JP2005070744A - Optical film, method for manufacturing optical film, polarizing plate, and display apparatus - Google Patents

Optical film, method for manufacturing optical film, polarizing plate, and display apparatus Download PDF

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良和 小島
Ryuhei Enomoto
龍平 榎本
Yoshiaki Morinaga
義章 森永
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wide and thin optical film having sufficient pencil hardness without causing peeling, cracks or scratches even when the optical film has a layered structure, to provide a method for manufacturing the film, and to provide a polarizing plate using the film, and a liquid crystal display having excellent visibility. <P>SOLUTION: The method for manufacturing an optical film having a hard coat layer disposed on a cellulose ester film substrate is characterized in that: at least one layer of intermediate layer and a hard coat layer are applied on a prescribed cellulose ester film substrate; the coating composition for forming the intermediate layer contains at least one kind of solvent which can swell or dissolve the substrate; the proportion of the solvent which can swell or dissolve the substrate is 20 to 95 vol% of the entire solvent of the coating composition; and the coating composition for formation of the intermediate layer is applied to form 5 to 60 μm wet film thickness per one layer of the intermediate layer. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光学用途に利用される光学フィルム及びその製造方法に関するものであり、特に液晶表示装置或いは有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ等の表示装置に用いられる反射防止フィルム及びその製造に有用な光学フィルム及びその製造方法に関するものである。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical film used for optical applications and a method for producing the same, and particularly to an antireflection film used for a display device such as a liquid crystal display device or an organic EL display, a plasma display, a field emission display, and the production thereof. The present invention relates to a useful optical film and a method for producing the same.

液晶ディスプレイ用偏光板保護フィルム、有機ELディスプレイ等に用いられる円偏光板の保護フィルム、楕円偏光板などの光学用途に使用される透明樹脂フィルムは、様々な機能を持たせるために透明樹脂層が塗設されている。例えば、帯電防止機能を持たせるための帯電防止層や、表面硬度を向上させるためのハードコート層、膜付き性を向上させるための下引き層、カールを防止するためのアンチカール層などである。上記透明樹脂フィルムにこのような透明樹脂層を塗設した場合、特にハードコート層やその上に更に反射防止層を塗設したような積層構造をとった場合、クラックの発生や様々な工程において傷の発生等が見られ問題となることがあった。特に、これら光学フィルムを用いて偏光板を製造すると、その後の裁断、打ち抜きの際にハードコート層の剥離、割れといった故障を生じ生産性を著しく損ねるといった問題があった。   A transparent resin film used for optical applications such as a polarizing plate protective film for liquid crystal displays, a circular polarizing plate protective film used for organic EL displays, and an elliptical polarizing plate has a transparent resin layer in order to have various functions. It is painted. For example, an antistatic layer for providing an antistatic function, a hard coat layer for improving surface hardness, an undercoat layer for improving film adhesion, an anti-curl layer for preventing curling, etc. . When such a transparent resin layer is applied to the transparent resin film, particularly when a hard coat layer or a laminated structure in which an antireflection layer is further applied thereon is taken, cracks are generated and various processes are performed. Occurrence of scratches, etc. was seen and sometimes became a problem. In particular, when a polarizing plate is produced using these optical films, there is a problem in that productivity is remarkably impaired due to failure such as peeling or cracking of the hard coat layer during subsequent cutting and punching.

また、様々な機能を持たせるため、下層に微粒子を添加することがあり、例えば下層を帯電防止層とした場合、導電性微粒子を添加することになるが、その場合、各層の密着性及び、添加した微粒子と下層バインダーとの密着性が問題となることがあり、前記剥離や割れを増加させることがあった。   In order to have various functions, fine particles may be added to the lower layer. For example, when the lower layer is an antistatic layer, conductive fine particles will be added. Adhesion between the added fine particles and the lower layer binder may be a problem, and the peeling and cracking may be increased.

これら密着性に起因する問題の改善に関して、透明樹脂フィルム上に二層以上の透明樹脂層を有し、下層のバインダーが、主に重量平均分子量が2万〜40万である透明樹脂からなる技術、樹脂と溶媒を有する含水率5質量%以下の塗布組成物をフィルム基材上に塗布し樹脂層を設ける技術(例えば、特許文献1、2参照。)が開示されており、各々効果は認められるものの、最近の液晶表示装置の大型化、薄型化に対応する薄膜、広幅の光学フィルムに対しては効果は不十分であった。また、剥離、割れ、傷等の改善に関しては示唆されていない。
特開2001−83327号公報 特開2001−183528号公報
Regarding the improvement of problems caused by these adhesions, a technology comprising a transparent resin having two or more transparent resin layers on a transparent resin film, and the lower binder mainly having a weight average molecular weight of 20,000 to 400,000 In addition, a technique (for example, see Patent Documents 1 and 2) in which a coating composition having a water content of 5% by mass or less having a resin and a solvent is applied on a film substrate and a resin layer is provided is disclosed, and each effect is recognized. However, the effect is insufficient for a thin film and a wide optical film corresponding to the recent increase in size and thickness of liquid crystal display devices. Further, there is no suggestion regarding improvement of peeling, cracking, scratches and the like.
JP 2001-83327 A JP 2001-183528 A

従って本発明の目的は、基材との密着性に優れ、積層構造の光学フィルムであっても剥離、割れ、傷等の発生がなく、十分な鉛筆硬度を有した平面性に優れた広幅、薄膜の光学フィルム及びその製造方法、それを用いた硬度に優れかつ加工性にも優れた偏光板及び視認性に優れた液晶表示装置を提供することにある。   Therefore, the object of the present invention is excellent in adhesiveness with the substrate, there is no occurrence of peeling, cracking, scratching, etc. even in an optical film with a laminated structure, and a wide width with sufficient pencil hardness, excellent flatness, An object of the present invention is to provide a thin film optical film, a production method thereof, a polarizing plate excellent in hardness and processability using the same, and a liquid crystal display device excellent in visibility.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

(請求項1)
セルロースエステルフィルム基材上にハードコート層を設けた光学フィルムの製造方法において、該セルロースエステルフィルム基材が、紫外線吸収剤及び2種以上の可塑剤を含有し、総アシル基置換度2.6〜2.9、数平均分子量(Mn)80000〜200000、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値が1.4〜3.0であるセルロースエステルを含有する溶液をキャスティング後、2軸延伸して製造されたものであり、該セルロースエステルフィルム基材上に少なくとも一層の中間層を塗設した後、ハードコート層を塗設して光学フィルムを製造する方法であって、該中間層を設けるための塗布組成物が、基材を膨潤または溶解し得る溶剤を少なくとも1種類含み、該基材を膨潤または溶解し得る溶剤の塗布組成物溶剤全体に占める割合が20〜95体積%であり、該中間層を設けるための塗布組成物を、該中間層の一層当たりのウエット膜厚が5〜60μmとなるように塗設することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
(Claim 1)
In the method for producing an optical film in which a hard coat layer is provided on a cellulose ester film substrate, the cellulose ester film substrate contains an ultraviolet absorber and two or more plasticizers, and has a total acyl group substitution degree of 2.6. After casting a solution containing a cellulose ester having a value of ˜2.9, number average molecular weight (Mn) 80000-200000, weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) of 1.4 to 3.0, A method of producing an optical film by coating at least one intermediate layer on the cellulose ester film substrate, and then coating a hard coat layer on the cellulose ester film substrate, The coating composition for providing the intermediate layer contains at least one solvent that can swell or dissolve the substrate, and the coating composition of the solvent that can swell or dissolve the substrate The proportion of the total agent is 20 to 95% by volume, and the coating composition for providing the intermediate layer is applied so that the wet film thickness per layer of the intermediate layer is 5 to 60 μm. A method for producing an optical film.

(請求項2)
前記中間層が少なくとも1種以上のバインダーを有し、該バインダーがアクリル樹脂またはセルロースエステルを含有することを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。
(Claim 2)
The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the intermediate layer has at least one binder, and the binder contains an acrylic resin or a cellulose ester.

(請求項3)
前記セルロースエステルフィルム基材に含まれる2種以上の可塑剤が、リン酸エステル系可塑剤以外の可塑剤から選ばれ、かつリン酸エステル系可塑剤の含有量が1質量%未満であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルムの製造方法。
(Claim 3)
Two or more kinds of plasticizers contained in the cellulose ester film substrate are selected from plasticizers other than phosphate ester plasticizers, and the content of phosphate ester plasticizers is less than 1% by mass. The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the optical film is a film.

(請求項4)
前記可塑剤の少なくとも1種が、多価アルコールエステル系可塑剤であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
(Claim 4)
The method for producing an optical film according to claim 1, wherein at least one of the plasticizers is a polyhydric alcohol ester plasticizer.

(請求項5)
請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法で製造されたことを特徴とする光学フィルム。
(Claim 5)
An optical film produced by the method according to claim 1.

(請求項6)
セルロースエステルフィルム基材上に少なくとも一層の中間層とハードコート層を有する光学フィルムであって、該セルロースエステルフィルム基材が、紫外線吸収剤及び2種以上の可塑剤を含有し、総アシル基置換度2.6〜2.9、数平均分子量(Mn)80000〜200000、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値が1.4〜3.0であるセルロースエステルを含有する溶液をキャスティング後、2軸延伸して製造されたものであり、該中間層がセルロースエステルフィルム基材を膨潤または溶解し得る溶剤を全溶媒に対して20〜95体積%含有する中間層塗布組成物を、ウエット膜厚が5〜60μmとなるように塗設して形成された中間層の上にハードコート層を有することを特徴とする光学フィルム。
(Claim 6)
An optical film having at least one intermediate layer and a hard coat layer on a cellulose ester film substrate, wherein the cellulose ester film substrate contains an ultraviolet absorber and two or more plasticizers, and is substituted with a total acyl group A solution containing a cellulose ester having a degree of 2.6 to 2.9, a number average molecular weight (Mn) of 80000 to 200000, and a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) of 1.4 to 3.0. The intermediate layer coating composition is produced by biaxial stretching after casting, and the intermediate layer contains a solvent capable of swelling or dissolving the cellulose ester film substrate in an amount of 20 to 95% by volume based on the total solvent. An optical film characterized by having a hard coat layer on an intermediate layer formed by coating so as to have a wet film thickness of 5 to 60 μm.

(請求項7)
前記中間層が少なくとも1種以上のバインダーを有することを特徴とする請求項6に記載の光学フィルム。
(Claim 7)
The optical film according to claim 6, wherein the intermediate layer has at least one binder.

(請求項8)
前記バインダーがアクリル樹脂またはセルロースエステルを含有することを特徴とする請求項7に記載の光学フィルム。
(Claim 8)
The optical film according to claim 7, wherein the binder contains an acrylic resin or a cellulose ester.

(請求項9)
前記バインダーに用いられるセルロースエステルの総アシル基置換度が、セルロースエステルフィルム基材の総アシル基置換度より0.1以上小さいセルロースエステルであることを特徴とする請求項8に記載の光学フィルム。
(Claim 9)
The optical film according to claim 8, wherein the cellulose ester used for the binder is a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 0.1 or more smaller than the total acyl group substitution degree of the cellulose ester film base material.

(請求項10)
前記中間層が少なくとも1種以上のバインダーと平均粒径が0.01〜3μmの微粒子を含有し、該微粒子の含有量が該中間層の総固形分の5〜90体積%であることを特徴とする請求項6〜9のいずれか1項に記載の光学フィルム。
(Claim 10)
The intermediate layer contains at least one binder and fine particles having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm, and the content of the fine particles is 5 to 90% by volume of the total solid content of the intermediate layer. The optical film according to any one of claims 6 to 9.

(請求項11)
前記セルロースエステルフィルム基材に含まれる2種以上の可塑剤が、リン酸エステル系可塑剤以外の可塑剤から選ばれ、かつリン酸エステル系可塑剤の含有量が1質量%未満であることを特徴とする請求項6〜10のいずれか1項に記載の光学フィルム。
(Claim 11)
Two or more kinds of plasticizers contained in the cellulose ester film substrate are selected from plasticizers other than phosphate ester plasticizers, and the content of phosphate ester plasticizers is less than 1% by mass. The optical film according to claim 6, wherein the optical film is a film.

(請求項12)
前記可塑剤の少なくとも1種が、多価アルコールエステル系可塑剤であることを特徴とする請求項6〜11のいずれか1項に記載の光学フィルム。
(Claim 12)
The optical film according to any one of claims 6 to 11, wherein at least one of the plasticizers is a polyhydric alcohol ester plasticizer.

(請求項13)
前記ハードコート層の上に反射防止層を設けたことを特徴とする請求項6〜12のいずれか1項に記載の光学フィルム。
(Claim 13)
The optical film according to claim 6, wherein an antireflection layer is provided on the hard coat layer.

(請求項14)
前記セルロースエステルフィルム基材の幅が、1.4m〜4mの範囲であることを特徴とする請求項6〜13のいずれか1項に記載の光学フィルム。
(Claim 14)
14. The optical film according to claim 6, wherein a width of the cellulose ester film substrate is in a range of 1.4 m to 4 m.

(請求項15)
少なくとも一方の面に請求項6〜14のいずれか1項に記載の光学フィルムを設けたことを特徴とする偏光板。
(Claim 15)
A polarizing plate comprising the optical film according to any one of claims 6 to 14 provided on at least one surface.

(請求項16)
請求項15に記載の偏光板を有することを特徴とする表示装置。
(Claim 16)
A display device comprising the polarizing plate according to claim 15.

本発明により、基材との密着性に優れ、積層構造の光学フィルムであっても剥離、割れ、傷等の発生がなく、十分な鉛筆硬度を有した平面性に優れた広幅、薄膜の光学フィルム及びその製造方法、それを用いた偏光板及び視認性に優れた液晶表示装置を提供することが出来る。   According to the present invention, it is excellent in adhesiveness with a base material, and even with an optical film having a laminated structure, there is no occurrence of peeling, cracking, scratching, etc. A film, a manufacturing method thereof, a polarizing plate using the film, and a liquid crystal display device excellent in visibility can be provided.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明は、セルロースエステルフィルム基材上にハードコート層を設けた光学フィルムの製造方法において、該セルロースエステルフィルム基材が、紫外線吸収剤及び2種以上の可塑剤を含有し、総アシル基置換度2.6〜2.9、数平均分子量(Mn)80000〜200000、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値が1.4〜3.0であるセルロースエステルを含有する溶液をキャスティング後、2軸延伸して製造されたものであり、該セルロースエステルフィルム基材上に少なくとも一層の中間層を塗設した後、ハードコート層を塗設して光学フィルムを製造する方法であって、該中間層を設けるための塗布組成物が少なくとも1種類の基材を膨潤または溶解し得る溶剤を含み、該基材を膨潤または溶解し得る溶剤の塗布組成物溶剤全体に占める割合が20〜95体積%であり、該中間層を設けるための塗布組成物を、該中間層の一層当たりのウエット膜厚(塗布組成物を塗設した直後の溶媒を含んだ状態の膜厚を言う)が5〜60μmとなるように塗設することを特徴とする。   The present invention relates to a method for producing an optical film in which a hard coat layer is provided on a cellulose ester film substrate, wherein the cellulose ester film substrate contains an ultraviolet absorber and two or more plasticizers, and is substituted with a total acyl group. A solution containing a cellulose ester having a degree of 2.6 to 2.9, a number average molecular weight (Mn) of 80000 to 200000, and a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) of 1.4 to 3.0. Is produced by biaxial stretching after casting, and after coating at least one intermediate layer on the cellulose ester film substrate, a hard coat layer is coated to produce an optical film. The coating composition for providing the intermediate layer comprises a solvent capable of swelling or dissolving at least one substrate, and the solvent composition capable of swelling or dissolving the substrate. The proportion of the total amount of the cloth composition solvent is 20 to 95% by volume, and the coating composition for providing the intermediate layer is a wet film thickness per layer of the intermediate layer (the solvent immediately after the coating composition is applied). The film is coated so that the film thickness is 5 to 60 μm.

即ち、本発明者らは上記課題を鋭意検討した結果、特定のセルロースエステルフィルム基材上に、少なくとも一種類の基材を膨潤または溶解し得る溶剤を含む特定の中間層用塗布組成物をウエット膜厚が5〜60μmになるように塗設し、更にハードコート層を塗設することで、基材及び層間の密着性に優れ、また剥離、割れ、傷等の発生のない平面性に優れた光学フィルムが得られることを見出し、本発明を成すに至ったものである。   That is, as a result of intensive studies on the above problems, the present inventors have wetted a specific intermediate layer coating composition containing a solvent capable of swelling or dissolving at least one type of base material on a specific cellulose ester film base material. By coating so that the film thickness is 5 to 60 μm, and further by coating a hard coat layer, it is excellent in adhesion between the substrate and the interlayer, and excellent in flatness without occurrence of peeling, cracking, scratches, etc. The present inventors have found that an optical film can be obtained and have reached the present invention.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

〈中間層〉
セルロースエステルフィルム基材上に、少なくとも一層以上の中間層とその上にハードコート層を塗設する場合、塗布層の密着性が悪化し、剥離や割れが生じるという問題があった。密着性を悪化させる部分として、下層と上層間の密着性、下層と基材である透明樹脂フィルムとの密着性、更に下層に微粒子を添加した場合は下層バインダーと微粒子との密着性が問題となることが明らかとなった。そこで、この問題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、該中間層を設けるための塗布組成物が、基材を膨潤または溶解し得る溶剤を少なくとも1種類含み、該基材を膨潤または溶解し得る溶剤の塗布組成物溶剤全体に占める割合が20〜95体積%であり、該中間層を設けるための塗布組成物を該中間層の一層当たりのウエット膜厚が5〜60μmとなるように塗設することによって密着性が改善され、剥離、割れ、傷といった問題が改善されることが判明した。更に驚くべきことに、基材の屈折率とハードコート層の屈折率が違うことによりハードコート層表面で反射する光とハードコート層と基材の界面で反射する光の干渉により生じる干渉ムラ(干渉縞模様)も改善された。
<Intermediate layer>
When at least one or more intermediate layers and a hard coat layer are coated on the cellulose ester film substrate, there is a problem that the adhesion of the coating layer is deteriorated and peeling or cracking occurs. As a part that deteriorates the adhesion, the adhesion between the lower layer and the upper layer, the adhesion between the lower layer and the transparent resin film as the base material, and the adhesion between the lower layer binder and the fine particles when fine particles are added to the lower layer It became clear that Therefore, as a result of intensive studies to solve this problem, the coating composition for providing the intermediate layer contains at least one solvent that can swell or dissolve the substrate, and swells or dissolves the substrate. The proportion of the solvent that can be applied to the entire coating composition solvent is 20 to 95% by volume, and the coating composition for providing the intermediate layer is adjusted so that the wet film thickness per layer of the intermediate layer is 5 to 60 μm. By coating, it was found that adhesion was improved and problems such as peeling, cracking and scratches were improved. Surprisingly, interference unevenness caused by interference between light reflected from the surface of the hard coat layer and light reflected from the interface between the hard coat layer and the substrate due to the difference in the refractive index of the substrate and the refractive index of the hard coat layer ( (Interference fringe pattern) was also improved.

ここでいう中間層は、基材となるセルロースエステルフィルム上に、溶剤を含む塗布組成物を塗設することによって形成される。該塗布組成物は溶剤のみでもよく、バインダーを含むことがより好ましい。溶剤のみの場合、基材への溶剤の浸透によって基材表面が改質された部分が中間層となる。   An intermediate | middle layer here is formed by coating the coating composition containing a solvent on the cellulose-ester film used as a base material. The coating composition may be a solvent alone, and more preferably contains a binder. In the case of only the solvent, the portion where the surface of the base material is modified by the penetration of the solvent into the base material becomes the intermediate layer.

中間層に使用するバインダーは熱可塑性樹脂であることが好ましく、後述する本発明に係る溶剤に溶解した状態で塗設される。ここで使用される樹脂は、例えばセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネート、またはセルロースナイトレート等のセルロース誘導体、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、またはコポリブチレンテレ/イソフタレート等のポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、またはポリビニルベンザール等のポリビニルアルコール誘導体、ノルボルネン系樹脂ポリマー、ポリメチルメタアクリレート等、(メタ)アクリル酸メチルを含む共重合体等のアクリル樹脂を用いることが出来るが、特にこれらに限定されるものではない。   The binder used for the intermediate layer is preferably a thermoplastic resin, and is coated in a state dissolved in the solvent according to the present invention described later. Examples of the resin used here include cellulose derivatives such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, cellulose acetate propionate, and cellulose nitrate, polyvinyl acetate, polystyrene, polycarbonate, and polybutylene. Polyesters such as terephthalate or copolybutylene tele / isophthalate, polyvinyl alcohol derivatives such as polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, polyvinyl butyral, polyvinyl benzal, norbornene resin polymers, polymethyl methacrylate, (meth) acrylic Acrylic resins such as copolymers containing methyl acid can be used, but are not limited to these. Not.

この中で特にセルロース誘導体或いはアクリル樹脂が好ましく用いられる。   Of these, cellulose derivatives or acrylic resins are particularly preferably used.

セルロース誘導体としては、上記したものが挙げられるが、セルロースエステルの総アシル基置換度が、セルロースエステルフィルム基材の総アシル基置換度より0.1以上小さいセルロースエステルであることが好ましい。本発明者らは、総アシル基置換度が基材のアシル基置換度よりも0.1以上小さいセルロースエステルを選ぶことにより、本発明の効果が更に向上することを見出した。この効果の理由は明らかではないが、セルロースエステルに残存する水酸基が、基材から溶出してくる可塑剤に何らかの影響を及ぼし、上層への悪影響を抑制するものと推定している。セルロース誘導体としては、特にその種類に制限はないが、好ましくは総アシル基置換度2.0〜2.7のセルロースエステルであり、特に2.0〜2.6のセルロースエステルが好ましい。上記セルロースエステルの中では、総アシル基置換度が上記条件を満たすセルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等が好適である。セルロースエステルの製造法、総アシル基置換度の測定法については後述する。   Examples of the cellulose derivative include those described above, and the cellulose ester is preferably a cellulose ester in which the total acyl group substitution degree is 0.1 or more smaller than the total acyl group substitution degree of the cellulose ester film substrate. The present inventors have found that the effect of the present invention is further improved by selecting a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 0.1 or more smaller than the acyl group substitution degree of the substrate. The reason for this effect is not clear, but it is presumed that the hydroxyl group remaining in the cellulose ester has some influence on the plasticizer eluted from the base material and suppresses the adverse effect on the upper layer. Although there is no restriction | limiting in particular as a cellulose derivative, Preferably it is a cellulose ester of total acyl group substitution degree 2.0-2.7, and a cellulose ester of 2.0-2.6 is especially preferable. Among the cellulose esters, cellulose diacetate, cellulose acetate propionate and the like whose total acyl substitution degree satisfies the above conditions are preferable. A method for producing a cellulose ester and a method for measuring the total acyl group substitution degree will be described later.

アクリル樹脂としては、重量平均分子量が100万以下であるアクリル樹脂を好ましく用いることが出来る。特にここで使用する樹脂は熱可塑性樹脂であることが好ましく、ガラス転移点が110℃以下、更に好ましくは90℃以下の樹脂が用いられる。ここで使用される樹脂は、前記した樹脂が好ましく用いられる。   As the acrylic resin, an acrylic resin having a weight average molecular weight of 1,000,000 or less can be preferably used. In particular, the resin used here is preferably a thermoplastic resin, and a resin having a glass transition point of 110 ° C. or lower, more preferably 90 ° C. or lower is used. The resin used here is preferably the above-described resin.

更にガラス転移点が110℃以下、更に好ましくは30〜90℃の熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。   Further, a thermoplastic resin having a glass transition point of 110 ° C. or less, more preferably 30 to 90 ° C. is preferably used.

熱可塑性アクリル樹脂としては、例えば、分子量数万〜数十万、ガラス転移点20〜105℃の各種のタイプが市販されており、好ましいものを選択することが出来る。   As the thermoplastic acrylic resin, for example, various types having a molecular weight of tens of thousands to hundreds of thousands and a glass transition point of 20 to 105 ° C. are commercially available, and preferable ones can be selected.

例えば、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レイヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レイヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましい樹脂を適宜選択することも出来る。   For example, Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001, M-4501 (Negami) Manufactured by Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR-80, BR- 82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105, BR-106, Acrylic and methacrylic monomers such as BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) Various homopolymers and copolymers were prepared as charge are commercially available, can also be suitably selecting a preferred resin from the.

ガラス転移点はJIS−K7121に記載の方法にて求めることが出来る。   The glass transition point can be determined by the method described in JIS-K7121.

ここで使用する樹脂は中間層で使用しているバインダー全体の60質量%以上、更に好ましくは80質量%以上であることが好ましく、必要に応じて活性線硬化樹脂或いは熱硬化性樹脂をブレンドすることも出来る。   The resin used here is preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of the entire binder used in the intermediate layer, and an actinic ray curable resin or a thermosetting resin is blended as necessary. You can also

本発明に係る中間層用塗布組成物は、基材を膨潤または溶解し得る溶剤を含み、該基材を膨潤または溶解し得る溶剤の塗布組成物溶剤全体に占める割合は20〜95体積%の範囲であり、より好ましくは30〜80体積%の範囲である。   The coating composition for an intermediate layer according to the present invention contains a solvent that can swell or dissolve the substrate, and the ratio of the solvent that can swell or dissolve the substrate to the entire coating composition solvent is 20 to 95% by volume. It is a range, More preferably, it is the range of 30-80 volume%.

本発明の塗布組成物として使用出来る、基材を膨潤または溶解し得る溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルオキシド、メチル−n−アミルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、安息香酸エチル、アセト酢酸メチル等のエステル類、ジオキソラン、ジオキサン、メチルセロソルブ、メチルカルビトール等のエーテル類、メチルセロソルブアセテート、セロソルブアセテート等の多価アルコールエステル類、テトラヒドロフラン、フルフラール等のフラン類、氷酢酸等の酸類、メチレンクロライド、エチレンジクロライド、テトラクロロエタン等のハロゲン炭化水素類、ニトロメタン、ニトロエタン、ピリジン、ジメチルホルムアミド、ニトロベンゼン等の窒素化合物、ジメチルスルホキサイド等のスルホン酸類等が好適に用いられる。塗布後の乾燥を考慮すると、揮発し易い溶剤が好ましく、沸点が200℃以下のものが好ましい。   Solvents that can be used as the coating composition of the present invention and that can swell or dissolve the substrate include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl oxide, methyl n-amyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol, diisobutyl ketone, and methylcyclohexanone. Ketones such as methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, ethyl benzoate, methyl acetoacetate, etc., ethers such as dioxolane, dioxane, methyl cellosolve, methyl carbitol, methyl cellosolve acetate, cellosolve acetate Such as polyhydric alcohol esters such as tetrahydrofuran, furfural and the like, acids such as glacial acetic acid, halogen hydrocarbons such as methylene chloride, ethylene dichloride and tetrachloroethane, Tromethane, nitroethane, pyridine, dimethylformamide, nitrogen compounds such as nitrobenzene, sulfonic acids such as dimethyl sulfoxide and the like are suitably used. In consideration of drying after coating, a solvent that easily volatilizes is preferable, and a solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower is preferable.

