganic compound to silica into an oxide (MO X ), and the molar ratio of MO X / SiO 2 is 0.05 to 2.0, Preferably it is in the range of 0.2-2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the proportion of silica decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small. When preparing the hollow particles, the molar ratio of MO X / SiO 2 is desirably in the range of 0.25 to 2.0.

第2工程:多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、または、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
Second step: Removal of inorganic compound other than silica from porous particles In the second step, inorganic compounds other than silica (elements other than silicon and oxygen) are obtained from the porous particle precursor obtained in the first step. At least a portion is selectively removed. As a specific removal method, the inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.

尚、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物(珪素と酸素以外の元素)を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物(珪素と酸素以外の元素)を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することが出来る。   The porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded via oxygen. By removing the inorganic compound (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor in this way, porous particles having a larger porosity and a larger pore volume can be obtained. Further, if the amount of removing the inorganic oxide (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be prepared.

また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られる、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有するケイ酸液または加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは0.5〜15nmの厚さであればよい。尚シリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。   In addition, prior to removing inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor, fluorine-substituted, obtained by dealkalizing an alkali metal salt of silica into the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. It is preferable to add a silicic acid solution containing an alkyl group-containing silane compound or a hydrolyzable organosilicon compound to form a silica protective film. The thickness of the silica protective film may be 0.5 to 15 nm. Even if the silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so that it is possible to remove inorganic compounds other than silica described above from the porous particle precursor.

このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することが出来る。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することが出来る。尚、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので必ずしも保護膜を形成する必要はない。   By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Moreover, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore, the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. I can do it. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, it is not always necessary to form a protective film because the particles are not broken.

また空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。   When preparing hollow particles, it is desirable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor comprising a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid, and the hollow particles When a coating layer to be described later is formed on the precursor, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.

上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持出来る範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多過ぎると、シリカ保護膜が厚くなり過ぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、一般式RnSi(OR′)4-n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、フッ素置換したテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The amount of the silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica protective film formed of the general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, such as acrylic group An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as fluorine-substituted tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the porous particles, and the alkoxysilane is hydrolyzed. The produced silicic acid polymer is deposited on the surface of the inorganic oxide particles. At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。尚、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。   When the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or when the ratio of water to the organic solvent is high, a silica protective film can be formed using a silicic acid solution. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, you may produce a silica protective film using a silicic acid liquid and the said alkoxysilane together.

第3工程:シリカ被覆層の形成
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
Third step: Formation of silica coating layer In the third step, the porous particle dispersion prepared in the second step (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor dispersion) contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound. By adding a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution, the surface of the particles is coated with a polymer such as a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution to form a silica coating layer.

シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式RnSi(OR′)4-n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いらる。 The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica coating layer formed, the above-mentioned such general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, A hydrocarbon group such as an acryl group or an alkoxysilane represented by n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is used as a dispersion of the porous particles (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor). In addition, the silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の分散媒が水単独、または有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。   When the dispersion medium of porous particles (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor) is water alone or a mixed solvent with an organic solvent and the mixed solvent has a high ratio of water to the organic solvent, a silicate solution You may form a coating layer using. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low silicic acid polymer obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.

ケイ酸液は、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)表面に沈着させる。尚、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆出来る程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが1〜20nmとなるように量で、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが1〜20nmの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。   The silicic acid solution is added to the dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors), and at the same time, alkali is added to make the low-silicic acid polymer into porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). ) Deposit on the surface. A silicic acid solution may be used in combination with the alkoxysilane for forming a coating layer. The addition amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer only needs to be sufficient to cover the surface of the colloidal particles, and the finally obtained silica coating layer has a thickness of 1 to 20 nm. In such an amount, it is added in a dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor) in a dispersion. When the silica protective film is formed, the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 20 nm.

次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。   Next, the dispersion liquid of the particles on which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained. In the case of a hollow particle precursor, the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.

このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞出来る程度であれば特に制限はなく、80〜300℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が80℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化出来ないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が300℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率の効果が得られないことがある。   The heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C. When the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time. Further, when the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, fine particles may be formed, and the effect of low refractive index may not be obtained.

このようにして得られた無機微粒子の屈折率は、1.42未満と低い。このような無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。   The refractive index of the inorganic fine particles thus obtained is as low as less than 1.42. Such inorganic fine particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow.

外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子の低屈折率層中の含有量は、10〜50質量%であることが好ましい。低屈折率の効果を得る上で、15質量%以上が好ましく、50質量%を超えるとバインダー成分が少なくなり膜強度が不十分となる。   The content of the hollow silica-based fine particles having an outer shell layer and porous or hollow inside is preferably 10 to 50% by mass. In order to obtain the effect of a low refractive index, the content is preferably 15% by mass or more, and when it exceeds 50% by mass, the binder component is decreased and the film strength becomes insufficient.

(有珪素化合物)
前記一般式(3)で表される有機珪素化合物は、式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基を表す。
(Silicon compound)
In the organosilicon compound represented by the general formula (3), R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。   Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane and the like are preferably used.

低屈折率層への添加方法としては、これらのテトラアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記中空シリカ系微粒子の分散液に加え、テトラアルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を中空シリカ系微粒子の表面に沈着させる。このとき、テトラアルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。   As a method of adding to the low refractive index layer, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these tetraalkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the hollow silica fine particles. The silicic acid polymer produced by hydrolyzing tetraalkoxysilane is deposited on the surface of the hollow silica fine particles. At this time, tetraalkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

また、本発明では低屈折率層に、下記一般式(4)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有させることも出来る。   In the present invention, the low refractive index layer may contain a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound represented by the following general formula (4).

Figure 2007025040
Figure 2007025040

前記一般式(4)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物について説明する。   The fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound represented by the general formula (4) will be described.

式中、R1〜R6は炭素数1〜16、好ましくは1〜4のアルキル基、炭素数1〜6、好ましくは1〜4のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12、好ましくは6〜10のアリール基、炭素数7〜14、好ましくは7〜12のアルキルアリール基、アリールアルキル基、炭素数2〜8、好ましくは2〜6のアルケニル基、または炭素数1〜6、好ましくは1〜3のアルコキシ基、水素原子またはハロゲン原子を示す。 In the formula, R 1 to R 6 are alkyl groups having 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, halogenated alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, 6 to 12 carbon atoms, preferably 6 carbon atoms. 10 to 10 aryl groups, 7 to 14 carbon atoms, preferably 7 to 12 alkylaryl groups, arylalkyl groups, 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 6 alkenyl groups, or 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 alkoxy groups, a hydrogen atom or a halogen atom.

Rfは−(Cabc)−を表し、aは1〜12の整数、b+cは2aであり、bは0〜24の整数、cは0〜24の整数を示す。このようなRfとしては、フルオロアルキレン基とアルキレン基とを有する基が好ましい。具体的に、このような含フッ素シリコーン系化合物としては、(MeO)3SiC242424Si(MeO)3、(MeO)3SiC244824Si(MeO)3、(MeO)3SiC2461224Si(MeO)3、(H52O)3SiC244824Si(OC253、(H52O)3SiC2461224Si(OC253で表されるメトキシジシラン化合物等が挙げられる。 Rf represents-(C a H b F c )-, a is an integer of 1 to 12, b + c is 2a, b is an integer of 0 to 24, and c is an integer of 0 to 24. Such Rf is preferably a group having a fluoroalkylene group and an alkylene group. Specifically, as such a fluorine-containing silicone compound, (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 2 F 4 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H Examples include methoxydisilane compounds represented by 4 Si (OC 2 H 5 ) 3 , (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (OC 2 H 5 ) 3 , and the like.

バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、形成される透明被膜自体が疎水性を有しているので、透明被膜が充分緻密化しておらず、多孔質であったり、またクラックやボイドを有している場合であっても、水分や酸・アルカリ等の薬品による透明被膜への進入が抑制される。さらには、基板表面や下層である導電層中に含まれる金属等の微粒子と水分や酸・アルカリ等の薬品とが反応することもない。このため、このような透明被膜は、優れた耐薬品性を有している。   If the fluorine-containing alkyl group-containing silane compound is included as a binder, the transparent film itself is hydrophobic, so the transparent film is not sufficiently densified and is porous or cracked. Even if it has a void or a void, entry into the transparent film by chemicals such as moisture, acid and alkali is suppressed. Furthermore, fine particles such as metals contained in the conductive layer which is the substrate surface or the lower layer do not react with chemicals such as moisture, acid and alkali. For this reason, such a transparent film has excellent chemical resistance.

また、バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、このような疎水性のみならず、滑り性がよく(接触抵抗が低く)、このためスクラッチ強度に優れた透明被膜を得ることが出来る。さらに、バインダーが、このような構成単位を有するフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、下層に導電層が形成されている場合には、バインダーの収縮率が、導電層と同等か近いものであるため導電層と密着性に優れた透明被膜を形成することが出来る。さらに、透明被膜を加熱処理する際に、収縮率の違いから、導電層が剥離して、透明導電性層に電気的接触のない部分が生じることもない。このため、膜全体として充分な導電性を維持出来る。   In addition, when a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound is included as a binder, not only the hydrophobic property but also the slipperiness (low contact resistance) is obtained, and thus a transparent film having excellent scratch strength can be obtained. I can do it. Furthermore, when the binder contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound having such a structural unit, when the conductive layer is formed in the lower layer, the shrinkage of the binder is equal to or close to that of the conductive layer. Since it is a thing, the transparent film excellent in adhesiveness with the conductive layer can be formed. Furthermore, when the transparent film is heat-treated, the conductive layer is not peeled off due to the difference in shrinkage rate, and a portion having no electrical contact is not generated in the transparent conductive layer. For this reason, sufficient electroconductivity can be maintained as a whole film.

フッ素置換アルキル基含有シラン化合物と、前記外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子とを含む透明被膜は、スクラッチ強度が高い上に、消しゴム強度または爪強度で評価される膜強度が高く、鉛筆硬度も高く、強度の上で優れた透明被膜を形成することが出来る。   A transparent film containing a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound and hollow silica-based fine particles having the outer shell layer and being porous or hollow inside has high scratch strength and is evaluated by eraser strength or nail strength. The film strength is high, the pencil hardness is high, and a transparent film excellent in strength can be formed.

本発明に係る低屈折率層にはシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。   The low refractive index layer according to the present invention may contain a silane coupling agent. Silane coupling agents include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane. Ethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltri Acetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltri Ethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ- Acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N- Examples include β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.

また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。   Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.

これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。   Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxyp Particularly preferred are propyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane.

2種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。   Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.

低屈折率層のその他のバインダーとして用いられるポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂が挙げられる。   Examples of the polymer used as the other binder of the low refractive index layer include polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, and alkyd resin.

低屈折率層は、全体で5〜80質量%のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、中空シリカ微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持出来るように調整する。   The low refractive index layer preferably contains 5 to 80% by mass of binder as a whole. The binder has a function of adhering the hollow silica fine particles and maintaining the structure of the low refractive index layer including voids. The usage-amount of a binder is adjusted so that the intensity | strength of a low refractive index layer can be maintained, without filling a space | gap.

(溶媒)
本発明に係る低屈折率層は有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
(solvent)
The low refractive index layer according to the present invention preferably contains an organic solvent. Specific examples of organic solvents include alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Group hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

有機溶媒の含有量は、低屈折率層塗布組成物中の固形分濃度の1〜4質量%であることが好ましい。有機溶媒は塗布ムラを防止して均一膜厚とするために1質量%以上が好ましく、4質量%を超えると乾燥負荷が大きくなり、乾燥装置の大型化、長時間化となり好ましくない。   The content of the organic solvent is preferably 1 to 4% by mass of the solid content concentration in the low refractive index layer coating composition. The organic solvent is preferably 1% by mass or more in order to prevent coating unevenness and achieve a uniform film thickness, and if it exceeds 4% by mass, the drying load increases, which is not preferable because the size of the drying apparatus is increased and the time is increased.

〈高屈折率層〉
本発明では、反射防止性を高める為に、前記低屈折率層の下層に下記高屈折率層を設けることが好ましい。
<High refractive index layer>
In the present invention, in order to improve antireflection properties, it is preferable to provide the following high refractive index layer below the low refractive index layer.

本発明に好ましい高屈折率層は、(c)平均粒子径が10〜200nmである金属酸化物微粒子、(d)金属化合物、(e)電離放射線硬化型樹脂を含有することが好ましい。   The high refractive index layer preferable for the present invention preferably contains (c) metal oxide fine particles having an average particle diameter of 10 to 200 nm, (d) a metal compound, and (e) an ionizing radiation curable resin.

(金属酸化物微粒子)
本発明の高屈折率層には金属酸化物微粒子が含有されることが好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることが出来、これらの金属酸化物微粒子はAl、In、Sn、Sb、Nb、ハロゲン元素、Taなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが好ましく、特に好ましくは酸化インジウム−スズ(ITO)である。
(Metal oxide fine particles)
The high refractive index layer of the present invention preferably contains metal oxide fine particles. The kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S A metal oxide having at least one element selected from the above can be used, and these metal oxide fine particles are doped with a trace amount of atoms such as Al, In, Sn, Sb, Nb, a halogen element, and Ta. May be. A mixture of these may also be used. In the present invention, at least one metal oxide fine particle selected from among zirconium oxide, antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and zinc antimonate is used. It is preferably used as a main component, and particularly preferably indium tin oxide (ITO).

これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は10nm〜200nmの範囲であり、10〜150nmであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡(SEM)等による電子顕微鏡写真から計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。   The average particle diameter of the primary particles of these metal oxide fine particles is in the range of 10 nm to 200 nm, particularly preferably 10 to 150 nm. The average particle diameter of the metal oxide fine particles may be measured from an electron micrograph by a scanning electron microscope (SEM) or the like, or measured by a particle size distribution meter using a dynamic light scattering method or a static light scattering method. May be. If the particle size is too small, aggregation tends to occur and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze is remarkably increased. The shape of the metal oxide fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a needle shape, or an indefinite shape.

高屈折率層の屈折率は、具体的には、支持体である基材フィルムの屈折率より高く、23℃、波長550nm測定で、1.50〜1.70の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60であることが好ましく、1.85〜2.50であることが更に好ましい。   Specifically, the refractive index of the high refractive index layer is preferably higher than the refractive index of the base film as a support, and is preferably in the range of 1.50 to 1.70 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. The means for adjusting the refractive index of the high refractive index layer is that the kind and addition amount of the metal oxide fine particles are dominant, so that the refractive index of the metal oxide fine particles is preferably 1.80 to 2.60, More preferably, it is 1.85 to 2.50.

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑える事も出来る。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して0.1質量%〜5質量%、より好ましくは0.5質量%〜3質量%である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でも後述するシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。   The metal oxide fine particles may be surface-treated with an organic compound. By modifying the surface of the metal oxide fine particles with an organic compound, the dispersion stability in an organic solvent is improved, the dispersion particle size can be easily controlled, and aggregation and sedimentation over time can be suppressed. . For this reason, the surface modification amount with a preferable organic compound is 0.1 mass%-5 mass% with respect to metal oxide particle, More preferably, it is 0.5 mass%-3 mass%. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Among these, the silane coupling agent mentioned later is preferable. Two or more kinds of surface treatments may be combined.

前記金属酸化物微粒子を含有する高屈折率層の厚さは5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。   The thickness of the high refractive index layer containing the metal oxide fine particles is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm.

使用する金属酸化物微粒子と後述する電離放射線硬化型樹脂等のバインダーとの比は、金属酸化物微粒子の種類、粒子サイズなどにより異なるが体積比で前者1に対して後者2から前者2に対して後者1程度が好ましい。   The ratio of the metal oxide fine particles to be used and a binder such as ionizing radiation curable resin, which will be described later, varies depending on the type of metal oxide fine particles, the particle size, etc. The latter one is preferable.

本発明において用いられる金属酸化物微粒子の使用量は高屈折率層中に5質量%〜85質量%が好ましく、10質量%〜80質量%であることがより好ましく、20〜75質量%が最も好ましい。使用量が少ないと所望の屈折率や本発明の効果が得られず、多過ぎると膜強度の劣化などが発生する。   The amount of the metal oxide fine particles used in the present invention is preferably 5% by mass to 85% by mass in the high refractive index layer, more preferably 10% by mass to 80% by mass, and most preferably 20% to 75% by mass. preferable. If the amount used is small, the desired refractive index and the effect of the present invention cannot be obtained, and if it is too large, the film strength deteriorates.

上記金属酸化物微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、ケトンアルコール(例、ジアセトンアルコール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The metal oxide fine particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol). , Esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene) Chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

また金属酸化物微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。   The metal oxide fine particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (for example, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

本発明では、更にコア/シェル構造を有する金属酸化物微粒子を含有させてもよい。シェルはコアの周りに1層形成させてもよいし、耐光性を更に向上させるために複数層形成させてもよい。コアは、シェルにより完全に被覆されていることが好ましい。   In the present invention, metal oxide fine particles having a core / shell structure may be further contained. One layer of the shell may be formed around the core, or a plurality of layers may be formed in order to further improve the light resistance. The core is preferably completely covered by the shell.

