JP2008250276A - Anti-glare film, manufacturing method thereof, and polarizing plate and display device using the same - Google Patents

Anti-glare film, manufacturing method thereof, and polarizing plate and display device using the same Download PDF

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JP2008250276A JP2007150258A JP2007150258A JP2008250276A JP 2008250276 A JP2008250276 A JP 2008250276A JP 2007150258 A JP2007150258 A JP 2007150258A JP 2007150258 A JP2007150258 A JP 2007150258A JP 2008250276 A JP2008250276 A JP 2008250276A
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泰宏 渡辺
Hiroshi Inoya
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anti-glare film which can effectively prevent reflection of external light and degradation in contrast without causing degradation in clearness of high-precision image due to reduction of pixel size or the like and can be effectively and stably formed with a desired fine rugged structure with preferable productivity, to provide a manufacturing method of the anti-glare film, and to provide a polarizing plate and the display device using the anti-glare film. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the anti-glare film made by applying the fine rugged structure onto a transparent substrate according to an inkjet method, is characterized in that the fine rugged structure is formed of an ink composition which contains at least a polymerizable compound and a photo polymerization initiator and has a viscosity at 25°C of 10 to 500 mPa s. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置に関し、特に透過鮮明性と防眩性及び屈曲耐性に優れ、所望の微細凹凸構造を生産性よく形成した防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置に関する。   The present invention relates to an antiglare film, a method for producing an antiglare film, a polarizing plate and a display device, and in particular, is excellent in transmission sharpness, antiglare property and bending resistance, and has a desired fine uneven structure formed with high productivity. The present invention relates to a glare film, a method for producing an antiglare film, a polarizing plate, and a display device.

近年、薄型軽量ノートパソコンの開発が進んでいる。それに伴って、液晶表示装置等の表示装置で用いられる偏光板の保護フィルムもますます薄膜化、高性能化への要求が強くなってきている。また、視認性向上のために反射防止層を設けたり、また、写り込みを防いだり、ぎらつきの少ない表示性能を得るために表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与した、コンピュータやワープロ等の液晶画像表示装置(液晶ディスプレイともいう)が多く使用されるようになってきた。   In recent years, development of thin and light notebook computers has been progressing. Along with this, the demand for thinner and higher performance protective films for polarizing plates used in display devices such as liquid crystal display devices is also increasing. In addition, a computer provided with an anti-glare layer for improving visibility, and with an anti-glare layer that prevents reflections and scatters reflected light with a rough surface to obtain display performance with less glare. A liquid crystal image display device (also referred to as a liquid crystal display) such as a word processor or the like has been widely used.

反射防止層や防眩層は用途に応じてさまざまな種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々の前面板を液晶ディスプレイの偏光子等に貼り合わせることで、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能または防眩機能等を付与する方法が用いられている。   Various types and performance improvements have been made to the antireflection layer and antiglare layer depending on the application, and various front plates with these functions are attached to the polarizer of a liquid crystal display, etc., to improve visibility on the display. Therefore, a method of providing an antireflection function or an antiglare function is used.

防眩層は、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置などの使用時に反射像の写り込みが気にならないようにするものである。   The antiglare layer reduces the visibility of the reflected image by blurring the outline of the image reflected on the surface, and reflection of the reflected image is noticeable when using an image display device such as a liquid crystal display, an organic EL display, or a plasma display. It is to prevent it from becoming.

画像表示装置の前面板最表面に適切な微細凹凸構造を設けることによって、上記のような性質を持たせることができる。例えば、微粒子を用いる方法(例えば、特許文献1参照。)、表面にエンボス加工を施す方法(例えば、特許文献2参照。)、スピノーダル分解を利用した樹脂の相分離を利用した微細凹凸形成方法(例えば、特許文献3参照。)、インクジェット方式による微細凹凸形成方法(例えば、特許文献4参照。)等、種々の方法がある。   By providing an appropriate fine concavo-convex structure on the outermost surface of the front plate of the image display device, the above properties can be provided. For example, a method using fine particles (for example, refer to Patent Document 1), a method for embossing the surface (for example, refer to Patent Document 2), and a method for forming fine irregularities using phase separation of resin using spinodal decomposition ( For example, there are various methods such as a method for forming fine unevenness by an ink jet method (for example, see Patent Document 4).

インクジェット方式による微細凹凸形成方法は、凹凸構造部の存在密度を緻密に制御できることから、他の方式に比べ安定性、生産性に優れているが、更なる性能向上や安定性を高めることが求められている。
特開昭59−58036号公報 特開平6−234175号公報 特開2005−227407号公報 特開2004−151642号公報
The method for forming fine irregularities by the ink jet method can control the existence density of the uneven structure portion precisely, so it is superior in stability and productivity compared to other methods, but it is required to further improve performance and stability. It has been.
JP 59-58036 A JP-A-6-234175 JP 2005-227407 A JP 2004-151642 A

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法を提供し、更にそれを用いた偏光板及び表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to effectively prevent the reflection of external light and the decrease in contrast without deteriorating the sharpness of a high-definition image due to a reduction in pixel size or the like. The present invention provides an anti-glare film in which a desired fine concavo-convex structure is formed effectively and stably with good productivity, a method for producing the anti-glare film, and a polarizing plate and a display device using the same. is there.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.透明基材上にインクジェット方式により微細凹凸構造が付与される防眩性フィルムの製造方法において、該微細凹凸構造は少なくとも重合性化合物及び光開始重合剤を含有し、25℃における粘度が10〜500mPa・sのインク組成物で形成されることを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。   1. In the method for producing an antiglare film in which a fine uneven structure is imparted by an inkjet method on a transparent substrate, the fine uneven structure contains at least a polymerizable compound and a photoinitiator polymer, and has a viscosity at 25 ° C. of 10 to 500 mPa. A method for producing an antiglare film, characterized by being formed of the ink composition of s.

2.前記インク組成物が60℃において粘度が5〜30mPa・sであることを特徴とする前記1記載の防眩性フィルムの製造方法。   2. 2. The method for producing an antiglare film as described in 1 above, wherein the ink composition has a viscosity of 5 to 30 mPa · s at 60 ° C.

3.前記インク組成物が実質的に溶媒を含まないインク組成物であることを特徴とする前記1または2に記載の防眩性フィルムの製造方法。   3. 3. The method for producing an antiglare film as described in 1 or 2 above, wherein the ink composition is an ink composition substantially free of a solvent.

4.前記インク組成物が、40℃〜80℃に保持されたインクジェットヘッドから射出されることを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法。   4). 4. The method for producing an antiglare film as described in any one of 1 to 3, wherein the ink composition is ejected from an ink jet head held at 40 ° C. to 80 ° C.

5.前記1〜4のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする防眩性フィルム。   5. An antiglare film produced by the method for producing an antiglare film according to any one of 1 to 4 above.

6.前記5に記載の防眩性フィルムを少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする偏光板。   6). 6. A polarizing plate comprising the antiglare film described in 5 above on at least one surface.

7.前記5に記載の防眩性フィルム、または前記6に記載の偏光板を用いたことを特徴とする表示装置。   7. 6. A display device using the antiglare film described in 5 or the polarizing plate described in 6 above.

本発明により画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、屈曲性が良好で所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法を提供でき、更にそれを用いた視認性に優れた偏光板及び表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to effectively prevent the reflection of external light and a decrease in contrast without deteriorating the sharpness of a high-definition image due to a reduction in pixel size, etc., and a desired fine uneven structure with good flexibility. An antiglare film formed effectively and stably with good productivity and a method for producing an antiglare film can be provided, and a polarizing plate and a display device excellent in visibility using the film can be provided.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

従来、コントラスト向上を目的として、インクジェット方式により透明基材上に微細凹凸構造を形成し、防眩性フィルムを作製する技術があるが、インク液滴着弾時の衝撃で歪みを生じ、各凸部の高さ、大きさにムラが発生し、意図した防眩性能が発現しないといった問題があった。   Conventionally, for the purpose of improving contrast, there is a technique for forming an anti-glare film by forming a fine uneven structure on a transparent substrate by an ink jet method, but distortion occurs due to impact at the time of ink droplet landing, and each convex portion There was a problem that unevenness occurred in the height and size of the film, and the intended antiglare performance did not appear.

本発明者は鋭意検討の結果、本発明の構成により、優れた防眩性を有し、生産性を改良できることを見出したものである。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the configuration of the present invention has excellent antiglare properties and can improve productivity.

即ち本発明は、防眩性フィルムの製造方法に係り、透明基材上にインクジェット方式により微細凹凸構造が付与される防眩性フィルムの製造方法において、該微細凹凸構造は少なくとも重合性化合物及び光開始重合剤を含有し、25℃における粘度が10〜500mPa・sのインク組成物で形成されることを特徴としている。   That is, the present invention relates to a method for producing an antiglare film, and in the method for producing an antiglare film in which a fine uneven structure is provided on a transparent substrate by an ink jet method, the fine uneven structure includes at least a polymerizable compound and light. It is characterized by being formed of an ink composition containing an initiator and having a viscosity at 25 ° C. of 10 to 500 mPa · s.

本発明により、防眩性を発現する微細凹凸構造が均一となり、優れた防眩性を示し、また実質的に均一膜厚となることで、膜強度、特に屈曲性が向上する。更に、製造ロット内、製造ロット間のバラツキも減少し、安定した生産性を得ることが出来る。   According to the present invention, the fine concavo-convex structure that exhibits antiglare properties becomes uniform, exhibits excellent antiglare properties, and has a substantially uniform film thickness, thereby improving film strength, particularly flexibility. Furthermore, variations in production lots and between production lots are reduced, and stable productivity can be obtained.

以下、本発明を詳細に説明する。また以降、本願では微細凹凸構造における凸部をドットとも称する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. Hereinafter, in the present application, the convex portion in the fine concavo-convex structure is also referred to as a dot.

〈インク組成物〉
本発明に係わる微細凹凸構造を形成するインク組成物(以降、簡単にインクともいう)は25℃における粘度が10〜500mPa・sであることを特徴とする。より好ましくは粘度が30〜400mPa・sである。インク組成物の25℃における粘度が10mPa・s未満では、微細凹凸構造の歪み防止効果が小さく、一方500mPa・sより大きいとインク液の供給に問題が生じる。
<Ink composition>
An ink composition (hereinafter also simply referred to as ink) that forms a fine relief structure according to the present invention has a viscosity at 25 ° C. of 10 to 500 mPa · s. More preferably, the viscosity is 30 to 400 mPa · s. If the viscosity at 25 ° C. of the ink composition is less than 10 mPa · s, the effect of preventing distortion of the fine uneven structure is small, while if it is more than 500 mPa · s, there is a problem in the supply of the ink liquid.

本発明においては、安定な出射性を得るためにはインク組成物が60℃において5〜30mPa・sであることが好ましい。より好ましくは5〜15mP・sである。   In the present invention, it is preferable that the ink composition is 5 to 30 mPa · s at 60 ° C. in order to obtain stable light emission. More preferably, it is 5-15 mP · s.

(重合性化合物、光重合開始剤)
本発明のインク組成物は少なくとも重合性化合物及び光重合開始剤から構成される。以下、各構成材料について説明する。
(Polymerizable compound, photopolymerization initiator)
The ink composition of the present invention comprises at least a polymerizable compound and a photopolymerization initiator. Hereinafter, each constituent material will be described.

重合性化合物は、ラジカル重合性化合物、例えば特開平7−159983号、特公平7−31399号、特開平8−224982号、特開平10−863号、特願平7−231444号等の各号及び特願平7−231444号に記載されている光重合性組成物を用いた光硬化型材料と、カチオン重合系の光硬化性樹脂が知られており、最近では可視光以上の長波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化性樹脂も、例えば特開平6−43633号、特開平8−324137号等に公開されている。   The polymerizable compound is a radical polymerizable compound such as JP-A-7-159983, JP-B-7-31399, JP-A-8-224982, JP-A-10-863, JP-A-7-231444, and the like. And a photocurable material using a photopolymerizable composition described in Japanese Patent Application No. 7-231444 and a cationic polymerization type photocurable resin are known, and recently, a long wavelength region longer than visible light is known. Photo-cationic polymerization-based photocurable resins sensitized to the above are also disclosed in, for example, JP-A-6-43633 and JP-A-8-324137.

ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればどの様なものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は1種のみ用いてもよく、又目的とする特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用してもよい。又、単官能化合物よりも官能基を2つ以上持つ多官能化合物の方がより好ましい。更に好ましくは多官能化合物を2種以上併用して用いることが、反応性、物性などの性能を制御する上で好ましい。   The radical polymerizable compound is a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization, and may be any compound as long as it has at least one ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization in the molecule. , Oligomers, polymers and the like having a chemical form. Only one kind of radically polymerizable compound may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination at an arbitrary ratio in order to improve desired properties. A polyfunctional compound having two or more functional groups is more preferable than a monofunctional compound. More preferably, two or more polyfunctional compounds are used in combination for controlling performance such as reactivity and physical properties.

ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。具体的には、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。上記ラジカル重合性化合物の添加量は好ましくは1〜97質量%であり、より好ましくは30〜95質量%である。   Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid and their salts, esters, urethanes, amides. And radically polymerizable compounds such as various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides and unsaturated urethanes. Specifically, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, carbitol acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, neopentyl glycol Diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaery Acrylic acid derivatives such as lithol tetraacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, oligoester acrylate, N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide, epoxy acrylate, methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate , Lauryl methacrylate, allyl methacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, trimethylol Methacryl derivatives such as tan trimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloxypolyethoxyphenyl) propane, and other derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, triallyl trimellitate More specifically, Yamashita Junzo, “Cross-linker Handbook”, (1981 Taiseisha); Kato Kiyomi, “UV / EB Curing Handbook (Raw Materials)” (1985, Polymer Publication) ); Rad-Tech Study Group, “Application and Market of UV / EB Curing Technology”, p. 79, (1989, CMC); Eiichiro Takiyama, “Polyester Resin Handbook” (1988, Nikkan Kogyo Shimbun) Commercially available products described in the above, or radically polymerizable or crosslinkable monomers known in the industry, Ligomers and polymers can be used. The amount of the radical polymerizable compound added is preferably 1 to 97% by mass, more preferably 30 to 95% by mass.

ラジカル重合開始剤としては、特公昭59−1281号、特公昭61−9621号、及び特開昭60−60104号等の各公報記載のトリアジン誘導体、特開昭59−1504号及び特開昭61−243807号等の各公報に記載の有機過酸化物、特公昭43−23684号、特公昭44−6413号、特公昭44−6413号及び特公昭47−1604号等の各公報並びに米国特許第3,567,453号に記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,848,328号、同第2,852,379号及び同2,940,853号各明細書に記載の有機アジド化合物、特公昭36−22062号、特公昭37−13109号、特公昭38−18015号、特公昭45−9610号等の各公報に記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭55−39162号、特開昭59−14023号等の各公報及び「マクロモレキュルス(Macromolecules)、第10巻、第1307頁(1977年)に記載の各種オニウム化合物、特開昭59−142205号に記載のアゾ化合物、特開平1−54440号、ヨーロッパ特許第109,851号、ヨーロッパ特許第126,712号等の各明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス」(J.Imag.Sci.)」、第30巻、第174頁(1986年)に記載の金属アレン錯体、特願平4−56831号及び特願平4−89535号に記載の(オキソ)スルホニウム有機ホウ素錯体、特開昭61−151197号に記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー(Coordinantion Chemistry Review)」、第84、第85巻・第277頁(1988年)及び特開平2−182701号に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平3−209477号に記載の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭59−107344号記載の有機ハロゲン化合物等が挙げられる。これらの重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン不飽和結合を有する化合物100質量部に対して0.01から10質量部の範囲で含有されるのが好ましい。   Examples of the radical polymerization initiator include triazine derivatives described in JP-B-59-1281, JP-B-61-9621, JP-A-60-60104, JP-A-59-1504 and JP-A-61. No. 243807, etc., Japanese Patent Publication No. 43-23684, Japanese Examined Publication No. 44-6413, Japanese Examined Publication No. 44-6413, Japanese Examined Publication No. 47-1604, etc. Diazonium compounds described in US Pat. No. 3,567,453, organic azide compounds described in US Pat. Nos. 2,848,328, 2,852,379 and 2,940,853, Ortho-quinonediazides described in JP-B Nos. 36-22062, 37-13109, 38-18015, 45-9610, etc. No. 9162, JP-A 59-14023, etc. and various onium compounds described in “Macromolecules, Vol. 10, page 1307 (1977)”, JP-A 59-142205 Azo compounds described in JP-A-1-54440, European Patent No. 109,851, European Patent No. 126,712, etc., “Journal of Imaging Science” (J. Imag. Sci.). 30, page 174 (1986), (oxo) sulfonium organoboron complexes described in Japanese Patent Application Nos. 4-56831 and 4-89535, -Titanocenes described in No. 151197, “Coordination chemistry review (Coordinantio Chemistry Review), 84, 85, 277 (1988) and transition metal complexes containing transition metals such as ruthenium described in JP-A-2-182701, described in JP-A-3-209477 Examples thereof include 2,4,5-triarylimidazole dimer, carbon tetrabromide, and organic halogen compounds described in JP-A-59-107344. These polymerization initiators are preferably contained in the range of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization.

カチオン重合系放射線硬化樹脂としては、カチオン重合により高分子化の起こるタイプ(主にエポキシタイプ)のエポキシタイプの紫外線硬化性プレポリマー、モノマーは、1分子内にエポキシ基を2個以上含有するプレポリマーを挙げることができる。このようなプレポリマーとしては、例えば、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物類及びエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらのプレポリマーは、その一種を単独で使用することもできるし、又、その二種以上を混合して使用することもできる。   As a cationic polymerization type radiation curable resin, an ultraviolet curable prepolymer of an epoxy type that is polymerized by cationic polymerization (mainly epoxy type), a monomer that contains two or more epoxy groups in one molecule. Mention may be made of polymers. Examples of such prepolymers include alicyclic polyepoxides, polyglycidyl esters of polybasic acids, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycols, and polyglycidyls of aromatic polyols. Examples include ethers, hydrogenated compounds of polyglycidyl ethers of aromatic polyols, urethane polyepoxy compounds, and epoxidized polybutadienes. These prepolymers can be used alone or in a mixture of two or more.

カチオン重合系放射線硬化樹脂の開始剤としては、芳香族オニウム塩を挙げることができる。この芳香族オニウム塩として、周期表第Va族元素の塩、例えばホスホニウム塩(例えばヘキサフルオロリン酸トリフェニルフェナシルホスホニウムなど)、第VIa族元素の塩、例えばスルホニウム塩(例えばテトラフルオロホウ酸トリフェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン酸トリフェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン酸トリス(4−チオメトキシフェニル)、スルホニウム及びヘキシサフルオロアンチモン酸トリフェニルスルホニウムなど)、及び第VIIa族元素の塩、例えばヨードニウム塩(例えば塩化ジフェニルヨードニウムなど)を挙げることができる。   As an initiator of the cationic polymerization radiation curable resin, aromatic onium salts can be exemplified. Examples of the aromatic onium salt include salts of Group Va elements of the periodic table, such as phosphonium salts (for example, triphenylphenacylphosphonium hexafluorophosphate), salts of Group VIa elements, such as sulfonium salts (for example, trifluoroborate trichloride). Phenylsulfonium, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, tris (4-thiomethoxyphenyl) hexafluorophosphate, sulfonium and triphenylsulfonium hexafluoroantimonate), and salts of Group VIIa elements such as iodonium salts (eg And diphenyliodonium chloride).

このような芳香族オニウム塩をエポキシ化合物の重合におけるカチオン重合開始剤として使用することは、米国特許第4,058,401号、同第4,069,055号、同第4,101,513号及び同第4,161,478号に詳述されている。   The use of such an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator in the polymerization of an epoxy compound is disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,058,401, 4,069,055, and 4,101,513. And No. 4,161,478.

好ましいカチオン重合開始剤としては、第VIa族元素のスルホニウム塩が挙げられる。その中でも、紫外線硬化性と紫外線硬化性の組成物の貯蔵安定性の観点からすると、ヘキサフルオロアンチモン酸トリアリールスホニウムが好ましい。又フォトポリマーハンドブック(フォトポリマー懇話会編 工業調査会発行 1989年)の39〜56頁に記載の公知の光重合開始剤、特開昭64−13142号、特開平2−4804号に記載されている化合物を任意に用いることが可能である。   Preferable cationic polymerization initiators include sulfonium salts of Group VIa elements. Among these, from the viewpoint of storage stability of ultraviolet curable and ultraviolet curable compositions, triarylsulfonium hexafluoroantimonate is preferable. In addition, the photopolymerization initiators described in pages 39 to 56 of the photopolymer handbook (published by Photographic Society Committee, 1989), described in JP-A No. 64-13142 and JP-A No. 2-4804 Any compound can be used.

本発明において重合性化合物は、(メタ)アクリル系モノマー或いはプレポリマー、エポキシ系モノマー或いはプレポリマー、ウレタン系モノマー或いはプレポリマー等が好ましく用いられるが、更に好ましくは下記化合物である。   In the present invention, (meth) acrylic monomers or prepolymers, epoxy monomers or prepolymers, urethane monomers or prepolymers are preferably used as the polymerizable compound, and the following compounds are more preferable.

2−エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、2−アクリロイロキシエチルフタル酸、メトキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、2−アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタル酸、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート、2−アクリロイロキシエチルコハク酸、ノニルフェノールEO付加物アクリレート、変性グリセリントリアクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、変性ビスフェノールAジアクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ビスフェノールAのPO付加物ジアクリレート、ビスフェノールAのEO付加物ジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ラクトン変性可撓性アクリレート、ブトキシエチルアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、2−ヒドロキシエチルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ステアリルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、イソステアリルアクリレート等。   2-ethylhexyl-diglycol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, 2-acryloyloxyethyl phthalate, methoxy-polyethylene glycol acrylate, tetramethylol Methane triacrylate, 2-acryloyloxyethyl-2-hydroxyethylphthalic acid, dimethylol tricyclodecane diacrylate, ethoxylated phenyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, nonylphenol EO adduct acrylate, modified glycerin triacrylate Bisphenol A diglycidyl ether acrylic acid adduct, modified bisphenol A diacrylate, phenoxy-polyethylene Glycol acrylate, 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, bisphenol A PO adduct diacrylate, bisphenol A EO adduct diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol triacrylate tolylene diisocyanate urethane prepolymer, lactone Modified flexible acrylate, butoxyethyl acrylate, propylene glycol diglycidyl ether acrylic acid adduct, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, 2-hydroxyethyl acrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, penta Erythritol triacrylate hexamethylene di Socia sulfonates urethane prepolymer, stearyl acrylate, isoamyl acrylate, isomyristyl acrylate, isostearyl acrylate.

これらのアクリレート化合物は、従来UV硬化型インクに用いられてきた重合性化合物より、皮膚刺激性や感作性(かぶれ)が小さく、比較的粘度を下げることが出来、安定したインク射出性が得られ、重合感度、記録媒体との密着性も良好である。本発明においては、上記化合物群の含有量を20〜95質量%、好ましくは50〜95%、更に好ましくは70〜95%とする。   These acrylate compounds have lower skin irritation and sensitization (rash) than the polymerizable compounds conventionally used in UV curable inks, can relatively reduce viscosity, and provide stable ink ejection properties. Further, the polymerization sensitivity and the adhesion to the recording medium are also good. In the present invention, the content of the compound group is 20 to 95% by mass, preferably 50 to 95%, and more preferably 70 to 95%.

本発明においては、上述した重合性化合物として列挙されているモノマーは低分子量であっても感作性が小さいものであり、尚かつ反応性が高く、粘度が低く、記録媒体への密着性に優れる。   In the present invention, the monomers listed as the polymerizable compounds described above are low in sensitization even with a low molecular weight, and have high reactivity, low viscosity, and adhesion to a recording medium. Excellent.

更に感度、滲み、記録媒体との密着性をより改善するためには、上記モノアクリレートと、分子量400以上、好ましくは500以上の多官能アクリレートモノマー又は多官能アクリレートオリゴマーを併用することが感度、密着性向上の点で好ましい。更に、単官能、二官能、三官能以上の多官能モノマーを併用することが特に好ましい。安全性を維持しつつ、更に、感度、滲み、記録媒体との密着性をより改善することが出来る。オリゴマーとしてはエポキシアクリレートオリゴマー、ウレタンアクリレートオリゴマーが特に好ましい。   In order to further improve sensitivity, bleeding, and adhesion to the recording medium, it is preferable to use the above monoacrylate in combination with a polyfunctional acrylate monomer or polyfunctional acrylate oligomer having a molecular weight of 400 or more, preferably 500 or more. It is preferable in terms of improving the performance. Furthermore, it is particularly preferable to use a monofunctional, bifunctional, or trifunctional or higher polyfunctional monomer in combination. While maintaining safety, the sensitivity, bleeding, and adhesion to the recording medium can be further improved. As the oligomer, an epoxy acrylate oligomer and a urethane acrylate oligomer are particularly preferable.

PETフィルムやPPフィルムといった柔軟な記録媒体への記録では、上記化合物群の中から選ばれるモノアクリレートと、多官能アクリレートモノマー又は多官能アクリレートオリゴマーとの併用が膜に可撓性を持たせられ密着性を高めつつ、膜強度を高められるため好ましい。モノアクリレートとしてはステアリルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソミスチルアクリレート、イソステアリルアクリレートが感度も高く、低収縮性でカールの発生を防止出来るとともに、滲み防止、印刷物の臭気、照射装置のコストダウンの点で好ましい。   When recording on a flexible recording medium such as a PET film or PP film, the combination of a monoacrylate selected from the above compound group and a polyfunctional acrylate monomer or polyfunctional acrylate oligomer gives the film flexibility and adhesion. It is preferable because the film strength can be increased while improving the properties. As monoacrylates, stearyl acrylate, isoamyl acrylate, isomystil acrylate, and isostearyl acrylate have high sensitivity and low shrinkage to prevent curling, and are preferable in terms of prevention of bleeding, odor of printed matter, and cost reduction of irradiation apparatus. .

尚、メタクリレートは皮膚刺激性がアクリレートより良好であるが、感作性は概してアクリレートと差が無く、アクリレートに比べて感度が下がるので適さないが、反応性が高く、感作性の良好なもであれば、好適に使用することが出来る。   Although methacrylate has better skin irritation than acrylate, sensitization is generally not different from acrylate and is not suitable because it is less sensitive than acrylate, but it has high reactivity and good sensitization. If it is, it can be used suitably.

尚、上記化合物の中でもアルコキシアクリレートは、感度が低く、滲み、臭気、照射光源の問題が生じるため、その量を70質量%未満に留め、その他のアクリレートを併用することが好ましい。   Among the above compounds, alkoxy acrylate has low sensitivity and causes problems such as bleeding, odor, and irradiation light source. Therefore, it is preferable to keep the amount below 70% by mass and use other acrylates in combination.

照射光として電子線、X線等を用いる場合、開始剤は不要であるが、線源としてUV光、可視光、赤外光を用いる場合は、それぞれの波長に応じたラジカル重合開始剤、開始助剤、増感色素を添加する。これらの量は組成物全体の1〜10質量部が必要となる。開始剤系は公知の様々な化合物を使用することが出来るが、上記重合性化合物に溶解するものから選択する。具体的な開始剤としては、キサントン又はチオオキサントン系、ベンゾフェノン系、キノン系、フォスフィンオキシド系が挙げられる。   When an electron beam, X-ray, or the like is used as irradiation light, an initiator is not necessary. However, when UV light, visible light, or infrared light is used as a radiation source, a radical polymerization initiator or initiator corresponding to each wavelength is used. Add auxiliaries and sensitizing dyes. These amounts require 1-10 parts by weight of the total composition. As the initiator system, various known compounds can be used, but the initiator system is selected from those that dissolve in the polymerizable compound. Specific examples of the initiator include xanthone or thioxanthone series, benzophenone series, quinone series, and phosphine oxide series.

本発明に係るインク組成物において用いることができる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;ジアセトンアルコール等のケトンアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;N−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げられ、それらを単独または2種以上混合して使用することができる。   Examples of the solvent that can be used in the ink composition according to the present invention include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, and butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; diacetone alcohol Ketone alcohols; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol; ethyl cellsolve, butylcellsolve, ethylcarbitol, butylcarbitol, diethylcell Glycol ethers such as sorb, diethyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether; N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate Esters such as amyl acetate; dimethyl ether, and diethyl ether, water and the like, can be used as a mixture thereof alone or in combination.

本発明に係るインク組成物においては、上記溶媒の中でも沸点が140〜250℃、25℃での粘度が1〜15mPa・sの溶媒が少なくとも1種類以上、60質量%以上含まれることが好ましい。より好ましくは沸点が180〜230℃、25℃での粘度が1〜10mPa・sの溶媒が少なくとも1種類以上、70質量%以上含まれることが好ましい。   In the ink composition according to the present invention, it is preferable that at least one kind of a solvent having a boiling point of 140 to 250 ° C. and a viscosity of 1 to 15 mPa · s at 25 ° C. is contained in an amount of 60% by mass or more. More preferably, at least one solvent having a boiling point of 180 to 230 ° C. and a viscosity of 1 to 10 mPa · s at 25 ° C. is contained in an amount of 70% by mass or more.

本発明でいう沸点とは、1気圧、即ち1.013×105N/m2の圧力下での沸点である。沸点の測定は公知の技術を適用できる他、単体の場合には化学便覧等の文献中に記載の値も参照することができる。 The boiling point in the present invention is a boiling point at 1 atm, that is, a pressure of 1.013 × 10 5 N / m 2 . For the measurement of the boiling point, a known technique can be applied, and in the case of a simple substance, values described in documents such as a chemical handbook can also be referred to.

上記の沸点、粘度を満たす溶媒の中でも、下記の一般式(1)で表される化合物がより好ましく用いられる。
一般式(1) R1−O−(Cx2x−O)n−R2
1、R2:水素原子、アリール基、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基。炭化水素鎖は直鎖でも分岐していてもよい。但し、R1、R2の少なくとも一方は水素原子以外の置換基である。
Among the solvents satisfying the above boiling point and viscosity, compounds represented by the following general formula (1) are more preferably used.
Formula (1) R 1 -O- (C x H 2x -O) n-R 2
R 1, R 2: a hydrogen atom, an aryl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxyalkyl group, an alkylcarbonyl group. The hydrocarbon chain may be linear or branched. However, at least one of R 1 and R 2 is a substituent other than a hydrogen atom.

n:1〜3の整数
x:2〜4の整数
更に好ましくは、x=2または3、R2がアセチル基である化合物である。
n: an integer of 1 to 3 x: an integer of 2 to 4 More preferably, x = 2 or 3, and R 2 is an acetyl group.

本発明のインク組成物に好ましく用いられる溶媒について、具体的には下記の溶媒が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the solvent preferably used in the ink composition of the present invention include the following solvents, but are not particularly limited thereto.

Figure 2008250276
Figure 2008250276

更に、上記一般式(1)で表される化合物について、具体的には下記の溶媒が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。   Furthermore, specific examples of the compound represented by the general formula (1) include the following solvents, but the present invention is not particularly limited thereto.

Figure 2008250276
Figure 2008250276

上記の他、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−t−ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−t−ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノメトキシメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(別名:酢酸2−(エトキシエトキシ)エチル)、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート(別名:1,2−ジアセトキシプロパン)、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等も、好ましく用いられる。   In addition to the above, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol mono-t-butyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol mono-t-butyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol mono Isopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol mono-t-butyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoisopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether Tate, ethylene glycol mono-t-butyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monopropyl ether acetate, diethylene glycol monoisopropyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monoisopropyl ether acetate, propylene Glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol mono-t-butyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monomethoxymethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether acetate (also known as 2- (ethoxyethoxy) ethyl acetate), triethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diacetate, propylene glycol diacetate (also known as 1,2-diacetoxypropane), dipropylene glycol dimethyl ether, di Propylene glycol monomethyl ether acetate and the like are also preferably used.

これらの溶媒の中から沸点、粘度の異なる溶媒を混合してその比率を適宜変更することで、微細凹凸構造、パターン形状を制御することもできる。   By mixing solvents having different boiling points and viscosities from these solvents and appropriately changing the ratio thereof, the fine concavo-convex structure and the pattern shape can be controlled.

本発明の微細凹凸構造を形成するインク組成物には実質的に溶媒を含まないことが好ましい。ここで言う実質的に溶媒を含まないとは、インク液滴中に溶媒を全く含まないことを意味すると共に、インク液滴中に3.0%までの溶媒を含む場合も意味している。   It is preferable that the ink composition forming the fine concavo-convex structure of the present invention contains substantially no solvent. The term “substantially free of solvent” as used herein means that no ink is contained in the ink droplets, and also that the ink droplet contains up to 3.0% of the solvent.

インク組成物の粘度の測定は、JIS Z 8809に規定されている粘度計校正用標準液で検定されたものであれば特に制限はなく、回転式、振動式や細管式の粘度計を用いることが出来る。粘度計としては、Saybolt粘度計、Redwood粘度計等で測定出来、例えば、トキメック社製、円錐平板型E型粘度計、東機産業社製のE Type Viscometer(回転粘度計)、東京計器社製のB型粘度計BL、山一電機社製のFVM−80A、Nametore工業社製のViscoliner、山一電機社製のVISCO MATE MODEL VM−1G等を挙げることが出来る。   The viscosity of the ink composition is not particularly limited as long as it is tested with a standard solution for viscometer calibration specified in JIS Z 8809. Use a rotary, vibration or capillary type viscometer. I can do it. As a viscometer, it can be measured with a Saybolt viscometer, a Redwood viscometer, etc., for example, Tokimec Co., Ltd., conical plate type E type viscometer, Toki Sangyo E Type Viscometer, manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd. No. B type viscometer BL, FVM-80A manufactured by Yamaichi Electronics Co., Ltd., Viscoliner manufactured by Nametore Industries Co., Ltd., VISCO MATE MODEL VM-1G manufactured by Yamaichi Electronics Co., Ltd., and the like.

(接触角)
本発明の微細凹凸構造形成用インクと透明基材との接触角(θ)は、45〜70°であることが本発明の効果を得る上で好ましく、より好ましくは50〜60°である。75°以上や40°以下では、インク液滴の形状が一定とならないことがある。微細凹凸構造形成用インクの表面張力を調整するためには、シリコーンオイル、変性シリコーンオイル、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、フッ素系樹脂、フッ素系オリゴマー、フッ素変性シリコーンオイル、フッ素系シランカップリング剤等の活性剤を0質量%以上5質量%以下とすることが好ましい。添加量が多すぎると、凸高さが低くなりすぎたり、撥水撥油効果により微細凹凸構造の上に機能性層を塗布できなくなったりして好ましくない。界面活性剤量は、インク組成、溶媒組成、下地基材の表面エネルギーにも依存するため、添加されることが必須ではない。以下に本発明に用いられる界面活性剤について説明する。
(Contact angle)
The contact angle (θ) between the ink for forming a fine concavo-convex structure of the present invention and the transparent substrate is preferably 45 to 70 °, more preferably 50 to 60 °, for obtaining the effect of the present invention. If it is 75 ° or more and 40 ° or less, the shape of the ink droplet may not be constant. In order to adjust the surface tension of the ink for forming the fine uneven structure, silicone oil, modified silicone oil, silicone surfactant, fluorine surfactant, fluorine resin, fluorine oligomer, fluorine modified silicone oil, fluorine It is preferable that the activator such as a silane coupling agent is 0 mass% or more and 5 mass% or less. If the amount is too large, the convex height becomes too low, or the functional layer cannot be applied on the fine concavo-convex structure due to the water / oil repellent effect, which is not preferable. Since the amount of the surfactant depends on the ink composition, the solvent composition, and the surface energy of the base substrate, it is not essential to add the surfactant. The surfactant used in the present invention is described below.