本発明では、基材を膨潤または溶解しない溶剤を、上記溶剤と5〜80体積%の範囲で混合使用することが出来る。例えばメタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノールなどのアルコール類、グリコールエーテル類(プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル(具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノn−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等)、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステル(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート))、水、その他の溶媒などが挙げられる。特にこれらに限定されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒が好ましく用いられる。   In the present invention, a solvent that does not swell or dissolve the substrate can be mixed and used in the range of 5 to 80% by volume with the above solvent. For example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, 2-butanol, tert-butanol, glycol ethers (propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether (specifically, propylene glycol monomethyl ether (PGME), Propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, etc.), propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether ester (propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether) Acetate)), water, and other solvents. Although not particularly limited to these, a solvent in which these are appropriately mixed is preferably used.

本発明のセルロースエステルフィルム基材上に1層以上の中間層を形成する光学フィルムとしては、中間層としては下記の例があげられるが、特にこれらに限定されるものではない。   Examples of the optical film for forming one or more intermediate layers on the cellulose ester film substrate of the present invention include, but are not particularly limited to, the following examples.

セルロースエステルフィルム/ブロッキング防止層(中間層)/クリアハードコート層
セルロースエステルフィルム/帯電防止層(中間層)/クリアハードコート層
セルロースエステルフィルム/光拡散層(中間層)/クリアハードコート層
セルロースエステルフィルム/紫外線吸収層(中間層)/クリアハードコート層
クリアハードコート層/帯電防止層(中間層)/セルロースエステルフィルム/アンチカール層兼ブロッキング防止層
クリアハードコート層/下引き層(中間層)/セルロースエステルフィルム/アンチカール層兼ブロッキング防止層
クリアハードコート層/セルロースエステルフィルム/帯電防止層(中間層)/易接着層兼ブロッキング防止層
本発明の中間層は微粒子を添加することが出来る。微粒子の平均粒径は0.01〜3μmで該中間層に含まれる総固形分の5〜90体積%含有させるときに、微粒子を添加しても密着性が低下しないことが明らかとなった。微粒子の平均粒径は1次粒径が0.01〜3μmの粒子を含有することが好ましく、特に1次粒径若しくはそれらが凝集した2次粒径が0.05〜3μmの粒子を含有することが好ましい。粒子の形状は、球形、針状、平板状、米粒状、不定形、棒状など特に限定されない。
Cellulose ester film / Anti-blocking layer (intermediate layer) / Clear hard coat layer Cellulose ester film / Antistatic layer (intermediate layer) / Clear hard coat layer Cellulose ester film / Light diffusion layer (intermediate layer) / Clear hard coat layer Cellulose ester Film / UV absorbing layer (intermediate layer) / clear hard coat layer Clear hard coat layer / antistatic layer (intermediate layer) / cellulose ester film / anti-curl layer / anti-blocking layer Clear hard coat layer / undercoat layer (intermediate layer) / Cellulose ester film / anti-curl layer / anti-blocking layer clear hard coat layer / cellulose ester film / antistatic layer (intermediate layer) / easi-adhesion layer / anti-blocking layer The intermediate layer of the present invention may contain fine particles. The average particle size of the fine particles was 0.01 to 3 μm, and it was revealed that the adhesion was not lowered even when fine particles were added when the total solid content contained in the intermediate layer was 5 to 90% by volume. The average particle diameter of the fine particles preferably includes particles having a primary particle diameter of 0.01 to 3 μm, and particularly includes particles having a primary particle diameter or a secondary particle diameter of 0.05 to 3 μm in which they are aggregated. It is preferable. The shape of the particles is not particularly limited, such as a spherical shape, a needle shape, a flat plate shape, a rice grain shape, an indefinite shape, or a rod shape.

中間層に用いることができる微粒子は無機化合物の例として、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムをあげることができる。珪素を含むものは濁度が低くなる点で好ましく、特に酸化ケイ素が好ましい。   The fine particles that can be used in the intermediate layer are, as examples of inorganic compounds, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate And aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Those containing silicon are preferable in terms of low turbidity, and silicon oxide is particularly preferable.

酸化ケイ素の例としてはアエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上、日本アエロジル(株)製)、メタノールシリカゾル、IPA−ST、IPA−ST−UP、IPA−ST−ZL、EG−ST、NPC−ST−30、DMAC−ST、MEK−ST、MIBK−ST、XBA−ST、PMA−ST(以上、日産化学工業(株)製)の商品名で市販されており使用することができる。   Examples of silicon oxide include Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (above, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), methanol silica sol, IPA-ST, IPA-ST-UP, Under the trade names of IPA-ST-ZL, EG-ST, NPC-ST-30, DMAC-ST, MEK-ST, MIBK-ST, XBA-ST, PMA-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) It is commercially available and can be used.

酸化ジルコニウムの例としては、アエロジルR976及びR811(以上、日本アエロジル(株)製)を使用することができる。   As examples of zirconium oxide, Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used.

有機微粒子の例としてはポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート架橋粒子、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末あるいはポリフッ化エチレン系樹脂粉末等をあげることができる。特にポリスチレン樹脂粉末とポリメチルメタクリレート系樹脂粉末が好ましく、ポリスチレン樹脂粉末の例としてSX−130H、SX−200H(以上、綜研化学(株)製)、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末の例として、MX150、MX300(以上、綜研化学(株)製)、ポリメチルメタクリレート架橋粒子の例としてMS−300K(以上、綜研化学(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる
中間層がブロッキング防止層である場合は、微粒子の平均粒径として0.05〜1μmであることが好ましく、バインダーに対して5〜80質量%が好ましく、5〜20質量%であることがより好ましい。ブロッキング防止層の動摩擦係数としては0.9以下、特に0.1〜0.9が好ましい。
Examples of organic fine particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, polymethyl methacrylate crosslinked particles, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin Examples thereof include powder, melamine resin powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, and polyfluorinated ethylene resin powder. In particular, polystyrene resin powder and polymethyl methacrylate resin powder are preferable. Examples of polystyrene resin powder are SX-130H and SX-200H (above, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), and examples of polymethyl methacrylate resin powder are MX150 and MX300. (As mentioned above, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), an example of polymethyl methacrylate crosslinked particles is commercially available under the trade name of MS-300K (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), and an intermediate layer that can be used is blocking. When it is a prevention layer, it is preferable that it is 0.05-1 micrometer as an average particle diameter of microparticles | fine-particles, 5-80 mass% is preferable with respect to a binder, and it is more preferable that it is 5-20 mass%. The dynamic friction coefficient of the anti-blocking layer is preferably 0.9 or less, particularly preferably 0.1 to 0.9.

また、本発明の中間層は帯電防止層とすることができる。   The intermediate layer of the present invention can be an antistatic layer.

例えば、中間層が帯電防止層である場合、導電性微粒子を添加する場合においても密着性を改善する方法を提供する。即ち、該微粒子の平均粒径が0.05〜3μmで該中間層に含まれる総固形分の5〜90体積%含有させる時に、導電性微粒子を添加しても密着性が低下しないことが明らかとなった。   For example, when the intermediate layer is an antistatic layer, a method for improving adhesion even when conductive fine particles are added is provided. That is, when the average particle size of the fine particles is 0.05 to 3 μm and the content is 5 to 90% by volume of the total solids contained in the intermediate layer, it is clear that the adhesion does not decrease even when conductive fine particles are added. It became.

即ち、本発明は透明セルロースエステルフィルム上に帯電防止層を設けることも好ましい態様である。   That is, in the present invention, it is also a preferred embodiment to provide an antistatic layer on a transparent cellulose ester film.

帯電防止加工とは、透明セルロースエステルフィルムの取り扱いの際に、このセルロースエステルフィルムが帯電するのを防ぐ機能を付与するものであり、具体的には、イオン導電性物質や導電性微粒子を含有する層を設けることによって行う。ここでイオン導電性物質とは電気伝導性を示し、電気を運ぶ担体であるイオンを含有する物質のことであるが、例としてはイオン性高分子化合物を挙げることが出来る。   The antistatic processing is to impart a function of preventing the cellulose ester film from being charged when the transparent cellulose ester film is handled. Specifically, it contains an ionic conductive substance or conductive fine particles. This is done by providing a layer. Here, the ion conductive substance is a substance that shows electric conductivity and contains ions that are carriers for carrying electricity, and examples include ionic polymer compounds.

イオン性高分子化合物としては、特公昭49−23828号、同49−23827号、同47−28937号にみられるようなアニオン性高分子化合物、特公昭55−734号、特開昭50−54672号、特公昭59−14735号、同57−18175号、同57−18176号、同57−56059号などにみられるような、主鎖中に解離基を持つアイオネン型ポリマー、特公昭53−13223号、同57−15376号、特公昭53−45231号、同55−145783号、同55−65950号、同55−67746号、同57−11342号、同57−19735号、特公昭58−56858号、特開昭61−27853号、同62−9346号にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基を持つカチオン性ペンダント型ポリマー等を挙げることが出来る。また、導電性微粒子の例としては導電性を有する金属酸化物が挙げられる。金属酸化物の例としては、ZnO、TiO2、SnO2、Al22、In23、SiO2、MgO、BaO、MoO2、V25等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加、またSnO2に対しては、Sb、Nb、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01mol%〜25mol%の範囲が好ましいが、0.1mol%〜15mol%の範囲が特に好ましい。 Examples of the ionic polymer compound include anionic polymer compounds such as those described in JP-B-49-23828, JP-A-49-23827, and JP-A-47-28937, JP-B-55-734, and JP-A-50-54672. Ionene type polymer having a dissociating group in the main chain, as shown in JP-B-59-14735, JP-B-57-18175, JP-B-57-18176, 57-56059, etc. No. 57-15376, No. 53-45231, No. 55-145783, No. 55-65950, No. 55-67746, No. 57-11342, No. 57-19735, No. 58-56858. No., JP-A 61-27853, 62-9346, and a cationic pendant type having a cationic dissociation group in the side chain Rimmer, etc. can be mentioned. Examples of conductive fine particles include conductive metal oxides. Examples of metal oxides are preferably ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 2 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 2 , V 2 O 5 , or a composite oxide thereof. In particular, ZnO, TiO 2 and SnO 2 are preferred. Examples of containing different atoms include, for example, addition of Al and In to ZnO, addition of Nb and Ta to TiO 2 , and addition of Sb, Nb and halogen elements to SnO 2 . Addition is effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 mol% to 25 mol%, but is particularly preferably in the range of 0.1 mol% to 15 mol%.

また、これらの導電性を有する金属酸化物粉体の体積抵抗率は107Ωcm以下特に105Ωcm以下であって、平均粒径は0.01〜3μm、特に0.05〜3μmの粒子を該中間層に含まれる総固形分の5〜90体積%含有させることが好ましい。 Further, the volume resistivity of these conductive metal oxide powders is 10 7 Ωcm or less, particularly 10 5 Ωcm or less, and the average particle size is 0.01 to 3 μm, particularly 0.05 to 3 μm. It is preferable to contain 5 to 90 volume% of the total solid content contained in the intermediate layer.

また、特開平9−203810号に記載されているアイオネン導電性ポリマー或いは分子間架橋を有する第4級アンモニウムカチオン導電性ポリマーなどを含有することも望ましい。   It is also desirable to contain an ionene conductive polymer described in JP-A-9-203810, a quaternary ammonium cation conductive polymer having intermolecular crosslinking, or the like.

架橋型カチオン性導電性ポリマーの特徴は、得られる分散性粒状ポリマーにあり、粒子内のカチオン成分を高濃度、高密度に持たせることが出来るため、優れた導電性を有しているばかりでなく、低相対湿度下においても導電性の劣化は見られず、粒子同志も分散状態ではよく分散されているにもかかわらず、塗布後造膜過程において粒子どうしの接着性もよいため膜強度も強く、また他の物質例えば支持体にも優れた接着性を有し、耐薬品性に優れている。   The characteristic of the cross-linked cationic conductive polymer is the dispersible granular polymer obtained, and it can have a high concentration and high density of the cationic component in the particles, so it has not only excellent conductivity. No deterioration of conductivity was observed even under low relative humidity, and although the particles were well dispersed in the dispersed state, the film strength was also good because of the good adhesion between the particles in the film formation process after coating. It is strong and has excellent adhesion to other substances such as supports, and has excellent chemical resistance.

帯電防止層に用いられる架橋型のカチオン性導電性ポリマーである分散性粒状ポリマーは一般に約0.05μm〜0.5μmの粒子サイズ範囲にあり、好ましくは0.05μm〜0.2μmの範囲の粒子サイズが用いられる。ここで用いている分散性粒状性ポリマーの語は、視覚的観察によって透明またはわずかに濁った溶液に見えるが、電子顕微鏡の下では粒状分散物として見えるポリマーである。中間層塗布組成物に上層の膜厚に相当する粒子径よりも大きなゴミ(異物)が実質的に含まれない塗布組成物を用いることによって、上層の異物故障を防止することが出来る。   The dispersible granular polymer, which is a crosslinked cationic conductive polymer used in the antistatic layer, is generally in the particle size range of about 0.05 μm to 0.5 μm, preferably in the range of 0.05 μm to 0.2 μm. Size is used. As used herein, the term dispersible particulate polymer is a polymer that appears as a clear or slightly turbid solution by visual observation but appears as a granular dispersion under an electron microscope. By using a coating composition that does not substantially contain dust (foreign matter) larger than the particle size corresponding to the film thickness of the upper layer in the intermediate layer coating composition, failure of the upper layer foreign matter can be prevented.

該微粒子とバインダーの比率は微粒子1質量部に対して、バインダーが0.1〜4質量部が密着性の点で好ましく、特に紫外線照射後の密着性では微粒子1質量部に対して、バインダーが1〜2質量部であることが好ましい。   The ratio of the fine particles to the binder is preferably 0.1 to 4 parts by mass of the binder with respect to 1 part by mass of the fine particles, and particularly the adhesiveness after UV irradiation is such that the binder is contained with respect to 1 part by mass of the fine particles. It is preferable that it is 1-2 mass parts.

本発明の塗布組成物を塗布する方法は、ドクターコート、エクストルージョンコート、スライドコート、ロールコート、グラビアコート、ワイヤバーコート、リバースコート、カーテンコート、ダイコート、スプレーコート、インクジェット法或いは米国特許2,681,294号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート方法等によりウエット膜厚として5〜60μmの範囲で塗設される。5μm未満であると本発明の効果を呈さず、60μmを超えると剥離、割れ、傷等の発生、平面性劣化や干渉ムラが生じ好ましくない。   The method of applying the coating composition of the present invention includes doctor coating, extrusion coating, slide coating, roll coating, gravure coating, wire bar coating, reverse coating, curtain coating, die coating, spray coating, ink jet method, or U.S. Pat. The wet film thickness is 5 to 60 μm by an extrusion coating method using a hopper described in the specification of 681,294. If it is less than 5 μm, the effect of the present invention is not exhibited, and if it exceeds 60 μm, peeling, cracking, scratches, etc., flatness deterioration and interference unevenness are caused.

〈セルロースエステルフィルム〉
本発明の基材となるセルロースエステルフィルムに用いられるセルロースエステルの分子量は、数平均分子量(Mn)で80000〜200000のものが用いられる。100000〜200000のものが更に好ましく、150000〜200000が特に好ましい。
<Cellulose ester film>
The molecular weight of the cellulose ester used for the cellulose ester film used as the substrate of the present invention is 80000-200000 in terms of number average molecular weight (Mn). More preferred are 100,000 to 200,000, particularly preferably 150,000 to 200,000.

また、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比、Mw/Mnが、前記のように1.4〜3.0の範囲であるが、好ましくは1.7〜2.2の範囲である。   Further, the ratio of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn), Mw / Mn, is in the range of 1.4 to 3.0 as described above, preferably 1.7 to 2.2. It is a range.

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することが出来る。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を算出し、その比(Mw/Mn)を計算することが出来る。   The average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured by a known method using high performance liquid chromatography. Using this, the number average molecular weight and the weight average molecular weight can be calculated, and the ratio (Mw / Mn) can be calculated.

測定条件は以下の通りである。
溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
The measurement conditions are as follows.
Solvent: Methylene chloride column: Shodex K806, K805, K803G (used by connecting 3 products manufactured by Showa Denko KK)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000-500 calibration curves with 13 samples were used. The 13 samples are preferably used at approximately equal intervals.

本発明に用いられるセルロースエステルは、炭素数2〜22程度のカルボン酸エステルであり、芳香族カルボン酸のエステルでもよく、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートフタレート等や、特開平10−45804号、同8−231761号、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは混合して用いることも出来る。   The cellulose ester used in the present invention is a carboxylic acid ester having about 2 to 22 carbon atoms, may be an aromatic carboxylic acid ester, and is particularly preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. For example, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate phthalate, etc., JP-A-10-45804, Mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate as described in U.S. Pat. No. 8,231,761, U.S. Pat. No. 2,319,052 can be used. Among the above descriptions, the lower fatty acid esters of cellulose particularly preferably used are cellulose triacetate and cellulose acetate propionate. These cellulose esters can be used as a mixture.

セルローストリアセテートの場合には、総アシル基置換度(アセチル基置換度)2.6から2.9のものが好ましく用いられる。   In the case of cellulose triacetate, those having a total acyl group substitution degree (acetyl group substitution degree) of 2.6 to 2.9 are preferably used.

セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは、炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルである。   Preferred cellulose esters other than cellulose triacetate have an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, the substitution degree of acetyl group is X, and the substitution degree of propionyl group is Y, the following formula (I) And (II) at the same time.

式(I) 2.6≦X+Y≦2.9
式(II) 0≦X≦2.5
中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9のセルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度=X+Y)が好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することが出来る。
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 2.9
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Among them, cellulose acetate propionate (total acyl group substitution degree = X + Y) satisfying 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9 is preferable. The portion not substituted with an acyl group usually exists as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

これらアシル基置換度は、ASTM−D817−96に規定の方法に準じて測定することが出来る。   These acyl group substitution degrees can be measured according to the method prescribed in ASTM-D817-96.

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが出来る。特に綿花リンター(以下、単にリンターとすることがある)、木材パルプから合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。   As the cellulose ester, cellulose ester synthesized from cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to use a cotton linter (hereinafter sometimes simply referred to as a linter) or a cellulose ester synthesized from wood pulp alone or in combination.

また、これらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。これらのセルロースエステルは、セルロース原料をアシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて常法により反応させて得ることが出来る。   Moreover, the cellulose ester obtained from these can be mixed and used in arbitrary ratios, respectively. These cellulose esters are prepared by using an organic acid such as acetic acid or an organic solvent such as methylene chloride when sulfuric acid is used as the acylating agent (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride). It can obtain by making it react by a conventional method using a protic catalyst like.

アセチルセルロースの場合、酢化率をあげようとすれば、酢化反応の時間を延長する必要がある。但し、反応時間を余り長くとると分解が同時に進行し、ポリマー鎖の切断やアセチル基の分解などが起り、好ましくない結果をもたらす。従って、酢化度をあげ、分解をある程度抑えるためには反応時間はある範囲に設定することが必要である。反応時間で規定することは反応条件が様々であり、反応装置や設備その他の条件で大きく変わるので適切でない。ポリマーの分解は進むにつれ、分子量分布が広くなってゆくので、セルロースエステルの場合にも、分解の度合いは通常用いられる重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値で規定出来る。即ちセルローストリアセテートの酢化の過程で、余り長すぎて分解が進みすぎることがなく、かつ酢化には十分な時間酢化反応を行わせしめるための反応度合いの一つの指標として用いられる重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値を用いることが出来る。   In the case of acetyl cellulose, it is necessary to extend the time for the acetylation reaction in order to increase the acetylation rate. However, if the reaction time is too long, the decomposition proceeds at the same time, and the polymer chain is broken and the acetyl group is decomposed, resulting in undesirable results. Therefore, it is necessary to set the reaction time within a certain range in order to increase the degree of acetylation and suppress decomposition to some extent. It is not appropriate to define the reaction time because the reaction conditions are various and greatly change depending on the reaction apparatus, equipment and other conditions. As the decomposition of the polymer progresses, the molecular weight distribution becomes wider. Therefore, in the case of cellulose ester, the degree of decomposition can be defined by the value of weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) that is usually used. In other words, in the process of acetylation of cellulose triacetate, the weight average molecular weight is used as one index of the reaction degree for allowing the acetylation reaction to be carried out for a sufficient time for acetylation without being too long and being decomposed too much. The value of (Mw) / number average molecular weight (Mn) can be used.

セルロースエステルの製造法の一例を以下に示すと、セルロース原料として綿化リンター100質量部を解砕し、40質量部の酢酸を添加し、36℃で20分間前処理活性化をした。その後、硫酸8質量部、無水酢酸260質量部、酢酸350質量部を添加し、36℃で120分間エステル化を行った。24%酢酸マグネシウム水溶液11質量部で中和した後、63℃で35分間ケン化熟成し、アセチルセルロースを得た。これを10倍の酢酸水溶液(酢酸:水=1:1(質量比))を用いて、室温で160分間攪拌した後、濾過、乾燥させてアセチル置換度2.75の精製アセチルセルロースを得た。このアセチルセルロースはMnが92000、Mwが156000、Mw/Mnは1.7であった。同様にセルロースエステルのエステル化条件(温度、時間、攪拌)、加水分解条件を調整することによって置換度、Mw/Mn比の異なるセルロースエステルを合成することが出来る。   An example of a method for producing a cellulose ester is shown below: 100 parts by mass of a flocculent linter was crushed as a cellulose raw material, 40 parts by mass of acetic acid was added, and pretreatment activation was performed at 36 ° C. for 20 minutes. Thereafter, 8 parts by mass of sulfuric acid, 260 parts by mass of acetic anhydride and 350 parts by mass of acetic acid were added, and esterification was performed at 36 ° C. for 120 minutes. After neutralization with 11 parts by mass of a 24% magnesium acetate aqueous solution, saponification aging was carried out at 63 ° C. for 35 minutes to obtain acetylcellulose. This was stirred for 160 minutes at room temperature using a 10-fold acetic acid aqueous solution (acetic acid: water = 1: 1 (mass ratio)), then filtered and dried to obtain purified acetylcellulose having an acetyl substitution degree of 2.75. . This acetylcellulose had Mn of 92000, Mw of 156000, and Mw / Mn of 1.7. Similarly, cellulose esters having different degrees of substitution and Mw / Mn ratios can be synthesized by adjusting the esterification conditions (temperature, time, stirring) and hydrolysis conditions of the cellulose ester.

尚、合成されたセルロースエステルは、精製して低分子量成分を除去したり、未酢化または低酢化の成分を濾過で取り除くことも好ましく行われる。   The synthesized cellulose ester is preferably purified to remove low molecular weight components or to remove unacetylated or low acetylated components by filtration.

また、混酸セルロースエステルの場合には、特開平10−45804号公報に記載の方法で反応して得ることが出来る。アシル基の置換度の測定方法はASTM−D817−96の規定に準じて測定することが出来る。   In the case of a mixed acid cellulose ester, it can be obtained by a reaction described in JP-A-10-45804. The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to the provisions of ASTM-D817-96.

また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ない方が好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成することにより不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄(Fe)成分については、1ppm以下であることが好ましい。カルシウム(Ca)成分については、地下水や河川の水等に多く含まれ、これが多いと硬水となり、飲料水としても不適当であるが、カルボン酸や、スルホン酸等の酸性成分と、また多くの配位子と配位化合物即ち、錯体を形成し易く、多くの不溶なカルシウムに由来するスカム(不溶性の澱、濁り)を形成する。   Cellulose esters are also affected by trace metal components in cellulose esters. These are considered to be related to water used in the production process, but it is preferable that there are few components that can become insoluble nuclei, and metal ions such as iron, calcium, and magnesium contain organic acidic groups. Insoluble matter may be formed by salt formation with a polymer degradation product or the like that may be present, and it is preferable that the amount is small. The iron (Fe) component is preferably 1 ppm or less. About calcium (Ca) component, it is contained in a lot of ground water and river water, etc., and it becomes hard water, and it is unsuitable as drinking water. Coordination compounds with ligands, that is, complexes are easily formed, and scum (insoluble starch, turbidity) derived from many insoluble calcium is formed.

カルシウム(Ca)成分は60ppm以下、好ましくは0〜30ppmである。マグネシウム(Mg)成分については、やはり多すぎると不溶分を生ずるため、0〜70ppmであることが好ましく、特に0〜20ppmであることが好ましい。鉄(Fe)分の含量、カルシウム(Ca)分含量、マグネシウム(Mg)分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置(硫硝酸分解)、アルカリ溶融で前処理を行った後、ICP−AES(誘導結合プラズマ発光分光分析装置)を用いて分析を行うことによって求めることが出来る。   The calcium (Ca) component is 60 ppm or less, preferably 0 to 30 ppm. The magnesium (Mg) component is preferably in the range of 0 to 70 ppm, and more preferably 0 to 20 ppm, because too much will cause insoluble matter. Metal components such as iron (Fe) content, calcium (Ca) content, magnesium (Mg) content, etc. are pre-processed by completely digesting cellulose ester with micro digest wet cracking equipment (sulfuric acid decomposition) and alkali melting. After performing, it can obtain | require by performing an analysis using ICP-AES (inductively coupled plasma emission spectroscopy analyzer).

〈可塑剤〉
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは、少なくとも2種の可塑剤を含有する。また、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル系可塑剤を実質的に含有しないことが好ましい。「実質的に含有しない」とはリン酸エステル系可塑剤の含有量が1質量%未満、好ましくは0.1質量%であり、特に好ましいのは添加していないことである。
<Plasticizer>
The cellulose ester film used in the present invention contains at least two kinds of plasticizers. Moreover, it is preferable not to contain phosphate ester plasticizers, such as a triphenyl phosphate, substantially. “Substantially not containing” means that the content of the phosphoric ester plasticizer is less than 1% by mass, preferably 0.1% by mass, particularly preferably not added.

2種以上の可塑剤を含有させることによって、可塑剤の溶出を少なくすることが出来る。その理由は明らかではないが、1種類当たりの添加量を減らすことが出来ることと、2種の可塑剤どうし及びセルロースエステルとの相互作用によって溶出が抑制されるものと思われる。基材上層に可塑剤が溶出すると、基材が変形し平面性が劣化し易いため、溶出量を低減することは重要である。   By including two or more plasticizers, elution of the plasticizer can be reduced. The reason is not clear, but it seems that elution is suppressed by the ability to reduce the amount added per type and the interaction between the two plasticizers and the cellulose ester. When the plasticizer elutes in the upper layer of the base material, the base material is deformed and the flatness is easily deteriorated. Therefore, it is important to reduce the elution amount.

2種の可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、前記多価アルコールエステル系可塑剤、フタル酸エステル、クエン酸エステル、脂肪酸エステル、グリコレート系可塑剤等から選択される。そのうち、少なくとも1種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。   The two plasticizers are not particularly limited, but are preferably selected from the polyhydric alcohol ester plasticizer, phthalate ester, citrate ester, fatty acid ester, glycolate plasticizer, and the like. Of these, at least one is preferably a polyhydric alcohol ester plasticizer.

多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is a plasticizer comprising an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferably it is a 2-20 valent aliphatic polyhydric alcohol ester.

本発明に用いられる多価アルコールは次の一般式(1)で表される。   The polyhydric alcohol used in the present invention is represented by the following general formula (1).

