JP2007114563A - Antiglare film, polarizing plate and display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は防眩性フィルム、偏光板及び表示装置に関し、防眩性に優れ、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、偏光板及び表示装置に関する。 The present invention relates to an antiglare film, a polarizing plate, and a display device, and more particularly to an antiglare film, a polarizing plate, and a display device that are excellent in antiglare property and that have a desired fine uneven structure formed effectively and stably with good productivity.
近年、薄型軽量ノートパソコンの開発が進んでいる。それに伴って、液晶表示装置等の表示装置で用いられる偏光板の保護フィルムもますます薄膜化、高性能化への要求が強くなってきている。また、視認性向上のために反射防止層を設けたり、また、写り込みを防いだり、ギラツキの少ない表示性能を得るために表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与した、コンピュータやワープロ等の液晶画像表示装置(液晶ディスプレイともいう)が多く使用されるようになってきた。 In recent years, development of thin and light notebook computers has been progressing. Along with this, the demand for thinner and higher performance protective films for polarizing plates used in display devices such as liquid crystal display devices is also increasing. Also, a computer provided with an anti-glare layer for improving visibility, and also provided with an anti-glare layer that prevents reflections and scatters the reflected light with a rough surface to obtain display performance with less glare. A liquid crystal image display device (also referred to as a liquid crystal display) such as a word processor or the like has been widely used.
反射防止層や防眩層は用途に応じてさまざまな種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々の前面板を液晶ディスプレイの偏光子等に貼り合わせることで、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能または防眩機能等を付与する方法が用いられている。 Various types and performance improvements have been made to the antireflection layer and antiglare layer depending on the application, and various front plates with these functions are attached to the polarizer of a liquid crystal display, etc., to improve visibility on the display. Therefore, a method of providing an antireflection function or an antiglare function is used.
防眩層は、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置などの使用時に反射像の写り込みが気にならないようにするものである。 The antiglare layer reduces the visibility of the reflected image by blurring the outline of the image reflected on the surface, and reflection of the reflected image is noticeable when using an image display device such as a liquid crystal display, an organic EL display, or a plasma display. It is to prevent it from becoming.
画像表示装置の前面板最表面に適切な微細凹凸構造を設けることによって、上記のような性質を持たせることが出来る。例えば、微粒子を用いる方法(例えば、特許文献1参照。)、表面にエンボス加工を施す方法(例えば、特許文献2参照。)等種々の方法がある。 By providing an appropriate fine concavo-convex structure on the outermost surface of the front plate of the image display device, the above properties can be provided. For example, there are various methods such as a method using fine particles (for example, refer to Patent Document 1) and a method for embossing the surface (for example, refer to Patent Document 2).
しかしながら、微粒子を用いる方法では、バインダー層中に微粒子を含有させることのみによって微細凹凸構造を形成する為、微粒子を適切に分散することが必要とされるため、所望の微細凹凸構造を効果的に安定に形成することがむずかしく、防眩性フィルムとしての十分なぎらつき防止効果を得ることに大きな障害を有していた。特に、微粒子を用いる方法は、微粒子の存在密度が制御できず、また微粒子が複数重なる部分で、凸部の高さが周囲より高くなるため、安定に均一な凹凸構造を作ることができない点が欠点であった。またエンボス加工により微細凹凸構造を形成する方法は、生産性に劣り、特に微細凹凸構造を安定に形成することは極めて困難である。 However, in the method using fine particles, since the fine concavo-convex structure is formed only by containing the fine particles in the binder layer, it is necessary to disperse the fine particles appropriately. It was difficult to form stably, and it had a great obstacle to obtaining a sufficient anti-glare effect as an antiglare film. In particular, in the method using fine particles, the density of fine particles cannot be controlled, and the height of the convex portion is higher than the surroundings in a portion where a plurality of fine particles overlap, so that it is impossible to stably form a uniform uneven structure. It was a drawback. Moreover, the method of forming a fine concavo-convex structure by embossing is inferior in productivity, and it is extremely difficult to form a fine concavo-convex structure stably.
また、近年、画像の高画質が進む中で、防眩性は有しつつ、かつコントラストの高い表示装置が求められている。例えば液晶表示装置の最表面は、微粒子法などの従来の防眩性フィルムではコントラストが不充分であり、またクリアハードコート反射防止フィルムでは外光の写り込みが問題となる。この欠点に対応するため、防眩性フィルム上に光干渉による反射防止層(低屈折率層)をコーティングした防眩性反射防止フィルムに関する技術が多数提案されている(例えば、特許文献3〜8参照。)。しかしながら、これらによってもより視認性の優れた表示装置を得る上で、充分な防眩性やコントラストを得るまでに至っていない。
従って本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルムを提供し、更にそれを用いた偏光板、及び表示装置を提供することにある。 Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to effectively capture external light and reduce contrast without deteriorating the sharpness of a high-definition image due to a reduction in pixel size or the like. An object of the present invention is to provide an antiglare film in which a desired fine uneven structure can be effectively and stably formed with good productivity, and to provide a polarizing plate and a display device using the film.
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。 The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
(1)基材フィルム上に、ドットの長径が1〜30μm、ドットの高さが0.5〜10μmである微細な凸構造部を1mm2あたり10〜10000個有し、更に該凸構造部を被覆するように透明樹脂層が形成されており、かつ該凸構造部と該透明樹脂層の屈折率が異なることを特徴とする防眩性フィルム。 (1) On the substrate film, 10 to 10,000 fine convex structures having a major axis of dots of 1 to 30 μm and a dot height of 0.5 to 10 μm per 1 mm 2 , and the convex structures The anti-glare film is characterized in that a transparent resin layer is formed so as to cover the surface, and the refractive index of the convex structure portion and that of the transparent resin layer are different.
(2)前記透明樹脂層の上に更に、反射防止層または防汚層が形成されたことを特徴とする前記1に記載の防眩性フィルム。 (2) The antiglare film as described in 1 above, wherein an antireflection layer or an antifouling layer is further formed on the transparent resin layer.
(3)前記凸構造部、前記透明樹脂層によって構成される防眩層表面の表面粗さ(Ra)が50〜1000nm、凸部または凹部の平均中心間距離(Sm)が10〜200μmであることを特徴とする前記1または2に記載の防眩性フィルム。 (3) The surface roughness (Ra) of the surface of the antiglare layer constituted by the convex structure portion and the transparent resin layer is 50 to 1000 nm, and the average center-to-center distance (Sm) of the convex portion or the concave portion is 10 to 200 μm. 3. The antiglare film as described in 1 or 2 above.
(4)前記凸構造部の高さに対し、前記透明樹脂層の厚みが1〜5μm厚いことを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の防眩性フィルム。 (4) The antiglare film as described in any one of 1 to 3 above, wherein the thickness of the transparent resin layer is 1 to 5 μm thick with respect to the height of the convex structure portion.
(5)前記凸構造部または前記透明樹脂層が活性光線硬化型樹脂であることを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の防眩性フィルム。 (5) The antiglare film as described in any one of (1) to (4) above, wherein the convex structure part or the transparent resin layer is an actinic ray curable resin.
(6)前記凸構造部または前記透明樹脂層が熱硬化性樹脂であることを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の防眩性フィルム。 (6) The antiglare film according to any one of (1) to (4), wherein the convex structure portion or the transparent resin layer is a thermosetting resin.
(7)前記凸構造部が粒径5〜300nmの微粒子を含有することを特徴とする前記1〜6のいずれか1項に記載の防眩性フィルム。 (7) The antiglare film as described in any one of (1) to (6) above, wherein the convex structure part contains fine particles having a particle size of 5 to 300 nm.
(8)前記1〜7のいずれか1項に記載の防眩性フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。 (8) A polarizing plate using the antiglare film described in any one of 1 to 7 above.
(9)前記1〜7のいずれか1項に記載の防眩性フィルム、前記8に記載の偏光板を用いたことを特徴とする表示装置。 (9) A display device using the antiglare film described in any one of 1 to 7 and the polarizing plate described in 8 above.
本発明により画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルムを提供出来、更にそれを用いた偏光板、及び表示装置を提供することが出来る。 According to the present invention, it is possible to effectively prevent reflection of external light and a decrease in contrast without reducing the sharpness of a high-definition image due to a reduction in pixel size or the like, and a desired fine concavo-convex structure can be effectively produced with high productivity. -The anti-glare film formed stably can be provided, and also the polarizing plate and display apparatus using the same can be provided.
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.
本発明の防眩性フィルムは、グラビア法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法等のパターン作製方法により、凸構造部(ドットとも言う)を作製し、該凸構造部を活性光線もしくは加熱により硬化した後、その上に、マイクログラビア法、押出し塗布法、ワイヤーバー法、フレキソ印刷法、インクジェット法等の薄膜均一塗布法により、透明樹脂層を均一塗布することで作製される。この際、凸構造部は、面内ではFMスクリーニング等の手段により一定のランダム配置を取り、高さは一定の範囲内で均一に作製されることで、表面粗さ(Ra)は全面において安定し、かつ凹凸の形成は一律の間隔とならないことで、ディスプレイの画素との間でモアレを発生することがない。凸構造部の高さと透明樹脂層の膜厚を適切に設定することで、透明樹脂層の表面には適度で安定した表面粗さを持つ凹凸が形成され、防眩効果を維持しつつ、光散乱によるヘーズの増加が抑えられ、散乱光による白濁が押えられるため、コントラストの高い画像を見ることができる。また、凸構造部の屈折率を、透明樹脂層の屈折率と異ならせることにより、内部散乱効果が生じ、ディスプレイ側からの透過光がギラつくことも押えることができる。 The antiglare film of the present invention produces a convex structure (also called a dot) by a pattern production method such as a gravure method, a screen printing method, a flexographic printing method, and an ink jet method, and the convex structure portion is actinic rays or heated. Then, a transparent resin layer is uniformly coated thereon by a thin film uniform coating method such as a micro gravure method, an extrusion coating method, a wire bar method, a flexographic printing method, and an ink jet method. At this time, the convex structure portion has a constant random arrangement by means of FM screening or the like within the plane, and the height is uniformly produced within a certain range, so that the surface roughness (Ra) is stable over the entire surface. In addition, since the unevenness is not formed at uniform intervals, moire is not generated between the pixels of the display. By appropriately setting the height of the convex structure and the film thickness of the transparent resin layer, irregularities with moderate and stable surface roughness are formed on the surface of the transparent resin layer, while maintaining the antiglare effect and light. Since an increase in haze due to scattering is suppressed and white turbidity due to scattered light is suppressed, an image with high contrast can be seen. Further, by making the refractive index of the convex structure portion different from the refractive index of the transparent resin layer, an internal scattering effect is generated, and it can be suppressed that transmitted light from the display side is glaring.
上記方法によれば、印刷速度を10m/毎分以上、500m/毎分という速度でも防眩性フィルムを作製することが出来、高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、それを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置が得られることを見出したものである。 According to the above method, an anti-glare film can be produced even at a printing speed of 10 m / min or more and 500 m / min, and reflection of external light can be achieved without deteriorating the sharpness of high-definition images. And an anti-glare film that can effectively and stably form a desired fine uneven structure with good productivity, an anti-glare anti-reflection film, a polarizing plate and a display device using the same Has been found to be obtained.
《凸構造部の作製》
以下に、凸構造部の作製方法の一例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
<Production of convex structure>
In the following, an example of a method for producing the convex structure portion is shown, but the present invention is not limited to this.
〈フレキソ印刷による凸構造部の形成の例〉
一般にフレキソ印刷とは、フレキシブルなゴム又は樹脂からなる凸版と、水又はアルコールを主とする溶剤系の蒸発乾燥型のインキを用いた印刷方法である。
<Example of forming convex structure by flexographic printing>
In general, flexographic printing is a printing method using a relief printing plate made of a flexible rubber or resin and a solvent-based evaporation-drying ink mainly composed of water or alcohol.
基材フィルム表面へフレキソ印刷を用いて凸構造部をパターン状に形成し、更にその上に透明樹脂層を、マイクログラビア法、押出し塗布法、ワイヤーバー法、フレキソ印刷法、インクジェット法等の薄膜均一塗布法により、均一に塗布することにより、高度な生産性を維持したまま微細凹凸構造を形成することができる。 A convex structure is formed in a pattern on the surface of the base film using flexographic printing, and a transparent resin layer is further formed thereon on a thin film such as a micro gravure method, extrusion coating method, wire bar method, flexographic printing method, and ink jet method. By applying uniformly by the uniform application method, a fine concavo-convex structure can be formed while maintaining high productivity.
まず本発明に好ましく用いられるフレキソ印刷について図をもって説明する。 First, flexographic printing preferably used in the present invention will be described with reference to the drawings.
図1、図2は本発明に係るフレキソ印刷の一例を示す模式図である。 1 and 2 are schematic views showing an example of flexographic printing according to the present invention.
連続走行する基材フィルム10は圧胴5と樹脂版ロール2と転移印刷後に基材フィルム上に微細凹凸構造を形成するシームレス樹脂版1によって構成される版胴3に挟まれ、ドクターブレード6によって転移インキ量が調整されたアニロックスロール4によってインキ8を版胴3に供給し基材フィルム上に転移印刷される。
The
フレキソ印刷における、版胴3に対するインキ供給は、アニロックスロール4により行われ、アニロックスロール面のインキ量の制御は、図1に示すドクターブレード方式、又は図2に示すツーロール方式によるものなどが一般的に知られている。図2に示すツーロール方式は、インキパンからインキ8をファウンテンロール7でアニロックスロール4に、更に版胴3にインキを供給し、透明基材フィルム10にインキを転移印刷するものである。図2の方式によればインキ8は、アニロックスロール4の彫刻線数、セルの深さ及び形状で調整する他に、ファウンテンロール7とアニロックスロール4間の(変動し易い)ニップ圧の強弱でインキ供給量を制御するものでありインキの転移量が安定しないという問題がある為、本発明では図1の方法が好ましい。
In flexographic printing, ink supply to the plate cylinder 3 is performed by the anilox roll 4, and the amount of ink on the anilox roll surface is generally controlled by the doctor blade method shown in FIG. 1 or the two-roll method shown in FIG. Known to. In the two-roll system shown in FIG. 2, the ink 8 is transferred from the ink pan to the anilox roll 4 by the fountain roll 7 and further supplied to the plate cylinder 3 to transfer transfer the ink to the
また別の方式として、図3にインキの供給を押出しコーターにより行うフレキソ印刷の模式図を示す。 As another method, FIG. 3 shows a schematic diagram of flexographic printing in which ink is supplied by an extrusion coater.
インキ8は押出しコーター9により樹脂版ロール2に装着されたシームレス樹脂版1上に直接押し出され、版胴3と圧胴5に挟まれ連続走行している基材フィルム10に転移印刷される。この装置の場合はアニロックスロールが無いため、インキの供給量は押出しコーターの精度に左右される。
The ink 8 is directly extruded onto the seamless resin plate 1 mounted on the
図1に示すドクターブレード方式における、版胴3へのインキ転移量は、アニロックスロール4の彫刻線数とセルの形状で決まりインキ転移量としては安定出来るものである。そして、アニロックスロールのセルに充填するインキは、アニロックスロール表面の過剰インキをドクターブレードで掻きとるため、転移するインキは彫刻線数とセルの形状、容積で決められるものである。そして、アニロックスロールのセルは、例えば鉄シリンダー表面に必要に応じて銅メッキを施して、その面に彫刻でセルを形成し、ニッケル或いはクロムメッキで硬度のある表面加工を行う。アニロックスロールの材質は、鉄シリンダー表面に銅メッキ等を行ったタイプ、またはセラミックコーテイングしたタイプがあるが、本発明では耐摩耗性及び、彫刻線数の細線化が容易な点からセラミックコーテイングしたタイプが好ましい。 In the doctor blade system shown in FIG. 1, the amount of ink transferred to the plate cylinder 3 is determined by the number of engraved lines of the anilox roll 4 and the shape of the cell, and can be stabilized as the amount of ink transferred. The ink that fills the cells of the anilox roll scrapes excess ink on the surface of the anilox roll with a doctor blade. Therefore, the transferred ink is determined by the number of engraving lines, the shape of the cell, and the volume. Then, the anilox roll cell is subjected to, for example, copper plating on the surface of the iron cylinder as necessary, the cell is formed on the surface by engraving, and the surface processing with hardness is performed by nickel or chromium plating. The material of anilox roll includes a type in which the surface of the iron cylinder is plated with copper or the like, or a type with ceramic coating. In the present invention, however, the type is ceramic coated in terms of wear resistance and easy thinning of the number of engraving lines. Is preferred.
図4はアニロックスロールの斜視図である。 FIG. 4 is a perspective view of the anilox roll.
図5はアニロックスのセルを説明するための斜視図である。 FIG. 5 is a perspective view for explaining an anilox cell.
アニロックスロール4は、図4に示すようにセラミックス面を、銅面に設けるグラビア版と同様に化学腐食によっても形成出来るが、腐食液の処理や深さのばらつきを生じ易い点から、機械もしくはレーザー彫刻によりセルbを設けることが望ましい。そして、アニロックスロールの表面は、通常ミルによる押圧加工の後クロムメッキ加工して作られるが耐摩耗性、耐食性及びインキ転移性の点から酸化クローム、タングステンカーバイドなどの無機酸化物を熔射形成したものが好ましい。 As shown in FIG. 4, the anilox roll 4 can be formed by chemical corrosion in the same manner as a gravure plate provided on a copper surface. It is desirable to provide the cell b by engraving. The surface of the anilox roll is usually made by chrome plating after pressing with a mill, but from the point of wear resistance, corrosion resistance and ink transfer properties, inorganic oxides such as chromium oxide and tungsten carbide are formed by spraying. Those are preferred.
アニロックスロール4の彫刻形状は、格子型のセルの他に、図示はしないが、ヘリカル型、ピラミッド型、斜線型、六角形状のハニカムパターンなどの形状があり、特に限定されるものではないが、高速印刷時におけるインキ転移の再現性の点からハニカムパターンであることが好ましい。そして、図4及び図5に示す彫刻線数やセルbの深さdは、インキの転移量に大きな影響を与えるもので、本発明に係る防眩性フィルム表面上の微細凹凸構造を形成するには、600線/2.54cm以上、セルの深さdが5〜30μmであることが好ましい。彫刻形状と線数の選択は被印刷体の種類や印刷スクリーン線数に合せて考慮されるが、被吸収性が少ないプラスチックフィルムには線数の細かいものが好ましく使用される。そして、セルの土手a(非凹部)は、耐摩耗性に支障がない程度に小さく設けた方がインキチャージ量を多く出来る点から好ましく、具体的には土手幅wをセル幅の0.1〜0.5倍に設けることが好ましい。アニロックスロールは、フレキソ印刷において版面にインキ量の供給量をドクタリングで制御するものである。そして、ドクタリングの過程で摩耗・損傷が起こり、セルが浅くなりインキ転移量が減少する原因となる。したがって、従来の金属(鉄、又は銅に彫刻、クロームメッキ仕上げ)と比較して、セラミックスのアニロックスロールは、ドクタリングによる摩耗量が少なく凹凸パターンの繰り返し安定性に大きく貢献出来るものである。 The sculpture shape of the anilox roll 4 is not particularly limited in addition to the lattice type cell, although there are shapes such as a helical type, a pyramid type, a diagonal type, a hexagonal honeycomb pattern, etc. A honeycomb pattern is preferable from the viewpoint of reproducibility of ink transfer during high-speed printing. The number of engraving lines and the depth d of the cell b shown in FIGS. 4 and 5 greatly affect the amount of ink transferred, and form a fine uneven structure on the antiglare film surface according to the present invention. It is preferable that 600 lines / 2.54 cm or more and the cell depth d is 5 to 30 μm. The selection of the engraving shape and the number of lines is considered in accordance with the type of substrate to be printed and the number of lines on the printing screen. However, a plastic film with a small number of lines is preferably used for a plastic film with low absorbability. And it is preferable that the bank a (non-recessed portion) of the cell should be small enough not to affect the wear resistance from the viewpoint that the ink charge amount can be increased. Specifically, the bank width w is set to 0.1 as the cell width. It is preferable to provide it at ˜0.5 times. The anilox roll controls the amount of ink supplied to the plate surface by flexing in flexographic printing. And abrasion and damage occur in the process of doctoring, which causes the cell to become shallow and the ink transfer amount to decrease. Therefore, compared with the conventional metal (iron or copper engraving, chrome plating finish), the ceramic anilox roll has a small amount of wear due to doctoring and can greatly contribute to the repetitive stability of the concavo-convex pattern.
本発明は、好ましくは図1に示すようなフレキソ印刷装置により、50〜1000mm径のシームレス樹脂版1を樹脂版ロール2に装着した版胴3と、好ましくはセラミックスコーティングしたアニロックスロール4とを用いて、基材フィルム10にインキを転移印刷し、活性光線を照射するかまたは加熱して、基材フィルム上に凸構造部を形成するものである。
The present invention preferably uses a plate cylinder 3 on which a seamless resin plate 1 having a diameter of 50 to 1000 mm is mounted on a
上記樹脂版ロール2の材質は特に限定されるものではなく、強度を維持出来るものであればよく、鉄、ステンレス、アルミ等の金属、または合成または天然ゴムであることが好ましく、金属とゴムの複合部材でもよい。本発明では樹脂版ロール2の径はシームレス樹脂版1が樹脂版ロール2に装着された時の径(ロールの直径)が50〜1000mmの範囲になるように選択されればよい。シームレス樹脂版1の径が50mm未満では回転速度が速過ぎて強度を維持出来ないこと、また凸構造部のパターンの繰り返しの周期が短くて防眩効果が低下することがあり好ましくない。径が1000mmを超えると、装置が大きくなり過ぎて運転費用がかかりコスト的に不利であり、また回転むらが生じやすくパターン形成の精度が低下する。
The material of the
本発明においてシームレス樹脂版1に用いる樹脂版は、光反応物質であるポリマーとモノマーとの光重合を応用した感光性樹脂版を用いることが好ましい。この感光性樹脂版は、フォトポリマー、紫外線の露光により光重合するモノマー、ポリマーとモノマー間とで光重合を開始する増感剤、及び版材の物理的性状を調整する可塑剤等の組成物から構成され、感光性樹脂版上に従来のマスク製版により上記パターンを刻印するか、または、シリンダー(軸芯)の全面に塗布等により設けた感光性樹脂層にレーザー光を照射することにより直接該パターンを彫刻することも出来る。 In the present invention, the resin plate used for the seamless resin plate 1 is preferably a photosensitive resin plate to which photopolymerization of a polymer and a monomer as a photoreactive substance is applied. This photosensitive resin plate is composed of a photopolymer, a monomer photopolymerized by exposure to ultraviolet light, a sensitizer that initiates photopolymerization between the polymer and the monomer, and a plasticizer that adjusts the physical properties of the plate material. The above pattern is engraved on the photosensitive resin plate by a conventional mask plate making, or directly applied by irradiating the photosensitive resin layer provided on the entire surface of the cylinder (axial core) by laser light. The pattern can also be engraved.
本発明において用いる感光性樹脂組成物は、フレキソ印刷版用として公知のものが使用出来る。一般的にはバインダーポリマーと少なくとも一種のエチレン性不飽和モノマーと光開始剤を主成分とする組成物が用いられる。さらに、この感光性樹脂層に要求される特性に応じて増感剤、熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤などの添加剤を含むことが出来る。 As the photosensitive resin composition used in the present invention, those known for flexographic printing plates can be used. In general, a composition mainly composed of a binder polymer, at least one ethylenically unsaturated monomer and a photoinitiator is used. Furthermore, additives such as a sensitizer, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, and a colorant can be included depending on the properties required for the photosensitive resin layer.
バインダーポリマーとしては、例えばモノビニル置換芳香族炭化水素モノマーと共役ジエンモノマーを重合して得られる熱可塑性エラストマーが用いられる。モノビニル置換芳香族炭化水素モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン等が、また共役ジエンモノマーとしてはブタジエン、イソプレン等が挙げられる。具体例としてはスチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体や、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体などを挙げることが出来る。 As the binder polymer, for example, a thermoplastic elastomer obtained by polymerizing a monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon monomer and a conjugated diene monomer is used. Examples of the monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon monomer include styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene and the like, and examples of the conjugated diene monomer include butadiene and isoprene. Specific examples include a styrene-butadiene-styrene block copolymer and a styrene-isoprene-styrene block copolymer.
少なくとも一種のエチレン性不飽和モノマーとしては、バインダーポリマーと相溶性のあるもので、例えばt−ブチルアルコールやラウリルアルコールなどのアルコールとアクリル酸、メタクリル酸とのエステル、或いはラウリルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミドなどのマレイミド誘導体、又はジオクチルフマレートなどのアルコールとフマール酸のエステル、さらにはヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなどの多価アルコールとアクリル酸、メタクリル酸とのエステルなどを挙げることが出来る。 The at least one ethylenically unsaturated monomer is compatible with a binder polymer, for example, an ester of an alcohol such as t-butyl alcohol or lauryl alcohol with acrylic acid or methacrylic acid, or lauryl maleimide, cyclohexyl maleimide, benzyl Maleimide derivatives such as maleimide, or alcohol and fumaric acid esters such as dioctyl fumarate, and polyhydric alcohols such as hexanediol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate And esters of acrylic acid and methacrylic acid.