本発明に用いられるシリコーンオイルは、ケイ素原子に結合した有機基の種類により、ストレートシリコーンオイルと変性シリコーンオイルに大別できる。ストレートシリコーンオイルとは、メチル基、フェニル基、水素原子を置換基として結合したものをいう。変性シリコーンオイルとは、ストレートシリコーンオイルから二次的に誘導された構成部分をもつものである。一方、シリコーンオイルの反応性からも分類することができる。これらをまとめると、以下のようになる。   Silicone oils used in the present invention can be broadly classified into straight silicone oils and modified silicone oils depending on the type of organic groups bonded to silicon atoms. Straight silicone oil refers to those bonded with a methyl group, a phenyl group, or a hydrogen atom as a substituent. A modified silicone oil is one having a component that is secondarily derived from a straight silicone oil. On the other hand, it can be classified from the reactivity of silicone oil. These are summarized as follows.

シリコーンオイル
1.ストレートシリコーンオイル
1−1.非反応性シリコーンオイル:ジメチル、メチルフェニル置換等
1−2.反応性シリコーンオイル:メチル水素置換等
2.変性シリコーンオイル
ジメチルシリコーンオイルに、さまざまな有機基を導入することで生まれたものが、変性シリコーンオイル
2−1.非反応性シリコーンオイル:アルキル、アルキル/アラルキル、アルキル/ポリエーテル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル置換等、
アルキル/アラルキル変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を長鎖アルキル基あるいはフェニルアルキル基に置換えたシリコーンオイル、
ポリエーテル変性シリコーンオイルは、親水性のポリオキシアルキレンを疎水性のジメチルシリコーンに導入したシリコーン系高分子界面活性剤、
高級脂肪酸変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を高級脂肪酸エステルに置換えたシリコーンオイル、
アミノ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をアミノアルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、
エポキシ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をエポキシ基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、
カルボキシル変性あるいはアルコール変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をカルボキシル基あるいは水酸基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル
2−2.反応性シリコーンオイル:アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコール置換等
これらの内、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1000〜100000、好ましくは2000〜50000が適当であり、数平均分子量が1000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。
Silicone oil Straight silicone oil 1-1. Non-reactive silicone oil: dimethyl, methylphenyl substitution, etc. 1-2. Reactive silicone oil: methyl hydrogen substitution, etc. Modified silicone oil Modified silicone oil was born by introducing various organic groups into dimethyl silicone oil 2-1. Non-reactive silicone oil: alkyl, alkyl / aralkyl, alkyl / polyether, polyether, higher fatty acid ester substitution, etc.
Alkyl / aralkyl-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of methyl group of dimethyl silicone oil is replaced with a long-chain alkyl group or a phenylalkyl group,
Polyether-modified silicone oil is a silicone-based polymer surfactant in which hydrophilic polyoxyalkylene is introduced into hydrophobic dimethyl silicone,
Higher fatty acid-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of methyl group of dimethyl silicone oil is replaced with higher fatty acid ester,
Amino-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of methyl group of silicone oil is substituted with aminoalkyl group,
The epoxy-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is replaced with an epoxy group-containing alkyl group,
The carboxyl-modified or alcohol-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with a carboxyl group or a hydroxyl group-containing alkyl group 2-2. Reactive silicone oil: amino, epoxy, carboxyl, alcohol substitution, etc. Of these, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2000 to 50,000. If the number average molecular weight is less than 1,000, the drying property of the coating film decreases, and conversely, the number average molecular weight. When it exceeds 100,000, it tends to be difficult to bleed out to the coating surface.

具体的な商品としては、日本ユニカー(株)社のL−45、L−9300、FZ−3704、FZ−3703、FZ−3720、FZ−3786、FZ−3501、FZ−3504、FZ−3508、FZ−3705、FZ−3707、FZ−3710、FZ−3750、FZ−3760、FZ−3785、FZ−3785、Y−7499、信越化学社のKF96L、KF96、KF96H、KF99、KF54、KF965、KF968、KF56、KF995、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、FL100等がある。   As specific products, Nippon Unicar Co., Ltd. L-45, L-9300, FZ-3704, FZ-3703, FZ-3720, FZ-3786, FZ-3501, FZ-3504, FZ-3508, FZ-3705, FZ-3707, FZ-3710, FZ-3750, FZ-3760, FZ-3785, FZ-3785, Y-7499, Shin-Etsu Chemical KF96L, KF96, KF96H, KF99, KF54, KF965, KF968, KF56, KF995, KF351, KF352, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, FL100, and the like.

本発明に用いられるシリコーン界面活性剤は、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換したものを用いることができる。置換の位置は、シリコーンオイルの側鎖、両末端、片末端、両末端側鎖等がある。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、4級塩等がある。   As the silicone surfactant used in the present invention, one obtained by substituting a part of methyl group of silicone oil with a hydrophilic group can be used. The position of substitution includes a side chain of silicone oil, both ends, one end, both end side chains, and the like. Examples of the hydrophilic group include polyether, polyglycerin, pyrrolidone, betaine, sulfate, phosphate, and quaternary salt.

非イオン界面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない界面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン)等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン鎖)が長くなるに従って強くなる。本発明に用いられる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することが好ましい。   A nonionic surfactant is a generic term for surfactants that do not have a group capable of dissociating into ions in an aqueous solution. In addition to a hydrophobic group, a hydrophilic group includes a hydroxyl group of a polyhydric alcohol, a polyoxyalkylene chain (poly Oxyethylene) or the like as a hydrophilic group. The hydrophilicity becomes stronger as the number of alcoholic hydroxyl groups increases and as the polyoxyalkylene chain (polyoxyethylene chain) becomes longer. The nonionic surfactant used in the present invention preferably has dimethylpolysiloxane as a hydrophobic group.

疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、後述する低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。   When a nonionic surfactant composed of a dimethylpolysiloxane having a hydrophobic group and a polyoxyalkylene having a hydrophilic group is used, unevenness of the low refractive index layer, which will be described later, and antifouling properties of the film surface are improved. It is thought that the hydrophobic group made of polymethylsiloxane is oriented on the surface and forms a film surface that is not easily soiled. This effect cannot be obtained by using other surfactants.

これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191等が挙げられる。   Specific examples of these nonionic surfactants include, for example, Nippon Unicar Co., Ltd., silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ- 2163, FZ-2164, FZ-2166, FZ-2191 and the like.

また、SUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805等が挙げられる。   Moreover, SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, etc. are mentioned.

また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を1つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。   In addition, as a preferable structure of the nonionic surfactant in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene, a dimethylpolysiloxane structure portion and a polyoxyalkylene chain are alternately and repeatedly bonded. It is preferably a linear block copolymer. Since the main chain skeleton has a long chain length and a linear structure, it is excellent. This is considered to be due to the fact that one activator molecule can be adsorbed on the surface of the silica fine particle at a plurality of locations so as to cover the surface of the silica fine particle by being a block copolymer in which hydrophilic groups and hydrophobic groups are alternately repeated.

これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208等が挙げられる。   Specific examples thereof include, for example, silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208 and the like manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.

これらのシリコーンオイルまたはシリコーン界面活性剤の中では、ポリエーテル基を有するものが好ましい。   Among these silicone oils or silicone surfactants, those having a polyether group are preferred.

一方、透明基材表面は、公知の撥水加工やプラズマ処理によって改質することが好ましい。   On the other hand, the surface of the transparent substrate is preferably modified by a known water repellent process or plasma treatment.

上述した接触角の測定方法を図1に示す。図示しない注射器状の液滴調整器に測定する水溶液試料を入れる。(a)に示すように、上下左右に位置を変更可能な図示しない試料台に表面を水平に調整した固体試料を載置し、光学鏡でこの固体試料表面を観察する。光学鏡には回転可能な回転クロスが組み込まれている。固体試料の直上に配置された液滴調整器の針先に液滴を作る。   The method for measuring the contact angle described above is shown in FIG. An aqueous solution sample to be measured is placed in a syringe-like droplet regulator (not shown). As shown in (a), a solid sample whose surface is horizontally adjusted is placed on a sample stage (not shown) whose position can be changed vertically and horizontally, and the surface of the solid sample is observed with an optical mirror. The optical mirror incorporates a rotatable rotating cloth. Droplets are made at the tip of a drop adjuster placed just above the solid sample.

次に、(b)に示すように、固体試料の表面を上昇させ、液滴を固体試料表面に触れさせる。その後、(c)に示すように、元の位置まで固体試料を下降させ、針先より液滴を固定試料表面に移行させ、更に、液滴を回転クロスの中心に合わせる。   Next, as shown in (b), the surface of the solid sample is raised, and the droplet is brought into contact with the surface of the solid sample. Thereafter, as shown in (c), the solid sample is lowered to the original position, the droplet is transferred from the tip of the needle to the surface of the fixed sample, and the droplet is aligned with the center of the rotating cloth.

そして、(d)に示すように、回転クロスを回転させて液滴と固体試料表面の接線を作り、その角度θを読み取る。このθが接触角である。   Then, as shown in (d), the rotary cloth is rotated to create a tangent line between the droplet and the solid sample surface, and the angle θ is read. This θ is the contact angle.

この読み取り方法では個人誤差があるので、液滴が円の一部であるという仮定に基づき、(e)〜(g)に示す接触角の読み取り方法が行われる。   Since there is an individual error in this reading method, the contact angle reading method shown in (e) to (g) is performed based on the assumption that the droplet is a part of a circle.

まず、(e)に示すように、回転クロスを45°に合わせ、クロスが液滴の両側と左右対称に接するように試料台を調整する。次に、(f)に示すように、試料台を上昇させ、クロスの中心を液滴の頂点に合わせる。そして、(g)に示すように、液滴の頂点と固体試料と液滴の接点を結び、その延長上の角度を測定する。その角度が接触角θの半値θ/2となる。接触角は、DropMaster(協和界面科学(株)製)を用いて測定した。   First, as shown in (e), the rotation cross is set to 45 °, and the sample stage is adjusted so that the cross is in contact with both sides of the droplet symmetrically. Next, as shown in (f), the sample stage is raised and the center of the cloth is aligned with the top of the droplet. Then, as shown in (g), the apex of the droplet, the solid sample, and the contact point of the droplet are connected, and the extension angle is measured. The angle becomes the half value θ / 2 of the contact angle θ. The contact angle was measured using DropMaster (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

(インクジェットヘッド)
図2は、本発明に好適なインクジェット方式に用いられるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。
(Inkjet head)
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of an ink jet head used in an ink jet system suitable for the present invention.

図2(a)はインクジェットヘッドの断面図であり、図2(b)は図2(a)のA−A線矢視拡大図である。図中、11は基板、12は圧電素子、13は流路板、13aはインク流路、13bは壁部、14は共通液室構成部材、14aは共通液室、15はインク供給パイプ、16はノズルプレート、16aはノズル、17は駆動用回路プリント板(PCB)、18はリード部、19は駆動電極、20は溝、21は保護板、22は流体抵抗、23、24は電極、25は上部隔壁、26はヒータ、27はヒータ電源、28は伝熱部材、30はインクジェットヘッドである。   2A is a cross-sectional view of the inkjet head, and FIG. 2B is an enlarged view taken along the line AA in FIG. 2A. In the figure, 11 is a substrate, 12 is a piezoelectric element, 13 is a flow path plate, 13a is an ink flow path, 13b is a wall, 14 is a common liquid chamber constituent member, 14a is a common liquid chamber, 15 is an ink supply pipe, 16 Is a nozzle plate, 16a is a nozzle, 17 is a drive circuit printed board (PCB), 18 is a lead portion, 19 is a drive electrode, 20 is a groove, 21 is a protective plate, 22 is a fluid resistance, 23 and 24 are electrodes, 25 Is an upper partition, 26 is a heater, 27 is a heater power source, 28 is a heat transfer member, and 30 is an ink-jet head.

集積化されたインクジェットヘッド30において、電極23、24を有する積層された圧電素子12は、流路13aに対応して、該流路13a方向に溝加工が施され、溝20と駆動圧電素子12bと非駆動圧電素子12aに区分される。溝20には充填剤が封入されている。溝加工が施された圧電素子12には、上部隔壁25を介して流路板13が接合される。すなわち、前記上部隔壁25は、非駆動圧電素子12aと隣接する流路を隔てる壁部13bとで支持される。駆動圧電素子12bの幅は流路13aの幅よりも僅かに狭く、駆動用回路プリント板(PCB)上の駆動回路により選択された駆動圧電素子12bはパルス状信号電圧を印加すると、該駆動圧電素子12bは厚み方向に変化し、上部隔壁25を介して流路13aの容積が変化し、その結果ノズルプレート16のノズル16aよりインク液滴を吐出する。   In the integrated inkjet head 30, the laminated piezoelectric element 12 having the electrodes 23 and 24 is grooved in the direction of the flow path 13a corresponding to the flow path 13a, so that the groove 20 and the driving piezoelectric element 12b. And non-driving piezoelectric element 12a. The groove 20 is filled with a filler. The flow path plate 13 is joined to the piezoelectric element 12 subjected to the groove processing through the upper partition wall 25. That is, the upper partition 25 is supported by the non-driving piezoelectric element 12a and the wall 13b that separates the adjacent flow path. The width of the driving piezoelectric element 12b is slightly narrower than the width of the flow path 13a. When the driving piezoelectric element 12b selected by the driving circuit on the driving circuit printed board (PCB) is applied with a pulsed signal voltage, the driving piezoelectric element 12b. The element 12b changes in the thickness direction, and the volume of the flow path 13a changes via the upper partition wall 25. As a result, ink droplets are ejected from the nozzles 16a of the nozzle plate 16.

流路板13上には、伝熱部材28を介してヒータ26がそれぞれ接着されている。伝熱部材28はノズル面にまわり込んで設けられている。伝熱部材28は、ヒータ26からの熱を効率良く流路板13に伝え、かつ、ヒータ26からの熱をノズル面近傍に運びノズル面近傍の空気を温めることを目的としており、したがって、熱伝導率の良い材料が用いられる。例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、ステンレス等の金属、あるいは、SiC、BeO、AlN等のセラミックス等が好ましい材料として挙げられる。   Heaters 26 are bonded to the flow path plate 13 via heat transfer members 28, respectively. The heat transfer member 28 is provided around the nozzle surface. The heat transfer member 28 is intended to efficiently transfer the heat from the heater 26 to the flow path plate 13, carry the heat from the heater 26 to the vicinity of the nozzle surface, and warm the air in the vicinity of the nozzle surface. A material with good conductivity is used. For example, metals such as aluminum, iron, nickel, copper, and stainless steel, or ceramics such as SiC, BeO, and AlN are preferable materials.

圧電素子を駆動すると、流路の長手方向に垂直な方向に変位し、流路の容積が変化し、その容積変化によりノズルからインク液滴となって噴射する。圧電素子には常時流路容積が縮小するように保持する信号を与え、選択された流路に対して流路容積を増大する向きに変位させた後、再び流路の容積が縮小する変位を与えるパルス信号を印加することにより、流路と対応するノズルよりインクがインク液滴となって噴射する。   When the piezoelectric element is driven, the piezoelectric element is displaced in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the flow path, and the volume of the flow path is changed. By the change in volume, ink droplets are ejected from the nozzle. The piezoelectric element is given a signal that keeps the flow path volume constantly reduced, and after the displacement of the selected flow path in the direction of increasing the flow volume, the displacement that reduces the flow volume again is applied. By applying a pulse signal to be applied, ink is ejected as ink droplets from a nozzle corresponding to the flow path.

図3は、本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。   FIG. 3 is a schematic view showing an example of an inkjet head unit and a nozzle plate that can be used in the present invention.

図3において、図3の(a)はヘッド部の断面図、図3の(b)はノズルプレートの平面図である。図中、10は基材フィルム、31はインク液滴、32はノズル、29は活性光線照射部である。ノズル32より噴射したインク液滴31は基材フィルム10方向に飛翔して付着する。基材フィルム10上に着弾したインク液滴は、その上流部に配置されている活性光線照射部より、活性光線を直ちに照射され、硬化する。なお、35は基材フィルム10を保持するバックロールである。   3, (a) of FIG. 3 is a sectional view of the head portion, and (b) of FIG. 3 is a plan view of the nozzle plate. In the figure, 10 is a substrate film, 31 is an ink droplet, 32 is a nozzle, and 29 is an actinic ray irradiation part. The ink droplet 31 ejected from the nozzle 32 flies in the direction of the base film 10 and adheres. The ink droplets that have landed on the substrate film 10 are immediately irradiated with actinic rays from the actinic ray irradiating unit disposed upstream thereof, and are cured. Reference numeral 35 denotes a back roll for holding the base film 10.

本発明においては、図3の(b)に記載のように、インクジェットヘッド部のノズルは、千鳥状に配置することが好ましく、また、基材フィルム10の搬送方向に並列に多段に設けることが好ましい。また、インク吐出の際にインクジェットヘッド部に微細な振動を与え、インク滴がランダムに透明基材上に着弾するようにすることが好ましい。これによって、干渉縞の発生を抑制することができる。微細な振動は、高周波電圧、音波、超音波などによって与えることができるが、特にこれらに限定されない。   In the present invention, as shown in FIG. 3B, the nozzles of the inkjet head unit are preferably arranged in a staggered manner, and provided in multiple stages in parallel in the transport direction of the base film 10. preferable. Further, it is preferable that fine vibrations are applied to the ink jet head portion during ink ejection so that ink droplets land randomly on the transparent substrate. Thereby, generation | occurrence | production of an interference fringe can be suppressed. The fine vibration can be given by a high frequency voltage, a sound wave, an ultrasonic wave or the like, but is not particularly limited thereto.

本発明に用いられる微細凹凸構造の形成方法は、多ノズルからインク小液滴を吐出して形成するインクジェット方式を用いることが好ましい。図4に、本発明で好ましく用いることのできるインクジェット方式の一例を示す。   As a method for forming a fine concavo-convex structure used in the present invention, it is preferable to use an inkjet method in which small droplets of ink are formed from multiple nozzles. FIG. 4 shows an example of an ink jet system that can be preferably used in the present invention.

図4において、図4の(a)は、インクジェットヘッド30を透明基材フィルム10の幅手方向に配置し、透明基材フィルム10を搬送しながらその表面に微細凹凸構造を形成する方法(ラインヘッド方式)であり、図4の(b)はインクジェットヘッド30が副走査方向に移動しながらその表面に微細凹凸構造を形成する方法(フラットヘッド方式)であり、図4の(c)はインクジェットヘッド30が、透明基材フィルム10上の幅手方向を走査しながらその表面に微細凹凸構造を形成する方法(キャプスタン方式)であり、いずれの方式も用いることができるが、本発明においては、生産性の観点からラインヘッド方式が好ましい。なお、図4の(a)〜(c)に記載の29のように、インクとして前述の活性光線硬化型樹脂を用いる場合に使用する活性光線照射部を取り付けることが好ましい。   4, (a) in FIG. 4 is a method (line) in which the inkjet head 30 is arranged in the width direction of the transparent substrate film 10 and a fine uneven structure is formed on the surface of the transparent substrate film 10 while being conveyed. FIG. 4B shows a method (flat head method) in which the inkjet head 30 moves in the sub-scanning direction and forms a fine uneven structure on the surface thereof. FIG. 4C shows an inkjet method. The head 30 is a method (capstan method) for forming a fine concavo-convex structure on the surface of the transparent substrate film 10 while scanning in the width direction, and any method can be used in the present invention. From the viewpoint of productivity, the line head method is preferable. In addition, it is preferable to attach the actinic ray irradiation part used when using the above-mentioned actinic ray curable resin as an ink like 29 of (a)-(c) of FIG.

また、本発明においては、図4の(a)、(b)、(c)の基材フィルムの搬送方向の下流側に、別の活性光線照射部を設けてもよい。   Moreover, in this invention, you may provide another actinic ray irradiation part in the downstream of the conveyance direction of the base film of (a) of FIG. 4, (b), (c).

本発明において、微細凹凸構造を形成するため、インク液滴の吐出量としては0.1〜20plが好ましく、0.5〜10plがより好ましく、0.5〜5plが特に好ましい。また、異なるインクジェットヘッド部からそれぞれ異なる液滴量のインクを吐出してもよく、同じインクジェットヘッド部から液滴量を変えてインクを吐出してもよく、この時の吐出間隔も一定間隔でもランダムであってもよい。   In the present invention, in order to form a fine concavo-convex structure, the discharge amount of ink droplets is preferably 0.1 to 20 pl, more preferably 0.5 to 10 pl, and particularly preferably 0.5 to 5 pl. Also, different ink droplet amounts may be ejected from different ink jet head portions, and ink may be ejected from the same ink jet head portion while changing the amount of liquid droplets. It may be.

微細凹凸構造は、凸部長径が1〜40μm、さらに好ましくは15〜30μmであり、凸部の高さが0.5〜10μm、好ましくは1〜10μm、さらに好ましくは、2〜8μmの一定のサイズと高さを有していることが好ましく、凸部の配置は、FMスクリーニング等の方法により、ランダム配置とされることが好ましい。ここで凸部径とは、凸部が円形の場合は直径を、三角形、四角形、多角形、不定形の場合は同一面積に換算した直径を表す。凸部の高さとは、基材フィルム面からドットの最も高い部分の高さの差をいう。   The fine concavo-convex structure has a convex major axis of 1 to 40 μm, more preferably 15 to 30 μm, and a convex height of 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 8 μm. It is preferable to have a size and a height, and the arrangement of the protrusions is preferably a random arrangement by a method such as FM screening. Here, the diameter of the convex portion represents the diameter when the convex portion is circular, and the diameter converted into the same area when the convex portion is triangular, quadrangular, polygonal, or indefinite. The height of a convex part means the difference of the height of the highest part of a dot from a base film surface.

FMスクリーニング法とはドットとドットの間隔すなわち周期性(frequency)を変調する(modulate)すること、基本ドットを打つ頻度(ドットの密度)で濃淡を表現する方法である。FMスクリーニング法は、ランダム・スクリーニング法またストカスティック・スクリニーング法と呼ばれることもある。FMスクリーニング法とは、ドットとドットの間隔すなわち周期性を変調する方法を指す。具体的には、クリスタル・ラスター・スクリーニング法(アグファ・ゲバルト社)、ダイヤモンド・スクリーン法(ライノタイプ・ヘル社)、クラス・スクリーニング法およびフルトーン・スクリーニング法(サイテックス社)、ベルベット・スクリーニング法(ウグラ・コーハン社)、アキュトーン・スクリーニング法(ダネリー社)、メガドット・スクリーニング法(アメリカン・カラー社)、クリア・スクリーニング法(シーカラー社)、モネット・スクリーニング法(バルコ社)等が知られている。これら方法はいずれもドット発生のアルゴリズムは異なっているが、ドット密度の変化により濃淡を表現する方法であり、FMスクリーニング法の種々の態様であるということができる。   The FM screening method is a method for expressing light and shade by modulating the interval between dots, that is, the frequency, and the frequency of hitting the basic dots (dot density). The FM screening method is sometimes called a random screening method or a stochastic screening method. The FM screening method refers to a method of modulating the interval between dots, that is, periodicity. Specifically, the crystal raster screening method (Agfa Gebalt), the diamond screen method (Rhinotype Hell), the class screening method and the full-tone screening method (Cytex), the velvet screening method ( Ugura Cohan), Accutone Screening (Dannery), Megadot Screening (American Color), Clear Screening (Seacolor), Monet Screening (Barco) Yes. Although all of these methods have different dot generation algorithms, it is a method of expressing shading by changing the dot density, and can be said to be various aspects of the FM screening method.

FMスクリーニングでは、インクが乗るドットのサイズは一定とし、画像の濃度に応じてドットの出現頻度が変化する。FMスクリーニングにおける各ドットのサイズはいわゆる網点に比べて小さいので、必要とするパターンを高分解能で再現することが可能である。FMスクリーニングにおけるドットは、いわゆる網点とは異なり、ドットの配列が周期的ではない。FMスクリーニングでは、ドットの配列が周期的でないので、モアレは生じないという特徴を持っている。   In FM screening, the size of dots on which ink is placed is constant, and the frequency of dot appearance changes according to the density of the image. Since the size of each dot in FM screening is smaller than a so-called halftone dot, a required pattern can be reproduced with high resolution. Unlike so-called halftone dots, dots in FM screening are not periodically arranged. The FM screening has a feature that moire does not occur because the dot arrangement is not periodic.

(透明樹脂層)
本発明の防眩性フィルムの製造方法において、透明基材上にインクジェット方式により微細凹凸構造を形成したのち、該微細凹凸構造を被覆するように透明樹脂層を形成することが好ましい。
(Transparent resin layer)
In the method for producing an antiglare film of the present invention, it is preferable that after forming a fine uneven structure on a transparent substrate by an ink jet method, a transparent resin layer is formed so as to cover the fine uneven structure.

透明樹脂層の液組成物としては、活性光線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂あるいは金属アルコキシドまたはその加水分解物が好ましい。   The liquid composition of the transparent resin layer is preferably an actinic ray curable resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a metal alkoxide, or a hydrolyzate thereof.

透明樹脂層の液組成物に好ましく用いられる活性光線硬化型樹脂について説明する。   The actinic ray curable resin preferably used for the liquid composition of the transparent resin layer will be described.

活性光線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性光線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性光線硬化型樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性光線照射によって硬化する樹脂でもよい。   The actinic ray curable resin is a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams. Typical examples of the actinic ray curable resin include an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, and the like, but a resin that is cured by irradiation with actinic rays other than ultraviolet rays and electron beams may be used.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。   Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable acrylic urethane resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, and an ultraviolet curable epoxy resin. be able to.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号に記載の、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) described in JP-A-59-151110 is preferably used. .

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させることによって容易に得ることができる(例えば、特開昭59−151112号公報)。   An ultraviolet curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, or acrylic acid with a hydroxyl group or carboxyl group at the end of the polyester (see, for example, JP-A No. 59-151112).

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。   The ultraviolet curable epoxy acrylate resin is obtained by reacting a terminal hydroxyl group of an epoxy resin with a monomer such as acrylic acid, acrylic acid chloride, or glycidyl acrylate.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。   Examples of the ultraviolet curable polyol acrylate resin include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipenta. Examples include erythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、好ましく用いられるエポキシ系活性光線反応性化合物を示す。   As examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin and the ultraviolet curable epoxy resin, preferred examples of the epoxy actinic ray reactive compound are shown.

(a)ビスフェノールAのグリシジルエーテル(この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールAとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる)
(b)ビスフェノールA等のフェノール性OHを2個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び/またはプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
(c)4,4′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
(d)ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
(e)脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)オキザレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−シクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−1′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシ−6′−メチル−1′−シクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5′,5′−スピロ−3″,4″−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
(f)2塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
(g)グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)ジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
(h)ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
(i)多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
(j)2−フルオロアルキル−1,2−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
(k)含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。
(A) Glycidyl ether of bisphenol A (this compound is obtained as a mixture having different degrees of polymerization by reaction of epichlorohydrin and bisphenol A)
(B) A compound having a glycidyl ether group by reacting epichlorohydrin, ethylene oxide and / or propylene oxide with a compound having two phenolic OHs such as bisphenol A. (c) Glycidyl ether of 4,4'-methylenebisphenol (D) Epoxy compound of phenol formaldehyde resin of novolak resin or resol resin (e) Compound having alicyclic epoxide, for example, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) oxalate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ) Adipate, bis (3,4-epoxy-6-cyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl pimelate), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxy Rhohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methyl-cyclohexylmethyl-3', 4'-epoxy-1 '-Methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-6-methyl-cyclohexylmethyl-3', 4'-epoxy-6'-methyl-1'-cyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl- 5 ', 5'-spiro-3 ", 4" -epoxy) cyclohexane-meta-dioxane (f) diglycidyl ethers of dibasic acids such as diglycidyl oxalate, diglycidyl adipate, diglycidyl tetrahydrophthalate, di Glycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl Phthalate (g) Diglycidyl ether of glycol, for example, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, copoly (ethylene glycol-propylene glycol) di Glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether (h) Glycidyl ester of polymer acid, for example, polyglycidyl ester of polyacrylic acid, polyester diglycidyl ester (i) Polyhydric alcohol Glycidyl ethers such as glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglyceride Dil ether, pentaerythritol diglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, glucose triglycidyl ether (j) As diglycidyl ether of 2-fluoroalkyl-1,2-diol, the low refractive index substance (K) Examples of the fluorine-containing alkane-terminated diol glycidyl ether include fluorine-containing epoxy compounds of the fluorine-containing resin of the low refractive index material, and the like. it can.

上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として2000以下で、好ましくは1000以下である。   The molecular weight of the said epoxy compound is 2000 or less as an average molecular weight, Preferably it is 1000 or less.

上記のエポキシ化合物を活性光線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、(h)または(i)の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。   When the above epoxy compound is cured with actinic rays, it is effective to use a compound having a polyfunctional epoxy group (h) or (i) in order to increase the hardness.

エポキシ系活性光線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、活性光線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。   The photopolymerization initiator or photosensitizer for cationically polymerizing an epoxy actinic light-reactive compound is a compound capable of releasing a cationic polymerization initiating substance upon irradiation with actinic light, and particularly preferably, cationic polymerization is initiated by irradiation. A group of double salts of onium salts that release potent Lewis acids.

活性光線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性光線反応性樹脂である。   The actinic ray-reactive compound epoxy resin forms a polymerized, crosslinked structure or network structure not by radical polymerization but by cationic polymerization. Unlike radical polymerization, it is a preferable actinic ray reactive resin because it is not affected by oxygen in the reaction system.

本発明に有用な活性光線反応性エポキシ樹脂は、活性光線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。   The actinic ray-reactive epoxy resin useful in the present invention is polymerized by a photopolymerization initiator or a photosensitizer that releases a substance that initiates cationic polymerization upon irradiation with actinic rays. As the photopolymerization initiator, a group of double salts of onium salts that release a Lewis acid that initiates cationic polymerization by light irradiation is particularly preferable.

かかる代表的なものは下記一般式(2)で表される化合物である。   A typical example of such a compound is a compound represented by the following general formula (2).

一般式(2)
〔(R1)a(R2)b(R3)c(R4)dZ〕w+〔MeXv〕w-
式中、カチオンはオニウムであり、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、ハロゲン(例えば、I、Br、Cl)、またはN=N(ジアゾ)であり、R1、R2、R3、R4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。a、b、c、dはそれぞれ0〜3の整数であって、a+b+c+dはZの価数に等しい。Meはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属(metalloid)であり、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲンであり、wはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、vはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
General formula (2)
[(R1) a (R2) b (R3) c (R4) dZ] w + [MeXv] w
Wherein cation is onium, Z is S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, halogen (eg, I, Br, Cl), or N = N (diazo), R1, R2, R3 and R4 are organic groups which may be the same or different. a, b, c, and d are each an integer of 0 to 3, and a + b + c + d is equal to the valence of Z. Me is a metal or metalloid which is a central atom of a halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co, etc. X is halogen, w is the net charge of the halogenated complex ion, and v is the number of halogen atoms in the halogenated complex ion.

上記一般式(2)の陰イオン〔MeXv〕w-の具体例としては、テトラフルオロボレート(BF4 -)、テトラフルオロホスフェート(PF4 -)、テトラフルオロアンチモネート(SbF4 -)、テトラフルオロアルセネート(AsF4 -)、テトラクロロアンチモネート(SbCl4 -)等を挙げることができる。 Specific examples of the anion [MeXv] w of the general formula (2) include tetrafluoroborate (BF 4 ), tetrafluorophosphate (PF 4 ), tetrafluoroantimonate (SbF 4 ), and tetrafluoro. Examples include arsenate (AsF 4 ) and tetrachloroantimonate (SbCl 4 ).

また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン(ClO4 -)、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CF3SO3 -)、フルオロスルホン酸イオン(FSO3 -)、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。 Other anions include perchlorate ion (ClO 4 ), trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 ), fluorosulfonate ion (FSO 3 ), toluenesulfonate ion, and trinitrobenzene acid anion. An ion etc. can be mentioned.

この様なオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭50−151996号、同50−158680号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50−151997号、同52−30899号、同59−55420号、同55−125105号等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭56−8428号、同56−149402号、同57−192429号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭49−17040号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655号等に記載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。   Among such onium salts, it is particularly effective to use an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator. Among them, aromatic halonium salts described in JP-A-50-151996, 50-158680, etc. VIA group aromatic onium salts described in Kaikai 50-151997, 52-30899, 59-55420, 55-125105, JP-A-56-8428, 56-149402, Preference is given to oxosulfoxonium salts described in JP-A-57-192429, aromatic diazonium salts described in JP-B-49-17040, thiopyrilum salts described in US Pat. No. 4,139,655, and the like. Moreover, an aluminum complex, a photodegradable silicon compound type | system | group polymerization initiator, etc. can be mentioned. The cationic polymerization initiator can be used in combination with a photosensitizer such as benzophenone, benzoin isopropyl ether, or thioxanthone.

また、エポキシアクリレート基を有する活性光線反応性化合物の場合は、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性光線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物100質量部に対して0.1質量部〜15質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは1質量部〜10質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。   In the case of an actinic ray reactive compound having an epoxy acrylate group, a photosensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photosensitizer and photoinitiator used for the actinic ray reactive compound are sufficient to initiate the photoreaction at 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet reactive compound, Preferably they are 1 mass part-10 mass parts. The sensitizer preferably has an absorption maximum from the near ultraviolet region to the visible light region.

本発明に有用な活性光線硬化型樹脂を含むび液組成物において、光重合開始剤は、一般的には、活性光線硬化性エポキシ樹脂(プレポリマー)100質量部に対して0.1質量部〜15質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、1質量部〜10質量部の範囲の添加が好ましい。   In the liquid composition containing the actinic ray curable resin useful in the present invention, the photopolymerization initiator is generally 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the actinic ray curable epoxy resin (prepolymer). Use of -15 mass parts is preferable, More preferably, addition of the range of 1 mass part-10 mass parts is preferable.

また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することも出来、この場合、活性光線ラジカル重合開始剤と活性光線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。   An epoxy resin can be used in combination with the urethane acrylate type resin, polyether acrylate type resin, or the like. In this case, it is preferable to use an actinic ray radical polymerization initiator and an actinic ray cationic polymerization initiator in combination.

また、本発明では、光重合開始剤としてオキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素または硫黄を含む3員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、3,3−ビス(クロルメチル)オキセタン、3,3−ビス(ヨードメチル)オキセタン、3,3−ビス(メトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フェノキシメチル)オキセタン、3−メチル−3クロルメチルオキセタン、3,3−ビス(アセトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フルオロメチル)オキセタン、3,3−ビス(ブロモメチル)オキセタン、3,3−ジメチルオキセタン等が挙げられる。尚、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。   Moreover, in this invention, an oxetane compound can also be used as a photoinitiator. The oxetane compound used is a compound having a three-membered oxetane ring containing oxygen or sulfur. Among them, a compound having an oxetane ring containing oxygen is preferable. The oxetane ring may be substituted with a halogen atom, a haloalkyl group, an arylalkyl group, an alkoxyl group, an allyloxy group, or an acetoxy group. Specifically, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (iodomethyl) oxetane, 3,3-bis (methoxymethyl) oxetane, 3,3-bis (phenoxymethyl) oxetane, 3-methyl -3 chloromethyloxetane, 3,3-bis (acetoxymethyl) oxetane, 3,3-bis (fluoromethyl) oxetane, 3,3-bis (bromomethyl) oxetane, 3,3-dimethyloxetane and the like. In the present invention, any of a monomer, an oligomer and a polymer may be used.