一般式(1) R1−(OH)n
但し、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール性水酸基を表す。
Formula (1) R 1- (OH) n
However, R 1 represents an n-valent organic group, n represents a positive integer of 2 or more, and the OH group represents an alcoholic and / or phenolic hydroxyl group.

好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。   Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane- Examples include 1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and xylitol. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.

本発明の多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester of this invention, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention.

好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。   Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto.

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。   As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. The number of carbon atoms is more preferably 1-20, and particularly preferably 1-10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。   Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanoic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid.

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。   Examples of preferable alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and derivatives thereof.

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に安息香酸が好ましい。   Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, and tetralincarboxylic acid. The aromatic monocarboxylic acid which has, or those derivatives can be mentioned. Benzoic acid is particularly preferable.

多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably 300 to 1500, and more preferably 350 to 750. A higher molecular weight is preferred because it is less likely to volatilize, and a smaller one is preferred in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are.

以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。   Below, the specific compound of a polyhydric alcohol ester is illustrated.

Figure 2005070744
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グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることが出来る。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。   The glycolate plasticizer is not particularly limited, but alkylphthalylalkyl glycolates can be preferably used. Examples of alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl Glycolate, ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycol Butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalate Ethyl glycolate, and the like.

フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。   Examples of the phthalate ester plasticizer include diethyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, dioctyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, and dicyclohexyl terephthalate.

クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。   Examples of the citrate plasticizer include acetyl trimethyl citrate, acetyl triethyl citrate, and acetyl tributyl citrate.

脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。   Examples of fatty acid ester plasticizers include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, and dibutyl sebacate.

リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられるが、これらのリン酸エステル系可塑剤は本発明を構成するセルロースエステルフィルム中には実質的に含有しないことが好ましい。前述のように、実質的に含有しないとは、含有量が、1質量%未満であり、好ましくは0.1質量%未満であり、全く含有しないことが特に好ましい。   Examples of the phosphate ester plasticizer include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, and the like. It is preferable that the agent is not substantially contained in the cellulose ester film constituting the present invention. As described above, “not containing substantially” means that the content is less than 1% by mass, preferably less than 0.1% by mass, and particularly preferably not contained at all.

前述のように、リン酸エステル系可塑剤の添加量が少ないと、中間層、ハードコート層を形成する際に基材が変形しにくく、平面性に優れるため特に好ましい。   As described above, it is particularly preferable that the addition amount of the phosphoric ester plasticizer is small because the base material is not easily deformed when the intermediate layer and the hard coat layer are formed, and the flatness is excellent.

セルロースエステルフィルム中の可塑剤の総含有量は、固形分総量に対し、5〜20質量%が好ましく、6〜16質量%が更に好ましく、特に好ましくは8〜13質量%である。また、2種の可塑剤の含有量は各々少なくとも1質量%以上であり、好ましくは各々2質量%以上含有することである。   The total content of the plasticizer in the cellulose ester film is preferably 5 to 20% by mass, more preferably 6 to 16% by mass, and particularly preferably 8 to 13% by mass with respect to the total solid content. The contents of the two kinds of plasticizers are each at least 1% by mass, preferably 2% by mass or more.

多価アルコールエステル系可塑剤は1〜12質量%含有することが好ましく、特に3〜11質量%含有することが好ましい。少ないと平面性の劣化が認められ、多すぎるとブリードアウトがしやすい。多価アルコールエステル系可塑剤とその他の可塑剤との質量比率は1:4〜4:1の範囲であることが好ましく、1:3〜3:1であることが更に好ましい。可塑剤の添加量が多すぎても、また少なすぎてもフィルムが変形し易く好ましくない。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is preferably contained in an amount of 1 to 12% by mass, particularly preferably 3 to 11% by mass. If the amount is too small, deterioration of flatness is recognized, and if it is too large, bleeding out tends to occur. The mass ratio between the polyhydric alcohol ester plasticizer and the other plasticizer is preferably in the range of 1: 4 to 4: 1, more preferably 1: 3 to 3: 1. If the amount of the plasticizer added is too large or too small, the film is liable to be deformed, which is not preferable.

〈紫外線吸収剤〉
本発明に係るセルロースエステルフィルムは紫外線吸収剤を含有する。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長370nmでの透過率が10%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以下、更に好ましくは2%以下である。
<Ultraviolet absorber>
The cellulose ester film according to the present invention contains an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber is intended to improve durability by absorbing ultraviolet light having a wavelength of 400 nm or less, and the transmittance at a wavelength of 370 nm is particularly preferably 10% or less, more preferably 5% or less. Preferably it is 2% or less.

本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。   Although the ultraviolet absorber used in the present invention is not particularly limited, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, inorganic powders Examples include the body.

例えば、5−クロロ−2−(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、(2−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328等のチヌビン類があり、これらはいずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の市販品であり好ましく使用出来る。   For example, 5-chloro-2- (3,5-di-sec-butyl-2-hydroxylphenyl) -2H-benzotriazole, (2-2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side Chain dodecyl) -4-methylphenol, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2,4-benzyloxybenzophenone, etc., and tinuvin 109, tinuvin 171, tinuvin 234, tinuvin 326, tinuvin 327, tinuvin 328, etc. These are commercially available products manufactured by Ciba Specialty Chemicals and can be preferably used.

例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式(A)で示される化合物を用いることが出来る。   For example, as the benzotriazole ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula (A) can be used.

Figure 2005070744
Figure 2005070744

式中、R1、R2、R3、R4及びR5は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または5〜6員の複素環基を表し、R4とR5は閉環して5〜6員の炭素環を形成してもよい。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different, and are a hydrogen atom, halogen atom, nitro group, hydroxyl group, alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxyl group, acyloxy Represents a group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, mono- or dialkylamino group, acylamino group or 5- to 6-membered heterocyclic group, and R 4 and R 5 are closed to form a 5- to 6-membered carbocyclic ring May be.

また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。   Moreover, these groups described above may have an arbitrary substituent.

以下に本発明に係る紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of the ultraviolet absorber which concerns on this invention is given to the following, this invention is not limited to these.

UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(チヌビン171)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(チヌビン109)
更に、本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤である。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6 (Linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (Tinuvin 171)
UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- 4-Hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (Tinuvin 109)
Furthermore, the ultraviolet absorber preferably used in the present invention is a benzophenone ultraviolet absorber.

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式(B)で表される化合物が好ましく用いられる。   As the benzophenone-based ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula (B) is preferably used.

Figure 2005070744
Figure 2005070744

式中、Yは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Aは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−CO(NH)n1−D基を表し、Dはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。m及びnは1または2を表す。 In the formula, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxyl group, and a phenyl group, and these alkyl group, alkenyl group, and phenyl group may have a substituent. A represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, a cycloalkyl group, an alkylcarbonyl group, an alkylsulfonyl group or a —CO (NH) n -1- D group, and D represents an alkyl group, an alkenyl group or a substituent. Represents a phenyl group which may have m and n represent 1 or 2.

上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数24までの直鎖または分岐の脂肪族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数18までのアルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数16までのアルケニル基でアリル基、2−ブテニル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェニル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい)等が挙げられる。   In the above, the alkyl group represents, for example, a linear or branched aliphatic group having up to 24 carbon atoms, the alkoxyl group represents, for example, an alkoxyl group having up to 18 carbon atoms, and the alkenyl group has, for example, carbon number An alkenyl group up to 16 represents an allyl group, a 2-butenyl group, or the like. In addition, as substituents to alkyl groups, alkenyl groups, and phenyl groups, halogen atoms such as chlorine atoms, bromine atoms, fluorine atoms, etc., hydroxyl groups, phenyl groups (this phenyl group is substituted with alkyl groups or halogen atoms, etc.) May be used).

以下に一般式(B)で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the benzophenone compound represented by the general formula (B) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
また、特開2001−235621の一般式(I)で示されているトリアジン系化合物も本発明に係るセルロースエステルフィルムに好ましく用いられる。
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
Moreover, the triazine type compound shown by the general formula (I) of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-235621 is also preferably used for the cellulose ester film which concerns on this invention.

本発明に係るセルロースエステルフィルムは紫外線吸収剤を2種以上を含有することが好ましい。   The cellulose ester film according to the present invention preferably contains two or more ultraviolet absorbers.

また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることが出来、特に特開平6−148430号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。   As the UV absorber, a polymer UV absorber can be preferably used, and in particular, a polymer type UV absorber described in JP-A-6-148430 is preferably used.

紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒或いはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にデゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。   The method of adding the UV absorber may be added to the dope after the UV absorber is dissolved in an alcohol such as methanol, ethanol or butanol, an organic solvent such as methylene chloride, methyl acetate, acetone or dioxolane, or a mixed solvent thereof. Or you may add directly in dope composition. For an inorganic powder that does not dissolve in an organic solvent, a dissolver or a sand mill is used in the organic solvent and cellulose ester to disperse and then added to the dope.

紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、セルロースエステルフィルムの乾燥膜厚が30〜200μmの場合は、セルロースエステルフィルムに対して0.5〜4.0質量%が好ましく、0.6〜2.0質量%が更に好ましい。   The amount of UV absorber used is not uniform depending on the type of UV absorber, operating conditions, etc., but when the dry film thickness of the cellulose ester film is 30 to 200 μm, it is 0.5 to 4 with respect to the cellulose ester film. 0.0 mass% is preferable, and 0.6 to 2.0 mass% is still more preferable.

〈微粒子〉
本発明に係わるセルロースエステルフィルムには、微粒子を含有することが好ましい。
<Fine particles>
The cellulose ester film according to the present invention preferably contains fine particles.

本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。   As fine particles used in the present invention, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, and hydrated silicic acid. Mention may be made of calcium, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low turbidity, and silicon dioxide is particularly preferable.

微粒子の一次粒子の平均径は5〜50nmが好ましく、更に好ましいのは7〜20nmである。これらは主に粒径0.05〜0.3μmの2次凝集体として含有されることが好ましい。セルロースエステルフィルム中のこれらの微粒子の含有量は0.05〜1質量%であることが好ましく、特に0.1〜0.5質量%が好ましい。共流延法による多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。   The average primary particle diameter of the fine particles is preferably 5 to 50 nm, and more preferably 7 to 20 nm. These are preferably contained mainly as secondary aggregates having a particle size of 0.05 to 0.3 μm. The content of these fine particles in the cellulose ester film is preferably 0.05 to 1% by mass, particularly preferably 0.1 to 0.5% by mass. In the case of a cellulose ester film having a multilayer structure by the co-casting method, it is preferable to contain fine particles of this addition amount on the surface.

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Silicon dioxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.). I can do it.

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Zirconium oxide fine particles are commercially available under the trade names of Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used.

ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Examples of the polymer include silicone resin, fluorine resin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがセルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられるセルロースエステルフィルムにおいてはハードコート層の裏面側の動摩擦係数が1.0以下であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large effect of reducing the friction coefficient while keeping the turbidity of the cellulose ester film low. In the cellulose ester film used in the present invention, the dynamic friction coefficient on the back side of the hard coat layer is preferably 1.0 or less.

〈染料〉
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムには、色味調整のため染料を添加することも出来る。例えば、フィルムの黄色味を抑えるために青色染料を添加してもよい。好ましい染料としてはアンスラキノン系染料が挙げられる。
<dye>
A dye may be added to the cellulose ester film used in the present invention to adjust the color. For example, a blue dye may be added to suppress the yellowness of the film. Preferred examples of the dye include anthraquinone dyes.

アンスラキノン系染料は、アンスラキノンの1位から8位迄の任意の位置に任意の置換基を有することが出来る。好ましい置換基としてはアニリノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、または水素原子が挙げられる。特に特開2001−154017記載の青色染料、特にアントラキノン系染料を含有することが好ましい。   The anthraquinone dye may have an arbitrary substituent at an arbitrary position from the 1st position to the 8th position of the anthraquinone. Preferred substituents include an anilino group, hydroxyl group, amino group, nitro group, or hydrogen atom. In particular, it is preferable to contain a blue dye described in JP-A-2001-154017, particularly an anthraquinone dye.

各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子は濾過材への負荷を減らすために、一部または全量をインライン添加することが好ましい。   Various additives may be batch-added to a dope that is a cellulose ester-containing solution before film formation, or an additive solution may be separately prepared and added in-line. In particular, it is preferable to add a part or all of the fine particles in-line in order to reduce the load on the filter medium.

添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤100質量部に対して1〜10質量部で、より好ましくは、3〜5質量部である。   When the additive solution is added in-line, it is preferable to dissolve a small amount of cellulose ester in order to improve mixing with the dope. The amount of the cellulose ester is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 3 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solvent.

本発明においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー(東レエンジニアリング製)、SWJ(東レ静止型管内混合器 Hi−Mixer)等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。   In order to perform in-line addition and mixing in the present invention, for example, an in-line mixer such as a static mixer (manufactured by Toray Engineering), SWJ (Toray static type in-tube mixer Hi-Mixer) or the like is preferably used.

〈セルロースエステルフィルムの製造方法〉
次に、本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。
<Method for producing cellulose ester film>
Next, the manufacturing method of the cellulose-ester film of this invention is demonstrated.

本発明のセルロースエステルフィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。   The cellulose ester film of the present invention is prepared by dissolving a cellulose ester and an additive in a solvent to prepare a dope, casting a dope onto an endless metal support, and casting the dope. It is carried out by a step of drying as a web, a step of peeling from a metal support, a step of stretching or maintaining the width, a step of further drying, and a step of winding up the finished film.

ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減出来て好ましいが、セルロースエステルの濃度が濃すぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、更に好ましくは、15〜25質量%である。   The process for preparing the dope will be described. The concentration of cellulose ester in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced, but if the concentration of cellulose ester is too high, the load during filtration increases and the filtration accuracy is poor. Become. As a density | concentration which makes these compatible, 10-35 mass% is preferable, More preferably, it is 15-25 mass%.

本発明のドープで用いられる溶剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70〜98質量%であり、貧溶剤が2〜30質量%である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルの平均酢化度(アセチル基置換度)によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースエステルの酢酸エステル(アセチル基置換度2.4)、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル(アセチル基置換度2.8)では貧溶剤となる。   The solvent used in the dope of the present invention may be used alone or in combination of two or more. However, it is preferable from the viewpoint of production efficiency that a good solvent and a poor solvent of cellulose ester are mixed and used. The more solvent is preferable from the viewpoint of solubility of the cellulose ester. The preferable range of the mixing ratio of the good solvent and the poor solvent is 70 to 98% by mass for the good solvent and 2 to 30% by mass for the poor solvent. With a good solvent and a poor solvent, what dissolve | melts the cellulose ester to be used independently is defined as a good solvent, and what poorly swells or does not melt | dissolve is defined as a poor solvent. Therefore, depending on the average acetylation degree (acetyl group substitution degree) of the cellulose ester, the good solvent and the poor solvent change. For example, when acetone is used as the solvent, the cellulose ester acetate ester (acetyl group substitution degree 2.4), cellulose Acetate propionate is a good solvent, and cellulose acetate (acetyl group substitution degree 2.8) is a poor solvent.

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。   Although the good solvent used for this invention is not specifically limited, Organic halogen compounds, such as a methylene chloride, dioxolanes, acetone, methyl acetate, methyl acetoacetate, etc. are mentioned. Particularly preferred is methylene chloride or methyl acetate.

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。   Moreover, although the poor solvent used for this invention is not specifically limited, For example, methanol, ethanol, n-butanol, cyclohexane, cyclohexanone, etc. are used preferably.

好ましい溶媒組成としては、メチレンクロライド80〜95質量%、エタノール5〜20質量%、或いは酢酸メチル60〜95質量%、エタノール5〜40質量%の組み合わせが挙げられる。また、ドープ中には水が0.01〜2質量%含有していることも好ましい。   As a preferable solvent composition, methylene chloride 80 to 95% by mass, ethanol 5 to 20% by mass, or a combination of methyl acetate 60 to 95% by mass and ethanol 5 to 40% by mass can be mentioned. Moreover, it is also preferable that water contains 0.01-2 mass% in dope.

上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることが出来る。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱出来る。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。   A general method can be used as a method of dissolving the cellulose ester when preparing the dope described above. When heating and pressurization are combined, it is possible to heat above the boiling point at normal pressure. It is preferable to stir and dissolve while heating at a temperature that is equal to or higher than the boiling point of the solvent at normal pressure and that the solvent does not boil under pressure, in order to prevent the generation of massive undissolved materials called gels and mamaco. Moreover, after mixing a cellulose ester with a poor solvent and making it wet or swell, the method of adding a good solvent and melt | dissolving is also used preferably.

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。   The pressurization may be performed by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or a method of increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.

溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高すぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45〜120℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。   The heating temperature with the addition of the solvent is preferably higher from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester, but if the heating temperature is too high, the required pressure increases and the productivity deteriorates. A preferable heating temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 60 to 110 ° C, and still more preferably 70 ° C to 105 ° C. The pressure is adjusted so that the solvent does not boil at the set temperature.

若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることが出来る。   Alternatively, a cooling dissolution method is also preferably used, whereby the cellulose ester can be dissolved in a solvent such as methyl acetate.

次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001〜0.008mmの濾材がより好ましく、0.003〜0.006mmの濾材が更に好ましい。   Next, this cellulose ester solution is filtered using a suitable filter medium such as filter paper. As the filter medium, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters and the like, but there is a problem that the filter medium is likely to be clogged if the absolute filtration accuracy is too small. For this reason, a filter medium with an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less is preferable, a filter medium with 0.001 to 0.008 mm is more preferable, and a filter medium with 0.003 to 0.006 mm is still more preferable.

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン(R)等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。   The material of the filter medium is not particularly limited, and a normal filter medium can be used. However, a plastic filter medium such as polypropylene and Teflon (R) and a metal filter medium such as stainless steel are preferable because there is no loss of fibers. . It is preferable to remove and reduce impurities, particularly bright spot foreign matter, contained in the raw material cellulose ester by filtration.

輝点異物とは、2枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースエステルフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点(異物)のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、更に好ましくは50個/m2以下であり、更に好ましくは0〜10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。 A bright spot foreign substance is when two polarizing plates are placed in a crossed Nicol state, a cellulose ester film is placed between them, light is applied from the side of one polarizing plate, and observed from the side of the other polarizing plate. It is a point (foreign matter) where light from the opposite side appears to leak, and the number of bright spots having a diameter of 0.01 mm or more is preferably 200 / cm 2 or less. More preferably, it is 100 pieces / cm < 2 > or less, More preferably, it is 50 pieces / m < 2 > or less, More preferably, it is 0-10 pieces / cm < 2 > or less. Further, it is preferable that the number of bright spots of 0.01 mm or less is small.

ドープの濾過は通常の方法で行うことが出来るが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差(差圧という)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃であることが更に好ましい。   The dope can be filtered by an ordinary method, but the method of filtering while heating at a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal pressure and in a range where the solvent does not boil under pressure is the filtration pressure before and after filtration. The increase in the difference (referred to as differential pressure) is small and preferable. A preferred temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and still more preferably 45 to 55 ° C.

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることが更に好ましい。   A smaller filtration pressure is preferred. The filtration pressure is preferably 1.6 MPa or less, more preferably 1.2 MPa or less, and further preferably 1.0 MPa or less.

ここで、ドープの流延について説明する。   Here, the dope casting will be described.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることが出来る。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方がウェブの乾燥速度が速く出来るので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。支持体温度は使用する溶媒によって異なるが、0〜70℃が好ましく、5〜40℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。   The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is −50 ° C. to a temperature lower than the boiling point of the solvent, and a higher temperature is preferable because the web drying rate can be increased. May deteriorate. The support temperature varies depending on the solvent used, but is preferably 0 to 70 ° C, more preferably 5 to 40 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When warm air is used, wind at a temperature higher than the target temperature may be used.

セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、更に好ましくは20〜40質量%または60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%または70〜120質量%である。   In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%.

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。   In the present invention, the amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
尚、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%以下である。   Further, in the drying step of the cellulose ester film, the web is peeled off from the metal support, and further dried, and the residual solvent amount is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, Especially preferably, it is 0-0.01 mass% or less.

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a method of drying while transporting the web by a tenter method is adopted.

本発明のハードコートフィルム用のセルロースエステルフィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向(縦方向)に延伸し、更にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向(横方向)に延伸(2軸延伸)を行うことが特に好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は1.05〜1.3倍であり、1.05〜1.15倍が特に好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が1.12倍〜1.44倍となっていることが好ましく、1.15倍〜1.32倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることが出来る。縦方向と横方向の延伸倍率のいずれかが1.05倍未満ではハードコート層を形成する際の紫外線照射による平面性の劣化が大きく好ましくない。延伸倍率が1.3倍以内であると平面性に優れ、ヘイズも低いため好ましい。   In order to produce the cellulose ester film for the hard coat film of the present invention, the web is stretched in the conveying direction (longitudinal direction) where the amount of residual solvent of the web immediately after peeling from the metal support is large, and both ends of the web are clipped. It is particularly preferable to perform stretching (biaxial stretching) in the width direction (lateral direction) by a tenter method that grips with, for example. The preferred draw ratio in both the machine direction and the transverse direction is 1.05 to 1.3 times, and 1.05 to 1.15 times is particularly preferred. It is preferable that the area is 1.12 times to 1.44 times, and preferably 1.15 times to 1.32 times due to longitudinal and lateral stretching. This can be determined by the draw ratio in the longitudinal direction × the draw ratio in the transverse direction. If one of the stretching ratios in the machine direction and the transverse direction is less than 1.05, the flatness deterioration due to ultraviolet irradiation when forming the hard coat layer is not preferable. A draw ratio of 1.3 times or less is preferable because of excellent flatness and low haze.

剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力を210N/m以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは220〜300N/mである。   In order to stretch in the longitudinal direction immediately after peeling, peeling is preferably performed at a peeling tension of 210 N / m or more, particularly preferably 220 to 300 N / m.

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことが出来るが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web is not particularly limited, and can be generally performed with hot air, infrared rays, a heating roll, microwave, or the like, but it is preferably performed with hot air in terms of simplicity.

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は40〜150℃で段階的に高くしていくことが好ましく、50〜140℃の範囲で行うことが寸法安定性をよくするため更に好ましい。   The drying temperature in the web drying step is preferably increased stepwise from 40 to 150 ° C, and more preferably from 50 to 140 ° C in order to improve dimensional stability.

セルロースエステルフィルムの膜厚は、特に限定はされないが10〜200μmが好ましく用いられる。特に10〜70μmの薄膜フィルムでは平面性と硬度に優れたハードコートフィルムを得ることが困難であったが、本発明によれば、平面性と硬度に優れた薄膜のハードコートフィルムが得られ、また生産性にも優れているため、セルロースエステルフィルムの膜厚は10〜70μmであることが特に好ましい。更に好ましくは20〜60μmである。最も好ましくは35〜60μmである。   Although the film thickness of a cellulose-ester film is not specifically limited, 10-200 micrometers is used preferably. Particularly, it was difficult to obtain a hard coat film excellent in flatness and hardness with a thin film of 10 to 70 μm, but according to the present invention, a thin hard coat film excellent in flatness and hardness was obtained, Moreover, since it is excellent also in productivity, it is especially preferable that the film thickness of a cellulose-ester film is 10-70 micrometers. More preferably, it is 20-60 micrometers. Most preferably, it is 35-60 micrometers.

本発明のハードコートフィルムは、幅1〜4mのセルロースエステルフィルムが好ましく用いられる。   As the hard coat film of the present invention, a cellulose ester film having a width of 1 to 4 m is preferably used.

セルロースエステルフィルムの幅が広くなると紫外線硬化の際の照射光の照度ムラが無視出来なくなり、平面性が劣化するばかりか、硬度のムラも生じ、この上に反射防止層を形成した場合に反射ムラが顕著になるという問題があった。本発明のハードコートフィルムは少ない照射量で十分な硬度が得られるため、照射光の幅手方向に照射量のムラがあっても幅手方向の硬度ムラが少なく、平面性にも優れたハードコートフィルムが得られるため、広幅のセルロースエステルフィルムで著しい効果が認められる。特に幅1.4〜4mのものが好ましく用いられ、特に好ましくは1.4〜2mである。4mを超えると搬送が困難となる。   When the width of the cellulose ester film becomes wider, the illuminance unevenness of the irradiated light during UV curing cannot be ignored, not only the flatness deteriorates, but also the hardness unevenness. When the antireflection layer is formed on this, the reflection unevenness There was a problem that became prominent. Since the hard coat film of the present invention can provide sufficient hardness with a small amount of irradiation, even if there is unevenness of the irradiation amount in the width direction of the irradiation light, there is little unevenness in the width direction of the hardness, and the hardness excellent in flatness Since a coated film is obtained, a remarkable effect is recognized with a wide cellulose ester film. In particular, those having a width of 1.4 to 4 m are preferably used, and particularly preferably 1.4 to 2 m. If it exceeds 4 m, conveyance becomes difficult.

また、長さ1000〜6000mの長尺フィルムが好ましく用いられる。また、幅手両端部には膜厚に対して0〜25%の高さのナーリング部が設けられていることが好ましい。   A long film having a length of 1000 to 6000 m is preferably used. Moreover, it is preferable that a knurling part having a height of 0 to 25% with respect to the film thickness is provided at both ends of the width.

〈物性〉
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの透湿度は、40℃、90%RHで850g/m2・24h以下であり、好ましくは20〜800g/m2・24hであり、20〜750g/m2・24hであることが特に好ましい。透湿度はJIS Z 0208に記載の方法に従い測定することが出来る。
<Physical properties>
The moisture permeability of the cellulose ester film used in the present invention, 40 ° C., or less 850g / m 2 · 24h at 90% RH, preferably 20~800g / m 2 · 24h, 20~750g / m 2 · 24 h is particularly preferable. The moisture permeability can be measured according to the method described in JIS Z 0208.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは破断伸度は10〜80%であることが好ましく20〜50%であることが更に好ましい。   The breaking elongation of the cellulose ester film used in the present invention is preferably 10 to 80%, and more preferably 20 to 50%.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの可視光透過率は90%以上であることが好ましく、93%以上であることが更に好ましい。   The visible light transmittance of the cellulose ester film used in the present invention is preferably 90% or more, and more preferably 93% or more.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムのヘイズは1%未満であることが好ましく0〜0.1%であることが特に好ましい。   The haze of the cellulose ester film used in the present invention is preferably less than 1%, particularly preferably 0 to 0.1%.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの面内レターデーション値(Ro)が0〜70nm以下であることが好ましい。より好ましくは0〜30nm以下であリ、より好ましくは0〜10nm以下である。膜厚方向のレターデーション値(Rt)は、400nm以下であることが好ましく、10〜200nmであることが好ましく、更に30〜150nmであることが好ましい。   The in-plane retardation value (Ro) of the cellulose ester film used in the present invention is preferably 0 to 70 nm or less. More preferably, it is 0-30 nm or less, More preferably, it is 0-10 nm or less. The retardation value (Rt) in the film thickness direction is preferably 400 nm or less, preferably 10 to 200 nm, and more preferably 30 to 150 nm.

レターデーション値(Ro)、(Rt)は以下の式によって求めることが出来る。   The retardation values (Ro) and (Rt) can be obtained by the following formula.