コアは酸化チタン(ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等)、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることが出来るが、ルチル型の酸化チタンを主成分としてもよい。   For the core, titanium oxide (rutile type, anatase type, amorphous type, etc.), zirconium oxide, zinc oxide, cerium oxide, tin-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, etc. can be used. Titanium may be the main component.

シェルは酸化チタン以外の無機化合物を主成分とし、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。例えば、二酸化珪素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化鉄、硫化亜鉛等を主成分とした無機化合物が用いられる。この内アルミナ、シリカ、ジルコニア(酸化ジルコニウム)であることが好ましい。また、これらの混合物でもよい。   The shell is preferably formed of a metal oxide or sulfide containing an inorganic compound other than titanium oxide as a main component. For example, an inorganic compound mainly composed of silicon dioxide (silica), aluminum oxide (alumina) zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, iron oxide, zinc sulfide, or the like is used. Of these, alumina, silica, and zirconia (zirconium oxide) are preferable. A mixture of these may also be used.

コアに対するシェルの被覆量は、平均の被覆量で2〜50質量%である。好ましくは3〜40質量%、更に好ましくは4〜25質量%である。シェルの被覆量が多いと微粒子の屈折率が低下し、被覆量が少な過ぎると耐光性が劣化する。二種以上の金属酸化物微粒子を併用してもよい。   The coating amount of the shell with respect to the core is 2 to 50% by mass as an average coating amount. Preferably it is 3-40 mass%, More preferably, it is 4-25 mass%. When the coating amount of the shell is large, the refractive index of the fine particles decreases, and when the coating amount is too small, the light resistance is deteriorated. Two or more kinds of metal oxide fine particles may be used in combination.

コアとなる酸化チタンは、液相法または気相法で作製されたものを使用出来る。また、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば、米国特許第3,410,708号、特公昭58−47061号、米国特許第2,885,366号、同第3,437,502号、英国特許第1,134,249号、米国特許第3,383,231号、英国特許第2,629,953号、同第1,365,999号に記載されている方法等を用いることが出来る。   The titanium oxide used as a core can use what was produced by the liquid phase method or the gaseous-phase method. As a method for forming the shell around the core, for example, U.S. Pat. No. 3,410,708, JP-B-58-47061, U.S. Pat. No. 2,885,366, and U.S. Pat. No. 1, British Patent No. 1,134,249, US Pat. No. 3,383,231, British Patent No. 2,629,953, No. 1,365,999, etc. I can do it.

(金属化合物)
本発明に用いられる金属化合物は下記一般式(5)で表される化合物またはそのキレート化合物を用いることが出来る。
(Metal compound)
As the metal compound used in the present invention, a compound represented by the following general formula (5) or a chelate compound thereof can be used.

一般式(5) AnMBx-n
式中、Mは金属原子、Aは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Bは金属原子Mに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。xは金属原子Mの原子価、nは2以上でx以下の整数を表す。
Formula (5) An MB xn
In the formula, M represents a metal atom, A represents a hydrolyzable functional group or a hydrocarbon group having a hydrolyzable functional group, and B represents an atomic group covalently or ionically bonded to the metal atom M. x represents the valence of the metal atom M, and n represents an integer of 2 or more and x or less.

加水分解可能な官能基Aとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記式(5)に属する金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を2個以上有するアルコキシド、または、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドまたはそれらのキレート化合物を挙げることが出来る。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁し易いため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることが出来る。   Examples of the hydrolyzable functional group A include halogens such as alkoxyl groups and chloro atoms, ester groups and amide groups. The metal compound belonging to the above formula (5) includes an alkoxide having two or more alkoxyl groups bonded directly to a metal atom, or a chelate compound thereof. Preferable metal compounds include titanium alkoxide, zirconium alkoxide, or chelate compounds thereof. Titanium alkoxide has a high reaction rate and a high refractive index and is easy to handle. However, since it has a photocatalytic action, its light resistance deteriorates when added in a large amount. Zirconium alkoxide has a high refractive index but tends to become cloudy, so care must be taken in dew point management during coating. Moreover, since titanium alkoxide has the effect of accelerating the reaction of the ultraviolet curable resin and metal alkoxide, the physical properties of the coating film can be improved by adding a small amount.

チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−iso−プロポキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタン等が挙げられる。   Examples of the titanium alkoxide include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-iso-propoxy titanium, tetra-n-propoxy titanium, tetra-n-butoxy titanium, tetra-sec-butoxy titanium, tetra-tert-butoxy titanium, and the like. Is mentioned.

ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−iso−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−ブトキシジルコニウム、テトラ−sec−ブトキシジルコニウム、テトラ−tert−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。   Examples of the zirconium alkoxide include tetramethoxy zirconium, tetraethoxy zirconium, tetra-iso-propoxy zirconium, tetra-n-propoxy zirconium, tetra-n-butoxy zirconium, tetra-sec-butoxy zirconium, tetra-tert-butoxy zirconium and the like. Is mentioned.

遊離の金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量1万以下のものを挙げることが出来る。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成出来る。   Preferred chelating agents for forming a chelate compound by coordination with a free metal compound include alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and propylene glycol, acetylacetone and acetoacetic acid. Examples thereof include ethyl and the like having a molecular weight of 10,000 or less. By using these chelating agents, it is possible to form a chelate compound that is stable against moisture mixing and is excellent in the effect of reinforcing the coating film.

金属化合物の添加量は、高屈折率層に含まれる該金属化合物由来の金属酸化物の含有量が0.3〜5質量%であるように調整することが好ましい。0.3質量%未満では耐擦傷性が不足し、5質量%を超えると耐光性が劣化する傾向がある。   The addition amount of the metal compound is preferably adjusted so that the content of the metal oxide derived from the metal compound contained in the high refractive index layer is 0.3 to 5% by mass. If it is less than 0.3% by mass, the scratch resistance is insufficient, and if it exceeds 5% by mass, the light resistance tends to deteriorate.

(電離放射線硬化型樹脂)
電離放射線硬化型樹脂は金属酸化物微粒子のバインダーとして塗膜の成膜性や物理的特性の向上のために添加される。電離放射線硬化型樹脂としては、紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を2個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることが出来る。官能基としては(メタ)アクリロイルオキシ基等のような不飽和二重結合を有する基、エポキシ基、シラノール基等が挙げられる。中でも不飽和二重結合を2個以上有するラジカル重合性のモノマーやオリゴマーを好ましく用いることが出来る。必要に応じて光重合開始剤を組み合わせてもよい。このような電離放射線硬化型樹脂としては、例えば多官能アクリレート化合物等が挙げられ、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれる化合物であることが好ましい。ここで、多官能アクリレート化合物とは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基及び/またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。
(Ionizing radiation curable resin)
The ionizing radiation curable resin is added as a binder for the metal oxide fine particles to improve the film formability and physical properties of the coating film. As the ionizing radiation curable resin, a monomer or oligomer having two or more functional groups that cause polymerization reaction directly by irradiation of ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams or indirectly by the action of a photopolymerization initiator is used. Can be used. Examples of the functional group include a group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyloxy group, an epoxy group, and a silanol group. Among these, radically polymerizable monomers and oligomers having two or more unsaturated double bonds can be preferably used. You may combine a photoinitiator as needed. Examples of such ionizing radiation curable resins include polyfunctional acrylate compounds and the like, and the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. It is preferable that it is a compound chosen from these. Here, the polyfunctional acrylate compound is a compound having two or more acryloyloxy groups and / or methacryloyloxy groups in the molecule.

多官能アクリレート化合物のモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートが好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または2種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの2量体、3量体等のオリゴマーであってもよい。   Examples of the monomer of the polyfunctional acrylate compound include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethanetriacrylate. Acrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerin triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, Dipen Erythritol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, tetra Methylol methane trimethacrylate, tetramethylol methane tetramethacrylate, pentaglycerol trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, glycerin trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol te La methacrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate preferred. These compounds are used alone or in admixture of two or more. Moreover, oligomers, such as a dimer and a trimer of the said monomer, may be sufficient.

電離放射線硬化型樹脂の添加量は、高屈折率組成物では固形分中の50質量%未満であることが好ましい。   The addition amount of the ionizing radiation curable resin is preferably less than 50% by mass in the solid content in the high refractive index composition.

本発明に係る電離放射線硬化型樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤と分子中に重合可能な不飽和結合を2個以上有するアクリル系化合物とを質量比で3:7〜1:9含有することが好ましい。   In order to accelerate the curing of the ionizing radiation curable resin according to the present invention, the photopolymerization initiator and the acrylic compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule are in a mass ratio of 3: 7 to 1: 9. It is preferable to contain.

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。   Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof.

(溶媒)
本発明の高屈折率層をコーティングする際に用いられる有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。
(solvent)
Examples of the organic solvent used for coating the high refractive index layer of the present invention include alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol). , Cyclohexanol, benzyl alcohol, etc.), polyhydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexane Triol, thiodiglycol, etc.), polyhydric alcohol ethers (for example, ethylene glycol monomethyl ether) , Ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol Monoethyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (for example, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine) , Ethylenediamine, diethylenediamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide) Etc.), heterocyclic rings (for example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide, etc.) ), Sulfones (for example, sulfolane, etc.), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable.

(防汚層)
本発明の防眩性フィルムもしくは防眩性反射防止フィルムは、最表層に防汚層が設けられていることが好ましい。
(Anti-fouling layer)
The antiglare film or antiglare antireflection film of the present invention preferably has an antifouling layer on the outermost layer.

本発明に好ましい防汚層は、フッ素含有シラン化合物を防汚層形成用組成物に含有することが好ましく、フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物溶液をコーティングして作製する。特に、フッ素含有シラン化合物がシラザンもしくはアルコキシシランであることが好ましい。   The antifouling layer preferable for the present invention preferably contains a fluorine-containing silane compound in the antifouling layer forming composition, and is prepared by coating a silane compound solution having a fluoroalkyl group or a fluoroalkyl ether group. In particular, the fluorine-containing silane compound is preferably silazane or alkoxysilane.

また、前記フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物のなかでも、シラン化合物中のフルオロアルキル基が、Si原子1つに対し、1つ以下の割合でSi原子と結合されており、残りは加水分解性基もしくはシロキサン結合基であるシラン化合物が好ましい。   In addition, among the silane compounds having the fluoroalkyl group or the fluoroalkyl ether group, the fluoroalkyl group in the silane compound is bonded to Si atoms at a ratio of 1 or less to one Si atom, and the remaining Is preferably a silane compound which is a hydrolyzable group or a siloxane bond group.

ここでいう加水分解性の基としては、例えばアルコキシ基等の基であり、加水分解によりヒドロキシル基となり、それにより前記シラン化合物は重縮合物を形成する。   The hydrolyzable group here is a group such as an alkoxy group, for example, and becomes a hydroxyl group by hydrolysis, whereby the silane compound forms a polycondensate.

例えば、上記シラン化合物は水と(必要なら酸触媒の存在下)、副生するアルコールを留去しながら、通常、室温〜100℃の範囲で反応させる。これによりアルコキシシランは(部分的に)加水分解し、一部縮合反応が起こり、ヒドロキシル基を有する加水分解物として得ることが出来る。加水分解、縮合の程度は、反応させる水の量により適宜調節することが出来るが、本発明ににおいては、防汚処理に用いるシラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせるため溶液の固形分濃度を薄く希釈して用いることが好ましい。   For example, the silane compound is usually reacted with water (in the presence of an acid catalyst if necessary) in the range of room temperature to 100 ° C. while distilling off by-produced alcohol. As a result, the alkoxysilane is (partially) hydrolyzed to cause a partial condensation reaction, and can be obtained as a hydrolyzate having a hydroxyl group. The degree of hydrolysis and condensation can be adjusted as appropriate depending on the amount of water to be reacted, but in the present invention, water is not actively added to the silane compound solution used for antifouling treatment, and after preparation, It is preferable to dilute and use the solid content concentration of the solution in order to cause a hydrolysis reaction mainly by moisture in the air during drying.

好ましくは、防汚層形成用組成物において、前記フルオロアルキル基を有するシラン化合物は下記一般式(6)で表され、かつ該シラン化合物の濃度を0.01〜5質量%に希釈した溶液として用いて、防汚処理することである。   Preferably, in the composition for forming an antifouling layer, the silane compound having a fluoroalkyl group is represented by the following general formula (6), and the concentration of the silane compound is diluted to 0.01 to 5% by mass. Use antifouling treatment.

一般式(6) CF3(CF2m(CH2n−Si−(ORa)3
ここにおいて、mは1〜10の整数。nは0〜10の整数。Raは同一もしくは異なるアルキル基を表す。
Formula (6) CF 3 (CF 2 ) m (CH 2) n -Si- (ORa) 3
Here, m is an integer of 1-10. n is an integer of 0-10. Ra represents the same or different alkyl group.

前記一般式(6)で表される化合物中、Raは炭素原子数3つ以下であり炭素と水素のみからなるアルキル基、例えば、メチル、エチル、イソプロピル等の基が好ましい。   In the compound represented by the general formula (6), Ra has 3 or less carbon atoms and is preferably an alkyl group consisting of only carbon and hydrogen, for example, a group such as methyl, ethyl, isopropyl and the like.

これら本発明において好ましく用いられるフルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物としては、CF3(CH22Si(OCH33、CF3(CH22Si(OC253、CF3(CH22Si(OC373、CF3(CH22Si(OC493、CF3(CF25(CH22Si(OCH33、CF3(CF25(CH22Si(OC253、CF3(CF25(CH22Si(OC373、CF3(CF27(CH22Si(OCH33、CF3(CF27(CH22Si(OC253、CF3(CF27(CH22Si(OC373、CF3(CF27(CH22Si(OCH3)(OC372、CF3(CF27(CH22Si(OCH32OC37、CF3(CF27(CH22SiCH3(OCH32、CF3(CF27(CH22SiCH3(OC252、CF3(CF27(CH22SiCH3(OC372、(CF32CF(CF28(CH22Si(OCH33、C715CONH(CH23Si(OC253、C817SO2NH(CH23Si(OC253、C817(CH22OCONH(CH23Si(OCH33、CF3(CF27(CH22Si(CH3)(OCH32、CF3(CF27(CH22Si(CH3)(OC252、CF3(CF27(CH22Si(CH3)(OC372、CF3(CF27(CH22Si(C25)(OCH32、CF3(CF27(CH22Si(C25)(OC372、CF3(CH22Si(CH3)(OCH32、CF3(CH22Si(CH3)(OC252、CF3(CH22Si(CH3)(OC372、CF3(CF25(CH22Si(CH3)(OCH32、CF3(CF25(CH22Si(CH3)(OC372、CF3(CF22O(CF23(CH22Si(OC37)、C715CH2O(CH23Si(OC253、C817SO2O(CH23Si(OC253、C817(CH22OCHO(CH23Si(OCH33などが挙げられるが、この限りでない。 Examples of the silane compound having a fluoroalkyl group or fluoroalkyl ether group preferably used in the present invention include CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ). 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7 ) 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 4 H 9 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7) 3, CF 3 (CF 2) 7 (CH 2) 2 Si (OCH 3) (OC 3 H 7) 2, CF 3 (CF 2) 7 CH 2) 2 Si (OCH 3 ) 2 OC 3 H 7, CF 3 (CF 2) 7 (CH 2) 2 SiCH 3 (OCH 3) 2, CF 3 (CF 2) 7 (CH 2) 2 SiCH 3 ( OC 2 H 5 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 SiCH 3 (OC 3 H 7 ) 2 , (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 7 F 15 CONH (CH 2 ) 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 SO 2 NH (CH 2 ) 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 (CH 2 ) 2 OCONH (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 2 H 5 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 3 H 7 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (C 2 H 5 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (C 2 H 5 ) (OC 3 H 7 ) 2 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 2 H 5 ) 2 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 3 H 7 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 5 ( CH 2) 2 Si (CH 3 ) (OCH 3) 2, CF 3 (CF 2) 5 (CH 2) 2 Si (CH 3) (OC 3 H 7) 2, CF 3 (CF 2) 2 O (CF 2 ) 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7 ), C 7 F 15 CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 SO 2 O (CH 2 ) 3 Si Examples include (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 (CH 2 ) 2 OCHO (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 , but not limited thereto.

