JP2005157037A - Antireflection film, polarizing plate and image display apparatus - Google Patents

Antireflection film, polarizing plate and image display apparatus Download PDF

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JP2005157037A JP2003396747A JP2003396747A JP2005157037A JP 2005157037 A JP2005157037 A JP 2005157037A JP 2003396747 A JP2003396747 A JP 2003396747A JP 2003396747 A JP2003396747 A JP 2003396747A JP 2005157037 A JP2005157037 A JP 2005157037A
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雅行 榑松
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film which realizes lower reflectance, by incorporating a low refractive index layer as a layer configuration containing silica fine particles having a porous or hollow inner portion, which has superior film strength, uneveness properties and contamination preventing property of the film surface, and which is to be used for a liquid crystal display apparatus. <P>SOLUTION: The antireflection film is produced, by disposing a hard coat layer essentially comprising an active energy ray curing resin on a transparent film and further disposing a (low refractive index) layer directly or indirectly on the hard coat layer. The low refractive index layer has 1.20 to 1.42 refractive index and contains at least three components of: (A) composite particles, comprising porous particles and a coating layer applied on the surfaces of the porous particles, or hollow particles having the inside filled with a solvent, gas or a porous substance; (B) a binder component; and (C) a nonionic surfactant having a hydrophobic group, comprising dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group comprising polyoxyalkylene. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、反射防止フィルム及び該反射防止フィルムを用いた偏光板および画像表示装置に関する。   The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate using the antireflection film, and an image display device.

内部が多孔質または空洞となっており、より低屈折率である、多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子であるシリカ系微粒子について、特許文献1,特許文献2,特許文献3に反射防止フィルムの光学干渉による反射防止層である低屈折率層に使用することにより低屈折率層の屈折率を更に低下させて視感反射率を低下させることが知られている。しかし、反射防止フィルムは、例えば、液晶表示装置の最表面に適用し、使用するため、透明フィルム上に設けられた活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とするハードコート層上に該低屈折率層を設けた場合、膜強度、ムラ、膜表面の防汚性の全てについて性能が不十分であることが分かった。   Porous or hollow inside, composite particles having porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles having a lower refractive index, or solvent, gas, or porous substance inside The silica-based fine particles that are the filled hollow particles are used in Patent Document 1, Patent Document 2, and Patent Document 3 for a low refractive index layer that is an antireflection layer due to optical interference of the antireflection film. It is known to further reduce the refractive index by further reducing the refractive index. However, the antireflective film is used, for example, on the outermost surface of a liquid crystal display device. It was found that the performance was insufficient for all of the film strength, unevenness, and antifouling property of the film surface.

一方、特開平9−145903号には、屈折率1.3〜1.45の超微粒子を含む電離放射線硬化樹脂組成物を主体とする低屈折率層に界面活性剤を添加すること、界面活性剤の中でも、特にフッ素系ポリマーは防汚と安定性の面で好ましいことが知られているが、膜強度、ムラに関しては、性能不十分という欠点があった。   On the other hand, in JP-A-9-145903, a surfactant is added to a low refractive index layer mainly composed of an ionizing radiation curable resin composition containing ultrafine particles having a refractive index of 1.3 to 1.45. Among the agents, it is known that a fluorine-based polymer is particularly preferable in terms of antifouling and stability, but there is a disadvantage that the film strength and unevenness are insufficient.

内部が多孔質または空洞となっており、より低屈折率であるシリカ系微粒子を含有する低屈折率層を層構成として含む、より反射率を低減した、反射防止フィルムであって膜強度、ムラ、膜表面の防汚性全てについて十分な性能を有する反射防止フィルムは未だ見いだされていない。
特開2001−167637号公報 特開2001−233611号公報 特開2002−79616号公報
An antireflection film with a reduced reflectance, including a low refractive index layer containing silica-based fine particles having a lower refractive index, which is porous or hollow inside, and has a reduced film strength and unevenness. An antireflection film having sufficient performance for all the antifouling properties of the film surface has not yet been found.
Japanese Patent Laid-Open No. 2001-167637 JP 2001-233611 A JP 2002-79616 A

本発明は、内部が多孔質または空洞であるシリカ系微粒子を含有する低屈折率層を層構成として含むことで反射率をより低減した、膜強度、ムラ、膜表面の防汚性に優れた、液晶表示装置用として使用するための反射防止フィルムを提供することにある。   The present invention includes a low-refractive index layer containing silica-based fine particles having a porous or hollow interior as a layer structure, and has improved film strength, unevenness, and antifouling property on the film surface. An object of the present invention is to provide an antireflection film for use as a liquid crystal display device.

本発明の上記目的は、は以下の手段によって達成されることを見いだした。
(請求項1)
透明フィルム上に活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とするハードコート層を設け、ハードコート層上に直接または間接に少なくとも下記(A)、(B)、(C)の3成分を含有する屈折率が1.20〜1.42の範囲にある(低屈折率)層を設けたことを特徴とする反射防止フィルム。
(A)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子
(B)バインダー成分
(C)疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤
(請求項2)
前記(B)で表されるバインダー成分が、アルコキシシランの加水分解重縮合によるゾルゲル法で形成されることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。
(請求項3)
前記アルコキシシランの50質量%以上がテトラエトキシシランであることを特徴とする請求項2に記載の反射防止フィルム。
(請求項4)
前記ハードコート層が活性エネルギー線硬化樹脂成分と金属酸化物微粒子を主成分として含有し、かつ、前記低屈折率層を、該ハードコート層上に直接設けることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
(請求項5)
前記ハードコート層が前記(C)で表される疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤を含有することを特徴とする請求項4に記載の反射防止フィルム。
(請求項6)
前記ハードコート層が、Zr、Sn、Sb、As、Zn、Nb、In、Alから選択される金属酸化物微粒子を含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
(請求項7)
前記(C)で表される疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤が、ジメチルポリシロキサンとポリオキシアルキレンが交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
(請求項8)
前記ハードコート層が2層以上の層からなり、帯電防止剤、可視光領域色調調整剤、電磁波遮断剤、赤外線吸収剤の少なくとも1つがその中の1層に添加されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
(請求項9)
前記ハードコート層が粒径0.1〜1.0μmの防眩性微粒子を含有することを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
(請求項10)
前記ハードコート層と前記低屈折率層の間に、高屈折率層を、または中屈折率層及び高屈折率層を有する場合、低屈折率層と接する層には前記(C)で表される成分が含有されることを特徴とする請求項1〜4および6〜9のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
(請求項11)
請求項1〜10のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを使用したことを特徴とする偏光板。
(請求項12)
請求項1〜10のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを使用したことを特徴とする画像表示装置。
It has been found that the above object of the present invention is achieved by the following means.
(Claim 1)
A refractive index containing at least the following three components (A), (B), and (C) directly or indirectly on a hard coat layer by providing a hard coat layer mainly composed of an active energy ray-curable resin on a transparent film. Provided with a (low refractive index) layer in the range of 1.20 to 1.42.
(A) Composite particles having porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or hollow particles filled with a solvent, gas, or porous substance inside (B) binder component (C) hydrophobic group Is a nonionic surfactant composed of dimethylpolysiloxane and hydrophilic group polyoxyalkylene (Claim 2).
The antireflective film according to claim 1, wherein the binder component represented by (B) is formed by a sol-gel method by hydrolysis polycondensation of alkoxysilane.
(Claim 3)
The antireflection film according to claim 2, wherein 50% by mass or more of the alkoxysilane is tetraethoxysilane.
(Claim 4)
The hard coat layer contains an active energy ray-curable resin component and metal oxide fine particles as main components, and the low refractive index layer is provided directly on the hard coat layer. The antireflection film according to any one of the above.
(Claim 5)
5. The hard coat layer contains a nonionic surfactant composed of dimethylpolysiloxane as a hydrophobic group represented by (C) and a polyoxyalkylene as a hydrophilic group. Antireflection film.
(Claim 6)
The hard coat layer contains metal oxide fine particles selected from Zr, Sn, Sb, As, Zn, Nb, In, and Al, according to any one of claims 1 to 5. Antireflection film.
(Claim 7)
A nonionic surfactant composed of dimethylpolysiloxane having a hydrophobic group represented by (C) and a polyoxyalkylene having a hydrophilic group is a linear form in which dimethylpolysiloxane and polyoxyalkylene are alternately and repeatedly bonded. The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflection film is a block copolymer of the following.
(Claim 8)
The hard coat layer is composed of two or more layers, and at least one of an antistatic agent, a visible light region color tone adjusting agent, an electromagnetic wave blocking agent, and an infrared absorber is added to one of the layers. The antireflection film according to any one of claims 1 to 7.
(Claim 9)
The antireflection film according to any one of claims 1 to 8, wherein the hard coat layer contains antiglare fine particles having a particle size of 0.1 to 1.0 µm.
(Claim 10)
In the case of having a high refractive index layer, or a middle refractive index layer and a high refractive index layer between the hard coat layer and the low refractive index layer, the layer in contact with the low refractive index layer is represented by (C). The antireflective film of any one of Claims 1-4 and 6-9 characterized by the above-mentioned.
(Claim 11)
A polarizing plate using the antireflection film according to claim 1.
(Claim 12)
An image display device using the antireflection film according to claim 1.

本発明により、反射率がより低減された、膜強度、ムラ、膜表面の防汚性に優れた、液晶表示装置用として好適な反射防止フィルムが得られる。   According to the present invention, an antireflection film suitable for a liquid crystal display device having a reduced reflectance, excellent film strength, unevenness, and antifouling property on the film surface can be obtained.

以下、本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.

本発明者は鋭意検討の結果、反射率を低減させ、膜強度、ムラ、膜表面の防汚性に優れた反射防止フィルムを得るには、透明フィルム上に設けた活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とするハードコート層上に内部が多孔質または空洞となっている中空球状のシリカ系微粒子と、バインダー成分、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤を成分として含有する低屈折率層を設けることが非常に好ましい結果を与えることを見出し、特にバインダー成分については、アルコキシシラン化合物を使用する場合に相乗効果が得られ、非常に有効であることを見出した。また、一般に界面活性剤として知られる各種の化合物では効果がなく、本発明の前記非イオン系界面活性剤を用いたときのみが特に好ましい。   As a result of intensive studies, the present inventor has mainly used an active energy ray curable resin provided on a transparent film in order to reduce the reflectance and obtain an antireflection film excellent in film strength, unevenness, and antifouling property of the film surface. A non-ionic system composed of hollow spherical silica-based fine particles having a porous or hollow interior on a hard coat layer as a component, a binder component, dimethylpolysiloxane with a hydrophobic group, and polyoxyalkylene with a hydrophilic group It has been found that providing a low refractive index layer containing a surfactant as a component gives very favorable results, and in particular for the binder component, a synergistic effect is obtained when using an alkoxysilane compound, which is very effective. I found out. In addition, various compounds generally known as surfactants are not effective, and are particularly preferable only when the nonionic surfactant of the present invention is used.

本発明の反射防止フィルムは、透明フィルム上に、内部が多孔質または空洞となっている、多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子を含有する低屈折率層を含む反射防止層を設けた反射防止フィルムである。   The antireflection film of the present invention is a composite particle having a porous particle and a coating layer provided on the surface of the porous particle, which is porous or hollow inside on a transparent film, or a solvent, gas inside Or an antireflection film provided with an antireflection layer including a low refractive index layer containing hollow particles filled with a porous material.

多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子については、前記の通り特開2001−167637号,特開2001−233611号,特開2002−79616号等に記載され、に反射防止フィルムの光学干渉による反射防止層である低屈折率層に使用することにより低屈折率層の屈折率を更に低下させて視感反射率を低下させることが知られている。   For composite particles having porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or hollow particles filled with a solvent, gas, or porous substance, as described above, JP-A-2001-167737, As described in JP-A-2001-233611, JP-A-2002-79616, etc., the refractive index of the low-refractive index layer is further reduced by using it as a low-refractive index layer that is an antireflection layer due to optical interference of the antireflection film. It is known to reduce the luminous reflectance.

反射防止フィルムの通常の構成に於いては、透明フィルム上に設けられた活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とするハードコート層上に低屈折率層が設けられる。また、反射防止フィルムは、例えば、液晶表示装置においても最表面に適用し使用するため、これらの多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子を含有させ低屈折率層を形成すると、低屈折率層の膜強度が不充分、また、ムラが発生しやすい、更に表面に汚れが付きやすい等の欠点があった。   In a normal configuration of the antireflection film, a low refractive index layer is provided on a hard coat layer mainly composed of an active energy ray curable resin provided on a transparent film. In addition, the antireflection film is applied to the outermost surface of, for example, a liquid crystal display device, so that these porous particles and composite particles having a coating layer provided on the surface of the porous particles, or a solvent inside, If a low refractive index layer is formed by containing hollow particles filled with gas or a porous material, the film strength of the low refractive index layer is insufficient, unevenness is likely to occur, and the surface is more likely to become dirty. There were drawbacks.

本発明者らは、このような中空球状のシリカ系微粒子を特定のバインダー成分および特定の界面活性剤と共に用いることで、前記の欠点が解消された、低屈折率層を得ることが出来ることをみいだした。   By using such hollow spherical silica-based fine particles together with a specific binder component and a specific surfactant, the present inventors can obtain a low refractive index layer in which the above disadvantages are eliminated. I found it.

本発明に係わる反射防止フィルムは、透明フィルム上に少なくとも下記の3成分を含有する屈折率が1.20〜1.42の低屈折率層が設けられたものである。
(A)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子
(B)バインダー成分
(C)疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤
以下、順次説明する。
In the antireflection film according to the present invention, a low refractive index layer having a refractive index of 1.20 to 1.42 containing at least the following three components is provided on a transparent film.
(A) Composite particles having porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or hollow particles filled with a solvent, gas, or porous substance inside (B) binder component (C) hydrophobic group Is a nonionic surfactant composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene.

前記(A)で表される多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子について説明する。   The composite particles having the porous particles represented by (A) and the coating layer provided on the surface of the porous particles, or the hollow particles filled with a solvent, gas, or porous substance will be described.

無機微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。   The inorganic fine particle is (I) a composite particle comprising a porous particle and a coating layer provided on the surface of the porous particle, or (II) a cavity inside, and the content is a solvent, a gas or a porous substance It is a hollow particle filled with. The low refractive index layer may contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or may contain both.

尚、空洞粒子は、内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質などの内容物で充填されている。この様な無機微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される無機微粒子は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層などの透明被膜の膜厚の2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)が好ましい。   The hollow particles are particles having cavities inside, and the cavities are surrounded by particle walls. The cavity is filled with a content such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle diameter of such inorganic fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The inorganic fine particles used are appropriately selected according to the thickness of the transparent film to be formed, and may be in the range of 2/3 to 1/10 of the film thickness of the transparent film such as the low refractive index layer to be formed. desirable. These inorganic fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), and ketone alcohol (for example, diacetone alcohol) are preferable.

複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することが出来ないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマーなどが容易に複合粒子の内部に内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持出来ないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, if the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and silicate monomers and oligomers with a low degree of polymerization, which are coating liquid components described later, are easy. In some cases, the inside of the composite particle enters the inside and the porosity of the inside is reduced, so that the effect of the low refractive index cannot be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, if the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. is there.

前記複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁には、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3などが挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgFなどからなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等との1種または2種以上を挙げることが出来る。この様な多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表したときのモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、更に屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. The coating layer of the composite particle or the particle wall of the hollow particle may contain a component other than silica, specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2. and CeO 2, P 2 O 3, Sb 2 O 3, MoO 3, ZnO 2, WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MO X / SiO 2 when the silica is represented by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is represented by oxide (MO x ) is 0.0001 to 1.0, Preferably it is in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MO X / SiO 2 of less than 0.0001. Even if it is obtained, particles having a small pore volume and a low refractive index cannot be obtained. In addition, when the molar ratio MO X / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it is difficult to obtain a material having a lower refractive index. is there.

この様な多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.

尚、この様な多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることが出来る。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質などが挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒などが含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例示した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   Incidentally, the pore volume of such porous particles can be obtained by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous material used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used in preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Moreover, what consists of the compound illustrated by the said porous particle as a porous substance is mentioned. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

この様な無機微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第1〜第3工程から無機化合物粒子は製造される。   As a method for producing such inorganic fine particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed. Specifically, when the composite particles are composed of silica and an inorganic compound other than silica, the inorganic compound particles are produced from the following first to third steps.

第1工程:多孔質粒子前駆体の調製
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
First Step: Preparation of Porous Particle Precursor In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica are prepared in advance. A mixed aqueous solution is prepared, and this aqueous solution is gradually added to an aqueous alkaline solution having a pH of 10 or more while stirring according to the composite ratio of the target composite oxide to prepare a porous particle precursor.

シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム(水ガラス)やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩などの第4級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミン類を挙げることが出来る。尚、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第4級アンモニウム水酸化物、アミン化合物などを添加したアルカリ性溶液も含まれる。   As the silica raw material, alkali metal, ammonium or organic base silicate is used. Sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used as the alkali metal silicate. Examples of the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The ammonium silicate or the organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound or the like to a silicic acid solution.

また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Al、B、Ti、Zr、Sn、Ce、P、Sb、Mo、Zn、Wなどから選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩を挙げることが出来る。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。   In addition, alkali-soluble inorganic compounds are used as raw materials for inorganic compounds other than silica. Specifically, an oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc., an alkali metal salt or alkaline earth metal salt of the oxo acid, ammonium Salts and quaternary ammonium salts. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, zirconyl ammonium carbonate, potassium antimonate, potassium stannate, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, cerium ammonium nitrate, and sodium phosphate are suitable.

これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のpH値は変化するが、このpH値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるpH値となる。このときの水溶液の添加速度にはとくに制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。当該シード粒子としては、特に制限はないが、SiO2、Al23、TiO2またはZrO2等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることが出来る。更に前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のpHを10以上に調整したのち、該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のpH制御を行う必要はない。この様にして、シード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることが出来る。 Although the pH value of the mixed aqueous solution changes simultaneously with the addition of these aqueous solutions, an operation for controlling the pH value within a predetermined range is not particularly required. The aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction | limiting in particular in the addition rate of the aqueous solution at this time. Further, in the production of composite oxide particles, a dispersion of seed particles can be used as a starting material. The seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used. Usually, these sols are used. I can do it. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion. When the seed particle dispersion is used, the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or more, and then the aqueous solution of the compound is added to the above-described alkaline aqueous solution while stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion. In this way, when seed particles are used, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles having a uniform particle size can be obtained.

上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいpH領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオンなどのオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、或いは、シード粒子上に析出して粒子成長が起る。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなpH制御は必ずしも行う必要がない。   The silica raw material and the inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side. However, when both are mixed in this highly soluble pH region, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into fine particles, or seed particles. It grows on the top and particle growth occurs. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of fine particles.

第1工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物(MOX)に換算し、MOX/SiO2のモル比が、0.05〜2.0、好ましくは0.2〜2.0の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が2.0を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が0.05未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、MOX/SiO2のモル比は、0.25〜2.0の範囲内にあることが望ましい。 The composite ratio of the silica and the inorganic compound other than silica in the first step is calculated by converting the inorganic compound to silica into an oxide (MO X ), and the molar ratio of MO X / SiO 2 is 0.05 to 2.0, Preferably it is in the range of 0.2-2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the proportion of silica decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small. When preparing the hollow particles, the molar ratio of MO X / SiO 2 is desirably in the range of 0.25 to 2.0.

第2工程:多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、或いは、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
Second step: Removal of inorganic compound other than silica from porous particles In the second step, inorganic compounds other than silica (elements other than silicon and oxygen) are obtained from the porous particle precursor obtained in the first step. At least a portion is selectively removed. As a specific removal method, the inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.

尚、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。この様に多孔質粒子前駆体から無機化合物(珪素と酸素以外の元素)を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物(珪素と酸素以外の元素)を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することが出来る。   The porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded via oxygen. By removing the inorganic compound (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor in this way, porous particles having a larger porosity and a larger pore volume can be obtained. Further, if the amount of removing the inorganic oxide (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be prepared.

また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られるケイ酸液或いは加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは0.5〜15nmの厚さであればよい。尚シリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。   In addition, prior to removing inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor, a silicic acid solution obtained by removing the alkali metal salt of silica from the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. Alternatively, it is preferable to form a silica protective film by adding a hydrolyzable organosilicon compound. The thickness of the silica protective film may be 0.5 to 15 nm. Even if the silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so that it is possible to remove inorganic compounds other than silica described above from the porous particle precursor.

この様なシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することが出来る。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することが出来る。尚、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので必ずしも保護膜を形成する必要はない。   By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than the silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Further, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. I can do it. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, the particles are not broken, and thus it is not always necessary to form a protective film.

また空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。   When preparing hollow particles, it is desirable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor composed of a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid content. When a coating layer to be described later is formed on the precursor, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.

上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持出来る範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多すぎると、シリカ保護膜が厚くなりすぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、一般式RnSi(OR′)4-n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The amount of the silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica protective film formed of the general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, such as acrylic group An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the porous particles, and the alkoxysilane is hydrolyzed. The produced silicic acid polymer is deposited on the surface of the inorganic oxide particles. At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。尚、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。   When the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or when the ratio of water to the organic solvent is high, a silica protective film can be formed using a silicic acid solution. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, you may produce a silica protective film together using a silicic acid liquid and the said alkoxysilane.

第3工程:シリカ被覆層の形成
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
Third Step: Formation of Silica Coating Layer In the third step, a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution is added to the porous particle dispersion prepared in the second step (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor dispersion). Etc. is added to coat the surface of the particles with a polymer such as a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution to form a silica coating layer.

シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式RnSi(OR′)4-n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica coating layer formed, the above-mentioned such general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, A hydrocarbon group such as an acryl group or an alkoxysilane represented by n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is used as a dispersion of the porous particles (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor). In addition, the silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の分散媒が水単独、または有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。   When the dispersion medium of porous particles (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor) is water alone or a mixed solvent with an organic solvent and the mixed solvent has a high ratio of water to the organic solvent, a silicate solution You may form a coating layer using. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low silicic acid polymer obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.

ケイ酸液は、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)表面に沈着させる。尚、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆出来る程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが1〜20nmとなるように量で、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが1〜20nmの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。   The silicic acid solution is added to the dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors), and at the same time, alkali is added to make the low-silicic acid polymer into porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). ) Deposit on the surface. A silicic acid solution may be used in combination with the alkoxysilane for forming a coating layer. The addition amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer only needs to be sufficient to cover the surface of the colloidal particles, and the finally obtained silica coating layer has a thickness of 1 to 20 nm. In such an amount, it is added in a dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor) in a dispersion. When the silica protective film is formed, the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 20 nm.

次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。   Next, the dispersion liquid of the particles on which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained. In the case of a hollow particle precursor, the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.

このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞出来る程度であれば特に制限はなく、80〜300℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が80℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化出来ないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が300℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率の効果が得られないことがある。   The heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C. When the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time. Further, when the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, fine particles may be formed, and the effect of low refractive index may not be obtained.

この様にして得られた無機微粒子の屈折率は、1.42未満と低い。この様な無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。   The refractive index of the inorganic fine particles thus obtained is as low as less than 1.42. Such inorganic fine particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow.

次いで、(B)バインダー成分について説明する。   Next, (B) the binder component will be described.

低屈折率層のバインダーマトリックスとしては、熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう)が好ましく用いられる。   As the binder matrix of the low refractive index layer, a fluorine-containing resin that is crosslinked by heat or ionizing radiation (hereinafter also referred to as “fluorine-containing resin before crosslinking”) is preferably used.

架橋前の含フッ素樹脂としては、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることが出来る。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えば、ビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。   Preferred examples of the fluorine-containing resin before crosslinking include a fluorine-containing copolymer formed from a fluorine-containing vinyl monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group. Specific examples of the fluorine-containing vinyl monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3 -Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (produced by Osaka Organic Chemicals) or M-2020 (produced by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. Is mentioned.

架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内に予め架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー(例えば、(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等)が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう1つ以上の反応性基をもつ化合物を加えることにより、架橋構造を導入出来ることが特開平10−25388号、同10−147739号に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、若しくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤若しくはエポキシ基と熱酸発生剤等の相み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤若しくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光(好ましくは紫外線、電子ビーム等)の照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。   As monomers for imparting a crosslinkable group, glycidyl methacrylate, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, vinyl glycidyl ether, and other vinyl monomers having a crosslinkable functional group in advance in the molecule. , Vinyl monomers having a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, sulfonic acid group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyalkyl vinyl ether, hydroxyalkyl allyl) Ether, etc.). The latter can introduce a cross-linked structure by adding a compound having a group that reacts with a functional group in the polymer and another reactive group after copolymerization. No. 147739. Examples of the crosslinkable group include acryloyl, methacryloyl, isocyanate, epoxy, aziridine, oxazoline, aldehyde, carbonyl, hydrazine, carboxyl, methylol, and active methylene group. When the fluorine-containing copolymer is cross-linked by heating by a cross-linking group that reacts by heating, or a combination of an ethylenically unsaturated group and a thermal radical generator or an epoxy group and a thermal acid generator, the thermosetting type In the case of crosslinking by irradiation with light (preferably ultraviolet rays, electron beams, etc.) by a combination of an ethylenically unsaturated group and a photo radical generator, or an epoxy group and a photo acid generator, etc., it is an ionizing radiation curable type .