本発明で用いることのできる紫外線硬化性樹脂の具体例としては、例えば、アデカオプトマーKR、BYシリーズのKR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(以上、旭電化工業(株)製)、コーエイハードのA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(以上、広栄化学工業(株)製)、セイカビームのPHC2210(S)、PHCX−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上、大日精化工業(株)製)、KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(以上、ダイセル・ユーシービー(株))、RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(以上、大日本インキ化学工業(株)製)、オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製)、サンラッド H−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(以上、三洋化成工業(株)製)、SP−1509、SP−1507(以上、昭和高分子(株)製)、RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(以上、東亞合成(株)製)、またはその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。   Specific examples of the ultraviolet curable resin that can be used in the present invention include, for example, Adekaoptomer KR, BY series KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B. (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T -102, D-102, NS-101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), Seika Beam PHC2210 (S), PHCX -9 (K-3), PHC2213, DP-10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, CR900 (above, manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.), KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (above, Daicel UCB), RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC -5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120, RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (above, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), Aurex No. 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.), Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (above, Sanyo Chemical Industries, Ltd.) , SP-1509, SP-1507 (above, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), RCC-15C (produced by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (above, Toagosei Co., Ltd.) (Made by Co., Ltd.), or other commercially available products.

透明樹脂層の液組成物中の活性光線硬化型樹脂の固形分濃度は10〜95質量%であることが好ましく、塗布方法等により最適な濃度が選ばれる。   The solid content concentration of the actinic ray curable resin in the liquid composition of the transparent resin layer is preferably 10 to 95% by mass, and an optimum concentration is selected depending on the coating method and the like.

また、活性光線硬化型樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。   Further, when an ultraviolet curable resin is used as the actinic ray curable resin, an ultraviolet absorber may be included in the ultraviolet curable resin composition to the extent that does not hinder the photocuring of the ultraviolet curable resin. As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.

本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of ultraviolet absorbers preferably used in the present invention include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, and the like. However, it is not limited to these.

次いで、透明樹脂層形成に用いられる液組成物に使用する熱硬化性樹脂について説明する。   Subsequently, the thermosetting resin used for the liquid composition used for transparent resin layer formation is demonstrated.

本発明で用いることのできる熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることができる。   Examples of the thermosetting resin that can be used in the present invention include unsaturated polyester resins, epoxy resins, vinyl ester resins, phenol resins, thermosetting polyimide resins, thermosetting polyamide imides, and the like.

不飽和ポリエステル樹脂としては、例えば、オルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは被膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂(ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど)を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Br2でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはIPN化した強靭性(高強度、高弾性率、高伸び率)の強靭性樹脂等がある。 As the unsaturated polyester resin, for example, orthophthalic acid resin, isophthalic acid resin, terephthalic acid resin, bisphenol resin, propylene glycol-maleic acid resin, dicyclopentadiene or derivatives thereof are introduced into the unsaturated polyester composition. Low styrene volatile resin with low molecular weight or added film-forming wax compound, low shrinkage with thermoplastic resin (polyvinyl acetate resin, styrene / butadiene copolymer, polystyrene, saturated polyester, etc.) Resin, unsaturated polyester brominated directly with Br 2 , or reactive type such as copolymerization of het acid or dibromoneopentyl glycol, halides such as chlorinated paraffin, tetrabromobisphenol and antimony trioxide, phosphorus Compound combinations Additive-type flame retardant resin that uses sesame or aluminum hydroxide as an additive, toughness resin that is hybridized with polyurethane or silicone, or toughened with IPN (high strength, high elastic modulus, high elongation), etc. is there.

エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールF型、臭素化ビスフェノールA型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることができる。   Examples of the epoxy resin include glycidyl ether type epoxy resins including bisphenol A type, novolak phenol type, bisphenol F type, brominated bisphenol A type, glycidyl amine type, glycidyl ester type, cyclic aliphatic type, and heterocyclic epoxy type. Special epoxy resins containing

ビニルエステル樹脂としては、例えば、普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーをスチレン等のモノマーに溶解した物である。また、分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えば、ビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としてはビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。   As the vinyl ester resin, for example, an oligomer obtained by ring-opening addition reaction of an ordinary epoxy resin and an unsaturated monobasic acid such as methacrylic acid is dissolved in a monomer such as styrene. There are also special types such as vinyl monomers having vinyl groups at the molecular ends and side chains. Examples of vinyl ester resins of glycidyl ether type epoxy resins include bisphenol type, novolak type, brominated bisphenol type, etc., and special vinyl ester resins include vinyl ester urethane type, isocyanuric acid vinyl type, side chain vinyl ester type, etc. There is.

フェノール樹脂は、フェノール類とフォルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。   The phenol resin is obtained by polycondensation using phenols and formaldehyde as raw materials, and there are a resol type and a novolac type.

熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えば、マレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・O,O′−ジアリルビスフェノール−A樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。   Examples of thermosetting polyimide resins include maleic acid-based polyimides such as polymaleimide amine, polyamino bismaleimide, bismaleimide / O, O'-diallyl bisphenol-A resin, bismaleimide / triazine resin, and nadic acid-modified polyimide. And acetylene-terminated polyimide.

また、上述した活性光線硬化型樹脂の一部も、熱硬化性樹脂として用いることができる。   A part of the actinic ray curable resin described above can also be used as the thermosetting resin.

尚、本発明に用いられる熱硬化性樹脂からなる液組成物には、活性光線硬化型樹脂を含む液組成物に記載した酸化防止剤や紫外線吸収剤を適宜用いてもよい。   In addition, you may use suitably the antioxidant and ultraviolet absorber which were described in the liquid composition containing actinic-light curable resin for the liquid composition which consists of a thermosetting resin used for this invention.

透明樹脂層は、上記微細凹凸構造の項で詳細に説明した活性光線硬化型樹脂、光重合開始剤、光反応開始剤、光増感剤、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、紫外線吸収剤、微粒子、溶媒等を適宜用いて液組成物を調製し、更に任意の塗布方法により微細凹凸構造の上に塗布を行う。   The transparent resin layer is an actinic ray curable resin, a photopolymerization initiator, a photoinitiator, a photosensitizer, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, an ultraviolet absorber, described in detail in the section of the fine concavo-convex structure, A liquid composition is prepared by appropriately using fine particles, a solvent, and the like, and further coated on the fine concavo-convex structure by an arbitrary coating method.

透明樹脂層の塗布方法は特に限定されるものではないが、前記組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法、フレキソ印刷法等公知の方法で塗設することが好ましい。   The coating method of the transparent resin layer is not particularly limited, but the composition is coated by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, an ink jet method, a flexographic printing method. It is preferable.

図5は、本発明の微細凹凸構造の形成と透明樹脂層による被覆を模式的に表した図である。   FIG. 5 is a diagram schematically showing the formation of the fine concavo-convex structure of the present invention and the coating with a transparent resin layer.

本発明に用いられる透明樹脂層表面の凹凸構造の算術平均表面粗さ(Ra)は、0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.05〜1μm、さらに好ましくは0.1〜0.5μmである。また、透明樹脂層表面の凹凸構造の平均中心間距離(Sm)は、10〜200μm、より好ましくは20〜100μm、さらに好ましくは25〜75μmである。更に、下記Rz/Smが、0.01〜0.1であることが好ましく、より好ましくは、0.02〜0.05である。更に該凸部または凹部の表面形状部を0.01mm2あたり5〜25個有することが好ましい。 The arithmetic average surface roughness (Ra) of the concavo-convex structure on the surface of the transparent resin layer used in the present invention is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 1 μm, still more preferably 0.1 to 0.1 μm. 0.5 μm. The average center distance (Sm) of the concavo-convex structure on the surface of the transparent resin layer is 10 to 200 μm, more preferably 20 to 100 μm, and still more preferably 25 to 75 μm. Furthermore, the following Rz / Sm is preferably 0.01 to 0.1, and more preferably 0.02 to 0.05. Furthermore, it is preferable to have 5 to 25 surface shape portions of the convex portions or concave portions per 0.01 mm 2 .

上記算術平均粗さ(Ra)は、JIS B 0601により定義され、下式によって求められる値をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。   The arithmetic average roughness (Ra) is defined by JIS B 0601 and represents a value obtained by the following formula expressed in micrometers (μm).

Figure 2008250276
Figure 2008250276

上記表面粗さ(Rz)は、JIS表面粗さのJIS B 0601により十点平均高さとして定義されているもので、断面曲線から基準長さだけ抜き取った部分において、凸部の最高から5番目までの平均値と凹部の最低から5番目までの平均値の差の値をマイクロメートル単位(μm)で表したものをいう。   The surface roughness (Rz) is defined as a ten-point average height according to JIS B 0601 of JIS surface roughness, and is the fifth highest from the convex portion in the portion extracted from the sectional curve by the reference length. The difference between the average value up to and the average value from the lowest to the fifth concave portion is expressed in micrometer units (μm).

隣り合う凸部又は凹部間の平均中心間距離(Sm)は、JIS B 0601中で輪郭要素曲線の平均長さとして定義されるものと同一であり、図中g(この場合は凸部)で表されるが、凸部又は凹部の頂点を該凸部又は凹部の中心とし、隣り合う凸部又は凹部中心間の距離を平均したものである。凸部又は凹部間の平均距離は触針式表面粗さ測定機などにより測定出来、例えばダイヤモンドからなる先端部を頂角55度の円錐形とした直径1mmの測定針を介して微細凹凸構造面上を一定方向に走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線として知見を得ることが出来、その結果より凸部又は凹部間の距離を測定し平均値を求めることができる。或いは前述のごとく光学干渉式表面粗さ測定機によっても測定することができる。   The average center-to-center distance (Sm) between adjacent convex portions or concave portions is the same as that defined as the average length of the contour element curve in JIS B 0601, and is g in this figure (the convex portion in this case). Although represented, the vertex of a convex part or a recessed part is made into the center of this convex part or a recessed part, and the distance between adjacent convex parts or recessed part centers is averaged. The average distance between protrusions or recesses can be measured by a stylus type surface roughness measuring machine, for example, a fine uneven structure surface through a measuring needle having a diameter of 1 mm with a tip portion made of diamond having a conical shape with an apex angle of 55 degrees. By scanning the top in a certain direction and measuring the movement change in the vertical direction of the measuring needle in that case, it is possible to obtain knowledge as a surface roughness curve recorded, and from the result, the distance between the convex part or the concave part is obtained. The average value can be obtained by measurement. Alternatively, it can also be measured by an optical interference surface roughness measuring machine as described above.

算術平均表面粗さ(Ra)、表面粗さ(Rz)、平均中心間距離(Sm)の測定方法としては、25℃、65%RH環境下で測定試料同士が重なり合わない条件で24時間調湿したのち、上記環境下で測定して求めることが出来る。ここでいう重なり合わない条件とは、例えば、試料のエッジ部分を高くした状態で巻き取る方法や試料と試料の間に紙を挟んで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。用いることの出来る測定装置としては、例えば、WYKO社製 RSTPLUS非接触三次元微小表面形状測定システム(光学干渉式表面粗さ測定機の代表例)等を挙げることが出来る。   Arithmetic average surface roughness (Ra), surface roughness (Rz), and average center distance (Sm) are measured for 24 hours under conditions of 25 ° C. and 65% RH in which the measurement samples do not overlap. It can be determined by measuring in the above environment after wetting. The non-overlapping conditions mentioned here are, for example, a method of winding with the edge portion of the sample raised, a method of stacking paper between the sample and the sample, a frame made of cardboard, etc., and fixing its four corners One of the methods. Examples of the measuring apparatus that can be used include a RSTPLUS non-contact three-dimensional micro surface shape measuring system (a typical example of an optical interference type surface roughness measuring machine) manufactured by WYKO.

図6は本発明に好ましい微細凹凸構造の模式図である。   FIG. 6 is a schematic view of a fine uneven structure preferable for the present invention.

(a)は透明基材フィルム上に形成された凸部を透明樹脂層により被覆した断面図であり、(b)は透明基材フィルム上に後述する硬化樹脂層を設け、更に凸部、透明樹脂層を配した断面図である。   (A) is sectional drawing which coat | covered the convex part formed on the transparent base film with the transparent resin layer, (b) provided the cured resin layer mentioned later on a transparent base film, and also a convex part and transparent It is sectional drawing which arranged the resin layer.

本発明に用いられる透明樹脂層の乾燥膜厚は、3〜15μmが好ましく、より好ましくは5〜10μmである。20μmを越えると膜物性のうち屈曲耐性が著しく劣化し、透明樹脂層形成後の搬送や切断等の取り扱い時に微小な折れが発生し易くなり生産性が低下する。   As for the dry film thickness of the transparent resin layer used for this invention, 3-15 micrometers is preferable, More preferably, it is 5-10 micrometers. If the thickness exceeds 20 μm, the bending resistance among the film properties is remarkably deteriorated, and minute folds are likely to occur during handling such as transport and cutting after the formation of the transparent resin layer, resulting in a decrease in productivity.

乾燥膜厚は、例えば、本発明に用いられる透明樹脂層が活性光硬化樹脂または熱硬化性樹脂からなる場合、樹脂の固形分量と樹脂の溶媒との比率を調整することで所望の乾燥膜厚を得ることができる。また、本発明では、後述するように透明支持体上に硬化樹脂層または平滑型の光拡散層を有し、その表面にインクジェット方式により微細凹凸構造を形成したのち該微細凹凸構造を被覆するように透明樹脂層が形成することが好ましいが、この時、硬化樹脂層または平滑型の光拡散層から透明樹脂層までを合わせた乾燥膜厚が3〜15μmが好ましく、より好ましくは5〜10μmである。   For example, when the transparent resin layer used in the present invention is composed of an active photocurable resin or a thermosetting resin, the dry film thickness is adjusted to a desired dry film thickness by adjusting the ratio of the resin solid content and the resin solvent. Can be obtained. Further, in the present invention, as will be described later, a cured resin layer or a smooth light diffusion layer is provided on a transparent support, and a fine concavo-convex structure is formed on the surface by an ink jet method and then the fine concavo-convex structure is covered. It is preferable that a transparent resin layer is formed, but at this time, the dry film thickness including the cured resin layer or the smooth light diffusion layer to the transparent resin layer is preferably 3 to 15 μm, more preferably 5 to 10 μm. is there.

透明樹脂層に用いることができる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;ジアセトンアルコール等のケトンアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、トリエチレングリコール、1,2,6−ヘキサントリオール、チオジグリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール等のアルキレン基が2〜6個の炭素原子を含むアルキレングリコール類;;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸セルソルブ、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエステル類;乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類、水等を挙げられ、それらを単独または2種以上混合して使用することが出来る。また、分子内にエーテル結合をもつものが特に好ましく、グリコールエーテル類も好ましく用いられる。   Examples of the solvent that can be used for the transparent resin layer include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, and butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, Amides such as dimethylacetamide; ketone alcohols such as diacetone alcohol; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol; ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, 2 to 6 carbon atoms having an alkylene group such as triethylene glycol, 1,2,6-hexanetriol, thiodiglycol, hexylene glycol, diethylene glycol Alkylene glycols containing; glycol ethers such as ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl carbitol, butyl carbitol, diethyl cellosolve, diethyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether; Glycol esters; esters such as methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, and amyl acetate; ethers such as dimethyl ether and diethyl ether, water, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. I can do it. Further, those having an ether bond in the molecule are particularly preferred, and glycol ethers are also preferably used.

グリコールエーテル類としては、具体的には下記の溶媒が挙げられるが、特にこれらに限定されない。プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルAc、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルAc、エチレングリコールジエチルエーテル等を挙げることが出来る、尚Acはアセテートを表す。   Specific examples of glycol ethers include, but are not limited to, the following solvents. Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether Ac, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether Ac, ethylene glycol Examples thereof include diethyl ether, and Ac represents acetate.

本発明の防眩性フィルムにおいては、透明基材上に直接インクジェット方式により微細凹凸構造を形成することができるが、より好ましくは1層以上の硬化性樹脂層、あるいは塗布方式で形成した平滑型の光拡散層を形成した後、その硬化性樹脂層、または平滑型の光拡散層表面上に微細凹凸構造を形成することが好ましい。硬化性樹脂層または光拡散層の乾燥膜厚は、0.1〜10μmが好ましく、0.1〜5μmがより好ましい。   In the antiglare film of the present invention, a fine concavo-convex structure can be formed directly on a transparent substrate by an ink jet method, but more preferably a smooth type formed by one or more curable resin layers or a coating method. After forming the light diffusion layer, it is preferable to form a fine concavo-convex structure on the surface of the curable resin layer or the smooth light diffusion layer. The dry film thickness of the curable resin layer or the light diffusion layer is preferably 0.1 to 10 μm, and more preferably 0.1 to 5 μm.

硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層には、微細凹凸構造形成用インク組成物及び透明樹脂層で用いたのと同様の熱硬化性樹脂または活性線硬化型樹脂を好ましく用いることができるが、特に紫外線硬化樹脂が好ましい。また、硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層の形成に際しては、上記各樹脂の他に、インク組成物で記載したのと同様な光拡散剤、光反応開始剤、光増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機微粒子、有機微粒子等を適宜添加することができる。   For the curable resin layer or the smooth light diffusing layer, the same thermosetting resin or actinic radiation curable resin as that used in the ink composition for forming a fine relief structure and the transparent resin layer can be preferably used. In particular, an ultraviolet curable resin is preferable. Further, when forming a curable resin layer or a smooth light diffusing layer, in addition to each of the above resins, the same light diffusing agent, photoreaction initiator, photosensitizer, oxidation agent as described in the ink composition are used. An inhibitor, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, inorganic fine particles, organic fine particles and the like can be appropriately added.

また、本発明においては、硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層は、複数層で構成されてもよいが、インク液滴を着弾させる硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層の最表層が、可塑剤を含有していることが好ましい。   In the present invention, the curable resin layer or the smooth light diffusing layer may be composed of a plurality of layers, but the outermost layer of the curable resin layer or the smooth light diffusing layer for landing ink droplets. However, it preferably contains a plasticizer.

可塑剤は、0.1〜10質量%を含有することが好ましい。例えば、前記硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層の塗布組成物にあらかじめ可塑剤を添加することが好ましく、あるいは硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層の塗設前に、あらかじめ基材表面に可塑剤を塗布もしくは付着させておくこともできる。これらによって、硬化後のインク滴の密着性が改善される。   It is preferable that a plasticizer contains 0.1-10 mass%. For example, it is preferable to add a plasticizer in advance to the coating composition of the curable resin layer or the smooth light diffusing layer, or the substrate is previously coated before the curable resin layer or the smooth light diffusing layer is coated. A plasticizer can be applied or adhered to the surface. These improve the adhesion of the ink droplets after curing.

硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層で用いることのできる可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。   Examples of the plasticizer that can be used in the curable resin layer or the smooth light diffusing layer include a phosphate ester plasticizer, a phthalate ester plasticizer, a trimellitic ester plasticizer, and a pyromellitic acid plasticizer. Agents, glycolate plasticizers, citrate ester plasticizers, polyester plasticizers, and the like can be preferably used.

リン酸エステル系可塑剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキシル)シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。また、トリメチロールプロパントリベンゾエート等も好ましく用いることができる。   Examples of phosphate ester plasticizers include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, and tributyl phosphate. For trimellitic plasticizers such as phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diphenyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, For pyromellitic acid ester plasticizers such as tate and triethyl trimellitate, tetrabutyl pyromellitate For glycolate plasticizers such as tetraphenylpyromellitate and tetraethylpyromellitate, triacetin, tributyrin, ethylphthalylethyl glycolate, methylphthalylethyl glycolate, butylphthalylbutyl glycolate, etc. As the agent, triethyl citrate, tri-n-butyl citrate, acetyl triethyl citrate, acetyl tri-n-butyl citrate, acetyl tri-n- (2-ethylhexyl) citrate and the like can be preferably used. Examples of other carboxylic acid esters include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters. Trimethylolpropane tribenzoate and the like can also be preferably used.

ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,2−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。   As the polyester plasticizer, a copolymer of a dibasic acid and a glycol such as an aliphatic dibasic acid, an alicyclic dibasic acid, or an aromatic dibasic acid can be used. The aliphatic dibasic acid is not particularly limited, and adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexyl dicarboxylic acid, and the like can be used. As glycol, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,2-butylene glycol and the like can be used. These dibasic acids and glycols may be used alone or in combination of two or more.

特に、特開2002−146044号公報記載のエポキシ系化合物、ロジン系化合物、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ケトン樹脂、トルエンスルホンアミド樹脂等の添加物を有するセルロースエステルも好ましく用いられる。   In particular, cellulose esters having additives such as epoxy compounds, rosin compounds, phenol novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, ketone resins, and toluenesulfonamide resins described in JP-A No. 2002-146044 are also preferably used. .

上記化合物としては、KE−604とKE−610は荒川化学工業(株)からそれぞれ酸価237と170で市販されている。同じく、荒川化学工業(株)からアビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸3者の混合物のエステル化物として、KE−100及びKE−356が、それぞれの酸価は8と0で市販されている。また、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸3者の混合物は、播磨化成(株)からそれぞれの酸価167、168のG−7及びハートールR−Xで市販されている。   As the above compounds, KE-604 and KE-610 are commercially available from Arakawa Chemical Industries, Ltd. with acid values of 237 and 170, respectively. Similarly, KE-100 and KE-356 are commercially available from Arakawa Chemical Industries, Ltd. as an esterified product of a mixture of abietic acid, dehydroabietic acid, and parastrinic acid at 8 and 0, respectively. A mixture of abietic acid, dehydroabietic acid, and parastrinic acid is commercially available from Harima Kasei Co., Ltd. under G-7 and Hartle RX with acid values of 167 and 168, respectively.

また、エポキシ樹脂としては、アラルダイドEPN1179及びアラルダイドAER260は旭チバ(株)から市販されている。   Moreover, as an epoxy resin, Araldide EPN1179 and Araldide AER260 are commercially available from Asahi Ciba.

ケトン樹脂としては、ハイラック110及びハイラック110Hは日立化成(株)から市販されている。   As a ketone resin, Hilac 110 and Hilac 110H are commercially available from Hitachi Chemical Co., Ltd.

パラトルエンスルホンアミド樹脂としては、トップラーとして、フジアミドケミカル(株)から市販されている。   As para-toluenesulfonamide resin, as a topler, it is commercially available from Fujiamide Chemical Co., Ltd.

本発明に用いられる硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、または混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ(炭素数1〜4)アルキルエーテルまたはプロピレングリコールモノ(炭素数1〜4)アルキルエーテルエステルを5質量%以上、さらに好ましくは5質量%〜80質量%以上含有する溶媒が用いられる。   Examples of the solvent for coating the curable resin layer or the smooth light diffusing layer used in the present invention include hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, glycol ethers, and other solvents. It can select suitably or can be mixed and used. Preferably, a solvent containing 5% by mass or more, more preferably 5% by mass to 80% by mass or more of propylene glycol mono (C 1-4) alkyl ether or propylene glycol mono (C 1-4) alkyl ether ester. Used.

上記説明した組成からなる硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層組成物塗布液を透明基材上に塗布する方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で5μm〜30μmが適当で、好ましくは10μm〜20μmである。塗布速度は10m/分〜60m/分が好ましい。また、乾燥膜厚としては、0.1〜10μmが好ましい。   Gravure coater, spinner coater, wire bar coater, roll coater, reverse coater, extrusion can be applied as a method of applying a curable resin layer or a smooth light diffusing layer composition coating solution having the above-described composition onto a transparent substrate. A known method such as a coater or an air doctor coater can be used. The coating amount is suitably 5 μm to 30 μm, preferably 10 μm to 20 μm in terms of wet film thickness. The coating speed is preferably 10 m / min to 60 m / min. Moreover, as a dry film thickness, 0.1-10 micrometers is preferable.

硬化性樹脂層、あるいは平滑型の光拡散層は塗布乾燥された後、インクの硬化と同様の方法で、紫外線や電子線等の活性光線を照射、あるいは加熱処理により硬化されることが好ましいが、前記活性光線の照射時間は0.1秒〜5分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、0.1〜10秒である。   The curable resin layer or the smooth light diffusing layer is preferably cured after being coated and dried and then irradiated with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams, or by heat treatment in the same manner as the curing of the ink. The irradiation time of the actinic ray is preferably from 0.1 second to 5 minutes, and more preferably from 0.1 to 10 seconds in view of the curing efficiency and work efficiency of the ultraviolet curable resin.

本発明においては、上記方法で透明基材上に塗布した硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層が未硬化の状態、あるいは完全に硬化が終了した後のいずれの時期でも、インクジェット方式により微細凹凸構造を形成するインク液滴を着弾させ、引き続き透明樹脂層で被覆してよい。硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層がハーフキュア(半硬化状態)のときにインク液滴を着弾させて凸部を形成させ、引き続き透明樹脂層で被覆することは、微細な凹凸が形成しやすく、かつ生産性にも優れるため好ましく、更に、微細凹凸構造や透明樹脂層と硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層表面との密着性を向上することができる。   In the present invention, the curable resin layer or the smooth light diffusing layer applied on the transparent substrate by the above method is in an uncured state or at any time after complete curing is completed by the inkjet method. Ink droplets that form an uneven structure may be landed and subsequently covered with a transparent resin layer. When the curable resin layer or the smooth light diffusing layer is half-cured (semi-cured state), ink droplets are landed to form convex portions, and subsequently covered with a transparent resin layer forms fine irregularities. It is preferable because it is easy to be performed and is excellent in productivity. Further, the adhesion between the fine concavo-convex structure and the transparent resin layer and the curable resin layer or the surface of the smooth light diffusing layer can be improved.

本発明において、微細凹凸構造を形成後、表面をプラズマ処理した後、該微細凹凸構造を被覆するように透明樹脂層を形成することが好ましい。プラズマ処理は、特に、大気プラズマ処理を施すことが好ましく、ヘリウム、アルゴン等の希ガスもしくは窒素、空気などの放電ガスと必要に応じて、酸素、水素、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、水蒸気、メタン、4フッ化メタンなどを1種以上含有する反応ガスを用いることができる。特開2000−356714号公報には、具体的なプラズマ処理方法を参考にして、硬化樹脂層表面にプラズマ処理を施すことができる。   In the present invention, it is preferable to form a transparent resin layer so as to cover the fine concavo-convex structure after forming the fine concavo-convex structure and then plasma-treating the surface. The plasma treatment is particularly preferably atmospheric plasma treatment, and a rare gas such as helium or argon or a discharge gas such as nitrogen or air and, if necessary, oxygen, hydrogen, nitrogen, carbon monoxide, carbon dioxide, carbon dioxide, A reaction gas containing one or more of nitrogen oxide, nitrogen dioxide, water vapor, methane, tetrafluoromethane, and the like can be used. In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-356714, the surface of the cured resin layer can be subjected to plasma treatment with reference to a specific plasma treatment method.

本発明に用いられる透明樹脂層は、マイクログラビア法、押出し塗布法、ワイヤーバー法、フレキソ印刷法、インクジェット法等の一般的な薄膜均一塗布法により、塗布することで作製される。透明樹脂層は前述の微細凹凸構造の上に塗布され、微細凹凸構造を被覆して、凹凸をなだらかにして、好ましい表面形状により防眩性を発現させることができる。   The transparent resin layer used in the present invention is produced by coating by a general thin film uniform coating method such as a micro gravure method, an extrusion coating method, a wire bar method, a flexographic printing method, and an ink jet method. The transparent resin layer is applied on the fine concavo-convex structure described above, covers the fine concavo-convex structure, and smoothes the concavo-convex structure so that the anti-glare property can be expressed by a preferable surface shape.

本発明に用いられる透明樹脂層は、前記微細凹凸構造形成用インクで説明したと同じシリコーンオイル、変性シリコーンオイル、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、フッ素系樹脂、フッ素系オリゴマー、フッ素変性シリコーンオイル、フッ素系シランカップリング剤等の活性剤を0.1質量%以上5質量%以下含有することが好ましい。添加量が多すぎると、撥水撥油効果により透明樹脂層が微細凹凸構造の上に塗布できなくなり、好ましくない。また、界面活性剤は、インク組成、溶媒組成、下地基材の表面エネルギーにも依存するため、添加されることが必須ではない。   The transparent resin layer used in the present invention has the same silicone oil, modified silicone oil, silicone surfactant, fluorine surfactant, fluorine resin, fluorine oligomer, fluorine as described in the fine uneven structure forming ink. It is preferable to contain 0.1% by mass or more and 5% by mass or less of an activator such as a modified silicone oil or a fluorine-based silane coupling agent. If the amount is too large, the transparent resin layer cannot be applied on the fine concavo-convex structure due to the water / oil repellent effect, which is not preferable. Further, since the surfactant also depends on the ink composition, the solvent composition, and the surface energy of the base substrate, it is not essential to add the surfactant.

本発明では、微細凹凸構造、透明樹脂層共にSnO2、ITO、ZnO等の導電性微粒子や架橋カチオンポリマー粒子等の帯電防止剤を含有させることも好ましい。本発明では、帯電防止剤を透明樹脂層に添加することが好ましい。 In the present invention, it is also preferable that both the fine concavo-convex structure and the transparent resin layer contain an antistatic agent such as conductive fine particles such as SnO 2 , ITO and ZnO, and crosslinked cationic polymer particles. In the present invention, it is preferable to add an antistatic agent to the transparent resin layer.

本発明では、微細凹凸構造、透明樹脂層共に上記微粒子を含有させることも好ましく、例えば、無機微粒子または有機微粒子を添加することができる。   In the present invention, it is also preferable that the fine concavo-convex structure and the transparent resin layer contain the fine particles. For example, inorganic fine particles or organic fine particles can be added.

無機微粒子としては、例えば、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。これらは球状、平板状、無定形状等の形状の粒子が挙げられる。   Examples of inorganic fine particles include silicon-containing compounds, silicon dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and Calcium phosphate and the like are preferable, and an inorganic compound containing silicon and zirconium oxide are more preferable, and silicon dioxide is particularly preferably used. These include particles having a shape such as a spherical shape, a flat plate shape, and an amorphous shape.

二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)等の市販品が使用できる。   As the silicon dioxide fine particles, for example, commercially available products such as Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used.

酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)等の市販品が使用できる。   As the fine particles of zirconium oxide, for example, commercially available products such as Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used.

また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、またはポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。   The organic fine particles include polymethacrylate methyl acrylate resin fine particles, acrylic styrene resin fine particles, polymethyl methacrylate resin fine particles, silicon resin fine particles, polystyrene resin fine particles, polycarbonate resin fine particles, benzoguanamine resin fine particles, and melamine resin. Examples thereof include fine particles, polyolefin resin fine particles, polyester resin fine particles, polyamide resin fine particles, polyimide resin fine particles, and polyfluoroethylene resin fine particles.

上記微粒子を含有する場合、その平均粒径は、5〜300nmが好ましく、更に好ましくは20〜100nmである。粒径や屈折率の異なる2種以上の微粒子を含有させてもよい。また、含有量は微細凹凸構造若しくは透明樹脂層に対し5〜50質量%であることが好ましい。   When the fine particles are contained, the average particle diameter is preferably 5 to 300 nm, more preferably 20 to 100 nm. You may contain 2 or more types of microparticles | fine-particles from which a particle size and refractive index differ. Moreover, it is preferable that content is 5-50 mass% with respect to a fine uneven structure or a transparent resin layer.

本発明において、微細凹凸構造もしくは透明樹脂層が活性光線硬化型樹脂を含む場合、活性光線の照射方法としては、インクを透明基体上に着弾させ、溶媒等を蒸発させた後、活性光線を照射することが好ましい。照射のタイミングは形成するパターン形状を考慮して決定することが出来、例えば、インクが無溶媒の場合は、着弾後〜2min後に照射すること、またインクが溶媒を含む場合はインク中の溶媒が揮発し終った直後〜2min後に照射することが出来る。   In the present invention, when the fine concavo-convex structure or the transparent resin layer contains an actinic ray curable resin, the actinic ray irradiation method includes landing the ink on the transparent substrate, evaporating the solvent and the like, and then irradiating the actinic ray It is preferable to do. The timing of irradiation can be determined in consideration of the pattern shape to be formed. For example, when the ink is solvent-free, irradiation is performed after 2 minutes after landing, and when the ink contains a solvent, the solvent in the ink Immediately after the volatilization is completed, irradiation can be performed after 2 minutes.

本発明でいうインクを透明基体上に着弾、もしくはインク中の溶媒が揮発し終った直後とは、具体的にはインクが着弾後から5秒までの間をさす。また、活性光線の照射は、インクの流動性を低下させ、所望のパターン形状が形成出来る程度に照射すればよく、ハーフキュア状態でもよい。この場合には、別途下流側に設置した活性光源を照射して、完全に硬化させることが出来る。本発明では微細凹凸構造の形成及び透明樹脂層の形成に活性線硬化樹脂を使用することが好ましい。   The term “immediately after the ink is landed on the transparent substrate” or after the solvent in the ink has been volatilized, specifically refers to a period of 5 seconds after the ink has landed. Irradiation with actinic light may be performed to such an extent that the fluidity of the ink is lowered and a desired pattern shape can be formed, and may be in a half-cured state. In this case, it can be cured completely by irradiating an active light source separately installed on the downstream side. In the present invention, it is preferable to use an actinic radiation curable resin for forming the fine uneven structure and forming the transparent resin layer.

本発明に使用することができる活性光線としては、紫外線、電子線、γ線等で、パターン状に形成された活性光線硬化型樹脂を活性化させる光源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は1mJ/cm2以上が好ましく、更に好ましくは、20mJ/cm2〜10000mJ/cm2であり、特に好ましくは、50mJ/cm2〜2000mJ/cm2である。 The actinic ray that can be used in the present invention can be used without limitation as long as it is a light source that activates the actinic ray curable resin formed in a pattern with ultraviolet rays, electron beams, γ rays, etc. Electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferable in that they are easy to handle and high energy can be easily obtained. As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the amount of irradiation light is preferably 1 mJ / cm 2 or more, more preferably 20 mJ / cm 2 to 10000 mJ / cm 2 , and particularly preferably 50 mJ / cm 2 to 2000 mJ / cm 2. It is.

また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。   Moreover, an electron beam can be used similarly. As an electron beam, 50 to 1000 keV, preferably 100 to 100, emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. An electron beam having an energy of 300 keV can be given.

本発明においては、活性光線照射の時の雰囲気中の酸素濃度が10%以下、特に1%以下であることが好ましい。該雰囲気にするには窒素ガス等を導入することが有効である。   In the present invention, the oxygen concentration in the atmosphere upon irradiation with actinic rays is preferably 10% or less, particularly preferably 1% or less. In order to obtain this atmosphere, it is effective to introduce nitrogen gas or the like.

また、本発明においては、活性光線の硬化反応を効率的に進めるため、基材フィルム等を加熱することも出来る。加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、或いは着弾したインク表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。   Moreover, in this invention, in order to advance the hardening reaction of actinic light efficiently, a base film etc. can also be heated. The heating method is not particularly limited, but it is preferable to use a heat plate, a heat roll, a thermal head, or a method of spraying hot air on the landed ink surface.

加熱温度としては、使用する活性光線硬化型樹脂の種類により一概には規定出来ないが、基材フィルムへの熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、30〜200℃が好ましく、更に50〜120℃が好ましく、特に好ましくは70〜100℃である。   The heating temperature cannot be generally specified depending on the type of actinic ray curable resin to be used, but is preferably in a temperature range that does not affect the base film such as thermal deformation, and is preferably 30 to 200 ° C. Furthermore, 50-120 degreeC is preferable, Most preferably, it is 70-100 degreeC.

次いで、本発明の防眩性フィルムの製造方法について説明する。   Subsequently, the manufacturing method of the anti-glare film of this invention is demonstrated.