上記フッ素系シラン化合物としては、例えば信越化学工業株式会社製KP801M、X−24−9146、ジーイー東芝シリコーン株式会社XC98−A5382、XC98−B2472、ダイキン工業(株)オプツールDSX、株式会社フロロテクノロジー製FG5010などが挙げられ、表面処理のための化合物としては、パーフルオロアルキルシラザン、パーフルオロアルキルシラン、もしくはパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、特にパーフルオロアルキルトリアルコキシシラン、パーフルオロポリエーテルトリアルコキシシラン、パーフルオロポリエーテルジトリアルコキシシランが挙げられる。   Examples of the fluorine-based silane compound include KP801M and X-24-9146 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., GE Toshiba Silicones Co., Ltd. XC98-A5382, XC98-B2472, Daikin Industries, Ltd. OPTOOL DSX, and FG5010 manufactured by Fluoro Technology Co., Ltd. As the compound for surface treatment, perfluoroalkylsilazane, perfluoroalkylsilane, or perfluoropolyether group-containing silane compound, particularly perfluoroalkyltrialkoxysilane, perfluoropolyethertrialkoxysilane, Examples include perfluoropolyether ditrialkoxysilane.

これらのシラン化合物を用いる際には、フッ素を含まない有機溶媒で0.01〜10質量%、好ましくは0.03〜5質量%、更に好ましくは0.05〜2質量%に希釈された状態で用いることが好ましい。   When these silane compounds are used, they are diluted to 0.01 to 10% by mass, preferably 0.03 to 5% by mass, more preferably 0.05 to 2% by mass in an organic solvent not containing fluorine. It is preferable to use in.

本発明において、前記シラン化合物溶液を調製するためにフッ素を含まない有機溶媒が好ましく用いられるが、以下のものが挙げられる。   In the present invention, an organic solvent containing no fluorine is preferably used to prepare the silane compound solution, and the following may be mentioned.

本発明に用いられる防汚層用の塗布組成物の溶媒としては、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル及び/またはプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステル、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルとしては具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなど。又、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステルとしては特にプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどが挙げられる。プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル及び/またはプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステルなど、メタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、t−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル、乳酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酪酸エチルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミドその他の溶媒などが挙げられる。或いは、これらの溶媒が、適宜混合されて用いられる。混合される溶媒としては、特にこれらに限定されるものではない。   As a solvent of the coating composition for the antifouling layer used in the present invention, propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether and / or propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether ester, propylene glycol mono (C1-C4). Specific examples of the alkyl ether include propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether and the like. The propylene glycol mono (C1 to C4) alkyl ether ester includes propylene glycol monoalkyl ether acetate, specifically, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate and the like. Propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether and / or propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether ester, etc., alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, 2-butanol, t-butanol, cyclohexanol , Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and acetone, esters such as ethyl acetate, methyl acetate, ethyl lactate, isopropyl acetate, amyl acetate and ethyl butyrate, hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, dioxane, N, N-dimethylformamide and other solvents. Alternatively, these solvents are used by being appropriately mixed. The solvent to be mixed is not particularly limited to these.

特に好ましい溶媒としては、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルから選ばれる1種類以上の有機溶媒である。   Particularly preferred solvents are one or more organic solvents selected from ethanol, isopropyl alcohol, propylene glycol, and propylene glycol monomethyl ether.

これらの溶媒中には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールのような常圧における沸点が100℃未満のもの(低沸点溶媒)と、プロピレングリコールモノメチルエーテル、n−ブチルアルコールのような沸点が100℃以上のもの(高沸点溶媒)を併用することが好ましく、特に沸点が60〜98℃のものと、100〜160℃のものを併用することが好ましい。併用する場合の低沸点溶媒と高沸点溶媒の比率は、低沸点溶媒は組成物中、98.0質量%以上であり、高沸点溶媒が0.5〜2質量%であることが好ましい。   Among these solvents, those having a boiling point of less than 100 ° C. (low boiling solvent) such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, and boiling points of 100 ° C. or more such as propylene glycol monomethyl ether and n-butyl alcohol. (Boiling point solvent) is preferably used in combination, and in particular, those having a boiling point of 60 to 98 ° C. and those having a boiling point of 100 to 160 ° C. are preferably used in combination. The ratio of the low boiling point solvent and the high boiling point solvent when used in combination is preferably 98.0% by mass or more and the high boiling point solvent is 0.5 to 2% by mass in the composition.

本発明に用いられる防汚層形成用組成物においては、酸を添加してpHを5.0以下に調整し用いることが好ましい。酸は前記シラン化合物の加水分解を促し、重縮合反応の触媒として作用するので、基材表面にシラン化合物の重縮合膜の形成を容易にし、防汚性を高めることが出来る。pHは1.5〜5.0の範囲が良く、1.5以下では溶液の酸性が強過ぎて、容器や配管をいためる恐れがあり、5以上では反応が進行しにくい。好ましくはpH2.0〜4.0の範囲である。   In the antifouling layer forming composition used in the present invention, it is preferable to add an acid to adjust the pH to 5.0 or less. Since the acid promotes hydrolysis of the silane compound and acts as a catalyst for the polycondensation reaction, the polycondensation film of the silane compound can be easily formed on the surface of the substrate, and the antifouling property can be improved. The pH is preferably in the range of 1.5 to 5.0. If the pH is 1.5 or less, the acidity of the solution is too strong, and the container or the piping may be damaged. Preferably it is the range of pH2.0-4.0.

本発明ににおいては、防汚処理に用いるシラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせることが好ましい。その為に溶液の固形分濃度を希釈したところで用いる。処理液に水を添加し過ぎると、その分ポットライフが短くなる。   In the present invention, it is preferable not to positively add water to the silane compound solution used for the antifouling treatment, but to cause a hydrolysis reaction by moisture in the air after the preparation, mainly at the time of drying. Therefore, it is used when the solid content concentration of the solution is diluted. If too much water is added to the treatment liquid, the pot life is shortened accordingly.

本発明においては硫酸、塩酸、硝酸、次亜塩素酸、ホウ酸、フッ酸、好ましくは塩酸、硝酸等の無機酸のほか、スルホ基(スルホン酸基ともいう)またはカルボキシル基を有する有機酸、例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メチルスルホン酸等が用いられる。有機酸は1分子内に水酸基とカルボキシル基を有する化合物であればいっそう好ましく、例えば、クエン酸または酒石酸等のヒドロキシジカルボン酸が用いられる。また、有機酸は水溶性の酸であることが更に好ましく、例えば上記クエン酸や酒石酸の他に、レブリン酸、ギ酸、プロピオン酸、リンゴ酸、コハク酸、メチルコハク酸、フマル酸、オキサロ酢酸、ピルビン酸、2−オキソグルタル酸、グリコール酸、D−グリセリン酸、D−グルコン酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、イソクエン酸、乳酸等が好ましく用いられる。また、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、アトロバ酸等も適宜用いることが出来る。   In the present invention, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, hypochlorous acid, boric acid, hydrofluoric acid, preferably an inorganic acid such as hydrochloric acid and nitric acid, an organic acid having a sulfo group (also referred to as a sulfonic acid group) or a carboxyl group, For example, acetic acid, polyacrylic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, methylsulfonic acid and the like are used. The organic acid is more preferably a compound having a hydroxyl group and a carboxyl group in one molecule. For example, a hydroxydicarboxylic acid such as citric acid or tartaric acid is used. The organic acid is more preferably a water-soluble acid. For example, in addition to the citric acid and tartaric acid, levulinic acid, formic acid, propionic acid, malic acid, succinic acid, methyl succinic acid, fumaric acid, oxaloacetic acid, pyruvin. Acid, 2-oxoglutaric acid, glycolic acid, D-glyceric acid, D-gluconic acid, malonic acid, maleic acid, oxalic acid, isocitric acid, lactic acid and the like are preferably used. Also, benzoic acid, hydroxybenzoic acid, atorvaic acid and the like can be used as appropriate.

添加量は、前記シラン化合物の部分加水分解物100質量部に対して0.1質量部〜10質量部、好ましくは0.2質量部〜5質量部がよい。また、水の添加量については部分加水分解物が理論上100%加水分解し得る量以上であればよく、100%〜300%相当量、好ましくは100%〜200%相当量を添加するのがよい。   The addition amount is 0.1 to 10 parts by mass, preferably 0.2 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the partial hydrolyzate of the silane compound. Further, the amount of water added is not limited as long as the partial hydrolyzate can theoretically be hydrolyzed by 100%, and an amount equivalent to 100% to 300%, preferably an amount equivalent to 100% to 200% is added. Good.

フッ素含有のシラン化合物を用いることによって、防汚層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましいのみでなく、耐傷性が高く、またフィルム同士のブロッキングに特に優れるという効果がある。   By using a fluorine-containing silane compound, it is not only preferable in terms of lowering the refractive index of the antifouling layer and imparting water and oil repellency, but also has an effect of being highly scratch resistant and particularly excellent in blocking between films. .

本発明においては、前記フルオロアルキル基を有するシラン化合物を含有するフッ素を含まない有機溶媒溶液に、更に、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシランを添加して成した組成物を用いることも好ましい。   In the present invention, it is also preferable to use a composition obtained by further adding an alkoxysilane or an alkylalkoxysilane to a fluorine-free organic solvent solution containing the silane compound having a fluoroalkyl group.

これらのアルコキシシラン、アルキルアルコキシシランの例としては、公知のいずれのシラン化合物でもよい。   As examples of these alkoxysilanes and alkylalkoxysilanes, any known silane compounds may be used.

これらの例としては、テトラアルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等)、アルキルトリアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等)、ジアルキルジアルコキシシラン等が挙げられる。   Examples of these include tetraalkoxysilane (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc.), alkyltrialkoxysilane (methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, etc.), dialkyldialkoxysilane, and the like.

これらのアルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン類は、前記防汚層用の塗布組成物調製の際に、前記フッ素含有のシラン化合物に加えて、0.01〜15質量%の範囲で混合して用いればよく、同様に加水分解、縮合することで、前記記フッ素含有のシラン化合物と共に重縮合した一体となった膜を形成する。   These alkoxysilanes and alkylalkoxysilanes can be used in the range of 0.01 to 15% by mass in addition to the fluorine-containing silane compound when preparing the coating composition for the antifouling layer. In the same manner, by performing hydrolysis and condensation in the same manner, an integrated film is formed by polycondensation with the fluorine-containing silane compound.

これらのアルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン類を前記フッ素含有のシラン化合物と混合して用いることで、膜強度を高め、耐傷性や重ねたときのブロッキング防止に更に効果がある。   By using these alkoxysilanes and alkylalkoxysilanes in admixture with the fluorine-containing silane compound, the film strength is increased, and there are further effects in scratch resistance and prevention of blocking when stacked.

また、更に、フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物溶液に、珪素イソシアネート化合物を0.01〜5質量%添加して成した組成物を用いることも、形成される防汚層の膜強度を更に改善し、表面の傷付きの防止やまた、フィルム同士を重ねた際の貼り付き(ブロッキング)の抑制により一層の効果を奏する。   Furthermore, it is also possible to use a composition formed by adding 0.01 to 5% by mass of a silicon isocyanate compound to a silane compound solution having a fluoroalkyl group or a fluoroalkyl ether group. The strength is further improved, and further effects can be obtained by preventing the surface from being scratched and suppressing sticking (blocking) when the films are stacked.

本発明で用いられる珪素イソシアネート化合物としては、Si(NCO)4、CH3Si(NCO)3、(CH32Si(NCO)2、(CH33SiNCO、CH2=CHSi(NCO)3、C25Si(NCO)3、などが挙げられるが、好ましくはSi(NCO)4、CH3Si(NCO)3であり、本発明の課題である環境安全性の観点からSi(NCO)4であることが更に好ましい。 As the silicon isocyanate compound used in the present invention, Si (NCO) 4 , CH 3 Si (NCO) 3 , (CH 3 ) 2 Si (NCO) 2 , (CH 3 ) 3 SiNCO, CH 2 = CHSi (NCO) 3 , C 2 H 5 Si (NCO) 3 , and the like. Si (NCO) 4 and CH 3 Si (NCO) 3 are preferable, and Si (N) is preferred from the viewpoint of environmental safety, which is an object of the present invention. NCO) 4 is more preferred.

これらの珪素イソシアネート化合物を前記の量、防汚層形成組成物中に混合させることで、前記シラン化合物による架橋反応をより完全に行うことが出来前記膜物性の改良効果が大きい。これらの化合物は、加水分解には関与しないが、加水分解により形成した水酸基(シラノール基)と反応することで前記シラノール基同士の縮合を補完し膜を強固なものとする。   By mixing these silicon isocyanate compounds in the above amounts in the antifouling layer-forming composition, the crosslinking reaction with the silane compound can be performed more completely, and the effect of improving the film properties is great. These compounds do not participate in the hydrolysis, but react with a hydroxyl group (silanol group) formed by hydrolysis to complement the condensation of the silanol groups and make the film strong.

これら珪素イソシアネート化合物を用いる際の有機溶媒についても前記フッ素を含有しない有機溶媒をそのまま用いればよいが、前記挙げられた有機溶媒のうち、珪素イソシアネート化合物を混合して用いる際には、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の溶媒が特に好ましい。   The organic solvent that does not contain fluorine may be used as it is as the organic solvent when using these silicon isocyanate compounds. However, among the above-mentioned organic solvents, when the silicon isocyanate compound is mixed and used, ethanol, isopropyl Particularly preferred are solvents such as alcohol, propylene glycol, toluene, propylene glycol monomethyl ether, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate and butyl acetate.

また、珪素イソシアネート化合物を混合して用いる際には、pHが7.0以下であればよく、2.0〜7.0の範囲が良い。pHが7.0以上では前記シラノール基との反応が進行しにくくなる。中でも好ましくはpHが3.0〜6.0の範囲である。   Moreover, when mixing and using a silicon isocyanate compound, pH should just be 7.0 or less, and the range of 2.0-7.0 is good. When the pH is 7.0 or more, the reaction with the silanol group is difficult to proceed. Among them, the pH is preferably in the range of 3.0 to 6.0.

防汚層の屈折率は1.30〜1.50であることが好ましく、更に好ましくは、1.35〜1.49である。1.30以下であると、膜硬度がとれず、1.50以上であると表面反射率が増大してしまう。またフルオロアルキル基を含有するシラン化合物の加水分解重縮合物から形成される樹脂を構成成分とする防汚層は、動摩擦係数が0.03〜0.25の範囲が好ましい。   The refractive index of the antifouling layer is preferably 1.30 to 1.50, more preferably 1.35 to 1.49. When it is 1.30 or less, the film hardness cannot be obtained, and when it is 1.50 or more, the surface reflectance increases. The antifouling layer comprising a resin formed from a hydrolyzed polycondensate of a silane compound containing a fluoroalkyl group preferably has a dynamic friction coefficient in the range of 0.03 to 0.25.

この様にして得られた前記防汚層用の塗布組成物を前記低屈折率層の上に塗布して、防汚層を形成する。塗布方法としては、いずれの方法でもよく、通常のディップコーター、グラビアコーター、リバースロールコーター、押出しコーター等を用いる方法が挙げられる。   The antifouling layer coating composition thus obtained is applied on the low refractive index layer to form an antifouling layer. As a coating method, any method may be used, and a method using a normal dip coater, gravure coater, reverse roll coater, extrusion coater, etc. may be mentioned.

(反射防止層の形成)
本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されないが、塗布により形成することが好ましい。
(Formation of antireflection layer)
In the present invention, the method for providing the antireflection layer is not particularly limited, but it is preferably formed by coating.

本発明において、基材フィルム上に第1ハードコート層及び第2ハードコート層により微細凹凸構造を形成し、上記の高屈折率層組成物、低屈折率層組成物を用いて順次コーティングする工程により反射防止層を製造することが好ましい。また、前記防汚層をコーティングすることも好ましい。   In the present invention, a step of forming a fine concavo-convex structure on the base film by the first hard coat layer and the second hard coat layer, and sequentially coating using the above-described high refractive index layer composition and low refractive index layer composition It is preferable to produce an antireflection layer. It is also preferable to coat the antifouling layer.

好ましい防眩性反射防止フィルムの構成を下記に示すが、これらに限定されるものではない。   Although the structure of a preferable anti-glare antireflection film is shown below, it is not limited to these.

ここでハードコート層とは、本発明に係る第1ハードコート層及び第2ハードコート層を意味する。   Here, the hard coat layer means the first hard coat layer and the second hard coat layer according to the present invention.

基材フィルム/ハードコート層/低屈折率層
基材フィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
基材フィルム/帯電防止層/ハードコート層/低屈折率層
基材フィルム/帯電防止層/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
基材フィルム/ハードコート層/低屈折率層/防汚層
基材フィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層/防汚層
基材フィルム/帯電防止層/ハードコート層/低屈折率層/防汚層
基材フィルム/帯電防止層/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層/防汚層
本発明は、上記ハードコート層を形成した後ハードコート層の表面に表面処理行い、該表面処理を行ったハードコート層表面に本発明に係る低屈折率層を形成することが好ましい。また、防汚層を設ける前に該低屈折率層に表面処理を行うことも好ましい。
Base film / hard coat layer / low refractive index layer Base film / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer Base film / antistatic layer / hard coat layer / low refractive index layer Base film / charge Prevention layer / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer base film / hard coat layer / low refractive index layer / antifouling layer base film / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer / Antifouling layer Base film / antistatic layer / hard coat layer / low refractive index layer / antifouling layer Base film / antistatic layer / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer / antifouling layer Preferably, after the hard coat layer is formed, the surface of the hard coat layer is subjected to a surface treatment, and the low refractive index layer according to the present invention is formed on the surface of the hard coat layer subjected to the surface treatment. It is also preferable to subject the low refractive index layer to a surface treatment before providing the antifouling layer.