また上記モノマー加えて、含フッ素ビニルモノマー及び架橋性基付与のためのモノマー以外のモノマーを併用して形成された含フッ素共重合体を架橋前の含フッ素樹脂として用いてもよい。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることが出来る。また、含フッ素共重合体中に、滑り性、防汚性付与のため、ポリオルガノシロキサン骨格や、パーフルオロポリエーテル骨格を導入することも好ましい。これは、例えば末端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと上記のモノマーとの重合、末端にラジカル発生基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルによる上記モノマーの重合、官能基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと、含フッ素共重合体との反応等によって得られる。   Further, in addition to the above monomers, a fluorine-containing copolymer formed by using a monomer other than the fluorine-containing vinyl monomer and the monomer for imparting a crosslinkable group may be used as the fluorine-containing resin before crosslinking. The monomer that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether) Etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, Ronitoriru derivatives and the like can be mentioned. In addition, it is also preferable to introduce a polyorganosiloxane skeleton or a perfluoropolyether skeleton into the fluorinated copolymer in order to impart slipperiness and antifouling properties. For example, polyorganosiloxane or perfluoropolyether having an acrylic group, methacrylic group, vinyl ether group, styryl group or the like at the terminal is polymerized with the above monomer, and polyorganosiloxane or perfluoropolyester having a radical generating group at the terminal. It can be obtained by polymerization of the above monomers with ether, reaction of a polyorganosiloxane or perfluoropolyether having a functional group with a fluorine-containing copolymer, or the like.

架橋前の含フッ素共重合体を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合は、含フッ素ビニルモノマーが好ましくは20〜70モル%、より好ましくは40〜70モル%、架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは1〜20モル%、より好ましくは5〜20モル%、併用されるその他のモノマーが好ましくは10〜70モル%、より好ましくは10〜50モル%の割合である。   The proportion of each of the above monomers used to form the fluorinated copolymer before crosslinking is preferably 20 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol% of the fluorinated vinyl monomer. The amount of the monomer is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 5 to 20 mol%, and the other monomer used in combination is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%.

含フッ素共重合体は、これらモノマーをラジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合法等の手段により重合することにより得ることが出来る。   The fluorine-containing copolymer can be obtained by polymerizing these monomers in the presence of a radical polymerization initiator by means such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization.

架橋前の含フッ素樹脂は、市販されており使用することが出来る。市販されている架橋前の含フッ素樹脂の例としては、サイトップ(旭硝子製)、テフロン(R)AF(デュポン製)、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン(旭硝子製)、オプスター(JSR製)、等が挙げられる。   The fluorine-containing resin before crosslinking is commercially available and can be used. Examples of commercially available fluorine-containing resins before cross-linking include Cytop (Asahi Glass), Teflon (R) AF (DuPont), polyvinylidene fluoride, Lumiflon (Asahi Glass), OPSTAR (JSR), etc. Can be mentioned.

架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低屈折率層は、動摩擦係数が0.03〜0.15の範囲、水に対する接触角が90〜120度の範囲にあることが好ましい。   The low refractive index layer containing a cross-linked fluororesin as a constituent component preferably has a dynamic friction coefficient in the range of 0.03 to 0.15 and a contact angle with water in the range of 90 to 120 degrees.

また、他の低屈折率層用のバインダーマトリックスとして、各種ゾルゲル素材を用いることも出来る。この様なゾルゲル素材としては、金属アルコレート(シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート)、オルガノアルコキシ金属化合物及びその加水分解物を用いることが出来る。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解重縮合物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等)、アルキルトリアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等)、アリールトリアルコキシシラン(フェニルトリメトキシシラン等)、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン(ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−(3,4−エポキジシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等)、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等)、フルオロアルキルエーテル基含有シラン化合物を用いることも好ましい。フッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましい。   Various sol-gel materials can also be used as a binder matrix for other low refractive index layers. As such a sol-gel material, metal alcoholates (alcohols such as silane, titanium, aluminum, and zirconium), organoalkoxy metal compounds, and hydrolysates thereof can be used. In particular, alkoxysilane, organoalkoxysilane and its hydrolysis polycondensate are preferable. Examples of these include tetraalkoxysilane (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc.), alkyltrialkoxysilane (methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, etc.), aryltrialkoxysilane (phenyltrimethoxysilane, etc.), dialkyl. Examples thereof include dialkoxysilane and diaryl dialkoxysilane. In addition, organoalkoxysilanes having various functional groups (vinyl trialkoxysilane, methylvinyl dialkoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrialkoxysilane, γ-glycidyloxypropylmethyl dialkoxysilane, β- (3,4-epoxy) Dicyclohexyl) ethyltrialkoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrialkoxysilane, γ-aminopropyltrialkoxysilane, γ-mercaptopropyltrialkoxysilane, γ-chloropropyltrialkoxysilane, etc.), perfluoroalkyl group-containing silane compounds ( For example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, etc.), containing fluoroalkyl ether group It is also preferable to use a run-compound. Use of a fluorine-containing silane compound is preferable in terms of lowering the refractive index of the layer and imparting water and oil repellency.

上記のうち、アルコキシシラン化合物の加水分解重縮合物が特に好ましく、アルコキシシラン化合物の中でもテトラエトキシシランが更に好ましく、用いるアルコキシシラン化合物のうち、50%以上がテトラエトキシシランであることが最も好ましい。   Of the above, hydrolysis polycondensates of alkoxysilane compounds are particularly preferred, and among the alkoxysilane compounds, tetraethoxysilane is more preferred, and among the alkoxysilane compounds used, 50% or more is most preferably tetraethoxysilane.

低屈折率層は、5〜50質量%の量のバインダー成分を含むことが好ましい。バインダーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持出来るように調整する。バインダーとなるポリマーの量は、低屈折率層の全量の10〜30質量%であることが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するためには、下記(1)のような微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、(2)微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成することも好ましい。(2)のシェルポリマーは、低屈折率層の塗布液の調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成することが好ましい。また、前記(B)で表されるバインダー成分は、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重合反応により形成してもよい。(1)表面処理、(2)シェルについて順次説明する。   The low refractive index layer preferably contains a binder component in an amount of 5 to 50% by mass. The binder has a function of adhering fine particles and maintaining the structure of the low refractive index layer including voids. The usage-amount of a binder is adjusted so that the intensity | strength of a low refractive index layer can be maintained, without filling a space | gap. The amount of the polymer serving as the binder is preferably 10 to 30% by mass of the total amount of the low refractive index layer. In order to adhere the fine particles with the polymer, it is also preferable to bond the polymer to a surface treatment agent for fine particles as shown in (1) below, or (2) to form a polymer shell around the fine particles as a core. The shell polymer (2) is preferably formed around the fine particles by a polymerization reaction before preparing the coating solution for the low refractive index layer. The binder component represented by (B) may be formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer and performing a polymerization reaction simultaneously with or after coating the low refractive index layer. (1) Surface treatment and (2) Shell will be described sequentially.

(1)表面処理
本発明に係わる複合粒子、或いは空洞粒子にも、表面処理を実施して、ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類出来る。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。微粒子がSiO2からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理が特に有効に実施出来る。具体的なシランカップリング剤の例としては、後述するシランカップリング剤が好ましく用いられる。
(1) Surface treatment It is preferable to improve the affinity with the polymer by subjecting the composite particles or hollow particles according to the present invention to a surface treatment. The surface treatment can be classified into physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, and chemical surface treatment using a coupling agent. It is preferable to carry out only chemical surface treatment or a combination of physical surface treatment and chemical surface treatment. As the coupling agent, an organoalkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Particles when made of SiO 2, surface treatment with a silane coupling agent can be particularly effectively conducted. As a specific example of the silane coupling agent, a silane coupling agent described later is preferably used.

カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施出来る。表面処理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、またはこれらの塩(例えば、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。   The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the fine particle dispersion and allowing the dispersion to stand at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (for example, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.

(2)シェル
本発明に係わる複合粒子、或いは空洞粒子に対しシェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に含むポリマーが更に好ましい。ポリアクリル酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好ましく、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリメタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリマーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるため、シェルポリマーは35〜80質量%のフッ素原子を含むことが好ましく、45〜75質量%のフッ素原子を含むことが更に好ましい。フッ素原子を含むポリマーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例としては、フルオロオレフィン(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、フッ素化ビニルエーテル及びフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが挙げられる。
(2) Shell The polymer that forms a shell for the composite particles or the hollow particles according to the present invention is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain. A polymer containing a fluorine atom in the main chain or side chain is preferred, and a polymer containing a fluorine atom in the side chain is more preferred. Polyacrylic acid esters or polymethacrylic acid esters are preferred, and esters of fluorine-substituted alcohols with polyacrylic acid or polymethacrylic acid are most preferred. The refractive index of the shell polymer decreases as the content of fluorine atoms in the polymer increases. In order to lower the refractive index of the low refractive index layer, the shell polymer preferably contains 35 to 80% by mass of fluorine atoms, and more preferably contains 45 to 75% by mass of fluorine atoms. The polymer containing a fluorine atom is preferably synthesized by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers containing fluorine atoms include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), Mention may be made of esters of fluorinated vinyl ethers and fluorine-substituted alcohols with acrylic acid or methacrylic acid.

シェルを形成するポリマーは、フッ素原子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの例としては、オレフィン(例えば、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステル(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル(例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート)、スチレン及びその誘導体(例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン)、ビニルエーテル(例えば、メチルビニルエーテル)、ビニルエステル(例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル)、アクリルアミド(例えば、N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド)、メタクリルアミド及びアクリロニトリルが挙げられる。   The polymer forming the shell may be a copolymer composed of a repeating unit containing a fluorine atom and a repeating unit not containing a fluorine atom. The repeating unit containing no fluorine atom is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing no fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers that do not contain fluorine atoms include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylic acid esters (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylic acid esters (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene and its derivatives (for example, styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ether ( For example, methyl vinyl ether), vinyl esters (for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamide (for example, N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylic) Amides), methacrylamide and acrylonitrile.

前記(B)のバインダー成分を用いる場合、シェルポリマーに架橋性官能基を導入して、シェルポリマーとバインダー成分を構成するポリマーとを架橋により化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温度(Tg)が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。但し、Tgが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されない(その結果、強度が低下する)場合がある。その場合は、前記(B)で表されるバインダー成分となるポリマーを併用し、バインダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微粒子中に無機微粒子からなるコアが5〜90体積%含まれていることが好ましく、15〜80体積%含まれていることが更に好ましい。二種類以上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェルのない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよい。   When the binder component (B) is used, a crosslinkable functional group may be introduced into the shell polymer to chemically bond the shell polymer and the polymer constituting the binder component by crosslinking. The shell polymer may have crystallinity. When the glass transition temperature (Tg) of the shell polymer is higher than the temperature at the time of forming the low refractive index layer, it is easy to maintain microvoids in the low refractive index layer. However, if Tg is higher than the temperature at which the low refractive index layer is formed, the fine particles are not fused, and the low refractive index layer may not be formed as a continuous layer (resulting in a decrease in strength). In that case, it is desirable to use together the polymer used as the binder component represented by (B), and form the low refractive index layer as a continuous layer with the binder polymer. By forming a polymer shell around the fine particles, core-shell fine particles are obtained. The core-shell fine particles preferably contain 5 to 90% by volume of a core composed of inorganic fine particles, and more preferably 15 to 80% by volume. Two or more kinds of core-shell fine particles may be used in combination. Further, inorganic fine particles having no shell and core-shell particles may be used in combination.

バインダー成分となるポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に重合反応(必要ならば更に架橋反応)により形成することが好ましい。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー(例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂)を添加してもよい。   The polymer serving as the binder component is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer, and at the same time as or after coating the low refractive index layer, by a polymerization reaction (further, if necessary). Even if a small amount of polymer (for example, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin) is added to the coating solution for the low refractive index layer Good.

次に、前記(C)で表される疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤について説明する。   Next, the nonionic surfactant in which the hydrophobic group represented by (C) is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene will be described.

非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン)等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン鎖)が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。   A nonionic surfactant is a generic term for a system surfactant that does not have a group capable of dissociating into ions in an aqueous solution. In addition to a hydrophobic group, a hydrophilic group includes a hydroxyl group of a polyhydric alcohol, a polyoxyalkylene chain ( Polyoxyethylene) or the like as a hydrophilic group. The hydrophilicity becomes stronger as the number of alcoholic hydroxyl groups increases and as the polyoxyalkylene chain (polyoxyethylene chain) becomes longer. The nonionic surfactant according to the present invention is characterized by having dimethylpolysiloxane as a hydrophobic group.

疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、前記の低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191等が挙げられる。
When a nonionic surfactant composed of a dimethylpolysiloxane having a hydrophobic group and a polyoxyalkylene having a hydrophilic group is used, the unevenness of the low refractive index layer and the antifouling property of the film surface are improved. It is thought that the hydrophobic group made of polymethylsiloxane is oriented on the surface and forms a film surface that is not easily soiled. This effect cannot be obtained by using other surfactants.
Specific examples of these nonionic surfactants include, for example, Nippon Unicar Co., Ltd., silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ- 2163, FZ-2164, FZ-2166, FZ-2191 and the like.

また、SUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を1つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。
Also, SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805
In addition, as a preferable structure of the nonionic surfactant in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene, a dimethylpolysiloxane structure portion and a polyoxyalkylene chain are alternately and repeatedly bonded. It is preferably a linear block copolymer. Since the main chain skeleton has a long chain length and a linear structure, it is excellent. This is considered to be due to the fact that one activator molecule can be adsorbed on the surface of the silica fine particle at a plurality of locations so as to cover the surface of the silica fine particle by being a block copolymer in which hydrophilic groups and hydrophobic groups are alternately repeated.

これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー(株)製、シリコーン界面活性剤 ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208等が挙げられる。   Specific examples thereof include, for example, silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208 and the like manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.

他のアニオン系、カチオン系或いは他の非イオン系界面活性剤を用いて、前記多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子を分散し、低屈折率層を形成する場合に発生し易い、塗布ムラは、単にムラにとどまらず、防汚性、反射性能等にも大きな影響を与えるが、本発明に係わるこれらの非イオン界面活性剤を用いることにより、これらのムラは実質的に解消されるものである。   Using other anionic, cationic or other nonionic surfactants, composite particles having the porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or a solvent, gas or porous inside Dispersion of hollow particles filled with a substance, which tends to occur when forming a low refractive index layer, coating unevenness is not just unevenness, but also greatly affects antifouling properties, reflection performance, etc. By using these nonionic surfactants according to the present invention, these unevennesses are substantially eliminated.

しかしながら、他の界面活性剤も併用して用いても良く、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用しても良く、また、フッ素含有界面活性剤等を用いても良い。   However, other surfactants may be used in combination, and as appropriate, for example, anionic surfactants such as sulfonates, sulfates, phosphates, etc., and polyoxyethylene chain hydrophilic groups A nonionic surfactant such as an ether type or an ether ester type may be used in combination, or a fluorine-containing surfactant may be used.

本発明に係る前記低屈折率層は、ガラス、ポリカーボネート、アクリル樹脂、PET、TAC等のプラスチックシート、プラスチックフィルム等の基材の表面に形成することが出来る。用途によって異なるが低屈折率層被膜は、これらの基材上に、単独であるいは保護膜、ハードコート膜、高屈折率膜、絶縁膜、導電性樹脂膜、導電性金属微粒子膜、導電性金属酸化物微粒子膜、その他必要に応じて用いるプライマー膜等と組み合わせて形成される。このような低屈折率層被膜は、後述する塗布液をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法などの周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、更に必要に応じて、焼成して得ることができる。   The low refractive index layer according to the present invention can be formed on the surface of a substrate such as glass, polycarbonate, acrylic resin, a plastic sheet such as PET or TAC, or a plastic film. Depending on the application, the low-refractive-index layer coating is formed on these substrates, either alone or as a protective film, hard coat film, high-refractive index film, insulating film, conductive resin film, conductive metal fine particle film, conductive metal. It is formed in combination with an oxide fine particle film, a primer film used if necessary, and the like. Such a low refractive index layer coating is applied to a base material by a known method such as a dipping method, a spray method, a spinner method, a roll coating method, etc., dried, and further fired as necessary. Can be obtained.

上記塗布液は、前記した(A)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子分散液(ゾル)と被膜形成用の(B)バインダー成分、及び(C)疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤との混合液であり、必要により有機溶媒が混合されることもある。被膜形成用バインダー成分(マトリックス)は、前記の基材の表面に被膜を形成し得る成分をいい、前記の熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂或いは、アルコキシシラン及びその加水分解重縮合物、中でもテトラエトキシシランのようなゾルゲル素材が好ましい。   The coating solution is a composite particle having the above-described (A) porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or a hollow particle dispersion (inside, filled with a solvent, gas, or porous substance) Sol) and (B) binder component for film formation, and (C) a nonionic surfactant composed of dimethylpolysiloxane with hydrophobic group and polyoxyalkylene with hydrophilic group, and if necessary An organic solvent may be mixed. The film-forming binder component (matrix) refers to a component capable of forming a film on the surface of the base material, the fluorine-containing resin that is crosslinked by the heat or ionizing radiation, or alkoxysilane and its hydrolysis polycondensate, Among them, a sol-gel material such as tetraethoxysilane is preferable.

本発明に係わる多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子の分散ゾルを分散媒としての水をアルコール等の有機溶媒で置換した有機溶媒分散ゾルと、必要に応じて前記複合粒子、或いは空洞粒子を公知のカップリング剤で処理した後、マトリックスとして、バインダー樹脂を適当な有機溶剤で希釈して、また、前記非イオン系界面活性剤を加え塗布液とすることができる。   A composite particle having a porous particle according to the present invention and a coating layer provided on the surface of the porous particle, or a dispersion sol of hollow particles filled with a solvent, a gas, or a porous substance therein, and water as a dispersion medium After treating the composite particles or hollow particles with a known coupling agent as necessary, the binder resin is diluted with a suitable organic solvent as a matrix. In addition, the nonionic surfactant can be added to form a coating solution.

一方、バインダー樹脂(マトリックス)としてアルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物を用いる場合には、例えば、アルコキシシランとアルコールの混合液に、水および触媒としての酸またはアルカリを加えることにより、アルコキシシランの部分加水分解物を得て、これに前記多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子の分散ゾル、そして前記非イオン系界面活性剤を混合し、必要に応じて有機溶剤で希釈して、塗布液とすることができる。   On the other hand, when using a hydrolyzable organosilicon compound such as alkoxysilane as the binder resin (matrix), for example, by adding water or an acid or alkali as a catalyst to a mixture of alkoxysilane and alcohol, the alkoxysilane Of the above-mentioned porous particles and composite particles having a coating layer provided on the surface of the porous particles, or hollow particles filled with a solvent, gas, or porous substance inside The dispersion sol and the nonionic surfactant can be mixed and diluted with an organic solvent as necessary to obtain a coating solution.

前記(C)疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリアルキレンオキサイドから構成される非イオン系の界面活性剤は、前記の混合のどの過程で加えてもよい。これらの界面活性剤の添加により、シリカ系微粒子/マトリックスにおいて、安定な分散系が形成されるので部分的な凝集等によるムラがなく、均一な膜形成が可能となる。これらの効果は他の界面活性剤によっては得られない。これらのシリカ系微粒子/マトリックス中に於いて、前記(C)で表される界面活性剤の量は、低屈折率塗布組成物(固形分)に対し、0.001〜5質量部が好ましく、特に好ましい配合割合は0.003〜3質量部である。   The nonionic surfactant (C) in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyalkylene oxide may be added in any process of the mixing. By adding these surfactants, a stable dispersion is formed in the silica-based fine particles / matrix, so that there is no unevenness due to partial aggregation and the like, and a uniform film can be formed. These effects cannot be obtained with other surfactants. In these silica-based fine particles / matrix, the amount of the surfactant represented by (C) is preferably 0.001 to 5 parts by mass with respect to the low refractive index coating composition (solid content). A particularly preferable blending ratio is 0.003 to 3 parts by mass.

塗布液中のシリカ系微粒子とマトリックスの質量割合は、シリカ系微粒子/マトリックス=1/99〜9/1の範囲が好ましい。質量比が9/1を越えると被膜の強度が不足して実用性に欠ける一方、1/99未満では当該シリカ系微粒子の添加効果が現れない。上記基材の表面に形成される被膜の屈折率は、シリカ系微粒子とバインダー成分(マトリックス成分)等の混合比率および使用するマトリックスの屈折率によっても異なるが、1..20〜1.42と低屈折率となる。なお、本発明のシリカ系微粒子自体の屈折率は、1.20〜1.38であった。これは、分散媒が空洞内に入り込んでも被膜乾燥時に分散媒が脱離して空隙となると共に、外殻が微細孔を有しかつ外殻の厚さが前述の範囲に制御されているため、樹脂等の被膜形成成分は外殻に止まり、樹脂が硬化した後は外殻の細孔が遮断されてシリカ系微粒子内部の空洞が保持されるからである。   The mass ratio of the silica-based fine particles and the matrix in the coating solution is preferably in the range of silica-based fine particles / matrix = 1/99 to 9/1. If the mass ratio exceeds 9/1, the strength of the coating is insufficient and lacks practicality, while if it is less than 1/99, the effect of adding the silica-based fine particles does not appear. The refractive index of the coating film formed on the surface of the base material varies depending on the mixing ratio of the silica-based fine particles and the binder component (matrix component) and the refractive index of the matrix used. . The refractive index is 20 to 1.42. The refractive index of the silica-based fine particles themselves of the present invention was 1.20 to 1.38. This is because even when the dispersion medium enters the cavity, the dispersion medium is detached and becomes voids when the coating is dried, and the outer shell has micropores and the thickness of the outer shell is controlled within the above range. This is because the film-forming component such as resin stays in the outer shell, and after the resin is cured, the pores of the outer shell are blocked and the cavities inside the silica-based fine particles are retained.

さらに、反射防止層を形成する基材の屈折率が1.60以下の場合には、基材表面に屈折率が1.60以上の被膜(以下、中間被膜という。)を形成した上で、前記本発明のシリカ系微粒子を含む被膜を形成することが推奨される。中間被膜の屈折率が1.60以上であれば前記本発明のシリカ系微粒子を含む被膜の屈折率との差が大きく反射防止性能に優れた被膜付基材が得られる。中間被膜の屈折率は、用いる金属酸化物微粒子の種類、金属酸化物と樹脂等の混合比率および使用する樹脂の屈折率によって調整することができる。中間被膜の被膜形成用塗布液は、金属酸化物粒子と被膜形成用マトリックスとの混合液であり、必要により有機溶媒が混合される。被膜形成用マトリックスとしては前記本発明のシリカ系微粒子を含む被膜と同様のものを用いることができ、同一の被膜形成用マトリックスを用いることにより、両被膜間の密着性に優れた被膜付基材が得られる。   Furthermore, when the refractive index of the base material forming the antireflection layer is 1.60 or less, a film having a refractive index of 1.60 or more (hereinafter referred to as an intermediate film) is formed on the surface of the base material. It is recommended to form a film containing the silica-based fine particles of the present invention. If the refractive index of the intermediate coating is 1.60 or more, a coated substrate having a large difference from the refractive index of the coating containing silica-based fine particles of the present invention and excellent antireflection performance can be obtained. The refractive index of the intermediate coating can be adjusted by the type of metal oxide fine particles used, the mixing ratio of metal oxide and resin, and the refractive index of the resin used. The coating solution for forming an intermediate coating is a mixed solution of metal oxide particles and a matrix for forming a coating, and an organic solvent is mixed as necessary. As the film forming matrix, the same film as that containing the silica-based fine particles of the present invention can be used. By using the same film forming matrix, the coated substrate having excellent adhesion between the two films Is obtained.

本発明に係る前記低反射層が塗設される、基材(フィルム)について説明する。   The substrate (film) on which the low reflective layer according to the present invention is coated will be described.

当該基材としては、ガラス、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セルロースエステル、中でも、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のプラスチックフィルム、また、プラスチックレンズ、プラスチックパネル等の基材、陰極線管、蛍光表示管、液晶表示板等の基材等様々の基材を用い、該基材表面に反射防止層を形成することができるが、複屈折の波長分散特性が正であるため、例えば、可視光の全波長領域で偏光の補償が可能であり、複屈折を利用した表示方法を採用している液晶パネルにおいては色ずれがないことや、有機EL表示素子においてはコントラストが良好であることなど、優れた光学特性を有することから、これらの素子に用いる反射防止フィルムを構成する場合等には、セルロースエステルフィルムが主として用いられ好ましい。   As the base material, glass, polycarbonate, acrylic resin, cellulose ester, among them, plastic films such as triacetyl cellulose (TAC) and polyethylene terephthalate (PET), base materials such as plastic lenses and plastic panels, cathode ray tubes, Various substrates such as fluorescent display tubes and liquid crystal display panels can be used, and an antireflection layer can be formed on the surface of the substrate. However, since the birefringence wavelength dispersion characteristic is positive, for example, visible Polarization compensation is possible in the entire wavelength region of light, and there is no color shift in a liquid crystal panel adopting a display method using birefringence, and a good contrast in an organic EL display element, etc. Because of its excellent optical properties, when it is necessary to construct an antireflection film for use in these elements, Scan ester film is mainly used preferably.

従って、本発明に係わる反射防止フィルムはセルロースエステルを基材とし、前記の低屈折率層を、基材上に設けられた活性光線硬化樹脂層(ハードコート層)の上に、屈折率が1.20〜1.42の低屈折率層を直接或いは間接的に設けて光学干渉による反射防止層を形成し反射防止フィルムとしたものが好ましい。   Therefore, the antireflection film according to the present invention has cellulose ester as a base material, and the low refractive index layer has a refractive index of 1 on an actinic ray curable resin layer (hard coat layer) provided on the base material. It is preferable that a low refractive index layer of 20 to 1.42 be provided directly or indirectly to form an antireflection layer by optical interference to form an antireflection film.