光開始剤としては、ベンゾフェノンのような芳香族ケトン類やベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチロールベンゾインメチルエーテル、α−メトキシベンゾインメチルエーテル、2,2−ジエトキシフェニルアセトフェノン等のベンゾインエーテル類などの公知の光重合開始剤の中から選択し、また組み合わせて使用される。 Photoinitiators include aromatic ketones such as benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, α-methylol benzoin methyl ether, α-methoxybenzoin methyl ether, 2,2-diethoxyphenylacetophenone, etc. These are selected from known photopolymerization initiators such as benzoin ethers and used in combination.
感光性樹脂層は種々の方法で調製することが出来る。例えば配合される原料を適当な溶媒、例えばクロロホルム、テトラクロルエチレン、メチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に溶解させて混合し、コーターにより適当な支持体上に塗布して設けることも出来るし、型枠の中に流延して溶剤を蒸発させ、そのまま板とすることが出来る。また溶剤を用いず、ニーダー或いはロールミルで混練し、押し出し機、射出成形機、プレスなどにより所望の厚さの板に成形することが出来る。 The photosensitive resin layer can be prepared by various methods. For example, the raw materials to be blended can be dissolved and mixed in a suitable solvent such as chloroform, tetrachloroethylene, methyl ethyl ketone, toluene, etc., and coated on a suitable support with a coater. It can be cast into the plate as it is to evaporate the solvent. Moreover, it can knead | mix with a kneader or a roll mill, without using a solvent, and can shape | mold into the board of desired thickness with an extruder, an injection molding machine, a press.
感光性樹脂シートを樹脂版ロールに巻き付けるにあたっては、シームレス樹脂版を形成する為に感光性樹脂の端部同士に隙間が出来ないよう、正確にシートを切断して用いることが必要である。通常感光性樹脂版を樹脂版ロールに巻き付けた後、感光性樹脂の軟化点以上に加温して感光性樹脂の端部同士を溶融接着させる。加温時間は通常20分から1時間で、温度と樹脂の軟化点に応じて端部同士が融着することを目安に決められる。次いでグラインダーで感光性樹脂表面を研磨してつなぎ目を完全に無くすと同時に精度を出した後、感光性樹脂の軟化点以上に再度加温処理を行うことがシームレス化において好ましい。その時間は温度によるが10から40分程度で、感光性樹脂表面全体に光沢が見られるようになるまで行う。長時間加温し続けると印刷版としての精度が損なわれるので一時間以内で処理することが望ましい。またベース材であるゴム、ポリエステルフィルム、アルミニウム板、スチール板或いは、シリンダーに装着出来るアルミニウム製樹脂版ロールに直接継ぎ目がないように感光性樹脂層を塗設しシームレス化することも出来る。 When the photosensitive resin sheet is wound around the resin plate roll, it is necessary to accurately cut and use the sheet so that there is no gap between the ends of the photosensitive resin in order to form a seamless resin plate. Usually, after the photosensitive resin plate is wound around the resin plate roll, the photosensitive resin is heated to a temperature higher than the softening point of the photosensitive resin, and the ends of the photosensitive resin are melt-bonded. The heating time is usually 20 minutes to 1 hour, and is determined based on the fact that the ends are fused according to the temperature and the softening point of the resin. Next, it is preferable for seamlessness that the surface of the photosensitive resin is polished by a grinder to completely eliminate the joint, and at the same time the accuracy is increased, and then the heating treatment is performed again above the softening point of the photosensitive resin. Although the time depends on the temperature, it is about 10 to 40 minutes, and is performed until the entire surface of the photosensitive resin becomes glossy. If the heating is continued for a long time, the accuracy of the printing plate is impaired, so it is desirable to process within one hour. In addition, a photosensitive resin layer can be applied seamlessly so that there is no direct seam on the base material such as rubber, polyester film, aluminum plate, steel plate, or aluminum resin plate roll that can be mounted on a cylinder.
本発明ではシームレス樹脂版のゴム硬度は30〜80度の範囲であることが好ましく、精度よく安定した微細凹凸構造の転移印刷を行う上で樹脂版のゴム硬度がこの範囲にあることが好ましい。ロール状シームレス樹脂版1のゴム硬度は、樹脂版の厚みによっても影響される為、厚みが0.5〜10mmの範囲の樹脂版において30〜80度の範囲であることが好ましい。より好ましくは40〜80度の範囲である。 In the present invention, the rubber hardness of the seamless resin plate is preferably in the range of 30 to 80 degrees, and it is preferable that the rubber hardness of the resin plate be in this range in order to perform transfer printing of a fine uneven structure with accuracy and stability. Since the rubber hardness of the roll-shaped seamless resin plate 1 is also affected by the thickness of the resin plate, it is preferably in the range of 30 to 80 degrees in the resin plate having a thickness in the range of 0.5 to 10 mm. More preferably, it is in the range of 40 to 80 degrees.
樹脂版のゴム硬度が30度未満であると、版が柔らか過ぎて所望の微細凹凸構造を形成するのに難があり、また版自体も摩耗し易くなる為好ましくない。樹脂版のゴム硬度が80度を超えると、版胴が高速回転して印刷する際の柔軟性に欠けインキ転移量の再現性に乏しくなる。ゴム硬度はJIS K 6253に記載の方法に準じてデュロメータ等で測定した値で示される。 If the rubber hardness of the resin plate is less than 30 degrees, the plate is too soft and it is difficult to form a desired fine concavo-convex structure, and the plate itself is easily worn, which is not preferable. When the rubber hardness of the resin plate exceeds 80 degrees, the plate cylinder rotates at a high speed and lacks flexibility when printing and the reproducibility of the ink transfer amount becomes poor. The rubber hardness is indicated by a value measured with a durometer or the like according to the method described in JIS K 6253.
シームレス樹脂版上に微細凹凸構造のパターンを刻印する方法としてマスク製版が利用される。マスク製版では、感光性樹脂材料の層を設けた樹脂版に原版マスクであるネガフィルムでカバーして露光する。感光性樹脂層は光、特に波長350〜450nmの紫外線エネルギーで硬化、或いは不溶化するものである。未露光部の未硬化樹脂は水、アルカリ水溶液、或いはアルコールなどの有機溶剤に可溶性の状態で維持される。したがって、未露光部をそれに応じた溶剤で洗い出す(現像工程)ことにより、露光された部分のみが残って凸版(フレキソ版)を形成するものである。 Mask engraving is used as a method of imprinting a pattern with a fine relief structure on a seamless resin plate. In mask plate making, a resin plate provided with a layer of a photosensitive resin material is covered with a negative film as an original mask and exposed. The photosensitive resin layer is cured or insolubilized by light, particularly ultraviolet energy having a wavelength of 350 to 450 nm. The uncured resin in the unexposed portion is maintained in a soluble state in water, an aqueous alkali solution, or an organic solvent such as alcohol. Therefore, by washing out the unexposed portion with a solvent corresponding to the unexposed portion (developing step), only the exposed portion remains and forms a relief plate (flexographic plate).
また、最近の刷版方法としては、修正画像信号に基づいて硬化済の樹脂版に直接レーザー光或いは彫刻機で彫刻することにより完全なエンドレス版を作製することが出来る。或いは、未露光の感光性樹脂版に円筒状のまま修正済画像信号で変調されたレーザー光で走査しパターニングした後通常の方法で現像する方法がエンドレスの版を形成する上からも好ましい。 Further, as a recent printing plate method, a complete endless plate can be produced by directly engraving a cured resin plate with a laser beam or an engraving machine based on a corrected image signal. Alternatively, an unexposed photosensitive resin plate is scanned with a laser beam modulated with a corrected image signal in the form of a cylinder and patterned, and then developed by a normal method, from the viewpoint of forming an endless plate.
上記フレキソ印刷により、基材フィルム上に、ドットの長径が1〜30μm、ドットの高さが0.5〜10μmである微細な凸構造を1mm2あたり10〜10000個作製することで、本発明の凸構造部を形成する。 By the flexographic printing, 10 to 10,000 fine convex structures with a long diameter of dots of 1 to 30 μm and a height of dots of 0.5 to 10 μm are produced per 1 mm 2 on the base film. The convex structure portion is formed.
本発明で規定するドットの高さとは、下地である基材フィルム表面を底部として、ドット(凸構造部)の頂部までの高さと定義し、同様に長径は基材に接しているドット(凸構造部底)の最大長と定義する。 The dot height defined in the present invention is defined as the height from the base film surface that is the base to the top of the dot (convex structure), and the major axis is the dot in contact with the substrate (convex). It is defined as the maximum length of the structure bottom).
表面の微細な凸構造部は、市販の触針式表面粗さ測定機或いは市販の光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定することが出来る。例えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、約4000μm2の範囲(55μm×75μm)について2次元的に測定し、凸部を底部側より等高線のごとく色分けして表示し、フィルム面を基準とした凸部高さ及び凸構造部の長径である凸部径を測定する。また、凸構造部個数は得られた凸部の個数を1mm2あたりに換算して求めることが出来る。これらの測定は、基材フィルムの該当箇所の任意の10点を測定してその平均値として求める。 The fine convex structure on the surface can be measured by a commercially available stylus type surface roughness measuring machine or a commercially available optical interference type surface roughness measuring machine. For example, an optical interference type surface roughness measuring instrument is used to measure two-dimensionally about a range of about 4000 μm 2 (55 μm × 75 μm), and the convex portion is color-coded and displayed from the bottom side as a contour line. The height of the convex portion and the convex portion diameter, which is the major axis of the convex structure portion, are measured. Further, the number of convex structure parts can be obtained by converting the number of convex parts obtained per 1 mm 2 . These measurements are obtained as an average value by measuring arbitrary 10 points of the corresponding part of the base film.
〈インクジェット方式による凸構造部の形成の例〉
次いで、本発明に用いられるインクジェット方式よる凸構造部の形成の例について説明する。
<Example of forming convex structure by inkjet method>
Next, an example of forming the convex structure portion by the ink jet method used in the present invention will be described.
図6は、本発明に用いられるインクジェット方法に用いることのできるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。 FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of an ink jet head that can be used in the ink jet method used in the present invention.
図6(a)はインクジェットヘッドの断面図であり、図6(b)は図6(a)のA−A線矢視拡大図である。図中、11は基板、12は圧電素子、13は流路板、13aはインク流路、13bは壁部、14は共通液室構成部材、14aは共通液室、15はインク供給パイプ、16はノズルプレート、16aはノズル、17は駆動用回路プリント板(PCB)、18はリード部、19は駆動電極、20は溝、21は保護板、22は流体抵抗、23、24は電極、25は上部隔壁、26はヒータ、27はヒータ電源、28は伝熱部材、30はインクジェットヘッドである。 6A is a cross-sectional view of the ink jet head, and FIG. 6B is an enlarged view taken along line AA in FIG. 6A. In the figure, 11 is a substrate, 12 is a piezoelectric element, 13 is a flow path plate, 13a is an ink flow path, 13b is a wall, 14 is a common liquid chamber constituent member, 14a is a common liquid chamber, 15 is an ink supply pipe, 16 Is a nozzle plate, 16a is a nozzle, 17 is a drive circuit printed board (PCB), 18 is a lead portion, 19 is a drive electrode, 20 is a groove, 21 is a protective plate, 22 is a fluid resistance, 23 and 24 are electrodes, 25 Is an upper partition, 26 is a heater, 27 is a heater power source, 28 is a heat transfer member, and 30 is an ink-jet head.
集積化されたインクジェットヘッド30において、電極23、24を有する積層された圧電素子12は、流路13aに対応して、該流路13a方向に溝加工が施され、溝20と駆動圧電素子12bと非駆動圧電素子12aに区分される。溝20には充填剤が封入されている。溝加工が施された圧電素子12には、上部隔壁25を介して流路板13が接合される。すなわち、前記上部隔壁25は、非駆動圧電素子12aと隣接する流路を隔てる壁部13bとで支持される。駆動圧電素子12bの幅は流路13aの幅よりも僅かに狭く、駆動用回路プリント板(PCB)上の駆動回路により選択された駆動圧電素子12bはパルス状信号電圧を印加すると、該駆動圧電素子12bは厚み方向に変化し、上部隔壁25を介して流路13aの容積が変化し、その結果ノズルプレート16のノズル16aよりインク液滴を吐出する。
In the
流路板13上には、伝熱部材28を介してヒータ26がそれぞれ接着されている。伝熱部材28はノズル面にまわり込んで設けられている。伝熱部材28は、ヒータ26からの熱を効率良く流路板13に伝え、かつ、ヒータ26からの熱をノズル面近傍に運びノズル面近傍の空気を温めることを目的としており、したがって、熱伝導率の良い材料が用いられる。例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、ステンレス等の金属、あるいは、SiC、BeO、AlN等のセラミックス等が好ましい材料として挙げられる。
圧電素子を駆動すると、流路の長手方向に垂直な方向に変位し、流路の容積が変化し、その容積変化によりノズルからインク液滴となって噴射する。圧電素子には常時流路容積が縮小するように保持する信号を与え、選択された流路に対して流路容積を増大する向きに変位させた後、再び流路の容積が縮小する変位を与えるパルス信号を印加することにより、流路と対応するノズルよりインクがインク液滴となって噴射する。 When the piezoelectric element is driven, the piezoelectric element is displaced in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the flow path, and the volume of the flow path is changed. By the change in volume, ink droplets are ejected from the nozzle. The piezoelectric element is given a signal that keeps the flow path volume constantly reduced, and after the displacement of the selected flow path in the direction of increasing the flow volume, the displacement that reduces the flow volume again is applied. By applying a pulse signal to be applied, ink is ejected as ink droplets from a nozzle corresponding to the flow path.
図7は、本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。 FIG. 7 is a schematic view showing an example of an inkjet head unit and a nozzle plate that can be used in the present invention.
図7において、図7の(a)はヘッド部の断面図、図7の(b)はノズルプレートの平面図である。図中、10は透明基材フィルム、31はインク液滴、32はノズル、29は活性光線照射部である。ノズル32より噴射したインク液滴31は透明基材フィルム10方向に飛翔して付着する。透明基材フィルム10上に着弾したインク液滴は、その上流部に配置されている活性光線照射部より、活性光線を直ちに照射され、硬化する。なお、35は透明基材フィルム10を保持するバックロールである。
7, (a) of FIG. 7 is a sectional view of the head portion, and (b) of FIG. 7 is a plan view of the nozzle plate. In the figure, 10 is a transparent substrate film, 31 is an ink droplet, 32 is a nozzle, and 29 is an actinic ray irradiation part. The ink droplet 31 ejected from the
本発明においては、図7の(b)に記載のように、インクジェットヘッド部のノズルは、千鳥状に配置することが好ましく、また、透明基材フィルム10の搬送方向に並列に多段に設けることが好ましい。また、インク吐出の際にインクジェットヘッド部に微細な振動を与え、インク滴がランダムに透明基材上に着弾するようにすることが好ましい。これによって、干渉縞の発生を抑制することができる。微細な振動は、高周波電圧、音波、超音波などによって与えることができるが、特にこれらに限定されない。
In the present invention, as shown in FIG. 7B, the nozzles of the ink jet head section are preferably arranged in a staggered manner, and are provided in multiple stages in parallel in the transport direction of the
本発明に用いられる凸構造部の形成方法は、多ノズルからインク小液滴を吐出して形成するインクジェット方式を用いることが好ましい。図8に、本発明で好ましく用いることのできるインクジェット方式の一例を示す。 As the method for forming the convex structure portion used in the present invention, it is preferable to use an ink jet method in which small droplets of ink are formed from multiple nozzles. FIG. 8 shows an example of an ink jet system that can be preferably used in the present invention.
図8において、図8の(a)は、インクジェットヘッド30を透明基材フィルム10の幅手方向に配置し、透明基材フィルム10を搬送しながらその表面に凸構造部を形成する方法(ラインヘッド方式)であり、図8の(b)はインクジェットヘッド30が副走査方向に移動しながらその表面に凸構造部を形成する方法(フラットヘッド方式)であり、図8の(c)はインクジェットヘッド30が、透明基材フィルム10上の幅手方向を走査しながらその表面に凸構造部を形成する方法(キャプスタン方式)であり、いずれの方式も用いることができるが、本発明においては、生産性の観点からラインヘッド方式が好ましい。なお、図8の(a)〜(c)に記載の29は、インクとして後述の活性光線硬化型樹脂を用いる場合に使用する活性光線照射部である。
8, (a) of FIG. 8 is a method (line) in which the
また、本発明においては、図8の(a)、(b)、(c)の透明基材フィルムの搬送方向の下流側に、別の活性光線照射部を設けてもよい。 Moreover, in this invention, you may provide another actinic ray irradiation part in the downstream of the conveyance direction of the transparent base film of (a) of FIG. 8, (b), (c).
本発明において、微細な凸構造を形成するため、インク液滴としては0.1〜100plが好ましく、0.1〜50plがより好ましく、0.1〜10plが特に好ましい。上記条件でインク液滴を出射することにより、ドットの長径が1〜30μm、ドットの高さが0.5〜10μmである微細な凸構造を得ることができる。 In the present invention, in order to form a fine convex structure, the ink droplet is preferably 0.1 to 100 pl, more preferably 0.1 to 50 pl, and particularly preferably 0.1 to 10 pl. By ejecting ink droplets under the above conditions, it is possible to obtain a fine convex structure in which the major axis of the dots is 1 to 30 μm and the height of the dots is 0.5 to 10 μm.
また、インク液滴の粘度は、25℃において0.1〜100mPa・sであることが好ましく、更に好ましくは0.1〜50mPa・sである。 The viscosity of the ink droplets is preferably 0.1 to 100 mPa · s at 25 ° C., more preferably 0.1 to 50 mPa · s.
凸構造形成方法は、前述のフレキソ法、インクジェット法に限定されるものではなく、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、平版印刷法等、所望のパターンを形成できる方法であれば何でも良いが、フレキソ印刷法は生産速度が速いこと、微小な凸構造を形成できることから、またインクジェット法は凸構造部の存在パターンをフレキシブルに変更できること、凸構造の断面形状をお椀状に形成でき、透明樹脂層を設けたあとの表面形状をなだらかな凹凸にしやすいこと等で優れている。 The convex structure forming method is not limited to the above-described flexographic method and inkjet method, and any method that can form a desired pattern such as a gravure printing method, a screen printing method, and a lithographic printing method may be used. Because the production method is fast and minute convex structures can be formed, the ink jet method can flexibly change the presence pattern of the convex structures, and the cross-sectional shape of the convex structure can be formed into a bowl shape, and a transparent resin layer is provided. It is excellent in that it is easy to make the surface shape smooth and uneven.
凸構造部は、ドットの長径が1〜30μm、さらに好ましくは3〜10μmであり、ドットの高さが0.5〜10μm、さらに好ましくは、2〜5μmの一定のサイズと高さを有していることが好ましく、ドットの配置は、FMスクリーニング等の方法により、ランダムは配置とされることが好ましい。ここでドットの長径とは、ドットが円形の場合は直径を、三角形、四角形、多角形、不定形の場合は同一面積に換算した直径を表す。ドットの高さとは、基材フィルム面からドットの最も高い部分の高さの差をいう。 The convex structure has a constant size and height of a dot having a major axis of 1 to 30 μm, more preferably 3 to 10 μm, and a dot height of 0.5 to 10 μm, more preferably 2 to 5 μm. It is preferable that the dots are arranged at random by a method such as FM screening. Here, the major axis of the dot represents the diameter when the dot is circular, and the diameter converted into the same area when the dot is triangular, quadrangular, polygonal, or indefinite. The dot height refers to the difference in height between the substrate film surface and the highest dot portion.
FMスクリーニング法とはドットとドットの間隔すなわち周期性(frequency)を変調する(modulate)すること、基本ドットを打つ頻度(ドットの密度)で濃淡を表現する方法である。FMスクリーニング法は、ランダム・スクリーニング法またストカスティック・スクリニーング法と呼ばれることもある。FMスクリーニング法とは、ドットとドットの間隔すなわち周期性を変調する方法を指す。具体的には、クリスタル・ラスター・スクリーニング法(アグファ・ゲバルト社)、ダイヤモンド・スクリーン法(ライノタイプ・ヘル社)、クラス・スクリーニング法およびフルトーン・スクリーニング法(サイテックス社)、ベルベット・スクリーニング法(ウグラ・コーハン社)、アキュトーン・スクリーニング法(ダネリー社)、メガドット・スクリーニング法(アメリカン・カラー社)、クリア・スクリーニング法(シーカラー社)、モネット・スクリーニング法(バルコ社)等が知られている。これら方法はいずれもドット発生のアルゴリズムは異なっているが、ドット密度の変化により濃淡を表現する方法であり、FMスクリーニング法の種々の態様であるということができる。 The FM screening method is a method for expressing light and shade by modulating the interval between dots, that is, the frequency, and the frequency of hitting the basic dots (dot density). The FM screening method is sometimes called a random screening method or a stochastic screening method. The FM screening method refers to a method of modulating the interval between dots, that is, periodicity. Specifically, the crystal raster screening method (Agfa Gebalt), the diamond screen method (Rhinotype Hell), the class screening method and the full-tone screening method (Cytex), the velvet screening method ( Ugura Cohan), Accutone Screening (Dannery), Megadot Screening (American Color), Clear Screening (Seacolor), Monet Screening (Barco) Yes. Although all of these methods have different dot generation algorithms, it is a method of expressing shading by changing the dot density, and can be said to be various aspects of the FM screening method.
FMスクリーニングでは、インクが乗るドットのサイズは一定とし、画像の濃度に応じてドットの出現頻度が変化する。FMスクリーニングにおける各ドットのサイズはいわゆる網点に比べて小さいので、必要とするパターンを高分解能で再現することが可能である。FMスクリーニングにおけるドットは、いわゆる網点とは異なり、ドットの配列が周期的ではない。FMスクリーニングでは、ドットの配列が周期的でないので、モアレは生じないという特徴を持っている。 In FM screening, the size of dots on which ink is placed is constant, and the frequency of dot appearance changes according to the density of the image. Since the size of each dot in FM screening is smaller than a so-called halftone dot, a required pattern can be reproduced with high resolution. Unlike so-called halftone dots, dots in FM screening are not periodically arranged. The FM screening has a feature that moire does not occur because the dot arrangement is not periodic.
《透明樹脂層》
本発明の透明樹脂層は、マイクログラビア法、押出し塗布法、ワイヤーバー法、フレキソ印刷法、インクジェット法等の一般的な薄膜均一塗布法により、塗布することで作製される。透明樹脂層は、前述の凸構造部の上に塗布され、凸構造部を被覆して、凸構造部のみで形成される凹凸をなだらかにして、好ましい表面形状を得ることで、防眩性を発現させることができる。
<Transparent resin layer>
The transparent resin layer of the present invention is produced by coating by a general thin film uniform coating method such as a micro gravure method, an extrusion coating method, a wire bar method, a flexographic printing method, or an ink jet method. The transparent resin layer is coated on the above-described convex structure portion, covers the convex structure portion, and smoothes the irregularities formed only by the convex structure portion, thereby obtaining a preferable surface shape, thereby providing an antiglare property. Can be expressed.
透明樹脂層の厚みは、凸構造部の高さに対し、1〜5μm厚いことが好ましい。また、凸構造部を全面被覆するために、塗布液膜厚は、凸構造部の高さの2倍以上5倍以下であることが好ましい。塗布液膜厚が厚いことにより、凸構造部を完全に覆うことができるが、厚すぎると、乾燥時の乾燥ムラ等の影響を受け、膜厚の均一性が損われる。透明樹脂層に含まれる樹脂の内、50%以上は、凸構造部に用いられる樹脂と同一であることが好ましく、このことにより、凸構造部と透明樹脂層の十分な接着性を確保することができる。 The thickness of the transparent resin layer is preferably 1 to 5 μm thick with respect to the height of the convex structure portion. Further, in order to cover the entire surface of the convex structure portion, the coating liquid film thickness is preferably 2 to 5 times the height of the convex structure portion. The convex structure portion can be completely covered by the thick coating solution film, but if it is too thick, it is affected by drying unevenness during drying and the film thickness uniformity is impaired. Of the resins contained in the transparent resin layer, 50% or more is preferably the same as the resin used for the convex structure portion, and this ensures sufficient adhesion between the convex structure portion and the transparent resin layer. Can do.
本発明の凸構造部及び透明樹脂層用インキは、シリコーンオイル、変性シリコーンオイル、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、フッ素系樹脂、フッ素系オリゴマー、フッ素変性シリコーンオイル、フッ素系シランカップリング剤等の活性剤を0.1質量部以上5質量部以下含有することが好ましい。添加量が多すぎると、撥水撥油効果により透明樹脂層が凸構造部の上に塗布できなくなり、好ましくなく、添加量が少ないと凸構造の形状が一定とならないことがある。界面活性剤量は、インク組成、溶媒組成、下地基材の表面エネルギーにも依存するため、添加されることが必須ではない。 The convex structure and transparent resin layer ink of the present invention are silicone oil, modified silicone oil, silicone surfactant, fluorine surfactant, fluorine resin, fluorine oligomer, fluorine modified silicone oil, fluorine silane cup. It is preferable to contain 0.1 parts by mass or more and 5 parts by mass or less of an activator such as a ring agent. If the addition amount is too large, the transparent resin layer cannot be applied onto the convex structure portion due to the water / oil repellent effect, which is not preferred, and if the addition amount is small, the shape of the convex structure may not be constant. Since the amount of the surfactant depends on the ink composition, the solvent composition, and the surface energy of the base substrate, it is not essential to add the surfactant.