表面処理は、洗浄法、アルカリ処理法、フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられ、好ましくはアルカリ処理法、コロナ処理法であり、特に好ましくはアルカリ処理法が有効である。   Examples of the surface treatment include cleaning methods, alkali treatment methods, flame plasma treatment methods, high frequency discharge plasma methods, electron beam methods, ion beam methods, sputtering methods, acid treatments, corona treatment methods, atmospheric pressure glow discharge plasma methods, and the like. The alkali treatment method and the corona treatment method are preferable, and the alkali treatment method is particularly effective.

コロナ処理とは、大気圧下、電極間に1kV以上の高電圧を印加し、放電することで行う処理のことであり、春日電機(株)や(株)トーヨー電機などで市販されている装置を用いて行うことが出来る。コロナ放電処理の強度は、電極間距離、単位面積当たりの出力、ジェネレーターの周波数に依存する。コロナ処理装置の一方の電極(A電極)は、市販のものを用いることが出来るが、材質はアルミニウム、ステンレスなどから選択が出来る。もう一方はプラスチックフィルムを抱かせるための電極(B電極)であり、コロナ処理が、安定かつ均一に実施されるように、前記A電極に対して一定の距離に設置されるロール電極である。これも通常市販されているものを用いることが出来、材質は、アルミニウム、ステンレス、及びそれらの金属で出来たロールに、セラミックス、シリコン、EPTゴム、ハイパロンゴムなどがライニングされているロールが好ましく用いられる。本発明に用いられるコロナ処理に用いる周波数は、20kHz以上100kHz以下の周波数であり、30kHz〜60kHzの周波数が好ましい。周波数が低下するとコロナ処理の均一性が劣化し、コロナ処理のムラが発生する。また、周波数が大きくなると、高出力のコロナ処理を行う場合には、特に問題ないが、低出力のコロナ処理を実施する場合には、安定した処理を行うことが難しくなり、結果として、処理ムラが発生する。コロナ処理の出力は、1〜5w・min./m2であるが、2〜4w・min./m2の出力が好ましい。電極とフィルムとの距離は、5mm以上50mm以下であるが、好ましくは、10mm以上35mm以下である。間隙が開いてくると、一定の出力を維持するためにより高電圧が必要になり、ムラが発生し易くなる。また、間隙が狭くなり過ぎると、印加する電圧が低くなり過ぎ、ムラが発生し易くなる。更にまた、フィルムを搬送して連続処理する際に電極にフィルムが接触し傷が発生する。 The corona treatment is a treatment performed by applying a high voltage of 1 kV or more between the electrodes under atmospheric pressure and discharging it. An apparatus commercially available from Kasuga Electric Co., Ltd. or Toyo Electric Co., Ltd. Can be used. The intensity of the corona discharge treatment depends on the distance between the electrodes, the output per unit area, and the generator frequency. As one electrode (A electrode) of the corona treatment apparatus, a commercially available one can be used, but the material can be selected from aluminum, stainless steel and the like. The other is an electrode (B electrode) for holding a plastic film, and is a roll electrode installed at a certain distance from the A electrode so that the corona treatment is carried out stably and uniformly. A commercially available one can also be used, and the material is preferably a roll made of aluminum, stainless steel, or a metal thereof, and a roll lined with ceramics, silicon, EPT rubber, hyperon rubber, or the like. It is done. The frequency used for the corona treatment used in the present invention is a frequency of 20 kHz to 100 kHz, and a frequency of 30 kHz to 60 kHz is preferable. When the frequency is lowered, the uniformity of the corona treatment is deteriorated and unevenness of the corona treatment occurs. In addition, when the frequency is increased, there is no particular problem when performing high-output corona treatment, but when performing low-output corona treatment, it is difficult to perform stable processing, resulting in uneven processing. Will occur. The output of the corona treatment is 1 to 5 w · min. / M 2 but 2 to 4 w · min. An output of / m 2 is preferred. The distance between the electrode and the film is 5 mm or more and 50 mm or less, preferably 10 mm or more and 35 mm or less. When the gap is opened, a higher voltage is required to maintain a constant output, and unevenness is likely to occur. If the gap is too narrow, the applied voltage becomes too low and unevenness is likely to occur. Furthermore, when the film is transported and continuously processed, the film comes into contact with the electrodes and scratches are generated.

アルカリ処理方法としては、ハードコート層を塗設したフィルムをアルカリ水溶液に浸す方法であれば特に限定されない。   The alkali treatment method is not particularly limited as long as it is a method in which a film coated with a hard coat layer is immersed in an alkaline aqueous solution.

アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、アンモニア水溶液等が使用可能であり、中でも水酸化ナトリウム水溶液が好ましい。   As the aqueous alkali solution, an aqueous sodium hydroxide solution, an aqueous potassium hydroxide solution, an aqueous ammonia solution or the like can be used, and an aqueous sodium hydroxide solution is particularly preferable.

アルカリ水溶液のアルカリ濃度、例えば水酸化ナトリウム濃度は0.1〜25質量%が好ましく、0.5〜15質量%がより好ましい。   The alkali concentration of the aqueous alkali solution, for example, sodium hydroxide concentration is preferably 0.1 to 25% by mass, and more preferably 0.5 to 15% by mass.

アルカリ処理温度は通常10〜80℃、好ましく20〜60℃である。   The alkali treatment temperature is usually 10 to 80 ° C, preferably 20 to 60 ° C.

アルカリ処理時間は5秒〜5分、好ましくは30秒〜3分である。アルカリ処理後のフィルムは酸性水で中和した後、十分に水洗いを行うことが好ましい。   The alkali treatment time is 5 seconds to 5 minutes, preferably 30 seconds to 3 minutes. The film after the alkali treatment is preferably neutralized with acidic water and then thoroughly washed with water.

反射防止層の各層は、基材フィルム上に、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法を用いて、塗布により形成することが出来る。塗布に際しては、基材フィルムが、幅が1.4〜4mでロール状に巻き取られた状態から繰り出して、上記塗布を行い、乾燥・硬化処理した後、ロール状に巻き取られることが好ましい。   Each layer of the antireflection layer uses a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a micro gravure coating method and an extrusion coating method on a base film. And can be formed by coating. At the time of application, the base film is preferably wound up in a roll shape after being unwound from a state wound in a roll shape with a width of 1.4 to 4 m, performing the above-described application, drying and curing treatment. .

更に、本発明の防眩性反射防止フィルムは、基材フィルム上に前記反射防止層を積層した後、ロール状に巻き取った状態で50〜150℃、1〜30日の範囲で加熱処理を行う製造方法によって製造されることが好ましい。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば、50℃であれば、好ましくは3日間以上30日未満の期間、150℃であれば1〜3日の範囲が好ましい。通常は、巻外部、巻中央部、巻き芯部の加熱処理効果が偏らないように、比較的低温に設定することが好ましく、50〜80℃付近で3〜7日間程度行うことが好ましい。   Furthermore, the anti-glare antireflection film of the present invention is obtained by laminating the antireflection layer on the base film and then heat-treating it in the range of 50 to 150 ° C. and 1 to 30 days in the state of being wound in a roll. It is preferable to manufacture by the manufacturing method to perform. The period of the heat treatment may be appropriately determined depending on the set temperature. For example, if it is 50 ° C, it is preferably a period of 3 days or more and less than 30 days, and if it is 150 ° C, a range of 1 to 3 days is preferable. Usually, it is preferable to set it at a relatively low temperature so that the heat treatment effect on the outside of the winding, the center of the winding, and the core is not biased, and it is preferable to carry out at around 50 to 80 ° C. for about 3 to 7 days.

加熱処理を安定して行うためには、温湿度が調整可能な場所で行うことが必要であり、塵のないクリーンルーム等の加熱処理室で行うことが好ましい。   In order to stably perform the heat treatment, it is necessary to perform in a place where the temperature and humidity can be adjusted, and it is preferable to perform in a heat treatment chamber such as a clean room without dust.

機能性薄膜がコーティングされた光学フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度に耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであっても良く、例えばフェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂が挙げられる。またガラス繊維などの充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。   When winding an optical film coated with a functional thin film in a roll shape, the winding core may be of any material as long as it is a cylindrical core, but preferably a hollow plastic core. The plastic material may be any heat-resistant plastic that can withstand the heat treatment temperature, and examples thereof include resins such as phenol resin, xylene resin, melamine resin, polyester resin, and epoxy resin. A thermosetting resin reinforced with a filler such as glass fiber is preferable.

これらの巻きコアへの巻き数は、100巻き以上であることが好ましく、500巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は5cm以上であることが好ましい。   The number of windings on these winding cores is preferably 100 windings or more, more preferably 500 windings or more, and the winding thickness is preferably 5 cm or more.

このようにして長巻のプラスチックフィルム基材上に機能性薄膜がコーティングされ、プラスチックコアに巻き取られたロールを、巻き取った状態で前記加熱処理を行うとき、該ロールを回転させることが好ましく、回転は、1分間に1回転以下の速度が好まく、連続でも良く断続的な回転であっても良い。又、加熱期間中に該ロールの巻き替えを1回以上行うことが好ましい。   In this way, when the heat treatment is performed in a state where the functional thin film is coated on the long plastic film substrate and the roll wound around the plastic core is wound, it is preferable to rotate the roll. The rotation is preferably a speed of 1 rotation or less per minute, and may be continuous or intermittent. Moreover, it is preferable to perform rewinding of the roll once or more during the heating period.

コアに巻き取られた長巻の光学フィルムロールを加熱処理中に回転させる為加熱処理室に専用の回転台を設けることが好ましい。   In order to rotate the long optical film roll wound around the core during the heat treatment, it is preferable to provide a dedicated turntable in the heat treatment chamber.

回転は、断続の場合は停止している時間を10時間以内とすることが好ましく、停止位置は、円周方向に均一となる様にすることが好ましく、停止時間は10分以内とすることがより好ましい。最も好ましくは、連続回転である。   In the case of intermittent rotation, the stop time is preferably within 10 hours, the stop position is preferably made uniform in the circumferential direction, and the stop time is within 10 minutes. More preferred. Most preferred is continuous rotation.

連続回転での回転速度は、1回転に要する時間は好ましくは10時間以下とすることであり、早いと装置的に負担となるため実質的には、15分から2時間の範囲が好ましい。   As for the rotation speed in continuous rotation, the time required for one rotation is preferably 10 hours or less, and if it is early, it becomes a burden on the apparatus, so the range of 15 minutes to 2 hours is substantially preferable.

尚、回転機能を有する専用の台車の場合には、移動や保管中にも光学フィルムロールを回転させることが出来て好ましく、この場合、保管期間が長い場合に生じるブラックバンド対策として回転が有効に機能する。   In the case of a dedicated carriage having a rotation function, it is preferable that the optical film roll can be rotated during movement and storage. In this case, rotation is effective as a countermeasure against black bands that occur when the storage period is long. Function.

(偏光板)
偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UCR−5、以上コニカミノルタオプト(株)製)が好ましく用いられる。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、30〜300nm、Rtが70〜400nmの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957、特願2002−155395記載の方法で作製することが出来る。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。
(Polarizer)
The polarizing plate can be produced by a general method. Using a fully saponified polyvinyl alcohol aqueous solution on at least one surface of a polarizing film prepared by subjecting the back side of the antiglare film and the antiglare antireflection film of the present invention to alkali saponification treatment and immersion drawing in an iodine solution It is preferable to stick them together. The film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. Commercially available cellulose ester films (for example, Konica Minoltac KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UY, KC4UY, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5, preferably Konica Minolta) Used. In contrast to the antiglare film and the antiglare antireflection film of the present invention, the polarizing plate protective film used on the other surface has an in-plane retardation Ro of 590 nm, 30 to 300 nm, and Rt of 70 to 400 nm. It is preferable to have a phase difference. These can be produced, for example, by the method described in JP-A-2002-71957 and Japanese Patent Application No. 2002-155395. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. By using in combination with the antiglare film and the antiglare antireflection film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound.

また、エチレン単位の含有量1〜4モル%、重合度2000〜4000、けん化度99.0〜99.99モル%のエチレン変性ポリビニルアルコールも好ましく用いられる。中でも熱水切断温度が66〜73℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。又、フィルムのTD方向に5cm離れた二点間の熱水切断温度の差が1℃以下であることが、色斑を低減させるうえでさらに好ましく、さらにフィルムのTD方向に1cm離れた二点間の熱水切断温度の差が0.5℃以下であることが、色斑を低減させるうえでさらに好ましい。   Further, ethylene-modified polyvinyl alcohol having an ethylene unit content of 1 to 4 mol%, a polymerization degree of 2000 to 4000, and a saponification degree of 99.0 to 99.99 mol% is also preferably used. Among them, an ethylene-modified polyvinyl alcohol film having a hot water cutting temperature of 66 to 73 ° C. is preferably used. The difference in hot water cutting temperature between two points 5 cm away in the TD direction of the film is more preferably 1 ° C. or less in order to reduce color spots, and two points separated 1 cm in the TD direction of the film. In order to reduce color spots, it is more preferable that the difference in hot water cutting temperature between them is 0.5 ° C. or less.

このエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを用いた偏光膜は、偏光性能および耐久性能に優れているうえに、色斑が少なく、大型液晶表示装置に特に好ましく用いられる。   A polarizing film using this ethylene-modified polyvinyl alcohol film is excellent in polarizing performance and durability, and has few color spots, and is particularly preferably used for a large liquid crystal display device.

本発明において用いられるエチレン変性ポリビニルアルコール(エチレン変性PVA)としては、エチレンとビニルエステル系モノマーとを共重合して得られたエチレン−ビニルエステル系重合体をけん化し、ビニルエステル単位をビニルアルコール単位としたものを用いることができる。このビニルエステル系モノマーとしては、例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バレリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、バーサティック酸ビニル等を挙げることができ、これらのなかでも酢酸ビニルを用いるのが好ましい。   As the ethylene-modified polyvinyl alcohol (ethylene-modified PVA) used in the present invention, an ethylene-vinyl ester polymer obtained by copolymerizing ethylene and a vinyl ester monomer is saponified, and the vinyl ester unit is converted into a vinyl alcohol unit. Can be used. Examples of the vinyl ester monomers include vinyl formate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl valelate, vinyl laurate, vinyl stearate, vinyl benzoate, vinyl pivalate, vinyl versatate, and the like. Of these, vinyl acetate is preferably used.

エチレン変性PVAにおけるエチレン単位の含有量(エチレンの共重合量)は、1〜4モル%であり、好ましくは1.5〜3モル%であり、より好ましくは2〜3モル%である。   The ethylene unit content (ethylene copolymerization amount) in the ethylene-modified PVA is 1 to 4 mol%, preferably 1.5 to 3 mol%, more preferably 2 to 3 mol%.

エチレン単位の含有量がこの範囲にあると、偏光性能および耐久性能が向上し、色斑が低減されるため好ましい。   When the content of the ethylene unit is within this range, the polarization performance and durability performance are improved, and color spots are reduced, which is preferable.

さらに、エチレン変性ポリビニルアルコールには、ビニルエステル系モノマーに下記のモノマーを共重合させることもできる。ビニルエステル系モノマーに共重合させる場合、好ましい範囲は15モル%以下、より好ましくは5モル%以下である。   Furthermore, the following monomers can be copolymerized with a vinyl ester monomer in ethylene-modified polyvinyl alcohol. When copolymerizing with a vinyl ester monomer, the preferred range is 15 mol% or less, more preferably 5 mol% or less.