以下、本発明に用いられるセルロースエステルフィルム及びこれを基材とした反射防止フィルムについて詳述する。   Hereinafter, the cellulose ester film used for this invention and the antireflection film which used this as a base material are explained in full detail.

〈セルロースエステル〉
本発明に用いられるセルロースエステルの分子量は、数平均分子量(Mn)で80,000〜200,000のものが用いられる。100,000〜200,000のものが更に好ましく、150,000〜200,000が特に好ましい。
<Cellulose ester>
The molecular weight of the cellulose ester used in the present invention is 80,000 to 200,000 in number average molecular weight (Mn). 100,000 to 200,000 are more preferable, and 150,000 to 200,000 are particularly preferable.

本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比、Mw/Mnが、前記のように1.4〜3.0であるが、好ましくは1.7〜2.2の範囲である。   The cellulose ester used in the present invention has a weight average molecular weight (Mw) to number average molecular weight (Mn) ratio, Mw / Mn of 1.4 to 3.0 as described above, but preferably 1.7. It is the range of -2.2.

セルロースエステルの平均分子量および分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することができる。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を算出し、その比(Mw/Mn)を計算することが出来る。   The average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured by a known method using high performance liquid chromatography. Using this, the number average molecular weight and the weight average molecular weight can be calculated, and the ratio (Mw / Mn) can be calculated.

測定条件は以下の通りである。
溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に得ることが好ましい。
The measurement conditions are as follows.
Solvent: Methylene chloride column: Shodex K806, K805, K803G (used by connecting 3 products manufactured by Showa Denko KK)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000-500 calibration curves with 13 samples were used. It is preferable to obtain 13 samples at approximately equal intervals.

本発明に用いられるセルロースエステルは、炭素数2〜22程度のカルボン酸エステルであり、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートフタレート等や、特開平10−45804号、同8−231761号、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは混合して用いることも出来る。   The cellulose ester used in the present invention is a carboxylic acid ester having about 2 to 22 carbon atoms, and is particularly preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. For example, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate phthalate, etc., JP-A-10-45804, Mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate as described in U.S. Pat. No. 8,231,761, U.S. Pat. No. 2,319,052 can be used. Among the above descriptions, the lower fatty acid esters of cellulose particularly preferably used are cellulose triacetate and cellulose acetate propionate. These cellulose esters can be used as a mixture.

セルローストリアセテートの場合には、総アシル基置換度(アセチル基置換度)2.6から2.9のものが好ましく用いられる。   In the case of cellulose triacetate, those having a total acyl group substitution degree (acetyl group substitution degree) of 2.6 to 2.9 are preferably used.

セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは、炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルである。   Preferred cellulose esters other than cellulose triacetate have an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, the substitution degree of acetyl group is X, and the substitution degree of propionyl group is Y, the following formula (I) And (II) at the same time.

式(I) 2.6≦X+Y≦2.9
式(II) 0≦X≦2.5
中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9のセルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度=X+Y)が好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することが出来る。
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 2.9
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Among them, cellulose acetate propionate (total acyl group substitution degree = X + Y) satisfying 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9 is preferable. The portion not substituted with an acyl group usually exists as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

これらアシル基置換度は、ASTM−D817−96に規定の方法に準じて測定することができる。   These acyl group substitution degrees can be measured according to the method prescribed in ASTM-D817-96.

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独あるいは混合して用いることが出来る。特に綿花リンター(以下、単にリンターとすることがある)、木材パルプから合成されたセルロースエステルを単独あるいは混合して用いることが好ましい。   As the cellulose ester, a cellulose ester synthesized using cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to use a cotton linter (hereinafter sometimes simply referred to as a linter) or a cellulose ester synthesized from wood pulp alone or in combination.

また、これらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステルは、セルロース原料をアシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて常法により反応させて得ることができる。   Moreover, the cellulose ester obtained from these can be mixed and used in arbitrary ratios, respectively. These cellulose esters are prepared by using an organic acid such as acetic acid or an organic solvent such as methylene chloride when sulfuric acid is used as the acylating agent (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride). It can obtain by making it react by a conventional method using a protic catalyst like.

アセチルセルロースの場合、酢化率をあげようとすれば、酢化反応の時間を延長する必要がある。但し、反応時間を余り長くとると分解が同時に進行し、ポリマー鎖の切断やアセチル基の分解などがおこり、好ましくない結果をもたらす。従って、酢化度をあげ、分解をある程度抑える為には反応時間はある範囲に設定することが必要である。反応時間で規定することは反応条件が様々であり、反応装置や設備その他の条件で大きく変わるので適切でない。ポリマーの分解は進むにつれ、分子量分布が広くなってゆくので、セルロースエステルの場合にも、分解の度合いは通常用いられる重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値で規定できる。すなわちセルローストリアセテートの酢化の過程で、余り長すぎて分解が進みすぎることがなく、かつ酢化には充分な時間酢化反応を行わせしめるための反応度合いのひとつの指標として用いられる重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値を用いることができる。   In the case of acetyl cellulose, it is necessary to extend the time for the acetylation reaction in order to increase the acetylation rate. However, if the reaction time is too long, the decomposition proceeds at the same time, and the polymer chain is broken or the acetyl group is decomposed, resulting in an undesirable result. Therefore, it is necessary to set the reaction time within a certain range in order to increase the degree of acetylation and suppress decomposition to some extent. It is not appropriate to define the reaction time because the reaction conditions are various and greatly change depending on the reaction apparatus, equipment and other conditions. As the decomposition of the polymer progresses, the molecular weight distribution becomes wider. Therefore, in the case of cellulose ester, the degree of decomposition can be defined by the value of weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) that is usually used. In other words, in the process of acetylation of cellulose triacetate, the weight average molecular weight is used as one index of the reaction level for allowing the acetylation reaction to take place for a sufficient time for acetylation without being too long and being decomposed too much. The value of (Mw) / number average molecular weight (Mn) can be used.

セルロースエステルの製造法の一例を以下に示すと、セルロース原料として綿化リンター100質量部を解砕し、40質量部の酢酸を添加し、36℃で20分間前処理活性化をした。その後、硫酸8質量部、無水酢酸260質量部、酢酸350質量部を添加し、36℃で120分間エステル化を行った。24%酢酸マグネシウム水溶液11質量部で中和した後、63℃で35分間ケン化熟成し、アセチルセルロースを得た。これを10倍の酢酸水溶液(酢酸:水=1:1(質量比))を用いて、室温で160分間撹拌した後、濾過、乾燥させてアセチル置換度2.75の精製アセチルセルロースを得た。このアセチルセルロースはMnが92,000、Mwが156,000、Mw/Mnは1.7であった。同様にセルロースエステルのエステル化条件(温度、時間、撹拌)、加水分解条件を調整することによって置換度、Mw/Mn比の異なるセルロースエステルを合成することができる。   An example of a method for producing a cellulose ester is shown below: 100 parts by mass of a flocculent linter was crushed as a cellulose raw material, 40 parts by mass of acetic acid was added, and pretreatment activation was performed at 36 ° C. for 20 minutes. Thereafter, 8 parts by mass of sulfuric acid, 260 parts by mass of acetic anhydride and 350 parts by mass of acetic acid were added, and esterification was performed at 36 ° C. for 120 minutes. After neutralization with 11 parts by mass of a 24% magnesium acetate aqueous solution, saponification aging was carried out at 63 ° C. for 35 minutes to obtain acetylcellulose. This was stirred for 160 minutes at room temperature using a 10-fold acetic acid aqueous solution (acetic acid: water = 1: 1 (mass ratio)), then filtered and dried to obtain purified acetylcellulose having an acetyl substitution degree of 2.75. . This acetylcellulose had Mn of 92,000, Mw of 156,000, and Mw / Mn of 1.7. Similarly, cellulose esters having different degrees of substitution and Mw / Mn ratios can be synthesized by adjusting the esterification conditions (temperature, time, stirring) and hydrolysis conditions of the cellulose ester.

また、混酸セルロースエステルの場合には、特開平10−45804号公報に記載の方法で反応して得ることができる。アシル基の置換度の測定方法はASTM−D817−96の規定に準じて測定することができる。   In the case of a mixed acid cellulose ester, it can be obtained by a reaction described in JP-A-10-45804. The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to the rule of ASTM-D817-96.

又、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ない方が好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成する事により不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄(Fe)成分については、1ppm以下であることが好ましい。カルシウム(Ca)成分については、地下水や河川の水等に多く含まれ、これが多いと硬水となり、飲料水としても不適当であるが、カルボン酸や、スルホン酸等の酸性成分と、又多くの配位子と配位化合物すなわち、錯体を形成しやすく、多くの不要なカルシウムに由来するスカム(不溶性の澱、濁り)を形成する。   Cellulose esters are also affected by trace metal components in cellulose esters. These are considered to be related to water used in the production process, but it is preferable that there are few components that can become insoluble nuclei, and metal ions such as iron, calcium, and magnesium contain organic acidic groups. Insoluble matter may be formed by salt formation with a polymer degradation product or the like that may be present, and it is preferable that the amount is small. The iron (Fe) component is preferably 1 ppm or less. About calcium (Ca) component, it is contained in a lot of ground water and river water, etc., and it becomes hard water, and it is unsuitable as drinking water. Ligand and coordination compounds, that is, complexes are easily formed, and many unnecessary calcium-derived scum (insoluble starch, turbidity) is formed.

カルシウム(Ca)成分は60ppm以下、好ましくは0〜30ppmである。マグネシウム(Mg)成分については、やはり多すぎると不溶分を生ずるため、0〜70ppmであることが好ましく、特に0〜20ppmであることが好ましい。鉄(Fe)分の含量、カルシウム(Ca)分含量、マグネシウム(Mg)分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置(硫硝酸分解)、アルカリ溶融で前処理を行った後、ICP−AES(誘導結合プラズマ発光分光分析装置)を用いて分析を行うことによって求めることができる。   The calcium (Ca) component is 60 ppm or less, preferably 0 to 30 ppm. The magnesium (Mg) component is preferably in the range of 0 to 70 ppm, and more preferably 0 to 20 ppm, because too much will cause insoluble matter. Metal components such as iron (Fe) content, calcium (Ca) content, magnesium (Mg) content, etc. are pre-processed by completely digesting cellulose ester with micro digest wet cracking equipment (sulfuric acid decomposition) and alkali melting. After performing, it can obtain | require by performing an analysis using ICP-AES (inductively coupled plasma optical emission spectrometry).

〈可塑剤〉
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは、少なくとも2種の可塑剤を含有する。また、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル系可塑剤を実質的に含有しない。「実質的に含有しない」とはリン酸エステル系可塑剤の含有量が1質量%未満、好ましくは0.1質量%であり、特に好ましいのは添加していないことである。
<Plasticizer>
The cellulose ester film used in the present invention contains at least two kinds of plasticizers. Further, it does not substantially contain a phosphate ester plasticizer such as triphenyl phosphate. “Substantially not containing” means that the content of the phosphoric ester plasticizer is less than 1% by mass, preferably 0.1% by mass, particularly preferably not added.

2種以上の可塑剤を含有させることによって、可塑剤の溶出を少なくすることが出来る。その理由は明らかではないが、1種類当たりの添加量を減らすことが出来ることと、2種の可塑剤同志及びセルロースエステルとの相互作用によって溶出が抑制されるものと思われる。   By including two or more plasticizers, elution of the plasticizer can be reduced. The reason is not clear, but it seems that elution is suppressed by the ability to reduce the amount added per type and the interaction between the two plasticizers and the cellulose ester.

2種の可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、前記多価アルコールエステル系可塑剤、フタル酸エステル、クエン酸エステル、脂肪酸エステル、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル等から選択される。そのうち、少なくとも1種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。   The two plasticizers are not particularly limited, but are preferably selected from the polyhydric alcohol ester plasticizer, phthalic acid ester, citrate ester, fatty acid ester, glycolate plasticizer, polyvalent carboxylic acid ester, and the like. . Of these, at least one is preferably a polyhydric alcohol ester plasticizer.

多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is a plasticizer comprising an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferably it is a 2-20 valent aliphatic polyhydric alcohol ester.

本発明に用いられる多価アルコールは次の一般式(1)で表される。   The polyhydric alcohol used in the present invention is represented by the following general formula (1).

一般式(1) R1−(OH)n
但し、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール性水酸基を表す。
Formula (1) R 1- (OH) n
However, R 1 represents an n-valent organic group, n represents a positive integer of 2 or more, and the OH group represents an alcoholic and / or phenolic hydroxyl group.

好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。   Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane- Examples include 1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and xylitol. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.

本発明の多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester of this invention, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention.

好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。   Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto.

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。   As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. The number of carbon atoms is more preferably 1-20, and particularly preferably 1-10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。   Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanoic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid.

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。   Examples of preferable alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and derivatives thereof.

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に安息香酸が好ましい。   Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, and tetralincarboxylic acid. The aromatic monocarboxylic acid which has, or those derivatives can be mentioned. Benzoic acid is particularly preferable.

多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably 300 to 1500, and more preferably 350 to 750. A higher molecular weight is preferred because it is less likely to volatilize, and a smaller one is preferred in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are.

以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。   Below, the specific compound of a polyhydric alcohol ester is illustrated.

Figure 2005157037
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グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることが出来る。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。   The glycolate plasticizer is not particularly limited, but alkylphthalylalkyl glycolates can be preferably used. Examples of alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl Glycolate, ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycol Butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalate Ethyl glycolate, and the like.

フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。   Examples of the phthalate ester plasticizer include diethyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, dioctyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, and dicyclohexyl terephthalate.

クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。   Examples of the citrate plasticizer include acetyl trimethyl citrate, acetyl triethyl citrate, and acetyl tributyl citrate.

脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。   Examples of fatty acid ester plasticizers include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, and dibutyl sebacate.

多価カルボン酸エステル系可塑剤も好ましく用いることができる。具体的には特開2002−265639号公報の段落番号[0015]〜[0020]記載の多価カルボン酸エステルを可塑剤の一つとして添加することが好ましい。   Polycarboxylic acid ester plasticizers can also be preferably used. Specifically, it is preferable to add the polyvalent carboxylic acid ester described in paragraphs [0015] to [0020] of JP-A No. 2002-265639 as one of the plasticizers.

リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられるが、これらのリン酸エステル系可塑剤は本発明を構成するセルロースエステルフィルム中には実質的に含有しないものである。前述のように、実質的に含有しないとは、含有量が、1質量%未満であり、好ましくは0.1質量%未満であり、全く含有しないことが特に好ましい。   Examples of the phosphate ester plasticizer include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, and the like. The agent is not substantially contained in the cellulose ester film constituting the present invention. As described above, “not containing substantially” means that the content is less than 1% by mass, preferably less than 0.1% by mass, and particularly preferably not contained at all.

前述のように、リン酸エステル系可塑剤が含まれると活性線硬化樹脂層を形成する際に基材が変形しやすくなるため、好ましくない。   As described above, when a phosphate ester plasticizer is included, it is not preferable because the base material is easily deformed when the actinic radiation curable resin layer is formed.

セルロースエステルフィルム中の可塑剤の総含有量は、固形分総量に対し、5〜20質量%が好ましく、6〜16質量%が更に好ましく、特に好ましくは8〜13質量%である。また、2種の可塑剤の含有量は各々少なくとも1質量%以上であり、好ましくは各々2質量%以上含有することである。   The total content of the plasticizer in the cellulose ester film is preferably 5 to 20% by mass, more preferably 6 to 16% by mass, and particularly preferably 8 to 13% by mass with respect to the total solid content. The contents of the two kinds of plasticizers are each at least 1% by mass, preferably 2% by mass or more.

多価アルコールエステル系可塑剤は1〜12質量%含有することが好ましく、特に3〜11質量%含有することが好ましい。少ないと平面性の劣化が認められ、多すぎるとブリードアウトがしやすい。多価アルコールエステル系可塑剤とその他の可塑剤との質量比率は1:4〜4:1の範囲であることが好ましく、1:3〜3:1であることが更に好ましい。可塑剤の添加量が多すぎても、また少なすぎてもフィルムが変形しやすく好ましくない。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is preferably contained in an amount of 1 to 12% by mass, particularly preferably 3 to 11% by mass. If the amount is too small, deterioration of flatness is recognized, and if it is too large, bleeding out tends to occur. The mass ratio between the polyhydric alcohol ester plasticizer and the other plasticizer is preferably in the range of 1: 4 to 4: 1, more preferably 1: 3 to 3: 1. If the amount of the plasticizer added is too large or too small, the film is liable to be deformed, which is not preferable.

〈紫外線吸収剤〉
本発明に係わるセルロースエステルフィルムは紫外線吸収剤を含有する。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長370nmでの透過率が10%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以下、更に好ましくは2%以下である。
<Ultraviolet absorber>
The cellulose ester film according to the present invention contains an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber is intended to improve durability by absorbing ultraviolet light having a wavelength of 400 nm or less, and the transmittance at a wavelength of 370 nm is particularly preferably 10% or less, more preferably 5% or less. Preferably it is 2% or less.

本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。   Although the ultraviolet absorber used in the present invention is not particularly limited, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, inorganic powders Examples include the body.

好ましく用いられる紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤であり、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例として、例えば、5−クロロ−2−(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、(2−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328等のチヌビン類があり、これらは何れもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の市販品であり好ましく使用出来る。   UV absorbers preferably used are benzotriazole-based UV absorbers and benzophenone-based UV absorbers that are highly transparent and excellent in preventing the deterioration of polarizing plates and liquid crystal elements, and have less unnecessary coloration. UV absorbers are particularly preferred. Specific examples of the ultraviolet absorber used in the present invention include, for example, 5-chloro-2- (3,5-di-sec-butyl-2-hydroxylphenyl) -2H-benzotriazole, (2-2H-benzotriazole -2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2,4-benzyloxybenzophenone, etc., and tinuvin 109, tinuvin 171 Tinuvin such as Tinuvin 234, Tinuvin 326, Tinuvin 327, Tinuvin 328, etc., all of which are commercially available products from Ciba Specialty Chemicals and can be used preferably.

又、特開2001−235621の一般式(I)で示されているトリアジン系化合物も本発明に係わるセルロースエステルフィルムに好ましく用いられる。   Further, triazine compounds represented by the general formula (I) of JP-A-2001-235621 are also preferably used for the cellulose ester film according to the present invention.

本発明に係わるセルロースエステルフィルムは紫外線吸収剤を2種以上を含有することが好ましい。   The cellulose ester film according to the present invention preferably contains two or more ultraviolet absorbers.

また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることが出来、特に特開平6−148430号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。   As the UV absorber, a polymer UV absorber can be preferably used, and in particular, a polymer type UV absorber described in JP-A-6-148430 is preferably used.

紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒或いはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にデゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。   The method of adding the UV absorber may be added to the dope after the UV absorber is dissolved in an alcohol such as methanol, ethanol or butanol, an organic solvent such as methylene chloride, methyl acetate, acetone or dioxolane, or a mixed solvent thereof. Or you may add directly in dope composition. For an inorganic powder that does not dissolve in an organic solvent, a dissolver or a sand mill is used in the organic solvent and cellulose ester to disperse and then added to the dope.

紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、セルロースエステルフィルムの乾燥膜厚が30〜200μmの場合は、セルロースエステルフィルムに対して0.5〜4.0質量%が好ましく、0.6g〜2.0質量%が更に好ましい。   The amount of UV absorber used is not uniform depending on the type of UV absorber, operating conditions, etc., but when the dry film thickness of the cellulose ester film is 30 to 200 μm, it is 0.5 to 4 with respect to the cellulose ester film. 0.0 mass% is preferable, and 0.6 g-2.0 mass% is still more preferable.

〈微粒子〉
本発明に係るセルロースエステルフィルムには、微粒子を含有することが好ましい。
<Fine particles>
The cellulose ester film according to the present invention preferably contains fine particles.

本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。   As fine particles used in the present invention, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, and hydrated silicic acid. Mention may be made of calcium, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low turbidity, and silicon dioxide is particularly preferable.

微粒子の一次粒子の平均径は5〜50nmが好ましく、更に好ましいのは7〜20nmである。これらは主に粒径0.05〜0.3μmの2次凝集体として含有されることが好ましい。セルロースエステルフィルム中のこれらの微粒子の含有量は0.05〜1質量%であることが好ましく、特に0.1〜0.5質量%が好ましい。共流延法による多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。   The average primary particle diameter of the fine particles is preferably 5 to 50 nm, and more preferably 7 to 20 nm. These are preferably contained mainly as secondary aggregates having a particle size of 0.05 to 0.3 μm. The content of these fine particles in the cellulose ester film is preferably 0.05 to 1% by mass, particularly preferably 0.1 to 0.5% by mass. In the case of a cellulose ester film having a multilayer structure by the co-casting method, it is preferable to contain fine particles of this addition amount on the surface.

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Silicon dioxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.). I can do it.

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Zirconium oxide fine particles are commercially available under the trade names of Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used.

ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Examples of the polymer include silicone resin, fluorine resin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがセルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられるセルロースエステルフィルムにおいては活性線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が1.0以下であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large effect of reducing the friction coefficient while keeping the turbidity of the cellulose ester film low. In the cellulose ester film used in the present invention, the dynamic friction coefficient on the back side of the actinic radiation curable resin layer is preferably 1.0 or less.

〈染料〉
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムには、色味調整のため染料を添加することも出来る。例えば、フィルムの黄色味を抑えるために青色染料を添加してもよい。好ましい染料としてはアンスラキノン系染料が挙げられる。
<dye>
A dye may be added to the cellulose ester film used in the present invention to adjust the color. For example, a blue dye may be added to suppress the yellowness of the film. Preferred examples of the dye include anthraquinone dyes.

アンスラキノン系染料は、アンスラキノンの1位から8位迄の任意の位置に任意の置換基を有することが出来る。好ましい置換基としてはアニリノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、または水素原子が挙げられる。特に特開2001−154017号公報の段落番号[0034]〜[0037]記載の青色染料、特にアントラキノン系染料を含有することが好ましい。   The anthraquinone dye may have an arbitrary substituent at an arbitrary position from the 1st position to the 8th position of the anthraquinone. Preferred substituents include an anilino group, hydroxyl group, amino group, nitro group, or hydrogen atom. In particular, it is preferable to contain a blue dye described in paragraphs [0034] to [0037] of JP-A No. 2001-154017, particularly an anthraquinone dye.

各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子は濾過材への負荷を減らすために、一部または全量をインライン添加することが好ましい。   Various additives may be batch-added to a dope that is a cellulose ester-containing solution before film formation, or an additive solution may be separately prepared and added in-line. In particular, it is preferable to add a part or all of the fine particles in-line in order to reduce the load on the filter medium.

添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤100質量部に対して1〜10質量部で、より好ましくは、3〜5質量部である。   When the additive solution is added in-line, it is preferable to dissolve a small amount of cellulose ester in order to improve mixing with the dope. The amount of the cellulose ester is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 3 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solvent.

本発明においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー(東レエンジニアリング製)、SWJ(東レ静止型管内混合器 Hi−Mixer)等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。   In order to perform in-line addition and mixing in the present invention, for example, an in-line mixer such as a static mixer (manufactured by Toray Engineering), SWJ (Toray static type in-tube mixer Hi-Mixer) or the like is preferably used.

〈セルロースエステルフィルムの製造方法〉
次に、本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。
<Method for producing cellulose ester film>
Next, the manufacturing method of the cellulose-ester film of this invention is demonstrated.

本発明のセルロースエステルフィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。   The cellulose ester film of the present invention is prepared by dissolving a cellulose ester and an additive in a solvent to prepare a dope, casting a dope on a belt-shaped or drum-shaped metal support, and casting the dope. It is carried out by a step of drying as a web, a step of peeling from a metal support, a step of stretching or maintaining the width, a step of further drying, and a step of winding up the finished film.

ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減出来て好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、更に好ましくは、15〜25質量%である。   The process for preparing the dope will be described. The concentration of cellulose ester in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced. However, if the concentration of cellulose ester is too high, the load during filtration increases and the filtration accuracy increases. Becomes worse. As a density | concentration which makes these compatible, 10-35 mass% is preferable, More preferably, it is 15-25 mass%.

本発明のドープで用いられる溶剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70〜98質量%であり、貧溶剤が2〜30質量%である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルのアシル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースエステルの酢酸エステル(アセチル基置換度2.4)、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル(アセチル基置換度2.8)では貧溶剤となる。   The solvent used in the dope of the present invention may be used alone or in combination of two or more. However, it is preferable from the viewpoint of production efficiency that a good solvent and a poor solvent of cellulose ester are mixed and used. The more solvent is preferable from the viewpoint of solubility of the cellulose ester. The preferable range of the mixing ratio of the good solvent and the poor solvent is 70 to 98% by mass for the good solvent and 2 to 30% by mass for the poor solvent. With a good solvent and a poor solvent, what dissolve | melts the cellulose ester to be used independently is defined as a good solvent, and what poorly swells or does not melt | dissolve is defined as a poor solvent. Therefore, depending on the acyl group substitution degree of the cellulose ester, the good solvent and the poor solvent change. For example, when acetone is used as the solvent, the cellulose ester acetate ester (acetyl group substitution degree 2.4) and the cellulose acetate propionate are good. As a solvent, cellulose acetate (acetyl group substitution degree 2.8) is a poor solvent.

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。   Although the good solvent used for this invention is not specifically limited, Organic halogen compounds, such as a methylene chloride, dioxolanes, acetone, methyl acetate, methyl acetoacetate, etc. are mentioned. Particularly preferred is methylene chloride or methyl acetate.

