JP2006003511A - Optical film, its manufacturing method, polarizer and display device - Google Patents

Optical film, its manufacturing method, polarizer and display device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film which is an excellent in slidability, and is improved in anti-blocking property and failure caused by foreign matter even when a wide and thin base material is used, to provide a manufacturing method of the optical film, and to provide a polarizer and a display device using the optical film. <P>SOLUTION: In the manufacturing method of the optical film, ink droplets are stuck on a transparent base material film, thereby, fine convex structures are formed on at least one side surface of substrate surfaces and, resultantly, anti-blocking processing is performed. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は光学フィルム、偏光板及び表示装置に関し、詳しくは幅広、或いは薄膜の基材であっても、滑り性に優れ、ブロッキング防止、異物故障が改善された光学フィルムとその製造方法、及びそれを用いた偏光板、表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film, a polarizing plate, and a display device, and more particularly, an optical film excellent in slipperiness, blocking prevention, and improved foreign matter failure, and a method for producing the same, even for a wide or thin film substrate, and The present invention relates to a polarizing plate and a display device.

CRTや液晶表示装置の高画質化に伴って、視認性を改善する為反射防止層のような光学機能層を設けた表示装置が求められており、例えば反射防止層が形成された光学フィルム等を表示装置前面に張り付けることが行われている。テレビのような大画面の表示装置では、直接、物が接触することがあり傷が付き易い。そこで、通常は傷つき防止の為にハードコート層を透明長尺基材フィルム上に形成し、その上に反射防止層が形成されたハードコート層付き反射防止フィルムが用いられる。   With the improvement in image quality of CRTs and liquid crystal display devices, display devices provided with an optical functional layer such as an antireflection layer are required in order to improve visibility. For example, optical films having an antireflection layer, etc. Is attached to the front surface of the display device. In a display device with a large screen such as a television, an object may come into direct contact with it and is easily damaged. Therefore, an antireflection film with a hard coat layer in which a hard coat layer is usually formed on a transparent long base film for preventing scratches and an antireflection layer is formed thereon is used.

反射防止フィルムとしては、特に最近、大画面化により1m以上、更に1.4m以上の幅広フィルムが必要となってきている。また、携帯電話やノートパソコン用として基材(支持体)厚みが80μm以下の薄い支持体が使用されるようになってきた。その為、支持体にはセルロースエステル等の樹脂フィルムが使用され、その上にハードコート層、反射防止層、防汚層を形成することが行われている。   As an antireflection film, a wide film having a size of 1 m or more and further 1.4 m or more has recently been required due to a large screen. In addition, a thin support having a substrate (support) thickness of 80 μm or less has been used for mobile phones and notebook computers. Therefore, a resin film such as cellulose ester is used for the support, and a hard coat layer, an antireflection layer, and an antifouling layer are formed thereon.

しかし、上記のように大サイズ化の為基材が幅広となった場合、または薄膜化の為基材の厚さを薄くした場合には、ハードコート層、反射防止層を形成した後、または仕上がった反射防止フィルムを巻き取る際密着性が高いとブロッキングを起こし、巻き形状の悪化が生じたり、円周上に黒い帯状に見えるブラックバンドが発生し、酷い場合には変形を生じ、収率の低下を招くばかりではなく、表示装置への適応が出来なくなることがある。この為、フィルム自体やバックコート層に微粒子を添加してフィルム表面に微少な凹凸をつけ、表面の摩擦係数を小さくし、ブロッキングを防止することが行われている。特に、バックコート層を形成する様々な技術が開示されている。(例えば、特許文献1〜3参照。)
しかしながら、大サイズ、薄膜のフィルムでは、ブロッキングを有効に防止しようとして、比較的大サイズの微粒子を添加すると、特に前記ハードコート層、反射防止層の形成過程や、形成した後で微粒子による異物故障になることがあった。
However, when the base becomes wider for increasing the size as described above, or when the thickness of the base is reduced for thinning, after forming the hard coat layer and the antireflection layer, or When winding up the finished antireflection film, if the adhesion is high, blocking will occur, the winding shape will deteriorate, the black band will appear as a black band on the circumference, and in severe cases it will be deformed, yield will be In addition to incurring a decrease in the number of images, it may become impossible to adapt to a display device. For this reason, fine particles are added to the film itself or the back coat layer to give fine irregularities to the film surface, thereby reducing the friction coefficient of the surface and preventing blocking. In particular, various techniques for forming a backcoat layer are disclosed. (For example, see Patent Documents 1 to 3.)
However, in the case of large-sized and thin-films, in order to effectively prevent blocking, the addition of relatively large-sized fine particles, in particular, the formation process of the hard coat layer and antireflection layer, and foreign matter failure due to fine particles after formation There was a case.

同様に、微粒子をバックコート層に添加する場合も、上記ブロッキングやブラックバンドの発生を有効に低減する為に比較的大きな粒径を有する粒子を含有させた場合、塗布ムラや異物の発生が見られ、偏光板や表示パネル上で異物故障になることがあった。
特開2001−183528号公報 特開2001−64422号公報 特開2001−83327号公報
Similarly, when fine particles are added to the backcoat layer, coating irregularities and foreign matter are observed when particles having a relatively large particle size are contained in order to effectively reduce the generation of the blocking and black bands. In some cases, foreign matter may fail on the polarizing plate or the display panel.
JP 2001-183528 A JP 2001-64422 A JP 2001-83327 A

本発明の目的は、上記課題に鑑み、幅広、或いは薄膜の基材であっても、滑り性に優れ、ブロッキング防止、異物故障が改善された光学フィルムとその製造方法、及びそれを用いた偏光板、表示装置を提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an optical film with excellent slipperiness, anti-blocking, improved foreign matter failure, and method for producing the same, and polarization using the same, even if the substrate is wide or thin. It is to provide a board and a display device.

本発明の上記目的は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

(請求項1)
透明基材フィルム上にインク液滴を付着させて、基材表面の少なくとも一方の面に微細凸構造を形成しブロッキング防止加工をすることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
(Claim 1)
A method for producing an optical film, comprising: depositing ink droplets on a transparent substrate film to form a fine convex structure on at least one surface of the substrate surface and performing an anti-blocking process.

(請求項2)
前記微細凸構造が、凸部の高さaが0.01〜0.5μmである凸部を1000μm2当たり1〜1000個有していることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。
(Claim 2)
2. The optical film according to claim 1, wherein the fine convex structure has 1 to 1000 convex portions having a convex portion height a of 0.01 to 0.5 μm per 1000 μm 2 . Production method.

(請求項3)
前記インク液滴が、熱可塑性樹脂、活性光線硬化型樹脂、または熱硬化性樹脂を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルムの製造方法。
(Claim 3)
The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the ink droplet contains a thermoplastic resin, an actinic ray curable resin, or a thermosetting resin.

(請求項4)
前記インク液滴が、微粒子を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
(Claim 4)
The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the ink droplet contains fine particles.

(請求項5)
前記透明基材フィルムの幅が1.4m〜4mであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
(Claim 5)
The width | variety of the said transparent base film is 1.4m-4m, The manufacturing method of the optical film of any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned.

(請求項6)
前記透明基材フィルムがセルロースエステルフィルムまたはシクロオレフィンポリマーフィルムであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
(Claim 6)
The said transparent base film is a cellulose-ester film or a cycloolefin polymer film, The manufacturing method of the optical film of any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned.

(請求項7)
請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする光学フィルム。
(Claim 7)
The optical film manufactured by the manufacturing method of the optical film of any one of Claims 1-6.

(請求項8)
前記光学フィルム上の少なくとも一方の面にハードコート層を設けたことを特徴とする請求項7に記載の光学フィルム。
(Claim 8)
The optical film according to claim 7, wherein a hard coat layer is provided on at least one surface of the optical film.

(請求項9)
前記ハードコート層の上に更に反射防止層を設けたことを特徴とする請求項8に記載の光学フィルム。
(Claim 9)
The optical film according to claim 8, further comprising an antireflection layer provided on the hard coat layer.

(請求項10)
請求項7〜9のいずれか1項に記載の光学フィルムを有することを特徴とする偏光板。
(Claim 10)
A polarizing plate comprising the optical film according to claim 7.

(請求項11)
請求項7〜9のいずれか1項に記載の光学フィルムを有することを特徴とする表示装置。
(Claim 11)
A display device comprising the optical film according to claim 7.

(請求項12)
請求項10に記載の偏光板を有することを特徴とする表示装置。
(Claim 12)
A display device comprising the polarizing plate according to claim 10.

本発明により、幅広、或いは薄膜の基材であっても、滑り性に優れ、ブロッキング防止、異物故障が改善された光学フィルムとその製造方法、及びそれを用いた偏光板、表示装置を提供することが出来る。   According to the present invention, there are provided an optical film that is excellent in slipperiness even when it is a wide or thin film substrate, has improved blocking prevention, and foreign matter failure, a method for producing the same, and a polarizing plate and a display device using the optical film. I can do it.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明の光学フィルムは、透明基材フィルム上にインク液滴を付着させて、該基材表面の少なくとも一方の面に微細凸構造を形成しブロッキング防止加工をすることを特徴とする光学フィルムの製造方法によって製造される。   The optical film of the present invention is an optical film characterized by depositing ink droplets on a transparent substrate film, forming a fine convex structure on at least one surface of the substrate surface, and performing anti-blocking processing. Manufactured by a manufacturing method.

特に透明基材フィルム上に、インクジェット方式により微細な凸構造を形成する組成物を含有するインク液滴を出射して、該基材表面若しくは基材上に設けられた機能層上にブロッキング防止機能を有する微細凸構造を形成することにより、滑り性に優れ、かつブロッキング防止効果に優れる光学フィルム実現することが出来ることを見出し、本発明に至った次第である。尚、ここで言う微細凸構造とは層を形成してもよく、また層構造を有さず基材上にインク液滴による微細凸部が点在する状態でもよい。   In particular, an ink droplet containing a composition that forms a fine convex structure by an ink jet method is ejected onto a transparent substrate film, and an antiblocking function is provided on the surface of the substrate or a functional layer provided on the substrate. It has been found that an optical film excellent in slipperiness and excellent in an antiblocking effect can be realized by forming a fine convex structure having, and as a result, the present invention has been achieved. Note that the fine convex structure referred to here may be a layer, or may have a state in which fine convex portions formed by ink droplets are scattered on the substrate without having a layer structure.

本発明に係る微細凸構造は、該微細凸構造が高さaが0.01〜0.5μmである凸部を1000μm2当たり1〜1000個の範囲有することが好ましく、また、インク液滴組成物として、熱可塑性樹脂、活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂を用いることにより、上記で規定した極めて微細な凸構造を実現出来たものである。インクジェット方式による上記インク液滴としては、1種類のインクを用いてもよいが、2種以上の組成の異なるインク液滴を用いてもよく、或いは2種以上の粒径の異なるインク液滴を用いてもよい。或いは、インク液滴中に微粒子を含有させることが好ましく、またインク中の溶媒含有量やインクの表面エネルギー、インク付着面の表面エネルギー(接触角)を制御することも好ましく、これらにより本発明の目的効果がより一層発揮される。 In the fine convex structure according to the present invention, the fine convex structure preferably has 1 to 1000 convex portions having a height a of 0.01 to 0.5 μm per 1000 μm 2 , and the ink droplet composition By using a thermoplastic resin, an actinic ray curable resin, or a thermosetting resin as the product, the extremely fine convex structure defined above can be realized. As the ink droplets by the ink jet method, one type of ink may be used, but two or more types of ink droplets having different compositions may be used, or two or more types of ink droplets having different particle sizes may be used. It may be used. Alternatively, it is preferable to include fine particles in the ink droplet, and it is also preferable to control the solvent content in the ink, the surface energy of the ink, and the surface energy (contact angle) of the ink adhesion surface. The target effect is further exhibited.

また、本発明の光学フィルムは、透明基材フィルム上に上記で規定する該微細凸構造を直接形成する構成、或いは1層以上の予め設けられた機能性層を有する透明基材フィルム上に、本発明の該微細凸構造を設ける構成のいずれでもよい。   In addition, the optical film of the present invention has a configuration in which the fine convex structure defined above is directly formed on the transparent substrate film, or on the transparent substrate film having one or more functional layers provided in advance. Any of the structures provided with the fine convex structure of the present invention may be used.

本発明に係る微細凸構造は、例えば、ブロッキング防止性を強くする場合は凸部の数を増やす、または同じ数なら高さを高くする、凸部の傾斜をきつくするなどの調整が可能である。また、本発明によればフィルムの幅手方向で簡単に凸部の数を変更することも出来る。例えば、端部の凸部数を多く、フィルム中央を少なくすることや、その逆も可能である。或いはフィルムの長尺方向で凸部数を変更することも出来る。例えば押され変形やブロッキング故障が発生し易い巻きの中心部では凸部の数を増やしたり、凸部の高さを高くすることが出来、巻きの外側になるにつれて凸部の数や高さを変更していくといったことが可能になる。特にフィルム幅が1.4〜4mといった広幅になた場合、従来の方法では十分に対応出来なかったが、本発明によって著しく改良することが出来たのである。本発明によれば、フィルムに様々な加工を施した後に、適切なブロッキング防止加工を追加で簡便に付与することが出来る点でも優れている。また、フィルムの品種に応じて凸部数を変更することも簡単であり、生産性も著しく向上する。このような制御が簡単に行える点でインクジェット方式は極めて優れている。   The fine convex structure according to the present invention can be adjusted, for example, to increase the number of convex portions when increasing the anti-blocking property, or to increase the height if the number is the same, or to tighten the convex portion. . Moreover, according to this invention, the number of convex parts can also be easily changed in the width direction of a film. For example, it is possible to increase the number of convex portions at the end and reduce the center of the film and vice versa. Alternatively, the number of convex portions can be changed in the longitudinal direction of the film. For example, the number of protrusions can be increased or the height of the protrusions can be increased at the center of the winding where deformation or blocking failure is likely to occur, and the number and height of the protrusions can be increased toward the outer side of the winding. It becomes possible to change. In particular, when the film width is as wide as 1.4 to 4 m, the conventional method cannot sufficiently cope with it, but the present invention can be remarkably improved. According to the present invention, it is also excellent in that an appropriate anti-blocking process can be additionally easily provided after various processes are performed on the film. In addition, it is easy to change the number of convex portions according to the type of film, and the productivity is remarkably improved. The ink jet method is extremely excellent in that such control can be easily performed.

本発明で形成される凸部は、高さaが0.01〜0.5μmの凸部が1〜1000個/1000μm2であることが好ましい。1個以下ではブロッキング防止効果が不十分となる場合があり、1000個以上だとブロッキング防止効果は問題ないが、生産性が低下し、ヘイズが悪化する場合がある。好ましくは10〜1000個/1000μm2である。 Convex portions are formed in the present invention, the height a is is preferably convex portion of 0.01~0.5μm is 1 to 1000/1000 .mu.m 2. If it is 1 or less, the blocking prevention effect may be insufficient, and if it is 1000 or more, there is no problem with the blocking prevention effect, but productivity may be reduced and haze may be deteriorated. The number is preferably 10 to 1000/1000 μm 2 .

また高さaが0.02〜0.3μmの凸部が1〜1000個/1000μm2であることが好ましく、0.03〜0.1μmの凸部が1〜1000個/1000μm2であることが更に好ましい。 Moreover, it is preferable that the convex part whose height a is 0.02-0.3 micrometer is 1-1000 piece / 1000 micrometer < 2 >, and the convex part of 0.03-0.1 micrometer is 1-1000 piece / 1000 micrometer < 2 >. Is more preferable.

また凸部の直径bは0.01〜1μmが好ましく、更に好ましくは0.01〜0.3μmである。凸部の高さaと直径bの関係はb/aが1〜100であることが好ましく、1.5〜30であることが更に好ましく、2〜10であることが特に好ましい。1未満では形成した凸部が剥がれ落ちて異物故障となることがあり、100を超えるとブロッキング防止性が不足したり、基材フィルムが変形し易くなる。   Further, the diameter b of the convex portion is preferably 0.01 to 1 μm, more preferably 0.01 to 0.3 μm. As for the relationship between the height a of the convex part and the diameter b, b / a is preferably 1 to 100, more preferably 1.5 to 30, and particularly preferably 2 to 10. If it is less than 1, the formed convex part may be peeled off, resulting in a foreign matter failure. If it exceeds 100, the anti-blocking property is insufficient, and the base film tends to be deformed.

図1は、透明基材フィルム上に、インクジェット方式でブロッキング防止機能を有する微細凸構造を設けた一例を示す模式図である。   FIG. 1 is a schematic view showing an example in which a fine convex structure having an anti-blocking function is provided on a transparent substrate film by an ink jet method.

図1の(a)は、微細凸構造の斜視図であり、図1の(b)は断面図である。   1A is a perspective view of a fine convex structure, and FIG. 1B is a cross-sectional view.

図1の(b)において、透明基材フィルム1の上に、インクジェット方式によりインク液滴3により形成された微細凸構造の一例を示してあるが、本発明で規定する凸部の高さaとは、下地である透明基材フィルム表面を底部として、凸構造の頂部までの高さ(μm)と定義し、同様に直径bは基材に接している凸部底の最大長と定義する。   In FIG. 1B, an example of the fine convex structure formed by the ink droplet 3 on the transparent base film 1 by the ink jet method is shown. The height a of the convex portion defined in the present invention is shown in FIG. Is defined as the height (μm) to the top of the convex structure with the surface of the transparent base film as the bottom as the bottom, and similarly the diameter b is defined as the maximum length of the bottom of the convex in contact with the substrate. .

表面の微細な凸部は、市販の触針式表面粗さ測定機或いは市販の光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定することが出来る。例えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、約4000μm2の範囲(55μm×75μm)について2次元的に測定し、凸部を底部側より等高線のごとく色分けして表示する。 The fine convex portion on the surface can be measured by a commercially available stylus type surface roughness measuring machine or a commercially available optical interference type surface roughness measuring machine. For example, an optical interference type surface roughness measuring device is used to measure two-dimensionally about a range of about 4000 μm 2 (55 μm × 75 μm), and the convex portion is color-coded as a contour line from the bottom side and displayed.

ここでフィルム面を基準とした高さaが0.01μm〜0.5μmである凸部の数をカウントし、1000μm2の面積当たりの数で示した。測定は、光学フィルムの該当箇所の任意の10点を測定してその平均値として求める。 Here, the number of protrusions having a height a of 0.01 μm to 0.5 μm with respect to the film surface was counted and indicated by the number per 1000 μm 2 area. The measurement is carried out by measuring 10 arbitrary points of the corresponding part of the optical film and obtaining the average value.

本発明において、ブロッキング防止加工の為の凸構造の形状として、図1の(b)ではコニーデ型の凸部を着弾させたインク液滴によって形成された凸部の一例を示しているが、本発明は上記の形状の凸構造に限定されるものではない。   In the present invention, as the shape of the convex structure for the anti-blocking process, FIG. 1B shows an example of the convex portion formed by the ink droplet landed on the Conide type convex portion. The invention is not limited to the convex structure of the above shape.

図1の(c)は予め設けられた機能性層の上に本発明のインクジェット方式による微細な凸構造を付与した模式図である。機能性層は特に限定されるものではなく、バックコート層、アンチカール層、帯電防止層、下引き層、光散乱層、接着層等が挙げられる。   FIG. 1C is a schematic view in which a fine convex structure is provided on the functional layer provided in advance by the ink jet method of the present invention. The functional layer is not particularly limited, and examples thereof include a back coat layer, an anti-curl layer, an antistatic layer, an undercoat layer, a light scattering layer, and an adhesive layer.

図2は、他の微細凸構造の例を示す断面図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of another fine convex structure.

図2の(a)は、球体形状で着弾させた凸構造の一例であり、出射するインク液滴の粘度や、インク吐出速度、インク液滴とインク着弾面との接触角、インクジェットヘッドと基材との距離等を適宜調整することにより、この様な形状の凸構造を形成することが出来る。インクジェットヘッドと基材との距離は0.2〜100mmが好ましく、形成する凸の形状に応じて変更することが出来る。インク液滴とインク着弾面との接触角は0〜180°の範囲で適宜調整される。好ましくは5〜120°である。また、インク吐出速度を上げるなどにより吐出後のインク液滴を分裂させてインク液滴としてより微細な凸部を形成したり、吐出速度を抑制して大きめの凸部、或いは形状が整った凸部を形成することが出来る。インクジェット部のこれらの条件は、印刷用のインクジェットで用いられている条件を参考にして設定することが出来る。また、インク吐出速度を上げて着弾の衝撃によってインク液滴による凸部を潰すことも出来る。   FIG. 2A shows an example of a convex structure landed in a spherical shape. The viscosity of the ejected ink droplet, the ink ejection speed, the contact angle between the ink droplet and the ink landing surface, the inkjet head and the base are shown. A convex structure having such a shape can be formed by appropriately adjusting the distance to the material. The distance between the inkjet head and the substrate is preferably 0.2 to 100 mm, and can be changed according to the shape of the convex to be formed. The contact angle between the ink droplet and the ink landing surface is appropriately adjusted in the range of 0 to 180 °. Preferably it is 5-120 degrees. Also, the ink droplets after ejection can be split by increasing the ink ejection speed to form finer convex portions as the ink droplets, or the convex velocity can be controlled by controlling the ejection speed to be larger or convex. Part can be formed. These conditions of the ink jet part can be set with reference to the conditions used in the ink jet printing. Further, it is possible to increase the ink discharge speed and crush the convex portion due to ink droplets by impact of landing.

インク吐出速度は、インク液滴先端の速度V1をピエゾ式のインクジェット装置のピエゾ素子に印加する電圧を増減させることにより一般に0.1〜20m/sの範囲で制御出来る。好ましくは1〜20m/sの範囲である。更に、上記インク液滴先端の速度V1の好ましい下限は5m/s、好ましい上限は12m/sである。インク液滴後端の速度V2はインク液滴先端の速度V1よりも小さく、一般には0.1〜10m/sである。上記インク液滴後端の速度V2は、インク液滴の分離状態、即ち、インクの表面張力や粘度により決まる。   The ink discharge speed can be generally controlled in the range of 0.1 to 20 m / s by increasing or decreasing the voltage applied to the piezo element of the piezo-type ink jet device for the ink droplet tip speed V1. Preferably it is the range of 1-20 m / s. Further, the preferable lower limit of the velocity V1 of the ink droplet tip is 5 m / s, and the preferable upper limit is 12 m / s. The velocity V2 at the trailing edge of the ink droplet is smaller than the velocity V1 at the leading edge of the ink droplet, and is generally 0.1 to 10 m / s. The velocity V2 at the trailing edge of the ink droplet is determined by the ink droplet separation state, that is, the surface tension and viscosity of the ink.

吐出時間tは、ピエゾ素子に印加する電圧の制御条件に応じて3μs〜1msに設定される。ピエゾ素子に印加する電圧の制御条件は、安定的にインク液滴を吐出できるように、波形制御条件、インク液滴の表面張力や粘度等に応じて設定される。   The ejection time t is set to 3 μs to 1 ms according to the control condition of the voltage applied to the piezo element. The control condition of the voltage applied to the piezo element is set according to the waveform control condition, the surface tension, the viscosity, etc. of the ink droplet so that the ink droplet can be stably ejected.

液滴は後述するように柱状に吐出され、基板に着弾するまでに分裂しない場合と分裂する場合とがある。分裂しない場合であって、着弾するまでに空中で球状の液滴になる場合は、着弾時の液滴先端速度と後端速度はほぼ同じとなる。柱状の液滴が球状になっていくので着弾時の液滴速度は吐出時の液滴先端速度や後端速度と厳密には異なるが、その差は液滴速度に対して小さい。一方、数個の液滴に分裂する場合には、吐出時の液滴先端速度が着弾時の先頭液滴の速度となり、吐出時の液滴後端速度が着弾時の最後尾の液滴の速度となると考えられる。尚、通常は、液滴先端速度が3m/s以下の場合には液滴は分裂しないことが多く、液滴先端速度が3〜20m/sの場合には液滴は分裂することが多い。   As will be described later, the liquid droplets are ejected in a columnar shape, and there are cases where the liquid droplets do not divide until they land on the substrate and may divide. When the droplets are not split and become spherical droplets in the air before landing, the droplet leading edge velocity and the trailing edge velocity at landing are almost the same. Since the columnar droplets become spherical, the droplet velocity at the time of landing is strictly different from the droplet leading edge velocity and the trailing edge velocity at the time of ejection, but the difference is small with respect to the droplet velocity. On the other hand, when dividing into several droplets, the leading edge velocity at the time of ejection becomes the velocity of the leading droplet at the time of landing, and the trailing edge velocity at the time of ejection is the velocity of the last droplet at the time of landing. It seems to be speed. Normally, when the droplet tip speed is 3 m / s or less, the droplet often does not break, and when the droplet tip speed is 3 to 20 m / s, the droplet often breaks.

本発明のインクジェット方式による凸構造の形成方法は、従来のフィルム中にマット剤を添加する方式や微粒子を含むバックコート層を塗設する方式に比較し、任意の形状の凸構造を形成出来、特に幅手方向でも長尺方向でも異なる凸形状としたり、付着量を変更することが出来ることが、大きな特徴である。しかも、生産中に形成するパターンを変更出来るため様々な品種に迅速に対応可能である。また、反対側の面の加工に応じて追加するという自由度もある。   The method for forming a convex structure by the ink jet method of the present invention can form a convex structure of an arbitrary shape as compared with the conventional method of adding a matting agent to a film or the method of coating a backcoat layer containing fine particles, In particular, it is a great feature that it can have different convex shapes in the width direction and the length direction, and can change the amount of adhesion. Moreover, since the pattern formed during production can be changed, it is possible to respond quickly to various varieties. Also, there is a degree of freedom to add according to the processing of the opposite surface.

図2の(b)は、半円状の凸構造からなるブロッキング防止加工の一例を示す断面図である。   FIG. 2B is a cross-sectional view showing an example of an anti-blocking process having a semicircular convex structure.

上記凸構造の配置として、上図の説明では凸部を間隔をあけて着弾させた一例を示しているが、図2の(c)に示すように、間隙を設けずに、着弾面全体を凸部で被覆した構成でもよい。本発明ではこのような凸部の大きさや形状を変化させて微細凸構造を異ならせることが出来る。   As an example of the arrangement of the above convex structures, the above description shows an example in which the convex portions are landed at intervals. However, as shown in FIG. The structure covered with a convex part may be sufficient. In the present invention, the size and shape of such a convex portion can be changed to vary the fine convex structure.

インク液滴によって形成された凸部である3は、フィルムの法線方向から見た時に略円の形状であってもよいし、楕円形状であってもよい。例えば縦横比×1.01〜×10の比の楕円でもよい。インクを付着させる際にフィルム側、若しくはインクジェットのヘッド部を高速で搬送させながら行うことで、楕円状の凸部を形成することが出来る。   The convex portion 3 formed by the ink droplets may have a substantially circular shape or an elliptical shape when viewed from the normal direction of the film. For example, an ellipse with a ratio of aspect ratio x1.01 to x10 may be used. An elliptical convex portion can be formed by carrying out the ink adhesion while carrying the film side or the inkjet head portion at a high speed.

図3はインクの吐出角度、及び吐出方法を示す概略図である。   FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an ink discharge angle and a discharge method.

図3の(a)で示す、インクジェットヘッドからインクをフィルムに向けて吐出する時の角度は、フィルムの法線方向を90°、インクが付着したフィルムが搬送されていく方向を0°、フィルムが搬送されてくる方向を180°とすると、0°〜180°の範囲で設定することが出来る。好ましくは0°〜90°とすることで、インクの飛翔速度とフィルムの搬送の相対速度の差が小さく出来、所望の凸形状が形成し易くなる為好ましい。更に好ましくは5°〜85°である。   The angle at which ink is ejected from the inkjet head toward the film shown in FIG. 3A is 90 ° in the normal direction of the film, 0 ° in the direction in which the film with the ink attached is conveyed, If the direction in which the toner is conveyed is 180 °, it can be set in the range of 0 ° to 180 °. Preferably, the angle is 0 ° to 90 °, because the difference between the flying speed of ink and the relative speed of film transport can be reduced, and a desired convex shape can be easily formed. More preferably, it is 5 ° to 85 °.

図3の(b)はフィルム面に対し、種々な角度をつけたインクジェットヘッドを複数個配置し、連続的にインクを吐出する方法を示している。その際、角度のみならずフィルム面からの高さも任意に変えることが可能である。   FIG. 3B shows a method in which a plurality of inkjet heads having various angles with respect to the film surface are arranged and ink is continuously ejected. At that time, not only the angle but also the height from the film surface can be arbitrarily changed.

図3の(c)は、バックロールを抱かせて搬送しているフィルム面に、複数個のインクジェットヘッドをその周りに配置し、インク液滴を吐出している状態を示している。このように、インク液滴を着弾させるフィルム面は、平面、曲面どちらでも構わない。   FIG. 3C shows a state in which a plurality of inkjet heads are arranged around the film surface transported by holding the back roll and ink droplets are ejected. Thus, the film surface on which the ink droplets are landed may be either a flat surface or a curved surface.

次いで、本発明に係るインクジェット方式について説明する。   Next, the ink jet system according to the present invention will be described.

図4は、本発明に係るインクジェット方法に用いることの出来るインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。   FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of an ink jet head that can be used in the ink jet method according to the present invention.

図4(a)はインクジェットヘッドの断面図であり、図4(b)は図4(a)のA−A線矢視拡大図である。図中、11は基板、12は圧電素子、13は流路板、13aはインク流路、13bは壁部、14は共通液室構成部材、14aは共通液室、15はインク供給パイプ、16はノズルプレート、16aはノズル、17は駆動用回路プリント板(PCB)、18はリード部、19は駆動電極、20は溝、21は保護板、22は流体抵抗、23、24は電極、25は上部隔壁、26はヒータ、27はヒータ電源、28は伝熱部材、10はインクジェットヘッドである。   4A is a cross-sectional view of the inkjet head, and FIG. 4B is an enlarged view taken along line AA in FIG. 4A. In the figure, 11 is a substrate, 12 is a piezoelectric element, 13 is a flow path plate, 13a is an ink flow path, 13b is a wall, 14 is a common liquid chamber constituent member, 14a is a common liquid chamber, 15 is an ink supply pipe, 16 Is a nozzle plate, 16a is a nozzle, 17 is a drive circuit printed board (PCB), 18 is a lead portion, 19 is a drive electrode, 20 is a groove, 21 is a protective plate, 22 is a fluid resistance, 23 and 24 are electrodes, 25 Is an upper partition wall, 26 is a heater, 27 is a heater power supply, 28 is a heat transfer member, and 10 is an inkjet head.

集積化されたインクジェットヘッド10において、電極23、24を有する積層された圧電素子12は、流路13aに対応して、該流路13a方向に溝加工が施され、溝20と駆動圧電素子12bと非駆動圧電素子12aに区分される。溝20には充填剤が封入されている。溝加工が施された圧電素子12には、上部隔壁25を介して流路板13が接合される。即ち、前記上部隔壁25は、非駆動圧電素子12aと隣接する流路を隔てる壁部13bとで支持される。駆動圧電素子12bの幅は流路13aの幅よりも僅かに狭く、駆動用回路プリント板(PCB)上の駆動回路により選択された駆動圧電素子12bはパルス状信号電圧を印加すると、該駆動圧電素子12bは厚み方向に変化し、上部隔壁25を介して流路13aの容積が変化し、その結果ノズルプレート16のノズル16aよりインク液滴を吐出する。   In the integrated inkjet head 10, the laminated piezoelectric element 12 having the electrodes 23 and 24 is grooved in the direction of the flow path 13a corresponding to the flow path 13a, so that the groove 20 and the driving piezoelectric element 12b. And non-driving piezoelectric element 12a. The groove 20 is filled with a filler. The flow path plate 13 is joined to the piezoelectric element 12 subjected to the groove processing through the upper partition wall 25. In other words, the upper partition 25 is supported by the non-driving piezoelectric element 12a and the wall 13b that separates the adjacent flow path. The width of the driving piezoelectric element 12b is slightly narrower than the width of the flow path 13a. When the driving piezoelectric element 12b selected by the driving circuit on the driving circuit printed board (PCB) is applied with a pulsed signal voltage, the driving piezoelectric element 12b. The element 12b changes in the thickness direction, and the volume of the flow path 13a changes via the upper partition wall 25. As a result, ink droplets are ejected from the nozzles 16a of the nozzle plate 16.

流路板13上には、伝熱部材28を介してヒータ26がそれぞれ接着されている。伝熱部材28はノズル面にまわり込んで設けられている。伝熱部材28は、ヒータ26からの熱を効率良く流路板13に伝え、かつ、ヒータ26からの熱をノズル面近傍に運びノズル面近傍の空気を温めることを目的としており、従って、熱伝導率の良い材料が用いられる。例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、ステンレス等の金属、或いは、SiC、BeO、AlN等のセラミックス等が好ましい材料として挙げられる。   Heaters 26 are bonded to the flow path plate 13 via heat transfer members 28, respectively. The heat transfer member 28 is provided around the nozzle surface. The heat transfer member 28 is intended to efficiently transfer the heat from the heater 26 to the flow path plate 13, carry the heat from the heater 26 to the vicinity of the nozzle surface, and warm the air in the vicinity of the nozzle surface. A material with good conductivity is used. For example, metals such as aluminum, iron, nickel, copper, and stainless steel, or ceramics such as SiC, BeO, and AlN are preferable materials.

圧電素子を駆動すると、流路の長手方向に垂直な方向に変位し、流路の容積が変化し、その容積変化によりノズルからインク液滴となって噴射する。圧電素子には常時流路容積が縮小するように保持する信号を与え、選択された流路に対して流路容積を増大する向きに変位させた後、再び流路の容積が縮小する変位を与えるパルス信号を印加することにより、流路と対応するノズルよりインクがインク液滴となって噴射する。   When the piezoelectric element is driven, the piezoelectric element is displaced in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the flow path, and the volume of the flow path is changed. By the change in volume, ink droplets are ejected from the nozzle. The piezoelectric element is given a signal that keeps the flow path volume constantly reduced, and after the displacement of the selected flow path in the direction of increasing the flow volume, the displacement that reduces the flow volume again is applied. By applying a pulse signal to be applied, ink is ejected as ink droplets from a nozzle corresponding to the flow path.