このようなビニルエステル系モノマーと共重合可能なモノマーとしては、例えば、プロピレン、1−ブテン、イソブテン等の炭素数3〜30のオレフィン類;アクリル酸およびその塩;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸i−プロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸i−ブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸2−エチルへキシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクタデシル等のアクリル酸エステル類;メタクリル酸およびその塩;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸i−プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸i−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸2−エチルへキシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸オクタデシル等のメタクリル酸エステル類;アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリルアミドプロパンスルホン酸およびその塩、アクリルアミドプロピルジメチルアミンおよびその塩、N−メチロールアクリルアミドおよびその誘導体等のアクリルアミド誘導体;メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、メタクリルアミドプロパンスルホン酸およびその塩、メタクリルアミドプロピルジメチルアミンおよびその塩、N−メチロールメタクリルアミドおよびその誘導体等のメタクリルアミド誘導体;N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルピロリドン等のN−ビニルアミド類;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、i−プロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、i−ブチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ステアリルビニルエーテル等のビニルエーテル類;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル類;塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のハロゲン化ビニル類;酢酸アリル、塩化アリル等のアリル化合物;マレイン酸およびその塩またはそのエステル;イタコン酸およびその塩またはそのエステル;ビニルトリメトキシシラン等のビニルシリル化合物;酢酸イソプロペニル、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルピロリドン等のN−ビニルアミド類を挙げることができる。   Examples of monomers copolymerizable with such vinyl ester monomers include olefins having 3 to 30 carbon atoms such as propylene, 1-butene and isobutene; acrylic acid and salts thereof; methyl acrylate, ethyl acrylate, Acrylic acid esters such as n-propyl acrylate, i-propyl acrylate, n-butyl acrylate, i-butyl acrylate, t-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, octadecyl acrylate, etc. Methacrylic acid and salts thereof; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, 2-methacrylic acid 2- Ethylhexyl, dodecyl methacrylate, methacrylate Methacrylic acid esters such as octadecyl acid; acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, diacetoneacrylamide, acrylamidepropanesulfonic acid and its salt, acrylamidopropyldimethylamine and its salt, N- Acrylamide derivatives such as methylolacrylamide and its derivatives; methacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylmethacrylamide, methacrylamidepropanesulfonic acid and its salts, methacrylamidepropyldimethylamine and its salts, N-methylolmethacrylamide and its Methacrylamide derivatives such as derivatives; N-vinyl such as N-vinylformamide, N-vinylacetamide, N-vinylpyrrolidone Mido; Vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, i-propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, i-butyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether, stearyl vinyl ether; acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. Nitriles; vinyl halides such as vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl fluoride and vinylidene fluoride; allyl compounds such as allyl acetate and allyl chloride; maleic acid and its salts or esters; itaconic acid and its salts or its Esters; Vinylsilyl compounds such as vinyltrimethoxysilane; N-vinylamines such as isopropenyl acetate, N-vinylformamide, N-vinylacetamide, and N-vinylpyrrolidone Mention may be made of mids.

偏光膜を構成するエチレン変性PVAの重合度は、偏光性能と耐久性の点から2000〜4000であり、2200〜3500が好ましく、2500〜3000が特に好ましい。重合度が2000より小さい場合には、偏光膜の偏光性能や耐久性能が低下し、好ましくない。また、重合度が4000以下であることが偏光膜の色斑が生じにくく好ましい。   The degree of polymerization of the ethylene-modified PVA constituting the polarizing film is 2000 to 4000 from the viewpoint of polarization performance and durability, preferably 2200 to 3500, and particularly preferably 2500 to 3000. When the degree of polymerization is less than 2000, the polarizing performance and durability performance of the polarizing film are lowered, which is not preferable. Moreover, it is preferable that the polymerization degree is 4000 or less because color spots of the polarizing film are hardly generated.

エチレン変性PVAの重合度は、GPC測定から求めた重量平均重合度である。この重量平均重合度は、単分散PMMAを標品として移動相に20ミリモル/リットルのトリフルオロ酢酸ソーダを加えたヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)を用い、40℃でGPC測定を行って求めた値である。   The degree of polymerization of ethylene-modified PVA is the weight average degree of polymerization determined from GPC measurement. This weight average degree of polymerization is a value obtained by performing GPC measurement at 40 ° C. using hexafluoroisopropanol (HFIP) in which 20 mmol / liter sodium trifluoroacetate is added to the mobile phase using monodispersed PMMA as a standard. is there.

偏光膜を構成するエチレン変性PVAのけん化度は、偏光膜の偏光性能および耐久性の点から99.0〜99.99モル%であり、99.9〜99.99モル%がより好ましく、99.95〜99.99モル%が特に好ましい。   The saponification degree of the ethylene-modified PVA constituting the polarizing film is 99.0 to 99.99 mol% from the viewpoint of the polarizing performance and durability of the polarizing film, more preferably 99.9 to 99.99 mol%. Particularly preferred is .95 to 99.99 mol%.

エチレン変性PVAフィルムを製造する方法としては特に限定されないが、流延製膜法および溶融押出製膜法が、良好なエチレン変性PVAフィルムを得る観点から好ましい。又、得られたエチレン変性PVAフィルムは、必要に応じて乾燥および熱処理が施される。   Although it does not specifically limit as a method to manufacture an ethylene modified PVA film, The casting film forming method and the melt extrusion film forming method are preferable from a viewpoint of obtaining a favorable ethylene modified PVA film. The obtained ethylene-modified PVA film is subjected to drying and heat treatment as necessary.

エチレン変性PVAフィルムを製造する際に使用されるエチレン変性PVAを溶解する溶剤としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメチロールプロパン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、グリセリン、水などを挙げることができ、これらのうち1種または2種以上を使用することができる。これらのなかでも、ジメチルスルホキシド、水、またはグリセリンと水の混合溶媒が好ましく使用される。   Examples of the solvent for dissolving the ethylene-modified PVA used in producing the ethylene-modified PVA film include dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, ethylene glycol, glycerin, propylene glycol, diethylene glycol, and triethylene. Glycol, tetraethylene glycol, trimethylolpropane, ethylenediamine, diethylenetriamine, glycerin, water and the like can be mentioned, and one or more of these can be used. Among these, dimethyl sulfoxide, water, or a mixed solvent of glycerin and water is preferably used.

エチレン変性PVAフィルムを製造する際に使用されるエチレン変性PVA溶液または水を含むエチレン変性PVAにおけるエチレン変性PVAの割合はエチレン変性PVAの重合度に応じて変化するが、20〜70質量%が好ましく、25〜60質量%がより好ましく、30〜55質量%がさらに好ましく、35〜50質量%が最も好ましい。エチレン変性PVAの割合が70質量%を超えるとエチレン変性PVA溶液または水を含むエチレン変性PVAの粘度が高くなり過ぎて、フィルムの原液を調製する際に濾過や脱泡が困難となり、異物や欠点のないフィルムを得ることが困難となる。また、エチレン変性PVAの割合が20質量%より低いとエチレン変性PVA溶液または水を含むエチレン変性PVAの粘度が低くなり過ぎて、目的とする厚みを有するPVAフィルムを製造することが困難になる。また、このエチレン変性PVA溶液または水を含むエチレン変性PVAには、必要に応じて可塑剤、界面活性剤、二色性染料などを含有させてもよい。   The ratio of ethylene-modified PVA in the ethylene-modified PVA solution or water-containing ethylene-modified PVA used in producing the ethylene-modified PVA film varies depending on the degree of polymerization of ethylene-modified PVA, but is preferably 20 to 70% by mass. 25-60 mass% is more preferable, 30-55 mass% is further more preferable, and 35-50 mass% is the most preferable. If the proportion of ethylene-modified PVA exceeds 70% by mass, the viscosity of ethylene-modified PVA containing ethylene-modified PVA solution or water becomes too high, making filtration and defoaming difficult when preparing a stock solution of the film. It is difficult to obtain a film without any defects. On the other hand, when the proportion of the ethylene-modified PVA is lower than 20% by mass, the viscosity of the ethylene-modified PVA solution or the ethylene-modified PVA containing water becomes too low, and it becomes difficult to produce a PVA film having a target thickness. Further, this ethylene-modified PVA solution or ethylene-modified PVA containing water may contain a plasticizer, a surfactant, a dichroic dye, or the like as necessary.

エチレン変性PVAフィルムを製造する際に可塑剤として、多価アルコールを添加することが好ましい。多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジグリセリン、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメチロールプロパンなどを挙げることができ、これらのうち1種または2種以上を使用することができる。これらの中でも延伸性向上効果からジグリセリンやエチレングリコールやグリセリンが好ましく使用される。   When producing an ethylene-modified PVA film, it is preferable to add a polyhydric alcohol as a plasticizer. Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, glycerin, propylene glycol, diethylene glycol, diglycerin, triethylene glycol, tetraethylene glycol, trimethylolpropane, etc., and one or more of these are used. can do. Among these, diglycerin, ethylene glycol, and glycerin are preferably used because of the effect of improving stretchability.

多価アルコールの添加量としてはエチレン変性PVA100質量部に対し1〜30質量部が好ましく、3〜25質量部がさらに好ましく、5〜20質量部が最も好ましい。1質量部より少ないと、染色性や延伸性が低下する場合があり、30質量部より多いと、エチレン変性PVAフィルムが柔軟になりすぎて、取り扱い性が低下する場合がある。   As addition amount of a polyhydric alcohol, 1-30 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of ethylene modified PVA, 3-25 mass parts is more preferable, 5-20 mass parts is the most preferable. When the amount is less than 1 part by mass, the dyeability and stretchability may be lowered. When the amount is more than 30 parts by mass, the ethylene-modified PVA film becomes too flexible and the handleability may be lowered.

エチレン変性PVAフィルムを製造する際には、界面活性剤を添加することが好ましい。界面活性剤の種類としては特に限定はないが、アニオン性またはノニオン性の界面活性剤が好ましい。アニオン性界面活性剤としては、たとえば、ラウリン酸カリウムなどのカルボン酸型、オクチルサルフェートなどの硫酸エステル型、ドデシルベンゼンスルホネートなどのスルホン酸型のアニオン性界面活性剤が好ましい。ノニオン性界面活性剤としては、たとえば、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのアルキルエーテル型、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルなどのアルキルフェニルエーテル型、ポリオキシエチレンラウレートなどのアルキルエステル型、ポリオキシエチレンラウリルアミノエーテルなどのアルキルアミン型、ポリオキシエチレンラウリン酸アミドなどのアルキルアミド型、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエーテルなどのポリプロピレングリコールエーテル型、オレイン酸ジエタノールアミドなどのアルカノールアミド型、ポリオキシアルキレンアリルフェニルエーテルなどのアリルフェニルエーテル型などのノニオン性界面活性剤が好ましい。これらの界面活性剤の1種または2種以上の組み合わせで使用することができる。   When producing an ethylene-modified PVA film, it is preferable to add a surfactant. The type of the surfactant is not particularly limited, but an anionic or nonionic surfactant is preferable. As the anionic surfactant, for example, a carboxylic acid type such as potassium laurate, a sulfate type such as octyl sulfate, and a sulfonic acid type anionic surfactant such as dodecylbenzenesulfonate are preferable. Nonionic surfactants include, for example, alkyl ether types such as polyoxyethylene oleyl ether, alkylphenyl ether types such as polyoxyethylene octylphenyl ether, alkyl ester types such as polyoxyethylene laurate, and polyoxyethylene laurylamino. Alkylamine type such as ether, alkylamide type such as polyoxyethylene lauric acid amide, polypropylene glycol ether type such as polyoxyethylene polyoxypropylene ether, alkanolamide type such as oleic acid diethanolamide, polyoxyalkylene allyl phenyl ether, etc. Nonionic surfactants such as allyl phenyl ether type are preferred. These surfactants can be used alone or in combination of two or more.

界面活性剤の添加量としては、エチレン変性PVA100質量部に対して0.01〜1質量部が好ましく、0.02〜0.5質量部がさらに好ましい。0.01質量部より少ないと、製膜性や剥離性向上の効果が現れにくく、1質量部より多いと、界面活性剤がエチレン変性PVAフィルムの表面に溶出してブロッキングの原因になり、取り扱い性が低下する場合がある。   As addition amount of surfactant, 0.01-1 mass part is preferable with respect to 100 mass parts of ethylene modified PVA, and 0.02-0.5 mass part is further more preferable. If the amount is less than 0.01 parts by mass, the effect of improving the film forming property and the peelability is hardly exhibited, and if the amount is more than 1 part by mass, the surfactant elutes on the surface of the ethylene-modified PVA film and causes blocking. May decrease.

偏光膜の作製に用いられる延伸前のエチレン変性PVAフィルムは厚みが10〜50μmであることが好ましく、20〜40μmであることがさらに好ましい。厚みが10μmより小さいと、フィルム強度が低すぎて均一な延伸が行いにくく、偏光膜の色斑が発生しやすい。厚みが50μmを超えると、エチレン変性PVAフィルムを一軸延伸して偏光膜を作製した際に端部のネックインによる厚み変化が発生し易くなり、偏光膜の色斑が強調されやすいので好ましくない。   The ethylene-modified PVA film before stretching used for producing the polarizing film preferably has a thickness of 10 to 50 μm, and more preferably 20 to 40 μm. If the thickness is smaller than 10 μm, the film strength is too low to perform uniform stretching, and color spots of the polarizing film are likely to occur. When the thickness exceeds 50 μm, when a polarizing film is produced by uniaxially stretching an ethylene-modified PVA film, a thickness change is likely to occur due to neck-in at the end, and color spots of the polarizing film are easily emphasized, which is not preferable.

また、本発明のエチレン変性PVAフィルムから偏光膜を製造するには、例えばエチレン変性PVAフィルムを染色、一軸延伸、固定処理、乾燥処理をし、さらに必要に応じて熱処理を行えばよく、染色、一軸延伸、固定処理の操作の順番に特に制限はない。また、一軸延伸を二回またはそれ以上行っても良い。   In order to produce a polarizing film from the ethylene-modified PVA film of the present invention, for example, the ethylene-modified PVA film may be dyed, uniaxially stretched, fixed, and dried, and further heat treated as necessary. There is no restriction | limiting in particular in the order of operation of a uniaxial stretching and a fixing process. Moreover, you may perform uniaxial stretching twice or more.

染色は、一軸延伸前、一軸延伸時、一軸延伸後のいずれでも可能である。染色に用いる染料としては、ヨウ素−ヨウ化カリウムや二色性染料などが、1種または2種以上の混合物で使用できる。通常染色は、PVAフィルムを上記染料を含有する溶液中に浸漬させることにより行うことが一般的であるが、PVAフィルムに混ぜて製膜するなど、その処理条件や処理方法は特に制限されるものではない。   Dyeing can be performed before uniaxial stretching, during uniaxial stretching, or after uniaxial stretching. As a dye used for dyeing, iodine-potassium iodide, a dichroic dye, or the like can be used in one kind or a mixture of two or more kinds. Ordinary dyeing is generally performed by immersing the PVA film in a solution containing the above-mentioned dye, but the processing conditions and processing method are particularly limited, such as mixing with the PVA film to form a film. is not.

一軸延伸は、湿式延伸法または乾熱延伸法が使用でき、ホウ酸水溶液などの温水中(前記染料を含有する溶液中や後記固定処理浴中でもよい)または吸水後のエチレン変性PVAフィルムを用いて空気中で行うことができる。延伸温度は、特に限定されず、エチレン変性PVAフィルムを温水中で延伸(湿式延伸)する場合は30〜90℃が好ましく、また乾熱延伸する場合は50〜180℃が好ましい。また一軸延伸の延伸倍率(多段の一軸延伸の場合には合計の延伸倍率)は、偏光膜の偏光性能の点から4倍以上が好ましく、特に5倍以上が最も好ましい。延伸倍率の上限は特に制限はないが、8倍以下であると均一な延伸が得られやすいので好ましい。延伸後のフィルムの厚さは、5〜20μmが好ましく、5〜15μmがより好ましい。   For uniaxial stretching, wet stretching or dry heat stretching can be used, using warm water such as an aqueous boric acid solution (in a solution containing the dye or in a fixing treatment bath described later) or an ethylene-modified PVA film after water absorption. Can be done in air. The stretching temperature is not particularly limited, and is preferably 30 to 90 ° C. when the ethylene-modified PVA film is stretched (wet stretching) in warm water, and 50 to 180 ° C. is preferable when it is dry-heat stretched. Further, the stretching ratio of uniaxial stretching (total stretching ratio in the case of multi-stage uniaxial stretching) is preferably 4 times or more, and most preferably 5 times or more from the viewpoint of the polarization performance of the polarizing film. The upper limit of the stretching ratio is not particularly limited, but it is preferably 8 times or less because uniform stretching is easily obtained. 5-20 micrometers is preferable and, as for the thickness of the film after extending | stretching, 5-15 micrometers is more preferable.

エチレン変性PVAフィルムへの上記染料の吸着を強固にすることを目的に、固定処理を行うことが多い。固定処理に使用する処理浴には、通常、ホウ酸および/またはホウ素化合物が添加される。また、必要に応じて処理浴中にヨウ素化合物を添加してもよい。   Fixing treatment is often performed for the purpose of strengthening the adsorption of the dye to the ethylene-modified PVA film. Usually, boric acid and / or boron compounds are added to the treatment bath used for the fixing treatment. Moreover, you may add an iodine compound in a processing bath as needed.

得られた偏光膜の乾燥処理は、30〜150℃で行うのが好ましく、50〜150℃で行うのがより好ましい。   It is preferable to perform the drying process of the obtained polarizing film at 30-150 degreeC, and it is more preferable to carry out at 50-150 degreeC.