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が0.01〜2質量%含有していることが好ましい。   Moreover, although the poor solvent used for this invention is not specifically limited, For example, methanol, ethanol, n-butanol, cyclohexane, cyclohexanone, etc. are used preferably. Moreover, it is preferable that 0.01-2 mass% of water contains in dope.

上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることが出来る。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱出来る。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。   A general method can be used as a method of dissolving the cellulose ester when preparing the dope described above. When heating and pressurization are combined, it is possible to heat above the boiling point at normal pressure. It is preferable to stir and dissolve while heating at a temperature that is equal to or higher than the boiling point of the solvent at normal pressure and that the solvent does not boil under pressure, in order to prevent the generation of massive undissolved materials called gels and mamaco. Moreover, after mixing a cellulose ester with a poor solvent and making it wet or swell, the method of adding a good solvent and melt | dissolving is also used preferably.

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。   The pressurization may be performed by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or a method of increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.

溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高すぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45〜120℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。   The heating temperature with the addition of the solvent is preferably higher from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester, but if the heating temperature is too high, the required pressure increases and the productivity deteriorates. A preferable heating temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 60 to 110 ° C, and still more preferably 70 ° C to 105 ° C. The pressure is adjusted so that the solvent does not boil at the set temperature.

若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることが出来る。   Alternatively, a cooling dissolution method is also preferably used, whereby the cellulose ester can be dissolved in a solvent such as methyl acetate.

次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001〜0.008mmの濾材がより好ましく、0.003〜0.006mmの濾材が更に好ましい。   Next, this cellulose ester solution is filtered using a suitable filter medium such as filter paper. As the filter medium, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters and the like. However, if the absolute filtration accuracy is too small, there is a problem that the filter medium is likely to be clogged. For this reason, a filter medium with an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less is preferable, a filter medium with 0.001 to 0.008 mm is more preferable, and a filter medium with 0.003 to 0.006 mm is still more preferable.

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン(R)等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。   The material of the filter medium is not particularly limited, and a normal filter medium can be used. However, a plastic filter medium such as polypropylene and Teflon (R) and a metal filter medium such as stainless steel are preferable because there is no loss of fibers. . It is preferable to remove and reduce impurities, particularly bright spot foreign matter, contained in the raw material cellulose ester by filtration.

輝点異物とは、2枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースエステルフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点(異物)のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、更に好ましくは50個/m2以下であり、更に好ましくは0〜10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。 A bright spot foreign substance is when two polarizing plates are placed in a crossed Nicol state, a cellulose ester film is placed between them, light is applied from the side of one polarizing plate, and observed from the side of the other polarizing plate. It is a point (foreign matter) where light from the opposite side appears to leak, and the number of bright spots having a diameter of 0.01 mm or more is preferably 200 / cm 2 or less. More preferably, it is 100 pieces / cm < 2 > or less, More preferably, it is 50 pieces / m < 2 > or less, More preferably, it is 0-10 pieces / cm < 2 > or less. Further, it is preferable that the number of bright spots of 0.01 mm or less is small.

ドープの濾過は通常の方法で行うことが出来るが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差(差圧という)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃であることが更に好ましい。   The dope can be filtered by an ordinary method, but the method of filtering while heating at a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal pressure and in a range where the solvent does not boil under pressure is the filtration pressure before and after filtration. The increase in the difference (referred to as differential pressure) is small and preferable. A preferred temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and still more preferably 45 to 55 ° C.

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることが更に好ましい。   A smaller filtration pressure is preferred. The filtration pressure is preferably 1.6 MPa or less, more preferably 1.2 MPa or less, and further preferably 1.0 MPa or less.

ここで、ドープの流延について説明する。   Here, the dope casting will be described.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることが出来る。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速く出来るので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set to −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferable because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate. The preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、更に好ましくは20〜40質量%または60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%または70〜120質量%である。   In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%.

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。   In the present invention, the amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
尚、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%以下である。   Further, in the drying step of the cellulose ester film, the web is peeled off from the metal support, and further dried, and the residual solvent amount is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, Especially preferably, it is 0-0.01 mass% or less.

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a method of drying while transporting the web by a tenter method is adopted.

本発明の反射防止フィルム用のセルロースエステルフィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し、更にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが特に好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は1.05〜1.3倍であり、1.05〜1.15倍が更に好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が1.12倍〜1.44倍となっていることが好ましく、1.15倍〜1.32倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることが出来る。縦方向と横方向の延伸倍率のいずれかが1.05倍未満では活性線硬化樹脂層を形成する際の紫外線照射による平面性の劣化が大きく好ましくない。また、延伸倍率が1.3倍を超えても平面性が劣化し、ヘイズも増加するため好ましくない。   In order to produce the cellulose ester film for an antireflection film of the present invention, the web is stretched in the conveying direction immediately after peeling from the metal support where the amount of residual solvent is large, and both ends of the web are held with clips or the like. It is particularly preferable to perform stretching in the width direction by a tenter method. The preferred draw ratio in both the machine direction and the transverse direction is 1.05 to 1.3 times, and more preferably 1.05 to 1.15 times. It is preferable that the area is 1.12 times to 1.44 times, and preferably 1.15 times to 1.32 times due to longitudinal and lateral stretching. This can be determined by the draw ratio in the longitudinal direction × the draw ratio in the transverse direction. If one of the draw ratios in the machine direction and the transverse direction is less than 1.05 times, the deterioration of the flatness due to ultraviolet irradiation when forming the actinic radiation curable resin layer is not preferable. Moreover, even if a draw ratio exceeds 1.3 times, since planarity deteriorates and haze also increases, it is not preferable.

剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力及びその後の搬送張力によって延伸することが好ましい。例えば剥離張力を210N/m以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは220〜300N/mである。   In order to stretch in the machine direction immediately after peeling, it is preferable to stretch by peeling tension and subsequent transport tension. For example, it is preferable to peel at a peeling tension of 210 N / m or more, and particularly preferably 220 to 300 N / m.

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことが出来るが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web is not particularly limited, and can be generally performed with hot air, infrared rays, a heating roll, microwave, or the like, but it is preferably performed with hot air in terms of simplicity.

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は30〜150℃で段階的に高くしていくことが好ましく、50〜140℃の範囲で行うことが寸法安定性を良くするため更に好ましい。   The drying temperature in the web drying step is preferably increased stepwise from 30 to 150 ° C, and more preferably from 50 to 140 ° C in order to improve dimensional stability.

セルロースエステルフィルムの膜厚は、特に限定はされないが10〜200μmが好ましく用いられる。特に10〜70μmの薄膜フィルムでは平面性と硬度に優れた反射防止フィルムを得ることが困難であったが、本発明によれば、平面性と硬度に優れた薄膜の反射防止フィルムが得られ、また生産性にも優れているため、セルロースエステルフィルムの膜厚は10〜70μmであることが特に好ましい。更に好ましくは20〜60μmである。最も好ましくは35〜60μmである。また、共流延法によって多層構成としたセルロースエステルフィルムも好ましく用いることが出来る。セルロースエステルが多層構成の場合でも紫外線吸収剤と可塑剤を含有する層を有しており、それがコア層、スキン層、もしくはその両方であってもよい。   Although the film thickness of a cellulose-ester film is not specifically limited, 10-200 micrometers is used preferably. In particular, it was difficult to obtain an antireflection film excellent in flatness and hardness with a thin film of 10 to 70 μm, but according to the present invention, a thin antireflection film excellent in flatness and hardness was obtained, Moreover, since it is excellent also in productivity, it is especially preferable that the film thickness of a cellulose-ester film is 10-70 micrometers. More preferably, it is 20-60 micrometers. Most preferably, it is 35-60 micrometers. Moreover, the cellulose ester film made into the multilayer structure by the co-casting method can also be used preferably. Even when the cellulose ester has a multilayer structure, it has a layer containing an ultraviolet absorber and a plasticizer, and it may be a core layer, a skin layer, or both.

本発明の反射防止フィルムは、幅1〜4mのものが好ましく用いられる。また、セルロースエステルフィルムの活性線硬化樹脂層を設ける面の中心線平均粗さ(Ra)は0.001〜1μmのものを用いることが出来る。   The antireflection film of the present invention preferably has a width of 1 to 4 m. Moreover, the centerline average roughness (Ra) of the surface which provides the active ray cured resin layer of a cellulose-ester film can use a 0.001-1 micrometer thing.

セルロースエステルフィルムの幅が広くなると紫外線硬化の際の照射光の照度むらが無視出来なくなり、平面性が劣化するばかりか、硬度のむらも生じ、この上に反射防止層を形成した場合に反射むらが顕著になるという問題があった。本発明の反射防止フィルムは少ない照射量で十分な硬度が得られるため、照射光の幅手方向に照射量のむらがあっても幅手方向の硬度むらが生じにくく、平面性にも優れた反射防止フィルムが得られるため、広幅のセルロースエステルフィルムで著しい効果が認められる。特に幅1.4〜4mのものが好ましく用いられ、特に好ましくは1.4〜2mである。4mを超えると搬送が困難となる。   When the width of the cellulose ester film becomes wider, the illuminance unevenness of the irradiated light at the time of UV curing cannot be ignored, not only the flatness is deteriorated, but also the unevenness of the hardness occurs, and when the antireflection layer is formed on this, the uneven reflection is generated. There was a problem of becoming prominent. Since the antireflection film of the present invention can provide sufficient hardness with a small dose, even if there is unevenness in the width direction of the irradiated light, unevenness in the width direction is less likely to occur, and the reflection is excellent in flatness. Since a prevention film is obtained, a remarkable effect is recognized with a wide cellulose ester film. In particular, those having a width of 1.4 to 4 m are preferably used, and particularly preferably 1.4 to 2 m. If it exceeds 4 m, conveyance becomes difficult.

〈物性〉
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの透湿度は、40℃、90%RHで850g/m2・24h以下であり、好ましくは20〜800g/m2・24hであり、20〜750g/m2・24hであることが特に好ましい。透湿度はJIS Z 0208に記載の方法に従い測定することが出来る。
<Physical properties>
The moisture permeability of the cellulose ester film used in the present invention, 40 ° C., or less 850g / m 2 · 24h at 90% RH, preferably 20~800g / m 2 · 24h, 20~750g / m 2 · 24 h is particularly preferable. The moisture permeability can be measured according to the method described in JIS Z 0208.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは下記測定による破断伸度は10〜80%であることが好ましく20〜50%であることが更に好ましい。   The cellulose ester film used in the present invention has a breaking elongation measured by the following measurement of preferably 10 to 80%, more preferably 20 to 50%.

(破断点伸度の測定)
任意の残留溶媒を含むフィルムを試料幅を10mm、長さ130mmに切り出し、23℃、55%RHで24時間保管した試料を、チャック間距離100mmにして引っ張り速度100mm/分で引っ張り試験を行い求めることができる。
(Measurement of elongation at break)
A film containing an arbitrary residual solvent is cut into a sample width of 10 mm and a length of 130 mm, and stored for 24 hours at 23 ° C. and 55% RH, and a tensile test is performed at a pulling speed of 100 mm / min with a chuck distance of 100 mm. be able to.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの下記測定による可視光透過率は90%以上であることが好ましく、93%以上であることが更に好ましい。   The visible light transmittance of the cellulose ester film used in the present invention as measured by the following measurement is preferably 90% or more, and more preferably 93% or more.

(透過率の測定)
透過率Tは、分光高度計U−3400(日立製作所(株))を用い、各試料を350〜700nmの波長領域で10nmおきに求めた分光透過率τ(λ)から、380、400、500nmの透過率を算出することができる。
(Measurement of transmittance)
The transmittance T is 380, 400, 500 nm from the spectral transmittance τ (λ) obtained every 10 nm in the wavelength region of 350-700 nm using a spectral altimeter U-3400 (Hitachi, Ltd.). Transmittance can be calculated.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの下記測定によるヘイズは1%未満であることが好ましく0〜0.1%であることが特に好ましい。   The haze by the following measurement of the cellulose ester film used in the present invention is preferably less than 1%, particularly preferably 0 to 0.1%.

(ヘイズ値)
JIS K−6714に従って、ヘイズメーター(1001DP型、日本電色工業(株)製)を用いて測定し、透明性の指標とすることができる。
(Haze value)
According to JIS K-6714, it can be measured using a haze meter (1001DP type, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) and used as an index of transparency.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの面内レターデーション値(Ro)が0〜70nm以下であることが好ましい。より好ましくは0〜30nm以下であリ、より好ましくは0〜10nm以下である。膜厚方向のレターデーション値(Rt)は、0〜400nmであることが好ましく、10〜200nmであることが好ましく、更に30〜150nmであることが好ましい。   The in-plane retardation value (Ro) of the cellulose ester film used in the present invention is preferably 0 to 70 nm or less. More preferably, it is 0-30 nm or less, More preferably, it is 0-10 nm or less. The retardation value (Rt) in the film thickness direction is preferably 0 to 400 nm, preferably 10 to 200 nm, and more preferably 30 to 150 nm.

レターデーション値(Ro)(Rt)は以下の式によって求めることが出来る。   The retardation value (Ro) (Rt) can be obtained by the following equation.

Ro=(nx−ny)×d
Rt=((nx+ny)/2−nz)×d
ここにおいて、dはフィルムの厚み(nm)、屈折率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう)、ny(フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率)、nz(厚み方向におけるフィルムの屈折率)である。
Ro = (nx−ny) × d
Rt = ((nx + ny) / 2−nz) × d
Here, d is the thickness (nm) of the film, the refractive index nx (also referred to as the maximum refractive index in the plane of the film, the refractive index in the slow axis direction), ny (in the direction perpendicular to the slow axis in the film plane). ) (Refractive index of film in the thickness direction).

尚、レターデーション値(Ro)、(Rt)、遅相軸角度は自動複屈折率計を用いて測定することが出来る。例えば、KOBRA−21ADH(王子計測機器(株))を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波長が590nmで求めることが出来る。   The retardation values (Ro) and (Rt) and the slow axis angle can be measured using an automatic birefringence meter. For example, the wavelength can be obtained at 590 nm in an environment of 23 ° C. and 55% RH using KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments).

また、遅相軸はフィルムの幅手方向±1°若しくは長尺方向±1°にあることが好ましい。   The slow axis is preferably in the width direction ± 1 ° of the film or in the longitudinal direction ± 1 °.

次いで、前記セルロースエステルを基材とした本発明に係わる反射防止フィルムの作製について詳細を説明する。   Next, the production of the antireflection film according to the present invention using the cellulose ester as a base material will be described in detail.

〈活性線硬化樹脂層〉
本発明の反射防止フィルムに活性線硬化樹脂層を塗設する方法について述べる。
<Actinic radiation curable resin layer>
A method for applying an actinic radiation curable resin layer to the antireflection film of the present invention will be described.

活性線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化樹脂層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。   The actinic radiation curable resin layer refers to a layer mainly composed of a resin that cures through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams. As the actinic radiation curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and an actinic radiation curable resin layer is formed by curing by irradiation with actinic radiation such as ultraviolet rays or electron beams. The Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and a resin curable by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭59−151110号に記載のものを用いることが出来る。   UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, those described in JP-A-59-151110 can be used.

例えば、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) is preferably used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭59−151112号に記載のものを用いることが出来る。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those that are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyols. JP-A-59-151112 Can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることが出来、特開平1−105738号に記載のものを用いることが出来る。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photoreaction initiator added thereto, and reacted to form an oligomer. The thing as described in 105738 can be used.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. I can list them.

これら紫外線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜15質量部であり、好ましくは1〜10質量部である。   Specific examples of the photoreaction initiator of these ultraviolet curable resins include benzoin and its derivatives, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. You may use with a photosensitizer. The photoinitiator can also be used as a photosensitizer. In addition, when using an epoxy acrylate photoinitiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photoreaction initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 15 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることが出来る。   Examples of the resin monomer include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. In addition, monomers having two or more unsaturated double bonds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, and the above trimethylolpropane. Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.

本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成(株)製)等を適宜選択して利用出来る。   Examples of commercially available ultraviolet curable resins that can be used in the present invention include ADEKA OPTMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (Asahi Denka ( Co., Ltd.); Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS -101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHC X-9 (K-3), PHC2213, DP -10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (manufactured by Daicel UCB Corporation); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120 RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (manufactured by Sanyo Chemical Industries); SP -1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), etc. Can be selected as appropriate.

また、具体的化合物例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of compounds include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and the like. .

こうして得た硬化樹脂層には耐傷性、滑り性や屈折率を調整し、また作製された反射防止フィルムに防眩性を付与するために無機化合物或いは有機化合物の微粒子を含んでもよい。   The cured resin layer thus obtained may contain fine particles of an inorganic compound or an organic compound in order to adjust the scratch resistance, slipperiness and refractive index, and to impart antiglare properties to the produced antireflection film.

活性線硬化樹脂層に使用される無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムなどが好ましく用いられる。   Examples of the inorganic fine particles used in the actinic ray curable resin layer include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, Examples include calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.

また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、或いはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物に加えることが出来る。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子(例えば、綜研化学製SX−130H、SX−200H、SX−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(例えば、綜研化学製MX150、MX300)が挙げられる。   Organic particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder. Polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluoroethylene resin powder can be added to the ultraviolet curable resin composition. Particularly preferred are cross-linked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H, manufactured by Soken Chemical) and polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150, MX300, manufactured by Soken Chemical).

これらの微粒子粉末の平均粒径としては、0.01〜5μmが好ましく0.1〜5.0μm、更には、0.1〜4.0μmであることが特に好ましい。また、粒径の異なる2種以上の微粒子を含有することが好ましい。紫外線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜30質量部となるように配合することが望ましい。   The average particle size of these fine particle powders is preferably from 0.01 to 5 μm, more preferably from 0.1 to 5.0 μm, and even more preferably from 0.1 to 4.0 μm. Moreover, it is preferable to contain 2 or more types of microparticles | fine-particles from which a particle size differs. The proportion of the ultraviolet curable resin composition and the fine particles is desirably blended so as to be 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

紫外線硬化樹脂層は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.001〜0.1μmのクリアハードコート層であるか、若しくはRaが0.1〜1μm程度の防眩層であることが好ましい。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製非接触表面微細形状計測装置WYKO NT−2000を用いて測定することが出来る。   The UV curable resin layer is a clear hard coat layer having a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 0.001 to 0.1 μm, or an anti-glare layer having Ra of about 0.1 to 1 μm. A layer is preferred. The center line average roughness (Ra) is preferably measured with an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured using, for example, a non-contact surface fine shape measuring device WYKO NT-2000 manufactured by WYKO.

(活性線硬化樹脂層の屈折率)
本発明に係る活性線硬化樹脂層の屈折率は、低反射性フィルムを得るための光学設計上から屈折率が1.5〜2.0、特に1.6〜1.7であることが好ましい。活性線硬化樹脂層の屈折率は添加する微粒子或いは無機バインダーの屈折率や含有量によって調製することが出来る。
(Refractive index of actinic radiation curable resin layer)
The refractive index of the actinic radiation curable resin layer according to the present invention is preferably 1.5 to 2.0, particularly preferably 1.6 to 1.7 from the viewpoint of optical design for obtaining a low reflective film. . The refractive index of the actinic radiation curable resin layer can be adjusted depending on the refractive index and content of the fine particles to be added or the inorganic binder.

(活性線硬化樹脂層の膜厚)
十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、活性線硬化樹脂層の膜厚は0.5μm〜10μmの範囲が好ましく、更に好ましくは、1μm〜5μmである。
(Film thickness of actinic radiation curable resin layer)
From the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance, the thickness of the actinic radiation curable resin layer is preferably in the range of 0.5 μm to 10 μm, and more preferably 1 μm to 5 μm.

これらの活性線硬化樹脂層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することが出来る。   These actinic ray curable resin layers can be coated by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an ink jet method.

紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常5〜500mJ/cm2、好ましくは5〜100mJ/cm2であるが、特に好ましくは20〜80mJ/cm2である。 As a light source for curing an ultraviolet curable resin by a photocuring reaction to form a cured film layer, any light source that generates ultraviolet rays can be used without any limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 5 to 500 mJ / cm 2 , preferably 5 to 100 mJ / cm 2 , and particularly preferably 20 to 80 mJ / cm 2 .

従来の反射防止フィルムではこの様な低い照射量では4H以上の鉛筆硬度でかつ平面性に優れる反射防止フィルムは得られなかった。硬度がそれほど要求されない反射防止フィルムの場合は、照射量を更に少なく出来るため、紫外線照射部の能力によって制限されていた塗布速度をはるかに上回る速度で反射防止フィルムを製造することが出来、生産性が著しく改善される。また、活性線硬化樹脂層に、無機微粒子或いは無機バインダーを添加して屈折率を高めたり、導電性を付与する場合、紫外線照射量を著しく増加させる必要があり、フィルムの平面性を劣化させる原因の一つとなっていた。特に、幅が1.4〜4mの広幅フィルムや膜厚10〜70μmの薄膜フィルムでは、平面性劣化が顕著であったが、本発明により従来の照射量を少なくすることが出来、平面性に優れた反射防止フィルムが得られたのである。   In the conventional antireflection film, an antireflection film having a pencil hardness of 4H or more and excellent flatness cannot be obtained at such a low irradiation amount. In the case of an antireflection film that does not require much hardness, the amount of irradiation can be further reduced, so that the antireflection film can be manufactured at a speed far exceeding the coating speed limited by the ability of the ultraviolet irradiation section, and the productivity Is significantly improved. Moreover, when adding an inorganic fine particle or an inorganic binder to the actinic radiation curable resin layer to increase the refractive index or impart conductivity, it is necessary to remarkably increase the amount of UV irradiation, which causes the flatness of the film to deteriorate. It became one of. In particular, in wide films with a width of 1.4 to 4 m and thin films with a thickness of 10 to 70 μm, the flatness deterioration was remarkable, but the present invention can reduce the conventional irradiation amount, and the flatness An excellent antireflection film was obtained.

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜300N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、若しくは2軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性優れたフィルムを得ることが出来る。   Moreover, when irradiating actinic radiation, it is preferable to carry out while applying tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performing applying tension | tensile_strength also in the width direction. The tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m. The method for applying the tension is not particularly limited, and the tension may be applied in the conveying direction on the back roll, or the tension may be applied in the width direction or the biaxial direction by a tenter. This makes it possible to obtain a film having further excellent flatness.

紫外線硬化樹脂層組成物塗布液には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中でもから適宜選択し、或いはこれらを混合し利用出来る。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   The ultraviolet curable resin layer composition coating solution may contain a solvent, or may be appropriately contained and diluted as necessary. Examples of the organic solvent contained in the coating liquid include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), It can be appropriately selected from esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents, or a mixture thereof can be used. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

また、紫外線硬化樹脂層組成物塗布液には、特にシリコン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1,000〜100,000、好ましくは、2,000〜50,000が適当であり、数平均分子量が1,000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100,000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。   In addition, it is particularly preferable to add a silicon compound to the ultraviolet curable resin layer composition coating solution. For example, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2,000 to 50,000. When the number average molecular weight is less than 1,000, the coating film is dried. On the contrary, when the number average molecular weight exceeds 100,000, it tends to be difficult to bleed out on the surface of the coating film.

シリコン化合物の市販品としては、DKQ8−779(ダウコーニング社製商品名)、SF3771、SF8410、SF8411、SF8419、SF8421、SF8428、SH200、SH510、SH1107、SH3749、SH3771、BX16−034、SH3746、SH3749、SH8400、SH3771M、SH3772M、SH3773M、SH3775M、BY−16−837、BY−16−839、BY−16−869、BY−16−870、BY−16−004、BY−16−891、BY−16−872、BY−16−874、BY22−008M、BY22−012M、FS−1265(以上、東レ・ダウコーニングシリコーン社製商品名)、KF−101、KF−100T、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、シリコーンX−22−945、X22−160AS(以上、信越化学工業社製商品名)、XF3940、XF3949(以上、東芝シリコーン社製商品名)、ディスパロンLS−009(楠本化成社製)、グラノール410(共栄社油脂化学工業(株)製)、TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコーン製)、BYK−306、BYK−330、BYK−307、BYK−341、BYK−344、BYK−361(ビックケミ−ジャパン社製)日本ユニカー(株)製のLシリーズ(例えばL7001、L−7006、L−7604、L−9000)、Yシリーズ、FZシリーズ(FZ−2203、FZ−2206、FZ−2207)等が挙げられ、好ましく用いられる。   Commercially available silicon compounds include DKQ8-779 (trade name, manufactured by Dow Corning), SF3771, SF8410, SF8411, SF8419, SF8421, SF8428, SH200, SH510, SH1107, SH3749, SH3771, BX16-034, SH3746, SH3749, SH8400, SH3771M, SH3772M, SH3773M, SH3775M, BY-16-837, BY-16-839, BY-16-869, BY-16-870, BY-16-004, BY-16-891, BY-16 872, BY-16-874, BY22-008M, BY22-012M, FS-1265 (above, product names manufactured by Toray Dow Corning Silicone), KF-101, KF-100T, KF351, KF3 2, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, Silicone X-22-945, X22-160AS (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), XF3940, XF3949 (trade name, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) ), Disparon LS-009 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), Granol 410 (manufactured by Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd.), TSF4440, TSF4441, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicone), BYK-306, BYK- 330, BYK-307, BYK-341, BYK-344, BYK-361 (manufactured by BYK-Japan) L series (for example, L7001, L-7006, L-7604, L-9000) manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. Y Over's, FZ series (FZ-2203, FZ-2206, FZ-2207) and the like, are preferably used.

これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   These components enhance the applicability to the substrate and the lower layer. When added to the outermost surface layer of the laminate, it not only improves the water repellency, oil repellency and antifouling properties of the coating film, but also exhibits an effect on the scratch resistance of the surface. These components are preferably added in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.

紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法としては、前述のものを用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚として0.1〜30μmが適当で、好ましくは、0.5〜15μmである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚0.1〜15μm、好ましくは1〜5μmである。   As a coating method of the ultraviolet curable resin composition coating solution, the above-described methods can be used. The coating amount is suitably 0.1 to 30 μm, preferably 0.5 to 15 μm, as the wet film thickness. Moreover, as a dry film thickness, it is an average film thickness of 0.1-15 micrometers, Preferably it is 1-5 micrometers.

紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥中または後に、紫外線を照射するのがよく、必要な活性線の照射量を得るための照射時間としては、0.1秒〜1分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から0.1〜10秒がより好ましい。   The ultraviolet curable resin composition is preferably irradiated with ultraviolet rays during or after coating and drying, and the irradiation time for obtaining the necessary irradiation amount of active rays is preferably about 0.1 seconds to 1 minute, and is cured by ultraviolet rays. From the viewpoint of the curing efficiency or work efficiency of the functional resin, 0.1 to 10 seconds is more preferable.

また、これら活性線照射部の照度は50〜150mW/m2であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the illuminance of these active ray irradiation parts is 50-150 mW / m < 2 >.

また、ハードコート層(紫外線硬化性樹脂層)には金属酸化物微粒子を含有してもよい。   The hard coat layer (ultraviolet curable resin layer) may contain metal oxide fine particles.

含有される金属酸化物としては、Zr、Sn、Sb、As、Zn、Nb、In、Alから選択される金属酸化物微粒子であり、導電性を有する層とすることが好ましい。これによりハードコート層が帯電防止層、或いは電磁線遮蔽層として作用することが好ましい。   The metal oxide contained is metal oxide fine particles selected from Zr, Sn, Sb, As, Zn, Nb, In, and Al, and is preferably a conductive layer. Accordingly, it is preferable that the hard coat layer functions as an antistatic layer or an electromagnetic ray shielding layer.

特に好ましい金属酸化物としては、Sn、In或いはZn等の酸化物であり、特に所謂ITOとして知られるインジウムチンオキサイド等の導電性層とすることは好ましい。   A particularly preferable metal oxide is an oxide such as Sn, In, or Zn, and a conductive layer such as indium tin oxide known as so-called ITO is particularly preferable.

金属酸化物の量としては用いる金属酸化物の種類により異なるが、帯電防止層として用いる場合0.01〜500Ω/□、より好ましくは0.01〜10Ω/□の比抵抗値を有する様に添加することが好ましい。紫外線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜30質量部の範囲である。   The amount of metal oxide varies depending on the type of metal oxide used, but when used as an antistatic layer, it is added so as to have a specific resistance value of 0.01 to 500 Ω / □, more preferably 0.01 to 10 Ω / □. It is preferable to do. The ratio of the ultraviolet curable resin composition and the fine particles is in the range of 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

また、特開平9−222504号、同9−220791号、同9−226062号公報等に記載されたように、ハードコート層に高屈折率層としての役割をもたせる様に、例えばTiO2等の高屈折率層を形成する成分(金属酸化物微粒子)を含有させてもよい。この場合、該高屈折率層の上に前記の低屈折率層を塗設することで、光学干渉による単純な構成をもつ反射防止層を形成する。この場合のTiO2等の高屈折率層を形成する金属酸化物の量は、後述する高屈折率層におけるものと同様である。 Further, as described in JP-A-9-222504, JP-A-9-220791, JP-A-9-222602, etc., for example, TiO 2 or the like is used so that the hard coat layer has a role as a high refractive index layer. A component (metal oxide fine particles) for forming the high refractive index layer may be contained. In this case, an antireflection layer having a simple configuration by optical interference is formed by coating the low refractive index layer on the high refractive index layer. In this case, the amount of the metal oxide forming the high refractive index layer such as TiO 2 is the same as that in the high refractive index layer described later.

更に前述の低屈折率層をその上に直接或いは他の層を介して設ける際に、前記ハードコート層中には、前記(C)で表される疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレン基から構成される非イオン界面活性剤を含有させることが好ましい。前記低屈折層中にのみ添加する場合に比べ、より低反射率層の前記ジリカ微粒子の均一分散による塗布ムラの軽減が達成できる。前記(C)で表される界面活性剤の量は、ハードコート層組成物(固形分)に対し、0.001〜5質量部が好ましく、特に好ましい配合割合は0.003〜3質量部である。   Furthermore, when the above-mentioned low refractive index layer is provided directly or via another layer, the hard coat layer has a hydrophobic group represented by (C) as dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group as poly. It is preferable to contain a nonionic surfactant composed of an oxyalkylene group. Compared with the case where it is added only to the low refractive layer, it is possible to achieve a reduction in coating unevenness due to uniform dispersion of the silica particles in the lower reflectance layer. The amount of the surfactant represented by (C) is preferably 0.001 to 5 parts by mass, and particularly preferably 0.003 to 3 parts by mass with respect to the hard coat layer composition (solid content). is there.

また、ハードコート層は、2層以上の重層構造を有していてもよい。その中の1層は例えば前記導電性微粒子、或いは、イオン性ポリマーを含有する所謂帯電防止層としてもよいし、また、種々の表示素子に対する色補正用フィルタとして色調調整機能を有する色調調整剤を含有させてもよいし、また電磁波遮断剤或いは赤外線吸収剤等を含有させそれぞれの機能を有するようにすることは好ましい。   The hard coat layer may have a multilayer structure of two or more layers. One of the layers may be, for example, the above-mentioned conductive fine particles or a so-called antistatic layer containing an ionic polymer, or a color tone adjusting agent having a color tone adjusting function as a color correction filter for various display elements. It may be contained, or it is preferable to contain an electromagnetic wave blocking agent or an infrared absorber so as to have each function.

ここで色補正用のフィルタとしては、例えば、プラズマディスプレイパネルの場合には、三原色蛍光体からの発光に含まれる余分な光(波長が560乃至620nmの範囲)を除いて、表示色の色バランスを補正するための色調調整剤を含有させる。これら光学フィルタとして用いる染料または顔料については、特開昭58−153904号、同60−18749号、特開平3−231988号、同5−205643号、同9−145918号、同10−26704号、特開2001−91734号、特開2001−201629号公報等に記載されている。色補正用のフィルタとしては、上記PDPパネルの色調調整に限らず、他の表示装置において必要とされる種々の波長領域においてし色調調整機能を有するものを含む。   Here, as a filter for color correction, for example, in the case of a plasma display panel, the color balance of the display color is excluded except for extra light (wavelength in the range of 560 to 620 nm) included in light emission from the three primary color phosphors. A color tone adjusting agent for correcting the above is contained. Regarding the dyes or pigments used as these optical filters, JP-A-58-153904, JP-A-60-18749, JP-A-3-231988, JP-A-5-205643, JP-A-9-145918, JP-A-10-26704, It describes in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-91734, Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-201629, etc. The color correction filter is not limited to the color tone adjustment of the PDP panel, but includes a filter having a color tone adjustment function in various wavelength regions required for other display devices.

電磁波遮断剤としては、例えば、特開平9−306366号、特開2001−201629号公報等に記載があり、これは例えば、銀、または無機酸化物をスパッタリングし、表面抵抗が略100Å程度の薄膜に製膜したもの等があげられ、これにより例えばプラズマディスプレイパネルから漏洩する30MHz〜130MHzの周波数範囲の電磁波を遮蔽すると共に、同じくプラズマディスプレイパネルより放出される近赤外領域(800〜1000nm)の線スペクトルを遮断する。   Examples of the electromagnetic wave blocking agent are described in JP-A-9-306366, JP-A-2001-201629, and the like. For example, this is a thin film having a surface resistance of about 100 mm by sputtering silver or an inorganic oxide. In this way, for example, electromagnetic waves in the frequency range of 30 MHz to 130 MHz leaking from the plasma display panel are shielded, and in the near infrared region (800 to 1000 nm) also emitted from the plasma display panel. Block line spectrum.

また、赤外線吸収剤としては、赤外領域に吸収を有する染料或いは顔料がよく、例えば、特開2001−194522号、特開2001−201629号公報等に記載された染料或いは顔料があげられる。これら染料或いは顔料の量としては、補正に必要な或いは遮断するに必要な量が選択されていればよく、用いられる染料或いは顔料の種類により変化するが、800nmでの透過率が15%以下、850nmでの透過率が5%以下となるように用いることが好ましい。   The infrared absorber is preferably a dye or pigment having absorption in the infrared region, and examples thereof include dyes and pigments described in JP-A Nos. 2001-194522 and 2001-201629. As the amount of these dyes or pigments, the amount necessary for correction or the amount necessary for blocking may be selected, and varies depending on the type of dye or pigment used, but the transmittance at 800 nm is 15% or less, It is preferably used so that the transmittance at 850 nm is 5% or less.

〈バックコート層〉
本発明の反射防止フィルムを作製する基材となるセルロースエステルフィルムの活性線硬化樹脂層を設けた側と反対側の面にはバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、活性線硬化樹脂層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることが出来る。尚、バックコート層は好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設され、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。
<Back coat layer>
It is preferable to provide a back coat layer on the surface opposite to the side on which the actinic radiation curable resin layer is provided of the cellulose ester film serving as a substrate for producing the antireflection film of the present invention. The back coat layer is provided in order to correct curling caused by providing an actinic radiation curable resin layer or other layers. That is, the degree of curling can be balanced by imparting the property of being rounded with the surface on which the backcoat layer is provided facing inward. The back coat layer is preferably applied also as an anti-blocking layer. In that case, it is preferable that fine particles are added to the back coat layer coating composition in order to provide an anti-blocking function.

バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものがヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。   As fine particles added to the back coat layer, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, and oxidation. Mention may be made of indium, zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low haze, and silicon dioxide is particularly preferable.

これらの微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   These fine particles are commercially available under the trade names of, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, and TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). . Zirconium oxide fine particles are commercially available under the trade names of Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used. Examples of the polymer include silicone resin, fluorine resin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもでアエロジル200V、アエロジルR972Vがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられる反射防止フィルムは、活性線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が0.9以下、特に0.1〜0.9であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large anti-blocking effect while keeping haze low. In the antireflection film used in the present invention, the dynamic friction coefficient on the back surface side of the actinic radiation curable resin layer is preferably 0.9 or less, particularly preferably 0.1 to 0.9.

バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して0.1〜50質量%好ましくは0.1〜10質量%であることが好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は1%以下であることが好ましく0.5%以下であることが好ましく、特に0.0〜0.1%であることが好ましい。   The fine particles contained in the backcoat layer are 0.1 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the binder. When the back coat layer is provided, the increase in haze is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.0 to 0.1%.

バックコート層は、具体的にはセルロースエステルフィルムを溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。用いる溶媒としては、溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒の混合物の他更に溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合いや樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。   Specifically, the back coat layer is formed by applying a composition containing a solvent for dissolving or swelling a cellulose ester film. The solvent used may include a solvent to be dissolved and / or a solvent to be swollen in addition to a solvent to be swelled, a composition in which these are mixed at an appropriate ratio depending on the degree of curling of the transparent resin film and the type of resin, and This is done using the coating amount.

カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この混合比率は好ましくは(溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒):(溶解させない溶媒)=10:0〜1:9で用いられる。この様な混合組成物に含まれる、透明樹脂フィルムを溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどがある。溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノール、シクロヘキサノール或いは炭化水素類(トルエン、キシレン)などがある。   In order to enhance the curl prevention function, it is effective to increase the mixing ratio of the solvent for dissolving the solvent composition to be used and / or the solvent for swelling, and to decrease the ratio of the solvent not to be dissolved. This mixing ratio is preferably (solvent to be dissolved and / or solvent to be swollen) :( solvent to be dissolved) = 10: 0 to 1: 9. Examples of the solvent for dissolving or swelling the transparent resin film contained in such a mixed composition include dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, N, N-dimethylformamide, methyl acetate, ethyl acetate, trichloroethylene, methylene chloride, and ethylene chloride. , Tetrachloroethane, trichloroethane, chloroform and the like. Examples of the solvent that does not dissolve include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butanol, cyclohexanol, and hydrocarbons (toluene, xylene).

これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、或いはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚1〜100μmで塗布するのが好ましいが、特に5〜30μmであることが好ましい。バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体或いは共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート(好ましくはアセチル基置換度1.8〜2.3、プロピオニル基置換度0.1〜1.0)、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び/またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることが出来るが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レーヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することも出来る。   These coating compositions are preferably applied to the surface of the transparent resin film with a wet film thickness of 1 to 100 μm using a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die coater, spray coating, ink jet coating or the like. Is particularly preferably 5 to 30 μm. Examples of the resin used as the binder of the backcoat layer include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, partially hydrolyzed vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. Polymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc. Vinyl polymer or copolymer, nitrocellulose, cellulose acetate propionate (preferably acetyl group substitution degree 1.8-2.3, propionyl group substitution degree 0.1-1.0), diacetyl cellulose, cellulose Cellulose derivatives such as acetate butyrate resin, maleic acid and / or Or acrylic acid copolymer, acrylic ester copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, chlorinated polyethylene, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene copolymer, methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin Rubber resins such as polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin, amino resin, styrene-butadiene resin, butadiene-acrylonitrile resin, Examples thereof include, but are not limited to, silicone resins and fluorine resins. For example, as an acrylic resin, Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M-4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001, M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR -80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105 BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) acrylic and The methacrylic monomers such as various homopolymers and copolymers were prepared as raw materials are commercially available, can also be selected preferred mono from this appropriate.

特に好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂層である。   Particularly preferred are cellulose resin layers such as diacetylcellulose and cellulose acetate propionate.

バックコート層を塗設する順番はセルロースエステルフィルムの活性線硬化樹脂層を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。或いは2回以上に分けてバックコート層を塗布することも出来る。   The order of applying the backcoat layer may be before or after applying the actinic radiation curable resin layer of the cellulose ester film. However, when the backcoat layer also serves as an antiblocking layer, it is preferably applied first. Alternatively, the backcoat layer can be applied in two or more steps.

本発明の反射防止フィルムは、塗布或いは、プラズマCVD法、特に大気圧プラズマ処理法によって種々な機能層を形成するのにも適しており、これらは本発明の反射防止フィルムに種々の機能を付与するのに有用である。   The antireflection film of the present invention is also suitable for forming various functional layers by coating or plasma CVD, particularly atmospheric pressure plasma treatment, and these provide various functions to the antireflection film of the present invention. Useful to do.

大気圧プラズマ処理法としては、例えば特開平11−181573号、特開2000−26632、同2002−110397等に記載の高周波パルス電圧を印加する大気圧プラズマ放電処理方法を用いることが出来る。或いは特開2001−337201記載の大気圧プラズマ放電処理方法により導電層を設けることが出来る。或いは特開2002−228803、特願2002−369679、特願2002−317883、特願2003−50823記載の方法で反射防止層を設けることが出来る。或いは特願2003−50823記載の方法で防汚層を設けることが出来る。或いは特開2003−93963、特願2002−49724記載の方法で反射防止層を塗設することが出来る。   As an atmospheric pressure plasma treatment method, for example, an atmospheric pressure plasma discharge treatment method for applying a high-frequency pulse voltage described in JP-A-11-181573, JP-A-2000-26632, JP-A-2002-110397, or the like can be used. Alternatively, the conductive layer can be provided by an atmospheric pressure plasma discharge processing method described in JP-A-2001-337201. Alternatively, the antireflection layer can be provided by the methods described in JP-A No. 2002-228803, Japanese Patent Application No. 2002-369679, Japanese Patent Application No. 2002-317883, and Japanese Patent Application No. 2003-50823. Alternatively, the antifouling layer can be provided by the method described in Japanese Patent Application No. 2003-50823. Alternatively, the antireflection layer can be applied by the method described in JP-A-2003-93963 and Japanese Patent Application No. 2002-49724.

特に大部分が窒素ガスの雰囲気下で金属化合物(例えばSiOx、SiOxNy、TiOxNy、SiOxCz(x=1〜2、y=0.1〜1、z=0.1〜2)等の金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物)中でも金属酸化物等の薄膜を形成することが出来る。ガス中に含まれる窒素ガスは60〜99.9体積%であり、好ましくは75〜99.9体積%であり、更に好ましくは90〜99.9体積%である。窒素ガス以外には、アルゴンやヘリウム等の希ガスを含有させてもよく、薄膜を形成するための金属化合物のガスが含有され、更に酸素、水素等の反応を促進させるためのガス(添加ガスまたは補助ガスともいう)等が含有される。これらによって金属化合物を含有する低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層、透明導電層、帯電防止層、防汚層などを更に形成することが出来る。   In particular, metal oxides such as metal compounds (for example, SiOx, SiOxNy, TiOxNy, SiOxCz (x = 1 to 2, y = 0.1-1, z = 0.1-2)) under an atmosphere of nitrogen gas, Metal nitrides, metal oxynitrides, metal carbides, etc.) can be used to form thin films such as metal oxides. The nitrogen gas contained in the gas is 60 to 99.9% by volume, preferably 75 to 99.9% by volume, and more preferably 90 to 99.9% by volume. In addition to nitrogen gas, a rare gas such as argon or helium may be contained, a gas of a metal compound for forming a thin film is contained, and further a gas (addition gas) for promoting a reaction such as oxygen and hydrogen. Or an auxiliary gas). By these, a low refractive index layer, a high refractive index layer, a medium refractive index layer, a transparent conductive layer, an antistatic layer, an antifouling layer and the like containing a metal compound can be further formed.

〈反射防止層〉
本発明に係る反射防止フィルムは活性線硬化樹脂層上に、少なくとも無機微粒子を含有する低屈折率層を有し、該無機微粒子が多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子であることを特徴とする。
<Antireflection layer>
The antireflection film according to the present invention has a low refractive index layer containing at least inorganic fine particles on an active ray curable resin layer, and the inorganic fine particles are provided with porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles. It is characterized in that it is a composite particle or a hollow particle filled with a solvent, gas, or porous substance.

本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されないが、塗布により形成することが好ましい。   In the present invention, the method for providing the antireflection layer is not particularly limited, but it is preferably formed by coating.

反射防止層を塗布により形成する方法としては、溶剤に溶解したバインダー樹脂中に金属酸化物の粉末を分散し、塗布乾燥する方法、架橋構造を有するポリマーをバインダー樹脂として用いる方法、エチレン性不飽和モノマーと光重合開始剤を含有させ、活性線を照射することにより層を形成する方法等の方法を挙げることが出来る。   As a method of forming the antireflection layer by coating, a method of dispersing metal oxide powder in a binder resin dissolved in a solvent, coating and drying, a method of using a polymer having a crosslinked structure as a binder resin, ethylenic unsaturated Examples of the method include a method of forming a layer by containing a monomer and a photopolymerization initiator and irradiating with actinic radiation.

本発明においては、活性線硬化樹脂層を付与したセルロースエステルフィルムの上に反射防止層を設け、該反射防止層の少なくとも一層が低屈折率層である。   In the present invention, an antireflection layer is provided on a cellulose ester film provided with an actinic radiation curable resin layer, and at least one of the antireflection layers is a low refractive index layer.

好ましい反射防止フィルムの構成を下記に示すが、これらに限定されるものではない。   Although the structure of a preferable antireflection film is shown below, it is not limited to these.

ここでハードコート層とは、前述の活性線硬化樹脂層を意味する。   Here, the hard coat layer means the actinic radiation curable resin layer described above.

セルロースエステルフィルム/クリアハードコート層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/クリアハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/クリアハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/帯電防止層/クリアハードコート層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/帯電防止層/クリアハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/帯電防止層/クリアハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/防眩性ハードコート層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/防眩性ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/防眩性ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/帯電防止層/防眩性ハードコート層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/帯電防止層/防眩性ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/帯電防止層/防眩性ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
いずれもセルロースエステルフィルムのハードコート層を塗設した側と反対面には、前述のバックコート層を設けることが好ましい。
Cellulose ester film / Clear hard coat layer / Low refractive index layer Cellulose ester film / Clear hard coat layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Cellulose ester film / Clear hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Cellulose ester film / Antistatic layer / Clear hard coat layer / Low refractive index layer Cellulose ester film / Antistatic layer / Clear hard coat layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Cellulose ester film / Antistatic layer / Clear hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Cellulose ester film / Anti-glare hard coat layer / Low refractive index layer Cellulose ester film / Anti-glare hard coat layer / High refractive index layer / Low refractive index layer cellulose ester film / Anti-glare hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / low refractive index layer Cellulose ester film / antistatic layer / antiglare hard coat layer / low refractive index layer Cellulose ester film / antistatic layer / antiglare hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index Index layer Cellulose ester film / Antistatic layer / Anti-glare hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer All are on the opposite side of the cellulose ester film coated with the hard coat layer. The above-described back coat layer is preferably provided.

前記反射防止フィルムでは、最上層に低屈折率層を形成し、活性線硬化樹脂層との間に高屈折率層の金属酸化物層を形成したり、更に活性線硬化樹脂層と高屈折率層との間に中屈折率層(金属酸化物の含有量或いは樹脂バインダーとの比率、金属の種類を変更して屈折率を調整した金属酸化物層)を設けることは、反射率の低減のために好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、基材であるセルロースエステルフィルムの屈折率(約1.5)と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。低屈折率層の屈折率は、1.3〜1.44、より好ましくは1.20〜1.42であることが好ましい。各層の厚さは、5nm〜0.5μmであることが好ましく、10nm〜0.3μmであることが更に好ましく、30nm〜0.2μmであることが最も好ましい。金属酸化物層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。金属酸化物層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で3H以上であることが好ましく、4H以上であることが最も好ましい。金属酸化物層を塗布により形成する場合は、無機微粒子とバインダーポリマーとを含むことが好ましい。   In the antireflection film, a low refractive index layer is formed as the uppermost layer, a metal oxide layer of a high refractive index layer is formed between the active ray curable resin layer, and an active ray curable resin layer and a high refractive index. Providing a medium refractive index layer (a metal oxide content or a ratio with a resin binder, a metal oxide layer in which the refractive index is adjusted by changing the type of metal) between the two layers reduces the reflectance. Therefore, it is preferable. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.30, and more preferably 1.57 to 2.20. The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted so as to be an intermediate value between the refractive index (about 1.5) of the cellulose ester film as the substrate and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55-1.80. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.3 to 1.44, more preferably 1.20 to 1.42. The thickness of each layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably 30 nm to 0.2 μm. The haze of the metal oxide layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the metal oxide layer is preferably 3H or more, and most preferably 4H or more, with a pencil hardness of 1 kg. When the metal oxide layer is formed by coating, it is preferable to include inorganic fine particles and a binder polymer.

また、本発明の低屈折率層或いは他の屈折率層には滑り剤を添加することが好ましく、滑り性を付与することによって耐傷性を改善することが出来る。滑り剤としては、シリコンオイルまたはワックス状物質が好ましく用いられる。例えば、下記一般式で表される化合物が好ましい。   Moreover, it is preferable to add a slipping agent to the low refractive index layer or other refractive index layers of the present invention, and scratch resistance can be improved by imparting slipperiness. As the slip agent, silicon oil or a wax-like substance is preferably used. For example, a compound represented by the following general formula is preferable.

一般式 R1COR2
式中、R1は炭素原子数が12以上の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基を表す。アルキル基またはアルケニル基が好ましく、更に炭素原子数が16以上のアルキル基またはアルケニル基が好ましい。R2は−OM1基(M1はNa、K等のアルカリ金属を表す)、−OH基、−NH2基、または−OR3基(R3は炭素原子数が12以上の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基、好ましくはアルキル基またはアルケニル基を表す)を表し、R2としては−OH基、−NH2基または−OR3基が好ましい。具体的には、ベヘン酸、ステアリン酸アミド、ペンタコ酸等の高級脂肪酸またはその誘導体、天然物としてこれらの成分を多く含んでいるカルナバワックス、蜜蝋、モンタンワックスも好ましく使用出来る。特公昭53−292号公報に開示されているようなポリオルガノシロキサン、米国特許第4,275,146号明細書に開示されているような高級脂肪酸アミド、特公昭58−33541号公報、英国特許第927,446号明細書または特開昭55−126238号公報及び同58−90633号公報に開示されているような高級脂肪酸エステル(炭素数が10〜24の脂肪酸と炭素数が10〜24のアルコールのエステル)、そして米国特許第3,933,516号明細書に開示されているような高級脂肪酸金属塩、特開昭51−37217号公報に開示されているような炭素数10までのジカルボン酸と脂肪族または環式脂肪族ジオールからなるポリエステル化合物、特開平7−13292号公報に開示されているジカルボン酸とジオールからのオリゴポリエステル等を挙げることが出来る。
General formula R 1 COR 2
In the formula, R 1 represents a saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 12 or more carbon atoms. An alkyl group or an alkenyl group is preferable, and an alkyl group or alkenyl group having 16 or more carbon atoms is more preferable. R 2 represents —OM 1 group (M 1 represents an alkali metal such as Na or K), —OH group, —NH 2 group, or —OR 3 group (R 3 represents a saturated or unsaturated group having 12 or more carbon atoms. R 2 represents a saturated aliphatic hydrocarbon group, preferably an alkyl group or an alkenyl group, and R 2 is preferably an —OH group, —NH 2 group, or —OR 3 group. Specifically, higher fatty acids such as behenic acid, stearamide, and pentacoic acid, or derivatives thereof, and carnauba wax, beeswax, and montan wax containing many of these components as natural products can also be preferably used. Polyorganosiloxane as disclosed in JP-B-53-292, higher fatty acid amide as disclosed in US Pat. No. 4,275,146, JP-B 58-33541, British patent No. 927,446 or JP-A-55-126238 and 58-90633, higher fatty acid esters (fatty acids having 10 to 24 carbon atoms and 10 to 24 carbon atoms). Esters of alcohols), and higher fatty acid metal salts as disclosed in U.S. Pat. No. 3,933,516, dicarboxylic acids having up to 10 carbon atoms as disclosed in JP-A-51-37217 A polyester compound comprising an acid and an aliphatic or cycloaliphatic diol, a dicarboxylic acid disclosed in JP-A-7-13292, It can be mentioned oligo polyester or the like from the Le.