図5は、本発明で用いることの出来るインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。   FIG. 5 is a schematic view showing an example of an inkjet head unit and a nozzle plate that can be used in the present invention.

図5において、図5の(a)はヘッド部の断面図、図5の(b)はノズルプレートの平面図である。図中、1は透明基材、31はインク液滴、32はノズルである。ノズル32より噴射したインク液滴31は透明基材1方向に飛翔して付着する。透明基材1上に着弾したインク液滴は、乾燥によって凸部が形成される。   5, (a) of FIG. 5 is a cross-sectional view of the head portion, and (b) of FIG. 5 is a plan view of the nozzle plate. In the figure, 1 is a transparent substrate, 31 is an ink droplet, and 32 is a nozzle. The ink droplet 31 ejected from the nozzle 32 flies in the direction of the transparent substrate 1 and adheres. The ink droplets landed on the transparent substrate 1 are formed with convex portions by drying.

本発明においては、図5の(b)に記載のように、インクジェットヘッド部のノズルは、千鳥状に配置することが好ましく、また、透明基材1の搬送方向に並列に多段に設けることが好ましい。また、インク吐出の際にインクジェットヘッド部に微細な振動を与え、インク滴がランダムに透明基材上に着弾するようにすることが好ましい。これによって、干渉縞の発生を抑制することが出来る。微細な振動は、高周波電圧、音波、超音波などによって与えることが出来るが、特にこれらに限定されない。また、インクジェット法により出射されたインク滴31が移動してくる透明基材1の周辺空気によって乱されて偏ったり、意図しないムラとならないように空気の流れを制御して行われる。   In the present invention, as shown in FIG. 5B, the nozzles of the inkjet head unit are preferably arranged in a staggered manner, and are provided in multiple stages in parallel in the transport direction of the transparent substrate 1. preferable. Further, it is preferable that fine vibrations are applied to the ink jet head portion during ink ejection so that ink droplets land randomly on the transparent substrate. Thereby, generation | occurrence | production of an interference fringe can be suppressed. The fine vibration can be given by a high frequency voltage, a sound wave, an ultrasonic wave, or the like, but is not particularly limited thereto. In addition, the flow of air is controlled so that the ink droplets 31 emitted by the ink jet method are not disturbed and biased by the surrounding air of the transparent substrate 1 that moves and are not unintentionally uneven.

インクジェットヘッドとしては特開2004−58505記載の静電吐出型インクジェットヘッドを本発明のブロッキング防止加工に転用することも出来、特開2004−58532記載の液体吐出ヘッド、特開2004−54271記載のインクジェットパターニング装置を本発明のブロッキング防止加工に転用することも出来、特開2004−55520記載の噴射ヘッドを転用することも出来、登録3,5000,636号記載のインクジェットヘッドを転用することも出来、登録3,501,583号記載のインクジェット記録システムを本発明のブロッキング防止加工に転用することも出来る。   As the ink jet head, the electrostatic discharge type ink jet head described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-58505 can be diverted to the anti-blocking process of the present invention, the liquid discharge head described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-58532, and the ink jet described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-54271. The patterning device can also be diverted to the anti-blocking process of the present invention, the jet head described in JP-A-2004-55520 can be diverted, and the inkjet head described in registration 3,5000,636 can be diverted, The ink jet recording system described in Registration No. 3,501,583 can also be used for the anti-blocking process of the present invention.

また、凸部を形成するためのインクを吐出する前に、テスト吐出を実施してヘッドの目詰まりの有無を確認することが好ましく、目詰まりが確認された場合、或いは生産開始時には、ヘッドクリーニングを実施することが好ましい。ヘッドクリーニングは使用するインクで実施しても、溶媒を主体とするクリーニング液で実施してもよい。クリーニング液の溶媒はインクに使用出来るものが好ましく用いられる。必要に応じて界面活性剤(ノニオン系、フッ素系、シリコン系等)を0.01〜1%程度含有させてもよい。   Further, it is preferable to check whether or not the head is clogged by performing a test discharge before discharging the ink for forming the convex portion. When clogging is confirmed or at the start of production, the head cleaning is performed. It is preferable to implement. The head cleaning may be performed with the ink used or with a cleaning liquid mainly composed of a solvent. A solvent that can be used for the ink is preferably used as the solvent of the cleaning liquid. If necessary, a surfactant (nonionic, fluorine, silicon, etc.) may be contained in an amount of about 0.01 to 1%.

凸部を形成するためのインク吐出密度は、適宜調整することが好ましく、例えば、大きな凸部を形成するためのインク吐出密度に対して、小さな凸部を形成するためのインク吐出密度を大きくすることが好ましい。   The ink discharge density for forming the convex portion is preferably adjusted as appropriate. For example, the ink discharge density for forming the small convex portion is increased with respect to the ink discharge density for forming the large convex portion. It is preferable.

生産中にヘッドの目詰まりが検出された場合は、そのヘッドへのインク供給を停止することが好ましい。それによって形成する凸部にむらが生じないように、他のヘッドからのインク吐出量を増やすことも好ましい。多段のインクジェットヘッドを使用している場合には、生産を継続しながら目詰まりしたインクジェットヘッドのヘッドクリーニングを行うことが好ましく、その場合、クリーニング液が被処理基材フィルムに付着しないようにインク吐出方向を切り替えるか、クリーニング液を受け止める別の部材に向けて吐出させることが好ましい。ヘッドクリーニング中は、別のインクジェットヘッドのインク吐出量を増加させるか、予備のインクジェットヘッドを用いて生産を継続することが好ましい。   When clogging of a head is detected during production, it is preferable to stop supplying ink to the head. It is also preferable to increase the amount of ink discharged from other heads so that unevenness does not occur in the convex portions formed thereby. When using a multi-stage inkjet head, it is preferable to clean the clogged inkjet head while continuing production. In that case, the ink is discharged so that the cleaning liquid does not adhere to the substrate film to be treated. It is preferable to change the direction or to discharge toward another member that receives the cleaning liquid. During head cleaning, it is preferable to increase the amount of ink discharged from another inkjet head or to continue production using a spare inkjet head.

また、生産中にヘッドの目詰まりなど何らかの異常が確認された場合、フィルム基材の端部にインクジェットでマーキングを施すことが好ましい。マーキングは着色インクで行うことが好ましく、異常個所を明確にすることで後でその部分を製品から取り除くことが容易になる。   In addition, when any abnormality such as clogging of the head is confirmed during production, it is preferable to mark the end portion of the film substrate with an ink jet. The marking is preferably performed with colored ink, and it becomes easy to remove the part from the product later by clarifying the abnormal part.

本発明に用いられる微細凸構造の形成方法は、多ノズルからインク小液滴を吐出して形成するインクジェット方式を用いることが好ましく、図6に、本発明で好ましく用いることの出来るインクジェット方式の一例を示す。   The fine convex structure forming method used in the present invention is preferably an ink jet method in which small droplets of ink are ejected from multiple nozzles. FIG. 6 shows an example of an ink jet method that can be preferably used in the present invention. Indicates.

図6において、図6のa)は、インクジェットヘッド10を透明基材1の幅手方向に配置し、透明基材1を搬送しながらその表面に微細凸構造を形成する方法(ラインヘッド方式)であり、図6のb)はインクジェットヘッド10が副走査方向に移動しながらその表面に微細凸構造を形成する方法(フラットヘッド方式)であり、図6のc)はインクジェットヘッド10が、透明基材1上の幅手方向を走査しながらその表面に微細凸構造を形成する方法(キャプスタン方式)であり、いずれの方式も用いることが出来るが、本発明においては、生産性の観点からラインヘッド方式が好ましい。この様な方式のインクジェットヘッドを用いることで、透明基材上に任意の位置で、かつ任意のパターンの凸部を容易に形成することが出来る。その為従来のマット剤添加の方式と比べてインクジェットによる方法は自由度が高く優れている。   6, a) in FIG. 6 is a method in which the inkjet head 10 is arranged in the width direction of the transparent substrate 1 and a fine convex structure is formed on the surface of the transparent substrate 1 while being conveyed (line head method). 6b) shows a method (flat head method) in which the inkjet head 10 moves in the sub-scanning direction while forming a fine convex structure on the surface thereof, and FIG. 6c) shows that the inkjet head 10 is transparent. This is a method of forming a fine convex structure on the surface of the substrate 1 while scanning the width direction (capstan method), and any method can be used. In the present invention, from the viewpoint of productivity. A line head system is preferred. By using such an inkjet head, it is possible to easily form a convex portion having an arbitrary pattern at an arbitrary position on the transparent substrate. For this reason, the ink jet method has a high degree of freedom and is superior to the conventional matting agent addition method.

尚、図6のa)〜c)に記載の29は、インクとして後述の活性光線硬化型樹脂を用いる場合に使用する活性光線照射部である。インクに熱可塑性樹脂を用いる場合は29は不用である。   Reference numeral 29 in FIGS. 6A to 6C denotes an actinic ray irradiating unit used when an actinic ray curable resin described later is used as the ink. When a thermoplastic resin is used for the ink, 29 is unnecessary.

また、本発明においては、図6のa)、b)、c)の透明基材の搬送方向の下流側に、別の活性光線照射部を設けてもよい。インクジェットヘッド部と活性光線照射部の間隔は0.1〜20m程度が好ましく適宜設定される。また、必要に応じて設置位置を変更或いは調整出来るようになっていることが好ましい。   Moreover, in this invention, you may provide another actinic ray irradiation part in the downstream of the conveyance direction of the transparent base material of a) of FIG. 6, b), and c). The distance between the ink jet head part and the actinic ray irradiation part is preferably about 0.1 to 20 m and set appropriately. Moreover, it is preferable that the installation position can be changed or adjusted as necessary.

本発明において、微細な凸部を形成するため、インク液滴としては0.01〜100plが好ましく、0.1〜50plがより好ましく、0.1〜10plが特に好ましい。上記条件でインク液滴を出射することにより、ヘイズにも優れる微細な凸部を有する光学フィルムを得ることが出来る。   In the present invention, in order to form fine convex portions, the ink droplet is preferably 0.01 to 100 pl, more preferably 0.1 to 50 pl, and particularly preferably 0.1 to 10 pl. By ejecting ink droplets under the above conditions, an optical film having fine convex portions excellent in haze can be obtained.

本発明では、インクジェットヘッドから吐出されるインクを当該インクの先端部に続いてインクが延びた柱状の状態で前記インクジェットヘッドから分離しないうちに凸部形成面上に付着させてもよいが、好ましくはインクがインクジェットヘッドから分離した後のインク液滴として付着させることが好ましい。ヘッドから吐出されたインク液滴が分裂せずに凸部形成面上に付着させることが好ましく、或いは意図的に分裂するような吐出条件にすることで微小なインク液滴とし、これを付着させることでより微細な凸部形成を行うことが好ましく、形成する凸部形状に応じて適宜調整することが出来る。   In the present invention, the ink ejected from the ink jet head may be deposited on the convex forming surface before being separated from the ink jet head in a columnar state in which the ink extends following the tip of the ink. Is preferably attached as ink droplets after the ink has been separated from the inkjet head. It is preferable that the ink droplets ejected from the head adhere to the projection forming surface without splitting, or the ink droplets are made minute by applying ejection conditions that intentionally split. Thus, it is preferable to form a finer convex portion, which can be appropriately adjusted according to the shape of the convex portion to be formed.

また、インク液滴の粘度は、25mPa・s以下であることが好ましく、10mPa・s以下であることが更に好ましい。着弾時のインク粘度は吐出時のインク粘度より高いことが好ましく、15mPa・s以上であることが好ましく、更に好ましくは25mPa・s以上である。着弾時の粘度が高いほどRaが大きな凸部を形成し易く、所望の凸部形状を形成するために粘度は適宜調整することが好ましい。   Further, the viscosity of the ink droplet is preferably 25 mPa · s or less, and more preferably 10 mPa · s or less. The ink viscosity upon landing is preferably higher than the ink viscosity upon ejection, preferably 15 mPa · s or more, and more preferably 25 mPa · s or more. The higher the viscosity at the time of landing, the easier it is to form a convex part with a large Ra, and it is preferable to adjust the viscosity appropriately in order to form a desired convex part shape.

次いで、本発明に係る微細凸構造を形成するインクジェット方式で用いるインクについて説明する。   Next, the ink used in the ink jet system for forming the fine convex structure according to the present invention will be described.

本発明に係るインクは、インクジェット方式により微細な凸構造を形成する組成物を含有することが特徴であるが、該組成物としては、熱可塑性樹脂、活性光線硬化型樹脂、または熱硬化性樹脂であることが好ましい。   The ink according to the present invention is characterized in that it contains a composition that forms a fine convex structure by an ink jet method, and the composition includes a thermoplastic resin, an actinic ray curable resin, or a thermosetting resin. It is preferable that

始めに、本発明に用いられる熱可塑性樹脂について説明する。   First, the thermoplastic resin used in the present invention will be described.

本発明に係る熱可塑性樹脂としては、特に限定されないが、セルロースエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリエステル、ポリビニルアルコールなどが好ましい例として挙げられるがこれらのみに限定されるものではない
本発明のインクに用いる熱可塑性樹脂は、特にセルロースエステルを主成分とすることが好ましく、後述する透明基材フィルムに用いられるセルロースエステルが好ましく用いられる。即ち、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートフタレート、セルローストリアセテート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類が好ましく、特にセルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。総アシル基置換度2.0〜3.0のセルロースエステルが好ましく用いられる。透明基材フィルムにセルロースエステルを用いる場合は、該セルロースエステルと同じか、それよりも低い置換度のセルロースエステルが好ましく用いられる。特に凸部形成面をアルカリケン化処理して偏光子を貼合する場合は該セルロースエステルが好ましく用いられる。セルロースエステルは後述する有機溶媒に溶解させ、インク組成物として用いることが出来る。
The thermoplastic resin according to the present invention is not particularly limited, but preferred examples include, but are not limited to, cellulose esters, polycarbonates, acrylic resins, cycloolefin polymers, polyesters, and polyvinyl alcohols. The thermoplastic resin used in the ink is preferably mainly composed of cellulose ester, and cellulose ester used in the transparent substrate film described later is preferably used. That is, cellulose acetates such as cellulose acetate, cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate phthalate, cellulose triacetate, and cellulose nitrate are preferable, and cellulose acetate, cellulose diacetate, and cellulose acetate propio are particularly preferable. Nate is preferred. A cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.0 to 3.0 is preferably used. When a cellulose ester is used for the transparent substrate film, a cellulose ester having a substitution degree equal to or lower than that of the cellulose ester is preferably used. In particular, the cellulose ester is preferably used when the convex forming surface is subjected to alkali saponification treatment to bond a polarizer. The cellulose ester can be dissolved in an organic solvent described later and used as an ink composition.

次に、本発明に用いられる活性光線硬化型樹脂について説明する。   Next, the actinic ray curable resin used in the present invention will be described.

活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよい。   Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, and the like, but a resin that is cured by irradiation with active rays other than ultraviolet rays and electron beams may also be used.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。   Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable acrylic urethane resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, and an ultraviolet curable epoxy resin. I can do it.

具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and the like.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、若しくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させる容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭59−151110号に記載のものを用いることが出来る。   In general, UV-curable acrylic urethane resins include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate) in addition to products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. And acrylate only), and those easily formed by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate, as described in JP-A-59-151110 Can be used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させる容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭59−151112号に記載のものを用いることが出来る。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those that are easily formed by reacting polyester polyols with 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers, as disclosed in JP-A-59-151112. Those described can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることが出来、特開平1−105738号に記載のものを用いることが出来る。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photoreaction initiator added thereto, and reacted to form an oligomer. The thing as described in 105738 can be used.

これらの光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及び誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。光増感剤と共に使用してもよい。   Specific examples of these photoinitiators include benzoin and derivatives, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. You may use with a photosensitizer.

上記光反応開始剤も光増感剤としても使用出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。   The above photoinitiator can also be used as a photosensitizer. Further, when using an epoxy acrylate photoreactant, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることが出来る。   Examples of the resin monomer include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. In addition, monomers having two or more unsaturated double bonds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, and the above trimethylolpropane. Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.

本発明において使用し得る市販品の紫外線硬化樹脂としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHCX−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC700、RC750(三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成(株)製)等を適宜選択して利用出来る。   Examples of commercially available UV curable resins that can be used in the present invention include ADEKA OPTMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (Asahi Denka ( Co., Ltd.); Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS -101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHCX-9 (K-3), PHC2213, DP- 10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (manufactured by Daicel UCB); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120, RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC700, RC750 (manufactured by Sanyo Chemical Industries); SP-1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C ( Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (Toagosei Co., Ltd.) and the like can be appropriately selected and used.

これらの活性線硬化樹脂は公知の方法で硬化することが出来る。   These actinic radiation curable resins can be cured by a known method.

紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させるための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20〜10000mJ/cm2程度あればよく、好ましくは、50〜2000mJ/cm2である。近紫外線領域〜可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって効率よく形成することが出来る。 As a light source for curing the ultraviolet curable resin by a photocuring reaction, any light source that generates ultraviolet light can be used without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. The irradiation conditions vary depending on individual lamps, but the amount of light irradiated may be any degree 20~10000mJ / cm 2, preferably from 50~2000mJ / cm 2. By using a sensitizer having an absorption maximum in the near ultraviolet region to the visible light region, it can be efficiently formed.

紫外線硬化樹脂を含有するインクに用いられる有機溶媒としては、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、或いはこれらを混合し利用出来る。例えば、プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5質量%〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   The organic solvent used in the ink containing the ultraviolet curable resin is appropriately selected from, for example, hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, glycol ethers, and other organic solvents, or a mixture thereof. Available. For example, propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5%. It is preferable to use the organic solvent containing from mass% to 80 mass% or more.

この他に、インクにはフッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、或いはノニオン系界面活性剤等の界面活性剤を、0.01〜5.0%程度添加することが出来る。   In addition, a surfactant such as a fluorine-based surfactant, a silicon-based surfactant, or a nonionic surfactant can be added to the ink in an amount of about 0.01 to 5.0%.

次いで、本発明に用いられる熱硬化性樹脂について説明する。   Next, the thermosetting resin used in the present invention will be described.

本発明で用いることの出来る熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることが出来る。   Examples of the thermosetting resin that can be used in the present invention include unsaturated polyester resins, epoxy resins, vinyl ester resins, phenol resins, thermosetting polyimide resins, thermosetting polyamide imides, and the like.

不飽和ポリエステル樹脂としては、例えば、オルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは被膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂(ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど)を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Br2でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはIPN化した強靭性(高強度、高弾性率、高伸び率)の強靭性樹脂等がある。 As the unsaturated polyester resin, for example, orthophthalic acid resin, isophthalic acid resin, terephthalic acid resin, bisphenol resin, propylene glycol-maleic acid resin, dicyclopentadiene or derivatives thereof are introduced into the unsaturated polyester composition. Low styrene volatile resin with low molecular weight or added film-forming wax compound, low shrinkage with thermoplastic resin (polyvinyl acetate resin, styrene / butadiene copolymer, polystyrene, saturated polyester, etc.) Resin, unsaturated polyester brominated directly with Br 2 , or reactive type such as copolymerization of het acid or dibromoneopentyl glycol, halides such as chlorinated paraffin, tetrabromobisphenol and antimony trioxide, phosphorus Compound combinations Additive-type flame retardant resin that uses sesame or aluminum hydroxide as an additive, toughness resin that is hybridized with polyurethane or silicone, or toughened with IPN (high strength, high elastic modulus, high elongation), etc. is there.

エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールF型、臭素化ビスフェノールA型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。   Examples of the epoxy resin include glycidyl ether type epoxy resins including bisphenol A type, novolak phenol type, bisphenol F type and brominated bisphenol A type, glycidyl amine type, glycidyl ester type, cyclic aliphatic type, and heterocyclic epoxy type. Special epoxy resins containing

ビニルエステル樹脂としては、例えば、普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーをスチレン等のモノマーに溶解した物である。また、分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えば、ビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としてはビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。   As the vinyl ester resin, for example, an oligomer obtained by ring-opening addition reaction of an ordinary epoxy resin and an unsaturated monobasic acid such as methacrylic acid is dissolved in a monomer such as styrene. There are also special types such as vinyl monomers having vinyl groups at the molecular ends and side chains. Examples of vinyl ester resins of glycidyl ether type epoxy resins include bisphenol type, novolak type, brominated bisphenol type, etc., and special vinyl ester resins include vinyl ester urethane type, isocyanuric acid vinyl type, side chain vinyl ester type, etc. There is.

フェノール樹脂は、フェノール類とフォルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。   The phenol resin is obtained by polycondensation using phenols and formaldehyde as raw materials, and there are a resol type and a novolac type.

熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えば、マレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・O,O′−ジアリルビスフェノール−A樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。   Examples of thermosetting polyimide resins include maleic acid-based polyimides such as polymaleimide amine, polyamino bismaleimide, bismaleimide / O, O'-diallyl bisphenol-A resin, bismaleimide / triazine resin, and nadic acid-modified polyimide. And acetylene-terminated polyimide.

また、上述した活性光線硬化型樹脂の一部も、熱硬化性樹脂として用いることが出来る。   A part of the actinic ray curable resin described above can also be used as a thermosetting resin.

尚、本発明に係る熱硬化性樹脂からなるインクには、酸化防止剤や紫外線吸収剤を適宜用いてもよい。   In addition, antioxidants and ultraviolet absorbers may be used as appropriate for the ink made of the thermosetting resin according to the present invention.

本発明において、インクジェット方式により形成した凸部が熱硬化性樹脂を含む場合、加熱方法としては、インク液滴を透明基体上に着弾させた直後に、加熱処理を行うことが好ましい。   In the present invention, when the convex portion formed by the ink jet method contains a thermosetting resin, it is preferable to perform the heat treatment immediately after the ink droplets have landed on the transparent substrate.

本発明でいうインク液滴を透明基体上に着弾させた直後とは、具体的にはインク液滴が着弾と同時または5秒以内に加熱が開始されることが好ましく、予め透明基材の温度を上げておくことが出来る。例えば、透明基材をヒートロール上に巻き付けて、これにインク液滴を着弾させることが出来、より好ましくは着弾と同時または2.0秒の間である。また、ノズル部と加熱部の距離が接近し過ぎて、熱がヘッド部に伝達すると、ノズル部での硬化によりノズル詰まりを起こすため注意が必要である。また、必要に応じて加熱間隔が5.0秒を超えることによって、着弾したインク液滴の流動、変形させなだらかな凸構造を得ることも出来る。   The term “immediately after the ink droplets have landed on the transparent substrate” as used in the present invention specifically means that the heating of the ink droplets is preferably started simultaneously with the landing or within 5 seconds. Can be raised. For example, a transparent substrate can be wound on a heat roll, and ink droplets can be landed on it, more preferably at the same time as landing or for 2.0 seconds. In addition, if the distance between the nozzle part and the heating part is too close and heat is transferred to the head part, the nozzle part is clogged due to curing at the nozzle part, so care must be taken. Further, if the heating interval exceeds 5.0 seconds as necessary, a gentle convex structure can be obtained by flowing and deforming the landed ink droplets.

上記加熱時のノズル部への熱の伝達を防止するため、本発明のインクジェット方式においては、加熱部をインクジェットヘッドのノズル部に直接作用させない位置に配置することが好ましい。   In order to prevent heat from being transferred to the nozzle portion during the heating, in the ink jet system of the present invention, it is preferable to dispose the heating portion at a position that does not directly act on the nozzle portion of the ink jet head.

加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、或いは着弾したインク表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、インクジェット出射部の透明支持体を挟んで反対側に設けるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。加熱温度としては、使用する熱硬化性樹脂の種類により一概には規定出来ないが、透明基材への熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、30〜200℃が好ましく、更に50〜120℃が好ましく、特に好ましくは70〜100℃である。   The heating method is not particularly limited, but it is preferable to use a heat plate, a heat roll, a thermal head, or a method of spraying hot air on the landed ink surface. Further, the back roll provided on the opposite side of the transparent support of the ink jet emitting portion may be continuously heated as a heat roll. The heating temperature cannot be generally defined by the type of thermosetting resin to be used, but is preferably in a temperature range that does not affect the heat deformation of the transparent substrate, preferably 30 to 200 ° C, Furthermore, 50-120 degreeC is preferable, Especially preferably, it is 70-100 degreeC.

本発明に係るインクにおいては、組成物として、上述した熱可塑性樹脂、活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂のいずれも用いることが出来るが、好ましくは熱可塑性樹脂を用いることである。   In the ink according to the present invention, any of the above-described thermoplastic resin, actinic ray curable resin, or thermosetting resin can be used as the composition, and it is preferable to use a thermoplastic resin.

本発明に係る上記インクには、必要に応じて0〜99.9質量%の溶媒を含有させることが出来る。例えば、水系溶媒に前記熱可塑性樹脂成分、活性光線硬化型樹脂モノマー成分、或いは熱硬化性樹脂モノマー成分を溶解若しくは分散させてもよく、或いは有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒は低沸点のものでも高沸点のものでも適宜選択して用いることが出来、これらの溶媒の添加量や種類、組成はインクの粘度を調整するため適宜調整することが好ましい。   The ink according to the present invention may contain 0 to 99.9% by mass of a solvent as required. For example, the thermoplastic resin component, the actinic ray curable resin monomer component, or the thermosetting resin monomer component may be dissolved or dispersed in an aqueous solvent, or an organic solvent may be used. An organic solvent having a low boiling point or a high boiling point can be appropriately selected and used, and the addition amount, type, and composition of these solvents are preferably adjusted appropriately in order to adjust the viscosity of the ink.

本発明に係るインクで用いることが出来る溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;ジアセトンアルコール等のケトンアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;N−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げられ、それらを単独または2種以上混合して使用することが出来る。また、分子内にエーテル結合をもつものが特に好ましく、グリコールエーテル類も好ましく用いられる。   Examples of the solvent that can be used in the ink according to the present invention include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, and butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Ketone alcohols such as alcohol; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and hexylene glycol; ethyl cellosolve, butylcellosolve, ethylcarbitol, butylcarbitol, Glycol ethers such as diethyl cellosolve, diethyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether; N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate , Ethyl acetate, esters such as amyl acetate; dimethyl ether, and diethyl ether, water and the like, they alone or as a mixture of two or more thereof can be used. Further, those having an ether bond in the molecule are particularly preferred, and glycol ethers are also preferably used.

グリコールエーテル類としては、具体的には下記の溶媒が挙げられるが、特にこれらに限定されない。プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルAc、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルAc、エチレングリコールジエチルエーテル等を挙げることが出来る、尚Acはアセテートを表す。本発明に係るインクにおいては、上記溶媒の中でも、沸点が100℃未満の溶媒が好ましく用いられる。これらの溶媒は、インクジェットヘッドから吐出された直後から揮発され、着弾後も所望の凸形状が維持される程度に速やかに揮発、乾燥されることが望ましい。或いは揮発性の異なる溶媒を混合してその比率を変更することで凸形状を制御することも出来る。   Specific examples of glycol ethers include, but are not limited to, the following solvents. Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether Ac, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether Ac, ethylene glycol Examples thereof include diethyl ether, and Ac represents acetate. In the ink according to the present invention, among the above solvents, a solvent having a boiling point of less than 100 ° C. is preferably used. It is desirable that these solvents are volatilized immediately after being ejected from the ink jet head, and are volatilized and dried as quickly as possible so that a desired convex shape is maintained even after landing. Alternatively, the convex shape can be controlled by mixing different volatile solvents and changing the ratio.

インクに使用する溶媒は基材フィルムを溶解する溶媒と溶解しない溶媒とを混合して用いることが好ましく、混合比率は1:9〜9:1であることが好ましく、比率は適宜調整される。   The solvent used in the ink is preferably used by mixing a solvent that dissolves the base film and a solvent that does not dissolve, and the mixing ratio is preferably 1: 9 to 9: 1, and the ratio is appropriately adjusted.

次いで、本発明におけるインクジェット方式による微細凸構造を形成する好ましい態様について説明する。   Next, a preferred embodiment for forming a fine convex structure by the ink jet method in the present invention will be described.

本発明における微細凸構造を形成する方法として、2種以上の粒径の異なるインク液滴を出射して形成することが出来る。更に、粒径の大きなインク液滴で透明基材上に微細凸構造を形成した後、該インク液滴より粒径の小さなインク液滴で、より微細な凸構造を形成することも出来る。   As a method for forming a fine convex structure in the present invention, two or more ink droplets having different particle diameters can be emitted and formed. Furthermore, after forming a fine convex structure on a transparent substrate with ink droplets having a large particle size, it is also possible to form a finer convex structure with ink droplets having a smaller particle size than the ink droplet.

図7は、透明基材上にインクジェット方式により、粒径の大きなインク液滴で微細凸構造71を形成した後、より粒径の小さなインク液滴で、更に微細な凸構造72を形成した一例を表す模式図である。   FIG. 7 shows an example in which a fine convex structure 71 is formed with ink droplets having a larger particle diameter and then a fine convex structure 72 is formed with ink droplets having a smaller particle diameter by an ink jet method on a transparent substrate. It is a schematic diagram showing.

図7の(a)は、比較的低粘度のインクを用いて、コニーデ型の凸部71を設けた後、その表面及び未着弾部により微小の凸部72を設けた一例であり、図7の(b)は、インク液滴と基材表面との接触角を制御し、球体状の凸部71′を設けた後、その表面及び未着弾部により微小の凸部72を設けた一例である。   FIG. 7A is an example in which a Conide-type convex portion 71 is provided using a relatively low viscosity ink, and then a minute convex portion 72 is provided on the surface and the non-landing portion. (B) is an example in which the contact angle between the ink droplet and the substrate surface is controlled, and a spherical convex portion 71 ′ is provided, and then a minute convex portion 72 is provided by the surface and the non-landing portion. is there.

この場合も粒径の大きな液滴で形成される凸部の高さ、直径及び形成個数は本発明の範囲内に制御する必要がある。   In this case as well, the height, diameter, and number of formed protrusions formed by droplets having a large particle size must be controlled within the scope of the present invention.

このようにして、凸構造を形成するインクとして粒径の異なるインク液滴を用いて形成することにより、ブロッキング防止効果に優れる微細な凸部を形成することが出来る。各々のインク液滴は、0.01〜100plが好ましく、0.1〜50plが更に好ましく、0.1〜10plが特に好ましい。2種以上の大きさの異なるインク液滴を用いる場合、平均粒径が最も大きい粒径のインク液滴に対し、平均粒径が最も小さな粒径のインク液滴の容量としては、0.1〜80体積%、更に好ましくは1〜60体積%、特に好ましくは3〜50体積%であることが好ましい。また、3種以上の容量が異なるインク液滴を組み合わせることがより好ましい態様である。   In this way, by forming ink droplets having different particle diameters as the ink for forming the convex structure, it is possible to form fine convex portions having an excellent anti-blocking effect. Each ink droplet is preferably 0.01 to 100 pl, more preferably 0.1 to 50 pl, and particularly preferably 0.1 to 10 pl. When two or more kinds of ink droplets having different sizes are used, the volume of the ink droplets having the smallest average particle size relative to the ink droplets having the largest average particle size is 0.1. It is preferable that it is -80 volume%, More preferably, it is 1-60 volume%, Most preferably, it is 3-50 volume%. Further, it is a more preferable aspect that three or more kinds of ink droplets having different capacities are combined.

また、2種以上のインク液滴を用いる場合、固形分濃度が異なる各インク液滴を用いることが出来る。例えば、微小な液滴の固形分濃度を低く設定し、インクが飛翔している間や着弾後に溶媒を揮発させることで、より微細な凸部を形成することが出来る。この様な各インク液滴の固形分濃度を適宜調整することにより、微細な凸構造の形成や形状を容易に制御することが出来る。   When two or more ink droplets are used, each ink droplet having a different solid content concentration can be used. For example, finer convex portions can be formed by setting the solid content concentration of fine droplets low and volatilizing the solvent while the ink is flying or after landing. By appropriately adjusting the solid content concentration of each ink droplet, it is possible to easily control the formation and shape of a fine convex structure.

更に、本発明においては、異なる容量のインク滴を組み合わせて凸構造を形成する場合、大きなインク液滴を透明基材上に着弾させた後、より微細なインク液滴をその上に着弾させることが好ましい。   Furthermore, in the present invention, when a convex structure is formed by combining ink droplets having different capacities, after a large ink droplet is landed on the transparent substrate, a finer ink droplet is landed thereon. Is preferred.

本発明における微細凸構造の他の好ましい例として、インク液滴が微粒子を含有することも好ましい。   As another preferable example of the fine convex structure in the present invention, it is also preferable that the ink droplet contains fine particles.

図8は、インク液滴の中に微粒子を含有させた凸部の一例を示す断面図である。   FIG. 8 is a cross-sectional view showing an example of a convex portion in which fine particles are contained in an ink droplet.

熱可塑性樹脂、活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂中に後述する微粒子4が含まれており、微粒子は本発明の好ましい大きさの凸部を形成出来れば、その大きさ、形状に制限はない。比較的大きい粒子のみで構成される場合(a)、小さい粒子のみで構成される場合(b)、大きい粒子と小さい粒子がMixされている場合(c)がある。また、それぞれの構造の凸部が混在してもよい(d)。   In the thermoplastic resin, the actinic ray curable resin or the thermosetting resin, fine particles 4 described later are included, and if the fine particles can form convex portions having a preferable size of the present invention, the size and shape are not limited. Absent. There are cases in which only relatively large particles (a), only small particles (b), and large and small particles are mixed (c). Moreover, the convex part of each structure may be mixed (d).

本発明において、インク液滴中に含有せしめることの出来る微粒子としては、例えば、無機微粒子または有機微粒子を挙げることが出来る。   In the present invention, examples of the fine particles that can be contained in the ink droplet include inorganic fine particles and organic fine particles.

無機微粒子としては、例えば、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。これらは球状、平板状、無定形状等の形状の粒子が挙げられる。   Examples of inorganic fine particles include silicon-containing compounds, silicon dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and Calcium phosphate and the like are preferable, and an inorganic compound containing silicon and zirconium oxide are more preferable, and silicon dioxide is particularly preferably used. These include particles having a shape such as a spherical shape, a flat plate shape, and an amorphous shape.

