JP2005096095A - Hard coat film and its manufacturing method - Google Patents

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隆 村上
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hard coat film excellent in planarity and preventing interference irregularity caused between a hard coat layer and a base material film, and its manufacturing method. <P>SOLUTION: This hard coat film is constituted by providing the hard coat layer on at least one surface layer, which has a film thickness of 0.1-15 μm and comprises a cellulose ester with a degree of the total acyl group substitution of 2.7 or below, of a cellulose ester film having a multilayered constitution composed of at least one surface layer and a base layer composed of a plasticizer, an ultraviolet absorber and a cellulose ester with a degree of the total acyl group substitution of 2.8 or above. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ハードコートフィルム及びその製造方法に関し、より詳しくは平面性に優れ、かつハードコート層と基材フィルム間で発生する干渉ムラを防止したハードコートフィルム及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a hard coat film and a method for producing the same, and more particularly to a hard coat film having excellent flatness and preventing interference unevenness generated between the hard coat layer and the base film and a method for producing the same.

液晶ディスプレイ用偏光板保護フィルム、有機ELディスプレイ等に用いられる円偏光板の保護フィルムなどの光学用途に使用される透明樹脂フィルムでは、様々な機能を持たせる為に幾つかの機能性薄膜層が塗設されている。機能性薄膜としては、例えば、帯電防止機能を持たせる為の帯電防止層、表面硬度を向上させる為のハードコート層、膜付き性を向上させる為の下引き層、カールを防止する為のアンチカール層、或いは防眩層、反射防止層などである。   In transparent resin films used for optical applications such as a polarizing plate protective film for liquid crystal displays and a circular polarizing plate protective film used for organic EL displays, several functional thin film layers are provided to give various functions. It is painted. Examples of the functional thin film include an antistatic layer for providing an antistatic function, a hard coat layer for improving surface hardness, an undercoat layer for improving film adhesion, and an antistatic layer for preventing curling. A curl layer, an antiglare layer, an antireflection layer, or the like.

上記透明樹脂フィルムにハードコート層を形成する際、通常紫外線等の活性線により硬化する硬化物層を塗工し、活性線を照射し硬化させる。この時、透明樹脂フィルムとハードコート層の屈折率が異なる為、ハードコート層表面で反射する光と、ハードコート層と透明樹脂フィルムの界面で反射する光の干渉により虹色の干渉ムラ(干渉縞模様)が生じることが分かった。特に透明樹脂フィルムの平面性が悪い場合は、よりいっそう干渉ムラが発現し易いという問題があった。また、このハードコート層の上に更に反射防止層を塗工する場合、反射光の色むらとなって品質が低化してしまうという問題があり、この改善が求められていた。更に、光学薄膜を形成したフィルムを巻状態で高温高湿下で保存した場合は更に故障が強調されるという現象が発生し、色むらが発生した部分は廃棄することとなり、生産性が著しく悪いものであった。特に表示装置の前面に用いられる偏光板或いは反射防止フィルムではその要求性能が厳しく、より色むらのない均一性に優れた光学薄膜が望まれていた。   When forming a hard-coat layer in the said transparent resin film, the hardened | cured material layer normally hardened | cured with active rays, such as an ultraviolet-ray, is applied, and an active ray is irradiated and hardened. At this time, since the refractive index of the transparent resin film and that of the hard coat layer are different, the rainbow-colored interference unevenness (interference) is caused by the interference between the light reflected on the hard coat layer surface and the light reflected on the interface between the hard coat layer and the transparent resin film. It was found that a stripe pattern was generated. In particular, when the flatness of the transparent resin film is poor, there is a problem that interference unevenness is more likely to occur. Further, when an antireflection layer is further coated on the hard coat layer, there is a problem that the quality of the reflected light becomes uneven and the quality deteriorates, and this improvement has been demanded. Furthermore, when the film on which the optical thin film is formed is stored in a rolled state under high temperature and high humidity, a phenomenon that the failure is further emphasized occurs, and the part where the color unevenness occurs is discarded, and the productivity is remarkably poor. It was a thing. In particular, a polarizing plate or an antireflection film used for the front surface of a display device has a strict requirement performance, and an optical thin film with excellent uniformity without color unevenness has been desired.

例えば、干渉ムラ抑制の為、基材上に凹凸をつけることで、ハードコート層と基材の界面の光の反射を散乱させる方法が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、凹凸が大きいと干渉ムラは低減するもののヘイズが上昇し、凹凸が小さ過ぎるとヘイズは低減するものの干渉ムラ抑制の効果が弱まるという不具合があった。   For example, a method of scattering light reflection at the interface between the hard coat layer and the base material by making irregularities on the base material to suppress interference unevenness is disclosed (for example, see Patent Document 1). However, when the unevenness is large, the interference unevenness is reduced, but the haze increases. When the unevenness is too small, the haze is reduced, but the effect of suppressing the interference unevenness is weakened.

また、基材とハードコート層の屈折率差を低減する為に、ハードコート層と基材の間に屈折率が徐々に変化するような下引き層を設ける方法が開示されている(例えば、特許文献2参照。)が、各層が明確にあると干渉ムラを完全になくすことが出来ないという不具合があった。   Moreover, in order to reduce the refractive index difference between the base material and the hard coat layer, a method of providing an undercoat layer in which the refractive index gradually changes between the hard coat layer and the base material is disclosed (for example, However, there is a problem that interference unevenness cannot be completely eliminated if each layer is clear.

更に、ハードコート層の塗布組成物に基材を膨潤または溶解させる溶剤を用いて基材上に塗設し、ハードコート層と基材の界面をなくすことで連続的に屈折率を変化させて干渉ムラを低減する技術が開示されているが(例えば、特許文献3参照。)、基材を膨潤、溶解し得る溶剤を多く用いると、ハードコート層中に基材を構成する成分、特に可塑剤が多く混合し、ヘイズの増大や耐擦傷性を損ねてしまい、更に基材の平面性が劣化する。また基材を膨潤、溶解し得る溶剤が少ないとハードコート層と基材の界面がなくならず、干渉ムラへの効果が不十分となる。このような現象はハードコート層塗布後の乾燥条件の僅かな変化でも起こってしまい、安定して効果を得ることが難しいと言う問題があった。
特開平8−197670号公報 特開2000−111706号公報 特開2003−131007号公報
Further, the hard coat layer coating composition is coated on the base material using a solvent that swells or dissolves the base material, and the refractive index is continuously changed by eliminating the interface between the hard coat layer and the base material. Although a technique for reducing interference unevenness has been disclosed (see, for example, Patent Document 3), if a large amount of a solvent capable of swelling and dissolving the base material is used, the component constituting the base material in the hard coat layer, particularly plastic A large amount of the agent is mixed, haze increase and scratch resistance are impaired, and the flatness of the substrate is further deteriorated. Moreover, if there is little solvent which can swell and melt | dissolve a base material, the interface of a hard-coat layer and a base material will not be lost, and the effect with respect to interference nonuniformity will become inadequate. Such a phenomenon occurs even with a slight change in drying conditions after the hard coat layer is applied, and there is a problem that it is difficult to obtain an effect stably.
JP-A-8-197670 JP 2000-111706 A JP 2003-131007 A

従って本発明の目的は、平面性に優れ、かつハードコート層と基材フィルム間で発生する干渉ムラを防止したハードコートフィルム及びその製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a hard coat film that is excellent in flatness and prevents interference unevenness that occurs between the hard coat layer and a base film, and a method for producing the same.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
(請求項1)
膜厚が0.1〜15μmで、総アシル基置換度が2.7以下のセルロースエステルを有する少なくとも一層の表層と、可塑剤、紫外線吸収剤及び総アシル基置換度2.8以上のセルロースエステルを有する基層とを有する多層構成のセルロースエステルフィルムの該表層上にハードコート層を有することを特徴とするハードコートフィルム。
(請求項2)
前記基層のセルロースエステルがセルローストリアセテートであり、前記表層のセルロースエステルがセルロースジアセテートまたはセルロースアセテートプロピオネートであることを特徴とする請求項1に記載のハードコートフィルム。
(請求項3)
前記基層のセルロースエステルが、数平均分子量(Mn)80,000〜200,000、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値が1.4〜3.0であるセルロースエステルであることを特徴とする請求項1または2に記載のハードコートフィルム。
(請求項4)
前記表層が微粒子を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のハードコートフィルム。
(請求項5)
前記表層が可塑剤を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のハードコートフィルム。
(請求項6)
ハードコート層に隣接する前記表層の可塑剤含有量が、前記多層構成のセルロースエステルフィルムの平均可塑剤含有量よりも多いことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のハードコートフィルム。
(請求項7)
前記ハードコート層の上に更に反射防止層を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のハードコートフィルム。
(請求項8)
可塑剤、紫外線吸収剤及び総アシル基置換度2.8以上のセルロースエステルを有する基層を形成する為のセルロースエステル溶液Aと、総アシル基置換度が2.7以下のセルロースエステルを有する表層を形成する為のセルロースエステル溶液Bとを共流延法によって、基層と、膜厚が0.1〜15μmの表層を少なくとも一層有する多層構成のセルロースエステルフィルムを形成し、該セルロースエステルフィルムの表層の上に活性線硬化樹脂層を塗設して、次いで活性線を照射してハードコート層を形成することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
(Claim 1)
At least one surface layer having a cellulose ester having a film thickness of 0.1 to 15 μm and a total acyl group substitution degree of 2.7 or less, a plasticizer, an ultraviolet absorber, and a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.8 or more A hard coat film comprising a hard coat layer on the surface layer of a cellulose ester film having a multilayer structure having a base layer having a surface.
(Claim 2)
The hard coat film according to claim 1, wherein the cellulose ester of the base layer is cellulose triacetate, and the cellulose ester of the surface layer is cellulose diacetate or cellulose acetate propionate.
(Claim 3)
The cellulose ester of the base layer is a cellulose ester having a number average molecular weight (Mn) of 80,000 to 200,000 and a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) value of 1.4 to 3.0. The hard coat film according to claim 1 or 2.
(Claim 4)
The hard coat film according to claim 1, wherein the surface layer contains fine particles.
(Claim 5)
The hard coat film according to any one of claims 1 to 4, wherein the surface layer contains a plasticizer.
(Claim 6)
6. The hard according to claim 1, wherein a plasticizer content of the surface layer adjacent to the hard coat layer is larger than an average plasticizer content of the multilayered cellulose ester film. Coat film.
(Claim 7)
The hard coat film according to claim 1, further comprising an antireflection layer on the hard coat layer.
(Claim 8)
A cellulose ester solution A for forming a base layer having a plasticizer, an ultraviolet absorber and a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.8 or more, and a surface layer having a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.7 or less. The cellulose ester solution B to be formed is formed by a co-casting method to form a cellulose ester film having a multilayer structure having at least one base layer and a surface layer having a film thickness of 0.1 to 15 μm. A method for producing a hard coat film, comprising: coating an active ray curable resin layer on the top and then irradiating with active rays to form a hard coat layer.

本発明により、平面性に優れ、かつハードコート層と基材フィルム間で発生する干渉ムラを防止したハードコートフィルム及びその製造方法を提供することが出来る。   According to the present invention, it is possible to provide a hard coat film excellent in flatness and preventing interference unevenness generated between the hard coat layer and the base film and a method for producing the same.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明は、膜厚が0.1〜15μmで、総アシル基置換度が2.7以下のセルロースエステルを有する少なくとも一層の表層と、可塑剤、紫外線吸収剤及び総アシル基置換度2.8以上のセルロースエステルを有する基層とを有する多層構成のセルロースエステルフィルムの該表層上にハードコート層を有したことを特徴とする。   In the present invention, at least one surface layer having a cellulose ester having a film thickness of 0.1 to 15 μm and a total acyl group substitution degree of 2.7 or less, a plasticizer, an ultraviolet absorber, and a total acyl group substitution degree of 2.8. A hard coat layer is provided on the surface layer of the cellulose ester film having a multilayer structure including the base layer having the above cellulose ester.

本発明者は上記課題を鋭意検討した結果、総アシル基置換度が異なったセルロースエステルを有する層を積層して、多層構成のセルロースエステルフィルムにすることにより、その上に塗設されたハードコート層との間に発生する前記干渉ムラを防止することが出来、更に共流延法によって多層構成のセルロースエステルフィルムを形成することにより、平面性に優れ、かつ前記干渉ムラが更に改善されたハードコートフィルムを得ることが出来ることを見出し、本発明を成すに至った次第である。   As a result of earnestly examining the above-mentioned problems, the present inventor has laminated a layer having cellulose esters having different degrees of total acyl group substitution into a cellulose ester film having a multi-layer structure. The interference unevenness generated between the layers can be prevented, and further, by forming a cellulose ester film having a multilayer structure by a co-casting method, it is excellent in flatness, and the interference unevenness is further improved. As soon as it has been found that a coated film can be obtained, the present invention has been achieved.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

〔基層〕
最初に、本発明に係るセルロースエステルを有する基層について説明する。尚、表層に用いられるセルロースエステル、可塑剤及び微粒子は基層に用いられるものと同様の特性のものが用いられる。
[Base layer]
First, the base layer having the cellulose ester according to the present invention will be described. The cellulose ester, plasticizer, and fine particles used for the surface layer have the same characteristics as those used for the base layer.

本発明の基層に用いられるセルロースエステルは、炭素数2〜22程度のカルボン酸エステルであり、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートフタレート等や、特開平10−45804号、同8−231761号、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。或いは、特開2002−179701、特開2002−265639、特開2002−265638に記載の芳香族カルボン酸とセルロースとのエステル、セルロースアシレートも好ましく用いられる。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、基層にはセルローストリアセテート、後述する表層にはセルロースジアセテートまたはセルロースアセテートプロピオネートであるが、これらのセルロースエステルは混合して用いることも出来る。   The cellulose ester used in the base layer of the present invention is a carboxylic acid ester having about 2 to 22 carbon atoms, and is particularly preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. For example, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate phthalate, etc., JP-A-10-45804, Mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate as described in U.S. Pat. No. 8,231,761, U.S. Pat. No. 2,319,052 can be used. Alternatively, an ester of an aromatic carboxylic acid and cellulose and cellulose acylate described in JP-A Nos. 2002-179701, 2002-265639, and 2002-265638 are also preferably used. Among the above description, the lower fatty acid ester of cellulose particularly preferably used is cellulose triacetate for the base layer and cellulose diacetate or cellulose acetate propionate for the surface layer described later. These cellulose esters should be used in combination. You can also.

基層に用いられるセルロースエステルは、総アシル基置換度2.8以上のセルロースエステルである。後述する表層に用いられるセルロースエステルは、総アシル基置換度2.7以下のものが用いられるが、この点以外は基層で用いられるセルロースエステルと同様の特性のものが用いられる。また、基層に用いられるセルロースエステルは、総アシル基置換度2.8以上のセルロースエステルに総アシル基置換度2.7以下のセルロースエステルが混合されていてもよく、混合された後のセルロースエステルの総アシル基置換度が2.8以上あればよい。   The cellulose ester used for the base layer is a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.8 or more. As the cellulose ester used for the surface layer described later, those having a total acyl group substitution degree of 2.7 or less are used. Except for this point, those having the same characteristics as the cellulose ester used in the base layer are used. The cellulose ester used in the base layer may be a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.8 or more and a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.7 or less. The total acyl group substitution degree of 2.8 should just be 2.8 or more.

セルローストリアセテート以外で用いられるセルロースエステルは、炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基の置換度をYとした時、下記式(a)及び(b)を同時に満たすセルロースエステルである。   The cellulose ester used other than cellulose triacetate has an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, and when the substitution degree of the acetyl group is X and the substitution degree of the propionyl group is Y, the following formula (a ) And (b) at the same time.

式(a) 2.8≦X+Y≦3.0
式(b) 0≦X≦2.5
中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9のセルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度=X+Y)を用いることが出来る。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することが出来る。
Formula (a) 2.8 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (b) 0 ≦ X ≦ 2.5
Among them, cellulose acetate propionate (total acyl group substitution degree = X + Y) satisfying 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9 can be used. The portion not substituted with an acyl group usually exists as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

これらアシル基置換度は、ASTM−D817−96に規定の方法に準じて測定することが出来る。   These acyl group substitution degrees can be measured according to the method prescribed in ASTM-D817-96.

本発明に係る基層に用いられるセルロースエステルの分子量は、数平均分子量(Mn)で80,000〜200,000のものが好ましい。100,000〜200,000のものが更に好ましく、150,000〜200,000が特に好ましい。   The molecular weight of the cellulose ester used in the base layer according to the present invention is preferably 80,000 to 200,000 in terms of number average molecular weight (Mn). 100,000 to 200,000 are more preferable, and 150,000 to 200,000 are particularly preferable.

本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比、Mw/Mnが、1.4〜3.0であることが好ましく、更に好ましくは1.7〜2.2の範囲である。   The cellulose ester used in the present invention preferably has a weight average molecular weight (Mw) to number average molecular weight (Mn) ratio, Mw / Mn of 1.4 to 3.0, more preferably 1.7 to 3.0. The range is 2.2.

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することが出来る。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を算出し、その比(Mw/Mn)を計算することが出来る。   The average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured by a known method using high performance liquid chromatography. Using this, the number average molecular weight and the weight average molecular weight can be calculated, and the ratio (Mw / Mn) can be calculated.

測定条件は以下の通りである。
溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
The measurement conditions are as follows.
Solvent: Methylene chloride column: Shodex K806, K805, K803G (used by connecting 3 products manufactured by Showa Denko KK)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000-500 calibration curves with 13 samples were used. The 13 samples are preferably used at approximately equal intervals.

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが出来る。特に綿花リンター(以下、単にリンターとすることがある)、木材パルプから合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。   As the cellulose ester, cellulose ester synthesized from cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to use a cotton linter (hereinafter sometimes simply referred to as a linter) or a cellulose ester synthesized from wood pulp alone or in combination.

また、これらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。これらのセルロースエステルは、セルロース原料をアシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて常法により反応させて得ることが出来る。   Moreover, the cellulose ester obtained from these can be mixed and used in arbitrary ratios, respectively. These cellulose esters are prepared by using an organic acid such as acetic acid or an organic solvent such as methylene chloride when sulfuric acid is used as the acylating agent (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride). It can obtain by making it react by a conventional method using a protic catalyst like.

アセチルセルロースの場合、酢化率を上げようとすれば、酢化反応の時間を延長する必要がある。但し、反応時間を余り長くとると分解が同時に進行し、ポリマー鎖の切断やアセチル基の分解などが起こり、好ましくない結果をもたらす。従って、酢化度を上げ、分解をある程度抑える為には反応時間はある範囲に設定することが必要である。反応時間で規定することは反応条件が様々であり、反応装置や設備その他の条件で大きく変わるので適切でない。ポリマーの分解は進むにつれ、分子量分布が広くなっていくので、セルロースエステルの場合にも、分解の度合いは通常用いられる重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値で規定出来る。即ちセルローストリアセテートの酢化の過程で、余り長過ぎて分解が進み過ぎることがなく、かつ酢化には十分な時間酢化反応を行わせしめる為の反応度合いの一つの指標として重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値を用いることが出来る。   In the case of acetylcellulose, it is necessary to extend the time for the acetylation reaction in order to increase the acetylation rate. However, if the reaction time is too long, the decomposition proceeds at the same time, and the polymer chain is broken and the acetyl group is decomposed, resulting in undesirable results. Therefore, it is necessary to set the reaction time within a certain range in order to increase the degree of acetylation and suppress decomposition to some extent. It is not appropriate to define the reaction time because the reaction conditions are various and greatly change depending on the reaction apparatus, equipment and other conditions. As the decomposition of the polymer progresses, the molecular weight distribution becomes wider. Therefore, in the case of cellulose ester, the degree of decomposition can be defined by the commonly used weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn). That is, in the process of acetylation of cellulose triacetate, the weight average molecular weight (Mw) is used as one index of the reaction degree for allowing the acetylation reaction to be carried out for a sufficient time for acetylation without being excessively decomposed. ) / Number average molecular weight (Mn).

セルロースエステルの製造法の一例を以下に示すと、セルロース原料として綿化リンター100質量部を解砕し、40質量部の酢酸を添加し、36℃で20分間前処理活性化を行った。その後、硫酸8質量部、無水酢酸260質量部、酢酸350質量部を添加し、36℃で120分間エステル化を行った。24%酢酸マグネシウム水溶液11質量部で中和した後、63℃で35分間ケン化熟成し、アセチルセルロースを得た。これを10倍の酢酸水溶液(酢酸:水=1:1(質量比))を用いて、室温で160分間攪拌した後、濾過、乾燥させてアセチル置換度2.75の精製アセチルセルロースを得た。このアセチルセルロースはMnが92,000、Mwが156,000、Mw/Mnは1.7であった。同様にセルロースエステルのエステル化条件(温度、時間、攪拌)、加水分解条件を調整することによって置換度、Mw/Mn比の異なるセルロースエステルを合成することが出来る。   An example of a method for producing a cellulose ester is shown below: 100 parts by mass of a flocculent linter as a cellulose raw material was crushed, 40 parts by mass of acetic acid was added, and pretreatment activation was performed at 36 ° C. for 20 minutes. Thereafter, 8 parts by mass of sulfuric acid, 260 parts by mass of acetic anhydride and 350 parts by mass of acetic acid were added, and esterification was performed at 36 ° C. for 120 minutes. After neutralization with 11 parts by mass of a 24% magnesium acetate aqueous solution, saponification aging was carried out at 63 ° C. for 35 minutes to obtain acetylcellulose. This was stirred for 160 minutes at room temperature using a 10-fold acetic acid aqueous solution (acetic acid: water = 1: 1 (mass ratio)), then filtered and dried to obtain purified acetylcellulose having an acetyl substitution degree of 2.75. . This acetylcellulose had Mn of 92,000, Mw of 156,000, and Mw / Mn of 1.7. Similarly, cellulose esters having different degrees of substitution and Mw / Mn ratios can be synthesized by adjusting the esterification conditions (temperature, time, stirring) and hydrolysis conditions of the cellulose ester.

尚、合成されたセルロースエステルは、精製して低分子量成分を除去したり、未酢化の成分を濾過で取り除くことも好ましく行われる。   The synthesized cellulose ester is preferably purified to remove low molecular weight components or to remove unacetylated components by filtration.

また、混酸セルロースエステルの場合には、特開平10−45804号公報に記載の方法によって得ることが出来る。アシル基の置換度の測定方法はASTM−D817−96の規定に準じて測定することが出来る。   In the case of a mixed acid cellulose ester, it can be obtained by the method described in JP-A-10-45804. The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to the provisions of ASTM-D817-96.

また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ない方が好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成することにより不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄(Fe)成分については、1ppm以下であることが好ましい。カルシウム(Ca)成分については、地下水や河川の水等に多く含まれ、これが多いと硬水となり、飲料水としても不適当であるが、カルボン酸や、スルホン酸等の酸性成分と、また多くの配位子と配位化合物、即ち錯体を形成し易く、多くの不溶なカルシウムに由来するスカム(不溶性の澱、濁り)を形成する。   Cellulose esters are also affected by trace metal components in cellulose esters. These are considered to be related to water used in the production process, but it is preferable that there are few components that can become insoluble nuclei, and metal ions such as iron, calcium, and magnesium contain organic acidic groups. Insoluble matter may be formed by salt formation with a polymer degradation product or the like that may be present, and it is preferable that the amount is small. The iron (Fe) component is preferably 1 ppm or less. About calcium (Ca) component, it is contained in a lot of ground water and river water, etc., and it becomes hard water, and it is unsuitable as drinking water. It easily forms a coordination compound, that is, a complex with a ligand, and forms scum (insoluble starch, turbidity) derived from many insoluble calcium.

カルシウム(Ca)成分は60ppm以下、好ましくは0〜30ppmである。マグネシウム(Mg)成分については、やはり多過ぎると不溶分を生ずる為、0〜70ppmであることが好ましく、特に0〜20ppmであることが好ましい。鉄(Fe)分の含量、カルシウム(Ca)分含量、マグネシウム(Mg)分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置(硫硝酸分解)、アルカリ溶融で前処理を行った後、ICP−AES(誘導結合プラズマ発光分光分析装置)を用いて分析を行うことによって求めることが出来る。   The calcium (Ca) component is 60 ppm or less, preferably 0 to 30 ppm. The magnesium (Mg) component is preferably in the range of 0 to 70 ppm, particularly preferably in the range of 0 to 20 ppm because too much will cause insoluble matter. Metal components such as iron (Fe) content, calcium (Ca) content, magnesium (Mg) content, etc. are pre-processed by completely digesting cellulose ester with micro digest wet cracking equipment (sulfuric acid decomposition) and alkali melting. After performing, it can obtain | require by performing an analysis using ICP-AES (inductively coupled plasma emission spectroscopy analyzer).

本発明の基層には、セルロースエステルの他に、可塑剤、紫外線吸収剤を含有する。   The base layer of the present invention contains a plasticizer and an ultraviolet absorber in addition to the cellulose ester.

可塑剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルホスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート、1,4−フェニレン−テトラフェニルホスフェート等のリン酸エステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート、ジメチルシクロヘキシルフタレート等のフタル酸エステル系の可塑剤、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のグリコール酸エステル系の可塑剤などが挙げられる。中でも、フタル酸エステル系やグリコール酸エステル系の可塑剤は、セルロースエステルの加水分解を引き起こし難いことから好ましく、本発明の光学フィルムにおいては、2種以上の可塑剤を含有することが好ましく、少なくとも1種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが望ましい。他の可塑剤は特に限定されない。好ましくは、前記多価アルコールエステル系可塑剤と異なる種類の多価アルコールエステル、フタル酸エステル、クエン酸エステル、脂肪酸エステル、グリコレート系可塑剤等が用いられる。   Examples of the plasticizer include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl phenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, trinaphthyl phosphate, trixyl phosphate, tris ortho-biphenyl phosphate, 1 Phosphate ester plasticizers such as 1,4-phenylene-tetraphenyl phosphate, phthalates such as diethyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, dicyclohexyl terephthalate, dimethyl cyclohexyl phthalate Acid ester plasticizers, triacetin, tributyrin, butylphthalate Butyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, etc. glycolic acid ester based plasticizers. Among them, a phthalate ester or glycolate ester plasticizer is preferable because it hardly causes hydrolysis of cellulose ester, and the optical film of the present invention preferably contains two or more plasticizers. One type is preferably a polyhydric alcohol ester plasticizer. Other plasticizers are not particularly limited. Preferably, a polyhydric alcohol ester, a phthalic acid ester, a citric acid ester, a fatty acid ester, a glycolate plasticizer or the like of a different type from the polyhydric alcohol ester plasticizer is used.

多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is a plasticizer comprising an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferably it is a 2-20 valent aliphatic polyhydric alcohol ester.

本発明に用いられる多価アルコールは次の一般式(1)で表される。   The polyhydric alcohol used in the present invention is represented by the following general formula (1).

一般式(1)
1−(OH)n
但し、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表す。
General formula (1)
R 1- (OH) n
Here, R 1 is an n-valent organic group, n is a positive integer of 2 or more, and the OH group is an alcoholic or phenolic hydroxyl group.

好ましい多価アルコールの例としては、例えば、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these.

アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。   Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane- Examples include 1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and xylitol. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.

本発明おいて、多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。   In the present invention, the monocarboxylic acid used in the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, and known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid and the like can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention.

好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。   Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto.

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増す為好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。   As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. The number of carbon atoms is more preferably 1-20, and particularly preferably 1-10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。   Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanoic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid.

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。   Examples of preferable alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and derivatives thereof.

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に安息香酸が好ましい。   Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, and tetralincarboxylic acid. The aromatic monocarboxylic acid which has, or those derivatives can be mentioned. Benzoic acid is particularly preferable.

多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなる為好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably 300 to 1500, and more preferably 350 to 750. A larger molecular weight is preferable because it is less likely to volatilize, and a smaller one is preferable in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are.

以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。   Below, the specific compound of a polyhydric alcohol ester is illustrated.

Figure 2005096095
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セルロースエステルフィルム中の可塑剤の総含有量は、固形分総量に対し、5〜20質量%が好ましく、6〜16質量%が更に好ましく、特に好ましくは8〜13質量%である。また、2種の可塑剤の含有量は各々少なくとも1質量%以上であり、好ましくは各々2質量%以上含有することである。   The total content of the plasticizer in the cellulose ester film is preferably 5 to 20% by mass, more preferably 6 to 16% by mass, and particularly preferably 8 to 13% by mass with respect to the total solid content. The contents of the two kinds of plasticizers are each at least 1% by mass, preferably 2% by mass or more.