以上のようにして得られた偏光膜は、通常、その両面または片面に偏光板保護フィルムが貼合されて偏光板として使用される。貼合する際に用いられる接着剤としては、PVA系の接着剤やウレタン系の接着剤などを挙げることができるが、なかでもPVA系の接着剤が好ましく用いられる。   The polarizing film obtained as described above is usually used as a polarizing plate with a polarizing plate protective film bonded to both sides or one side. Examples of the adhesive used for pasting include a PVA-based adhesive and a urethane-based adhesive. Among them, a PVA-based adhesive is preferably used.

(表示装置)
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムは反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムは平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上、特に30型〜54型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜けなどもなく、その効果が長期間維持され、MVA型液晶表示装置では顕著な効果が認められる。特に、本発明の目的である色むら、ぎらつきや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
(Display device)
By incorporating the polarizing plate of the present invention into a display device, the display device of the present invention having various visibility can be manufactured. The antiglare film and antiglare antireflection film of the present invention are reflective, transmissive, transflective LCD or TN, STN, OCB, HAN, VA (PVA, MVA), IPS. It is preferably used in LCDs of various drive systems such as. Further, the antiglare film and the antiglare antireflection film of the present invention are excellent in flatness and are preferably used for various display devices such as a plasma display, a field emission display, an organic EL display, an inorganic EL display, and electronic paper. In particular, in a large-screen display device having a screen size of 30 or more, especially 30 to 54, there is no white spot in the periphery of the screen, and the effect is maintained for a long time, and a remarkable effect is obtained in the MVA liquid crystal display device. Is recognized. In particular, there was little color unevenness, glare and wavy unevenness, which is the object of the present invention.

本発明に係る表示装置は、前記防眩性フィルムまたは防眩性反射防止フィルム表面に形成された微細凹凸構造が楕円形状の凸部を有し、該楕円形状の凸部の長辺方向がディスプレイの縦方向もしくは横方向に並ぶように配置された表示装置であることも好ましい。   In the display device according to the present invention, the fine concavo-convex structure formed on the surface of the antiglare film or the antiglare antireflection film has an elliptical convex part, and the long side direction of the elliptical convex part is a display. It is also preferable that the display device is arranged in the vertical direction or the horizontal direction.

ここでいう楕円形状とは、下記式で定義される楕円の比率が0.50〜0.85の範囲内にあり、且つ0.60〜0.80の範囲の形状のものが60個数%以上含まれることを言う。   The elliptical shape here means that the proportion of the ellipse defined by the following formula is in the range of 0.50 to 0.85, and the shape in the range of 0.60 to 0.80 is 60% by number or more. Say that included.

楕円の比率=(楕円の短軸)/(楕円の長軸)
本発明者の検討によれば、防眩性フィルムまたは防眩性反射防止フィルムを用いた表示装置において、従来の微粒子を用いた真円に近い凸部や不定形の凸部であり、かつその長辺方向がディスプレイ上で一定の向きでない表示装置に対して、本発明のフレキソ印刷により形成された微細凹凸構造の凸部の形状が楕円形状であり、該楕円形状の長辺方向がディスプレイの縦方向もしくは横方向に並ぶように配置された表示装置により、防眩性効果に加えて、更に表面のぎらつき感が軽減されることを見出したものである。これは、微細凹凸構造の凸部の長辺がディスプレイの縦方向もしくは横方向に並ぶように配置することで、散乱光が一定の方向になる為ぎらつき感の低下に寄与し、更に該凸部形状が楕円形状を有することで散乱光の方向性を更に強めることが出来る為、ぎらつき感低減の効果が増大したものと推定される。フレキソ印刷は、このような目的に合致する微細凹凸構造のパターン形状を自由に印刷版として作製出来る為、容易に微細凹凸構造の形成をコントロールすることが出来る。
Ellipse ratio = (short axis of ellipse) / (long axis of ellipse)
According to the inventor's study, in a display device using an antiglare film or an antiglare antireflection film, it is a convex part close to a perfect circle or an irregular convex part using conventional fine particles, and its For a display device whose long side direction is not a fixed direction on the display, the shape of the convex portion of the fine concavo-convex structure formed by flexographic printing of the present invention is an elliptical shape, and the long side direction of the elliptical shape is the display side It has been found that the display device arranged in the vertical direction or the horizontal direction can further reduce the glare on the surface in addition to the anti-glare effect. This is because the long sides of the convex portions of the fine concavo-convex structure are arranged in the vertical direction or the horizontal direction of the display, which contributes to a reduction in glare because the scattered light is in a certain direction. It is presumed that the effect of reducing the glare is increased because the directionality of the scattered light can be further enhanced by the elliptical shape of the portion. In flexographic printing, since the pattern shape of the fine concavo-convex structure meeting such a purpose can be freely produced as a printing plate, the formation of the fine concavo-convex structure can be easily controlled.

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
〔セルロースエステルフィルム1の作製〕
以下のセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子及び溶媒を用いてセルロースエステル溶液(ドープ)を調製し、溶液流延製膜法にてセルロースエステルフィルム1を作製した。
Example 1
[Production of Cellulose Ester Film 1]
A cellulose ester solution (dope) was prepared using the following cellulose ester, plasticizer, ultraviolet absorber, fine particles and solvent, and a cellulose ester film 1 was prepared by a solution casting film forming method.

セルロースエステル(セルローストリアセテート、アセチル基置換度2.9、Mn=160000、Mw/Mn=1.8) 100kg
可塑剤(トリメチロールプロパントリベンゾエート) 5kg
可塑剤(エチルフタリルエチルグリコレート) 5kg
紫外線吸収剤(チヌビン109、チバスペシャルティーケミカルズ(株)製)
1.0kg
紫外線吸収剤(チヌビン171、チバスペシャルティーケミカルズ(株)製)
1.0kg
微粒子(アエロジルR972V、日本アエロジル(株)製) 0.3kg
溶媒(酢酸メチル) 440kg
溶媒(エタノール) 110kg
上記のセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子及び溶媒を用いてセルロースエステル溶液(ドープ)を調製した。
Cellulose ester (cellulose triacetate, acetyl group substitution degree 2.9, Mn = 16000, Mw / Mn = 1.8) 100 kg
Plasticizer (trimethylolpropane tribenzoate) 5kg
Plasticizer (ethyl phthalyl ethyl glycolate) 5kg
UV absorber (Tinubin 109, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
1.0 kg
UV absorber (Tinuvin 171 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
1.0 kg
Fine particles (Aerosil R972V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.3kg
Solvent (methyl acetate) 440kg
Solvent (ethanol) 110kg
A cellulose ester solution (dope) was prepared using the above cellulose ester, plasticizer, ultraviolet absorber, fine particles and solvent.

即ち、溶媒を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素材を順に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混合した。微粒子は溶媒の一部で分散して添加した。溶液を流延する温度まで下げて一晩静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、セルロースエステル溶液を得た。   That is, the solvent was put into an airtight container, the remaining materials were put in order with stirring, and completely dissolved and mixed while heating and stirring. The fine particles were added dispersed in a part of the solvent. After the temperature was lowered to the temperature at which the solution was cast and allowed to stand overnight, a defoaming operation was performed, and then the solution was Azumi Filter Paper No. Filtration using 244 gave a cellulose ester solution.

次に、33℃に温度調整したセルロースエステル溶液を、ダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から37℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜(ステンレスベルトに流延以降はウェブという)に44℃の温風をあてて乾燥させ、剥離の残留溶媒量が120質量%で剥離し、剥離の際の張力をかけて1.1倍の縦延伸倍率となるように延伸し、次いで、残留溶媒量が35質量%から10質量%となる間にテンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に1.1倍の延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し、更に125℃に設定された第3乾燥ゾーンで20分間搬送させて、乾燥を行い、幅1.5m、膜厚80μm、長さ3000mのセルロースエステルフィルム1を作製した。   Next, the cellulose ester solution whose temperature was adjusted to 33 ° C. was fed to a die and uniformly cast from a die slit onto a stainless steel belt. The cast part of the stainless steel belt was heated from the back with hot water of 37 ° C. After casting, the dope film on the metal support (which is called a web after casting on the stainless steel belt) is dried by applying hot air of 44 ° C., and the residual solvent in the peeling is peeled off at 120 mass%. The web end is gripped with a tenter while the residual solvent amount is from 35% by mass to 10% by mass, and is stretched in the width direction. It extended | stretched so that it might become 1.1 times the draw ratio. After stretching, the width is maintained for several seconds, then the tension in the width direction is relaxed, then the width is released, and further transported for 20 minutes in the third drying zone set at 125 ° C. for drying. The cellulose ester film 1 having a width of 1.5 m, a film thickness of 80 μm, and a length of 3000 m was produced.

〔微粒子添加による防眩性ハードコートフィルム1の作製〕
上記セルロースエステルフィルム1の表面(B面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、下記のハードコート層用塗布液1を孔径20μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が0.1W/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ5μmの防眩性ハードコート層を形成し防眩性ハードコートフィルム1を作製した。形成した凹凸について光学干渉式表面粗さ測定機を用いて100個の凸部の測定を行った結果、凸部の平均の高さは0.52μm、凸部の長辺はばらつき大きく、凸部間平均中心間距離は75μmであり、そのばらつきはいずれも±13%の範囲であった。
[Preparation of antiglare hard coat film 1 by adding fine particles]
On the surface of the cellulose ester film 1 (B surface side; surface in contact with a support mirror surface such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the following coating solution 1 for hard coat layer has a pore diameter of 20 μm. A hard coat layer coating solution is prepared by filtration through a polypropylene filter, and this is applied using a micro gravure coater, dried at 90 ° C., and then irradiated with an ultraviolet lamp with an illuminance of 0.1 W / cm 2. Thus, the coating layer was cured with an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 to form an antiglare hard coat layer having a thickness of 5 μm, thereby producing an antiglare hard coat film 1. As a result of measuring the 100 convex portions using the optical interference type surface roughness measuring instrument for the formed irregularities, the average height of the convex portions is 0.52 μm, the long sides of the convex portions are highly variable, and the convex portions The average center-to-center distance was 75 μm, and the variation was in the range of ± 13%.

(ハードコート層塗布液1)
下記材料を攪拌、混合し、ハードコート層塗布液1とした。
(Hard coat layer coating solution 1)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer coating solution 1.

アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 200質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
25質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
合成シリカ微粒子 平均粒子径 1.8μm 40質量部
界面活性剤(シリコーン系界面活性剤;FZ2207(日本ユニカー製)10質量%プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液) 固形分で0.6質量部
〔エンボス加工による防眩性ハードコートフィルム2の作製〕
上記セルロースエステルフィルム1の作製において、テンターによる延伸処理後、鋳型を設けたロール(凹凸形成後、凸部高さ1μm、凸部大きさ(長辺)10μm、凸部間距離50μmになるような微細凹凸構造を刻印したもの)とバックロールから構成される凹凸形成部で溶媒を含むフィルムを挟んでフィルムのB面(ステンレスバンド支持体に接していた側をB面とし、その反対側をA面とする。)側に鋳型を設けた熱ロールを押し当てて、A面側にはバックロールを配置し、両ロール間を通すことによってB面側に凹凸を形成した以外は同様にして、エンボス加工したセルロースエステルフィルム2を作製した。尚、凹凸形成部近傍には、除電ワイヤーを設置してフィルムの帯電を抑制した。形成した凹凸について光学干渉式表面粗さ測定機を用いて100個の凸部の測定を行った結果、凸部の平均の高さは0.47μm、凸部の長辺はばらつき大きく、凸部間平均中心間距離は68μmであり、そのばらつきはいずれも±15%の範囲であった。
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 200 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
25 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 110 parts by weight Ethyl acetate 110 parts by weight Synthetic silica fine particles Average particle size 1.8 μm 40 parts by weight Surfactant (silicone surfactant; FZ2207 (manufactured by Nippon Unicar)) 10% by weight propylene glycol monomethyl ether Solution) 0.6 parts by mass in solid content [Preparation of antiglare hard coat film 2 by embossing]
In the production of the cellulose ester film 1, a roll provided with a mold after the stretching treatment by a tenter (after forming the unevenness, the height of the convex part is 1 μm, the convex part size (long side) is 10 μm, and the distance between the convex parts is 50 μm. A B-side of the film (the side in contact with the stainless steel band support is the B-side, with the film containing the solvent sandwiched between the concavo-convex forming part consisting of a fine roll and the back roll, and the opposite side is the A side. In the same manner, except that a hot roll provided with a mold on the side is pressed, a back roll is placed on the A side, and irregularities are formed on the B side by passing between both rolls. An embossed cellulose ester film 2 was produced. In addition, the static elimination wire was installed in the uneven | corrugated formation vicinity vicinity, and charging of the film was suppressed. As a result of measuring 100 convex portions using the optical interference type surface roughness measuring instrument for the formed irregularities, the average height of the convex portions was 0.47 μm, the long sides of the convex portions were highly variable, and the convex portions The average distance between centers was 68 μm, and the variation was in the range of ± 15%.

上記エンボス加工したセルロースエステルフィルム2の表面(B面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、下記のハードコート層用塗布液2を孔径20μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が0.1W/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ5μmの防眩性ハードコート層を形成し防眩性ハードコートフィルム2を作製した。 On the surface of the embossed cellulose ester film 2 (B side; surface in contact with a mirror surface of a support such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the following coating liquid 2 for hard coat layer Is filtered through a polypropylene filter having a pore size of 20 μm to prepare a hard coat layer coating solution, which is applied using a micro gravure coater, dried at 90 ° C., and then irradiated with an ultraviolet lamp with an illuminance of 0.1 W. / in cm 2, thereby curing the coated layer to irradiation dose as 0.1 J / cm 2, to prepare an antiglare hard coat film 2 to form an antiglare hard coat layer having a thickness of 5 [mu] m.

(ハードコート層塗布液2)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 70質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
4質量部
酢酸エチル 50質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 50質量部
シリコン化合物 0.4質量部
(BYK−307(ビックケミージャパン社製))
〔フレキソ印刷による防眩性ハードコートフィルム3〜15の作製〕
図8の装置を用いて、上記作製したセルロースエステルフィルム1の表面(A面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、下記のハードコート層用塗布液3を孔径20μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、図8の製造装置によりフレキソ印刷で微細凹凸パターンの第1ハードコート層形成部と非形成部を印刷した。
(Hard coat layer coating solution 2)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 70 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate 30 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
4 parts by mass Ethyl acetate 50 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 50 parts by mass Silicon compound 0.4 parts by mass (BYK-307 (manufactured by Big Chemie Japan))
[Preparation of antiglare hard coat films 3 to 15 by flexographic printing]
Using the apparatus of FIG. 8, on the surface of the cellulose ester film 1 produced as described above (A surface side; surface in contact with a mirror surface of a support such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the following The hard coat layer coating solution 3 is filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 20 μm to prepare a hard coat layer coating solution, which is not formed with the first hard coat layer forming portion of the fine uneven pattern by flexographic printing using the manufacturing apparatus of FIG. Copies were printed.

その際下記仕様のレーザー彫刻条件3によるシームレス樹脂版を用い、図8のフレキソ印刷部Aにてフレキソ印刷で微細凹凸構造を形成した。印刷後、乾燥ゾーン505Aにて90℃で乾燥の後、紫外線ランプ506Aを用い、紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させた。第1ハードコート層の平均厚みは2μm、隣り合う第1ハードコート層非形成部の間の平均中心間距離は10μmであった。 At that time, using a seamless resin plate under the laser engraving condition 3 having the following specifications, a fine concavo-convex structure was formed by flexographic printing in the flexographic printing part A of FIG. After printing, the film was dried at 90 ° C. in a drying zone 505A, and then cured using an ultraviolet lamp 506A at an ultraviolet illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 . The average thickness of the first hard coat layer was 2 μm, and the average center-to-center distance between adjacent first hard coat layer non-forming portions was 10 μm.

(シームレス樹脂版の仕様)
感光性樹脂版:2−ヒドロキシエチルアクリレート98部とブタンジオールジアクリレート1部を反応して得られたコアとメタアクリル酸20部とN−ブチルアクリレート80部を反応させて得られたコアシェル型ミクロゲル(コア/シェル=2/1)71g、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート25g、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン4gを混合して得られた感光性樹脂組成物を厚み2mmのポリエステルフィルムの上に塗布したのち、波長360nmの紫外線により、1000mJ/cmの露光を行いレーザー彫刻用印刷原版を得た。次いで下記レーザー彫刻条件で微細凹凸構造を彫刻し、図1のように樹脂版ロールに真空引きしながら装着し、全体を120℃20分間加熱を行ったところ継ぎ目が見えなくなりシームレス樹脂版になった。
(Seamless resin plate specifications)
Photosensitive resin plate: Core-shell type microgel obtained by reacting 98 parts of 2-hydroxyethyl acrylate and 1 part of butanediol diacrylate, 20 parts of methacrylic acid and 80 parts of N-butyl acrylate A photosensitive resin composition obtained by mixing 71 g of (core / shell = 2/1), 25 g of trimethylolpropane ethoxytriacrylate and 4 g of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone on a polyester film having a thickness of 2 mm After coating, the substrate was exposed at 1000 mJ / cm with ultraviolet light having a wavelength of 360 nm to obtain a printing original plate for laser engraving. Next, the fine concavo-convex structure was engraved under the following laser engraving conditions, and mounted on the resin plate roll while evacuating as shown in FIG. 1. When the whole was heated at 120 ° C. for 20 minutes, the joints disappeared and a seamless resin plate was obtained. .