Ro=(nx−ny)×d
Rt=((nx+ny)/2−nz)×d
ここにおいて、dはセルロースエステルフィルムの厚み(nm)、屈折率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう)、ny(フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率)、nz(厚み方向におけるフィルムの屈折率)である。
Ro = (nx−ny) × d
Rt = ((nx + ny) / 2−nz) × d
Here, d is the thickness (nm) of the cellulose ester film, the refractive index nx (the maximum refractive index in the plane of the film, also referred to as the refractive index in the slow axis direction), ny (in the film plane, perpendicular to the slow axis). Index of refraction in a certain direction) and nz (refractive index of the film in the thickness direction).

尚、レターデーション値(Ro)、(Rt)は自動複屈折率計を用いて測定することが出来る。例えば、KOBRA−21ADH(王子計測機器(株))を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波長が590nmで求めることが出来る。   The retardation values (Ro) and (Rt) can be measured using an automatic birefringence meter. For example, the wavelength can be obtained at 590 nm in an environment of 23 ° C. and 55% RH using KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments).

また、遅相軸はフィルムの幅手方向±1°若しくは長尺方向±1°にあることが好ましい。   The slow axis is preferably in the width direction ± 1 ° of the film or in the longitudinal direction ± 1 °.

〈活性線硬化樹脂層〉
本発明のハードコートフィルムの活性線硬化樹脂層の製造方法について述べる。
<Actinic radiation curable resin layer>
A method for producing the active ray curable resin layer of the hard coat film of the present invention will be described.

本発明のハードコートフィルムにおいては、ハードコート層として活性線硬化樹脂層が好ましく用いられる。   In the hard coat film of the present invention, an actinic radiation curable resin layer is preferably used as the hard coat layer.

活性線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させてハードコート層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。   The actinic radiation curable resin layer refers to a layer mainly composed of a resin that cures through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams. As the actinic radiation curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and a hard coat layer is formed by curing by irradiation with actinic radiation such as ultraviolet rays or electron beams. Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and a resin curable by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭59−151110号に記載のものを用いることが出来る。   UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, those described in JP-A-59-151110 can be used.

例えば、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) is preferably used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭59−151112号に記載のものを用いることが出来る。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those that are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyols. JP-A-59-151112 Can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることが出来、特開平1−105738号に記載のものを用いることが出来る。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photoreaction initiator added thereto, and reacted to form an oligomer. The thing as described in 105738 can be used.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. I can list them.

これら紫外線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜15質量部であり、好ましくは1〜10質量部である。   Specific examples of the photoreaction initiator of these ultraviolet curable resins include benzoin and its derivatives, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. You may use with a photosensitizer. The photoinitiator can also be used as a photosensitizer. In addition, when using an epoxy acrylate photoinitiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photoreaction initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 15 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることが出来る。   Examples of the resin monomer include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. In addition, monomers having two or more unsaturated double bonds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, and the above trimethylolpropane. Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.

本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成(株)製)等を適宜選択して利用出来る。   Examples of commercially available ultraviolet curable resins that can be used in the present invention include ADEKA OPTMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (Asahi Denka ( Co., Ltd.); Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS -101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHC X-9 (K-3), PHC2213, DP -10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (manufactured by Daicel UCB Corporation); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120 RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (manufactured by Sanyo Chemical Industries); SP -1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), etc. Can be selected as appropriate.

また、具体的化合物例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of compounds include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and the like. .

これらの活性線硬化樹脂層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することが出来る。   These actinic ray curable resin layers can be coated by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an ink jet method.

紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は好ましくは、5〜200mJ/cm2であり、特に好ましくは20〜100mJ/cm2である。 As a light source for curing an ultraviolet curable resin by a photocuring reaction to form a cured film layer, any light source that generates ultraviolet rays can be used without any limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is preferably 5 to 200 mJ / cm 2 , and particularly preferably 20 to 100 mJ / cm 2 .

従来のハードコートフィルムではこのような低い照射量では4H以上の鉛筆硬度でかつ平面性に優れるハードコートフィルムは得られなかった。硬度がそれほど要求されないハードコートフィルムの場合は、照射量を更に少なく出来るため、紫外線照射部の能力によって制限されていた塗布速度をはるかに上回る速度でハードコートフィルムを製造することが出来、生産性が著しく改善される。   With a conventional hard coat film, a hard coat film having a pencil hardness of 4H or more and excellent flatness cannot be obtained at such a low irradiation dose. In the case of a hard coat film that does not require much hardness, the amount of irradiation can be further reduced, so it is possible to produce a hard coat film at a speed much higher than the coating speed limited by the ability of the UV irradiation section, and productivity Is significantly improved.

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜300N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、若しくは2軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性優れたフィルムを得ることが出来る。   Moreover, when irradiating actinic radiation, it is preferable to carry out while applying tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performing applying tension | tensile_strength also in the width direction. The tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m. The method for applying the tension is not particularly limited, and the tension may be applied in the conveying direction on the back roll, or the tension may be applied in the width direction or the biaxial direction by a tenter. This makes it possible to obtain a film having further excellent flatness.

紫外線硬化樹脂層組成物塗布液の有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒から適宜選択し、或いはこれらを混合し利用出来る。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   Examples of the organic solvent for the UV curable resin layer composition coating solution include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl). Ketone), esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, other organic solvents, or a mixture thereof. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

また、紫外線硬化樹脂層組成物塗布液には、特にシリコン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1,000〜100,000、好ましくは、2,000〜50,000が適当である。   In addition, it is particularly preferable to add a silicon compound to the ultraviolet curable resin layer composition coating solution. For example, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2,000 to 50,000.

シリコン化合物の市販品としては、DKQ8−779(ダウコーニング社製商品名)、SF3771、SF8410、SF8411、SF8419、SF8421、SF8428、SH200、SH510、SH1107、SH3749、SH3771、BX16−034、SH3746、SH3749、SH8400、SH3771M、SH3772M、SH3773M、SH3775M、BY−16−837、BY−16−839、BY−16−869、BY−16−870、BY−16−004、BY−16−891、BY−16−872、BY−16−874、BY22−008M、BY22−012M、FS−1265(以上、東レ・ダウコーニングシリコーン社製商品名)、KF−101、KF−100T、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、シリコーンX−22−945、X22−160AS(以上、信越化学工業社製商品名)、XF3940、XF3949(以上、東芝シリコーン社製商品名)、ディスパロンLS−009(楠本化成社製)、グラノール410(共栄社油脂化学工業(株)製)、TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコーン製)、BYK−306、BYK−330、BYK−307、BYK−341、BYK−344、BYK−361(ビックケミ−ジャパン社製)日本ユニカー(株)製のLシリーズ(例えばL7001、L−7006、L−7604、L−9000)、Yシリーズ、FZシリーズ(FZ−2203、FZ−2206、FZ−2207)等が挙げられ、好ましく用いられる。   Commercially available silicon compounds include DKQ8-779 (trade name, manufactured by Dow Corning), SF3771, SF8410, SF8411, SF8419, SF8421, SF8428, SH200, SH510, SH1107, SH3749, SH3771, BX16-034, SH3746, SH3749, SH8400, SH3771M, SH3772M, SH3773M, SH3775M, BY-16-837, BY-16-839, BY-16-869, BY-16-870, BY-16-004, BY-16-891, BY-16 872, BY-16-874, BY22-008M, BY22-012M, FS-1265 (above, product names manufactured by Toray Dow Corning Silicone), KF-101, KF-100T, KF351, KF3 2, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, Silicone X-22-945, X22-160AS (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), XF3940, XF3949 (trade name, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) ), Disparon LS-009 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), Granol 410 (manufactured by Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd.), TSF4440, TSF4441, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicone), BYK-306, BYK- 330, BYK-307, BYK-341, BYK-344, BYK-361 (manufactured by BYK-Japan) L series (for example, L7001, L-7006, L-7604, L-9000) manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. Y Over's, FZ series (FZ-2203, FZ-2206, FZ-2207) and the like, are preferably used.

これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   These components enhance the applicability to the substrate and the lower layer. When added to the outermost surface layer of the laminate, it not only improves the water repellency, oil repellency and antifouling properties of the coating film, but also exhibits an effect on the scratch resistance of the surface. These components are preferably added in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.

紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法としては、前述のものを用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚として0.1〜30μmが適当で、好ましくは、0.5〜15μmである。また、ドライ膜厚としては0.1〜10μm、好ましくは1〜10μmである。   As a coating method of the ultraviolet curable resin composition coating solution, the above-described methods can be used. The coating amount is suitably 0.1 to 30 μm, preferably 0.5 to 15 μm, as the wet film thickness. The dry film thickness is 0.1 to 10 μm, preferably 1 to 10 μm.

より好ましくは、セルロースエステルフィルムの膜厚が10〜70μmであり、ハードコート層の膜厚(H)とセルロースエステルフィルムの膜厚(d)の比率(d/H)が4〜10である時、平面性と同時に硬度、耐傷性にも優れる。これはセルロースエステルの膜厚に比べハードコート層が薄い場合、硬度、耐傷性に劣り、セルロースエステルの膜厚に比べ、ハードコート層が厚い場合、平面性が劣化することによる。   More preferably, the film thickness of the cellulose ester film is 10 to 70 μm, and the ratio (d / H) of the film thickness (H) of the hard coat layer to the film thickness (d) of the cellulose ester film is 4 to 10 Excellent in hardness and scratch resistance as well as flatness. This is because the hardness and scratch resistance are inferior when the hard coat layer is thinner than the film thickness of the cellulose ester, and the flatness is deteriorated when the hard coat layer is thicker than the film thickness of the cellulose ester.

紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥中または後に、紫外線を照射するのがよく、前記の5〜200mJ/cm2という活性線の照射量を得るための照射時間としては、0.1秒〜5分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から0.1〜10秒がより好ましい。 The ultraviolet curable resin composition is preferably irradiated with ultraviolet rays during or after coating and drying. The irradiation time for obtaining the irradiation dose of the active ray of 5 to 200 mJ / cm 2 is from 0.1 second to 5 seconds. Minutes are good, and 0.1 to 10 seconds is more preferable from the viewpoint of curing efficiency or work efficiency of the ultraviolet curable resin.

また、これら活性線照射部の照度は50〜150mW/m2であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the illuminance of these active ray irradiation parts is 50-150 mW / m < 2 >.

こうして得た硬化樹脂層に、ブロッキングを防止するため、また対擦り傷性等を高めるため、或いは防眩性を持たせるためまた屈折率を調整するために無機化合物或いは有機化合物の微粒子を加えることも出来る。   In order to prevent blocking, to improve scratch resistance, to give antiglare properties, and to adjust the refractive index, fine particles of an inorganic compound or an organic compound may be added to the cured resin layer thus obtained. I can do it.

ハードコート層に使用される無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムなどが好ましく用いられる。   The inorganic fine particles used in the hard coat layer include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, and hydrated calcium silicate. And aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.

また、有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、或いはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物に加えることが出来る。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子(例えば、綜研化学製SX−130H、SX−200H、SX−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(例えば、綜研化学製MX150、MX300)が挙げられる。   Organic particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, and melamine resin. It can be added to an ultraviolet curable resin composition such as powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluoroethylene resin powder. Particularly preferred are cross-linked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H, manufactured by Soken Chemical) and polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150, MX300, manufactured by Soken Chemical).

これらの微粒子粉末の平均粒径としては、0.005〜5μmが好ましく0.01〜1μmであることが特に好ましい。紫外線硬化樹脂組成物と微粒子粉末との割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜30質量部となるように配合することが望ましい。   The average particle diameter of these fine particle powders is preferably 0.005 to 5 μm, and particularly preferably 0.01 to 1 μm. As for the ratio of a ultraviolet curable resin composition and fine particle powder, it is desirable to mix | blend so that it may be 0.1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of resin compositions.

紫外線硬化樹脂層は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が1〜100nmのクリアハードコート層であるか、若しくはRaが0.1〜1μm程度の防眩層であることが好ましい。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製RST/PLUSを用いて測定することが出来る。   The UV curable resin layer is a clear hard coat layer having a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 1 to 100 nm, or an antiglare layer having an Ra of about 0.1 to 1 μm. Is preferred. The center line average roughness (Ra) is preferably measured with an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured using, for example, RST / PLUS manufactured by WYKO.

〈バックコート層〉
本発明のハードコートフィルムのハードコート層を設けた側と反対側の面にはバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、塗布やCVDなどによって、ハードコート層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることが出来る。尚、バックコート層は好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設され、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。
<Back coat layer>
It is preferable to provide a backcoat layer on the surface of the hardcoat film of the present invention opposite to the side on which the hardcoat layer is provided. The back coat layer is provided to correct curl caused by providing a hard coat layer or other layers by coating or CVD. That is, the degree of curling can be balanced by imparting the property of being rounded with the surface on which the backcoat layer is provided facing inward. The back coat layer is preferably applied also as an anti-blocking layer. In that case, it is preferable that fine particles are added to the back coat layer coating composition in order to provide an anti-blocking function.

バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものがヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。   As fine particles added to the back coat layer, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, and indium oxide. Zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low haze, and silicon dioxide is particularly preferable.

これらの微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   These fine particles are commercially available under the trade names of, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, and TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). . Zirconium oxide fine particles are commercially available under the trade names of Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used. Examples of the polymer include silicone resin, fluorine resin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもでアエロジル200V、アエロジルR972Vがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられるハードコートフィルムは、ハードコート層の裏面側の動摩擦係数が0.9以下、特に0.1〜0.9であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large anti-blocking effect while keeping haze low. The hard coat film used in the present invention preferably has a coefficient of dynamic friction on the back side of the hard coat layer of 0.9 or less, particularly 0.1 to 0.9.

バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して0.1〜50質量%好ましくは0.1〜10質量%であることが好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は1%以下であることが好ましく0.5%以下であることが好ましく、特に0.0〜0.1%であることが好ましい。   The fine particles contained in the backcoat layer are 0.1 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the binder. When the back coat layer is provided, the increase in haze is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.0 to 0.1%.

バックコート層は、具体的にはセルロースエステルフィルム基材を膨潤または溶解し得る溶剤を含む塗布組成物を塗設することによって行われる。用いる溶剤としては基材を膨潤または溶解し得る溶剤と溶解しない溶剤を含む場合もあり、これらを基材のカール度合いや樹脂の種類によって適当な割合で混合した塗布組成物及び塗布量で行われる。   Specifically, the back coat layer is formed by coating a coating composition containing a solvent capable of swelling or dissolving the cellulose ester film substrate. The solvent to be used may include a solvent that can swell or dissolve the base material and a solvent that does not dissolve the base material, and the coating composition and coating amount are mixed in an appropriate ratio depending on the curl degree of the base material and the type of resin. .

カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶剤組成を基材を膨潤または溶解し得る溶剤の比率を大きくし、膨潤または溶解しない溶剤の比率を小さくすることが効果的である。基材を膨潤または溶解し得る溶剤の塗布組成物溶剤に占める割合は、100〜10体積%であることが好ましい。このような混合組成物に含まれる基材を膨潤または溶解し得る溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルオキシド、メチル−n−アミルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、安息香酸エチル、アセト酢酸メチル等のエステル類、ジオキソラン、ジオキサン、メチルセロソルブ、メチルカルビトール等のエーテル類、メチルセロソルブアセテート、セロソルブアセテート等の多価アルコールエステル類、テトラヒドロフラン、フルフラール等のフラン類、氷酢酸等の酸類、メチレンクロライド、エチレンジクロライド、テトラクロロエタン等のハロゲン炭化水素類、ニトロメタン、ニトロエタン、ピリジン、ジメチルホルムアミド、ニトロベンゼン等の窒素化合物、ジメチルスルホキサイド等のスルホン酸類等が好適に用いられる。塗布後の乾燥を考慮すると、揮発し易い溶剤が好ましく、沸点が200℃以下のものが好ましい。   When it is desired to enhance the curl prevention function, it is effective to increase the ratio of the solvent that can swell or dissolve the base material and to decrease the ratio of the solvent that does not swell or dissolve. The ratio of the solvent capable of swelling or dissolving the substrate to the coating composition solvent is preferably 100 to 10% by volume. Solvents that can swell or dissolve the substrate contained in such a mixed composition include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl oxide, methyl-n-amyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol, diisobutyl ketone, methylcyclohexanone, and the like. Ketones, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, ethyl benzoate, methyl acetoacetate, ethers such as dioxolane, dioxane, methyl cellosolve, methyl carbitol, methyl cellosolve acetate, cellosolve acetate, etc. Polyhydric alcohol esters, furans such as tetrahydrofuran and furfural, acids such as glacial acetic acid, halogen hydrocarbons such as methylene chloride, ethylene dichloride and tetrachloroethane, nitro Tan, nitroethane, pyridine, dimethylformamide, nitrogen compounds such as nitrobenzene, sulfonic acids such as dimethyl sulfoxide and the like are suitably used. In consideration of drying after coating, a solvent that easily volatilizes is preferable, and a solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower is preferable.

また、基材を膨潤または溶解しない溶剤を、上記溶剤と0〜90体積%の範囲で混合使用することが出来る。例えばメタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノールなどのアルコール類、グリコールエーテル類(プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル(具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノn−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等)、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステル(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート))、水、その他の溶媒などが挙げられる。   Further, a solvent that does not swell or dissolve the substrate can be mixed and used in the range of 0 to 90% by volume with the above solvent. For example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, 2-butanol, tert-butanol, glycol ethers (propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether (specifically, propylene glycol monomethyl ether (PGME), Propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, etc.), propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether ester (propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether) Acetate)), water, and other solvents.

これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚1〜100μmで塗布するのが好ましいが、特に5〜30μmであることが好ましい。   These coating compositions are preferably applied to the surface of the transparent resin film with a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die coater, etc., with a wet film thickness of 1 to 100 μm, particularly 5 to 30 μm. Preferably there is.

バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体或いは共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート(好ましくはアセチル基置換度1.8〜2.3、プロピオニル基置換度0.1〜1.0)、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び/またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることが出来るが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レーヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することも出来る。   Examples of the resin used as the binder of the backcoat layer include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, partially hydrolyzed vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. Polymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc. Vinyl polymer or copolymer, nitrocellulose, cellulose acetate propionate (preferably acetyl group substitution degree 1.8-2.3, propionyl group substitution degree 0.1-1.0), diacetyl cellulose, cellulose Cellulose derivatives such as acetate butyrate resin, maleic acid and / or Or acrylic acid copolymer, acrylic ester copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, chlorinated polyethylene, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene copolymer, methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin Rubber resins such as polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin, amino resin, styrene-butadiene resin, butadiene-acrylonitrile resin, Examples thereof include, but are not limited to, silicone resins and fluorine resins. For example, as an acrylic resin, Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M-4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001, M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR -80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105 BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) acrylic and The methacrylic monomers such as various homopolymers and copolymers were prepared as raw materials are commercially available, can also be selected preferred mono from this appropriate.

特に好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂層である。   Particularly preferred are cellulose resin layers such as diacetylcellulose and cellulose acetate propionate.

バックコート層を塗設する順番はセルロースエステルフィルムの、バックコート層とは反対側の層(クリアハードコート層或いはその他の例えば帯電防止層等の層)を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。或いは2回以上に分けてバックコート層を重層塗布することも出来る。   The order of coating the backcoat layer may be before or after coating the cellulose ester film on the opposite side of the backcoat layer (clear hard coat layer or other layer such as an antistatic layer). When the back coat layer also serves as an anti-blocking layer, it is desirable to coat it first. Alternatively, the back coat layer can be applied in multiple layers in two or more steps.

本発明のハードコートフィルムは、塗布或いは、プラズマCVD法、特に大気圧プラズマ処理法によって金属化合物層の薄膜を均一に形成するのに適しており、これらは反射防止層として有用である。   The hard coat film of the present invention is suitable for uniformly forming a thin film of a metal compound layer by coating or plasma CVD, particularly atmospheric pressure plasma treatment, and these are useful as an antireflection layer.

大気圧プラズマ処理法としては、例えば特開平11−181573号、特開2000−26632、同2002−110397等に記載の高周波パルス電圧を印加する大気圧プラズマ放電処理方法を用いることが出来る。或いは特開2001−337201記載の大気圧プラズマ放電処理方法により導電層を設けることが出来る。或いは特開2002−228803、特願2002−369679、特願2002−317883、特願2003−50823記載の方法で反射防止層を設けることが出来る。或いは特願2003−50823記載の方法で防汚層を設けることが出来る。或いは特開2003−93963、特願2002−49724記載の方法で反射防止層を塗設することが出来る。   As an atmospheric pressure plasma treatment method, for example, an atmospheric pressure plasma discharge treatment method for applying a high-frequency pulse voltage described in JP-A-11-181573, JP-A-2000-26632, JP-A-2002-110397, or the like can be used. Alternatively, the conductive layer can be provided by an atmospheric pressure plasma discharge processing method described in JP-A-2001-337201. Alternatively, the antireflection layer can be provided by the methods described in JP-A No. 2002-228803, Japanese Patent Application No. 2002-369679, Japanese Patent Application No. 2002-317883, and Japanese Patent Application No. 2003-50823. Alternatively, the antifouling layer can be provided by the method described in Japanese Patent Application No. 2003-50823. Alternatively, the antireflection layer can be applied by the method described in JP-A-2003-93963 and Japanese Patent Application No. 2002-49724.

本発明のハードコートフィルム上には、特に大部分が窒素ガスの雰囲気下で金属化合物(例えばSiOx、SiOxy、TiOxy、SiOxz(x=1〜2、y=0.1〜1、z=0.1〜2)等の金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物)中でも金属酸化物等の薄膜を形成することが好ましい。ガス中に含まれる窒素ガスは60〜99.9体積%であり、好ましくは75〜99.9体積%であり、更に好ましくは90〜99.9体積%である。窒素ガス以外には、アルゴンやヘリウム等の希ガスを含有させてもよく、薄膜を形成するための金属化合物のガスが含有され、更に酸素、水素等の反応を促進させるためのガス(添加ガスまたは補助ガスともいう)等が含有される。これらによって金属化合物を含有する低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層、透明導電層、帯電防止層、防汚層などを形成することが出来る。 On the hard coat film of the present invention, metal compounds (for example, SiO x , SiO x N y , TiO x N y , SiO x C z (x = 1 to 2, y = It is preferable to form a thin film such as a metal oxide among metal oxides such as 0.1-1 and z = 0.1-2), metal nitrides, metal oxynitrides, metal carbides). The nitrogen gas contained in the gas is 60 to 99.9% by volume, preferably 75 to 99.9% by volume, and more preferably 90 to 99.9% by volume. In addition to nitrogen gas, a rare gas such as argon or helium may be contained, a gas of a metal compound for forming a thin film is contained, and further a gas (addition gas) for promoting a reaction such as oxygen and hydrogen. Or an auxiliary gas). By these, a low refractive index layer, a high refractive index layer, a medium refractive index layer, a transparent conductive layer, an antistatic layer, an antifouling layer and the like containing a metal compound can be formed.

次いで、これらハードコート層上に形成する反射防止層について説明する。   Next, the antireflection layer formed on these hard coat layers will be described.

(反射防止層)
本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されず、塗布、スパッタ、蒸着、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、またはこれらを組み合わせて形成することが出来る。
(Antireflection layer)
In the present invention, the method for providing the antireflection layer is not particularly limited, and the antireflection layer can be formed by coating, sputtering, vapor deposition, CVD (Chemical Vapor Deposition), or a combination thereof.

反射防止層を塗布により形成する方法としては、溶剤に溶解したバインダー樹脂中に金属酸化物の粉末を分散し、塗布乾燥する方法、架橋構造を有するポリマーをバインダー樹脂として用いる方法、エチレン性不飽和モノマーと光重合開始剤を含有させ、活性光線を照射することにより層を形成する方法等の方法を挙げることが出来る。   As a method of forming the antireflection layer by coating, a method of dispersing metal oxide powder in a binder resin dissolved in a solvent, coating and drying, a method of using a polymer having a crosslinked structure as a binder resin, ethylenic unsaturated Examples of the method include a method of forming a layer by containing a monomer and a photopolymerization initiator and irradiating actinic rays.

本発明においては、ハードコート層を付与したハードコートフィルムの上に反射防止層を設けることが出来る。ハードコートフィルムの最上層に低屈折率の層を形成し、その間に高屈折率層の金属酸化物層を形成したり、更にハードコートフィルムと高屈折率層との間に更に中屈折率層(金属酸化物の含有量或いは樹脂バインダーとの比率、金属の種類を変更して屈折率を調整した金属酸化物層)を設けることは、反射率の低減のために、好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、基材であるセルロースエステルフィルムの屈折率(約1.5)と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。各層の厚さは、5nm〜0.5μmであることが好ましく、10nm〜0.3μmであることが更に好ましく、30nm〜0.2μmであることが最も好ましい。金属酸化物層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。金属酸化物層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で3H以上であることが好ましく、4H以上であることが最も好ましい。金属酸化物層を塗布により形成する場合は、無機微粒子とバインダーポリマーとを含むことが好ましい。   In the present invention, an antireflection layer can be provided on the hard coat film provided with the hard coat layer. A low refractive index layer is formed on the uppermost layer of the hard coat film, a metal oxide layer of a high refractive index layer is formed between them, and a medium refractive index layer is further provided between the hard coat film and the high refractive index layer. It is preferable to provide (a metal oxide layer in which the refractive index is adjusted by changing the metal oxide content or the ratio with the resin binder and the type of metal) in order to reduce the reflectance. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.30, and more preferably 1.57 to 2.20. The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted so as to be an intermediate value between the refractive index (about 1.5) of the cellulose ester film as the substrate and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55-1.80. The thickness of each layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably 30 nm to 0.2 μm. The haze of the metal oxide layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the metal oxide layer is preferably 3H or more, and most preferably 4H or more, with a pencil hardness of 1 kg. When the metal oxide layer is formed by coating, it is preferable to include inorganic fine particles and a binder polymer.

中屈折率層或いは高屈折率層などの金属酸化物層に用いる無機微粒子は、屈折率が1.80〜2.80であることが好ましく、1.90〜2.80であることが更に好ましい。無機微粒子の一次粒子の重量平均径は、1〜150nmであることが好ましく、1〜100nmであることが更に好ましく、1〜80nmであることが最も好ましい。層中での無機微粒子の重量平均径は、1〜200nmであることが好ましく、5〜150nmであることがより好ましく、10〜100nmであることが更に好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。無機微粒子の平均粒径は、20〜30nm以上であれば光散乱法により、20〜30nm以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。無機微粒子の比表面積は、BET法で測定された値として、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることが更に好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The inorganic fine particles used for the metal oxide layer such as the middle refractive index layer or the high refractive index layer preferably have a refractive index of 1.80 to 2.80, more preferably 1.90 to 2.80. . The primary particles of the inorganic fine particles preferably have a weight average diameter of 1 to 150 nm, more preferably 1 to 100 nm, and most preferably 1 to 80 nm. The weight average diameter of the inorganic fine particles in the layer is preferably 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, still more preferably 10 to 100 nm, and most preferably 10 to 80 nm. . The average particle diameter of the inorganic fine particles is measured by a light scattering method if it is 20-30 nm or more and by an electron micrograph if it is 20-30 nm or less. The specific surface area of the inorganic fine particles, a measured value by the BET method, is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, a 30 to 150 m 2 / g Is most preferred.