二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルR972、R972V、R972CF、R974、R812、50、200、200V、300、R202、OX50、TT600、MOX170(以上日本アエロジル(株)製)等の市販品が使用出来る。   As the silicon dioxide fine particles, for example, commercially available products such as Aerosil R972, R972V, R972CF, R974, R812, 50, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600, MOX170 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) are used. I can do it.

酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)等の市販品が使用出来る。   As the fine particles of zirconium oxide, commercially available products such as Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used.

また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、またはポリ弗化エチレン系樹脂微粒子、セルロースエステル系樹脂等を挙げることが出来る。例えば、ポリメチルメタクリレート架橋粒子としてMS−300K、MS−300X(粒径0.1μm)、アクリル単分散粒子としてMP1451(いずれも綜研化学(株)製)が好ましく用いられる。   The organic fine particles include polymethacrylate methyl acrylate resin fine particles, acrylic styrene resin fine particles, polymethyl methacrylate resin fine particles, silicon resin fine particles, polystyrene resin fine particles, polycarbonate resin fine particles, benzoguanamine resin fine particles, and melamine resin. Examples thereof include fine particles, polyolefin resin fine particles, polyester resin fine particles, polyamide resin fine particles, polyimide resin fine particles, polyfluoroethylene resin fine particles, and cellulose ester resin. For example, MS-300K and MS-300X (particle size: 0.1 μm) are preferably used as the polymethyl methacrylate crosslinked particles, and MP1451 (all manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) is used as the acrylic monodisperse particles.

本発明で用いる微粒子の平均粒径は、0.001〜0.5μmが好ましく、更に好ましくは0.005〜0.5μmであり、特に好ましくは0.01〜0.3μmである。粒径や屈折率の異なる2種以上の微粒子を含有させてもよい。例えば、粒径が0.03〜0.3μmの単分散の粒子を用いることにより、凸部高さが揃った凸部を効率的に形成することが出来る。好ましくはインクに含まれる樹脂と微粒子との屈折率差が±0.02以内である、またインクに含まれる樹脂と基材フィルムとの屈折率差も±0.02以内であることが好ましい。   The average particle size of the fine particles used in the present invention is preferably 0.001 to 0.5 μm, more preferably 0.005 to 0.5 μm, and particularly preferably 0.01 to 0.3 μm. You may contain 2 or more types of microparticles | fine-particles from which a particle size and refractive index differ. For example, by using monodispersed particles having a particle size of 0.03 to 0.3 μm, it is possible to efficiently form convex portions having the same convex portion height. Preferably, the refractive index difference between the resin and fine particles contained in the ink is within ± 0.02, and the refractive index difference between the resin contained in the ink and the base film is also within ± 0.02.

インクに含まれる樹脂と微粒子の比率は、固形分全体の1〜99%が微粒子であることが好ましく、5〜95%が微粒子であることが好ましく、20〜90%が微粒子であることが好ましい。   The ratio of the resin and fine particles contained in the ink is preferably 1 to 99% of the total solid content, preferably 5 to 95%, preferably 20 to 90%. .

次いで、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。   Subsequently, the manufacturing method of the optical film of this invention is demonstrated.

図9は、溶液流延で透明基材を製造する工程に、インクジェット方式により微細凸構造を設ける工程を付加したフローを示す模式図である。   FIG. 9 is a schematic diagram showing a flow in which a step of providing a fine convex structure by an ink jet method is added to the step of manufacturing a transparent substrate by solution casting.

図9において、11はエンドレスで走行する支持体を示す。支持体としては鏡面帯状金属が使用されている。12は透明基材形成樹脂を溶媒に溶解したドープを、支持体11に流延するダイスを示す。13は支持体11に流延されたドープが固化したフィルムを剥離する剥離ロールを示し、14は剥離されたフィルムを示す。5はテンター搬送・乾燥工程を示し、51は排気口を示し、52は乾燥風取り入れ口を示す。尚、排気口51と乾燥風取り入れ口52は逆であっても良い。6は張力カット手段を示す。張力カット手段としてはニップロール、サクションロール等が挙げられる。尚、張力カット手段は各工程間に設けてもかまわない。   In FIG. 9, reference numeral 11 denotes a support that runs endlessly. A mirror band metal is used as the support. Reference numeral 12 denotes a die for casting a dope obtained by dissolving a transparent substrate forming resin in a solvent onto the support 11. 13 shows a peeling roll which peels off the film | membrane which the dope cast | casted by the support body 11 solidified, 14 shows the peeled film. 5 indicates a tenter conveying / drying process, 51 indicates an exhaust port, and 52 indicates a dry air intake port. The exhaust port 51 and the dry air intake port 52 may be reversed. Reference numeral 6 denotes a tension cutting means. Examples of the tension cutting means include a nip roll and a suction roll. The tension cutting means may be provided between each process.

8はロール搬送・乾燥工程を示し、81は乾燥箱を示し、82は排気口を示し、83は乾燥風取り入れ口を示す。尚、排気口82と乾燥風取り入れ口83は逆であっても良い。84は上部搬送用ロールを示し、85は下部搬送用ロールを示す。該搬送用ロール84、85は上下で一組で、複数組から構成されている。7は巻き取られたロール状のフィルムを示す。   8 represents a roll conveying / drying process, 81 represents a drying box, 82 represents an exhaust port, and 83 represents a dry air intake. The exhaust port 82 and the dry air intake port 83 may be reversed. Reference numeral 84 denotes an upper conveyance roll, and 85 denotes a lower conveyance roll. The transport rolls 84 and 85 are a set of upper and lower, and are composed of a plurality of sets. 7 shows the roll-shaped film wound up.

本発明に係るインク液滴を出射するインクジェットヘッド部10は、ドープ流延部、剥離〜テンター部間、テンター〜乾燥部間、乾燥箱内のいずれの位置に設置してもよく、具体的には図中、10A〜Hの位置に設けることが出来る。その際、フィルム面の片側、両側のどちらにインクジェットヘッド部を設けてもよい。インクジェットヘッド部10の設置数に特に制限はなく一つでも複数でもよいが、好ましくは複数のインクジェットヘッド部を設置することである。   The ink jet head unit 10 for emitting ink droplets according to the present invention may be installed at any position in the dope casting unit, between the peeling unit and the tenter unit, between the tenter unit and the drying unit, or in the drying box. Can be provided at positions 10A to H in the figure. In that case, you may provide an inkjet head part in any one side of a film surface, or both sides. There are no particular restrictions on the number of ink jet head units 10 installed, and one or a plurality of ink jet head units 10 may be provided, but a plurality of ink jet head units are preferably installed.

図10は、溶融流延で透明基材を製造する工程に、インクジェット方式により微細凸構造を設ける工程を付加したフローを示す模式図である。   FIG. 10 is a schematic diagram showing a flow in which a step of providing a fine convex structure by an ink jet method is added to the step of manufacturing a transparent substrate by melt casting.

図10において、21は溶融流延用のダイスであり、ここから後述する溶融されたポリマーが押し出されされ、製膜ロール22を通してフィルムFとなる。引き続きテンター搬送・乾燥工程5により延伸され、ロールを介して巻き取られロール状のフィルム7となる。   In FIG. 10, reference numeral 21 denotes a die for melt casting, from which a melted polymer, which will be described later, is extruded and becomes a film F through a film forming roll 22. Subsequently, the film is stretched by the tenter conveyance / drying step 5 and wound up through a roll to form a roll-shaped film 7.

本発明に係るインク液滴を出射するインクジェットヘッド部10は、図中、10I〜Kの位置に設けることが出来る。その際、フィルム面の片側、両側のどちらにインクジェットヘッド部を設けてもよい。インクジェットヘッド部10の設置数に特に制限はなく一つでも複数でもよいが、好ましくは複数のインクジェットヘッド部を設置することである。   The inkjet head unit 10 for emitting ink droplets according to the present invention can be provided at positions 10I to K in the drawing. In that case, you may provide an inkjet head part in any one side of a film surface, or both sides. There are no particular restrictions on the number of ink jet head units 10 installed, and one or a plurality of ink jet head units 10 may be provided, but a plurality of ink jet head units are preferably installed.

図11は、透明基材上にインクジェット方式により微細凸構造を設ける別の工程のフローを示す模式図である。詳しくは、透明基材上に紫外線硬化樹脂層、反射防止層等の機能性層を塗布方式で塗設した後、インクジェット方式で裏面側に微細凸構造を形成するフローを示してある。   FIG. 11 is a schematic view showing a flow of another process for providing a fine convex structure on a transparent substrate by an ink jet method. Specifically, after a functional layer such as an ultraviolet curable resin layer or an antireflection layer is coated on a transparent substrate by a coating method, a flow for forming a fine convex structure on the back surface side by an inkjet method is shown.

図11において、ロール501より繰り出された透明基材502は、搬送されて、第1コータステーションAで、第1コータ503により機能性層を塗設する。このとき、機能性層は単層構成でも、複数から構成されている層でもよい。機能性層を塗設した透明基材502は、次いで乾燥ゾーン505Aで乾燥が行われる。乾燥は、透明基材502の両面より、温湿度が制御された温風により乾燥が施される。   In FIG. 11, the transparent base material 502 fed out from the roll 501 is conveyed, and a functional layer is applied by the first coater 503 at the first coater station A. At this time, the functional layer may be a single layer structure or a layer composed of a plurality of layers. The transparent substrate 502 on which the functional layer is applied is then dried in the drying zone 505A. Drying is performed from both surfaces of the transparent substrate 502 by warm air with controlled temperature and humidity.

次いで、インクジェット方式を用いた微細凸構造を設ける第2コータステーションBに搬送される。インクジェット出射部509には、インク供給タンク508が接続されており、そこからインク液が供給される。インクジェット出射部509は、図5の(b)で示すような複数のインクジェットノズルを透明基材の幅全域に千鳥状に配置し、インク液滴を機能性層上に出射して、その表面に凸構造を形成する。また、2種以上のインク液滴を出射する場合には、2列以上配置したインクジェットノズルより、各々のインク液滴を出射してもよいし、或いはランダムに任意のインクジェットノズルよりインク液滴を出射してもよい。また、インクジェット出射部を複数配置し、各々のインク出射部より異なるインク液滴を出射してもよい。本発明においては、0.01〜100pl、好ましくは0.01〜10plという微細な液滴を出射するため、インク液滴の飛翔性に対し、外気の気流の影響を受け易くなるため、第2コータステーションB全体を、隔壁等で覆って気圧の乱れを防止することが好ましい。また、1pl以下の極めて微細な液滴を精度高く飛翔させるため、インクジェット出射部509と透明基材502或いはバックロール504B間に電圧を印加し、インク液滴に電荷を与えて電気的にインク液滴の飛翔安定性を補助する方法も好ましい。或いはフィルムの帯電によるムラが生じないように、全工程を通じてフィルムの搬送に伴う帯電を防止する為除電バーを設けるなどの除電対策を行うことが好ましい。また、着弾したインク液滴の変形を防止するため、透明基材を冷却して着弾後のインク液滴の流動を速やかに低下させる方法を用いることも好ましい。或いは、インク液滴が出射後、着弾するまでの飛翔中に含有する溶媒を揮発させて、インク液滴中の含有溶媒量が減少した状態で着弾させることが、より微細な凸構造を形成する上で好ましい。その為、インク飛翔空間の温度を高くしたり、或いは気圧を、1気圧以下、例えば20〜100kPaに制御する方法も好ましい。例えばインク液滴中の含有溶媒量を出射時の溶媒含有量に対して、1/100〜99/100となるように減少させて着弾させることが出来る。   Subsequently, it is conveyed to the 2nd coater station B which provides the fine convex structure using an inkjet system. An ink supply tank 508 is connected to the ink jet emitting unit 509, and ink liquid is supplied therefrom. The ink jet emitting unit 509 arranges a plurality of ink jet nozzles as shown in FIG. 5B in a zigzag manner over the entire width of the transparent base material, emits ink droplets onto the functional layer, and is applied to the surface. A convex structure is formed. Also, when ejecting two or more types of ink droplets, each ink droplet may be ejected from two or more rows of inkjet nozzles, or randomly from any inkjet nozzle. It may be emitted. Further, a plurality of ink jet emitting portions may be arranged, and different ink droplets may be emitted from each ink emitting portion. In the present invention, since fine droplets of 0.01 to 100 pl, preferably 0.01 to 10 pl, are emitted, the flying properties of the ink droplets are easily affected by the airflow of the outside air. It is preferable to cover the entire coater station B with a partition wall or the like to prevent atmospheric pressure disturbance. In addition, in order to fly extremely fine droplets of 1 pl or less with high accuracy, a voltage is applied between the ink jet emitting unit 509 and the transparent base material 502 or the back roll 504B to give an electric charge to the ink droplets to electrically inject the ink liquid. A method of assisting droplet flight stability is also preferred. Alternatively, it is preferable to take measures for static elimination such as providing a static elimination bar in order to prevent charging associated with the conveyance of the film throughout the entire process so as not to cause unevenness due to charging of the film. In order to prevent deformation of the landed ink droplets, it is also preferable to use a method in which the transparent substrate is cooled to quickly reduce the flow of the ink droplets after landing. Alternatively, it is possible to volatilize the solvent contained during the flight from when the ink droplets are ejected until they land, and to land with the amount of the solvent contained in the ink droplets decreasing, thereby forming a finer convex structure. Preferred above. Therefore, a method of increasing the temperature of the ink flying space or controlling the atmospheric pressure to 1 atm or lower, for example, 20 to 100 kPa is also preferable. For example, the amount of the solvent contained in the ink droplet can be decreased to be 1/100 to 99/100 with respect to the solvent content at the time of emission and landed.

また、着弾による衝撃によって凸部の形状が大きく変形したり、つぶれないようにゆるやかに着弾させることも好ましく、例えばインク出射部と着弾部の距離を離したり、重力や電荷に逆らって出射して着弾の衝撃を柔らげることも好ましい。或いは、フィルムに向かって流れる気流中にインク液滴を吐出し、このインク液滴を有する空間にフィルムを配置することで、フィルム上にインク液滴を付着させることも好ましい。   In addition, it is also preferable that the shape of the convex portion is greatly deformed by impact due to landing or is landed gently so as not to be crushed.For example, the distance between the ink emitting portion and the landing portion is increased, or the light is emitted against gravity or electric charge. It is also preferable to soften the impact of landing. Alternatively, it is also preferable that the ink droplets are deposited on the film by discharging the ink droplets in an airflow flowing toward the film and disposing the film in a space having the ink droplets.

インク液滴が熱硬化性樹脂を用いている場合には、バックロール504Bをヒートロールとして加熱する方法も好ましい。   When the ink droplet uses a thermosetting resin, a method of heating the back roll 504B as a heat roll is also preferable.

着弾したインク液滴により形成された凸構造が維持出来る程度に硬化処理を行った透明基材502は、乾燥ゾーン505Bで不要な有機溶媒等を蒸発させ硬化を完了させる。   The transparent substrate 502 that has been cured to such an extent that the convex structure formed by the landed ink droplets can be maintained evaporates unnecessary organic solvent and the like in the drying zone 505B to complete the curing.

本発明のインク液滴を付着させてブロッキング防止加工部を形成する方法は、フィルム基材を1〜200m/min、好ましくは3〜100m/minで移送しながら形成することが好ましい。   The method of forming the anti-blocking processed part by adhering the ink droplets of the present invention is preferably formed while transferring the film substrate at 1 to 200 m / min, preferably 3 to 100 m / min.

インクを着弾させる際の基材フィルムは帯電に斑がないことが好ましく、直前で徐電することが好ましく、或いは均一に帯電させてもよい。   The substrate film upon landing of the ink preferably has no unevenness in charging, and is preferably charged immediately before, or may be charged uniformly.

また、インクを着弾させて形成した凸部をヘイズ、透過鮮明度などの物性を測定し、所定の値であることを確認し、ずれや変動が確認された場合、その結果をフィードバックしてインクの吐出条件や硬化条件を変更して制御することが好ましい。測定は、全ての凸部を形成し樹脂を硬化させた後に行うことが好ましく、凸部形成の途中で行ってもよい。例えば、比較的大きな凹凸を形成した後とその後のより微細な凸部を形成した後の測定を行うことで、更に適切なフィードバック制御を行うことが出来る。   In addition, by measuring the physical properties such as haze and transmission sharpness of the convex part formed by landing the ink, confirm that it is a predetermined value, and if deviation or fluctuation is confirmed, the result is fed back to the ink It is preferable to control by changing the discharge conditions and curing conditions. The measurement is preferably performed after all the convex portions are formed and the resin is cured, and may be performed during the formation of the convex portions. For example, more appropriate feedback control can be performed by performing measurement after forming a relatively large unevenness and after forming a finer convex portion thereafter.

本発明では、上記で説明したインクジェット記録装置、画像形成方法に限定されることはなく、この他、特開平9−118024記載のインク吐出量測定方法及びその装置を流用することも好ましく、広い範囲で均一な凸部を形成することが出来る。また、特開平10−151748記載のインクジェットヘッド及び反り調整方法を流用することも好ましい。特開2001−260368に記載のインクジェット式記録ヘッドを用いる画像形成装置及び画像形成方法を流用することも好ましい。特開2003−136740記載のインクジェットプリンタ及びインクジェット記録方法を流用することも好ましい。特開2003−154671記載のクリーニング機構を備えたインクジェット記録装置を流用することも好ましい。特開2003−165232、特開2003−182092、特開2003−182093、特開2003−182097、特開2003−182098、特開2003−182121、特開2003−191478、特開2003−191479などに記載されているインクジェット記録装置を流用することも好ましい。   In the present invention, the ink jet recording apparatus and the image forming method described above are not limited, and it is also preferable to use the ink discharge amount measuring method and the apparatus described in JP-A-9-118024, in a wide range. A uniform convex portion can be formed. It is also preferable to use the ink jet head and the warp adjustment method described in JP-A-10-151748. It is also preferable to divert the image forming apparatus and the image forming method using the ink jet recording head described in JP-A-2001-260368. It is also preferable to use the ink jet printer and the ink jet recording method described in JP-A No. 2003-136740. It is also preferable to use an ink jet recording apparatus provided with a cleaning mechanism described in JP-A No. 2003-154671. JP-A-2003-165232, JP-A-2003-182092, JP-A-2003-182093, JP-A-2003-182097, JP-A-2003-182098, JP-A-2003-182211, JP-A-2003-191478, JP-A-2003-191479, etc. It is also preferable to use the inkjet recording apparatus that has been used.

更に、特開2003−191594に記載の画像形成方法、インク、記録装置などを流用することが好ましく、特に選択的にインク滴の吐出制御可能な複数のノズルを有する記録ヘッドで、活性光線照射により硬化するインクを吐出する画像形成方法において、記録材料の種類によって、インク着弾後の活性光線照射条件を変えることを特徴とする画像形成方法を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−211651記載のインクジェット記録方法、インクジェット記録装置を本発明に流用することも好ましい。   Furthermore, it is preferable to use the image forming method, ink, and recording apparatus described in JP-A No. 2003-191594. In particular, a recording head having a plurality of nozzles capable of selectively controlling the ejection of ink droplets is irradiated with actinic rays. In the image forming method for ejecting the ink to be cured, it is also preferable to apply the image forming method characterized by changing the actinic ray irradiation conditions after ink landing depending on the type of the recording material. Alternatively, it is also preferable to use the ink jet recording method and the ink jet recording apparatus described in JP-A No. 2003-211651 in the present invention.

或いは、特開2003−213183記載の放射線硬化性インクジェット用インク及びインクジェット記録方法を本発明に流用することも好ましい。或いは特開2003−231267記載のインクジェット記録装置及びインクジェット記録方法を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−237061記載の画像形成方法、インク、記録装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−251796記載の画像形成方法を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−261799記載の活性光線硬化型インク及びそれを用いたインクジェット記録方法を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−260790記載の画像形成方法及び記録装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−276175記載の画像形成方法、記録装置、インクを本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−276256記載の画像形成方法、インク及び画像形成装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−277654記載の画像形成方法、印刷物及び記録装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−292837記載のインクジェット用インク、画像形成方法を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−305839記載の画像形成方法、インク及び記録装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−312120記載の画像形成方法、及び記録装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−313464記載の画像形成方法、及び記録装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2003−327875記載の画像形成方法、及び記録装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2004−9360記載の活性光線硬化型インクジェット記録方法を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2004−25480記載の画像形成方法及びそれに用いるインクジェット記録装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2004−34543記載のインクジェットプリンタを本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2004−34545記載のインクジェット記録方法、インク及びインクジェットプリンタを本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2004−51656記載の画像形成方法、印刷物及び記録装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2004−51922記載の活性光線硬化型インク、画像形成方法、記録装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2004−51923記載の活性光線硬化型インク、画像形成方法、記録装置を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2004−51924記載のインクジェット記録用インクの保存方法及び画像形成方法を本発明に流用することも好ましい。或いは、特開2004−37855記載のインクジェット装置、インク吐出条件を本発明に流用することも好ましい。   Alternatively, it is also preferable to apply the radiation curable inkjet ink and inkjet recording method described in JP-A No. 2003-213183 to the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the ink jet recording apparatus and the ink jet recording method described in JP-A No. 2003-231267 in the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the image forming method, ink, and recording apparatus described in JP-A-2003-237061 in the present invention. Alternatively, it is also preferable to apply the image forming method described in JP-A No. 2003-251796 to the present invention. Alternatively, it is also preferable to apply the actinic ray curable ink described in JP-A No. 2003-261799 and an ink jet recording method using the ink to the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the image forming method and recording apparatus described in JP-A-2003-260790 in the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the image forming method, recording apparatus, and ink described in JP-A No. 2003-276175 in the present invention. Alternatively, the image forming method, ink, and image forming apparatus described in JP-A-2003-276256 are also preferably used in the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the image forming method, printed matter, and recording apparatus described in JP-A-2003-277654 in the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the ink-jet ink and image forming method described in JP-A-2003-292837 in the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the image forming method, ink, and recording apparatus described in JP-A-2003-305839 in the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the image forming method and recording apparatus described in JP-A-2003-312120 in the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the image forming method and recording apparatus described in JP-A-2003-313464 in the present invention. Alternatively, the image forming method and recording apparatus described in JP-A-2003-327875 are also preferably used in the present invention. Alternatively, it is also preferable to apply the actinic ray curable ink jet recording method described in JP-A-2004-9360 to the present invention. Alternatively, the image forming method described in JP-A-2004-25480 and the ink jet recording apparatus used therefor are also preferably used in the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the ink jet printer described in JP-A-2004-34543 in the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the ink jet recording method, ink and ink jet printer described in JP-A-2004-34545 in the present invention. Alternatively, it is also preferable to use the image forming method, printed matter, and recording apparatus described in JP-A-2004-51656 in the present invention. Alternatively, the actinic ray curable ink, the image forming method, and the recording apparatus described in JP-A-2004-51922 are also preferably used in the present invention. Alternatively, the actinic ray curable ink, the image forming method, and the recording apparatus described in JP-A-2004-51923 are also preferably used in the present invention. Alternatively, it is also preferable to apply the ink-jet recording ink storage method and image forming method described in JP-A-2004-51924 to the present invention. Alternatively, it is also preferable to apply the ink jet conditions and ink discharge conditions described in JP-A-2004-37855 to the present invention.

次に、本発明に係る光学フィルムの透明基材について説明する。   Next, the transparent base material of the optical film according to the present invention will be described.

本発明においては光学フィルムの透明基材として熱可塑性樹脂フィルムを用いることが好ましい。   In the present invention, it is preferable to use a thermoplastic resin film as the transparent substrate of the optical film.

本発明に用いられる熱可塑性樹脂としては、特に限定されないが、セルロースエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリエステルなどが好ましい例として挙げられるがこれらのみに限定されるものではない。これらは溶液流延製膜で作製されたフィルムでも溶融流延で作製されたフィルムであっても好ましく用いられる。   Although it does not specifically limit as a thermoplastic resin used for this invention, Although a cellulose ester, a polycarbonate, an acrylic resin, a cycloolefin polymer, polyester etc. are mentioned as a preferable example, it is not limited only to these. These are preferably used regardless of whether they are a film produced by solution casting or a film produced by melt casting.

例えば、コニカミノルタタックKC8UX、KC8UY、LC4UX、KC4UY、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UX−H(コニカミノルタ(株)製)等のセルロースエステルフィルムが用いられる。   For example, a cellulose ester film such as Konica Minoltak KC8UX, KC8UY, LC4UX, KC4UY, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UX-H (manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) is used.

本発明に用いられる熱可塑性樹脂フィルムは、セルロースエステルまたはシクロオレフィンポリマーを主成分とすることが好ましい。また、これらのフィルムは偏光板保護フィルム或いは位相差フィルムであることが好ましい。   The thermoplastic resin film used in the present invention preferably contains a cellulose ester or a cycloolefin polymer as a main component. These films are preferably polarizing plate protective films or retardation films.

〈セルロースエステル〉
本発明に用いられるセルロースエステルの重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比Mw/Mnの値は、1.4〜3.0であることが好ましい。尚、本発明においては、セルロースエステルフィルムが、材料として、Mw/Mnの値が1.4〜3.0であるセルロースエステルを含有すればよいが、フィルムに含まれるセルロースエステル(好ましくはセルローストリアセテートまたはセルロースアセテートプロピオネート)全体のMw/Mnの値は1.4〜3.0の範囲であることがより好ましい。セルロースエステルの合成過程で1.4未満とすることは困難であり、ゲル濾過などによって分画することで分子量の揃ったセルロースエステルを得ることは出来る。しかしながらこの方法はコストが著しくかかる。また、3.0以下であると平面性が維持されやすく好ましい。尚、より好ましくは1.7〜2.2である。
<Cellulose ester>
The ratio Mw / Mn of the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the cellulose ester used in the present invention is preferably 1.4 to 3.0. In the present invention, the cellulose ester film may contain, as a material, a cellulose ester having a Mw / Mn value of 1.4 to 3.0, but the cellulose ester contained in the film (preferably cellulose triacetate). Or the value of Mw / Mn of cellulose acetate propionate) is more preferably in the range of 1.4 to 3.0. In the synthesis process of cellulose ester, it is difficult to make it less than 1.4, and cellulose ester having a uniform molecular weight can be obtained by fractionation by gel filtration or the like. However, this method is very expensive. Moreover, it is preferable that it is 3.0 or less because the flatness is easily maintained. In addition, More preferably, it is 1.7-2.2.

本発明に用いられるセルロースエステルの分子量は、数平均分子量(Mn)で80000〜200000のものを用いることが好ましい。100000〜200000のものが更に好ましく、150000〜200000が特に好ましい。   The molecular weight of the cellulose ester used in the present invention is preferably a number average molecular weight (Mn) of 80,000 to 200,000. More preferred are 100,000 to 200,000, particularly preferably 150,000 to 200,000.

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することが出来る。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を算出し、その比(Mw/Mn)を計算することが出来る。   The average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured by a known method using high performance liquid chromatography. Using this, the number average molecular weight and the weight average molecular weight can be calculated, and the ratio (Mw / Mn) can be calculated.

測定条件は以下の通りである。
溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に得ることが好ましい。
The measurement conditions are as follows.
Solvent: Methylene chloride column: Shodex K806, K805, K803G (used by connecting 3 products manufactured by Showa Denko KK)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000-500 calibration curves with 13 samples were used. It is preferable to obtain 13 samples at approximately equal intervals.

本発明に用いられるセルロースエステルは、炭素数2〜22程度の脂肪族カルボン酸エステルまたは芳香族カルボン酸エステル或いは脂肪族カルボン酸エステルと芳香族カルボン酸エステルの混合エステルが好ましく用いられ、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味する。具体的には、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートフタレート等や、特開平10−45804号、同8−231761号、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは混合して用いることも出来る。   The cellulose ester used in the present invention is preferably an aliphatic carboxylic acid ester having about 2 to 22 carbon atoms, an aromatic carboxylic acid ester, or a mixed ester of an aliphatic carboxylic acid ester and an aromatic carboxylic acid ester. A lower fatty acid ester is preferred. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. Specifically, it is described in cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate phthalate and the like, JP-A-10-45804, 8-2311761, U.S. Pat. No. 2,319,052, and the like. Mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate can be used. Among the above descriptions, the lower fatty acid esters of cellulose particularly preferably used are cellulose triacetate and cellulose acetate propionate. These cellulose esters can be used as a mixture.

セルローストリアセテートの場合には、総アシル基置換度(アセチル基置換度)2.6から2.9のものが好ましく用いられる。   In the case of cellulose triacetate, those having a total acyl group substitution degree (acetyl group substitution degree) of 2.6 to 2.9 are preferably used.

セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは、炭素原子数2〜22のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、炭素原子数3〜22のアシル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルである。   A preferred cellulose ester other than cellulose triacetate has an acyl group having 2 to 22 carbon atoms as a substituent, the substitution degree of the acetyl group is X, and the substitution degree of the acyl group of 3 to 22 carbon atoms is Y. Sometimes, it is a cellulose ester that simultaneously satisfies the following formulas (I) and (II).

式(I) 2.6≦X+Y≦2.9
式(II) 0≦X≦2.5
中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦1.0のセルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度=X+Y)が好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することが出来る。
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 2.9
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Among them, cellulose acetate propionate (total acyl group substitution degree = X + Y) satisfying 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 1.0 is preferable. The portion not substituted with an acyl group usually exists as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

これらアシル基置換度は、ASTM−D817−96に規定の方法に準じて測定することが出来る。   These acyl group substitution degrees can be measured according to the method prescribed in ASTM-D817-96.

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが出来る。特に綿花リンター(以下、単にリンターとすることがある)、木材パルプから合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。   As the cellulose ester, cellulose ester synthesized from cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to use a cotton linter (hereinafter sometimes simply referred to as a linter) or a cellulose ester synthesized from wood pulp alone or in combination.

また、これらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。これらのセルロースエステルは、セルロース原料をアシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて常法により反応させて得ることが出来る。   Moreover, the cellulose ester obtained from these can be mixed and used in arbitrary ratios, respectively. These cellulose esters are prepared by using an organic acid such as acetic acid or an organic solvent such as methylene chloride when sulfuric acid is used as the acylating agent (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride). It can obtain by making it react by a conventional method using a protic catalyst like.

アセチルセルロースの場合、酢化率を上げようとすれば、酢化反応の時間を延長する必要がある。但し、反応時間を余り長くとると分解が同時に進行し、ポリマー鎖の切断やアセチル基の分解などが起こり、好ましくない結果をもたらす。従って、酢化度を上げ、分解をある程度抑えるためには反応時間はある範囲に設定することが必要である。反応時間で規定することは反応条件が様々であり、反応装置や設備その他の条件で大きく変わるので適切でない。ポリマーの分解は進むにつれ、分子量分布が広くなってゆくので、セルロースエステルの場合にも、分解の度合いは通常用いられる重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値で規定出来る。即ちセルローストリアセテートの酢化の過程で、余り長過ぎて分解が進み過ぎることがなく、かつ酢化には十分な時間酢化反応を行わせしめるための反応度合いの一つの指標として用いられる重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値を用いることが出来る。   In the case of acetylcellulose, it is necessary to extend the time for the acetylation reaction in order to increase the acetylation rate. However, if the reaction time is too long, the decomposition proceeds at the same time, and the polymer chain is broken and the acetyl group is decomposed, resulting in undesirable results. Therefore, it is necessary to set the reaction time within a certain range in order to increase the degree of acetylation and suppress decomposition to some extent. It is not appropriate to define the reaction time because the reaction conditions are various and greatly change depending on the reaction apparatus, equipment and other conditions. As the decomposition of the polymer progresses, the molecular weight distribution becomes wider. Therefore, in the case of cellulose ester, the degree of decomposition can be defined by the value of weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) that is usually used. That is, in the process of acetylation of cellulose triacetate, the weight average molecular weight is used as one index of the reaction degree for allowing the acetylation reaction to be carried out for a sufficient time for acetylation without being too long and being decomposed too much. The value of (Mw) / number average molecular weight (Mn) can be used.

セルロースエステルの製造法の一例を以下に示すと、セルロース原料として綿化リンター100質量部を解砕し、40質量部の酢酸を添加し、36℃で20分間前処理活性化をした。その後、硫酸8質量部、無水酢酸260質量部、酢酸350質量部を添加し、36℃で120分間エステル化を行った。24%酢酸マグネシウム水溶液11質量部で中和した後、63℃で35分間ケン化熟成し、アセチルセルロースを得た。これを10倍の酢酸水溶液(酢酸:水=1:1(質量比))を用いて、室温で160分間攪拌した後、濾過、乾燥させてアセチル置換度2.75の精製アセチルセルロースを得た。このアセチルセルロースはMnが92000、Mwが156000、Mw/Mnは1.7であった。同様にセルロースエステルのエステル化条件(温度、時間、攪拌)、加水分解条件を調整することによって置換度、Mw/Mn比の異なるセルロースエステルを合成することが出来る。   An example of a method for producing a cellulose ester is shown below: 100 parts by mass of a flocculent linter was crushed as a cellulose raw material, 40 parts by mass of acetic acid was added, and pretreatment activation was performed at 36 ° C. for 20 minutes. Thereafter, 8 parts by mass of sulfuric acid, 260 parts by mass of acetic anhydride and 350 parts by mass of acetic acid were added, and esterification was performed at 36 ° C. for 120 minutes. After neutralization with 11 parts by mass of a 24% magnesium acetate aqueous solution, saponification aging was carried out at 63 ° C. for 35 minutes to obtain acetylcellulose. This was stirred for 160 minutes at room temperature using a 10-fold acetic acid aqueous solution (acetic acid: water = 1: 1 (mass ratio)), then filtered and dried to obtain purified acetylcellulose having an acetyl substitution degree of 2.75. . This acetylcellulose had Mn of 92000, Mw of 156000, and Mw / Mn of 1.7. Similarly, cellulose esters having different degrees of substitution and Mw / Mn ratios can be synthesized by adjusting the esterification conditions (temperature, time, stirring) and hydrolysis conditions of the cellulose ester.

尚、合成されたセルロースエステルは、精製して低分子量成分を除去したり、未酢化または低酢化度の成分を濾過で取り除くことも好ましく行われる。   The synthesized cellulose ester is preferably purified to remove low molecular weight components or to remove unacetylated or low acetylated components by filtration.