樹脂版径は500mm、樹脂版のゴム硬度は50とした。ゴム硬度はJIS K 6253に記載の方法に準じてデュロメータで測定した。   The resin plate diameter was 500 mm, and the rubber hardness of the resin plate was 50. Rubber hardness was measured with a durometer according to the method described in JIS K 6253.

(レーザー彫刻条件1)
炭酸ガスレーザー出力:300W、50%出力
彫刻画像:凹凸高さ1mm、凹部大きさ(長辺)30μm、凹部中心間距離80μmになるように、樹脂版上に微細凹凸構造を彫刻した。
(Laser engraving condition 1)
Carbon dioxide laser output: 300 W, 50% output Engraving image: A fine concavo-convex structure was engraved on the resin plate so that the concavo-convex height was 1 mm, the recess size (long side) was 30 μm, and the distance between the recess centers was 80 μm.

アニロックスロール:800線/2.54cm、セル容積4ml/m2(ニューロング(株)製、ハニカムパターン)
インキ供給:鋼製ドクターブレード方式(図1参照)
(レーザー彫刻条件2)
レーザー彫刻条件1と同様にして、凹凸高さ1.5mm、凹部大きさ(長辺)50μm、凹部中心間距離100μmになるように、樹脂版上に微細凹凸構造を彫刻した。
Anilox roll: 800 lines / 2.54 cm, cell volume 4 ml / m 2 (manufactured by Neurong Co., Ltd., honeycomb pattern)
Ink supply: Steel doctor blade method (see Fig. 1)
(Laser engraving condition 2)
In the same manner as in laser engraving condition 1, a fine concavo-convex structure was engraved on the resin plate so that the concavo-convex height was 1.5 mm, the recess size (long side) was 50 μm, and the center distance between the recesses was 100 μm.

(レーザー彫刻条件3)
レーザー彫刻条件1と同様にして、凹凸高さ1.5mm、凹部大きさ(長辺)3μm、凹部中心間距離10μmになるように、樹脂版上に微細凹凸構造を彫刻した。
(Laser engraving condition 3)
In the same manner as in laser engraving condition 1, a fine concavo-convex structure was engraved on the resin plate so that the concavo-convex height was 1.5 mm, the recess size (long side) was 3 μm, and the center distance between the recesses was 10 μm.

(レーザー彫刻条件4)
レーザー彫刻条件1と同様にして、凹凸高さ1.5mm、凹部大きさ(長辺)120μm、凹部中心間距離220μmになるように、樹脂版上に微細凹凸構造を彫刻した。
(Laser engraving condition 4)
In the same manner as in laser engraving condition 1, a fine uneven structure was engraved on the resin plate so that the unevenness height was 1.5 mm, the recess size (long side) was 120 μm, and the distance between the recess centers was 220 μm.

(ハードコート層塗布液3)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 170質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 100質量部
酢酸エチル 100質量部
撥油性界面活性剤(ポリジメチルシロキサン;KF96(信越化学製))
0.5質量部
上記組成物を混合撹拌し、ハードコート塗布液3を調整した。
(Hard coat layer coating solution 3)
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 170 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate 30 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals))
10 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 100 parts by mass Ethyl acetate 100 parts by mass Oil-repellent surfactant (polydimethylsiloxane; KF96 (manufactured by Shin-Etsu Chemical))
0.5 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare hard coat coating solution 3.

(ハードコート層塗布液4)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 170質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
架橋ポリスチレン単分散粒子(平均粒子径 3.5μm、綜研化学社製 SX−350H) 20質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 100質量部
酢酸エチル 100質量部
撥油性界面活性剤(ポリジメチルシロキサン;KF96(信越化学製))
0.5質量部
上記組成物を混合撹拌し、ハードコート塗布液4を調整した。
(Hard coat layer coating solution 4)
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 170 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate 30 parts by mass Cross-linked polystyrene monodisperse particles (average particle size 3.5 μm, SX-350H manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 20 Mass parts Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
10 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 100 parts by mass Ethyl acetate 100 parts by mass Oil-repellent surfactant (polydimethylsiloxane; KF96 (manufactured by Shin-Etsu Chemical))
0.5 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare hard coat coating solution 4.

こうして作製された第1ハードコート層の上に、下記ハードコート層塗布液5を、第2ハードコート層塗布部Bにて減圧押出し法によって塗布し、乾燥ゾーン505Bにて90℃で乾燥の後、紫外線ランプ506Bを用い、紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させ第2ハードコート層の膜厚が2.5μmである防眩性ハードコートフィルム3を得た。 On the first hard coat layer thus prepared, the following hard coat layer coating solution 5 is applied by a reduced pressure extrusion method in the second hard coat layer application part B and dried at 90 ° C. in the drying zone 505B. An anti-glare hard coat using an ultraviolet lamp 506B and having an ultraviolet illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation dose of 0.1 J / cm 2 and a second hard coat layer thickness of 2.5 μm. Film 3 was obtained.

(ハードコート層塗布液5)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 70質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
光反応開始剤
(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)) 4質量部
界面活性剤(シリコーン系界面活性剤;FZ2207(日本ユニカー製))
0.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 50質量部
メチルエチルケトン 500質量部
塗布液の粘度は40℃、東京計器社製のB型粘度計BLを用い測定した結果、3Pa・sであった。
(Hard coat layer coating solution 5)
Dipentaerythritol hexaacrylate 70 parts by weight Trimethylolpropane triacrylate 30 parts by weight Photoinitiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)) 4 parts by weight Surfactant (silicone surfactant; FZ2207 (Nihon Unicar) Made))
0.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 50 parts by mass Methyl ethyl ketone 500 parts by mass The viscosity of the coating solution was 3 ° C as a result of measurement using a B-type viscometer BL manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd.

(ハードコート層塗布液6)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 55質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 25質量部
光反応開始剤
(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)) 4質量部
架橋ポリスチレン単分散粒子(平均粒子径 3.5μm、綜研化学社製 SX−350H) 20質量部
界面活性剤(シリコーン系界面活性剤;FZ2207(日本ユニカー製))
0.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 50質量部
メチルエチルケトン 50質量部
(ハードコート層塗布液7)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 55質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 20質量部
光反応開始剤
(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)) 4質量部
真球状シリコーン微粒子(平均粒子径:3.0μm GE東芝シリコン製トスパール130) 25質量部
界面活性剤(シリコーン系界面活性剤;FZ2207(日本ユニカー製))
0.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 50質量部
メチルエチルケトン 50質量部
同様にして、上記レーザー彫刻条件と第一及び第2ハードコート層に用いるハードコート層塗布液を変化させて、表1に示される防眩性ハードコートフィルム4〜18を作製した。尚、形成された凹部または凸部の高さ、凹部または凸部の長辺、凹部または凸部の平均中心間距離を表1に示した。(表1中、凹部/凸部は凹部または凸部を示す)
以上作製した防眩性ハードコートフィルム1〜18について以下の評価を行った。
(Hard coat layer coating solution 6)
Dipentaerythritol hexaacrylate 55 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate 25 parts by mass Photoinitiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)) 4 parts by mass Cross-linked polystyrene monodisperse particles (average particle size 3.5 μm, Soken) SX-350H manufactured by Chemical Co., Ltd.) 20 parts by mass surfactant (silicone surfactant; FZ2207 (manufactured by Nihon Unicar))
0.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 50 parts by mass Methyl ethyl ketone 50 parts by mass (hard coat layer coating solution 7)
Dipentaerythritol hexaacrylate 55 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate 20 parts by mass Photoreaction initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)) 4 parts by mass True spherical silicone fine particles (average particle size: 3.0 μm GE Toshiba) Silicone Tospearl 130) 25 parts by mass Surfactant (silicone surfactant; FZ2207 (Nihon Unicar))
0.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 50 parts by mass Methyl ethyl ketone 50 parts by mass Similarly, the laser engraving conditions and the hard coat layer coating solution used for the first and second hard coat layers are changed and shown in Table 1. Antiglare hard coat films 4 to 18 were produced. Table 1 shows the height of the formed recesses or projections, the long sides of the recesses or projections, and the average center distance between the recesses or projections. (In Table 1, concave / convex portions indicate concave portions or convex portions)
The following evaluation was performed about the produced anti-glare hard coat films 1-18.

《評価》
(防眩効果)
窓のあるオフィスにて、各フィルムを机の上に広げ、天井の蛍光灯照明及び外光のフィルムへの写り込みを下記のように評価した。
<Evaluation>
(Anti-glare effect)
In an office with a window, each film was spread on a desk, and fluorescent lighting on the ceiling and reflection of external light on the film were evaluated as follows.

5:蛍光灯の輪郭、及び外光がぼけて写り込みが全く気にならない
4:5と3の中間
3:蛍光灯の輪郭、及び外光の写り込みが僅かに認められる
2:3と1の中間
1:蛍光灯の輪郭、及び外光が分かり写り込みが気になる
(ぎらつき)
作製したフィルムについて、目視にてぎらつきを判定した。
5: The outline of the fluorescent lamp and the external light are blurred and I don't care about the reflection at all 4: Between 5 and 3 3: The outline of the fluorescent lamp and the reflection of the external light are slightly recognized 2: 3: 1 Middle of 1: The outline of the fluorescent lamp and the external light are understood and the reflection is worrisome (glare)
About the produced film, the glare was determined visually.

5:ぎらつきが全く分からない
4:ぎらつきが極僅かに分かる
3:ややぎらつきが分かる
2:3と1の中間
1:ぎらつきがかなり気になる
(白濁)
作製したフィルムについて、目視にて白濁を判定した。
5: I don't know the glare at all. 4: I can understand the glare very slightly. 3: I can see a slight glare. 2: Between 3 and 1. 1: I'm worried about the glare.
About the produced film, the cloudiness was determined visually.

5:白濁が全く気にならない
4:5と3の中間
3:白濁がやや気になる
2:3と1の中間
1:白濁がかなり気になる
5: White turbidity is not worrisome at all 4: Intermediate between 5 and 3 3: White turbidity is somewhat worrisome 2: Intermediate between 3 and 1 1: White turbidity is quite worrisome

Figure 2007025040
Figure 2007025040

表1より、微粒子添加による微細凹凸構造を付与した防眩性ハードコートフィルム1は、微粒子の分散性のばらつきの為か、ぎらつきの改善が中途である。エンボス加工により微細凹凸構造を付与した防眩性ハードコートフィルム2は防眩効果、ぎらつきに劣っていた。また、防眩性ハードコートフィルムの先頭と後尾で微細凹凸構造の高さ、大きさが異なっており、鋳型を観察すると鋳型の一部に溶けたフィルムによる目詰まりを起こしていた。   From Table 1, the antiglare hard coat film 1 imparted with a fine concavo-convex structure by addition of fine particles is in the midst of improving the glare, probably due to dispersion of fine particle dispersibility. The antiglare hard coat film 2 imparted with a fine concavo-convex structure by embossing was inferior in the antiglare effect and glare. Further, the height and size of the fine concavo-convex structure differed between the head and tail of the antiglare hard coat film, and when the mold was observed, clogging was caused by the film dissolved in a part of the mold.

比較例1、2に対して、形成された凹凸部が本発明の請求項3の範囲内にあるフレキソ印刷によって作製された防眩性ハードコートフィルム7〜18は、防眩効果、ぎらつきのいずれもが優れていることが明らかである。また、防眩性ハードコートフィルムの先頭と後尾の微細凹凸構造の高さ、大きさが揃っており、高い均一性、生産安定性を有していることが分かった。   With respect to Comparative Examples 1 and 2, the antiglare hard coat films 7 to 18 produced by flexographic printing in which the formed irregularities are within the scope of claim 3 of the present invention are either antiglare effect or glare. It is clear that is excellent. In addition, it was found that the height and size of the fine concavo-convex structure at the head and tail of the antiglare hard coat film were uniform and had high uniformity and production stability.

尚、防眩性ハードコートフィルム7〜18に対し、本発明の防眩性ハードコートフィルム3は、凹凸形成が細かすぎやや防眩効果が小さく、また、防眩性ハードコートフィルム4は、凹凸間隔が開きすぎており、やや低い防眩効果であった。防眩性ハードコートフィルム5は凹凸の高さの差が小さすぎるためやや防眩効果が小さく、防眩性ハードコートフィルム6は凹凸の高さが高すぎるため、白濁が高くなりすぎて視認性が低下していた。   The antiglare hard coat film 3 of the present invention is too fine to form the unevenness and has a slightly less antiglare effect than the antiglare hard coat films 7 to 18, and the antiglare hard coat film 4 is uneven. The interval was too wide, and the antiglare effect was slightly low. The antiglare hard coat film 5 has a slightly small anti-glare effect because the difference in height of the unevenness is too small, and the antiglare hard coat film 6 has a too high unevenness, so that the cloudiness becomes too high and the visibility is low. Had fallen.

実施例2
次いで、実施例1作製した防眩性ハードコートフィルム1〜18のハードコート表面に下記表面処理を行った。
Example 2
Next, the following surface treatment was performed on the hard coat surfaces of the antiglare hard coat films 1 to 18 produced in Example 1.

〈表面処理〉
アルカリ処理:各防眩性ハードコートフィルムを、50℃に加熱した1.5mol/l−NaOH水溶液に2分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、0.5質量%−H2SO4水溶液に室温で30秒間浸漬し中和させ、水洗、乾燥を行った。
<surface treatment>
Alkaline treatment: Each antiglare hard coat film was immersed in a 1.5 mol / l-NaOH aqueous solution heated to 50 ° C. for 2 minutes for alkali treatment, washed with water, and then into a 0.5 mass% -H 2 SO 4 aqueous solution. It was immersed for 30 seconds at room temperature to neutralize, washed with water and dried.

〔防眩性反射防止フィルムの作製〕
次いで、防眩性ハードコートフィルム1〜18のハードコート層上に下記低屈折率層を塗設した。
[Preparation of antiglare antireflection film]
Next, the following low refractive index layers were coated on the hard coat layers of the antiglare hard coat films 1 to 18.

(反射防止層の作製:低屈折率層)
下記の低屈折率層塗布組成物1を押出しコーターで塗布し、100℃で1分間乾燥させた後、紫外線を0.1J/cm2照射して硬化させ、更に120℃で5分間熱硬化させ、厚さ95nmとなるように低屈折率層を設け、防眩性反射防止フィルム1〜18を作製した。尚、この低屈折率層の屈折率は1.37であった。
(Preparation of antireflection layer: low refractive index layer)
The following low refractive index layer coating composition 1 is applied by an extrusion coater, dried at 100 ° C. for 1 minute, cured by irradiation with ultraviolet rays of 0.1 J / cm 2 , and further thermally cured at 120 ° C. for 5 minutes. A low refractive index layer was provided so as to have a thickness of 95 nm, and antiglare and antireflection films 1 to 18 were produced. The refractive index of this low refractive index layer was 1.37.

また作製した防眩性反射防止フィルムについて、分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における分光反射率を測定した。反射防止性能は広い波長領域において反射率が小さいほど良好であるため、測定結果から450〜650nmにおける最低反射率を求めた。測定は、観察側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止して、反射率の測定を行った。測定の結果、上記防眩性反射防止フィルムはいずれも反射率で0.7〜1.2の間に反射率を有し良好な結果を示した。   Moreover, about the produced anti-glare antireflection film, a spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 380 to 780 nm using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation). Since the antireflection performance is better as the reflectance is smaller in a wide wavelength region, the minimum reflectance at 450 to 650 nm is obtained from the measurement result. In the measurement, the back surface on the observation side was roughened, and then light absorption processing was performed using a black spray to prevent reflection of light on the back surface of the film, and the reflectance was measured. As a result of the measurement, all of the antiglare antireflection films had a reflectance of 0.7 to 1.2 and showed good results.

(低屈折率層塗布組成物1の調製)
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン289gとエタノール553gを混和し、これに0.15%酢酸水溶液157gを添加し、25℃のウォーターバス中で30時間攪拌することで加水分解物Aを調製した。
(Preparation of low refractive index layer coating composition 1)
<Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A>
Hydrolyzate A was prepared by mixing 289 g of tetraethoxysilane and 553 g of ethanol, adding 157 g of 0.15% aqueous acetic acid solution thereto, and stirring in a water bath at 25 ° C. for 30 hours.