図7は、透明基材上にインクジェット方式により微細凹凸構造を形成したのち該微細凹凸構造を被覆するように透明樹脂層で形成した防眩性フィルムを製造するフローの一例を示す模式図である。詳しくは、透明基材上に硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層を塗布方式で塗設した後、インクジェット方式で微細凹凸構造を形成したのち該微細凹凸構造を被覆するように透明樹脂層を形成した防眩層に、次いで複数の反射防止層を塗布方式で設けて防眩性フィルムを製造するフローの一例を示してある。   FIG. 7 is a schematic diagram showing an example of a flow for producing an antiglare film formed of a transparent resin layer so as to cover a fine uneven structure after forming the fine uneven structure on a transparent substrate by an ink jet method. . Specifically, after coating a curable resin layer or a smooth light diffusing layer on a transparent substrate by a coating method, a transparent resin layer is formed so as to cover the fine concavo-convex structure after forming a fine concavo-convex structure by an inkjet method. An example of a flow for producing an antiglare film by providing a plurality of antireflection layers on the antiglare layer formed with a coating method is shown.

図7において、積層ロール101より繰り出された透明基材102は、搬送されて、第1コータステーションAで、押し出し方式の第1コータ103により硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層を塗設する。このとき、硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層は単層構成でも、それぞれを組み合わせた複数層から構成されている層でもよい。硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層を塗設した透明基材102は、次いで乾燥ゾーン105Aで乾燥が行われる。乾燥は、透明基材102の両面より、温湿度が制御された温風により乾燥が施される。乾燥後、硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層にバインダーとして活性光線硬化型樹脂を用いている場合には、活性光線照射部106Aで、活性光線、例えば紫外線等を照射して硬化させたり、照射量や照射条件を制御してハーフキュア状態とすることもでき、あるいは硬化せずに直接インクジェット出射部109へと搬送することもできる。   In FIG. 7, the transparent base material 102 fed out from the laminating roll 101 is conveyed, and a curable resin layer or a smooth light diffusing layer is applied by the first coater 103 of the extrusion method at the first coater station A. To do. At this time, the curable resin layer or the smooth light diffusing layer may be a single layer structure or a layer composed of a plurality of layers combined with each other. The transparent substrate 102 on which the curable resin layer or the smooth light diffusion layer is applied is then dried in the drying zone 105A. Drying is performed from both surfaces of the transparent substrate 102 by warm air with controlled temperature and humidity. After drying, when an actinic ray curable resin is used as a binder in the curable resin layer or the smooth light diffusing layer, the actinic ray irradiating unit 106A is irradiated with actinic rays such as ultraviolet rays to be cured. In addition, the amount of irradiation and irradiation conditions can be controlled to achieve a half-cure state, or it can be directly conveyed to the inkjet emitting unit 109 without being cured.

次いで、インクジェット方式を用いて微細凹凸構造を設ける第2コータステーションBに搬送されるが、硬化性樹脂層は、ハーフキュア状態であることが好ましい。あるいは、微細凹凸構造を形成する前にプラズマ処理部107で表面処理を施してもよい。インクジェット出射部109には、インク供給タンク108が接続されており、そこからインク液が供給される。インクジェット出射部109は、図3の(b)で示すような複数のインクジェットノズルを透明基材の幅全域に千鳥状、好ましくは多段に配置し、インク液滴を硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層上に出射して、その表面に微細凹凸構造を形成する。また、2種以上のインク液滴を出射する場合には、2列以上配置したインクジェットノズルより、各々のインク液滴を出射してもよいし、あるいはランダムに任意のインクジェットノズルよりインク液滴を出射してもよい。また、インクジェット出射部を複数配置し、各々のインク出射部より異なるインク液滴を出射してもよい。本発明においては、0.1〜100pl、場合によっては0.1〜10plという微細な液滴を出射するため、インク液滴の飛翔性に対し、外気の気流の影響を受けやすくなるため、第2コータステーションB全体を、隔壁等で覆って防風処理を施すことが好ましい。また、1pl以下の極めて微細な液滴を精度高く飛翔させるため、インクジェット出射部109と透明基材102あるいはバックロール104B間に電圧を印加し、インク液滴に電荷を与えて電気的にインク液滴の飛翔安定性を補助する方法も好ましい。   Subsequently, although it conveys to the 2nd coater station B which provides a fine uneven structure using an inkjet system, it is preferable that a curable resin layer is a half-cure state. Alternatively, the surface treatment may be performed by the plasma processing unit 107 before the fine uneven structure is formed. An ink supply tank 108 is connected to the ink jet emitting portion 109, and ink liquid is supplied therefrom. The ink jet emitting unit 109 has a plurality of ink jet nozzles as shown in FIG. 3B arranged in a staggered manner, preferably in multiple stages, across the entire width of the transparent substrate, and the ink droplets are made of a curable resin layer or a smooth type. The light is emitted onto the light diffusion layer to form a fine relief structure on the surface. In addition, when ejecting two or more types of ink droplets, each ink droplet may be ejected from two or more rows of inkjet nozzles, or randomly from any inkjet nozzle. It may be emitted. Further, a plurality of ink jet emitting portions may be arranged, and different ink droplets may be emitted from each ink emitting portion. In the present invention, since fine droplets of 0.1 to 100 pl and in some cases 0.1 to 10 pl are emitted, the flying property of the ink droplets is easily affected by the airflow of the outside air. It is preferable that the entire coater station B is covered with a partition wall or the like to perform windproof treatment. In addition, in order to fly extremely fine droplets of 1 pl or less with high accuracy, a voltage is applied between the ink jet emitting unit 109 and the transparent base material 102 or the back roll 104B to give an electric charge to the ink droplets to electrically inject the ink liquid. A method of assisting droplet flight stability is also preferred.

また本発明においては、インク組成物の飛翔を安定させるため、インクジェットヘッドを加熱することが好ましい。加熱温度としては、使用するインク組成物の種類により一概には規定出来ないが、インクジェットヘッドの熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、40〜80℃が好ましく、特に45〜75℃が好ましい。   In the present invention, it is preferable to heat the ink jet head in order to stabilize the flight of the ink composition. The heating temperature cannot be generally specified depending on the type of the ink composition to be used, but is preferably in a temperature range that does not affect the thermal deformation of the inkjet head, preferably 40 to 80 ° C., particularly 45 to 45 ° C. 75 ° C. is preferred.

また、着弾したインク液滴の変形を防止するため、透明基材を冷却して着弾後のインク液滴の流動を速やかに低下させる方法を用いることも好ましい。出射時のインク液滴温度に対する透明基材の温度が−5〜−50℃が好ましく、更に−10〜−40℃低いことが好ましく、特に−15〜−30℃である。   In order to prevent deformation of the landed ink droplets, it is also preferable to use a method in which the transparent substrate is cooled to quickly reduce the flow of the ink droplets after landing. The temperature of the transparent substrate relative to the ink droplet temperature at the time of ejection is preferably −5 to −50 ° C., more preferably −10 to −40 ° C., and particularly preferably −15 to −30 ° C.

あるいは、インク液滴が出射後、着弾するまでの飛翔中に含有する溶媒を揮発させて、インク液滴中の含有溶媒量が減少した状態で着弾させることが、より微細な凹凸構造を形成する上で好ましい。そのため、インク飛翔空間の温度を高くしたり、あるいは気圧を、1気圧以下、例えば20〜100kPaに制御したりする方法も好ましい。また、インク飛翔空間の雰囲気溶媒濃度を下げることも好ましく、飽和濃度の50%以下、より好ましくは1〜30%である。   Alternatively, it is possible to volatilize the solvent contained during the flight from when the ink droplets are ejected until they land, and to land with the amount of the solvent contained in the ink droplets decreasing, thereby forming a finer uneven structure. Preferred above. Therefore, a method of increasing the temperature of the ink flying space or controlling the atmospheric pressure to 1 atm or lower, for example, 20 to 100 kPa is also preferable. It is also preferable to lower the atmospheric solvent concentration in the ink flying space, and it is 50% or less, more preferably 1 to 30% of the saturation concentration.

硬化性樹脂層あるいは平滑型の光拡散層表面に着弾したインク液滴は、活性光線硬化型樹脂を用いている場合には、インクジェット出射部109の直後に配置されている活性光線照射部106Bで、活性光線、例えば、紫外線等を照射して硬化させる。また、インク液滴が熱硬化性樹脂を用いている場合には、加熱部110、例えば、ヒートプレートにより加熱、硬化される。また、バックロール104Bをヒートロールとして加熱する方法も好ましい。   Ink droplets that have landed on the surface of the curable resin layer or the smooth light diffusing layer, when an actinic ray curable resin is used, are generated by the actinic ray irradiation unit 106B disposed immediately after the inkjet emitting unit 109. Then, it is cured by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays. Further, when the ink droplet uses a thermosetting resin, the ink droplet is heated and cured by the heating unit 110, for example, a heat plate. A method of heating the back roll 104B as a heat roll is also preferable.

第2コータステーションBにおいて、活性光線照射部106Bの照射光が、インクジェット出射部109のインクジェットノズルに直接影響を与えないように、活性光線照射部106Bとインクジェット出射部109とを適度な間隔で配置する、あるいは活性光線照射部106Bとインクジェット出射部109とを間に、遮光壁等を設置することが好ましい。また、加熱部110の熱が、インクジェット出射部109のインクジェットノズルに直接影響を与えないように、インクジェット出射部109を保温カバーで被覆する、あるいは図7で示すように、加熱部110を透明基材102の裏面側に配置し、インクジェット出射部109に影響を及ぼさないようにすることが好ましい。   In the second coater station B, the actinic ray irradiation unit 106B and the inkjet emission unit 109 are arranged at an appropriate interval so that the irradiation light of the actinic ray irradiation unit 106B does not directly affect the inkjet nozzle of the inkjet emission unit 109. Alternatively, it is preferable to install a light shielding wall or the like between the actinic ray irradiation unit 106B and the inkjet emission unit 109. Further, in order to prevent the heat of the heating unit 110 from directly affecting the ink jet nozzles of the ink jet emitting unit 109, the ink jet emitting unit 109 is covered with a heat insulating cover, or as shown in FIG. It is preferable to arrange on the back side of the material 102 so as not to affect the ink jet emitting portion 109.

着弾したインク液滴により形成された微細凹凸構造が維持できる程度に硬化処理を行った透明基材102は、乾燥ゾーン105Bで不要な有機溶媒等を蒸発させた後、更に、活性光線照射部106Cで、活性光線を照射して、硬化を完了しても、ハーフキュア状態であっても良いがハーフキュア状態である方が好ましい。   The transparent substrate 102 that has been cured to such an extent that the fine uneven structure formed by the landed ink droplets can be maintained is evaporated after the unnecessary organic solvent is evaporated in the drying zone 105B. Then, it may be irradiated with actinic rays to complete curing, or may be in a half-cured state, but is preferably in a half-cured state.

微細凹凸構造を設けた透明基材102は、次いで微細凹凸構造を被覆する透明樹脂層が塗設される第3コータステーションCに搬送されるが、微細凹凸構造を透明樹脂層で被覆する前にプラズマ処理部107で表面処理を施すことが好ましい。   The transparent substrate 102 provided with the fine concavo-convex structure is then transported to the third coater station C on which the transparent resin layer covering the fine concavo-convex structure is coated. Before the fine concavo-convex structure is coated with the transparent resin layer, Surface treatment is preferably performed by the plasma processing unit 107.

透明樹脂層を塗設した透明基材102は、次いで乾燥ゾーン105Cで乾燥が行われる。乾燥は、透明基材102の両面より、温湿度が制御された温風により乾燥が施される。更に、活性光線照射部106Dで、活性光線を照射して、硬化を完了させる。   The transparent substrate 102 on which the transparent resin layer is applied is then dried in the drying zone 105C. Drying is performed from both surfaces of the transparent substrate 102 by warm air with controlled temperature and humidity. Further, the actinic ray irradiation unit 106D irradiates actinic rays to complete the curing.

微細凹凸構造を有する防眩層を設けた透明基材102は、次いで第4コータステーションDにおいて低屈折率層を、あるいは複数の反射防止層や防汚層を設ける場合には第5コータステーション、第6コータステーション(不図示)により、第1コータステーションAと同様にして、塗布、乾燥、硬化処理を行って防眩性フィルムが作製され、その後巻き取りロール113で巻き取られる。   The transparent base material 102 provided with the antiglare layer having a fine concavo-convex structure is then provided with a low refractive index layer in the fourth coater station D, or a fifth coater station when a plurality of antireflection layers and antifouling layers are provided. The sixth coater station (not shown) performs coating, drying, and curing processes in the same manner as the first coater station A to produce an antiglare film, and is then wound by a winding roll 113.

尚、透明基材102は、各コータステーションで塗布、乾燥、硬化処理後、適宜に巻き取りロールで巻き取られてもよい。   The transparent substrate 102 may be appropriately wound up by a winding roll after coating, drying, and curing treatment at each coater station.

図7においては、反射防止層の形成方法としては塗布方式を例示したが、塗布方式に代えて、公知の大気圧プラズマ処理方法により反射防止層あるいは防汚層を形成してもよい。   In FIG. 7, the coating method is exemplified as the method for forming the antireflection layer, but the antireflection layer or the antifouling layer may be formed by a known atmospheric pressure plasma treatment method instead of the coating method.

〈透明基材〉
本発明に用いられる透明基材としては、製造が容易であること、活性光線硬化型樹脂層との密着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましく、透明フィルムであることが好ましい。
<Transparent substrate>
The transparent substrate used in the present invention is easy to manufacture, has good adhesion to the actinic ray curable resin layer, is optically isotropic, is optically transparent, etc. Is preferable, and a transparent film is preferable.

本発明でいう透明とは、可視光の透過率60%以上であることをさし、好ましくは80%以上であり、特に好ましくは90%以上である。   The term “transparent” as used in the present invention means that the visible light transmittance is 60% or more, preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more.

上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム,ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。   Although it will not specifically limit if it has said property, For example, cellulose ester films, such as a cellulose diacetate film, a cellulose triacetate film, a cellulose acetate propionate film, a cellulose acetate butyrate film, a polyester film, a polycarbonate Film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyester film such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol Film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, nor Runen resin film, a polymethylpentene film, a polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, acrylic film or a glass plate or the like. Among these, a polycarbonate film, a polyester film, a norbornene resin film, and a cellulose ester film are preferable.

また本発明で好ましく用いられるノルボルネン系樹脂フィルムとは、ノルボルネン構造を有する非晶性ポリオレフィンフィルムで、例えば三井石油化学(株)製のAPOや日本ゼオン(株)製のゼオネックス、JSR(株)製のARTON等がある。   The norbornene-based resin film preferably used in the present invention is an amorphous polyolefin film having a norbornene structure, such as APO manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd., ZEONEX manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., manufactured by JSR Co., Ltd. ARTON etc.

本発明においては、中でもセルロースエステル系フィルムを用いることが好ましい。   In the present invention, it is particularly preferable to use a cellulose ester film.

セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ(針葉樹由来、広葉樹由来)、ケナフ等を挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステルは、アシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得る。   The cellulose used as the raw material for the cellulose ester is not particularly limited, and examples thereof include cotton linters, wood pulp (derived from conifers and hardwoods), kenaf and the like. Moreover, the cellulose ester obtained from them can be mixed and used in arbitrary ratios, respectively. When the acylating agent is an acid anhydride (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride), these cellulose esters use an organic solvent such as acetic acid or an organic solvent such as methylene chloride, and It is obtained by reacting with a cellulose raw material using a protic catalyst.

アシル化剤が酸クロライド(CH3COCl、C25COCl、C37COCl)の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には、特開平10−45804号に記載の方法等を参考にして合成することができる。また、本発明に用いられるセルロースエステルは各置換度に合わせて上記アシル化剤量を混合して反応させたものであり、セルロースエステルはこれらアシル化剤がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに3個の水酸基がある。この3個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度(モル%)という。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの3個の水酸基全てにアセチル基が結合している(実際には2.6〜3.0)。 When the acylating agent is acid chloride (CH 3 COCl, C 2 H 5 COCl, C 3 H 7 COCl), the reaction is carried out using a basic compound such as an amine as a catalyst. Specifically, it can be synthesized with reference to the method described in JP-A-10-45804. In addition, the cellulose ester used in the present invention is obtained by mixing and reacting the amount of the acylating agent in accordance with the degree of substitution. In the cellulose ester, these acylating agents react with hydroxyl groups of cellulose molecules. Cellulose molecules are composed of many glucose units linked together, and the glucose unit has three hydroxyl groups. The number of acyl groups derived from these three hydroxyl groups is called the degree of substitution (mol%). For example, cellulose triacetate has acetyl groups bonded to all three hydroxyl groups of the glucose unit (actually 2.6 to 3.0).

本発明に用いられるセルロースエステルは、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。   The cellulose ester used in the present invention is preferably cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, or cellulose acetate propionate. Among them, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, or cellulose acetate propionate is preferably used.

中でも、プロピオネート基を置換基として含むセルロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、偏光板の保護フィルムとして好ましい。   Among them, cellulose acetate propionate containing a propionate group as a substituent is excellent in water resistance and is preferable as a protective film for a polarizing plate.

特にアセチル基の置換度をX、プロピオニル基の置換度をYとした時、XとYが下記の範囲にあるセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。   In particular, when the substitution degree of the acetyl group is X and the substitution degree of the propionyl group is Y, cellulose acetate propionate in which X and Y are in the following ranges is preferable.

2.0≦X+Y≦2.9
0.1≦Y≦1.8
特に、2.2≦X+Y≦2.8
0.3≦Y≦1.2であることが好ましい。
2.0 ≦ X + Y ≦ 2.9
0.1 ≦ Y ≦ 1.8
In particular, 2.2 ≦ X + Y ≦ 2.8
It is preferable that 0.3 ≦ Y ≦ 1.2.

アシル基の置換度の測定方法はASTM−D817−96の規定に準じて測定することができる。   The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to the rule of ASTM-D817-96.

セルロースエステルの数平均分子量は、50000〜250000が、成型した場合の機械的強度が強く、かつ、適度なドープ粘度となり好ましく、さらに好ましくは、80000〜150000である。   The number average molecular weight of the cellulose ester is preferably from 50,000 to 250,000 because the mechanical strength when molded is high and an appropriate dope viscosity is obtained, and more preferably from 80,000 to 150,000.

また、重量平均分子量(Mw)で50000〜350000のものが用いられる。60000〜300000のものが更に好ましく、80000〜250000が特に好ましい。   Moreover, the thing of 50000-350,000 is used by a weight average molecular weight (Mw). More preferable is 60000-300000, and 80000-250,000 is particularly preferable.

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することが出来る。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を測定する。   The average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured by a known method using gel permeation chromatography. Using this, the number average molecular weight and the weight average molecular weight are measured.

測定条件は以下の通りである。   The measurement conditions are as follows.

〈ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:GPCによる分子量測定〉
GPCによる数平均分子量の測定方法は、試料固形分濃度が0.1%となるようにテトラヒドロフランを用いて希釈した。粒子を含むためフィルターを用いて粒子を除去し、カラム温度25℃で、以下の条件により測定を行った。
<Gel permeation chromatography: molecular weight measurement by GPC>
The method for measuring the number average molecular weight by GPC was diluted with tetrahydrofuran so that the sample solid content concentration was 0.1%. Since the particles were included, the particles were removed using a filter, and the measurement was performed at a column temperature of 25 ° C. under the following conditions.

カラム;東ソー社TSKgelG5000HXL−TSKgelG2000H XL
溶離液;THF(テトラヒドロフラン)
ポンプ;L6000(日立製作所(株)製)
流量 :1.0ml/min
検出 ;RI Model 504(GLサイエンス社製)
試料濃度;0.8%
標準試料・校正曲線;標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用する。13サンプルは、ほぼ等間隔にすることが好ましい。
Column: Tosoh Corporation TSKgelG5000HXL-TSKgelG2000H XL
Eluent: THF (tetrahydrofuran)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0 ml / min
Detection: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Sample concentration: 0.8%
Standard sample / calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000-500 calibration curves with 13 samples are used. It is preferable that the 13 samples are substantially equally spaced.

本発明の透明基材は、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。   The transparent substrate of the present invention preferably contains the following plasticizer. Examples of plasticizers include phosphate ester plasticizers, polyhydric alcohol ester plasticizers, phthalate ester plasticizers, trimellitic ester plasticizers, pyromellitic acid plasticizers, glycolate plasticizers, Citric acid ester plasticizers, polyester plasticizers, fatty acid ester plasticizers, polycarboxylic acid ester plasticizers, and the like can be preferably used.

中でも、多価アルコールエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等が好ましい。特に多価アルコールエステル系可塑剤を用いることが好ましい。   Among these, polyhydric alcohol ester plasticizers, phthalate ester plasticizers, citrate ester plasticizers, fatty acid ester plasticizers, glycolate plasticizers, polycarboxylic acid ester plasticizers, and the like are preferable. In particular, it is preferable to use a polyhydric alcohol ester plasticizer.

多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is a plasticizer comprising an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferably it is a 2-20 valent aliphatic polyhydric alcohol ester.

本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式(3)で表される。   The polyhydric alcohol preferably used in the present invention is represented by the following general formula (3).

一般式(3) R1−(OH)n
但し、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール性水酸基を表す。
Formula (3) R 1 — (OH) n
However, R 1 represents an n-valent organic group, n represents a positive integer of 2 or more, and the OH group represents an alcoholic and / or phenolic hydroxyl group.

好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。   Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane- Examples include 1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and xylitol. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.

多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid used for polyhydric alcohol ester, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention.

好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。   Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto.

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。   As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. The number of carbon atoms is more preferably 1-20, and particularly preferably 1-10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。   Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanoic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid.

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。   Examples of preferable alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and derivatives thereof.

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基あるいはエトキシ基などのアルコキシ基を1〜3個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に安息香酸が好ましい。   Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which 1 to 3 alkoxy groups such as an alkyl group, a methoxy group or an ethoxy group are introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid or toluic acid, biphenylcarboxylic acid, Examples thereof include aromatic monocarboxylic acids having two or more benzene rings such as naphthalenecarboxylic acid and tetralincarboxylic acid, or derivatives thereof. Benzoic acid is particularly preferable.

多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably 300 to 1500, and more preferably 350 to 750. A higher molecular weight is preferred because it is less likely to volatilize, and a smaller one is preferred in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are.

以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。   Below, the specific compound of a polyhydric alcohol ester is illustrated.

Figure 2008250276
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グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることが出来る。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。   The glycolate plasticizer is not particularly limited, but alkylphthalylalkyl glycolates can be preferably used. Examples of alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl Glycolate, ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycol Butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalate Ethyl glycolate, and the like.

フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。   Examples of the phthalate ester plasticizer include diethyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, dioctyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, and dicyclohexyl terephthalate.

クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。   Examples of the citrate plasticizer include acetyl trimethyl citrate, acetyl triethyl citrate, and acetyl tributyl citrate.

脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。   Examples of fatty acid ester plasticizers include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, and dibutyl sebacate.

多価カルボン酸エステル系可塑剤も好ましく用いることができる。具体的には特開2002−265639号公報の段落番号[0015]〜[0020]記載の多価カルボン酸エステルを可塑剤の一つとして添加することが好ましい。   Polycarboxylic acid ester plasticizers can also be preferably used. Specifically, it is preferable to add the polyvalent carboxylic acid ester described in paragraphs [0015] to [0020] of JP-A No. 2002-265639 as one of the plasticizers.

また、他の可塑剤としてリン酸エステル系可塑剤を用いることも出来、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。   In addition, phosphate plasticizers can be used as other plasticizers, such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, etc. It is done.

このほか、特開2003−12859号記載のアクリルポリマーなどを含有させることも好ましい。   In addition, it is also preferable to contain an acrylic polymer described in JP-A-2003-12859.

〈アクリルポリマー〉
本発明の透明基材は、延伸方向に対して負の配向複屈折性を示す重量平均分子量が500以上30000以下であるアクリルポリマーを含有することが好ましく、該アクリルポリマーは芳香環を側鎖に有するアクリルポリマーまたはシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーであることが好ましい。
<Acrylic polymer>
The transparent base material of the present invention preferably contains an acrylic polymer having a negative average birefringence in the stretching direction and having a weight average molecular weight of 500 or more and 30000 or less, and the acrylic polymer has an aromatic ring as a side chain. An acrylic polymer having a cyclohexyl group in the side chain is preferable.

該ポリマーの重量平均分子量が500以上30000以下のもので該ポリマーの組成を制御することで、セルロースエステルと該ポリマーとの相溶性を良好にすることができる。   By controlling the composition of the polymer so that the weight average molecular weight of the polymer is 500 or more and 30000 or less, the compatibility between the cellulose ester and the polymer can be improved.

特に、アクリルポリマー、芳香環を側鎖に有するアクリルポリマーまたはシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーについて、好ましくは重量平均分子量が500以上10000以下のものであれば、上記に加え、製膜後の透明基材の透明性が優れ、透湿度も極めて低く、透明基材として優れた性能を示す。   In particular, for an acrylic polymer, an acrylic polymer having an aromatic ring in the side chain, or an acrylic polymer having a cyclohexyl group in the side chain, if the weight average molecular weight is preferably 500 or more and 10,000 or less, in addition to the above, The transparency of the transparent substrate is excellent, the moisture permeability is extremely low, and excellent performance as a transparent substrate is exhibited.

該ポリマーは重量平均分子量が500以上30000以下であるから、オリゴマーから低分子量ポリマーの間にあると考えられるものである。このようなポリマーを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法でできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。   Since the polymer has a weight average molecular weight of 500 or more and 30000 or less, it is considered to be between the oligomer and the low molecular weight polymer. In order to synthesize such a polymer, it is difficult to control the molecular weight in normal polymerization, and it is desirable to use a method that can align the molecular weight as much as possible by a method that does not increase the molecular weight too much.

かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやt−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開2000−128911号または同2000−344823号公報にあるような一つのチオール基と2級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、何れも本発明において好ましく用いられるが、特に、該公報に記載の方法が好ましい。   Such polymerization methods include a method using a peroxide polymerization initiator such as cumene peroxide and t-butyl hydroperoxide, a method using a polymerization initiator in a larger amount than normal polymerization, and a mercapto compound in addition to the polymerization initiator. And a method of using a chain transfer agent such as carbon tetrachloride, a method of using a polymerization terminator such as benzoquinone and dinitrobenzene in addition to the polymerization initiator, and further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-128911 or 2000-344823. Examples thereof include a compound having one thiol group and a secondary hydroxyl group, or a bulk polymerization method using a polymerization catalyst in which the compound and an organometallic compound are used in combination. Although used, the method described in the publication is particularly preferable.

本発明に有用なポリマーを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。   Although the monomer as a monomer unit which comprises the polymer useful for this invention is mentioned below, it is not limited to this.

エチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマーを構成するエチレン性不飽和モノマー単位としては:ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等;アクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、アクリル酸−p−ヒドロキシメチルフェニル、アクリル酸−p−(2−ヒドロキシエチル)フェニル等;メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの;不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることができる。上記モノマーで構成されるポリマーはコポリマーでもホモポリマーでもよく、ビニルエステルのホモポリマー、ビニルエステルのコポリマー、ビニルエステルとアクリル酸またはメタクリル酸エステルとのコポリマーが好ましい。   The ethylenically unsaturated monomer unit constituting the polymer obtained by polymerizing the ethylenically unsaturated monomer is as a vinyl ester, for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl valerate, vinyl pivalate, caproic acid. Vinyl, vinyl caprate, vinyl laurate, vinyl myristate, vinyl palmitate, vinyl stearate, vinyl cyclohexanecarboxylate, vinyl octylate, vinyl methacrylate, vinyl crotonate, vinyl sorbate, vinyl benzoate, vinyl cinnamate Etc .; As acrylate ester, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate (n -, I-, s-), hexyl acrylate (n I-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n-, i-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic Cyclohexyl acid, acrylic acid (2-ethylhexyl), benzyl acrylate, phenethyl acrylate, acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3- Hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), acrylic acid-p-hydroxymethylphenyl, acrylic acid-p- (2-hydroxyethyl) phenyl, etc .; The above acrylic acid ester is changed to methacrylic acid ester; Examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, crotonic acid, itaconic acid and the like. The polymer composed of the above monomers may be a copolymer or a homopolymer, and is preferably a vinyl ester homopolymer, a vinyl ester copolymer, or a copolymer of vinyl ester and acrylic acid or methacrylic acid ester.

本発明において、アクリルポリマーというのは、芳香環或いはシクロヘキシル基を有するモノマー単位を有しないアクリル酸またはメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマーまたはコポリマーを指す。芳香環を側鎖に有するアクリルポリマーというのは、必ず芳香環を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位を含有するアクリルポリマーである。   In the present invention, the acrylic polymer refers to a homopolymer or copolymer of acrylic acid or methacrylic acid alkyl ester having no monomer unit having an aromatic ring or a cyclohexyl group. An acrylic polymer having an aromatic ring in the side chain is an acrylic polymer that always contains an acrylic acid or methacrylic acid ester monomer unit having an aromatic ring.

また、シクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーというのは、シクロヘキシル基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位を含有するアクリルポリマーである。   The acrylic polymer having a cyclohexyl group in the side chain is an acrylic polymer containing an acrylic acid or methacrylic acid ester monomer unit having a cyclohexyl group.

芳香環及びシクロヘキシル基を有さないアクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−メトキシエチル)、アクリル酸(2−エトキシエチル)等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。   Examples of the acrylate monomer having no aromatic ring and cyclohexyl group include, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate (n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n-, i-) , Nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic acid (2-ethylhexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3-hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), acrylic acid 2-methoxy-ethyl), acrylic acid (2-ethoxyethyl), or the acrylic acid ester may include those obtained by changing the methacrylic acid ester.

アクリルポリマーは上記モノマーのホモポリマーまたはコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が30質量%以上を有していることが好ましく、また、メタクリル酸メチルエステルモノマー単位が40質量%以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチルまたはメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。   The acrylic polymer is a homopolymer or copolymer of the above-mentioned monomers, but the acrylic acid methyl ester monomer unit preferably has 30% by mass or more, and the methacrylic acid methyl ester monomer unit has 40% by mass or more. preferable. In particular, a homopolymer of methyl acrylate or methyl methacrylate is preferred.

芳香環を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸(2または4−クロロフェニル)、メタクリル酸(2または4−クロロフェニル)、アクリル酸(2または3または4−エトキシカルボニルフェニル)、メタクリル酸(2または3または4−エトキシカルボニルフェニル)、アクリル酸(oまたはmまたはp−トリル)、メタクリル酸(oまたはmまたはp−トリル)、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、メタクリル酸フェネチル、アクリル酸(2−ナフチル)等を挙げることができるが、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニチル、メタクリル酸フェネチルを好ましく用いることができる。   Examples of acrylic acid or methacrylic acid ester monomers having an aromatic ring include phenyl acrylate, phenyl methacrylate, acrylic acid (2 or 4-chlorophenyl), methacrylic acid (2 or 4-chlorophenyl), and acrylic acid (2 or 3 Or 4-ethoxycarbonylphenyl), methacrylic acid (2 or 3 or 4-ethoxycarbonylphenyl), acrylic acid (o or m or p-tolyl), methacrylic acid (o or m or p-tolyl), benzyl acrylate, Benzyl methacrylate, phenethyl acrylate, phenethyl methacrylate, acrylic acid (2-naphthyl) and the like can be mentioned, but benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenethyl acrylate, and phenethyl methacrylate are preferably used. That.

芳香環を側鎖に有するアクリルポリマーの中で、芳香環を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位が20〜40質量%を有し、且つアクリル酸またはメタクリル酸メチルエステルモノマー単位を50〜80質量%有することが好ましい。該ポリマー中、水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位を2〜20質量%有することが好ましい。   Among acrylic polymers having an aromatic ring in the side chain, the acrylic acid or methacrylic acid ester monomer unit having an aromatic ring has 20 to 40% by mass, and the acrylic acid or methacrylic acid methyl ester monomer unit is 50 to 80% by mass. % Is preferable. The polymer preferably has 2 to 20% by mass of acrylic acid or methacrylic acid ester monomer units having a hydroxyl group.

シクロヘキシル基を有するアクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸(4−メチルシクロヘキシル)、メタクリル酸(4−メチルシクロヘキシル)、アクリル酸(4−エチルシクロヘキシル)、メタクリル酸(4−エチルシクロヘキシル)等を挙げることができるが、アクリル酸シクロヘキシル及びメタクリル酸シクロヘキシルを好ましく用いることができる。   Examples of the acrylate monomer having a cyclohexyl group include cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, acrylic acid (4-methylcyclohexyl), methacrylic acid (4-methylcyclohexyl), acrylic acid (4-ethylcyclohexyl), and methacrylic acid. (4-ethylcyclohexyl) and the like can be mentioned, but cyclohexyl acrylate and cyclohexyl methacrylate can be preferably used.

シクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマー中、シクロヘキシル基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位を20〜40質量%を有し且つ50〜80質量%有することが好ましい。また、該ポリマー中、水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位を2〜20質量%有することが好ましい。   In the acrylic polymer having a cyclohexyl group in the side chain, the acrylic acid or methacrylic acid ester monomer unit having a cyclohexyl group has 20 to 40% by mass and preferably 50 to 80% by mass. Moreover, it is preferable to have 2-20 mass% of acrylic acid or methacrylic acid ester monomer units having a hydroxyl group in the polymer.

上述のエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマー、アクリルポリマー、芳香環を側鎖に有するアクリルポリマー及びシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーは何れもセルロース樹脂との相溶性に優れる。   A polymer obtained by polymerizing the above ethylenically unsaturated monomer, an acrylic polymer, an acrylic polymer having an aromatic ring in the side chain, and an acrylic polymer having a cyclohexyl group in the side chain are all excellent in compatibility with the cellulose resin.

これらの水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマーの場合はホモポリマーではなく、コポリマーの構成単位である。この場合、好ましくは、水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位がアクリルポリマー中2〜20質量%含有することが好ましい。   In the case of an acrylic acid or methacrylic acid ester monomer having these hydroxyl groups, it is not a homopolymer but a structural unit of a copolymer. In this case, it is preferable that the acrylic acid or methacrylic acid ester monomer unit having a hydroxyl group is contained in the acrylic polymer in an amount of 2 to 20% by mass.

本発明において、側鎖に水酸基を有するポリマーも好ましく用いることができる。水酸基を有するモノマー単位としては、前記したモノマーと同様であるが、アクリル酸またはメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、アクリル酸−p−ヒドロキシメチルフェニル、アクリル酸−p−(2−ヒドロキシエチル)フェニル、またはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることができ、好ましくは、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル及びメタクリル酸−2−ヒドロキシエチルである。ポリマー中に水酸基を有するアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルモノマー単位はポリマー中2〜20質量%含有することが好ましく、より好ましくは2〜10質量%である。   In the present invention, a polymer having a hydroxyl group in the side chain can also be preferably used. The monomer unit having a hydroxyl group is the same as the monomer described above, but acrylic acid or methacrylic acid ester is preferable. For example, acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3 -Hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), acrylic acid-p-hydroxymethylphenyl, acrylic acid-p- (2-hydroxyethyl) phenyl, or these acrylic acids. The thing replaced by methacrylic acid can be mentioned, Preferably, it is 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate. The acrylic acid ester or methacrylic acid ester monomer unit having a hydroxyl group in the polymer is preferably contained in the polymer in an amount of 2 to 20% by mass, more preferably 2 to 10% by mass.

前記のようなポリマーが上記の水酸基を有するモノマー単位を2〜20質量%含有したものは、勿論セルロースエステルとの相溶性、保留性、寸法安定性が優れ、透湿度が小さいばかりでなく、偏光板保護フィルムとしての偏光子との接着性に特に優れ、偏光板の耐久性が向上する効果を有している。   A polymer containing 2 to 20% by mass of the above-mentioned monomer unit having a hydroxyl group, of course, is excellent in compatibility with cellulose ester, retention, dimensional stability, low moisture permeability, and polarized light. It is particularly excellent in adhesiveness with a polarizer as a plate protective film, and has the effect of improving the durability of the polarizing plate.