無機微粒子は、金属の酸化物から形成された粒子である。金属の酸化物または硫化物の例として、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等が挙げられる。中でも、二酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことが出来る。主成分とは、粒子を構成する成分の中でもで最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSが挙げられる。   The inorganic fine particles are particles formed from a metal oxide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, and the like. Of these, titanium dioxide, tin oxide, and indium oxide are particularly preferable. The inorganic fine particles are mainly composed of oxides of these metals and can further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by mass) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S.

無機微粒子は表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することが出来る。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。   The inorganic fine particles are preferably surface-treated. The surface treatment can be performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include alumina, silica, zirconium oxide and iron oxide. Of these, alumina and silica are preferable. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, a silane coupling agent is most preferable. It may be processed by combining two or more types of surface treatments.

無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、層状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。二種類以上の無機微粒子を金属酸化物層に併用してもよい。   The shape of the inorganic fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a layer shape, a spindle shape, or an indefinite shape. Two or more kinds of inorganic fine particles may be used in combination in the metal oxide layer.

金属酸化物層中の無機微粒子の割合は、5〜90体積%であることが好ましく、より好ましくは10〜65体積%であり、更に好ましくは20〜55体積%である。   The proportion of the inorganic fine particles in the metal oxide layer is preferably 5 to 90% by volume, more preferably 10 to 65% by volume, and still more preferably 20 to 55% by volume.

無機微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、金属酸化物層を形成するための塗布液に供される。無機微粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)、ケトンアルコール(例、ジアセトンアルコール、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノン)等が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The inorganic fine particles are supplied to a coating liquid for forming a metal oxide layer in a dispersion state dispersed in a medium. As the dispersion medium for the inorganic fine particles, a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. is preferably used. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ester (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, Dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol) Lumpur, 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone), and the like. Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

無機微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。   The inorganic fine particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

金属酸化物層は、架橋構造を有するポリマー(以下、「架橋ポリマー」ともいう)をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー(以下「ポリオレフィン」と総称する)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。また、架橋ポリマーが、アニオン性基を有することは、更に好ましい。アニオン性基は、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋構造は、ポリマーに皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ましい。   The metal oxide layer preferably uses a polymer having a crosslinked structure (hereinafter also referred to as “crosslinked polymer”) as a binder polymer. Examples of the crosslinked polymer include polymers having a saturated hydrocarbon chain such as polyolefin (hereinafter collectively referred to as “polyolefin”), crosslinked products such as polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide and melamine resin. Among them, a crosslinked product of polyolefin, polyether and polyurethane is preferred, a crosslinked product of polyolefin and polyether is more preferred, and a crosslinked product of polyolefin is most preferred. Moreover, it is more preferable that the crosslinked polymer has an anionic group. The anionic group has a function of maintaining the dispersion state of the inorganic fine particles, and the crosslinked structure has a function of imparting a film forming ability to the polymer and strengthening the film. The anionic group may be directly bonded to the polymer chain or may be bonded to the polymer chain via a linking group, but is bonded to the main chain as a side chain via the linking group. Is preferred.

本発明の反射防止層に用いられる低屈折率層の屈折率は1.46以下が好ましく、特に1.3〜1.45であることが望ましい。また、低屈折率層は防汚層と兼ねることが好ましい。塗布組成物として珪素アルコキシドを用いてゾルゲル法によって低屈折率層を形成することが出来る。或いは、フッ素樹脂を用いて低屈折率層とすることが出来る。特に、熱硬化性または電離放射線硬化型の含フッ素樹脂の硬化物から該硬化物と珪素の酸化物超微粒子から構成されることが好ましい。   The refractive index of the low refractive index layer used in the antireflection layer of the present invention is preferably 1.46 or less, particularly preferably 1.3 to 1.45. Moreover, it is preferable that the low refractive index layer also serves as an antifouling layer. A low refractive index layer can be formed by a sol-gel method using silicon alkoxide as a coating composition. Alternatively, a low refractive index layer can be formed using a fluororesin. In particular, it is preferably composed of a cured product of thermosetting or ionizing radiation curable fluorine-containing resin and the cured product and ultrafine particles of silicon oxide.

該硬化物の動摩擦係数は、0.02〜0.2であることが好ましく、純水接触角は90〜130°であることが好ましい。該硬化性の含フッ素樹脂としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン)や、含フッ素共重合体(架橋性基を有するモノマーと含フッ素モノマーを構成単位とする)が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、フルオロオレフィン類(例えばビニリデンフルオライドパーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール、フルオロエチレン等)、(メタ)アクリル酸のフッ素化アルキルエステル誘導体(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基を有するモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やアミノ基、ヒドロキシル基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。これらは共重合の後から、架橋構造を導入出来ることが特開平10−25388号公報及び特開平10−147739号公報に記載されている。   The dynamic friction coefficient of the cured product is preferably 0.02 to 0.2, and the pure water contact angle is preferably 90 to 130 °. Examples of the curable fluorine-containing resin include perfluoroalkyl group-containing silane compounds (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane) and fluorine-containing copolymers (crosslinkable groups). Monomer and fluorine-containing monomer as structural units). Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, tetrafluoroethylene, and fluoroolefins (for example, vinylidene fluoride perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, fluoroethylene, etc.) , Fluorinated alkyl ester derivatives of (meth) acrylic acid (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fluorinated vinyl ethers, and the like. As a monomer having a crosslinkable group, a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule in advance such as glycidyl methacrylate, and a (meth) acrylate having a carboxyl group, an amino group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, etc. And monomers (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.). It is described in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739 that a crosslinked structure can be introduced after copolymerization.

また、上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いることが出来る。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばアクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等、オレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)を挙げることが出来る。   Moreover, not only the polymer which uses the said fluorine-containing monomer as a structural unit but the copolymer with the monomer which does not contain a fluorine atom can be used. There are no particular limitations on the monomer units that can be used in combination, for example, acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate), methacrylate esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, Butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, α-methylstyrene, vinyltoluene, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, acrylonitrile Derivatives, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinylidene chloride, vinyl chloride, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, propionic acid) Alkenyl, vinyl cinnamate) may be mentioned.

低屈折率層の形成に用いる含フッ素樹脂には、耐傷性を改善するために酸化珪素微粒子を添加して用いるのが好ましい。添加量は、屈折率と耐傷性との兼ね合いで調整される。酸化珪素微粒子は、市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布組成物に添加することが出来、或いは市販の各種シリカ紛体を有機溶剤に分散して使用することも出来る。   In order to improve the scratch resistance, it is preferable to add silicon oxide fine particles to the fluorine-containing resin used for forming the low refractive index layer. The addition amount is adjusted in consideration of the refractive index and scratch resistance. As the silicon oxide fine particles, silica sol dispersed in a commercially available organic solvent can be added to the coating composition as it is, or various commercially available silica powders can be dispersed in an organic solvent and used.

本発明の反射防止フィルムの低屈折率層形成用の塗布組成物は、主に低沸点の溶媒を含むことが好ましい。具体的には、沸点が100℃以下の溶媒が全溶媒の50質量%以上であることが好ましい。これによって、防眩層のように凹凸を有する基材表面に塗布した場合でも、速やかに乾燥させることが出来、塗布液の流動による微細な膜厚ムラが低減され、反射率の増加が抑制される。また、沸点が100℃以上の溶媒が含まれていると乾燥ムラや白濁ムラが抑制されるため好ましく、沸点が100℃以上の溶媒が0.1〜50質量%含有していることが好ましい。   The coating composition for forming a low refractive index layer of the antireflection film of the present invention preferably contains a solvent having a low boiling point mainly. Specifically, the solvent having a boiling point of 100 ° C. or less is preferably 50% by mass or more of the total solvent. As a result, even when coated on the surface of a substrate having irregularities such as an antiglare layer, it can be dried quickly, fine film thickness unevenness due to the flow of the coating liquid is reduced, and an increase in reflectance is suppressed. The Moreover, since the drying nonuniformity and white turbidity nonuniformity are suppressed when the solvent whose boiling point is 100 degreeC or more is contained, it is preferable that the solvent whose boiling point is 100 degreeC or more contains 0.1-50 mass%.

低屈折率層用の塗布組成物に用いられる低沸点の溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、メチルセロソルブ等のエーテルアルコール類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等の中でもから、塗布組成物中に含まれる固形分の溶解性の高いものが好ましく用いられる。沸点が100℃を越える塗布溶媒としては、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチル−イソブチルケトン等のケトン類、ジアセトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類、1−ブタノール、2−ブタノール等のアルコール類等が用いられる。   Low boiling point solvents used in coating compositions for the low refractive index layer include ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, ether alcohols such as methyl cellosolve, methanol, ethanol, and isopropanol. Among such alcohols, those having high solubility of the solid content contained in the coating composition are preferably used. Coating solvents having a boiling point exceeding 100 ° C. include ketones such as cyclohexanone, cyclopentanone and methyl-isobutyl ketone, ether alcohols such as diacetone alcohol and propylene glycol monomethyl ether, and alcohols such as 1-butanol and 2-butanol. Etc. are used.

反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法により、塗布により形成することが出来る。   Each layer of the antireflection film can be formed by coating by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, micro gravure coating or extrusion coating. I can do it.

本発明においては、プラズマ放電処理によって金属酸化物層を形成する方法も好ましく用いることができる。   In the present invention, a method of forming a metal oxide layer by plasma discharge treatment can also be preferably used.

以下に、プラズマ放電処理により金属酸化物層を形成する方法を図1、2を用いて説明する。   Hereinafter, a method for forming a metal oxide layer by plasma discharge treatment will be described with reference to FIGS.

本発明のハードコートフィルム上に金属酸化物層を形成する方法としての大気圧若しくはその近傍の圧力下のプラズマ放電処理は、下記のごときプラズマ放電処理装置を用いることによって行われる。   Plasma discharge treatment under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof as a method for forming a metal oxide layer on the hard coat film of the present invention is performed by using a plasma discharge treatment apparatus as described below.

図1は、本発明のハードコートフィルム上に金属酸化物層を形成するのに用いられるプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。   FIG. 1 is a view showing an example of a plasma discharge treatment apparatus used for forming a metal oxide layer on the hard coat film of the present invention.

図1においては、この装置は一対の回転電極10Aと10Bを有し、回転電極10Aと10Bには、プラズマ放電を発生させるための電圧を印加できる電源80が電圧供給手段81に接続され一方はアースに接続されており、82がアースに接続されている。   In FIG. 1, this apparatus has a pair of rotating electrodes 10A and 10B. A power supply 80 to which a voltage for generating plasma discharge can be applied is connected to the rotating electrodes 10A and 10B. Connected to ground, 82 is connected to ground.

回転電極10Aと10Bはハードコートフィルムを巻き回しながら搬送するもので、ロール電極若しくはベルト状の電極であることが好ましく、図1ではロール電極を示している。   The rotating electrodes 10A and 10B are conveyed while winding the hard coat film, and are preferably roll electrodes or belt-like electrodes, and FIG. 1 shows the roll electrodes.

これらの回転電極間の間隙(電極間隙)は放電が行われる場所であり、ハードコートフィルムFが搬送出来る間隔に設定されている。この電極間の間隙が放電部50となる。   A gap (electrode gap) between these rotating electrodes is a place where electric discharge is performed, and is set to an interval at which the hard coat film F can be conveyed. The gap between the electrodes becomes the discharge part 50.

この電極間隙は大気圧若しくは大気圧近傍の圧力下に維持されており、ここに反応ガス供給部30より反応ガスGが供給され、ハードコートフィルムF表面がプラズマ放電処理される。   The gap between the electrodes is maintained at atmospheric pressure or a pressure close to atmospheric pressure. The reaction gas G is supplied from the reaction gas supply unit 30 and the surface of the hard coat film F is subjected to plasma discharge treatment.

ここで、元巻きロールから巻き出されたハードコートフィルムFまたは前工程から搬送されてくるハードコートフィルムFがガイドロール20を経て、まず、移送方向に回転する回転電極10Aに接しながら移送され、放電部50を通過して、ハードコートフィルムFの表面に薄膜が形成される。   Here, the hard coat film F unwound from the original winding roll or the hard coat film F conveyed from the previous process is first transferred through the guide roll 20 while being in contact with the rotating electrode 10A rotating in the transfer direction, A thin film is formed on the surface of the hard coat film F through the discharge part 50.

一旦放電部50から出たハードコートフィルムFは、Uターンロール11A〜11DでUターンされて、今度は、ハードコートフィルムムFは回転電極10Aと反対方向に回転している回転電極10Bに接しながら移送され、再び前記放電部50を通過して、先ほど薄膜が形成されたハードコートフィルムFの表面に更にプラズマ放電処理され薄膜が形成される。Uターンは通常0.1秒〜1分程度で行なわれる。   The hard coat film F that has once exited from the discharge section 50 is U-turned by the U-turn rolls 11A to 11D, and this time, the hard coat film F contacts the rotating electrode 10B rotating in the opposite direction to the rotating electrode 10A. The thin film is further formed by plasma discharge treatment on the surface of the hard coat film F on which the thin film has been formed. The U-turn is usually performed in about 0.1 seconds to 1 minute.

処理に使用された反応ガスGはガス排出口40より反応後の排ガスG′として排出される。反応ガスGは室温〜250℃、好ましくは50〜150℃、更に好ましくは80〜120℃に過熱して放電部50に送り込まれることが好ましい。   The reaction gas G used for the treatment is discharged from the gas discharge port 40 as exhaust gas G ′ after the reaction. It is preferable that the reaction gas G is heated to room temperature to 250 ° C., preferably 50 to 150 ° C., more preferably 80 to 120 ° C., and then fed into the discharge part 50.

尚、放電部50には整流板51が設けられていることが好ましく、反応ガスGや排ガスG′の流れをスムーズにすると共に、放電部50が広がって電極10Aと10Bの間で不要な放電を起こさないように制御することが好ましく、整流板51は絶縁性部材で出来ていることが好ましい。   In addition, it is preferable that the discharge part 50 is provided with the rectification | straightening board 51, and while making the flow of the reaction gas G and waste gas G 'smooth, the discharge part 50 spreads and unnecessary discharge is made between electrodes 10A and 10B. The rectifying plate 51 is preferably made of an insulating member.

図ではハードコートフィルムF上に形成された薄膜は省略してある。表面に薄膜が形成されたハードコートフィルムFは、ガイドローラ21を介して次工程または巻き取りロール(図示してない)方向に搬送される。   In the figure, the thin film formed on the hard coat film F is omitted. The hard coat film F having a thin film formed on the surface is conveyed in the direction of the next process or a take-up roll (not shown) via the guide roller 21.

従って、ハードコートフィルムFは回転電極10A、10Bに密着した状態で放電部50を往復してプラズマ放電処理されることとなる。   Therefore, the hard coat film F is subjected to plasma discharge treatment by reciprocating the discharge portion 50 in a state of being in close contact with the rotary electrodes 10A and 10B.

尚、図示してないが、回転電極10Aと10B、ガイドロール20、21、Uターンロール11A〜11D、反応ガス供給部30、ガス排出口40等の装置は外界と遮断するプラズマ放電処理容器内に囲まれて納められていることが好ましい。   Although not shown in the drawing, the devices such as the rotating electrodes 10A and 10B, the guide rolls 20 and 21, the U-turn rolls 11A to 11D, the reactive gas supply unit 30, and the gas discharge port 40 are in a plasma discharge processing vessel that is shielded from the outside. It is preferable that it is enclosed and enclosed.

また、図示してないが、必要に応じて、回転電極10Aと10Bの温度制御をするための温度制御用媒体が循環され、各々の電極表面温度を所定の値に制御するようになっている。また、回転電極10Aと10Bの直径は10〜1000mm、好ましくは50〜500mmであり、直径の異なるものを組み合わせて用いてもよい。   Although not shown, a temperature control medium for controlling the temperature of the rotating electrodes 10A and 10B is circulated as necessary to control each electrode surface temperature to a predetermined value. . The diameters of the rotating electrodes 10A and 10B are 10 to 1000 mm, preferably 50 to 500 mm, and those having different diameters may be used in combination.

図2は本発明のハードコートフィルム上に金属酸化物薄膜層を形成するのに有用な回転電極と固定電極を有するプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。   FIG. 2 is a view showing an example of a plasma discharge treatment apparatus having a rotating electrode and a fixed electrode useful for forming a metal oxide thin film layer on the hard coat film of the present invention.

回転電極110とそれに対向して配置された複数の固定電極111を有し、図示されていない元巻きロールまたは前工程から搬送されて来るハードコートフィルムFがガイドロール120、ニップロール122を経て回転電極110に導かれ、ハードコートフィルムFは回転電極110に接した状態で回転電極110の回転と同期しながら移送され、大気圧若しくはその近傍の圧力下にある放電部150に反応ガス発生装置131で調製された反応ガスGが給気管130から供給され、固定電極111に対向しているハードコートフィルム面に薄膜が形成される。   A rotating electrode 110 and a plurality of fixed electrodes 111 arranged opposite to the rotating electrode 110 and a hard coat film F conveyed from a not-shown original winding roll or a previous process pass through a guide roll 120 and a nip roll 122 to rotate the rotating electrode 110, the hard coat film F is transferred in synchronization with the rotation of the rotating electrode 110 while being in contact with the rotating electrode 110, and is supplied to the discharge unit 150 under the atmospheric pressure or in the vicinity thereof by the reaction gas generator 131. The prepared reaction gas G is supplied from the supply pipe 130, and a thin film is formed on the hard coat film surface facing the fixed electrode 111.

回転電極110と固定電極には、プラズマ放電を発生させるための電圧を印加できる電源180が電圧供給手段181に接続され一方はアースに接続されており、182がアースに接続されている。   A power source 180 capable of applying a voltage for generating plasma discharge is connected to the voltage supply means 181 between the rotating electrode 110 and the fixed electrode, one of which is connected to the ground, and 182 is connected to the ground.

また、回転電極110、固定電極111、放電部150はプラズマ放電処理容器190で覆われ、外界と遮断されている。処理された排ガスG′は処理室の下部にあるガス排気口140から排出される。   Further, the rotating electrode 110, the fixed electrode 111, and the discharge unit 150 are covered with a plasma discharge processing vessel 190 and are shielded from the outside. The treated exhaust gas G ′ is discharged from a gas exhaust port 140 at the lower part of the processing chamber.

プラズマ放電処理されたハードコートフィルムFはニップロール123及びガイドロール121を経て次工程または図示してない巻き取りロールへ搬送される。   The hard coat film F subjected to the plasma discharge treatment is conveyed to the next process or a winding roll (not shown) through the nip roll 123 and the guide roll 121.

ハードコートフィルムFがプラズマ放電処理容器の出入り部分のニップロール122及び123のところに外界との仕切板124及び125が設けられており、外界からニップロール122と共にハードコートフィルムFに同伴して来る空気を遮断し、また出口においては、反応ガスGまたは排ガスG′が外界に漏れないようになっている、尚、図示してないが、必要に応じて、回転電極110及び固定電極111は温度調節のための温度制御された媒体が内部を循環するようになっている。   Partition plates 124 and 125 with the outside world are provided at the nip rolls 122 and 123 at the entrance and exit of the plasma discharge processing container, and air accompanying the hard coat film F from the outside world together with the nip rolls 122 is provided. At the outlet, the reaction gas G or the exhaust gas G ′ is prevented from leaking to the outside. Although not shown, the rotating electrode 110 and the fixed electrode 111 may be temperature controlled as required. A temperature-controlled medium is circulated in the interior.

このように、本発明において、薄膜が形成されるハードコートフィルムは回転電極上で移送しながらプラズマ放電処理されるのが好ましい。   Thus, in the present invention, the hard coat film on which the thin film is formed is preferably subjected to plasma discharge treatment while being transferred on the rotating electrode.

回転電極がハードコートフィルムと接する表面は高い平滑性が求められ、回転電極の表面の表面粗さがJIS−B−0601で規定される表面粗さの最大高さ(Rmax)が10μm以下であることが好ましく、より好ましくは8μm以下であり、特に好ましくは、7μm以下である。また、均一な製膜のため電極にゴミや異物が付着しないようにすることが必要である。   The surface where the rotating electrode is in contact with the hard coat film is required to have high smoothness, and the surface roughness of the surface of the rotating electrode is the maximum surface roughness (Rmax) defined by JIS-B-0601 of 10 μm or less. More preferably, it is 8 micrometers or less, Most preferably, it is 7 micrometers or less. In addition, it is necessary to prevent dust and foreign matter from adhering to the electrodes for uniform film formation.

プラズマ放電処理に用いられる電極の表面は固体誘電体で被覆されていることが望ましく、特に金属等の導電性母材に対し固体誘電体で被覆されていることが望ましい。固体誘電体としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック、ガラス、二酸化珪素、酸化アルミニウム(Al23)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化チタン(TiO2)等の金属酸化物、チタン酸バリウム等の複酸化物等を挙げることが出来る。 The surface of the electrode used for the plasma discharge treatment is preferably coated with a solid dielectric, and in particular, a conductive base material such as a metal is preferably coated with the solid dielectric. Examples of the solid dielectric include plastics such as polytetrafluoroethylene and polyethylene terephthalate, metal oxides such as glass, silicon dioxide, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), and titanium oxide (TiO 2 ). Examples thereof include double oxides such as barium titanate.

特に好ましくは、セラミックスを溶射後、無機材料を用いて封孔処理したセラミックス被覆処理誘電体であることが望ましい。ここで、金属等の導電性母材としては、銀、白金、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属等を挙げることが出来るが、加工の観点からステンレスが好ましい。   Particularly preferred is a ceramic-coated dielectric that has been subjected to sealing treatment using an inorganic material after thermal spraying of ceramics. Here, examples of the conductive base material such as metal include metals such as silver, platinum, stainless steel, aluminum, and iron. Stainless steel is preferable from the viewpoint of processing.

また、ライニング材としては、ケイ酸塩系ガラス、ホウ酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマン酸塩系ガラス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩ガラス、バナジン酸塩ガラス等が好ましく用いられるが、この中でもホウ酸塩系ガラスが加工し易いので、更に好ましく用いられる。   As the lining material, silicate glass, borate glass, phosphate glass, germanate glass, tellurite glass, aluminate glass, vanadate glass, etc. are preferably used. However, among these, borate glass is more preferably used because it is easy to process.

プラズマ放電処理に用いられる電極は、その裏面側(内側)から、必要に応じて、加熱或いは冷却することが出来るようになっている。電極がベルトの場合には、その裏面より気体で冷却することも出来るが、ロールを用いた回転電極では内部に媒体を供給して電極表面の温度及びハードコートフィルムの温度を制御することが好ましい。   The electrode used for the plasma discharge treatment can be heated or cooled as necessary from the back side (inside). When the electrode is a belt, it can be cooled with gas from the back side, but it is preferable to control the temperature of the electrode surface and the temperature of the hard coat film by supplying a medium inside the rotating electrode using a roll. .

媒体としては、蒸留水、油特にシリコンオイル等の絶縁性材料が好ましく用いられる。   As the medium, an insulating material such as distilled water, oil, particularly silicon oil is preferably used.

放電処理の際のハードコートフィルムの温度は処理条件によって異なるが、室温〜200℃以下が好ましく、より好ましくは室温〜120℃以下であり、更に好ましくは50〜110℃である。   The temperature of the hard coat film during the discharge treatment varies depending on the treatment conditions, but is preferably room temperature to 200 ° C. or less, more preferably room temperature to 120 ° C. or less, and further preferably 50 to 110 ° C.

放電処理の際にハードコートフィルム面の特に幅手方向で温度ムラが生じないようにすることが望ましく、±5℃以内とすることが好ましく、より好ましくは±1℃以内であり、特に好ましくは±0.1℃以内である。   It is desirable to prevent temperature unevenness particularly in the width direction of the hard coat film surface during the discharge treatment, preferably within ± 5 ° C, more preferably within ± 1 ° C, and particularly preferably. Within ± 0.1 ° C.

本発明において、電極間隙は、固体誘電体の厚さ、印加電圧や周波数、プラズマを利用する目的等を考慮して決定される。上記電極の一方に固体誘電体を設置した場合の固体誘電体と電極の最短距離、上記電極の双方に固体誘電体を設置した場合の固体誘電体同士の距離としては、いずれの場合も均一な放電プラズマを発生させるという観点から0.5mm〜20mmが好ましく、特に好ましくは1mm±0.5mmである。   In the present invention, the electrode gap is determined in consideration of the thickness of the solid dielectric, the applied voltage and frequency, the purpose of using plasma, and the like. The shortest distance between the solid dielectric and the electrode when a solid dielectric is placed on one of the electrodes, and the distance between the solid dielectrics when a solid dielectric is placed on both of the electrodes is uniform in any case From the viewpoint of generating discharge plasma, 0.5 mm to 20 mm is preferable, and 1 mm ± 0.5 mm is particularly preferable.

本発明において、電極間隙の放電部には、ガス発生装置で発生させた混合ガスを流量制御して、反応ガス供給口よりプラズマ放電部に導入される。反応ガスの濃度や流量は適宜調整されるが、ハードコートフィルムの搬送速度に対して十分な速度で処理用ガスを電極間隙に供給することが好ましい。放電部では供給した反応ガスの大部分が反応して薄膜形成に使われるように流量や放電条件が設定するのが望ましい。   In the present invention, the flow rate of the mixed gas generated by the gas generator is controlled in the discharge portion of the electrode gap and introduced into the plasma discharge portion from the reaction gas supply port. The concentration and flow rate of the reaction gas are appropriately adjusted, but it is preferable to supply the processing gas to the electrode gap at a speed sufficient for the transport speed of the hard coat film. In the discharge section, it is desirable to set the flow rate and discharge conditions so that most of the supplied reaction gas reacts and is used for thin film formation.

放電部に大気が混入したり、反応ガスが装置外に漏れ出ることを防止するために、電極及び移送中のハードコートフィルムは全体を囲んで外界から遮蔽することが好ましい。本発明において、放電部の気圧は大気圧若しくはその近傍の圧力に維持される。また、反応ガスが気相中で分解されて金属酸化物の微粉を発生することがあるが、その発生が少なくなるように流量や放電条件を設定することが望ましい。   In order to prevent the atmosphere from being mixed into the discharge part and the reaction gas from leaking out of the apparatus, it is preferable that the electrode and the hard coat film being transferred are surrounded and shielded from the outside. In the present invention, the atmospheric pressure of the discharge part is maintained at atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof. In addition, the reaction gas may be decomposed in the gas phase to generate metal oxide fine powder, and it is desirable to set the flow rate and discharge conditions so as to reduce the generation.

ここで大気圧近傍とは、20〜200kPaの圧力を表すが、本発明に記載の効果を好ましく得るためには、93〜110kPaが好ましい。装置外の大気圧力に対して、放電部がやや陽圧であることが好ましくプラズマ装置外の大気圧力+0.1kPa〜5kPaであることがより好ましい。   Here, the vicinity of atmospheric pressure represents a pressure of 20 to 200 kPa, but 93 to 110 kPa is preferable in order to preferably obtain the effects described in the present invention. The discharge part is preferably slightly positive with respect to the atmospheric pressure outside the apparatus, more preferably atmospheric pressure outside the plasma apparatus +0.1 kPa to 5 kPa.

本発明に有用なプラズマ放電処理装置では、一方の電極は電源に接続して電圧を印加し、もう一方の電極はアースに接地し放電プラズマを発生させることが安定したプラズマを発生させるために好ましい。   In the plasma discharge treatment apparatus useful for the present invention, it is preferable that one electrode is connected to a power source to apply a voltage, and the other electrode is grounded to generate a discharge plasma to generate a stable plasma. .