テトラエトキシシラン加水分解物A 110質量部
中空シリカ系微粒子(下記P−2)分散液 30質量部
KBM503(シランカップリング剤、信越化学(株)製) 4質量部
直鎖ジメチルシリコーン−EOブロックコポリマー(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 3質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 400質量部
イソプロピルアルコール 400質量部
〈中空シリカ系微粒子P−2分散液の調製〉
平均粒径5nm、SiO2濃度20質量%のシリカゾル100gと純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として0.98質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAl2O3として1.02質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO2・Al23核粒子分散液を調製した。(工程(a))
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO2濃度3.5質量%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程(b))
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、さらに濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO2・Al23多孔質粒子の分散液を調製した(工程(c))。上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1,750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO228質量%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%の中空シリカ系微粒子(P−2)分散液を調製した。
Tetraethoxysilane hydrolyzate A 110 parts by mass Hollow silica-based fine particle (P-2 below) dispersion 30 parts by mass KBM503 (silane coupling agent, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 4 parts by mass Linear dimethyl silicone-EO block copolymer (FZ-2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 3 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 400 parts by mass Isopropyl alcohol 400 parts by mass <Preparation of hollow silica-based fine particle P-2 dispersion>
A mixture of 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO2 concentration of 20% by mass and 1900 g of pure water was heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor was 10.5, and 9000 g of 0.98 mass% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of 1.02 mass% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 were simultaneously added to the mother liquor. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO 2 .Al 2 O 3 core particle dispersion having a solid content concentration of 20% by mass. (Process (a))
1700 g of pure water is added to 500 g of this core particle dispersion and heated to 98 ° C., and while maintaining this temperature, a silicic acid solution (SiO 2) obtained by dealkalizing a sodium silicate aqueous solution with a cation exchange resin. A dispersion of core particles in which 3000 g (concentration of 3.5% by mass) was added to form a first silica coating layer was obtained. (Process (b))
Next, 1125 g of pure water is added to 500 g of the core particle dispersion liquid that has been washed with an ultrafiltration membrane to form a first silica coating layer having a solid concentration of 13% by mass, and concentrated hydrochloric acid (35.5%) is further added dropwise. The pH was adjusted to 1.0 and dealumination was performed. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane was separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and SiO 2 · Al from which some of the constituent components of the core particles forming the first silica coating layer were removed. A dispersion of 2 O 3 porous particles was prepared (step (c)). A mixture of 1500 g of the above porous particle dispersion, 500 g of pure water, 1,750 g of ethanol, and 626 g of 28% ammonia water is heated to 35 ° C., and then 104 g of ethyl silicate (SiO 2 28 mass%) is added. The surface of the porous particles on which the first silica coating layer was formed was coated with a hydrolyzed polycondensate of ethyl silicate to form a second silica coating layer. Subsequently, a hollow silica-based fine particle (P-2) dispersion having a solid content concentration of 20% by mass in which the solvent was replaced with ethanol using an ultrafiltration membrane was prepared.

この中空シリカ系微粒子の第1シリカ被覆層の厚さは3nm、平均粒径は47nm、MOx/SiO2(モル比)は0.0017、屈折率は1.28であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。   The thickness of the first silica coating layer of the hollow silica-based fine particles was 3 nm, the average particle size was 47 nm, MOx / SiO2 (molar ratio) was 0.0017, and the refractive index was 1.28. Here, the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method.

〔偏光板の作製〕
次いで、各防眩性反射防止フィルム1〜18を用いて偏光板を作製した。
[Preparation of polarizing plate]
Subsequently, a polarizing plate was produced using each antiglare antireflection film 1-18.

厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。   A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. This was washed with water and dried to obtain a polarizing film.

次いで、下記工程1〜5に従って偏光膜と前記防眩性反射防止フィルム1〜18、裏面側のセルロースエステルフィルムKC8UCR−5(コニカミノルタオプト(株)製)を貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムは位相差を有するセルロースエステルフィルムであり、リターデーション値はRo=43nm、Rt=132nmであった。   Then, according to the following processes 1-5, the polarizing film, the said glare-proof antireflection film 1-18, and the cellulose ester film KC8UCR-5 (made by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) on the back side were bonded together, and the polarizing plate was produced. The polarizing plate protective film on the back side was a cellulose ester film having a retardation, and retardation values were Ro = 43 nm and Rt = 132 nm.

工程1:50℃の1モル/Lの水酸化ナトリウム溶液に60秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光膜と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。   Step 1: Soaked in a 1 mol / L sodium hydroxide solution at 50 ° C. for 60 seconds, then washed with water and dried to obtain a saponified cellulose ester film bonded to the polarizing film.

工程2:前記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。   Step 2: The polarizing film was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理したセルロースエステルフィルムの上にのせて、更に反射防止層が外側になるように積層し、配置した。   Step 3: Lightly wipe off the excess adhesive adhering to the polarizing film in Step 2, place it on the cellulose ester film treated in Step 1, and then stack and arrange so that the antireflection layer is on the outside did.

工程4:工程3で積層した防眩性反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料を圧力20〜30N/cm2、搬送スピードは約2m/分で貼合した。 Step 4: The antiglare antireflection film, the polarizing film, and the cellulose ester film sample laminated in Step 3 were bonded at a pressure of 20 to 30 N / cm 2 and a conveyance speed of about 2 m / min.

工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと防眩性反射防止フィルム1〜18とを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、偏光板1〜18を作製した。   Process 5: A sample obtained by bonding the polarizing film, the cellulose ester film, and the antiglare antireflection films 1 to 18 produced in Process 4 in a dryer at 80 ° C. is dried for 2 minutes to produce polarizing plates 1 to 18. did.

《液晶表示装置の作製》
液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
<Production of liquid crystal display device>
A liquid crystal panel was produced as follows, and the characteristics as a liquid crystal display device were evaluated.

市販の32型液晶テレビ(MVA型セル)の予め貼合されていた表面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板1〜18をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。   The polarizing plate of the surface previously bonded of the commercially available 32-inch liquid crystal television (MVA type cell) was peeled off, and the produced polarizing plates 1 to 18 were each bonded to the glass surface of the liquid crystal cell.

その際、その偏光板の貼合の向きは、位相差を有するセルロースエステルフィルムの面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置1〜18を各々作製した。   At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is such that the surface of the cellulose ester film having a retardation is on the liquid crystal cell side, and the absorption axis is in the same direction as the polarizing plate previously bonded. It carried out so that it might face, and produced the liquid crystal display devices 1-18, respectively.

《評価》
得られた液晶表示装置1〜18を用いて、図9で示した様な環境で観察し、前記防眩効果、ぎらつき、及び下記視認性及び動画を表示したときの黒のしまりを各々下記の基準に従い目視にて評価した。尚、照明は40W蛍光灯(松下電器製FLR40S−EX−D/M)10本を天井に設置した。また窓から外光が差し込む状態で評価した。
<Evaluation>
The obtained liquid crystal display devices 1 to 18 are observed in the environment as shown in FIG. 9, and the anti-glare effect, glare, and the blackness when the following visibility and moving images are displayed are respectively shown below. Visual evaluation was made according to the criteria. In addition, 10 40W fluorescent lamps (FLR40S-EX-D / M manufactured by Matsushita Electric) were installed on the ceiling. Moreover, it evaluated in the state which external light inserts from a window.

(視認性及び動画を表示したときの黒のしまり)
前述の様に天井からは蛍光灯による人工照明と窓からの外光が差し込んでいる環境下でTV番組の動画像を同ディスプレイに表示し、比較実験を行った。ディスプレイ正面から1m離れた位置で動画像を観察し官能評価を行った。
(Visibility and black spots when displaying video)
As described above, a moving image of a TV program was displayed on the same display in an environment where artificial lighting by a fluorescent lamp and external light from a window were inserted from the ceiling, and a comparative experiment was performed. A moving image was observed at a position 1 m away from the front of the display, and sensory evaluation was performed.

5:画面上部の蛍光灯の写り込みが気にならず、画面中央部は外光があっても黒がしまって見え、観察中、観察直後においても疲れず違和感がない
4:5と3の中間
3:画面上部の蛍光灯の写り込みが僅かに認められ、画面中央部は外光があると黒がややしまりに欠け、観察後やや疲れる
2:3と1の中間
1:画面上部の蛍光灯の写り込みが認められ、画面中央部は外光の影響で黒のしまりに欠け、見ていると目が疲れる
防眩性反射防止フィルム/液晶表示装置の構成及び上記評価結果を下記表2に示す。
5: I don't mind the reflection of the fluorescent lamp at the top of the screen, and the center of the screen looks black even when there is external light. Middle 3: Slight reflection of fluorescent light at the top of the screen is observed, and the center of the screen is slightly tired after observation if there is external light 2: Intermediate between 1: 3 and 1: 1: Fluorescence at the top of the screen The reflection of the light is recognized, the center of the screen lacks black spots due to the influence of external light, and eyes are tired when looking at the structure of the antiglare antireflection film / liquid crystal display device and the evaluation results are shown in Table 2 below. Shown in

表2より、微粒子添加による微細凹凸構造を付与した液晶表示装置1は、微粒子の分散性のばらつきの為かコントラスト、ぎらつきの改善が中途であり視認性に劣っていた。エンボス加工により微細凹凸構造を付与した液晶表示装置2は均一な凹凸構造の形成に難があり、ぎらつき、視認性に劣っていた。   From Table 2, the liquid crystal display device 1 provided with fine concavo-convex structure by the addition of fine particles was inferior in visibility because the dispersion of fine particles was uneven and the improvement of contrast and glare was halfway. The liquid crystal display device 2 provided with a fine concavo-convex structure by embossing has difficulty in forming a uniform concavo-convex structure, and is inferior in visibility and glare.

それに対して、本発明の範囲内の条件で作製された防眩性反射防止フィルムを用いた液晶表示装置3〜18は、防眩効果、ぎらつき、視認性及び黒のしまりに優れていることが明らかである。特に、液晶表示装置7〜18が優れていた。   On the other hand, the liquid crystal display devices 3 to 18 using the antiglare antireflection film produced under the conditions of the present invention are excellent in the antiglare effect, glare, visibility and blackness. Is clear. In particular, the liquid crystal display devices 7 to 18 were excellent.

Figure 2007025040
Figure 2007025040

本発明に係るフレキソ印刷の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the flexographic printing which concerns on this invention. ツーロール方式によるものフレキソ印刷の模式図である。It is a schematic diagram of the flexographic printing by a two-roll system. インキの供給を押出しコーターにより行うフレキソ印刷の模式図である。It is a schematic diagram of the flexographic printing which supplies ink with an extrusion coater. アニロックスロールの斜視図である。It is a perspective view of an anilox roll. アニロックスのセルを説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the cell of an anilox. 第1ハードコート層、第2ハードコート層の形成を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed formation of the 1st hard coat layer and the 2nd hard coat layer. 基材フィルム上に形成された第2ハードコート層による凹凸構造の模式図である。It is a schematic diagram of the uneven structure by the 2nd hard-coat layer formed on the base film. 本発明のフレキソ印刷による第1ハードコート層、コーターを用いた塗布法による第2ハードコート層形成の製造装置例である。It is an example of the manufacturing apparatus of 2nd hard-coat layer formation by the coating method using the 1st hard-coat layer by the flexo printing of this invention, and a coater. 防眩性反射防止フィルムを液晶表示装置に適用した時の観察時の環境を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the environment at the time of observation when an anti-glare antireflection film is applied to a liquid crystal display device.

符号の説明Explanation of symbols

1 シームレス樹脂版
2 樹脂版ロール
3 版胴
4 アニロックスロール
5 圧胴
6 ドクターブレード
7 ファンテンロール
8 インキ
9 押出しコーター
10、502 基材フィルム
e 凸部の高さ
f 凸部の大きさ(長辺)
g 凸部間の距離(平均中心間距離)
11 第1ハードコート層
12 微細凹凸構造
A フレキソ印刷部
B 第2ハードコート層塗布部
501 フィルムロール
503 コーター
504A、B、C バックロール
505A、B 乾燥ゾーン
506A、B 活性光線照射部
508 インキ供給タンク
509 フレキソ樹脂版
510 アニロックスロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Seamless resin plate 2 Resin plate roll 3 Plate cylinder 4 Anilox roll 5 Impression cylinder 6 Doctor blade 7 Fan ten roll 8 Ink 9 Extrusion coater 10,502 Base film e Convex part height f Convex part size (long side)
g Distance between convex parts (average center distance)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 1st hard-coat layer 12 Fine concavo-convex structure A Flexo printing part B 2nd hard-coat layer application part 501 Film roll 503 Coater 504A, B, C Back roll 505A, B Drying zone 506A, B Actinic ray irradiation part 508 Ink supply tank 509 Flexo resin plate 510 Anilox roll

Claims (12)

基材フィルム上に撥水撥油性を有する塗布部、非塗布部からなるパターン状の第1ハードコート層を形成し、次に該第1ハードコート層を形成した基材フィルム上に任意の塗布方法によりハードコート素材を塗布することにより、第1ハードコート層形成部以外の部分に第2ハードコート層を凸又は凹状に形成することを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。 Forming a patterned first hard coat layer consisting of a water- and oil-repellent coating part and a non-coating part on the base film, and then applying any coating on the base film on which the first hard coat layer is formed A method for producing an antiglare film, wherein a second hard coat layer is formed in a convex or concave shape in a portion other than the first hard coat layer forming portion by applying a hard coat material by the method. 前記第1ハードコート層を塗布部、非塗布部からなるパターン状に形成する塗布法がフレキソ印刷法によることを特徴とする請求項1に記載の防眩性フィルムの製造方法。 2. The method for producing an antiglare film according to claim 1, wherein a coating method for forming the first hard coat layer in a pattern comprising a coating part and a non-coating part is a flexographic printing method. 前記第2ハードコート層の凸又は凹構造の凸部又は凹部の高さが、前記第1ハードコート層面に対し、0.1〜1.5μm高いかもしくは低く、該凸部又は凹部の長辺が5〜100μm、かつ隣り合う凸部又は凹部間の平均中心間距離が10〜200μmであることを特徴とする請求項1または2に記載の防眩性フィルムの製造方法。 The height of the convex part or concave part of the second hard coat layer is 0.1 to 1.5 μm higher or lower than the first hard coat layer surface, and the long side of the convex part or concave part The method for producing an antiglare film according to claim 1 or 2, wherein the average center distance between adjacent convex portions or concave portions is 10 to 200 µm. 前記第1ハードコート層、第2ハードコート層のいずれかが、0.5〜5μmの粒径の微粒子を、各層に対し5〜50質量%含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法。 Either of the first hard coat layer and the second hard coat layer contains 5 to 50 mass% of fine particles having a particle diameter of 0.5 to 5 µm with respect to each layer. The manufacturing method of the anti-glare film of any one of Claims 1. 前記基材フィルムがセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びポリカーボネート系フィルムから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法。 5. The prevention according to claim 1, wherein the base film is at least one selected from a cellulose ester film, a polyester film, a norbornene resin film, and a polycarbonate film. A method for producing a dazzling film. 前記第1ハードコート層に使用されるフレキソ印刷のインキが活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂を含有し、フレキソ印刷後、活性光線を照射するかまたは加熱して第1ハードコート層を硬化・固定することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法。 The flexographic ink used for the first hard coat layer contains an actinic ray curable resin or a thermosetting resin. After flexographic printing, the actinic ray is irradiated or heated to cure the first hard coat layer. -The method for producing an antiglare film according to any one of claims 1 to 5, wherein the film is fixed. 前記第2ハードコート層に使用されるハードコート素材が活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂を含有し、第1ハードコート層の上に任意の塗布方法で第2ハードコート層を形成後、活性光線を照射するかまたは加熱して第2ハードコート層を硬化・固定することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法。 The hard coat material used for the second hard coat layer contains an actinic ray curable resin or a thermosetting resin, and after the second hard coat layer is formed on the first hard coat layer by any coating method, The method for producing an antiglare film according to any one of claims 1 to 6, wherein the second hard coat layer is cured and fixed by irradiation with an actinic ray or heating. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする防眩性フィルム。 An anti-glare film produced by the method for producing an anti-glare film according to claim 1. 請求項8に記載の防眩性フィルムの表面上に少なくとも低屈折率層が積層されたことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。 An antiglare antireflection film, wherein at least a low refractive index layer is laminated on the surface of the antiglare film according to claim 8. 請求項8に記載の防眩性フィルムまたは請求項9に記載の防眩性反射防止フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising the antiglare film according to claim 8 or the antiglare antireflection film according to claim 9. 請求項8に記載の防眩性フィルム、請求項9に記載の防眩性反射防止フィルムまたは請求項10に記載の偏光板の少なくともいずれか一つを用いたことを特徴とする表示装置。 A display device comprising at least one of the antiglare film according to claim 8, the antiglare antireflection film according to claim 9, or the polarizing plate according to claim 10. 基材フィルム上に塗布部、非塗布部からなるパターン状に形成された第1ハードコート層と、該基材フィルムの該非塗布部上に形成された第2ハードコート層とにより構成された粗面を有することを特徴とする防眩性フィルム。 A rough structure composed of a first hard coat layer formed in a pattern comprising a coated part and a non-coated part on a base film, and a second hard coat layer formed on the non-coated part of the base film. An antiglare film having a surface.
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