アクリルポリマーの主鎖の少なくとも一方の末端に水酸基を有するようにする方法は、特に主鎖の末端に水酸基を有するようにする方法であれば限定ないが、アゾビス(2−ヒドロキシエチルブチレート)のような水酸基を有するラジカル重合開始剤を使用する方法、2−メルカプトエタノールのような水酸基を有する連鎖移動剤を使用する方法、水酸基を有する重合停止剤を使用する方法、リビングイオン重合により水酸基を末端に有するようにする方法、特開2000−128911号または同2000−344823号公報にあるような一つのチオール基と2級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等により得ることができ、特に該公報に記載の方法が好ましい。   The method of having a hydroxyl group at at least one terminal of the main chain of the acrylic polymer is not particularly limited as long as it has a hydroxyl group at the terminal of the main chain, but azobis (2-hydroxyethylbutyrate) A method using a radical polymerization initiator having a hydroxyl group, a method using a chain transfer agent having a hydroxyl group such as 2-mercaptoethanol, a method using a polymerization terminator having a hydroxyl group, and terminating a hydroxyl group by living ion polymerization. A compound having one thiol group and a secondary hydroxyl group as described in JP-A No. 2000-128911 or 2000-344823, or polymerization using the compound and an organometallic compound in combination It can be obtained by a bulk polymerization method using a catalyst, and the method described in the publication is particularly preferable.

この公報記載に関連する方法で作られたポリマーは、綜研化学社製のアクトフロー・シリーズとして市販されており、好ましく用いることができる。上記の末端に水酸基を有するポリマー及び/または側鎖に水酸基を有するポリマーは、本発明において、ポリマーの相溶性、透明性を著しく向上する効果を有する。   The polymer produced by the method related to the description in this publication is commercially available as Act Flow Series manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., and can be preferably used. In the present invention, the polymer having a hydroxyl group at the terminal and / or the polymer having a hydroxyl group in a side chain has an effect of significantly improving the compatibility and transparency of the polymer.

更に、延伸方向に対して負の配向複屈折性を示すエチレン性不飽和モノマーとして、スチレン類を用いたポリマーであることが負の屈折性を発現させるために好ましい。スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロロメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられるが、これらに限定される物ではない。   Furthermore, a polymer using styrene as an ethylenically unsaturated monomer exhibiting negative orientation birefringence with respect to the stretching direction is preferred in order to develop negative refraction. Examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chloromethyl styrene, methoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, and vinyl benzoic acid methyl ester. Although it is mentioned, it is not a thing limited to these.

前記不飽和エチレン性モノマーとして挙げた例示モノマーと共重合してもよく、また複屈折性を制御する目的で、2種以上の上記ポリマーをもちいてセルロースエステルに相溶させて用いても良い。   It may be copolymerized with the exemplified monomers listed as the unsaturated ethylenic monomer, or may be used by being dissolved in a cellulose ester using two or more kinds of the above polymers for the purpose of controlling birefringence.

更に、本発明の透明基材は、分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaと分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーXbとを共重合して得られた重量平均分子量5000以上30000以下のポリマーXと、より好ましくは芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaを重合して得られた重量平均分子量500以上3000以下のポリマーYとを含有することが好ましい。   Further, the transparent substrate of the present invention comprises an ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and a hydrophilic group in the molecule and an ethylenically unsaturated monomer Xb having no aromatic ring in the molecule and having a hydrophilic group. And a polymer X having a weight average molecular weight of 5,000 to 30,000, and more preferably a weight average molecular weight of 500 to 3,000 obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer Ya having no aromatic ring. The polymer Y is preferably contained.

(ポリマーX、ポリマーY)
本発明に用いられるポリマーXは分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaと分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーXbとを共重合して得られた重量平均分子量5000以上30000以下のポリマーである。好ましくは、Xaは分子内に芳香環と親水性基を有しないアクリルまたはメタクリルモノマー、Xbは分子内に芳香環を有せず親水性基を有するアクリルまたはメタクリルモノマーである。
(Polymer X, Polymer Y)
The polymer X used in the present invention comprises an ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and a hydrophilic group in the molecule and an ethylenically unsaturated monomer Xb having no aromatic ring and having a hydrophilic group in the molecule. It is a polymer having a weight average molecular weight of 5,000 to 30,000 obtained by copolymerization. Preferably, Xa is an acrylic or methacrylic monomer that does not have an aromatic ring and a hydrophilic group in the molecule, and Xb is an acrylic or methacrylic monomer that does not have an aromatic ring in the molecule and has a hydrophilic group.

本発明に用いられるポリマーXは、下記一般式(X)で表される。   The polymer X used in the present invention is represented by the following general formula (X).

一般式(X)
−(Xa)m−(Xb)n−(Xc)p−
さらに好ましくは、下記一般式(X−1)で表されるポリマーである。
Formula (X)
-(Xa) m- (Xb) n- (Xc) p-
More preferably, it is a polymer represented by the following general formula (X-1).

一般式(X−1)
−[CH2−C(−R1)(−CO2R2)]m−[CH2−C(−R3)(−CO2R4−OH)−]n−[Xc]p−
(式中、R1、R3は、HまたはCH3を表す。R2は炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基を表す。R4は−CH2−、−C24−または−C36−を表す。Xcは、Xa、Xbに重合可能なモノマー単位を表す。m、n及びpは、モル組成比を表す。ただしm≠0、n≠0、m+n+p=100である。)
本発明に用いられるポリマーXを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。
Formula (X-1)
- [CH 2 -C (-R1) (- CO 2 R2)] m- [CH 2 -C (-R3) (- CO 2 R4-OH) -] n- [Xc] p-
(In the formula, R 1 and R 3 represent H or CH 3. R 2 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl group. R 4 represents —CH 2 —, —C 2 H 4 — or —C 3. (H 6- represents X. X represents a monomer unit that can be polymerized to Xa and Xb. M, n, and p represent molar composition ratios, where m ≠ 0, n ≠ 0, and m + n + p = 100.)
Although the monomer as a monomer unit which comprises the polymer X used for this invention is mentioned below, it is not limited to this.

Xにおいて、親水性基とは、水酸基、エチレンオキシド連鎖を有する基をいう。   In X, the hydrophilic group means a group having a hydroxyl group or an ethylene oxide chain.

分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaは、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−エトキシエチル)等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル(i−、n−)であることが好ましい。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and no hydrophilic group in the molecule include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), and butyl acrylate (n-, i- , S-, t-), pentyl acrylate (n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n- I-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic acid (2-ethylhexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-ethoxyethyl) ) Or the like, or those obtained by replacing the acrylic ester with a methacrylic ester. Among these, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and propyl methacrylate (i-, n-) are preferable.

分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーXbは、水酸基を有するモノマー単位として、アクリル酸またはメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、またはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることができ、好ましくは、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)及びメタクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)である。   The ethylenically unsaturated monomer Xb having no aromatic ring in the molecule and having a hydrophilic group is preferably acrylic acid or methacrylic acid ester as a monomer unit having a hydroxyl group. For example, acrylic acid (2-hydroxyethyl), List acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3-hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), or those in which these acrylic acids are replaced by methacrylic acid. Acrylic acid (2-hydroxyethyl) and methacrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), and acrylic acid (3-hydroxypropyl) are preferable.

Xcとしては、Xa、Xb以外のものでかつ共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば、特に制限はないが、芳香環を有していないものが好ましい。   Xc is not particularly limited as long as it is an ethylenically unsaturated monomer other than Xa and Xb and copolymerizable, but preferably has no aromatic ring.

Xa、Xb及びXcのモル組成比m:nは99:1〜65:35の範囲が好ましく、更に好ましくは95:5〜75:25の範囲である。Xcのpは0〜10である。Xcは複数のモノマー単位であってもよい。   The molar composition ratio m: n of Xa, Xb and Xc is preferably in the range of 99: 1 to 65:35, more preferably in the range of 95: 5 to 75:25. P of Xc is 0-10. Xc may be a plurality of monomer units.

Xaのモル組成比が多いとセルロースエステルとの相溶性が良化するがフィルム厚み方向のリターデーション値Rtが大きくなる。Xbのモル組成比が多いと上記相溶性が悪くなるが、Rtを低減させる効果が高い。また、Xbのモル組成比が上記範囲を超えると製膜時にヘイズが出る傾向があり、これらの最適化を図りXa、Xbのモル組成比を決めることが好ましい。   When the molar composition ratio of Xa is large, the compatibility with the cellulose ester is improved, but the retardation value Rt in the film thickness direction is increased. When the molar composition ratio of Xb is large, the compatibility is deteriorated, but the effect of reducing Rt is high. Further, if the molar composition ratio of Xb exceeds the above range, haze tends to occur during film formation, and it is preferable to optimize these and determine the molar composition ratio of Xa and Xb.

ポリマーXの分子量は重量平均分子量が5000以上30000以下であり、更に好ましくは8000以上25000以下である。   As for the molecular weight of the polymer X, the weight average molecular weight is from 5,000 to 30,000, more preferably from 8,000 to 25,000.

重量平均分子量を5000以上とすることにより、透明基材の、高温高湿下における寸法変化が少ない、偏光板保護フィルムとしてカールが少ない等の利点が得られ好ましい。重量平均分子量が30000を以内とした場合は、セルロースエステルとの相溶性がより向上し、高温高湿下においてのブリードアウト、さらには製膜直後でのヘイズの発生が抑制される。   By setting the weight average molecular weight to 5,000 or more, it is preferable to obtain advantages such as little dimensional change of the transparent substrate under high temperature and high humidity, and less curling as a polarizing plate protective film. When the weight average molecular weight is 30000 or less, the compatibility with the cellulose ester is further improved, and bleeding out under high temperature and high humidity, and further haze generation immediately after film formation is suppressed.

本発明に用いられるポリマーXの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することができる。そのような分子量調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。また、重合温度は通常室温から130℃、好ましくは50℃から100℃で行われるが、この温度または重合反応時間を調整することで可能である。   The weight average molecular weight of the polymer X used in the present invention can be adjusted by a known molecular weight adjusting method. Examples of such a molecular weight adjusting method include a method of adding a chain transfer agent such as carbon tetrachloride, lauryl mercaptan, octyl thioglycolate, and the like. The polymerization temperature is usually room temperature to 130 ° C., preferably 50 ° C. to 100 ° C., and this temperature or the polymerization reaction time can be adjusted.

重量平均分子量の測定方法は下記方法によることができる。   The measuring method of a weight average molecular weight can be based on the following method.

(重量平均分子量測定方法)
重量平均分子量Mwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。
(Weight average molecular weight measurement method)
The weight average molecular weight Mw was measured using gel permeation chromatography.

測定条件は以下の通りである。   The measurement conditions are as follows.

溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G (Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000-500 calibration curves with 13 samples were used. Thirteen samples are used at approximately equal intervals.

本発明に用いられるポリマーYは芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaを重合して得られた重量平均分子量500以上3000以下のポリマーである。   The polymer Y used in the present invention is a polymer having a weight average molecular weight of 500 or more and 3000 or less obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer Ya having no aromatic ring.

重量平均分子量500以上ではポリマーの残存モノマーが減少し好ましい。また、3000以下とすることは、フィルム厚み方向のリターデーション値Rt低下性能を維持するために好ましい。   A weight average molecular weight of 500 or more is preferable because the residual monomer of the polymer is reduced. Moreover, it is preferable to set it as 3000 or less in order to maintain the retardation value Rt fall performance of a film thickness direction.

Yaは、好ましくは芳香環を有さないアクリルまたはメタクリルモノマーである。   Ya is preferably an acrylic or methacrylic monomer having no aromatic ring.

本発明に用いられるポリマーYは、下記一般式(Y)で表される。   The polymer Y used in the present invention is represented by the following general formula (Y).

一般式(Y)
−(Ya)k−(Yb)q−
さらに好ましくは、下記一般式(Y−1)で表されるポリマーである。
General formula (Y)
-(Ya) k- (Yb) q-
More preferably, it is a polymer represented by the following general formula (Y-1).

一般式(Y−1)
−[CH2−C(−R5)(−CO2R6)]k−[Yb]q−
(式中、R5は、HまたはCH3を表す。R6は炭素数1〜12のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ybは、Yaと共重合可能なモノマー単位を表す。k及びqは、モル組成比を表す。ただしk≠0、k+q=100である。)
Ybは、Yaと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はない。Ybは複数であってもよい。k+q=100、qは好ましくは0〜30である。
General formula (Y-1)
- [CH 2 -C (-R5) (- CO 2 R6)] k- [Yb] q-
(Wherein, R5 is, .Yb .R6 representing H or CH 3 is representing an alkyl group or a cycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, .k and q represents the Ya and copolymerizable monomer units, This represents the molar composition ratio, where k ≠ 0 and k + q = 100.)
Yb is not particularly limited as long as it is an ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with Ya. Yb may be plural. k + q = 100, q is preferably 0-30.

芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマーYを構成するエチレン性不飽和モノマーYaはアクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの;不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることができる。   The ethylenically unsaturated monomer Ya constituting the polymer Y obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer having no aromatic ring is, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i- , N-), butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate (n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (N-, i-), octyl acrylate (n-, i-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), cyclohexyl acrylate, acrylic acid (2- Ethyl hexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3-hydroxypropiyl) ), Acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), methacrylic acid ester, the above acrylic acid ester changed to methacrylic acid ester; unsaturated acid, for example, acrylic acid, methacrylic acid And maleic anhydride, crotonic acid, itaconic acid and the like.

Ybは、Yaと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はないが、ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、桂皮酸ビニル等が好ましい。Ybは複数であってもよい。   Yb is not particularly limited as long as it is an ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with Ya. Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl valerate, vinyl pivalate, and vinyl caproate. Vinyl caprate, vinyl laurate, vinyl myristate, vinyl palmitate, vinyl stearate, vinyl cyclohexanecarboxylate, vinyl octylate, vinyl methacrylate, vinyl crotonate, vinyl sorbate, vinyl cinnamate and the like are preferred. Yb may be plural.

ポリマーX、Yを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法でできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやt−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開2000−128911号または同2000−344823号公報にあるような一つのチオール基と2級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、何れも本発明において好ましく用いられるが、特に、分子中にチオール基と2級の水酸基とを有する化合物を連鎖移動剤として使用する重合方法が好ましい。   In order to synthesize the polymers X and Y, it is difficult to control the molecular weight in normal polymerization, and it is desirable to use a method that can make the molecular weights as uniform as possible without increasing the molecular weight. Such polymerization methods include a method using a peroxide polymerization initiator such as cumene peroxide and t-butyl hydroperoxide, a method using a polymerization initiator in a larger amount than normal polymerization, and a mercapto compound in addition to the polymerization initiator. And a method of using a chain transfer agent such as carbon tetrachloride, a method of using a polymerization terminator such as benzoquinone and dinitrobenzene in addition to the polymerization initiator, and further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-128911 or 2000-344823. Examples thereof include a compound having one thiol group and a secondary hydroxyl group, or a bulk polymerization method using a polymerization catalyst in which the compound and an organometallic compound are used in combination. In particular, a polymerization method using a compound having a thiol group and a secondary hydroxyl group in the molecule as a chain transfer agent. It is preferred.

この場合、ポリマーX及びポリマーYの末端には、重合触媒及び連鎖移動剤に起因する水酸基、チオエーテルを有することとなる。この末端残基により、ポリマーX、Yとセルロースエステルとの相溶性を調整することができる。   In this case, the terminal of the polymer X and the polymer Y has a hydroxyl group and a thioether resulting from the polymerization catalyst and the chain transfer agent. By this terminal residue, the compatibility between the polymers X and Y and the cellulose ester can be adjusted.

ポリマーX及びYの水酸基価は30〜150[mgKOH/g]であることが好ましい。   The hydroxyl values of the polymers X and Y are preferably 30 to 150 [mg KOH / g].

(水酸基価の測定方法)
この測定は、JIS K 0070(1992)に準ずる。この水酸基価は、試料1gをアセチル化させたとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのmg数と定義される。具体的には試料Xg(約1g)をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬(無水酢酸20mlにピリジンを加えて400mlにしたもの)20mlを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、95〜100℃のグリセリン浴にて加熱する。
(Measurement method of hydroxyl value)
This measurement conforms to JIS K 0070 (1992). This hydroxyl value is defined as the number of mg of potassium hydroxide required to neutralize acetic acid bonded to a hydroxyl group when 1 g of a sample is acetylated. Specifically, sample Xg (about 1 g) is precisely weighed in a flask, and 20 ml of an acetylating reagent (a solution obtained by adding pyridine to 20 ml of acetic anhydride to 400 ml) is accurately added thereto. An air cooling tube is attached to the mouth of the flask and heated in a glycerin bath at 95-100 ° C.

1時間30分後、冷却し、空気冷却管から精製水1mlを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。次に電位差滴定装置を用いて0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。更に空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。   After 1 hour and 30 minutes, the mixture is cooled, 1 ml of purified water is added from an air condenser, and acetic anhydride is decomposed into acetic acid. Next, titration is performed with a 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution using a potentiometric titrator, and the inflection point of the obtained titration curve is set as the end point. Further, as a blank test, titration is performed without a sample, and an inflection point of the titration curve is obtained.

水酸基価は、次の式によって算出する。   The hydroxyl value is calculated by the following formula.

水酸基価={(B−C)×f×28.05/X}+D
(式中、Bは空試験に用いた0.5mol/Lの水酸化カリウムエタノール溶液の量(ml)、Cは滴定に用いた0.5mol/Lの水酸化カリウムエタノール溶液の量(ml)、fは0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Dは酸価、また、28.05は水酸化カリウムの1mol量56.11の1/2を表す)
上述のポリマーX、ポリマーYは何れもセルロースエステルとの相溶性に優れ、蒸発や揮発もなく生産性に優れ、偏光板用保護フィルムとしての保留性がよく、透湿度が小さく、寸法安定性に優れている。
Hydroxyl value = {(BC) × f × 28.05 / X} + D
(Wherein B is the amount of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used in the blank test (ml), and C is the amount of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used in the titration (ml). F is a factor of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution, D is an acid value, and 28.05 is 1/2 of 1 mol amount of potassium hydroxide 56.11)
The above-mentioned polymer X and polymer Y are both excellent in compatibility with cellulose ester, excellent in productivity without evaporation and volatilization, good retention as a protective film for polarizing plates, low moisture permeability, and dimensional stability. Are better.

ポリマーXとポリマーYの透明基材中での含有量は、下記式(i)、式(ii)を満足する範囲であることが好ましい。ポリマーXの含有量をXg(質量%=ポリマーXの質量/セルロースエステルの質量×100)、ポリマーYの含有量をYg(質量%)とすると、
式(i) 5≦Xg+Yg≦35(質量%)
式(ii) 0.05≦Yg/(Xg+Yg)≦0.4
式(i)の好ましい範囲は、10〜25質量%である。
The content of the polymer X and the polymer Y in the transparent substrate is preferably in a range satisfying the following formulas (i) and (ii). When the content of the polymer X is Xg (mass% = the mass of the polymer X / the mass of the cellulose ester × 100) and the content of the polymer Y is Yg (mass%),
Formula (i) 5 ≦ Xg + Yg ≦ 35 (mass%)
Formula (ii) 0.05 ≦ Yg / (Xg + Yg) ≦ 0.4
A preferable range of the formula (i) is 10 to 25% by mass.

ポリマーXとポリマーYは総量として5質量%以上であれば、リターデーション値Rtの低減に十分な作用をする。また、総量として35質量%以下であれば、偏光子PVAとの接着性が良好である。   If the total amount of the polymer X and the polymer Y is 5% by mass or more, the polymer X and the polymer Y sufficiently act to reduce the retardation value Rt. Moreover, if it is 35 mass% or less as a total amount, adhesiveness with polarizer PVA is favorable.

ポリマーXとポリマーYは後述するドープ液を構成する素材として直接添加、溶解するか、もしくはセルロースエステルを溶解する有機溶媒に予め溶解した後ドープ液に添加することができる。   The polymer X and the polymer Y can be directly added and dissolved as a material constituting the dope liquid described later, or can be added to the dope liquid after being previously dissolved in an organic solvent for dissolving the cellulose ester.

透明基材中の上記可塑剤の総含有量は、固形分総量に対し、5〜20質量%が好ましく、6〜16質量%が更に好ましく、特に好ましくは8〜13質量%である。また、2種の可塑剤の含有量は各々少なくとも1質量%以上であり、好ましくは各々2質量%以上含有することである。   The total content of the plasticizer in the transparent substrate is preferably 5 to 20% by mass, more preferably 6 to 16% by mass, and particularly preferably 8 to 13% by mass with respect to the total solid content. The contents of the two kinds of plasticizers are each at least 1% by mass, preferably 2% by mass or more.

多価アルコールエステル系可塑剤は1〜15質量%含有することが好ましく、特に3〜11質量%含有することが好ましい。少ないと平面性の劣化が認められ、多すぎるとブリードアウトがしやすい。多価アルコールエステル系可塑剤とその他の可塑剤との質量比率は1:4〜4:1の範囲であることが好ましく、1:3〜3:1であることが更に好ましい。可塑剤の添加量が多すぎても、また少なすぎてもフィルムが変形しやすく好ましくない。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is preferably contained in an amount of 1 to 15% by mass, particularly preferably 3 to 11% by mass. If the amount is too small, deterioration of flatness is recognized, and if it is too large, bleeding out tends to occur. The mass ratio between the polyhydric alcohol ester plasticizer and the other plasticizer is preferably in the range of 1: 4 to 4: 1, more preferably 1: 3 to 3: 1. If the amount of the plasticizer added is too large or too small, the film is liable to be deformed, which is not preferable.

本発明の透明基材には、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。   For the transparent substrate of the present invention, an ultraviolet absorber is preferably used.

紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。   As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.

本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of ultraviolet absorbers preferably used in the present invention include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, and the like. However, it is not limited to these.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば下記の紫外線吸収剤を具体例として挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorbers include the following ultraviolet absorbers, but the present invention is not limited thereto.

UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171、Ciba製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109、Ciba製)
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6 (Linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN171, manufactured by Ciba)
UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- Mixture of 4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (TINUVIN 109, manufactured by Ciba)
Moreover, although the following specific example is shown as a benzophenone series ultraviolet absorber, this invention is not limited to these.

UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
As the ultraviolet absorber preferably used in the present invention, a benzotriazole-based ultraviolet absorber and a benzophenone-based ultraviolet absorber that are highly transparent and excellent in preventing the deterioration of the polarizing plate and the liquid crystal are preferable, and unnecessary coloring is less. A benzotriazole-based ultraviolet absorber is particularly preferably used.

また、特開2001−187825号に記載されている分配係数が9.2以上の紫外線吸収剤は、長尺フィルムの面品質を向上させ、塗布性にも優れている。特に分配係数が10.1以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。   Moreover, the ultraviolet absorber whose distribution coefficient described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-187825 is 9.2 or more improves the surface quality of a long film, and is excellent also in applicability | paintability. In particular, it is preferable to use an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 10.1 or more.

また、特開平6−148430号に記載の一般式(1)または一般式(2)、特願2000−156039号の一般式(3)、(6)、(7)記載の高分子紫外線吸収剤(または紫外線吸収性ポリマー)も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、PUVA−30M(大塚化学(株)製)等が市販されている。   Further, the polymer ultraviolet absorber described in the general formula (1) or general formula (2) described in JP-A-6-148430 and the general formulas (3), (6), and (7) described in Japanese Patent Application No. 2000-156039 (Or UV-absorbing polymer) is also preferably used. As a polymer ultraviolet absorber, PUVA-30M (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) and the like are commercially available.

また、本発明の透明基材には滑り性を付与するため、微粒子を用いることができる。   Moreover, in order to provide slipperiness | lubricity to the transparent base material of this invention, microparticles | fine-particles can be used.

微粒子としては、無機化合物の例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。   As fine particles, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate And magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low turbidity, and silicon dioxide is particularly preferable.

微粒子の一次粒子の平均粒子径は5〜50nmが好ましく、さらに好ましいのは7〜20nmである。これらは主に粒子径0.05〜0.3μmの2次凝集体として含有されることが好ましい。透明基材中のこれらの微粒子の含有量は0.05〜1質量%であることが好ましく、特に0.1〜0.5質量%が好ましい。共流延法による多層構成のフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。   The average primary particle diameter of the fine particles is preferably 5 to 50 nm, and more preferably 7 to 20 nm. These are preferably contained mainly as secondary aggregates having a particle size of 0.05 to 0.3 μm. The content of these fine particles in the transparent substrate is preferably 0.05 to 1% by mass, particularly preferably 0.1 to 0.5% by mass. In the case of a film having a multilayer structure formed by a co-casting method, it is preferable that the surface contains this amount of fine particles.

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。   Silicon dioxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). it can.

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。   Zirconium oxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used.

微粒子としてポリマー粒子を用いることもでき、ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。   Polymer particles can also be used as the fine particles, and examples of the polymer include silicone resins, fluororesins, and acrylic resins. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vが透明基材の濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明の透明基材においてはハードコート層を設けるのとは反対面側の動摩擦係数が1.0以下であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large effect of reducing the friction coefficient while keeping the turbidity of the transparent substrate low. In the transparent base material of this invention, it is preferable that the dynamic friction coefficient on the opposite side to a hard-coat layer is 1.0 or less.

本発明の透明基材として、市販のセルロースエステルフィルムを用いることも好ましく、例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC4FR(コニカミノルタオプト(株)製)等が、製造上、コスト面、透明性、密着性等の観点から好ましく用いられる。これらのフィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。   It is also preferable to use a commercially available cellulose ester film as the transparent substrate of the present invention. Etc.) are preferably used from the viewpoints of production, cost, transparency, adhesion and the like. These films may be films produced by melt casting film formation or films produced by solution casting film formation.

(溶液流延法)
透明基材の溶液流延法による製膜は、セルロースエステル、及び上記各種添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、さらに乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。
(Solution casting method)
Film formation by a solution casting method of a transparent substrate is a step of preparing a dope by dissolving the cellulose ester and the above various additives in a solvent, a step of casting the dope on a belt-shaped or drum-shaped metal support It is performed by a step of drying the cast dope as a web, a step of peeling from the metal support, a step of stretching or maintaining the width, a step of further drying, and a step of winding up the finished film.

ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、さらに好ましくは、15〜25質量%である。   The process for preparing the dope will be described. The concentration of cellulose ester in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced. However, if the concentration of cellulose ester is too high, the load during filtration increases and the filtration accuracy increases. Becomes worse. The concentration for achieving both of these is preferably 10 to 35% by mass, and more preferably 15 to 25% by mass.

ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70〜98質量%であり、貧溶剤が2〜30質量%である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルのアシル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースの酢酸エステル(アセチル基置換度2.4)、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル(アセチル基置換度2.8)では貧溶剤となる。   The solvent used in the dope may be used alone or in combination of two or more, but it is preferable to use a mixture of a good solvent and a poor solvent of cellulose ester in terms of production efficiency, and there are many good solvents. This is preferable from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester. The preferable range of the mixing ratio of the good solvent and the poor solvent is 70 to 98% by mass for the good solvent and 2 to 30% by mass for the poor solvent. With a good solvent and a poor solvent, what dissolve | melts the cellulose ester to be used independently is defined as a good solvent, and what poorly swells or does not melt | dissolve is defined as a poor solvent. Therefore, depending on the acyl group substitution degree of the cellulose ester, the good solvent and the poor solvent change. For example, when acetone is used as the solvent, cellulose acetate ester (acetyl group substitution degree 2.4), cellulose acetate propionate is a good solvent. Thus, cellulose acetate (acetyl group substitution degree 2.8) is a poor solvent.

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。   Although the good solvent used for this invention is not specifically limited, Organic halogen compounds, such as a methylene chloride, dioxolanes, acetone, methyl acetate, methyl acetoacetate, etc. are mentioned. Particularly preferred is methylene chloride or methyl acetate.

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が0.01〜2質量%含有していることが好ましい。   Moreover, although the poor solvent used for this invention is not specifically limited, For example, methanol, ethanol, n-butanol, cyclohexane, cyclohexanone, etc. are used preferably. Moreover, it is preferable that 0.01-2 mass% of water contains in dope.

上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤または膨潤させた後、さらに良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。   A general method can be used as a dissolution method of the cellulose ester when preparing the dope described above. When heating and pressurization are combined, it is possible to heat above the boiling point at normal pressure. It is preferable to stir and dissolve while heating at a temperature that is equal to or higher than the boiling point of the solvent at normal pressure and that the solvent does not boil under pressure, in order to prevent the generation of massive undissolved materials called gels and mamacos. Moreover, after mixing a cellulose ester with a poor solvent and making it wet or swell, the method of adding a good solvent and melt | dissolving is also used preferably.

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。   The pressurization may be performed by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or a method of increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.

溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45〜120℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃がさらに好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。   The heating temperature with the addition of a solvent is preferably higher from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester, but if the heating temperature is too high, the required pressure increases and the productivity deteriorates. A preferable heating temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 60 to 110 ° C, and still more preferably 70 ° C to 105 ° C. The pressure is adjusted so that the solvent does not boil at the set temperature.

または冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチル等の溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。   Alternatively, a cooling dissolution method is also preferably used, whereby the cellulose ester can be dissolved in a solvent such as methyl acetate.

調製されたセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001〜0.008mmの濾材がより好ましく、0.003〜0.006mmの濾材がさらに好ましい。   The prepared cellulose ester solution is filtered using a suitable filter medium such as filter paper. As the filter medium, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters and the like. However, if the absolute filtration accuracy is too small, there is a problem that the filter medium is likely to be clogged. For this reason, a filter medium with an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less is preferable, a filter medium with 0.001 to 0.008 mm is more preferable, and a filter medium with 0.003 to 0.006 mm is more preferable.

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン(登録商標)等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれている不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。   There are no particular restrictions on the material of the filter medium, and ordinary filter media can be used. However, plastic filter media such as polypropylene and Teflon (registered trademark), and metal filter media such as stainless steel do not drop off fibers. preferable. It is preferable to remove and reduce impurities, particularly bright spot foreign matter, contained in the raw material cellulose ester by filtration.

輝点異物とは、2枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に透明基材を置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点(異物)のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、さらに好ましくは50個/m2以下であり、さらに好ましくは0〜10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。 Bright spot foreign matter is when two polarizing plates are placed in a crossed Nicols state, a transparent base material is placed between them, light is applied from one polarizing plate side, and observed from the other polarizing plate side. It is a point (foreign matter) where light from the opposite side appears to leak, and the number of bright spots having a diameter of 0.01 mm or more is preferably 200 / cm 2 or less. More preferably, it is 100 pieces / cm < 2 > or less, More preferably, it is 50 pieces / m < 2 > or less, More preferably, it is 0-10 pieces / cm < 2 > or less. Further, it is preferable that the number of bright spots of 0.01 mm or less is small.

ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差(差圧という)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃であることがさらに好ましい。   The dope can be filtered by a normal method, but the method of filtering while heating at a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal pressure and in a range where the solvent does not boil under pressure is the filtration pressure before and after filtration. The increase in the difference (referred to as differential pressure) is small and preferable. A preferred temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and even more preferably 45 to 55 ° C.

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることがさらに好ましい。   A smaller filtration pressure is preferred. The filtration pressure is preferably 1.6 MPa or less, more preferably 1.2 MPa or less, and further preferably 1.0 MPa or less.

ここで、ドープの流延について説明する。   Here, the dope casting will be described.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃がさらに好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface. As the metal support, a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set to −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferable because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate. A preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

透明基材が良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、さらに好ましくは20〜40質量%または60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%または70〜120質量%である。   In order for the transparent substrate to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%.

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。   In the present invention, the amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
なお、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
Note that M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

また、透明基材の乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、さらに乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、さらに好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%以下である。   In the drying step of the transparent substrate, the web is peeled from the metal support, and further dried, and the residual solvent amount is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less Especially preferably, it is 0-0.01 mass% or less.

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a method of drying while transporting the web by a tenter method is adopted.

本発明の透明基材は、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し、さらにウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は1.01〜1.3倍であり、1.05〜1.15倍がさらに好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が1.12〜1.44倍となっていることが好ましく、1.15〜1.32倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることができる。縦方向と横方向の延伸倍率のいずれかが1.01倍以上であれば平面性のよいフィルムが得られ好ましい。   The transparent base material of the present invention is stretched in the conveying direction where the amount of residual solvent of the web immediately after peeling from the metal support is large, and is further stretched in the width direction by a tenter method that grips both ends of the web with clips or the like Is preferred. A preferable draw ratio in both the machine direction and the transverse direction is 1.01 to 1.3 times, and more preferably 1.05 to 1.15 times. It is preferable that the area is 1.12 to 1.44 times, and preferably 1.15 to 1.32 times due to longitudinal and transverse stretching. This can be determined by the draw ratio in the longitudinal direction × the draw ratio in the transverse direction. A film with good flatness can be obtained if either of the draw ratios in the machine direction or the transverse direction is 1.01 or more.

剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力及びその後の搬送張力によって延伸することが好ましい。例えば剥離張力を210N/m以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは220〜300N/mである。   In order to stretch in the machine direction immediately after peeling, it is preferable to stretch by peeling tension and subsequent transport tension. For example, it is preferable to peel at a peeling tension of 210 N / m or more, and particularly preferably 220 to 300 N / m.

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web is not particularly limited, and can be generally performed with hot air, infrared rays, a heating roll, microwave, or the like, but it is preferably performed with hot air in terms of simplicity.

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は30〜200℃で段階的に高くしていくことが好ましく、50〜180℃の範囲で段階的に高くすることが寸法安定性をよくするためさらに好ましい。   The drying temperature in the web drying step is preferably increased stepwise from 30 to 200 ° C, and more preferably stepwise increased from 50 to 180 ° C in order to improve dimensional stability.

透明基材の膜厚は、特に限定はされないが10〜200μmが好ましく用いられる。特に膜厚は10〜100μmであることが特に好ましい。さらに好ましくは20〜60μmである。最も好ましくは35〜60μmである。また、共流延法によって多層構成とした透明基材も好ましく用いることができる。   Although the film thickness of a transparent base material is not specifically limited, 10-200 micrometers is used preferably. In particular, the film thickness is particularly preferably 10 to 100 μm. More preferably, it is 20-60 micrometers. Most preferably, it is 35-60 micrometers. Moreover, the transparent base material made into the multilayer structure by the co-casting method can be used preferably.

本発明の透明基材は、幅1m以上であり、幅1.4〜4mのものが好ましく用いられる。特に好ましくは1.4〜3mである。4mを超えると搬送が困難となる。また、透明基材表面の中心線平均粗さ(Ra)は0.001〜1μmの範囲であることが好ましい。   The transparent base material of the present invention has a width of 1 m or more and preferably has a width of 1.4 to 4 m. Especially preferably, it is 1.4-3 m. If it exceeds 4 m, conveyance becomes difficult. Moreover, it is preferable that the centerline average roughness (Ra) of the transparent base material surface is 0.001-1 micrometer.

本発明の透明基材は、偏光板保護フィルムとして有用であり、複屈折による位相差の発現をできるだけ抑制した光学的に等方性を有する保護フィルムや、所望の位相差を有する視野角拡大に供される位相差フィルムを透明基材として用いることができる。   The transparent substrate of the present invention is useful as a polarizing plate protective film, and is an optically isotropic protective film that suppresses the development of retardation due to birefringence as much as possible, and for widening the viewing angle having a desired retardation. The provided retardation film can be used as a transparent substrate.

上記保護フィルムとしては、23℃55%RHの環境下における下記式で表される面内リターデーションRoが0≦Ro≦50nm、かつ厚み方向のリターデーションRtが−400nm≦Rt≦400nmの範囲であることが好ましい。上記位相差フィルムとしては、面内リターデーションRoが20≦Ro≦70nmで、かつ厚み方向のリターデーションRtは70≦Rt≦400nmであることが好ましい。更にRtは100〜400nmであることが好ましく、100〜200nmであることがより好ましい。また、特にRt/Roは1.5〜6.0であることが好ましい。   As the protective film, the in-plane retardation Ro represented by the following formula in an environment of 23 ° C. and 55% RH is 0 ≦ Ro ≦ 50 nm, and the retardation Rt in the thickness direction is −400 nm ≦ Rt ≦ 400 nm. Preferably there is. The retardation film preferably has an in-plane retardation Ro of 20 ≦ Ro ≦ 70 nm and a thickness direction retardation Rt of 70 ≦ Rt ≦ 400 nm. Furthermore, Rt is preferably 100 to 400 nm, and more preferably 100 to 200 nm. In particular, Rt / Ro is preferably 1.5 to 6.0.