多価アルコールエステル系可塑剤は1〜12質量%含有することが好ましく、特に3〜11質量%含有することが好ましい。少ないと平面性の劣化が認められ、多過ぎるとブリードアウトがし易い。多価アルコールエステル系可塑剤とその他の可塑剤との質量比率は1:4〜4:1の範囲であることが好ましく、1:3〜3:1であることが更に好ましい。可塑剤の添加量が多過ぎても、また少な過ぎてもフィルムが変形し易く好ましくない。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is preferably contained in an amount of 1 to 12% by mass, particularly preferably 3 to 11% by mass. If the amount is too small, deterioration of flatness is recognized, and if it is too large, bleeding out tends to occur. The mass ratio between the polyhydric alcohol ester plasticizer and the other plasticizer is preferably in the range of 1: 4 to 4: 1, more preferably 1: 3 to 3: 1. If the amount of the plasticizer added is too large or too small, the film is liable to be deformed, which is not preferable.

本発明に係るセルロースエステルフィルムには、画像表示装置として屋外に置かれた場合等の劣化防止の観点から紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものを好ましく用いることが出来る。例えば380nmにおける透過率が20%未満であることが好ましく、更に好ましくは10%未満であり、特に好ましくは5%未満である。   The cellulose ester film according to the present invention preferably contains an ultraviolet absorber from the viewpoint of preventing deterioration when placed outdoors as an image display device. As the ultraviolet absorber, those having excellent absorption ability of ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more can be preferably used. For example, the transmittance at 380 nm is preferably less than 20%, more preferably less than 10%, and particularly preferably less than 5%.

紫外線吸収剤としては、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物などを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されない。   Examples of ultraviolet absorbers include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, triazine compounds, and the like in the present invention. It is not limited to.

以下に紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of an ultraviolet absorber is given to the following, this invention is not limited to these.

UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171:チバ・スペシャリティケミカルズ社製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109:チバ・スペシャリティケミカルズ社製)
UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明の光学フィルムには、紫外線吸収剤として透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤またはベンゾフェノン系紫外線吸収剤を好ましく用いることが出来、中でも、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。また、紫外線吸収剤は製膜工程でブリードアウトしたり、揮発しないものが好ましい。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6 (Straight and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN171: Ciba Specialty Chemicals)
UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- 4-Hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (TINUVIN109: manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
In the optical film of the present invention, a benzotriazole-based UV absorber or a benzophenone-based UV absorber that is highly transparent as an UV absorber and excellent in the effect of preventing the deterioration of a polarizing plate and liquid crystal can be preferably used. A benzotriazole-based ultraviolet absorber with less unnecessary coloring is particularly preferred. Further, it is preferable that the ultraviolet absorber does not bleed out or volatilize in the film forming process.

また、後述の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。   In addition, a discotic compound described later is also preferably used as the ultraviolet absorber.

紫外線吸収剤は、0.1質量%〜10質量%添加されることが好ましく、特に0.5質量%〜5質量%添加されることが好ましい。   The ultraviolet absorber is preferably added in an amount of 0.1% by mass to 10% by mass, and particularly preferably 0.5% by mass to 5% by mass.

本発明に係るセルロースエステルフィルムは、他の添加剤として下記円盤状化合物を含有することが、ヘイズや平面性改善の為に好ましい。   The cellulose ester film according to the present invention preferably contains the following discotic compound as another additive for improving haze and planarity.

本発明に好ましく用いられる円盤状化合物としては、トリアジン化合物が好ましい。特に円盤状化合物として、1,3,5−トリアジン環を有する化合物を好ましく用いることが出来る。   As the discotic compound preferably used in the present invention, a triazine compound is preferable. In particular, a compound having a 1,3,5-triazine ring can be preferably used as the discotic compound.

1,3,5−トリアジン環を有する化合物は、中でも、下記一般式(2)で表される化合物が好ましい。   Among them, the compound having a 1,3,5-triazine ring is preferably a compound represented by the following general formula (2).

Figure 2005096095
Figure 2005096095

一般式(2)において、X1は、単結合、−NR4−、−O−または−S−であり;X2は単結合、−NR5−、−O−または−S−であり;X3は単結合、−NR6−、−O−または−S−であり;R1、R2及びR3はアルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基であり;そして、R4、R5及びR6は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基である。一般式(2)で表される化合物は、メラミン化合物であることが特に好ましい。 In the general formula (2), X 1 is a single bond, —NR 4 —, —O— or —S—; X 2 is a single bond, —NR 5 —, —O— or —S—; X 3 is a single bond, —NR 6 —, —O— or —S—; R 1 , R 2 and R 3 are an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group; and R 4 , R 5 and R 6 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. The compound represented by the general formula (2) is particularly preferably a melamine compound.

メラミン化合物では、一般式(2)において、X1、X2及びX3が、それぞれ、−NR4−、−NR5−及び−NR6−であるか、或いは、X1、X2及びX3が単結合であり、かつ、R1、R2及びR3が窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基である。−X1−R1、−X2−R2及び−X3−R3は、同一の置換基であることが好ましい。R1、R2及びR3は、アリール基であることが特に好ましい。R4、R5及びR6は、水素原子であることが特に好ましい。 In the melamine compound, in the general formula (2), X 1 , X 2 and X 3 are —NR 4 —, —NR 5 — and —NR 6 —, respectively, or X 1 , X 2 and X 3 3 is a single bond, and R 1 , R 2 and R 3 are heterocyclic groups having a free valence on the nitrogen atom. -X 1 -R 1, -X 2 -R 2 and -X 3 -R 3 are preferably the same substituents. R 1 , R 2 and R 3 are particularly preferably aryl groups. R 4 , R 5 and R 6 are particularly preferably a hydrogen atom.

上記アルキル基は、環状アルキル基よりも鎖状アルキル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基の方が好ましい。   The alkyl group is preferably a chain alkyl group rather than a cyclic alkyl group. A linear alkyl group is preferred to a branched alkyl group.

アルキル基の炭素原子数は、1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましく、1〜10であることが更に好ましく、1〜8であることが更にまた好ましく、1〜6であることが最も好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。   The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1-30, more preferably 1-20, still more preferably 1-10, still more preferably 1-8, 6 is most preferred. The alkyl group may have a substituent.

置換基の具体例としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基)及びアシルオキシ基(例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ)等が挙げられる。上記アルケニル基は、環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基の方が好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、2〜30であることが好ましく、2〜20であることがより好ましく、2〜10であることが更に好ましく、2〜8であることが更にまた好ましく、2〜6であることが最も好ましい。アルケニル基は、置換基を有していてもよい。   Specific examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group (for example, each group such as methoxy, ethoxy, and epoxyethyloxy) and an acyloxy group (for example, acryloyloxy, methacryloyloxy). The alkenyl group is preferably a chain alkenyl group rather than a cyclic alkenyl group. A linear alkenyl group is preferable to a branched chain alkenyl group. The number of carbon atoms in the alkenyl group is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 20, still more preferably 2 to 10, still more preferably 2 to 8, 6 is most preferred. The alkenyl group may have a substituent.

置換基の具体例としては、ハロゲン原子、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基)またはアシルオキシ基(例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等の各基)が挙げられる。   Specific examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group (for example, each group such as methoxy, ethoxy, and epoxyethyloxy) or an acyloxy group (for example, each group such as acryloyloxy and methacryloyloxy).

上記アリール基は、フェニル基またはナフチル基であることが好ましく、フェニル基であることが特に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。   The aryl group is preferably a phenyl group or a naphthyl group, and particularly preferably a phenyl group. The aryl group may have a substituent.

置換基の具体例としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。上記アルキル基は、前述したアルキル基と同義である。   Specific examples of the substituent include, for example, a halogen atom, hydroxyl, cyano, nitro, carboxyl, alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, alkenyloxy Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, sulfamoyl, alkyl-substituted sulfamoyl group, alkenyl-substituted sulfamoyl group, aryl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, carbamoyl, alkyl-substituted carmoyl group, alkenyl-substituted carbamoyl group, aryl-substituted carbamoyl group, amide group, alkylthio Groups, alkenylthio groups, arylthio groups and acyl groups are included. The said alkyl group is synonymous with the alkyl group mentioned above.

アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルキル置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基とアシル基のアルキル部分も、前述したアルキル基と同義である。   The alkyl group of the alkoxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, alkyl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, alkyl-substituted carbamoyl group, amide group, alkylthio group and acyl group is also synonymous with the alkyl group described above.

上記アルケニル基は、前述したアルケニル基と同義である。   The said alkenyl group is synonymous with the alkenyl group mentioned above.

アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルケニルオキシカルボニル基、アルケニル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルケニル置換カルバモイル基、アミド基、アルケニルチオ基及びアシル基のアルケニル部分も、前述したアルケニル基と同義である。   The alkenyl part of the alkenyloxy group, acyloxy group, alkenyloxycarbonyl group, alkenyl-substituted sulfamoyl group, sulfonamide group, alkenyl-substituted carbamoyl group, amide group, alkenylthio group and acyl group is also synonymous with the alkenyl group described above.

上記アリール基の具体例としては、例えば、フェニル、α−ナフチル、β−ナフチル、4−メトキシフェニル、3,4−ジエトキシフェニル、4−オクチルオキシフェニルまたは4−ドデシルオキシフェニル等の各基が挙げられる。   Specific examples of the aryl group include phenyl, α-naphthyl, β-naphthyl, 4-methoxyphenyl, 3,4-diethoxyphenyl, 4-octyloxyphenyl, and 4-dodecyloxyphenyl. Can be mentioned.

アリールオキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アリールチオ基及びアシル基の部分の例は、上記アリール基と同義である。   Examples of the aryloxy group, acyloxy group, aryloxycarbonyl group, aryl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, aryl-substituted carbamoyl group, amide group, arylthio group, and acyl group are the same as the above aryl group.

1、X2またはX3が−NR−、−O−または−S−である場合の複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。 When X 1 , X 2 or X 3 is —NR—, —O— or —S—, the heterocyclic group preferably has aromaticity.

芳香族性を有する複素環基中の複素環としては、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることが更に好ましく、6員環であることが最も好ましい。   The heterocyclic ring in the heterocyclic group having aromaticity is generally an unsaturated heterocyclic ring, preferably a heterocyclic ring having the largest number of double bonds. The heterocyclic ring is preferably a 5-membered ring, a 6-membered ring or a 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, and most preferably a 6-membered ring.

複素環中のヘテロ原子は、N、SまたはO等の各原子であることが好ましく、N原子であることが特に好ましい。   The hetero atom in the heterocyclic ring is preferably each atom such as N, S or O, and particularly preferably an N atom.

芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環(複素環基としては、例えば、2−ピリジルまたは4−ピリジル等の各基)が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。   As the heterocyclic ring having aromaticity, a pyridine ring (as the heterocyclic group, for example, each group such as 2-pyridyl or 4-pyridyl) is particularly preferable. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the examples of the substituent of the aryl moiety.

1、X2またはX3が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることが更に好ましく、5員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。 When X 1 , X 2 or X 3 is a single bond, the heterocyclic group is preferably a heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom. The heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring, and a 5-membered ring. Is most preferred. The heterocyclic group may have a plurality of nitrogen atoms.

また、複素環基中のヘテロ原子は、窒素原子以外のヘテロ原子(例えば、O原子、S原子)を有していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の具体例は、上記アリール部分の置換基の具体例と同義である。   Moreover, the hetero atom in a heterocyclic group may have hetero atoms other than a nitrogen atom (for example, O atom, S atom). The heterocyclic group may have a substituent. Specific examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the specific examples of the substituent of the aryl moiety.

以下に、窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基の具体例を示す。   Specific examples of the heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom are shown below.

Figure 2005096095
Figure 2005096095

Figure 2005096095
Figure 2005096095

1,3,5−トリアジン環を有する化合物の分子量は、300〜2000であることが好ましい。該化合物の沸点は、260℃以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置(例えば、TG/DTA100、セイコー電子工業(株)製)を用いて測定出来る。   The molecular weight of the compound having a 1,3,5-triazine ring is preferably 300 to 2,000. The boiling point of the compound is preferably 260 ° C. or higher. The boiling point can be measured using a commercially available measuring device (for example, TG / DTA100, manufactured by Seiko Electronics Industry Co., Ltd.).

以下に、1,3,5−トリアジン環を有する化合物の具体例を示す。   Specific examples of the compound having a 1,3,5-triazine ring are shown below.

尚、以下に示す複数のRは同一の基を表す。   In addition, several R shown below represents the same group.

Figure 2005096095
Figure 2005096095

(1)ブチル
(2)2−メトキシ−2−エトキシエチル
(3)5−ウンデセニル
(4)フェニル
(5)4−エトキシカルボニルフェニル
(6)4−ブトキシフェニル
(7)p−ビフェニリル
(8)4−ピリジル
(9)2−ナフチル
(10)2−メチルフェニル
(11)3,4−ジメトキシフェニル
(12)2−フリル
(1) Butyl (2) 2-Methoxy-2-ethoxyethyl (3) 5-Undecenyl (4) Phenyl (5) 4-Ethoxycarbonylphenyl (6) 4-Butoxyphenyl (7) p-Biphenylyl (8) 4 -Pyridyl (9) 2-naphthyl (10) 2-methylphenyl (11) 3,4-dimethoxyphenyl (12) 2-furyl

Figure 2005096095
Figure 2005096095

Figure 2005096095
Figure 2005096095

(14)フェニル
(15)3−エトキシカルボニルフェニル
(16)3−ブトキシフェニル
(17)m−ビフェニリル
(18)3−フェニルチオフェニル
(19)3−クロロフェニル
(20)3−ベンゾイルフェニル
(21)3−アセトキシフェニル
(22)3−ベンゾイルオキシフェニル
(23)3−フェノキシカルボニルフェニル
(24)3−メトキシフェニル
(25)3−アニリノフェニル
(26)3−イソブチリルアミノフェニル
(27)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(28)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(29)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(30)3−メチルフェニル
(31)3−フェノキシフェニル
(32)3−ヒドロキシフェニル
(33)4−エトキシカルボニルフェニル
(34)4−ブトキシフェニル
(35)p−ビフェニリル
(36)4−フェニルチオフェニル
(37)4−クロロフェニル
(38)4−ベンゾイルフェニル
(39)4−アセトキシフェニル
(40)4−ベンゾイルオキシフェニル
(41)4−フェノキシカルボニルフェニル
(42)4−メトキシフェニル
(43)4−アニリノフェニル
(44)4−イソブチリルアミノフェニル
(45)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(46)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(47)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(48)4−メチルフェニル
(49)4−フェノキシフェニル
(50)4−ヒドロキシフェニル
(51)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(52)3,4−ジブトキシフェニル
(53)3,4−ジフェニルフェニル
(54)3,4−ジフェニルチオフェニル
(55)3,4−ジクロロフェニル
(56)3,4−ジベンゾイルフェニル
(57)3,4−ジアセトキシフェニル
(58)3,4−ジベンゾイルオキシフェニル
(59)3,4−ジフェノキシカルボニルフェニル
(60)3,4−ジメトキシフェニル
(61)3,4−ジアニリノフェニル
(62)3,4−ジメチルフェニル
(63)3,4−ジフェノキシフェニル
(64)3,4−ジヒドロキシフェニル
(65)2−ナフチル
(66)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(67)3,4,5−トリブトキシフェニル
(68)3,4,5−トリフェニルフェニル
(69)3,4,5−トリフェニルチオフェニル
(70)3,4,5−トリクロロフェニル
(71)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(72)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(73)3,4,5−トリベンゾイルオキシフェニル
(74)3,4,5−トリフェノキシカルボニルフェニル
(75)3,4,5−トリメトキシフェニル
(76)3,4,5−トリアニリノフェニル
(77)3,4,5−トリメチルフェニル
(78)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(79)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(14) phenyl (15) 3-ethoxycarbonylphenyl (16) 3-butoxyphenyl (17) m-biphenylyl (18) 3-phenylthiophenyl (19) 3-chlorophenyl (20) 3-benzoylphenyl (21) 3 -Acetoxyphenyl (22) 3-benzoyloxyphenyl (23) 3-phenoxycarbonylphenyl (24) 3-methoxyphenyl (25) 3-anilinophenyl (26) 3-isobutyrylaminophenyl (27) 3-phenoxy Carbonylaminophenyl (28) 3- (3-ethylureido) phenyl (29) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (30) 3-methylphenyl (31) 3-phenoxyphenyl (32) 3-hydroxyphenyl (33) 4-Ethoxycarbonylphenyl (34) 4-butoxyphenyl (35) p-biphenylyl (36) 4-phenylthiophenyl (37) 4-chlorophenyl (38) 4-benzoylphenyl (39) 4-acetoxyphenyl (40) 4-benzoyloxyphenyl ( 41) 4-phenoxycarbonylphenyl (42) 4-methoxyphenyl (43) 4-anilinophenyl (44) 4-isobutyrylaminophenyl (45) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (46) 4- (3-ethyl (Ureido) phenyl (47) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (48) 4-methylphenyl (49) 4-phenoxyphenyl (50) 4-hydroxyphenyl (51) 3,4-diethoxycarbonylphenyl ( 52) 3,4-dibutoxyphenyl (53) 3 -Diphenylphenyl (54) 3,4-diphenylthiophenyl (55) 3,4-dichlorophenyl (56) 3,4-dibenzoylphenyl (57) 3,4-diacetoxyphenyl (58) 3,4-dibenzoyl Oxyphenyl (59) 3,4-diphenoxycarbonylphenyl (60) 3,4-dimethoxyphenyl (61) 3,4-dianilinophenyl (62) 3,4-dimethylphenyl (63) 3,4-diphenoxy Phenyl (64) 3,4-dihydroxyphenyl (65) 2-naphthyl (66) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (67) 3,4,5-tributoxyphenyl (68) 3,4,5- Triphenylphenyl (69) 3,4,5-triphenylthiophenyl (70) 3,4,5-trichlorophenyl (71) 3,4,5-tribenzoylphenyl (72) 3,4,5-triacetoxyphenyl (73) 3,4,5-tribenzoyloxyphenyl (74) 3,4,5-triphenoxycarbonylphenyl (75) 3,4,5-trimethoxyphenyl (76) 3,4,5-trianilinophenyl (77) 3,4,5-trimethylphenyl (78) 3,4,5-triphenoxyphenyl (79 ) 3,4,5-trihydroxyphenyl

Figure 2005096095
Figure 2005096095

(80)フェニル
(81)3−エトキシカルボニルフェニル
(82)3−ブトキシフェニル
(83)m−ビフェニリル
(84)3−フェニルチオフェニル
(85)3−クロロフェニル
(86)3−ベンゾイルフェニル
(87)3−アセトキシフェニル
(88)3−ベンゾイルオキシフェニル
(89)3−フェノキシカルボニルフェニル
(90)3−メトキシフェニル
(91)3−アニリノフェニル
(92)3−イソブチリルアミノフェニル
(93)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(94)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(95)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(96)3−メチルフェニル
(97)3−フェノキシフェニル
(98)3−ヒドロキシフェニル
(99)4−エトキシカルボニルフェニル
(100)4−ブトキシフェニル
(101)p−ビフェニリル
(102)4−フェニルチオフェニル
(103)4−クロロフェニル
(104)4−ベンゾイルフェニル
(105)4−アセトキシフェニル
(106)4−ベンゾイルオキシフェニル
(107)4−フェノキシカルボニルフェニル
(108)4−メトキシフェニル
(109)4−アニリノフェニル
(110)4−イソブチリルアミノフェニル
(111)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(112)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(113)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(114)4−メチルフェニル
(115)4−フェノキシフェニル
(116)4−ヒドロキシフェニル
(117)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(118)3,4−ジブトキシフェニル
(119)3,4−ジフェニルフェニル
(120)3,4−ジフェニルチオフェニル
(121)3,4−ジクロロフェニル
(122)3,4−ジベンゾイルフェニル
(123)3,4−ジアセトキシフェニル
(124)3,4−ジベンゾイルオキシフェニル
(125)3,4−ジフェノキシカルボニルフェニル
(126)3,4−ジメトキシフェニル
(127)3,4−ジアニリノフェニル
(128)3,4−ジメチルフェニル
(129)3,4−ジフェノキシフェニル
(130)3,4−ジヒドロキシフェニル
(131)2−ナフチル
(132)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(133)3,4,5−トリブトキシフェニル
(134)3,4,5−トリフェニルフェニル
(135)3,4,5−トリフェニルチオフェニル
(136)3,4,5−トリクロロフェニル
(137)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(138)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(139)3,4,5−トリベンゾイルオキシフェニル
(140)3,4,5−トリフェノキシカルボニルフェニル
(141)3,4,5−トリメトキシフェニル
(142)3,4,5−トリアニリノフェニル
(143)3,4,5−トリメチルフェニル
(144)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(145)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(80) phenyl (81) 3-ethoxycarbonylphenyl (82) 3-butoxyphenyl (83) m-biphenylyl (84) 3-phenylthiophenyl (85) 3-chlorophenyl (86) 3-benzoylphenyl (87) 3 -Acetoxyphenyl (88) 3-benzoyloxyphenyl (89) 3-phenoxycarbonylphenyl (90) 3-methoxyphenyl (91) 3-anilinophenyl (92) 3-isobutyrylaminophenyl (93) 3-phenoxy Carbonylaminophenyl (94) 3- (3-ethylureido) phenyl (95) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (96) 3-methylphenyl (97) 3-phenoxyphenyl (98) 3-hydroxyphenyl (99) 4-Ethoxycarbonylphenyl (100) 4-butoxyphenyl (101) p-biphenylyl (102) 4-phenylthiophenyl (103) 4-chlorophenyl (104) 4-benzoylphenyl (105) 4-acetoxyphenyl (106) 4-benzoyloxyphenyl ( 107) 4-phenoxycarbonylphenyl (108) 4-methoxyphenyl (109) 4-anilinophenyl (110) 4-isobutyrylaminophenyl (111) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (112) 4- (3-ethyl (Ureido) phenyl (113) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (114) 4-methylphenyl (115) 4-phenoxyphenyl (116) 4-hydroxyphenyl (117) 3,4-diethoxycarbonylphenyl ( 118) 3 , 4-dibutoxyphenyl (119) 3,4-diphenylphenyl (120) 3,4-diphenylthiophenyl (121) 3,4-dichlorophenyl (122) 3,4-dibenzoylphenyl (123) 3,4- Diacetoxyphenyl (124) 3,4-dibenzoyloxyphenyl (125) 3,4-diphenoxycarbonylphenyl (126) 3,4-dimethoxyphenyl (127) 3,4-dianilinophenyl (128) 3,4 -Dimethylphenyl (129) 3,4-diphenoxyphenyl (130) 3,4-dihydroxyphenyl (131) 2-naphthyl (132) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (133) 3,4,5- Tributoxyphenyl (134) 3,4,5-triphenylphenyl (135) 3 4,5-triphenylthiophenyl (136) 3,4,5-trichlorophenyl (137) 3,4,5-tribenzoylphenyl (138) 3,4,5-triacetoxyphenyl (139) 3,4 5-tribenzoyloxyphenyl (140) 3,4,5-triphenoxycarbonylphenyl (141) 3,4,5-trimethoxyphenyl (142) 3,4,5-trianilinophenyl (143) 3,4 , 5-trimethylphenyl (144) 3,4,5-triphenoxyphenyl (145) 3,4,5-trihydroxyphenyl

Figure 2005096095
Figure 2005096095

(146)フェニル
(147)4−エトキシカルボニルフェニル
(148)4−ブトキシフェニル
(149)p−ビフェニリル
(150)4−フェニルチオフェニル
(151)4−クロロフェニル
(152)4−ベンゾイルフェニル
(153)4−アセトキシフェニル
(154)4−ベンゾイルオキシフェニル
(155)4−フェノキシカルボニルフェニル
(156)4−メトキシフェニル
(157)4−アニリノフェニル
(158)4−イソブチリルアミノフェニル
(159)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(160)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(161)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(162)4−メチルフェニル
(163)4−フェノキシフェニル
(164)4−ヒドロキシフェニル
(146) phenyl (147) 4-ethoxycarbonylphenyl (148) 4-butoxyphenyl (149) p-biphenylyl (150) 4-phenylthiophenyl (151) 4-chlorophenyl (152) 4-benzoylphenyl (153) 4 -Acetoxyphenyl (154) 4-benzoyloxyphenyl (155) 4-phenoxycarbonylphenyl (156) 4-methoxyphenyl (157) 4-anilinophenyl (158) 4-isobutyrylaminophenyl (159) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (160) 4- (3-ethylureido) phenyl (161) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (162) 4-methylphenyl (163) 4-phenoxyphenyl (164) 4-hydroxyphenyl

Figure 2005096095
Figure 2005096095

(165)フェニル
(166)4−エトキシカルボニルフェニル
(167)4−ブトキシフェニル
(168)p−ビフェニリル
(169)4−フェニルチオフェニル
(170)4−クロロフェニル
(171)4−ベンゾイルフェニル
(172)4−アセトキシフェニル
(173)4−ベンゾイルオキシフェニル
(174)4−フェノキシカルボニルフェニル
(175)4−メトキシフェニル
(176)4−アニリノフェニル
(177)4−イソブチリルアミノフェニル
(178)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(179)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(180)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(181)4−メチルフェニル
(182)4−フェノキシフェニル
(183)4−ヒドロキシフェニル
(165) phenyl (166) 4-ethoxycarbonylphenyl (167) 4-butoxyphenyl (168) p-biphenylyl (169) 4-phenylthiophenyl (170) 4-chlorophenyl (171) 4-benzoylphenyl (172) 4 -Acetoxyphenyl (173) 4-benzoyloxyphenyl (174) 4-phenoxycarbonylphenyl (175) 4-methoxyphenyl (176) 4-anilinophenyl (177) 4-isobutyrylaminophenyl (178) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (179) 4- (3-ethylureido) phenyl (180) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (181) 4-methylphenyl (182) 4-phenoxyphenyl (183) 4-hydroxyphenyl

Figure 2005096095
Figure 2005096095

(184)フェニル
(185)4−エトキシカルボニルフェニル
(186)4−ブトキシフェニル
(187)p−ビフェニリル
(188)4−フェニルチオフェニル
(189)4−クロロフェニル
(190)4−ベンゾイルフェニル
(191)4−アセトキシフェニル
(192)4−ベンゾイルオキシフェニル
(193)4−フェノキシカルボニルフェニル
(194)4−メトキシフェニル
(195)4−アニリノフェニル
(196)4−イソブチリルアミノフェニル
(197)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(198)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(199)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(200)4−メチルフェニル
(201)4−フェノキシフェニル
(202)4−ヒドロキシフェニル
(184) phenyl (185) 4-ethoxycarbonylphenyl (186) 4-butoxyphenyl (187) p-biphenylyl (188) 4-phenylthiophenyl (189) 4-chlorophenyl (190) 4-benzoylphenyl (191) 4 -Acetoxyphenyl (192) 4-benzoyloxyphenyl (193) 4-phenoxycarbonylphenyl (194) 4-methoxyphenyl (195) 4-anilinophenyl (196) 4-isobutyrylaminophenyl (197) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (198) 4- (3-ethylureido) phenyl (199) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (200) 4-methylphenyl (201) 4-phenoxyphenyl (202) 4-hydroxyphenyl

Figure 2005096095
Figure 2005096095

(203)フェニル
(204)4−エトキシカルボニルフェニル
(205)4−ブトキシフェニル
(206)p−ビフェニリル
(207)4−フェニルチオフェニル
(208)4−クロロフェニル
(209)4−ベンゾイルフェニル
(210)4−アセトキシフェニル
(211)4−ベンゾイルオキシフェニル
(212)4−フェノキシカルボニルフェニル
(213)4−メトキシフェニル
(214)4−アニリノフェニル
(215)4−イソブチリルアミノフェニル
(216)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(217)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(218)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(219)4−メチルフェニル
(220)4−フェノキシフェニル
(221)4−ヒドロキシフェニル
(203) phenyl (204) 4-ethoxycarbonylphenyl (205) 4-butoxyphenyl (206) p-biphenylyl (207) 4-phenylthiophenyl (208) 4-chlorophenyl (209) 4-benzoylphenyl (210) 4 -Acetoxyphenyl (211) 4-benzoyloxyphenyl (212) 4-phenoxycarbonylphenyl (213) 4-methoxyphenyl (214) 4-anilinophenyl (215) 4-isobutyrylaminophenyl (216) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (217) 4- (3-ethylureido) phenyl (218) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (219) 4-methylphenyl (220) 4-phenoxyphenyl (221) 4-hydroxyphenyl