また、混酸セルロースエステルの場合には、特開平10−45804号公報に記載の方法で得ることが出来る。アシル基の置換度の測定方法はASTM−D817−96の規定に準じて測定することが出来る。   In the case of mixed acid cellulose ester, it can be obtained by the method described in JP-A-10-45804. The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to the provisions of ASTM-D817-96.

また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ない方が好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成する事により不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄(Fe)成分については、1ppm以下であることが好ましい。カルシウム(Ca)成分については、地下水や河川の水等に多く含まれ、これが多いと硬水となり、飲料水としても不適当であるが、カルボン酸や、スルホン酸等の酸性成分と、また多くの配位子と配位化合物即ち、錯体を形成し易く、多くの不溶なカルシウムに由来するスカム(不溶性の澱、濁り)を形成する。   Cellulose esters are also affected by trace metal components in cellulose esters. These are considered to be related to water used in the production process, but it is preferable that there are few components that can become insoluble nuclei, and metal ions such as iron, calcium, and magnesium contain organic acidic groups. Insoluble matter may be formed by salt formation with a polymer degradation product or the like that may be present, and it is preferable that the amount is small. The iron (Fe) component is preferably 1 ppm or less. About calcium (Ca) component, it is contained in a lot of ground water and river water, etc., and it becomes hard water, and it is unsuitable as drinking water. Coordination compounds with ligands, that is, complexes are easily formed, and scum (insoluble starch, turbidity) derived from many insoluble calcium is formed.

カルシウム(Ca)成分は60ppm以下、好ましくは0〜30ppmである。マグネシウム(Mg)成分については、やはり多過ぎると不溶分を生ずるため、0〜70ppmであることが好ましく、特に0〜20ppmであることが好ましい。鉄(Fe)分の含量、カルシウム(Ca)分含量、マグネシウム(Mg)分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置(硫硝酸分解)、アルカリ溶融で前処理を行った後、ICP−AES(誘導結合プラズマ発光分光分析装置)を用いて分析を行うことによって求めることが出来る。   The calcium (Ca) component is 60 ppm or less, preferably 0 to 30 ppm. The magnesium (Mg) component is preferably in the range of 0 to 70 ppm, particularly preferably 0 to 20 ppm, since too much will cause insoluble matter. Metal components such as iron (Fe) content, calcium (Ca) content, magnesium (Mg) content, etc. are pre-processed by completely digesting cellulose ester with micro digest wet cracking equipment (sulfuric acid decomposition) and alkali melting. After performing, it can obtain | require by performing an analysis using ICP-AES (inductively coupled plasma emission spectroscopy analyzer).

本発明で用いられるセルロースエステルフィルムの屈折率は550nmで1.45〜1.60であるものが好ましく用いられる。フィルムの屈折率の測定方法は、アッベ屈折率計を使用し、日本工業規格JIS K 7105に基づき測定する。また後述する反射防止層の各層の屈折率は各層ごとに塗布した薄膜の5°正反射の反射スペクトルから算出する。セルロースエステルフィルムには可塑剤や紫外線吸収剤、酸化防止剤、マット剤等の添加剤を含有させることが出来る。   The cellulose ester film used in the present invention preferably has a refractive index of 1.45 to 1.60 at 550 nm. As a method for measuring the refractive index of the film, an Abbe refractometer is used, and measurement is performed based on Japanese Industrial Standard JIS K 7105. Further, the refractive index of each layer of the antireflection layer described later is calculated from the reflection spectrum of 5 ° regular reflection of the thin film applied to each layer. The cellulose ester film can contain additives such as a plasticizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, and a matting agent.

〈可塑剤〉
可塑剤は特に限定されないが、多価アルコールエステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル、クエン酸エステル、脂肪酸エステル、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル等から選択される可塑剤を少なくとも1種含むことが好ましい。そのうち、少なくとも1種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。
<Plasticizer>
The plasticizer is not particularly limited, but is selected from polyhydric alcohol ester plasticizers, phosphate ester plasticizers, phthalic acid esters, citric acid esters, fatty acid esters, glycolate plasticizers, polycarboxylic acid esters, and the like. It is preferable to include at least one plasticizer. Of these, at least one is preferably a polyhydric alcohol ester plasticizer.

多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is a plasticizer comprising an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferably it is a 2-20 valent aliphatic polyhydric alcohol ester.

本発明に用いられる多価アルコールは次の一般式(1)で表される。   The polyhydric alcohol used in the present invention is represented by the following general formula (1).

一般式(1) R1−(OH)n
但し、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール性水酸基を表す。
Formula (1) R 1- (OH) n
However, R 1 represents an n-valent organic group, n represents a positive integer of 2 or more, and the OH group represents an alcoholic and / or phenolic hydroxyl group.

好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。   Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane- Examples include 1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and xylitol. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.

本発明の多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester of this invention, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention.

好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。   Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto.

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。   As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. The number of carbon atoms is more preferably 1-20, and particularly preferably 1-10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。   Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanoic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid.

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。   Examples of preferable alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and derivatives thereof.

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に安息香酸が好ましい。   Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, and tetralincarboxylic acid. The aromatic monocarboxylic acid which has, or those derivatives can be mentioned. Benzoic acid is particularly preferable.

多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably 300 to 1500, and more preferably 350 to 750. A higher molecular weight is preferred because it is less likely to volatilize, and a smaller one is preferred in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are.

以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。   Below, the specific compound of a polyhydric alcohol ester is illustrated.

Figure 2006003511
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Figure 2006003511
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グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることが出来る。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。   The glycolate plasticizer is not particularly limited, but alkylphthalylalkyl glycolates can be preferably used. Examples of alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl Glycolate, ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycol Butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalate Ethyl glycolate, and the like.

フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。   Examples of the phthalate ester plasticizer include diethyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, dioctyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, and dicyclohexyl terephthalate.

クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。   Examples of the citrate plasticizer include acetyl trimethyl citrate, acetyl triethyl citrate, and acetyl tributyl citrate.

脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。   Examples of fatty acid ester plasticizers include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, and dibutyl sebacate.

多価カルボン酸エステル系可塑剤も好ましく用いることが出来る。具体的には特開2002−265639号公報の段落番号[0015]〜[0020]記載の多価カルボン酸エステルを可塑剤の一つとして添加することが好ましい。   Polycarboxylic acid ester plasticizers can also be preferably used. Specifically, it is preferable to add the polyvalent carboxylic acid ester described in paragraphs [0015] to [0020] of JP-A No. 2002-265639 as one of the plasticizers.

リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。   Examples of the phosphate ester plasticizer include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate and the like.

本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは、少なくとも2種の可塑剤を含有することが好ましい。   The cellulose ester film used in the present invention preferably contains at least two kinds of plasticizers.

2種以上の可塑剤を含有させることによって、可塑剤の溶出を少なくすることが出来る。その理由は明らかではないが、1種類当たりの添加量を減らすことが出来ることと、2種の可塑剤同志及びセルロースエステルとの相互作用によって溶出が抑制されるものと思われる。   By including two or more plasticizers, elution of the plasticizer can be reduced. The reason is not clear, but it seems that elution is suppressed by the ability to reduce the amount added per type and the interaction between the two plasticizers and the cellulose ester.

セルロースエステルフィルム中の可塑剤の総含有量は、固形分総量に対し、5〜30質量%含有させることが好ましい。更に5〜20質量%が好ましく、6〜16質量%がより好ましく、特に好ましくは8〜13質量%である。また、2種の可塑剤の含有量は各々少なくとも1質量%以上であり、好ましくは各々2質量%以上含有することである。   The total content of the plasticizer in the cellulose ester film is preferably 5 to 30% by mass with respect to the total solid content. Furthermore, 5-20 mass% is preferable, 6-16 mass% is more preferable, Especially preferably, it is 8-13 mass%. The contents of the two kinds of plasticizers are each at least 1% by mass, preferably 2% by mass or more.

〈紫外線吸収剤〉
本発明に係るセルロースエステルフィルムは紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長370nmでの透過率が10%以下となるように添加されていることが好ましく、より好ましくは5%以下、更に好ましくは2%以下である。
<Ultraviolet absorber>
The cellulose ester film according to the present invention preferably contains an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber is intended to improve durability by absorbing ultraviolet rays of 400 nm or less, and is particularly preferably added so that the transmittance at a wavelength of 370 nm is 10% or less. Is 5% or less, more preferably 2% or less.

本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。   Although the ultraviolet absorber used in the present invention is not particularly limited, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, inorganic powders Examples include the body.

例えば、5−クロロ−2−(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、(2−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328等のチヌビン類があり、これらはいずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の市販品であり好ましく使用出来る。   For example, 5-chloro-2- (3,5-di-sec-butyl-2-hydroxylphenyl) -2H-benzotriazole, (2-2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side Chain dodecyl) -4-methylphenol, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2,4-benzyloxybenzophenone, etc., and tinuvin 109, tinuvin 171, tinuvin 234, tinuvin 326, tinuvin 327, tinuvin 328, etc. These are commercially available products manufactured by Ciba Specialty Chemicals and can be preferably used.

例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式(1)で示される化合物が好ましく用いられる。   For example, as the benzotriazole ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula (1) is preferably used.

Figure 2006003511
Figure 2006003511

式中、R1、R2、R3、R4及びR5は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または5〜6員の複素環基を表し、R4とR5は閉環して5〜6員の炭素環を形成してもよい。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different, and are a hydrogen atom, halogen atom, nitro group, hydroxyl group, alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxy group, acyloxy Represents a group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, mono- or dialkylamino group, acylamino group or 5- to 6-membered heterocyclic group, and R 4 and R 5 are closed to form a 5- to 6-membered carbocyclic ring May be.

以下に本発明に有用な紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
また本発明に有用な紫外線吸収剤の一つであるベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式(2)で表される化合物が好ましく用いられる。
Specific examples of the ultraviolet absorbent useful in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole A benzophenone-based ultraviolet absorber that is one of the ultraviolet absorbers useful in the present invention Is preferably a compound represented by the following general formula (2).

Figure 2006003511
Figure 2006003511

式中、Yは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Aは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−CO(NH)n−1−D基を表し、Dはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。m及びnは1または2を表す。   In the formula, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, and a phenyl group, and these alkyl group, alkenyl group, and phenyl group may have a substituent. A represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, a cycloalkyl group, an alkylcarbonyl group, an alkylsulfonyl group or a —CO (NH) n-1-D group, and D represents an alkyl group, an alkenyl group or a substituent. Represents a phenyl group which may have m and n represent 1 or 2.

上記において、アルキル基としては例えば、炭素数24までの直鎖または分岐の脂肪族基を表し、アルコキシ基としては例えば、炭素数18までのアルコキシ基で、アルケニル基としては例えば、炭素数16までのアルケニル基で例えばアリル基、2−ブテニル基などを表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換分としてはハロゲン原子、例えばクロール、ブロム、フッ素原子など、ヒドロキシ基、フェニル基、(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子などを置換していてもよい)などが挙げられる。   In the above, the alkyl group represents, for example, a linear or branched aliphatic group having up to 24 carbon atoms, the alkoxy group has, for example, an alkoxy group having up to 18 carbon atoms, and the alkenyl group has, for example, up to 16 carbon atoms. Represents an allyl group, a 2-butenyl group, or the like. In addition, as substituents for alkyl groups, alkenyl groups, and phenyl groups, halogen atoms such as chloro, bromo, and fluorine atoms, hydroxy groups, phenyl groups, (this phenyl group is substituted with alkyl groups or halogen atoms, etc. May be included).

以下に一般式(2)で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
UV−8 :2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−9 :2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−10:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−11:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
更にトリアジン系紫外線吸収剤としては、1,3,5−トリアジン環を有する化合物が好ましく用いられる。
Specific examples of the benzophenone-based compound represented by the general formula (2) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
UV-8: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-9: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-10: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-11: bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
Further, as the triazine-based ultraviolet absorber, a compound having a 1,3,5-triazine ring is preferably used.

また、二種類以上の1,3,5−トリアジン環を有する化合物を併用してもよい。二種類以上の円盤状化合物(例えば、1,3,5−トリアジン環を有する化合物とポルフィリン骨格を有する化合物)を併用してもよい。   Moreover, you may use together the compound which has a 2 or more types of 1,3,5- triazine ring. Two or more kinds of discotic compounds (for example, a compound having a 1,3,5-triazine ring and a compound having a porphyrin skeleton) may be used in combination.

これらの添加剤はセルロースエステルフィルムに対して0.2〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%含有することが好ましい。   These additives are preferably contained in an amount of 0.2 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass with respect to the cellulose ester film.

また、特開2001−235621の一般式(I)で示されているトリアジン系化合物も本発明に係るセルロースエステルフィルムに好ましく用いられる。   Moreover, the triazine type compound shown by the general formula (I) of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-235621 is also preferably used for the cellulose ester film which concerns on this invention.

本発明に係るセルロースエステルフィルムは紫外線吸収剤を2種以上を含有することが好ましい。   The cellulose ester film according to the present invention preferably contains two or more ultraviolet absorbers.

また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることが出来、特に特開平6−148430号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。   As the UV absorber, a polymer UV absorber can be preferably used, and in particular, a polymer type UV absorber described in JP-A-6-148430 is preferably used.

紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒或いはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にデゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。   The method for adding the UV absorber is to add the UV absorber to the dope after dissolving the UV absorber in an alcohol such as methanol, ethanol or butanol, an organic solvent such as methylene chloride, methyl acetate, acetone or dioxolane, or a mixed solvent thereof. Or you may add directly in dope composition. For an inorganic powder that does not dissolve in an organic solvent, a dissolver or a sand mill is used in the organic solvent and cellulose ester to disperse and then added to the dope.

紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、セルロースエステルフィルムの乾燥膜厚が30〜200μmの場合は、セルロースエステルフィルムに対して0.5〜10質量%が好ましく、0.5〜4質量%が更に好ましく、0.6〜2質量%が特に好ましい。   The amount of the UV absorber used is not uniform depending on the type of UV absorber, usage conditions, etc., but when the dry film thickness of the cellulose ester film is 30 to 200 μm, it is 0.5 to 10 with respect to the cellulose ester film. % By mass is preferred, 0.5-4% by mass is more preferred, and 0.6-2% by mass is particularly preferred.

〈微粒子〉
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムには、微粒子を含有させることが出来る。
<Fine particles>
The cellulose ester film used in the present invention can contain fine particles.

本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、酸化アンチモン或いはこれらの複合酸化物、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。   As fine particles used in the present invention, as examples of inorganic compounds, silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, tin oxide, indium oxide, zinc oxide, ITO, oxidation Mention may be made of antimony or composite oxides thereof, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low turbidity, and silicon dioxide is particularly preferable.

微粒子の一次粒子の平均径は5nm〜1μmが好ましく、更に好ましいのは5〜50nmである。これらは主に粒径0.05〜1μm好ましくは0.05〜0.3μmの一次粒子若しくは2次凝集体として含有されることが好ましい。セルロースエステルフィルム中のこれらの微粒子の含有量は0.001〜1質量%であることが好ましく、特に0.01〜0.1質量%が好ましい。共流延法による多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、表層にこれらの微粒子を含有することが好ましい。   The average primary particle diameter of the fine particles is preferably 5 nm to 1 μm, and more preferably 5 to 50 nm. These are mainly contained as primary particles or secondary aggregates having a particle size of 0.05 to 1 μm, preferably 0.05 to 0.3 μm. The content of these fine particles in the cellulose ester film is preferably 0.001 to 1% by mass, and particularly preferably 0.01 to 0.1% by mass. In the case of a cellulose ester film having a multilayer structure by the co-casting method, it is preferable that these fine particles are contained in the surface layer.

本発明の方法で凸部を形成することでフィルム中に添加する微粒子の量を少なくすることが出来る。これによって透明性に優れかつ取り扱い性にも優れたフィルムを提供することが出来る。   By forming convex portions by the method of the present invention, the amount of fine particles added to the film can be reduced. As a result, it is possible to provide a film having excellent transparency and excellent handleability.

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Silicon dioxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.). I can do it.

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Zirconium oxide fine particles are commercially available under the trade names of Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used.

ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、架橋アクリル樹脂及び架橋ポリスチレン樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Examples of the polymer include silicone resin, fluororesin, cross-linked acrylic resin, and cross-linked polystyrene resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがセルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられるセルロースエステルフィルムにおいては活性線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が1.0以下であることが好ましく、0.1〜0.8であることが更に好ましい。また、活性線硬化樹脂層を設ける面の動摩擦係数が1.0以下であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large effect of reducing the friction coefficient while keeping the turbidity of the cellulose ester film low. In the cellulose ester film used in the present invention, the dynamic friction coefficient on the back side of the actinic radiation curable resin layer is preferably 1.0 or less, and more preferably 0.1 to 0.8. Moreover, it is preferable that the dynamic friction coefficient of the surface which provides an active ray cured resin layer is 1.0 or less.

〈染料〉
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムには、色味調整のため染料を添加することも出来る。例えば、フィルムの黄色味を抑えるために青色染料を添加してもよい。好ましい染料としてはアンスラキノン系染料が挙げられる。
<dye>
A dye may be added to the cellulose ester film used in the present invention to adjust the color. For example, a blue dye may be added to suppress the yellowness of the film. Preferred examples of the dye include anthraquinone dyes.

アンスラキノン系染料は、アンスラキノンの1位から8位迄の任意の位置に任意の置換基を有することが出来る。好ましい置換基としてはアニリノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、または水素原子が挙げられる。特に特開2001−154017号公報の段落番号[0034]〜[0037]記載の青色染料、特にアントラキノン系染料を含有することが好ましい。また、赤外吸収染料を含有することが好ましく、特に特開2001−154017号公報のチオピリリウムスクアリリウム染料、チオピリリウムクロコニウム染料、ピリリウムスクアリリウム染料、ピリリウムクロコニウム染料の内のいずれかであることが好ましい。具体的には該公報の一般式(1)若しくは一般式(2)で示されている赤外吸収染料を好ましく添加することが出来る。   The anthraquinone dye may have an arbitrary substituent at an arbitrary position from the 1st position to the 8th position of the anthraquinone. Preferred substituents include an anilino group, hydroxyl group, amino group, nitro group, or hydrogen atom. In particular, it is preferable to contain a blue dye described in paragraphs [0034] to [0037] of JP-A No. 2001-154017, particularly an anthraquinone dye. Further, it preferably contains an infrared absorbing dye, and in particular, any one of thiopyrylium squarylium dye, thiopyrylium croconium dye, pyrylium squarylium dye, and pyrylium croconium dye disclosed in JP-A-2001-154017. It is preferable that Specifically, an infrared absorbing dye represented by the general formula (1) or the general formula (2) of the publication can be preferably added.

各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子は濾過材への負荷を減らすために、一部または全量をインライン添加することが好ましい。   Various additives may be batch-added to a dope that is a cellulose ester-containing solution before film formation, or an additive solution may be separately prepared and added in-line. In particular, it is preferable to add a part or all of the fine particles in-line in order to reduce the load on the filter medium.

添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤100質量部に対して1〜10質量部で、より好ましくは、3〜5質量部である。   When the additive solution is added in-line, it is preferable to dissolve a small amount of cellulose ester in order to improve mixing with the dope. The amount of the cellulose ester is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 3 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solvent.

本発明においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー(東レエンジニアリング製)、SWJ(東レ静止型管内混合器 Hi−Mixer)等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。   In order to perform in-line addition and mixing in the present invention, for example, an in-line mixer such as a static mixer (manufactured by Toray Engineering), SWJ (Toray static type in-tube mixer Hi-Mixer) or the like is preferably used.

〈セルロースエステルフィルムの製造方法〉
次に、本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。
<Method for producing cellulose ester film>
Next, the manufacturing method of the cellulose ester film used for this invention is demonstrated.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。   The cellulose ester film used in the present invention was produced by dissolving a cellulose ester and an additive in a solvent to prepare a dope, casting a dope on a belt-shaped or drum-shaped metal support, and casting. It is performed by a step of drying the dope as a web, a step of peeling from the metal support, a step of stretching or maintaining the width, a step of further drying, and a step of winding up the finished film.

ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減出来て好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、更に好ましくは、15〜25質量%である。   The process for preparing the dope will be described. The concentration of cellulose ester in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced. However, if the concentration of cellulose ester is too high, the load during filtration increases and the filtration accuracy increases. Becomes worse. As a density | concentration which makes these compatible, 10-35 mass% is preferable, More preferably, it is 15-25 mass%.

本発明のドープで用いられる溶剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70〜98質量%であり、貧溶剤が2〜30質量%である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。その為、セルロースエステルのアシル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースエステルの酢酸エステル(アセチル基置換度2.4)、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル(アセチル基置換度2.8)では貧溶剤となる。   The solvent used in the dope of the present invention may be used alone or in combination of two or more. However, it is preferable from the viewpoint of production efficiency that a good solvent and a poor solvent of cellulose ester are mixed and used. The more solvent is preferable from the viewpoint of solubility of the cellulose ester. The preferable range of the mixing ratio of the good solvent and the poor solvent is 70 to 98% by mass for the good solvent and 2 to 30% by mass for the poor solvent. With a good solvent and a poor solvent, what dissolve | melts the cellulose ester to be used independently is defined as a good solvent, and what poorly swells or does not melt | dissolve is defined as a poor solvent. Therefore, depending on the acyl group substitution degree of the cellulose ester, the good solvent and the poor solvent change. For example, when acetone is used as the solvent, the cellulose ester acetate ester (acetyl group substitution degree 2.4), cellulose acetate propionate It becomes a good solvent, and becomes a poor solvent for cellulose acetate (acetyl group substitution degree 2.8).

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。   Although the good solvent used for this invention is not specifically limited, Organic halogen compounds, such as a methylene chloride, dioxolanes, acetone, methyl acetate, methyl acetoacetate, etc. are mentioned. Particularly preferred is methylene chloride or methyl acetate.

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が0.01〜2質量%含有していることが好ましい。   Moreover, although the poor solvent used for this invention is not specifically limited, For example, methanol, ethanol, n-butanol, cyclohexane, cyclohexanone, etc. are used preferably. Moreover, it is preferable that 0.01-2 mass% of water contains in dope.

上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることが出来る。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱出来る。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。   A general method can be used as a method of dissolving the cellulose ester when preparing the dope described above. When heating and pressurization are combined, it is possible to heat above the boiling point at normal pressure. It is preferable to stir and dissolve while heating at a temperature that is equal to or higher than the boiling point of the solvent at normal pressure and that the solvent does not boil under pressure, in order to prevent the generation of massive undissolved materials called gels and mamacos. Moreover, after mixing a cellulose ester with a poor solvent and making it wet or swell, the method of adding a good solvent and melt | dissolving is also used preferably.

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。   The pressurization may be performed by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or a method of increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.

溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45〜120℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。   The heating temperature with the addition of a solvent is preferably higher from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester, but if the heating temperature is too high, the required pressure increases and the productivity deteriorates. A preferable heating temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 60 to 110 ° C, and still more preferably 70 ° C to 105 ° C. The pressure is adjusted so that the solvent does not boil at the set temperature.

若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることが出来る。   Alternatively, a cooling dissolution method is also preferably used, whereby the cellulose ester can be dissolved in a solvent such as methyl acetate.

次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題がある。この為絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001〜0.008mmの濾材がより好ましく、0.003〜0.006mmの濾材が更に好ましい。   Next, this cellulose ester solution is filtered using a suitable filter medium such as filter paper. As the filter medium, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters and the like, but there is a problem that the filter medium is likely to be clogged if the absolute filtration accuracy is too small. For this reason, a filter medium with an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less is preferable, a filter medium with 0.001 to 0.008 mm is more preferable, and a filter medium with 0.003 to 0.006 mm is still more preferable.

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン(登録商標)等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。   There are no particular restrictions on the material of the filter medium, and ordinary filter media can be used. However, plastic filter media such as polypropylene and Teflon (registered trademark), and metal filter media such as stainless steel do not drop off fibers. preferable. It is preferable to remove and reduce impurities, particularly bright spot foreign matter, contained in the raw material cellulose ester by filtration.

輝点異物とは、2枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースエステルフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点(異物)のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、更に好ましくは50個/m2以下であり、更に好ましくは0〜10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。 A bright spot foreign substance is when two polarizing plates are placed in a crossed Nicol state, a cellulose ester film is placed between them, light is applied from the side of one polarizing plate, and observed from the side of the other polarizing plate. It is a point (foreign matter) where light from the opposite side appears to leak, and the number of bright spots having a diameter of 0.01 mm or more is preferably 200 / cm 2 or less. More preferably, it is 100 pieces / cm < 2 > or less, More preferably, it is 50 pieces / m < 2 > or less, More preferably, it is 0-10 pieces / cm < 2 > or less. Further, it is preferable that the number of bright spots of 0.01 mm or less is small.

ドープの濾過は通常の方法で行うことが出来るが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差(差圧という)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃であることが更に好ましい。   The dope can be filtered by an ordinary method, but the method of filtering while heating at a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal pressure and in a range where the solvent does not boil under pressure is the filtration pressure before and after filtration. The increase in the difference (referred to as differential pressure) is small and preferable. A preferred temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and still more preferably 45 to 55 ° C.

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることが更に好ましい。   A smaller filtration pressure is preferred. The filtration pressure is preferably 1.6 MPa or less, more preferably 1.2 MPa or less, and further preferably 1.0 MPa or less.

ここで、ドープの流延について説明する。   Here, the dope casting will be described.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることが出来る。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速く出来るので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set to −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferable because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or flatness may deteriorate. The preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、更に好ましくは20〜40質量%または60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%または70〜120質量%である。   In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%.

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。   In the present invention, the amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
尚、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%以下である。   Further, in the drying step of the cellulose ester film, the web is peeled off from the metal support, and further dried, and the residual solvent amount is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, Especially preferably, it is 0-0.01 mass% or less.

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a method of drying while transporting the web by a tenter method is adopted.

本発明の光学フィルム用のセルロースエステルフィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し(MD延伸)、更にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は1.05〜1.3倍であり、1.05〜1.15倍が更に好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が1.12倍〜1.44倍となっていることが好ましく、1.15倍〜1.32倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることが出来る。   In order to produce the cellulose ester film for the optical film of the present invention, the web is stretched in the transport direction (MD stretching) where the residual solvent amount of the web is large immediately after peeling from the metal support, and both ends of the web are clipped. It is preferable to perform stretching in the width direction by a tenter method gripped by. The preferred draw ratio in both the machine direction and the transverse direction is 1.05 to 1.3 times, and more preferably 1.05 to 1.15 times. It is preferable that the area is 1.12 times to 1.44 times, and preferably 1.15 times to 1.32 times due to longitudinal and lateral stretching. This can be determined by the draw ratio in the longitudinal direction × the draw ratio in the transverse direction.

剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力及びその後の搬送張力によって延伸することが好ましい。例えば剥離張力を210N/m以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは220〜300N/mである。   In order to stretch in the machine direction immediately after peeling, it is preferable to stretch by peeling tension and subsequent transport tension. For example, it is preferable to peel at a peeling tension of 210 N / m or more, and particularly preferably 220 to 300 N / m.

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことが出来るが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web is not particularly limited, and can be generally performed with hot air, infrared rays, a heating roll, microwave, or the like, but it is preferably performed with hot air in terms of simplicity.

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は30〜180℃で段階的に高くしていくことが好ましく、50〜140℃の範囲で行うことが寸法安定性を良くするため更に好ましい。   The drying temperature in the web drying step is preferably increased stepwise from 30 to 180 ° C, and more preferably from 50 to 140 ° C in order to improve dimensional stability.

セルロースエステルフィルムの膜厚は、特に限定はされないが10〜200μmが好ましく用いられる。   Although the film thickness of a cellulose-ester film is not specifically limited, 10-200 micrometers is used preferably.

セルロースエステルフィルムの膜厚の変動は幅方向、長手方向とも±3%以内が好ましく、更に好ましくは±2%以内であり、特に好ましくは±0.5%以内である。   The variation of the film thickness of the cellulose ester film is preferably within ± 3% in both the width direction and the longitudinal direction, more preferably within ± 2%, and particularly preferably within ± 0.5%.

本発明の光学フィルムは、幅1〜4mのものが好ましく用いられる。本発明によれば、特に幅1.4〜4mの広幅フィルムの取り扱い性を著しく改善することが出来る。   The optical film of the present invention preferably has a width of 1 to 4 m. According to the present invention, the handleability of a wide film having a width of 1.4 to 4 m can be remarkably improved.

〈物性〉
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの透湿度は、40℃、90%RHで850g/m2・24h以下であり、好ましくは20〜800g/m2・24hであり、20〜750g/m2・24hであることが特に好ましい。透湿度はJIS Z0208に記載の方法に従い測定することが出来る。
<Physical properties>
The moisture permeability of the cellulose ester film used in the present invention, 40 ° C., or less 850g / m 2 · 24h at 90% RH, preferably 20~800g / m 2 · 24h, 20~750g / m 2 · 24 h is particularly preferable. The moisture permeability can be measured according to the method described in JIS Z0208.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは下記測定による破断伸度は10〜80%であることが好ましく20〜50%であることが更に好ましい。   The cellulose ester film used in the present invention has a breaking elongation measured by the following measurement of preferably 10 to 80%, more preferably 20 to 50%.

(破断点伸度の測定)
任意の残留溶媒を含むフィルムを試料幅を10mm、長さ130mmに切り出し、23℃、55%RHで24時間保管した試料を、チャック間距離100mmにして引っ張り速度100mm/分で引っ張り試験を行い求めることが出来る。
(Measurement of elongation at break)
A film containing an arbitrary residual solvent is cut into a sample width of 10 mm and a length of 130 mm, and a sample stored for 24 hours at 23 ° C. and 55% RH is obtained by performing a tensile test at a pulling speed of 100 mm / min with a distance between chucks of 100 mm. I can do it.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの下記測定による可視光透過率は90%以上であることが好ましく、93%以上であることが更に好ましい。   The visible light transmittance of the cellulose ester film used in the present invention as measured by the following measurement is preferably 90% or more, and more preferably 93% or more.

(透過率の測定)
透過率Tは、分光高度計U−3400(日立製作所(株))を用い、各試料を350〜700nmの波長領域で10nmおきに求めた分光透過率τ(λ)から、380、400、500nmの透過率を算出することが出来る。
(Measurement of transmittance)
The transmittance T is 380, 400, 500 nm from the spectral transmittance τ (λ) obtained every 10 nm in the wavelength region of 350-700 nm using a spectral altimeter U-3400 (Hitachi, Ltd.). Transmittance can be calculated.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの下記測定によるヘイズは1%未満であることが好ましく、0.5%未満であることが更に好ましく、0〜0.1%であることが特に好ましい。可視光の透過率は90%以上が好ましく、より好ましく92%以上であり、更に94%以上であることが好ましい。   The haze of the cellulose ester film used in the present invention is preferably less than 1%, more preferably less than 0.5%, and particularly preferably 0 to 0.1%. The visible light transmittance is preferably 90% or more, more preferably 92% or more, and further preferably 94% or more.

(ヘイズ値)
JIS K7105に従って、ヘイズメーター(1001DP型、日本電色工業(株)製)を用いて測定し、透明性の指標とすることが出来る。
(Haze value)
According to JIS K7105, it can be measured using a haze meter (1001DP type, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) and can be used as an index of transparency.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの面内レターデーション値(Ro)が0〜70nm以下であることが好ましい。より好ましくは0〜30nm以下であリ、より好ましくは0〜10nm以下である。膜厚方向のレターデーション値(Rt)は、0〜400nmであることが好ましく、10〜200nmであることが好ましく、更に30〜150nmであることが好ましい。   The in-plane retardation value (Ro) of the cellulose ester film used in the present invention is preferably 0 to 70 nm or less. More preferably, it is 0-30 nm or less, More preferably, it is 0-10 nm or less. The retardation value (Rt) in the film thickness direction is preferably 0 to 400 nm, preferably 10 to 200 nm, and more preferably 30 to 150 nm.

レターデーション値(Ro)(Rt)は以下の式によって求めることが出来る。   The retardation value (Ro) (Rt) can be obtained by the following equation.

Ro=(nx−ny)×d
Rt=((nx+ny)/2−nz)×d
ここにおいて、dはフィルムの厚み(nm)、屈折率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう)、ny(フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率)、nz(厚み方向におけるフィルムの屈折率)である。
Ro = (nx−ny) × d
Rt = ((nx + ny) / 2−nz) × d
Here, d is the thickness (nm) of the film, the refractive index nx (also referred to as the maximum refractive index in the plane of the film, the refractive index in the slow axis direction), ny (in the direction perpendicular to the slow axis in the film plane). ) (Refractive index of the film in the thickness direction).

尚、レターデーション値(Ro)、(Rt)、遅相軸角度は自動複屈折率計を用いて測定することが出来る。例えば、KOBRA−21ADH(王子計測機器(株))を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波長が590nmで求めることが出来る。   The retardation values (Ro) and (Rt) and the slow axis angle can be measured using an automatic birefringence meter. For example, the wavelength can be obtained at 590 nm in an environment of 23 ° C. and 55% RH using KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments).

また、遅相軸はフィルムの幅手方向±1°若しくは長尺方向±1°にあることが好ましい。   The slow axis is preferably in the width direction ± 1 ° of the film or in the longitudinal direction ± 1 °.

本発明では、共流延または逐次流延若しくは塗布によって2層以上の多層構成とした熱可塑性樹脂フィルムを用いてもよい。   In the present invention, a thermoplastic resin film having a multilayer structure of two or more layers by co-casting or sequential casting or coating may be used.

また、特開2000−352620号公報段落番号[0036]〜[0105]記載のセルロースエステルフィルムも好ましく用いることが出来る。或いは特開2004−29199号公報段落番号[0013]〜[0124]記載のセルロースエステルフィルムも好ましく用いられる。   Moreover, the cellulose-ester film of Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-352620 paragraph number [0036]-[0105] description can also be used preferably. Alternatively, cellulose ester films described in JP-A-2004-29199, paragraph numbers [0013] to [0124] are also preferably used.

〈シクロオレフィンポリマー〉
次に、本発明に好ましく用いられるシクロオレフィンポリマーフィルムについて説明する。
<Cycloolefin polymer>
Next, the cycloolefin polymer film preferably used in the present invention will be described.