Ro、Rt或いは長尺フィルムの幅手方向と遅相軸とのなす角θ(°)は自動複屈折率計を用いて測定することができる。自動複屈折率計KOBRA−21ADH(王子計測機器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で、透明基材の590nmにおける複屈折率測定を行い、屈折率nx、ny、nzを求め、下記式に従ってRo、Rtを算出する。   The angle θ (°) between the transverse direction of Ro, Rt or the long film and the slow axis can be measured using an automatic birefringence meter. Using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.), the birefringence measurement at 590 nm of the transparent substrate is performed in an environment of 23 ° C. and 55% RH, and the refractive indexes nx, ny , Nz, and calculate Ro and Rt according to the following formula.

Ro=(nx−ny)×d
Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
(式中、フィルム面内の遅相軸方向の屈折率をnx、面内で遅相軸に直交する方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnz、dはフィルムの厚み(nm)を表す。)
上記リターデーションの調整は、セルロースエステルの種類、アシル基置換度、添加剤の種類と含有量、フィルム膜厚、延伸操作等により制御できる。
Ro = (nx−ny) × d
Rt = {(nx + ny) / 2−nz} × d
(In the formula, the refractive index in the slow axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane is ny, the refractive index in the thickness direction is nz, and d is the film thickness (nm). Represents.)
The adjustment of the retardation can be controlled by the type of cellulose ester, the degree of acyl group substitution, the type and content of additives, the film thickness, the stretching operation, and the like.

〈防眩性反射防止フィルム〉
本発明は前記微細凹凸構造、または微細凹凸構造及び透明樹脂層を有する防眩性フィルムの微細凹凸構造を有する面に、下記低屈折率層を設け防眩性反射防止フィルムとすることができる。
<Anti-glare anti-reflection film>
The present invention can provide an antiglare antireflection film by providing the following low refractive index layer on the surface having the fine uneven structure or the fine uneven structure of the antiglare film having the fine uneven structure and the transparent resin layer.

特に、本発明においては、低屈折率層は、外殻層を有し内部が多孔質または空洞となっている中空シリカ系微粒子を含有する低屈折率層塗布液をコーティングすることが好ましい。   In particular, in the present invention, the low refractive index layer is preferably coated with a low refractive index layer coating solution containing hollow silica-based fine particles having an outer shell layer and porous or hollow inside.

(低屈折率層)
本発明に用いられる低屈折率層の屈折率は、支持体である基材フィルムの屈折率より低く、23℃、波長550nm測定で、1.30〜1.45の範囲であることが好ましい。
(Low refractive index layer)
The refractive index of the low refractive index layer used in the present invention is lower than the refractive index of the base film as a support, and is preferably in the range of 1.30 to 1.45 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm.

低屈折率層の膜厚は、5nm〜0.5μmであることが好ましく、10nm〜0.3μmであることがさらに好ましく、30nm〜0.2μmであることが最も好ましい。   The film thickness of the low refractive index layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably 30 nm to 0.2 μm.

本発明に用いられる低屈折率層形成用組成物は、(a)下記一般式(4)で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物及び、(b)外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子が組成物を構成することが好ましい。   The composition for forming a low refractive index layer used in the present invention comprises (a) an organosilicon compound represented by the following general formula (4) or a hydrolyzate thereof or a polycondensate thereof, and (b) an outer shell layer. It is preferable that hollow silica-based fine particles having a porous or hollow interior constitute the composition.

一般式(4) Si(OR)4
(式中、Rはアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基である。)
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤等を添加してもよい。
General formula (4) Si (OR) 4
(In the formula, R is an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
In addition, a silane coupling agent, a curing agent, and the like may be added as necessary.

〔中空シリカ系微粒子〕
まず、前記(b)で表される外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子について説明する。
[Hollow silica fine particles]
First, hollow silica-based fine particles having the outer shell layer represented by (b) and having a porous or hollow interior will be described.

中空シリカ系微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。   The hollow silica-based fine particles are (I) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (II) having cavities inside, and the contents are solvent, gas or porous It is a hollow particle filled with a porous material. The low refractive index layer may contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or may contain both.

尚、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される中空微粒子は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層等の透明被膜の膜厚の2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの中空微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)が好ましい。   The hollow particles are particles having cavities inside, and the cavities are surrounded by particle walls. The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle size of such hollow fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The hollow fine particles to be used are appropriately selected according to the thickness of the transparent coating to be formed, and may be in the range of 2/3 to 1/10 of the thickness of the transparent coating such as the low refractive index layer to be formed. desirable. These hollow fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), and ketone alcohol (for example, diacetone alcohol) are preferable.

複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することが出来ないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部に内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持出来ないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, when the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and it is easy to use silicate monomers and oligomers with a low polymerization degree, which are coating liquid components described later. In some cases, the inside of the composite particle enters the inside and the porosity of the inside is reduced, so that the effect of the low refractive index cannot be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, if the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. is there.

複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等との1種または2種以上を挙げることができる。このような多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOx)で表したときのモル比MOx/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOx/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MOx/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、さらに屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. In addition, components other than silica may be contained. Specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MOx / SiO 2 when the silica is represented by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is represented by oxide (MOx) is 0.0001 to 1.0, preferably It is desirable to be in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MOx / SiO 2 of less than 0.0001. Even if it is obtained, particles having a small pore volume and a low refractive index cannot be obtained. Further, when the molar ratio MOx / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it may be difficult to obtain a low refractive index. .

このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.

尚、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることができる。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例表した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   Incidentally, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Examples of the porous substance include those composed of the compounds exemplified for the porous particles. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

このような中空微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。   As a method for producing such hollow fine particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed.

(有機珪素化合物)
前記一般式(4)で表される有機珪素化合物は、式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基を表す。
(Organic silicon compound)
In the organosilicon compound represented by the general formula (4), R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。   Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane and the like are preferably used.

低屈折率層への添加方法としては、これらのテトラアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記中空シリカ系微粒子の分散液に加え、テトラアルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を中空シリカ系微粒子の表面に沈着させる。このとき、テトラアルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。   As a method of adding to the low refractive index layer, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these tetraalkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the hollow silica fine particles. The silicic acid polymer produced by hydrolyzing tetraalkoxysilane is deposited on the surface of the hollow silica fine particles. At this time, tetraalkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

また、本発明では低屈折率層に、下記一般式(5)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有させることもできる。   In the present invention, the low refractive index layer may contain a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound represented by the following general formula (5).

Figure 2008250276
Figure 2008250276

前記一般式(5)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物について説明する。   The fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound represented by the general formula (5) will be described.

式中、R1〜R6は炭素数1〜16、好ましくは1〜4のアルキル基、炭素数1〜6、好ましくは1〜4のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12、好ましくは6〜10のアリール基、炭素数7〜14、好ましくは7〜12のアルキルアリール基、アリールアルキル基、炭素数2〜8、好ましくは2〜6のアルケニル基、または炭素数1〜6、好ましくは1〜3のアルコキシ基、水素原子またはハロゲン原子を示す。 In the formula, R 1 to R 6 are alkyl groups having 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, halogenated alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, 6 to 12 carbon atoms, preferably 6 carbon atoms. 10 to 10 aryl groups, 7 to 14 carbon atoms, preferably 7 to 12 alkylaryl groups, arylalkyl groups, 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 6 alkenyl groups, or 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 alkoxy groups, a hydrogen atom or a halogen atom.

Rfは−(CaHbFc)−を表し、aは1〜12の整数、b+cは2aであり、bは0〜24の整数、cは0〜24の整数を示す。このようなRfとしては、フルオロアルキレン基とアルキレン基とを有する基が好ましい。具体的に、このような含フッ素シリコーン系化合物としては、(MeO)3SiC242424Si(MeO)3、(MeO)3SiC244824Si(MeO)3、(MeO)3SiC2461224Si(MeO)3、(H52O)3SiC244824Si(OC253、(H52O)3SiC2461224Si(OC253で表されるメトキシジシラン化合物等が挙げられる。 Rf represents-(CaHbFc)-, a is an integer of 1 to 12, b + c is 2a, b is an integer of 0 to 24, and c is an integer of 0 to 24. Such Rf is preferably a group having a fluoroalkylene group and an alkylene group. Specifically, as such a fluorine-containing silicone compound, (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 2 F 4 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H Examples include methoxydisilane compounds represented by 4 Si (OC 2 H 5 ) 3 , (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (OC 2 H 5 ) 3 , and the like.

バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、形成される透明被膜自体が疎水性を有しているので、透明被膜が充分緻密化しておらず、多孔質であったり、またクラックやボイドを有している場合であっても、水分や酸・アルカリ等の薬品による透明被膜への進入が抑制される。さらには、基板表面や下層である導電層中に含まれる金属等の微粒子と水分や酸・アルカリ等の薬品とが反応することもない。このため、このような透明被膜は、優れた耐薬品性を有している。   If the fluorine-containing alkyl group-containing silane compound is included as a binder, the transparent film itself is hydrophobic, so the transparent film is not sufficiently densified and is porous or cracked. Even if it has a void or a void, entry into the transparent film by chemicals such as moisture, acid and alkali is suppressed. Furthermore, fine particles such as metals contained in the conductive layer which is the substrate surface or the lower layer do not react with chemicals such as moisture, acid and alkali. For this reason, such a transparent film has excellent chemical resistance.

また、バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、このような疎水性のみならず、滑り性がよく(接触抵抗が低く)、このためスクラッチ強度に優れた透明被膜を得ることができる。さらに、バインダーが、このような構成単位を有するフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、下層に導電層が形成されている場合には、バインダーの収縮率が、導電層と同等か近いものであるため導電層と密着性に優れた透明被膜を形成することができる。さらに、透明被膜を加熱処理する際に、収縮率の違いから、導電層が剥離して、透明導電性層に電気的接触のない部分が生じることもない。このため、膜全体として充分な導電性を維持できる。   In addition, when a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound is included as a binder, not only the hydrophobic property but also the slipperiness (low contact resistance) is obtained, and thus a transparent film having excellent scratch strength can be obtained. Can do. Furthermore, when the binder contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound having such a structural unit, when the conductive layer is formed in the lower layer, the shrinkage of the binder is equal to or close to that of the conductive layer. Since it is a thing, the transparent film excellent in adhesiveness with the conductive layer can be formed. Furthermore, when the transparent film is heat-treated, the conductive layer is not peeled off due to the difference in shrinkage rate, and a portion having no electrical contact is not generated in the transparent conductive layer. For this reason, sufficient electroconductivity can be maintained as a whole film.

フッ素置換アルキル基含有シラン化合物と、前記外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子とを含む透明被膜は、スクラッチ強度が高い上に、消しゴム強度または爪強度で評価される膜強度が高く、鉛筆硬度も高く、強度の上で優れた透明被膜を形成することができる。   A transparent film containing a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound and hollow silica-based fine particles having the outer shell layer and being porous or hollow inside has high scratch strength and is evaluated by eraser strength or nail strength. The film strength is high, the pencil hardness is high, and a transparent film excellent in strength can be formed.

本発明に用いられる低屈折率層にはシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。   The low refractive index layer used in the present invention may contain a silane coupling agent. Silane coupling agents include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane. Ethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltri Acetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltri Ethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ- Acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N- Examples include β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.

また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。   Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.

これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。   Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxyp Particularly preferred are propyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane.

2種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。   Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.

低屈折率層のその他のバインダーとして用いられるポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂が挙げられる。   Examples of the polymer used as the other binder of the low refractive index layer include polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, and alkyd resin.

低屈折率層は、全体で5〜80質量%のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、中空シリカ微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように調整する。   The low refractive index layer preferably contains 5 to 80% by mass of binder as a whole. The binder has a function of adhering the hollow silica fine particles and maintaining the structure of the low refractive index layer including voids. The usage-amount of a binder is adjusted so that the intensity | strength of a low refractive index layer can be maintained, without filling a space | gap.

(溶媒)
本発明に用いられる低屈折率層は有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
(solvent)
The low refractive index layer used in the present invention preferably contains an organic solvent. Specific examples of organic solvents include alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Group hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

有機溶媒の含有量は、低屈折率層塗布組成物中の固形分濃度の1〜4質量%であることが好ましい。有機溶媒は塗布ムラを防止して均一膜厚とするために1質量%以上が好ましく、4質量%を超えると乾燥負荷が大きくなり、乾燥装置の大型化、長時間化となり好ましくない。   The content of the organic solvent is preferably 1 to 4% by mass of the solid content concentration in the low refractive index layer coating composition. The organic solvent is preferably 1% by mass or more in order to prevent coating unevenness and achieve a uniform film thickness, and if it exceeds 4% by mass, the drying load increases, which is not preferable because the size of the drying apparatus is increased and the time is increased.

(高屈折率層)
本発明では、反射防止性を更に高める為に、前記低屈折率層の下層に下記高屈折率層を複数層設けることができる。
(High refractive index layer)
In the present invention, in order to further improve the antireflection property, a plurality of the following high refractive index layers can be provided below the low refractive index layer.

本発明に好ましい高屈折率層は、(c)平均粒子径が10〜200nmである金属酸化物微粒子、(d)金属化合物、(e)活性光線硬化型樹脂を含有することが好ましい。   The high refractive index layer preferable for the present invention preferably contains (c) metal oxide fine particles having an average particle diameter of 10 to 200 nm, (d) a metal compound, and (e) an actinic ray curable resin.

(金属酸化物微粒子)
本発明に用いられる高屈折率層には金属酸化物微粒子が含有されることが好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることが出来、これらの金属酸化物微粒子はAl、In、Sn、Sb、Nb、ハロゲン元素、Taなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが好ましく、特に好ましくは酸化インジウム−スズ(ITO)である。
(Metal oxide fine particles)
The high refractive index layer used in the present invention preferably contains metal oxide fine particles. The kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S A metal oxide having at least one element selected from the above can be used, and these metal oxide fine particles are doped with a trace amount of atoms such as Al, In, Sn, Sb, Nb, a halogen element, and Ta. May be. A mixture of these may also be used. In the present invention, at least one metal oxide fine particle selected from among zirconium oxide, antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and zinc antimonate is used. It is preferably used as a main component, and particularly preferably indium tin oxide (ITO).

これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は10nm〜200nmの範囲であり、10〜150nmであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡(SEM)等による電子顕微鏡写真から計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。   The average particle diameter of the primary particles of these metal oxide fine particles is in the range of 10 nm to 200 nm, particularly preferably 10 to 150 nm. The average particle diameter of the metal oxide fine particles may be measured from an electron micrograph by a scanning electron microscope (SEM) or the like, or measured by a particle size distribution meter using a dynamic light scattering method or a static light scattering method. May be. If the particle size is too small, aggregation tends to occur and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze is remarkably increased. The shape of the metal oxide fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a needle shape, or an indefinite shape.

高屈折率層の屈折率は、具体的には、支持体である基材フィルムの屈折率より高く、23℃、波長550nm測定で、1.50〜1.90の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60であることが好ましく、1.85〜2.50であることが更に好ましい。   Specifically, the refractive index of the high refractive index layer is higher than the refractive index of the base film as a support, and is preferably in the range of 1.50 to 1.90 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. The means for adjusting the refractive index of the high refractive index layer is that the kind and addition amount of the metal oxide fine particles are dominant, so that the refractive index of the metal oxide fine particles is preferably 1.80 to 2.60, More preferably, it is 1.85 to 2.50.

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑える事もできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して0.1質量%〜5質量%、より好ましくは0.5質量%〜3質量%である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でも後述するシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。   The metal oxide fine particles may be surface-treated with an organic compound. By modifying the surface of the metal oxide fine particles with an organic compound, the dispersion stability in an organic solvent is improved, the dispersion particle size can be easily controlled, and aggregation and sedimentation over time can be suppressed. . For this reason, the surface modification amount with a preferable organic compound is 0.1 mass%-5 mass% with respect to metal oxide particle, More preferably, it is 0.5 mass%-3 mass%. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Among these, the silane coupling agent mentioned later is preferable. Two or more kinds of surface treatments may be combined.

前記金属酸化物微粒子を含有する高屈折率層の厚さは5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。   The thickness of the high refractive index layer containing the metal oxide fine particles is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm.

使用する金属酸化物微粒子と後述する活性光線硬化型樹脂等のバインダーとの比は、金属酸化物微粒子の種類、粒子サイズなどにより異なるが体積比で前者1に対して後者2から前者2に対して後者1程度が好ましい。   The ratio of the metal oxide fine particles to be used and a binder such as actinic ray curable resin, which will be described later, varies depending on the kind of metal oxide fine particles, the particle size, etc. The latter one is preferable.

本発明において用いられる金属酸化物微粒子の使用量は高屈折率層中に5質量%〜85質量%が好ましく、10質量%〜80質量%であることがより好ましく、20〜75質量%が最も好ましい。使用量が少ないと所望の屈折率や本発明の効果が得られず、多過ぎると膜強度の劣化などが発生する。   The amount of the metal oxide fine particles used in the present invention is preferably 5% by mass to 85% by mass in the high refractive index layer, more preferably 10% by mass to 80% by mass, and most preferably 20% to 75% by mass. preferable. If the amount used is small, the desired refractive index and the effect of the present invention cannot be obtained, and if it is too large, the film strength deteriorates.

上記金属酸化物微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、ケトンアルコール(例、ジアセトンアルコール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The metal oxide fine particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol). , Esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene) Chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

また金属酸化物微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。   The metal oxide fine particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

本発明では、更にコア/シェル構造を有する金属酸化物微粒子を含有させてもよい。シェルはコアの周りに1層形成させてもよいし、耐光性を更に向上させるために複数層形成させてもよい。コアは、シェルにより完全に被覆されていることが好ましい。   In the present invention, metal oxide fine particles having a core / shell structure may be further contained. One layer of the shell may be formed around the core, or a plurality of layers may be formed in order to further improve the light resistance. The core is preferably completely covered by the shell.

コアは酸化チタン(ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等)、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることができるが、ルチル型の酸化チタンを主成分としてもよい。   For the core, titanium oxide (rutile type, anatase type, amorphous type, etc.), zirconium oxide, zinc oxide, cerium oxide, indium oxide doped with tin, tin oxide doped with antimony, etc. can be used. Titanium may be the main component.

シェルは酸化チタン以外の無機化合物を主成分とし、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。例えば、二酸化珪素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化鉄、硫化亜鉛等を主成分とした無機化合物が用いられる。この内アルミナ、シリカ、ジルコニア(酸化ジルコニウム)であることが好ましい。また、これらの混合物でもよい。   The shell is preferably formed of a metal oxide or sulfide containing an inorganic compound other than titanium oxide as a main component. For example, an inorganic compound mainly composed of silicon dioxide (silica), aluminum oxide (alumina) zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, iron oxide, zinc sulfide, or the like is used. Of these, alumina, silica, and zirconia (zirconium oxide) are preferable. A mixture of these may also be used.

コアに対するシェルの被覆量は、平均の被覆量で2〜50質量%である。好ましくは3〜40質量%、更に好ましくは4〜25質量%である。シェルの被覆量が多いと微粒子の屈折率が低下し、被覆量が少な過ぎると耐光性が劣化する。二種以上の金属酸化物微粒子を併用してもよい。   The coating amount of the shell with respect to the core is 2 to 50% by mass as an average coating amount. Preferably it is 3-40 mass%, More preferably, it is 4-25 mass%. When the coating amount of the shell is large, the refractive index of the fine particles is lowered, and when the coating amount is too small, the light resistance is deteriorated. Two or more kinds of metal oxide fine particles may be used in combination.

コアとなる酸化チタンは、液相法または気相法で作製されたものを使用できる。また、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば、米国特許第3,410,708号、特公昭58−47061号、米国特許第2,885,366号、同第3,437,502号、英国特許第1,134,249号、米国特許第3,383,231号、英国特許第2,629,953号、同第1,365,999号に記載されている方法等を用いることができる。   The titanium oxide used as a core can use what was produced by the liquid phase method or the gaseous-phase method. As a method for forming the shell around the core, for example, U.S. Pat. No. 3,410,708, JP-B-58-47061, U.S. Pat. No. 2,885,366, and U.S. Pat. No. 1, British Patent No. 1,134,249, US Pat. No. 3,383,231, British Patent No. 2,629,953, No. 1,365,999, etc. Can do.

(金属化合物)
本発明に用いられる金属化合物は下記一般式(6)で表される化合物またはそのキレート化合物を用いることができる。
(Metal compound)
As the metal compound used in the present invention, a compound represented by the following general formula (6) or a chelate compound thereof can be used.

一般式(6) AnMBx−n
式中、Mは金属原子、Aは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Bは金属原子Mに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。xは金属原子Mの原子価、nは2以上でx以下の整数を表す。
General formula (6) AnMBx-n
In the formula, M represents a metal atom, A represents a hydrolyzable functional group or a hydrocarbon group having a hydrolyzable functional group, and B represents an atomic group covalently or ionically bonded to the metal atom M. x represents the valence of the metal atom M, and n represents an integer of 2 or more and x or less.

加水分解可能な官能基Aとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記一般式(6)に属する金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を2個以上有するアルコキシド、または、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドまたはそれらのキレート化合物を挙げることができる。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁し易いため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることができる。   Examples of the hydrolyzable functional group A include halogens such as alkoxyl groups and chloro atoms, ester groups and amide groups. The metal compound belonging to the general formula (6) includes an alkoxide having two or more alkoxyl groups bonded directly to a metal atom, or a chelate compound thereof. Preferable metal compounds include titanium alkoxide, zirconium alkoxide, or chelate compounds thereof. Titanium alkoxide has a high reaction rate and a high refractive index and is easy to handle. However, since it has a photocatalytic action, its light resistance deteriorates when added in a large amount. Zirconium alkoxide has a high refractive index but tends to become cloudy, so care must be taken in dew point management during coating. Moreover, since titanium alkoxide has the effect of promoting the reaction between the ultraviolet curable resin and the metal alkoxide, the physical properties of the coating film can be improved even by adding a small amount.

チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−iso−プロポキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタン等が挙げられる。   Examples of the titanium alkoxide include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-iso-propoxy titanium, tetra-n-propoxy titanium, tetra-n-butoxy titanium, tetra-sec-butoxy titanium, tetra-tert-butoxy titanium, and the like. Is mentioned.

ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−iso−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−ブトキシジルコニウム、テトラ−sec−ブトキシジルコニウム、テトラ−tert−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。   Examples of the zirconium alkoxide include tetramethoxy zirconium, tetraethoxy zirconium, tetra-iso-propoxy zirconium, tetra-n-propoxy zirconium, tetra-n-butoxy zirconium, tetra-sec-butoxy zirconium, tetra-tert-butoxy zirconium and the like. Is mentioned.

遊離の金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量1万以下のものを挙げることができる。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成できる。   Preferred chelating agents for forming a chelate compound by coordination with a free metal compound include alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and propylene glycol, acetylacetone and acetoacetic acid. Examples thereof include ethyl and the like having a molecular weight of 10,000 or less. By using these chelating agents, it is possible to form a chelate compound that is stable against water mixing and is excellent in the effect of reinforcing the coating film.

金属化合物の添加量は、高屈折率層に含まれる該金属化合物由来の金属酸化物の含有量が0.3〜5質量%であるように調整することが好ましい。0.3質量%未満では耐擦傷性が不足し、5質量%を超えると耐光性が劣化する傾向がある。   The addition amount of the metal compound is preferably adjusted so that the content of the metal oxide derived from the metal compound contained in the high refractive index layer is 0.3 to 5% by mass. If it is less than 0.3% by mass, the scratch resistance is insufficient, and if it exceeds 5% by mass, the light resistance tends to deteriorate.

(活性光線硬化型樹脂)
活性光線硬化型樹脂は金属酸化物微粒子のバインダーとして塗膜の成膜性や物理的特性の向上のために添加される。活性光線硬化型樹脂としては、紫外線や電子線のような活性光線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を2個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。官能基としては(メタ)アクリロイルオキシ基等のような不飽和二重結合を有する基、エポキシ基、シラノール基等が挙げられる。中でも不飽和二重結合を2個以上有するラジカル重合性のモノマーやオリゴマーを好ましく用いることができる。必要に応じて光重合開始剤を組み合わせてもよい。このような活性光線硬化型樹脂としては、例えば多官能アクリレート化合物等が挙げられ、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれる化合物であることが好ましい。ここで、多官能アクリレート化合物とは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基及び/またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。
(Actinic ray curable resin)
The actinic ray curable resin is added as a binder for the metal oxide fine particles in order to improve the film formability and physical properties of the coating film. As the actinic ray curable resin, a monomer or oligomer having two or more functional groups that undergo a polymerization reaction directly by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams or indirectly by the action of a photopolymerization initiator. Can be used. Examples of the functional group include a group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyloxy group, an epoxy group, and a silanol group. Among these, radically polymerizable monomers and oligomers having two or more unsaturated double bonds can be preferably used. You may combine a photoinitiator as needed. Examples of such actinic ray curable resins include polyfunctional acrylate compounds and the like, and the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. It is preferable that it is a compound chosen from these. Here, the polyfunctional acrylate compound is a compound having two or more acryloyloxy groups and / or methacryloyloxy groups in the molecule.

多官能アクリレート化合物のモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートが好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または2種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの2量体、3量体等のオリゴマーであってもよい。   Examples of the monomer of the polyfunctional acrylate compound include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethanetriacrylate. Acrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerin triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, Dipen Erythritol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, tetra Methylol methane trimethacrylate, tetramethylol methane tetramethacrylate, pentaglycerol trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, glycerin trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol te La methacrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate preferred. These compounds are used alone or in admixture of two or more. Moreover, oligomers, such as a dimer and a trimer of the said monomer, may be sufficient.

活性光線硬化型樹脂の添加量は、高屈折率組成物では固形分中の50質量%未満であることが好ましい。   The addition amount of the actinic ray curable resin is preferably less than 50% by mass in the solid content in the high refractive index composition.

本発明に用いられる活性光線硬化型樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤と分子中に重合可能な不飽和結合を2個以上有するアクリル系化合物とを質量比で3:7〜1:9含有することが好ましい。   In order to accelerate the curing of the actinic radiation curable resin used in the present invention, the photopolymerization initiator and the acrylic compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule are in a mass ratio of 3: 7 to 1: It is preferable to contain 9.

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。   Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof.

(溶媒)
本発明に用いられる高屈折率層をコーティングする際に用いられる有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。
(solvent)
Examples of the organic solvent used for coating the high refractive index layer used in the present invention include alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol). , Hexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, etc.), polyhydric alcohols (eg, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin) , Hexanetriol, thiodiglycol, etc.), polyhydric alcohol ethers (for example, ethylene glycol mono Chill ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol Monoethyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (eg, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylene) Lumorpholine, ethylenediamine, diethylenediamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide) Etc.), heterocyclic rings (for example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide, etc.) ), Sulfones (for example, sulfolane, etc.), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable.

(防汚層)
本発明の防眩性フィルムもしくは防眩性反射防止フィルムは、最表層に防汚層が設けられていることが好ましい。
(Anti-fouling layer)
The antiglare film or antiglare antireflection film of the present invention preferably has an antifouling layer on the outermost layer.

本発明に好ましい防汚層は、フッ素含有シラン化合物を防汚層形成用組成物に含有することが好ましく、フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物溶液をコーティングして作製する。特に、フッ素含有シラン化合物がシラザンもしくはアルコキシシランであることが好ましい。   The antifouling layer preferable for the present invention preferably contains a fluorine-containing silane compound in the antifouling layer forming composition, and is prepared by coating a silane compound solution having a fluoroalkyl group or a fluoroalkyl ether group. In particular, the fluorine-containing silane compound is preferably silazane or alkoxysilane.

また、前記フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物のなかでも、シラン化合物中のフルオロアルキル基が、Si原子1つに対し、1つ以下の割合でSi原子と結合されており、残りは加水分解性基もしくはシロキサン結合基であるシラン化合物が好ましい。   In addition, among the silane compounds having the fluoroalkyl group or the fluoroalkyl ether group, the fluoroalkyl group in the silane compound is bonded to Si atoms at a ratio of 1 or less to one Si atom, and the remaining Is preferably a silane compound which is a hydrolyzable group or a siloxane bond group.

ここでいう加水分解性の基としては、例えばアルコキシ基等の基であり、加水分解によりヒドロキシル基となり、それにより前記シラン化合物は重縮合物を形成する。   The hydrolyzable group here is a group such as an alkoxy group, for example, and becomes a hydroxyl group by hydrolysis, whereby the silane compound forms a polycondensate.

例えば、上記シラン化合物は水と(必要なら酸触媒の存在下)、副生するアルコールを留去しながら、通常、室温〜100℃の範囲で反応させる。これによりアルコキシシランは(部分的に)加水分解し、一部縮合反応が起こり、ヒドロキシル基を有する加水分解物として得ることができる。加水分解、縮合の程度は、反応させる水の量により適宜調節することができるが、本発明においては、防汚処理に用いるシラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせるため溶液の固形分濃度を薄く希釈して用いることが好ましい。   For example, the silane compound is usually reacted with water (in the presence of an acid catalyst if necessary) in the range of room temperature to 100 ° C. while distilling off by-produced alcohol. As a result, the alkoxysilane is (partially) hydrolyzed to cause a partial condensation reaction, and can be obtained as a hydrolyzate having a hydroxyl group. The degree of hydrolysis and condensation can be adjusted as appropriate depending on the amount of water to be reacted. However, in the present invention, water is not positively added to the silane compound solution used for the antifouling treatment. It is preferable to dilute and use the solid content concentration of the solution in order to cause a hydrolysis reaction with moisture in the air during drying.

好ましくは、防汚層形成用組成物において、前記フルオロアルキル基を有するシラン化合物は下記一般式(7)で表され、かつ該シラン化合物の濃度を0.01〜5質量%に希釈した溶液として用いて、防汚処理することである。   Preferably, in the composition for forming an antifouling layer, the silane compound having a fluoroalkyl group is represented by the following general formula (7), and the concentration of the silane compound is diluted to 0.01 to 5% by mass. Use antifouling treatment.

一般式(7) CF3(CF2)m(CH2)n−Si−(ORa)3
ここにおいて、mは1〜10の整数。nは0〜10の整数。Raは同一もしくは異なるアルキル基を表す。
Formula (7) CF 3 (CF 2 ) m (CH 2) n-Si- (ORa) 3
Here, m is an integer of 1-10. n is an integer of 0-10. Ra represents the same or different alkyl group.

前記一般式(7)で表される化合物中、Raは炭素原子数3つ以下であり炭素と水素のみからなるアルキル基、例えば、メチル、エチル、イソプロピル等の基が好ましい。   In the compound represented by the general formula (7), Ra has 3 or less carbon atoms and is preferably an alkyl group consisting of only carbon and hydrogen, for example, a group such as methyl, ethyl, isopropyl and the like.

これら本発明において好ましく用いられるフルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物としては、CF3(CH22Si(OCH33、CF3(CH22Si(OC253、CF3(CH22Si(OC373、CF3(CH22Si(OC493、CF3(CF25(CH22Si(OCH33、CF3(CF25(CH22Si(OC253、CF3(CF25(CH22Si(OC373、CF3(CF27(CH22Si(OCH33、CF3(CF27(CH22Si(OC253、CF3(CF27(CH22Si(OC373、CF3(CF27(CH22Si(OCH3)(OC372、CF3(CF27(CH22Si(OCH32OC37、CF3(CF27(CH22SiCH3(OCH32、CF3(CF27(CH22SiCH3(OC252、CF3(CF27(CH22SiCH3(OC372、(CF32CF(CF28(CH22Si(OCH33、C715CONH(CH23Si(OC253、C817SO2NH(CH23Si(OC253、C817(CH22OCONH(CH23Si(OCH33、CF3(CF27(CH22Si(CH3)(OCH32、CF3(CF27(CH22Si(CH3)(OC252、CF3(CF27(CH22Si(CH3)(OC372、CF3(CF27(CH22Si(C25)(OCH32、CF3(CF27(CH22Si(C25)(OC372、CF3(CH22Si(CH3)(OCH32、CF3(CH22Si(CH3)(OC252、CF3(CH22Si(CH3)(OC372、CF3(CF25(CH22Si(CH3)(OCH32、CF3(CF25(CH22Si(CH3)(OC372、CF3(CF22O(CF23(CH22Si(OC37)、C715CH2O(CH23Si(OC253、C817SO2O(CH23Si(OC253、C817(CH22OCHO(CH23Si(OCH33などが挙げられるが、この限りでない。 Examples of the silane compound having a fluoroalkyl group or fluoroalkyl ether group preferably used in the present invention include CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ). 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7 ) 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 4 H 9 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7) 3, CF 3 (CF 2) 7 (CH 2) 2 Si (OCH 3) (OC 3 H 7) 2, CF 3 (CF 2) 7 CH 2) 2 Si (OCH 3 ) 2 OC 3 H 7, CF 3 (CF 2) 7 (CH 2) 2 SiCH 3 (OCH 3) 2, CF 3 (CF 2) 7 (CH 2) 2 SiCH 3 ( OC 2 H 5 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 SiCH 3 (OC 3 H 7 ) 2 , (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 7 F 15 CONH (CH 2 ) 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 SO 2 NH (CH 2 ) 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 (CH 2 ) 2 OCONH (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 2 H 5 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 3 H 7 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (C 2 H 5 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (C 2 H 5 ) (OC 3 H 7 ) 2 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 2 H 5 ) 2 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OC 3 H 7 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 5 ( CH 2) 2 Si (CH 3 ) (OCH 3) 2, CF 3 (CF 2) 5 (CH 2) 2 Si (CH 3) (OC 3 H 7) 2, CF 3 (CF 2) 2 O (CF 2 ) 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 3 H 7 ), C 7 F 15 CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 SO 2 O (CH 2 ) 3 Si Examples include (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 (CH 2 ) 2 OCHO (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 , but not limited thereto.

上記フッ素系シラン化合物としては、例えば信越化学工業株式会社製KP801M、X−24−9146、ジーイー東芝シリコーン株式会社XC98−A5382、XC98−B2472、ダイキン工業(株)オプツールDSX、株式会社フロロテクノロジー製FG5010などが挙げられ、表面処理のための化合物としては、パーフルオロアルキルシラザン、パーフルオロアルキルシラン、もしくはパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、特にパーフルオロアルキルトリアルコキシシラン、パーフルオロポリエーテルトリアルコキシシラン、パーフルオロポリエーテルジトリアルコキシシランが挙げられる。   Examples of the fluorine-based silane compound include KP801M and X-24-9146 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., GE Toshiba Silicone Co., Ltd. XC98-A5382, XC98-B2472, Daikin Industries, Ltd. As the compound for surface treatment, perfluoroalkylsilazane, perfluoroalkylsilane, or perfluoropolyether group-containing silane compound, particularly perfluoroalkyltrialkoxysilane, perfluoropolyethertrialkoxysilane, Examples include perfluoropolyether ditrialkoxysilane.

これらのシラン化合物を用いる際には、フッ素を含まない有機溶媒で0.01〜10質量%、好ましくは0.03〜5質量%、更に好ましくは0.05〜2質量%に希釈された状態で用いることが好ましい。   When these silane compounds are used, they are diluted to 0.01 to 10% by mass, preferably 0.03 to 5% by mass, more preferably 0.05 to 2% by mass with an organic solvent not containing fluorine. It is preferable to use in.