例えば、低屈折率層に使用する滑り剤の添加量は0.01mg/m2〜10mg/m2が好ましい。 For example, the amount of slip agent to be used in the low refractive index layer is preferably 0.01mg / m 2 ~10mg / m 2 .

本発明においては、反射率の低減のために、活性線硬化樹脂層を付与した透明支持体と低屈折率層との間に、高屈折率層を設けることも好ましい。また、透明支持体と高屈折率層との間に中屈折率層を設けることは、反射率の低減のために更に好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、透明支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の厚さは、5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度でH以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。   In the present invention, in order to reduce the reflectance, it is also preferable to provide a high refractive index layer between the transparent support provided with the active ray curable resin layer and the low refractive index layer. In addition, it is more preferable to provide a middle refractive index layer between the transparent support and the high refractive index layer in order to reduce the reflectance. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.30, and more preferably 1.57 to 2.20. The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the transparent support and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55-1.80. The thickness of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm. The haze of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher, with a pencil hardness of 1 kg.

本発明に用いられる中、高屈折率層は下記一般式で表される有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物を含有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させた屈折率1.55〜2.5の層であることが好ましい。   Among the refractive index layers used in the present invention, the high refractive index layer was formed by applying and drying a coating solution containing a monomer, oligomer or hydrolyzate of an organic titanium compound represented by the following general formula. A layer of 55 to 2.5 is preferred.

一般式 Ti(OR14
式中、R1としては炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基がよいが、好ましくは炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基である。また、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、アルコキシド基が加水分解を受けて−Ti−O−Ti−のように反応して架橋構造を作り、硬化した層を形成する。
General formula Ti (OR 1 ) 4
In the formula, R 1 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. Moreover, the monomer, oligomer, or hydrolyzate thereof of an organic titanium compound reacts like -Ti-O-Ti- when an alkoxide group is hydrolyzed to form a crosslinked structure, thereby forming a cured layer.

本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーとしては、Ti(OCH34、Ti(OC254、Ti(O−n−C374、Ti(O−i−C374、Ti(O−n−C4H9)4、Ti(O−n−C374の2〜10量体、Ti(O−i−C374の2〜10量体、Ti(O−n−C494の2〜10量体等が好ましい例として挙げられる。これらは単独で、または2種以上組み合わせて用いることが出来る。中でもTi(O−n−C374、Ti(O−i−C374、Ti(O−n−C494、Ti(O−n−C374の2〜10量体、Ti(O−n−C494の2〜10量体が特に好ましい。 Examples of the monomer or oligomer of the organic titanium compound used in the present invention include Ti (OCH 3 ) 4 , Ti (OC 2 H 5 ) 4 , Ti (On-C 3 H 7 ) 4 , Ti (O-i- C 3 H 7) 4, Ti (O-n-C4H9) 4, Ti (O-n-C 3 H 7) 4 2-10 mer, Ti (O-i-C 3 H 7) 4 2 10-mer, 2-10 mers etc. Ti (O-n-C 4 H 9) 4 are preferred examples. These may be used alone or in combination of two or more. Of these Ti (O-n-C 3 H 7) 4, Ti (O-i-C 3 H 7) 4, Ti (O-n-C 4 H 9) 4, Ti (O-n-C 3 H 7 ) 4 to 10-mer and Ti (On-C 4 H 9 ) 4 to 10-mer are particularly preferable.

本発明に用いられる中、高屈折率層用塗布液は、水と後述する有機溶媒が順次添加された溶液中に上記有機チタン化合物を添加することが好ましい。水を後から添加した場合は、加水分解/重合が均一に進行せず、白濁が発生したり、膜強度が低下する。水と有機溶媒は添加された後、良く混合させるために攪拌し混合溶解されていることが好ましい。   Among the coating solutions for the high refractive index layer used in the present invention, it is preferable to add the organic titanium compound to a solution in which water and an organic solvent described later are sequentially added. When water is added later, hydrolysis / polymerization does not proceed uniformly, and white turbidity occurs or film strength decreases. After the water and the organic solvent are added, it is preferable that they are stirred and mixed and dissolved in order to mix well.

また、別法として有機チタン化合物と有機溶媒を混合させておき、この混合溶液を、上記水と有機溶媒の混合攪拌された溶液中に添加することも好ましい態様である。   Further, as another method, it is also a preferred embodiment that an organic titanium compound and an organic solvent are mixed and this mixed solution is added to the mixed and stirred solution of water and the organic solvent.

また、水の量は有機チタン化合物1モルに対して、0.25〜3モルの範囲であることが好ましい。0.25モル未満であると、加水分解、重合の進行が不十分で膜強度が低下する。3モルを超えると加水分解、重合が進行し過ぎて、TiO2の粗大粒子が発生し白濁するため好ましくない。従って水の量は上記範囲で調整する必要がある。 Moreover, it is preferable that the quantity of water is the range of 0.25-3 mol with respect to 1 mol of organic titanium compounds. When the amount is less than 0.25 mol, hydrolysis and polymerization are not sufficiently progressed and the film strength is lowered. If it exceeds 3 moles, hydrolysis and polymerization will proceed excessively, resulting in generation of coarse TiO 2 particles and white turbidity. Therefore, the amount of water needs to be adjusted within the above range.

また、水の含有率は塗布液総量に対して10質量%未満であることが好ましい。水の含有率を塗布液総量に対して10質量%以上にすると、塗布液の経時安定が劣り白濁を生じたりするため好ましくない。   Moreover, it is preferable that the content rate of water is less than 10 mass% with respect to the coating liquid total amount. If the water content is 10% by mass or more with respect to the total amount of the coating solution, it is not preferable because the stability of the coating solution with time deteriorates and white turbidity occurs.

本発明に用いられる有機溶媒としては、水混和性の有機溶媒であることが好ましい。水混和性の有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。これらの有機溶媒の使用量は、前述したように、水の含有率が塗布液総量に対して10質量%未満であるように、水と有機溶媒のトータルの使用量を調整すればよい。   The organic solvent used in the present invention is preferably a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, etc.), many Monohydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thiodiglycol, etc.), polyvalent Alcohol ethers (eg, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether) , Ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono Phenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (eg, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ethylenediamine, diethylenediamine) , Triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.), heterocyclic rings (For example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide, etc.), sulfones (for example, , Sulfolane and the like), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable. The amount of these organic solvents used may be adjusted as described above so that the water content is less than 10% by mass with respect to the total amount of the coating solution.

本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、塗布液に含まれる固形分中の50.0質量%〜98.0質量%を占めていることが望ましい。固形分比率は50質量%〜90質量%がより好ましく、55質量%〜90質量%が更に好ましい。この他、塗布組成物には有機チタン化合物のポリマー(予め有機チタン化合物の加水分解を行って架橋したもの)或いは酸化チタン微粒子を添加することも好ましい。   The monomer, oligomer or hydrolyzate of the organic titanium compound used in the present invention preferably occupies 50.0% by mass to 98.0% by mass in the solid content contained in the coating solution. The solid content ratio is more preferably 50% by mass to 90% by mass, and further preferably 55% by mass to 90% by mass. In addition, it is also preferable to add to the coating composition a polymer of an organic titanium compound (a product obtained by crosslinking the organic titanium compound in advance by hydrolysis) or titanium oxide fine particles.

本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、微粒子として金属酸化物粒子を含み、更にバインダーポリマーを含むものも好ましく用いられる。   The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention preferably include those containing metal oxide particles as fine particles and further containing a binder polymer.

或いは、上記塗布液調製法で加水分解/重合した有機チタン化合物と金属酸化物粒子を組み合わせると、金属酸化物粒子と加水分解/重合した有機チタン化合物とが強固に接着し、粒子のもつ硬さと均一膜の柔軟性を兼ね備えた強い塗膜を得ることが出来る。   Alternatively, when the organic titanium compound hydrolyzed / polymerized by the coating liquid preparation method and the metal oxide particles are combined, the metal oxide particles and the hydrolyzed / polymerized organic titanium compound are firmly bonded, and the hardness of the particles A strong coating film having the flexibility of a uniform film can be obtained.

高屈折率層及び中屈折率層に用いる金属酸化物粒子は、屈折率が1.80〜2.80であることが好ましく、1.90〜2.80であることが更に好ましい。金属酸化物粒子の1次粒子の重量平均径は、1〜150nmであることが好ましく、1〜100nmであることが更に好ましく、1〜80nmであることが最も好ましい。層中での金属酸化物粒子の重量平均径は、1〜200nmであることが好ましく、5〜150nmであることがより好ましく、10〜100nmであることが更に好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。金属酸化物粒子の平均粒径は、20〜30nm以上であれば光散乱法により、20〜30nm以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。金属酸化物粒子の比表面積は、BET法で測定された値として、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることが更に好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The metal oxide particles used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer preferably have a refractive index of 1.80 to 2.80, and more preferably 1.90 to 2.80. The weight average diameter of the primary particles of the metal oxide particles is preferably 1 to 150 nm, more preferably 1 to 100 nm, and most preferably 1 to 80 nm. The weight average diameter of the metal oxide particles in the layer is preferably 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, still more preferably 10 to 100 nm, and more preferably 10 to 80 nm. Most preferred. The average particle diameter of the metal oxide particles is measured by a light scattering method if it is 20-30 nm or more, and by an electron micrograph if it is 20-30 nm or less. The specific surface area of metal oxide particles, as measured values by the BET method is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, with 30 to 150 m 2 / g Most preferably it is.

金属酸化物粒子の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物であり、具体的には二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化ジルコニウムが挙げられる。中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。金属酸化物粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことが出来、導電性を付与した微粒子も好ましく用いられる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びS等が挙げられる。   Examples of the metal oxide particles include at least one selected from Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S. Specific examples of the metal oxide include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and zirconium oxide. Of these, titanium oxide, tin oxide, and indium oxide are particularly preferable. The metal oxide particles are mainly composed of oxides of these metals, can further contain other elements, and fine particles imparted with conductivity are also preferably used. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S.

金属酸化物粒子は表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することが出来る。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。   The metal oxide particles are preferably surface-treated. The surface treatment can be performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include alumina, silica, zirconium oxide and iron oxide. Of these, alumina and silica are preferable. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, a silane coupling agent is most preferable.

具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。   Specific examples of the silane coupling agent include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane. Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxy Propyltriethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, Examples include N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.

また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。   Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.

これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。   Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxyp Particularly preferred are propyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane.

2種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。   Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.

カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施出来る。表面処理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、またはこれらの塩(例えば、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。   The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the fine particle dispersion and allowing the dispersion to stand at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (for example, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.

これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、前述の有機チタン化合物及び金属酸化物粒子の表面が反応し易く、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えることも好ましい。この加水分解に用いた水も有機チタン化合物の加水分解/重合に用いることが出来る。   These silane coupling agents are preferably hydrolyzed with a necessary amount of water in advance. When the silane coupling agent is hydrolyzed, the surfaces of the organic titanium compound and the metal oxide particles described above are easy to react and a stronger film is formed. It is also preferable to add a hydrolyzed silane coupling agent to the coating solution in advance. The water used for this hydrolysis can also be used for the hydrolysis / polymerization of the organic titanium compound.

本発明では2種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。金属酸化物粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。2種類以上の金属酸化物粒子を高屈折率層或いは中屈折率層に用いてもよい。   In the present invention, the treatment may be performed by combining two or more kinds of surface treatments. The shape of the metal oxide particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape or an indefinite shape. Two or more kinds of metal oxide particles may be used in the high refractive index layer or the middle refractive index layer.

高屈折率層及び中屈折率層中の金属酸化物粒子の割合は、5〜65体積%であることが好ましく、より好ましくは10〜60体積%であり、更に好ましくは20〜55体積%である。   The ratio of the metal oxide particles in the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5 to 65% by volume, more preferably 10 to 60% by volume, and still more preferably 20 to 55% by volume. is there.

上記金属酸化物粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層及び中屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、ケトンアルコール(例、ジアセトンアルコール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The metal oxide particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol). , Esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene) Chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

また金属酸化物粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。   The metal oxide particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、架橋構造を有するポリマー(以下、架橋ポリマーともいう)をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー(以下、ポリオレフィンと総称する)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。また、架橋ポリマーがアニオン性基を有することは更に好ましい。アニオン性基は無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋構造はポリマーに皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ましい。   The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention preferably use a polymer having a crosslinked structure (hereinafter also referred to as a crosslinked polymer) as a binder polymer. Examples of the crosslinked polymer include polymers having a saturated hydrocarbon chain such as polyolefin (hereinafter collectively referred to as polyolefin), and crosslinked products such as polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide, and melamine resin. Among them, a crosslinked product of polyolefin, polyether and polyurethane is preferred, a crosslinked product of polyolefin and polyether is more preferred, and a crosslinked product of polyolefin is most preferred. Further, it is further preferable that the crosslinked polymer has an anionic group. The anionic group has a function of maintaining the dispersion state of the inorganic fine particles, and the crosslinked structure has a function of imparting a film forming ability to the polymer and strengthening the film. The anionic group may be directly bonded to the polymer chain or may be bonded to the polymer chain via a linking group, but is bonded to the main chain as a side chain via the linking group. Is preferred.

アニオン性基の例としては、カルボン酸基(カルボキシル)、スルホン酸基(スルホ)及びリン酸基(ホスホノ)が挙げられる。中でも、スルホン酸基及びリン酸基が好ましい。ここで、アニオン性基は、塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは、解離していてもよい。アニオン性基とポリマー鎖とを結合する連結基は、−CO−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。好ましいバインダーポリマーである架橋ポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。この場合、コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96質量%であることが好ましく、4〜94質量%であることが更に好ましく、6〜92質量%であることが最も好ましい。繰り返し単位は、2以上のアニオン性基を有していてもよい。   Examples of the anionic group include a carboxylic acid group (carboxyl), a sulfonic acid group (sulfo), and a phosphoric acid group (phosphono). Of these, sulfonic acid groups and phosphoric acid groups are preferred. Here, the anionic group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the anionic group is preferably an alkali metal ion. Moreover, the proton of the anionic group may be dissociated. The linking group that binds the anionic group and the polymer chain is preferably a divalent group selected from —CO—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. The crosslinked polymer which is a preferable binder polymer is preferably a copolymer having a repeating unit having an anionic group and a repeating unit having a crosslinked structure. In this case, the ratio of the repeating unit having an anionic group in the copolymer is preferably 2 to 96% by mass, more preferably 4 to 94% by mass, and most preferably 6 to 92% by mass. preferable. The repeating unit may have two or more anionic groups.

アニオン性基を有する架橋ポリマーには、その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋構造も有しない繰り返し単位)が含まれていてもよい。その他の繰り返し単位としては、アミノ基または4級アンモニウム基を有する繰り返し単位及びベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基または4級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有する。ベンゼン環は、高屈折率層の屈折率を高くする機能を有する。尚、アミノ基、4級アンモニウム基及びベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位或いは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。   The crosslinked polymer having an anionic group may contain other repeating units (a repeating unit having neither an anionic group nor a crosslinked structure). Other repeating units are preferably a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group and a repeating unit having a benzene ring. The amino group or quaternary ammonium group has a function of maintaining the dispersed state of the inorganic fine particles, like the anionic group. The benzene ring has a function of increasing the refractive index of the high refractive index layer. The amino group, the quaternary ammonium group, and the benzene ring can obtain the same effect even if they are contained in a repeating unit having an anionic group or a repeating unit having a crosslinked structure.

上記アミノ基または4級アンモニウム基を有する繰り返し単位を構成単位として含有する架橋ポリマーにおいて、アミノ基または4級アンモニウム基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、或いは連結基を介し側鎖としてポリマー鎖に結合していてもよいが、後者がより好ましい。アミノ基または4級アンモニウム基は、2級アミノ基、3級アミノ基または4級アンモニウム基であることが好ましく、3級アミノ基または4級アンモニウム基であることが更に好ましい。2級アミノ基、3級アミノ基または4級アンモニウム基の窒素原子に結合している基としては、アルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜12のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数1〜6のアルキル基である。4級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。アミノ基または4級アンモニウム基とポリマー鎖とを結合する連結基は、−CO−、−NH−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる2価の基であることが好ましい。架橋ポリマーが、アミノ基または4級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、0.06〜32質量%であることが好ましく、0.08〜30質量%であることが更に好ましく、0.1〜28質量%であることが最も好ましい。   In the crosslinked polymer containing a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group as a constituent unit, the amino group or quaternary ammonium group may be directly bonded to the polymer chain, or may be a side chain via a linking group. May be bonded to the polymer chain, but the latter is more preferred. The amino group or quaternary ammonium group is preferably a secondary amino group, a tertiary amino group or a quaternary ammonium group, more preferably a tertiary amino group or a quaternary ammonium group. The group bonded to the nitrogen atom of the secondary amino group, tertiary amino group or quaternary ammonium group is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, still more preferably carbon number. 1 to 6 alkyl groups. The counter ion of the quaternary ammonium group is preferably a halide ion. The linking group that connects the amino group or quaternary ammonium group to the polymer chain is a divalent group selected from —CO—, —NH—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. Is preferred. When the crosslinked polymer includes a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group, the ratio is preferably 0.06 to 32% by mass, more preferably 0.08 to 30% by mass, Most preferably, it is 0.1-28 mass%.

架橋ポリマーは、架橋ポリマーを生成するためのモノマーを配合して高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布液を調製し、塗布液の塗布と同時または塗布後に、重合反応によって生成させることが好ましい。架橋ポリマーの生成と共に、各層が形成される。アニオン性基を有するモノマーは、塗布液中で無機微粒子の分散剤として機能する。アニオン性基を有するモノマーは、無機微粒子に対して、好ましくは1〜50質量%、より好ましくは5〜40質量%、更に好ましくは10〜30質量%使用される。また、アミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーは、塗布液中で分散助剤として機能する。アミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーは、アニオン性基を有するモノマーに対して、好ましくは3〜33質量%使用される。塗布液の塗布と同時または塗布後に、重合反応によって架橋ポリマーを生成する方法により、塗布液の塗布前にこれらのモノマーを有効に機能させることが出来る。   The cross-linked polymer is prepared by blending a monomer for generating a cross-linked polymer to prepare a coating solution for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer, and is generated by a polymerization reaction simultaneously with or after coating of the coating solution. Is preferred. Each layer is formed with the production of the crosslinked polymer. The monomer having an anionic group functions as a dispersant for inorganic fine particles in the coating solution. The monomer having an anionic group is preferably used in an amount of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and still more preferably 10 to 30% by mass with respect to the inorganic fine particles. The monomer having an amino group or a quaternary ammonium group functions as a dispersion aid in the coating solution. The monomer having an amino group or a quaternary ammonium group is preferably used in an amount of 3 to 33% by mass based on the monomer having an anionic group. These monomers can be made to function effectively before application of the coating liquid by a method of forming a crosslinked polymer by a polymerization reaction simultaneously with or after application of the coating liquid.

本発明に用いられるモノマーとしては、2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーが最も好ましいが、その例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミド等が挙げられる。アニオン性基を有するモノマー、及びアミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーは市販のモノマーを用いてもよい。好ましく用いられる市販のアニオン性基を有するモノマーとしては、KAYAMARPM−21、PM−2(日本化薬(株)製)、AntoxMS−60、MS−2N、MS−NH4(日本乳化剤(株)製)、アロニックスM−5000、M−6000、M−8000シリーズ(東亞合成化学工業(株)製)、ビスコート#2000シリーズ(大阪有機化学工業(株)製)、ニューフロンティアGX−8289(第一工業製薬(株)製)、NKエステルCB−1、A−SA(新中村化学工業(株)製)、AR−100、MR−100、MR−200(第八化学工業(株)製)等が挙げられる。また、好ましく用いられる市販のアミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーとしてはDMAA(大阪有機化学工業(株)製)、DMAEA,DMAPAA(興人(株)製)、ブレンマーQA(日本油脂(株)製)、ニューフロンティアC−1615(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。   As the monomer used in the present invention, a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups is most preferable, and examples thereof include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di ( (Meth) acrylate, 1,4-dichlorohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester Terpolyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (E.g., methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Commercially available monomers may be used as the monomer having an anionic group and the monomer having an amino group or a quaternary ammonium group. As a commercially available monomer having a commercially available anionic group, KAYAMAPMPM-21, PM-2 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Antox MS-60, MS-2N, MS-NH4 (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) , Aronix M-5000, M-6000, M-8000 series (manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.), Biscote # 2000 series (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), New Frontier GX-8289 (Daiichi Kogyo Seiyaku) NK ester CB-1, A-SA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), AR-100, MR-100, MR-200 (manufactured by Eighth Chemical Industry Co., Ltd.), and the like. It is done. Examples of commercially available monomers having a commercially available amino group or quaternary ammonium group include DMAA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), DMAEA, DMAPAA (manufactured by Kojin Co., Ltd.), and Bremer QA (Nippon Yushi Co., Ltd.). ) And New Frontier C-1615 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).

ポリマーの重合反応は、光重合反応または熱重合反応を用いることが出来る。特に光重合反応が好ましい。重合反応のため、重合開始剤を使用することが好ましい。例えば、ハードコート層のバインダーポリマーを形成するために用いられる後述する熱重合開始剤、及び光重合開始剤が挙げられる。   For the polymerization reaction of the polymer, a photopolymerization reaction or a thermal polymerization reaction can be used. A photopolymerization reaction is particularly preferable. A polymerization initiator is preferably used for the polymerization reaction. For example, the thermal polymerization initiator mentioned later used in order to form the binder polymer of a hard-coat layer, and a photoinitiator are mentioned.

重合開始剤として市販の重合開始剤を使用してもよい。重合開始剤に加えて、重合促進剤を使用してもよい。重合開始剤と重合促進剤の添加量は、モノマーの全量の0.2〜10質量%の範囲であることが好ましい。塗布液(モノマーを含む無機微粒子の分散液)を加熱して、モノマー(またはオリゴマー)の重合を促進してもよい。また、塗布後の光重合反応の後に加熱して、形成されたポリマーの熱硬化反応を追加処理してもよい。   A commercially available polymerization initiator may be used as the polymerization initiator. In addition to the polymerization initiator, a polymerization accelerator may be used. The addition amount of the polymerization initiator and the polymerization accelerator is preferably in the range of 0.2 to 10% by mass of the total amount of monomers. The coating liquid (dispersion of inorganic fine particles containing monomer) may be heated to promote polymerization of the monomer (or oligomer). Moreover, it may heat after the photopolymerization reaction after application | coating, and may additionally process the thermosetting reaction of the formed polymer.

中屈折率層及び高屈折率層には、比較的屈折率が高いポリマーを用いることが好ましい。屈折率が高いポリマーの例としては、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及び環状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタンが挙げられる。その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高く用いることが出来る。   For the medium refractive index layer and the high refractive index layer, it is preferable to use a polymer having a relatively high refractive index. Examples of the polymer having a high refractive index include polystyrene, styrene copolymer, polycarbonate, melamine resin, phenol resin, epoxy resin, and polyurethane obtained by reaction of cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanate and polyol. . Polymers having other cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) groups and polymers having halogen atoms other than fluorine as substituents can also be used with a high refractive index.

また、本発明に係わる反射防止フィルムが、高屈折率層を有し、その上に本発明に係わる低屈折率層を有する場合、また、中屈折率層、高屈折率層をを介し、さらにその上に本発明に係わる低屈折率層を有する場合等には、本発明に係わる低屈折率層と接する層中には、非イオン界面活性剤である、本発明において(C)で表される疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を、該低屈折率層と接する層に含有させることがムラの発生等の観点から好ましい。好ましい添加量は、塗布組成物(固形分)に対し、0.001〜5質量部が好ましく、特に好ましい配合割合は0.003〜3質量部である。   In addition, when the antireflection film according to the present invention has a high refractive index layer and a low refractive index layer according to the present invention thereon, the intermediate refractive index layer and the high refractive index layer are further interposed. In the case of having a low refractive index layer according to the present invention on the layer, the layer in contact with the low refractive index layer according to the present invention is a nonionic surfactant, and is represented by (C) in the present invention. It is preferable from the viewpoint of occurrence of unevenness that a nonionic surfactant having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene is contained in a layer in contact with the low refractive index layer. A preferable addition amount is preferably 0.001 to 5 parts by mass with respect to the coating composition (solid content), and a particularly preferable blending ratio is 0.003 to 3 parts by mass.

反射防止層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法により、塗布により形成することが出来る。   Each layer of the antireflection layer can be formed by coating by a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a micro gravure coating method or an extrusion coating method. I can do it.

〈偏光板〉
本発明の偏光板について述べる。
<Polarizer>
The polarizing plate of the present invention will be described.

偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した反射防止フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面にも該反射防止フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、Rtが100〜400nmの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957、特願2002−155395記載の方法で作成することが出来る。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明の反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。   The polarizing plate can be produced by a general method. The back surface side of the antireflection film of the present invention is subjected to alkali saponification treatment, and a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution is used on at least one surface of a polarizing film prepared by immersing and stretching the treated antireflection film in an iodine solution. It is preferable to bond them together. The antireflection film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. With respect to the antireflection film of the present invention, the polarizing plate protective film used on the other surface has an in-plane retardation Ro of 590 nm, a phase difference of 20 to 70 nm, and Rt of 100 to 400 nm. preferable. These can be created, for example, by the method described in JP-A-2002-71957 and Japanese Patent Application No. 2002-155395. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. By using it in combination with the antireflection film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.

裏面側に用いられる偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルムとして、KC8UX2MW、KC4UX、KC5UX、KC4UY、KC8UY、KC12UR、KC8UCR−3(コニカミノルタオプト(株)製)等が好ましく用いられる。   As the polarizing plate protective film used on the back side, KC8UX2MW, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC8UCR-3 (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) and the like are preferably used as commercially available cellulose ester films.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の反射防止フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. On the surface of the polarizing film, one side of the antireflection film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

従来の反射防止フィルムを使用した偏光板は平面性に劣り、反射像を見ると細かい波打ち状のむらが認められ、鉛筆硬度も2H程度しか得られず、60℃、90%RHの条件での耐久性試験により、波打ち状のむらが増大したが、これに対して本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板は、反射防止性能に優れ、平面性に優れ、鉛筆硬度も優れていた。また、60℃、90%RHの条件での耐久性試験によっても波打ち状のむらが増加することはなく、裏面側に光学補償フィルムを有する偏光板であっても、耐久性試験後に視野角特性が変動することなく良好な視野角特性を提供することが出来た。   A conventional polarizing plate using an antireflection film is inferior in flatness, and when a reflection image is seen, fine wavy irregularities are recognized, pencil hardness is only about 2H, and durability under conditions of 60 ° C. and 90% RH. As a result of the property test, the wavy unevenness increased. On the other hand, the polarizing plate using the antireflection film of the present invention was excellent in antireflection performance, excellent in flatness, and excellent in pencil hardness. In addition, even in a durability test under the conditions of 60 ° C. and 90% RH, the wavy unevenness does not increase, and even with a polarizing plate having an optical compensation film on the back surface side, the viewing angle characteristics after the durability test are It was possible to provide good viewing angle characteristics without fluctuation.

〈表示装置〉
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の反射防止フィルムは反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明の反射防止フィルムは反射防止層の反射光の色むらが著しく少なく、また、反射率が低く、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上の大画面の表示装置では、色むらや波打ちむらが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
<Display device>
By incorporating the polarizing plate of the present invention into a display device, the display device of the present invention having various visibility can be manufactured. The antireflection film of the present invention is a reflection type, transmission type, transflective type LCD or LCD of various drive systems such as TN type, STN type, OCB type, HAN type, VA type (PVA type, MVA type), IPS type, etc. Preferably used. In addition, the antireflection film of the present invention has significantly less uneven color of the reflected light of the antireflection layer, low reflectance, excellent flatness, plasma display, field emission display, organic EL display, inorganic EL display, electronic It is also preferably used for various display devices such as paper. In particular, a large-screen display device with a 30-inch screen or more has the effect that there is little color unevenness and wavy unevenness, and eyes are not tired even during long-time viewing.

以下、実施例を用いて、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの態様に限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely using an Example, this invention is not limited to these aspects.

実施例1
〔セルロースエステルフィルムの作製〕
以下に示したセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子、溶媒を用いてセルロースエステル溶液(ドープ)を調製し、溶液流延製膜法にてセルロースエステルフィルムを作製した。
セルロースエステル;
セルローストリアセテート 100kg
(アセチル基置換度2.9 Mn=160000 Mw/Mn=1.8)
可塑剤;
トリメチロールプロパントリベンゾエート 5kg
エチルフタリルエチルグリコレート 5kg
紫外線吸収剤;
チヌビン109(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製) 1.0kg
チヌビン171(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製) 1.0kg
微粒子;
アエロジルR972V(日本アエロジル(株)製) 0.3kg
溶媒;
酢酸メチル 440kg
エタノール 110kg
上記のセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子、溶媒を用いてセルロースエステル溶液(ドープ)を調製した。
Example 1
[Production of cellulose ester film]
A cellulose ester solution (dope) was prepared using the following cellulose ester, plasticizer, ultraviolet absorber, fine particles, and solvent, and a cellulose ester film was prepared by a solution casting film forming method.
Cellulose ester;
Cellulose triacetate 100kg
(Acetyl group substitution degree 2.9 Mn = 16000 Mw / Mn = 1.8)
Plasticizers;
Trimethylolpropane tribenzoate 5kg
Ethyl phthalyl ethyl glycolate 5kg
UV absorbers;
Tinuvin 109 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 1.0kg
Tinuvin 171 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 1.0kg
Fine particles;
Aerosil R972V (Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.3kg
solvent;
440 kg of methyl acetate
110 kg of ethanol
A cellulose ester solution (dope) was prepared using the above cellulose ester, plasticizer, ultraviolet absorber, fine particles, and solvent.

即ち、溶媒を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素材を順に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混合した。微粒子は溶媒の一部で分散して添加した。溶液を流延する温度まで下げて一晩静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、セルロースエステル溶液を得た。   That is, the solvent was put into an airtight container, the remaining materials were put in order with stirring, and completely dissolved and mixed while heating and stirring. The fine particles were added dispersed in a part of the solvent. After the temperature was lowered to the temperature at which the solution was cast and allowed to stand overnight, a defoaming operation was performed, and then the solution was produced by Azumi Filter Paper No. Filtration using 244 gave a cellulose ester solution.

次に、33℃に温度調整したセルロースエステル溶液を、ダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から37℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜(ステンレスベルトに流延以降はウエブという)に44℃の温風をあてて乾燥させ、剥離の残留溶媒量が120質量%で剥離し、剥離の際の張力をかけて1.1倍の縦延伸倍率となるように延伸し、ついで、残留溶媒量が35質量%から10質量%となる間にテンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に1.1倍の延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し、更に125℃に設定された第3乾燥ゾーンで20分間搬送させて、乾燥を行い、幅1.4〜2mの、膜厚50μmのセルロースエステルフィルムを作製した。   Next, the cellulose ester solution whose temperature was adjusted to 33 ° C. was fed to a die and uniformly cast from a die slit onto a stainless steel belt. The cast part of the stainless steel belt was heated from the back with hot water of 37 ° C. After casting, the dope film on the metal support (referred to as a web after casting on a stainless steel belt) is dried by applying hot air of 44 ° C., and the residual solvent in the peeling is peeled off at 120% by mass. Then, the web was stretched so that the longitudinal stretching ratio was 1.1 times, and then the web edge was gripped with a tenter while the residual solvent amount was from 35% by mass to 10% by mass. It extended | stretched so that it might become 1.1 times the draw ratio. After stretching, the width is maintained for several seconds, then the tension in the width direction is relaxed, then the width is released, and further transported for 20 minutes in the third drying zone set at 125 ° C. for drying. Then, a cellulose ester film having a width of 1.4 to 2 m and a film thickness of 50 μm was produced.

〔活性線硬化樹脂層の塗設〕
《ハードコートフィルムH1》
セルロースエステルフィルムの表面(B面側;流延製膜法において用いられるステンレスバンド等の支持体鏡面に接した面;支持体側)上に、下記の活性線硬化樹脂層用塗布液を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して活性線硬化樹脂層塗布液1を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を80mJ/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ5μmの活性線硬化樹脂層を形成しハードコートフィルムH1を作製した。尚、活性線硬化樹脂層の屈折率は1.5であった。
[Coating of actinic radiation curable resin layer]
<< Hard coat film H1 >>
On the surface of the cellulose ester film (B surface side; the surface in contact with the support mirror surface such as a stainless steel band used in the casting film forming method; support side), the following coating solution for actinic radiation curable resin layer has a pore size of 0. An actinic radiation curable resin layer coating solution 1 is prepared by filtration through a 4 μm polypropylene filter, which is applied using a micro gravure coater, dried at 90 ° C., and then irradiated with an ultraviolet lamp having an illuminance of 100 mW / in cm 2, thereby curing the coated layer to the radiation dose as 80 mJ / cm 2, to prepare a hard coat film H1 form an active ray curable resin layer having a thickness of 5 [mu] m. The refractive index of the actinic radiation curable resin layer was 1.5.

〈活性線硬化樹脂層用塗布液1〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 70質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 30質量部
光反応開始剤 5質量部
(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
酢酸エチル 120質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 120質量部
シリコン化合物 0.4質量部
(BYK−307(ビックケミージャパン社製))
FZ2207(日本ユニカー(株)製) 0.2質量部
《ハードコートフィルムH2》
セルロースエステルフィルム上に、活性線硬化樹脂層用塗布液1に代え、以下の活性線硬化樹脂層用塗布液2を用いて同様に活性線硬化樹脂層H2を塗設し、ハードコートフィルムH2を作製した。
<Coating liquid 1 for active ray curable resin layer>
Dipentaerythritol hexaacrylate 70 parts by mass Dipentaerythritol pentaacrylate 30 parts by mass Photoinitiator 5 parts by mass (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
Ethyl acetate 120 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 120 parts by mass Silicon compound 0.4 parts by mass (BYK-307 (produced by Big Chemie Japan))
FZ2207 (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 0.2 parts by mass << hard coat film H2 >>
On the cellulose ester film, the actinic radiation curable resin layer H2 is similarly coated using the following actinic radiation curable resin layer coating liquid 2 instead of the actinic radiation curable resin layer coating liquid 1, and the hard coat film H2 is coated. Produced.

〈活性線硬化樹脂層用塗布液2〉
活性線硬化樹脂層用塗布液1に粒径約10nmの酸化ジルコニウム微粒子を溶媒中に分散した液を添加して、活性線硬化樹脂層の屈折率が1.61となるように調整し、活性線硬化樹脂層用塗布液2とした。
<Coating liquid 2 for active ray curable resin layer>
A solution obtained by dispersing fine particles of zirconium oxide having a particle diameter of about 10 nm in a solvent is added to the coating solution 1 for actinic radiation curable resin layer, and adjusted so that the refractive index of the actinic radiation curable resin layer is 1.61. It was set as the coating liquid 2 for wire-curing resin layers.

《ハードコートフィルムH3》
前記セルロースエステルフィルム上に、ハードコートフィルムH1と同様に活性線硬化樹脂層用塗布液1を用いて、厚さ4.5μmの活性線硬化樹脂層(下層)を形成した後、さらに下記の活性線硬化樹脂層用塗布液3を用いて厚さ1.5μmの上層を塗布形成し、ハードコートフィルムH3を作製した。
<< Hard coat film H3 >>
An active ray curable resin layer (lower layer) having a thickness of 4.5 μm is formed on the cellulose ester film using the active ray curable resin layer coating solution 1 in the same manner as the hard coat film H1, and then the following activity is further achieved. An upper layer having a thickness of 1.5 μm was applied and formed using the coating solution 3 for a line curable resin layer, to produce a hard coat film H3.

〈活性線硬化樹脂層用塗布液3〉
活性線硬化樹脂層用塗布液1に、活性線硬化樹脂層の屈折率が1.61となるように平均粒径約0.03μmの酸化アンチモン(Sb25)微粒子(日本精鉱(株)製)を溶媒中に分散した液を添加して(Sb25として塗布液固形分に対し28質量%)、活性線硬化樹脂層用塗布液2とした。
<Coating liquid 3 for active ray curable resin layer>
Antimony oxide (Sb 2 O 5 ) fine particles (Nippon Seiko Co., Ltd.) having an average particle size of about 0.03 μm so that the refractive index of the active ray curable resin layer is 1.61. )) Was dispersed in a solvent (as Sb 2 O 5 , 28% by mass with respect to the solid content of the coating solution) to obtain a coating solution 2 for active ray curable resin layer.

《ハードコートフィルムH4》
セルロースエステルフィルム上に、活性線硬化樹脂層用塗布液1に代え、以下の活性線硬化樹脂層用塗布液4を用いて同様にハードコートフィルムH4を作製した。
<< Hard Coat Film H4 >>
A hard coat film H4 was similarly produced on the cellulose ester film using the following actinic radiation curable resin layer coating solution 4 instead of the actinic radiation curable resin layer coating solution 1.

〈活性線硬化樹脂層用塗布液4〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 70質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 30質量部
光反応開始剤 5質量部
(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
酢酸エチル 120質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 120質量部
シリコン化合物 0.4質量部
(BYK−307(ビックケミージャパン社製))
〔バックコート層の塗設〕
更に、下記のバックコート層用塗布組成物を、3μmの粒子捕捉効率が99%以上で0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過して調製した。このバックコート層用塗布組成物を上記のハードコート層を塗設したフィルムそれぞれのハードコート層を塗設した面の反対側の面に、エクストルージョンコーターにてウエット膜厚が15μmになるように塗布し、90℃で30秒間乾燥させた。
<Coating liquid 4 for active ray curable resin layer>
Dipentaerythritol hexaacrylate 70 parts by mass Dipentaerythritol pentaacrylate 30 parts by mass Photoinitiator 5 parts by mass (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
Ethyl acetate 120 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 120 parts by mass Silicon compound 0.4 parts by mass (BYK-307 (produced by Big Chemie Japan))
[Coating of back coat layer]
Furthermore, the following coating composition for a back coat layer was prepared by filtering with a filter having a particle capture efficiency of 3 μm of 99% or more and 0.5 μm or less and a particle capture efficiency of 10% or less. The backcoat layer coating composition is a film coated with the above-mentioned hardcoat layer, on the surface opposite to the surface coated with the hardcoat layer, so that the wet film thickness is 15 μm using an extrusion coater. It was applied and dried at 90 ° C. for 30 seconds.

〈バックコート層用塗布液〉
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 0.5質量部
アセトン 70質量部
メタノール 20質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
超微粒子シリカ アエロジル200V(日本アエロジル(株)製)0.002質量部
以上のようにして、バックコート層付きハードコートフィルムH1〜H4を作製した。
<Coating liquid for back coat layer>
Diacetylcellulose (acetyl group substitution degree 2.4) 0.5 parts by mass Acetone 70 parts by mass Methanol 20 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 10 parts by mass Ultrafine silica Aerosil 200V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.002 parts by mass or more In this manner, hard coat films H1 to H4 with a back coat layer were produced.

〔低屈折率層の作製〕
次いで、複合粒子及びシリカ系微粒子(空洞粒子)の調製を行った。
(Production of low refractive index layer)
Next, composite particles and silica-based fine particles (cavity particles) were prepared.

(シリカ系微粒子P−2の調製)
平均粒径5nm、SiO2濃度20質量%のシリカゾル100gと純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として0.98質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAl23として1.02質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO2・Al23核粒子分散液を調製した。(工程(a))
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO2濃度3.5質量%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程(b))
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、更に濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO2・Al23多孔質粒子の分散液を調製した(工程(c))。上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1,750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO228質量%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系微粒子(P−2)の分散液を調製した。
(Preparation of silica-based fine particles P-2)
A mixture of 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO 2 concentration of 20% by mass and 1900 g of pure water was heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor was 10.5, and 9000 g of 0.98 mass% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of 1.02 mass% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 were simultaneously added to the mother liquor. did. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition, and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO 2 .Al 2 O 3 core particle dispersion having a solid content concentration of 20% by mass. (Process (a))
1700 g of pure water is added to 500 g of this core particle dispersion and heated to 98 ° C., and while maintaining this temperature, a silicic acid solution (SiO 2) obtained by dealkalizing a sodium silicate aqueous solution with a cation exchange resin. A dispersion of core particles in which 3000 g (concentration of 3.5% by mass) was added to form a first silica coating layer was obtained. (Process (b))
Next, 1125 g of pure water is added to 500 g of the core particle dispersion liquid that has been washed with an ultrafiltration membrane to form a first silica coating layer having a solid content concentration of 13% by mass, and concentrated hydrochloric acid (35.5%) is further added dropwise. The pH was adjusted to 1.0 and dealumination was performed. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane was separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and SiO 2 · Al from which some of the constituent components of the core particles forming the first silica coating layer were removed. A dispersion of 2 O 3 porous particles was prepared (step (c)). A mixture of 1500 g of the above porous particle dispersion, 500 g of pure water, 1,750 g of ethanol, and 626 g of 28% ammonia water is heated to 35 ° C., and then 104 g of ethyl silicate (SiO 2 28 mass%) is added. The surface of the porous particles on which the first silica coating layer was formed was coated with a hydrolyzed polycondensate of ethyl silicate to form a second silica coating layer. Next, a dispersion of silica-based fine particles (P-2) having a solid content concentration of 20% by mass, in which the solvent was replaced with ethanol using an ultrafiltration membrane, was prepared.

このシリカ系微粒子(P−2)の第1シリカ被覆層の厚さ、平均粒径、MOX/SiO2(モル比)、及び屈折率を表5に示す。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定し、屈折率は上記方法と同様にして測定した。 Table 5 shows the thickness, average particle diameter, MO x / SiO 2 (molar ratio), and refractive index of the first silica coating layer of the silica-based fine particles (P-2). Here, the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method, and the refractive index was measured in the same manner as described above.

Figure 2005157037
Figure 2005157037

バックコート層付きハードコートフィルム上に以下の表面処理を行った。   The following surface treatment was performed on the hard coat film with the back coat layer.

(表面処理)
上記のバックコート層付きハードコートフィルムH1〜H4を、50℃に加熱した1.5N−NaOH水溶液に2分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、0.5質量%−H2SO4水溶液に室温で30秒間浸漬し中和させ、水洗、乾燥を行った。
(surface treatment)
The hard coat films H1 to H4 with the back coat layer are immersed in a 1.5N-NaOH aqueous solution heated to 50 ° C. for 2 minutes for alkali treatment, washed with water, and then washed with a 0.5 mass% -H 2 SO 4 aqueous solution. It was immersed for 30 seconds at room temperature to neutralize, washed with water and dried.

表面処理を行ったハードコートフィルム上に前記のシリカ系微粒子(P−2)を用いた低屈折率コーティングを施し、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作製した。   A low-refractive-index coating using the silica-based fine particles (P-2) was applied on the surface-treated hard coat film, and a low-refractive index layer was applied to produce an antireflection film.

《反射防止フィルムNo.1》
(低屈折率層の作製)
Si(OC254を95mol%、CF3(CF27(CH22Si(OCH33を5mol%で混合したマトリックス(バインダー)とし、これに対して、平均粒径60nm、屈折率1.38の複合粒子(P−2)を50質量%添加し、更に、ジメチルポリシロキサン及びポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤であるFZ−2164(日本ユニカー(株)製)をやはりマトリクスに対し0.3質量部添加し、1.0mol/l−HClを触媒に用いて、更に溶媒で希釈した低屈折率コーティング液を作製した。上記表面処理を行ったハードコートフィルムH1上にマイクログラビア法を用いて上記の低屈折率コーティング液を膜厚0.1μmで塗布し、120℃で1分間乾燥を行うことにより、屈折率1.37の低屈折率層を形成し、反射防止フィルムNo.1とした。
<< Antireflection Film No. 1 >>
(Preparation of low refractive index layer)
A matrix (binder) in which Si (OC 2 H 5 ) 4 is mixed at 95 mol% and CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 at 5 mol% is mixed with the average particle diameter. FZ-2164 (Nippon Unicar), a nonionic surfactant composed of dimethylpolysiloxane and polyoxyalkylene, is added with 50% by mass of composite particles (P-2) having a refractive index of 60 nm and a refractive index of 1.38. Co., Ltd.) was added in an amount of 0.3 parts by mass to the matrix, and 1.0 mol / l-HCl was used as a catalyst, and a low refractive index coating solution diluted with a solvent was prepared. By applying the above-mentioned low refractive index coating liquid with a film thickness of 0.1 μm on the hard-coated film H1 subjected to the above surface treatment using a micro gravure method and drying at 120 ° C. for 1 minute, a refractive index of 1. No. 37 low refractive index layer was formed, and antireflection film No. It was set to 1.

《反射防止フィルムNo.2》
非イオン系の界面活性剤をFZ−2207(日本ユニカー(株)製)に代えた以外は反射防止フィルムNo.1と同様にして、低屈折率コーティング液を作製し、反射防止フィルムNo.2を作製した。
<< Antireflection Film No. 2 >>
Anti-reflective film No. 1 except that the nonionic surfactant was changed to FZ-2207 (Nihon Unicar Co., Ltd.). In the same manner as in No. 1, a low refractive index coating solution was prepared. 2 was produced.

《反射防止フィルムNo.3》
やはり非イオン系の界面活性剤FZ−2164を、同量のポリオキシエチレンアルキルエーテル非イオン界面活性剤である、エマルゲン709(花王(株)製)に代えた以外は反射防止フィルムNo.1と同様にして、低屈折率コーティングを作製し、同様に、反射防止フィルムNo.3を作製した。
<< Antireflection Film No. 3 >>
Anti-reflective film No. 1 except that nonionic surfactant FZ-2164 was replaced with Emulgen 709 (manufactured by Kao Corporation), which is a polyoxyethylene alkyl ether nonionic surfactant of the same amount. In the same manner as described above, a low refractive index coating was prepared. 3 was produced.

《反射防止フィルムNo.4》
やはり非イオン系の界面活性剤FZ−2164を、同量のフッ素系界面活性剤である、フタージェント250((株)ネオス製)に代えた以外は反射防止フィルムNo.1と同様にして、低屈折率コーティングを作製し、同様にして、反射防止フィルムNo.4を作製した。
<< Antireflection Film No. 4 >>
Again, the non-ionic surfactant FZ-2164 was replaced with an antireflective film No. 1 except that the same amount of a fluorosurfactant, Footage 250 (manufactured by Neos Co., Ltd.) was used. In the same manner as described above, a low refractive index coating was prepared. 4 was produced.

《反射防止フィルムNo.5》
やはり非イオン系の界面活性剤FZ−2164を、同量のジメチルシリコーンオイル(日本ユニカー(株)製L−45(5000))に代えた以外は反射防止フィルムNo.1と同様にして、低屈折率コーティングを作製し、同様にして、反射防止フィルムNo.5を作製した。
<< Antireflection Film No. 5 >>
Again, the non-ionic surfactant FZ-2164 was replaced with the same amount of dimethyl silicone oil (Nihon Unicar Co., Ltd., L-45 (5000)). In the same manner as described above, a low refractive index coating was prepared. 5 was produced.

《反射防止フィルムNo.6》
反射防止フィルムNo.1において、Si(OC25495mol%、CF3(CF27(CH22Si(OCH335mol%で混合したマトリックス(バインダー)を、含フッ素系共重合体(ポリジメチルシロキサンユニットを有するフルオロオレフィン/ビニルエーテル共重合体)を含む塗料(固形分3%)(JSR(株)製、オプスターJN−7215)に代え(固形分量として同じになるように量を調整した)、それ以外は同様にして低屈折率コーティング液を作製し、同様に塗布して反射防止フィルムNo.6を作製した。
<< Antireflection Film No. 6 >>
Antireflection film No. 1, a matrix (binder) mixed with 95 mol% of Si (OC 2 H 5 ) 4 and 5 mol% of CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 is mixed with a fluorine-containing copolymer ( Instead of paint (solid content 3%) containing a polydimethylsiloxane unit (fluoroolefin / vinyl ether copolymer) (manufactured by JSR Corporation, Opstar JN-7215), the amount was adjusted to be the same as the solid content. ), Other than that, a low refractive index coating solution was prepared in the same manner, and applied in the same manner to apply an antireflection film No. 6 was produced.

《反射防止フィルムNo.7》
バックコート層付きハードコートフィルムH1に代えてH2を用いて、同様に、前記反射防止フィルムNo.2に用いたものと同じ低屈折率コーティングを用いて、反射防止フィルムNo.7を作製した。
<< Antireflection Film No. 7 >>
Using H2 instead of the hard coat film H1 with the back coat layer, the antireflection film No. 5 was similarly used. 2 using the same low refractive index coating as used in 7 was produced.

《反射防止フィルムNo.8》
バックコート層付きハードコートフィルムH1に代えてH3を用いたほかは、前記反射防止フィルムNo.7と同様にして、反射防止フィルムNo.8を作製した。
<< Antireflection Film No. 8 >>
The antireflection film No. 1 was used except that H3 was used instead of the hard coat film H1 with a backcoat layer. In the same manner as in FIG. 8 was produced.

《反射防止フィルムNo.9》
バックコート層付きハードコートフィルムH1に代えてH4を用いたほかは、前記反射防止フィルムNo.7と同様にして、反射防止フィルムNo.9を作製した。
<< Antireflection Film No. 9 >>
The antireflection film No. 1 was used except that H4 was used instead of the hard coat film H1 with a backcoat layer. In the same manner as in FIG. 9 was produced.

このようにして作製した反射防止フィルムNo.1〜9について、反射ムラ、表面摩耗体制、防汚性についてそれぞれ以下のように評価を行った。   The antireflection film no. About 1-9, the reflection nonuniformity, the surface abrasion system, and antifouling property were evaluated as follows, respectively.

〈目視ムラの評価〉
幅手方向×長手方向50cmの試料を裏面に黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、表面から蛍光灯の反射を観察して、反射光のムラについて評価した。
<Evaluation of visual unevenness>
A sample of width direction × length direction 50 cm was subjected to light absorption treatment using black spray on the back surface, and reflection of a fluorescent lamp was observed from the surface to evaluate unevenness of reflected light.

◎ ムラが全く認められない
○ 僅かにムラが認められる
△ ムラが認められる
× 明らかにムラが認められる。
◎ No unevenness is observed. ○ Slight unevenness is observed. △ Unevenness is observed. × Clearly unevenness is observed.