本発明に用いられるシクロオレフィンポリマーは脂環式構造を含有する重合体樹脂からなるものである。   The cycloolefin polymer used in the present invention is composed of a polymer resin containing an alicyclic structure.

好ましいシクロオレフィンポリマーは、環状オレフィンを重合または共重合した樹脂である。環状オレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔7.4.0.110,13.02,7〕トリデカ−2,4,6,11−テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、3,4−ジメチルシクロペンテン、3−メチルシクロヘキセン、2−(2−メチルブチル)−1−シクロヘキセン、シクロオクテン、3a,5,6,7a−テトラヒドロ−4,7−メタノ−1H−インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。これら環状オレフィンには置換基として極性基を有していてもよい。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシル基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基、カルボン酸無水物基などが挙げられ、特に、エステル基、カルボキシル基またはカルボン酸無水物基が好適である。   A preferred cycloolefin polymer is a resin obtained by polymerizing or copolymerizing a cyclic olefin. Examples of the cyclic olefin include norbornene, dicyclopentadiene, tetracyclododecene, ethyltetracyclododecene, ethylidenetetracyclododecene, tetracyclo [7.4.0.110, 13.02,7] trideca-2,4. Unsaturated hydrocarbons of polycyclic structures such as 6,11-tetraene and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, 3,4-dimethylcyclopentene, 3-methylcyclohexene, 2- (2-methylbutyl) -1-cyclohexene, cyclo Examples thereof include monocyclic unsaturated hydrocarbons such as octene, 3a, 5,6,7a-tetrahydro-4,7-methano-1H-indene, cycloheptene, cyclopentadiene, cyclohexadiene, and derivatives thereof. These cyclic olefins may have a polar group as a substituent. Examples of the polar group include a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxyl group, an epoxy group, a glycidyl group, an oxycarbonyl group, a carbonyl group, an amino group, an ester group, and a carboxylic acid anhydride group. Or a carboxylic anhydride group is preferred.

好ましいシクロオレフィンポリマーは、環状オレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテンなどのエチレンまたはα−オレフィン;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、1,7−オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。   Preferred cycloolefin polymers may be those obtained by addition copolymerization of monomers other than cyclic olefins. Addition copolymerizable monomers include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene and other ethylene or α-olefins; 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl- Examples include dienes such as 1,4-hexadiene and 1,7-octadiene.

環状オレフィンは、付加重合反応或いはメタセシス開環重合反応によって得られる。重合は触媒の存在下で行われる。付加重合用触媒として、例えば、バナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。開環重合用触媒として、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金などの金属のハロゲン化物、硝酸塩またはアセチルアセトン化合物と、還元剤とからなる重合触媒;或いは、チタン、バナジウム、ジルコニウム、タングステン、モリブデンなどの金属のハロゲン化物またはアセチルアセトン化合物と、有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。重合温度、圧力等は特に限定されないが、通常−50℃〜100℃の重合温度、0〜490N/cm2の重合圧力で重合させる。 The cyclic olefin is obtained by an addition polymerization reaction or a metathesis ring-opening polymerization reaction. The polymerization is carried out in the presence of a catalyst. Examples of the addition polymerization catalyst include a polymerization catalyst composed of a vanadium compound and an organoaluminum compound. As a catalyst for ring-opening polymerization, a polymerization catalyst comprising a metal halide such as ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, platinum, nitrate or acetylacetone compound and a reducing agent; or titanium, vanadium, zirconium, tungsten, molybdenum Examples thereof include a polymerization catalyst comprising a metal halide such as acetylacetone compound and an organoaluminum compound. The polymerization temperature, pressure and the like are not particularly limited, but the polymerization is usually carried out at a polymerization temperature of -50 ° C to 100 ° C and a polymerization pressure of 0 to 490 N / cm 2 .

本発明に用いるシクロオレフィンポリマーは、環状オレフィンを重合または共重合させた後、水素添加反応させて、分子中の不飽和結合を飽和結合に変えたものであることが好ましい。水素添加反応は、公知の水素化触媒の存在下で、水素を吹き込んで行う。水素化触媒としては、酢酸コバルト/トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート/トリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリド/n−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリド/sec−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネート/ジメチルマグネシウムの如き遷移金属化合物/アルキル金属化合物の組み合わせからなる均一系触媒;ニッケル、パラジウム、白金などの不均一系金属触媒;ニッケル/シリカ、ニッケル/けい藻土、ニッケル/アルミナ、パラジウム/カーボン、パラジウム/シリカ、パラジウム/けい藻土、パラジウム/アルミナの如き金属触媒を担体に担持してなる不均一系固体担持触媒などが挙げられる。   The cycloolefin polymer used in the present invention is preferably a polymer obtained by polymerizing or copolymerizing a cyclic olefin, followed by a hydrogenation reaction to change the unsaturated bond in the molecule to a saturated bond. The hydrogenation reaction is performed by blowing hydrogen in the presence of a known hydrogenation catalyst. Examples of hydrogenation catalysts include cobalt acetate / triethylaluminum, nickel acetylacetonate / triisobutylaluminum, transition metal compounds such as titanocene dichloride / n-butyllithium, zirconocene dichloride / sec-butyllithium, tetrabutoxytitanate / dimethylmagnesium / alkyl. Homogeneous catalyst consisting of a combination of metal compounds; heterogeneous metal catalyst such as nickel, palladium, platinum; nickel / silica, nickel / diatomaceous earth, nickel / alumina, palladium / carbon, palladium / silica, palladium / diatomaceous earth And a heterogeneous solid-supported catalyst in which a metal catalyst such as palladium / alumina is supported on a carrier.

或いは、シクロオレフィンポリマーとして、下記のノルボルネン系ポリマーも挙げられる。ノルボルネン系ポリマーは、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有していることが好ましく、その具体例としては、特開昭62−252406号公報、特開昭62−252407号公報、特開平2−133413号公報、特開昭63−145324号公報、特開昭63−264626号公報、特開平1−240517号公報、特公昭57−8815号公報、特開平5−39403号公報、特開平5−43663号公報、特開平5−43834号公報、特開平5−70655号公報、特開平5−279554号公報、特開平6−206985号公報、特開平7−62028号公報、特開平8−176411号公報、特開平9−241484号公報等に記載されたものが好ましく利用出来るが、これらに限定されるものではない。また、これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   Or the following norbornene-type polymer is also mentioned as a cycloolefin polymer. The norbornene-based polymer preferably has a norbornene skeleton as a repeating unit. Specific examples thereof include JP-A-62-252406, JP-A-62-2252407, and JP-A-2-133413. JP-A-63-145324, JP-A-63-264626, JP-A-1-240517, JP-B-57-8815, JP-A-5-39403, JP-A-5-43663 JP-A-5-43834, JP-A-5-70655, JP-A-5-279554, JP-A-6-206985, JP-A-7-62028, JP-A-8-176411, Although what was described in Kaihei 9-241484 etc. can utilize preferably, it is not limited to these. Moreover, these may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

本発明においては、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式(I)〜(IV)のいずれかで表される繰り返し単位を有するものが好ましい。   In the present invention, among the norbornene-based polymers, those having a repeating unit represented by any of the following structural formulas (I) to (IV) are preferable.

Figure 2006003511
Figure 2006003511

前記構造式(I)〜(IV)中、A、B、C及びDは、各々独立して、水素原子または1価の有機基を表す。   In the structural formulas (I) to (IV), A, B, C and D each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group.

また、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式(V)または(VI)で表される化合物の少なくとも1種と、これと共重合可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体も好ましい。   Among the norbornene-based polymers, a polymer obtained by metathesis polymerization of at least one compound represented by the following structural formula (V) or (VI) and an unsaturated cyclic compound copolymerizable therewith. A hydrogenated polymer obtained by hydrogenating is also preferred.

Figure 2006003511
Figure 2006003511

前記構造式中、A、B、C及びDは、各々独立して、水素原子または1価の有機基を表す。   In the structural formula, A, B, C and D each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group.

ここで、上記A、B、C及びDは特に限定されないが、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、または、少なくとも2価の連結基を介して有機基が連結されてもよく、これらは同じであっても異なっていてもよい。また、AまたはBとCまたはDは単環または多環構造を形成してもよい。ここで、上記少なくとも2価の連結基とは、酸素原子、イオウ原子、窒素原子に代表されるヘテロ原子を含み、例えばエーテル、エステル、カルボニル、ウレタン、アミド、チオエーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、上記連結基を介し、上記有機基は更に置換されてもよい。   Here, A, B, C and D are not particularly limited, but preferably an organic group may be linked via a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, or at least a divalent linking group. These may be the same or different. A or B and C or D may form a monocyclic or polycyclic structure. Here, the at least divalent linking group includes a hetero atom typified by an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom, and examples thereof include ether, ester, carbonyl, urethane, amide, thioether, and the like. It is not limited. In addition, the organic group may be further substituted via the linking group.

また、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセンなどの炭素数2〜20のα−オレフィン、及びこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、3a,5,6,7a−テトラヒドロ−4,7−メタノ−1H−インデンなどのシクロオレフィン、及びこれらの誘導体;1、4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、1,7−オクタジエンなどの非共役ジエン;などが用いられる。これらの中でも、α−オレフィン、特にエチレンが好ましい。   Examples of other monomers copolymerizable with the norbornene-based monomer include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, C2-C20 alpha olefins, such as 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-eicocene, and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, cyclooctene, 3a, 5,6,7a-tetrahydro-4,7 -Cycloolefins such as methano-1H-indene, and derivatives thereof; non 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, 1,7-octadiene, etc. Conjugated dienes; and the like are used. Among these, an α-olefin, particularly ethylene is preferable.

これらの、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーは、それぞれ単独で、或いは2種以上を組み合わせて使用することが出来る。ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとを付加共重合する場合は、付加共重合体中のノルボルネン系モノマー由来の構造単位と共重合可能なその他のモノマー由来の構造単位との割合が、質量比で通常30:70〜99:1、好ましくは50:50〜97:3、より好ましくは70:30〜95:5の範囲となるように適宜選択される。   These other monomers copolymerizable with the norbornene-based monomer can be used alone or in combination of two or more. In the case of addition copolymerization of a norbornene monomer and another monomer copolymerizable therewith, the ratio of the structural unit derived from the norbornene monomer and the structural unit derived from the other monomer copolymerizable in the addition copolymer However, it is appropriately selected so that the mass ratio is usually 30:70 to 99: 1, preferably 50:50 to 97: 3, more preferably 70:30 to 95: 5.

合成したポリマーの分子鎖中に残留する不飽和結合を水素添加反応により飽和させる場合には、耐光劣化や耐候劣化性などの観点から、水素添加率を90%以上、好ましくは95%以上、特に好ましくは99%以上とする。   When the unsaturated bond remaining in the molecular chain of the synthesized polymer is saturated by a hydrogenation reaction, the hydrogenation rate is 90% or more, preferably 95% or more, particularly from the viewpoint of light resistance deterioration, weather resistance deterioration, etc. Preferably it is 99% or more.

この他、本発明で用いられるシクロオレフィンポリマーとしては、特開平5−2108号公報段落番号[0014]〜[0019]記載の熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂、特開2001−277430号公報段落番号[0015]〜[0031]記載の熱可塑性ノルボルネン系ポリマー、特開2003−14901号公報段落番号[0008]〜[0045]記載の熱可塑性ノルボルネン系樹脂、特開2003−139950号公報段落番号[0014]〜[0028]記載のノルボルネン系樹脂組成物、特開2003−161832号公報段落番号[0029]〜[0037]記載のノルボルネン系樹脂、特開2003−195268号公報段落番号[0027]〜[0036]記載のノルボルネン系樹脂、特開2003−211589号公報段落番号[0009]〜[0023]脂環式構造含有重合体樹脂、特開2003−211588号公報段落番号[0008]〜[0024]記載のノルボルネン系重合体樹脂若しくはビニル脂環式炭化水素重合体樹脂などが挙げられる。   In addition, examples of the cycloolefin polymer used in the present invention include thermoplastic saturated norbornene resins described in paragraph Nos. [0014] to [0019] of JP-A-5-2108, and paragraph Nos. [0015] of JP-A-2001-277430. ] To [0031] thermoplastic norbornene polymers, JP 2003-14901 paragraph Nos. [0008] to [0045] thermoplastic norbornene resins, JP 2003-139950 paragraph Nos. [0014] to [0028] Norbornene-based resin composition, paragraph Nos. [0029] to [0037] described in JP-A No. 2003-161832, paragraph Nos. [0027] to [0036] described in JP-A No. 2003-195268 Norbornene resin, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-211589 Paragraph Nos. [0009] to [0023] alicyclic structure-containing polymer resin, norbornene polymer resin or vinyl alicyclic hydrocarbon heavy as described in JP-A-2003-212588, paragraph Nos. [0008] to [0024] Examples include coalesced resins.

具体的には、日本ゼオン(株)製ゼオネックス、ゼオノア、JSR(株)製アートン、三井化学(株)製アペル(APL8008T、APL6509T、APL6013T、APL5014DP、APL6015T)などが好ましく用いられる。   Specifically, ZEONEX, ZEONOR manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., Arton manufactured by JSR Corporation, APPEL manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. (APL8008T, APL6509T, APL6013T, APL5014DP, APL6015T) and the like are preferably used.

本発明で使用されるシクロオレフィンポリマーの分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液)のゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法で測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常、5000〜500000、好ましくは8000〜200000、より好ましくは10000〜100000の範囲である時に、成形体の機械的強度、及び成形加工性とが高度にバランスされて好適である。   The molecular weight of the cycloolefin polymer used in the present invention is appropriately selected according to the purpose of use, and was measured by a gel permeation chromatography method of a cyclohexane solution (or a toluene solution when the polymer resin does not dissolve). When the polyisoprene or polystyrene-equivalent weight average molecular weight is usually in the range of 5,000 to 500,000, preferably 8,000 to 200,000, more preferably 10,000 to 100,000, the mechanical strength and molding processability of the molded body are high. Balanced and suitable.

また、シクロオレフィンポリマー100質量部に対して、低揮発性の酸化防止剤を0.01〜5質量部の割合で配合すると、成形加工時のポリマーの分解や着色を効果的に防止することが出来る。   Moreover, when a low-volatile antioxidant is blended at a ratio of 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cycloolefin polymer, it can effectively prevent the polymer from being decomposed or colored during the molding process. I can do it.

酸化防止剤としては、20℃における蒸気圧が10-5Pa以下、特に好ましくは10-8Pa以下の酸化防止剤が望ましい。蒸気圧が10-5Paより高い酸化防止剤は、押出成形する場合に発泡したり、また、高温にさらされた時に成形品の表面から酸化防止剤が揮散するという問題が起こる。 As the antioxidant, an antioxidant having a vapor pressure at 20 ° C. of 10 −5 Pa or less, particularly preferably 10 −8 Pa or less is desirable. Antioxidants having a vapor pressure higher than 10 −5 Pa cause foaming during extrusion molding, and the antioxidants volatilize from the surface of the molded product when exposed to high temperatures.

本発明で使用出来る酸化防止剤としては、例えば、次のようなものを挙げることが出来、これらの内の一種または数種を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the antioxidant that can be used in the present invention include the following, and one or several of these may be used in combination.

ヒンタードフェノール系:2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチルフェノール、4−ヒドロキシメチル−2,6−ジ−t−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−α−メトキシ−p−ジメチル−フェノール、2,4−ジ−t−アミルフェノール、t−ブチル−m−クレゾール、4−t−ブチルフェノール、スチレン化フェノール、3−t−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、2,4−ジメチル−6−t−ブチルフェノール、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、4,4′−ビスフェノール、4,4′−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−α−メチルシクロヘキシルフェノール)、4,4′−メチレン−ビス−(2−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、1,1′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルナフトール)、4,4′−ブチリデン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチル−メタ−クレゾール)、2,2′−チオ−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、ジ−o−クレゾールスルフィド、2,2′−チオ−ビス−(2−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−チオ−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−チオ−ビス−(2,3−ジ−sec−アミルフェノール)、1,1′−チオ−ビス−(2−ナフトール)、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルエーテル、1,6−ヘキサンジオール−ビス−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル)カルシウム、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,3,5−トリメチル−2,4,6,−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシジェニル)プロピオネート〕等。   Hintard phenol type: 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,6-di-t-butylphenol, 4-hydroxymethyl-2,6-di-t-butylphenol, 2,6-di -T-butyl-α-methoxy-p-dimethyl-phenol, 2,4-di-t-amylphenol, t-butyl-m-cresol, 4-t-butylphenol, styrenated phenol, 3-t-butyl- 4-hydroxyanisole, 2,4-dimethyl-6-tert-butylphenol, octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 3,5-di-tert-butyl-4 -Hydroxybenzylphosphonate-diethyl ester, 4,4'-bisphenol, 4,4'-bis- (2,6-di-t-butylphenol), , 2'-methylene-bis- (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6-α-methylcyclohexylphenol), 4,4'-methylene- Bis- (2-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-methylene-bis- (2,6-di-t-butylphenol), 1,1'-methylene-bis- (2,6-di -T-butylnaphthol), 4,4'-butylidene-bis- (2,6-di-t-butyl-meta-cresol), 2,2'-thio-bis- (4-methyl-6-t- Butylphenol), di-o-cresol sulfide, 2,2'-thio-bis- (2-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-thio-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol) 4,4'-thio-bis- (2, -Di-sec-amylphenol), 1,1'-thio-bis- (2-naphthol), 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl ether, 1,6-hexanediol-bis- [ 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylanilino) -1,3,5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thiobis (4-methyl-6) -T-butylphenol), N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy) Benzylphospho Acid ethyl) calcium, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, triethylene glycol-bis [3- (3- t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,3,5-trimethyl-2,4,6, -tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, Tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxygenyl) propionate], etc. .

アミノフェノール類:ノルマルブチル−p−アミノフェノール、ノルマルブチロイル−p−アミノフェノール、ノルマルペラゴノイル−p−アミノフェノール、ノルマルラウロイル−p−アミノフェノール、ノルマルステアロイル−p−アミノフェノール、2、6−ジ−t−ブチル−α−ジメチル、アミノ−p−クレゾール等。   Aminophenols: normal butyl-p-aminophenol, normal butyroyl-p-aminophenol, normal peragonoyl-p-aminophenol, normal lauroyl-p-aminophenol, normal stearoyl-p-aminophenol, 2, 6 -Di-t-butyl-α-dimethyl, amino-p-cresol and the like.

ハイドロキノン系:ハイドロキノン、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−t−アミルハイドロキノン、ハイドロキノンメチルエーテル、ハイドロキノンモノベンジルエーテル等。   Hydroquinone series: hydroquinone, 2,5-di-t-butylhydroquinone, 2,5-di-t-amylhydroquinone, hydroquinone methyl ether, hydroquinone monobenzyl ether, and the like.

ホスファイト系トリホスファイト、トリス(3,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)フォスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンフォスファナイト、2−エチルヘキシルオクチルフォスファイト等。   Phosphite triphosphite, tris (3,4-di-t-butylphenyl) phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylene Phosphanite, 2-ethylhexyl octyl phosphite, etc.

その他:2−メルカプトベンゾチアゾール亜鉛塩、ジカテコールボレート−ジ−o−トリルグアニジン塩、ニッケル−ジメチルジチオカーバメイト、ニッケル−ペンタメチレンンジチオカルバネート、メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩等。   Others: 2-mercaptobenzothiazole zinc salt, dicatechol borate-di-o-tolylguanidine salt, nickel-dimethyldithiocarbamate, nickel-pentamethylene dithiocarbanate, mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzimidazole zinc salt and the like.

シクロオレフィンポリマーフィルムは、必要に応じて、プラスチックフィルムに一般的に配合することが出来る添加剤を含有していてもよい。そのような添加剤としては、熱安定剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、可塑剤、及び充填剤などが挙げられ、その含有量は本発明の目的を損ねない範囲で選択することが出来る。   The cycloolefin polymer film may contain an additive that can be generally blended into a plastic film, if necessary. Examples of such additives include heat stabilizers, light stabilizers, ultraviolet absorbers, antistatic agents, lubricants, plasticizers, and fillers, and the content thereof is within a range that does not impair the purpose of the present invention. You can choose.

シクロオレフィンポリマーフィルムの成形方法は格別な限定はなく、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも用いることが出来る。加熱溶融成形法は、更に詳細に、押し出し成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類出来るが、これらの方法の中でも、機械強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押し出し成形法、インフレーション成形法、及びプレス成形法が好ましく、押し出し成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、通常150〜400℃、好ましくは200〜350℃、より好ましくは230〜330℃の範囲で適宜設定される。樹脂温度が過度に低いと流動性が悪化し、フィルムにヒケやひずみを生じ、樹脂温度が過度に高いと樹脂の熱分解によるボイドやシルバーストリークが発生したり、フィルムが黄変するなどの成形不良が発生するおそれがある。フィルムの厚みは、通常5〜300μm、好ましくは10〜200μm、より好ましくは20〜100μmの範囲である。厚みが薄過ぎる場合は、積層時の取り扱いが困難となり、厚過ぎる場合は、積層後の乾燥時間が長くなって生産性が低下する。   There is no particular limitation on the method for forming the cycloolefin polymer film, and either a heat-melt molding method or a solution casting method can be used. The heat-melt molding method can be further classified into an extrusion molding method, a press molding method, an inflation molding method, an injection molding method, a blow molding method, a stretch molding method, etc. Among these methods, mechanical strength, surface accuracy are included. In order to obtain an excellent film, an extrusion molding method, an inflation molding method, and a press molding method are preferable, and an extrusion molding method is most preferable. The molding conditions are appropriately selected depending on the purpose of use and the molding method. In the case of the hot melt molding method, the cylinder temperature is usually in the range of 150 to 400 ° C, preferably 200 to 350 ° C, more preferably 230 to 330 ° C. Is set as appropriate. If the resin temperature is too low, fluidity will deteriorate, causing shrinkage and distortion in the film. If the resin temperature is too high, voids and silver streaks will occur due to thermal decomposition of the resin, and the film will turn yellow. Defects may occur. The thickness of the film is usually in the range of 5 to 300 μm, preferably 10 to 200 μm, more preferably 20 to 100 μm. When the thickness is too thin, handling at the time of lamination becomes difficult, and when it is too thick, the drying time after the lamination becomes long and the productivity is lowered.

シクロオレフィンポリマーフィルムは、その表面の濡れ張力が、好ましくは40mN/m以上、より好ましくは50mN/m以上、更に好ましくは55mN/m以上である。表面の濡れ張力が上記範囲にあると、フィルムと偏光膜との接着強度が向上する。表面の濡れ張力を調整するために、例えば、コロナ放電処理、オゾンの吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理、その他公知の表面処理を施すことが出来る。   The wetting tension of the surface of the cycloolefin polymer film is preferably 40 mN / m or more, more preferably 50 mN / m or more, and further preferably 55 mN / m or more. When the surface wetting tension is in the above range, the adhesive strength between the film and the polarizing film is improved. In order to adjust the surface wetting tension, for example, corona discharge treatment, ozone spraying, ultraviolet irradiation, flame treatment, chemical treatment, and other known surface treatments can be performed.

延伸前のシートは厚さが50〜500μm程度の厚さが必要であり、厚さムラは小さいほど好ましく、全面において±8%以内、好ましくは±6%以内、より好ましくは±4%以内である。   The sheet before stretching needs to have a thickness of about 50 to 500 μm, and the thickness unevenness is preferably as small as possible. The entire surface is within ± 8%, preferably within ± 6%, more preferably within ± 4%. is there.

上記シクロオレフィンポリマーフィルムはセルロースエステルフィルムと同様に、シートを一軸方向に延伸することが出来、更にその方向と直交する方向に延伸する二軸延伸であってもよい。延伸するには前記テンター装置等を用いることが好ましい。   Similarly to the cellulose ester film, the cycloolefin polymer film may be stretched in a uniaxial direction and may be biaxially stretched in a direction orthogonal to the direction. For stretching, it is preferable to use the tenter device or the like.

延伸倍率は1.1〜10倍、好ましくは1.3〜8倍である。   The draw ratio is 1.1 to 10 times, preferably 1.3 to 8 times.

延伸は、通常、シートを構成する樹脂のTg〜Tg+50℃、好ましくはTg〜Tg+40℃の温度範囲で行われる。延伸温度が低過ぎると破断し、高過ぎると分子配向しない。   Stretching is usually performed in a temperature range of Tg to Tg + 50 ° C., preferably Tg to Tg + 40 ° C. of the resin constituting the sheet. If the stretching temperature is too low, it will break, and if it is too high, it will not be molecularly oriented.

この様にして得たフィルムは、延伸により分子が配向されて、所望の大きさのリターデーションを持たせることが出来る。本発明において好ましいリターデーション値は、Rtが70〜400nm、Roが30〜300nmであり、更に好ましいRoは30〜70nmである。   In the film thus obtained, the molecules are oriented by stretching, and a retardation having a desired size can be obtained. In the present invention, preferable retardation values are 70 to 400 nm for Rt, 30 to 300 nm for Ro, and more preferably 30 to 70 nm for Ro.

〈ハードコート層〉
本発明は前記熱可塑性樹脂フィルムの微細凸構造を設けた面若しくは反対の面上にハードコート層を塗設することが好ましい。ハードコート層は、活性線硬化樹脂及び微粒子を含有するハードコート層であることが好ましい。
<Hard coat layer>
In the present invention, it is preferable to coat a hard coat layer on the surface of the thermoplastic resin film provided with the fine convex structure or on the opposite surface. The hard coat layer is preferably a hard coat layer containing an actinic radiation curable resin and fine particles.

微粒子としては無機粒子及び有機粒子が挙げられる。本発明に使用することが出来る無機微粒子としては酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム或いはこれらの複合酸化物等を挙げることが出来る。   Examples of the fine particles include inorganic particles and organic particles. Examples of inorganic fine particles that can be used in the present invention include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, antimony oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, and clay. , Calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate, or a composite oxide thereof.

これらの内で、酸化珪素、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン或いはこれらの複合酸化物等が好ましく用いられる。   Among these, silicon oxide, titanium oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zirconium oxide, antimony oxide, or a composite oxide thereof is preferably used.

有機微粒子としては、ポリ(メタ)アクリレート系樹脂、シリコン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリルスチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、更にポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ弗化エチレン系樹脂等が使用出来る。特に好ましくは導電性微粒子を含有することである。   Organic fine particles include poly (meth) acrylate resins, silicon resins, polystyrene resins, polycarbonate resins, acrylic styrene resins, benzoguanamine resins, melamine resins, polyolefin resins, polyester resins, polyamide resins. Polyimide resin, polyfluorinated ethylene resin, etc. can be used. It is particularly preferable to contain conductive fine particles.

粒径は5nm〜10μmの微粒子が用いられるが、5nm〜5μmの粒子が好ましい。特にハードコート層の平均膜厚よりも直径の大きな粒子は防眩性ハードコート層を形成するのに有用である。防眩性を持たせない場合は、好ましくは5nm〜1μmの粒子を含有することである。異なる組成、粒径、屈折率の微粒子を組み合わせて用いることも出来る。例えば、酸化珪素と酸化ジルコニウム或いは酸化珪素とITO微粒子を組み合わせて用いることが出来る。   Fine particles having a particle diameter of 5 nm to 10 μm are used, but particles of 5 nm to 5 μm are preferable. In particular, particles having a diameter larger than the average film thickness of the hard coat layer are useful for forming an antiglare hard coat layer. In the case where the antiglare property is not given, it is preferable to contain particles of 5 nm to 1 μm. A combination of fine particles having different compositions, particle sizes, and refractive indexes can also be used. For example, silicon oxide and zirconium oxide or silicon oxide and ITO fine particles can be used in combination.

活性線硬化樹脂とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。例えば、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させてハードコート層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。   The actinic radiation curable resin refers to a resin that cures through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams. For example, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used and cured by irradiating an active ray such as an ultraviolet ray or an electron beam to form a hard coat layer. Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and a resin curable by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭59−151110号に記載のものを用いることが出来る。   UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, those described in JP-A-59-151110 can be used.

例えば、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) is preferably used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭59−151112号に記載のものを用いることが出来る。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those that are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyols. JP-A-59-151112 Can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることが出来、特開平1−105738号に記載のものを用いることが出来る。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photoreaction initiator added thereto, and reacted to form an oligomer. The thing as described in 105738 can be used.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. I can list them.

これら紫外線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。例えば、イルガキュア184、イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ社製)などの市販品が好ましく用いられる。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜15質量部であり、好ましくは1〜10質量部である。   Specific examples of the photoreaction initiator of these ultraviolet curable resins include benzoin and its derivatives, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. You may use with a photosensitizer. The photoinitiator can also be used as a photosensitizer. In addition, when using an epoxy acrylate photoinitiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. For example, commercially available products such as Irgacure 184 and Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) are preferably used. The photoreaction initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 15 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることが出来る。   Examples of the resin monomer include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. As monomers having two or more unsaturated double bonds, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyl dimethyl diacrylate, the above-mentioned trimethylolpropane Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.

本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成(株)製)、DPHA(日本化薬(株)製)等を適宜選択して利用出来る。   Examples of commercially available ultraviolet curable resins that can be used in the present invention include ADEKA OPTMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (Asahi Denka ( Co., Ltd.); Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS -101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHC X-9 (K-3), PHC2213, DP -10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (manufactured by Daicel UCB); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120 RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (manufactured by Sanyo Chemical Industries); SP -1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) or the like can be appropriately selected and used.

また、具体的化合物例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of compounds include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and the like. .

この他、屈折率調整のため、酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有させたハードコート塗布液 デソライトZ−7041、デソライトZ−7042(JSR(株)製)なども単独で若しくは他の紫外線硬化樹脂などに添加混合して使用することが出来る。   In addition, for adjusting the refractive index, hard coat coating solutions containing zirconium oxide ultrafine particle dispersions Desolite Z-7041 and Desolite Z-7042 (manufactured by JSR Co., Ltd.) can be used alone or in other ultraviolet curable resins. It can be added and mixed.

本発明に用いられる活性線硬化性樹脂の硬化は、電子線または紫外線のような活性線照射によって硬化することが出来る。例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000KeV、好ましくは100〜300KeVのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用出来る。   The actinic radiation curable resin used in the present invention can be cured by irradiation with actinic rays such as electron beams or ultraviolet rays. For example, in the case of electron beam curing, 50 to 1000 KeV emitted from various electron beam accelerators such as a Cockloft Walton type, a bandegraph type, a resonant transformation type, an insulating core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type, Preferably, an electron beam or the like having an energy of 100 to 300 KeV is used, and in the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light beams such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be used. .

活性線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜40質量部となるように配合することが望ましい。   The proportion of the actinic radiation curable resin composition and the fine particles is desirably blended so as to be 0.1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

本発明に用いられるハードコート層の屈折率は、1.5〜2.0であり、より好ましくは1.6〜1.8である。透明支持体として用いられるセルロースエステルフィルムの屈折率は約1.5である。ハードコート層の屈折率が小さ過ぎると反射防止性が低下する。更に、これが大き過ぎると、光学フィルムの反射光の色味が強くなり、好ましくない。本発明に用いられるハードコート層の屈折率は、低反射性フィルムを得るための光学設計上から屈折率が1.60〜1.70の範囲にあることが特に好ましい。ハードコート層の屈折率は前記添加する微粒子の屈折率や含有量によって調製することが出来る。   The refractive index of the hard coat layer used in the present invention is 1.5 to 2.0, more preferably 1.6 to 1.8. The refractive index of the cellulose ester film used as the transparent support is about 1.5. When the refractive index of the hard coat layer is too small, the antireflection property is lowered. Furthermore, when this is too large, the color of the reflected light of the optical film becomes strong, which is not preferable. The refractive index of the hard coat layer used in the present invention is particularly preferably in the range of 1.60 to 1.70 from the viewpoint of optical design for obtaining a low reflective film. The refractive index of the hard coat layer can be adjusted by the refractive index and content of the fine particles to be added.

本発明に用いられるハードコート層の膜厚とは、断層電子顕微鏡写真で観察した時のハードコート層の樹脂部分の膜厚10ケ所の平均を本発明の膜厚としており、十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の膜厚は0.5μm〜10.0μmの範囲が好ましく、更に好ましくは、1.0μm〜5.0μmである。またハードコート層は2層以上から構成されていてもよい。   The film thickness of the hard coat layer used in the present invention is the average film thickness of 10 portions of the resin part of the hard coat layer when observed with a tomographic electron micrograph, and the film thickness of the present invention is sufficient durability. From the viewpoint of imparting impact resistance, the thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 0.5 μm to 10.0 μm, and more preferably 1.0 μm to 5.0 μm. The hard coat layer may be composed of two or more layers.

これらのハードコート層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することが出来る。塗布量はウェット膜厚として0.1〜30μmが適当で、好ましくは、0.5〜15μmである。   These hard coat layers can be coated by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an ink jet method. The coating amount is suitably 0.1 to 30 μm, preferably 0.5 to 15 μm, as the wet film thickness.

紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、0.5J/cm2以下であり、好ましくは0.1J/cm2以下である。 As a light source for curing an ultraviolet curable resin by a photocuring reaction to form a cured film layer, any light source that generates ultraviolet rays can be used without any limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. The irradiation conditions vary depending on individual lamps, the dose of active ray is a 0.5 J / cm 2 or less, preferably 0.1 J / cm 2 or less.

活性線の照射量を得るための照射時間としては、0.1秒〜1分程度がよく、硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から0.1〜10秒がより好ましい。また、これら活性線照射部の照度は50〜150mW/m2であることが好ましい。 The irradiation time for obtaining the irradiation amount of active rays is preferably about 0.1 second to 1 minute, and more preferably 0.1 to 10 seconds from the viewpoint of the curing efficiency or work efficiency of the curable resin. Moreover, it is preferable that the illuminance of these active ray irradiation parts is 50-150 mW / m < 2 >.

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜300N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、若しくは2軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性優れたフィルムを得ることが出来る。   Moreover, when irradiating actinic radiation, it is preferable to carry out while applying tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performing applying tension | tensile_strength also in the width direction. The tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m. The method for applying the tension is not particularly limited, and the tension may be applied in the conveying direction on the back roll, or the tension may be applied in the width direction or the biaxial direction by a tenter. This makes it possible to obtain a film having further excellent flatness.