本発明において、前記シラン化合物溶液を調製するためにフッ素を含まない有機溶媒が好ましく用いられるが、以下のものが挙げられる。   In the present invention, an organic solvent containing no fluorine is preferably used to prepare the silane compound solution, and the following may be mentioned.

本発明に用いられる防汚層用の塗布組成物の溶媒としては、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル及び/またはプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステル、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルとしては具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなど。又、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステルとしては特にプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどが挙げられる。プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル及び/またはプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステルなど、メタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、t−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル、乳酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酪酸エチルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミドその他の溶媒などが挙げられる。或いは、これらの溶媒が、適宜混合されて用いられる。混合される溶媒としては、特にこれらに限定されるものではない。   As a solvent of the coating composition for the antifouling layer used in the present invention, propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether and / or propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether ester, propylene glycol mono (C1-C4). Specific examples of the alkyl ether include propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether and the like. The propylene glycol mono (C1 to C4) alkyl ether ester includes propylene glycol monoalkyl ether acetate, specifically, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate and the like. Propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether and / or propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether ester, etc., alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, 2-butanol, t-butanol, cyclohexanol , Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and acetone, esters such as ethyl acetate, methyl acetate, ethyl lactate, isopropyl acetate, amyl acetate and ethyl butyrate, hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, dioxane, N, N-dimethylformamide and other solvents. Alternatively, these solvents are used by being appropriately mixed. The solvent to be mixed is not particularly limited to these.

特に好ましい溶媒としては、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルから選ばれる1種類以上の有機溶媒である。   Particularly preferred solvents are one or more organic solvents selected from ethanol, isopropyl alcohol, propylene glycol, and propylene glycol monomethyl ether.

これらの溶媒中には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールのような常圧における沸点が100℃未満のもの(低沸点溶媒)と、プロピレングリコールモノメチルエーテル、n−ブチルアルコールのような沸点が100℃以上のもの(高沸点溶媒)を併用することが好ましく、特に沸点が60〜98℃のものと、100〜160℃のものを併用することが好ましい。併用する場合の低沸点溶媒と高沸点溶媒の比率は、低沸点溶媒は組成物中、98.0質量%以上であり、高沸点溶媒が0.5〜2質量%であることが好ましい。   Among these solvents, those having a boiling point of less than 100 ° C. (low boiling solvent) such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, and boiling points of 100 ° C. or more such as propylene glycol monomethyl ether and n-butyl alcohol. (Boiling point solvent) is preferably used in combination, and in particular, those having a boiling point of 60 to 98 ° C. and those having a boiling point of 100 to 160 ° C. are preferably used in combination. The ratio of the low boiling point solvent and the high boiling point solvent when used in combination is preferably 98.0% by mass or more and the high boiling point solvent is 0.5 to 2% by mass in the composition.

本発明に用いられる防汚層形成用組成物においては、酸を添加してpHを5.0以下に調整し用いることが好ましい。酸は前記シラン化合物の加水分解を促し、重縮合反応の触媒として作用するので、基材表面にシラン化合物の重縮合膜の形成を容易にし、防汚性を高めることができる。pHは1.5〜5.0の範囲が良く、1.5以下では溶液の酸性が強過ぎて、容器や配管をいためる恐れがあり、5以上では反応が進行しにくい。好ましくはpH2.0〜4.0の範囲である。   In the antifouling layer forming composition used in the present invention, it is preferable to add an acid to adjust the pH to 5.0 or less. Since the acid promotes hydrolysis of the silane compound and acts as a catalyst for the polycondensation reaction, the polycondensation film of the silane compound can be easily formed on the surface of the substrate, and the antifouling property can be enhanced. The pH is preferably in the range of 1.5 to 5.0. If the pH is 1.5 or less, the acidity of the solution is too strong, and the container or the piping may be damaged. If the pH is 5 or more, the reaction does not proceed easily. Preferably it is the range of pH2.0-4.0.

本発明においては、防汚処理に用いるシラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせることが好ましい。その為に溶液の固形分濃度を希釈したところで用いる。処理液に水を添加し過ぎると、その分ポットライフが短くなる。   In the present invention, it is preferable not to positively add water to the silane compound solution used for the antifouling treatment, but to cause a hydrolysis reaction with moisture in the air mainly after drying after preparation. Therefore, it is used when the solid content concentration of the solution is diluted. If too much water is added to the treatment liquid, the pot life is shortened accordingly.

本発明においては硫酸、塩酸、硝酸、次亜塩素酸、ホウ酸、フッ酸、好ましくは塩酸、硝酸等の無機酸のほか、スルホ基(スルホン酸基ともいう)またはカルボキシル基を有する有機酸、例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メチルスルホン酸等が用いられる。有機酸は1分子内に水酸基とカルボキシル基を有する化合物であればいっそう好ましく、例えば、クエン酸または酒石酸等のヒドロキシジカルボン酸が用いられる。また、有機酸は水溶性の酸であることが更に好ましく、例えば上記クエン酸や酒石酸の他に、レブリン酸、ギ酸、プロピオン酸、リンゴ酸、コハク酸、メチルコハク酸、フマル酸、オキサロ酢酸、ピルビン酸、2−オキソグルタル酸、グリコール酸、D−グリセリン酸、D−グルコン酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、イソクエン酸、乳酸等が好ましく用いられる。また、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、アトロバ酸等も適宜用いることができる。   In the present invention, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, hypochlorous acid, boric acid, hydrofluoric acid, preferably an inorganic acid such as hydrochloric acid and nitric acid, an organic acid having a sulfo group (also referred to as a sulfonic acid group) or a carboxyl group, For example, acetic acid, polyacrylic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, methylsulfonic acid and the like are used. The organic acid is more preferably a compound having a hydroxyl group and a carboxyl group in one molecule. For example, a hydroxydicarboxylic acid such as citric acid or tartaric acid is used. Further, the organic acid is more preferably a water-soluble acid. For example, in addition to citric acid and tartaric acid, levulinic acid, formic acid, propionic acid, malic acid, succinic acid, methyl succinic acid, fumaric acid, oxaloacetic acid, pyruvin Acid, 2-oxoglutaric acid, glycolic acid, D-glyceric acid, D-gluconic acid, malonic acid, maleic acid, oxalic acid, isocitric acid, lactic acid and the like are preferably used. Also, benzoic acid, hydroxybenzoic acid, atorvaic acid and the like can be used as appropriate.

添加量は、前記シラン化合物の部分加水分解物100質量部に対して0.1質量部〜10質量部、好ましくは0.2質量部〜5質量部がよい。また、水の添加量については部分加水分解物が理論上100%加水分解し得る量以上であればよく、100%〜300%相当量、好ましくは100%〜200%相当量を添加するのがよい。   The addition amount is 0.1 to 10 parts by mass, preferably 0.2 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the partial hydrolyzate of the silane compound. Further, the amount of water added is not limited as long as the partial hydrolyzate can theoretically be hydrolyzed by 100%, and an amount equivalent to 100% to 300%, preferably an amount equivalent to 100% to 200% is added. Good.

フッ素含有のシラン化合物を用いることによって、防汚層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましいのみでなく、耐傷性が高く、またフィルム同士のブロッキングに特に優れるという効果がある。   By using a fluorine-containing silane compound, it is not only preferable in terms of lowering the refractive index of the antifouling layer and imparting water and oil repellency, but also has an effect of being highly scratch resistant and particularly excellent in blocking between films. .

〔反射防止層の形成〕
本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されないが、塗布により形成することが好ましい。
(Formation of antireflection layer)
In the present invention, the method for providing the antireflection layer is not particularly limited, but it is preferably formed by coating.

本発明において、基材フィルム上に微細凹凸構造及び透明樹脂層による防眩層を形成し、上記の高屈折率層組成物、低屈折率層組成物を用いて順次コーティングする工程により反射防止層を製造することが好ましい。また、前記防汚層をコーティングすることも好ましい。   In the present invention, an antireflection layer is formed by a step of forming an antiglare layer with a fine concavo-convex structure and a transparent resin layer on a base film and sequentially coating with the above high refractive index layer composition and low refractive index layer composition. It is preferable to manufacture. It is also preferable to coat the antifouling layer.

好ましい防眩性反射防止フィルムの構成を下記に示すが、これらに限定されるものではない。ここで本発明の防眩層とは、本発明に係る微細凹凸構造及び透明樹脂層からなる層を意味する。   Although the structure of a preferable anti-glare antireflection film is shown below, it is not limited to these. Here, the antiglare layer of the present invention means a layer comprising the fine uneven structure and the transparent resin layer according to the present invention.

基材フィルム/本発明の防眩層/低屈折率層
基材フィルム/本発明の防眩層/高屈折率層/低屈折率層
基材フィルム/帯電防止層/本発明の防眩層/低屈折率層
基材フィルム/帯電防止層/本発明の防眩層/高屈折率層/低屈折率層
基材フィルム/本発明の防眩層/低屈折率層/防汚層
基材フィルム/本発明の防眩層/高屈折率層/低屈折率層/防汚層
基材フィルム/帯電防止層/本発明の防眩層/低屈折率層/防汚層
基材フィルム/帯電防止層/本発明の防眩層/高屈折率層/低屈折率層/防汚層
本発明では、上記本発明の防眩層を形成した後本発明の防眩層の表面に表面処理行い、該表面処理を行った本発明の防眩層表面に低屈折率層(及び高屈折率層)を形成することが好ましい。また、防汚層を設ける前に該低屈折率層に表面処理を行うことも好ましい。
Base film / Anti-glare layer of the present invention / Low refractive index layer Base film / Anti-glare layer of the present invention / High refractive index layer / Low refractive index layer Base film / Antistatic layer / Anti-glare layer of the present invention / Low refractive index layer Base film / Antistatic layer / Anti-glare layer of the present invention / High refractive index layer / Low refractive index layer Base film / Anti-glare layer of the present invention / Low refractive index layer / Anti-fouling layer Base film / Anti-glare layer of the present invention / High refractive index layer / Low refractive index layer / Anti-fouling layer Substrate film / Antistatic layer / Anti-glare layer / Low refractive index layer / Anti-fouling layer Substrate film / Antistatic Layer / antiglare layer of the present invention / high refractive index layer / low refractive index layer / antifouling layer In the present invention, after the antiglare layer of the present invention is formed, the surface of the antiglare layer of the present invention is subjected to surface treatment, It is preferable to form a low refractive index layer (and a high refractive index layer) on the surface of the antiglare layer of the present invention subjected to the surface treatment. It is also preferable to subject the low refractive index layer to a surface treatment before providing the antifouling layer.

表面処理は、洗浄法、アルカリ処理法、フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられ、好ましくはアルカリ処理法、コロナ処理法であり、特に好ましくはアルカリ処理法を用いることができる。コロナ処理とは、大気圧下、電極間に1kV以上の高電圧を印加し、放電することで行う処理のことであり、春日電機(株)や(株)トーヨー電機などで市販されている装置を用いて行うことができる。コロナ放電処理の強度は、電極間距離、単位面積当たりの出力、ジェネレーターの周波数に依存する。コロナ処理装置の一方の電極(A電極)は、市販のものを用いることができるが、材質はアルミニウム、ステンレスなどから選択ができる。もう一方はプラスチックフィルムを抱かせるための電極(B電極)であり、コロナ処理が、安定かつ均一に実施されるように、前記A電極に対して一定の距離に設置されるロール電極である。これも通常市販されているものを用いることが出来、材質は、アルミニウム、ステンレス、及びそれらの金属で出来たロールに、セラミックス、シリコン、EPTゴム、ハイパロンゴムなどがライニングされているロールが好ましく用いられる。本発明に用いられるコロナ処理に用いる周波数は、20kHz以上100kHz以下の周波数であり、30kHz〜60kHzの周波数が好ましい。周波数が低下するとコロナ処理の均一性が劣化し、コロナ処理のムラが発生する。また、周波数が大きくなると、高出力のコロナ処理を行う場合には、特に問題ないが、低出力のコロナ処理を実施する場合には、安定した処理を行うことが難しくなり、結果として、処理ムラが発生する。コロナ処理の出力は、1〜5w・min/m2であるが、2〜4w・min/m2の出力が好ましい。電極とフィルムとの距離は、5mm以上50mm以下であるが、好ましくは、10mm以上35mm以下である。間隙が開いてくると、一定の出力を維持するためにより高電圧が必要になり、ムラが発生し易くなる。また、間隙が狭くなり過ぎると、印加する電圧が低くなり過ぎ、ムラが発生し易くなる。更にまた、フィルムを搬送して連続処理する際に電極にフィルムが接触し傷が発生する。 Examples of the surface treatment include cleaning methods, alkali treatment methods, flame plasma treatment methods, high frequency discharge plasma methods, electron beam methods, ion beam methods, sputtering methods, acid treatments, corona treatment methods, atmospheric pressure glow discharge plasma methods, and the like. An alkali treatment method and a corona treatment method are preferable, and an alkali treatment method can be used particularly preferably. The corona treatment is a treatment performed by applying a high voltage of 1 kV or more between the electrodes under atmospheric pressure and discharging it. An apparatus commercially available from Kasuga Electric Co., Ltd. or Toyo Electric Co., Ltd. Can be used. The intensity of the corona discharge treatment depends on the distance between the electrodes, the output per unit area, and the generator frequency. As one electrode (A electrode) of the corona treatment apparatus, a commercially available one can be used, but the material can be selected from aluminum, stainless steel and the like. The other is an electrode (B electrode) for holding a plastic film, and is a roll electrode installed at a certain distance from the A electrode so that the corona treatment is carried out stably and uniformly. A commercially available one can also be used, and the material is preferably a roll made of aluminum, stainless steel, or a metal thereof, and a roll lined with ceramics, silicon, EPT rubber, hyperon rubber, or the like. It is done. The frequency used for the corona treatment used in the present invention is a frequency of 20 kHz to 100 kHz, and a frequency of 30 kHz to 60 kHz is preferable. When the frequency is lowered, the uniformity of the corona treatment is deteriorated and unevenness of the corona treatment occurs. In addition, when the frequency is increased, there is no particular problem when performing high-output corona treatment, but when performing low-output corona treatment, it is difficult to perform stable processing, resulting in uneven processing. Occurs. The output of the corona treatment is 1 to 5 w · min / m 2 , but an output of 2 to 4 w · min / m 2 is preferable. The distance between the electrode and the film is 5 mm or more and 50 mm or less, preferably 10 mm or more and 35 mm or less. When the gap is opened, a higher voltage is required to maintain a constant output, and unevenness is likely to occur. If the gap is too narrow, the applied voltage becomes too low and unevenness is likely to occur. Furthermore, when the film is transported and continuously processed, the film comes into contact with the electrodes and scratches are generated.

アルカリ処理方法としては、ハードコート層を塗設したフィルムをアルカリ水溶液に浸す方法であれば特に限定されない。   The alkali treatment method is not particularly limited as long as it is a method in which a film coated with a hard coat layer is immersed in an alkaline aqueous solution.

アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、アンモニア水溶液等が使用可能であり、中でも水酸化ナトリウム水溶液が好ましい。   As the aqueous alkali solution, an aqueous sodium hydroxide solution, an aqueous potassium hydroxide solution, an aqueous ammonia solution or the like can be used, and an aqueous sodium hydroxide solution is particularly preferable.

アルカリ水溶液のアルカリ濃度、例えば水酸化ナトリウム濃度は0.1〜25質量%が好ましく、0.5〜15質量%がより好ましい。   The alkali concentration of the aqueous alkali solution, for example, sodium hydroxide concentration is preferably 0.1 to 25% by mass, and more preferably 0.5 to 15% by mass.

アルカリ処理温度は通常10〜80℃、好ましく20〜60℃である。   The alkali treatment temperature is usually 10 to 80 ° C, preferably 20 to 60 ° C.

アルカリ処理時間は5秒〜5分、好ましくは30秒〜3分である。アルカリ処理後のフィルムは酸性水で中和した後、十分に水洗いを行うことが好ましい。   The alkali treatment time is 5 seconds to 5 minutes, preferably 30 seconds to 3 minutes. The film after the alkali treatment is preferably neutralized with acidic water and then thoroughly washed with water.

反射防止層の各層は、微細凹凸構造及び透明樹脂層上に、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法を用いて、塗布により形成することができる。塗布に際しては、基材フィルムが、幅が1.4〜4mでロール状に巻き取られた状態から繰り出して、上記塗布を行い、乾燥・硬化処理した後、ロール状に巻き取られることが好ましい。   Each layer of the antireflection layer is formed on the fine concavo-convex structure and the transparent resin layer by a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a micro gravure coating method and an extrusion. It can be formed by coating using a coating method. At the time of application, the base film is preferably wound up in a roll shape after being unwound from a state wound in a roll shape with a width of 1.4 to 4 m, performing the above-described application, drying and curing treatment. .

更に、本発明の防眩性フィルムを用いた防眩性反射防止フィルムは、基材フィルム上に前記反射防止層を積層した後、ロール状に巻き取った状態で50〜150℃、1〜30日の範囲で加熱処理を行う製造方法によって製造することができる。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば、50℃であれば、好ましくは3日間以上30日未満の期間、150℃であれば1〜3日の範囲が好ましい。通常は、巻外部、巻中央部、巻き芯部の加熱処理効果が偏らないように、比較的低温に設定することが好ましく、50〜80℃付近で3〜7日間程度行うことが好ましい。   Furthermore, the anti-glare antireflection film using the anti-glare film of the present invention is laminated at 50 to 150 ° C. and 1 to 30 in a rolled state after the antireflection layer is laminated on the base film. It can manufacture by the manufacturing method which heat-processes in the range of a day. The period of the heat treatment may be appropriately determined depending on the set temperature. For example, if it is 50 ° C, it is preferably a period of 3 days or more and less than 30 days, and if it is 150 ° C, a range of 1 to 3 days is preferable. Usually, it is preferable to set it at a relatively low temperature so that the heat treatment effect on the outside of the winding, the center of the winding, and the core is not biased, and it is preferable to carry out at around 50 to 80 ° C. for about 3 to 7 days.

加熱処理を安定して行うためには、温湿度が調整可能な場所で行うことが必要であり、塵のないクリーンルーム等の加熱処理室で行うことが好ましい。   In order to stably perform the heat treatment, it is necessary to perform in a place where the temperature and humidity can be adjusted, and it is preferable to perform in a heat treatment chamber such as a clean room without dust.

上記反射防止層や防汚層等の機能性薄膜がコーティングされた防眩性フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度に耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであっても良く、例えばフェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂が挙げられる。またガラス繊維などの充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。   When winding an antiglare film coated with a functional thin film such as the antireflection layer or antifouling layer into a roll, the wound core may be of any material, whether it is a cylindrical core. However, it is preferably a hollow plastic core, and the plastic material may be any heat-resistant plastic that can withstand the heat treatment temperature. For example, phenol resin, xylene resin, melamine resin, polyester Resins such as resins and epoxy resins are listed. A thermosetting resin reinforced with a filler such as glass fiber is preferable.

これらの巻きコアへの巻き数は、100巻き以上であることが好ましく、500巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は5cm以上であることが好ましい。   The number of windings on these winding cores is preferably 100 windings or more, more preferably 500 windings or more, and the winding thickness is preferably 5 cm or more.

このようにして長巻の基材フィルム上に機能性薄膜がコーティングされ、プラスチックコアに巻き取られたロールを、巻き取った状態で前記加熱処理を行うとき、該ロールを回転させることが好ましく、回転は、1分間に1回転以下の速度が好ましく、連続でも良く断続的な回転であっても良い。又、加熱期間中に該ロールの巻き替えを1回以上行うことが好ましい。   In this way, when the functional film is coated on the long base film and the roll wound around the plastic core is subjected to the heat treatment in the wound state, the roll is preferably rotated, The rotation is preferably performed at a speed of 1 rotation or less per minute, and may be continuous or intermittent. Moreover, it is preferable to perform rewinding of the roll once or more during the heating period.

コアに巻き取られた長巻の防眩性フィルムロールを加熱処理中に回転させる為加熱処理室に専用の回転台を設けることが好ましい。   In order to rotate the long antiglare film roll wound around the core during the heat treatment, it is preferable to provide a dedicated turntable in the heat treatment chamber.

回転は、断続の場合は停止している時間を10時間以内とすることが好ましく、停止位置は、円周方向に均一となる様にすることが好ましく、停止時間は10分以内とすることがより好ましい。最も好ましくは、連続回転である。   In the case of intermittent rotation, the stop time is preferably within 10 hours, the stop position is preferably made uniform in the circumferential direction, and the stop time is within 10 minutes. More preferred. Most preferred is continuous rotation.

連続回転での回転速度は、1回転に要する時間は好ましくは10時間以下とすることであり、早いと装置的に負担となるため実質的には、15分から2時間の範囲が好ましい。   As for the rotation speed in continuous rotation, the time required for one rotation is preferably 10 hours or less, and if it is early, it becomes a burden on the apparatus, so the range of 15 minutes to 2 hours is substantially preferable.

尚、回転機能を有する専用の台車の場合には、移動や保管中にも光学フィルムロールを回転させることが出来て好ましく、この場合、保管期間が長い場合に生じるブラックバンド対策として回転が有効に機能する。   In the case of a dedicated carriage having a rotation function, it is preferable that the optical film roll can be rotated during movement and storage. In this case, rotation is effective as a countermeasure against black bands that occur when the storage period is long. Function.

(偏光板)
偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明の防眩性フィルム、または防眩性反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC4FR、以上コニカミノルタオプト(株)製)も好ましく用いられる。本発明の防眩性フィルム、または防眩性反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、30〜300nm、Rtが70〜400nmの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957号、特願2002−155395号記載の方法で作製することができる。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348号記載の方法で光学異方性層を形成することができる。本発明の防眩性フィルム、または防眩性反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。
(Polarizer)
The polarizing plate can be produced by a general method. A fully saponified polyvinyl alcohol aqueous solution is applied to at least one surface of a polarizing film prepared by subjecting the back side of the antiglare film or the antiglare antireflection film of the present invention to an alkali saponification treatment and immersion drawing in an iodine solution. It is preferable to use and bond together. The film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. Commercially available cellulose ester films (for example, Konica Minoltak KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UCR5, KC8UY, KC4UY, KC12UR, KC4FR, and the above manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd. are also preferably used). In contrast to the antiglare film or the antiglare antireflection film of the present invention, the polarizing plate protective film used on the other surface has an in-plane retardation Ro of 590 nm, 30 to 300 nm, and Rt of 70 to 400 nm. It preferably has a phase difference. These can be prepared, for example, by the methods described in JP-A No. 2002-71957 and Japanese Patent Application No. 2002-155395. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. By using in combination with the antiglare film or antiglare antireflection film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の防眩性フィルム、または防眩性反射防止フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. On the surface of the polarizing film, one side of the antiglare film of the present invention or the antiglare antireflection film is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

(表示装置)
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することができる。本発明の防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムは反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明の防眩性フィルム、または防眩性反射防止フィルムは平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上、特に30型〜54型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜けなどもなく、その効果が長期間維持され、MVA型液晶表示装置、IPS型液晶表示装置では顕著な効果が認められる。特に、本発明により色むら、ぎらつきや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
(Display device)
By incorporating the polarizing plate of the present invention into a display device, the display device of the present invention having various visibility can be manufactured. The antiglare film and antiglare antireflection film of the present invention are reflective, transmissive, transflective LCD or TN, STN, OCB, HAN, VA (PVA, MVA), IPS. It is preferably used in LCDs of various drive systems such as. Further, the antiglare film or the antiglare antireflection film of the present invention is excellent in flatness and is preferably used for various display devices such as a plasma display, a field emission display, an organic EL display, an inorganic EL display, and electronic paper. . In particular, in a large-screen display device having a screen of 30 or more types, particularly 30 to 54 types, there is no white spot at the periphery of the screen, and the effect is maintained for a long period of time. MVA liquid crystal display device, IPS liquid crystal display A noticeable effect is observed in the device. In particular, according to the present invention, there is little color unevenness, glare and wavy unevenness, and there is an effect that eyes are not tired even during long-time viewing.

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
〔セルロースエステルフィルム1の作製〕
〈ポリマーXの合成〉
攪拌機、2個の滴下ロート、ガス導入管及び温度計の付いたガラスフラスコに、表3記載の種類及び比率(モル組成比)のモノマーXa、Xb混合液40g、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸2g及びトルエン30gを仕込み、90℃に昇温した。その後、一方の滴下ロートから、表3記載の種類及び比率(モル組成比)のモノマーXa、Xb混合液60gを3時間かけて滴下すると共に、同時にもう一方のロートからトルエン14gに溶解したアゾビスイソブチロニトリル0.4gを3時間かけて滴下した。その後更に、トルエン56gに溶解したアゾビスイソブチロニトリル0.6gを2時間かけて滴下した後、更に2時間反応を継続させ、ポリマーXを得た。得られたポリマーXは常温で固体であった。ポリマーXの重量平均分子量は下記測定法により表3に示した。
Example 1
[Production of Cellulose Ester Film 1]
<Synthesis of Polymer X>
In a glass flask equipped with a stirrer, two dropping funnels, a gas introduction tube and a thermometer, 40 g of a monomer Xa and Xb mixed solution of the types and ratios (molar composition ratio) described in Table 3, and 2 g of mercaptopropionic acid as a chain transfer agent And 30 g of toluene were charged, and the temperature was raised to 90 ° C. Thereafter, 60 g of a mixture of monomers Xa and Xb having the types and ratios (molar composition ratios) shown in Table 3 was dropped from one dropping funnel over 3 hours, and at the same time, azobis dissolved in 14 g of toluene from the other funnel. 0.4 g of isobutyronitrile was added dropwise over 3 hours. Thereafter, 0.6 g of azobisisobutyronitrile dissolved in 56 g of toluene was added dropwise over 2 hours, and the reaction was further continued for 2 hours to obtain polymer X. The obtained polymer X was solid at room temperature. The weight average molecular weight of the polymer X is shown in Table 3 by the following measurement method.

尚、表3記載の、MMA、HEAはそれぞれ以下の化合物の略称である。   In Table 3, MMA and HEA are abbreviations for the following compounds, respectively.

MMA:メタクリル酸メチル
HEA:2−ヒドロキシエチルアクリレート
(重量平均分子量測定)
重量平均分子量の測定は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。
MMA: methyl methacrylate HEA: 2-hydroxyethyl acrylate (weight average molecular weight measurement)
The weight average molecular weight was measured using gel permeation chromatography.

測定条件は以下の通りである。   The measurement conditions are as follows.

溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G (Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000-500 calibration curves with 13 samples were used. Thirteen samples are used at approximately equal intervals.

〈ポリマーYの合成〉
特開2000−128911号公報に記載の重合方法により塊状重合を行った。即ち、攪拌機、窒素ガス導入管、温度計、投入口及び環流冷却管を備えたフラスコにモノマーYaとして、下記メチルアクリレート(MA)を投入し、窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素ガスで置換した下記チオグリセロールを攪拌下添加した。チオグリセロール添加後、内容物の温度を適宜変化させ4時間重合を行い、内容物を室温に戻し、それにベンゾキノン5質量%テトラヒドロフラン溶液を20質量部添加し、重合を停止させた。内容物をエバポレーターに移し、80℃で減圧下、テトラヒドロフラン、残存モノマー及び残存チオグリセロールを除去し、表3に記載のポリマーYを得た。得られたポリマーYは常温で液体であった。該ポリマーYの重量平均分子量は上記測定法により表3に示した。
<Synthesis of polymer Y>
Bulk polymerization was performed by the polymerization method described in JP-A No. 2000-128911. That is, the following methyl acrylate (MA) as monomer Ya was introduced into a flask equipped with a stirrer, nitrogen gas inlet tube, thermometer, inlet and reflux condenser, and nitrogen gas was introduced to replace the inside of the flask with nitrogen gas. The following thioglycerol was added with stirring. After the addition of thioglycerol, the temperature of the contents was appropriately changed and polymerization was performed for 4 hours. The contents were returned to room temperature, and 20 parts by mass of a 5% by weight benzoquinone tetrahydrofuran solution was added thereto to stop the polymerization. The contents were transferred to an evaporator, and tetrahydrofuran, residual monomer and residual thioglycerol were removed under reduced pressure at 80 ° C. to obtain polymer Y shown in Table 3. The obtained polymer Y was liquid at room temperature. The weight average molecular weight of the polymer Y is shown in Table 3 by the above measurement method.

メチルアクリレート 100質量部
チオグリセロール 5質量部
Methyl acrylate 100 parts by weight Thioglycerol 5 parts by weight

Figure 2008250276
Figure 2008250276

〈ドープの組成〉
(二酸化珪素分散液)
アエロジル972V(日本アエロジル(株)製) 12質量部
(1次粒子の平均径16nm、見掛け比重90g/リットル)
エタノール 88質量部
以上をディゾルバーで30分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。分散後の液濁度は200ppmであった。二酸化珪素分散液に88質量部のメチレンクロライドを攪拌しながら投入し、ディゾルバーで30分間攪拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。
<Dope composition>
(Silicon dioxide dispersion)
Aerosil 972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 12 parts by mass (average diameter of primary particles 16 nm, apparent specific gravity 90 g / liter)
88 parts by mass of ethanol or more was stirred and mixed with a dissolver for 30 minutes, and then dispersed with Manton Gorin. The liquid turbidity after dispersion was 200 ppm. 88 parts by mass of methylene chloride was added to the silicon dioxide dispersion while stirring, and the mixture was stirred and mixed with a dissolver for 30 minutes to prepare a silicon dioxide dispersion dilution.

(ドープ添加液)
メチレンクロライド 50質量部
ポリマーX 12質量部
ポリマーY 7質量部
二酸化珪素分散希釈液 10質量部
チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 1.2質量部
チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 0.8質量部
以上について、メチレンクロライドとポリマーXとポリマーYを攪拌しながら完全溶解させた後、二酸化珪素分散液を添加させて攪拌混合させてドープ添加液を調製した。
(Dope additive)
Methylene chloride 50 parts by weight Polymer X 12 parts by weight Polymer Y 7 parts by weight Silicon dioxide dispersion diluent 10 parts by weight Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1.2 parts by weight Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) About 0.8 parts by mass or more, methylene chloride, polymer X, and polymer Y were completely dissolved while stirring, and then a silicon dioxide dispersion was added and stirred to prepare a dope additive solution.

(主ドープ液の調製)
セルロースエステル(リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度2.92) 100質量部
メチレンクロライド 380質量部
エタノール 30質量部
ドープ添加液 前記作製質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
(Preparation of main dope solution)
Cellulose ester (cellulose triacetate synthesized from linter cotton, acetyl group substitution degree 2.92) 100 parts by weight Methylene chloride 380 parts by weight Ethanol 30 parts by weight Dope additive liquid The above preparation parts by weight are charged into a sealed container, and heated. While stirring, it completely dissolved, and Azumi Filter Paper No. 24 was used to prepare a main dope solution.

日本精線(株)製のファインメットNFで上記主ドープ液を濾過し、ベルト流延装置を用い、温度22℃、2m幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が105%になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力162N/mでステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルロースエステルのウェブを35℃で溶媒を蒸発させ、1.6m幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に1.1倍に延伸しながら、135℃の乾燥温度で乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は10%であった。テンターで延伸後130℃で幅手張力を緩和して幅保持を開放した後、120℃、130℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、1.5m幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm高さ7μmのナーリング加工を施し、初期張力220N/m、終張力110N/mで内径6インチコアに巻き取り、セルロースエステルフィルム1を得た。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるMD方向の延伸倍率は1.1倍であった。セルロースエステルフィルム1の残留溶剤量は各々0.1%未満であり、膜厚は40μmであった。   The main dope solution was filtered with Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd., and uniformly cast on a stainless steel band support at a temperature of 22 ° C. and a width of 2 m using a belt casting apparatus. With the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount became 105%, and the film was peeled from the stainless steel band support with a peeling tension of 162 N / m. The peeled cellulose ester web was evaporated at 35 ° C., slit to 1.6 m width, and then dried at a drying temperature of 135 ° C. while stretching 1.1 times in the width direction with a tenter. At this time, the residual solvent amount when starting stretching with a tenter was 10%. After stretching with a tenter and releasing the width retention by releasing the width tension at 130 ° C., drying is completed while transporting the drying zone at 120 ° C. and 130 ° C. with a number of rolls, and slitting to a width of 1.5 m, A knurling process with a width of 10 mm and a height of 7 μm was applied to both ends of the film, and the film was wound around a core having an inner diameter of 6 inches with an initial tension of 220 N / m and a final tension of 110 N / m. The draw ratio in the MD direction calculated from the rotational speed of the stainless steel band support and the operating speed of the tenter was 1.1 times. The residual solvent amount of the cellulose ester film 1 was less than 0.1%, respectively, and the film thickness was 40 μm.

〔防眩性フィルム1の作製〕
(第1層の作製)
セルロースエステルフィルム1の表面に(B面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)、下記の硬化樹脂層塗布組成物1をスリットダイで塗布し、熱風の温度、風速を徐々に強め最終的に85℃で乾燥し、続いて活性光線照射部より115mJ/cm2の照射強度で紫外線照射して硬化樹脂層とし、第1層を作製した。下記の組成物による乾燥膜厚は、5μmであった。
[Preparation of antiglare film 1]
(Preparation of the first layer)
The following cured resin layer coating composition 1 is applied to the surface of the cellulose ester film 1 (B surface side; surface in contact with a mirror surface of a support such as a stainless steel band used in the casting film forming method) with a slit die. Then, the temperature and speed of the hot air were gradually increased and finally dried at 85 ° C., followed by irradiation with ultraviolet rays at an irradiation intensity of 115 mJ / cm 2 from the actinic ray irradiation part to form a cured resin layer, thereby producing a first layer. . The dry film thickness by the following composition was 5 micrometers.

(固形分)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 70質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
4質量部
(溶媒)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 75質量部
メチルエチルケトン 25質量部
前記第1層の上に、下記微細凹凸構造形成塗布液1をインクジェット方式によりインク液滴として2〜16plで出射し、乾燥後0.2秒後に活性光線照射部より紫外線の照度が0.1W/cm2で、照射量が100mJ/cm2で硬化させ、凸部を形成した。
(Solid content)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 70 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate 30 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
4 parts by mass (solvent)
Propylene glycol monomethyl ether 75 parts by weight Methyl ethyl ketone 25 parts by weight On the first layer, the following fine concavo-convex structure-forming coating solution 1 is ejected as ink droplets by an ink jet method at 2 to 16 pl and activated 0.2 seconds after drying. Curing was carried out at an ultraviolet ray illuminance of 0.1 W / cm 2 and an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 from the light irradiation part, thereby forming a convex part.

インクジェット出射装置は、ラインヘッド方式(図4の(a))を使用し、ノズル径が3.5μmのノズルを256個有するインクジェットヘッドを10基準備した。インクジェットヘッドは図3に記載の構成のものを使用した。インク供給系は、インク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッド及び配管から構成されており、インク供給タンクからインクジェットヘッド部までは、断熱及び加温(25℃)し、出射温度は25℃、駆動周波数は20kHzで行った。温度センサーは前室インクタンク及びピエゾヘッドのノズル付近にそれぞれ設け、ノズル部分が常に25℃±2℃となるよう温度制御を行った。   As the inkjet emitting device, a line head method (FIG. 4A) was used, and 10 inkjet heads having 256 nozzles having a nozzle diameter of 3.5 μm were prepared. An ink jet head having the structure shown in FIG. 3 was used. The ink supply system is composed of an ink supply tank, a filter, a piezo-type ink jet head, and piping. The ink supply tank to the ink jet head section is insulated and heated (25 ° C.), and the emission temperature is 25 ° C. The driving frequency was 20 kHz. Temperature sensors were provided in the vicinity of the front chamber ink tank and the nozzle of the piezo head, respectively, and temperature control was performed so that the nozzle portion was always 25 ° C. ± 2 ° C.