〈表面耐摩耗性〉
#0000スチールウールに1平方センチメートルあたり0.8kgの加重をかけて積層体フィルムの表面を10往復した後の、スチールウール往復方向の1センチメートルあたりの傷の発生本数で評価した。傷の数は少ないほどよいが、5本以下であれば良好、6本〜10本であれば使用可であり、10本を超えるものは使用不可である。
<Surface wear resistance>
The number of scratches per centimeter in the steel wool reciprocation direction was evaluated after 10 rounds of the surface of the laminate film were applied to # 0000 steel wool with a weight of 0.8 kg per square centimeter. The smaller the number of scratches, the better. However, if it is 5 or less, it is good, if it is 6-10, it can be used, and more than 10 cannot be used.

〈防汚性の評価〉
試料表面に黒の油性マジック(ZEBRA社製 マッキー極細)で文字を書いた後、ベンコット(旭化成(株)製BEMCOT M−3)を用いてきれいになるまで拭き取りった。これを同一箇所で複数回繰り返し、下記の基準に則り繰り返しの防汚性の評価を行った。
<Evaluation of antifouling properties>
After writing letters on the sample surface with black oily magic (Mckey extra fine manufactured by ZEBRA), it was wiped until clean using Bencot (BEMCOT M-3 manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.). This was repeated several times at the same location, and repeated antifouling properties were evaluated according to the following criteria.

◎:50回以上繰り返し軽く拭き取り、かつその後にマジックで文字を書こうとすると表面がインクを弾く
○:20回までは繰り返し軽く拭き取り、かつその後にマジックで文字を書こうとすると表面にインクが滲む
△:5回まで繰り返し軽く拭き取り、かつその後にマジックで文字を書こうとすると表面にインクが滲む
以下に結果を示す。
A: Repeatedly wipe lightly 50 times or more and then write a character with magic. Then, the surface will repel ink. ○: Repeatedly lightly wipe up to 20 times and then write a character with magic. Bleeding Δ: Repeatedly wiping up to 5 times, and then ink writing on the surface when writing characters with magic. The results are shown below.

Figure 2005157037
Figure 2005157037

B;バインダー(マトリクス)成分であり、
B1;Si(OC254(TEOS)を95mol%、CF3(CF27(CH22Si(OCH33を5mol%
B2;フッ素系共重合体(ポリジメチルシロキサンユニットを有するフルオロオレフィン/ビニルエーテル共重合体)JSR(株)製、オプスターJN−7215
C:疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリアルキレンオキサイドから構成される非イオン系の界面活性剤であり、
C1;日本ユニカー(株)製FZ2164
C2;日本ユニカー(株)製FZ2207
C3;ポリオキシエチレンアルキルエーテル非イオン界面活性剤(花王(株)製エマルゲン709)
C4;フッ素系界面活性剤((株)ネオス製フタージェント250)
C5;ジメチルシリコーンオイル(日本ユニカー(株)製L−45(5000))
を表す。
B: a binder (matrix) component,
B1: 95 mol% of Si (OC 2 H 5 ) 4 (TEOS), 5 mol% of CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3
B2: Fluorine copolymer (fluoroolefin / vinyl ether copolymer having a polydimethylsiloxane unit) manufactured by JSR Corporation, OPSTAR JN-7215
C: a nonionic surfactant having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyalkylene oxide,
C1; FZ2164 manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.
C2: Nippon Unicar Co., Ltd. FZ2207
C3: polyoxyethylene alkyl ether nonionic surfactant (Emulgen 709 manufactured by Kao Corporation)
C4: Fluorosurfactant (Foogent 250 manufactured by Neos Co., Ltd.)
C5: Dimethyl silicone oil (Nihon Unicar Co., Ltd. L-45 (5000))
Represents.

以上において、本発明に係わる反射防止フィルムは反射ムラがなく、表面耐摩耗性に優れ、防汚性も良好であることがわかる。   From the above, it can be seen that the antireflection film according to the present invention has no uneven reflection, excellent surface wear resistance, and good antifouling properties.

尚、表面比抵抗を500V条件で測定すると、ハードコート層に帯電防止剤を使用した反射防止フィルムNo.8が好ましく、No.8は5.2×108Ωであり好ましい結果であった。他のフィルムは、1.0×1012〜10×1013の範囲であり、帯電防止効果はなかった。 In addition, when surface specific resistance is measured on 500V conditions, the antireflection film No. which uses an antistatic agent for a hard-coat layer. 8 is preferred. 8 was 5.2 × 10 8 Ω, which was a preferable result. Other films were in the range of 1.0 × 10 12 to 10 × 10 13 and had no antistatic effect.

実施例2
実施例1で作製した反射防止フィルムNo.8において、ハードコートフィルムを作製する際に、活性線硬化樹脂層(下層)の形成に用いた前記活性線硬化樹脂層用塗布液1に、平均粒径0.5μmの酸化チタン微粒子を塗布液の固形分に対して25質量%加えたものを用いたほかは、同様にして作製したハードコート上層に平均粒径0.03μmの酸化アンチモン粒子を含有するハードコートフィルムを用いて、同様の方法により、表面を防眩性表面とした反射防止フィルムNo.10を作製した。
Example 2
The antireflection film No. 1 prepared in Example 1 was used. 8, when producing a hard coat film, titanium oxide fine particles having an average particle size of 0.5 μm are applied to the active ray curable resin layer coating solution 1 used for forming the active ray curable resin layer (lower layer). The same method was used except that a hard coat film containing antimony oxide particles having an average particle size of 0.03 μm was used in the hard coat upper layer produced in the same manner except that 25% by mass of the solid content was added. Thus, the antireflection film No. having an antiglare surface was used. 10 was produced.

実施例1と同様の評価を行ったところ、実施例1における反射防止フィルムNo.8と同様の好ましい結果であった。   When the same evaluation as in Example 1 was performed, the antireflection film No. 1 in Example 1 was used. The result was the same as in Example 8.

実施例3
前記で作製したバックコート層付きハードコートフィルムH1〜H4のハードコート層上に下記中屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、60℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層(屈折率1.72)を、また、その上に、下記高屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、60℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層(屈折率1.9)をそれぞれ形成した。
Example 3
The following coating solution for medium refractive index layer is applied on the hard coat layers of the hard coat films H1 to H4 with the back coat layer prepared as described above using a bar coater, dried at 60 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays. The layer is cured, and a medium refractive index layer (refractive index 1.72) is coated thereon with the following coating liquid for a high refractive index layer using a bar coater. After drying at 60 ° C., ultraviolet rays are applied. The coating layer was cured by irradiation to form a high refractive index layer (refractive index 1.9).

〔中屈折率層/高屈折率層の作製〕
(二酸化チタン分散物の調製)
二酸化チタン(一次粒子質量平均粒径:50nm、屈折率:2.70)30質量部、アニオン性ジアクリレートモノマー(PM21、日本化薬(株)製)4.5質量部、カチオン性メタクリレートモノマー(DMAEA、興人(株)製)0.3質量部およびメチルエチルケトン65.2質量部を、サンドグラインダーにより分散し、二酸化チタン分散物を調製した。
[Preparation of medium refractive index layer / high refractive index layer]
(Preparation of titanium dioxide dispersion)
Titanium dioxide (primary particle mass average particle size: 50 nm, refractive index: 2.70) 30 parts by mass, anionic diacrylate monomer (PM21, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 4.5 parts by mass, cationic methacrylate monomer ( DMAEA (manufactured by Kojin Co., Ltd.) (0.3 parts by mass) and methyl ethyl ketone (65.2 parts by mass) were dispersed by a sand grinder to prepare a titanium dioxide dispersion.

(中屈折率層用塗布液の調製)
シクロヘキサノン151.9gおよびメチルエチルケトン37.0gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.14gおよび光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.04gを溶解した。更に、上記の二酸化チタン分散物6.1gおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)2.4gを加え、室温で30分間攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、中屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液をセルロースエステルフィルムに塗布乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率1.72の中屈折率層が得られた。
(Preparation of coating solution for medium refractive index layer)
In 151.9 g of cyclohexanone and 37.0 g of methyl ethyl ketone, 0.14 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0.04 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were dissolved. Further, 6.1 g of the above titanium dioxide dispersion and 2.4 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added and stirred at room temperature for 30 minutes. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a medium refractive index layer coating solution. When this coating solution was applied to a cellulose ester film and dried and the refractive index after UV curing was measured, a medium refractive index layer having a refractive index of 1.72 was obtained.

(高屈折率層用塗布液の調製)
シクロヘキサノン1152.8gおよびメチルエチルケトン37.2gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.06gおよび光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.02gを溶解した。さらに、FZ2207(日本ユニカー(株)製)0.01gを加え、上記の二酸化チタン分散物およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)の二酸化チタン分散物の比率を増加させ、高屈折率層の屈折率となるように量を調節して、室温で30分間攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、高屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液を、セルロースエステルフィルムに塗布、乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率1.9の高屈折率層が得られた。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer)
In 1152.8 g of cyclohexanone and 37.2 g of methyl ethyl ketone, 0.06 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0.02 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were dissolved. Further, 0.01 g of FZ2207 (manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.) was added, and the above titanium dioxide dispersion and a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) Increase the ratio of titanium dispersion, adjust the amount to be the refractive index of the high refractive index layer, stir at room temperature for 30 minutes, then filter with a polypropylene filter with a pore size of 0.4μm, high refractive index A layer coating solution was prepared. When this coating solution was applied to a cellulose ester film, dried and the refractive index after UV curing was measured, a high refractive index layer having a refractive index of 1.9 was obtained.

〔低屈折率層の作製〕
上記中屈折率層、高屈折率層を塗設したハードコートフィルム上に、以下のように低屈折率層を塗設して、反射防止フィルムを作製した。
(Production of low refractive index layer)
An antireflection film was prepared by coating a low refractive index layer as follows on the hard coat film coated with the medium refractive index layer and the high refractive index layer.

《反射防止フィルムNo.11》
さらにハードコートフィルムH1上に形成した前記高屈折率層上に、前記反射防止フィルムNo.1で用いた低屈折率コーティング液をマイクログラビア法を用いて膜厚0.1μmで塗布し、120℃で1分間乾燥を行うことにより、屈折率1.37の低屈折率層を形成し、反射防止フィルムNo.11とした。
<< Antireflection Film No. 11 >>
Furthermore, on the high refractive index layer formed on the hard coat film H1, the antireflection film No. 1 was used. The low refractive index coating liquid used in 1 was applied at a film thickness of 0.1 μm using a micro gravure method, and dried at 120 ° C. for 1 minute to form a low refractive index layer having a refractive index of 1.37, Antireflection film No. It was set to 11.

《反射防止フィルムNo.12》
反射防止フィルムNo.11で用いた低屈折率コーティング液について、非イオン系の界面活性剤をFZ−2207(日本ユニカー(株)製)に代えた以外は反射防止フィルムNo.11と同様にして、低屈折率コーティング液を作製し、反射防止フィルムNo.12を作製した。
<< Antireflection Film No. 12 >>
Antireflection film No. For the low refractive index coating solution used in No. 11, an antireflection film No. 1 was used except that the nonionic surfactant was changed to FZ-2207 (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.). In the same manner as in No. 11, a low-refractive-index coating solution was prepared. 12 was produced.

《反射防止フィルムNo.13》
反射防止フィルムNo.11で用いた低屈折率コーティング液について、やはり非イオン系の界面活性剤FZ−2164を、同量のポリオキシエチレンアルキルエーテル非イオン界面活性剤である、エマルゲン709(花王(株)製)に代えた以外は反射防止フィルムNo.11と同様にして、低屈折率コーティングを作製し、同様に、反射防止フィルムNo.13を作製した。
<< Antireflection Film No. 13 >>
Antireflection film No. For the low refractive index coating solution used in No. 11, non-ionic surfactant FZ-2164 is also added to Emulgen 709 (manufactured by Kao Corporation), which is the same amount of polyoxyethylene alkyl ether nonionic surfactant. The antireflection film no. In the same manner as in No. 11, a low refractive index coating was prepared. 13 was produced.

《反射防止フィルムNo.14》
反射防止フィルムNo.11で用いた低屈折率コーティング液について、やはり非イオン系の界面活性剤FZ−2164を、同量のフッ素系界面活性剤である、フタージェント250((株)ネオス製)に代えた以外は反射防止フィルムNo.11と同様にして、低屈折率コーティングを作製し、同様にして、反射防止フィルムNo.14を作製した。
<< Antireflection Film No. 14 >>
Antireflection film No. For the low refractive index coating solution used in No. 11, the non-ionic surfactant FZ-2164 was replaced with the same amount of fluorosurfactant, Phageent 250 (manufactured by Neos Co., Ltd.). Antireflection film No. In the same manner as in No. 11, a low refractive index coating was prepared. 14 was produced.

《反射防止フィルムNo.15》
反射防止フィルムNo.11で用いた低屈折率コーティング液について、やはり非イオン系の界面活性剤FZ−2164を、同量のジメチルシリコーンオイル(日本ユニカー(株)製L−45(5000))に代えた以外は反射防止フィルムNo.11と同様にして、低屈折率コーティングを作製し、同様にして、反射防止フィルムNo.15を作製した。
<< Antireflection Film No. 15
Antireflection film No. 11 except that the non-ionic surfactant FZ-2164 was replaced with the same amount of dimethyl silicone oil (L-45 (5000) manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.). Prevention film No. In the same manner as in No. 11, a low refractive index coating was prepared. 15 was produced.

《反射防止フィルムNo.16》
反射防止フィルムNo.11において、低屈折率コーティング液中、Si(OC25495mol%、CF3(CF27(CH22Si(OCH335mol%で混合したマトリックス(バインダー)を、含フッ素系共重合体(ポリジメチルシロキサンユニットを有するフルオロオレフィン/ビニルエーテル共重合体)を含む塗料(固形分3%)(JSR(株)製、オプスターJN−7215)に代え(固形分量として同じになるように量を調整した)、それ以外は同様にして低屈折率コーティング液を作製し、同様に塗布して反射防止フィルムNo.16を作製した。
<< Antireflection Film No. 16 >>
Antireflection film No. 11, a matrix (binder) mixed with 95 mol% of Si (OC 2 H 5 ) 4 and 5 mol% of CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 in a low refractive index coating solution, Instead of paint (solid content 3%) containing a fluorine-containing copolymer (fluoroolefin / vinyl ether copolymer having a polydimethylsiloxane unit) (manufactured by JSR Co., Ltd., OPSTAR JN-7215) (same as solid content) Otherwise, the low refractive index coating solution was prepared in the same manner, and applied in the same manner to apply the antireflective film no. 16 was produced.

《反射防止フィルムNo.17》
バックコート層付きハードコートフィルムH1に代えてH2を用いて、前記中屈折率層、高屈折率層を設けたものの高屈折率層上に、同様に、前記反射防止フィルムNo.12に用いたものと同じ低屈折率コーティングを用いて、低屈折率層を設け、反射防止フィルムNo.17を作製した。
<< Antireflection Film No. 17 >>
In the same manner, the antireflective film No. 1 was formed on the high refractive index layer of the medium provided with the medium refractive index layer and the high refractive index layer using H2 instead of the hard coat film H1 with the back coat layer. Using the same low refractive index coating as that used for No. 12, a low refractive index layer was provided, and antireflection film No. 17 was produced.

《反射防止フィルムNo.18》
バックコート層付きハードコートフィルムH1にではなくH3を用いたほかは、前記反射防止フィルムNo.17と同様にして、反射防止フィルムNo.18を作製した。
<< Antireflection Film No. 18 >>
Other than using H3 instead of the hard coat film H1 with the back coat layer, the antireflection film No. 1 was used. In the same manner as in FIG. 18 was produced.

《反射防止フィルムNo.19》
バックコート層付きハードコートフィルムH1に代えてH4を用いたほかは、前記反射防止フィルムNo.17と同様にして、反射防止フィルムNo.19を作製した。
<< Antireflection Film No. 19 >>
The antireflection film No. 1 was used except that H4 was used instead of the hard coat film H1 with a backcoat layer. In the same manner as in FIG. 19 was produced.

このようにして作製した反射防止フィルムNo.11〜19について、反射ムラ、表面摩耗体制、防汚性についてそれぞれ実施例2と同様に評価を行った結果、実施例2と同様の結果が得られた。即ち、本発明に係わる反射防止フィルムNo.11、12、16〜19は反射ムラがなく、表面耐摩耗性に優れ、防汚性も良好であることがわかる。   The antireflection film no. About 11-19, the result similar to Example 2 was obtained as a result of evaluating similarly to Example 2 about reflection nonuniformity, a surface abrasion system, and antifouling property, respectively. That is, the antireflection film No. 1 according to the present invention. Nos. 11, 12, and 16 to 19 show no reflection unevenness, excellent surface wear resistance, and good antifouling properties.

実施例4
各々の反射防止フィルムを用いて偏光板を作製した。
Example 4
A polarizing plate was prepared using each antireflection film.

〔偏光板の作製〕
厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
[Preparation of polarizing plate]
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. This was washed with water and dried to obtain a polarizing film.

次いで、下記工程1〜5に従って偏光膜と前記反射防止フィルム、裏面側のセルロースエステルフィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側のセルロースエステルフィルムには位相差(590nmで測定して、面内リターデーションRo=43nm、厚み方向のリターデーションRt=135nm)を有するセルロースエステルフィルムを用いてそれぞれ偏光板とした。   Subsequently, according to the following processes 1-5, the polarizing film, the said antireflection film, and the cellulose ester film of the back side were bonded together, and the polarizing plate was produced. A cellulose ester film having a retardation (measured at 590 nm, in-plane retardation Ro = 43 nm, retardation in the thickness direction Rt = 135 nm) was used as a polarizing plate for the cellulose ester film on the back side.

工程1:60℃の2mol/lの水酸化ナトリウム溶液に90秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。   Step 1: Soaked in a 2 mol / l sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried to obtain a saponified cellulose ester film on the side to be bonded to the polarizer.

一方、反射防止層を形成したハードコートフィルムの反射防止層側の面は剥離性のポリエチレンフィルムを貼り付けてアルカリから保護しながら上記鹸化処理を行った。   On the other hand, the surface of the anti-reflection layer side of the hard coat film on which the anti-reflection layer was formed was subjected to the saponification treatment while applying a peelable polyethylene film and protecting it from alkali.

工程2:前記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。   Step 2: The polarizing film was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理したセルロースエステルフィルムの上にのせて、更にハードコートフィルムの反射防止層が外側になるように積層し、配置した。   Step 3: Gently wipe off excess adhesive adhered to the polarizing film in Step 2 and place it on the cellulose ester film treated in Step 1 so that the anti-reflection layer of the hard coat film is on the outside Laminated and placed.

工程4:ハンドローラーで工程3で積層した反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料との積層物の端から過剰の接着剤及び気泡を取り除き貼り合わせた。ハンドローラーの圧力は20〜30N/cm2、ローラースピードは約2m/分とした。 Step 4: Excess adhesive and bubbles were removed from the end of the laminate of the antireflection film, the polarizing film and the cellulose ester film sample laminated in Step 3 with a hand roller, and bonded together. The pressure of the hand roller was 20 to 30 N / cm 2 and the roller speed was about 2 m / min.

工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと反射防止フィルムとを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、偏光板を作製した。前記反射防止フィルムNo.1〜19をそれぞれ用いて、偏光板No.1〜19を作製した。   Process 5: The sample which bonded the polarizing film produced in the process 4, the cellulose-ester film, and the antireflection film in the 80 degreeC dryer was dried for 2 minutes, and the polarizing plate was produced. The antireflection film No. 1 to 19 are used for polarizing plate No. 1-19 were produced.

〔液晶表示装置の作製〕
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
[Production of liquid crystal display device]
A liquid crystal panel for viewing angle measurement was produced as follows, and the characteristics as a liquid crystal display device were evaluated.

富士通製15型ディスプレイVL−150SDのあらかじめ貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板1〜19をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。   The polarizing plates on both sides of the 15-inch display VL-150SD manufactured by Fujitsu were previously peeled off, and the above-prepared polarizing plates 1 to 19 were each stuck to the glass surface of the liquid crystal cell.

その際、その偏光板の貼合の向きは、光学補償フィルム(位相差フィルム)の面が、液晶セル側となるように、且つ、あらかじめ貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置No.1〜19を各々作製した。   At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is such that the surface of the optical compensation film (retardation film) is on the liquid crystal cell side, and the absorption axis is in the same direction as the polarizing plate previously bonded. The liquid crystal display device no. 1 to 19 were produced.

〔評価〕
《視認性の評価》
こうして得られた各液晶表示装置について、蛍光灯の反射像を見ると本発明の反射防止フィルムを用いたものは、鏡のような反射像であったのに対し、比較の偏光板は細かい波打ち状のむらが認められ、蛍光灯の輪郭が細かく歪んで見えた。
[Evaluation]
<Evaluation of visibility>
For each of the liquid crystal display devices thus obtained, when the reflection image of the fluorescent lamp is viewed, the antireflection film of the present invention is a reflection image like a mirror, whereas the comparative polarizing plate has a fine wave The shape of the fluorescent lamp appeared to be finely distorted.

また、各液晶表示装置について、画面を黒表示として、表面の反射ムラを目視で評価した。   Moreover, about each liquid crystal display device, the screen was set as black display and the reflective unevenness of the surface was evaluated visually.

本発明の液晶表示装置は反射光の色ムラはわからず、黒がしまって見えるのに対して、比較の反射防止フィルムNo.3、4、5、また、13、14、15を用いた液晶表示装置は反射光の色ムラがかなり気になる状態であった。   In the liquid crystal display device of the present invention, the color unevenness of the reflected light is not known, and the black color appears to be dark. The liquid crystal display device using 3, 4, 5, or 13, 14, 15 was in a state in which the color unevenness of the reflected light was considerably concerned.

Claims (12)

透明フィルム上に活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とするハードコート層を設け、ハードコート層上に直接または間接に少なくとも下記(A)、(B)、(C)の3成分を含有する屈折率が1.20〜1.42の範囲にある(低屈折率)層を設けたことを特徴とする反射防止フィルム。
(A)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子
(B)バインダー成分
(C)疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤
A refractive index containing at least the following three components (A), (B), and (C) directly or indirectly on a hard coat layer by providing a hard coat layer mainly composed of an active energy ray-curable resin on a transparent film. Is provided with a (low refractive index) layer in the range of 1.20 to 1.42.
(A) Composite particles having porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or hollow particles filled with a solvent, gas, or porous substance inside (B) binder component (C) hydrophobic group Is a nonionic surfactant composed of dimethylpolysiloxane and hydrophilic group polyoxyalkylene
前記(B)で表されるバインダー成分が、アルコキシシランの加水分解重縮合によるゾルゲル法で形成されることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。 The antireflective film according to claim 1, wherein the binder component represented by (B) is formed by a sol-gel method by hydrolysis polycondensation of alkoxysilane. 前記アルコキシシランの50質量%以上がテトラエトキシシランであることを特徴とする請求項2に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 2, wherein 50% by mass or more of the alkoxysilane is tetraethoxysilane. 前記ハードコート層が活性エネルギー線硬化樹脂成分と金属酸化物微粒子を主成分として含有し、かつ、前記低屈折率層を、該ハードコート層上に直接設けることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。 The hard coat layer contains an active energy ray-curable resin component and metal oxide fine particles as main components, and the low refractive index layer is provided directly on the hard coat layer. The antireflection film according to any one of the above. 前記ハードコート層が前記(C)で表される疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤を含有することを特徴とする請求項4に記載の反射防止フィルム。 5. The hard coat layer contains a nonionic surfactant composed of dimethylpolysiloxane as a hydrophobic group represented by (C) and a polyoxyalkylene as a hydrophilic group. Antireflection film. 前記ハードコート層が、Zr、Sn、Sb、As、Zn、Nb、In、Alから選択される金属酸化物微粒子を含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。 The hard coat layer contains metal oxide fine particles selected from Zr, Sn, Sb, As, Zn, Nb, In, and Al, according to any one of claims 1 to 5. Antireflection film. 前記(C)で表される疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤が、ジメチルポリシロキサンとポリオキシアルキレンが交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。 A nonionic surfactant composed of dimethylpolysiloxane having a hydrophobic group represented by (C) and a polyoxyalkylene having a hydrophilic group is a linear form in which dimethylpolysiloxane and polyoxyalkylene are alternately and repeatedly bonded. The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflection film is a block copolymer of the following. 前記ハードコート層が2層以上の層からなり、帯電防止剤、可視光領域色調調整剤、電磁波遮断剤、赤外線吸収剤の少なくとも1つがその中の1層に添加されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。 The hard coat layer is composed of two or more layers, and at least one of an antistatic agent, a visible light region color tone adjusting agent, an electromagnetic wave blocking agent, and an infrared absorber is added to one of the layers. The antireflection film according to any one of claims 1 to 7. 前記ハードコート層が粒径0.1〜1.0μmの防眩性微粒子を含有することを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to any one of claims 1 to 8, wherein the hard coat layer contains antiglare fine particles having a particle size of 0.1 to 1.0 µm. 前記ハードコート層と前記低屈折率層の間に、高屈折率層を、または中屈折率層及び高屈折率層を有する場合、低屈折率層と接する層には前記(C)で表される成分が含有されることを特徴とする請求項1〜4および6〜9のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。 In the case of having a high refractive index layer, or a middle refractive index layer and a high refractive index layer between the hard coat layer and the low refractive index layer, the layer in contact with the low refractive index layer is represented by (C). The antireflective film of any one of Claims 1-4 and 6-9 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを使用したことを特徴とする偏光板。 A polarizing plate using the antireflection film according to claim 1. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを使用したことを特徴とする画像表示装置。 An image display device using the antireflection film according to claim 1.
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