ハードコート層の塗布液の有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、或いはこれらを混合し利用出来る。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   Examples of the organic solvent for the hard coat layer coating solution include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), and ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone). , Esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents can be appropriately selected or used by mixing them. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

また、ハードコート層の塗布液には、特にシリコン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1000〜100000、好ましくは、2000〜50000が適当であり、数平均分子量が1000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。   Further, it is particularly preferable to add a silicon compound to the coating liquid for the hard coat layer. For example, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1000 to 100000, preferably 2000 to 50000. If the number average molecular weight is less than 1000, the drying property of the coating film decreases, and conversely, the number average When the molecular weight exceeds 100,000, it tends to be difficult to bleed out to the coating surface.

シリコン化合物の市販品としては、DKQ8−779(ダウコーニング社製商品名)、SF3771、SF8410、SF8411、SF8419、SF8421、SF8428、SH200、SH510、SH1107、SH3749、SH3771、BX16−034、SH3746、SH3749、SH8400、SH3771M、SH3772M、SH3773M、SH3775M、BY−16−837、BY−16−839、BY−16−869、BY−16−870、BY−16−004、BY−16−891、BY−16−872、BY−16−874、BY22−008M、BY22−012M、FS−1265(以上、東レ・ダウコーニングシリコーン社製商品名)、KF−101、KF−100T、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、シリコーンX−22−945、X22−160AS(以上、信越化学工業社製商品名)、XF3940、XF3949(以上、東芝シリコーン社製商品名)、ディスパロンLS−009(楠本化成社製)、グラノール410(共栄社油脂化学工業(株)製)、TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコーン製)、BYK−306、BYK−330、BYK−307、BYK−341、BYK−344、BYK−361(ビックケミ−ジャパン社製)日本ユニカー(株)製のLシリーズ(例えばL7001、L−7006、L−7604、L−9000)、Yシリーズ、FZシリーズ(FZ−2203、FZ−2206、FZ−2207)等が挙げられ、好ましく用いられる。   Commercially available silicon compounds include DKQ8-779 (trade name, manufactured by Dow Corning), SF3771, SF8410, SF8411, SF8419, SF8421, SF8428, SH200, SH510, SH1107, SH3749, SH3771, BX16-034, SH3746, SH3749, SH8400, SH3771M, SH3772M, SH3773M, SH3775M, BY-16-837, BY-16-839, BY-16-869, BY-16-870, BY-16-004, BY-16-891, BY-16 872, BY-16-874, BY22-008M, BY22-012M, FS-1265 (above, product names manufactured by Toray Dow Corning Silicone), KF-101, KF-100T, KF351, KF3 2, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, Silicone X-22-945, X22-160AS (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), XF3940, XF3949 (trade name, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) ), Disparon LS-009 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), Granol 410 (manufactured by Kyoeisha Oil Chemical Co., Ltd.), TSF4440, TSF4441, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicone), BYK-306, BYK- 330, BYK-307, BYK-341, BYK-344, BYK-361 (manufactured by BYK-Japan) L series (for example, L7001, L-7006, L-7604, L-9000) manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. Y Over's, FZ series (FZ-2203, FZ-2206, FZ-2207) and the like, are preferably used.

これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   These components enhance the applicability to the substrate and the lower layer. When added to the outermost surface layer of the laminate, it not only improves the water repellency, oil repellency and antifouling properties of the coating film, but also exhibits an effect on the scratch resistance of the surface. These components are preferably added in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.

(反射防止層)
本発明に係る光学フィルムはハードコート層上に、更に反射防止層を設けることが好ましい。
(Antireflection layer)
The optical film according to the present invention preferably further comprises an antireflection layer on the hard coat layer.

本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されず、スパッタ、大気圧プラズマ処理、塗布などが挙げられるが、塗布により形成することが好ましい。   In the present invention, the method for providing the antireflection layer is not particularly limited, and examples thereof include sputtering, atmospheric pressure plasma treatment, coating, and the like.

反射防止層を塗布により形成する方法としては、溶剤に溶解したバインダー樹脂中に金属酸化物の粉末を分散し、塗布乾燥する方法、架橋構造を有するポリマーをバインダー樹脂として用いる方法、エチレン性不飽和モノマーと光重合開始剤を含有させ、活性線を照射することにより層を形成する方法等の方法を挙げることが出来る。   As a method of forming the antireflection layer by coating, a method of dispersing metal oxide powder in a binder resin dissolved in a solvent, coating and drying, a method of using a polymer having a crosslinked structure as a binder resin, ethylenic unsaturated Examples of the method include a method of forming a layer by containing a monomer and a photopolymerization initiator and irradiating with actinic radiation.

本発明においては、ハードコート層を付与した透明長尺基材フィルムの上に反射防止層を設け、該反射防止層の少なくとも一層が低屈折率層である。   In the present invention, an antireflection layer is provided on a transparent long substrate film provided with a hard coat layer, and at least one of the antireflection layers is a low refractive index layer.

好ましい光学フィルムの構成を下記に示すが、これらに限定されるものではない。   Although the structure of a preferable optical film is shown below, it is not limited to these.

ここでハードコート層、防眩層とは、前述の活性線硬化樹脂層を意味する。尚、ここでは本発明のブロッキング防止加工を施した面をバックコート層と表記した。   Here, the hard coat layer and the antiglare layer mean the actinic radiation curable resin layer described above. In addition, the surface which gave the antiblocking process of this invention was described here as the backcoat layer.

バックコート層/樹脂フィルム/クリアハードコート層/低屈折率層
バックコート層/樹脂フィルム/クリアハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
バックコート層/樹脂フィルム/クリアハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
バックコート層/樹脂フィルム/防眩層/低屈折率層
バックコート層/樹脂フィルム/防眩層/高屈折率層/低屈折率層
バックコート層/樹脂フィルム/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
また、中屈折率層若しくは高屈折率層が帯電防止層を兼ねてもよい。
Back coat layer / resin film / clear hard coat layer / low refractive index layer Back coat layer / resin film / clear hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer Back coat layer / resin film / clear hard coat layer / medium Refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Back coat layer / Resin film / Anti-glare layer / Low refractive index layer Back coat layer / Resin film / Anti-glare layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Back coat Layer / resin film / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer Further, the middle refractive index layer or the high refractive index layer may also serve as the antistatic layer.

前記光学フィルムでは、最上層に低屈折率層を形成し、ハードコート層との間に高屈折率層の金属酸化物層を形成したり、更にハードコート層と高屈折率層との間に中屈折率層(金属酸化物の含有量或いは樹脂バインダーとの比率、金属の種類を変更して屈折率を調整した金属酸化物層)を設けることは、反射率の低減のために好ましい。   In the optical film, a low refractive index layer is formed as an uppermost layer, a metal oxide layer of a high refractive index layer is formed between the hard coat layer, and further, between the hard coat layer and the high refractive index layer. It is preferable to provide a middle refractive index layer (metal oxide layer in which the refractive index is adjusted by changing the content of the metal oxide or the ratio to the resin binder and the type of metal) to reduce the reflectance.

本発明の低屈折率層には中空微粒子が含有されることが好ましい。   The low refractive index layer of the present invention preferably contains hollow fine particles.

ここでいう中空微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。   The hollow fine particles referred to here are (I) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (II) having cavities inside, and the content is a solvent, gas or Cavity particles filled with a porous material. The low refractive index layer may contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or may contain both.

尚、空洞粒子は、内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質などの内容物で充填されている。この様な無機微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される無機微粒子の平均粒径は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層などの透明被膜の膜厚の2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)が好ましい。   The hollow particles are particles having cavities inside, and the cavities are surrounded by particle walls. The cavity is filled with a content such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle diameter of such inorganic fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The average particle diameter of the inorganic fine particles used is appropriately selected according to the thickness of the transparent film to be formed, and is in the range of 2/3 to 1/10 of the film thickness of the transparent film such as the low refractive index layer to be formed. It is desirable to be in These inorganic fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), and ketone alcohol (for example, diacetone alcohol) are preferable.

複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することが出来ないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマーなどが容易に複合粒子の内部に内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持出来ないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, if the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and silicate monomers and oligomers with a low degree of polymerization, which are coating liquid components described later, are easy. In some cases, the inside of the composite particle enters the inside and the porosity of the inside is reduced, so that the effect of the low refractive index cannot be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, if the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. is there.

前記複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁には、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3などが挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgFなどからなるものが挙げられる。この内特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等との1種または2種以上を挙げることが出来る。この様な多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表した時のモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても更に屈折率が低いものを得ることはない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が小さく、かつ屈折率の低い粒子を得られないことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. The coating layer of the composite particle or the particle wall of the hollow particle may contain a component other than silica, specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2. and CeO 2, P 2 O 3, Sb 2 O 3, MoO 3, ZnO 2, WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Of these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly suitable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such a porous particle, the molar ratio MOX / SiO 2 when the silica is represented by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is represented by oxide (MOX) is 0.0001 to 1.0, preferably It is desirable to be in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain porous particles having a molar ratio MOX / SiO 2 of less than 0.0001, and even if obtained, those having a lower refractive index are not obtained. On the other hand, if the molar ratio MOX / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that particles having a small pore volume and a low refractive index may not be obtained.

この様な多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.

尚、この様な多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることが出来る。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質などが挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒などが含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例示した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   Incidentally, the pore volume of such porous particles can be obtained by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous material used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used in preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Moreover, what consists of the compound illustrated by the said porous particle as a porous substance is mentioned. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

この様な無機微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第1〜第3工程から無機化合物粒子は製造される。   As a method for producing such inorganic fine particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed. Specifically, when the composite particles are composed of silica and an inorganic compound other than silica, the inorganic compound particles are produced from the following first to third steps.

第1工程:多孔質粒子前駆体の調製
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
First Step: Preparation of Porous Particle Precursor In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica are prepared in advance. A mixed aqueous solution is prepared, and this aqueous solution is gradually added to an aqueous alkaline solution having a pH of 10 or more while stirring according to the composite ratio of the target composite oxide to prepare a porous particle precursor.

シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム(水ガラス)やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩などの第4級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミン類を挙げることが出来る。尚、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第4級アンモニウム水酸化物、アミン化合物などを添加したアルカリ性溶液も含まれる。   As the silica raw material, alkali metal, ammonium or organic base silicate is used. Sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used as the alkali metal silicate. Examples of the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The ammonium silicate or the organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound or the like to a silicic acid solution.

また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物を用いられる。具体的には、Al、B、Ti、Zr、Sn、Ce、P、Sb、Mo、Zn、Wなどから選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩を挙げることが出来る。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。   In addition, alkali-soluble inorganic compounds are used as raw materials for inorganic compounds other than silica. Specifically, an oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc., an alkali metal salt or alkaline earth metal salt of the oxo acid, ammonium Salts and quaternary ammonium salts. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, zirconyl ammonium carbonate, potassium antimonate, potassium stannate, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, cerium ammonium nitrate, and sodium phosphate are suitable.

これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のpH値は変化するが、このpH値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるpH値となる。このときの水溶液の添加速度にはとくに制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。当該シード粒子としては、特に制限はないが、SiO2、Al23、TiO2またはZrO2等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることが出来る。更に前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のpHを10以上に調整したのち、該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のpH制御を行う必要はない。この様なして、シード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることが出来る。 Although the pH value of the mixed aqueous solution changes simultaneously with the addition of these aqueous solutions, an operation for controlling the pH value within a predetermined range is not particularly required. The aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction | limiting in particular in the addition rate of the aqueous solution at this time. Further, in the production of composite oxide particles, a dispersion of seed particles can be used as a starting material. The seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used. Usually, these sols are used. I can do it. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion. When the seed particle dispersion is used, the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or more, and then the aqueous solution of the compound is added to the above-described alkaline aqueous solution while stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion. In this way, when seed particles are used, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles having a uniform particle size can be obtained.

上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいpH領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオンなどのオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、或いは、シード粒子上に析出して粒子成長が起こる。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなpH制御は必ずしも行う必要がない。   The silica raw material and the inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side. However, when both are mixed in this highly soluble pH region, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into fine particles, or seed particles. Particle deposition occurs on the top. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of fine particles.

第1工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物(MOx)に換算し、MOx/SiO2のモル比が、0.05〜2.0、好ましくは0.2〜2.0の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が2.0を越えても、多孔質粒子の細孔の容積は殆ど増加しない。他方、モル比が0.05未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、MOx/SiO2のモル比は、0.25〜2.0の範囲内にあることが望ましい。 The composite ratio of silica and inorganic compound other than silica in the first step is that the inorganic compound relative to silica is converted to oxide (MOx), and the molar ratio of MOx / SiO 2 is 0.05 to 2.0, preferably It is desirable to be within the range of 0.2 to 2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the proportion of silica decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small. When preparing hollow particles, the molar ratio of MOx / SiO 2 is preferably in the range of 0.25 to 2.0.

第2工程:多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、或いは、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
Second step: Removal of inorganic compound other than silica from porous particles In the second step, inorganic compounds other than silica (elements other than silicon and oxygen) are obtained from the porous particle precursor obtained in the first step. At least a portion is selectively removed. As a specific removal method, the inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.

尚、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。この様な多孔質粒子前駆体から無機化合物(珪素と酸素以外の元素)を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物(珪素と酸素以外の元素)を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することが出来る。   The porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded via oxygen. By removing inorganic compounds (elements other than silicon and oxygen) from such a porous particle precursor, porous particles having a more porous and large pore volume can be obtained. Further, if the amount of removing the inorganic oxide (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be prepared.

また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られるケイ酸液或いは加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは0.5〜15nmの厚さであればよい。尚シリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。   In addition, prior to removing inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor, a silicic acid solution obtained by removing the alkali metal salt of silica from the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. Alternatively, it is preferable to form a silica protective film by adding a hydrolyzable organosilicon compound. The thickness of the silica protective film may be 0.5 to 15 nm. Even if the silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so that it is possible to remove inorganic compounds other than silica described above from the porous particle precursor.

この様なシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することが出来る。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、この為細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することが出来る。尚、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので必ずしも保護膜を形成する必要はない。   By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than the silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Moreover, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore, the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. I can do it. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, the particles are not broken, and thus it is not always necessary to form a protective film.

また空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。   When preparing hollow particles, it is desirable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor composed of a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid content. When a coating layer to be described later is formed on the precursor, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.

上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持出来る範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多過ぎると、シリカ保護膜が厚くなり過ぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、一般式RnSi(OR’)4−n〔R、R’:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。   The amount of the silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. The hydrolyzable organosilicon compound used for forming the silica protective film includes a general formula RnSi (OR ′) 4-n [R, R ′: hydrocarbon such as alkyl group, aryl group, vinyl group, acrylic group, etc. An alkoxysilane represented by the group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the porous particles, and the alkoxysilane is hydrolyzed. The produced silicic acid polymer is deposited on the surface of the inorganic oxide particles. At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。尚、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。   When the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or when the ratio of water to the organic solvent is high, a silica protective film can be formed using a silicic acid solution. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, you may produce a silica protective film together using a silicic acid liquid and the said alkoxysilane.

第3工程:シリカ被覆層の形成
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
Third Step: Formation of Silica Coating Layer In the third step, a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution is added to the porous particle dispersion prepared in the second step (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor dispersion). Etc. is added to coat the surface of the particles with a polymer such as a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution to form a silica coating layer.

シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式RnSi(OR’)4−n〔R、R’:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。   Examples of the hydrolyzable organosilicon compound used for forming the silica coating layer include the general formula RnSi (OR ′) 4-n [R, R ′: alkyl group, aryl group, vinyl group, acrylic group as described above. Etc., and alkoxysilanes represented by n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is used as a dispersion of the porous particles (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor). In addition, the silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の分散媒が水単独、または有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。   When the dispersion medium of porous particles (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor) is water alone or a mixed solvent with an organic solvent and the mixed solvent has a high ratio of water to the organic solvent, a silicate solution You may form a coating layer using. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low silicic acid polymer obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.

ケイ酸液は、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)表面に沈着させる。尚、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆出来る程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが1〜20nmとなるように量で、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが1〜20nmの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。   The silicic acid solution is added to the dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors), and at the same time, alkali is added to make the low-silicic acid polymer into porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). ) Deposit on the surface. A silicic acid solution may be used in combination with the alkoxysilane for forming a coating layer. The addition amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer only needs to be sufficient to cover the surface of the colloidal particles, and the finally obtained silica coating layer has a thickness of 1 to 20 nm. In such an amount, it is added in a dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor) in a dispersion. When the silica protective film is formed, the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 20 nm.

次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。   Next, the dispersion liquid of the particles on which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained. In the case of a hollow particle precursor, the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.

このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞出来る程度であれば特に制限はなく、80〜300℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が80℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化出来ないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が300℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率の効果が得られないことがある。   The heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C. When the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time. Further, when the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, fine particles may be formed, and the effect of low refractive index may not be obtained.

この様にして得られた無機微粒子の屈折率は、1.44未満と低い。この様な無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。   The refractive index of the inorganic fine particles thus obtained is as low as less than 1.44. Such inorganic fine particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow.

低屈折率層のバインダーマトリックスとしては、熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう)も好ましく用いられる。   As the binder matrix of the low refractive index layer, a fluorine-containing resin that is crosslinked by heat or ionizing radiation (hereinafter, also referred to as “fluorine-containing resin before crosslinking”) is preferably used.

架橋前の含フッ素樹脂としては、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることが出来る。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えば、ビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内に予め架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー(例えば、(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等)が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう1つ以上の反応性基を持つ化合物を加えることにより、架橋構造を導入出来ることが特開平10−25388号、同10−147739号に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、若しくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤若しくはエポキシ基と熱酸発生剤等の組み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤若しくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光(好ましくは紫外線、電子ビーム等)の照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。   Preferred examples of the fluorine-containing resin before crosslinking include a fluorine-containing copolymer formed from a fluorine-containing vinyl monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group. Specific examples of the fluorine-containing vinyl monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3 -Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (produced by Osaka Organic Chemicals) or M-2020 (produced by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. Is mentioned. As monomers for imparting a crosslinkable group, glycidyl methacrylate, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, vinyl glycidyl ether, and other vinyl monomers having a crosslinkable functional group in advance in the molecule. , Vinyl monomers having a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, sulfonic acid group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyalkyl vinyl ether, hydroxyalkyl allyl) Ether, etc.). The latter can introduce a crosslinked structure after copolymerization by adding a compound that reacts with a functional group in the polymer and one or more reactive groups. No. 147739. Examples of the crosslinkable group include acryloyl, methacryloyl, isocyanate, epoxy, aziridine, oxazoline, aldehyde, carbonyl, hydrazine, carboxyl, methylol, and active methylene group. When the fluorine-containing copolymer is crosslinked by heating with a crosslinking group that reacts by heating, or a combination of an ethylenically unsaturated group and a thermal radical generator or an epoxy group and a thermal acid generator, it is a thermosetting type. In the case of crosslinking by irradiation with light (preferably ultraviolet rays, electron beams, etc.) by a combination of an ethylenically unsaturated group and a photo radical generator, or an epoxy group and a photo acid generator, the ionizing radiation curable type is used.

また上記モノマーに加えて、含フッ素ビニルモノマー及び架橋性基付与のためのモノマー以外のモノマーを併用して形成された含フッ素共重合体を架橋前の含フッ素樹脂として用いてもよい。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることが出来る。また、含フッ素共重合体中に、滑り性、防汚性付与のため、ポリオルガノシロキサン骨格や、パーフルオロポリエーテル骨格を導入することも好ましい。これは、例えば末端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと上記のモノマーとの重合、末端にラジカル発生基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルによる上記モノマーの重合、官能基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと、含フッ素共重合体との反応等によって得られる。   In addition to the above monomers, a fluorine-containing copolymer formed by using a monomer other than the fluorine-containing vinyl monomer and the monomer for imparting a crosslinkable group may be used as the fluorine-containing resin before crosslinking. The monomer that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether) Etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, Ronitoriru derivatives and the like can be mentioned. In addition, it is also preferable to introduce a polyorganosiloxane skeleton or a perfluoropolyether skeleton into the fluorinated copolymer in order to impart slipperiness and antifouling properties. For example, polyorganosiloxane or perfluoropolyether having an acrylic group, methacrylic group, vinyl ether group, styryl group or the like at the terminal is polymerized with the above monomer, and polyorganosiloxane or perfluoropolyester having a radical generating group at the terminal. It can be obtained by polymerization of the above monomers with ether, reaction of a polyorganosiloxane or perfluoropolyether having a functional group with a fluorine-containing copolymer, or the like.

架橋前の含フッ素共重合体を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合は、含フッ素ビニルモノマーが好ましくは20〜70モル%、より好ましくは40〜70モル%、架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは1〜20モル%、より好ましくは5〜20モル%、併用されるその他のモノマーが好ましくは10〜70モル%、より好ましくは10〜50モル%の割合である。   The proportion of each of the above monomers used to form the fluorinated copolymer before crosslinking is preferably 20 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol% of the fluorinated vinyl monomer. The amount of the monomer is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 5 to 20 mol%, and the other monomer used in combination is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%.

含フッ素共重合体は、これらモノマーをラジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合法等の手段により重合することにより得ることが出来る。   The fluorine-containing copolymer can be obtained by polymerizing these monomers in the presence of a radical polymerization initiator by means such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization.

架橋前の含フッ素樹脂は、市販されており使用することが出来る。市販されている架橋前の含フッ素樹脂の例としては、サイトップ(旭硝子製)、テフロン(登録商標)AF(デュポン製)、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン(旭硝子製)、オプスター(JSR製)等が挙げられる。   The fluorine-containing resin before crosslinking is commercially available and can be used. Examples of commercially available fluorine-containing resins before cross-linking include Cytop (Asahi Glass), Teflon (registered trademark) AF (DuPont), polyvinylidene fluoride, Lumiflon (Asahi Glass), Opstar (JSR), etc. Can be mentioned.

架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低屈折率層は、動摩擦係数が0.03〜0.15の範囲、水に対する接触角が90〜120度の範囲にあることが好ましい。   The low refractive index layer containing a cross-linked fluororesin as a constituent component preferably has a dynamic friction coefficient in the range of 0.03 to 0.15 and a contact angle with water in the range of 90 to 120 degrees.

架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低屈折率層は前述の無機粒子を含有する。   The low refractive index layer containing a cross-linked fluorine-containing resin as a constituent component contains the aforementioned inorganic particles.

また、他の低屈折率層用のバインダーマトリックスとして、各種ゾルゲル素材を用いることも出来る。この様なゾルゲル素材としては、金属アルコレート(シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート)、オルガノアルコキシ金属化合物及びその加水分解物を用いることが出来る。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等)、アルキルトリアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等)、アリールトリアルコキシシラン(フェニルトリメトキシシラン等)、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン(ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−(3,4−エポキジシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等)、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等)、フルオロアルキルエーテル基含有シラン化合物を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましい。   Various sol-gel materials can also be used as a binder matrix for other low refractive index layers. As such a sol-gel material, metal alcoholates (alcohols such as silane, titanium, aluminum, and zirconium), organoalkoxy metal compounds, and hydrolysates thereof can be used. In particular, alkoxysilane, organoalkoxysilane and its hydrolyzate are preferable. Examples of these include tetraalkoxysilane (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc.), alkyltrialkoxysilane (methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, etc.), aryltrialkoxysilane (phenyltrimethoxysilane, etc.), dialkyl. Examples thereof include dialkoxysilane and diaryl dialkoxysilane. In addition, organoalkoxysilanes having various functional groups (vinyl trialkoxysilane, methylvinyl dialkoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrialkoxysilane, γ-glycidyloxypropylmethyl dialkoxysilane, β- (3,4-epoxy) Dicyclohexyl) ethyltrialkoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrialkoxysilane, γ-aminopropyltrialkoxysilane, γ-mercaptopropyltrialkoxysilane, γ-chloropropyltrialkoxysilane, etc.), perfluoroalkyl group-containing silane compounds ( For example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, etc.), containing fluoroalkyl ether group It is also preferable to use a run-compound. In particular, the use of a fluorine-containing silane compound is preferable in terms of lowering the refractive index of the layer and imparting water and oil repellency.

低屈折率層は、5〜50質量%の量のポリマーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持出来るように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の10〜30質量%であることが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するためには、(1)微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、(2)微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成するか、或いは(3)微粒子間のバインダーとして、ポリマーを使用することが好ましい。(1)の表面処理剤に結合させるポリマーは、(2)のシェルポリマーまたは(3)のバインダーポリマーであることが好ましい。(2)のポリマーは、低屈折率層の塗布液の調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成することが好ましい。(3)のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重合反応により形成することが好ましい。上記(1)〜(3)の内の二つまたは全てを組み合わせて実施することが好ましく、(1)と(3)の組み合わせ、または(1)〜(3)全ての組み合わせで実施することが特に好ましい。(1)表面処理、(2)シェル及び(3)バインダーについて順次説明する。   The low refractive index layer preferably contains the polymer in an amount of 5 to 50% by mass. The polymer has a function of adhering fine particles and maintaining the structure of a low refractive index layer including voids. The amount of the polymer used is adjusted so that the strength of the low refractive index layer can be maintained without filling the voids. The amount of the polymer is preferably 10 to 30% by mass of the total amount of the low refractive index layer. In order to adhere the fine particles with the polymer, (1) the polymer is bonded to the surface treatment agent of the fine particles, (2) the fine particles are used as a core, and a polymer shell is formed around the fine particles. It is preferable to use a polymer as the binder. The polymer to be bonded to the surface treatment agent (1) is preferably the shell polymer (2) or the binder polymer (3). The polymer (2) is preferably formed around the fine particles by a polymerization reaction before preparing the coating solution for the low refractive index layer. The polymer (3) is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer and performing a polymerization reaction simultaneously with or after the coating of the low refractive index layer. It is preferable to carry out in combination of two or all of the above (1) to (3), and to carry out in combination of (1) and (3) or (1) to (3) all combinations. Particularly preferred. (1) Surface treatment, (2) shell, and (3) binder will be described sequentially.

(1)表面処理
微粒子(特に無機微粒子)には、表面処理を実施して、ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類出来る。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。微粒子がSiO2からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理が特に有効に実施出来る。具体的なシランカップリング剤の例としては、後述するシランカップリング剤が好ましく用いられる。
(1) Surface treatment It is preferable that the fine particles (particularly inorganic fine particles) are subjected to a surface treatment to improve the affinity with the polymer. The surface treatment can be classified into physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, and chemical surface treatment using a coupling agent. It is preferable to carry out only chemical surface treatment or a combination of physical surface treatment and chemical surface treatment. As the coupling agent, an organoalkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Particles when made of SiO 2, surface treatment with a silane coupling agent can be particularly effectively conducted. As a specific example of the silane coupling agent, a silane coupling agent described later is preferably used.

カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施出来る。表面処理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、またはこれらの塩(例えば、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。   The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the fine particle dispersion and allowing the dispersion to stand at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (for example, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.

(2)シェル
シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に含むポリマーが更に好ましい。ポリアクリル酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好ましく、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリメタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリマーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるため、シェルポリマーは35〜80質量%のフッ素原子を含むことが好ましく、45〜75質量%のフッ素原子を含むことが更に好ましい。フッ素原子を含むポリマーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例としては、フルオロオレフィン(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、フッ素化ビニルエーテル及びフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが挙げられる。
(2) Shell The polymer forming the shell is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. A polymer containing a fluorine atom in the main chain or side chain is preferred, and a polymer containing a fluorine atom in the side chain is more preferred. Polyacrylic acid esters or polymethacrylic acid esters are preferred, and esters of fluorine-substituted alcohols with polyacrylic acid or polymethacrylic acid are most preferred. The refractive index of the shell polymer decreases as the content of fluorine atoms in the polymer increases. In order to lower the refractive index of the low refractive index layer, the shell polymer preferably contains 35 to 80% by mass of fluorine atoms, and more preferably contains 45 to 75% by mass of fluorine atoms. The polymer containing a fluorine atom is preferably synthesized by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers containing fluorine atoms include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), Mention may be made of esters of fluorinated vinyl ethers and fluorine-substituted alcohols with acrylic acid or methacrylic acid.

シェルを形成するポリマーは、フッ素原子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの例としては、オレフィン(例えば、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステル(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル(例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート)、スチレン及びその誘導体(例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン)、ビニルエーテル(例えば、メチルビニルエーテル)、ビニルエステル(例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル)、アクリルアミド(例えば、N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド)、メタクリルアミド及びアクリロニトリルが挙げられる。   The polymer forming the shell may be a copolymer composed of a repeating unit containing a fluorine atom and a repeating unit not containing a fluorine atom. The repeating unit containing no fluorine atom is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing no fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers that do not contain fluorine atoms include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylic acid esters (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylic acid esters (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene and its derivatives (for example, styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ether ( For example, methyl vinyl ether), vinyl esters (for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamide (for example, N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylic) Amides), methacrylamide and acrylonitrile.

後述する(3)のバインダーポリマーを併用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入して、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋により化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温度(Tg)が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。但し、Tgが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されない(その結果、強度が低下する)場合がある。その場合は、後述する(3)のバインダーポリマーを併用し、バインダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微粒子中に無機微粒子からなるコアが5〜90体積%含まれていることが好ましく、15〜80体積%含まれていることが更に好ましい。二種類以上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェルのない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよい。   When the binder polymer (3) described later is used in combination, a crosslinkable functional group may be introduced into the shell polymer to chemically bond the shell polymer and the binder polymer by crosslinking. The shell polymer may have crystallinity. When the glass transition temperature (Tg) of the shell polymer is higher than the temperature at the time of forming the low refractive index layer, it is easy to maintain microvoids in the low refractive index layer. However, if Tg is higher than the temperature at which the low refractive index layer is formed, the fine particles are not fused, and the low refractive index layer may not be formed as a continuous layer (resulting in a decrease in strength). In that case, it is desirable to use a binder polymer (3) described later in combination, and form the low refractive index layer as a continuous layer with the binder polymer. By forming a polymer shell around the fine particles, core-shell fine particles are obtained. The core-shell fine particles preferably contain 5 to 90% by volume of a core composed of inorganic fine particles, and more preferably 15 to 80% by volume. Two or more kinds of core-shell fine particles may be used in combination. Further, inorganic fine particles having no shell and core-shell particles may be used in combination.

(3)バインダー
バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導体(例えば、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例えば、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例えば、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミドが挙げられる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例としては、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が挙げられる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用出来る。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、架橋基は、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。バインダーポリマーの重合反応及び架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤や、光重合開始剤が用いられるが、光重合開始剤の方がより好ましい。光重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例としては、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン及び2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが挙げられる。ベンゾイン類の例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが挙げられる。ベンゾフェノン類の例としては、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン及びp−クロロベンゾフェノンが挙げられる。ホスフィンオキシド類の例としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが挙げられる。
(3) Binder The binder polymer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohols and (meth) acrylic acid (for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol). Tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives For example, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylene bisacrylamide) and methacrylamide Can be mentioned. The polymer having a polyether as the main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by the reaction of a crosslinkable group. Examples of crosslinkable functional groups include isocyanate groups, epoxy groups, aziridine groups, oxazoline groups, aldehyde groups, carbonyl groups, hydrazine groups, carboxyl groups, methylol groups, and active methylene groups. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. The cross-linking group is not limited to the above compound, and may be one that exhibits reactivity as a result of decomposition of the functional group. As the polymerization initiator used for the polymerization reaction and the crosslinking reaction of the binder polymer, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator is used, and the photopolymerization initiator is more preferable. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. Examples of benzoins include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

バインダーポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に重合反応(必要ならば更に架橋反応)により形成することが好ましい。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー(例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂)を添加してもよい。   The binder polymer is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer, and at the same time as or after the coating of the low refractive index layer, by a polymerization reaction (further crosslinking reaction if necessary). Even if a small amount of polymer (for example, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin) is added to the coating solution for the low refractive index layer Good.

また、本発明の低屈折率層或いは他の屈折率層には滑り剤を添加することが好ましく、滑り性を付与することによって耐傷性を改善することが出来る。滑り剤としては、シリコンオイルまたはワックス状物質が好ましく用いられる。例えば、下記一般式で表される化合物が好ましい。   Moreover, it is preferable to add a slipping agent to the low refractive index layer or other refractive index layers of the present invention, and scratch resistance can be improved by imparting slipperiness. As the slip agent, silicon oil or a wax-like substance is preferably used. For example, a compound represented by the following general formula is preferable.

一般式 R1COR2
式中、R1は炭素原子数が12以上の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基を表す。アルキル基またはアルケニル基が好ましく、更に炭素原子数が16以上のアルキル基またはアルケニル基が好ましい。R2は−OM1基(M1はNa、K等のアルカリ金属を表す)、−OH基、−NH2基、または−OR3基(R3は炭素原子数が12以上の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基、好ましくはアルキル基またはアルケニル基を表す)を表し、R2としては−OH基、−NH2基または−OR3基が好ましい。具体的には、ベヘン酸、ステアリン酸アミド、ペンタコ酸等の高級脂肪酸またはその誘導体、天然物としてこれらの成分を多く含んでいるカルナバワックス、蜜蝋、モンタンワックスも好ましく使用出来る。特公昭53−292号公報に開示されているようなポリオルガノシロキサン、米国特許第4,275,146号明細書に開示されているような高級脂肪酸アミド、特公昭58−33541号公報、英国特許第927,446号明細書または特開昭55−126238号公報及び同58−90633号公報に開示されているような高級脂肪酸エステル(炭素数が10〜24の脂肪酸と炭素数が10〜24のアルコールのエステル)、そして米国特許第3,933,516号明細書に開示されているような高級脂肪酸金属塩、特開昭51−37217号公報に開示されているような炭素数10までのジカルボン酸と脂肪族または環式脂肪族ジオールからなるポリエステル化合物、特開平7−13292号公報に開示されているジカルボン酸とジオールからのオリゴポリエステル等を挙げることが出来る。
General formula R 1 COR 2
In the formula, R 1 represents a saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 12 or more carbon atoms. An alkyl group or an alkenyl group is preferable, and an alkyl group or alkenyl group having 16 or more carbon atoms is more preferable. R 2 represents —OM 1 group (M 1 represents an alkali metal such as Na or K), —OH group, —NH 2 group, or —OR 3 group (R 3 represents a saturated or unsaturated group having 12 or more carbon atoms. R 2 represents a saturated aliphatic hydrocarbon group, preferably an alkyl group or an alkenyl group, and R 2 is preferably an —OH group, —NH 2 group, or —OR 3 group. Specifically, higher fatty acids such as behenic acid, stearamide, and pentacoic acid, or derivatives thereof, and carnauba wax, beeswax, and montan wax containing many of these components as natural products can also be preferably used. Polyorganosiloxane as disclosed in JP-B-53-292, higher fatty acid amide as disclosed in US Pat. No. 4,275,146, JP-B 58-33541, British patent No. 927,446 or JP-A-55-126238 and 58-90633, higher fatty acid esters (fatty acids having 10 to 24 carbon atoms and 10 to 24 carbon atoms). Esters of alcohols), and higher fatty acid metal salts as disclosed in U.S. Pat. No. 3,933,516, dicarboxylic acids having up to 10 carbon atoms as disclosed in JP-A-51-37217 A polyester compound comprising an acid and an aliphatic or cycloaliphatic diol, a dicarboxylic acid disclosed in JP-A-7-13292, It can be mentioned oligo polyester or the like from the Le.