Figure 2005096095
Figure 2005096095

(222)フェニル
(223)4−ブチルフェニル
(224)4−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(225)4−(5−ノネニル)フェニル
(226)p−ビフェニリル
(227)4−エトキシカルボニルフェニル
(228)4−ブトキシフェニル
(229)4−メチルフェニル
(230)4−クロロフェニル
(231)4−フェニルチオフェニル
(232)4−ベンゾイルフェニル
(233)4−アセトキシフェニル
(234)4−ベンゾイルオキシフェニル
(235)4−フェノキシカルボニルフェニル
(236)4−メトキシフェニル
(237)4−アニリノフェニル
(238)4−イソブチリルアミノフェニル
(239)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(240)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(241)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(242)4−フェノキシフェニル
(243)4−ヒドロキシフェニル
(244)3−ブチルフェニル
(245)3−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(246)3−(5−ノネニル)フェニル
(247)m−ビフェニリル
(248)3−エトキシカルボニルフェニル
(249)3−ブトキシフェニル
(250)3−メチルフェニル
(251)3−クロロフェニル
(252)3−フェニルチオフェニル
(253)3−ベンゾイルフェニル
(254)3−アセトキシフェニル
(255)3−ベンゾイルオキシフェニル
(256)3−フェノキシカルボニルフェニル
(257)3−メトキシフェニル
(258)3−アニリノフェニル
(259)3−イソブチリルアミノフェニル
(260)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(261)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(262)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(263)3−フェノキシフェニル
(264)3−ヒドロキシフェニル
(265)2−ブチルフェニル
(266)2−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(267)2−(5−ノネニル)フェニル
(268)o−ビフェニリル
(269)2−エトキシカルボニルフェニル
(270)2−ブトキシフェニル
(271)2−メチルフェニル
(272)2−クロロフェニル
(273)2−フェニルチオフェニル
(274)2−ベンゾイルフェニル
(275)2−アセトキシフェニル
(276)2−ベンゾイルオキシフェニル
(277)2−フェノキシカルボニルフェニル
(278)2−メトキシフェニル
(279)2−アニリノフェニル
(280)2−イソブチリルアミノフェニル
(281)2−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(282)2−(3−エチルウレイド)フェニル
(283)2−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(284)2−フェノキシフェニル
(285)2−ヒドロキシフェニル
(286)3,4−ジブチルフェニル
(287)3,4−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(288)3,4−ジフェニルフェニル
(289)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(290)3,4−ジドデシルオキシフェニル
(291)3,4−ジメチルフェニル
(292)3,4−ジクロロフェニル
(293)3,4−ジベンゾイルフェニル
(294)3,4−ジアセトキシフェニル
(295)3,4−ジメトキシフェニル
(296)3,4−ジ−N−メチルアミノフェニル
(297)3,4−ジイソブチリルアミノフェニル
(298)3,4−ジフェノキシフェニル
(299)3,4−ジヒドロキシフェニル
(300)3,5−ジブチルフェニル
(301)3,5−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(302)3,5−ジフェニルフェニル
(303)3,5−ジエトキシカルボニルフェニル
(304)3,5−ジドデシルオキシフェニル
(305)3,5−ジメチルフェニル
(306)3,5−ジクロロフェニル
(307)3,5−ジベンゾイルフェニル
(308)3,5−ジアセトキシフェニル
(309)3,5−ジメトキシフェニル
(310)3,5−ジ−N−メチルアミノフェニル
(311)3,5−ジイソブチリルアミノフェニル
(312)3,5−ジフェノキシフェニル
(313)3,5−ジヒドロキシフェニル
(314)2,4−ジブチルフェニル
(315)2,4−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(316)2,4−ジフェニルフェニル
(317)2,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(318)2,4−ジドデシルオキシフェニル
(319)2,4−ジメチルフェニル
(320)2,4−ジクロロフェニル
(321)2,4−ジベンゾイルフェニル
(322)2,4−ジアセトキシフェニル
(323)2,4−ジメトキシフェニル
(324)2,4−ジ−N−メチルアミノフェニル
(325)2,4−ジイソブチリルアミノフェニル
(326)2,4−ジフェノキシフェニル
(327)2,4−ジヒドロキシフェニル
(328)2,3−ジブチルフェニル
(329)2,3−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(330)2,3−ジフェニルフェニル
(331)2,3−ジエトキシカルボニルフェニル
(332)2,3−ジドデシルオキシフェニル
(333)2,3−ジメチルフェニル
(334)2,3−ジクロロフェニル
(335)2,3−ジベンゾイルフェニル
(336)2,3−ジアセトキシフェニル
(337)2,3−ジメトキシフェニル
(338)2,3−ジ−N−メチルアミノフェニル
(339)2,3−ジイソブチリルアミノフェニル
(340)2,3−ジフェノキシフェニル
(341)2,3−ジヒドロキシフェニル
(342)2,6−ジブチルフェニル
(343)2,6−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(344)2,6−ジフェニルフェニル
(345)2,6−ジエトキシカルボニルフェニル
(346)2,6−ジドデシルオキシフェニル
(347)2,6−ジメチルフェニル
(348)2,6−ジクロロフェニル
(349)2,6−ジベンゾイルフェニル
(350)2,6−ジアセトキシフェニル
(351)2,6−ジメトキシフェニル
(352)2,6−ジ−N−メチルアミノフェニル
(353)2,6−ジイソブチリルアミノフェニル
(354)2,6−ジフェノキシフェニル
(355)2,6−ジヒドロキシフェニル
(356)3,4,5−トリブチルフェニル
(357)3,4,5−トリ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(358)3,4,5−トリフェニルフェニル
(359)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(360)3,4,5−トリドデシルオキシフェニル
(361)3,4,5−トリメチルフェニル
(362)3,4,5−トリクロロフェニル
(363)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(364)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(365)3,4,5−トリメトキシフェニル
(366)3,4,5−トリ−N−メチルアミノフェニル
(367)3,4,5−トリイソブチリルアミノフェニル
(368)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(369)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(370)2,4,6−トリブチルフェニル
(371)2,4,6−トリ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(372)2,4,6−トリフェニルフェニル
(373)2,4,6−トリエトキシカルボニルフェニル
(374)2,4,6−トリドデシルオキシフェニル
(375)2,4,6−トリメチルフェニル
(376)2,4,6−トリクロロフェニル
(377)2,4,6−トリベンゾイルフェニル
(378)2,4,6−トリアセトキシフェニル
(379)2,4,6−トリメトキシフェニル
(380)2,4,6−トリ−N−メチルアミノフェニル
(381)2,4,6−トリイソブチリルアミノフェニル
(382)2,4,6−トリフェノキシフェニル
(383)2,4,6−トリヒドロキシフェニル
(384)ペンタフルオロフェニル
(385)ペンタクロロフェニル
(386)ペンタメトキシフェニル
(387)6−N−メチルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(388)5−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(389)6−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(390)5−エトキシ−7−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(391)3−メトキシ−2−ナフチル
(392)1−エトキシ−2−ナフチル
(393)6−N−フェニルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(394)5−メトキシ−7−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(395)1−(4−メチルフェニル)−2−ナフチル
(396)6,8−ジ−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(397)6−N−2−アセトキシエチルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(398)5−アセトキシ−7−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(399)3−ベンゾイルオキシ−2−ナフチル
(400)5−アセチルアミノ−1−ナフチル
(401)2−メトキシ−1−ナフチル
(402)4−フェノキシ−1−ナフチル
(403)5−N−メチルスルファモイル−1−ナフチル
(404)3−N−メチルカルバモイル−4−ヒドロキシ−1−ナフチル
(405)5−メトキシ−6−N−エチルスルファモイル−1−ナフチル
(406)7−テトラデシルオキシ−1−ナフチル
(407)4−(4−メチルフェノキシ)−1−ナフチル
(408)6−N−メチルスルファモイル−1−ナフチル
(409)3−N,N−ジメチルカルバモイル−4−メトキシ−1−ナフチル
(410)5−メトキシ−6−N−ベンジルスルファモイル−1−ナフチル
(411)3,6−ジ−N−フェニルスルファモイル−1−ナフチル
(412)メチル
(413)エチル
(414)ブチル
(415)オクチル
(416)ドデシル
(417)2−ブトキシ−2−エトキシエチル
(418)ベンジル
(419)4−メトキシベンジル
(222) phenyl (223) 4-butylphenyl (224) 4- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (225) 4- (5-nonenyl) phenyl (226) p-biphenylyl (227) 4-ethoxy Carbonylphenyl (228) 4-butoxyphenyl (229) 4-methylphenyl (230) 4-chlorophenyl (231) 4-phenylthiophenyl (232) 4-benzoylphenyl (233) 4-acetoxyphenyl (234) 4-benzoyl Oxyphenyl (235) 4-phenoxycarbonylphenyl (236) 4-methoxyphenyl (237) 4-anilinophenyl (238) 4-isobutyrylaminophenyl (239) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (240) 4- ( 3-ethylureido Phenyl (241) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (242) 4-phenoxyphenyl (243) 4-hydroxyphenyl (244) 3-butylphenyl (245) 3- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) ) Phenyl (246) 3- (5-nonenyl) phenyl (247) m-biphenylyl (248) 3-ethoxycarbonylphenyl (249) 3-butoxyphenyl (250) 3-methylphenyl (251) 3-chlorophenyl (252) 3-phenylthiophenyl (253) 3-benzoylphenyl (254) 3-acetoxyphenyl (255) 3-benzoyloxyphenyl (256) 3-phenoxycarbonylphenyl (257) 3-methoxyphenyl (258) 3-anilinophenyl (259) 3-I Butyrylaminophenyl (260) 3-phenoxycarbonylaminophenyl (261) 3- (3-ethylureido) phenyl (262) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (263) 3-phenoxyphenyl (264) 3 -Hydroxyphenyl (265) 2-butylphenyl (266) 2- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (267) 2- (5-nonenyl) phenyl (268) o-biphenylyl (269) 2-ethoxycarbonyl Phenyl (270) 2-Butoxyphenyl (271) 2-Methylphenyl (272) 2-Chlorophenyl (273) 2-Phenylthiophenyl (274) 2-Benzoylphenyl (275) 2-Acetoxyphenyl (276) 2-Benzoyloxy Phenyl (277) 2 Phenoxycarbonylphenyl (278) 2-methoxyphenyl (279) 2-anilinophenyl (280) 2-isobutyrylaminophenyl (281) 2-phenoxycarbonylaminophenyl (282) 2- (3-ethylureido) phenyl ( 283) 2- (3,3-diethylureido) phenyl (284) 2-phenoxyphenyl (285) 2-hydroxyphenyl (286) 3,4-dibutylphenyl (287) 3,4-di (2-methoxy-2) -Ethoxyethyl) phenyl (288) 3,4-diphenylphenyl (289) 3,4-diethoxycarbonylphenyl (290) 3,4-didodecyloxyphenyl (291) 3,4-dimethylphenyl (292) 3, 4-dichlorophenyl (293) 3,4-dibenzoyl Enyl (294) 3,4-diacetoxyphenyl (295) 3,4-dimethoxyphenyl (296) 3,4-di-N-methylaminophenyl (297) 3,4-diisobutyrylaminophenyl (298) 3 , 4-diphenoxyphenyl (299) 3,4-dihydroxyphenyl (300) 3,5-dibutylphenyl (301) 3,5-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (302) 3,5- Diphenylphenyl (303) 3,5-diethoxycarbonylphenyl (304) 3,5-didodecyloxyphenyl (305) 3,5-dimethylphenyl (306) 3,5-dichlorophenyl (307) 3,5-dibenzoyl Phenyl (308) 3,5-diacetoxyphenyl (309) 3,5-dimethoxyphenyl (3 0) 3,5-di-N-methylaminophenyl (311) 3,5-diisobutyrylaminophenyl (312) 3,5-diphenoxyphenyl (313) 3,5-dihydroxyphenyl (314) 2,4 -Dibutylphenyl (315) 2,4-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (316) 2,4-diphenylphenyl (317) 2,4-diethoxycarbonylphenyl (318) 2,4-di Dodecyloxyphenyl (319) 2,4-dimethylphenyl (320) 2,4-dichlorophenyl (321) 2,4-dibenzoylphenyl (322) 2,4-diacetoxyphenyl (323) 2,4-dimethoxyphenyl ( 324) 2,4-di-N-methylaminophenyl (325) 2,4-diisobutyrylaminopheny (326) 2,4-diphenoxyphenyl (327) 2,4-dihydroxyphenyl (328) 2,3-dibutylphenyl (329) 2,3-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (330) 2,3-diphenylphenyl (331) 2,3-diethoxycarbonylphenyl (332) 2,3-didodecyloxyphenyl (333) 2,3-dimethylphenyl (334) 2,3-dichlorophenyl (335) 2, 3-dibenzoylphenyl (336) 2,3-diacetoxyphenyl (337) 2,3-dimethoxyphenyl (338) 2,3-di-N-methylaminophenyl (339) 2,3-diisobutyrylaminophenyl (340) 2,3-diphenoxyphenyl (341) 2,3-dihydroxyphenyl (342 2,6-dibutylphenyl (343) 2,6-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (344) 2,6-diphenylphenyl (345) 2,6-diethoxycarbonylphenyl (346) 2, 6-didodecyloxyphenyl (347) 2,6-dimethylphenyl (348) 2,6-dichlorophenyl (349) 2,6-dibenzoylphenyl (350) 2,6-diacetoxyphenyl (351) 2,6- Dimethoxyphenyl (352) 2,6-di-N-methylaminophenyl (353) 2,6-diisobutyrylaminophenyl (354) 2,6-diphenoxyphenyl (355) 2,6-dihydroxyphenyl (356) 3,4,5-tributylphenyl (357) 3,4,5-tri (2-methoxy-2-ethoxy) Til) phenyl (358) 3,4,5-triphenylphenyl (359) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (360) 3,4,5-tridodecyloxyphenyl (361) 3,4,5- Trimethylphenyl (362) 3,4,5-trichlorophenyl (363) 3,4,5-tribenzoylphenyl (364) 3,4,5-triacetoxyphenyl (365) 3,4,5-trimethoxyphenyl ( 366) 3,4,5-tri-N-methylaminophenyl (367) 3,4,5-triisobutyrylaminophenyl (368) 3,4,5-triphenoxyphenyl (369) 3,4,5 -Trihydroxyphenyl (370) 2,4,6-tributylphenyl (371) 2,4,6-tri (2-methoxy-2-ethoxyethyl) ) Phenyl (372) 2,4,6-triphenylphenyl (373) 2,4,6-triethoxycarbonylphenyl (374) 2,4,6-tridodecyloxyphenyl (375) 2,4,6-trimethyl Phenyl (376) 2,4,6-trichlorophenyl (377) 2,4,6-tribenzoylphenyl (378) 2,4,6-triacetoxyphenyl (379) 2,4,6-trimethoxyphenyl (380 ) 2,4,6-tri-N-methylaminophenyl (381) 2,4,6-triisobutyrylaminophenyl (382) 2,4,6-triphenoxyphenyl (383) 2,4,6- Trihydroxyphenyl (384) Pentafluorophenyl (385) Pentachlorophenyl (386) Pentamethoxyphenyl (38 ) 6-N-methylsulfamoyl-8-methoxy-2-naphthyl (388) 5-N-methylsulfamoyl-2-naphthyl (389) 6-N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (390) 5-Ethoxy-7-N-methylsulfamoyl-2-naphthyl (391) 3-methoxy-2-naphthyl (392) 1-ethoxy-2-naphthyl (393) 6-N-phenylsulfamoyl-8- Methoxy-2-naphthyl (394) 5-methoxy-7-N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (395) 1- (4-methylphenyl) -2-naphthyl (396) 6,8-di-N- Methylsulfamoyl-2-naphthyl (397) 6-N-2-acetoxyethylsulfamoyl-8-methoxy-2-naphthyl (398) 5-acetoxy-7- N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (399) 3-benzoyloxy-2-naphthyl (400) 5-acetylamino-1-naphthyl (401) 2-methoxy-1-naphthyl (402) 4-phenoxy-1 -Naphtyl (403) 5-N-methylsulfamoyl-1-naphthyl (404) 3-N-methylcarbamoyl-4-hydroxy-1-naphthyl (405) 5-methoxy-6-N-ethylsulfamoyl- 1-naphthyl (406) 7-tetradecyloxy-1-naphthyl (407) 4- (4-methylphenoxy) -1-naphthyl (408) 6-N-methylsulfamoyl-1-naphthyl (409) 3- N, N-dimethylcarbamoyl-4-methoxy-1-naphthyl (410) 5-methoxy-6-N-benzylsulfamoyl 1-naphthyl (411) 3,6-di-N-phenylsulfamoyl-1-naphthyl (412) methyl (413) ethyl (414) butyl (415) octyl (416) dodecyl (417) 2-butoxy-2 -Ethoxyethyl (418) benzyl (419) 4-methoxybenzyl

Figure 2005096095
Figure 2005096095

(424)メチル
(425)フェニル
(426)ブチル
(424) Methyl (425) Phenyl (426) Butyl

Figure 2005096095
Figure 2005096095

(430)メチル
(431)エチル
(432)ブチル
(433)オクチル
(434)ドデシル
(435)2−ブトキシ2−エトキシエチル
(436)ベンジル
(437)4−メトキシベンジル
(430) methyl (431) ethyl (432) butyl (433) octyl (434) dodecyl (435) 2-butoxy-2-ethoxyethyl (436) benzyl (437) 4-methoxybenzyl

Figure 2005096095
Figure 2005096095

Figure 2005096095
Figure 2005096095

本発明においては、1,3,5−トリアジン環を有する化合物として、メラミンポリマーを用いてもよい。メラミンポリマーは、下記一般式(3)で示すメラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応により合成することが好ましい。   In the present invention, a melamine polymer may be used as the compound having a 1,3,5-triazine ring. The melamine polymer is preferably synthesized by a polymerization reaction between a melamine compound represented by the following general formula (3) and a carbonyl compound.

Figure 2005096095
Figure 2005096095

上記合成反応スキームにおいて、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基である。 In the above synthetic reaction scheme, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group.

上記アルキル基、アルケニル基、アリール基及び複素環基及びこれらの置換基は前記一般式(2)で説明した各基、それらの置換基と同義である。   The alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group and substituents thereof have the same meanings as the groups and substituents described in the general formula (2).

メラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応は、通常のメラミン樹脂(例えば、メラミンホルムアルデヒド樹脂等)の合成方法と同様である。また、市販のメラミンポリマー(メラミン樹脂)を用いてもよい。   The polymerization reaction between the melamine compound and the carbonyl compound is the same as the method for synthesizing a normal melamine resin (for example, melamine formaldehyde resin). Moreover, you may use a commercially available melamine polymer (melamine resin).

メラミンポリマーの分子量は、2千〜40万であることが好ましい。メラミンポリマーの繰り返し単位の具体例を以下に示す。   The molecular weight of the melamine polymer is preferably 2,000 to 400,000. Specific examples of the repeating unit of the melamine polymer are shown below.

Figure 2005096095
Figure 2005096095

MP−1:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−2:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−3:R13、R14、R15、R16:CH2O−i−C49
MP−4:R13、R14、R15、R16:CH2O−n−C49
MP−5:R13、R14、R15、R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−6:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−7:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2OCH3
MP−8:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−9:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−10:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−11:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−12:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−13:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
MP−14:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−i−C49
MP−15:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C49
MP−16:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C49
MP−17:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C49
MP−18:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C49
MP−19:R13、R14、R16:CH2O−i−C49;R15:CH2OH
MP−20:R13、R16:CH2O−i−C49;R14、R15:CH2OH
MP−21:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−22:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−n−C49
MP−23:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−n−C49
MP−24:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C49
MP−25:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−n−C49
MP−26:R13、R14、R16:CH2O−n−C49;R15:CH2OH
MP−27:R13、R16:CH2O−n−C49;R14、R15:CH2OH
MP−28:R13、R14:CH2OH;R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C49
MP−29:R13、R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49;R16:CH2OCH3
MP−30:R13、R16:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C49
MP−31:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C49
MP−32:R13:CH2OH;R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C49
MP−33:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15、R16:CH2O−n−C49
MP−34:R13:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C49;R16:CH2OCH3
MP−35:R13、R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−36:R13、R16:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49
MP−37:R13:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−38:R13、R16:CH2O−n−C49;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−39:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−40:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C49
MP−41:R13:CH2OH;R14:CH2O−n−C49;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−42:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−43:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C49
MP−44:R13:CH2O−n−C49;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−45:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−46:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−47:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−48:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−49:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−50:R13:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP-1: R 13 , R 14 , R 15 , R 16 : CH 2 OH
MP-2: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-3: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-4: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-5: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-6: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-7: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-8: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-9: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-10: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-11: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-12: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-13: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-14: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-15: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-16: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-17: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-18: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-19: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-20: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-21: R 13 , R 14 , R 15 : CH 2 OH; R 16 : CH 2 On -C 4 H 9
MP-22: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-23: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-24: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-25: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2O -n-C 4 H 9
MP-26: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-27: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-28: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-29: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-30: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-31: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-32: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-33: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-34: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-35: R 13, R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-36: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-37: R 13: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-38: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-39: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C4H9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-40: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-41: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-42: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-43: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-44: R 13: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-45: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-46: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-47: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-48: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-49: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-50: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2

Figure 2005096095
Figure 2005096095

MP−51:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−52:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−53:R13、R14、R15、R16:CH2O−i−C49
MP−54:R13、R14、R15、R16:CH2O−n−C49
MP−55:R13、R14、R15、R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−56:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−57:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2OCH3
MP−58:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−59:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−60:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−61:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−62:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−63:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
MP−64:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−i−C49
MP−65:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C49
MP−66:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C49
MP−67:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C49
MP−68:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C49
MP−69:R13、R14、R16:CH2O−i−C49;R15:CH2OH
MP−70:R13、R16:CH2O−i−C49;R14、R15:CH2OH
MP−71:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−72:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−n−C49
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Figure 2005096095
Figure 2005096095

MP−101:R13、R14、R15、R16:CH2OH
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MP−110:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
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MP−115:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C49
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MP−148:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−149:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
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MP-101: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OH
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MP-104: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
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MP-107: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-108: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-109: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-110: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-111: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-112: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-113: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
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MP-115: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-116: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-117: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-118: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
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MP-144: R 13: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-145: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-146: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-147: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-148: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-149: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-150: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2

Figure 2005096095
Figure 2005096095

MP−151:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−152:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−153:R13、R14、R15、R16:CH2O−i−C49
MP−154:R13、R14、R15、R16:CH2O−n−C49
MP−155:R13、R14、R15、R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−156:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−157:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2OCH3
MP−158:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−159:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−160:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−161:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−162:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−163:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
MP−164:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−i−C49
MP−165:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C49
MP−166:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C49
MP−167:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C49
MP−168:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C49
MP−169:R13、R14、R16:CH2O−i−C49;R15:CH2OH
MP−170:R13、R16:CH2O−i−C49;R14、R15:CH2OH
MP−171:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−172:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−n−C49
MP−173:R13R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−n−C49
MP−174:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C49
MP−175:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−n−C49
MP−176:R13、R14、R16:CH2O−n−C49;R15:CH2OH
MP−177:R13、R16:CH2O−n−C49;R14、R15:CH2OH
MP−178:R13、R14:CH2OH;R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C49
MP−179:R13、R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49;R16:CH2OCH3
MP−180:R13、R16:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C49
MP−181:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C49
MP−182:R13:CH2OH;R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C49
MP−183:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15、R16:CH2O−n−C49
MP−184:R13:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C49;R16:CH2OCH3
MP−185:R13、R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−186:R13、R16:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49
MP−187:R13:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−188:R13、R16:CH2O−n−C49;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−189:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C49;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−190:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C49
MP−191:R13:CH2OH;R14:CH2O−n−C49;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−192:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−193:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C49
MP−194:R13:CH2O−n−C49;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−195:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−196:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−197:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−198:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−199:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−200:R13:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
本発明においては、上記繰り返し単位を二種類以上組み合わせたコポリマーを用いてもよい。二種類以上のホモポリマーまたはコポリマーを併用してもよい。
MP-151: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OH
MP-152: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-153: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-154: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-155: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-156: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-157: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-158: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-159: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-160: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-161: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-162: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-163: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-164: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-165: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-166: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-167: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-168: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-169: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-170: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-171: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-172: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-173: R 13, R14 : CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-174: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-175: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-176: R 13 , R 14 , R 16 : CH 2 On -C 4 H 9 ; R 15 : CH 2 OH
MP-177: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-178: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-179: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-180: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-181: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-182: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-183: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-184: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-185: R 13, R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-186: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-187: R 13: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-188: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-189: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-190: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-191: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-192: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-193: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-194: R 13: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-195: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-196: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-197: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-198: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-199: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-200: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
In the present invention, a copolymer obtained by combining two or more of the above repeating units may be used. Two or more homopolymers or copolymers may be used in combination.

また、二種類以上の1,3,5−トリアジン環を有する化合物を併用してもよい。二種類以上の円盤状化合物(例えば、1,3,5−トリアジン環を有する化合物とポルフィリン骨格を有する化合物)を併用してもよい。   Moreover, you may use together the compound which has a 2 or more types of 1,3,5- triazine ring. Two or more kinds of discotic compounds (for example, a compound having a 1,3,5-triazine ring and a compound having a porphyrin skeleton) may be used in combination.

これらの添加剤はセルロースエステルフィルムに対して0.2〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%含有することが好ましい。   These additives are preferably contained in an amount of 0.2 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass with respect to the cellulose ester film.

また、本発明に係るセルロースエステルフィルムには、微粒子を含有することが好ましい。   The cellulose ester film according to the present invention preferably contains fine particles.

本発明に係るセルロースエステルフィルムには、微粒子を含有することが好ましい。特に、後述する表層に含有することが好ましい。   The cellulose ester film according to the present invention preferably contains fine particles. In particular, it is preferable to contain in the surface layer mentioned later.

本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。   As fine particles used in the present invention, as examples of inorganic compounds, silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, Mention may be made of aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low turbidity, and silicon dioxide is particularly preferable.

微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜50nmが好ましく、更に好ましいのは7〜20nmである。これらは主に粒径0.05〜0.3μmの2次凝集体として含有されることが好ましい。セルロースエステルフィルム中のこれらの微粒子の含有量は0.05〜1質量%であることが好ましく、特に0.1〜0.5質量%が好ましい。共流延法による多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。   The average primary particle size of the fine particles is preferably 5 to 50 nm, and more preferably 7 to 20 nm. These are preferably contained mainly as secondary aggregates having a particle size of 0.05 to 0.3 μm. The content of these fine particles in the cellulose ester film is preferably 0.05 to 1% by mass, particularly preferably 0.1 to 0.5% by mass. In the case of a cellulose ester film having a multilayer structure by the co-casting method, it is preferable to contain fine particles of this addition amount on the surface.

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Silicon dioxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.). I can do it.

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Zirconium oxide fine particles are commercially available under the trade names of Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used.

ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   Examples of the polymer include silicone resin, fluorine resin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがセルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きい為特に好ましく用いられる。本発明で用いられるセルロースエステルフィルムにおいては反射防止層の裏面側の動摩擦係数が1.0以下であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large effect of reducing the friction coefficient while keeping the turbidity of the cellulose ester film low. In the cellulose ester film used in the present invention, the dynamic friction coefficient on the back side of the antireflection layer is preferably 1.0 or less.

〈染料〉
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムには、色味調整の為染料を添加することも出来る。例えば、フィルムの黄色味を抑える為に青色染料を添加してもよい。好ましい染料としてはアンスラキノン系染料が挙げられる。
<dye>
A dye can also be added to the cellulose ester film used in the present invention for color adjustment. For example, a blue dye may be added to suppress the yellowness of the film. Preferred examples of the dye include anthraquinone dyes.

アンスラキノン系染料は、アンスラキノンの1位から8位迄の任意の位置に任意の置換基を有することが出来る。好ましい置換基としてはアニリノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、または水素原子が挙げられる。特に特開2001−154017記載の青色染料、特にアントラキノン系染料を含有することが好ましい。   The anthraquinone dye may have an arbitrary substituent at an arbitrary position from the 1st position to the 8th position of the anthraquinone. Preferred substituents include an anilino group, hydroxyl group, amino group, nitro group, or hydrogen atom. In particular, it is preferable to contain a blue dye described in JP-A-2001-154017, particularly an anthraquinone dye.