本発明で用いる高周波電源より電極に印加する電圧の値は適宜決定されるが、例えば、電圧が0.5〜10kV程度で、印加する周波数は1kHz〜150MHzに調整し、波形をパルス波であってもサイン波としてもよい。特に周波数を100kHzを超えて50MHz以下の高周波を印加することが好ましい放電部(放電空間)が得られるため好ましい。或いは、1kHz〜200kHzと800kHz〜150MHzの2つの周波数の高周波電圧を同時に印加する方法も好ましく用いられる。   The value of the voltage applied to the electrode from the high frequency power source used in the present invention is appropriately determined. For example, the voltage is about 0.5 to 10 kV, the applied frequency is adjusted to 1 kHz to 150 MHz, and the waveform is a pulse wave. Or a sine wave. In particular, it is preferable to apply a high frequency exceeding 100 kHz and not exceeding 50 MHz because a discharge part (discharge space) is preferably obtained. Alternatively, a method of simultaneously applying high-frequency voltages having two frequencies of 1 kHz to 200 kHz and 800 kHz to 150 MHz is also preferably used.

放電部における放電密度は5〜1000W・min/m2であることが好ましく、特に50〜500W・min/m2であることが望ましい。 Preferably the discharge density in the discharge portion are 5~1000W · min / m 2, in particular it is desirable that 50~500W · min / m 2.

プラズマ放電処理部はパイレックス(R)ガラス製の処理容器等で適宜囲まれていることが望ましく、電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能である。例えば、アルミまたは、ステンレスのフレームの内面にポリイミド樹脂等を貼り付けてもよく、該金属フレームにセラミックス溶射を行い絶縁性をとってもよい。また、放電部や回転電極の側面部、セルロースエステルフィルム搬送部等の側面を囲むことによって、反応ガスや排ガスを適切に放電部に供給したり排気することも出来る。   It is desirable that the plasma discharge processing section is appropriately surrounded by a Pyrex (R) glass processing container or the like, and it is also possible to use a metal as long as it is insulated from the electrodes. For example, polyimide resin or the like may be affixed to the inner surface of an aluminum or stainless steel frame, and the metal frame may be thermally sprayed to obtain insulation. In addition, the reaction gas and the exhaust gas can be appropriately supplied to the discharge unit or exhausted by surrounding the discharge unit, the side surface of the rotating electrode, the side surface of the cellulose ester film transport unit and the like.

本発明の金属酸化物薄膜層の形成方法に用いる反応ガスについて説明する。   The reaction gas used in the method for forming a metal oxide thin film layer of the present invention will be described.

薄膜層を形成するための反応ガスは、窒素若しくは希ガスを含むことが好ましい。   The reaction gas for forming the thin film layer preferably contains nitrogen or a rare gas.

つまり、反応ガスは窒素若しくは希ガスと後述の反応性ガスの混合ガスであることが好ましい。   That is, the reactive gas is preferably a mixed gas of nitrogen or a rare gas and a reactive gas described later.

ここで、希ガスとは、周期表の第18属元素、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等であり、本発明においては、中でもヘリウム、アルゴンを好ましく用いることが出来る。これらは混合して用いてもよく、例えばヘリウム3:アルゴン7等の比率で用いてもよい。   Here, the noble gas is a group 18 element of the periodic table, specifically helium, neon, argon, krypton, xenon, radon, etc., and in the present invention, helium or argon is preferably used. I can do it. These may be used as a mixture, for example, in a ratio of helium 3: argon 7 or the like.

反応ガス中の希ガスまたは窒素の濃度は90%以上であることが安定したプラズマ放電を発生させるために好ましく、90〜99.99体積%であることが望ましい。   The concentration of the rare gas or nitrogen in the reaction gas is preferably 90% or more in order to generate a stable plasma discharge, and desirably 90 to 99.99% by volume.

希ガスまたは窒素は安定したプラズマ放電を発生させるために用いられ、該プラズマ中で反応性ガスはイオン化或いはラジカル化され、基材表面に堆積或いは付着するなどして薄膜が形成される。   A rare gas or nitrogen is used to generate a stable plasma discharge, and the reactive gas is ionized or radicalized in the plasma, and is deposited or adhered to the surface of the substrate to form a thin film.

本発明に有用な反応ガスは、様々な物質の反応性ガスを添加したものを用いることによって、様々な機能を持った薄膜をハードコートフィルム上に形成することが出来る。   The reactive gas useful in the present invention can form thin films having various functions on a hard coat film by using a reactive gas added with reactive gases of various substances.

例えば、反応性ガスとして、フッ素含有有機化合物、珪素化合物を用いて反射防止層の低屈折率層或いは防汚層を形成することも出来る。   For example, the low refractive index layer or the antifouling layer of the antireflection layer can be formed using a fluorine-containing organic compound or a silicon compound as the reactive gas.

また、Ti、Zr、In、Sn、Zn、Ge、Si或いはその他の金属を含有する有機金属化合物、金属水素化合物、金属ハロゲン化物を用いて、これらの金属酸化物層(金属酸化物窒化物層も含む)または金属窒化物層等を形成することが出来、これらの層は反射防止層の中でも屈折率層または高屈折率層としたり、或いは導電層または帯電防止層とすることも出来る。   Further, these metal oxide layers (metal oxide nitride layers) using organometallic compounds, metal hydrides, and metal halides containing Ti, Zr, In, Sn, Zn, Ge, Si or other metals. Or a metal nitride layer or the like, and these layers may be a refractive index layer or a high refractive index layer among antireflection layers, or may be a conductive layer or an antistatic layer.

また、フッ素含有有機化合物で防汚層や低屈折率層を形成することも出来、珪素化合物でガスバリア層や低屈折率層を形成することも出来る。本発明は、高、中屈折率層と低屈折率層を交互に多層を積層して形成される反射防止層の形成に特に好ましく用いられる。   Further, the antifouling layer and the low refractive index layer can be formed with a fluorine-containing organic compound, and the gas barrier layer and the low refractive index layer can be formed with a silicon compound. The present invention is particularly preferably used for forming an antireflection layer formed by alternately laminating high, medium refractive index layers and low refractive index layers.

形成される金属酸化物層の膜厚としては、1nm〜1000nmの範囲のものが好ましく得られる。   The film thickness of the formed metal oxide layer is preferably in the range of 1 nm to 1000 nm.

大気圧プラズマ処理では原料ガスにフッ素含有有機化合物を用いることでフッ素化合物含有層を形成することも出来る。   In the atmospheric pressure plasma treatment, a fluorine compound-containing layer can be formed by using a fluorine-containing organic compound as a raw material gas.

フッ素含有有機化合物としては、フッ化炭素ガス、フッ化炭化水素ガス等が好ましい。   As the fluorine-containing organic compound, a fluorocarbon gas, a fluorinated hydrocarbon gas, or the like is preferable.

具体的には、フッ素含有有機化合物としては、例えば、四フッ化炭素、六フッ化炭素、四フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、八フッ化シクロブタン等のフッ化炭素化合物;
二フッ化メタン、四フッ化エタン、四フッ化プロピレン、三フッ化プロピレン、八フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物;
更に、一塩化三フッ化メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物、アルコール、酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体等を挙げることが出来る。
Specifically, as the fluorine-containing organic compound, for example, a fluorocarbon compound such as carbon tetrafluoride, carbon hexafluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, and octafluorocyclobutane;
Fluorinated hydrocarbon compounds such as difluoromethane, tetrafluoroethane, propylene tetrafluoride, propylene trifluoride, and cyclobutane octafluoride;
Further, halides of fluorinated hydrocarbon compounds such as trichloromethane trichloride, methane monochloride difluoride methane, and cyclobutane tetrachloride difluoride, and fluorine-substituted products of organic compounds such as alcohols, acids, and ketones. I can do it.

これらは単独でも混合して用いてもよい。上記のフッ化炭化水素ガスとしては、二フッ化メタン、四フッ化エタン、四フッ化プロピレン、三フッ化プロピレン等の各ガスを挙げることが出来る。   These may be used alone or in combination. Examples of the fluorinated hydrocarbon gas include gases such as difluoromethane, tetrafluoroethane, propylene tetrafluoride, and propylene trifluoride.

更に、一塩化三フッ化メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物やアルコール、酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体を用いることが出来るが、本発明はこれらに限定されない。   Furthermore, it is possible to use halides of fluorinated hydrocarbon compounds such as monochlorotrifluoride methane, monochlorodifluoride methane, and dichloride tetrafluorocyclobutane, and fluorine-substituted products of organic compounds such as alcohols, acids, and ketones. However, the present invention is not limited to these.

また、これらの化合物は分子内にエチレン性不飽和基を有していてもよい。また、上記の化合物は混合して用いてもよい。   Further, these compounds may have an ethylenically unsaturated group in the molecule. Moreover, you may use said compound in mixture.

反応性ガスとしてフッ素含有有機化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりセルロースエステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の反応性ガスとしてのフッ素含有有機化合物の含有率は、0.01〜10体積%であることが好ましく、更に好ましくは、0.1〜5体積%である。   When a fluorine-containing organic compound is used as the reactive gas, the content of the fluorine-containing organic compound as the reactive gas in the reactive gas is from the viewpoint of forming a uniform thin film on the cellulose ester film by plasma discharge treatment. It is preferable that it is 01-10 volume%, More preferably, it is 0.1-5 volume%.

また、好ましく用いられるフッ素含有、有機化合物が常温常圧で気体である場合は、反応性ガスの成分としてそのまま使用出来る。   Further, when the fluorine-containing organic compound that is preferably used is a gas at normal temperature and pressure, it can be used as it is as a component of the reactive gas.

また、フッ素含有有機化合物が常温常圧で液体または固体である場合には、気化手段により、例えば加熱、減圧等により気化して使用すればよく、適切な有機溶媒に溶解して用いてもよい。   Further, when the fluorine-containing organic compound is liquid or solid at normal temperature and normal pressure, it may be used after being vaporized by vaporization means, for example, by heating, reduced pressure, or the like, and may be used after being dissolved in an appropriate organic solvent. .

反応性ガスとして有用な珪素化合物としては、例えば、ジメチルシラン、テトラメチルシランなどの有機金属化合物、モノシラン、ジシランなどの金属水素化合物、二塩化シラン、三塩化シラン、四フッ化珪素などの金属ハロゲン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサンなどのアルコキシシラン、オルガノシラン等を用いることが好ましいがこれらに限定されない。   Examples of silicon compounds useful as reactive gases include organometallic compounds such as dimethylsilane and tetramethylsilane, metal hydrides such as monosilane and disilane, metal halogens such as silane dichloride, silane trichloride, and silicon tetrafluoride. Compounds, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, hexamethyldisiloxane and other alkoxysilanes, organosilanes, etc. are preferably used. It is not limited.

また、これらは適宜組み合わせて用いることが出来る。或いは別の有機化合物を添加して膜の物性を変化或いは制御することも出来る。   Moreover, these can be used in combination as appropriate. Alternatively, another organic compound can be added to change or control the physical properties of the film.

反応性ガスとして珪素化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりセルロースエステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の反応性ガスとしての珪素化合物の含有率は、0.01〜10体積%であることが好ましいが、更に好ましくは、0.1〜5体積%である。   When a silicon compound is used as the reactive gas, the content of the silicon compound as the reactive gas in the reactive gas is 0.01 to 10 volumes from the viewpoint of forming a uniform thin film on the cellulose ester film by plasma discharge treatment. %, Preferably 0.1 to 5% by volume.

反応性ガスとして有用な有機金属化合物としては、特に限定されないが、Al、As、Au、B、Bi、Sb、Ca、Cd、Cr、Co、Cu、Fe、Ga、Ge、Hg、In、Li、Mg、Mn、Mo、Na、Ni、Pb、Pt、Rh、Se、Si、Sn、Ti、Zr、Y、V、W、Zn等の金属化合物を形成するための有機金属化合物を好ましく挙げることが出来る。   Although it does not specifically limit as an organometallic compound useful as a reactive gas, Al, As, Au, B, Bi, Sb, Ca, Cd, Cr, Co, Cu, Fe, Ga, Ge, Hg, In, Li Preferable organic metal compounds for forming metal compounds such as Mg, Mn, Mo, Na, Ni, Pb, Pt, Rh, Se, Si, Sn, Ti, Zr, Y, V, W, and Zn I can do it.

例えば、反射防止層の高屈折率層を形成するには、チタン化合物が好ましく、具体的には、例えば、テトラジメチルアミノチタンなどの有機アミノ金属化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどの金属アルコキシドなどを挙げることが出来る。   For example, in order to form a high refractive index layer of the antireflection layer, a titanium compound is preferable. Specifically, for example, an organic amino metal compound such as tetradimethylamino titanium, a metal hydrogen compound such as monotitanium and dititanium, Examples thereof include metal halogen compounds such as titanium chloride, titanium trichloride, and titanium tetrachloride, and metal alkoxides such as tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, and tetrabutoxy titanium.

前記の珪素化合物、有機金属化合物は、取り扱い上の観点から金属水素化合物、金属アルコキシドが好ましく、腐食性、有害ガスの発生がなく、工程上の汚れなども少ないことから、中でも金属アルコキシドが好ましく用いられる。   The above silicon compounds and organometallic compounds are preferably metal hydrides and metal alkoxides from the viewpoint of handling, and are preferably used since metal alkoxides are not corrosive, do not generate harmful gases, and have little contamination in the process. It is done.

反応性ガスとして有機金属化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりセルロースエステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の反応性ガスとしての有機金属化合物の含有率は、0.01〜10体積%であることが好ましいが、更に好ましくは、0.1〜5体積%である。   When using an organometallic compound as the reactive gas, from the viewpoint of forming a uniform thin film on the cellulose ester film by plasma discharge treatment, the content of the organometallic compound as the reactive gas in the reactive gas is 0.01 to Although it is preferable that it is 10 volume%, More preferably, it is 0.1-5 volume%.

また、珪素化合物、チタン化合物等の金属化合物を放電部へ導入するには、両者は常温常圧で気体、液体または固体いずれの状態であっても使用し得る。   Further, in order to introduce a metal compound such as a silicon compound or a titanium compound into the discharge part, both can be used in a gas, liquid or solid state at normal temperature and pressure.

気体の場合は、そのまま放電部に導入出来るが、液体や固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の気化手段により気化させて使用することが出来る。   In the case of gas, it can be introduced into the discharge part as it is, but in the case of liquid or solid, it can be used after being vaporized by means of vaporization such as heating, decompression or ultrasonic irradiation.

珪素化合物、チタン化合物等の金属化合物を加熱により気化して用いる場合、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシチタンなどのように常温で液体で、かつ、沸点が200℃以下である金属アルコキシドが本発明の金属酸化物薄膜層の形成する方法に好適である。上記金属アルコキシドは、有機溶媒によって希釈して使用してもよく、有機溶媒としては、メタノール、エタノール、n−ヘキサンなどの有機溶媒またはこれらの混合有機溶媒を使用することが出来る。   When metal compounds such as silicon compounds and titanium compounds are vaporized by heating, metal alkoxides that are liquid at room temperature and have a boiling point of 200 ° C. or less, such as tetraethoxysilane and tetraisopropoxytitanium, are used in the present invention. It is suitable for a method for forming a metal oxide thin film layer. The metal alkoxide may be used after diluted with an organic solvent. As the organic solvent, an organic solvent such as methanol, ethanol, n-hexane, or a mixed organic solvent thereof can be used.

更に、反応ガス中に酸素、水素、二酸化炭素、一酸化炭素、窒素、二酸化窒素、一酸化窒素、水等を0.1〜10体積%含有させることにより薄膜層の硬度、密度等の物性を制御することが出来る。   Furthermore, physical properties such as hardness and density of the thin film layer can be obtained by adding 0.1 to 10% by volume of oxygen, hydrogen, carbon dioxide, carbon monoxide, nitrogen, nitrogen dioxide, nitrogen monoxide, water, etc. in the reaction gas. Can be controlled.

以上の方法により酸化珪素、酸化チタン等の非晶性の金属酸化物層を好ましく作製することが出来る。   By the above method, an amorphous metal oxide layer such as silicon oxide or titanium oxide can be preferably produced.

本発明のハードコートフィルムは、例えば低屈折率層と高屈折率層を積層した反射防止層を有する光学フィルムまたは導電層、帯電防止層を有する光学フィルム等に好ましく用いることが出来る。   The hard coat film of the present invention can be preferably used for, for example, an optical film having an antireflection layer obtained by laminating a low refractive index layer and a high refractive index layer, a conductive layer, an optical film having an antistatic layer, or the like.

本発明において、プラズマ放電装置を複数設けることによって、多層の薄膜を連続的に設けることが出来、薄膜のムラもなく多層の積層体を形成することが出来る。   In the present invention, by providing a plurality of plasma discharge devices, a multilayer thin film can be continuously provided, and a multilayer laminate can be formed without unevenness of the thin film.

例えば、ハードコートフィルム上に反射防止層を有する反射防止フィルムを作製する場合、屈折率1.6〜2.3の高屈折率層及び屈折率1.3〜1.5の低屈折率層をセルロースエステルフィルム表面に連続して積層し、効率的に作製することが出来る。   For example, when producing an antireflection film having an antireflection layer on a hard coat film, a high refractive index layer having a refractive index of 1.6 to 2.3 and a low refractive index layer having a refractive index of 1.3 to 1.5 are provided. The cellulose ester film can be continuously laminated on the surface and efficiently produced.

低屈折率層としては、含フッ素有機化合物を含むガスをプラズマ放電処理により形成された含フッ素化合物層、或いはアルコキシシラン等の有機珪素化合物を用いてプラズマ放電処理により形成された主に酸化珪素を有する層が好ましく、高屈折率層としては、有機金属化合物を含むガスをプラズマ放電処理により形成された金属酸化物層、例えば酸化チタン、酸化ジルコニウムを有する層が好ましい。   As the low refractive index layer, a fluorine-containing compound layer formed by plasma discharge treatment using a gas containing a fluorine-containing organic compound, or mainly silicon oxide formed by plasma discharge treatment using an organosilicon compound such as alkoxysilane is used. The high refractive index layer is preferably a metal oxide layer formed by plasma discharge treatment with a gas containing an organometallic compound, such as a layer having titanium oxide or zirconium oxide.

上述した薄膜化の方法があるが、本発明はこれらに限定されるものではなく、層構成もこれらに限定されるものではない。例えば、最表面にフッ素含有有機化合物ガス存在下で大気圧若しくはその近傍の圧力下でのプラズマ放電処理して防汚層を設けてもよい。   Although there are thinning methods described above, the present invention is not limited to these methods, and the layer structure is not limited thereto. For example, an antifouling layer may be provided on the outermost surface by plasma discharge treatment in the presence of a fluorine-containing organic compound gas in the presence of atmospheric pressure or in the vicinity thereof.

上記の方法により、本発明においては、多層の薄膜を積層することが出来、各層の膜厚ムラもなく、均一な反射防止フィルムを得ることが出来る。   According to the above method, in the present invention, multilayer thin films can be laminated, and a uniform antireflection film can be obtained without unevenness in the thickness of each layer.

〈偏光板〉
本発明の偏光板について述べる。
<Polarizer>
The polarizing plate of the present invention will be described.

偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明のハードコートフィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理したハードコートフィルムを、延伸したポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面にも該ハードコートフィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明のハードコートフィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、Rtが100〜400nmの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957、特願2002−155395記載の方法で作製することが出来る。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明のハードコートフィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。   The polarizing plate can be produced by a general method. The back side of the hard coat film of the present invention is subjected to alkali saponification treatment, and the treated hard coat film is completely saponified on at least one surface of a polarizing film prepared by immersing and stretching a stretched polyvinyl alcohol film in an iodine solution. It is preferable to bond using an aqueous polyvinyl alcohol solution. The hard coat film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. The polarizing plate protective film used on the other surface of the hard coat film of the present invention has an in-plane retardation Ro of 590 nm, a phase difference of 20 to 70 nm, and Rt of 100 to 400 nm. preferable. These can be produced, for example, by the method described in JP-A-2002-71957 and Japanese Patent Application No. 2002-155395. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. By using in combination with the hard coat film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明のハードコートフィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. On the surface of the polarizing film, one side of the hard coat film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

従来のハードコートフィルムを使用した偏光板は平面性に劣り、反射像を見ると細かい波打ち状のムラが認められ、鉛筆硬度も2H程度しか得られず、60℃、90%RHの条件での耐久性試験により、波打ち状のムラが増大したが、これに対して本発明のハードコートフィルムを用いた偏光板は、平面性に優れ、鉛筆硬度も優れていた。また、60℃、90%RHの条件での耐久性試験によっても波打ち状のムラが増加することはなかった。   A polarizing plate using a conventional hard coat film is inferior in flatness, and when a reflected image is seen, fine wavy irregularities are recognized, and a pencil hardness of only about 2H is obtained, under conditions of 60 ° C. and 90% RH. As a result of the durability test, the wavy unevenness increased. On the other hand, the polarizing plate using the hard coat film of the present invention was excellent in flatness and pencil hardness. Further, even in the durability test under the conditions of 60 ° C. and 90% RH, the wavy unevenness did not increase.

また、本発明のハードコートフィルムを用いて作製した偏光板は、硬度に優れるにもかかわらず断裁する際に端部で割れて切り屑が発生することが少なく、切り屑による故障の発生も低減される等加工性にも優れていた。   In addition, the polarizing plate produced using the hard coat film of the present invention is less likely to be broken by cutting at the end when cutting even though it is excellent in hardness, and the occurrence of failure due to chips is also reduced. It was also excellent in workability.

〈表示装置〉
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明のハードコートフィルムは反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(MVA型、PVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明のハードコートフィルムに反射防止層を形成した反射防止フィルムは反射防止層の反射光の色ムラが著しく少なく、また、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上の大画面の表示装置では、色ムラや波打ちムラによって、蛍光灯の反射像が歪んで見えていたものが、鏡の反射のように歪みがないため、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
<Display device>
By incorporating the polarizing plate of the present invention into a display device, the display device of the present invention having various visibility can be manufactured. The hard coat film of the present invention is a reflective type, transmissive type, transflective type LCD, or TN type, STN type, OCB type, HAN type, VA type (MVA type, PVA type), IPS type, etc. Preferably used. In addition, the antireflection film in which the antireflection layer is formed on the hard coat film of the present invention has significantly less color unevenness in the reflected light of the antireflection layer, and is excellent in flatness, plasma display, field emission display, organic EL display, It is also preferably used for various display devices such as inorganic EL displays and electronic paper. Especially in a large-screen display device with a 30-inch screen or more, a reflection image of a fluorescent lamp that appears to be distorted due to uneven color or undulation is not distorted like the reflection of a mirror. But there was an effect that eyes were not tired.

以下本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1
〔セルロースエステルフィルムの作製〕
表1記載のセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子、溶剤を用いて表2に示すようなドープ組成となるようセルロースエステル溶液を調製した。
Example 1
[Production of cellulose ester film]
A cellulose ester solution was prepared using the cellulose ester, plasticizer, ultraviolet absorber, fine particles, and solvent described in Table 1 so as to have a dope composition as shown in Table 2.

Figure 2005070744
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Figure 2005070744
Figure 2005070744

即ち、溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素材を順に投入し、加熱、攪拌しながら完全に溶解し、混合した。微粒子は溶剤の一部で分散して添加した。溶液を流延する温度まで下げて一晩静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、セルロースエステル溶液をそれぞれ得た。   That is, the solvent was put into an airtight container, the remaining materials were put in order while stirring, and completely dissolved and mixed while heating and stirring. The fine particles were added dispersed in a part of the solvent. After the temperature was lowered to the temperature at which the solution was cast and allowed to stand overnight, a defoaming operation was performed, and then the solution was produced by Azumi Filter Paper No. Filtration using 244 gave each cellulose ester solution.

次に、33℃に温度調整したセルロースエステル溶液を、ダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から37℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜(ステンレスベルトに流延以降はウェブということにする)に44℃の温風を当てて乾燥させ、剥離の際の残留溶媒量が120質量%で剥離し、剥離の際の張力をかけて所定の縦延伸倍率となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に表に示した延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し、更に125℃に設定された第3乾燥ゾーンで20分間搬送させて、乾燥を行い、幅1.4〜2mの、かつ端部に幅1.5cm、高さ8μmのナーリングを有する所定の膜厚のセルロースエステルフィルムNo.1〜27を作製した。   Next, the cellulose ester solution whose temperature was adjusted to 33 ° C. was fed to a die and uniformly cast from a die slit onto a stainless steel belt. The cast part of the stainless steel belt was heated from the back with hot water of 37 ° C. After casting, the dope film on the metal support (which will be referred to as the web after casting on the stainless steel belt) is dried by applying hot air of 44 ° C., and the residual solvent amount during peeling is 120% by mass. Then, the film was stretched so as to have a predetermined longitudinal stretching ratio by applying tension at the time of peeling, and then the web end was gripped by a tenter, and stretched to the stretching ratio shown in the table in the width direction. After stretching, the width is maintained for several seconds, then the tension in the width direction is relaxed, then the width is released, and further transported for 20 minutes in the third drying zone set at 125 ° C. for drying. A cellulose ester film No. 1 having a predetermined film thickness having a width of 1.4 to 2 m and a knurling of 1.5 cm in width and 8 μm in height at the end. 1-27 were produced.

作製した各セルロースエステルフィルムについて、用いたセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤等、また、ウェブの延伸倍率、作製したフィルムの膜厚、製膜幅について表2に纏めた。   About each produced cellulose-ester film, the cellulose ester used, the plasticizer, the ultraviolet absorber, etc., the draw ratio of the web, the film thickness of the produced film, and the film-forming width are summarized in Table 2.

Figure 2005070744
Figure 2005070744

〔中間層コートフィルムの作製〕
前記セルロースエステルフィルムのうちNo.1のセルロースエステルフィルムの表面に、下記の中間層塗布組成物を、3μmの粒子捕捉効率が99%以上で0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターを用いて濾過して調製した。これら塗布組成物(1)〜(19)をエクストルージョンコーターにてウエット膜厚が15μmになるように塗布し、90℃で30秒間乾燥させ中間層コートフィルムNo.1〜19を得た。
[Production of intermediate layer coated film]
Among the cellulose ester films, No. On the surface of 1 cellulose ester film, the following intermediate layer coating composition was prepared by filtering using a filter having a particle capture efficiency of 3 μm of 99% or more and a particle capture efficiency of 0.5 μm or less of 10% or less. . These coating compositions (1) to (19) were applied with an extrusion coater so that the wet film thickness was 15 μm, dried at 90 ° C. for 30 seconds, and the intermediate layer coated film No. 1-19 were obtained.

また、塗布組成物(3)と(4)についてはウエット膜厚が3μm及び70μmとなるように塗布し、それぞれ中間層コートフィルムNo.20、21(共に3μm)及びNo.22、23(共に70μm)を得た。   Moreover, about coating composition (3) and (4), it apply | coated so that the wet film thickness might be 3 micrometers and 70 micrometers, and each intermediate | middle layer coat film No.1. 20, 21 (both 3 μm) and No. 22 and 23 (both 70 μm) were obtained.

更に、塗布組成物(7)をウエット膜厚15μmで塗設した上に、塗布組成物(8)をウエット膜厚15μmで塗設し中間層コートフィルムNo.24を得た。   Further, the coating composition (7) was coated with a wet film thickness of 15 μm, and the coating composition (8) was coated with a wet film thickness of 15 μm. 24 was obtained.