(シリコーンオイルまたはシリコーン界面活性剤)
本発明に用いられるシリコーンオイルは、ケイ素原子に結合した有機基の種類により、ストレートシリコーンオイルと変性シリコーンオイルに大別できる。ストレートシリコーンオイルとは、メチル基、フェニル基、水素原子を置換基として結合したものをいう。変性シリコーンオイルとは、ストレートシリコーンオイルから二次的に誘導された構成部分をもつものである。一方、シリコーンオイルの反応性からも分類することができる。これらをまとめると、以下のようになる。
(Silicone oil or silicone surfactant)
Silicone oils used in the present invention can be broadly classified into straight silicone oils and modified silicone oils depending on the type of organic groups bonded to silicon atoms. Straight silicone oil refers to those bonded with a methyl group, a phenyl group, or a hydrogen atom as a substituent. A modified silicone oil is one having a component that is secondarily derived from a straight silicone oil. On the other hand, it can be classified from the reactivity of silicone oil. These are summarized as follows.
シリコーンオイル
1.ストレートシリコーンオイル
1−1.非反応性シリコーンオイル:ジメチル、メチルフェニル置換等
1−2.反応性シリコーンオイル:メチル水素置換等
2.変性シリコーンオイル
ジメチルシリコーンオイルに、さまざまな有機基を導入することで生まれたものが、変性シリコーンオイル
2−1.非反応性シリコーンオイル:アルキル、アルキル/アラルキル、アルキル/ポリエーテル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル置換等、
アルキル/アラルキル変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を長鎖アルキル基あるいはフェニルアルキル基に置換えたシリコーンオイル、
ポリエーテル変性シリコーンオイルは、親水性のポリオキシアルキレンを疎水性のジメチルシリコーンに導入したシリコーン系高分子界面活性剤、
高級脂肪酸変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を高級脂肪酸エステルに置換えたシリコーンオイル、
アミノ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をアミノアルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、
エポキシ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をエポキシ基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、
カルボキシル変性あるいはアルコール変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をカルボキシル基あるいは水酸基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル
2−2.反応性シリコーンオイル:アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコール置換等
これらの内、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1000〜100000、好ましくは2000〜50000が適当であり、数平均分子量が1000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。
Silicone oil Straight silicone oil 1-1. Non-reactive silicone oil: dimethyl, methylphenyl substitution, etc. 1-2. Reactive silicone oil: methyl hydrogen substitution, etc. Modified silicone oil Modified silicone oil was born by introducing various organic groups into dimethyl silicone oil 2-1. Non-reactive silicone oil: alkyl, alkyl / aralkyl, alkyl / polyether, polyether, higher fatty acid ester substitution, etc.
Alkyl / aralkyl-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of methyl group of dimethyl silicone oil is replaced with a long-chain alkyl group or a phenylalkyl group,
Polyether-modified silicone oil is a silicone-based polymer surfactant in which hydrophilic polyoxyalkylene is introduced into hydrophobic dimethyl silicone,
Higher fatty acid-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of methyl group of dimethyl silicone oil is replaced with higher fatty acid ester,
Amino-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of methyl group of silicone oil is substituted with aminoalkyl group,
The epoxy-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is replaced with an epoxy group-containing alkyl group,
The carboxyl-modified or alcohol-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with a carboxyl group or a hydroxyl group-containing alkyl group 2-2. Reactive silicone oil: amino, epoxy, carboxyl, alcohol substitution, etc. Of these, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2000 to 50,000. If the number average molecular weight is less than 1,000, the drying property of the coating film decreases, and conversely, the number average molecular weight. When it exceeds 100,000, it tends to be difficult to bleed out to the coating surface.
具体的な商品としては、日本ユニカー(株)社のL−45、L−9300、FZ−3704、FZ−3703、FZ−3720、FZ−3786、FZ−3501、FZ−3504、FZ−3508、FZ−3705、FZ−3707、FZ−3710、FZ−3750、FZ−3760、FZ−3785、FZ−3785、Y−7499、信越化学社のKF96L、KF96、KF96H、KF99、KF54、KF965、KF968、KF56、KF995、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、FL100等がある。 As specific products, Nippon Unicar Co., Ltd. L-45, L-9300, FZ-3704, FZ-3703, FZ-3720, FZ-3786, FZ-3501, FZ-3504, FZ-3508, FZ-3705, FZ-3707, FZ-3710, FZ-3750, FZ-3760, FZ-3785, FZ-3785, Y-7499, Shin-Etsu Chemical KF96L, KF96, KF96H, KF99, KF54, KF965, KF968, KF56, KF995, KF351, KF352, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, FL100, and the like.
本発明に用いられるシリコーン界面活性剤は、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換したものを用いることができる。置換の位置は、シリコーンオイルの側鎖、両末端、片末端、両末端側鎖等がある。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、4級塩等がある。 As the silicone surfactant used in the present invention, one obtained by substituting a part of methyl group of silicone oil with a hydrophilic group can be used. The position of substitution includes a side chain of silicone oil, both ends, one end, both end side chains, and the like. Examples of the hydrophilic group include polyether, polyglycerin, pyrrolidone, betaine, sulfate, phosphate, and quaternary salt.
非イオン界面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない界面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン)等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン鎖)が長くなるに従って強くなる。本発明に用いられる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することが好ましい。 A nonionic surfactant is a generic term for surfactants that do not have a group capable of dissociating into ions in an aqueous solution. In addition to a hydrophobic group, a hydrophilic group includes a hydroxyl group of a polyhydric alcohol, a polyoxyalkylene chain (poly Oxyethylene) or the like as a hydrophilic group. The hydrophilicity becomes stronger as the number of alcoholic hydroxyl groups increases and as the polyoxyalkylene chain (polyoxyethylene chain) becomes longer. The nonionic surfactant used in the present invention preferably has dimethylpolysiloxane as a hydrophobic group.
疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、後述する低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。 When a nonionic surfactant composed of a dimethylpolysiloxane having a hydrophobic group and a polyoxyalkylene having a hydrophilic group is used, unevenness of the low refractive index layer, which will be described later, and antifouling properties of the film surface are improved. It is thought that the hydrophobic group made of polymethylsiloxane is oriented on the surface and forms a film surface that is not easily soiled. This effect cannot be obtained by using other surfactants.
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191等が挙げられる。 Specific examples of these nonionic surfactants include, for example, Nippon Unicar Co., Ltd., silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ- 2163, FZ-2164, FZ-2166, FZ-2191 and the like.
また、SUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805等が挙げられる。 Moreover, SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, etc. are mentioned.
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を1つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。 In addition, as a preferable structure of the nonionic surfactant in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene, a dimethylpolysiloxane structure portion and a polyoxyalkylene chain are alternately and repeatedly bonded. It is preferably a linear block copolymer. Since the main chain skeleton has a long chain length and a linear structure, it is excellent. This is considered to be due to the fact that one activator molecule can be adsorbed on the surface of the silica fine particle at a plurality of locations so as to cover the surface of the silica fine particle by being a block copolymer in which hydrophilic groups and hydrophobic groups are alternately repeated.
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208等が挙げられる。 Specific examples thereof include, for example, silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208 and the like manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.
これらのシリコーンオイルまたはシリコーン界面活性剤の中では、ポリエーテル基を有するものが好ましい。 Among these silicone oils or silicone surfactants, those having a polyether group are preferred.
上記インキの屈折率は、1.35〜1.9の範囲で選択することができる。インキの透過率は、80%以上、好ましくは90%以上であることが好ましい。 The refractive index of the ink can be selected in the range of 1.35 to 1.9. The ink transmittance is 80% or more, preferably 90% or more.
インキの粘度は測定温度40℃において、0.1〜10Pa・sであることが好ましく、0.5〜8Pa・sの範囲が更に好ましい。粘度が0.1Pa・s未満の場合は粘度が低過ぎて所望の形状のパターンが得られなくなり、10Pa・sを超えるとインキの流動性が悪くインキの転移性も低下する為好ましくない。インキの粘度の測定は、JIS Z 8809に規定されている粘度計校正用標準液で検定されたものであれば特に制限はなく、回転式、振動式や細管式の粘度計を用いることが出来る。粘度計としては、Saybolt粘度計、Redwood粘度計等で測定出来、例えば、トキメック社製、円錐平板型E型粘度計、東機産業社製のE Type Viscometer(回転粘度計)、東京計器社製のB型粘度計BL、山一電機社製のFVM−80A、Nametore工業社製のViscoliner、山一電気社製のVISCO MATE MODEL VM−1A等を挙げることが出来る。 The viscosity of the ink is preferably 0.1 to 10 Pa · s, more preferably 0.5 to 8 Pa · s at a measurement temperature of 40 ° C. If the viscosity is less than 0.1 Pa · s, the viscosity is too low to obtain a pattern having a desired shape, and if it exceeds 10 Pa · s, the fluidity of the ink is poor and the transferability of the ink is also unfavorable. The viscosity of the ink is not particularly limited as long as it is tested with a viscometer calibration standard solution specified in JIS Z 8809, and a rotary, vibration or capillary type viscometer can be used. . As a viscometer, it can be measured with a Saybolt viscometer, a Redwood viscometer, etc., for example, Tokimec Co., Ltd., conical plate type E type viscometer, Toki Sangyo E Type Viscometer, manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd. B-type viscometer BL, Yamaichi Denki Co., Ltd. FVM-80A, Nametor Kogyo Viscoliner, Yamaichi Denki Co., Ltd. VISCO MATE MODEL VM-1A, and the like.
本発明の凸構造部用インキ及び透明樹脂層に好ましく用いられる活性光線硬化型樹脂について説明する。 The actinic ray curable resin preferably used for the convex structure portion ink and transparent resin layer of the present invention will be described.
活性光線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性光線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性光線硬化型樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性光線照射によって硬化する樹脂でもよい。 The actinic ray curable resin is a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams. Typical examples of the actinic ray curable resin include an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, and the like, but a resin that is cured by irradiation with actinic rays other than ultraviolet rays and electron beams may be used.
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。 Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable acrylic urethane resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, and an ultraviolet curable epoxy resin. I can do it.
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭59−151110号に記載の、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。 UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) described in JP-A-59-151110 is preferably used. .
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る(例えば、特開昭59−151112号公報)。 An ultraviolet curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, or acrylic acid with a hydroxyl group or carboxyl group at the end of the polyester (see, for example, JP-A No. 59-151112).
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。 The ultraviolet curable epoxy acrylate resin is obtained by reacting a terminal hydroxyl group of an epoxy resin with a monomer such as acrylic acid, acrylic acid chloride, or glycidyl acrylate.
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。 Examples of ultraviolet curable polyol acrylate resins include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipenta. Examples include erythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate.
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、好ましく用いられるエポキシ系活性光線反応性化合物を示す。 As examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin and the ultraviolet curable epoxy resin, preferred examples of the epoxy actinic ray reactive compound are shown.
(a)ビスフェノールAのグリシジルエーテル(この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールAとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる)
(b)ビスフェノールA等のフェノール性OHを2個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び/またはプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
(c)4,4′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
(d)ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
(e)脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)オキザレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−シクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−1′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−6′−メチル−1′−シクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5′,5′−スピロ−3″,4″−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
(f)2塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
(g)グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)ジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
(h)ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
(i)多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
(j)2−フルオロアルキル−1,2−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
(k)含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることが出来る。
(A) Glycidyl ether of bisphenol A (this compound is obtained as a mixture having different degrees of polymerization by reaction of epichlorohydrin and bisphenol A)
(B) A compound having a glycidyl ether group by reacting epichlorohydrin, ethylene oxide and / or propylene oxide with a compound having two phenolic OHs such as bisphenol A. (c) Glycidyl ether of 4,4'-methylenebisphenol (D) Epoxy compound of phenol formaldehyde resin of novolak resin or resol resin (e) Compound having alicyclic epoxide, for example, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) oxalate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ) Adipate, bis (3,4-epoxy-6-cyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl pimelate), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxy Rhohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methyl-cyclohexylmethyl-3', 4'-epoxy-1 '-Methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-6-methyl-cyclohexylmethyl-3', 4'-epoxy-6'-methyl-1'-cyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl- 5 ', 5'-spiro-3 ", 4" -epoxy) cyclohexane-meta-dioxane (f) diglycidyl ethers of dibasic acids such as diglycidyl oxalate, diglycidyl adipate, diglycidyl tetrahydrophthalate, di Glycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl Phthalate (g) Diglycidyl ether of glycol, such as ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, copoly (ethylene glycol-propylene glycol) di Glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether (h) Glycidyl ester of polymer acid, for example, polyglycidyl ester of polyacrylic acid, polyester diglycidyl ester (i) Polyhydric alcohol Glycidyl ethers such as glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglyceride Dil ether, pentaerythritol diglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, glucose triglycidyl ether (j) As diglycidyl ether of 2-fluoroalkyl-1,2-diol, the low refractive index substance (K) Examples of the fluorine-containing alkane-terminated diol glycidyl ether include fluorine-containing epoxy compounds of the fluorine-containing resin of the low refractive index material, and the like. I can do it.
上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として2000以下で、好ましくは1000以下である。 The molecular weight of the said epoxy compound is 2000 or less as an average molecular weight, Preferably it is 1000 or less.
上記のエポキシ化合物を活性光線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、(h)または(i)の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。 When the above epoxy compound is cured with actinic rays, it is effective to use a compound having a polyfunctional epoxy group (h) or (i) in order to increase the hardness.
エポキシ系活性光線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、活性光線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。 The photopolymerization initiator or photosensitizer for cationically polymerizing an epoxy actinic light-reactive compound is a compound capable of releasing a cationic polymerization initiating substance upon irradiation with actinic light, and particularly preferably, cationic polymerization is initiated by irradiation. A group of double salts of onium salts that release potent Lewis acids.
活性光線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性光線反応性樹脂である。 The actinic ray-reactive compound epoxy resin forms a polymerized, crosslinked structure or network structure not by radical polymerization but by cationic polymerization. Unlike radical polymerization, it is a preferable actinic ray reactive resin because it is not affected by oxygen in the reaction system.
本発明に有用な活性光線反応性エポキシ樹脂は、活性光線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。 The actinic ray-reactive epoxy resin useful in the present invention is polymerized by a photopolymerization initiator or a photosensitizer that releases a substance that initiates cationic polymerization upon irradiation with actinic rays. As the photopolymerization initiator, a group of double salts of onium salts that release a Lewis acid that initiates cationic polymerization by light irradiation is particularly preferable.
かかる代表的なものは下記一般式(a)で表される化合物である。 A typical example is a compound represented by the following general formula (a).
一般式(a)
〔(R1)a(R2)b(R3)c(R4)dZ〕w+〔MeXv〕w-
式中、カチオンはオニウムであり、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、ハロゲン(例えば、I、Br、Cl)、またはN=N(ジアゾ)であり、R1、R2、R3、R4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。a、b、c、dはそれぞれ0〜3の整数であって、a+b+c+dはZの価数に等しい。Meはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属(metalloid)であり、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲンであり、wはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、vはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
Formula (a)
[(R 1 ) a (R 2 ) b (R 3 ) c (R 4 ) d Z] w + [MeX v ] w-
In the formula, the cation is onium, Z is S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, halogen (eg, I, Br, Cl), or N = N (diazo), and R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are organic groups which may be the same or different. a, b, c, and d are each an integer of 0 to 3, and a + b + c + d is equal to the valence of Z. Me is a metal or metalloid which is a central atom of a halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co, etc. X is halogen, w is the net charge of the halogenated complex ion, and v is the number of halogen atoms in the halogenated complex ion.
上記一般式(a)の陰イオン〔MeXv〕w-の具体例としては、テトラフルオロボレート(BF4 -)、テトラフルオロホスフェート(PF4 -)、テトラフルオロアンチモネート(SbF4 -)、テトラフルオロアルセネート(AsF4 -)、テトラクロロアンチモネート(SbCl4 -)等を挙げることが出来る。 Specific examples of the anion [MeX v ] w− of the general formula (a) include tetrafluoroborate (BF 4 − ), tetrafluorophosphate (PF 4 − ), tetrafluoroantimonate (SbF 4 − ), tetra Examples thereof include fluoroarsenate (AsF 4 − ) and tetrachloroantimonate (SbCl 4 − ).
また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン(ClO4 -)、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CF3SO3 -)、フルオロスルホン酸イオン(FSO3 -)、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることが出来る。 Other anions include perchlorate ion (ClO 4 − ), trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 − ), fluorosulfonate ion (FSO 3 − ), toluenesulfonate ion, and trinitrobenzene acid anion. An ion etc. can be mentioned.
この様なオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭50−151996号、同50−158680号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50−151997号、同52−30899号、同59−55420号、同55−125105号等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭56−8428号、同56−149402号、同57−192429号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭49−17040号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655号等に記載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることが出来る。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することが出来る。 Among such onium salts, it is particularly effective to use an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator. Among them, aromatic halonium salts described in JP-A-50-151996, 50-158680, etc. VIA group aromatic onium salts described in Kaisho 50-151997, 52-30899, 59-55420, 55-125105, JP-A-56-8428, 56-149402, Preference is given to oxosulfoxonium salts described in JP-A-57-192429, aromatic diazonium salts described in JP-B-49-17040, thiopyrilum salts described in US Pat. No. 4,139,655, and the like. Moreover, an aluminum complex, a photodegradable silicon compound type | system | group polymerization initiator, etc. can be mentioned. The cationic polymerization initiator can be used in combination with a photosensitizer such as benzophenone, benzoin isopropyl ether, or thioxanthone.
また、エポキシアクリレート基を有する活性光線反応性化合物の場合は、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることが出来る。この活性光線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物100質量部に対して0.1質量部〜15質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは1質量部〜10質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。 In the case of an actinic ray reactive compound having an epoxy acrylate group, a photosensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photosensitizer and photoinitiator used for the actinic ray reactive compound are sufficient to initiate the photoreaction at 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet reactive compound, Preferably they are 1 mass part-10 mass parts. The sensitizer preferably has an absorption maximum from the near ultraviolet region to the visible light region.
本発明に有用な活性光線硬化型樹脂組成物において、光重合開始剤は、一般的には、活性光線硬化性エポキシ樹脂(プレポリマー)100質量部に対して0.1質量部〜15質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、1質量部〜10質量部の範囲の添加が好ましい。 In the actinic ray curable resin composition useful in the present invention, the photopolymerization initiator is generally 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the actinic ray curable epoxy resin (prepolymer). Is more preferable, and addition of 1 mass part-10 mass parts is more preferable.
また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することも出来、この場合、活性光線ラジカル重合開始剤と活性光線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。 An epoxy resin can be used in combination with the urethane acrylate type resin, polyether acrylate type resin, or the like. In this case, it is preferable to use an actinic ray radical polymerization initiator and an actinic ray cationic polymerization initiator in combination.
また、本発明では、オキセタン化合物を用いることも出来る。用いられるオキセタン化合物は、酸素または硫黄を含む3員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、3,3−ビス(クロルメチル)オキセタン、3,3−ビス(ヨードメチル)オキセタン、3,3−ビス(メトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フェノキシメチル)オキセタン、3−メチル−3クロルメチルオキセタン、3,3−ビス(アセトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フルオロメチル)オキセタン、3,3−ビス(ブロモメチル)オキセタン、3,3−ジメチルオキセタン等が挙げられる。尚、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。 In the present invention, an oxetane compound can also be used. The oxetane compound used is a compound having a three-membered oxetane ring containing oxygen or sulfur. Among them, a compound having an oxetane ring containing oxygen is preferable. The oxetane ring may be substituted with a halogen atom, a haloalkyl group, an arylalkyl group, an alkoxyl group, an allyloxy group, or an acetoxy group. Specifically, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (iodomethyl) oxetane, 3,3-bis (methoxymethyl) oxetane, 3,3-bis (phenoxymethyl) oxetane, 3-methyl -3 chloromethyloxetane, 3,3-bis (acetoxymethyl) oxetane, 3,3-bis (fluoromethyl) oxetane, 3,3-bis (bromomethyl) oxetane, 3,3-dimethyloxetane and the like. In the present invention, any of a monomer, an oligomer and a polymer may be used.
本発明で用いることの出来る紫外線硬化性樹脂の具体例としては、例えば、アデカオプトマーKR、BYシリーズのKR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(以上、旭電化工業(株)製)、コーエイハードのA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(以上、広栄化学工業(株)製)、セイカビームのPHC2210(S)、PHCX−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上、大日精化工業(株)製)、KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(以上、ダイセル・ユーシービー(株))、RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(以上、大日本インキ化学工業(株)製)、オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製)、サンラッド H−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(以上、三洋化成工業(株)製)、SP−1509、SP−1507(以上、昭和高分子(株)製)、RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(以上、東亞合成(株)製)、またはその他の市販のものから適宜選択して利用することが出来る。 Specific examples of the ultraviolet curable resin that can be used in the present invention include, for example, Adekaoptomer KR, BY series KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B. (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T -102, D-102, NS-101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), Seika Beam PHC2210 (S), PHCX -9 (K-3), PHC2213, DP-10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, CR900 (above, manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.), KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (above, Daicel UCB), RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC -5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120, RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (above, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), Aurex No. 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.), Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (above, Sanyo Chemical Industries, Ltd.) , SP-1509, SP-1507 (above, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), RCC-15C (produced by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (above, Toagosei Co., Ltd.) (Made by Co., Ltd.), or other commercially available products.
また、活性光線硬化型樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。 Further, when an ultraviolet curable resin is used as the actinic ray curable resin, an ultraviolet absorber may be included in the ultraviolet curable resin composition to the extent that does not hinder the photocuring of the ultraviolet curable resin. As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。 Specific examples of ultraviolet absorbers preferably used in the present invention include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, and the like. However, it is not limited to these.
本発明に係るインキには、SnO2、ITO、ZnO等の導電性微粒子や架橋カチオンポリマー粒子等の帯電防止剤を含有させることも好ましい。本発明では帯電防止剤を透明樹脂層に添加することが好ましい。 The ink according to the present invention preferably contains an antistatic agent such as conductive fine particles such as SnO 2 , ITO, ZnO, and crosslinked cationic polymer particles. In the present invention, it is preferable to add an antistatic agent to the transparent resin layer.
本発明において、屈折率を調整するのにインキ中に微粒子を含有させることも好ましく、例えば、無機微粒子または有機微粒子を添加することが出来る。 In the present invention, it is also preferable to contain fine particles in the ink for adjusting the refractive index. For example, inorganic fine particles or organic fine particles can be added.
無機微粒子としては、例えば、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。これらは球状、平板状、無定形状等の形状の粒子が挙げられる。 Examples of the inorganic fine particles include silicon-containing compounds, silicon dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and Calcium phosphate and the like are preferable, and an inorganic compound containing silicon and zirconium oxide are more preferable, and silicon dioxide is particularly preferably used. These include particles having a shape such as a spherical shape, a flat plate shape, and an amorphous shape.
二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)等の市販品が使用出来る。 As the fine particles of silicon dioxide, for example, commercially available products such as Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used.
酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)等の市販品が使用出来る。 As the fine particles of zirconium oxide, commercially available products such as Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used.
また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、またはポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることが出来る。 The organic fine particles include polymethacrylate methyl acrylate resin fine particles, acrylic styrene resin fine particles, polymethyl methacrylate resin fine particles, silicon resin fine particles, polystyrene resin fine particles, polycarbonate resin fine particles, benzoguanamine resin fine particles, and melamine resin. Examples thereof include fine particles, polyolefin resin fine particles, polyester resin fine particles, polyamide resin fine particles, polyimide resin fine particles, and polyfluoroethylene resin fine particles.
本発明では、凸構造部が上記微粒子を含有することが好ましく、その平均粒径は、5〜300nmが好ましく、更に好ましくは20〜100nmである。粒径や屈折率の異なる2種以上の微粒子を含有させてもよい。また、含有量は凸構造部に対し5〜50質量%であることが好ましい。 In this invention, it is preferable that a convex structure part contains the said microparticles | fine-particles, and the average particle diameter has preferable 5-300 nm, More preferably, it is 20-100 nm. You may contain 2 or more types of microparticles | fine-particles from which a particle size and refractive index differ. Moreover, it is preferable that content is 5-50 mass% with respect to a convex structure part.
本発明において、凸構造部もしくは透明樹脂層が活性光線硬化型樹脂を含む場合、活性光線の照射方法としては、インキを透明基体上に転移印刷させ、溶媒等を蒸発させた後、活性光線を照射することが好ましい。照射のタイミングは形成するパターン形状を考慮して決定することが出来、例えば、インクが無溶媒の場合は、転移印刷直後〜2min後に照射すること、またインクが溶媒を含む場合はインク中の溶媒が揮発し終った直後〜2min後に照射することが出来る。 In the present invention, when the convex structure portion or the transparent resin layer contains an actinic ray curable resin, the actinic ray irradiation method includes transferring the ink onto the transparent substrate, evaporating the solvent, and the like, Irradiation is preferred. The timing of irradiation can be determined in consideration of the pattern shape to be formed. For example, when the ink is solvent-free, irradiation is performed immediately after transfer printing to 2 minutes later, and when the ink includes a solvent, the solvent in the ink Irradiation can be performed immediately after evaporating to 2 min.