凸部形成後フィルム表面に、1%酸素を含有する窒素雰囲気の大気圧下で、100kHzの高周波電圧でプラズマ放電により表面処理した後、下記透明樹脂層用塗布液1を減圧押出し法によって乾燥膜厚7μmになるように塗布し、紫外線の照度0.2W/cm2、照射量が150mJ/cm2で硬化させ、防眩性フィルム1を作製した。 After the convex portion is formed, the surface of the film is subjected to surface treatment by plasma discharge at a high frequency voltage of 100 kHz under atmospheric pressure of nitrogen atmosphere containing 1% oxygen, and then the transparent resin layer coating solution 1 is dried by a reduced pressure extrusion method. The film was applied to a thickness of 7 μm and cured at an ultraviolet illuminance of 0.2 W / cm 2 and an irradiation amount of 150 mJ / cm 2 , thereby producing an antiglare film 1.

形成した防眩性フィルムについてWYKO社製光学干渉式表面粗さ測定機を用いて算術平均表面粗さRaの測定を行った結果、127nmであった。また、凸部の平均中心間距離は28μmであった。   It was 127 nm as a result of measuring arithmetic mean surface roughness Ra about the formed anti-glare film using the optical interference type surface roughness measuring machine by WYKO. The average center distance of the convex portions was 28 μm.

(微細凹凸構造形成塗布液1)
KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 20質量部
TEMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルサイテック(株)製) 20質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
1質量部
光重合開始剤(イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
1質量部
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート 40質量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテル 12質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 6質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液1を調製した。
(Fine uneven structure forming coating solution 1)
KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 20 parts by mass TEMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) 20 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) ))
1 part by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
1 part by mass Ethylene glycol monobutyl ether acetate 40 parts by mass Diethylene glycol monoethyl ether 12 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 6 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a coating solution 1 for forming a fine uneven structure.

尚、この微細凹凸構造形成塗布液1の粘度は25℃において5.1mPa・s、60℃において1.7mPa・sであった。   In addition, the viscosity of the coating liquid 1 for forming a fine uneven structure was 5.1 mPa · s at 25 ° C. and 1.7 mPa · s at 60 ° C.

(透明樹脂層塗布液1)
アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 100質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 40質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
6質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 50質量部
メチルエチルケトン 50質量部
上記組成物を混合撹拌し、透明樹脂層塗布液1を調製した。
(Transparent resin layer coating solution 1)
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 100 parts by mass Trimethylolpropane triacrylate 40 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
6 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 50 parts by mass Methyl ethyl ketone 50 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a transparent resin layer coating solution 1.

〔防眩性フィルム2〜16の作製〕
下記微細凹凸構造形成塗布液2〜12を用い、出射温度を表4の如く制御した以外は、防眩性フィルム1と同様の方法で、防眩性フィルム2〜16を作製した。
[Preparation of antiglare films 2 to 16]
Antiglare films 2 to 16 were produced in the same manner as antiglare film 1 except that the following fine concavo-convex structure forming coating solutions 2 to 12 were used and the emission temperature was controlled as shown in Table 4.

(微細凹凸構造形成塗布液2)
KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 58質量部
PETAK(ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ダイセルサイテック(株)製) 25質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
2質量部
光重合開始剤(イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
2質量部
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート 9質量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテル 3質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 1質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液2を調製した。
(Fine relief structure forming coating solution 2)
KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 58 parts by mass PETAK (pentaerythritol tetraacrylate, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) 25 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)) )
2 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
2 parts by mass Ethylene glycol monobutyl ether acetate 9 parts by mass Diethylene glycol monoethyl ether 3 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 1 part by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a coating solution 2 for forming a fine uneven structure.

尚、この微細凹凸構造形成塗布液2の粘度は25℃において620mPa・s、60℃において53mPa・sであった。   The viscosity of the fine concavo-convex structure forming coating solution 2 was 620 mPa · s at 25 ° C. and 53 mPa · s at 60 ° C.

(微細凹凸構造形成塗布液3)
KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 35質量部
TEMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルサイテック(株)製) 35質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
1.7質量部
光重合開始剤(イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
1.7質量部
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート 20質量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテル 6質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 3質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液3を調製した。
(Fine relief structure forming coating solution 3)
KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 35 parts by mass TEMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) 35 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ))
1.7 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
1.7 parts by mass Ethylene glycol monobutyl ether acetate 20 parts by mass Diethylene glycol monoethyl ether 6 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 3 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare coating solution 3 for forming a fine uneven structure.

尚、この微細凹凸構造形成塗布液3の粘度は25℃において15mPa・s、60℃において7.3mPa・sであった。   The viscosity of the fine concavo-convex structure forming coating solution 3 was 15 mPa · s at 25 ° C. and 7.3 mPa · s at 60 ° C.

(微細凹凸構造形成塗布液4)
KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 62質量部
TEMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルサイテック(株)製) 15質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
2質量部
光重合開始剤(イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
2質量部
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート 13質量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテル 4質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 2質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液4を調製した。
(Fine relief structure forming coating solution 4)
KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 62 parts by mass TEMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) 15 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ))
2 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
2 parts by mass Ethylene glycol monobutyl ether acetate 13 parts by mass Diethylene glycol monoethyl ether 4 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 2 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a coating solution 4 for forming a fine uneven structure.

尚、この微細凹凸構造形成塗布液4の粘度は25℃において31mPa・s、60℃において4.6mPa・sであった。   In addition, the viscosity of this fine concavo-convex structure forming coating solution 4 was 31 mPa · s at 25 ° C. and 4.6 mPa · s at 60 ° C.

(微細凹凸構造形成塗布液5)
KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 24質量部
TEMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルサイテック(株)製) 12質量部
EBECRYL220(ウレタンアクリレート、ダイセルサイテック(株)製)
24質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
1質量部
光重合開始剤(イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
1質量部
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート 27質量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテル 8質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 4質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液5を調製した。
(Fine relief forming liquid 5)
KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 24 parts by mass TEMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) 12 parts by mass EBECRYL 220 (urethane acrylate, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.)
24 parts by mass of photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
1 part by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
1 part by mass Ethylene glycol monobutyl ether acetate 27 parts by mass Diethylene glycol monoethyl ether 8 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 4 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a fine uneven structure forming coating solution 5.

尚、この微細凹凸構造形成塗布液5の粘度は25℃において35mPa・s、60℃において17mPa・sであった。   In addition, the viscosity of the coating liquid 5 for forming a fine concavo-convex structure was 35 mPa · s at 25 ° C. and 17 mPa · s at 60 ° C.

(微細凹凸構造形成塗布液6)
KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 35質量部
PETAK(ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ダイセルサイテック(株)製) 35質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
2質量部
光重合開始剤(イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
2質量部
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート 19質量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテル 5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 2質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液6を調製した。
(Fine concavo-convex structure forming coating solution 6)
KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 35 parts by mass PETAK (pentaerythritol tetraacrylate, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) 35 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)) )
2 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
2 parts by mass Ethylene glycol monobutyl ether acetate 19 parts by mass Diethylene glycol monoethyl ether 5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 2 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a fine uneven structure forming coating solution 6.

尚、この微細凹凸構造形成塗布液6の粘度は25℃において32mPa・s、60℃において9.3mPa・sであった。   The viscosity of the coating liquid 6 for forming a fine concavo-convex structure was 32 mPa · s at 25 ° C. and 9.3 mPa · s at 60 ° C.

(微細凹凸構造形成塗布液7)
KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 36質量部
PETAK(ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ダイセルサイテック(株)製) 12質量部
EBECRYL220(ウレタンアクリレート、ダイセルサイテック(株)製)
12質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
1.5質量部
光重合開始剤(イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
1.5質量部
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート 27質量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテル 8質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 4質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液7を調製した。
(Fine concavo-convex structure forming coating solution 7)
KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 36 parts by mass PETAK (pentaerythritol tetraacrylate, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) 12 parts by mass EBECRYL220 (urethane acrylate, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.)
12 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
1.5 parts by mass of photopolymerization initiator (Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals))
1.5 parts by mass Ethylene glycol monobutyl ether acetate 27 parts by mass Diethylene glycol monoethyl ether 8 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 4 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a fine uneven structure forming coating solution 7.

尚、この微細凹凸構造形成塗布液7の粘度は25℃において35mPa・s、60℃において8.1mPa・sであった。   In addition, the viscosity of the coating liquid 7 for forming a fine concavo-convex structure was 35 mPa · s at 25 ° C. and 8.1 mPa · s at 60 ° C.

(微細凹凸構造形成塗布液8)
ラウリルアクリレート(単官能) 13質量部
ステアリルアクリレート(単官能) 8質量部
テトラエチレングリコールジアクリレート(二官能) 36質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート(共栄社化学製、TMP−3EO−A) 24質量部
光重合開始剤(イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
5質量部
光重合開始剤(ジエチルチオキサントン) 1質量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテル 3質量部
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート 10質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液8を調製した。
(Fine concavo-convex structure forming coating solution 8)
Lauryl acrylate (monofunctional) 13 parts by mass Stearyl acrylate (monofunctional) 8 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (bifunctional) 36 parts by mass Ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., TMP-3EO-A) 24 Mass parts Photopolymerization initiator (Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
5 parts by mass Photopolymerization initiator (diethylthioxanthone) 1 part by mass Diethylene glycol monoethyl ether 3 parts by mass Ethylene glycol monobutyl ether acetate 10 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a fine uneven structure forming coating solution 8.

尚、この微細凹凸構造形成塗布液8の粘度は25℃において54mPa・s、60℃において8.0mPa・sであった。   The viscosity of the fine concavo-convex structure forming coating solution 8 was 54 mPa · s at 25 ° C. and 8.0 mPa · s at 60 ° C.

(微細凹凸構造形成塗布液9)
ラウリルアクリレート(単官能) 14質量部
ステアリルアクリレート(単官能) 10質量部
テトラエチレングリコールジアクリレート(二官能) 45質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート(共栄社化学製、TMP−3EO−A) 25質量部
光重合開始剤(イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
5質量部
光重合開始剤(ジエチルチオキサントン) 1質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液9を調製した。
(Fine concavo-convex structure forming coating solution 9)
Lauryl acrylate (monofunctional) 14 parts by mass Stearyl acrylate (monofunctional) 10 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (bifunctional) 45 parts by mass Ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., TMP-3EO-A) 25 Mass parts Photopolymerization initiator (Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
5 parts by mass Photopolymerization initiator (diethylthioxanthone) 1 part by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a fine uneven structure forming coating solution 9.

尚、この微細凹凸構造形成塗布液9の粘度は25℃において76mPa・s、60℃において9.7mPa・sであった。   In addition, the viscosity of the coating liquid 9 for forming a fine uneven structure was 76 mPa · s at 25 ° C. and 9.7 mPa · s at 60 ° C.

(微細凹凸構造形成塗布液10)
ラウリルアクリレート(単官能) 14質量部
エトキシジエチレングリコールアクリレート(単官能) 10質量部
テトラエチレングリコールジアクリレート(二官能) 45質量部
カプロラクタム変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(六官能)
25質量部
光重合開始剤(イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
5質量部
光重合開始剤(ジエチルチオキサントン) 1質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液10を調製した。
(Fine concavo-convex structure forming coating solution 10)
Lauryl acrylate (monofunctional) 14 parts by mass Ethoxydiethylene glycol acrylate (monofunctional) 10 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (bifunctional) 45 parts by mass Caprolactam-modified dipentaerythritol hexaacrylate (hexafunctional)
25 parts by mass of photopolymerization initiator (Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
5 parts by mass Photopolymerization initiator (diethylthioxanthone) 1 part by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a fine uneven structure forming coating solution 10.

尚、この微細凹凸構造形成塗布液10の粘度は25℃において80mPa・s、60℃において15mPa・sであった。   The viscosity of the coating solution 10 for forming a fine uneven structure was 80 mPa · s at 25 ° C. and 15 mPa · s at 60 ° C.

(微細凹凸構造形成塗布液11)
イソボルニルアクリレート(単官能) 14質量部
エトキシジエチレングリコールアクリレート(単官能) 10質量部
テトラエチレングリコールジアクリレート(二官能) 45質量部
グリセリンプロポキシトリアクリレート(三官能)(ダイセルUCB製、OTA480) 25質量部
光重合開始剤(イルガキュア819(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
5質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
2質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液11を調製した。
(Fine uneven structure forming coating solution 11)
Isobornyl acrylate (monofunctional) 14 parts by mass Ethoxydiethylene glycol acrylate (monofunctional) 10 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (bifunctional) 45 parts by mass Glycerin propoxytriacrylate (trifunctional) (manufactured by Daicel UCB, OTA480) 25 parts by mass Part photopolymerization initiator (Irgacure 819 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
5 parts by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
2 mass parts The said composition was mixed and stirred and the fine uneven | corrugated structure formation coating liquid 11 was prepared.

尚、この微細凹凸構造形成塗布液11の粘度は25℃において51mPa・s、60℃において6.1mPa・sであった。   In addition, the viscosity of the coating liquid 11 for forming a fine uneven structure was 51 mPa · s at 25 ° C. and 6.1 mPa · s at 60 ° C.

(微細凹凸構造形成塗布液12)
ラウリルアクリレート(単官能) 6質量部
エトキシジエチレングリコールアクリレート(単官能) 9質量部
テトラエチレングリコールジアクリレート(二官能) 15質量部
KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 49質量部
カプロラクタム変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(六官能)
15質量部
光重合開始剤(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
3質量部
光重合開始剤(イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
3質量部
上記組成物を混合撹拌し、微細凹凸構造形成塗布液12を調製した。
(Fine concavo-convex structure forming coating solution 12)
Lauryl acrylate (monofunctional) 6 parts by mass Ethoxydiethylene glycol acrylate (monofunctional) 9 parts by mass Tetraethylene glycol diacrylate (bifunctional) 15 parts by mass KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 49 parts by mass Caprolactam modification Dipentaerythritol hexaacrylate (hexafunctional)
15 parts by mass of photopolymerization initiator (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
3 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
3 mass parts The said composition was mixed and stirred and the fine uneven | corrugated structure formation coating liquid 12 was prepared.

尚、この凸部塗布液1の粘度は25℃において476mPa・s、60℃において41mPa・sであった。   The viscosity of the convex coating solution 1 was 476 mPa · s at 25 ° C. and 41 mPa · s at 60 ° C.

〔防眩性フィルム17〜18の作製〕
前記微細凹凸構造形成塗布液9及び11を用い、出射温度を表4の如く制御し、第1層(硬化樹脂層塗布組成物1)を塗布しない以外は、防眩性フィルム1と同様の方法で、防眩性フィルム17〜18を作製した。
[Preparation of antiglare films 17 to 18]
The same method as the anti-glare film 1 except that the fine concavo-convex structure forming coating liquids 9 and 11 are used, the emission temperature is controlled as shown in Table 4, and the first layer (cured resin layer coating composition 1) is not coated. Thus, antiglare films 17 to 18 were produced.

以上作製した防眩性フィルム1〜18を用いて以下の測定、評価を行った。   The following measurements and evaluations were performed using the antiglare films 1 to 18 produced above.

《測定・評価》
(防眩効果)
窓のあるオフィスにて、各フィルムを机の上に広げ、天井の蛍光灯照明及び外光のフィルムへの写り込みを下記のように評価した。
<Measurement / Evaluation>
(Anti-glare effect)
In an office with a window, each film was spread on a desk, and fluorescent lighting on the ceiling and reflection of external light on the film were evaluated as follows.

5:蛍光灯の輪郭、及び外光がぼけて写り込みが全く気にならない
4:5と3の中間
3:蛍光灯の輪郭、及び外光の写り込みが僅かに認められる
2:3と1の中間
1:蛍光灯の輪郭、及び外光が分かり写り込みが気になる
(ぎらつき)
作製したフィルムについて、目視にてぎらつきを判定した。
5: The outline of the fluorescent lamp and the external light are blurred and I don't care about the reflection at all 4: Between 5 and 3 3: The outline of the fluorescent lamp and the reflection of the external light are slightly recognized 2: 3: 1 Middle of 1: The outline of the fluorescent lamp and the external light are understood and the reflection is worrisome (glare)
About the produced film, the glare was determined visually.

5:ぎらつきが全く分からない
4:ぎらつきが極僅かに分かる
3:ややぎらつきが分かる
2:3と1の中間
1:ぎらつきがかなり気になる
(防眩性フィルムの部分ムラ評価)
作製した防眩性フィルムをA4サイズ(297×210mm)に切断し、防眩層の形成されていない面に、1mm厚の黒色アクリル板(日東樹脂工業(株)製アクリル樹脂板)を貼り合わせて裏面の反射をなくし、防眩層の部分ムラを以下の判定基準により目視にて判定した。
5: Glitter is not known at all 4: Slight glare is known 3: Slight glare is observed 2: Between 3 and 1 1: Glitter is quite worrisome (Partial unevenness evaluation of anti-glare film)
The produced anti-glare film is cut into A4 size (297 × 210 mm), and a 1 mm thick black acrylic plate (acrylic resin plate manufactured by Nitto Resin Co., Ltd.) is bonded to the surface where the anti-glare layer is not formed. Then, the reflection on the back surface was eliminated, and the partial unevenness of the antiglare layer was visually determined according to the following criteria.

5:部分ムラは全くない
4:部分ムラはほとんどない
3:部分ムラがかすかに確認できる
2:部分ムラはあるが実用上問題はない
1:部分ムラが明確に視認できる
測定結果を表4に示す。
5: There is no partial unevenness 4: There is almost no partial unevenness 3: Partial unevenness is faintly confirmed 2: There is partial unevenness, but there is no practical problem 1: Partial unevenness is clearly visible Table 4 shows the measurement results Show.

(密着性の評価)
JIS K 5400に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には、得られた防眩性フィルムの防眩層を形成した段階の試料を用いて、1mm間隔で縦、横に11本の切れ目を入れ、1mm角の碁盤目を100個作り、この上にセロハン粘着テープを貼り付け、90°で素早く剥がし、剥がれずに残った碁盤目の数をカウントし、下記に示すようなランク評価を行った。
(Evaluation of adhesion)
A cross-cut test based on JIS K 5400 was performed. Specifically, using the sample at the stage where the antiglare layer of the obtained antiglare film was formed, 11 cuts were made vertically and horizontally at intervals of 1 mm, and 100 1 mm square grids were made, A cellophane adhesive tape was affixed on this, peeled off quickly at 90 °, the number of grids remaining without peeling was counted, and rank evaluation as shown below was performed.

◎:100
○:95〜99
△:90〜94
×:70以下
×は実用不可である。
A: 100
○: 95-99
Δ: 90-94
X: 70 or less x is impractical.

防眩性フィルムの構成及び上記評価結果を下記表4に示す。   The composition of the antiglare film and the evaluation results are shown in Table 4 below.

Figure 2008250276
Figure 2008250276

表4から明らかなように、本発明の構成では防眩効果、ぎらつき、防眩効果の部分ムラ、密着性に優れた防眩性フィルムを得ることが出来る。また、凸部分を形成する下地の状態によらず優れた光学性能を示し、安定した防眩性フィルムを得ることが出来る。   As is apparent from Table 4, the composition of the present invention can provide an antiglare film having excellent antiglare effect, glare, partial unevenness of antiglare effect, and adhesion. Moreover, the optical performance which was excellent irrespective of the state of the base | substrate which forms a convex part can be obtained, and the stable anti-glare film can be obtained.

実施例2
実施例1で作製した防眩性フィルム1〜18の透明樹脂層上に下記低屈折率層を塗設した。
Example 2
The following low refractive index layers were coated on the transparent resin layers of the antiglare films 1 to 18 produced in Example 1.

〔反射防止層の作製:低屈折率層〕
下記の低屈折率層塗布組成物1を押出しコーターで塗布し、100℃で1分間乾燥させた後、紫外線を0.1J/cm2照射して硬化させ、更に120℃で5分間熱硬化させ、厚さ95nmとなるように低屈折率層を設け、防眩性反射防止フィルム1〜18を作製した。尚、この低屈折率層の屈折率は1.37であった。
[Preparation of antireflection layer: low refractive index layer]
The following low refractive index layer coating composition 1 is applied by an extrusion coater, dried at 100 ° C. for 1 minute, cured by irradiation with ultraviolet rays of 0.1 J / cm 2 , and further thermally cured at 120 ° C. for 5 minutes. A low refractive index layer was provided so as to have a thickness of 95 nm, and antiglare and antireflection films 1 to 18 were produced. The refractive index of this low refractive index layer was 1.37.

また作製した防眩性反射防止フィルムについて、分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における分光反射率を測定した。反射防止性能は広い波長領域において反射率が小さいほど良好であるため、測定結果から450〜650nmにおける最低反射率を求めた。測定は、観察側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止して、反射率の測定を行った。測定の結果、上記防眩性反射防止フィルムはいずれも反射率で0.7〜1.2の間に反射率を有し良好な結果を示した。   Moreover, about the produced anti-glare antireflection film, a spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 380 to 780 nm using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation). Since the antireflection performance is better as the reflectance is smaller in a wide wavelength region, the minimum reflectance at 450 to 650 nm is obtained from the measurement result. In the measurement, the back surface on the observation side was roughened, and then light absorption processing was performed using a black spray to prevent reflection of light on the back surface of the film, and the reflectance was measured. As a result of the measurement, all of the antiglare antireflection films had a reflectance of 0.7 to 1.2 and showed good results.

(低屈折率層塗布組成物1の調製)
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン289gとエタノール553gを混和し、これに0.15%酢酸水溶液157gを添加し、25℃のウォーターバス中で30時間攪拌することで加水分解物Aを調製した。
(Preparation of low refractive index layer coating composition 1)
<Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A>
Hydrolyzate A was prepared by mixing 289 g of tetraethoxysilane and 553 g of ethanol, adding 157 g of 0.15% aqueous acetic acid solution thereto, and stirring in a water bath at 25 ° C. for 30 hours.

テトラエトキシシラン加水分解物A 110質量部
中空シリカ系微粒子(下記P−2)分散液 30質量部
KBM503(シランカップリング剤、信越化学(株)製) 4質量部
直鎖ジメチルシリコーン−EOブロックコポリマー(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 3質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 400質量部
イソプロピルアルコール 400質量部
〈中空シリカ系微粒子P−2分散液の調製〉
平均粒径5nm、SiO2濃度20質量%のシリカゾル100gと純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として0.98質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAl23として1.02質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO2・Al23核粒子分散液を調製した。(工程(a))
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO2濃度3.5質量%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程(b))
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、さらに濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO2・Al23多孔質粒子の分散液を調製した(工程(c))。上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1,750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO228質量%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%の中空シリカ系微粒子(P−2)分散液を調製した。
Tetraethoxysilane hydrolyzate A 110 parts by mass Hollow silica-based fine particle (P-2 below) dispersion 30 parts by mass KBM503 (silane coupling agent, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 4 parts by mass Linear dimethyl silicone-EO block copolymer (FZ-2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 3 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 400 parts by mass Isopropyl alcohol 400 parts by mass <Preparation of hollow silica-based fine particle P-2 dispersion>
A mixture of 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO 2 concentration of 20% by mass and 1900 g of pure water was heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor was 10.5, and 9000 g of 0.98 mass% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of 1.02 mass% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 were simultaneously added to the mother liquor. did. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO 2 .Al 2 O 3 core particle dispersion having a solid content concentration of 20% by mass. (Process (a))
1700 g of pure water is added to 500 g of this core particle dispersion and heated to 98 ° C., and while maintaining this temperature, a silicic acid solution (SiO 2) obtained by dealkalizing a sodium silicate aqueous solution with a cation exchange resin. A dispersion of core particles in which 3000 g (concentration of 3.5% by mass) was added to form a first silica coating layer was obtained. (Process (b))
Next, 1125 g of pure water is added to 500 g of the core particle dispersion liquid that has been washed with an ultrafiltration membrane to form a first silica coating layer having a solid concentration of 13% by mass, and concentrated hydrochloric acid (35.5%) is further added dropwise. The pH was adjusted to 1.0 and dealumination was performed. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane was separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and SiO 2 · Al from which some of the constituent components of the core particles forming the first silica coating layer were removed. A dispersion of 2 O 3 porous particles was prepared (step (c)). A mixture of 1500 g of the above porous particle dispersion, 500 g of pure water, 1,750 g of ethanol, and 626 g of 28% ammonia water is heated to 35 ° C., and then 104 g of ethyl silicate (SiO 2 28 mass%) is added. The surface of the porous particle on which the first silica coating layer was formed was coated with a hydrolyzed polycondensate of ethyl silicate to form a second silica coating layer. Next, a hollow silica-based fine particle (P-2) dispersion having a solid content concentration of 20% by mass, in which the solvent was replaced with ethanol using an ultrafiltration membrane, was prepared.

この中空シリカ系微粒子の第1シリカ被覆層の厚さは3nm、平均粒径は47nm、MOx/SiO2(モル比)は0.0017、屈折率は1.28であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。 The thickness of the first silica coating layer of the hollow silica-based fine particles was 3 nm, the average particle size was 47 nm, MOx / SiO 2 (molar ratio) was 0.0017, and the refractive index was 1.28. Here, the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method.

次いで、各防眩性反射防止フィルム1〜18を用いて偏光板を作製した。   Subsequently, a polarizing plate was produced using each antiglare antireflection film 1-18.

a)偏光膜の作製
厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
a) Production of Polarizing Film A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. This was washed with water and dried to obtain a polarizing film.

b)偏光板の作製
下記工程1〜5に従って偏光膜と上記防眩性反射防止フィルム1〜18、裏面側のセルロースエステルフィルムKC8UCR−5(コニカミノルタオプト(株)製)を貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムは位相差を有するセルロースエステルフィルムであり、リターデーション値はRo=43nm、Rt=132nmであった。
b) Preparation of Polarizing Plate A polarizing plate is bonded to the antiglare antireflection film 1 to 18 and the cellulose ester film KC8UCR-5 (manufactured by Konica Minolta Opto) on the back side in accordance with the following steps 1 to 5. Was made. The polarizing plate protective film on the back side was a cellulose ester film having a retardation, and retardation values were Ro = 43 nm and Rt = 132 nm.

工程1:50℃の1モル/Lの水酸化ナトリウム溶液に60秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光膜と貼合する側を鹸化した防眩性反射防止フィルム、セルロースエステルフィルムを得た。   Process 1: Immerse in a 1 mol / L sodium hydroxide solution at 50 ° C. for 60 seconds, then wash with water and dry to obtain an antiglare antireflection film and a cellulose ester film in which the side to be bonded to the polarizing film is saponified. It was.

工程2:前記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。   Step 2: The polarizing film was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理した防眩性反射防止フィルム、セルロースエステルフィルムの上にのせて、更に反射防止層が外側になるように積層し、配置した。   Step 3: Gently wipe off the excess adhesive adhering to the polarizing film in Step 2, and place it on the antiglare antireflection film and cellulose ester film treated in Step 1, and further the antireflection layer on the outside Laminated and arranged as follows.

工程4:工程3で積層した防眩性反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料を圧力20〜30N/cm2、搬送スピードは約2m/分で貼合した。 Step 4: The antiglare antireflection film, the polarizing film, and the cellulose ester film sample laminated in Step 3 were bonded at a pressure of 20 to 30 N / cm 2 and a conveyance speed of about 2 m / min.

工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと防眩性反射防止フィルム1〜18とを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、偏光板1〜18を作製した。   Process 5: A sample obtained by bonding the polarizing film, the cellulose ester film, and the antiglare antireflection films 1 to 18 produced in Process 4 in a dryer at 80 ° C. is dried for 2 minutes to produce polarizing plates 1 to 18. did.

《液晶表示装置の作製》
液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
<Production of liquid crystal display device>
A liquid crystal panel was produced as follows, and the characteristics as a liquid crystal display device were evaluated.

市販の32型液晶テレビ(MVA型セル)の予め貼合されていた表面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板1〜18をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。   The polarizing plate of the surface previously bonded of the commercially available 32-inch liquid crystal television (MVA type cell) was peeled off, and the produced polarizing plates 1 to 18 were each bonded to the glass surface of the liquid crystal cell.

その際、その偏光板の貼合の向きは、位相差を有するセルロースエステルフィルムの面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置1〜18を各々作製した。   At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is such that the surface of the cellulose ester film having a retardation is on the liquid crystal cell side, and the absorption axis is in the same direction as the polarizing plate previously bonded. It carried out so that it might face, and produced the liquid crystal display devices 1-18, respectively.

《評価》
得られた液晶表示装置1〜18を用いて、図8で示した様な環境で観察し、前記防眩効果、ぎらつき、及び下記視認性及び動画を表示したときの黒のしまりを各々下記の基準に従い目視にて評価した。尚、照明は40W蛍光灯(松下電器製FLR40S−EX−D/M)10本を天井に設置した。また窓から外光が差し込む状態で評価した。
<Evaluation>
The obtained liquid crystal display devices 1 to 18 were observed in an environment as shown in FIG. 8, and the anti-glare effect, glare, and the blackness when displaying the following visibility and moving images were respectively shown below. Visual evaluation was made according to the criteria. In addition, 10 40W fluorescent lamps (FLR40S-EX-D / M manufactured by Matsushita Electric) were installed on the ceiling. Moreover, it evaluated in the state which external light inserts from a window.

(視認性及び動画を表示したときの黒のしまり)
前述の様に天井からは蛍光灯による人工照明と窓からの外光が差し込んでいる環境下でTV番組の動画像を同ディスプレイに表示し、比較実験を行った。ディスプレイ正面から1m離れた位置で動画像を観察し官能評価を行った。
(Visibility and black spots when displaying video)
As described above, a moving image of a TV program was displayed on the same display in an environment where artificial lighting by a fluorescent lamp and external light from a window were inserted from the ceiling, and a comparative experiment was performed. A moving image was observed at a position 1 m away from the front of the display, and sensory evaluation was performed.

5:画面上部の蛍光灯の写り込みが気にならず、画面中央部は外光があっても黒がしまって見え、観察中、観察直後においても疲れず違和感がない
4:5と3の中間
3:画面上部の蛍光灯の写り込みが僅かに認められ、画面中央部は外光があると黒がややしまりに欠け、観察後やや疲れる
2:3と1の中間
1:画面上部の蛍光灯の写り込みが認められ、画面中央部は外光の影響で黒のしまりに欠け、見ていると目が疲れる
防眩性反射防止フィルム/液晶表示装置の構成及び評価結果を下記表5に示す。
5: I don't mind the reflection of the fluorescent lamp at the top of the screen, and the center of the screen looks black even when there is external light. Middle 3: Slight reflection of fluorescent light at the top of the screen is observed, and the center of the screen is slightly tired after observation if there is external light 2: Intermediate between 1: 3 and 1: 1: Fluorescence at the top of the screen The reflection of the light is recognized, the center of the screen lacks black spots due to the influence of external light, and eyes are tired when viewed. The composition and evaluation results of the antiglare antireflection film / liquid crystal display device are shown in Table 5 below. Show.

Figure 2008250276
Figure 2008250276

上表より、本発明の防眩性反射防止フィルム、それを用いた偏光板/液晶表示装置3〜18は、実施例1と同様に防眩効果、ぎらつき、更には人工照明と窓からの外光が差し込んでいる環境下でも、黒のしまりに優れることが分かる。   From the above table, the anti-glare antireflection film of the present invention and the polarizing plate / liquid crystal display devices 3 to 18 using the anti-glare film have the same anti-glare effect and glare as in Example 1, and further from artificial lighting and windows. It can be seen that it is excellent in blacking even in an environment where external light is inserted.

接触角測定のフローである。It is a flow of contact angle measurement. 本発明に用いられるインクジェット方式に用いることのできるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the inkjet head which can be used for the inkjet system used for this invention. 本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the inkjet head part and nozzle plate which can be used by this invention. 本発明で好ましく用いることのできるインクジェット方式の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the inkjet system which can be preferably used by this invention. 凸構造部と凸構造部の無い部分の両者を透明樹脂層が覆うことで、なだらかな凹凸が形成される様子を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed a mode that gentle unevenness | corrugation was formed by covering both the convex structure part and the part without a convex structure part with a transparent resin layer. 本発明に好ましい微細凹凸構造の模式図である。It is a schematic diagram of the fine concavo-convex structure preferable for the present invention. 基材フィルム上にインクジェット方式で微細凹凸構造形成を行う方法の一例である。It is an example of a method for forming a fine concavo-convex structure on a base film by an inkjet method. 防眩性反射防止フィルムを液晶表示装置に適用した時の観察時の環境を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the environment at the time of observation when an anti-glare antireflection film is applied to a liquid crystal display device.

符号の説明Explanation of symbols

10 基材フィルム
11 基板
12 圧電素子
13 流路板
13a インク流路
13b 壁部
14 共通液室構成部材
15 インク供給パイプ
16 ノズルプレート
16a ノズル
17 駆動用回路プリント板
18 リード部
19 駆動電極
20 溝
21 保護板
22 流体抵抗
23、24 電極
25 上部隔壁
26 ヒータ
27 ヒータ電源
28 伝熱部材
29 活性光線照射部
30 インクジェットヘッド
31 液滴
32 ノズル
35 バックロール
101 積層ロール
103 第1コータ
104A〜D バックロール
105A〜D 乾燥ゾーン
107 プラズマ処理部
108 インク供給タンク
109 インクジェット出射部
110 加熱部
113 巻き取りロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Base film 11 Board | substrate 12 Piezoelectric element 13 Flow path board 13a Ink flow path 13b Wall part 14 Common liquid chamber structural member 15 Ink supply pipe 16 Nozzle plate 16a Nozzle 17 Drive circuit printed board 18 Lead part 19 Drive electrode 20 Groove 21 Protective plate 22 Fluid resistance 23, 24 Electrode 25 Upper partition wall 26 Heater 27 Heater power supply 28 Heat transfer member 29 Actinic ray irradiation unit 30 Inkjet head 31 Liquid droplet 32 Nozzle 35 Back roll 101 Laminated roll 103 First coater 104A-D Back roll 105A ~ D Drying zone 107 Plasma processing unit 108 Ink supply tank 109 Inkjet emitting unit 110 Heating unit 113 Winding roll

Claims (7)

透明基材上にインクジェット方式により微細凹凸構造が付与される防眩性フィルムの製造方法において、該微細凹凸構造は少なくとも重合性化合物及び光開始重合剤を含有し、25℃における粘度が10〜500mPa・sのインク組成物で形成されることを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。 In the method for producing an antiglare film in which a fine uneven structure is imparted by an inkjet method on a transparent substrate, the fine uneven structure contains at least a polymerizable compound and a photoinitiator polymer, and has a viscosity at 25 ° C. of 10 to 500 mPa. A method for producing an antiglare film, characterized by being formed of the ink composition of s. 前記インク組成物が60℃において粘度が5〜30mPa・sであることを特徴とする請求項1記載の防眩性フィルムの製造方法。 The method for producing an antiglare film according to claim 1, wherein the ink composition has a viscosity of 5 to 30 mPa · s at 60 ° C. 前記インク組成物が実質的に溶媒を含まないインク組成物であることを特徴とする請求項1または2に記載の防眩性フィルムの製造方法。 The method for producing an antiglare film according to claim 1 or 2, wherein the ink composition is an ink composition substantially free of a solvent. 前記インク組成物が、40℃〜80℃に保持されたインクジェットヘッドから射出されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法。 The method for producing an antiglare film according to any one of claims 1 to 3, wherein the ink composition is ejected from an inkjet head held at 40 ° C to 80 ° C. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の防眩性フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする防眩性フィルム。 An anti-glare film produced by the method for producing an anti-glare film according to claim 1. 請求項5に記載の防眩性フィルムを少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising the antiglare film according to claim 5 on at least one surface. 請求項5に記載の防眩性フィルム、または請求項6に記載の偏光板を用いたことを特徴とする表示装置。 A display device comprising the antiglare film according to claim 5 or the polarizing plate according to claim 6.
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