塗布組成物(1)
メチルエチルケトン 20質量部
メタノール 40質量部
イソプロピルアルコール 40質量部
塗布組成物(2)
メチルエチルケトン 80質量部
メタノール 20質量部
塗布組成物(3)
アセトン 30質量部
メタノール 30質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 40質量部
塗布組成物(4)
アセトン 60質量部
メタノール 40質量部
塗布組成物(5)
アセトン 90質量部
メタノール 10質量部
塗布組成物(6)
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 1質量部
アセトン 30質量部
メタノール 30質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 40質量部
塗布組成物(7)
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 1質量部
アセトン 60質量部
メタノール 40質量部
塗布組成物(8)
熱可塑性アクリル樹脂(ダイヤナールBR−108(三菱レイヨン(株)製))
1質量部
アセトン 30質量部
メタノール 30質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 40質量部
塗布組成物(9)
熱可塑性アクリル樹脂(ダイヤナールBR−108(三菱レイヨン(株)製))
1質量部
アセトン 60質量部
メタノール 40質量部
塗布組成物(10)
セルロースプロピオネート(総置換度2.69) 1質量部
アセトン 30質量部
メタノール 30質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 40質量部
塗布組成物(11)
セルロースプロピオネート(総置換度2.69) 1質量部
アセトン 60質量部
メタノール 40質量部
塗布組成物(12)
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 0.5質量部
熱可塑性アクリル樹脂(ダイヤナールBR−108(三菱レイヨン(株)製))
0.5質量部
アセトン 30質量部
メタノール 30質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 40質量部
塗布組成物(13)
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 0.5質量部
熱可塑性アクリル樹脂(ダイヤナールBR−108(三菱レイヨン(株)製))
0.5質量部
アセトン 60質量部
メタノール 40質量部
塗布組成物(14)
アセトン 10質量部
メタノール 20質量部
イソプロピルアルコール 70質量部
塗布組成物(15)
メチルエチルケトン 100質量部
塗布組成物(16)
トリアセチルセルロース(アセチル基置換度2.85) 1質量部
酢酸メチル 30質量部
メタノール 30質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 40質量部
塗布組成物(17)
トリアセチルセルロース(アセチル基置換度2.85) 1質量部
酢酸メチル 60質量部
メタノール 40質量部
塗布組成物(18)
熱可塑性アクリル樹脂(ダイヤナールBR−108(三菱レイヨン(株)製))
1質量部
アセトン 10質量部
メタノール 20質量部
イソプロピルアルコール 70質量部
塗布組成物(19)
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 1質量部
メチルエチルケトン 100質量部
〔ハードコートフィルムの作製〕
《ハードコート層/バックコート層の塗設》
中間層コートフィルムNo.1〜24の中間層上、及び中間層を塗設していないセルロースエステルフィルムの表面上に、下記のハードコート層(紫外線硬化樹脂層)用塗布液を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、エクストルージョンコーターを用いて塗布し、90℃で30秒間乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が120mW/cm2で、照射量を100mJ/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成した。
Coating composition (1)
Methyl ethyl ketone 20 parts by weight Methanol 40 parts by weight Isopropyl alcohol 40 parts by weight Coating composition (2)
Methyl ethyl ketone 80 parts by weight Methanol 20 parts by weight Coating composition (3)
Acetone 30 parts by weight Methanol 30 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 40 parts by weight Coating composition (4)
Acetone 60 parts by weight Methanol 40 parts by weight Coating composition (5)
Acetone 90 parts by weight Methanol 10 parts by weight Coating composition (6)
Diacetylcellulose (acetyl group substitution degree 2.4) 1 part by weight Acetone 30 parts by weight Methanol 30 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 40 parts by weight Coating composition (7)
Diacetyl cellulose (acetyl group substitution degree 2.4) 1 part by weight Acetone 60 parts by weight Methanol 40 parts by weight Coating composition (8)
Thermoplastic acrylic resin (Dianar BR-108 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.))
1 part by weight Acetone 30 parts by weight Methanol 30 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 40 parts by weight Coating composition (9)
Thermoplastic acrylic resin (Dianar BR-108 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.))
1 part by weight Acetone 60 parts by weight Methanol 40 parts by weight Coating composition (10)
Cellulose propionate (total substitution degree 2.69) 1 part by weight Acetone 30 parts by weight Methanol 30 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 40 parts by weight Coating composition (11)
Cellulose propionate (total substitution degree 2.69) 1 part by weight Acetone 60 parts by weight Methanol 40 parts by weight Coating composition (12)
Diacetylcellulose (acetyl group substitution degree 2.4) 0.5 parts by mass Thermoplastic acrylic resin (Dianar BR-108 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.))
0.5 parts by weight Acetone 30 parts by weight Methanol 30 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 40 parts by weight Coating composition (13)
Diacetylcellulose (acetyl group substitution degree 2.4) 0.5 parts by mass Thermoplastic acrylic resin (Dianar BR-108 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.))
0.5 parts by weight Acetone 60 parts by weight Methanol 40 parts by weight Coating composition (14)
Acetone 10 parts by weight Methanol 20 parts by weight Isopropyl alcohol 70 parts by weight Coating composition (15)
Methyl ethyl ketone 100 parts by weight Coating composition (16)
Triacetylcellulose (acetyl group substitution degree 2.85) 1 part by weight Methyl acetate 30 parts by weight Methanol 30 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 40 parts by weight Coating composition (17)
Triacetyl cellulose (acetyl group substitution degree 2.85) 1 part by weight Methyl acetate 60 parts by weight Methanol 40 parts by weight Coating composition (18)
Thermoplastic acrylic resin (Dianar BR-108 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.))
1 part by weight Acetone 10 parts by weight Methanol 20 parts by weight Isopropyl alcohol 70 parts by weight Coating composition (19)
Diacetyl cellulose (acetyl group substitution degree 2.4) 1 part by weight Methyl ethyl ketone 100 parts by weight [Preparation of hard coat film]
<< Coating of hard coat layer / back coat layer >>
Intermediate layer coat film No. The following coating liquid for hard coat layer (ultraviolet curable resin layer) is filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm on the intermediate layer 1 to 24 and on the surface of the cellulose ester film on which the intermediate layer is not coated. Then, a hard coat layer coating solution is prepared, applied using an extrusion coater, dried at 90 ° C. for 30 seconds, and then irradiated using an ultraviolet lamp with an illuminance of 120 mW / cm 2 and an irradiation amount of 100 mJ / cm 2. The coating layer was cured as 2 to form a hard coat layer having a thickness of 6 μm.

更に、下記のバックコート層用塗布組成物を、3μmの粒子捕捉効率が99%以上で0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過して調製した。このバックコート層用塗布組成物を上記のハードコート層を塗設したフィルムのハードコート層を塗設した面の反対側の面に、エクストルージョンコーターにてウエット膜厚が15μmになるように塗布し、90℃で30秒間乾燥させた。   Furthermore, the following coating composition for a back coat layer was prepared by filtering with a filter having a particle capture efficiency of 3 μm of 99% or more and 0.5 μm or less of particle capture efficiency of 10% or less. This back coat layer coating composition was applied to the surface opposite to the surface coated with the hard coat layer of the film coated with the above hard coat layer with an extrusion coater so that the wet film thickness was 15 μm. And dried at 90 ° C. for 30 seconds.

このようにして表3に記載のハードコートフィルムNo.1〜25を作製した。   In this way, the hard coat film No. 1 described in Table 3 was used. 1-25 were produced.

〈ハードコート層用塗布液〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 100質量部
光反応開始剤 4質量部
(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
酢酸エチル 75質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 75質量部
シリコン化合物 0.5質量部
(BYK−307(ビックケミージャパン社製))
〈バックコート層用塗布液〉
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 0.5質量部
アセトン 70質量部
メタノール 20質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
超微粒子シリカ アエロジル200(日本アエロジル(株)製) 0.002質量部
<Coating liquid for hard coat layer>
Dipentaerythritol hexaacrylate 100 parts by weight Photoreaction initiator 4 parts by weight (Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
Ethyl acetate 75 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 75 parts by mass Silicon compound 0.5 parts by mass (BYK-307 (by Big Chemie Japan))
<Coating liquid for back coat layer>
Diacetylcellulose (acetyl group substitution degree 2.4) 0.5 parts by mass Acetone 70 parts by mass Methanol 20 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 10 parts by mass Ultrafine silica Aerosil 200 (produced by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.002 parts by mass

Figure 2005070744
Figure 2005070744

〔評価〕
得られた光学フィルムについて下記の評価を行った。
[Evaluation]
The following evaluation was performed about the obtained optical film.

《耐傷性》
#0000のスティールウールにより、ハードコート層の表面を1000gの荷重をかけながら10回往復させ、裏に黒テープを密着させ、グリーンランプで傷の発生の有無を目視により観察し、面積1cm2当たりの傷の本数を判定した。
《Scratch resistance》
The steel wool # 0000, the surface of the hard coat layer was 10 reciprocations while applying a load of 1000 g, is adhered black tape on the back, was visually observed the presence or absence of the occurrence of scratches in the green lamp, area 1 cm 2 per The number of wounds was determined.

《鉛筆硬度》
異なる硬度の鉛筆を用い、1kg荷重下でJIS K5400で示される試験法に基づき硬度試験を行った。各々のハードコートフィルムの幅手方向に10分割し、各位置での鉛筆硬度を測定した。
"Pencil hardness"
Using pencils with different hardnesses, a hardness test was performed based on the test method shown in JIS K5400 under a load of 1 kg. Each hard coat film was divided into 10 in the width direction, and the pencil hardness at each position was measured.

《引き裂き試験》
光学フィルムのハードコート層の剥離、割れを評価するために、引き裂き試験を実施した。
《Tear test》
In order to evaluate the peeling and cracking of the hard coat layer of the optical film, a tear test was performed.

5cm×5cmのピースの一辺にNTカッターにて2mmの切込みを入れた後、ハードコート面を手前に置き手前側に引き裂くのを引き裂き方向1とし、ハードコート面を奥側に置き手前側に引き裂くのを引き裂き方向2とする。引き裂き方向1と引き裂き方向2の2種類の方向で3回ずつ引き裂いたフィルムの引き裂かれたエッジを×10ルーペにて観察する。   After making a 2mm incision on one side of a 5cm x 5cm piece with an NT cutter, the hard coat surface is placed in front and the tear direction is set to tear direction 1, and the hard coat surface is placed on the back side and torn to the front side. Is the tear direction 2. The torn edge of the film that has been torn three times in two directions of tear direction 1 and tear direction 2 is observed with a × 10 loupe.

◎ :引き裂きエッジにハードコート層の剥離、エッジのささくれ立ちなし
○ :3回のうち2回以下、引き裂きエッジに部分的なささくれあり
△ :3回とも引き裂きエッジに部分的なささくれあり
× :3回のうち2回以下ハードコート層の剥離あり
××:3回ともハードコート層の剥離あり
《平面性指数;微小な凹凸評価》
レーザー変位計:キーエンス(株)、型式:LT−8100、分解能:0.2μmを用いて、幅手方向にレーザー変位計で走査して、表面の細かい起伏を測定し、ハードコートフィルムの平面性を評価した。
◎: No peeling of hard coat layer on the tearing edge, no edge raising ○: No more than 2 out of 3 times, partial tearing on the tearing edge △: Partially raised edge on the tearing edge ×: 3 No more than 2 times of hard coat layer peeling XX: Hard coat layer peeling for all 3 times << Flatness index; Evaluation of minute unevenness >>
Laser displacement meter: Keyence Corporation, Model: LT-8100, Resolution: 0.2 μm, Scan with a laser displacement meter in the width direction to measure fine undulations on the surface, flatness of hard coat film Evaluated.

測定方法は、フィルムを平坦で水平の台の上に載せ、テープで幅手の両端を台に固定し、測定カメラを該台と平行にセットしたシグマ光機社製の移動レールに、カメラレンズと試料フィルムの間隔が25mmとなるようにセットし、移動速度5cm/分で走査し測定した。測定で得られる値はフィルム表面の微少な凹凸の状態と大きさである。   The measuring method is that the film is placed on a flat and horizontal table, both ends of the width are fixed to the table with tape, and the measuring camera is set in parallel with the table on a moving rail made by Sigma Kogyo Co., Ltd. And the sample film were set so that the distance between them was 25 mm, and the measurement was performed by scanning at a moving speed of 5 cm / min. The value obtained by the measurement is the state and size of minute irregularities on the film surface.

◎:フィルムの変形による凹凸が0.5μm未満
○:フィルムの変形による凹凸が0.5〜1.0μm未満
△:フィルムの変形による凹凸が1.0〜3.0μm未満
×:フィルムの変形による凹凸が3.0μm以上
《平面性;目視評価》
幅90cm、長さ100cmの大きさに各試料を切り出し、50W蛍光灯を5本並べて試料台に45°の角度から照らせるように高さ1.5mの高さに固定し、試料台の上に各フィルム試料を置き、フィルム表面に反射して見える凹凸を目で見て、次のように判定した。この方法によって「つれ」及び「しわ」の判定が出来る。
A: Unevenness due to film deformation is less than 0.5 μm ○: Unevenness due to film deformation is less than 0.5 to 1.0 μm Δ: Unevenness due to film deformation is less than 1.0 to 3.0 μm ×: Due to film deformation Unevenness is 3.0 μm or more <<Flatness; Visual evaluation >>
Cut each sample into a size of 90cm in width and 100cm in length, and arrange five 50W fluorescent lamps at a height of 1.5m so that the sample stage can be illuminated from a 45 ° angle. Each film sample was placed, and the unevenness that appeared to be reflected on the film surface was visually observed and judged as follows. By this method, it is possible to determine “tsun” and “wrinkle”.

◎:蛍光灯が5本とも真っすぐに見えた
○:蛍光灯が少し曲がって見えるところがある
△:蛍光灯が全体的に少し曲がって見える
×:蛍光灯が大きくうねって見える
ハードコートフィルムNo.1〜25についての評価結果を下記表4に示す。
◎: All five fluorescent lamps looked straight ○: Fluorescent lamps appear to be bent slightly △: Fluorescent lamps appear to be slightly bent as a whole ×: Fluorescent lamps appear to swell significantly Hard coat film No. The evaluation results for 1 to 25 are shown in Table 4 below.

表からハードコート層とセルロースエステルフィルムの間に、塗布組成物溶媒中にセルロースエステルフィルムの膨潤溶剤が体積比率で20、30、60、80、90%含む中間層をウエット膜厚15μmで塗設した本発明のハードコートフィルムNo.1〜5は耐傷性、鉛筆硬度、引き裂き耐性、平面性を両立することが確認出来た。特にセルロースエステルフィルムの膨潤溶剤が体積比率で30、60、80体積%のハードコートフィルムNo.2〜4は鉛筆硬度が4Hであり、良好であった。中間層を持たない比較例ハードコートフィルムNo.25と中間層を持つものの塗布組成物溶媒中にセルロースエステルフィルムの膨潤溶剤が体積比率で10%の比較例ハードコートフィルムNo.14、18は引き裂き試験にて引き裂き部分にハードコート層の剥離が発生し、中間層を塗布組成物溶媒中にセルロースエステルフィルムの膨潤溶剤のみで塗設した比較例ハードコートフィルムNo.15、19は耐傷性、平面性共に好ましくない値であった。また、塗布組成物溶媒中にセルロースエステルフィルムの膨潤溶剤が体積比率で30、60%含む中間層を有していても、ウエット膜厚が3μmの比較例ハードコートフィルムNo.20、21は引き裂き試験にて引き裂き部分にハードコート層の剥離が発生し、ウエット膜厚が70μmの比較例ハードコートフィルムNo.22、23は耐傷性と平面性が劣位で好ましくない物性であった。   From the table, an intermediate layer containing 20, 30, 60, 80, 90% by volume of the swelling solvent of the cellulose ester film in the coating composition solvent is coated with a wet film thickness of 15 μm between the hard coat layer and the cellulose ester film. The hard coat film No. 1 of the present invention. It was confirmed that Nos. 1 to 5 were compatible with scratch resistance, pencil hardness, tear resistance, and flatness. In particular, the hard coat film No. having a swelling ratio of 30, 60, 80% by volume of cellulose ester film swelling solvent. 2 to 4 had a pencil hardness of 4H and were good. Comparative hard coat film No. having no intermediate layer Comparative Example Hard Coat Film No. 25 having a volume ratio of the swelling solvent of the cellulose ester film in the coating composition solvent having the intermediate layer 25 and the intermediate layer. Nos. 14 and 18 show comparative examples of hard coat film No. 1 in which the hard coat layer was peeled off at the tear portion in the tear test, and the intermediate layer was coated only with the swelling solvent of the cellulose ester film in the coating composition solvent. 15 and 19 were unfavorable values for both scratch resistance and flatness. In addition, even if the coating composition solvent has an intermediate layer containing 30 to 60% of the swelling solvent of the cellulose ester film in a volume ratio, the comparative hard coat film No. 3 having a wet film thickness of 3 μm. Nos. 20 and 21 are comparative examples of a hard coat film No. 1 in which the hard coat layer peeled off at the tear portion in the tear test and the wet film thickness was 70 μm. Nos. 22 and 23 were undesirable physical properties due to inferior scratch resistance and flatness.

また、中間層にバインダーを有する本発明ハードコートフィルムNo.6〜11は耐擦傷性、鉛筆硬度、引き裂き耐性、平面性を両立している。セルロースエステルとポリメチルメタクリレートを併用した本発明ハードコートフィルムNo.12、13も良好であった。中間層バインダーとして置換度が2.4のジアセチルセルロースを用いた本発明ハードコートフィルムNo.6、7及び総置換度2.69のセルロースプロピオネートを用いた本発明ハードコートフィルムNo.10、11は、アセチル基置換度2.85のトリアセチルセルロースを用いた本発明ハードコートフィルムNo.16、17よりも引き裂き試験が良好であり、セルロースエステルバインダーを用いる際には基材に用いたセルロースエステルの置換度よりも中間層バインダーの置換度が0.1以上小さい方がより良好であることが証明された。   In addition, the hard coat film No. 1 of the present invention having a binder in the intermediate layer. Nos. 6 to 11 have both scratch resistance, pencil hardness, tear resistance, and flatness. The hard coat film No. 1 of the present invention in which cellulose ester and polymethyl methacrylate are used in combination. 12 and 13 were also good. The present hard coat film No. 1 using diacetyl cellulose having a substitution degree of 2.4 as an intermediate layer binder. Nos. 6 and 7 of the present invention using cellulose propionate having a total substitution degree of 2.69. Nos. 10 and 11 show the hard coat film No. 1 of the present invention using triacetyl cellulose having an acetyl group substitution degree of 2.85. The tear test is better than 16, 17, and when the cellulose ester binder is used, it is better that the substitution degree of the intermediate layer binder is 0.1 or more smaller than the substitution degree of the cellulose ester used for the substrate. It was proved.

更に、中間層を2層設けた本発明ハードコートフィルムNo.24も耐傷性、引き裂き耐性、平面性共に良好であることが判明した。   Furthermore, the present hard coat film No. 2 having two intermediate layers was provided. 24 was also found to have good scratch resistance, tear resistance, and flatness.

また、本発明ハードコートフィルムNo.1〜13、No.16、No.17、No.24のハードコートフィルムは、干渉ムラも発生せず光学特性も優れていた。   In addition, the hard coat film No. of the present invention. 1-13, no. 16, no. 17, no. The 24 hard coat film had no interference unevenness and excellent optical characteristics.

〔反射防止フィルムの作製〕
上記作製したハードコートフィルム上に反射防止層を形成した。
[Preparation of antireflection film]
An antireflection layer was formed on the hard coat film produced above.

上記ハードコートフィルムNo.1〜25の上に、下記中屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、70℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層(屈折率1.72、膜厚80nm)を形成した。その上に、下記高屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、70℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層(屈折率1.9、膜厚70nm)を形成した。更にその上に、下記低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、70℃で乾燥させ、熱処理により硬化して低屈折率層(屈折率1.45、膜厚95nm)を形成し、可視光の反射率が0.5%以下の反射防止フィルムNo.1〜25を作製した。   The hard coat film No. The following medium refractive index layer coating solution is applied onto 1 to 25 using a bar coater, dried at 70 ° C., then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer, and the medium refractive index layer (refractive index 1). 72, film thickness 80 nm). On top of that, the following coating solution for a high refractive index layer was applied using a bar coater, dried at 70 ° C., then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer, and a high refractive index layer (refractive index 1.9, A film thickness of 70 nm) was formed. Furthermore, the following coating solution for the low refractive index layer is applied using a bar coater, dried at 70 ° C., and cured by heat treatment to form a low refractive index layer (refractive index 1.45, film thickness 95 nm). And an antireflection film No. having a visible light reflectance of 0.5% or less. 1-25 were produced.

〈中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の作製〉
(二酸化チタン分散物の調製)
二酸化チタン(一次粒子質量平均粒径:50nm、屈折率:2.70)30質量部、アニオン性ジアクリレートモノマー(PM21、日本化薬(株)製)4.5質量部、カチオン性メタクリレートモノマー(DMAEA、興人(株)製)0.3質量部及びメチルエチルケトン65.2質量部を、サンドグラインダーにより分散し、二酸化チタン分散物を調製した。
<Preparation of medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer>
(Preparation of titanium dioxide dispersion)
Titanium dioxide (primary particle mass average particle size: 50 nm, refractive index: 2.70) 30 parts by mass, anionic diacrylate monomer (PM21, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 4.5 parts by mass, cationic methacrylate monomer ( DMAEA (manufactured by Kojin Co., Ltd.) 0.3 parts by mass and 65.2 parts by mass of methyl ethyl ketone were dispersed with a sand grinder to prepare a titanium dioxide dispersion.

(中屈折率層用塗布液の調製)
シクロヘキサノン151.9g及びメチルエチルケトン37.0gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.14g及び光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.04gを溶解した。更に、上記の二酸化チタン分散物6.1g及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)2.4gを加え、室温で30分間攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、中屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液をセルロースエステルフィルムに塗布乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率1.72の中でも屈折率層が得られた。
(Preparation of coating solution for medium refractive index layer)
In 151.9 g of cyclohexanone and 37.0 g of methyl ethyl ketone, 0.14 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0.04 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were dissolved. Further, 6.1 g of the above titanium dioxide dispersion and 2.4 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added and stirred at room temperature for 30 minutes. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution for a medium refractive index layer. When this coating solution was applied to a cellulose ester film and dried and the refractive index after UV curing was measured, a refractive index layer was obtained even with a refractive index of 1.72.

(高屈折率層用塗布液の調製)
シクロヘキサノン1152.8g及びメチルエチルケトン37.2gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.06g及び光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.02gを溶解した。更に、上記の二酸化チタン分散物及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)の二酸化チタン分散物の比率を増加させ、高屈折率層の屈折率となるように量を調節して、室温で30分間攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、高屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液を、セルロースエステルフィルムに塗布、乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率1.9の高屈折率層が得られた。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer)
In 1152.8 g of cyclohexanone and 37.2 g of methyl ethyl ketone, 0.06 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0.02 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were dissolved. Furthermore, the ratio of the above titanium dioxide dispersion and the titanium dioxide dispersion of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) is increased, and the refractive index of the high refractive index layer is increased. The amount was adjusted so as to be a ratio, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a high refractive index layer. When this coating solution was applied to a cellulose ester film, dried and the refractive index after UV curing was measured, a high refractive index layer having a refractive index of 1.9 was obtained.

(低屈折率層用塗布液の調製)
平均粒径15nmのシリカ微粒子のメタノール分散液(メタノールシリカゾル、日産化学(株)製)200gにシランカップリング剤(KBM−503、信越シリコーン(株)製)3g及び0.1M/L塩酸2gを加え、室温で5時間攪拌した後、3日間室温で放置して、シランカップリング処理したシリカ微粒子の分散物を調製した。分散物35.04gに、イソプロピルアルコール58.35g及びジアセトンアルコール39.34gを加えた。また、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)1.02g及び光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.51gを772.85gのイソプロピルアルコールに溶解した溶液を加え、更に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)25.6gを加えて溶解した。得られた溶液67.23gを、上記分散液、イソプロピルアルコール及びジアセトンアルコールの混合液に添加した。混合物を20分間室温で攪拌し、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液をセルロースエステルフィルムに塗布、乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率は1.45であった。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer)
Silane coupling agent (KBM-503, Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) 3 g and 0.1 M / L hydrochloric acid 2 g were added to 200 g of methanol dispersion of silica fine particles with an average particle size of 15 nm (methanol silica sol, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.). In addition, the mixture was stirred at room temperature for 5 hours and then allowed to stand at room temperature for 3 days to prepare a dispersion of silica fine particles treated with silane coupling. To 35.04 g of the dispersion, 58.35 g of isopropyl alcohol and 39.34 g of diacetone alcohol were added. Further, 1.02 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a solution obtained by dissolving 0.51 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) in 772.85 g of isopropyl alcohol were added. Furthermore, 25.6 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was added and dissolved. 67.23 g of the resulting solution was added to the above dispersion, a mixture of isopropyl alcohol and diacetone alcohol. The mixture was stirred for 20 minutes at room temperature and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer. When this coating solution was applied to a cellulose ester film and dried, and the refractive index after UV curing was measured, the refractive index was 1.45.

各々の反射防止フィルムを用いて偏光板を作製した。   A polarizing plate was prepared using each antireflection film.

〔偏光板の作製〕
厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
[Preparation of polarizing plate]
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. This was washed with water and dried to obtain a polarizing film.

次いで、下記工程1〜5に従って偏光膜と前記反射防止フィルム、裏面側のセルロースエステルフィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムには位相差(590nmで測定して、面内リターデーションRo=43nm、厚み方向のリターデーションRt=135nm)を有するセルロースエステルフィルムを用いてそれぞれ偏光板とした。   Subsequently, according to the following processes 1-5, the polarizing film, the said antireflection film, and the cellulose ester film of the back side were bonded together, and the polarizing plate was produced. As the polarizing plate protective film on the back surface side, a cellulose ester film having a retardation (measured at 590 nm, in-plane retardation Ro = 43 nm, retardation in the thickness direction Rt = 135 nm) was used as a polarizing plate.

工程1:60℃の2mol/Lの水酸化ナトリウム溶液に90秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。   Step 1: Soaked in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried to obtain a saponified cellulose ester film bonded to the polarizer.

一方、反射防止層を形成したハードコートフィルムの反射防止層側の面は剥離性のポリエチレンフィルムを貼り付けてアルカリから保護しながら上記鹸化処理を行った。   On the other hand, the surface of the anti-reflection layer side of the hard coat film on which the anti-reflection layer was formed was subjected to the saponification treatment while applying a peelable polyethylene film and protecting it from alkali.

工程2:前記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。   Step 2: The polarizing film was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理したセルロースエステルフィルムの上に載せて、更にハードコートフィルムの反射防止層が外側になるように積層し、配置した。   Step 3: Gently wipe off the excess adhesive adhering to the polarizing film in Step 2 and place it on the cellulose ester film treated in Step 1, so that the antireflection layer of the hard coat film is on the outside Laminated and placed.