例えば、低屈折率層に使用する滑り剤の添加量は0.01mg/m2〜10mg/m2が好ましい。 For example, the amount of slip agent to be used in the low refractive index layer is preferably 0.01mg / m 2 ~10mg / m 2 .

本発明においては、反射率の低減のために、活性線硬化樹脂層を付与した透明支持体と低屈折率層との間に、高屈折率層を設けることも好ましい。また、透明支持体と高屈折率層との間に中屈折率層を設けることは、反射率の低減のために更に好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、透明支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の厚さは、5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度でH以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。   In the present invention, in order to reduce the reflectance, it is also preferable to provide a high refractive index layer between the transparent support provided with the active ray curable resin layer and the low refractive index layer. In addition, it is more preferable to provide a middle refractive index layer between the transparent support and the high refractive index layer in order to reduce the reflectance. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.30, and more preferably 1.57 to 2.20. The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the transparent support and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55-1.80. The thickness of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm. The haze of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher, with a pencil hardness of 1 kg.

本発明に用いられる中、高屈折率層は下記一般式で表される有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物を含有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させた屈折率1.55〜2.5の層であることが好ましい。   Among the refractive index layers used in the present invention, the high refractive index layer was formed by applying and drying a coating solution containing a monomer, oligomer or hydrolyzate of an organic titanium compound represented by the following general formula. A layer of 55 to 2.5 is preferred.

一般式 Ti(OR14
式中、R1としては炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基がよいが、好ましくは炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基である。また、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、アルコキシド基が加水分解を受けて−Ti−O−Ti−のように反応して架橋構造を作り、硬化した層を形成する。
General formula Ti (OR 1 ) 4
In the formula, R 1 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. Moreover, the monomer, oligomer, or hydrolyzate thereof of an organic titanium compound reacts like -Ti-O-Ti- when an alkoxide group is hydrolyzed to form a crosslinked structure, thereby forming a cured layer.

本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーとしては、Ti(OCH34、Ti(OC254、Ti(O−n−C374、Ti(O−i−C374、Ti(O−n−C494、Ti(O−n−C374の2〜10量体、Ti(O−i−C374の2〜10量体、Ti(O−n−C494の2〜10量体等が好ましい例として挙げられる。これらは単独で、または2種以上組み合わせて用いることが出来る。中でもTi(O−n−C374、Ti(O−i−C374、Ti(O−n−C494、Ti(O−n−C374の2〜10量体、Ti(O−n−C494の2〜10量体が特に好ましい。 Examples of the monomer or oligomer of the organic titanium compound used in the present invention include Ti (OCH 3 ) 4 , Ti (OC 2 H 5 ) 4 , Ti (On-C 3 H 7 ) 4 , Ti (O-i- C 3 H 7) 4, Ti (O-n-C 4 H 9) 4, Ti (O-n-C 3 H 7) 4 2-10 mer, Ti (O-i-C 3 H 7) Preferred examples include 4 to 10 mer of 4 and 2 to 10 mer of Ti (On-C 4 H 9 ) 4 . These may be used alone or in combination of two or more. Of these Ti (O-n-C 3 H 7) 4, Ti (O-i-C 3 H 7) 4, Ti (O-n-C 4 H 9) 4, Ti (O-n-C 3 H 7 ) 4 to 10-mer and Ti (On-C 4 H 9 ) 4 to 10-mer are particularly preferable.

本発明に用いられる中、高屈折率層用塗布液は、水と後述する有機溶媒が順次添加された溶液中に上記有機チタン化合物を添加することが好ましい。水を後から添加した場合は、加水分解/重合が均一に進行せず、白濁が発生したり、膜強度が低下する。水と有機溶媒は添加された後、良く混合させるために攪拌し混合溶解されていることが好ましい。   Among the coating solutions for the high refractive index layer used in the present invention, it is preferable to add the organic titanium compound to a solution in which water and an organic solvent described later are sequentially added. When water is added later, hydrolysis / polymerization does not proceed uniformly, and white turbidity occurs or film strength decreases. After the water and the organic solvent are added, it is preferable that they are stirred and mixed and dissolved in order to mix well.

また、別法として有機チタン化合物と有機溶媒を混合させておき、この混合溶液を、上記水と有機溶媒の混合攪拌された溶液中に添加することも好ましい態様である。   Further, as another method, it is also a preferred embodiment that an organic titanium compound and an organic solvent are mixed and this mixed solution is added to the mixed and stirred solution of water and the organic solvent.

また、水の量は有機チタン化合物1モルに対して、0.25〜3モルの範囲であることが好ましい。0.25モル未満であると、加水分解、重合の進行が不十分で膜強度が低下する。3モルを超えると加水分解、重合が進行し過ぎて、TiO2の粗大粒子が発生し白濁するため好ましくない。従って水の量は上記範囲で調整する必要がある。 Moreover, it is preferable that the quantity of water is the range of 0.25-3 mol with respect to 1 mol of organic titanium compounds. When the amount is less than 0.25 mol, hydrolysis and polymerization are not sufficiently progressed and the film strength is lowered. If it exceeds 3 moles, hydrolysis and polymerization will proceed excessively, resulting in generation of coarse TiO 2 particles and white turbidity. Therefore, the amount of water needs to be adjusted within the above range.

また、水の含有率は塗布液総量に対して10質量%未満であることが好ましい。水の含有率を塗布液総量に対して10質量%以上にすると、塗布液の経時安定が劣り白濁を生じたりするため好ましくない。   Moreover, it is preferable that the content rate of water is less than 10 mass% with respect to the coating liquid total amount. If the water content is 10% by mass or more with respect to the total amount of the coating solution, it is not preferable because the stability of the coating solution with time deteriorates and white turbidity occurs.

ここで有機溶媒としては、水混和性の有機溶媒であることが好ましい。水混和性の有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。これらの有機溶媒の使用量は、前述したように、水の含有率が塗布液総量に対して10質量%未満であるように、水と有機溶媒のトータルの使用量を調整すればよい。   Here, the organic solvent is preferably a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, etc.), many Monohydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thiodiglycol, etc.), polyvalent Alcohol ethers (eg, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether) , Ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono Phenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (eg, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ethylenediamine, diethylenediamine) , Triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.), heterocyclic rings (For example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide, etc.), sulfones (for example, , Sulfolane and the like), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable. The amount of these organic solvents used may be adjusted as described above so that the water content is less than 10% by mass with respect to the total amount of the coating solution.

本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、塗布液に含まれる固形分中の50.0質量%〜98.0質量%を占めていることが望ましい。固形分比率は50質量%〜90質量%がより好ましく、55質量%〜90質量%が更に好ましい。この他、塗布組成物には有機チタン化合物のポリマー(予め有機チタン化合物の加水分解を行って架橋したもの)或いは酸化チタン微粒子を添加することも好ましい。   The monomer, oligomer or hydrolyzate of the organic titanium compound used in the present invention preferably occupies 50.0% by mass to 98.0% by mass in the solid content contained in the coating solution. The solid content ratio is more preferably 50% by mass to 90% by mass, and further preferably 55% by mass to 90% by mass. In addition, it is also preferable to add to the coating composition a polymer of an organic titanium compound (a product obtained by crosslinking the organic titanium compound in advance by hydrolysis) or titanium oxide fine particles.

本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、微粒子として金属酸化物粒子を含み、更にバインダーポリマーを含むものも好ましく用いられる。   The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention preferably include those containing metal oxide particles as fine particles and further containing a binder polymer.

或いは、上記塗布液調製法で加水分解/重合した有機チタン化合物と金属酸化物粒子を組み合わせると、金属酸化物粒子と加水分解/重合した有機チタン化合物とが強固に接着し、粒子のもつ硬さと均一膜の柔軟性を兼ね備えた強い塗膜を得ることが出来る。   Alternatively, when the organic titanium compound hydrolyzed / polymerized by the coating liquid preparation method and the metal oxide particles are combined, the metal oxide particles and the hydrolyzed / polymerized organic titanium compound are firmly bonded, and the hardness of the particles A strong coating film having the flexibility of a uniform film can be obtained.

高屈折率層及び中屈折率層に用いる金属酸化物粒子は、屈折率が1.80〜2.80であることが好ましく、1.90〜2.80であることが更に好ましい。金属酸化物粒子の1次粒子の質量平均径は、1〜150nmであることが好ましく、1〜100nmであることが更に好ましく、1〜80nmであることが最も好ましい。層中での金属酸化物粒子の質量平均径は、1〜200nmであることが好ましく、5〜150nmであることがより好ましく、10〜100nmであることが更に好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。金属酸化物粒子の平均粒径は、20〜30nm以上であれば光散乱法により、20〜30nm以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。金属酸化物粒子の比表面積は、BET法で測定された値として、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることが更に好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The metal oxide particles used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer preferably have a refractive index of 1.80 to 2.80, and more preferably 1.90 to 2.80. The mass average diameter of the primary particles of the metal oxide particles is preferably 1 to 150 nm, more preferably 1 to 100 nm, and most preferably 1 to 80 nm. The mass average diameter of the metal oxide particles in the layer is preferably 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, still more preferably 10 to 100 nm, and more preferably 10 to 80 nm. Most preferred. The average particle diameter of the metal oxide particles is measured by a light scattering method if it is 20-30 nm or more, and by an electron micrograph if it is 20-30 nm or less. The specific surface area of metal oxide particles, as measured values by the BET method is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, with 30 to 150 m 2 / g Most preferably it is.

金属酸化物粒子の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物であり、具体的には二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化ジルコニウムが挙げられる。中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。金属酸化物粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことが出来、導電性を付与した微粒子も好ましく用いられる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びS等が挙げられる。   Examples of the metal oxide particles include at least one selected from Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S. Specific examples of the metal oxide include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and zirconium oxide. Of these, titanium oxide, tin oxide, and indium oxide are particularly preferable. The metal oxide particles are mainly composed of oxides of these metals, can further contain other elements, and fine particles imparted with conductivity are also preferably used. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S.

金属酸化物粒子は表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することが出来る。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。   The metal oxide particles are preferably surface-treated. The surface treatment can be performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include alumina, silica, zirconium oxide and iron oxide. Of these, alumina and silica are preferable. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, a silane coupling agent is most preferable.

具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。   Specific examples of the silane coupling agent include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane. Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxy Propyltriethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, Examples include N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.

また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。   Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.

これらの内、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。   Of these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypro Pyrtrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane are particularly preferred.

2種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。   Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.

カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施出来る。表面処理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、またはこれらの塩(例えば、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。   The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the fine particle dispersion and allowing the dispersion to stand at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (for example, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.

これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、前述の有機チタン化合物及び金属酸化物粒子の表面が反応し易く、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えることも好ましい。この加水分解に用いた水も有機チタン化合物の加水分解/重合に用いることが出来る。   These silane coupling agents are preferably hydrolyzed with a necessary amount of water in advance. When the silane coupling agent is hydrolyzed, the surfaces of the organic titanium compound and the metal oxide particles described above are easy to react and a stronger film is formed. It is also preferable to add a hydrolyzed silane coupling agent to the coating solution in advance. The water used for this hydrolysis can also be used for the hydrolysis / polymerization of the organic titanium compound.

本発明では2種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。金属酸化物粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。2種類以上の金属酸化物粒子を高屈折率層或いは中屈折率層に用いてもよい。   In the present invention, the treatment may be performed by combining two or more kinds of surface treatments. The shape of the metal oxide particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape or an indefinite shape. Two or more kinds of metal oxide particles may be used in the high refractive index layer or the middle refractive index layer.

高屈折率層及び中屈折率層中の金属酸化物粒子の割合は、5〜65体積%であることが好ましく、より好ましくは10〜60体積%であり、更に好ましくは20〜55体積%である。   The ratio of the metal oxide particles in the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5 to 65% by volume, more preferably 10 to 60% by volume, and still more preferably 20 to 55% by volume. is there.

上記金属酸化物粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層及び中屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、ケトンアルコール(例、ジアセトンアルコール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The metal oxide particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol). , Esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene) Chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

また金属酸化物粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。   The metal oxide particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、架橋構造を有するポリマー(以下、架橋ポリマーともいう)をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー(以下、ポリオレフィンと総称する)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。また、架橋ポリマーがアニオン性基を有することは更に好ましい。アニオン性基は無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋構造はポリマーに皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ましい。   The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention preferably use a polymer having a crosslinked structure (hereinafter also referred to as a crosslinked polymer) as a binder polymer. Examples of the crosslinked polymer include polymers having a saturated hydrocarbon chain such as polyolefin (hereinafter collectively referred to as polyolefin), and crosslinked products such as polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide, and melamine resin. Among them, a crosslinked product of polyolefin, polyether and polyurethane is preferred, a crosslinked product of polyolefin and polyether is more preferred, and a crosslinked product of polyolefin is most preferred. Further, it is further preferable that the crosslinked polymer has an anionic group. The anionic group has a function of maintaining the dispersion state of the inorganic fine particles, and the crosslinked structure has a function of imparting a film forming ability to the polymer and strengthening the film. The anionic group may be directly bonded to the polymer chain or may be bonded to the polymer chain via a linking group, but is bonded to the main chain as a side chain via the linking group. Is preferred.

アニオン性基の例としては、カルボン酸基(カルボキシル)、スルホン酸基(スルホ)及びリン酸基(ホスホノ)が挙げられる。中でも、スルホン酸基及びリン酸基が好ましい。ここで、アニオン性基は、塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは、解離していてもよい。アニオン性基とポリマー鎖とを結合する連結基は、−CO−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。好ましいバインダーポリマーである架橋ポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。この場合、コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96質量%であることが好ましく、4〜94質量%であることが更に好ましく、6〜92質量%であることが最も好ましい。繰り返し単位は、2以上のアニオン性基を有していてもよい。   Examples of the anionic group include a carboxylic acid group (carboxyl), a sulfonic acid group (sulfo), and a phosphoric acid group (phosphono). Of these, sulfonic acid groups and phosphoric acid groups are preferred. Here, the anionic group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the anionic group is preferably an alkali metal ion. Moreover, the proton of the anionic group may be dissociated. The linking group that binds the anionic group and the polymer chain is preferably a divalent group selected from —CO—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. The crosslinked polymer which is a preferable binder polymer is preferably a copolymer having a repeating unit having an anionic group and a repeating unit having a crosslinked structure. In this case, the ratio of the repeating unit having an anionic group in the copolymer is preferably 2 to 96% by mass, more preferably 4 to 94% by mass, and most preferably 6 to 92% by mass. preferable. The repeating unit may have two or more anionic groups.

アニオン性基を有する架橋ポリマーには、その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋構造も有しない繰り返し単位)が含まれていてもよい。その他の繰り返し単位としては、アミノ基または4級アンモニウム基を有する繰り返し単位及びベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基または4級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有する。ベンゼン環は、高屈折率層の屈折率を高くする機能を有する。尚、アミノ基、4級アンモニウム基及びベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位或いは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。   The crosslinked polymer having an anionic group may contain other repeating units (a repeating unit having neither an anionic group nor a crosslinked structure). Other repeating units are preferably a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group and a repeating unit having a benzene ring. The amino group or quaternary ammonium group has a function of maintaining the dispersed state of the inorganic fine particles, like the anionic group. The benzene ring has a function of increasing the refractive index of the high refractive index layer. The amino group, the quaternary ammonium group, and the benzene ring can obtain the same effect even if they are contained in a repeating unit having an anionic group or a repeating unit having a crosslinked structure.

上記アミノ基または4級アンモニウム基を有する繰り返し単位を構成単位として含有する架橋ポリマーにおいて、アミノ基または4級アンモニウム基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、或いは連結基を介し側鎖としてポリマー鎖に結合していてもよいが、後者がより好ましい。アミノ基または4級アンモニウム基は、2級アミノ基、3級アミノ基または4級アンモニウム基であることが好ましく、3級アミノ基または4級アンモニウム基であることが更に好ましい。2級アミノ基、3級アミノ基または4級アンモニウム基の窒素原子に結合している基としては、アルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜12のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数1〜6のアルキル基である。4級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。アミノ基または4級アンモニウム基とポリマー鎖とを結合する連結基は、−CO−、−NH−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる2価の基であることが好ましい。架橋ポリマーが、アミノ基または4級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、0.06〜32質量%であることが好ましく、0.08〜30質量%であることが更に好ましく、0.1〜28質量%であることが最も好ましい。   In the crosslinked polymer containing a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group as a constituent unit, the amino group or quaternary ammonium group may be directly bonded to the polymer chain, or may be a side chain via a linking group. May be bonded to the polymer chain, but the latter is more preferred. The amino group or quaternary ammonium group is preferably a secondary amino group, a tertiary amino group or a quaternary ammonium group, more preferably a tertiary amino group or a quaternary ammonium group. The group bonded to the nitrogen atom of the secondary amino group, tertiary amino group or quaternary ammonium group is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, still more preferably carbon number. 1 to 6 alkyl groups. The counter ion of the quaternary ammonium group is preferably a halide ion. The linking group that connects the amino group or quaternary ammonium group to the polymer chain is a divalent group selected from —CO—, —NH—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. Is preferred. When the crosslinked polymer includes a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group, the ratio is preferably 0.06 to 32% by mass, more preferably 0.08 to 30% by mass, Most preferably, it is 0.1-28 mass%.

架橋ポリマーは、架橋ポリマーを生成するためのモノマーを配合して高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布液を調製し、塗布液の塗布と同時または塗布後に、重合反応によって生成させることが好ましい。架橋ポリマーの生成と共に、各層が形成される。アニオン性基を有するモノマーは、塗布液中で無機微粒子の分散剤として機能する。アニオン性基を有するモノマーは、無機微粒子に対して、好ましくは1〜50質量%、より好ましくは5〜40質量%、更に好ましくは10〜30質量%使用される。また、アミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーは、塗布液中で分散助剤として機能する。アミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーは、アニオン性基を有するモノマーに対して、好ましくは3〜33質量%使用される。塗布液の塗布と同時または塗布後に、重合反応によって架橋ポリマーを生成する方法により、塗布液の塗布前にこれらのモノマーを有効に機能させることが出来る。   The cross-linked polymer is prepared by blending a monomer for generating a cross-linked polymer to prepare a coating solution for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer, and is generated by a polymerization reaction simultaneously with or after coating of the coating solution. Is preferred. Each layer is formed with the production of the crosslinked polymer. The monomer having an anionic group functions as a dispersant for inorganic fine particles in the coating solution. The monomer having an anionic group is preferably used in an amount of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and still more preferably 10 to 30% by mass with respect to the inorganic fine particles. The monomer having an amino group or a quaternary ammonium group functions as a dispersion aid in the coating solution. The monomer having an amino group or a quaternary ammonium group is preferably used in an amount of 3 to 33% by mass based on the monomer having an anionic group. These monomers can be made to function effectively before application of the coating liquid by a method of forming a crosslinked polymer by a polymerization reaction simultaneously with or after application of the coating liquid.

本発明に用いられるモノマーとしては、2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーが最も好ましいが、その例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミド等が挙げられる。アニオン性基を有するモノマー、及びアミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーは市販のモノマーを用いてもよい。好ましく用いられる市販のアニオン性基を有するモノマーとしては、KAYAMARPM−21、PM−2(日本化薬(株)製)、AntoxMS−60、MS−2N、MS−NH4(日本乳化剤(株)製)、アロニックスM−5000、M−6000、M−8000シリーズ(東亞合成化学工業(株)製)、ビスコート#2000シリーズ(大阪有機化学工業(株)製)、ニューフロンティアGX−8289(第一工業製薬(株)製)、NKエステルCB−1、A−SA(新中村化学工業(株)製)、AR−100、MR−100、MR−200(第八化学工業(株)製)等が挙げられる。また、好ましく用いられる市販のアミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーとしてはDMAA(大阪有機化学工業(株)製)、DMAEA,DMAPAA(興人(株)製)、ブレンマーQA(日本油脂(株)製)、ニューフロンティアC−1615(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。   As the monomer used in the present invention, a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups is most preferable, and examples thereof include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di ( (Meth) acrylate, 1,4-dichlorohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester Terpolyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (E.g., methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Commercially available monomers may be used as the monomer having an anionic group and the monomer having an amino group or a quaternary ammonium group. As a commercially available monomer having a commercially available anionic group, KAYAMAPMPM-21, PM-2 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Antox MS-60, MS-2N, MS-NH4 (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) , Aronix M-5000, M-6000, M-8000 series (manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.), Biscote # 2000 series (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), New Frontier GX-8289 (Daiichi Kogyo Seiyaku) NK ester CB-1, A-SA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), AR-100, MR-100, MR-200 (manufactured by Eighth Chemical Industry Co., Ltd.), and the like. It is done. Examples of commercially available monomers having a commercially available amino group or quaternary ammonium group include DMAA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), DMAEA, DMAPAA (manufactured by Kojin Co., Ltd.), and Bremer QA (Nippon Yushi Co., Ltd.). ) And New Frontier C-1615 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).

ポリマーの重合反応は、光重合反応または熱重合反応を用いることが出来る。特に光重合反応が好ましい。重合反応のため、重合開始剤を使用することが好ましい。例えば、ハードコート層のバインダーポリマーを形成するために用いられる後述する熱重合開始剤、及び光重合開始剤が挙げられる。   For the polymerization reaction of the polymer, a photopolymerization reaction or a thermal polymerization reaction can be used. A photopolymerization reaction is particularly preferable. A polymerization initiator is preferably used for the polymerization reaction. For example, the thermal polymerization initiator mentioned later used in order to form the binder polymer of a hard-coat layer, and a photoinitiator are mentioned.

重合開始剤として市販の重合開始剤を使用してもよい。重合開始剤に加えて、重合促進剤を使用してもよい。重合開始剤と重合促進剤の添加量は、モノマーの全量の0.2〜10質量%の範囲であることが好ましい。塗布液(モノマーを含む無機微粒子の分散液)を加熱して、モノマー(またはオリゴマー)の重合を促進してもよい。また、塗布後の光重合反応の後に加熱して、形成されたポリマーの熱硬化反応を追加処理してもよい。   A commercially available polymerization initiator may be used as the polymerization initiator. In addition to the polymerization initiator, a polymerization accelerator may be used. The addition amount of the polymerization initiator and the polymerization accelerator is preferably in the range of 0.2 to 10% by mass of the total amount of monomers. The coating liquid (dispersion of inorganic fine particles containing monomer) may be heated to promote polymerization of the monomer (or oligomer). Moreover, it may heat after the photopolymerization reaction after application | coating, and may additionally process the thermosetting reaction of the formed polymer.

中屈折率層及び高屈折率層には、比較的屈折率が高いポリマーを用いることが好ましい。屈折率が高いポリマーの例としては、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及び環状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタンが挙げられる。その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高く用いることが出来る。   For the medium refractive index layer and the high refractive index layer, it is preferable to use a polymer having a relatively high refractive index. Examples of the polymer having a high refractive index include polystyrene, styrene copolymer, polycarbonate, melamine resin, phenol resin, epoxy resin, and polyurethane obtained by reaction of cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanate and polyol. . Polymers having other cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) groups and polymers having halogen atoms other than fluorine as substituents can also be used with a high refractive index.

反射防止層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法、スプレーコート法、インクジェット法により、塗布により形成することが出来る。   Each layer of the antireflection layer is formed by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, micro gravure coating, extrusion coating, spray coating, and inkjet. It can be formed by coating.

〈偏光板〉
本発明の偏光板について述べる。
<Polarizer>
The polarizing plate of the present invention will be described.

偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の光学フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面にも該光学フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。反対面側に用いられる偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルムとして、KC8UX2M、KC4UX、KC5UX、KC4UY、KC8UY、KC12UR、KC8UCR−1、KC8UCR−2、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UXW−H(コニカミノルタオプト(株)製)等が好ましく用いられる。これらは同種のフィルムを偏光子の両面に用いて偏光板化することも出来、或いは異なる種類のフィルムを組み合わせて偏光板とすることも出来る。これらの偏光板は表示装置の表面若しくは裏面(バックライト側)に使用することが出来る。例えば、KC8UY/偏光子/KC12UR、KC8UX2M/偏光子/KC8UCR−3、KC8UXW−H/偏光子/KC8UCR4、KCUXW−H/偏光子/KCUCR−3等と組み合わせて用いることが出来る。本発明の光学フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、Rtが70〜400nmの位相差を有している光学補償フィルムであることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957号公報段落番号[0014]〜[0078]、特開2003−170492号公報段落番号[0064]〜[0252]記載の方法で作製することが出来る。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348号公報段落番号[0033]〜[0053]記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明の光学フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。   The polarizing plate can be produced by a general method. The back side of the optical film of the present invention is subjected to alkali saponification treatment, and the treated optical film is bonded to at least one surface of a polarizing film prepared by immersing and stretching in an iodine solution using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution. It is preferable. The optical film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. As a polarizing plate protective film used on the opposite surface side, as a commercially available cellulose ester film, KC8UX2M, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC8UCR-1, KC8UCR-2, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UXW- H (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) and the like are preferably used. These can be made into a polarizing plate by using the same type of film on both sides of the polarizer, or a polarizing plate can be formed by combining different types of films. These polarizing plates can be used on the front surface or the back surface (backlight side) of the display device. For example, it can be used in combination with KC8UY / polarizer / KC12UR, KC8UX2M / polarizer / KC8UCR-3, KC8UXW-H / polarizer / KC8UCR4, KCUXW-H / polarizer / KCUCR-3, and the like. In contrast to the optical film of the present invention, the polarizing plate protective film used on the other surface has an in-plane retardation Ro of 590 nm, an optical compensation film having a phase difference of 20 to 70 nm and Rt of 70 to 400 nm. It is preferable that These can be produced, for example, by the methods described in JP-A-2002-71957, paragraph numbers [0014] to [0078] and JP-A-2003-170492, paragraphs [0064] to [0252]. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in paragraph numbers [0033] to [0053] of JP-A-2003-98348. By using it in combination with the optical film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. On the surface of the polarizing film, one side of the optical film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

本発明の光学フィルムを使用した偏光板はカールも少なく平面性にも優れ、異物故障の発生もなく、更に光学補償フィルムを組み合わせることによる視野角拡大と併せて視認性の著しい向上をもたらすことが出来た。   The polarizing plate using the optical film of the present invention has less curl and excellent flatness, does not cause foreign matter failure, and further improves visibility by combining with an optical compensation film in combination with an increased viewing angle. done.

〈表示装置〉
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の光学フィルムは反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明の光学フィルムは反射防止層の反射光の色むらやぎらつきが著しく少なく、また、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上、特に30型〜54型の大画面の表示装置では、色むら、ぎらつきや波打ちむらが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
<Display device>
By incorporating the polarizing plate of the present invention into a display device, the display device of the present invention having various visibility can be manufactured. The optical film of the present invention is preferably a reflective, transmissive, transflective LCD, or TN, STN, OCB, HAN, VA (PVA, MVA), IPS, or other driving LCD. Used. Further, the optical film of the present invention has remarkably little color unevenness and glare of the reflected light of the antireflection layer, and is excellent in flatness, such as a plasma display, a field emission display, an organic EL display, an inorganic EL display, and electronic paper. It is preferably used for various display devices. In particular, a large-screen display device with a screen of 30 or more types, particularly 30 to 54 types, has less color unevenness, glare and wavy unevenness, and has an effect that eyes are not tired even during long-time viewing.

以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these.

実施例1
〈セルロースエステルフィルム1の作製〉
(二酸化珪素分散液A)
アエロジル972V(日本アエロジル(株)製) 12質量部
(一次粒子の平均径16nm、見掛け比重90g/リットル)
エタノール 88質量部
以上をディゾルバーで30分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液Aに88質量部のメチレンクロライドを攪拌しながら投入し、ディゾルバーで30分間攪拌混合し、二酸化珪素分散希釈液Aを作製した。
Example 1
<Preparation of cellulose ester film 1>
(Silicon dioxide dispersion A)
Aerosil 972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 12 parts by mass (average primary particle diameter 16 nm, apparent specific gravity 90 g / liter)
88 parts by mass of ethanol or more was stirred and mixed with a dissolver for 30 minutes, and then dispersed with Manton Gorin. 88 parts by mass of methylene chloride was added to the silicon dioxide dispersion A while stirring and mixed with a dissolver for 30 minutes to prepare a silicon dioxide dispersion dilution A.

(インライン添加液Aの作製)
1,3,5トリアジン化合物(下記構造の化合物D) 12質量部
メチレンクロライド 100質量部
(Preparation of inline additive solution A)
1,3,5 triazine compound (compound D having the following structure) 12 parts by mass Methylene chloride 100 parts by mass

Figure 2006003511
Figure 2006003511

以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、濾過した。   The above was put into a sealed container, heated, stirred and completely dissolved and filtered.

これに二酸化珪素分散希釈液Aを36質量部、攪拌しながら加えて、更に30分間撹拌した後、セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8)6質量部を攪拌しながら加えて、更に60分間攪拌した後、アドバンテック東洋(株)のポリプロピレンワインドカートリッジフィルターTCW−PPS−1Nで濾過し、インライン添加液Aを調製した。   To this, 36 parts by mass of silicon dioxide dispersion diluent A was added with stirring. After further stirring for 30 minutes, cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.8) 6 masses. The mixture was added with stirring, and further stirred for 60 minutes, and then filtered through a polypropylene wind cartridge filter TCW-PPS-1N manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. to prepare an in-line additive solution A.

(ドープ液Aの調製)
セルロースエステル(リンター綿から合成されたセルローストリアセテート)
100質量部
(Mn=148000、Mw=310000、Mw/Mn=2.1、アセチル基置換度2.9)
トリメチロールプロパントリベンゾエート(下記化合物) 5.0質量部
エチルフタリルエチルグリコレート 5.5質量部
メチレンクロライド 440質量部
エタノール 40質量部
(Preparation of dope solution A)
Cellulose ester (cellulose triacetate synthesized from linter cotton)
100 parts by mass (Mn = 148000, Mw = 310000, Mw / Mn = 2.1, acetyl group substitution degree 2.9)
Trimethylolpropane tribenzoate (the following compound) 5.0 parts by mass Ethylphthalyl ethyl glycolate 5.5 parts by mass Methylene chloride 440 parts by mass Ethanol 40 parts by mass

Figure 2006003511
Figure 2006003511

以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープ液を調製した。濾過したドープ液Aを100質量部に対し、前述のインライン添加液Aを2質量部加えて、インラインミキサー(東レ静止型管内混合機 Hi−Mixer、SWJ)で十分混合し、次いで、ベルト流延装置を用い、温度35℃、1.8m幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が120%になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルロースエステルのウェブを40℃で溶媒を蒸発させ、1.6m幅にスリットし、その後、テンターでTD方向(フィルムの搬送方向と直交する方向)に120℃で1.1倍に延伸した。テンターで延伸を始めた時の残留溶剤量は25%であった。その後、110℃、120℃の加熱ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、1.4m幅にスリットし、フィルム両端に幅15mm、平均高さ10μmのナーリング加工を施して巻き取り、セルロースエステルフィルムを得た。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出される剥離直後のMD方向(フィルムの搬送方向と同一方向)の延伸倍率は1.1倍であった。セルロースエステルフィルムの残留溶剤量は0.1%であり、平均膜厚は80μm、巻数は3000mであった。これを試料フィルム1とした。   The above was put into a closed container, heated and stirred, and completely dissolved. Azumi filter paper No. No. 24 was used for filtration to prepare a dope solution. 2 parts by mass of the above-mentioned inline additive A is added to 100 parts by mass of the filtered dope liquid A, and the mixture is sufficiently mixed with an inline mixer (Toray static type in-pipe mixer Hi-Mixer, SWJ). Using the apparatus, it was cast uniformly on a stainless steel band support at a temperature of 35 ° C. and a width of 1.8 m. With the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount became 120%, and then peeled off from the stainless steel band support. The peeled cellulose ester web was evaporated at 40 ° C., slit to 1.6 m width, and then stretched 1.1 times at 120 ° C. in the TD direction (direction perpendicular to the film transport direction) with a tenter. . The residual solvent amount when starting stretching with a tenter was 25%. Then, drying was completed while transporting the heating zone at 110 ° C. and 120 ° C. with a number of rolls, slitting to a width of 1.4 m, winding at both ends of the film with a width of 15 mm and an average height of 10 μm, A cellulose ester film was obtained. The draw ratio in the MD direction (the same direction as the film transport direction) immediately after peeling calculated from the rotational speed of the stainless steel band support and the operating speed of the tenter was 1.1 times. The residual solvent amount of the cellulose ester film was 0.1%, the average film thickness was 80 μm, and the winding number was 3000 m. This was designated as Sample Film 1.