本発明でいうインキを透明基体上に転移印刷、もしくはインク中の溶媒が揮発し終った直後とは、具体的にはインキが転移印刷後から5秒までの間をさす。また、活性光線の照射は、インキの流動性を低下させ、所望のパターン形状が形成出来る程度に照射すればよく、ハーフキュア状態でもよい。この場合には、別途下流側に設置した活性光源を照射して、完全に硬化させることが出来る。本発明では凸構造部の形成及び透明樹脂層の形成に活性線硬化樹脂を使用することが好ましい。 The term “immediately after transfer printing of the ink in the present invention onto the transparent substrate, or immediately after the solvent in the ink has been volatilized” specifically refers to a period of 5 seconds after the ink is transferred. Irradiation with actinic rays may be performed to such an extent that the fluidity of the ink is lowered and a desired pattern shape can be formed, and a half-cured state may be used. In this case, it can be cured completely by irradiating an active light source separately installed on the downstream side. In the present invention, it is preferable to use an actinic radiation curable resin for forming the convex structure and forming the transparent resin layer.
本発明に使用することが出来る活性光線としては、紫外線、電子線、γ線等で、パターン状に形成された活性光線硬化型樹脂を活性化させる光源であれば制限なく使用出来るが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は1mJ/cm2以上が好ましく、更に好ましくは、20mJ/cm2〜10000mJ/cm2であり、特に好ましくは、50mJ/cm2〜2000mJ/cm2である。 The actinic ray that can be used in the present invention can be used without limitation as long as it is a light source that activates the actinic ray curable resin formed in a pattern with ultraviolet rays, electron beams, γ rays, etc. Electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferable in that they are easy to handle and high energy can be easily obtained. As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the amount of irradiation light is preferably 1 mJ / cm 2 or more, more preferably 20 mJ / cm 2 to 10000 mJ / cm 2 , and particularly preferably 50 mJ / cm 2 to 2000 mJ / cm 2. It is.
また、電子線も同様に使用出来る。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることが出来る。 Moreover, an electron beam can be used similarly. As an electron beam, 50 to 1000 keV, preferably 100 to 100, emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. An electron beam having an energy of 300 keV can be given.
本発明においては、活性線照射の時の雰囲気中の酸素濃度が10%以下、特に1%以下であることが好ましい。該雰囲気にするには窒素ガス等を導入することが有効である。 In the present invention, the oxygen concentration in the atmosphere at the time of active ray irradiation is preferably 10% or less, particularly preferably 1% or less. In order to obtain this atmosphere, it is effective to introduce nitrogen gas or the like.
また、本発明においては、活性光線の硬化反応を効率的に進めるため、基材フィルム等を加熱することも出来る。加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、或いは転移印刷したインキ表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、フレキソ印刷部の基材フィルムを挟んで反対側に用いられるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。 Moreover, in this invention, in order to advance the hardening reaction of actinic light efficiently, a base film etc. can also be heated. The heating method is not particularly limited, but it is preferable to use a heat plate, a heat roll, a thermal head, or a method such as spraying hot air on the surface of transfer-printed ink. Moreover, you may heat continuously by using the back roll used on the opposite side across the base film of a flexographic printing part as a heat roll.
加熱温度としては、使用する活性光線硬化型樹脂の種類により一概には規定出来ないが、基材フィルムへの熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、30〜200℃が好ましく、更に50〜120℃が好ましく、特に好ましくは70〜100℃である。 The heating temperature cannot be generally specified depending on the type of actinic ray curable resin to be used, but is preferably in a temperature range that does not affect the base film such as thermal deformation, and is preferably 30 to 200 ° C. Furthermore, 50-120 degreeC is preferable, Most preferably, it is 70-100 degreeC.
次いで、本発明の凸構造部もしくは透明樹脂層用のインキに使用することのできる熱硬化性樹脂について説明する。 Next, a thermosetting resin that can be used for the convex structure portion or the ink for the transparent resin layer of the present invention will be described.
本発明で用いることの出来る熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることが出来る。 Examples of the thermosetting resin that can be used in the present invention include unsaturated polyester resins, epoxy resins, vinyl ester resins, phenol resins, thermosetting polyimide resins, thermosetting polyamide imides, and the like.
不飽和ポリエステル樹脂としては、例えば、オルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは被膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂(ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど)を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Br2でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはIPN化した強靭性(高強度、高弾性率、高伸び率)の強靭性樹脂等がある。 As the unsaturated polyester resin, for example, orthophthalic acid resin, isophthalic acid resin, terephthalic acid resin, bisphenol resin, propylene glycol-maleic acid resin, dicyclopentadiene or derivatives thereof are introduced into the unsaturated polyester composition. Low styrene volatile resin with low molecular weight or added film-forming wax compound, low shrinkage with thermoplastic resin (polyvinyl acetate resin, styrene / butadiene copolymer, polystyrene, saturated polyester, etc.) Resin, unsaturated polyester brominated directly with Br 2 , or reactive type such as copolymerization of het acid or dibromoneopentyl glycol, halides such as chlorinated paraffin, tetrabromobisphenol and antimony trioxide, phosphorus Compound combinations Additive-type flame retardant resin that uses sesame or aluminum hydroxide as an additive, toughness resin that is hybridized with polyurethane or silicone, or toughened with IPN (high strength, high elastic modulus, high elongation), etc. is there.
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールF型、臭素化ビスフェノールA型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。 Examples of the epoxy resin include glycidyl ether type epoxy resins including bisphenol A type, novolak phenol type, bisphenol F type, brominated bisphenol A type, glycidyl amine type, glycidyl ester type, cyclic aliphatic type, and heterocyclic epoxy type. Special epoxy resins containing
ビニルエステル樹脂としては、例えば、普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーをスチレン等のモノマーに溶解した物である。また、分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えば、ビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としてはビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。 As the vinyl ester resin, for example, an oligomer obtained by ring-opening addition reaction of an ordinary epoxy resin and an unsaturated monobasic acid such as methacrylic acid is dissolved in a monomer such as styrene. There are also special types such as vinyl monomers having vinyl groups at the molecular ends and side chains. Examples of vinyl ester resins of glycidyl ether type epoxy resins include bisphenol type, novolak type, brominated bisphenol type, etc., and special vinyl ester resins include vinyl ester urethane type, isocyanuric acid vinyl type, side chain vinyl ester type, etc. There is.
フェノール樹脂は、フェノール類とフォルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。 The phenol resin is obtained by polycondensation using phenols and formaldehyde as raw materials, and there are a resol type and a novolac type.
熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えば、マレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・O,O′−ジアリルビスフェノール−A樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。 Examples of thermosetting polyimide resins include maleic acid-based polyimides such as polymaleimide amine, polyamino bismaleimide, bismaleimide / O, O'-diallyl bisphenol-A resin, bismaleimide / triazine resin, and nadic acid-modified polyimide. And acetylene-terminated polyimide.
また、上述した活性光線硬化型樹脂の一部も、熱硬化性樹脂として用いることが出来る。 A part of the actinic ray curable resin described above can also be used as a thermosetting resin.
尚、本発明に用いられる熱硬化性樹脂からなるインキには、活性光線硬化型樹脂を含むインキに記載した酸化防止剤や紫外線吸収剤を適宜用いてもよい。 In addition, you may use suitably the antioxidant and ultraviolet absorber which were described in the ink containing actinic-light curable resin for the ink which consists of a thermosetting resin used for this invention.
本発明において、フレキソ印刷により形成したパターンが熱硬化性樹脂を含む場合、加熱方法としては、インキを基材フィルム上に転移印刷させた直後に加熱処理を行うことが好ましい。 In the present invention, when the pattern formed by flexographic printing contains a thermosetting resin, the heating method is preferably performed immediately after the ink is transferred onto the base film.
本発明でいうインキを基材フィルム上に転移印刷させた直後とは、具体的にはインキが転移印刷と同時または5秒以内に加熱が開始されることが好ましく、予め基材フィルムの温度を上げておくことが出来る。例えば、基材フィルムをヒートロール上に巻き付けて、これにインキを転移印刷させることが出来、より好ましくは転移印刷と同時または2秒の間である。また、ノズル部と加熱部の距離が接近し過ぎて、熱がヘッド部に伝達すると、ノズル部での硬化によりノズル詰まりを起こすため注意が必要である。また、必要に応じて加熱間隔が5秒を超えることによって、転移印刷したインキの流動、変形させなだらかな微細凹凸構造を得ることも出来る。 The term “immediately after the transfer transfer of the ink in the present invention on the base film” is specifically preferably the heating of the ink at the same time as the transfer printing or within 5 seconds. Can be raised. For example, the base film can be wound on a heat roll, and ink can be transferred onto the heat roll, and more preferably at the same time as the transfer printing or between 2 seconds. In addition, if the distance between the nozzle part and the heating part is too close and heat is transferred to the head part, the nozzle part is clogged due to curing at the nozzle part, so care must be taken. Further, if the heating interval exceeds 5 seconds as necessary, a smooth fine concavo-convex structure can be obtained by causing the flow-printed ink to flow and deform.
加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、或いは転移印刷したインキ表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、フレキソ印刷部の基材フィルムを挟んで反対側に設けるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。加熱温度としては、使用する熱硬化性樹脂の種類により一概には規定出来ないが、透明基材への熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、30〜200℃が好ましく、更に50〜120℃が好ましく、特に好ましくは70〜100℃である。 The heating method is not particularly limited, but it is preferable to use a heat plate, a heat roll, a thermal head, or a method such as spraying hot air on the surface of transfer-printed ink. In addition, the back roll provided on the opposite side with the base film of the flexographic printing unit interposed therebetween may be continuously heated as a heat roll. The heating temperature cannot be generally defined by the type of thermosetting resin to be used, but is preferably in a temperature range that does not affect the heat deformation of the transparent substrate, preferably 30 to 200 ° C, Furthermore, 50-120 degreeC is preferable, Especially preferably, it is 70-100 degreeC.
本発明に係るインキにおいては、凸構造部もしくは透明樹脂層作製のため、上述した活性光線硬化型樹脂、熱硬化性樹脂のいずれも用いることが出来るが、好ましくは活性光線硬化型樹脂を用いることである。 In the ink according to the present invention, any of the above-mentioned actinic ray curable resins and thermosetting resins can be used for producing the convex structure or the transparent resin layer, but preferably an actinic ray curable resin is used. It is.
本発明に係る上記インキには、必要に応じて0〜99.9質量%の溶媒を含有させることが出来る。例えば、水系溶媒に前記活性光線硬化型樹脂モノマー成分、或いは熱硬化性樹脂モノマー成分を溶解もしくは分散させてもよく、或いは有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒は低沸点のものでも高沸点のものでも適宜選択して用いることが出来、これらの溶媒の添加量や種類、組成はインキの粘度を調整するため適宜調整することが好ましい。 The ink according to the present invention may contain 0 to 99.9% by mass of a solvent as necessary. For example, the actinic ray curable resin monomer component or the thermosetting resin monomer component may be dissolved or dispersed in an aqueous solvent, or an organic solvent may be used. An organic solvent having a low boiling point or a high boiling point can be appropriately selected and used, and the addition amount, type and composition of these solvents are preferably adjusted appropriately in order to adjust the viscosity of the ink.
本発明に係るインキで用いることが出来る溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;ジアセトンアルコール等のケトンアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;N−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げられ、それらを単独または2種以上混合して使用することが出来る。また、分子内にエーテル結合をもつものが特に好ましく、グリコールエーテル類も好ましく用いられる。 Examples of the solvent that can be used in the ink according to the present invention include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, and butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; ketones such as diacetone alcohol Alcohols; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol; ethyl cellsolve, butylcellsolve, ethylcarbitol, butylcarbitol, diethylcellsolve, Glycol ethers such as diethyl carbitol and propylene glycol monomethyl ether; N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, amino acetate Esters and the like; dimethyl ether, and diethyl ether, water and the like, they can be used alone or in combination. Further, those having an ether bond in the molecule are particularly preferred, and glycol ethers are also preferably used.
グリコールエーテル類としては、具体的には下記の溶媒が挙げられるが、特にこれらに限定されない。プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルAc、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルAc、エチレングリコールジエチルエーテル等を挙げることが出来る、尚Acはアセテートを表す。本発明に係るインキにおいては、上記溶媒の中でも、沸点が100℃未満の溶媒が好ましく用いられる。これらの溶媒は、転移印刷後に所望のパターン形状が維持される程度に速やかに揮発、乾燥されることが望ましい。或いは揮発性の異なる溶媒を混合してその比率を変更することでパターン形状を制御することも出来る。 Specific examples of glycol ethers include, but are not limited to, the following solvents. Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether Ac, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether Ac, ethylene glycol Examples thereof include diethyl ether, and Ac represents acetate. In the ink according to the present invention, among the above solvents, a solvent having a boiling point of less than 100 ° C. is preferably used. These solvents are desirably volatilized and dried as quickly as desired pattern shape is maintained after transfer printing. Alternatively, the pattern shape can be controlled by mixing different volatile solvents and changing the ratio.
透明樹脂層は、上記凸構造部の項で詳細に説明した活性光線硬化型樹脂、光重合開始剤、熱可塑性樹脂、光反応開始剤、光増感剤、紫外線吸収剤、微粒子、熱硬化性樹脂、溶媒を適宜用いてハードコート塗布組成物を調製することが出来、更に任意の塗布方法により凸構造部の上に塗布を行う。 The transparent resin layer is an actinic ray curable resin, photopolymerization initiator, thermoplastic resin, photoreaction initiator, photosensitizer, ultraviolet absorber, fine particles, thermosetting, which has been described in detail in the above-mentioned convex structure section. A hard coat coating composition can be prepared by appropriately using a resin and a solvent, and coating is performed on the convex structure portion by any coating method.
透明樹脂層の塗布方法は特に限定されるものではないが、前記ハードコート塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法、フレキソ印刷法等公知の方法で塗設することが好ましい。 The coating method of the transparent resin layer is not particularly limited, but the hard coat coating composition is a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, an ink jet method, or a flexographic printing method. It is preferable to coat.
図9は基材フィルム上に凸構造部をパターン状に形成し、更に透明樹脂層を塗布することで、凸構造部と凸構造部の無い部分の両者を透明樹脂層が覆うことで、なだらかな凹凸が形成される様子を示した模式図である。 FIG. 9 shows that a convex structure is formed on a base film in a pattern, and a transparent resin layer is further applied so that the transparent resin layer covers both the convex structure and the portion without the convex structure. It is the schematic diagram which showed a mode that various unevenness | corrugations were formed.
本発明の透明樹脂層表面の凹凸構造の表面粗さ(Ra)は、50〜1000nm、さらに好ましくは、100〜500nmである。また透明樹脂層表面の凹凸構造の平均中心間距離(Sm)は10〜200μmであることが好ましく、さらに好ましくは10〜50μmである。これらの範囲を超えると防眩効果とコントラストを両立させることが難しくなる。上記Ra、Smは、凸構造部の高さ、凸構造パターンの配置や透明樹脂層の厚みの調整、透明樹脂層に使用するインク組成物の粘度等の物性調整等により制御することが出来る。 The surface roughness (Ra) of the concavo-convex structure on the surface of the transparent resin layer of the present invention is 50 to 1000 nm, more preferably 100 to 500 nm. Moreover, it is preferable that the average center distance (Sm) of the uneven structure of the transparent resin layer surface is 10-200 micrometers, More preferably, it is 10-50 micrometers. Beyond these ranges, it becomes difficult to achieve both an antiglare effect and contrast. The Ra and Sm can be controlled by adjusting the height of the convex structure, the arrangement of the convex structure pattern, the thickness of the transparent resin layer, the physical properties such as the viscosity of the ink composition used for the transparent resin layer, and the like.
本発明の凸構造部と透明樹脂層の屈折率は異なることが特徴である。両者の屈折率は、0.02〜0.2異なることが好ましく、0.03〜0.1異なることがさらに好ましい。凸構造部の屈折率が、透明樹脂層の屈折率より高いことが好ましく、このことにより、本発明の防眩層において、内部散乱を生じ、ディスプレイから発される透過光が、部分的に集光されて、視角的にギラついて見えることを防ぐことができる。凸構造部の屈折率を透明樹脂層より高めるための手段としては、高屈折率樹脂を含有させる方法、樹脂中に高屈折率微粒子を添加する方法がある。 A feature of the present invention is that the convex structures and the transparent resin layer have different refractive indexes. The refractive indexes of the two are preferably different from 0.02 to 0.2, and more preferably from 0.03 to 0.1. The refractive index of the convex structure portion is preferably higher than the refractive index of the transparent resin layer, which causes internal scattering in the antiglare layer of the present invention, and the transmitted light emitted from the display is partially collected. It is possible to prevent the light from being seen and glancing from a visual angle. As means for increasing the refractive index of the convex structure portion from the transparent resin layer, there are a method of containing a high refractive index resin and a method of adding high refractive index fine particles to the resin.
図10は、基材フィルム上に形成された本発明に好ましい透明樹脂層による上記凹凸構造の模式図である。 FIG. 10 is a schematic view of the concavo-convex structure formed by a transparent resin layer preferable for the present invention formed on a base film.
図10(a)は微細凹凸構造の斜視図であり、(b)は断面図である。表面粗さ(Ra)を求める時の凸部の高さは図中eで示されるものであり凸部と凹部との高低差をいう。透明樹脂層表面の凹凸構造は市販の触針式表面粗さ測定機或いは市販の光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定することが出来る。例えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、一定の範囲内について凹凸を2次元的に測定し、凹凸を底部側より等高線のごとく色分けして表示する。ここで各微細凹凸構造の隣接する凹部底を基準としたその高さを求め平均値とする。 FIG. 10A is a perspective view of the fine concavo-convex structure, and FIG. 10B is a cross-sectional view. The height of the convex portion when the surface roughness (Ra) is determined is indicated by e in the figure and refers to the height difference between the convex portion and the concave portion. The uneven structure on the surface of the transparent resin layer can be measured by a commercially available stylus type surface roughness measuring machine or a commercially available optical interference type surface roughness measuring machine. For example, the unevenness is measured two-dimensionally within a certain range by an optical interference type surface roughness measuring device, and the unevenness is color-coded as contour lines from the bottom side and displayed. Here, the height of each fine concavo-convex structure on the basis of the adjacent concave bottom is obtained and used as an average value.
隣り合う凸部又は凹部間の平均中心間距離(Sm)は、JIS B0601中で輪郭要素曲線の平均長さとして定義されるものと同一であり、図中g(この場合は凸部)で表されるが、凸部又は凹部の頂点を該凸部又は凹部の中心とし、隣り合う凸部又は凹部中心間の距離を平均したものである。凸部又は凹部間の平均距離は触針式表面粗さ測定機などにより測定出来、例えばダイヤモンドからなる先端部を頂角55度の円錐形とした直径1mmの測定針を介して微細凹凸構造面上を一定方向に走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線として知見を得ることが出来、その結果より凸部又は凹部間の距離を測定し平均値を求めることが出来る。或いは前述のごとく光学干渉式表面粗さ測定機によっても測定することが出来る。 The average center-to-center distance (Sm) between adjacent convex portions or concave portions is the same as that defined as the average length of the contour element curve in JIS B0601, and is represented by g (in this case, the convex portion). However, the vertex of a convex part or a recessed part is made into the center of this convex part or a recessed part, and the distance between adjacent convex parts or recessed part centers is averaged. The average distance between protrusions or recesses can be measured by a stylus type surface roughness measuring machine, for example, a fine uneven structure surface through a measuring needle having a diameter of 1 mm with a tip portion made of diamond having a conical shape with an apex angle of 55 degrees. By scanning the top in a certain direction and measuring the movement change in the vertical direction of the measuring needle in that case, it is possible to obtain knowledge as a surface roughness curve recorded, and from the result, the distance between the convex part or the concave part is obtained. The average value can be obtained by measurement. Alternatively, it can be measured by an optical interference type surface roughness measuring machine as described above.
本発明で規定する表面粗さ(Ra)は、JIS B0601により定義され、下式によって求められる値をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。 The surface roughness (Ra) defined in the present invention is defined by JIS B0601, and refers to a value obtained by the following formula expressed in micrometers (μm).
表面粗さ(Ra)の測定方法としては、25℃、65%RH環境下で測定試料同士が重なり合わない条件で24時間調湿したのち、上記環境下で測定して求めることが出来る。ここでいう重なり合わない条件とは、例えば、試料のエッジ部分を高くした状態で巻き取る方法や試料と試料の間に紙を挟んで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。用いることの出来る測定装置としては、例えば、WYKO社製 RSTPLUS非接触三次元微小表面形状測定システム(光学干渉式表面粗さ測定機の代表例)等を挙げることが出来る。 As a method for measuring the surface roughness (Ra), it can be obtained by adjusting the humidity for 24 hours in a 25 ° C., 65% RH environment under conditions where the measurement samples do not overlap each other, and then measuring in the above environment. The non-overlapping conditions mentioned here are, for example, a method of winding with the edge portion of the sample raised, a method of stacking paper between the sample and the sample, a frame made of cardboard, etc., and fixing its four corners One of the methods. Examples of the measuring apparatus that can be used include a RSTPLUS non-contact three-dimensional micro surface shape measuring system (a typical example of an optical interference type surface roughness measuring machine) manufactured by WYKO.
次いで、図11に本発明に好ましく用いられるフレキソ印刷による凸構造部の形成、引き続いて行われるコーターを用いた塗布法による透明樹脂層の形成の一例を示す。 Next, FIG. 11 shows an example of formation of a convex structure portion by flexographic printing preferably used in the present invention, and formation of a transparent resin layer by a coating method using a coater that is subsequently performed.
図11において、ロール501より繰り出された基材フィルム502は搬送されて、フレキソ印刷部Aにおいてフレキソ印刷によりパターン状の凸構造部が塗設される。ここではインキ供給タンク508からインキ液がアニロックスロール510へ供給され、フレキソ印刷部であるパターン構造を有する樹脂版509にインキが転移される。転移印刷したインキは、活性光線硬化型樹脂を用いている場合には、フレキソ印刷部である樹脂版509の後に配置されている活性光線照射部506Aで、活性光線、例えば紫外線等を照射して硬化させる。また、インキが熱硬化性樹脂を用いている場合には、乾燥ゾーン505A、例えば、ヒートプレートにより加熱、硬化される。また、バックロール504Aをヒートロールとして加熱する方法も好ましい。
In FIG. 11, the
フレキソ印刷部Aにおいて、活性光線照射部506Aの照射光が、樹脂版509のインキに直接影響を与えないように、活性光線照射部506Aと樹脂版509とを適度な間隔で配置する、或いは活性光線照射部506Aと樹脂版509との間に、遮光壁等を設置することが好ましい。また、乾燥ゾーン505Aの熱が、樹脂版509のインキに直接影響を与えないように、樹脂版509を断熱カバーで被覆する、或いは図で示すように、乾燥ゾーン505Aの乾燥風が遮断されるような仕切りを設置することが好ましい。
In the flexographic printing part A, the actinic
転移印刷したインキにより形成されたパターンが維持出来る程度に硬化処理を行った基材フィルム502は、乾燥ゾーン505Aで不要な有機溶媒等を蒸発させて硬化を完了させる。
The
次いで、透明樹脂層塗布部Bにおいて、コーター503より供給されるハードコート層用組成物が凸構造部を含む全面に塗布され、凸構造部非形成部との間で凹凸構造が形成される。透明樹脂層が活性光線硬化型樹脂を含有する場合は、活性光線照射部506B及び506Cにより活性光線が照射される。また、乾燥ゾーン505Bにより乾燥・固化される。
Next, in the transparent resin layer application part B, the composition for hard coat layer supplied from the
活性光線照射部506A、B、Cの部分では、20〜120℃に温度制御されたバックロール504A、B、C上の基材フィルム502に活性光線を照射することが好ましい。
In the actinic
本発明で、フレキソ印刷によるパターン状の凸構造部を形成する方法は、基材フィルムを1〜500m/min、好ましくは10〜300m/minで移送しながら形成することが好ましい。 In the present invention, the method of forming a pattern-like convex structure portion by flexographic printing is preferably formed while the base film is transferred at 1 to 500 m / min, preferably 10 to 300 m / min.
インキを転移印刷させる際の基材フィルムは帯電に斑がないことが好ましく、直前で徐電することが好ましく、或いは均一に帯電させてもよい。 The base film used for transfer printing of the ink is preferably free from unevenness in charging, and is preferably charged immediately before, or may be uniformly charged.
また、インキを転移印刷させて形成したパターンをヘイズ、透過鮮明度などの防眩性を測定し、所定の値であることを確認し、ずれや変動が確認された場合、その結果をフィードバックしてインキの調整や樹脂版の交換を行うことが好ましい。 Also, the anti-glare property such as haze and transmission sharpness is measured for the pattern formed by transfer printing of ink, and it is confirmed that it is a predetermined value, and when the deviation or fluctuation is confirmed, the result is fed back. It is preferable to adjust the ink and replace the resin plate.