各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子は濾過材への負荷を減らす為に、一部または全量をインライン添加することが好ましい。   Various additives may be batch-added to a dope that is a cellulose ester-containing solution before film formation, or an additive solution may be separately prepared and added in-line. In particular, it is preferable to add a part or all of the fine particles in-line in order to reduce the load on the filter medium.

添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくする為、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤100質量部に対して1〜10質量部で、より好ましくは、3〜5質量部である。   When the additive solution is added in-line, it is preferable to dissolve a small amount of cellulose ester in order to improve mixing with the dope. The amount of the cellulose ester is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 3 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solvent.

本発明においてインライン添加、混合を行う為には、例えば、スタチックミキサー(東レエンジニアリング製)、SWJ(東レ静止型管内混合器 Hi−Mixer)等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。   In order to perform in-line addition and mixing in the present invention, for example, an in-line mixer such as a static mixer (manufactured by Toray Engineering) or SWJ (Toray static type in-tube mixer Hi-Mixer) is preferably used.

〈有機溶媒〉
セルロースエステルを溶解しセルロースエステル溶液またはドープ形成に有用な有機溶媒として、塩素系有機溶媒のメチレンクロライド(塩化メチレン)を挙げることが出来、セルロースエステル、特にセルローストリアセテートの溶解に適している。非塩素系有機溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセト酢酸メチル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、蟻酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来る。これらの有機溶媒をセルローストリアセテートに対して使用する場合には、常温での溶解方法も使用可能であるが、高温溶解方法、冷却溶解方法、高圧溶解方法等の溶解方法を用いることにより不溶解物を少なくすることが出来るので好ましい。セルローストリアセテート以外のセルロースエステルに対しては、メチレンクロライドを用いることも出来るが、メチレンクロライドを使用せずに、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用することが出来る。特に酢酸メチルが好ましい。本発明において、上記セルロースエステルに対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主(有機)溶媒または主たる(有機)溶媒という。
<Organic solvent>
An organic solvent that dissolves cellulose ester and is useful for forming a cellulose ester solution or dope can be methylene chloride (methylene chloride), a chlorinated organic solvent, and is suitable for dissolving cellulose ester, particularly cellulose triacetate. Examples of non-chlorine organic solvents include methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, methyl acetoacetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2- Trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2- Examples include propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, and the like. When these organic solvents are used for cellulose triacetate, a dissolution method at room temperature can be used, but an insoluble material can be obtained by using a dissolution method such as a high-temperature dissolution method, a cooling dissolution method, or a high-pressure dissolution method. Can be reduced, which is preferable. Although methylene chloride can be used for cellulose esters other than cellulose triacetate, methyl acetate, ethyl acetate, and acetone can be preferably used without using methylene chloride. Particularly preferred is methyl acetate. In the present invention, an organic solvent having good solubility with respect to the cellulose ester is referred to as a good solvent, and has a main effect on dissolution, and an organic solvent used in a large amount among them is a main (organic) solvent or a main ( Organic) solvent.

本発明に係るドープには、上記有機溶媒の他に、1〜40質量%の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させることが好ましい。これらはドープを金属支持体に流延後溶媒が蒸発をし始めアルコールの比率が多くなるとウェブがゲル化し、ウェブを丈夫にし金属支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数1〜4のアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールを挙げることが出来る。これらのうちドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は単独ではセルロースエステルに対して溶解性を有していないので、貧溶媒という。また、ドープ中には0.01〜2質量%の水を含有してもよい。   The dope according to the present invention preferably contains 1 to 40% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms in addition to the organic solvent. These are used as a gelling solvent that casts the dope on a metal support and then the solvent begins to evaporate and the ratio of alcohol increases and the web gels, making the web strong and easy to peel off from the metal support. When these ratios are small, there is also a role of promoting dissolution of the cellulose ester of the non-chlorine organic solvent. Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, and tert-butanol. Of these, ethanol is preferred because it has excellent dope stability, has a relatively low boiling point, good drying properties, and no toxicity. These organic solvents are called poor solvents because they are not soluble in cellulose esters by themselves. Moreover, you may contain 0.01-2 mass% water in dope.

〔表層〕
次に本発明に係るセルロースエステルを有する表層について説明する。
[Surface]
Next, the surface layer having the cellulose ester according to the present invention will be described.

本発明に係るセルロースエステルフィルムは、膜厚が0.1〜15μmで、総アシル基置換度が2.7以下のセルロースエステルを有する少なくとも一層の表層を基層上に設け、多層構成のセルロースエステルフィルムにすることが特徴である。   The cellulose ester film according to the present invention has a film thickness of 0.1 to 15 μm and a cellulose acylate film having a multilayer structure in which at least one surface layer having a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.7 or less is provided on the base layer. It is a feature.

本発明者は、総アシル基置換度が2.7以下のセルロースエステルを用いることにより、該表層上に塗設されるハードコート層に用いられる有機溶剤により、前記特許文献3に開示されているような特別な有機溶剤を持ちいなくても、表層とハードコート層との界面がなくなり、屈折率を連続的に変化させて干渉ムラを防止することが出来ることを見出し、本発明を成すに至った次第である。   The inventor of the present invention discloses the organic solvent used in the hard coat layer coated on the surface layer by using a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.7 or less. Even without having such a special organic solvent, it has been found that the interface between the surface layer and the hard coat layer is eliminated, and the unevenness of interference can be prevented by continuously changing the refractive index. It is up to you.

本発明では、表層に用いられるセルロースエステルの総アシル基置換度は2.7以下であり、好ましくは1.9〜2.7の範囲である。総アシル基置換度がこの範囲のセルロースエステルとしては、基層に用いられるセルロースエステルと同様のものが用いられるが、好ましくは、セルロースジアセテートまたはセルロースアセテートプロピオネートである。総アシル基置換度の調整は前記した通りセルロースエステルのエステル化条件(温度、時間、攪拌)、加水分解条件を調整することによって行える。   In this invention, the total acyl group substitution degree of the cellulose ester used for a surface layer is 2.7 or less, Preferably it is the range of 1.9-2.7. As the cellulose ester having a total acyl group substitution degree in this range, those similar to the cellulose ester used in the base layer are used, and cellulose diacetate or cellulose acetate propionate is preferable. The total acyl group substitution degree can be adjusted by adjusting the esterification conditions (temperature, time, stirring) and hydrolysis conditions of the cellulose ester as described above.

層構成は2層以上あればよく、表層または基層の中でも複数層あってもよい。好ましくは3層で表層2層と基層1層が好ましく、本発明の優れたハードコートフィルムを作製するに3層あれば十分効果を上げることが出来好ましい。   The layer configuration may be two or more, and a plurality of layers may be included in the surface layer or the base layer. Preferably, three layers are preferred, two surface layers and one base layer, and three layers are preferred because a sufficient effect can be obtained to produce an excellent hard coat film of the present invention.

表層の一層当たりの膜厚は0.1〜15μmの範囲であり、本発明の効果を得る上では0.5〜15μmの範囲であることが好ましく、1〜10μmの範囲であることがより好ましく、5〜10μmであることが特に好ましい。表層が複数層である場合は、層の膜厚は同一でも異なっていてもよい。   The film thickness per surface layer is in the range of 0.1 to 15 μm, and in order to obtain the effects of the present invention, it is preferably in the range of 0.5 to 15 μm, and more preferably in the range of 1 to 10 μm. It is especially preferable that it is 5-10 micrometers. When the surface layer is a plurality of layers, the thicknesses of the layers may be the same or different.

表層には、前述の微粒子を含むことが好ましい。中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがセルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きい為特に好ましく用いられる。   The surface layer preferably contains the aforementioned fine particles. Among them, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large effect of reducing the friction coefficient while keeping the turbidity of the cellulose ester film low.

本発明に係る表層は、可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤は前記基層に用いられる可塑剤を使用出来る。可塑剤の含有量は、多層構成のセルロースエステルフィルム中の平均可塑剤含有量よりも多く含ませることが好ましい。   The surface layer according to the present invention preferably contains a plasticizer. As the plasticizer, a plasticizer used for the base layer can be used. The plasticizer content is preferably greater than the average plasticizer content in the cellulose ester film having a multilayer structure.

更に表層には、前記紫外線吸収剤、染料、有機溶媒等の添加剤を含有させてもよい。   Further, the surface layer may contain additives such as the ultraviolet absorber, dye, and organic solvent.

〔多層構成のセルロースエステルフィルム〕
本発明に係る多層構成のセルロースエステルフィルムは、表層用ドープと基層用ドープの組成を異にして共流延法または逐次流延法によって形成して得られるものである。共流延法は品質的に均一性に優れ、また逐次流延は製膜速度が速く生産性に優れている。本発明では、干渉ムラに対して特に基材フィルムの平面性に精度が求められる為、共流延法で形成されることが好ましい。
[Multilayer cellulose ester film]
The cellulose ester film having a multilayer structure according to the present invention is obtained by forming the surface layer dope and the base layer dope with different compositions by a co-casting method or a sequential casting method. The co-casting method has excellent quality uniformity, and the sequential casting has a high film forming speed and excellent productivity. In the present invention, it is preferable that the substrate film is formed by a co-casting method because the flatness of the substrate film is particularly required for interference unevenness.

本発明において、セルロースエステルフィルムの全膜厚は特に限定されず10〜500μmのものが用いられるが、10〜80μmが好ましく、表層は基層より膜厚は薄く、通常表層の膜厚は前記した通り、0.1〜15μmであり、全体の膜厚、表層及び基層の膜厚はそれぞれ一定であることが望ましく、フィルムの幅手及び長手方向ともに平均膜厚に対して±10%以内、好ましくは±5%以内、更に好ましくは±1%以内の変動であることが望ましい。   In the present invention, the total film thickness of the cellulose ester film is not particularly limited and is 10 to 500 μm, preferably 10 to 80 μm, the surface layer is thinner than the base layer, and the surface layer thickness is usually as described above. 0.1 to 15 μm, and it is desirable that the entire film thickness, the surface layer and the base layer should be constant, within ± 10% of the average film thickness in both the width and the longitudinal direction of the film, preferably It is desirable that the variation be within ± 5%, more preferably within ± 1%.

本発明に係る多層構成のセルロースエステルフィルムは、光透過率(可視光の)90%以上であることが好ましく、より好ましくは92%以上、更に94%以上であることが好ましく、またヘイズは1%未満であることが好ましく、より好ましくは0.5%未満、更に0.1%未満であることが好ましい。特に0%であることが最も好ましい。   The cellulose ester film having a multilayer structure according to the present invention preferably has a light transmittance (of visible light) of 90% or more, more preferably 92% or more, and further preferably 94% or more. % Is preferable, more preferably less than 0.5%, still more preferably less than 0.1%. In particular, 0% is most preferable.

[多層構成のセルロースエステルフィルムの製造]
本発明のハードコートフィルムに有用な多層構成のセルロースエステルフィルムの層構成は、前述のように基層と少なくとも1層の表層を有する多層構成のフィルムであり、多層構成が3層以上とすることも出来るが、基層の両面に表層を1層ずつ有する3層構成がより好ましい。
[Manufacture of cellulose ester film of multilayer structure]
The layer structure of the cellulose ester film having a multilayer structure useful for the hard coat film of the present invention is a multilayer film having a base layer and at least one surface layer as described above, and the multilayer structure may be three or more layers. However, a three-layer structure having one surface layer on each side of the base layer is more preferable.

以下、多層構成のセルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the cellulose-ester film of a multilayer structure is demonstrated.

図1は3層構成のフィルムの断面を模式的に示したものであり、図中1と3は表層、また2は基層を示している。   FIG. 1 schematically shows a cross section of a film having a three-layer structure, in which 1 and 3 are surface layers, and 2 is a base layer.

〔共流延と逐次流延〕
本発明における多層構成のセルロースエステルフィルムは、溶液流延製膜過程において、共流延または逐次流延によりドープを多層に積層して得られるものである。
[Co-casting and sequential casting]
The cellulose ester film having a multilayer structure in the present invention is obtained by laminating a dope in multiple layers by co-casting or sequential casting in a solution casting film forming process.

図2は共流延ダイ及び流延して多層構成ウェブ(流延直後はウェブをドープ膜ともいうことがある)を形成したところを表した図である。共流延は図2に示しすように、共流延ダイ10の口金部分11に複数のスリット(図2では三つ、表層用スリット13と15、基層用スリット14)を有しており、金属支持体16の上に同時にそれぞれのスリットから表層用ドープ17、基層用ドープ18、及び表層用ドープ19を流延することにより、表層21/基層22/表層23の多層構成のウェブ20を形成する。   FIG. 2 is a diagram showing a co-casting die and cast to form a multi-layered web (the web may also be referred to as a dope film immediately after casting). As shown in FIG. 2, the co-casting has a plurality of slits (three in FIG. 2, surface slits 13 and 15, and base layer slit 14) in the die portion 11 of the co-casting die 10. A web 20 having a multilayer structure of surface layer 21 / base layer 22 / surface layer 23 is formed on the metal support 16 by casting the surface layer dope 17, the base layer dope 18, and the surface layer dope 19 simultaneously from the respective slits. To do.

図3は逐次流延ダイ及び流延された多層構成のウェブを表した図である。逐次流延は、図3に示すように、金属支持体16の上方に複数(図3では三つ)の表層用流延ダイ30、基層用ダイ31及び表層用流延ダイ32を異なった場所に順に設置し、最初に表層用ダイ30から片方の表層となる表層用ドープ33が流延されて表層ドープ膜36を金属支持体16上に形成し、次に基層用ドープ34が基層用ダイ31から表層ドープ膜36の上に基層ドープ膜37を形成し、更に次の表層用ダイ32から表層用ドープ35を流延して表層ドープ膜38を形成することにより、表層/基層/表層の多層構成ウェブ39を形成する。   FIG. 3 is a view showing a sequential casting die and a web having a multilayer structure. As shown in FIG. 3, the sequential casting is performed by placing a plurality of (three in FIG. 3) surface layer casting dies 30, base layer dies 31, and surface layer casting dies 32 above the metal support 16. First, a surface layer dope 33 which is one surface layer is cast from the surface layer die 30 to form a surface layer dope film 36 on the metal support 16, and then a base layer dope 34 is formed on the base layer die. A base layer dope film 37 is formed on the surface layer dope film 36 from the surface layer 31, and a surface layer dope 35 is cast from the next surface layer die 32 to form a surface layer dope film 38, whereby the surface layer / base layer / surface layer A multilayer construction web 39 is formed.

図4は別のタイプの共流延ダイの断面を示した図である。本体中で3層が合流する共流延ダイ50は、基層用のスリット52、表層用のスリット51と53中にそれぞれ、基層用ドープ56、表層用ドープ55と57が導入されており、それが合流スリット58で合流し、層流をなしてスリット54を通過し、金属支持体16の上に3層揃って流延する様式のものである。   FIG. 4 is a view showing a cross section of another type of co-casting die. In the co-casting die 50 in which three layers are joined in the main body, the base layer dope 56 and the surface layer dopes 55 and 57 are introduced into the base layer slit 52 and the surface layer slits 51 and 53, respectively. Are merged at the merging slit 58, pass through the slit 54 in a laminar flow, and are cast in three layers on the metal support 16.

図2、3及び4で示したような多層構成ウェブの表層が基層より幅広く、基層ウェブを表層ウェブが包み込むように流延するのが好ましい。   It is preferred to cast the multi-layer web as shown in FIGS. 2, 3 and 4 so that the surface layer is wider than the base layer and the base web is wrapped by the surface web.

〔溶液流延製膜法〕
本発明のセルロースエステルフィルムは、溶液流延製膜法により製膜される。ここで、本発明に係わる溶液流延製膜方法について図5を用いて説明する。
[Solution casting film forming method]
The cellulose ester film of the present invention is formed by a solution casting film forming method. Here, the solution casting film forming method according to the present invention will be described with reference to FIG.

図5は本発明に係わる溶液流延製膜装置のドープ調製工程を模式的に示した図である。   FIG. 5 is a view schematically showing a dope preparation process of the solution casting film forming apparatus according to the present invention.

図6は、本発明に係わる溶液流延製膜装置の流延工程から乾燥工程までを模式的に示した図である。   FIG. 6 is a diagram schematically showing from the casting process to the drying process of the solution casting film forming apparatus according to the present invention.

以下の工程は3層共流延を例として、代表的な工程を説明する。   The following processes will be described with reference to the three-layer co-casting as an example.

(1)セルロースエステル溶液調製工程:
図5の紙面上側のドープ調製工程は基層用のものであり、紙面下側のドープ調製工程は表層用のものである。
(1) Cellulose ester solution preparation process:
The dope preparation step on the upper side of the paper in FIG. 5 is for the base layer, and the dope preparation step on the lower side of the paper is for the surface layer.

前述のセルロースエステルに対する良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜101中でセルロースエステル、原料の一部として再利用するフィルムの破砕片や可塑剤等の添加剤を攪拌しながら溶解し、セルロースエステル溶液100を形成する工程である。溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う高温溶解方法、冷却して溶解する冷却溶解方法、かなりの高圧で行う高圧溶解方法等種々の溶解方法があるが、本発明においては、高温溶解方法が好ましく用いられる。溶解後セルロースエステル溶液100を送液ポンプ102で濾過器103(フィルタープレス型)で濾過し、ストックタンク104で静置して脱泡し、流延の為に送液ポンプ105(加圧型定量ギヤポンプ等が多く用いられる)で溶液を移送し、濾過器106を経て紫外線吸収剤を含有するインライン添加液110と合流する合流管120で混合する為に導管108で移送する。基層に使用するドープが、可塑剤及び紫外線吸収剤を含有しているセルロースエステル溶液100の場合には、濾過器106を経た後は流延ダイに直送してもよい。   Cellulose ester is dissolved in an organic solvent mainly composed of a good solvent for cellulose ester while stirring the cellulose ester and additives such as a crushed piece of a film to be reused as part of the raw material and a plasticizer in stirring vessel 101. In this step, the solution 100 is formed. For dissolution, a method performed at normal pressure, a method performed below the boiling point of the main solvent, a high-temperature dissolution method performed by pressurization above the boiling point of the main solvent, a cooling dissolution method performed by cooling and a high-pressure dissolution method performed at a considerably high pressure However, in the present invention, the high temperature dissolution method is preferably used. After dissolution, the cellulose ester solution 100 is filtered by a liquid feed pump 102 through a filter 103 (filter press type), left stationary in a stock tank 104 and defoamed, and a liquid feed pump 105 (pressure type metering gear pump) for casting. Etc. are often used), and are transferred by a conduit 108 for mixing in a confluence tube 120 that joins an in-line additive solution 110 containing an ultraviolet absorber via a filter 106. When the dope used for the base layer is a cellulose ester solution 100 containing a plasticizer and an ultraviolet absorber, the dope may be sent directly to the casting die after passing through the filter 106.

紫外線吸収剤等の添加剤(マット剤以外)を含有するインライン添加液110を、用いる場合には、111〜117で示されるラインで調製し送液する。溶解釜111で添加剤とセルロースエステルを有機溶媒に溶解したインライン添加液をポンプ112で送り、フィルター113で濾過し、必要に応じて切り替え弁119を通して溶解釜111に戻して循環させてもよいが、そのままストックタンク114に貯蔵してもよい。ポンプ115、濾過器116を経て導管117を通して送液する。   When using the in-line additive liquid 110 containing additives (other than a matting agent) such as an ultraviolet absorber, the liquid is prepared and fed through lines indicated by 111 to 117. The in-line additive solution obtained by dissolving the additive and cellulose ester in the organic solvent in the dissolution vessel 111 may be sent by the pump 112, filtered by the filter 113, and returned to the dissolution vessel 111 through the switching valve 119 and circulated as necessary. Alternatively, it may be stored in the stock tank 114 as it is. The liquid is fed through the conduit 117 via the pump 115 and the filter 116.

ここで、濾過について説明する。このセルロースエステル溶液をフィルタープレス用の濾紙などの適当な濾材を用いて濾過する。本発明における濾過材としては、不溶物などを除去する為に絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題点があり、絶対濾過精度8μm以下の濾材が好ましく、1〜8μmの範囲の濾材がより好ましく、3〜6μmの範囲の濾材が更に好ましい。濾紙としては、例えば市販品の安積濾紙(株)のNo.244や277などを挙げることが出来、好ましく用いられる。更に濾過の濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン(R)等のプラスチック製の濾材やステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過は通常の方法で行うことが出来るが、加圧下で、使用有機溶媒の常圧での沸点以上で、かつ有機溶媒が沸騰しない範囲の温度で加熱または保温しながら濾過する方法が、濾過材前後の差圧(以下、濾圧とすることがある)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度範囲は使用有機溶媒に依存するが、45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃の範囲であることが更に好ましい。濾圧は小さい方が好ましく、0.3〜1.6MPaであることが好ましく、0.3〜1.2MPaであることがより好ましく、0.3〜1.0MPaであることが更に好ましい。尚、予め溶解釜101内で紫外線吸収剤をセルロースエステル溶液に添加してもよい。   Here, filtration will be described. The cellulose ester solution is filtered using an appropriate filter medium such as filter paper for filter press. As the filtering material in the present invention, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters, etc., but if the absolute filtering accuracy is too small, there is a problem that the filtering material is likely to be clogged. Filter media with an accuracy of 8 μm or less are preferred, filter media in the range of 1-8 μm are more preferred, and filter media in the range of 3-6 μm are even more preferred. Examples of filter paper include No. of Azumi Filter Paper Co., Ltd., a commercially available product. 244 and 277 can be mentioned and are preferably used. Further, the material of the filter medium for filtration is not particularly limited, and a normal filter medium can be used. However, a plastic filter medium such as polypropylene or Teflon (R) or a metal filter medium such as stainless steel may cause the fibers to fall off. Less preferred. Filtration can be performed by a normal method, but the method of filtering while heating or keeping the temperature at a temperature in a range not lower than the boiling point of the organic solvent used under normal pressure and in a range where the organic solvent does not boil is a filter medium. The increase in differential pressure before and after (hereinafter sometimes referred to as filtration pressure) is small and preferable. The preferred temperature range depends on the organic solvent used, but is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and still more preferably 45 to 55 ° C. The filtration pressure is preferably as small as possible, preferably 0.3 to 1.6 MPa, more preferably 0.3 to 1.2 MPa, and still more preferably 0.3 to 1.0 MPa. In addition, you may add an ultraviolet absorber to a cellulose-ester solution in the dissolution pot 101 previously.

(2)微粒子を含有するインライン添加液の調製工程
ここでは、表層用のドープに使用する微粒子分散液を含有するインライン添加液について説明する。セルロースエステル溶液に使用する低級アルコール等の有機溶媒、後述の樹脂及び後述のマット剤微粒子を含有する微粒子分散液の調製方法は、十分に液中に均一に分散することが出来る方法であれば特に制限ないが、次の方法が好ましい。
(2) Preparation Step of Inline Additive Solution Containing Fine Particles Here, the inline additive solution containing the fine particle dispersion used for the surface layer dope will be described. The preparation method of the fine particle dispersion containing the organic solvent such as lower alcohol used for the cellulose ester solution, the resin described later and the matting agent fine particle described later is particularly suitable if it can be sufficiently uniformly dispersed in the liquid. Although there is no limitation, the following method is preferable.

図5(図5の紙面最も下側)において、微粒子を含有するインライン添加液110Aは、溶解・分散釜111A中で有機溶媒にセルロースエステルを攪拌溶解してセルロースエステル溶液とし、このセルロースエステル溶液に、別にマントンゴーリーン、サンドミル等の分散機(図示していない)で分散した微粒子分散液を加える。ここで、十分攪拌し分散を安定化させ微粒子を含有するインライン添加液110Aとする。このインライン添加液110Aを送液ポンプ112Aで濾過器113Aを通して、必要に応じて、切り替え弁119Aを経て、溶解・分散釜110Aに送って凝集物を除く為に何回か同様な操作を繰り返し循環させてもよい。その後、切り替え弁119Aを切り替え、インライン添加液110Aをストックタンク114Aに一時移送して静置脱泡後、送液ポンプ115A(例えば加圧型定量ギヤポンプ)で移送し、濾過器116Aで濾過して導管117Aを経て移送する。また、ストックタンク114Aで静置することなく、送液ポンプ115A、濾過器116A、導管117Aを経て送液してもよい。また、表層が表側と裏側で異なる組成とする場合は、150Aで示したものと同様の調液工程を別に設けることが出来る。   In FIG. 5 (bottom of the paper surface of FIG. 5), the in-line additive liquid 110A containing fine particles is a cellulose ester solution obtained by stirring and dissolving a cellulose ester in an organic solvent in a dissolution / dispersion vessel 111A. Separately, a fine particle dispersion dispersed with a disperser (not shown) such as Menton Goleen or Sand Mill is added. Here, the in-line additive solution 110A containing fine particles is obtained by sufficiently stirring and stabilizing the dispersion. This in-line additive solution 110A is passed through a filter 113A by a liquid feed pump 112A and, if necessary, through a switching valve 119A and sent to a dissolution / dispersion vessel 110A to repeatedly circulate the same operation several times to remove aggregates. You may let them. Thereafter, the switching valve 119A is switched, the in-line additive liquid 110A is temporarily transferred to the stock tank 114A, and after stationary deaeration, transferred by a liquid feed pump 115A (for example, a pressurized metering gear pump), filtered by a filter 116A, and a conduit. Transfer via 117A. Further, the liquid may be fed through the liquid feed pump 115A, the filter 116A, and the conduit 117A without being left in the stock tank 114A. When the surface layer has different compositions on the front side and the back side, a liquid preparation step similar to that shown for 150A can be provided separately.

尚、図5の表層用のセルロースエステル溶液100Aを調製する工程は、101A〜108Aのラインで、上述のセルロースエステル溶液100の101〜108ラインと同様である。101A〜108Aは101〜108に対応している。セルロースエステル溶液100Aと微粒子インライン添加液110Aを合流点120Aで合流させる。   In addition, the process of preparing the cellulose ester solution 100A for surface layer of FIG. 5 is the same as the 101-108 line of the above-mentioned cellulose ester solution 100 in the 101A-108A line. 101A to 108A correspond to 101 to 108. The cellulose ester solution 100A and the fine particle in-line additive solution 110A are merged at the merge point 120A.

尚、101〜108のラインと101A〜108Aのラインを共通として、セルロースエステル100を基層用と表層用にそれぞれ送液して使用することも出来る。   Note that the cellulose ester 100 can be used for the base layer and the surface layer by using the 101-108 line and the 101A-108A line in common.

本発明に係る微粒子の分散液を調製する方法としては、例えば以下に示すような3種類を挙げることが出来る。   Examples of the method for preparing the fine particle dispersion according to the present invention include the following three types.

(調製方法A)
有機溶媒と微粒子を攪拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子の分散液とする。
(Preparation method A)
After stirring and mixing the organic solvent and the fine particles, dispersion is performed with a disperser. This is a fine particle dispersion.

(調製方法B)
有機溶媒と微粒子を攪拌混合した後、分散機で分散を行い、微粒子の分散液とする。別に有機溶媒に少量の樹脂(微粒子に対して分散性がよく、液に適度に粘性を与えるもので、かつセルロースエステルと相溶性のある樹脂、またはセルロースエステル)を加え、攪拌溶解した樹脂溶液を用意する。これに前記微粒子分散液を加えて攪拌し、十分分散し、微粒子の分散液とする。
(Preparation method B)
After stirring and mixing the organic solvent and the fine particles, dispersion is performed with a disperser to obtain a fine particle dispersion. Separately, add a small amount of resin (resin with good dispersibility to fine particles and moderate viscosity to the liquid, and compatible with cellulose ester or cellulose ester) to an organic solvent, and stir and dissolve the resin solution. prepare. The fine particle dispersion is added to this, stirred and sufficiently dispersed to obtain a fine particle dispersion.

(調製方法C)
有機溶媒に少量の樹脂(微粒子に対して分散性がよく、かつセルロースエステルと相溶性のある樹脂、またはセルロースエステル)を加え、攪拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で十分に分散をし、微粒子の分散液とする。
(Preparation method C)
A small amount of resin (a resin having good dispersibility with respect to fine particles and compatible with cellulose ester or cellulose ester) is added to an organic solvent, and dissolved by stirring. Fine particles are added to this and sufficiently dispersed with a disperser to obtain a fine particle dispersion.