工程4:ハンドローラーで工程3で積層した反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料との積層物の端から過剰の接着剤及び気泡を取り除き貼り合わせた。ハンドローラーの圧力は20〜30N/cm2、ローラースピードは約2m/分とした。 Step 4: Excess adhesive and bubbles were removed from the end of the laminate of the antireflection film, the polarizing film and the cellulose ester film sample laminated in Step 3 with a hand roller, and bonded together. The pressure of the hand roller was 20 to 30 N / cm 2 and the roller speed was about 2 m / min.

工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと反射防止フィルムとを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、偏光板を作製した。反射防止フィルムNo.1〜25をそれぞれ用いて、偏光板No.1〜25を作製した。   Process 5: The sample which bonded the polarizing film produced in the process 4, the cellulose-ester film, and the antireflection film in the 80 degreeC dryer was dried for 2 minutes, and the polarizing plate was produced. Antireflection film No. 1 to 25, polarizing plate No. 1-25 were produced.

〔液晶表示装置の作製〕
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
[Production of liquid crystal display device]
A liquid crystal panel for viewing angle measurement was produced as follows, and the characteristics as a liquid crystal display device were evaluated.

富士通製15型ディスプレイVL−150SDのあらかじめ貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板No.1〜25をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。   The polarizing plates on the both sides of the 15-inch display VL-150SD manufactured by Fujitsu were previously peeled off to remove the polarizing plate No. 1 prepared above. 1-25 were each bonded to the glass surface of a liquid crystal cell.

その際、その偏光板の貼合の向きは、光学補償フィルム(位相差フィルム)の面が、液晶セル側となるように、かつ、あらかじめ貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置No.1〜25を各々作製した。   At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is such that the surface of the optical compensation film (retardation film) is on the liquid crystal cell side, and the absorption axis is in the same direction as the polarizing plate previously bonded. The liquid crystal display device no. 1 to 25 were produced.

〔評価〕
《偏光板加工適性》
偏光板を裁断した際のエッジの状態、及び切り屑の発生状態を評価した。
[Evaluation]
《Polarizer processing suitability》
The state of the edge when the polarizing plate was cut and the state of generation of chips were evaluated.

○:エッジにハードコート層の剥離、エッジのささくれ、切り屑の発生なし
×:エッジにハードコート層の剥離発生、または切り屑発生
《視認性の評価》
こうして得られた各液晶表示装置について、60℃、90%RHの条件で100時間放置した後、23℃、55%RHに戻した。その結果、表示装置の表面を観察すると本発明のハードコートフィルム上に積層した反射防止フィルムを用いたものは、平面性に優れていたのに対し、比較の偏光板は細かい波打ち状のムラが認められ、目が疲れ易かった。
○: Hard coat layer peeling at the edge, no edge fluttering, no generation of chips ×: Hard coating layer peeling or chip generation at the edge << Evaluation of visibility >>
Each liquid crystal display device thus obtained was allowed to stand for 100 hours at 60 ° C. and 90% RH, and then returned to 23 ° C. and 55% RH. As a result, when the surface of the display device was observed, the antireflection film laminated on the hard coat film of the present invention was excellent in flatness, whereas the comparative polarizing plate had fine wavy unevenness. It was recognized and my eyes were easy to get tired.

◎:表面に波打ち状のムラは全く認められない
○:表面にわずかに波打ち状のムラが認められる
△:表面に細かい波打ち状のムラがやや認められる
×:表面に細かい波打ち状のムラが認められる
《反射色ムラの評価》
各液晶表示装置について、画面を黒表示として、表面の反射ムラを目視で評価した。
A: No wavy unevenness is observed on the surface. O: A slight wavy unevenness is observed on the surface. Δ: A slight wavy unevenness is slightly observed on the surface. X: A fine wavy unevenness is observed on the surface. 《Evaluation of uneven reflection color》
About each liquid crystal display device, the screen was set as black display and the reflection unevenness of the surface was evaluated visually.

◎:反射光の色ムラは判らず、黒がしまって見える
○:わずかに反射光の色ムラが認識される
△:反射光の色ムラが認識されるが実用上問題ないレベル
×:反射光の色ムラがかなり気になる
偏光板No.1〜25、液晶表示装置No.1〜25についての評価結果を下記表4に示した。
◎: Color unevenness of reflected light is not known, black appears dark ○: Color unevenness of reflected light is slightly recognized △: Color unevenness of reflected light is recognized, but there is no practical problem ×: Reflected light I'm worried about uneven color. Polarizer No. 1-25, liquid crystal display device No.1. The evaluation results for 1 to 25 are shown in Table 4 below.

液晶表示装置へ作製した偏光板を貼合すべくディスプレイパネルの大きさと合わせて断裁したところ、本発明の偏光板No.1〜13、No.16、No.17、No.24は切断エッジのハードコート層の割れ、剥離、切り屑の発生がなく、更に異物故障の発生もなく加工適性に優れていた。一方、比較例偏光板No.14、No.15、No.18〜23、No.25では断裁でエッジのハードコート層の剥離が発生し異物故障の原因となった。   When the polarizing plate produced on the liquid crystal display device was cut together with the size of the display panel to bond, the polarizing plate No. 1 of the present invention was cut. 1-13, no. 16, no. 17, no. No. 24 was free from cracking, peeling and chipping of the hard coat layer at the cutting edge, and was excellent in workability without any foreign matter failure. On the other hand, comparative polarizing plate No. 14, no. 15, no. 18-23, no. In No. 25, the edge hard coat layer was peeled off by cutting, resulting in foreign matter failure.

また、別に、ELDIM社製EZ−contrastにより各液晶表示装置において、視野角を測定した。視野角は、液晶セルの白表示と黒表示時のコントラスト比が10以上を示すパネル面に対する法線方向からの傾き角の範囲で表した。   Separately, the viewing angle was measured in each liquid crystal display device by EZ-contrast manufactured by ELDIM. The viewing angle was expressed in the range of the tilt angle from the normal direction with respect to the panel surface where the contrast ratio between the white display and the black display of the liquid crystal cell is 10 or more.

その結果、本発明の偏光板を用いた、液晶表示装置No.1〜13、No.16、No.17、No.24では、斜め45°方向から測定した時に160°以上の視野角であることが確認された。また、斜め方向から蛍光灯の写り込みがあっても黒がしまって見え、反射光の色ムラもなく、目が疲れることはなかった。それに対して、比較例の液晶表示装置No.14、No.15、No.18〜23、No.25は、細かい波打ち状のムラにより斜め方向からの黒がしまって見えず、視認性に劣り、視野角拡大による視認性改善効果が減退してしまっていた。   As a result, the liquid crystal display device No. 1 using the polarizing plate of the present invention was used. 1-13, no. 16, no. 17, no. 24, it was confirmed that the viewing angle was 160 ° or more when measured from an oblique 45 ° direction. Further, even if there was a fluorescent lamp reflected from an oblique direction, the black color appeared to appear, there was no uneven color of the reflected light, and the eyes did not get tired. In contrast, the liquid crystal display device No. 14, no. 15, no. 18-23, no. In No. 25, black from an oblique direction did not appear due to fine wavy unevenness, the visibility was inferior, and the effect of improving the visibility by widening the viewing angle had declined.

Figure 2005070744
Figure 2005070744

実施例2
〔プラズマディスプレイ表示装置の評価〕
作製した上記本発明の反射防止フィルムNo.1〜13、No.16、No.17、No.24を市販のパネル(PDP−503HD、パイオニア(株)製)の最前面に接着剤で貼り付けて、プラズマディスプレイ表示装置No.1〜16を作製した。得られたプラズマディスプレイ表示装置を、床から75cmの高さの机上に配置し、床から3mの高さの天井部にパルック蛍光灯(FL40SS・ELW/37型、37W、松下電器産業(株)製)2本を1セットとして、1.5m間隔で8セット配置した。このとき評価者が表示装置正面にいる時に、評価者の頭上より後方に向けて天井部に前記蛍光灯がくるように配置し、蛍光灯の写り込みを下記のようにランク評価した。その結果、本発明のハードコート層を用いた反射防止フィルムにおいては、近くの蛍光灯の写り込みまで歪みなく、それによって長時間の鑑賞でも目が疲れないことが分かった。
Example 2
[Evaluation of plasma display device]
The prepared antireflection film No. 1 of the present invention. 1-13, no. 16, no. 17, no. 24 is affixed to the forefront of a commercially available panel (PDP-503HD, manufactured by Pioneer Corporation) with an adhesive. 1-16 were produced. The obtained plasma display display device was placed on a desk 75 cm high from the floor, and a Paruk fluorescent lamp (FL40SS / ELW / 37 type, 37 W, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.) was placed on the ceiling 3 m high from the floor. (Manufactured) Eight sets were arranged at intervals of 1.5 m, with two as one set. At this time, when the evaluator is in front of the display device, the fluorescent lamp is arranged so that the fluorescent lamp comes to the ceiling part from the evaluator's overhead to the rear, and the reflection of the fluorescent lamp is ranked as follows. As a result, in the antireflection film using the hard coat layer of the present invention, it was found that there was no distortion until the reflection of a nearby fluorescent lamp, and thus the eyes did not get tired even during long-time viewing.

実施例3
〔中間層コートフィルムの作製〕
前記セルロースエステルフィルムNo.1〜27の表面に実施例1にて作製した中間層塗布組成物(7)をエクストルージョンコーターにてウエット膜厚が15μmになるように塗布し、90℃で30秒間乾燥させ中間層コートフィルムNo.26〜52を得た。
Example 3
[Production of intermediate layer coated film]
The cellulose ester film No. The intermediate layer coating composition (7) prepared in Example 1 was applied to the surfaces of 1 to 27 using an extrusion coater so that the wet film thickness was 15 μm, and dried at 90 ° C. for 30 seconds. No. 26-52 were obtained.

〔ハードコートフィルムの作製〕
中間層コートフィルムNo.26〜52の中間層上、及びセルロースエステルフィルムNo.9、No.10の表面に、実施例1にて調製したハードコート層塗布液を、エクストルージョンコーターを用いて塗布し、90℃で30秒間乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が120mW/cm2で、照射量を100mJ/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成した。これらフィルムのハードコート層とは反対側の面に実施例1にて調製したバックコート層用塗布液をエクストルージョンコーターを用いてウエット膜厚15μmになるように塗設した。このようにして下記表5に記載のハードコートフィルムNo.26〜54を作製した。
[Production of hard coat film]
Intermediate layer coat film No. No. 26 to 52, and cellulose ester film No. 9, no. The hard coat layer coating solution prepared in Example 1 was applied to the surface of No. 10 using an extrusion coater, dried at 90 ° C. for 30 seconds, and then irradiated with an ultraviolet lamp having an illuminance of 120 mW / cm 2. Then, the applied layer was cured with an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 6 μm. The coating solution for backcoat layer prepared in Example 1 was coated on the surface opposite to the hard coat layer of these films so as to have a wet film thickness of 15 μm using an extrusion coater. In this way, the hard coat film Nos. 26-54 were produced.

〔評価〕
得られた光学フィルムについて実施例1と同様の評価を行った。その結果を表5に示す。本発明のハードコートフィルムは耐傷性、鉛筆硬度、引き裂き耐性、平面性を両立することが確認出来た。セルロースエステルフィルムの可塑剤がリン酸エステル系可塑剤を用いた本発明ハードコートフィルムNo.47〜49でも良好な物性を得られるが、非リン酸エステル系の可塑剤を用いた本発明ハードコートフィルムNo.26〜43方がより良好な物性が得られることが明らかになった。
[Evaluation]
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained optical film. The results are shown in Table 5. It was confirmed that the hard coat film of the present invention has both scratch resistance, pencil hardness, tear resistance, and flatness. The hard coat film of the present invention in which the plasticizer of the cellulose ester film is a phosphate ester plasticizer. 47-49, good physical properties can be obtained, but hard coat film No. 1 of the present invention using a non-phosphate ester plasticizer. It became clear that the better physical properties can be obtained with 26-43.

一方、比較例ハードコートフィルムNo.44〜46、No.50〜54は耐傷性、鉛筆硬度とも本発明より劣り、引き裂き試験にて引き裂き部分にハードコート層の剥離が発生し、更に平面性も好ましくない値であった。   On the other hand, Comparative Example Hard Coat Film No. 44-46, no. Nos. 50 to 54 were inferior to the present invention in both scratch resistance and pencil hardness, and the hard coat layer was peeled off at the tear portion in the tear test, and the flatness was also an unfavorable value.

〔反射防止フィルムの作製〕
前記で作製したハードコートフィルムNo.26〜54に実施例1と同様の反射防止層を形成し、反射防止フィルムNo.26〜54を作製した。
[Preparation of antireflection film]
The hard coat film no. 26 to 54, the same antireflection layer as in Example 1 was formed. 26-54 were produced.

〔偏光板の作製〕
前記反射防止フィルムを用いて実施例1と同様に偏光板No.26〜54を作製した。
[Preparation of polarizing plate]
Using the antireflection film, as in Example 1, polarizing plate No. 26-54 were produced.

〔液晶表示装置の作製〕
実施例1と同様に液晶表示装置No.26〜54を各々作製した。
[Production of liquid crystal display device]
As in Example 1, the liquid crystal display device No. 26 to 54 were produced.

液晶表示装置No.26〜54についての評価結果を表5に示した。   Liquid crystal display device no. The evaluation results for 26-54 are shown in Table 5.

その結果、本発明の偏光板No.26〜43、No.47〜49は実施例1を再現し加工適性に優れていた。   As a result, the polarizing plate No. 1 of the present invention. 26-43, no. 47-49 reproduced Example 1 and was excellent in workability.

また、本発明の液晶表示装置No.26〜43、No.47〜49は、斜め45°方向から測定した時に160°以上の視野角であることが確認された。また、斜め方向から蛍光灯の写り込みがあっても黒がしまって見え、反射光の色ムラもなく、目が疲れることはなかった。しかしながら、本発明の液晶表示装置No.47〜49は表面にわずかながら波打ち状のムラが認められ、本発明の液晶表示装置No.26〜43よりやや劣る結果となった。それに対して、比較例の液晶表示装置No.44〜46、NO.50〜52では、細かい波打ち状のムラにより斜め方向からの黒がしまって見えず、視認性に劣り、視野角拡大による視認性改善効果が減退してしまっていた。更に比較例の液晶表示装置NO.53、No.54は偏光板加工適性が劣っていた。   Further, the liquid crystal display device No. 1 of the present invention. 26-43, no. 47 to 49 were confirmed to have a viewing angle of 160 ° or more when measured from an oblique 45 ° direction. Further, even if there was a fluorescent lamp reflected from an oblique direction, the black color appeared to appear, there was no uneven color of the reflected light, and the eyes did not get tired. However, the liquid crystal display device no. Nos. 47 to 49 show slight wavy irregularities on the surface, and the liquid crystal display device No. The result was slightly inferior to 26-43. In contrast, the liquid crystal display device No. 44-46, NO. In 50 to 52, black from an oblique direction did not appear due to fine wavy unevenness, the visibility was inferior, and the effect of improving the visibility by widening the viewing angle had declined. Furthermore, the liquid crystal display device NO. 53, no. No. 54 was inferior in polarizing plate processing suitability.

Figure 2005070744
Figure 2005070744

実施例4
実施例1の中間層塗布組成物6〜13に総固形分の60体積%となるように下記構造の導電性ポリマー樹脂P−1(0.1〜0.3μm粒子)を加えて実施例1と同様に中間層コートフィルム及びハードコートフィルムNo.55〜62、反射防止フィルムNo.55〜62、偏光板No.55〜62、液晶表示装置No.55〜62を作製し、実施例1と同様な評価を行ったが、耐傷性、鉛筆硬度、引き裂き耐性、平面性、偏光板加工適性、反射色ムラ、視認性とも良好な結果であり、かつ23℃55%RH下での表面比抵抗がいずれも2×1010Ω〜5×1010Ωであり、良好な帯電防止性能を有していた。
Example 4
A conductive polymer resin P-1 (0.1 to 0.3 μm particles) having the following structure was added to the intermediate layer coating compositions 6 to 13 of Example 1 so that the total solid content was 60% by volume. In the same manner as for the intermediate layer coat film and the hard coat film No. 55-62, antireflection film No. 55-62, polarizing plate No. 55-62, liquid crystal display device no. 55 to 62 were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. However, scratch resistance, pencil hardness, tear resistance, flatness, polarizing plate processing suitability, reflection color unevenness, and visibility were good results, and surface resistivity of under 23 ° C. RH 55% are both a 2 × 10 10 Ω~5 × 10 10 Ω, had good antistatic performance.

Figure 2005070744
Figure 2005070744

また、微粉末シリカ粒子(アエロジル200、日本アエロジル(株)製)2質量部とメタノール100質量部を1時間攪拌した後圧力式ホモジナイザーにて2.94×107Paの圧力で分散し、平均粒径245nmのシリカ分散物を得た。 Further, 2 parts by mass of fine powder silica particles (Aerosil 200, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and 100 parts by mass of methanol were stirred for 1 hour, and then dispersed with a pressure homogenizer at a pressure of 2.94 × 10 7 Pa. A silica dispersion with a particle size of 245 nm was obtained.

微粉末シリカ粒子が総固形分の55体積%となるように、シリカ分散物を中間層塗布組成物6〜13に加えて中間層コートフィルム及びハードコートフィルムNo.63〜70、反射防止フィルムNo.63〜70、偏光板No.63〜70、液晶表示装置No.63〜70を作製した。同様にポリメチルメタクリレート架橋粒子が総固形分の70体積%となるようにポリメチルメタクリレート架橋粒子分散物(MS−300K、綜研化学(株)製)を中間層塗布組成物6〜13に加えて中間層コートフィルム及びハードコートフィルムNo.71〜78、反射防止フィルムNo.71〜78、偏光板No.71〜78、液晶表示装置No.71〜78を作製した。   The silica dispersion was added to the intermediate layer coating compositions 6 to 13 so that the finely divided silica particles were 55% by volume of the total solid content, and the intermediate layer coat film and the hard coat film No. 63-70, antireflection film No. 63-70, polarizing plate No. 63-70, liquid crystal display device no. 63-70 were produced. Similarly, a polymethyl methacrylate crosslinked particle dispersion (MS-300K, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) is added to the intermediate layer coating compositions 6 to 13 so that the polymethyl methacrylate crosslinked particles become 70% by volume of the total solid content. Intermediate layer coat film and hard coat film No. 71-78, antireflective film No. 71-78, Polarizing Plate No. 71-78, liquid crystal display device no. 71-78 were produced.

これらについても耐傷性、鉛筆硬度、引き裂き試験、平面性、偏光板加工適性、反射色ムラ、視認性の評価を行ったが、いずれも良好でありかつ干渉ムラの発生も見られなかった。さらに中間層コートフィルムの摩擦係数が微粒子シリカを用いると0.6、ポリメチルメタクリレート架橋粒子を用いると0.3となりブロッキングの発生も見られなかった。   These were also evaluated for scratch resistance, pencil hardness, tear test, flatness, suitability for polarizing plate processing, reflection color unevenness, and visibility, but all were good and no interference unevenness was observed. Furthermore, the friction coefficient of the intermediate layer coated film was 0.6 when fine particle silica was used, and 0.3 when polymethyl methacrylate crosslinked particles were used, and no blocking was observed.

以上の評価結果を下記表6に示した。   The above evaluation results are shown in Table 6 below.

Figure 2005070744
Figure 2005070744

本発明の金属酸化物層を形成するのに用いられるプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the plasma discharge processing apparatus used in forming the metal oxide layer of this invention. 本発明の金属酸化物薄膜層を形成するのに有用な回転電極と固定電極を有するプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the plasma discharge processing apparatus which has a rotating electrode useful for forming the metal oxide thin film layer of this invention, and a fixed electrode.

符号の説明Explanation of symbols

F ハードコートフィルム
G 反応ガス
G′ 排ガス
10A、10B、110 回転電極
11A、11B、11C、11D Uターンロール
20、21 ガイドロール
30 反応ガス供給部
40、140 ガス排気口
50、150 放電部
51 整流板
80、180 電源
81、82、181、182 電圧供給手段
111 固定電極
120、121 ガイドロール
122、123 ニップロール
124、125 仕切板
130 給気管
131 反応ガス発生装置
190 プラズマ放電処理容器
F hard coat film G reactive gas G ′ exhaust gas 10A, 10B, 110 rotating electrode 11A, 11B, 11C, 11D U-turn roll 20, 21 guide roll 30 reactive gas supply unit 40, 140 gas exhaust port 50, 150 discharge unit 51 rectification Plate 80, 180 Power supply 81, 82, 181, 182 Voltage supply means 111 Fixed electrode 120, 121 Guide roll 122, 123 Nip roll 124, 125 Partition plate 130 Air supply pipe 131 Reactive gas generator 190 Plasma discharge treatment vessel

Claims (16)

セルロースエステルフィルム基材上にハードコート層を設けた光学フィルムの製造方法において、該セルロースエステルフィルム基材が、紫外線吸収剤及び2種以上の可塑剤を含有し、総アシル基置換度2.6〜2.9、数平均分子量(Mn)80000〜200000、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値が1.4〜3.0であるセルロースエステルを含有する溶液をキャスティング後、2軸延伸して製造されたものであり、該セルロースエステルフィルム基材上に少なくとも一層の中間層を塗設した後、ハードコート層を塗設して光学フィルムを製造する方法であって、該中間層を設けるための塗布組成物が、基材を膨潤または溶解し得る溶剤を少なくとも1種類含み、該基材を膨潤または溶解し得る溶剤の塗布組成物溶剤全体に占める割合が20〜95体積%であり、該中間層を設けるための塗布組成物を、該中間層の一層当たりのウエット膜厚が5〜60μmとなるように塗設することを特徴とする光学フィルムの製造方法。 In the method for producing an optical film in which a hard coat layer is provided on a cellulose ester film substrate, the cellulose ester film substrate contains an ultraviolet absorber and two or more plasticizers, and has a total acyl group substitution degree of 2.6. After casting a solution containing a cellulose ester having a value of ˜2.9, number average molecular weight (Mn) 80000-200000, weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) of 1.4 to 3.0, A method of producing an optical film by coating at least one intermediate layer on the cellulose ester film base material, and then coating a hard coat layer. The coating composition for providing the intermediate layer contains at least one solvent that can swell or dissolve the substrate, and the coating composition of the solvent that can swell or dissolve the substrate The proportion of the total agent is 20 to 95% by volume, and the coating composition for providing the intermediate layer is applied so that the wet film thickness per layer of the intermediate layer is 5 to 60 μm. A method for producing an optical film. 前記中間層が少なくとも1種以上のバインダーを有し、該バインダーがアクリル樹脂またはセルロースエステルを含有することを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the intermediate layer has at least one binder, and the binder contains an acrylic resin or a cellulose ester. 前記セルロースエステルフィルム基材に含まれる2種以上の可塑剤が、リン酸エステル系可塑剤以外の可塑剤から選ばれ、かつリン酸エステル系可塑剤の含有量が1質量%未満であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルムの製造方法。 Two or more kinds of plasticizers contained in the cellulose ester film substrate are selected from plasticizers other than phosphate ester plasticizers, and the content of phosphate ester plasticizers is less than 1% by mass. The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the optical film is a film. 前記可塑剤の少なくとも1種が、多価アルコールエステル系可塑剤であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to claim 1, wherein at least one of the plasticizers is a polyhydric alcohol ester plasticizer. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法で製造されたことを特徴とする光学フィルム。 An optical film produced by the method according to claim 1. セルロースエステルフィルム基材上に少なくとも一層の中間層とハードコート層を有する光学フィルムであって、該セルロースエステルフィルム基材が、紫外線吸収剤及び2種以上の可塑剤を含有し、総アシル基置換度2.6〜2.9、数平均分子量(Mn)80000〜200000、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値が1.4〜3.0であるセルロースエステルを含有する溶液をキャスティング後、2軸延伸して製造されたものであり、該中間層がセルロースエステルフィルム基材を膨潤または溶解し得る溶剤を全溶媒に対して20〜95体積%含有する中間層塗布組成物を、ウエット膜厚が5〜60μmとなるように塗設して形成された中間層の上にハードコート層を有することを特徴とする光学フィルム。 An optical film having at least one intermediate layer and a hard coat layer on a cellulose ester film substrate, wherein the cellulose ester film substrate contains an ultraviolet absorber and two or more plasticizers, and is substituted with a total acyl group A solution containing a cellulose ester having a degree of 2.6 to 2.9, a number average molecular weight (Mn) of 80000 to 200000, and a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) of 1.4 to 3.0. The intermediate layer coating composition is produced by biaxial stretching after casting, and the intermediate layer contains a solvent capable of swelling or dissolving the cellulose ester film substrate in an amount of 20 to 95% by volume based on the total solvent. An optical film characterized by having a hard coat layer on an intermediate layer formed by coating so as to have a wet film thickness of 5 to 60 μm. 前記中間層が少なくとも1種以上のバインダーを有することを特徴とする請求項6に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 6, wherein the intermediate layer has at least one binder. 前記バインダーがアクリル樹脂またはセルロースエステルを含有することを特徴とする請求項7に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 7, wherein the binder contains an acrylic resin or a cellulose ester. 前記バインダーに用いられるセルロースエステルの総アシル基置換度が、セルロースエステルフィルム基材の総アシル基置換度より0.1以上小さいセルロースエステルであることを特徴とする請求項8に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 8, wherein the cellulose ester used for the binder is a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 0.1 or more smaller than the total acyl group substitution degree of the cellulose ester film base material. 前記中間層が少なくとも1種以上のバインダーと平均粒径が0.01〜3μmの微粒子を含有し、該微粒子の含有量が該中間層の総固形分の5〜90体積%であることを特徴とする請求項6〜9のいずれか1項に記載の光学フィルム。 The intermediate layer contains at least one binder and fine particles having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm, and the content of the fine particles is 5 to 90% by volume of the total solid content of the intermediate layer. The optical film according to any one of claims 6 to 9. 前記セルロースエステルフィルム基材に含まれる2種以上の可塑剤が、リン酸エステル系可塑剤以外の可塑剤から選ばれ、かつリン酸エステル系可塑剤の含有量が1質量%未満であることを特徴とする請求項6〜10のいずれか1項に記載の光学フィルム。 Two or more kinds of plasticizers contained in the cellulose ester film substrate are selected from plasticizers other than phosphate ester plasticizers, and the content of phosphate ester plasticizers is less than 1% by mass. The optical film according to claim 6, wherein the optical film is a film. 前記可塑剤の少なくとも1種が、多価アルコールエステル系可塑剤であることを特徴とする請求項6〜11のいずれか1項に記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 6 to 11, wherein at least one of the plasticizers is a polyhydric alcohol ester plasticizer. 前記ハードコート層の上に反射防止層を設けたことを特徴とする請求項6〜12のいずれか1項に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 6, wherein an antireflection layer is provided on the hard coat layer. 前記セルロースエステルフィルム基材の幅が、1.4m〜4mの範囲であることを特徴とする請求項6〜13のいずれか1項に記載の光学フィルム。 14. The optical film according to claim 6, wherein a width of the cellulose ester film substrate is in a range of 1.4 m to 4 m. 少なくとも一方の面に請求項6〜14のいずれか1項に記載の光学フィルムを設けたことを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising the optical film according to any one of claims 6 to 14 provided on at least one surface. 請求項15に記載の偏光板を有することを特徴とする表示装置。 A display device comprising the polarizing plate according to claim 15.
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