《基材フィルム》
本発明に用いられる基材フィルムとしては、製造が容易であること、活性線硬化型樹脂層との接着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。
<Base film>
The base film used in the present invention is easy to manufacture, has good adhesion to the actinic radiation curable resin layer, is optically isotropic, is optically transparent, etc. Is mentioned as a preferable requirement.
本発明でいう透明とは、可視光の透過率60%以上であることをさし、好ましくは80%以上であり、特に好ましくは90%以上である。 The term “transparent” as used in the present invention means that the visible light transmittance is 60% or more, preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more.
上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム,ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることが出来る。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。 Although it will not specifically limit if it has said property, For example, cellulose ester-type films, such as a cellulose diacetate film, a cellulose triacetate film, a cellulose acetate propionate film, a cellulose acetate butyrate film, a polyester-type film, a polycarbonate Film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyester film such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol Film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, nor Runen resin film, a polymethylpentene film, a polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, may be mentioned acrylic film or a glass plate or the like. Among these, a polycarbonate film, a polyester film, a norbornene resin film, and a cellulose ester film are preferable.
また本発明で好ましく用いられるノルボルネン系樹脂フィルムとは、ノルボルネン構造を有する非晶性ポリオレフィンフィルムで、例えば三井石油化学(株)製のAPOや日本ゼオン(株)製のゼオネックス、JSR(株)製のARTON等がある。 The norbornene-based resin film preferably used in the present invention is an amorphous polyolefin film having a norbornene structure, such as APO manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd., ZEONEX manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., manufactured by JSR Co., Ltd. ARTON etc.
本発明においては、中でも特にセルロースエステル系フィルムを用いることが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。市販のセルロースエステルフィルムとしては、例えば、コニカミノルタタック、製品名KC8UX2MW、KC4UX2MW、KC8UY、KC4UY、KC5UN、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UCR−5(コニカミノルタオプト(株)製)が、製造上、コスト面、透明性、接着性等の観点から好ましく用いられる。これらのフィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。 In the present invention, it is particularly preferable to use a cellulose ester film. As the cellulose ester, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate are preferable. Among them, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose acetate propionate are preferably used. As a commercially available cellulose ester film, for example, Konica Minoltac, product names KC8UX2MW, KC4UX2MW, KC8UY, KC4UY, KC5UN, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5 (manufactured by Konica Minolta Opto, Inc.) From the viewpoint of production, cost, transparency, adhesiveness and the like are preferably used. These films may be films produced by melt casting film formation or films produced by solution casting film formation.
《防眩性反射防止フィルム》
本発明は前記凸構造部及び透明樹脂層を有する防眩性フィルムの微細凹凸構造を有する面に、下記低屈折率層を設け防眩性反射防止フィルムとすることが好ましい。
《Anti-glare anti-reflection film》
In the present invention, the antiglare antireflection film is preferably provided with the following low refractive index layer on the surface having the fine uneven structure of the antiglare film having the convex structure and the transparent resin layer.
特に、本発明においては、低屈折率層は、外殻層を有し内部が多孔質または空洞となっている中空シリカ系微粒子を含有する低屈折率層塗布液をコーティングすることが好ましい。 In particular, in the present invention, the low refractive index layer is preferably coated with a low refractive index layer coating solution containing hollow silica-based fine particles having an outer shell layer and porous or hollow inside.
〈低屈折率層〉
本発明に係る低屈折率層の屈折率は、支持体である基材フィルムの屈折率より低く、23℃、波長550nm測定で、1.30〜1.45の範囲であることが好ましい。
<Low refractive index layer>
The refractive index of the low refractive index layer according to the present invention is preferably lower than the refractive index of the substrate film as the support, and is preferably in the range of 1.30 to 1.45 at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm.
低屈折率層の膜厚は、5nm〜0.5μmであることが好ましく、10nm〜0.3μmであることがさらに好ましく、30nm〜0.2μmであることが最も好ましい。 The film thickness of the low refractive index layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably 30 nm to 0.2 μm.
本発明に用いられる低屈折率層形成用組成物は、(a)下記一般式(1)で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物及び、(b)外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子が組成物を構成することが好ましい。 The composition for forming a low refractive index layer used in the present invention comprises (a) an organosilicon compound represented by the following general formula (1) or a hydrolyzate thereof or a polycondensate thereof, and (b) an outer shell layer. It is preferable that hollow silica-based fine particles having a porous or hollow interior constitute the composition.
一般式(1) Si(OR)4
(式中、Rはアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基である。)
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤等を添加してもよい。
General formula (1) Si (OR) 4
(In the formula, R is an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
In addition, a silane coupling agent, a curing agent, and the like may be added as necessary.
〔中空シリカ系微粒子〕
まず、前記(b)で表される外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子について説明する。
[Hollow silica fine particles]
First, hollow silica-based fine particles having the outer shell layer represented by (b) and having a porous or hollow interior will be described.
中空シリカ系微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。 The hollow silica-based fine particles are (I) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (II) having cavities inside, and the contents are solvent, gas or porous It is a hollow particle filled with a porous material. The low refractive index layer may contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or may contain both.
尚、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される中空微粒子は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層等の透明被膜の膜厚の2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの中空微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)が好ましい。 The hollow particles are particles having cavities inside, and the cavities are surrounded by particle walls. The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle size of such hollow fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The hollow fine particles to be used are appropriately selected according to the thickness of the transparent coating to be formed, and may be in the range of 2/3 to 1/10 of the thickness of the transparent coating such as the low refractive index layer to be formed. desirable. These hollow fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), and ketone alcohol (for example, diacetone alcohol) are preferable.
複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することが出来ないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部に内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持出来ないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。 The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, when the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and it is easy to use silicate monomers and oligomers with a low polymerization degree, which are coating liquid components described later. In some cases, the inside of the composite particle enters the inside and the porosity of the inside is reduced, so that the effect of the low refractive index cannot be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, when the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. is there.
複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P2O3、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P2O3、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等との1種または2種以上を挙げることが出来る。このような多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表したときのモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、さらに屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. In addition, components other than silica may be contained. Specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MO X / SiO 2 when the silica is expressed by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is expressed in terms of oxide (MO X ) is 0.0001 to 1.0, Preferably it is in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MO X / SiO 2 of less than 0.0001. Even if it is obtained, particles having a small pore volume and a low refractive index cannot be obtained. In addition, when the molar ratio MO X / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it is difficult to obtain a low refractive index. is there.
このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。 The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.
尚、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることが出来る。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例表した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。 Incidentally, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Examples of the porous substance include those composed of the compounds exemplified for the porous particles. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.
このような中空微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。 As a method for producing such hollow fine particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed.
(有機珪素化合物)
前記一般式(1)で表される有機珪素化合物は、式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基を表す。
(Organic silicon compound)
In the organosilicon compound represented by the general formula (1), R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。 Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane and the like are preferably used.
低屈折率層への添加方法としては、これらのテトラアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記中空シリカ系微粒子の分散液に加え、テトラアルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を中空シリカ系微粒子の表面に沈着させる。このとき、テトラアルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。 As a method of adding to the low refractive index layer, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these tetraalkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the hollow silica fine particles. The silicic acid polymer produced by hydrolyzing tetraalkoxysilane is deposited on the surface of the hollow silica fine particles. At this time, tetraalkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.
また、本発明では低屈折率層に、下記一般式(2)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有させることも出来る。 In the present invention, the low refractive index layer may contain a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound represented by the following general formula (2).
前記一般式(2)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物について説明する。 The fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound represented by the general formula (2) will be described.
式中、R1〜R6は炭素数1〜16、好ましくは1〜4のアルキル基、炭素数1〜6、好ましくは1〜4のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12、好ましくは6〜10のアリール基、炭素数7〜14、好ましくは7〜12のアルキルアリール基、アリールアルキル基、炭素数2〜8、好ましくは2〜6のアルケニル基、または炭素数1〜6、好ましくは1〜3のアルコキシ基、水素原子またはハロゲン原子を示す。 In the formula, R 1 to R 6 are alkyl groups having 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, halogenated alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, 6 to 12 carbon atoms, preferably 6 carbon atoms. 10 to 10 aryl groups, 7 to 14 carbon atoms, preferably 7 to 12 alkylaryl groups, arylalkyl groups, 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 6 alkenyl groups, or 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 alkoxy groups, a hydrogen atom or a halogen atom.
Rfは−(CaHbFc)−を表し、aは1〜12の整数、b+cは2aであり、bは0〜24の整数、cは0〜24の整数を示す。このようなRfとしては、フルオロアルキレン基とアルキレン基とを有する基が好ましい。具体的に、このような含フッ素シリコーン系化合物としては、(MeO)3SiC2H4C2F4C2H4Si(MeO)3、(MeO)3SiC2H4C4F8C2H4Si(MeO)3、(MeO)3SiC2H4C6F12C2H4Si(MeO)3、(H5C2O)3SiC2H4C4F8C2H4Si(OC2H5)3、(H5C2O)3SiC2H4C6F12C2H4Si(OC2H5)3で表されるメトキシジシラン化合物等が挙げられる。 Rf represents-(C a H b F c )-, a is an integer of 1 to 12, b + c is 2a, b is an integer of 0 to 24, and c is an integer of 0 to 24. Such Rf is preferably a group having a fluoroalkylene group and an alkylene group. Specifically, as such a fluorine-containing silicone compound, (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 2 F 4 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H Examples include methoxydisilane compounds represented by 4 Si (OC 2 H 5 ) 3 , (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (OC 2 H 5 ) 3 , and the like.
バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、形成される透明被膜自体が疎水性を有しているので、透明被膜が充分緻密化しておらず、多孔質であったり、またクラックやボイドを有している場合であっても、水分や酸・アルカリ等の薬品による透明被膜への進入が抑制される。さらには、基板表面や下層である導電層中に含まれる金属等の微粒子と水分や酸・アルカリ等の薬品とが反応することもない。このため、このような透明被膜は、優れた耐薬品性を有している。 If the fluorine-containing alkyl group-containing silane compound is included as a binder, the transparent film itself is hydrophobic, so the transparent film is not sufficiently densified and is porous or cracked. Even if it has a void or a void, entry into the transparent film by chemicals such as moisture, acid and alkali is suppressed. Furthermore, fine particles such as metals contained in the conductive layer which is the substrate surface or the lower layer do not react with chemicals such as moisture, acid and alkali. For this reason, such a transparent film has excellent chemical resistance.
また、バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、このような疎水性のみならず、滑り性がよく(接触抵抗が低く)、このためスクラッチ強度に優れた透明被膜を得ることが出来る。さらに、バインダーが、このような構成単位を有するフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、下層に導電層が形成されている場合には、バインダーの収縮率が、導電層と同等か近いものであるため導電層と密着性に優れた透明被膜を形成することが出来る。さらに、透明被膜を加熱処理する際に、収縮率の違いから、導電層が剥離して、透明導電性層に電気的接触のない部分が生じることもない。このため、膜全体として充分な導電性を維持出来る。 In addition, when a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound is included as a binder, not only the hydrophobic property but also the slipperiness (low contact resistance) is obtained, and thus a transparent film having excellent scratch strength can be obtained. I can do it. Furthermore, when the binder contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound having such a structural unit, when the conductive layer is formed in the lower layer, the shrinkage of the binder is equal to or close to that of the conductive layer. Since it is a thing, the transparent film excellent in adhesiveness with the conductive layer can be formed. Furthermore, when the transparent film is heat-treated, the conductive layer is not peeled off due to the difference in shrinkage rate, and a portion having no electrical contact is not generated in the transparent conductive layer. For this reason, sufficient electroconductivity can be maintained as a whole film.
フッ素置換アルキル基含有シラン化合物と、前記外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子とを含む透明被膜は、スクラッチ強度が高い上に、消しゴム強度または爪強度で評価される膜強度が高く、鉛筆硬度も高く、強度の上で優れた透明被膜を形成することが出来る。 A transparent film containing a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound and hollow silica-based fine particles having the outer shell layer and being porous or hollow inside has high scratch strength and is evaluated by eraser strength or nail strength. The film strength is high, the pencil hardness is high, and a transparent film excellent in strength can be formed.
本発明に係る低屈折率層にはシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。 The low refractive index layer according to the present invention may contain a silane coupling agent. Silane coupling agents include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane. Ethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltri Acetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltri Ethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ- Acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N- Examples include β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.
また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。 Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.
これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。 Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxyp Particularly preferred are propyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane.
2種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。 Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.
低屈折率層のその他のバインダーとして用いられるポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂が挙げられる。 Examples of the polymer used as the other binder of the low refractive index layer include polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, and alkyd resin.
低屈折率層は、全体で5〜80質量%のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、中空シリカ微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持出来るように調整する。 The low refractive index layer preferably contains 5 to 80% by mass of binder as a whole. The binder has a function of adhering the hollow silica fine particles and maintaining the structure of the low refractive index layer including voids. The usage-amount of a binder is adjusted so that the intensity | strength of a low refractive index layer can be maintained, without filling a space | gap.
(溶媒)
本発明に係る低屈折率層は有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
(solvent)
The low refractive index layer according to the present invention preferably contains an organic solvent. Specific examples of organic solvents include alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Group hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.
有機溶媒の含有量は、低屈折率層塗布組成物中の固形分濃度の1〜4質量%であることが好ましい。有機溶媒は塗布ムラを防止して均一膜厚とするために1質量%以上が好ましく、4質量%を超えると乾燥負荷が大きくなり、乾燥装置の大型化、長時間化となり好ましくない。 The content of the organic solvent is preferably 1 to 4% by mass of the solid content concentration in the low refractive index layer coating composition. The organic solvent is preferably 1% by mass or more in order to prevent coating unevenness and achieve a uniform film thickness, and if it exceeds 4% by mass, the drying load increases, which is not preferable because the size of the drying apparatus is increased and the time is increased.
〈高屈折率層〉
本発明では、反射防止性を高める為に、前記低屈折率層の下層に下記高屈折率層を複数層設けることができる。
<High refractive index layer>
In the present invention, in order to improve the antireflection property, a plurality of the following high refractive index layers can be provided below the low refractive index layer.
本発明に好ましい高屈折率層は、(c)平均粒子径が10〜200nmである金属酸化物微粒子、(d)金属化合物、(e)電離放射線硬化型樹脂を含有することが好ましい。 The high refractive index layer preferable for the present invention preferably contains (c) metal oxide fine particles having an average particle diameter of 10 to 200 nm, (d) a metal compound, and (e) an ionizing radiation curable resin.
(金属酸化物微粒子)
本発明の高屈折率層には金属酸化物微粒子が含有されることが好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることが出来、これらの金属酸化物微粒子はAl、In、Sn、Sb、Nb、ハロゲン元素、Taなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが好ましく、特に好ましくは酸化インジウム−スズ(ITO)である。
(Metal oxide fine particles)
The high refractive index layer of the present invention preferably contains metal oxide fine particles. The kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S A metal oxide having at least one element selected from the above can be used, and these metal oxide fine particles are doped with a trace amount of atoms such as Al, In, Sn, Sb, Nb, a halogen element, and Ta. May be. A mixture of these may also be used. In the present invention, at least one metal oxide fine particle selected from among zirconium oxide, antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and zinc antimonate is used. It is preferably used as a main component, and particularly preferably indium tin oxide (ITO).
これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は10nm〜200nmの範囲であり、10〜150nmであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡(SEM)等による電子顕微鏡写真から計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。 The average particle diameter of the primary particles of these metal oxide fine particles is in the range of 10 nm to 200 nm, particularly preferably 10 to 150 nm. The average particle diameter of the metal oxide fine particles may be measured from an electron micrograph by a scanning electron microscope (SEM) or the like, or measured by a particle size distribution meter using a dynamic light scattering method or a static light scattering method. May be. If the particle size is too small, aggregation tends to occur and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze is remarkably increased. The shape of the metal oxide fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a needle shape, or an indefinite shape.
高屈折率層の屈折率は、具体的には、支持体である基材フィルムの屈折率より高く、23℃、波長550nm測定で、1.50〜1.90の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60であることが好ましく、1.85〜2.50であることが更に好ましい。 Specifically, the refractive index of the high refractive index layer is higher than the refractive index of the base film as a support, and is preferably in the range of 1.50 to 1.90 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. The means for adjusting the refractive index of the high refractive index layer is that the kind and addition amount of the metal oxide fine particles are dominant, so that the refractive index of the metal oxide fine particles is preferably 1.80 to 2.60, More preferably, it is 1.85 to 2.50.
金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑える事も出来る。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して0.1質量%〜5質量%、より好ましくは0.5質量%〜3質量%である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でも後述するシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。 The metal oxide fine particles may be surface-treated with an organic compound. By modifying the surface of the metal oxide fine particles with an organic compound, the dispersion stability in an organic solvent is improved, the dispersion particle size can be easily controlled, and aggregation and sedimentation over time can be suppressed. . For this reason, the surface modification amount with a preferable organic compound is 0.1 mass%-5 mass% with respect to metal oxide particle, More preferably, it is 0.5 mass%-3 mass%. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Among these, the silane coupling agent mentioned later is preferable. Two or more kinds of surface treatments may be combined.
前記金属酸化物微粒子を含有する高屈折率層の厚さは5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。 The thickness of the high refractive index layer containing the metal oxide fine particles is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm.
使用する金属酸化物微粒子と後述する電離放射線硬化型樹脂等のバインダーとの比は、金属酸化物微粒子の種類、粒子サイズなどにより異なるが体積比で前者1に対して後者2から前者2に対して後者1程度が好ましい。 The ratio of the metal oxide fine particles to be used and a binder such as ionizing radiation curable resin, which will be described later, varies depending on the type of metal oxide fine particles, the particle size, etc. The latter one is preferable.
本発明において用いられる金属酸化物微粒子の使用量は高屈折率層中に5質量%〜85質量%が好ましく、10質量%〜80質量%であることがより好ましく、20〜75質量%が最も好ましい。使用量が少ないと所望の屈折率や本発明の効果が得られず、多過ぎると膜強度の劣化などが発生する。 The amount of the metal oxide fine particles used in the present invention is preferably 5% by mass to 85% by mass in the high refractive index layer, more preferably 10% by mass to 80% by mass, and most preferably 20% to 75% by mass. preferable. If the amount used is small, the desired refractive index and the effect of the present invention cannot be obtained, and if it is too large, the film strength deteriorates.
上記金属酸化物微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、ケトンアルコール(例、ジアセトンアルコール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。 The metal oxide fine particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol). , Esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene) Chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.
また金属酸化物微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。 The metal oxide fine particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (for example, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.
本発明では、更にコア/シェル構造を有する金属酸化物微粒子を含有させてもよい。シェルはコアの周りに1層形成させてもよいし、耐光性を更に向上させるために複数層形成させてもよい。コアは、シェルにより完全に被覆されていることが好ましい。 In the present invention, metal oxide fine particles having a core / shell structure may be further contained. One layer of the shell may be formed around the core, or a plurality of layers may be formed in order to further improve the light resistance. The core is preferably completely covered by the shell.
コアは酸化チタン(ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等)、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることが出来るが、ルチル型の酸化チタンを主成分としてもよい。 For the core, titanium oxide (rutile type, anatase type, amorphous type, etc.), zirconium oxide, zinc oxide, cerium oxide, tin-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, etc. can be used. Titanium may be the main component.
シェルは酸化チタン以外の無機化合物を主成分とし、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。例えば、二酸化珪素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化鉄、硫化亜鉛等を主成分とした無機化合物が用いられる。この内アルミナ、シリカ、ジルコニア(酸化ジルコニウム)であることが好ましい。また、これらの混合物でもよい。 The shell is preferably formed of a metal oxide or sulfide containing an inorganic compound other than titanium oxide as a main component. For example, an inorganic compound mainly composed of silicon dioxide (silica), aluminum oxide (alumina) zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, iron oxide, zinc sulfide, or the like is used. Of these, alumina, silica, and zirconia (zirconium oxide) are preferable. A mixture of these may also be used.
コアに対するシェルの被覆量は、平均の被覆量で2〜50質量%である。好ましくは3〜40質量%、更に好ましくは4〜25質量%である。シェルの被覆量が多いと微粒子の屈折率が低下し、被覆量が少な過ぎると耐光性が劣化する。二種以上の金属酸化物微粒子を併用してもよい。 The coating amount of the shell with respect to the core is 2 to 50% by mass as an average coating amount. Preferably it is 3-40 mass%, More preferably, it is 4-25 mass%. When the coating amount of the shell is large, the refractive index of the fine particles decreases, and when the coating amount is too small, the light resistance is deteriorated. Two or more kinds of metal oxide fine particles may be used in combination.
コアとなる酸化チタンは、液相法または気相法で作製されたものを使用出来る。また、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば、米国特許第3,410,708号、特公昭58−47061号、米国特許第2,885,366号、同第3,437,502号、英国特許第1,134,249号、米国特許第3,383,231号、英国特許第2,629,953号、同第1,365,999号に記載されている方法等を用いることが出来る。 The titanium oxide used as a core can use what was produced by the liquid phase method or the gaseous-phase method. As a method for forming the shell around the core, for example, U.S. Pat. No. 3,410,708, JP-B-58-47061, U.S. Pat. No. 2,885,366, and U.S. Pat. No. 1, British Patent No. 1,134,249, US Pat. No. 3,383,231, British Patent No. 2,629,953, No. 1,365,999, etc. I can do it.
(金属化合物)
本発明に用いられる金属化合物は下記一般式(3)で表される化合物またはそのキレート化合物を用いることが出来る。
(Metal compound)
As the metal compound used in the present invention, a compound represented by the following general formula (3) or a chelate compound thereof can be used.
一般式(3) AnMBx-n
式中、Mは金属原子、Aは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Bは金属原子Mに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。xは金属原子Mの原子価、nは2以上でx以下の整数を表す。
Formula (3) An MB xn
In the formula, M represents a metal atom, A represents a hydrolyzable functional group or a hydrocarbon group having a hydrolyzable functional group, and B represents an atomic group covalently or ionically bonded to the metal atom M. x represents the valence of the metal atom M, and n represents an integer of 2 or more and x or less.
加水分解可能な官能基Aとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記式(3)に属する金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を2個以上有するアルコキシド、または、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドまたはそれらのキレート化合物を挙げることが出来る。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁し易いため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることが出来る。 Examples of the hydrolyzable functional group A include halogens such as alkoxyl groups and chloro atoms, ester groups and amide groups. The metal compound belonging to the above formula (3) includes an alkoxide having two or more alkoxyl groups bonded directly to a metal atom, or a chelate compound thereof. Preferable metal compounds include titanium alkoxide, zirconium alkoxide, or chelate compounds thereof. Titanium alkoxide has a high reaction rate and a high refractive index and is easy to handle. However, since it has a photocatalytic action, its light resistance deteriorates when added in a large amount. Zirconium alkoxide has a high refractive index but tends to become cloudy, so care must be taken in dew point management during coating. Moreover, since titanium alkoxide has the effect of accelerating the reaction of the ultraviolet curable resin and metal alkoxide, the physical properties of the coating film can be improved by adding a small amount.
チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−iso−プロポキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタン等が挙げられる。 Examples of the titanium alkoxide include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-iso-propoxy titanium, tetra-n-propoxy titanium, tetra-n-butoxy titanium, tetra-sec-butoxy titanium, tetra-tert-butoxy titanium, and the like. Is mentioned.
ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−iso−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−ブトキシジルコニウム、テトラ−sec−ブトキシジルコニウム、テトラ−tert−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。 Examples of the zirconium alkoxide include tetramethoxy zirconium, tetraethoxy zirconium, tetra-iso-propoxy zirconium, tetra-n-propoxy zirconium, tetra-n-butoxy zirconium, tetra-sec-butoxy zirconium, tetra-tert-butoxy zirconium and the like. Is mentioned.
遊離の金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量1万以下のものを挙げることが出来る。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成出来る。 Preferred chelating agents for forming a chelate compound by coordination with a free metal compound include alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and propylene glycol, acetylacetone and acetoacetic acid. Examples thereof include ethyl and the like having a molecular weight of 10,000 or less. By using these chelating agents, it is possible to form a chelate compound that is stable against moisture mixing and is excellent in the effect of reinforcing the coating film.
金属化合物の添加量は、高屈折率層に含まれる該金属化合物由来の金属酸化物の含有量が0.3〜5質量%であるように調整することが好ましい。0.3質量%未満では耐擦傷性が不足し、5質量%を超えると耐光性が劣化する傾向がある。 The addition amount of the metal compound is preferably adjusted so that the content of the metal oxide derived from the metal compound contained in the high refractive index layer is 0.3 to 5% by mass. If it is less than 0.3% by mass, the scratch resistance is insufficient, and if it exceeds 5% by mass, the light resistance tends to deteriorate.