調製方法Aは二酸化珪素微粒子の分散性に優れ、調製方法Cは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい点に優れている。調製方法Bは二酸化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。   Preparation method A is excellent in dispersibility of silicon dioxide fine particles, and preparation method C is excellent in that the silicon dioxide fine particles are difficult to reaggregate. The preparation method B is a preferable preparation method that is excellent in both dispersibility of the silicon dioxide fine particles and difficulty in reaggregation of the silicon dioxide fine particles.

調製方法A〜Cで分散調製した微粒子の分散液を含有するインライン添加液をセルロースエステル溶液に加えて攪拌しドープとするが、インライン添加液110Aとセルロースエステル溶液100Aをインラインミキサー121Aで合流させて十分混合して微粒子を含有するドープとするのが好ましい。この微粒子を含有するドープに紫外線吸収剤を含有させてもよく、この場合セルロースエステル溶液に添加するのが好ましい。   The in-line additive solution containing the fine particle dispersion prepared by the preparation methods A to C is added to the cellulose ester solution and stirred to form a dope, but the in-line additive solution 110A and the cellulose ester solution 100A are joined by the in-line mixer 121A. It is preferable to mix well to obtain a dope containing fine particles. The dope containing the fine particles may contain an ultraviolet absorber, and in this case, it is preferably added to the cellulose ester solution.

上記調製方法において、二酸化珪素微粒子を有機溶媒と混合して分散する時の二酸化珪素の濃度は5〜30質量%が好ましく、10〜25質量%がより好ましく、15〜20質量%が更に好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、得られるフィルムのヘイズが低く、凝集物がなく好ましい。   In the above preparation method, the concentration of silicon dioxide when the silicon dioxide fine particles are mixed with an organic solvent and dispersed is preferably 5 to 30% by mass, more preferably 10 to 25% by mass, and still more preferably 15 to 20% by mass. The higher the dispersion concentration, the lower the liquid turbidity with respect to the amount added, and the lower the haze of the film obtained, and there is no aggregate, which is preferable.

使用する有機溶媒は、ドープに使用する有機溶媒を用いることが好ましいが、特に限定はない。ドープに使用する低級アルコール類としては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等を挙げることが出来るが、特にエタノールが好ましい。   The organic solvent used is preferably the organic solvent used for the dope, but is not particularly limited. Examples of lower alcohols used for the dope include methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol and the like, and ethanol is particularly preferable.

微粒子の分散性を助け、分散性を良好にし、かつセルロースエステルと相溶性の良い樹脂としては、ドープに使用するセルロースエステルでもよいが、特願2001−198450に記載の樹脂が、分散液濾過の際、目詰まりしにくいので好ましく用いることが出来る。例えば、綜研化学(株)で市販しているアクトフロー・シリーズの樹脂等を好ましく用いることが出来る。   As a resin that helps dispersibility of fine particles, improves dispersibility, and is compatible with cellulose ester, cellulose ester used for dope may be used. At this time, it can be preferably used because it is not easily clogged. For example, Actflow series resins commercially available from Soken Chemical Co., Ltd. can be preferably used.

(分散装置)
上記微粒子を分散する分散機は通常の分散機が使用出来る。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレス分散機がヘイズが低く好ましい。メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミルなどが挙げられる。メディアレス分散機としては超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、本発明においては高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作り出す装置である。
(Distributor)
As the disperser for dispersing the fine particles, a normal disperser can be used. Dispersers can be broadly divided into media dispersers and medialess dispersers. For dispersion of silicon dioxide fine particles, a medialess disperser is preferred because of low haze. Examples of the media disperser include a ball mill, a sand mill, and a dyno mill. Examples of the medialess disperser include an ultrasonic type, a centrifugal type, and a high pressure type. In the present invention, a high pressure disperser is preferable. A high-pressure dispersion device is a device that creates special conditions such as high shear and high pressure by passing a composition in which fine particles and a solvent are mixed at high speed through a narrow tube.

高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径1〜2000μmの細管中で装置内部の最大圧力条件が10MPa以上であることが好ましい。更に好ましくは20MPa以上である。またその際、最高到達速度が100m/秒以上に達するもの、伝熱速度が420kJ/時間以上に達するものが好ましい。上記のような高圧分散装置にはMicrofluidics Corporation社製超高圧ホモジナイザ(商品名マイクロフルイダイザ)或いはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械(株)社製UHN−01等を挙げることが出来る。   When processing with a high-pressure dispersion apparatus, for example, the maximum pressure condition inside the apparatus is preferably 10 MPa or more in a thin tube having a tube diameter of 1 to 2000 μm. More preferably, it is 20 MPa or more. Further, at that time, those having a maximum reaching speed of 100 m / second or more and those having a heat transfer speed of 420 kJ / hour or more are preferable. The high-pressure dispersing apparatus as described above includes an ultra-high pressure homogenizer (trade name: Microfluidizer) manufactured by Microfluidics Corporation or a nanomizer manufactured by Nanomizer, and other manton gorin type high-pressure dispersing apparatuses such as a homogenizer manufactured by Izumi Food Machinery Co., Ltd. Examples include UHN-01 manufactured by Wakki Co., Ltd.

インライン添加液110Aは、ストックタンク114Aでの停滞をなくし、出来たら送液ポンプ115Aも使用しないで、最終濾過器116Aで濾過後はすぐに導管117Aで移送するのが、停滞や送液ポンプによる新たな凝集物の発生を抑制することが出来るので望ましい。   The in-line additive liquid 110A eliminates the stagnation in the stock tank 114A, and if possible, does not use the liquid feed pump 115A, and is transferred by the pipe 117A immediately after filtration by the final filter 116A. This is desirable because generation of new aggregates can be suppressed.

微粒子を含有するインライン添加液の濾過器は、インラインミキサーの直前に配置するのが好ましく、例えば濾材交換等に伴い経路から発生する大きな凝集物を送液中の微粒子分散液から、一度の濾過で、比較的大きな異物を確実に除去する為の濾材で、前記の絶対濾過精度を有する長期に亘り使用が可能な耐有機溶媒性を有する金属製の濾過器が好ましい。濾材としては、耐久性の観点から金属、特にステンレス鋼が好ましい。目詰まりの観点から60〜80%の空孔率を有していることが好ましい。従って、最も好ましくは、絶対濾過精度30〜60μmであって、かつ空孔率60〜80%の金属製濾材で濾過することであり、これにより、長期に亘り、確実に粗大な異物を除くことが出来好ましい。絶対濾過精度30〜60μmでかつ空孔率60〜80%の金属製濾材としては、例えば、日本精線(株)製ファインポアNFシリーズのNF−10、同NF−12、同NF−13などを挙げることが出来、いずれも好ましく用いられる。   The filter for the in-line additive liquid containing fine particles is preferably placed immediately before the in-line mixer.For example, large aggregates generated from the path due to filter medium exchange or the like can be filtered once from the fine particle dispersion in the liquid feed. It is preferable to use a metal filter having an organic solvent resistance that can be used for a long period of time and has the absolute filtration accuracy as a filter medium for reliably removing relatively large foreign substances. The filter medium is preferably a metal, particularly stainless steel, from the viewpoint of durability. From the viewpoint of clogging, it is preferable to have a porosity of 60 to 80%. Therefore, it is most preferable to filter with a metal filter medium having an absolute filtration accuracy of 30 to 60 μm and a porosity of 60 to 80%, thereby reliably removing coarse foreign substances over a long period of time. Is preferable. Examples of metal filter media having an absolute filtration accuracy of 30 to 60 μm and a porosity of 60 to 80% include NF-10, NF-12, and NF-13 of Fine pore NF series manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. Any of these is preferably used.

(3)ドープ調製工程:
ここでいうドープ調製工程150及び150Aは、セルロースエステル溶液とインライン添加液をインラインミキサーのような混合機121及び121Aで十分混合しドープとする工程である。
(3) Dope preparation process:
The dope preparation steps 150 and 150A referred to here are steps in which the cellulose ester solution and the in-line additive solution are sufficiently mixed with mixers 121 and 121A such as an in-line mixer to form a dope.

150は基層用また150Aは微粒子を含有する表層用のドープの調製工程である。   150 is a step for preparing a base layer and 150A is a dope for a surface layer containing fine particles.

セルロースエステル溶液100または100A及びインライン添加液110または110Aを合流管120または120Aでそれぞれの両液を合流させ、インラインミキサーのような混合機121または121Aで十分に混合して基層用または表層用のドープとする。また。本発明で好ましく使用出来るインラインミキサーとしては、例えば、スタチックミキサーSWJ(東レ静止型管内混合器 Hi−Mixer、東レエンジニアリング製)を挙げることが出来、好ましく用いることが出来る。   The cellulose ester solution 100 or 100A and the in-line additive solution 110 or 110A are combined with each other by a merging tube 120 or 120A, and sufficiently mixed by a mixer 121 or 121A such as an in-line mixer to be used for a base layer or a surface layer. Dope. Also. As an in-line mixer that can be preferably used in the present invention, for example, a static mixer SWJ (Toray static type in-pipe mixer Hi-Mixer, manufactured by Toray Engineering) can be exemplified and preferably used.

後述の共流延ダイには、それぞれの目的に応じて成分を変更し調製したドープを各スリットに供給することになる。基層に用いられるドープの粘度は50〜10,000Pa・s(35℃にて)であることが好ましく、特に50〜1,000Pa・sであることが好ましい。表層に用いられるドープの粘度は0.1〜5,000Pa・sであることが好ましく、5〜1,000Pa・sであることがより好ましく、更に好ましくは10〜500Pa・s、特に好ましくは10〜50Pa・sである。本発明において、表層用ドープの粘度は基層用のそれより低いことが好ましい。   In the later-described co-casting die, the dope prepared by changing the components according to the respective purposes is supplied to each slit. The viscosity of the dope used for the base layer is preferably 50 to 10,000 Pa · s (at 35 ° C.), particularly preferably 50 to 1,000 Pa · s. The viscosity of the dope used for the surface layer is preferably 0.1 to 5,000 Pa · s, more preferably 5 to 1,000 Pa · s, still more preferably 10 to 500 Pa · s, and particularly preferably 10 ~ 50 Pa · s. In the present invention, the viscosity of the surface layer dope is preferably lower than that of the base layer.

以下、本発明に係わるセルロースエステルフィルムの作製の一例を図6を用いて説明する。   Hereinafter, an example of production of the cellulose ester film according to the present invention will be described with reference to FIG.

(4)共流延工程:
基層用のドープは共流延ダイ200の202のドープ供給口に導入し、微粒子を含有する表層用ドープは201及び/または203の表層用供給口に導入して共流延するものである。
(4) Co-casting process:
The base layer dope is introduced into the dope supply port 202 of the co-casting die 200, and the surface layer dope containing fine particles is introduced into the surface layer supply port 201 and / or 203 and co-cast.

図6は、無限に移送する無端の金属支持体204、例えばステンレススティールベルト、或いは回転する金属ドラム等の金属支持体204上の流延位置に、共流延ダイ200から例えば3層のドープを共流延する工程である。金属支持体204の表面は鏡面となっていることが望ましい。共流延ダイ200(例えば加圧型共流延ダイ)は口金部分の三つのスリット形状を調製出来、膜厚を均一にし易い為好ましい。共流延ダイとしては前述の図2または図4に示したようなものが好ましく使用されるが、これらに限定されない。共流延ダイ200には、コートハンガーダイやTダイ等があるが、いずれも好ましく用いられる。   FIG. 6 shows, for example, three layers of dope from a co-casting die 200 at a casting position on an endless metal support 204 that moves indefinitely, such as a stainless steel belt or a rotating metal drum 204. It is a process of co-casting. The surface of the metal support 204 is preferably a mirror surface. A co-casting die 200 (for example, a pressure-type co-casting die) is preferable because it can prepare three slit shapes in the die portion and easily make the film thickness uniform. As the co-casting die, those shown in FIG. 2 or FIG. 4 are preferably used, but are not limited thereto. The co-casting die 200 includes a coat hanger die and a T die, and any of them is preferably used.

逐次流延の場合には、金属支持体204上に単層用のダイを2基以上ずらせて設け、2種類以上のドープ量を供給して多層ドープ膜を形成する。   In the case of sequential casting, two or more single-layer dies are shifted on the metal support 204 and two or more types of dope amounts are supplied to form a multilayer doped film.

(5)溶媒蒸発工程:
例えば3層構成のウェブ(金属支持体上にドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする)206を金属支持体204上で加熱或いは冷却して金属支持体204からウェブ206が剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる工程である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ206に風を当てる方法及び/または金属支持体204の裏面から液体または気体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好ましい。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。裏面液体伝熱の場合は、金属支持体上のウェブ温度がドープで使用されている有機溶媒の主溶媒または最も低い沸点を有する有機溶媒の沸点以下で加熱するのが好ましい。流延用の金属支持体の表面温度は10〜55℃、溶液の温度は25〜60℃、更に溶液の温度を支持体の温度と同じまたはそれ以上の温度にすることが好ましく、5℃以上の温度に設定することが更に好ましい。溶液温度、支持体温度は、高いほど溶媒の乾燥速度が速く出来るので好ましいが、余り高過ぎると発泡したり、平面性が劣化する場合がある。支持体の温度の更に好ましい範囲は、使用する有機溶媒に依存するが、20〜55℃、溶液温度の更に好ましい範囲は、35〜45℃である。
(5) Solvent evaporation step:
For example, a web 206 having a three-layer structure (referred to as a dope film after casting a dope on a metal support) is heated or cooled on the metal support 204 so that the web 206 is transferred from the metal support 204 to the web 206. This is a step of evaporating the solvent until it can be peeled off. In order to evaporate the solvent, there are a method of applying air to the web 206 and / or a method of transferring heat from the back surface of the metal support 204 by liquid or gas, a method of transferring heat from the front and back by radiant heat, and the like. This method is preferable because of good drying efficiency. A method of combining them is also preferable. In the case of backside liquid heat transfer, it is preferable to heat the web temperature on the metal support below the boiling point of the main solvent of the organic solvent used in the dope or the organic solvent having the lowest boiling point. The surface temperature of the metal support for casting is 10 to 55 ° C., the temperature of the solution is 25 to 60 ° C., and the temperature of the solution is preferably equal to or higher than the temperature of the support. More preferably, the temperature is set to a temperature of The higher the solution temperature and the support temperature, the faster the solvent can be dried. However, if the temperature is too high, foaming or flatness may be deteriorated. Although the more preferable range of the temperature of a support body is dependent on the organic solvent to be used, it is 20-55 degreeC, and the more preferable range of solution temperature is 35-45 degreeC.

(7)剥離工程:
金属支持体204上で溶媒が蒸発したウェブ206を、剥離位置205で剥離する工程である。剥離されたウェブ206は次の(7)の乾燥工程(後述)に送られる。剥離する時点でのウェブ206の残留溶媒量(後述の式)が余り大き過ぎると剥離し難かったり、逆に金属支持体204上で乾燥させ過ぎて剥離すると、剥離しにくくなったり、途中でウェブ206の一部が剥がれたりする。本発明において、薄手のウェブを金属支持体から剥離する際、剥離張力として剥離出来る最低張力から300N/m以内の力で剥離することが好ましく、特に200N/m以内の力がより好ましい。
(7) Peeling process:
In this step, the web 206 having the solvent evaporated on the metal support 204 is peeled off at the peeling position 205. The peeled web 206 is sent to the next (7) drying step (described later). If the amount of residual solvent (explained later) of the web 206 at the time of peeling is too large, it will be difficult to peel off, or conversely if it is dried too much on the metal support 204, it will be difficult to peel off, Part of 206 is peeled off. In the present invention, when the thin web is peeled from the metal support, it is preferably peeled with a force within 300 N / m from the lowest tension that can be peeled off, and more preferably within 200 N / m.

製膜速度を上げる方法(残留溶媒量が出来るだけ多いうちに剥離する為製膜速度を上げることが出来る)としてゲル流延法(ゲルキャスティング)がある。それは、ドープ中にセルロースエステルに対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、金属支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。金属支持体204上でゲル化させ剥離時の膜の強度を上げておくことによって、剥離を早め製膜速度を上げることが出来るのである。金属支持体204上でのウェブ206の乾燥条件の設定、金属支持体204の長さ等により5〜150質量%の範囲で剥離することが好ましく、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブ206が柔らか過ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、経済速度と品質との兼ね合いで剥離残留溶媒量を決められる。従って、本発明においては、該金属支持体204上の剥離位置における温度を好ましくは0〜40℃、更に好ましくは10〜30℃である。   There is a gel casting method (gel casting) as a method for increasing the film-forming speed (the film-forming speed can be increased because peeling occurs while the amount of residual solvent is as large as possible). For example, a poor solvent for the cellulose ester is added to the dope, and the dope is cast and then gelled, and the temperature of the metal support is lowered to gel. By gelling on the metal support 204 and increasing the strength of the film at the time of peeling, peeling can be accelerated and the film forming speed can be increased. It is preferable to peel in the range of 5 to 150% by mass depending on the setting of the drying conditions of the web 206 on the metal support 204, the length of the metal support 204, etc. If the web 206 is too soft, the flatness at the time of peeling is impaired, or slippage or vertical streaks due to peeling tension are likely to occur, and the amount of residual solvent to be peeled can be determined based on the balance between economic speed and quality. Accordingly, in the present invention, the temperature at the peeling position on the metal support 204 is preferably 0 to 40 ° C, more preferably 10 to 30 ° C.

製造時のセルロースエステルフィルムが良好な平面性を維持する為に、金属支持体から剥離する際の残留溶媒量を10〜150質量%とすることが好ましく、より好ましくは80〜150質量%であり、更に好ましくは100〜130質量%である。剥離時のウェブの残留有機溶媒中に含まれる良溶媒の比率は30〜90%が好ましく、更に好ましくは、50〜85%であり、特に好ましくは、60〜80%である。   In order to maintain good flatness of the cellulose ester film during production, the amount of residual solvent when peeling from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 80 to 150% by mass. More preferably, it is 100-130 mass%. The ratio of the good solvent contained in the residual organic solvent of the web at the time of peeling is preferably 30 to 90%, more preferably 50 to 85%, and particularly preferably 60 to 80%.

本発明においては、残留溶媒量は下記の式で表すことが出来る。   In the present invention, the residual solvent amount can be expressed by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
ここで、Mはウェブの任意時点での質量で、この乾燥によって揮発した成分の比率についてはガスクロマトグラフィーによって求めることが出来る。Nは該Mを110℃で3時間乾燥させた時の質量である。測定はヘッドスペースサンプラーを接続したガスクロマトグラフィーで測定する。本発明では、ヒューレット・パッカード社製ガスクロマトグラフィー5890型SERISIIとヘッドスペースサンプラーHP7694型を使用し、以下の測定条件で行った。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
Here, M is the mass of the web at any point in time, and the ratio of the components volatilized by this drying can be determined by gas chromatography. N is the mass when the M is dried at 110 ° C. for 3 hours. The measurement is performed by gas chromatography connected to a headspace sampler. In the present invention, gas chromatography 5890 type SERISII manufactured by Hewlett-Packard Company and headspace sampler HP7694 type were used, and the measurement was performed under the following measurement conditions.

ヘッドスペースサンプラー加熱条件:120℃、20分
GC導入温度:150℃
昇温:40℃、5分保持→100℃(8℃/分)
カラム:J&W社製DB−WAX(内径0.32mm、長さ30m)。
Headspace sampler heating conditions: 120 ° C, 20 minutes GC introduction temperature: 150 ° C
Temperature rise: 40 ° C, hold for 5 minutes → 100 ° C (8 ° C / min)
Column: J-W DB-WAX (inner diameter 0.32 mm, length 30 m).

本発明において、ドープの流延から剥離までのウェブの金属支持体上での乾燥時間は、剥離可能な時間で、かつ120秒以内であることが好ましく、更に30〜120秒が好ましく、更に30〜90秒であることが好ましい。この範囲で剥離したウェブの表面性は良好で、乾燥後のセルロースエステルフィルムに後述の金属化合物薄膜を施した際、平面性に優れ、かつ高温高湿条件下に繰り返し曝した際のクラックもなく優れた光学フィルムを得ることが出来る。   In the present invention, the drying time on the metal support of the web from dope casting to peeling is preferably a peelable time and within 120 seconds, more preferably 30 to 120 seconds, and further 30 -90 seconds are preferred. The surface property of the web peeled in this range is good. When the metal compound thin film described below is applied to the cellulose ester film after drying, it has excellent flatness and no cracks when repeatedly exposed to high temperature and high humidity conditions. An excellent optical film can be obtained.

(7)乾燥工程:
剥離後、一般には、ウェブ206を上下に配置したロール209に交互に通して搬送するロール乾燥装置208及び/またはクリップ等でウェブ206の両端を把持して搬送するテンター装置207を用いてウェブ206を乾燥する。図6では、テンター装置207の後にロール乾燥装置208が配置されている。乾燥の手段はウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウエーブを当てて加熱する手段もある。余り急激な乾燥は出来上がりのフィルムの平面性を損ね易い。全体を通して、通常乾燥温度は40〜250℃の範囲で行われ、好ましくは110〜160℃で乾燥させることである。使用する溶媒によって、乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なり、使用溶媒の種類、組み合わせに応じて乾燥条件を適宜選べばよい。210は出来上がったセルロースエステルフィルムの巻き取りである。セルロースエステルフィルムの乾燥工程において、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、0.1質量%以下にして巻き取ることがより好ましい。
(7) Drying process:
After peeling, generally, the web 206 is used by using a roll drying device 208 that alternately conveys the web 206 through vertically arranged rolls 209 and / or a tenter device 207 that grips and conveys both ends of the web 206 with a clip or the like. To dry. In FIG. 6, a roll drying device 208 is disposed after the tenter device 207. As a drying means, hot air is generally blown on both sides of the web, but there is also a means for heating by applying a microwave instead of the wind. Too rapid drying tends to impair the flatness of the finished film. Throughout, the drying temperature is usually in the range of 40 to 250 ° C., preferably 110 to 160 ° C. The drying temperature, the amount of drying air, and the drying time differ depending on the solvent used, and the drying conditions may be appropriately selected according to the type and combination of the solvents used. 210 is winding of the completed cellulose ester film. In the step of drying the cellulose ester film, the amount of residual solvent is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.1% by mass or less.

本発明のハードコートフィルム用のセルロースエステルフィルムを作製する為には、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し、更にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが特に好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は1.05〜1.3倍であり、1.05〜1.15倍が更に好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が1.12倍〜1.44倍となっていることが好ましく、1.15倍〜1.32倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることが出来る。縦方向と横方向の延伸倍率のいずれかが1.05倍未満ではハードコート層を形成する際の紫外線照射による平面性の劣化が大きく好ましくない。また、延伸倍率が1.3倍を超えると、ヘイズが増加する傾向がある。   In order to produce the cellulose ester film for a hard coat film of the present invention, the web is stretched in the conveying direction where the residual solvent amount of the web immediately after peeling from the metal support is large, and both ends of the web are gripped with clips or the like. It is particularly preferable to perform stretching in the width direction by a tenter method. The preferred draw ratio in both the machine direction and the transverse direction is 1.05 to 1.3 times, and more preferably 1.05 to 1.15 times. It is preferable that the area is 1.12 times to 1.44 times, and preferably 1.15 times to 1.32 times due to longitudinal and lateral stretching. This can be determined by the draw ratio in the longitudinal direction × the draw ratio in the transverse direction. If one of the stretching ratios in the machine direction and the transverse direction is less than 1.05, the flatness deterioration due to ultraviolet irradiation when forming the hard coat layer is not preferable. Moreover, when the draw ratio exceeds 1.3 times, the haze tends to increase.

〔活性線硬化樹脂層〕
本発明は、前記セルロースエステルフィルム上にハードコート層が塗設される。ハードコート層として用いられる活性線硬化樹脂層の製造方法について述べる。
[Actinic radiation curable resin layer]
In the present invention, a hard coat layer is coated on the cellulose ester film. A method for producing an actinic radiation curable resin layer used as a hard coat layer will be described.

本発明のハードコートフィルムにおいては、ハードコート層として活性線硬化樹脂層が好ましく用いられる。   In the hard coat film of the present invention, an actinic radiation curable resin layer is preferably used as the hard coat layer.

活性線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させてハードコート層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。   The actinic radiation curable resin layer refers to a layer mainly composed of a resin that cures through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams. As the actinic radiation curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and a hard coat layer is formed by curing by irradiation with actinic radiation such as ultraviolet rays or electron beams. Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and a resin curable by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭59−151110号に記載のものを用いることが出来る。   UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, those described in JP-A-59-151110 can be used.

例えば、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) is preferably used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭59−151112号に記載のものを用いることが出来る。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those that are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyols. JP-A-59-151112 Can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることが出来、特開平1−105738号に記載のものを用いることが出来る。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photoreaction initiator added thereto, and reacted to form an oligomer. The thing as described in 105738 can be used.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. I can list them.

これら紫外線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜15質量部であり、好ましくは1〜10質量部である。   Specific examples of the photoreaction initiator of these ultraviolet curable resins include benzoin and its derivatives, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. You may use with a photosensitizer. The photoinitiator can also be used as a photosensitizer. In addition, when using an epoxy acrylate photoinitiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photoreaction initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 15 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることが出来る。   Examples of the resin monomer include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. In addition, monomers having two or more unsaturated double bonds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, and the above trimethylolpropane. Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.

本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成(株)製)等を適宜選択して利用出来る。   Examples of commercially available ultraviolet curable resins that can be used in the present invention include ADEKA OPTMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (Asahi Denka ( Co., Ltd.); Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS -101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHC X-9 (K-3), PHC2213, DP -10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (manufactured by Daicel UCB Corporation); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120 RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (manufactured by Sanyo Chemical Industries); SP -1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), etc. Can be selected as appropriate.

また、具体的化合物例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of compounds include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and the like. .

これらの活性線硬化樹脂層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することが出来る。   These actinic ray curable resin layers can be coated by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an ink jet method.

紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成する為の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は好ましくは、5〜150mJ/cm2であり、特に好ましくは20〜100mJ/cm2である。 As a light source for curing an ultraviolet curable resin by a photocuring reaction to form a cured film layer, any light source that generates ultraviolet rays can be used without any limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is preferably 5 to 150 mJ / cm 2 , particularly preferably 20 to 100 mJ / cm 2 .

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜300N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、若しくは2軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性が優れたフィルムを得ることが出来る。   Moreover, when irradiating actinic radiation, it is preferable to carry out while applying tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performing applying tension | tensile_strength also in the width direction. The tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m. The method for applying the tension is not particularly limited, and the tension may be applied in the conveying direction on the back roll, or the tension may be applied in the width direction or the biaxial direction by a tenter. This makes it possible to obtain a film having further excellent flatness.

紫外線硬化樹脂層組成物塗布液の有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、或いはこれらを混合し利用出来る。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   Examples of the organic solvent for the UV curable resin layer composition coating solution include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl). Ketone), esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, other organic solvents, or a mixture thereof. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

また、紫外線硬化樹脂層組成物塗布液には、特にシリコン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1,000〜100,000、好ましくは、2,000〜50,000が適当であり、数平均分子量が1,000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100,000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。   In addition, it is particularly preferable to add a silicon compound to the ultraviolet curable resin layer composition coating solution. For example, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2,000 to 50,000. When the number average molecular weight is less than 1,000, the coating film is dried. On the contrary, when the number average molecular weight exceeds 100,000, it tends to be difficult to bleed out on the surface of the coating film.