《バックコート層1の塗設》
下記のバックコート層用塗布組成物1を、3μmの粒子捕捉効率が99%以上で0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過して調製した。このバックコート層用塗布組成物1を、上記セルロースエステルフィルム1のステンレスバンド支持体に接する面とは反対の面にエクストルージョンコーターにてウェット膜厚が15μmになるように塗布し、90℃で30秒間乾燥させた。これを試料フィルム2とした。
<< Coating of back coat layer 1 >>
The following coating composition 1 for a backcoat layer was prepared by filtering with a filter having a particle capture efficiency of 3 μm of 99% or more and 0.5 μm or less and a particle capture efficiency of 10% or less. The backcoat layer coating composition 1 was applied to the surface of the cellulose ester film 1 opposite to the surface in contact with the stainless steel band support with an extrusion coater so that the wet film thickness was 15 μm, and the coating composition was 90 ° C. Dry for 30 seconds. This was designated as Sample Film 2.

〈バックコート層用塗布組成物1〉
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 0.5質量部
アセトン 70質量部
メタノール 20質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
2%アセトン分散超微粒子シリカ アエロジル200V(日本アエロジル(株)製)
0.2質量部
(シリカ微粒子は添加するメタノール中に分散して添加した。)
《微細凸構造1の形成:本発明》
〈セルロースエステルフィルム2の作製〉
セルロースエステルフィルム1の作製において、インライン添加液Aに二酸化珪素分散希釈液Aを添加せず、下記インクジェット方式によりインク液滴をフィルム面に均一に出射した以外は同様にして、平均膜厚は80μm、巻数は3000mのセルロースエステルフィルム2を作製した。これを試料フィルム3とした。
<Backcoat layer coating composition 1>
Diacetyl cellulose (acetyl group substitution degree 2.4) 0.5 parts by weight Acetone 70 parts by weight Methanol 20 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 10 parts by weight 2% acetone-dispersed ultrafine silica AEROSIL 200V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
0.2 parts by mass (Silica fine particles were added dispersed in methanol to be added.)
<< Formation of Fine Convex Structure 1: Present Invention >>
<Preparation of cellulose ester film 2>
In the production of the cellulose ester film 1, the average film thickness is 80 μm in the same manner except that the silicon dioxide dispersion diluent A is not added to the in-line additive liquid A and the ink droplets are uniformly emitted to the film surface by the following inkjet method. A cellulose ester film 2 having a winding number of 3000 m was produced. This was designated as Sample Film 3.

図9の10Bの位置に下記インクジェットヘッドを設置し、セルロースエステルフィルム2のステンレスバンド支持体に接する面とは反対の面に、下記のインク液1をインクジェット方式によりインク液滴として1plで出射し、着弾後85℃で乾燥して、フィルム面を基準とした高さaが0.01〜0.5μmである凸部を1000μm2当たり50個有している微細凸構造を形成した。凸部の形状は図2の(b)に近似していた。 The following inkjet head is installed at the position 10B in FIG. 9, and the following ink liquid 1 is emitted as an ink droplet at 1 pl by the inkjet method on the surface opposite to the surface in contact with the stainless steel band support of the cellulose ester film 2. After landing, the film was dried at 85 ° C. to form a fine convex structure having 50 convex portions having a height a of 0.01 to 0.5 μm per 1000 μm 2 based on the film surface. The shape of the convex portion approximated to (b) of FIG.

〈インクジェット出射方法〉
インクジェット出射装置は、ラインヘッド方式(図5の(a))を使用し、ノズル径が3.5μmのノズルを所定数有するインクジェットヘッドを10基を準備した。インクジェットヘッドは図4に記載の構成のものを使用した。
<Inkjet ejection method>
As the inkjet emission device, a line head method (FIG. 5A) was used, and 10 inkjet heads having a predetermined number of nozzles having a nozzle diameter of 3.5 μm were prepared. An ink jet head having the structure shown in FIG. 4 was used.

インク供給系は、インク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッド及び配管から構成されており、インク供給タンクからインクジェットヘッド部までは、断熱及び加温(40℃)し、出射温度は40℃、駆動周波数は20kHzで行った。   The ink supply system is composed of an ink supply tank, a filter, a piezo-type ink jet head, and piping. The ink supply tank to the ink jet head section is insulated and heated (40 ° C.), and the emission temperature is 40 ° C. The driving frequency was 20 kHz.

〈インク液1の組成〉
セルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度2.7、アセチル基置換度1.90、プロピオニル基置換度0.8) 0.5質量部
アセトン 70質量部
メタノール 20質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
《微細凸構造2の形成:本発明》
微細凸構造1の形成で用いたインク液1を用いて同様にインクジェット方式により出射し、インク液着弾後85℃で乾燥して、フィルム面を基準とした高さaが0.01〜0.5μmである凸部を1000μm2当たり100個有している微細凸構造を形成した。これを試料フィルム4とした。
<Composition of ink liquid 1>
Cellulose acetate propionate (total acyl group substitution degree 2.7, acetyl group substitution degree 1.90, propionyl group substitution degree 0.8) 0.5 parts by mass Acetone 70 parts by mass Methanol 20 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 10 parts by mass Part << Formation of Fine Convex Structure 2: Present Invention >>
Similarly, the ink liquid 1 used for forming the fine convex structure 1 is ejected by an ink jet method, dried at 85 ° C. after landing of the ink liquid, and the height a based on the film surface is 0.01 to 0.00. A fine convex structure having 100 convex portions of 5 μm per 1000 μm 2 was formed. This was designated as Sample Film 4.

《微細凸構造3の形成:本発明》
下記インク液2を用いて同様にインクジェット方式により出射し、インク液着弾後85℃で乾燥して、フィルム面を基準とした高さaが0.03〜0.3μmで、凸部の直径bが0.1〜1μmである凸部を1000μm2当たり200個有している微細凸構造を形成した。これを試料フィルム5とした。
<< Formation of Fine Convex Structure 3: Present Invention >>
Similarly, the following ink liquid 2 is emitted by the ink jet method, dried at 85 ° C. after landing of the ink liquid, the height a based on the film surface is 0.03 to 0.3 μm, and the diameter b of the convex portion A fine convex structure having 200 convex portions of 0.1 to 1 μm per 1000 μm 2 was formed. This was designated as Sample Film 5.

〈インク液2の組成〉
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 0.5質量部
アセトン 70質量部
メタノール 20質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
2%超微粒子シリカ分散液アエロジルR972V(日本アエロジル(株)製)
10質量部
(シリカ微粒子として0.2質量部)
《微細凸構造4の形成:本発明》
下記インク液3を用いて、インクジェット方式により出射し、インク液着弾後85℃で乾燥して、フィルム面を基準とした高さaが0.02〜0.1μmである凸部を1000μm2当たり500個有している微細凸構造を形成した。これを試料フィルム6とした。
<Composition of ink liquid 2>
Diacetylcellulose (acetyl group substitution degree 2.4) 0.5 parts by weight Acetone 70 parts by weight Methanol 20 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 10 parts by weight 2% ultrafine silica dispersion Aerosil R972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
10 parts by mass (0.2 parts by mass as silica fine particles)
<< Formation of Fine Convex Structure 4: Present Invention >>
Using the following ink liquid 3, it is emitted by an ink jet method, dried at 85 ° C. after landing of the ink liquid, and a convex portion having a height a of 0.02 to 0.1 μm with respect to the film surface as 1000 μm 2 . A fine convex structure having 500 pieces was formed. This was designated as Sample Film 6.

〈インク液3の組成〉
セルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度2.7、アセチル基置換度1.90、プロピオニル基置換度0.8) 0.5質量部
酢酸メチル 70質量部
エタノール 20質量部
2%超微粒子シリカエタノール分散液アエロジル200V(日本アエロジル(株)製)
10質量部
(シリカ微粒子として0.2質量部)
《微細凸構造5の形成:本発明》
下記インク液4を用いて、セルロースエステルフィルム2の上にインクジェット方式により出射し、インク液着弾後85℃で乾燥して、フィルム面を基準とした高さaが0.1〜0.3μmである凸部を1000μm2当たり10個有している微細凸構造を形成した。これを試料フィルム7とした。
<Composition of ink liquid 3>
Cellulose acetate propionate (total acyl group substitution degree 2.7, acetyl group substitution degree 1.90, propionyl group substitution degree 0.8) 0.5 parts by mass Methyl acetate 70 parts by mass Ethanol 20 parts by mass 2% ultrafine silica Ethanol dispersion Aerosil 200V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
10 parts by mass (0.2 parts by mass as silica fine particles)
<< Formation of Fine Convex Structure 5: Present Invention >>
Using the following ink liquid 4, the ink is emitted onto the cellulose ester film 2 by an ink jet method, dried at 85 ° C. after landing of the ink liquid, and the height a based on the film surface is 0.1 to 0.3 μm. A fine convex structure having 10 convex portions per 1000 μm 2 was formed. This was designated as Sample Film 7.

〈インク液4の組成〉
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 2質量部
メチルエチルケトン 70質量部
メタノール 30質量部
架橋アクリル微粒子メチルエチルケトン分散液(粒径0.06〜0.15μm)MS−300K(綜研化学(株)製) 1質量部
(粒子として0.35質量部)
以上のようにして、表1に示す試料フィルム1〜7を作製した。
<Composition of ink liquid 4>
Diacetyl cellulose (acetyl group substitution degree 2.4) 2 parts by mass Methyl ethyl ketone 70 parts by mass Methanol 30 parts by mass Cross-linked acrylic fine particle methyl ethyl ketone dispersion (particle size 0.06-0.15 μm) MS-300K (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 1 part by mass (0.35 parts by mass as particles)
Sample films 1 to 7 shown in Table 1 were produced as described above.

上記作製した各試料フィルム1〜7の微細凸構造を設けた面とは反対の面に下記ハードコート層を塗設した。   The following hard coat layer was applied to the surface opposite to the surface provided with the fine convex structure of each of the prepared sample films 1 to 7.

《ハードコート層の塗布》
前記フィルム試料上に、均一な塗布層となるように下記のハードコート層塗布組成物をダイコーターで塗布し、熱風の温度、風速を徐々に強め最終的に85℃で乾燥し、続いて活性光線照射部より0.1J/cm2の照射強度で紫外線照射し、乾燥膜厚で5μmのクリアハードコート層を設けた。
<Applying hard coat layer>
On the film sample, the following hard coat layer coating composition is applied with a die coater so as to form a uniform coating layer, and the temperature and speed of the hot air are gradually increased and finally dried at 85 ° C., followed by activation. Ultraviolet rays were irradiated from the light irradiation part at an irradiation intensity of 0.1 J / cm 2 , and a clear hard coat layer having a dry film thickness of 5 μm was provided.

〈ハードコート層塗布組成物〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20質量部
光反応開始剤 4質量部
(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
プロピレングリコールモノメチルエーテル 75質量部
メチルエチルケトン 75質量部
次いで、上記ハードコート層の上に下記反射防止層を設け反射防止フィルム1〜7を作製した。
<Hard coat layer coating composition>
Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate trimer or higher component 20 parts by mass Photoinitiator 4 parts by mass (Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals (Made by Co., Ltd.))
Propylene glycol monomethyl ether 75 parts by mass Methyl ethyl ketone 75 parts by mass Next, the following antireflection layer was provided on the hard coat layer to prepare antireflection films 1 to 7.

《反射防止層(低屈折率層1)の作製》
下記の低屈折率層組成物1をダイコーターで塗布し、80℃で5分間乾燥させた後、更に120℃で5分間熱硬化させ、更に紫外線を175mJ/cm2照射して硬化させ、厚さ95nmとなるように低屈折率層1を設けた。尚、この低屈折率層1の屈折率は1.45であった。
<< Preparation of antireflection layer (low refractive index layer 1) >>
The following low refractive index layer composition 1 was applied with a die coater, dried at 80 ° C. for 5 minutes, further thermally cured at 120 ° C. for 5 minutes, and further cured by irradiating ultraviolet rays at 175 mJ / cm 2. The low refractive index layer 1 was provided so as to be 95 nm. The refractive index of the low refractive index layer 1 was 1.45.

〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン580gとエタノール1144gを混合し、これに酢酸水溶液を添加した後に、室温(25℃)にて1時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。
<Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A>
Tetraethoxysilane hydrolyzate A was prepared by mixing 580 g of tetraethoxysilane and 1144 g of ethanol, and adding an acetic acid aqueous solution thereto, followed by stirring at room temperature (25 ° C.) for 1 hour.

〈低屈折率層組成物1〉
プロピレングリコールモノメチルエーテル 303質量部
イソプロピルアルコール 305質量部
テトラエトキシシラン加水分解物A 139質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
(信越化学社製KBM503) 1.6質量部
10%FZ−2207、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液
(日本ユニカー社製) 1.3質量部
次いで、各々の反射防止フィルムを用いて偏光板を作製した。
<Low refractive index layer composition 1>
Propylene glycol monomethyl ether 303 parts by mass Isopropyl alcohol 305 parts by mass Tetraethoxysilane hydrolyzate A 139 parts by mass γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1.6 parts by mass 10% FZ-2207, propylene glycol Monomethyl ether solution (Nihon Unicar Co., Ltd.) 1.3 parts by mass Next, a polarizing plate was prepared using each antireflection film.

《偏光板の作製》
厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
<Production of polarizing plate>
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. This was washed with water and dried to obtain a polarizing film.

次いで、下記工程1〜5に従って偏光膜と前記反射防止フィルム1〜7、裏面側のセルロースエステルフィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムには下記の方法で作製した位相差を有するセルロースエステルフィルムR(Ro=43nm、Rt=132nm)を用いてそれぞれ偏光板とした。   Then, according to the following processes 1-5, the polarizing film, the said antireflection films 1-7, and the cellulose ester film of the back side were bonded together, and the polarizing plate was produced. As the polarizing plate protective film on the back side, a cellulose ester film R (Ro = 43 nm, Rt = 132 nm) having a retardation produced by the following method was used as a polarizing plate.

工程1:50℃の1モル/Lの水酸化ナトリウム溶液に60秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。   Step 1: Soaked in a 1 mol / L sodium hydroxide solution at 50 ° C. for 60 seconds, then washed with water and dried to obtain a saponified cellulose ester film bonded to the polarizer.

工程2:前記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。   Step 2: The polarizing film was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理したセルロースエステルフィルムの上にのせて、更に反射防止層が外側になるように積層し、配置した。   Step 3: Lightly wipe off the excess adhesive adhering to the polarizing film in Step 2, place it on the cellulose ester film treated in Step 1, and then stack and arrange so that the antireflection layer is on the outside did.

工程4:工程3で積層した反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料を圧力20〜30N/cm2、搬送スピードは約2m/分で貼合した。 Step 4: The antireflection film, the polarizing film, and the cellulose ester film sample laminated in Step 3 were bonded at a pressure of 20 to 30 N / cm 2 and a conveyance speed of about 2 m / min.

工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと反射防止フィルム1〜7とを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、偏光板1〜7を作製した。尚、表示装置のバックライト側に用いられる偏光板には、偏光板保護フィルムとしてハードコート層付きセルロースエステルフィルム(KC8UXW−H、コニカミノルタオプト(株)製)と前記セルロースエステルフィルムRを用いて同様に作製した偏光板を使用した。   Step 5: A polarizing plate prepared in Step 4 in a dryer at 80 ° C., the cellulose ester film, and the antireflection films 1 to 7 were bonded to each other for 2 minutes to prepare polarizing plates 1 to 7. For the polarizing plate used on the backlight side of the display device, a cellulose ester film with a hard coat layer (KC8UXW-H, manufactured by Konica Minolta Opto) and the cellulose ester film R are used as a polarizing plate protective film. A polarizing plate produced in the same manner was used.

〈セルロースエステルフィルムRの作製〉
(ドープ液Eの調製)
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8) 100質量部
(Mn=100000、Mw=220000、Mw/Mn=2.2)
トリフェニルフォスフェート 8質量部
エチルフタリルエチルグリコレート 2質量部
メチレンクロライド 300質量部
エタノール 60質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープ液Eを調製した。
<Preparation of cellulose ester film R>
(Preparation of dope solution E)
Cellulose ester (cellulose acetate propionate acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.8) 100 parts by mass (Mn = 100000, Mw = 220,000, Mw / Mn = 2.2)
Triphenyl phosphate 8 parts by weight Ethylphthalyl ethyl glycolate 2 parts by weight Methylene chloride 300 parts by weight Ethanol 60 parts by weight The above is put into a sealed container, heated and stirred, and completely dissolved. Azumi Filter Paper Co., Ltd. Azumi filter paper No. No. 24 was filtered to prepare a dope solution E.

(二酸化珪素分散液E)
アエロジル972V(日本アエロジル(株)製) 10質量部
エタノール 75質量部
以上をディゾルバーで30分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に75質量部のメチレンクロライドを攪拌しながら投入し、ディゾルバーで30分間攪拌混合し、二酸化珪素分散希釈液Eを作製した。
(Silicon dioxide dispersion E)
Aerosil 972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 10 parts by mass Ethanol 75 parts by mass The above was stirred and mixed with a dissolver for 30 minutes, and then dispersed with Manton Gorin. 75 parts by mass of methylene chloride was added to the silicon dioxide dispersion while stirring, and the mixture was stirred and mixed for 30 minutes with a dissolver to prepare a silicon dioxide dispersion dilution E.

(インライン添加液Eの作製)
メチレンクロライド 100質量部
チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 4質量部
チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 4質量部
チヌビン326(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 2質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、濾過した。
(Preparation of inline additive solution E)
Methylene chloride 100 parts by mass Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 4 parts by mass Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 4 parts by mass Tinuvin 326 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 2 parts by mass The solution was put into a container, heated, stirred and completely dissolved and filtered.

これに二酸化珪素分散希釈液Eを20質量部、攪拌しながら加えて、更に30分間攪拌した後、セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8)5質量部を攪拌しながら加えて、更に60分間攪拌した後、アドバンテック東洋(株)のポリプロピレンワインドカートリッジフィルターTCW−PPS−1Nで濾過し、インライン添加液Eを調製した。   To this, 20 parts by mass of silicon dioxide dispersion diluent E was added with stirring, and further stirred for 30 minutes, and then cellulose ester (cellulose acetate propionate acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.8). 5 parts by mass was added with stirring, and the mixture was further stirred for 60 minutes, and then filtered through a polypropylene wind cartridge filter TCW-PPS-1N manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. to prepare an in-line additive solution E.

濾過したドープ液Eを100質量部に対し、濾過したインライン添加液Eを4質量部加えて、インラインミキサー(東レ静止型管内混合機 Hi−Mixer、SWJ)で十分混合し、次いで、ベルト流延装置を用い、温度35℃、1.8m幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が100%になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルロースエステルフィルムのウェブを55℃で溶媒を蒸発させ、1.6m幅にスリットし、その後、テンターでTD方向(フィルムの搬送方向と直交する方向)に130℃で1.3倍に延伸した。このときテンターで延伸を始めた時の残留溶剤量は18%であった。その後、120℃、110℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、1.4m幅にスリットし、フィルム両端に幅15mm、平均高さ10μmのナーリング加工を施し、巻き取り、セルロースエステルフィルムRを得た。残留溶剤量は0.1%であり、平均膜厚は80μm、巻数は3000mであった。このセルロースエステルフィルムのRo=43nm、Rt=132nmであり、幅方向に遅相軸を有し、幅方向に対する遅相軸のズレ角は±0.6度以内であった。   Add 4 parts by mass of the filtered inline additive E to 100 parts by mass of the filtered dope solution E, mix thoroughly with an inline mixer (Toray static type in-pipe mixer Hi-Mixer, SWJ), and then belt cast Using the apparatus, it was cast uniformly on a stainless steel band support at a temperature of 35 ° C. and a width of 1.8 m. With the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the amount of residual solvent reached 100%, and then peeled off from the stainless steel band support. The web of the peeled cellulose ester film was evaporated at 55 ° C, slit to 1.6 m width, and then stretched 1.3 times at 130 ° C in the TD direction (direction perpendicular to the film transport direction) with a tenter. did. At this time, the residual solvent amount when starting stretching with a tenter was 18%. Then, drying was completed while transporting the drying zone at 120 ° C. and 110 ° C. with a number of rolls, slitting to a width of 1.4 m, applying a knurling process with a width of 15 mm and an average height of 10 μm at both ends of the film, and winding, A cellulose ester film R was obtained. The amount of residual solvent was 0.1%, the average film thickness was 80 μm, and the number of turns was 3000 m. This cellulose ester film had Ro = 43 nm and Rt = 132 nm, had a slow axis in the width direction, and the deviation angle of the slow axis with respect to the width direction was within ± 0.6 degrees.

《液晶表示装置の作製》
液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
<Production of liquid crystal display device>
A liquid crystal panel was produced as follows, and the characteristics as a liquid crystal display device were evaluated.

市販の32型液晶テレビ(MVA型セル)の予め貼合されていた表面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板1〜7をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。   The polarizing plate on the surface of the commercially available 32-inch liquid crystal television (MVA type cell) previously bonded was peeled off, and the prepared polarizing plates 1 to 7 were each bonded to the glass surface of the liquid crystal cell.

その際、その偏光板の貼合の向きは、光学補償フィルム(位相差フィルム)の面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置1〜7を各々作製した。   At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is such that the surface of the optical compensation film (retardation film) is on the liquid crystal cell side and the absorption axis is in the same direction as the polarizing plate previously bonded. The liquid crystal display devices 1 to 7 were respectively produced.

以上の様にして作製した試料フィルム、反射防止フィルム、偏光板、液晶表示装置の各々について下記の評価を行った。   The following evaluation was performed for each of the sample film, the antireflection film, the polarizing plate, and the liquid crystal display device produced as described above.

《評価》
(ブロッキング性の評価)
試料フィルムの原反を巻き長3000mのまま倉庫内で1ケ月保管した後、ブロッキングの発生を下記基準にて目視で評価した。
<Evaluation>
(Evaluation of blocking properties)
After the sample film was stored for 1 month in a warehouse with a roll length of 3000 m, the occurrence of blocking was visually evaluated according to the following criteria.

○ :ブロッキングなし
○△:軽い剥離音がする程度でサンプルに跡、変形がない
△ :変形はないがサンプルに少し跡が残る
△×:変形はないが明らかに跡が残る
× :変形がありサンプルに凹凸が残る
(動摩擦係数)
試料フィルムのフィルム表面と裏面間の動摩擦係数は、JIS−K−7125(1987)に準じ、フィルムの表裏面が接触するように切り出し、200gの重りを載せ、サンプル移動速度100mm/分、接触面積80mm×200mmの条件で重りを水平に引っ張り、重りが移動中の平均荷重(F)を測定し、下記式より動摩擦係数(μ)を求めた。動摩擦係数が小さい程、「きしみ」の発生が少ない。
○: No blocking ○ △: There is no trace or deformation in the sample to the extent that a light peeling sound is made. △: There is no deformation but a trace remains in the sample. △ ×: There is no deformation but a trace remains clearly. Unevenness remains in the sample (dynamic friction coefficient)
The dynamic friction coefficient between the film surface and the back surface of the sample film is cut out so that the front and back surfaces of the film are in contact with each other according to JIS-K-7125 (1987), a 200 g weight is placed, the sample moving speed is 100 mm / min, and the contact area. The weight was pulled horizontally under the condition of 80 mm × 200 mm, the average load (F) while the weight was moving was measured, and the dynamic friction coefficient (μ) was obtained from the following formula. The smaller the dynamic friction coefficient, the less “squeaking” occurs.

動摩擦係数=F(g)/重りの重さ(g)
(試料フィルムの異物故障)
得られた試料フィルムの異物故障を目視で確認した。
Coefficient of dynamic friction = F (g) / weight of weight (g)
(Sample film foreign material failure)
The foreign matter failure of the obtained sample film was confirmed visually.

◎:フィルム長さ100m当たりの直径10μm以上の異物故障数0個
○:フィルム長さ100m当たりの直径10μm以上の異物故障数3個未満
△:フィルム長さ100m当たりの直径10μm以上の異物故障数3〜10個未満
×:フィルム長さ100m当たりの直径10μm以上の異物故障数10個以上
(反射防止層の異物故障の数)
反射防止フィルムの塗膜の目視検査により直径150μm以上に見える突起状故障及び/または窪み状故障を1m2当たりの個数でカウントした。
A: Number of foreign matter failures with a diameter of 10 μm or more per 100 m of film length 0: Less than 3 foreign matter failures with a diameter of 10 μm or more per 100 m of film length Δ: Number of foreign matter failures with a diameter of 10 μm or more per 100 m of film length Less than 3 to 10 ×: Number of foreign matter failures with a diameter of 10 μm or more per 100 m film length 10 or more (number of foreign matter failures in the antireflection layer)
By visual inspection of the coating film of the antireflection film, the number of protrusions and / or dents that appear to have a diameter of 150 μm or more was counted per 1 m 2 .

上記カウントした異物個数を以下に基準で評価した。   The above counted number of foreign matters was evaluated based on the following.

○:異物は全く無し
△:異物が少しは認められた
×:異物が多く認められた
(貼合面(偏光子と樹脂フィルムの界面)の泡、異物故障評価)
偏光板試料作製時における、偏光子と樹脂フィルムとの貼合時の界面の微細な泡、異物故障を目視で下記のようなランク評価を行った。
○: No foreign matter △: Some foreign matter was observed ×: Many foreign materials were observed (bubbles on the bonding surface (interface between the polarizer and the resin film), foreign matter failure evaluation)
At the time of polarizing plate sample preparation, the following rank evaluation was performed visually for fine bubbles and foreign matter failures at the interface at the time of bonding between the polarizer and the resin film.

○:泡、異物は全く無し
△:泡、異物が少し認められた
×:泡、異物が多く認められた
(反射光の色むら)
得られた液晶表示装置を用いて、異物故障や塗布ムラによる反射光のムラを下記のように評価をした。
○: No bubbles or foreign matters △: Some bubbles or foreign matters were observed ×: Many bubbles or foreign matters were observed (uneven color of reflected light)
Using the obtained liquid crystal display device, unevenness of reflected light due to foreign matter failure or coating unevenness was evaluated as follows.

○:反射光の色調変化が全く認められない
△:わずかに反射光の色調変化が認められる
×:部分的に反射光の色調変化が認められる
試料フィルム、反射防止フィルム、偏光板、液晶表示装置の上記評価結果を下記表1に示す。
○: No change in the color tone of the reflected light is observed Δ: A slight change in the color tone of the reflected light is observed ×: A color change in the reflected light is partially recognized Sample film, antireflection film, polarizing plate, liquid crystal display device The above evaluation results are shown in Table 1 below.

Figure 2006003511
Figure 2006003511

上表より本発明の試料フィルムは、広幅の基材であっても、滑り性に優れ、ブロッキング防止、異物故障が改善された光学フィルムであることが分かる。更に、本発明の反射防止フィルム、偏光板についても異物故障が改善されており、表示品位の高い液晶表示装置も提供出来ることが分かった。   From the above table, it can be seen that the sample film of the present invention is an optical film that is excellent in slipperiness, anti-blocking and foreign matter failure even if it is a wide substrate. Further, it was found that the antireflection film and the polarizing plate of the present invention have improved foreign matter failure and can provide a liquid crystal display device with high display quality.

実施例2
図11で示した、機能性層塗布とインクジェット方式による微細凸構造を連続して形成出来る装置を用い、セルロースエステルフィルム2上に実施例1のハードコート層塗布組成物を用いてハードコート層を設けた後、ハードコート層とは反対の面に微細凸構造3の形成と同様にしてインクジェット方式により凸部形成を行い、セルロースエステルフィルム8を作製した。次いで、反射防止層(低屈折率層1)を設け反射防止フィルム8とし、同様に偏光板8、液晶表示装置8を作製した。
Example 2
The hard coat layer is formed on the cellulose ester film 2 using the hard coat layer coating composition of Example 1 using the apparatus shown in FIG. After providing, the convex part formation was performed by the inkjet method similarly to formation of the fine convex structure 3 in the surface opposite to a hard-coat layer, and the cellulose-ester film 8 was produced. Next, an antireflection layer (low refractive index layer 1) was provided to form an antireflection film 8, and similarly, a polarizing plate 8 and a liquid crystal display device 8 were produced.

得られた試料について実施例1と同様な評価を行ったところ、実施例1を再現して滑り性に優れ、ブロッキング防止、異物故障が改善され、表示品位の高い液晶表示装置を提供出来ることが分かった。   When the obtained sample was evaluated in the same manner as in Example 1, it was possible to provide a liquid crystal display device with high display quality by reproducing Example 1 and having excellent slipperiness, prevention of blocking and foreign matter failure. I understood.

実施例3
実施例1の微細凸構造3の形成と同様にして、セルロースエステルフィルム2上に、インク液2を用いて巻き芯から1000mまではフィルム面を基準とした高さaが0.03〜0.3μmで、凸部の直径bが0.1〜1μmである凸部を1000μm2当たり400個有している微細凸構造を形成し、1000m〜2000mまでは該凸部を200個有している微細凸構造を形成し、2000m〜3000mまでは該凸部を50個有している微細凸構造を形成し、セルロースエステルフィルム9を作製した。
Example 3
In the same manner as in the formation of the fine convex structure 3 in Example 1, the height a based on the film surface is 0.03 to 0.00 mm on the cellulose ester film 2 using the ink liquid 2 up to 1000 m from the winding core. A fine convex structure having 3 convex portions having a convex portion diameter b of 0.1 to 1 μm and 400 convex portions per 1000 μm 2 is formed, and 200 convex portions are provided from 1000 to 2000 m. A fine convex structure was formed, and a fine convex structure having 50 convex portions from 2000 m to 3000 m was formed to produce a cellulose ester film 9.

このフィルムのブロッキング性を評価する為、試料フィルムの原反を巻き長3000mのまま倉庫内で6ケ月保管した後、ブロッキングの発生を見たところ、ブロッキングの発生や巻き姿の異常は見られなかった。   In order to evaluate the blocking property of this film, the original film of the sample film was stored in the warehouse for 6 months with a winding length of 3000 m, and when blocking was observed, no blocking or abnormal winding appearance was observed. It was.

透明基材フィルム上にインクジェット方式でブロッキング防止機能を有する微細凸構造を設けた一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example which provided the fine convex structure which has an antiblocking function with an inkjet system on a transparent base film. 他の凸構造の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of another convex structure. インクの吐出角度、及び吐出方法を示す概略図である。It is the schematic which shows the discharge angle of an ink, and the discharge method. 本発明に係るインクジェット方法に用いることの出来るインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the inkjet head which can be used for the inkjet method which concerns on this invention. 本発明で用いることの出来るインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the inkjet head part and nozzle plate which can be used by this invention. 本発明で好ましく用いることの出来るインクジェット方式の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the inkjet system which can be preferably used by this invention. インクジェット方式により、粒径の大きなインク液滴で微細凸構造を形成した後、より粒径の小さなインク液滴で、更に微細な凸構造を形成した一例を表す模式図である。It is a schematic diagram showing an example in which a fine convex structure is formed with ink droplets having a smaller particle diameter after the fine convex structure is formed with ink droplets having a large particle diameter by an inkjet method. インク液滴の中に微粒子を含有させた凸部の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the convex part which made the ink droplet contain fine particle. 溶液流延で透明基材を製造する工程に、インクジェット方式により微細凸構造を設ける工程を付加したフローを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the flow which added the process of providing a fine convex structure with an inkjet system to the process of manufacturing a transparent base material by solution casting. 溶融流延で透明基材を製造する工程に、インクジェット方式により微細凸構造を設ける工程を付加したフローを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the flow which added the process of providing a fine convex structure with an inkjet system to the process of manufacturing a transparent base material by melt casting. 透明基材上にインクジェット方式により微細凸構造を設ける別の工程のフローを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the flow of another process which provides a fine convex structure with an inkjet system on a transparent base material.

符号の説明Explanation of symbols

1、14、502 透明基材
2 機能性層
3 インク液滴
4 微粒子
10 インクジェットヘッド
11 支持体
12 流延ダイス
21 溶融ダイス
22 製膜ロール
501 フィルムロール
503 第1コータ
504A、B バックロール
505A、B 乾燥ゾーン
506 紫外線照射部
508 インク供給タンク
509 インクジェット出射部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 14, 502 Transparent base material 2 Functional layer 3 Ink droplet 4 Fine particle 10 Inkjet head 11 Support body 12 Casting die 21 Melting die 22 Film-forming roll 501 Film roll 503 1st coater 504A, B Back roll 505A, B Drying zone 506 Ultraviolet irradiation unit 508 Ink supply tank 509 Inkjet emission unit

Claims (12)

透明基材フィルム上にインク液滴を付着させて、基材表面の少なくとも一方の面に微細凸構造を形成しブロッキング防止加工をすることを特徴とする光学フィルムの製造方法。 A method for producing an optical film, comprising: depositing ink droplets on a transparent substrate film to form a fine convex structure on at least one surface of the substrate surface and performing an anti-blocking process. 前記微細凸構造が、凸部の高さaが0.01〜0.5μmである凸部を1000μm2当たり1〜1000個有していることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。 2. The optical film according to claim 1, wherein the fine convex structure has 1 to 1000 convex portions having a convex portion height a of 0.01 to 0.5 μm per 1000 μm 2 . Production method. 前記インク液滴が、熱可塑性樹脂、活性光線硬化型樹脂、または熱硬化性樹脂を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the ink droplet includes a thermoplastic resin, an actinic ray curable resin, or a thermosetting resin. 前記インク液滴が、微粒子を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the ink droplet contains fine particles. 前記透明基材フィルムの幅が1.4m〜4mであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The width | variety of the said transparent base film is 1.4m-4m, The manufacturing method of the optical film of any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 前記透明基材フィルムがセルロースエステルフィルムまたはシクロオレフィンポリマーフィルムであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The said transparent base film is a cellulose-ester film or a cycloolefin polymer film, The manufacturing method of the optical film of any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする光学フィルム。 The optical film manufactured by the manufacturing method of the optical film of any one of Claims 1-6. 前記光学フィルム上の少なくとも一方の面にハードコート層を設けたことを特徴とする請求項7に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 7, wherein a hard coat layer is provided on at least one surface of the optical film. 前記ハードコート層の上に更に反射防止層を設けたことを特徴とする請求項8に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 8, further comprising an antireflection layer provided on the hard coat layer. 請求項7〜9のいずれか1項に記載の光学フィルムを有することを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising the optical film according to claim 7. 請求項7〜9のいずれか1項に記載の光学フィルムを有することを特徴とする表示装置。 A display device comprising the optical film according to claim 7. 請求項10に記載の偏光板を有することを特徴とする表示装置。 A display device comprising the polarizing plate according to claim 10.
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