(電離放射線硬化型樹脂)
電離放射線硬化型樹脂は金属酸化物微粒子のバインダーとして塗膜の成膜性や物理的特性の向上のために添加される。電離放射線硬化型樹脂としては、紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を2個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることが出来る。官能基としては(メタ)アクリロイルオキシ基等のような不飽和二重結合を有する基、エポキシ基、シラノール基等が挙げられる。中でも不飽和二重結合を2個以上有するラジカル重合性のモノマーやオリゴマーを好ましく用いることが出来る。必要に応じて光重合開始剤を組み合わせてもよい。このような電離放射線硬化型樹脂としては、例えば多官能アクリレート化合物等が挙げられ、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれる化合物であることが好ましい。ここで、多官能アクリレート化合物とは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基及び/またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。
(Ionizing radiation curable resin)
The ionizing radiation curable resin is added as a binder for the metal oxide fine particles to improve the film formability and physical properties of the coating film. As the ionizing radiation curable resin, a monomer or oligomer having two or more functional groups that cause polymerization reaction directly by irradiation of ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams or indirectly by the action of a photopolymerization initiator is used. Can be used. Examples of the functional group include a group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyloxy group, an epoxy group, and a silanol group. Among these, radically polymerizable monomers and oligomers having two or more unsaturated double bonds can be preferably used. You may combine a photoinitiator as needed. Examples of such ionizing radiation curable resins include polyfunctional acrylate compounds and the like, and the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. It is preferable that it is a compound chosen from these. Here, the polyfunctional acrylate compound is a compound having two or more acryloyloxy groups and / or methacryloyloxy groups in the molecule.
多官能アクリレート化合物のモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートが好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または2種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの2量体、3量体等のオリゴマーであってもよい。 Examples of the monomer of the polyfunctional acrylate compound include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethanetriacrylate. Acrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerin triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, Dipen Erythritol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, tetra Methylol methane trimethacrylate, tetramethylol methane tetramethacrylate, pentaglycerol trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, glycerin trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol te La methacrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate preferred. These compounds are used alone or in admixture of two or more. Moreover, oligomers, such as a dimer and a trimer of the said monomer, may be sufficient.
電離放射線硬化型樹脂の添加量は、高屈折率組成物では固形分中の50質量%未満であることが好ましい。 The addition amount of the ionizing radiation curable resin is preferably less than 50% by mass in the solid content in the high refractive index composition.
本発明に係る電離放射線硬化型樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤と分子中に重合可能な不飽和結合を2個以上有するアクリル系化合物とを質量比で3:7〜1:9含有することが好ましい。 In order to accelerate the curing of the ionizing radiation curable resin according to the present invention, the photopolymerization initiator and the acrylic compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule are in a mass ratio of 3: 7 to 1: 9. It is preferable to contain.
光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。 Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof.
(溶媒)
本発明の高屈折率層をコーティングする際に用いられる有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。
(solvent)
Examples of the organic solvent used for coating the high refractive index layer of the present invention include alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol). , Cyclohexanol, benzyl alcohol, etc.), polyhydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexane Triol, thiodiglycol, etc.), polyhydric alcohol ethers (for example, ethylene glycol monomethyl ether) , Ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol Monoethyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (for example, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine) , Ethylenediamine, diethylenediamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide) Etc.), heterocyclic rings (for example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide, etc.) ), Sulfones (for example, sulfolane, etc.), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable.
(防汚層)
本発明の防眩性フィルムもしくは防眩性反射防止フィルムは、最表層に防汚層が設けられていることが好ましい。
(Anti-fouling layer)
The antiglare film or antiglare antireflection film of the present invention preferably has an antifouling layer on the outermost layer.
本発明に好ましい防汚層は、フッ素含有シラン化合物を防汚層形成用組成物に含有することが好ましく、フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物溶液をコーティングして作製する。特に、フッ素含有シラン化合物がシラザンもしくはアルコキシシランであることが好ましい。 The antifouling layer preferable for the present invention preferably contains a fluorine-containing silane compound in the antifouling layer forming composition, and is prepared by coating a silane compound solution having a fluoroalkyl group or a fluoroalkyl ether group. In particular, the fluorine-containing silane compound is preferably silazane or alkoxysilane.
また、前記フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物のなかでも、シラン化合物中のフルオロアルキル基が、Si原子1つに対し、1つ以下の割合でSi原子と結合されており、残りは加水分解性基もしくはシロキサン結合基であるシラン化合物が好ましい。 In addition, among the silane compounds having the fluoroalkyl group or the fluoroalkyl ether group, the fluoroalkyl group in the silane compound is bonded to Si atoms at a ratio of 1 or less to one Si atom, and the remaining Is preferably a silane compound which is a hydrolyzable group or a siloxane bond group.
ここでいう加水分解性の基としては、例えばアルコキシ基等の基であり、加水分解によりヒドロキシル基となり、それにより前記シラン化合物は重縮合物を形成する。 The hydrolyzable group here is a group such as an alkoxy group, for example, and becomes a hydroxyl group by hydrolysis, whereby the silane compound forms a polycondensate.
例えば、上記シラン化合物は水と(必要なら酸触媒の存在下)、副生するアルコールを留去しながら、通常、室温〜100℃の範囲で反応させる。これによりアルコキシシランは(部分的に)加水分解し、一部縮合反応が起こり、ヒドロキシル基を有する加水分解物として得ることが出来る。加水分解、縮合の程度は、反応させる水の量により適宜調節することが出来るが、本発明ににおいては、防汚処理に用いるシラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせるため溶液の固形分濃度を薄く希釈して用いることが好ましい。 For example, the silane compound is usually reacted with water (in the presence of an acid catalyst if necessary) in the range of room temperature to 100 ° C. while distilling off by-produced alcohol. As a result, the alkoxysilane is (partially) hydrolyzed to cause a partial condensation reaction, and can be obtained as a hydrolyzate having a hydroxyl group. The degree of hydrolysis and condensation can be adjusted as appropriate depending on the amount of water to be reacted, but in the present invention, water is not actively added to the silane compound solution used for antifouling treatment, and after preparation, It is preferable to dilute and use the solid content concentration of the solution in order to cause a hydrolysis reaction mainly by moisture in the air during drying.
好ましくは、防汚層形成用組成物において、前記フルオロアルキル基を有するシラン化合物は下記一般式(4)で表され、かつ該シラン化合物の濃度を0.01〜5質量%に希釈した溶液として用いて、防汚処理することである。 Preferably, in the composition for forming an antifouling layer, the silane compound having a fluoroalkyl group is represented by the following general formula (4), and the concentration of the silane compound is diluted to 0.01 to 5% by mass. Use antifouling treatment.
一般式(4) CF3(CF2)m(CH2)n−Si−(ORa)3
ここにおいて、mは1〜10の整数。nは0〜10の整数。Raは同一もしくは異なるアルキル基を表す。
Formula (4) CF 3 (CF 2 ) m (CH 2) n -Si- (ORa) 3
Here, m is an integer of 1-10. n is an integer of 0-10. Ra represents the same or different alkyl group.
前記一般式(4)で表される化合物中、Raは炭素原子数3つ以下であり炭素と水素のみからなるアルキル基、例えば、メチル、エチル、イソプロピル等の基が好ましい。 In the compound represented by the general formula (4), Ra has 3 or less carbon atoms and is preferably an alkyl group composed of only carbon and hydrogen, for example, a group such as methyl, ethyl, isopropyl and the like.
これら本発明において好ましく用いられるフルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物としては、CF3(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CH2)2Si(OC2H5)3、CF3(CH2)2Si(OC3H7)3、CF3(CH2)2Si(OC4H9)3、CF3(CF2)5(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)5(CH2)2Si(OC2H5)3、CF3(CF2)5(CH2)2Si(OC3H7)3、CF3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)7(CH2)2Si(OC2H5)3、CF3(CF2)7(CH2)2Si(OC3H7)3、CF3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)(OC3H7)2、CF3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)2OC3H7、CF3(CF2)7(CH2)2SiCH3(OCH3)2、CF3(CF2)7(CH2)2SiCH3(OC2H5)2、CF3(CF2)7(CH2)2SiCH3(OC3H7)2、(CF3)2CF(CF2)8(CH2)2Si(OCH3)3、C7F15CONH(CH2)3Si(OC2H5)3、C8F17SO2NH(CH2)3Si(OC2H5)3、C8F17(CH2)2OCONH(CH2)3Si(OCH3)3、CF3(CF2)7(CH2)2Si(CH3)(OCH3)2、CF3(CF2)7(CH2)2Si(CH3)(OC2H5)2、CF3(CF2)7(CH2)2Si(CH3)(OC3H7)2、CF3(CF2)7(CH2)2Si(C2H5)(OCH3)2、CF3(CF2)7(CH2)2Si(C2H5)(OC3H7)2、CF3(CH2)2Si(CH3)(OCH3)2、CF3(CH2)2Si(CH3)(OC2H5)2、CF3(CH2)2Si(CH3)(OC3H7)2、CF3(CF2)5(CH2)2Si(CH3)(OCH3)2、CF3(CF2)5(CH2)2Si(CH3)(OC3H7)2、CF3(CF2)2O(CF2)3(CH2)2Si(OC3H7)、C7F15CH2O(CH2)3Si(OC2H5)3、C8F17SO2O(CH2)3Si(OC2H5)3、C8F17(CH2)2OCHO(CH2)3Si(OCH3)3などが挙げられるが、この限りでない。 Examples of the silane compound having a fluoroalkyl group or fluoroalkyl ether group preferably used in the present invention include CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ). 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7 ) 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 4 H 9 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7) 3, CF 3 (CF 2) 7 (CH 2) 2 Si (OCH 3) (OC 3 H 7) 2, CF 3 (CF 2) 7 CH 2) 2 Si (OCH 3 ) 2 OC 3 H 7, CF 3 (CF 2) 7 (CH 2) 2 SiCH 3 (OCH 3) 2, CF 3 (CF 2) 7 (CH 2) 2 SiCH 3 ( OC 2 H 5 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 SiCH 3 (OC 3 H 7 ) 2 , (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 7 F 15 CONH (CH 2 ) 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 SO 2 NH (CH 2 ) 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 (CH 2 ) 2 OCONH (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 2 H 5 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 3 H 7 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (C 2 H 5 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (C 2 H 5 ) (OC 3 H 7 ) 2 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 2 H 5 ) 2 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 3 H 7 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 5 ( CH 2) 2 Si (CH 3 ) (OCH 3) 2, CF 3 (CF 2) 5 (CH 2) 2 Si (CH 3) (OC 3 H 7) 2, CF 3 (CF 2) 2 O (CF 2 ) 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7 ), C 7 F 15 CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 SO 2 O (CH 2 ) 3 Si Examples include (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 (CH 2 ) 2 OCHO (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 , but not limited thereto.
上記フッ素系シラン化合物としては、例えば信越化学工業株式会社製KP801M、X−24−9146、ジーイー東芝シリコーン株式会社XC98−A5382、XC98−B2472、ダイキン工業(株)オプツールDSX、株式会社フロロテクノロジー製FG5010などが挙げられ、表面処理のための化合物としては、パーフルオロアルキルシラザン、パーフルオロアルキルシラン、もしくはパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、特にパーフルオロアルキルトリアルコキシシラン、パーフルオロポリエーテルトリアルコキシシラン、パーフルオロポリエーテルジトリアルコキシシランが挙げられる。 Examples of the fluorine-based silane compound include KP801M and X-24-9146 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., GE Toshiba Silicones Co., Ltd. XC98-A5382, XC98-B2472, Daikin Industries, Ltd. OPTOOL DSX, and FG5010 manufactured by Fluoro Technology Co., Ltd. As the compound for surface treatment, perfluoroalkylsilazane, perfluoroalkylsilane, or perfluoropolyether group-containing silane compound, particularly perfluoroalkyltrialkoxysilane, perfluoropolyethertrialkoxysilane, Examples include perfluoropolyether ditrialkoxysilane.
これらのシラン化合物を用いる際には、フッ素を含まない有機溶媒で0.01〜10質量%、好ましくは0.03〜5質量%、更に好ましくは0.05〜2質量%に希釈された状態で用いることが好ましい。 When these silane compounds are used, they are diluted to 0.01 to 10% by mass, preferably 0.03 to 5% by mass, more preferably 0.05 to 2% by mass in an organic solvent not containing fluorine. It is preferable to use in.
本発明において、前記シラン化合物溶液を調製するためにフッ素を含まない有機溶媒が好ましく用いられるが、以下のものが挙げられる。 In the present invention, an organic solvent containing no fluorine is preferably used to prepare the silane compound solution, and the following may be mentioned.
本発明に用いられる防汚層用の塗布組成物の溶媒としては、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル及び/またはプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステル、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルとしては具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなど。又、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステルとしては特にプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどが挙げられる。プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル及び/またはプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステルなど、メタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、t−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル、乳酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酪酸エチルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミドその他の溶媒などが挙げられる。或いは、これらの溶媒が、適宜混合されて用いられる。混合される溶媒としては、特にこれらに限定されるものではない。 As a solvent of the coating composition for the antifouling layer used in the present invention, propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether and / or propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether ester, propylene glycol mono (C1-C4). Specific examples of the alkyl ether include propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether and the like. The propylene glycol mono (C1 to C4) alkyl ether ester includes propylene glycol monoalkyl ether acetate, specifically, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate and the like. Propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether and / or propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether ester, etc., alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, 2-butanol, t-butanol, cyclohexanol , Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and acetone, esters such as ethyl acetate, methyl acetate, ethyl lactate, isopropyl acetate, amyl acetate and ethyl butyrate, hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, dioxane, N, N-dimethylformamide and other solvents. Alternatively, these solvents are used by being appropriately mixed. The solvent to be mixed is not particularly limited to these.
特に好ましい溶媒としては、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルから選ばれる1種類以上の有機溶媒である。 Particularly preferred solvents are one or more organic solvents selected from ethanol, isopropyl alcohol, propylene glycol, and propylene glycol monomethyl ether.
これらの溶媒中には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールのような常圧における沸点が100℃未満のもの(低沸点溶媒)と、プロピレングリコールモノメチルエーテル、n−ブチルアルコールのような沸点が100℃以上のもの(高沸点溶媒)を併用することが好ましく、特に沸点が60〜98℃のものと、100〜160℃のものを併用することが好ましい。併用する場合の低沸点溶媒と高沸点溶媒の比率は、低沸点溶媒は組成物中、98.0質量%以上であり、高沸点溶媒が0.5〜2質量%であることが好ましい。 Among these solvents, those having a boiling point of less than 100 ° C. (low boiling solvent) such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, and boiling points of 100 ° C. or more such as propylene glycol monomethyl ether and n-butyl alcohol. (Boiling point solvent) is preferably used in combination, and in particular, those having a boiling point of 60 to 98 ° C. and those having a boiling point of 100 to 160 ° C. are preferably used in combination. The ratio of the low boiling point solvent and the high boiling point solvent when used in combination is preferably 98.0% by mass or more and the high boiling point solvent is 0.5 to 2% by mass in the composition.
本発明に用いられる防汚層形成用組成物においては、酸を添加してpHを5.0以下に調整し用いることが好ましい。酸は前記シラン化合物の加水分解を促し、重縮合反応の触媒として作用するので、基材表面にシラン化合物の重縮合膜の形成を容易にし、防汚性を高めることが出来る。pHは1.5〜5.0の範囲が良く、1.5以下では溶液の酸性が強過ぎて、容器や配管をいためる恐れがあり、5以上では反応が進行しにくい。好ましくはpH2.0〜4.0の範囲である。 In the antifouling layer forming composition used in the present invention, it is preferable to add an acid to adjust the pH to 5.0 or less. Since the acid promotes hydrolysis of the silane compound and acts as a catalyst for the polycondensation reaction, the polycondensation film of the silane compound can be easily formed on the surface of the substrate, and the antifouling property can be improved. The pH is preferably in the range of 1.5 to 5.0. If the pH is 1.5 or less, the acidity of the solution is too strong, and the container or the piping may be damaged. Preferably it is the range of pH2.0-4.0.
本発明ににおいては、防汚処理に用いるシラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせることが好ましい。その為に溶液の固形分濃度を希釈したところで用いる。処理液に水を添加し過ぎると、その分ポットライフが短くなる。 In the present invention, it is preferable not to positively add water to the silane compound solution used for the antifouling treatment, but to cause a hydrolysis reaction by moisture in the air after the preparation, mainly at the time of drying. Therefore, it is used when the solid content concentration of the solution is diluted. If too much water is added to the treatment liquid, the pot life is shortened accordingly.
本発明においては硫酸、塩酸、硝酸、次亜塩素酸、ホウ酸、フッ酸、好ましくは塩酸、硝酸等の無機酸のほか、スルホ基(スルホン酸基ともいう)またはカルボキシル基を有する有機酸、例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メチルスルホン酸等が用いられる。有機酸は1分子内に水酸基とカルボキシル基を有する化合物であればいっそう好ましく、例えば、クエン酸または酒石酸等のヒドロキシジカルボン酸が用いられる。また、有機酸は水溶性の酸であることが更に好ましく、例えば上記クエン酸や酒石酸の他に、レブリン酸、ギ酸、プロピオン酸、リンゴ酸、コハク酸、メチルコハク酸、フマル酸、オキサロ酢酸、ピルビン酸、2−オキソグルタル酸、グリコール酸、D−グリセリン酸、D−グルコン酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、イソクエン酸、乳酸等が好ましく用いられる。また、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、アトロバ酸等も適宜用いることが出来る。 In the present invention, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, hypochlorous acid, boric acid, hydrofluoric acid, preferably an inorganic acid such as hydrochloric acid and nitric acid, an organic acid having a sulfo group (also referred to as a sulfonic acid group) or a carboxyl group, For example, acetic acid, polyacrylic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, methylsulfonic acid and the like are used. The organic acid is more preferably a compound having a hydroxyl group and a carboxyl group in one molecule. For example, a hydroxydicarboxylic acid such as citric acid or tartaric acid is used. The organic acid is more preferably a water-soluble acid. For example, in addition to the citric acid and tartaric acid, levulinic acid, formic acid, propionic acid, malic acid, succinic acid, methyl succinic acid, fumaric acid, oxaloacetic acid, pyruvin. Acid, 2-oxoglutaric acid, glycolic acid, D-glyceric acid, D-gluconic acid, malonic acid, maleic acid, oxalic acid, isocitric acid, lactic acid and the like are preferably used. Also, benzoic acid, hydroxybenzoic acid, atorvaic acid and the like can be used as appropriate.
添加量は、前記シラン化合物の部分加水分解物100質量部に対して0.1質量部〜10質量部、好ましくは0.2質量部〜5質量部がよい。また、水の添加量については部分加水分解物が理論上100%加水分解し得る量以上であればよく、100%〜300%相当量、好ましくは100%〜200%相当量を添加するのがよい。 The addition amount is 0.1 to 10 parts by mass, preferably 0.2 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the partial hydrolyzate of the silane compound. Further, the amount of water added is not limited as long as the partial hydrolyzate can theoretically be hydrolyzed by 100%, and an amount equivalent to 100% to 300%, preferably an amount equivalent to 100% to 200% is added. Good.
フッ素含有のシラン化合物を用いることによって、防汚層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましいのみでなく、耐傷性が高く、またフィルム同士のブロッキングに特に優れるという効果がある。 By using a fluorine-containing silane compound, it is not only preferable in terms of lowering the refractive index of the antifouling layer and imparting water and oil repellency, but also has an effect of being highly scratch resistant and particularly excellent in blocking between films. .
(反射防止層の形成)
本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されないが、塗布により形成することが好ましい。
(Formation of antireflection layer)
In the present invention, the method for providing the antireflection layer is not particularly limited, but it is preferably formed by coating.
本発明において、基材フィルム上に凸構造部及び透明樹脂層により凹凸構造を形成し、上記の高屈折率層組成物、低屈折率層組成物を用いて順次コーティングする工程により反射防止層を製造することが好ましい。また、前記防汚層をコーティングすることも好ましい。 In the present invention, an antireflection layer is formed by a step of forming a concavo-convex structure with a convex structure portion and a transparent resin layer on a base film and sequentially coating with the above high refractive index layer composition and low refractive index layer composition. It is preferable to manufacture. It is also preferable to coat the antifouling layer.
好ましい防眩性反射防止フィルムの構成を下記に示すが、これらに限定されるものではない。 Although the structure of a preferable anti-glare antireflection film is shown below, it is not limited to these.
ここで本発明の防眩層とは、本発明に係る凸構造部及び透明樹脂層からなる層を意味する。 Here, the antiglare layer of the present invention means a layer comprising the convex structure portion and the transparent resin layer according to the present invention.
基材フィルム/本発明の防眩層/低屈折率層
基材フィルム/本発明の防眩層/高屈折率層/低屈折率層
基材フィルム/帯電防止層/本発明の防眩層/低屈折率層
基材フィルム/帯電防止層/本発明の防眩層/高屈折率層/低屈折率層
基材フィルム/本発明の防眩層/低屈折率層/防汚層
基材フィルム/本発明の防眩層/高屈折率層/低屈折率層/防汚層
基材フィルム/帯電防止層/本発明の防眩層/低屈折率層/防汚層
基材フィルム/帯電防止層/本発明の防眩層/高屈折率層/低屈折率層/防汚層
本発明では、上記本発明の防眩層を形成した後本発明の防眩層の表面に表面処理行い、該表面処理を行った本発明の防眩層表面に本発明に係る低屈折率層を形成することが好ましい。また、防汚層を設ける前に該低屈折率層に表面処理を行うことも好ましい。
Base film / Anti-glare layer of the present invention / Low refractive index layer Base film / Anti-glare layer of the present invention / High refractive index layer / Low refractive index layer Base film / Antistatic layer / Anti-glare layer of the present invention / Low refractive index layer Base film / Antistatic layer / Anti-glare layer of the present invention / High refractive index layer / Low refractive index layer Base film / Anti-glare layer of the present invention / Low refractive index layer / Anti-fouling layer Base film / Anti-glare layer of the present invention / High refractive index layer / Low refractive index layer / Anti-fouling layer Substrate film / Antistatic layer / Anti-glare layer / Low refractive index layer / Anti-fouling layer Substrate film / Antistatic Layer / antiglare layer of the present invention / high refractive index layer / low refractive index layer / antifouling layer In the present invention, after the antiglare layer of the present invention is formed, the surface of the antiglare layer of the present invention is subjected to surface treatment, The low refractive index layer according to the present invention is preferably formed on the surface of the antiglare layer of the present invention that has been subjected to the surface treatment. It is also preferable to subject the low refractive index layer to a surface treatment before providing the antifouling layer.
表面処理は、洗浄法、アルカリ処理法、フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられ、好ましくはアルカリ処理法、コロナ処理法であり、特に好ましくはアルカリ処理法を用いることができる。コロナ処理とは、大気圧下、電極間に1kV以上の高電圧を印加し、放電することで行う処理のことであり、春日電機(株)や(株)トーヨー電機などで市販されている装置を用いて行うことが出来る。コロナ放電処理の強度は、電極間距離、単位面積当たりの出力、ジェネレーターの周波数に依存する。コロナ処理装置の一方の電極(A電極)は、市販のものを用いることが出来るが、材質はアルミニウム、ステンレスなどから選択が出来る。もう一方はプラスチックフィルムを抱かせるための電極(B電極)であり、コロナ処理が、安定かつ均一に実施されるように、前記A電極に対して一定の距離に設置されるロール電極である。これも通常市販されているものを用いることが出来、材質は、アルミニウム、ステンレス、及びそれらの金属で出来たロールに、セラミックス、シリコン、EPTゴム、ハイパロンゴムなどがライニングされているロールが好ましく用いられる。本発明に用いられるコロナ処理に用いる周波数は、20kHz以上100kHz以下の周波数であり、30kHz〜60kHzの周波数が好ましい。周波数が低下するとコロナ処理の均一性が劣化し、コロナ処理のムラが発生する。また、周波数が大きくなると、高出力のコロナ処理を行う場合には、特に問題ないが、低出力のコロナ処理を実施する場合には、安定した処理を行うことが難しくなり、結果として、処理ムラが発生する。コロナ処理の出力は、1〜5w・min./m2であるが、2〜4w・min./m2の出力が好ましい。電極とフィルムとの距離は、5mm以上50mm以下であるが、好ましくは、10mm以上35mm以下である。間隙が開いてくると、一定の出力を維持するためにより高電圧が必要になり、ムラが発生し易くなる。また、間隙が狭くなり過ぎると、印加する電圧が低くなり過ぎ、ムラが発生し易くなる。更にまた、フィルムを搬送して連続処理する際に電極にフィルムが接触し傷が発生する。 Examples of the surface treatment include cleaning methods, alkali treatment methods, flame plasma treatment methods, high frequency discharge plasma methods, electron beam methods, ion beam methods, sputtering methods, acid treatments, corona treatment methods, atmospheric pressure glow discharge plasma methods, and the like. An alkali treatment method and a corona treatment method are preferable, and an alkali treatment method can be used particularly preferably. The corona treatment is a treatment performed by applying a high voltage of 1 kV or more between the electrodes under atmospheric pressure and discharging it. An apparatus commercially available from Kasuga Electric Co., Ltd. or Toyo Electric Co., Ltd. Can be used. The intensity of the corona discharge treatment depends on the distance between the electrodes, the output per unit area, and the generator frequency. As one electrode (A electrode) of the corona treatment apparatus, a commercially available one can be used, but the material can be selected from aluminum, stainless steel and the like. The other is an electrode (B electrode) for holding a plastic film, and is a roll electrode installed at a certain distance from the A electrode so that the corona treatment is carried out stably and uniformly. A commercially available one can also be used, and the material is preferably a roll made of aluminum, stainless steel, or a metal thereof, and a roll lined with ceramics, silicon, EPT rubber, hyperon rubber, or the like. It is done. The frequency used for the corona treatment used in the present invention is a frequency of 20 kHz to 100 kHz, and a frequency of 30 kHz to 60 kHz is preferable. When the frequency is lowered, the uniformity of the corona treatment is deteriorated and unevenness of the corona treatment occurs. In addition, when the frequency is increased, there is no particular problem when performing high-output corona treatment, but when performing low-output corona treatment, it is difficult to perform stable processing, resulting in uneven processing. Will occur. The output of the corona treatment is 1 to 5 w · min. / M 2 but 2 to 4 w · min. An output of / m 2 is preferred. The distance between the electrode and the film is 5 mm or more and 50 mm or less, preferably 10 mm or more and 35 mm or less. When the gap is opened, a higher voltage is required to maintain a constant output, and unevenness is likely to occur. If the gap is too narrow, the applied voltage becomes too low and unevenness is likely to occur. Furthermore, when the film is transported and continuously processed, the film comes into contact with the electrodes and scratches are generated.