シリコン化合物の市販品としては、DKQ8−779(ダウコーニング社製商品名)、SF3771、SF8410、SF8411、SF8419、SF8421、SF8428、SH200、SH510、SH1107、SH3749、SH3771、BX16−034、SH3746、SH3749、SH8400、SH3771M、SH3772M、SH3773M、SH3775M、BY−16−837、BY−16−839、BY−16−869、BY−16−870、BY−16−004、BY−16−891、BY−16−872、BY−16−874、BY22−008M、BY22−012M、FS−1265(以上、東レ・ダウコーニングシリコーン社製商品名)、KF−101、KF−100T、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、シリコーンX−22−945、X22−160AS(以上、信越化学工業社製商品名)、XF3940、XF3949(以上、東芝シリコーン社製商品名)、ディスパロンLS−009(楠本化成社製)、グラノール410(共栄社油脂化学工業(株)製)、TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコーン製)、BYK−306、BYK−330、BYK−307、BYK−341、BYK−344、BYK−361(ビックケミ−ジャパン社製)日本ユニカー(株)製のLシリーズ(例えばL7001、L−7006、L−7604、L−9000)、Yシリーズ、FZシリーズ(FZ−2203、FZ−2206、FZ−2207)等が挙げられ、好ましく用いられる。   Commercially available silicon compounds include DKQ8-779 (trade name, manufactured by Dow Corning), SF3771, SF8410, SF8411, SF8419, SF8421, SF8428, SH200, SH510, SH1107, SH3749, SH3771, BX16-034, SH3746, SH3749, SH8400, SH3771M, SH3772M, SH3773M, SH3775M, BY-16-837, BY-16-839, BY-16-869, BY-16-870, BY-16-004, BY-16-891, BY-16 872, BY-16-874, BY22-008M, BY22-012M, FS-1265 (above, product names manufactured by Toray Dow Corning Silicone), KF-101, KF-100T, KF351, KF3 2, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, Silicone X-22-945, X22-160AS (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), XF3940, XF3949 (trade name, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) ), Disparon LS-009 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), Granol 410 (manufactured by Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd.), TSF4440, TSF4441, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicone), BYK-306, BYK- 330, BYK-307, BYK-341, BYK-344, BYK-361 (manufactured by BYK-Japan) L series (for example, L7001, L-7006, L-7604, L-9000) manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. Y Over's, FZ series (FZ-2203, FZ-2206, FZ-2207) and the like, are preferably used.

これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   These components enhance the applicability to the substrate and the lower layer. When added to the outermost surface layer of the laminate, it not only improves the water repellency, oil repellency and antifouling properties of the coating film, but also exhibits an effect on the scratch resistance of the surface. These components are preferably added in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.

紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法としては、前述のものを用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚として0.1〜30μmが適当で、好ましくは、0.5〜15μmである。また、ドライ膜厚としては0.1〜20μm、好ましくは1〜10μmである。   As a coating method of the ultraviolet curable resin composition coating solution, the above-described methods can be used. The coating amount is suitably 0.1 to 30 μm, preferably 0.5 to 15 μm, as the wet film thickness. The dry film thickness is 0.1 to 20 μm, preferably 1 to 10 μm.

より好ましくは、セルロースエステルフィルムの膜厚が10〜80μmであり、層の膜厚(H)とセルロースエステルフィルムの膜厚(d)の比率(d/H)が4〜10である時、平面性と同時に硬度、耐傷性にも優れる。これはセルロースエステルの膜厚に比べハードコート層が薄い場合、硬度、耐傷性に劣り、セルロースエステルの膜厚に比べ、ハードコート層が厚い場合、平面性が劣化することによる。   More preferably, when the film thickness of the cellulose ester film is 10 to 80 μm and the ratio (d / H) of the film thickness (H) of the layer to the film thickness (d) of the cellulose ester film is 4 to 10, It has excellent hardness and scratch resistance. This is because the hardness and scratch resistance are inferior when the hard coat layer is thinner than the film thickness of the cellulose ester, and the flatness is deteriorated when the hard coat layer is thicker than the film thickness of the cellulose ester.

紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥中または後に、紫外線を照射するのがよく、前記の5〜150mJ/cm2という活性線の照射量を得る為の照射時間としては、0.1秒〜5分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から0.1〜10秒がより好ましい。 The ultraviolet curable resin composition is preferably irradiated with ultraviolet rays during or after coating and drying, and the irradiation time for obtaining the active ray irradiation amount of 5 to 150 mJ / cm 2 is from 0.1 second to 5 seconds. Minutes are good, and 0.1 to 10 seconds is more preferable from the viewpoint of curing efficiency or work efficiency of the ultraviolet curable resin.

また、これら活性線照射部の照度は50〜150mW/m2であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the illuminance of these active ray irradiation parts is 50-150 mW / m < 2 >.

こうして得た硬化樹脂層に、ブロッキングを防止する為、また対擦り傷性等を高める為、或いは防眩性や光拡散性を持たせる為また屈折率を調整する為に無機化合物或いは有機化合物の微粒子を加えることも出来る。   In order to prevent blocking, to improve scratch resistance, to give antiglare property or light diffusibility, and to adjust the refractive index in the cured resin layer thus obtained, fine particles of an inorganic compound or an organic compound Can also be added.

ハードコート層に使用される無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムなどが好ましく用いられる。   Inorganic fine particles used in the hard coat layer include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, silicic acid Mention may be made of aluminum, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.

また有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、或いはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物に加えることが出来る。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子(例えば、綜研化学製SX−130H、SX−200H、SX−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(例えば、綜研化学製MX150、MX300)が挙げられる。   The organic fine particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, and melamine resin powder. Polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluoroethylene resin powder can be added to the ultraviolet curable resin composition. Particularly preferred are cross-linked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H, manufactured by Soken Chemical) and polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150, MX300, manufactured by Soken Chemical).

これらの微粒子粉末の平均粒径としては、0.005〜5μmが好ましく0.01〜1μmであることが特に好ましい。紫外線硬化樹脂組成物と微粒子粉末との割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜30質量部となるように配合することが望ましい。   The average particle diameter of these fine particle powders is preferably 0.005 to 5 μm, and particularly preferably 0.01 to 1 μm. As for the ratio of a ultraviolet curable resin composition and fine particle powder, it is desirable to mix | blend so that it may be 0.1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of resin compositions.

紫外線硬化樹脂層は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が1〜50nmのクリアハードコート層であるか、若しくはRaが0.1〜1μm程度の防眩層であることが好ましい。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製RST/PLUSを用いて測定することが出来る。   The ultraviolet curable resin layer is a clear hard coat layer having a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 1 to 50 nm or an antiglare layer having an Ra of about 0.1 to 1 μm. Is preferred. The center line average roughness (Ra) is preferably measured with an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured using, for example, RST / PLUS manufactured by WYKO.

〈バックコート層〉
本発明のハードコートフィルムのハードコート層を設けた側と反対側の面にはバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、塗布やCVDなどによって、ハードコート層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正する為に設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることが出来る。尚、バックコート層は好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設され、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせる為に微粒子が添加されることが好ましい。
<Back coat layer>
It is preferable to provide a backcoat layer on the surface of the hardcoat film of the present invention opposite to the side on which the hardcoat layer is provided. The back coat layer is provided to correct curling caused by providing a hard coat layer or other layers by coating or CVD. That is, the degree of curling can be balanced by imparting the property of being rounded with the surface on which the backcoat layer is provided facing inward. The back coat layer is preferably applied also as an anti-blocking layer. In this case, it is preferable that fine particles are added to the back coat layer coating composition in order to provide an anti-blocking function.

バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものがヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。   As fine particles added to the back coat layer, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, and indium oxide. Zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low haze, and silicon dioxide is particularly preferable.

これらの微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。ポリマー微粒子の例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   These fine particles are commercially available under the trade names of, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, and TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). . Zirconium oxide fine particles are commercially available under the trade names of Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used. Examples of the polymer fine particles include silicone resin, fluorine resin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きい為特に好ましく用いられる。本発明で用いられるハードコートフィルムは、ハードコート層の裏面側の動摩擦係数が0.9以下、特に0.1〜0.9であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large anti-blocking effect while keeping haze low. The hard coat film used in the present invention preferably has a coefficient of dynamic friction on the back side of the hard coat layer of 0.9 or less, particularly 0.1 to 0.9.

バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して0.1〜50質量%好ましくは0.1〜10質量%であることが好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は1%以下であることが好ましく0.5%以下であることが好ましく、特に0.0〜0.1%であることが好ましい。   The fine particles contained in the backcoat layer are 0.1 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the binder. When the back coat layer is provided, the increase in haze is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.0 to 0.1%.

バックコート層は、具体的にはセルロースエステルフィルムを溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。用いる溶媒としては、溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒の混合物の他更に溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。   Specifically, the back coat layer is formed by applying a composition containing a solvent for dissolving or swelling a cellulose ester film. The solvent to be used may include a solvent to be dissolved and / or a solvent to be swollen in addition to a solvent to be swelled, a composition in which these are mixed at an appropriate ratio depending on the degree of curl of the transparent resin film and the type of resin, This is done using the coating amount.

カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この混合比率は好ましくは(溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒):(溶解させない溶媒)=10:0〜1:9で用いられる。このような混合組成物に含まれる、透明樹脂フィルムを溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどがある。溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノール或いは炭化水素類(トルエン、キシレン、シクロヘキサノール)などがある。   In order to enhance the curl prevention function, it is effective to increase the mixing ratio of the solvent for dissolving the solvent composition to be used and / or the solvent for swelling, and to decrease the ratio of the solvent not to be dissolved. This mixing ratio is preferably (solvent to be dissolved and / or solvent to be swollen) :( solvent to be dissolved) = 10: 0 to 1: 9. Examples of the solvent for dissolving or swelling the transparent resin film contained in such a mixed composition include dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, N, N-dimethylformamide, methyl acetate, ethyl acetate, trichloroethylene, methylene chloride, and ethylene chloride. , Tetrachloroethane, trichloroethane, chloroform and the like. Examples of the solvent that does not dissolve include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butanol, and hydrocarbons (toluene, xylene, cyclohexanol).

これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚1〜100μmで塗布するのが好ましいが、特に5〜30μmであることが好ましい。バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体或いは共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート(好ましくはアセチル基置換度1.8〜2.3、プロピオニル基置換度0.1〜1.0)、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び/またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることが出来るが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レーヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することも出来る。   These coating compositions are preferably applied to the surface of the transparent resin film with a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die coater, etc., with a wet film thickness of 1 to 100 μm, particularly 5 to 30 μm. Preferably there is. Examples of the resin used as the binder of the backcoat layer include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, partially hydrolyzed vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. Polymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc. Vinyl polymer or copolymer, nitrocellulose, cellulose acetate propionate (preferably acetyl group substitution degree 1.8-2.3, propionyl group substitution degree 0.1-1.0), diacetyl cellulose, cellulose Cellulose derivatives such as acetate butyrate resin, maleic acid and / or Or acrylic acid copolymer, acrylic ester copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, chlorinated polyethylene, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene copolymer, methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin Rubber resins such as polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin, amino resin, styrene-butadiene resin, butadiene-acrylonitrile resin, Examples thereof include, but are not limited to, silicone resins and fluorine resins. For example, as an acrylic resin, Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M-4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001, M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR -80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105 BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) acrylic and The methacrylic monomers such as various homopolymers and copolymers were prepared as raw materials are commercially available, can also be selected preferred mono from this appropriate.

特に好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂層である。   Particularly preferred are cellulose resin layers such as diacetylcellulose and cellulose acetate propionate.

バックコート層を塗設する順番はセルロースエステルフィルムの、バックコート層とは反対側の層(クリアハードコート層或いはその他の例えば帯電防止層等の層)を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。或いはハードコート層の塗設の前後に2回以上に分けてバックコート層を塗布することも出来る。   The order of coating the backcoat layer may be before or after coating the cellulose ester film on the opposite side of the backcoat layer (clear hard coat layer or other layer such as an antistatic layer). When the back coat layer also serves as an anti-blocking layer, it is desirable to coat it first. Alternatively, the back coat layer can be applied twice or more before and after the hard coat layer is applied.

〔反射防止層〕
本発明のハードコートフィルムは、塗布或いは、プラズマCVD法、特に大気圧プラズマ処理法によって金属化合物層の薄膜を均一に形成することが好ましく、これらは反射防止層として有用である。
(Antireflection layer)
In the hard coat film of the present invention, it is preferable to form a thin metal compound layer uniformly by coating or plasma CVD, particularly atmospheric pressure plasma treatment, and these are useful as an antireflection layer.

大気圧プラズマ処理法としては、例えば特開平11−181573号、特開2000−26632、同2002−110397等に記載の高周波パルス電圧を印加する大気圧プラズマ放電処理方法を用いることが出来る。或いは特開2001−337201記載の大気圧プラズマ放電処理方法により導電層を設けることが出来る。或いは特開2002−228803、特願2002−369679、特願2002−317883、特願2003−50823記載の方法で反射防止層を設けることが出来る。或いは特願2003−50823記載の方法で防汚層を設けることが出来る。或いは特開2003−93963、特願2002−49724記載の方法で反射防止層を塗設することが出来る。   As an atmospheric pressure plasma treatment method, for example, an atmospheric pressure plasma discharge treatment method for applying a high-frequency pulse voltage described in JP-A-11-181573, JP-A-2000-26632, JP-A-2002-110397, or the like can be used. Alternatively, the conductive layer can be provided by an atmospheric pressure plasma discharge processing method described in JP-A-2001-337201. Alternatively, the antireflection layer can be provided by the methods described in JP-A No. 2002-228803, Japanese Patent Application No. 2002-369679, Japanese Patent Application No. 2002-317883, and Japanese Patent Application No. 2003-50823. Alternatively, the antifouling layer can be provided by the method described in Japanese Patent Application No. 2003-50823. Alternatively, the antireflection layer can be applied by the method described in JP-A-2003-93963 and Japanese Patent Application No. 2002-49724.

本発明のハードコートフィルム上には、特に大部分が窒素ガスの雰囲気下で金属化合物(例えばSiOx、SiOxy、TiOxy、SiOxz(x=1〜2、y=0.1〜1、z=0.1〜2)等の金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物)中でも金属酸化物等の薄膜を形成することが好ましい。ガス中に含まれる窒素ガスは60〜99.9体積%であり、好ましくは75〜99.9体積%であり、更に好ましくは90〜99.9体積%である。窒素ガス以外には、アルゴンやヘリウム等の希ガスを含有させてもよく、薄膜を形成する為の金属化合物のガスが含有され、更に酸素、水素等の反応を促進させる為のガス(添加ガスまたは補助ガスともいう)等が含有される。これらによって金属化合物を含有する低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層、透明導電層、帯電防止層、防汚層などを形成することが出来る。 On the hard coat film of the present invention, metal compounds (for example, SiO x , SiO x N y , TiO x N y , SiO x C z (x = 1 to 2, y = It is preferable to form a thin film such as a metal oxide among metal oxides such as 0.1-1 and z = 0.1-2), metal nitrides, metal oxynitrides, metal carbides). The nitrogen gas contained in the gas is 60 to 99.9% by volume, preferably 75 to 99.9% by volume, and more preferably 90 to 99.9% by volume. In addition to nitrogen gas, a rare gas such as argon or helium may be contained, a gas of a metal compound for forming a thin film is contained, and further a gas (addition gas) for promoting a reaction such as oxygen and hydrogen. Or an auxiliary gas). By these, a low refractive index layer, a high refractive index layer, a medium refractive index layer, a transparent conductive layer, an antistatic layer, an antifouling layer and the like containing a metal compound can be formed.

次いで、これらハードコート層上に形成する反射防止層について説明する。   Next, the antireflection layer formed on these hard coat layers will be described.

(反射防止層)
本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されず、塗布、スパッタ、蒸着、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、またはこれらを組み合わせて形成することが出来る。
(Antireflection layer)
In the present invention, the method for providing the antireflection layer is not particularly limited, and the antireflection layer can be formed by coating, sputtering, vapor deposition, CVD (Chemical Vapor Deposition), or a combination thereof.

反射防止層を塗布により形成する方法としては、溶剤に溶解したバインダ樹脂中に金属酸化物の粉末を分散し、塗布乾燥する方法、架橋構造を有するポリマーをバインダー樹脂として用いる方法、エチレン性不飽和モノマーと光重合開始剤を含有させ、活性光線を照射することにより層を形成する方法等の方法を挙げることが出来る。   As a method of forming the antireflection layer by coating, a method of dispersing a metal oxide powder in a binder resin dissolved in a solvent, coating and drying, a method of using a polymer having a crosslinked structure as a binder resin, ethylenic unsaturated Examples of the method include a method of forming a layer by containing a monomer and a photopolymerization initiator and irradiating actinic rays.

本発明においては、ハードコート層を付与したハードコートフィルムの上に反射防止層を設けることが出来る。ハードコートフィルムの最上層に低屈折率の金属酸化物層を形成し、その間に高屈折率層の金属酸化物層を形成したり、更にハードコートフィルムと高屈折率層との間に更に中屈折率層(金属酸化物の含有量或いは樹脂バインダーとの比率、金属の種類を変更して屈折率を調整した金属酸化物層)を設けることは、反射率の低減の為に、好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、基材であるセルロースエステルフィルムの屈折率(約1.5)と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。各層の厚さは、5nm〜0.5μmであることが好ましく、10nm〜0.3μmであることが更に好ましく、30nm〜0.2μmであることが最も好ましい。金属酸化物層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。金属酸化物層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で3H以上であることが好ましく、4H以上であることが最も好ましい。金属酸化物層を塗布により形成する場合は、無機微粒子とバインダーポリマーとを含むことが好ましい。   In the present invention, an antireflection layer can be provided on the hard coat film provided with the hard coat layer. A metal oxide layer with a low refractive index is formed on the uppermost layer of the hard coat film, and a metal oxide layer with a high refractive index layer is formed between them, and further between the hard coat film and the high refractive index layer. It is preferable to provide a refractive index layer (a metal oxide layer in which the refractive index is adjusted by changing the metal oxide content or the ratio to the resin binder and the type of metal) in order to reduce the reflectance. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.30, and more preferably 1.57 to 2.20. The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted so as to be an intermediate value between the refractive index (about 1.5) of the cellulose ester film as the substrate and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55-1.80. The thickness of each layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably 30 nm to 0.2 μm. The haze of the metal oxide layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the metal oxide layer is preferably 3H or more, and most preferably 4H or more, with a pencil hardness of 1 kg. When the metal oxide layer is formed by coating, it is preferable to include inorganic fine particles and a binder polymer.

中屈折率層或いは高屈折率層などの金属酸化物層に用いる無機微粒子は、屈折率が1.80〜2.80であることが好ましく、1.90〜2.80であることが更に好ましい。無機微粒子の一次粒子の質量平均径は、1〜150nmであることが好ましく、1〜100nmであることが更に好ましく、1〜80nmであることが最も好ましい。層中での無機微粒子の質量平均径は、1〜200nmであることが好ましく、5〜150nmであることがより好ましく、10〜100nmであることが更に好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。無機微粒子の平均粒径は、20〜30nm以上であれば光散乱法により、20〜30nm以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。無機微粒子の比表面積は、BET法で測定された値として、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることが更に好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The inorganic fine particles used for the metal oxide layer such as the middle refractive index layer or the high refractive index layer preferably have a refractive index of 1.80 to 2.80, more preferably 1.90 to 2.80. . The mass average diameter of the primary particles of the inorganic fine particles is preferably 1 to 150 nm, more preferably 1 to 100 nm, and most preferably 1 to 80 nm. The mass average diameter of the inorganic fine particles in the layer is preferably 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, still more preferably 10 to 100 nm, and most preferably 10 to 80 nm. . The average particle diameter of the inorganic fine particles is measured by a light scattering method if it is 20-30 nm or more and by an electron micrograph if it is 20-30 nm or less. The specific surface area of the inorganic fine particles, a measured value by the BET method, is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, a 30 to 150 m 2 / g Is most preferred.

無機微粒子は、金属の酸化物から形成された粒子である。金属の酸化物または硫化物の例として、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等が挙げられる。中でも、二酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことが出来る。主成分とは、粒子を構成する成分の中でも最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSが挙げられる。   The inorganic fine particles are particles formed from a metal oxide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, and the like. Of these, titanium dioxide, tin oxide, and indium oxide are particularly preferable. The inorganic fine particles are mainly composed of oxides of these metals and can further contain other elements. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S.

無機微粒子は表面処理されていてもよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することが出来る。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。   The inorganic fine particles may be surface-treated. The surface treatment can be performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include alumina, silica, zirconium oxide and iron oxide. Of these, alumina and silica are preferable. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, a silane coupling agent is most preferable. It may be processed by combining two or more types of surface treatments.

無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、層状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。二種類以上の無機微粒子を金属酸化物層に併用してもよい。   The shape of the inorganic fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a layer shape, a spindle shape, or an indefinite shape. Two or more kinds of inorganic fine particles may be used in combination in the metal oxide layer.

金属酸化物層中の無機微粒子の割合は、5〜90体積%であることが好ましく、より好ましくは10〜65体積%であり、更に好ましくは20〜55体積%である。   The proportion of the inorganic fine particles in the metal oxide layer is preferably 5 to 90% by volume, more preferably 10 to 65% by volume, and still more preferably 20 to 55% by volume.

無機微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、金属酸化物層を形成する為の塗布液に供される。無機微粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The inorganic fine particles are supplied to a coating liquid for forming a metal oxide layer in a dispersion state dispersed in a medium. As the dispersion medium for the inorganic fine particles, a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. is preferably used. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ester (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, Examples include dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), and ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

無機微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。   The inorganic fine particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

金属酸化物層は、架橋構造を有するポリマー(以下、「架橋ポリマー」ともいう)をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー(以下「ポリオレフィン」と総称する)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。また、架橋ポリマーが、アニオン性基を有することは、更に好ましい。アニオン性基は、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋構造は、ポリマーに皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ましい。   The metal oxide layer preferably uses a polymer having a crosslinked structure (hereinafter also referred to as “crosslinked polymer”) as a binder polymer. Examples of the crosslinked polymer include polymers having a saturated hydrocarbon chain such as polyolefin (hereinafter collectively referred to as “polyolefin”), crosslinked products such as polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide and melamine resin. Among them, a crosslinked product of polyolefin, polyether and polyurethane is preferred, a crosslinked product of polyolefin and polyether is more preferred, and a crosslinked product of polyolefin is most preferred. Moreover, it is more preferable that the crosslinked polymer has an anionic group. The anionic group has a function of maintaining the dispersion state of the inorganic fine particles, and the crosslinked structure has a function of imparting a film forming ability to the polymer and strengthening the film. The anionic group may be directly bonded to the polymer chain or may be bonded to the polymer chain via a linking group, but is bonded to the main chain as a side chain via the linking group. Is preferred.

本発明の反射防止層に用いられる低屈折率層の屈折率は1.46以下が好ましく、特に1.3〜1.45であることが望ましい、塗布組成物として珪素アルコキシドを用いてゾルゲル法によって低屈折率層を形成することが出来る。或いは、フッ素樹脂を用いて低屈折率層とすることが出来る。特に、熱硬化性または電離放射線硬化型の含フッ素樹脂の硬化物から該硬化物と珪素の酸化物超微粒子から構成されることが好ましい。   The refractive index of the low refractive index layer used in the antireflective layer of the present invention is preferably 1.46 or less, and particularly preferably 1.3 to 1.45, by silicon alkoxide as a coating composition by a sol-gel method. A low refractive index layer can be formed. Alternatively, a low refractive index layer can be formed using a fluororesin. In particular, it is preferably composed of a cured product of thermosetting or ionizing radiation curable fluorine-containing resin and the cured product and ultrafine particles of silicon oxide.

該硬化物の動摩擦係数は、0.02〜0.2であることが好ましく、純水接触角は90〜130°であることが好ましい。該硬化性の含フッ素樹脂としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン)や、含フッ素共重合体(架橋性基を有するモノマーと含フッ素モノマーを構成単位とする)が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、フルオロオレフィン類(例えばビニリデンフルオライドパーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール、フルオロエチレン等)、(メタ)アクリル酸のフッ素化アルキルエステル誘導体(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基を有するモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内に予め架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やアミノ基、ヒドロキシル基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。これらは共重合の後から、架橋構造を導入出来ることが特開平10−25388号公報及び特開平10−147739号公報に記載されている。   The dynamic friction coefficient of the cured product is preferably 0.02 to 0.2, and the pure water contact angle is preferably 90 to 130 °. Examples of the curable fluorine-containing resin include perfluoroalkyl group-containing silane compounds (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane) and fluorine-containing copolymers (crosslinkable groups). Monomer and fluorine-containing monomer as structural units). Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, tetrafluoroethylene, and fluoroolefins (for example, vinylidene fluoride perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, fluoroethylene, etc.) , Fluorinated alkyl ester derivatives of (meth) acrylic acid (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fluorinated vinyl ethers, and the like. As a monomer having a crosslinkable group, a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule in advance such as glycidyl methacrylate, and a (meth) acrylate having a carboxyl group, an amino group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, etc. And monomers (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.). It is described in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739 that a crosslinked structure can be introduced after copolymerization.

また、上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いることが出来る。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばアクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等、オレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)を挙げることが出来る。   Moreover, not only the polymer which uses the said fluorine-containing monomer as a structural unit but the copolymer with the monomer which does not contain a fluorine atom can be used. There are no particular limitations on the monomer units that can be used in combination, for example, acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate), methacrylate esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, Butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, α-methylstyrene, vinyltoluene, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, acrylonitrile Derivatives, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinylidene chloride, vinyl chloride, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, propionic acid) Alkenyl, vinyl cinnamate) may be mentioned.

低屈折率層の形成に用いる含フッ素樹脂には、耐傷性を改善する為に酸化珪素微粒子を添加して用いるのが好ましい。添加量は、屈折率と耐傷性との兼ね合いで調整される。酸化珪素微粒子は、市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布組成物に添加することが出来、或いは市販の各種シリカ紛体を有機溶剤に分散して使用することも出来る。   In order to improve the scratch resistance, it is preferable to add silicon oxide fine particles to the fluorine-containing resin used for forming the low refractive index layer. The addition amount is adjusted in consideration of the refractive index and scratch resistance. As the silicon oxide fine particles, silica sol dispersed in a commercially available organic solvent can be added to the coating composition as it is, or various commercially available silica powders can be dispersed in an organic solvent and used.

本発明の反射防止フィルムの低屈折率層形成用の塗布組成物は、主に低沸点の溶媒を含むことが好ましい。具体的には、沸点が100℃以下の溶媒が全溶媒の50質量%以上であることが好ましい。これによって、防眩層のように凹凸を有する基材表面に塗布した場合でも、速やかに乾燥させることが出来、塗布液の流動による微細な膜厚ムラが低減され、反射率の増加が抑制される。また、沸点が100℃以上の溶媒が含まれていると乾燥ムラや白濁ムラが抑制される為好ましく、沸点が100℃以上の溶媒が0.1〜50質量%含有していることが好ましい。   The coating composition for forming a low refractive index layer of the antireflection film of the present invention preferably contains a solvent having a low boiling point mainly. Specifically, the solvent having a boiling point of 100 ° C. or less is preferably 50% by mass or more of the total solvent. As a result, even when coated on the surface of a substrate having irregularities such as an antiglare layer, it can be dried quickly, fine film thickness unevenness due to the flow of the coating liquid is reduced, and an increase in reflectance is suppressed. The In addition, it is preferable that a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher is included because drying unevenness and white turbidity unevenness are suppressed.

低屈折率層用の塗布組成物に用いられる低沸点の溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、メチルセロソルブ等のエーテルアルコール類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等の中でも、塗布組成物中に含まれる固形分の溶解性の高いものが好ましく用いられる。沸点が100℃を越える塗布溶媒としては、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチル−イソブチルケトン等のケトン類、ジアセトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類、1−ブタノール、2−ブタノール等のアルコール類等が用いられる。   Low boiling point solvents used in coating compositions for the low refractive index layer include ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, ether alcohols such as methyl cellosolve, methanol, ethanol, and isopropanol. Among such alcohols, those having a high solubility of the solid content contained in the coating composition are preferably used. Coating solvents having a boiling point exceeding 100 ° C. include ketones such as cyclohexanone, cyclopentanone and methyl-isobutyl ketone, ether alcohols such as diacetone alcohol and propylene glycol monomethyl ether, and alcohols such as 1-butanol and 2-butanol. Etc. are used.

反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法により、塗布により形成することが出来る。   Each layer of the antireflection film can be formed by coating by a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a micro gravure coating method or an extrusion coating method. I can do it.

本発明においては、プラズマ放電処理によって金属酸化物層を形成する方法を用いることが出来る。   In the present invention, a method of forming a metal oxide layer by plasma discharge treatment can be used.

以下に、プラズマ放電処理により金属酸化物層を形成する方法を図7、8を用いて説明する。   A method for forming a metal oxide layer by plasma discharge treatment will be described below with reference to FIGS.

本発明のハードコートフィルム上に金属酸化物層を形成する方法としての大気圧若しくはその近傍の圧力下のプラズマ放電処理は、下記のごときプラズマ放電処理装置を用いることによって行われる。   Plasma discharge treatment under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof as a method for forming a metal oxide layer on the hard coat film of the present invention is performed by using a plasma discharge treatment apparatus as described below.