アルカリ処理方法としては、ハードコート層を塗設したフィルムをアルカリ水溶液に浸す方法であれば特に限定されない。 The alkali treatment method is not particularly limited as long as it is a method in which a film coated with a hard coat layer is immersed in an alkaline aqueous solution.
アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、アンモニア水溶液等が使用可能であり、中でも水酸化ナトリウム水溶液が好ましい。 As the aqueous alkali solution, an aqueous sodium hydroxide solution, an aqueous potassium hydroxide solution, an aqueous ammonia solution or the like can be used, and an aqueous sodium hydroxide solution is particularly preferable.
アルカリ水溶液のアルカリ濃度、例えば水酸化ナトリウム濃度は0.1〜25質量%が好ましく、0.5〜15質量%がより好ましい。 The alkali concentration of the aqueous alkali solution, for example, sodium hydroxide concentration is preferably 0.1 to 25% by mass, and more preferably 0.5 to 15% by mass.
アルカリ処理温度は通常10〜80℃、好ましく20〜60℃である。 The alkali treatment temperature is usually 10 to 80 ° C, preferably 20 to 60 ° C.
アルカリ処理時間は5秒〜5分、好ましくは30秒〜3分である。アルカリ処理後のフィルムは酸性水で中和した後、十分に水洗いを行うことが好ましい。 The alkali treatment time is 5 seconds to 5 minutes, preferably 30 seconds to 3 minutes. The film after the alkali treatment is preferably neutralized with acidic water and then thoroughly washed with water.
反射防止層の各層は、基材フィルム上に、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法を用いて、塗布により形成することが出来る。塗布に際しては、基材フィルムが、幅が1.4〜4mでロール状に巻き取られた状態から繰り出して、上記塗布を行い、乾燥・硬化処理した後、ロール状に巻き取られることが好ましい。 Each layer of the antireflection layer uses a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a micro gravure coating method and an extrusion coating method on a base film. And can be formed by coating. At the time of application, the base film is preferably wound up in a roll shape after being unwound from a state wound in a roll shape with a width of 1.4 to 4 m, performing the above-described application, drying and curing treatment. .
更に、本発明の防眩性反射防止フィルムは、基材フィルム上に前記反射防止層を積層した後、ロール状に巻き取った状態で50〜150℃、1〜30日の範囲で加熱処理を行う製造方法によって製造することができる。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば、50℃であれば、好ましくは3日間以上30日未満の期間、150℃であれば1〜3日の範囲が好ましい。通常は、巻外部、巻中央部、巻き芯部の加熱処理効果が偏らないように、比較的低温に設定することが好ましく、50〜80℃付近で3〜7日間程度行うことが好ましい。 Furthermore, the anti-glare antireflection film of the present invention is obtained by laminating the antireflection layer on the base film and then heat-treating it in the range of 50 to 150 ° C. and 1 to 30 days in the state of being wound in a roll. It can manufacture by the manufacturing method to perform. The period of the heat treatment may be appropriately determined depending on the set temperature. For example, if it is 50 ° C, it is preferably a period of 3 days or more and less than 30 days, and if it is 150 ° C, a range of 1 to 3 days is preferable. Usually, it is preferable to set it at a relatively low temperature so that the heat treatment effect on the outside of the winding, the center of the winding, and the core is not biased, and it is preferable to carry out at around 50 to 80 ° C. for about 3 to 7 days.
加熱処理を安定して行うためには、温湿度が調整可能な場所で行うことが必要であり、塵のないクリーンルーム等の加熱処理室で行うことが好ましい。 In order to stably perform the heat treatment, it is necessary to perform in a place where the temperature and humidity can be adjusted, and it is preferable to perform in a heat treatment chamber such as a clean room without dust.
上記反射防止層や防汚層等の機能性薄膜がコーティングされた防眩性フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度に耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであっても良く、例えばフェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂が挙げられる。またガラス繊維などの充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。 When winding an antiglare film coated with a functional thin film such as the antireflection layer or antifouling layer into a roll, the wound core may be of any material, whether it is a cylindrical core. However, it is preferably a hollow plastic core, and the plastic material may be any heat-resistant plastic that can withstand the heat treatment temperature. For example, phenol resin, xylene resin, melamine resin, polyester Resins such as resins and epoxy resins are listed. A thermosetting resin reinforced with a filler such as glass fiber is preferable.
これらの巻きコアへの巻き数は、100巻き以上であることが好ましく、500巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は5cm以上であることが好ましい。 The number of windings on these winding cores is preferably 100 windings or more, more preferably 500 windings or more, and the winding thickness is preferably 5 cm or more.
このようにして長巻の基材フィルム上に機能性薄膜がコーティングされ、プラスチックコアに巻き取られたロールを、巻き取った状態で前記加熱処理を行うとき、該ロールを回転させることが好ましく、回転は、1分間に1回転以下の速度が好まく、連続でも良く断続的な回転であっても良い。又、加熱期間中に該ロールの巻き替えを1回以上行うことが好ましい。 In this way, when the heat treatment is performed in a state where the functional thin film is coated on the long base film and the roll wound around the plastic core is wound, it is preferable to rotate the roll, The rotation is preferably performed at a speed of 1 rotation or less per minute, and may be continuous or intermittent. Moreover, it is preferable to perform rewinding of the roll once or more during the heating period.
コアに巻き取られた長巻の防眩性フィルムロールを加熱処理中に回転させる為加熱処理室に専用の回転台を設けることが好ましい。 In order to rotate the long antiglare film roll wound around the core during the heat treatment, it is preferable to provide a dedicated turntable in the heat treatment chamber.
回転は、断続の場合は停止している時間を10時間以内とすることが好ましく、停止位置は、円周方向に均一となる様にすることが好ましく、停止時間は10分以内とすることがより好ましい。最も好ましくは、連続回転である。 In the case of intermittent rotation, the stop time is preferably within 10 hours, the stop position is preferably made uniform in the circumferential direction, and the stop time is within 10 minutes. More preferred. Most preferred is continuous rotation.
連続回転での回転速度は、1回転に要する時間は好ましくは10時間以下とすることであり、早いと装置的に負担となるため実質的には、15分から2時間の範囲が好ましい。 As for the rotation speed in continuous rotation, the time required for one rotation is preferably 10 hours or less, and if it is early, it becomes a burden on the apparatus, so the range of 15 minutes to 2 hours is substantially preferable.
尚、回転機能を有する専用の台車の場合には、移動や保管中にも光学フィルムロールを回転させることが出来て好ましく、この場合、保管期間が長い場合に生じるブラックバンド対策として回転が有効に機能する。 In the case of a dedicated carriage having a rotation function, it is preferable that the optical film roll can be rotated during movement and storage. In this case, rotation is effective as a countermeasure against black bands that occur when the storage period is long. Function.
(偏光板)
偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UCR−5、以上コニカミノルタオプト(株)製)が好ましく用いられる。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、30〜300nm、Rtが70〜400nmの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957、特願2002−155395記載の方法で作製することが出来る。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。
(Polarizer)
The polarizing plate can be produced by a general method. Using a fully saponified polyvinyl alcohol aqueous solution on at least one surface of a polarizing film prepared by subjecting the back side of the antiglare film and the antiglare antireflection film of the present invention to alkali saponification treatment and immersion drawing in an iodine solution It is preferable to stick them together. The film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. Commercially available cellulose ester films (for example, Konica Minoltac KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UY, KC4UY, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5, preferably Konica Minolta) Used. In contrast to the antiglare film and the antiglare antireflection film of the present invention, the polarizing plate protective film used on the other surface has an in-plane retardation Ro of 590 nm, 30 to 300 nm, and Rt of 70 to 400 nm. It is preferable to have a phase difference. These can be produced, for example, by the method described in JP-A-2002-71957 and Japanese Patent Application No. 2002-155395. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. By using in combination with the antiglare film and the antiglare antireflection film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。 The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. On the surface of the polarizing film, one side of the optical film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.
(表示装置)
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムは反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムは平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上、特に30型〜54型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜けなどもなく、その効果が長期間維持され、MVA型液晶表示装置では顕著な効果が認められる。特に、本発明の目的である色むら、ぎらつきや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
(Display device)
By incorporating the polarizing plate of the present invention into a display device, the display device of the present invention having various visibility can be manufactured. The antiglare film and antiglare antireflection film of the present invention are reflective, transmissive, transflective LCD or TN, STN, OCB, HAN, VA (PVA, MVA), IPS. It is preferably used in LCDs of various drive systems such as. Further, the antiglare film and the antiglare antireflection film of the present invention are excellent in flatness and are preferably used for various display devices such as a plasma display, a field emission display, an organic EL display, an inorganic EL display, and electronic paper. In particular, in a large-screen display device having a screen size of 30 or more, especially 30 to 54, there is no white spot in the periphery of the screen, and the effect is maintained for a long time, and a remarkable effect is obtained in the MVA liquid crystal display device. Is recognized. In particular, there was little color unevenness, glare and wavy unevenness, which is the object of the present invention.
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
実施例1
〔セルロースエステルフィルム1の作製〕
以下のセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子及び溶媒を用いてセルロースエステル溶液(ドープ)を調製し、溶液流延製膜法にてセルロースエステルフィルム1を作製した。
Example 1
[Production of Cellulose Ester Film 1]
A cellulose ester solution (dope) was prepared using the following cellulose ester, plasticizer, ultraviolet absorber, fine particles and solvent, and a cellulose ester film 1 was prepared by a solution casting film forming method.
セルロースエステル(セルローストリアセテート、アセチル基置換度2.9、Mn=160000、Mw/Mn=1.8) 100kg
可塑剤(トリメチロールプロパントリベンゾエート) 5kg
可塑剤(エチルフタリルエチルグリコレート) 5kg
紫外線吸収剤(チヌビン109、チバスペシャルティーケミカルズ(株)製)
1.0kg
紫外線吸収剤(チヌビン171、チバスペシャルティーケミカルズ(株)製)
1.0kg
微粒子(アエロジルR972V、日本アエロジル(株)製) 0.3kg
溶媒(酢酸メチル) 440kg
溶媒(エタノール) 110kg
上記のセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子及び溶媒を用いてセルロースエステル溶液(ドープ)を調製した。
Cellulose ester (cellulose triacetate, acetyl group substitution degree 2.9, Mn = 16000, Mw / Mn = 1.8) 100 kg
Plasticizer (trimethylolpropane tribenzoate) 5kg
Plasticizer (ethyl phthalyl ethyl glycolate) 5kg
UV absorber (Tinubin 109, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
1.0 kg
UV absorber (Tinuvin 171 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
1.0 kg
Fine particles (Aerosil R972V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.3kg
Solvent (methyl acetate) 440kg
Solvent (ethanol) 110kg
A cellulose ester solution (dope) was prepared using the above cellulose ester, plasticizer, ultraviolet absorber, fine particles and solvent.
次に、33℃に温度調整したセルロースエステル溶液を、ダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から37℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜(ステンレスベルトに流延以降はウェブという)に44℃の温風をあてて乾燥させ、剥離の残留溶媒量が120質量%で剥離し、剥離の際の張力をかけて1.1倍の縦延伸倍率となるように延伸し、次いで、残留溶媒量が35質量%から10質量%となる間にテンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に1.1倍の延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し、更に125℃に設定された第3乾燥ゾーンで20分間搬送させて、乾燥を行い、幅1.5m、膜厚80μm、長さ3000mのセルロースエステルフィルム1を作製した。 Next, the cellulose ester solution whose temperature was adjusted to 33 ° C. was fed to a die and uniformly cast from a die slit onto a stainless steel belt. The cast part of the stainless steel belt was heated from the back with hot water of 37 ° C. After casting, the dope film on the metal support (which is called a web after casting on the stainless steel belt) is dried by applying hot air of 44 ° C., and the residual solvent in the peeling is peeled off at 120 mass%. The web end is gripped with a tenter while the residual solvent amount is from 35% by mass to 10% by mass, and is stretched in the width direction. It extended | stretched so that it might become 1.1 times the draw ratio. After stretching, the width is maintained for several seconds, then the tension in the width direction is relaxed, then the width is released, and further transported for 20 minutes in the third drying zone set at 125 ° C. for drying. The cellulose ester film 1 having a width of 1.5 m, a film thickness of 80 μm, and a length of 3000 m was produced.
〔微粒子添加による防眩性フィルム1の作製〕
上記セルロースエステルフィルム1の表面(B面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、下記のハードコート層用塗布液1を孔径20μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が0.1W/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ5μmの防眩性ハードコート層を形成し防眩性フィルム1を作製した。形成した凹凸についてWYKO社製光学干渉式表面粗さ測定機を用いて平均表面粗さ(Ra)の測定を行った結果、0.55μmであった。
[Preparation of antiglare film 1 by adding fine particles]
On the surface of the cellulose ester film 1 (B surface side; surface in contact with a support mirror surface such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the following coating solution 1 for hard coat layer has a pore diameter of 20 μm. A hard coat layer coating solution is prepared by filtration through a polypropylene filter, and this is applied using a micro gravure coater, dried at 90 ° C., and then irradiated with an ultraviolet lamp with an illuminance of 0.1 W / cm 2. Thus, the coating layer was cured with an irradiation dose of 0.1 J / cm 2 to form an anti-glare hard coat layer having a thickness of 5 μm, thereby producing an anti-glare film 1. It was 0.55 micrometer as a result of measuring the average surface roughness (Ra) about the formed unevenness | corrugation using the optical interference type surface roughness measuring machine by WYKO.
また、凸部の平均中心間距離は77μmであった。 Further, the average center distance of the convex portions was 77 μm.
ハードコート層用塗布液1より、合成シリカ微粒子を除いた塗布液を別途作製し、前述と同様な塗布・硬化条件で作製した膜をアッベの屈折計で測定した所、屈折率は1.517であった。 A coating solution excluding synthetic silica fine particles was separately prepared from the coating solution 1 for hard coat layer, and a film prepared under the same coating and curing conditions as described above was measured with an Abbe refractometer. The refractive index was 1.517. Met.
(ハードコート層塗布液1)
下記材料を攪拌、混合し、ハードコート層塗布液1とした。
(Hard coat layer coating solution 1)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer coating solution 1.
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 200質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
25質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
合成シリカ微粒子 平均粒子径 1.8μm 40質量部
界面活性剤(シリコーン系界面活性剤;FZ2207(日本ユニカー製)10質量%プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液) 固形分で0.6質量部
〔エンボス加工による防眩フィルム2の作製〕
上記セルロースエステルフィルム1の作製において、テンターによる延伸処理後、鋳型を設けたロール(凹凸形成後、凸部高さ1μm、凸部大きさ(長辺)10μm、凸部間距離50μmになるような微細凹凸構造を刻印したもの)とバックロールから構成される凹凸形成部で溶媒を含むフィルムを挟んでフィルムのB面(ステンレスバンド支持体に接していた側をB面とし、その反対側をA面とする。)側に鋳型を設けた熱ロールを押し当てて、A面側にはバックロールを配置し、両ロール間を通すことによってB面側に凹凸を形成した以外は同様にして、エンボス加工したセルロースエステルフィルム2を作製した。尚、凹凸形成部近傍には、除電ワイヤーを設置してフィルムの帯電を抑制した。
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 200 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
25 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 110 parts by weight Ethyl acetate 110 parts by weight Synthetic silica fine particles Average particle size 1.8 μm 40 parts by weight Surfactant (silicone surfactant; FZ2207 (manufactured by Nippon Unicar)) 10% by weight propylene glycol monomethyl ether Solution) 0.6 parts by mass in solid content [Preparation of
In the production of the cellulose ester film 1, a roll provided with a mold after the stretching treatment by a tenter (after forming the unevenness, the height of the convex part is 1 μm, the convex part size (long side) is 10 μm, and the distance between the convex parts is 50 μm. A B-side of the film (the side in contact with the stainless steel band support is the B-side, with the film containing the solvent sandwiched between the concavo-convex forming part consisting of a fine roll and the back roll, and the opposite side is the A side. In the same manner, except that a hot roll provided with a mold on the side is pressed, a back roll is placed on the A side, and irregularities are formed on the B side by passing between both rolls. An embossed
上記エンボス加工したセルロースエステルフィルム2の表面(B面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、下記のハードコート層用塗布液2を孔径20μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が0.1W/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ5μmの防眩性ハードコート層を形成し防眩性フィルム2を作製した。
On the surface of the embossed cellulose ester film 2 (B side; surface in contact with a mirror surface of a support such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the following
形成された凹凸についてWYKO社製光学干渉式表面粗さ測定機を用いて平均表面粗さ(Ra)の測定を行った結果、0.82μmであった。また、凸部の平均中心間距離は65μmであった。 It was 0.82 micrometer as a result of measuring the average surface roughness (Ra) about the formed unevenness | corrugation using the optical interference type surface roughness measuring machine made from WYKO. The average center distance of the convex portions was 65 μm.
ハードコート層用塗布液2を、別途前述と同様な塗布・硬化条件で作製した膜をアッベの屈折計で測定した所、屈折率は1.521であった。
A film prepared by separately applying the hard coat
(ハードコート層塗布液2)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 60質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 40質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
4質量部
酢酸エチル 50質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 50質量部
シリコン化合物(BYK−307(ビックケミージャパン社製)) 0.5質量部
〔フレキソ印刷法による凸構造部を有する防眩性フィルム3〜16の作製〕
図11の装置を用いて、上記作製したセルロースエステルフィルム1の表面(A面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、下記凸構造部用塗布液1〜3を孔径20μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して調製し、図11の製造装置によりフレキソ印刷で凸構造部を形成した。フレキソ印刷の印刷パターンはアグファゲバルト社のクリスタル・ラスター・スクリーニング法を用い、2400 ̄4000dpi、1〜10%濃度のパターンを用いた。
(Hard coat layer coating solution 2)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 60 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate 40 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
4 parts by mass Ethyl acetate 50 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 50 parts by mass Silicon compound (BYK-307 (manufactured by Big Chemie Japan)) 0.5 parts by mass [Anti-glare film 3 having a convex structure by flexographic printing) 16 production]
Using the apparatus of FIG. 11, the following convexity was formed on the surface of the cellulose ester film 1 produced above (A surface side; surface in contact with a mirror surface of a support such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side). The coating liquids 1 to 3 for the structure part were prepared by filtering with a polypropylene filter having a pore diameter of 20 μm, and a convex structure part was formed by flexographic printing using the manufacturing apparatus of FIG. As a flexographic printing pattern, a crystal raster screening method manufactured by Agfa Gehwald was used, and a pattern having a density of 2400 to 4000 dpi and 1 to 10% density was used.
凸構造部を形成後、乾燥ゾーン505Aにて90℃で乾燥の後、紫外線ランプ506Aを用い、紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させた。また、アニロックスロールからの塗布液供給量を制御して、凸構造部の平均高さを制御した。
After forming the convex structure portion, after drying at 90 ° C. in the
(シームレス樹脂版の仕様)
感光性樹脂版:2−ヒドロキシエチルアクリレート98部とブタンジオールジアクリレート1部を反応して得られたコアとメタアクリル酸20部とN−ブチルアクリレート80部を反応させて得られたコアシェル型ミクロゲル(コア/シェル=2/1)71g、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート25g、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン4gを混合して得られた感光性樹脂組成物を厚み2mmのポリエステルフィルムの上に塗布したのち、波長360nmの紫外線により、1000mJ/cmの露光を行いレーザー彫刻用印刷原版を得た。次いで下記レーザー彫刻条件で微細凹凸構造を彫刻し、図1のように樹脂版ロールに真空引きしながら装着し、全体を120℃20分間加熱を行ったところ継ぎ目が見えなくなりシームレス樹脂版になった。
(Seamless resin plate specifications)
Photosensitive resin plate: Core-shell type microgel obtained by reacting 98 parts of 2-hydroxyethyl acrylate and 1 part of butanediol diacrylate, 20 parts of methacrylic acid and 80 parts of N-butyl acrylate A photosensitive resin composition obtained by mixing 71 g of (core / shell = 2/1), 25 g of trimethylolpropane ethoxytriacrylate and 4 g of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone on a polyester film having a thickness of 2 mm After coating, the substrate was exposed at 1000 mJ / cm with ultraviolet light having a wavelength of 360 nm to obtain a printing original plate for laser engraving. Next, the fine concavo-convex structure was engraved under the following laser engraving conditions, and mounted on the resin plate roll while evacuating as shown in FIG. 1. When the whole was heated at 120 ° C. for 20 minutes, the joints disappeared and a seamless resin plate was obtained. .
樹脂版径は500mm、樹脂版のゴム硬度は50とした。ゴム硬度はJIS K 6253に記載の方法に準じてデュロメータで測定した。 The resin plate diameter was 500 mm, and the rubber hardness of the resin plate was 50. Rubber hardness was measured with a durometer according to the method described in JIS K 6253.
こうして作製された凸構造部の上に、下記透明樹脂層用塗布液1〜3を、減圧押出し法によって膜厚を変化させて塗布し、表1記載の防眩性フィルム3〜16を作製した。 On the convex structure part thus prepared, the following coating solutions 1 to 3 for the transparent resin layer were applied by changing the film thickness by a reduced pressure extrusion method, and antiglare films 3 to 16 shown in Table 1 were produced. .
〔インクジェット法による凸構造部を有する防眩性フィルム17〜30の作製〕
セルロースエステルフィルム1の表面(B面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、下記凸構造部塗布液4〜6をインクジェット方式によりインク液滴として2〜16plで出射し、乾燥後0.2秒後に活性光線照射部より100mJ/cm2の照射強度で紫外線照射して硬化させ、凸構造部を形成した。
[Preparation of
On the surface of the cellulose ester film 1 (B surface side; surface in contact with a support mirror surface such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the following convex structure part coating liquids 4 to 6 are applied by an inkjet method. Ink droplets were emitted at 2 to 16 pl, 0.2 seconds after drying, and cured by irradiating with ultraviolet rays at an irradiation intensity of 100 mJ / cm 2 from the actinic ray irradiating portion to form a convex structure portion.
インクジェット出射装置は、ラインヘッド方式(図8の(a))を使用し、ノズル径が3.5μmのノズルを256個有するインクジェットヘッドを10基を準備した。インクジェットヘッドは図7に記載の構成のものを使用した。インク供給系は、インク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッド及び配管から構成されており、インク供給タンクからインクジェットヘッド部までは、断熱及び加温(40℃)し、出射温度は40℃、駆動周波数は20kHzで行った。尚、防眩性フィルム17、18、29については、静電方式インクジェットを用いて、インク液滴を1pl以下として凸構造部を作製した。
As the inkjet emitting device, a line head method (FIG. 8A) was used, and 10 inkjet heads having 256 nozzles having a nozzle diameter of 3.5 μm were prepared. An ink jet head having the structure shown in FIG. 7 was used. The ink supply system is composed of an ink supply tank, a filter, a piezo-type ink jet head, and piping. The ink supply tank to the ink jet head section is insulated and heated (40 ° C.), and the emission temperature is 40 ° C. The driving frequency was 20 kHz. In addition, about the
こうして作製された凸構造部の上に、下記透明樹脂層用塗布液1〜3を、減圧押出し法によって膜厚を変化させて塗布し、表1記載の防眩性フィルム17〜30を作製した。
On the convex structure part thus prepared, the following coating solutions 1 to 3 for the transparent resin layer were applied by changing the film thickness by a reduced pressure extrusion method, and
(凸構造部塗布液1)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 70質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
4質量部
酢酸エチル 50質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 50質量部
シリコン化合物(BYK−307(ビックケミージャパン社製)) 0.2質量部
上記組成物を混合撹拌し、凸構造部塗布液1を調製した。
(Convex structure coating solution 1)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 70 parts by
4 parts by mass Ethyl acetate 50 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 50 parts by mass Silicon compound (BYK-307 (manufactured by Big Chemie Japan)) 0.2 parts by mass The above composition is mixed and stirred to prepare convex structure part coating liquid 1 did.