図7は、本発明のハードコートフィルム上に金属酸化物層を形成するのに用いられるプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。   FIG. 7 is a view showing an example of a plasma discharge treatment apparatus used for forming a metal oxide layer on the hard coat film of the present invention.

図7においては、この装置は一対の回転電極10Aと10Bを有し、回転電極10Aと10Bには、プラズマ放電を発生させる為の電圧を印加できる電源80が電圧供給手段81に接続され一方はアースに接続されており、82がアースに接続されている。   In FIG. 7, this apparatus has a pair of rotating electrodes 10A and 10B. A power supply 80 to which a voltage for generating plasma discharge can be applied is connected to the rotating electrodes 10A and 10B. Connected to ground, 82 is connected to ground.

回転電極10Aと10Bはハードコートフィルムを巻き回しながら搬送するもので、ロール電極若しくはベルト状の電極であることが好ましく、図7ではロール電極を示している。   Rotating electrodes 10A and 10B are conveyed while winding a hard coat film, and are preferably roll electrodes or belt-like electrodes, and FIG. 7 shows roll electrodes.

これらの回転電極間の間隙(電極間隙)は放電が行われる場所であり、ハードコートフィルムFが搬送出来る間隔に設定されている。この電極間の間隙が放電部50となる。   A gap (electrode gap) between these rotating electrodes is a place where electric discharge is performed, and is set to an interval at which the hard coat film F can be conveyed. The gap between the electrodes becomes the discharge part 50.

この電極間隙は大気圧若しくは大気圧近傍の圧力下に維持されており、ここに反応ガス供給部30より反応ガスGが供給され、ハードコートフィルムF表面がプラズマ放電処理される。   The gap between the electrodes is maintained at atmospheric pressure or a pressure close to atmospheric pressure. The reaction gas G is supplied from the reaction gas supply unit 30 and the surface of the hard coat film F is subjected to plasma discharge treatment.

ここで、元巻きロールから巻き出されたハードコートフィルムFまたは前工程から搬送されてくるハードコートフィルムFがガイドロール20を経て、まず、移送方向に回転する回転電極10Aに接しながら移送され、放電部50を通過して、ハードコートフィルムFの表面に薄膜が形成される。   Here, the hard coat film F unwound from the original winding roll or the hard coat film F conveyed from the previous process is first transferred through the guide roll 20 while being in contact with the rotating electrode 10A rotating in the transfer direction, A thin film is formed on the surface of the hard coat film F through the discharge part 50.

一旦放電部50から出たハードコートフィルムFは、Uターンロール11A〜11DでUターンされて、今度は、ハードコートフィルムムFは回転電極10Aと反対方向に回転している回転電極10Bに接しながら移送され、再び前記放電部50を通過して、先ほど薄膜が形成されたハードコートフィルムFの表面に更にプラズマ放電処理され薄膜が形成される。Uターンは通常0.1秒〜1分程度で行われる。   The hard coat film F that has once exited from the discharge section 50 is U-turned by the U-turn rolls 11A to 11D, and this time, the hard coat film F contacts the rotating electrode 10B rotating in the opposite direction to the rotating electrode 10A. The thin film is further formed by plasma discharge treatment on the surface of the hard coat film F on which the thin film has been formed. The U-turn is usually performed in about 0.1 seconds to 1 minute.

処理に使用された反応ガスGはガス排出口40より反応後の排ガスG′として排出される。反応ガスGは室温〜250℃、好ましくは50〜150℃、更に好ましくは80〜120℃に過熱して放電部50に送り込まれることが好ましい。   The reaction gas G used for the treatment is discharged from the gas discharge port 40 as exhaust gas G ′ after the reaction. It is preferable that the reaction gas G is heated to room temperature to 250 ° C., preferably 50 to 150 ° C., more preferably 80 to 120 ° C., and then fed into the discharge part 50.

尚、放電部50には整流板51が設けられていることが好ましく、反応ガスGや排ガスG′の流れをスムーズにすると共に、放電部50が広がって電極10Aと10Bの間で不要な放電を起こさないように制御することが好ましく、整流板51は絶縁性部材で出来ていることが好ましい。   In addition, it is preferable that the discharge part 50 is provided with the rectification | straightening board 51, and while making the flow of the reaction gas G and waste gas G 'smooth, the discharge part 50 spreads and unnecessary discharge is made between electrodes 10A and 10B. The rectifying plate 51 is preferably made of an insulating member.

図ではハードコートフィルムF上に形成された薄膜は省略してある。表面に薄膜が形成されたハードコートフィルムFは、ガイドローラ21を介して次工程または巻き取りロール(図示してない)方向に搬送される。   In the figure, the thin film formed on the hard coat film F is omitted. The hard coat film F having a thin film formed on the surface is conveyed in the direction of the next process or a take-up roll (not shown) via the guide roller 21.

従って、ハードコートフィルムFは回転電極10A、10Bに密着した状態で放電部50を往復してプラズマ放電処理されることとなる。   Therefore, the hard coat film F is subjected to plasma discharge treatment by reciprocating the discharge portion 50 in a state of being in close contact with the rotary electrodes 10A and 10B.

尚、図示してないが、回転電極10Aと10B、ガイドロール20、21、Uターンロール11A〜11D、反応ガス供給部30、ガス排出口40等の装置は外界と遮断するプラズマ放電処理容器内に囲まれて納められていることが好ましい。   Although not shown in the drawing, the devices such as the rotating electrodes 10A and 10B, the guide rolls 20 and 21, the U-turn rolls 11A to 11D, the reactive gas supply unit 30, and the gas discharge port 40 are in a plasma discharge processing vessel that is shielded from the outside. It is preferable that it is enclosed and enclosed.

また、図示してないが、必要に応じて、回転電極10Aと10Bの温度制御をする為の温度制御用媒体が循環され、各々の電極表面温度を所定の値に制御するようになっている。また、回転電極10Aと10Bの直径は10〜1000mm、好ましくは50〜500mmであり、直径の異なるものを組み合わせて用いてもよい。   Although not shown, a temperature control medium for controlling the temperature of the rotating electrodes 10A and 10B is circulated as necessary to control the surface temperature of each electrode to a predetermined value. . The diameters of the rotating electrodes 10A and 10B are 10 to 1000 mm, preferably 50 to 500 mm, and those having different diameters may be used in combination.

図8は本発明のハードコートフィルム上に金属酸化物薄膜層を形成するのに有用な回転電極と固定電極を有するプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。   FIG. 8 is a view showing an example of a plasma discharge treatment apparatus having a rotating electrode and a fixed electrode useful for forming a metal oxide thin film layer on the hard coat film of the present invention.

回転電極110とそれに対向して配置された複数の固定電極111を有し、図示されていない元巻きロールまたは前工程から搬送されて来るハードコートフィルムFがガイドロール120、ニップロール122を経て回転電極110に導かれ、ハードコートフィルムFは回転電極110に接した状態で回転電極110の回転と同期しながら移送され、大気圧若しくはその近傍の圧力下にある放電部150に反応ガス発生装置131で調製された反応ガスGが給気管130から供給され、固定電極111に対向しているハードコートフィルム面に薄膜が形成される。   A rotating electrode 110 and a plurality of fixed electrodes 111 arranged opposite to the rotating electrode 110 and a hard coat film F conveyed from a not-shown original winding roll or a previous process pass through a guide roll 120 and a nip roll 122 to rotate the rotating electrode 110, the hard coat film F is transferred in synchronization with the rotation of the rotating electrode 110 while being in contact with the rotating electrode 110, and is supplied to the discharge unit 150 under the atmospheric pressure or in the vicinity thereof by the reaction gas generator 131. The prepared reaction gas G is supplied from the supply pipe 130, and a thin film is formed on the hard coat film surface facing the fixed electrode 111.

回転電極110と固定電極には、プラズマ放電を発生させる為の電圧を印加できる電源180が電圧供給手段181に接続され一方はアースに接続されており、182がアースに接続されている。   A power supply 180 capable of applying a voltage for generating plasma discharge is connected to the voltage supply means 181 between the rotating electrode 110 and the fixed electrode, one of which is connected to the ground, and 182 is connected to the ground.

また、回転電極110、固定電極111、放電部150はプラズマ放電処理容器190で覆われ、外界と遮断されている。処理された排ガスG′は処理室の下部にあるガス排気口140から排出される。   Further, the rotating electrode 110, the fixed electrode 111, and the discharge unit 150 are covered with a plasma discharge processing vessel 190 and are shielded from the outside. The treated exhaust gas G ′ is discharged from a gas exhaust port 140 at the lower part of the processing chamber.

プラズマ放電処理されたハードコートフィルムFはニップロール123及びガイドロール121を経て次工程または図示してない巻き取りロールへ搬送される。   The hard coat film F subjected to the plasma discharge treatment is conveyed to the next process or a winding roll (not shown) through the nip roll 123 and the guide roll 121.

ハードコートフィルムFがプラズマ放電処理容器の出入り部分のニップロール122及び123のところに外界との仕切板124及び125が設けられており、外界からニップロール122と共にハードコートフィルムFに同伴して来る空気を遮断し、また出口においては、反応ガスGまたは排ガスG′が外界に漏れないようになっている、尚、図示してないが、必要に応じて、回転電極110及び固定電極111は温度調節の為の温度制御された媒体が内部を循環するようになっている。   Partition plates 124 and 125 with the outside world are provided at the nip rolls 122 and 123 at the entrance and exit of the plasma discharge processing container, and air accompanying the hard coat film F from the outside world together with the nip rolls 122 is provided. At the outlet, the reaction gas G or the exhaust gas G ′ is prevented from leaking to the outside. Although not shown, the rotating electrode 110 and the fixed electrode 111 may be temperature controlled as required. A temperature-controlled medium is circulated in the interior.

このように、本発明において、薄膜が形成されるハードコートフィルムは回転電極上で移送しながらプラズマ放電処理されるのが好ましい。   Thus, in the present invention, the hard coat film on which the thin film is formed is preferably subjected to plasma discharge treatment while being transferred on the rotating electrode.

回転電極がハードコートフィルムと接する表面は高い平滑性が求められ、回転電極の表面の表面粗さがJIS−B−0601で規定される表面粗さの最大高さ(Rmax)が10μm以下であることが好ましく、より好ましくは8μm以下であり、特に好ましくは、7μm以下である。また、均一な製膜の為電極にゴミや異物が付着しないようにすることが必要である。   The surface where the rotating electrode is in contact with the hard coat film is required to have high smoothness, and the surface roughness of the surface of the rotating electrode is the maximum surface roughness (Rmax) defined by JIS-B-0601 of 10 μm or less. More preferably, it is 8 micrometers or less, Most preferably, it is 7 micrometers or less. Moreover, it is necessary to prevent dust and foreign matter from adhering to the electrode for uniform film formation.

プラズマ放電処理に用いられる電極の表面は固体誘電体で被覆されていることが望ましく、特に金属等の導電性母材に対し固体誘電体で被覆されていることが望ましい。固体誘電体としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスティック、ガラス、二酸化珪素、酸化アルミニウム(Al23)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化チタン(TiO2)等の金属酸化物、チタン酸バリウム等の複酸化物等を挙げることが出来る。 The surface of the electrode used for the plasma discharge treatment is preferably coated with a solid dielectric, and in particular, a conductive base material such as a metal is preferably coated with the solid dielectric. Examples of the solid dielectric include plastics such as polytetrafluoroethylene and polyethylene terephthalate, metal oxides such as glass, silicon dioxide, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), and titanium oxide (TiO 2 ). Examples thereof include double oxides such as barium titanate.

特に好ましくは、セラミックスを溶射後、無機材料を用いて封孔処理したセラミック被覆処理誘電体であることが望ましい。ここで、金属等の導電性母材としては、銀、白金、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属等を挙げることが出来るが、加工の観点からステンレスが好ましい。   It is particularly preferable that the dielectric material is a ceramic-coated dielectric that has been thermally sprayed with ceramics and then sealed with an inorganic material. Here, examples of the conductive base material such as metal include metals such as silver, platinum, stainless steel, aluminum, and iron. Stainless steel is preferable from the viewpoint of processing.

また、ライニング材としては、珪酸塩系ガラス、ホウ酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマン酸塩系ガラス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩ガラス、バナジン酸塩ガラス等が好ましく用いられるが、この中でもホウ酸塩系ガラスが加工し易いので、更に好ましく用いられる。   As the lining material, silicate glass, borate glass, phosphate glass, germanate glass, tellurite glass, aluminate glass, vanadate glass and the like are preferably used. However, among these, borate glass is more preferably used because it is easy to process.

プラズマ放電処理に用いられる電極は、その裏面側(内側)から、必要に応じて、加熱或いは冷却することが出来るようになっている。電極がベルトの場合には、その裏面より気体で冷却することも出来るが、ロールを用いた回転電極では内部に媒体を供給して電極表面の温度及びハードコートフィルムの温度を制御することが好ましい。   The electrode used for the plasma discharge treatment can be heated or cooled as necessary from the back side (inside). When the electrode is a belt, it can be cooled with gas from the back side, but it is preferable to control the temperature of the electrode surface and the temperature of the hard coat film by supplying a medium inside the rotating electrode using a roll. .

媒体としては、蒸留水、油特にシリコンオイル等の絶縁性材料が好ましく用いられる。   As the medium, an insulating material such as distilled water, oil, particularly silicon oil is preferably used.

放電処理の際のハードコートフィルムの温度は処理条件によって異なるが、室温〜200℃以下が好ましく、より好ましくは室温〜120℃以下であり、更に好ましくは50〜110℃である。   The temperature of the hard coat film during the discharge treatment varies depending on the treatment conditions, but is preferably room temperature to 200 ° C. or less, more preferably room temperature to 120 ° C. or less, and further preferably 50 to 110 ° C.

また、放電によってもフィルム表面温度が上昇する等により著しいカールが発生することがあったが、本発明によれば、カールの発生を著しくすることが出来たのである。   In addition, the curling may be caused by the discharge due to the rise of the film surface temperature or the like, but according to the present invention, the curling can be remarkably generated.

放電処理の際にハードコートフィルム面の特に幅手方向で温度ムラが生じないようにすることが望ましく、±5℃以内とすることが好ましく、より好ましくは±1℃以内であり、特に好ましくは±0.1℃以内である。   It is desirable to prevent temperature unevenness particularly in the width direction of the hard coat film surface during the discharge treatment, preferably within ± 5 ° C, more preferably within ± 1 ° C, and particularly preferably. Within ± 0.1 ° C.

本発明において、電極間隙は、固体誘電体の厚さ、印加電圧や周波数、プラズマを利用する目的等を考慮して決定される。上記電極の一方に固体誘電体を設置した場合の固体誘電体と電極の最短距離、上記電極の双方に固体誘電体を設置した場合の固体誘電体同士の距離としては、いずれの場合も均一な放電プラズマを発生させるという観点から0.5mm〜20mmが好ましく、特に好ましくは1mm±0.5mmである。   In the present invention, the electrode gap is determined in consideration of the thickness of the solid dielectric, the applied voltage and frequency, the purpose of using plasma, and the like. The shortest distance between the solid dielectric and the electrode when a solid dielectric is placed on one of the electrodes, and the distance between the solid dielectrics when a solid dielectric is placed on both of the electrodes is uniform in any case From the viewpoint of generating discharge plasma, 0.5 mm to 20 mm is preferable, and 1 mm ± 0.5 mm is particularly preferable.

本発明において、電極間隙の放電部には、ガス発生装置で発生させた混合ガスを流量制御して、反応ガス供給口よりプラズマ放電部に導入される。反応ガスの濃度や流量は適宜調整されるが、ハードコートフィルムの搬送速度に対して十分な速度で処理用ガスを電極間隙に供給することが好ましい。放電部では供給した反応ガスの大部分が反応して薄膜形成に使われるように流量や放電条件が設定するのが望ましい。   In the present invention, the flow rate of the mixed gas generated by the gas generator is controlled in the discharge portion of the electrode gap and introduced into the plasma discharge portion from the reaction gas supply port. The concentration and flow rate of the reaction gas are appropriately adjusted, but it is preferable to supply the processing gas to the electrode gap at a speed sufficient for the transport speed of the hard coat film. In the discharge section, it is desirable to set the flow rate and discharge conditions so that most of the supplied reaction gas reacts and is used for thin film formation.

放電部に大気が混入したり、反応ガスが装置外に漏れ出ることを防止する為に、電極及び移送中のハードコートフィルムは全体を囲んで外界から遮蔽することが好ましい。本発明において、放電部の気圧は大気圧若しくはその近傍の圧力に維持される。また、反応ガスが気相中で分解されて金属酸化物の微粉を発生することがあるが、その発生が少なくなるように流量や放電条件を設定することが望ましい。   In order to prevent the atmosphere from being mixed into the discharge part and the reaction gas from leaking out of the apparatus, it is preferable that the electrode and the hard coat film being transferred are surrounded and shielded from the outside. In the present invention, the atmospheric pressure of the discharge part is maintained at atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof. In addition, the reaction gas may be decomposed in the gas phase to generate metal oxide fine powder, and it is desirable to set the flow rate and discharge conditions so as to reduce the generation.

ここで大気圧近傍とは、20〜200kPaの圧力を表すが、本発明に記載の効果を好ましく得る為には、93〜110kPaが好ましい。装置外の大気圧力に対して、放電部がやや陽圧であることが好ましくプラズマ装置外の大気圧力+0.1kPa〜5kPaであることがより好ましい。   Here, the vicinity of atmospheric pressure represents a pressure of 20 to 200 kPa, but 93 to 110 kPa is preferable in order to preferably obtain the effects described in the present invention. The discharge part is preferably slightly positive with respect to the atmospheric pressure outside the apparatus, more preferably atmospheric pressure outside the plasma apparatus +0.1 kPa to 5 kPa.

本発明に有用なプラズマ放電処理装置では、一方の電極は電源に接続して電圧を印加し、もう一方の電極はアースに接地し放電プラズマを発生させることが安定したプラズマを発生させる為に好ましい。   In the plasma discharge treatment apparatus useful for the present invention, it is preferable that one electrode is connected to a power source to apply a voltage, and the other electrode is grounded to generate a discharge plasma to generate a stable plasma. .

本発明で用いる高周波電源より電極に印加する電圧の値は適宜決定されるが、例えば、電圧が0.5〜10kV程度で、印加する周波数は1kHz〜150MHzに調整し、波形をパルス波であってもサイン波としてもよい。特に周波数を100kHzを超えて50MHz以下の高周波を印加することが好ましい放電部(放電空間)が得られる為好ましい。或いは、1kHz〜200kHzと800kHz〜150MHzの2つの周波数の高周波電圧を同時に印加する方法も好ましく用いられる。   The value of the voltage applied to the electrode from the high frequency power source used in the present invention is appropriately determined. For example, the voltage is about 0.5 to 10 kV, the applied frequency is adjusted to 1 kHz to 150 MHz, and the waveform is a pulse wave. Or a sine wave. In particular, it is preferable to apply a high frequency of 50 MHz or less over a frequency exceeding 100 kHz because a discharge part (discharge space) is obtained. Alternatively, a method of simultaneously applying high-frequency voltages having two frequencies of 1 kHz to 200 kHz and 800 kHz to 150 MHz is also preferably used.

放電部における放電密度は5〜1000W・min/m2であることが好ましく、特に50〜500W・min/m2であることが望ましい。 Preferably the discharge density in the discharge portion are 5~1000W · min / m 2, in particular it is desirable that 50~500W · min / m 2.

プラズマ放電処理部はパイレックス(R)ガラス製の処理容器等で適宜囲まれていることが望ましく、電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能である。例えば、アルミまたは、ステンレスのフレームの内面にポリイミド樹脂等を貼り付けても良く、該金属フレームにセラミックス溶射を行い絶縁性をとっても良い。また、放電部や回転電極の側面部、セルロースエステルフィルム搬送部等の側面を囲むことによって、反応ガスや排ガスを適切に放電部に供給したり排気することも出来る。   It is desirable that the plasma discharge processing section is appropriately surrounded by a Pyrex (R) glass processing container or the like, and it is also possible to use a metal as long as it is insulated from the electrodes. For example, polyimide resin or the like may be affixed to the inner surface of an aluminum or stainless steel frame, and the metal frame may be subjected to ceramic spraying to achieve insulation. In addition, the reaction gas and the exhaust gas can be appropriately supplied to the discharge unit or exhausted by surrounding the discharge unit, the side surface of the rotating electrode, the side surface of the cellulose ester film transport unit and the like.

本発明の金属酸化物薄膜層の形成方法に用いる反応ガスについて説明する。   The reaction gas used in the method for forming a metal oxide thin film layer of the present invention will be described.

薄膜層を形成する為の反応ガスは、窒素若しくは希ガスを含むことが好ましい。   The reaction gas for forming the thin film layer preferably contains nitrogen or a rare gas.

つまり、反応ガスは窒素若しくは希ガスと後述の反応性ガスの混合ガスであることが好ましい。   That is, the reactive gas is preferably a mixed gas of nitrogen or a rare gas and a reactive gas described later.

ここで、希ガスとは、周期表の第18属元素、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等であり、本発明においては、中でもヘリウム、アルゴンを好ましく用いることが出来る。これらは混合して用いてもよく、例えばヘリウム3:アルゴン7等の比率で用いてもよい。   Here, the noble gas is a group 18 element of the periodic table, specifically helium, neon, argon, krypton, xenon, radon, etc., and in the present invention, helium or argon is preferably used. I can do it. These may be used as a mixture, for example, in a ratio of helium 3: argon 7 or the like.

反応ガス中の希ガスまたは窒素の濃度は90%以上であることが安定したプラズマ放電を発生させる為に好ましく、90〜99.99体積%であることが望ましい。   The concentration of the rare gas or nitrogen in the reaction gas is preferably 90% or more in order to generate a stable plasma discharge, and desirably 90 to 99.99% by volume.

希ガスまたは窒素は安定したプラズマ放電を発生させる為に用いられ、該プラズマ中で反応性ガスはイオン化或いはラジカル化され、基材表面に堆積或いは付着するなどして薄膜が形成される。   A rare gas or nitrogen is used to generate a stable plasma discharge. In the plasma, the reactive gas is ionized or radicalized, and is deposited or adhered to the substrate surface to form a thin film.

本発明に有用な反応ガスは、様々な物質の反応性ガスを添加したものを用いることによって、様々な機能を持った薄膜をハードコートフィルム上に形成することが出来る。   The reactive gas useful in the present invention can form thin films having various functions on a hard coat film by using a reactive gas added with reactive gases of various substances.

例えば、反応性ガスとして、フッ素含有有機化合物、珪素化合物を用いて反射防止層の低屈折率層或いは防汚層を形成することも出来る。   For example, the low refractive index layer or the antifouling layer of the antireflection layer can be formed using a fluorine-containing organic compound or a silicon compound as the reactive gas.

また、Ti、Zr、In、Sn、Zn、Ge、Si或いはその他の金属を含有する有機金属化合物、金属水素化合物、金属ハロゲン化物を用いて、これらの金属酸化物層(金属酸化物窒化物層も含む)または金属窒化物層等を形成することが出来、これらの層は反射防止層の中屈折率層または高屈折率層としたり、或いは導電層または帯電防止層とすることも出来る。   Further, these metal oxide layers (metal oxide nitride layers) using organometallic compounds, metal hydrides, and metal halides containing Ti, Zr, In, Sn, Zn, Ge, Si or other metals. Or a metal nitride layer or the like. These layers may be a middle refractive index layer or a high refractive index layer of the antireflection layer, or may be a conductive layer or an antistatic layer.

また、フッ素含有有機化合物で防汚層や低屈折率層を形成することも出来、珪素化合物でガスバリア層や低屈折率層を形成することも出来る。本発明は、高、中屈折率層と低屈折率層を交互に多層を積層して形成される反射防止層の形成に特に好ましく用いられる。   Further, the antifouling layer and the low refractive index layer can be formed with a fluorine-containing organic compound, and the gas barrier layer and the low refractive index layer can be formed with a silicon compound. The present invention is particularly preferably used for forming an antireflection layer formed by alternately laminating high, medium refractive index layers and low refractive index layers.

形成される金属酸化物層の膜厚としては、1nm〜1000nmの範囲のものが好ましく得られる。   The film thickness of the formed metal oxide layer is preferably in the range of 1 nm to 1000 nm.

大気圧プラズマ処理では原料ガスにフッ素含有有機化合物を用いることでフッ素化合物含有層を形成することも出来る。   In the atmospheric pressure plasma treatment, a fluorine compound-containing layer can be formed by using a fluorine-containing organic compound as a raw material gas.

フッ素含有有機化合物としては、フッ化炭素ガス、フッ化炭化水素ガス等が好ましい。   As the fluorine-containing organic compound, a fluorocarbon gas, a fluorinated hydrocarbon gas, or the like is preferable.

具体的には、フッ素含有有機化合物としては、例えば、四フッ化炭素、六フッ化炭素、四フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、八フッ化シクロブタン等のフッ化炭素化合物;
二フッ化メタン、四フッ化エタン、四フッ化プロピレン、三フッ化プロピレン、八フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物;
更に、一塩化三フッ化メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物、アルコール、酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体等を挙げることが出来る。
Specifically, as the fluorine-containing organic compound, for example, a fluorocarbon compound such as carbon tetrafluoride, carbon hexafluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, and octafluorocyclobutane;
Fluorinated hydrocarbon compounds such as difluoromethane, tetrafluoroethane, propylene tetrafluoride, propylene trifluoride, and cyclobutane octafluoride;
Further, halides of fluorinated hydrocarbon compounds such as trichloromethane trichloride, methane monochloride difluoride methane, and cyclobutane tetrachloride difluoride, and fluorine-substituted products of organic compounds such as alcohols, acids, and ketones. I can do it.

これらは単独でも混合して用いてもよい。上記のフッ化炭化水素ガスとしては、二フッ化メタン、四フッ化エタン、四フッ化プロピレン、三フッ化プロピレン等の各ガスを挙げることが出来る。   These may be used alone or in combination. Examples of the fluorinated hydrocarbon gas include gases such as difluoromethane, tetrafluoroethane, propylene tetrafluoride, and propylene trifluoride.

更に、一塩化三フッ化メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物やアルコール、酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体を用いることが出来るが、本発明はこれらに限定されない。   Furthermore, it is possible to use halides of fluorinated hydrocarbon compounds such as monochlorotrifluoride methane, monochlorodifluoride methane, and dichloride tetrafluorocyclobutane, and fluorine-substituted products of organic compounds such as alcohols, acids, and ketones. However, the present invention is not limited to these.

また、これらの化合物は分子内にエチレン性不飽和基を有していても良い。また、上記の化合物は混合して用いても良い。   Moreover, these compounds may have an ethylenically unsaturated group in the molecule. In addition, the above compounds may be used as a mixture.

反応性ガスとしてフッ素含有有機化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりセルロースエステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の反応性ガスとしてのフッ素含有有機化合物の含有率は、0.01〜10体積%であることが好ましく、更に好ましくは、0.1〜5体積%である。   When a fluorine-containing organic compound is used as the reactive gas, the content of the fluorine-containing organic compound as the reactive gas in the reactive gas is from the viewpoint of forming a uniform thin film on the cellulose ester film by plasma discharge treatment. It is preferable that it is 01-10 volume%, More preferably, it is 0.1-5 volume%.

また、好ましく用いられるフッ素含有、有機化合物が常温常圧で気体である場合は、反応性ガスの成分としてそのまま使用出来る。   Further, when the fluorine-containing organic compound that is preferably used is a gas at normal temperature and pressure, it can be used as it is as a component of the reactive gas.

また、フッ素含有有機化合物が常温常圧で液体または固体である場合には、気化手段により、例えば加熱、減圧等により気化して使用すればよく、適切な有機溶媒に溶解して用いてもよい。   Further, when the fluorine-containing organic compound is liquid or solid at normal temperature and normal pressure, it may be used after being vaporized by vaporization means, for example, by heating, reduced pressure, or the like, and may be used after being dissolved in an appropriate organic solvent. .

反応性ガスとして有用な珪素化合物としては、例えば、ジメチルシラン、テトラメチルシランなどの有機金属化合物、モノシラン、ジシランなどの金属水素化合物、二塩化シラン、三塩化シラン、四フッ化珪素などの金属ハロゲン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサンなどのアルコキシシラン、オルガノシラン等を用いることが好ましいがこれらに限定されない。   Examples of silicon compounds useful as reactive gases include organometallic compounds such as dimethylsilane and tetramethylsilane, metal hydrides such as monosilane and disilane, metal halogens such as silane dichloride, silane trichloride, and silicon tetrafluoride. Compounds, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, hexamethyldisiloxane and other alkoxysilanes, organosilanes, etc. are preferably used. It is not limited.