凸構造部塗布液1を、塗布乾燥後・紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させて作製した膜をアッベの屈折計で測定した所、屈折率は1.522であった。 The convex structure coating solution 1 was measured by Abbe's refractometer after coating and drying, and curing the film with an ultraviolet illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation dose of 0.1 J / cm 2 . The refractive index was 1.522.
(凸構造部塗布液2)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 100質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
ITO分散粒子 (平均粒子径 65nm) 70質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
10質量部
シリコン化合物(BYK−307(ビックケミージャパン社製)) 0.2質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 100質量部
酢酸エチル 100質量部
上記組成物を混合撹拌し、凸構造部塗布液2を調製した。
(Convex structure coating solution 2)
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 100 parts by
10 parts by mass Silicon compound (BYK-307 (manufactured by Big Chemie Japan)) 0.2 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 100 parts by mass Ethyl acetate 100 parts by mass The above composition is mixed and stirred to prepare a convex structure
凸構造部塗布液2を、塗布乾燥後・紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させて作製した膜をアッベの屈折計で測定した所、屈折率は1.556であった。
The convex
(凸構造部塗布液3)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 100質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 50質量部
酸化チタン微粒子分散物(酸化珪素微粒子濃度 20質量%、分散溶媒イソプロパノール、粒径35nm) 50質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 100質量部
メチルエチルケトン 100質量部
撥油性界面活性剤(ポリジメチルシロキサン;KF96(信越化学製))
0.2質量部
上記組成物を混合撹拌し、凸構造部塗布液3を調製した。
(Convex structure coating solution 3)
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 100 parts by weight Trimethylolpropane triacrylate 50 parts by weight Titanium oxide fine particle dispersion (silicon oxide
10 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 100 parts by mass Methyl ethyl ketone 100 parts by mass Oil-repellent surfactant (polydimethylsiloxane; KF96 (manufactured by Shin-Etsu Chemical))
0.2 part by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a convex structure part coating solution 3.
凸構造部塗布液3を、塗布乾燥後・紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させて作製した膜をアッベの屈折計で測定した所、屈折率は1.573であった。 The film prepared by coating the convex structure portion coating solution 3 after coating and drying and curing with an ultraviolet illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 was measured with an Abbe refractometer, The refractive index was 1.573.
(凸構造部塗布液4)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 70質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
4質量部
酢酸エチル 150質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 150質量部
シリコン化合物(BYK−307(ビックケミージャパン社製)) 0.2質量部
上記組成物を混合撹拌し、凸構造部塗布液4を調製した。
(Convex structure coating solution 4)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 70 parts by
4 parts by mass Ethyl acetate 150 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 150 parts by mass Silicon compound (BYK-307 (manufactured by Big Chemie Japan)) 0.2 parts by mass The above composition is mixed and stirred to prepare convex structure part coating liquid 4 did.
凸構造部塗布液4を、塗布乾燥後・紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させて作製した膜をアッベの屈折計で測定した所、屈折率は1.522であった。 A film prepared by coating the convex structure part coating liquid 4 after coating and drying, and curing with an ultraviolet illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 , was measured with an Abbe refractometer, The refractive index was 1.522.
(凸構造部塗布液5)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 100質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
ITO分散粒子(平均粒子径 65nm) 70質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
10質量部
シリコン化合物(BYK−307(ビックケミージャパン社製)) 0.2質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 300質量部
イソプロパノール 300質量部
上記組成物を混合撹拌し、凸構造部塗布液5を調製調整した。
(Convex structure coating solution 5)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 100 parts by
10 parts by mass Silicon compound (BYK-307 (produced by Big Chemie Japan)) 0.2 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 300 parts by mass Isopropanol 300 parts by mass The above composition is mixed and stirred to prepare and adjust the convex structure
凸構造部塗布液5を、塗布乾燥後・紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させて作製した膜をアッベの屈折計で測定した所、屈折率は1.556であった。
The convex
(凸構造部塗布液6)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 100質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
酸化チタン微粒子分散物(酸化珪素微粒子濃度 20質量%、分散溶媒イソプロパノール、粒径35nm) 50質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 100質量部
メチルエチルケトン 150質量部
界面活性剤(ポリジメチルシロキサン;KF96(信越化学製)) 0.2質量部
上記組成物を混合撹拌し、凸構造部塗布液6を調製した。
(Convex structure coating solution 6)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 100 parts by
10 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 100 parts by mass Methyl ethyl ketone 150 parts by mass Surfactant (polydimethylsiloxane; KF96 (manufactured by Shin-Etsu Chemical)) 0.2 parts by mass The above composition is mixed and stirred to prepare a convex structure
凸構造部塗布液6を、塗布乾燥後・紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させて作製した膜をアッベの屈折計で測定した所、屈折率は1.573であった。
The film prepared by coating the convex structure
(透明樹脂層塗布液1)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 60質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 40質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
4質量部
酢酸エチル 50質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 50質量部
シリコン化合物(BYK−307(ビックケミージャパン社製)) 0.5質量部
上記組成物を混合撹拌し、透明樹脂層塗布液1を調製した。
(Transparent resin layer coating solution 1)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 60 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate 40 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
4 parts by mass Ethyl acetate 50 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 50 parts by mass Silicon compound (BYK-307 (manufactured by Big Chemie Japan)) 0.5 parts by mass The above composition is mixed and stirred to prepare a transparent resin layer coating solution 1 did.
透明樹脂層塗布液1を、塗布乾燥後・紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させて作製した膜をアッベの屈折計で測定した所、屈折率は1.522であった。 The transparent resin layer coating liquid 1 was measured by Abbe's refractometer after coating and drying, and the film was prepared by curing with an ultraviolet illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 . The refractive index was 1.522.
(透明樹脂層塗布液2)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 100質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
ITO分散粒子 (平均粒子径 65nm) 70質量部
界面活性剤(シリコーン系界面活性剤;FZ2207(日本ユニカー製))
0.5質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
4質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 50質量部
メチルエチルケトン 500質量部
塗布液の粘度は40℃、東京計器社製のB型粘度計BLを用い測定した結果、3Pa・sであった。
(Transparent resin layer coating solution 2)
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku) 100 parts by
0.5 parts by mass of photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
4 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 50 parts by mass Methyl ethyl ketone 500 parts by mass The viscosity of the coating solution was 3 ° C as a result of measurement using a B-type viscometer BL manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd.
上記組成物を混合撹拌し、透明樹脂層塗布液2を調製した。
The said composition was mixed and stirred and the transparent resin
透明樹脂層塗布液2を、塗布乾燥後・紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させて作製した膜をアッベの屈折計で測定した所、屈折率は1.556であった。
The transparent resin
(透明樹脂層塗布液3)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 100質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
酸化珪素微粒子分散物(酸化珪素微粒子濃度 20質量%、分散溶媒イソプロパノール、粒径35nm) 100質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
10質量部
界面活性剤(シリコーン系界面活性剤;FZ2207(日本ユニカー製))
0.5質量部
上記組成物を混合撹拌し、透明樹脂層塗布液3を調製した。
(Transparent resin layer coating solution 3)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 100 parts by
10 parts by mass surfactant (silicone surfactant; FZ2207 (Nihon Unicar))
0.5 part by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a transparent resin layer coating solution 3.
透明樹脂層塗布液3を、塗布乾燥後・紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が0.1J/cm2で硬化させて作製した膜をアッベの屈折計で測定した所、屈折率は1.471であった。 The transparent resin layer coating solution 3 was measured by Abbe's refractometer after the coating and drying, and the film prepared by curing with an ultraviolet illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2 ; The refractive index was 1.471.
《測定、評価》
(凸構造部径、凸構造部高さ、凸構造部個数、Ra、Smの測定)
凸構造部径、凸構造部高さ、凸構造部個数(1mm2当たり)は、透明樹脂層を塗布する前のフイルム試料を用いて、WYKO社製光学干渉式表面粗さ測定機を用いて、約4000μm2の範囲(55μm×75μm)について2次元的に測定し、凸部を底部側より等高線のごとく色分けして表示し、フィルム面を基準とした凸部高さ及び凸構造部の長径である凸部径を測定した。また、凸構造部個数は得られた凸構造部の個数を1mm2あたりに換算して求めた。これらの測定は、基材フィルムの該当箇所の任意の10点を測定してその平均値として求めた。
<Measurement, evaluation>
(Measurement of convex structure part diameter, convex structure part height, number of convex structure parts, Ra, Sm)
The convex structure part diameter, convex structure part height, and number of convex structure parts (per 1 mm 2 ) were measured using an optical interference type surface roughness measuring machine manufactured by WYKO, using a film sample before applying the transparent resin layer. , Measured in a two-dimensional manner in the range of about 4000 μm 2 (55 μm × 75 μm), and the convex portion is color-coded and displayed as a contour line from the bottom side, and the convex portion height and the long diameter of the convex structure portion are based on the film surface. The diameter of the convex portion was measured. The number of convex structure portions was determined by converting the number of convex structure portions obtained per 1 mm 2 . These measurements were obtained as an average value by measuring arbitrary 10 points of the corresponding part of the base film.
表面粗さ(Ra)、平均中心間距離(Sm)は透明樹脂層を塗布した後のフイルム試料を用いて、WYKO社製光学干渉式表面粗さ測定機を用いて、JIS B0601の測定方法により測定した。 The surface roughness (Ra) and the average center-to-center distance (Sm) are determined by the measurement method of JIS B0601 using a film sample after applying the transparent resin layer and using an optical interference type surface roughness measuring machine manufactured by WYKO. It was measured.
(防眩効果)
窓のあるオフィスにて、各フィルムを机の上に広げ、天井の蛍光灯照明及び外光のフィルムへの写り込みを下記のように評価した。
(Anti-glare effect)
In an office with a window, each film was spread on a desk, and fluorescent lighting on the ceiling and reflection of external light on the film were evaluated as follows.
5:蛍光灯の輪郭、及び外光がぼけて写り込みが全く気にならない
4:5と3の中間
3:蛍光灯の輪郭、及び外光の写り込みが僅かに認められる
2:3と1の中間
1:蛍光灯の輪郭、及び外光が分かり写り込みが気になる
(ぎらつき)
作製したフィルムについて、目視にてぎらつきを判定した。
5: The outline of the fluorescent lamp and the external light are blurred and I don't care about the reflection at all 4: Between 5 and 3 3: The outline of the fluorescent lamp and the reflection of the external light are slightly recognized 2: 3: 1 Middle of 1: The outline of the fluorescent lamp and the external light are understood and the reflection is worrisome (glare)
About the produced film, the glare was determined visually.
5:ぎらつきが全く分からない
4:ぎらつきが極僅かに分かる
3:ややぎらつきが分かる
2:3と1の中間
1:ぎらつきがかなり気になる
(白濁)
作製したフィルムについて、目視にて白濁を判定した。
5: I don't know the glare at all. 4: I can understand the glare very slightly. 3: I can see a slight glare. 2: Between 3 and 1. 1: I'm worried about the glare.
About the produced film, the cloudiness was determined visually.
5:白濁が全く気にならない
4:5と3の中間
3:白濁がやや気になる
2:3と1の中間
1:白濁がかなり気になる
以上の測定、評価結果を下記表1に示す。
5: I don't care about white turbidity at all 4: Intermediate between 5 and 3 3: Somewhat anxious about white turbidity 2: Intermediate between 3 and 1 1: Very anxious about white turbidity Table 1 shows the above measurement and evaluation results .
表1より、微粒子添加による微細凹凸構造を付与した防眩性フィルム1は、微粒子の分散性のばらつきの為か、ぎらつきが劣り、白濁も見られた。エンボス加工により微細凹凸構造を付与した防眩性フィルム2は防眩効果、ぎらつきがやや劣っており白濁も見られた。また、防眩性フィルム2の先頭と後尾で微細凹凸構造の高さ、大きさが異なっており、鋳型を観察すると鋳型の一部に溶けたフィルムによる目詰まりを起こしていた。
From Table 1, the antiglare film 1 provided with a fine concavo-convex structure by addition of fine particles was inferior in glaring and clouded due to dispersion of fine particle dispersibility. The
それに対し、本発明の防眩性フィルム3〜28は、防眩効果、ぎらつきに優れ、白濁も気にならないレベルであった。また、防眩性フィルムの先頭と後尾の微細凹凸構造の高さ、大きさが揃っており、高い均一性、生産安定性を有していることが分かった。 On the other hand, the anti-glare films 3 to 28 of the present invention were excellent in anti-glare effect and glare, and were at a level that did not bother the white turbidity. In addition, the height and size of the fine concavo-convex structure at the head and tail of the antiglare film were uniform, and it was found that the film has high uniformity and production stability.
実施例2
次いで、実施例1作製した防眩性フィルム1〜30のハードコート表面に下記表面処理を行った。
Example 2
Next, the following surface treatment was performed on the hard coat surfaces of the antiglare films 1 to 30 produced in Example 1.
〈表面処理〉
アルカリ処理:各防眩性フィルムを、50℃に加熱した1.5mol/l−NaOH水溶液に2分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、0.5質量%−H2SO4水溶液に室温で30秒間浸漬し中和させ、水洗、乾燥を行った。
<surface treatment>
Alkaline treatment: Each anti-glare film was immersed in a 1.5 mol / l-NaOH aqueous solution heated to 50 ° C. for 2 minutes for alkali treatment, washed with water, and then washed with a 0.5 mass% -H 2 SO 4 aqueous solution at room temperature. It was immersed for 30 seconds to neutralize, washed with water and dried.
〔防眩性反射防止フィルムの作製〕
次いで、防眩フィルム1〜30の透明樹脂層上に下記低屈折率層を塗設した。
[Preparation of antiglare antireflection film]
Next, the following low refractive index layer was coated on the transparent resin layer of the antiglare films 1 to 30.
(反射防止層の作製:低屈折率層)
下記の低屈折率層塗布組成物1を押出しコーターで塗布し、100℃で1分間乾燥させた後、紫外線を0.1J/cm2照射して硬化させ、更に120℃で5分間熱硬化させ、厚さ95nmとなるように低屈折率層を設け、防眩性反射防止フィルム1〜30を作製した。尚、この低屈折率層の屈折率は1.37であった。
(Preparation of antireflection layer: low refractive index layer)
The following low refractive index layer coating composition 1 is applied by an extrusion coater, dried at 100 ° C. for 1 minute, cured by irradiation with ultraviolet rays of 0.1 J / cm 2 , and further thermally cured at 120 ° C. for 5 minutes. A low refractive index layer was provided so as to have a thickness of 95 nm, and antiglare and antireflection films 1 to 30 were produced. The refractive index of this low refractive index layer was 1.37.
また作製した防眩性反射防止フィルムについて、分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における分光反射率を測定した。反射防止性能は広い波長領域において反射率が小さいほど良好であるため、測定結果から450〜650nmにおける最低反射率を求めた。測定は、観察側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止して、反射率の測定を行った。測定の結果、上記防眩性反射防止フィルムはいずれも反射率で0.7〜1.2の間に反射率を有し良好な結果を示した。 Moreover, about the produced anti-glare antireflection film, a spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 380 to 780 nm using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation). Since the antireflection performance is better as the reflectance is smaller in a wide wavelength region, the minimum reflectance at 450 to 650 nm was obtained from the measurement results. In the measurement, the back surface on the observation side was roughened, and then light absorption processing was performed using a black spray to prevent reflection of light on the back surface of the film, and the reflectance was measured. As a result of the measurement, all of the antiglare antireflection films had a reflectance of 0.7 to 1.2 and showed good results.
(低屈折率層塗布組成物1の調製)
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン289gとエタノール553gを混和し、これに0.15%酢酸水溶液157gを添加し、25℃のウォーターバス中で30時間攪拌することで加水分解物Aを調製した。
(Preparation of low refractive index layer coating composition 1)
<Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A>
Hydrolyzate A was prepared by mixing 289 g of tetraethoxysilane and 553 g of ethanol, adding 157 g of 0.15% aqueous acetic acid solution thereto, and stirring in a water bath at 25 ° C. for 30 hours.
テトラエトキシシラン加水分解物A 110質量部
中空シリカ系微粒子(下記P−2)分散液 30質量部
KBM503(シランカップリング剤、信越化学(株)製) 4質量部
直鎖ジメチルシリコーン−EOブロックコポリマー(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 3質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 400質量部
イソプロピルアルコール 400質量部
〈中空シリカ系微粒子P−2分散液の調製〉
平均粒径5nm、SiO2濃度20質量%のシリカゾル100gと純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として0.98質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAl2O3として1.02質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO2・Al2O3核粒子分散液を調製した。(工程(a))
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO2濃度3.5質量%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程(b))
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、さらに濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO2・Al2O3多孔質粒子の分散液を調製した(工程(c))。上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1,750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO228質量%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%の中空シリカ系微粒子(P−2)分散液を調製した。
Tetraethoxysilane hydrolyzate A 110 parts by mass Hollow silica-based fine particle (P-2 below)
A mixture of 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO 2 concentration of 20% by mass and 1900 g of pure water was heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor was 10.5, and 9000 g of 0.98 mass% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of 1.02 mass% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 were simultaneously added to the mother liquor. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO 2 .Al 2 O 3 core particle dispersion having a solid content concentration of 20% by mass. (Process (a))
1700 g of pure water is added to 500 g of this core particle dispersion and heated to 98 ° C., and while maintaining this temperature, a silicic acid solution (SiO 2) obtained by dealkalizing a sodium silicate aqueous solution with a cation exchange resin. A dispersion of core particles in which 3000 g (concentration of 3.5% by mass) was added to form a first silica coating layer was obtained. (Process (b))
Next, 1125 g of pure water is added to 500 g of the core particle dispersion liquid that has been washed with an ultrafiltration membrane to form a first silica coating layer having a solid concentration of 13% by mass, and concentrated hydrochloric acid (35.5%) is further added dropwise. The pH was adjusted to 1.0 and dealumination was performed. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane was separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and SiO 2 · Al from which some of the constituent components of the core particles forming the first silica coating layer were removed. A dispersion of 2 O 3 porous particles was prepared (step (c)). A mixture of 1500 g of the above porous particle dispersion, 500 g of pure water, 1,750 g of ethanol, and 626 g of 28% ammonia water is heated to 35 ° C., and then 104 g of ethyl silicate (
この中空シリカ系微粒子の第1シリカ被覆層の厚さは3nm、平均粒径は47nm、MOx/SiO2(モル比)は0.0017、屈折率は1.28であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。 The thickness of the first silica coating layer of the hollow silica-based fine particles was 3 nm, the average particle size was 47 nm, MOx / SiO 2 (molar ratio) was 0.0017, and the refractive index was 1.28. Here, the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method.
〔偏光板の作製〕
次いで、各防眩性反射防止フィルム1〜30を用いて偏光板を作製した。
[Preparation of polarizing plate]
Subsequently, a polarizing plate was produced using each antiglare antireflection film 1-30.
厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。 A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. This was washed with water and dried to obtain a polarizing film.
次いで、下記工程1〜5に従って偏光膜と前記防眩性反射防止フィルム1〜30、裏面側のセルロースエステルフィルムとして、コニカミノルタタック KC8UCR−5(コニカミノルタオプト(株)製)を貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムは位相差を有するセルロースエステルフィルムであり、リターデーション値はRo=43nm、Rt=132nmであった。 Next, in accordance with the following steps 1 to 5, a polarizing film, the antiglare antireflection film 1 to 30, and a cellulose ester film on the back side are bonded together with Konica Minoltak KC8UCR-5 (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) for polarization. A plate was made. The polarizing plate protective film on the back side was a cellulose ester film having a retardation, and retardation values were Ro = 43 nm and Rt = 132 nm.
工程1:50℃の1モル/Lの水酸化ナトリウム溶液に60秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光膜と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。 Step 1: Soaked in a 1 mol / L sodium hydroxide solution at 50 ° C. for 60 seconds, then washed with water and dried to obtain a saponified cellulose ester film bonded to the polarizing film.
工程2:前記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。 Step 2: The polarizing film was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.
工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理したセルロースエステルフィルムの上にのせて、更に反射防止層が外側になるように積層し、配置した。
Step 3: Lightly wipe off the excess adhesive adhering to the polarizing film in
工程4:工程3で積層した防眩性反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料を圧力20〜30N/cm2、搬送スピードは約2m/分で貼合した。 Step 4: The antiglare antireflection film, the polarizing film, and the cellulose ester film sample laminated in Step 3 were bonded at a pressure of 20 to 30 N / cm 2 and a conveyance speed of about 2 m / min.
工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと防眩性反射防止フィルム1〜30とを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、偏光板1〜30を作製した。 Step 5: A sample obtained by bonding the polarizing film, the cellulose ester film, and the antiglare antireflection film 1 to 30 prepared in Step 4 in a dryer at 80 ° C. is dried for 2 minutes to produce polarizing plates 1 to 30. did.
《液晶表示装置の作製》
液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
<Production of liquid crystal display device>
A liquid crystal panel was produced as follows, and the characteristics as a liquid crystal display device were evaluated.
市販の32型液晶テレビ(MVA型セル)の予め貼合されていた表面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板1〜30をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。 The polarizing plate on the surface of the commercially available 32-inch liquid crystal television (MVA type cell) that was previously bonded was peeled off, and the prepared polarizing plates 1 to 30 were each bonded to the glass surface of the liquid crystal cell.
その際、その偏光板の貼合の向きは、位相差を有するセルロースエステルフィルムの面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置1〜30を各々作製した。 At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is such that the surface of the cellulose ester film having a retardation is on the liquid crystal cell side, and the absorption axis is in the same direction as the polarizing plate previously bonded. The liquid crystal display devices 1 to 30 were respectively produced.
《評価》
得られた液晶表示装置1〜30を用いて、図12で示した様な環境で観察し、前記防眩効果、ぎらつき、及び下記視認性及び動画を表示したときの黒のしまりを各々下記の基準に従い目視にて評価した。尚、照明は40W蛍光灯(松下電器製FLR40S−EX−D/M)10本を天井に設置した。また窓から外光が差し込む状態で評価した。
<Evaluation>
The obtained liquid crystal display devices 1 to 30 are observed in an environment as shown in FIG. 12, and the anti-glare effect, glare, and the blackness when the following visibility and moving images are displayed are respectively shown below. Visual evaluation was made according to the criteria. In addition, 10 40W fluorescent lamps (FLR40S-EX-D / M manufactured by Matsushita Electric) were installed on the ceiling. Moreover, it evaluated in the state which external light inserts from a window.
(視認性及び動画を表示したときの黒のしまり)
前述の様に天井からは蛍光灯による人工照明と窓からの外光が差し込んでいる環境下でTV番組の動画像を同ディスプレイに表示し、比較実験を行った。ディスプレイ正面から1m離れた位置で動画像を観察し官能評価を行った。
(Visibility and black spots when displaying video)
As described above, a moving image of a TV program was displayed on the same display in an environment where artificial lighting by a fluorescent lamp and external light from a window were inserted from the ceiling, and a comparative experiment was performed. A moving image was observed at a position 1 m away from the front of the display, and sensory evaluation was performed.
5:画面上部の蛍光灯の写り込みが気にならず、画面中央部は外光があっても黒がしまって見え、観察中、観察直後においても疲れず違和感がない
4:5と3の中間
3:画面上部の蛍光灯の写り込みが僅かに認められ、画面中央部は外光があると黒がややしまりに欠け、観察後やや疲れる
2:3と1の中間
1:画面上部の蛍光灯の写り込みが認められ、画面中央部は外光の影響で黒のしまりに欠け、見ていると目が疲れる
防眩性反射防止フィルム/液晶表示装置の構成及び上記評価結果を下記表2に示す。
5: I don't mind the reflection of the fluorescent lamp at the top of the screen, and the center of the screen looks black even when there is external light. Middle 3: Slight reflection of fluorescent light at the top of the screen is observed, and the center of the screen is slightly tired after observation if there is external light 2: Intermediate between 1: 3 and 1: 1: Fluorescence at the top of the screen The reflection of the light is recognized, the center of the screen lacks black spots due to the influence of external light, and eyes are tired when looking at the structure of the antiglare antireflection film / liquid crystal display device and the evaluation results are shown in Table 2 below. Shown in
表2より、微粒子添加による微細凹凸構造を付与した液晶表示装置1は、微粒子の分散性のばらつきの為か防眩効果、ぎらつきの改善が中途であり黒のしまりに劣っていた。エンボス加工により微細凹凸構造を付与した液晶表示装置2は均一な凹凸構造の形成に難があり、ぎらつき、黒のしまりに劣っていた。
From Table 2, the liquid crystal display device 1 provided with a fine concavo-convex structure by addition of fine particles was inferior in blackness due to the improvement in antiglare effect and glare probably due to dispersion of fine particle dispersibility. The liquid
それに対して、本発明の防眩性反射防止フィルムを用いた液晶表示装置3〜28は、防眩効果、ぎらつき、黒のしまりに優れていることが明らかである。 On the other hand, it is clear that the liquid crystal display devices 3 to 28 using the antiglare antireflection film of the present invention are excellent in the antiglare effect, glare and blackness.
501 フィルムロール
502 基材フィルム
503 コータ
504A、B、C バックロール
505A、B 乾燥ゾーン
506A、B、C UV照射部
508 インキ供給タンク
509 フレキソ樹脂版
510 アニロックスロール
501
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