また、これらは適宜組み合わせて用いることが出来る。或いは別の有機化合物を添加して膜の物性を変化或いは制御することも出来る。   Moreover, these can be used in combination as appropriate. Alternatively, another organic compound can be added to change or control the physical properties of the film.

反応性ガスとして珪素化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりセルロースエステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の反応性ガスとしての珪素化合物の含有率は、0.01〜10体積%であることが好ましいが、更に好ましくは、0.1〜5体積%である。   When a silicon compound is used as the reactive gas, the content of the silicon compound as the reactive gas in the reactive gas is 0.01 to 10 volumes from the viewpoint of forming a uniform thin film on the cellulose ester film by plasma discharge treatment. %, Preferably 0.1 to 5% by volume.

反応性ガスとして有用な有機金属化合物としては、特に限定されないが、Al、As、Au、B、Bi、Sb、Ca、Cd、Cr、Co、Cu、Fe、Ga、Ge、Hg、In、Li、Mg、Mn、Mo、Na、Ni、Pb、Pt、Rh、Se、Si、Sn、Ti、Zr、Y、V、W、Zn等の金属化合物を形成する為の有機金属化合物を好ましく挙げることが出来る。   Although it does not specifically limit as an organometallic compound useful as a reactive gas, Al, As, Au, B, Bi, Sb, Ca, Cd, Cr, Co, Cu, Fe, Ga, Ge, Hg, In, Li Preferably, organometallic compounds for forming metal compounds such as Mg, Mn, Mo, Na, Ni, Pb, Pt, Rh, Se, Si, Sn, Ti, Zr, Y, V, W, Zn, etc. I can do it.

例えば、反射防止層の高屈折率層を形成するには、チタン化合物が好ましく、具体的には、例えば、テトラジメチルアミノチタンなどの有機アミノ金属化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどの金属アルコキシドなどを挙げることが出来る。   For example, in order to form a high refractive index layer of the antireflection layer, a titanium compound is preferable. Specifically, for example, an organic amino metal compound such as tetradimethylamino titanium, a metal hydrogen compound such as monotitanium and dititanium, Examples thereof include metal halogen compounds such as titanium chloride, titanium trichloride, and titanium tetrachloride, and metal alkoxides such as tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, and tetrabutoxy titanium.

前記の珪素化合物、有機金属化合物は、取り扱い上の観点から金属水素化合物、金属アルコキシドが好ましく、腐食性、有害ガスの発生がなく、工程上の汚れなども少ないことから、中でも金属アルコキシドが好ましく用いられる。   The above silicon compounds and organometallic compounds are preferably metal hydrides and metal alkoxides from the viewpoint of handling, and are preferably used since metal alkoxides are not corrosive, do not generate harmful gases, and have little contamination in the process. It is done.

反応性ガスとして有機金属化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりセルロースエステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の反応性ガスとしての有機金属化合物の含有率は、0.01〜10体積%であることが好ましいが、更に好ましくは、0.1〜5体積%である。   When using an organometallic compound as the reactive gas, from the viewpoint of forming a uniform thin film on the cellulose ester film by plasma discharge treatment, the content of the organometallic compound as the reactive gas in the reactive gas is 0.01 to Although it is preferable that it is 10 volume%, More preferably, it is 0.1-5 volume%.

また、珪素化合物、チタン化合物等の金属化合物を放電部へ導入するには、両者は常温常圧で気体、液体または固体いずれの状態であっても使用し得る。   Further, in order to introduce a metal compound such as a silicon compound or a titanium compound into the discharge part, both can be used in a gas, liquid or solid state at normal temperature and pressure.

気体の場合は、そのまま放電部に導入出来るが、液体や固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の気化手段により気化させて使用することが出来る。   In the case of gas, it can be introduced into the discharge part as it is, but in the case of liquid or solid, it can be used after being vaporized by means of vaporization such as heating, decompression or ultrasonic irradiation.

珪素化合物、チタン化合物等の金属化合物を加熱により気化して用いる場合、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシチタンなどのように常温で液体で、かつ、沸点が200℃以下である金属アルコキシドが本発明の金属酸化物薄膜層の形成する方法に好適である。上記金属アルコキシドは、有機溶媒によって希釈して使用しても良く、有機溶媒としては、メタノール、エタノール、n−ヘキサンなどの有機溶媒またはこれらの混合有機溶媒を使用することが出来る。   When metal compounds such as silicon compounds and titanium compounds are vaporized by heating, metal alkoxides that are liquid at room temperature and have a boiling point of 200 ° C. or less, such as tetraethoxysilane and tetraisopropoxytitanium, are used in the present invention. It is suitable for a method for forming a metal oxide thin film layer. The metal alkoxide may be used after diluted with an organic solvent. As the organic solvent, an organic solvent such as methanol, ethanol, n-hexane, or a mixed organic solvent thereof can be used.

更に、反応ガス中に酸素、水素、二酸化炭素、一酸化炭素、窒素、二酸化窒素、一酸化窒素、水等を0.1〜10体積%含有させることにより薄膜層の硬度、密度等の物性を制御することが出来る。   Furthermore, physical properties such as hardness and density of the thin film layer can be obtained by adding 0.1 to 10% by volume of oxygen, hydrogen, carbon dioxide, carbon monoxide, nitrogen, nitrogen dioxide, nitrogen monoxide, water, etc. in the reaction gas. Can be controlled.

以上の方法により酸化珪素、酸化チタン等の非晶性の金属酸化物層を好ましく作製することが出来る。   By the above method, an amorphous metal oxide layer such as silicon oxide or titanium oxide can be preferably produced.

本発明のハードコートフィルムは、例えば低屈折率層と高屈折率層を積層した反射防止層を有する光学フィルムまたは導電層、帯電防止層を有する光学フィルム等に好ましく用いることが出来る。   The hard coat film of the present invention can be preferably used for, for example, an optical film having an antireflection layer obtained by laminating a low refractive index layer and a high refractive index layer, a conductive layer, an optical film having an antistatic layer, or the like.

本発明において、プラズマ放電装置を複数設けることによって、多層の薄膜を連続的に設けることが出来、薄膜のムラもなく多層の積層体を形成することが出来る。   In the present invention, by providing a plurality of plasma discharge devices, a multilayer thin film can be continuously provided, and a multilayer laminate can be formed without unevenness of the thin film.

例えば、ハードコートフィルム上に反射防止層を有する反射防止フィルムを作製する場合、屈折率1.6〜2.3の高屈折率層及び屈折率1.3〜1.5の低屈折率層をセルロースエステルフィルム表面に連続して積層し、効率的に作製することが出来る。   For example, when producing an antireflection film having an antireflection layer on a hard coat film, a high refractive index layer having a refractive index of 1.6 to 2.3 and a low refractive index layer having a refractive index of 1.3 to 1.5 are provided. The cellulose ester film can be continuously laminated on the surface and efficiently produced.

低屈折率層としては、含フッ素有機化合物を含むガスをプラズマ放電処理により形成された含フッ素化合物層、或いはアルコキシシラン等の有機珪素化合物を用いてプラズマ放電処理により形成された主に酸化珪素を有する層が好ましく、高屈折率層としては、有機金属化合物を含むガスをプラズマ放電処理により形成された金属酸化物層、例えば酸化チタン、酸化ジルコニウムを有する層が好ましい。   As the low refractive index layer, a fluorine-containing compound layer formed by plasma discharge treatment using a gas containing a fluorine-containing organic compound, or mainly silicon oxide formed by plasma discharge treatment using an organosilicon compound such as alkoxysilane is used. The high refractive index layer is preferably a metal oxide layer formed by plasma discharge treatment with a gas containing an organometallic compound, such as a layer having titanium oxide or zirconium oxide.

上述した薄膜化の方法があるが、本発明はこれらに限定されるものではなく、層構成もこれらに限定されるものではない。例えば、最表面にフッ素含有有機化合物ガス存在下で大気圧若しくはその近傍の圧力下でのプラズマ放電処理して防汚層を設けてもよい。   Although there are thinning methods described above, the present invention is not limited to these methods, and the layer structure is not limited thereto. For example, an antifouling layer may be provided on the outermost surface by plasma discharge treatment in the presence of a fluorine-containing organic compound gas in the presence of atmospheric pressure or in the vicinity thereof.

上記の方法により、本発明においては、多層の薄膜を積層することが出来、各層の膜厚ムラもなく、均一な反射防止フィルムを得ることが出来る。   According to the above method, in the present invention, multilayer thin films can be laminated, and a uniform antireflection film can be obtained without unevenness in the thickness of each layer.

〔偏光板〕
本発明の反射防止層を設けたハードコートフィルムは、偏光板の作製に用いられる。
〔Polarizer〕
The hard coat film provided with the antireflection layer of the present invention is used for production of a polarizing plate.

偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した反射防止フィルムを、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した下記偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該反射防止フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、Rtが100〜400nmの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957、特願2002−155395記載の方法で作製することが出来る。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。或いは、λ/4板を偏光板保護フィルムを兼ねて用いることで円偏光板とすることも出来る。本発明の反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。   The polarizing plate can be produced by a general method. The back surface side of the antireflection film of the present invention was subjected to alkali saponification treatment, and the treated antireflection film was immersed and drawn in an iodine solution, and a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution was used on at least one surface of the following polarizing film. It is preferable to stick them together. The antireflection film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. With respect to the antireflection film of the present invention, the polarizing plate protective film used on the other surface has an in-plane retardation Ro of 590 nm, a phase difference of 20 to 70 nm, and Rt of 100 to 400 nm. preferable. These can be produced, for example, by the method described in JP-A-2002-71957 and Japanese Patent Application No. 2002-155395. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. Or it can also be set as a circularly-polarizing plate by using (lambda) / 4 board also as a polarizing plate protective film. By using it in combination with the antireflection film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の反射防止フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. On the surface of the polarizing film, one side of the antireflection film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

従来の反射防止フィルムを使用した偏光板は干渉ムラや平面性に劣り、反射像を見ると虹色のムラや細かい波打ち状のムラが認められ、鉛筆硬度も2H程度しか得られず、60℃、90%RHの条件での耐久性試験により、波打ち状のムラが増大したが、これに対して本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板は、干渉ムラや平面性に優れ、鉛筆硬度も優れていた。また、60℃、90%RHの条件での耐久性試験によってもムラが増加することはなかった。   A conventional polarizing plate using an antireflection film is inferior in interference unevenness and flatness, and when a reflected image is seen, iridescent unevenness and fine wavy unevenness are recognized, and a pencil hardness of only about 2H is obtained at 60 ° C. As a result of the durability test under the condition of 90% RH, the wavy unevenness increased. On the other hand, the polarizing plate using the antireflection film of the present invention has excellent interference unevenness and flatness, and has a pencil hardness. It was excellent. In addition, unevenness did not increase even in a durability test under the conditions of 60 ° C. and 90% RH.

〈表示装置〉
上記本発明に係るハードコートフィルムを用いた偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた表示装置を作製することが出来る。本発明のハードコートフィルムは反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明のハードコートフィルムに反射防止層を形成した反射防止フィルムは反射防止層の反射光の色ムラが著しく少なく、また、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上の大画面の表示装置では、色ムラや波打ちムラによって、蛍光灯の反射像が歪んで見えていたものが、鏡の反射のように歪みがない為、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
<Display device>
By incorporating a polarizing plate using the hard coat film according to the present invention into a display device, various display devices having excellent visibility can be manufactured. The hard coat film of the present invention is preferably used in reflective, transmissive, transflective LCDs or LCDs of various drive systems such as TN, STN, OCB, HAN, VA, and IPS. In addition, the antireflection film in which the antireflection layer is formed on the hard coat film of the present invention has significantly less color unevenness in the reflected light of the antireflection layer, and is excellent in flatness, plasma display, field emission display, organic EL display, It is also preferably used for various display devices such as inorganic EL displays and electronic paper. Especially for large-screen display devices with a screen size of 30 or more, the reflected images of fluorescent lamps appear to be distorted due to uneven color and wavy unevenness, so there is no distortion like the reflection of mirrors. But there was an effect that eyes were not tired.

以下本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1
〔セルロースエステルフィルムの作製〕
表1記載のセルロースエステル、添加剤1、添加剤2、微粒子、溶剤を用いて表2に示すようなドープ組成となるようセルロースエステル溶液を調製した。
Example 1
[Production of cellulose ester film]
Using the cellulose ester, additive 1, additive 2, fine particles, and solvent described in Table 1, a cellulose ester solution was prepared so as to have a dope composition as shown in Table 2.

Figure 2005096095
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Figure 2005096095
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即ち、溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素材を順に投入し、加熱、攪拌しながら完全に溶解し、混合した。微粒子は溶剤の一部で分散して添加した。溶液を流延する温度まで下げて一晩静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、セルロースエステル溶液をそれぞれ得た。   That is, the solvent was put into an airtight container, the remaining materials were put in order while stirring, and completely dissolved and mixed while heating and stirring. The fine particles were added dispersed in a part of the solvent. After the temperature was lowered to the temperature at which the solution was cast and allowed to stand overnight, a defoaming operation was performed, and then the solution was produced by Azumi Filter Paper No. Filtration using 244 gave each cellulose ester solution.

上記で調製したドープA〜Uを二つの表層用ドープラインと基層用ドープラインから、それぞれの表層用ダイまたは基層用ダイに各ドープを表3に示したような組み合わせで、かつ乾燥後の層膜厚が表3記載のようになるように導入し、1.7m幅の無限走行する無端のステンレススティールベルト上に共流延を行った(表層は基層より若干広目に流延した)。ステンレススティールベルトの温度を35℃とし、ベルト面(この面をB面とする)側に表層1、空気側の面(この面をA面とする)に表層2となるようにした。ステンレススティールベルト上で溶媒を蒸発させ、ステンレススティールベルト上からウェブを剥離した。剥離したウェブを1.5m幅に両端をスリッターで裁ち落とし、このウェブをテンター乾燥機に導入し、両端をクリップで把持して幅方向に1.05倍延伸しながら90℃で乾燥させ、次いで125℃の各乾燥ゾーンを有するロール乾燥機内に上下に配置された多数のロールを交互に通して搬送させながら乾燥を終了させ多層構成のセルロースエステルフィルムを作製した。更にこのセルロースエステルフィルムの両端を裁ち落とし1.4m幅フィルムとし、このフィルムの両端に幅10mm、高さ8μmのナーリング加工を施して、巻長は3000mの多層構成のセルロースエステルフィルムNo.1〜26を得た。   The dopes A to U prepared above are combined from the two surface layer dope lines and the base layer dope line to the respective surface layer die or base layer die as shown in Table 3, and the dried layer The film was introduced so that the film thickness was as shown in Table 3, and co-casting was carried out on an endless stainless steel belt having an infinite traveling length of 1.7 m (the surface layer was cast slightly wider than the base layer). The temperature of the stainless steel belt was set to 35 ° C. so that the surface layer 1 was on the belt surface (this surface was designated as B surface) and the surface layer 2 was on the air side surface (this surface was designated as A surface). The solvent was evaporated on the stainless steel belt, and the web was peeled off from the stainless steel belt. The peeled web was cut to 1.5 m width with a slitter at both ends, this web was introduced into a tenter dryer, both ends were gripped with clips and dried at 90 ° C. while stretching 1.05 times in the width direction, and then Drying was terminated while a large number of rolls arranged up and down were alternately passed through a roll drier having each drying zone at 125 ° C., and drying was completed to prepare a multilayered cellulose ester film. Further, both ends of the cellulose ester film are cut off to form a 1.4 m wide film, and both ends of the film are subjected to a knurling process having a width of 10 mm and a height of 8 μm, and the winding length is 3000 m. 1-26 were obtained.

Figure 2005096095
Figure 2005096095

〔ハードコートフィルムの作製〕
《ハードコート層の塗設》
セルロースエステルフィルムNo.1〜26の各々のB面上に、下記のハードコート層(紫外線硬化樹脂層)用塗布液を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を100mJ/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ3μmのハードコート層を形成した。このようにしてハードコートフィルムNo.1〜26を作製した。
[Production of hard coat film]
<Coating of hard coat layer>
Cellulose ester film No. On the B surface of each of 1 to 26, the following hard coat layer (ultraviolet curable resin layer) coating solution is filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a hard coat layer coating solution. After applying using a gravure coater and drying at 90 ° C., using an ultraviolet lamp, the illuminance of the irradiated part is 100 mW / cm 2 , the applied dose is cured at 100 mJ / cm 2 , and the hard coat is 3 μm thick. A layer was formed. In this way, the hard coat film No. 1-26 were produced.

〈ハードコート層用塗布液〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 100質量部
光反応開始剤 4質量部
(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
酢酸エチル 75質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 75質量部
シリコン化合物 0.5質量部
(BYK−307(ビックケミージャパン社製))
〔評価〕
得られたハードコートフィルムについて下記の評価を行った。
<Coating liquid for hard coat layer>
Dipentaerythritol hexaacrylate 100 parts by weight Photoreaction initiator 4 parts by weight (Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.))
Ethyl acetate 75 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 75 parts by mass Silicon compound 0.5 parts by mass (BYK-307 (by Big Chemie Japan))
[Evaluation]
The following evaluation was performed about the obtained hard coat film.

《平面性指数;微小な凹凸評価》
レーザー変位計:キーエンス(株)、型式:LT−8100、分解能:0.2μmを用いて、幅手方向にレーザー変位計で走査して、表面の細かい起伏を測定し、ハードコートフィルムの平面性を評価した。
<< Flatness index; Evaluation of minute irregularities >>
Laser displacement meter: Keyence Corporation, Model: LT-8100, Resolution: 0.2 μm, Scan with a laser displacement meter in the width direction to measure fine undulations on the surface, flatness of hard coat film Evaluated.

測定方法は、フィルムを平坦で水平の台の上に載せ、テープで幅手の両端を台に固定し、測定カメラを該台と平行にセットしたシグマ光機社製の移動レールに、カメラレンズと試料フィルムの間隔が25mmとなるようにセットし、移動速度5cm/分で走査し測定した。測定で得られる値はフィルム表面の微少な凹凸の状態と大きさである。   The measuring method is that the film is placed on a flat and horizontal table, both ends of the width are fixed to the table with tape, and the measuring camera is set in parallel with the table on a moving rail made by Sigma Kogyo Co., Ltd. And the sample film were set so that the distance between them was 25 mm, and the measurement was performed by scanning at a moving speed of 5 cm / min. The value obtained by the measurement is the state and size of minute irregularities on the film surface.

◎:フィルムの変形による凹凸が0.5μm未満
○:フィルムの変形による凹凸が0.5〜1.0μm未満
△:フィルムの変形による凹凸が1.0〜3.0μm未満
×:フィルムの変形による凹凸が3.0μm以上
《平面性;目視評価》
幅90cm、長さ100cmの大きさに各試料を切り出し、50W蛍光灯を5本並べて試料台に45°の角度から照らせるように高さ1.5mの高さに固定し、試料台の上に各フィルム試料を置き、フィルム表面に反射して見える凹凸を目で見て、次のように判定した。この方法によって「つれ」及び「しわ」の判定が出来る。
A: Unevenness due to film deformation is less than 0.5 μm ○: Unevenness due to film deformation is less than 0.5 to 1.0 μm Δ: Unevenness due to film deformation is less than 1.0 to 3.0 μm ×: Due to film deformation Unevenness is 3.0 μm or more <<Flatness; Visual evaluation >>
Cut each sample into a size of 90cm in width and 100cm in length, and arrange five 50W fluorescent lamps at a height of 1.5m so that the sample stage can be illuminated from a 45 ° angle. Each film sample was placed, and the unevenness that appeared to be reflected on the film surface was visually observed and judged as follows. By this method, it is possible to determine “tsun” and “wrinkle”.

◎:蛍光灯が5本とも真っすぐに見えた
○:蛍光灯が少し曲がって見えるところがある
△:蛍光灯が全体的に少し曲がって見える
×:蛍光灯が大きくうねって見える
《干渉ムラの評価》
ハードコートフイルムNo.1〜26について、裏面を黒スプレーにより黒く塗った後試料を水平台上に置き、3波長蛍光灯(パルック蛍光灯 FLR40S−EX−DM 松下電器産業(株)製)下で干渉ムラの発生の程度を目視にて評価した。
◎: All five fluorescent lamps look straight ○: Some fluorescent lamps appear to be bent slightly △: Fluorescent lamps appear to be slightly bent overall ×: Fluorescent lamps appear to swell largely << Evaluation of interference unevenness >>
Hard coat film No. For samples 1 to 26, the back surface was painted black with black spray, and then the sample was placed on a horizontal table. The degree was visually evaluated.

○:干渉ムラが全く見られない
△:若干、干渉ムラが見えるが問題ないレベル
×:干渉ムラがはっきりと見られる
××:強い干渉ムラが見られる
以上より得られた結果を下記表4に示した。
○: Interference unevenness is not seen at all Δ: Interference unevenness is slightly visible but no problem is observed ×: Interference unevenness is clearly seen XX: Strong interference unevenness is seen The results obtained above are shown in Table 4 below. Indicated.

Figure 2005096095
Figure 2005096095

上表から、比較例に対し、本発明のハードコートフィルムは平面性、平面性指数、干渉ムラが優れていることが分かった。   From the above table, it was found that the hard coat film of the present invention was excellent in flatness, flatness index, and interference unevenness compared to the comparative example.

実施例2
〔反射防止フィルムの作製〕
実施例1で作製したハードコートフィルム上に反射防止層を形成した。
Example 2
[Preparation of antireflection film]
An antireflection layer was formed on the hard coat film produced in Example 1.

ハードコートフィルムNo.1〜26の上に、下記記中屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、70℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層(屈折率1.72、膜厚80nm)を形成した。その上に、下記高屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、70℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層(屈折率1.9、膜厚70nm)を形成した。更にその上に、下記低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、70℃で乾燥させ、熱処理により硬化して低屈折率層(屈折率1.45、膜厚95nm)を形成し、可視光の反射率が0.5%以下の反射防止フィルムNo.1〜26を作製した。   Hard coat film No. A coating solution for the refractive index layer shown below is applied onto 1 to 26 using a bar coater, dried at 70 ° C., then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer, and a medium refractive index layer (refractive index). 1.72 and a film thickness of 80 nm). On top of that, the following coating solution for a high refractive index layer was applied using a bar coater, dried at 70 ° C., then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer, and a high refractive index layer (refractive index 1.9, A film thickness of 70 nm) was formed. Furthermore, the following coating solution for the low refractive index layer is applied using a bar coater, dried at 70 ° C., and cured by heat treatment to form a low refractive index layer (refractive index 1.45, film thickness 95 nm). And an antireflection film No. having a visible light reflectance of 0.5% or less. 1-26 were produced.

〈中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の作製〉
(二酸化チタン分散物の調製)
二酸化チタン(一次粒子質量平均粒径:50nm、屈折率:2.70)30質量部、アニオン性ジアクリレートモノマー(PM21、日本化薬(株)製)4.5質量部、カチオン性メタクリレートモノマー(DMAEA、興人(株)製)0.3質量部及びメチルエチルケトン65.2質量部を、サンドグラインダーにより分散し、二酸化チタン分散物を調製した。
<Preparation of medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer>
(Preparation of titanium dioxide dispersion)
Titanium dioxide (primary particle mass average particle size: 50 nm, refractive index: 2.70) 30 parts by mass, anionic diacrylate monomer (PM21, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 4.5 parts by mass, cationic methacrylate monomer ( DMAEA (manufactured by Kojin Co., Ltd.) 0.3 parts by mass and 65.2 parts by mass of methyl ethyl ketone were dispersed with a sand grinder to prepare a titanium dioxide dispersion.

(中屈折率層用塗布液の調製)
シクロヘキサノン151.9g及びメチルエチルケトン37.0gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.14g及び光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.04gを溶解した。更に、上記の二酸化チタン分散物6.1g及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)2.4gを加え、室温で30分間攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、中屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液をセルロースエステルフィルムに塗布乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率1.72の中屈折率層が得られた。
(Preparation of coating solution for medium refractive index layer)
In 151.9 g of cyclohexanone and 37.0 g of methyl ethyl ketone, 0.14 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0.04 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were dissolved. Further, 6.1 g of the above titanium dioxide dispersion and 2.4 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added and stirred at room temperature for 30 minutes. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution for a medium refractive index layer. When this coating solution was applied to a cellulose ester film and dried and the refractive index after UV curing was measured, a medium refractive index layer having a refractive index of 1.72 was obtained.

(高屈折率層用塗布液の調製)
シクロヘキサノン1152.8g及びメチルエチルケトン37.2gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.06g及び光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.02gを溶解した。更に、上記の二酸化チタン分散物及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)の二酸化チタン分散物の比率を増加させ、高屈折率層の屈折率となるように量を調節して、室温で30分間攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、高屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液を、セルロースエステルフィルムに塗布、乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率1.9の高屈折率層が得られた。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer)
In 1152.8 g of cyclohexanone and 37.2 g of methyl ethyl ketone, 0.06 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0.02 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were dissolved. Furthermore, the ratio of the above titanium dioxide dispersion and the titanium dioxide dispersion of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) is increased, and the refractive index of the high refractive index layer is increased. The amount was adjusted so as to be a ratio, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a high refractive index layer. When this coating solution was applied to a cellulose ester film, dried and the refractive index after UV curing was measured, a high refractive index layer having a refractive index of 1.9 was obtained.

(低屈折率層用塗布液の調製)
平均粒径15nmのシリカ微粒子のメタノール分散液(メタノールシリカゾル、日産化学(株)製)200gにシランカップリング剤(KBM−503、信越シリコーン(株)製)3g及び0.1M/L塩酸2gを加え、室温で5時間攪拌した後、3日間室温で放置して、シランカップリング処理したシリカ微粒子の分散物を調製した。分散物35.04gに、イソプロピルアルコール58.35g及びジアセトンアルコール39.34gを加えた。また、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)1.02g及び光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.51gを772.85gのイソプロピルアルコールに溶解した溶液を加え、更に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)25.6gを加えて溶解した。得られた溶液67.23gを、上記分散液、イソプロピルアルコール及びジアセトンアルコールの混合液に添加した。混合物を20分間室温で攪拌し、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液をセルロースエステルフィルムに塗布、乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率は1.45であった。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer)
Silane coupling agent (KBM-503, Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) 3 g and 0.1 M / L hydrochloric acid 2 g were added to 200 g of methanol dispersion of silica fine particles with an average particle size of 15 nm (methanol silica sol, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.). In addition, the mixture was stirred at room temperature for 5 hours and then allowed to stand at room temperature for 3 days to prepare a dispersion of silica fine particles treated with silane coupling. To 35.04 g of the dispersion, 58.35 g of isopropyl alcohol and 39.34 g of diacetone alcohol were added. Further, 1.02 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a solution obtained by dissolving 0.51 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) in 772.85 g of isopropyl alcohol were added. Furthermore, 25.6 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was added and dissolved. 67.23 g of the resulting solution was added to the above dispersion, a mixture of isopropyl alcohol and diacetone alcohol. The mixture was stirred for 20 minutes at room temperature and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer. When this coating solution was applied to a cellulose ester film and dried, and the refractive index after UV curing was measured, the refractive index was 1.45.

各々の反射防止フィルムを用いて偏光板を作製した。   A polarizing plate was prepared using each antireflection film.

〔偏光板の作製〕
厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
[Preparation of polarizing plate]
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. This was washed with water and dried to obtain a polarizing film.

次いで、下記工程1〜5に従って偏光膜と前記反射防止フィルム、裏面側の偏光板保護用フィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムには位相差(590nmで測定して、面内リターデーションRo=43nm、厚み方向のリターデーションRt=135nm)を有するセルロースエステルフィルムを用いてそれぞれ偏光板とした。   Subsequently, according to the following processes 1-5, the polarizing film, the said antireflection film, and the polarizing plate protective film on the back side were bonded together, and the polarizing plate was produced. As the polarizing plate protective film on the back surface side, a cellulose ester film having a retardation (measured at 590 nm, in-plane retardation Ro = 43 nm, retardation in the thickness direction Rt = 135 nm) was used as a polarizing plate.

工程1:60℃の2mol/Lの水酸化ナトリウム溶液に90秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。   Step 1: Soaked in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried to obtain a saponified cellulose ester film bonded to the polarizer.

一方、反射防止層を形成したハードコートフィルムの反射防止層側の面は剥離性のポリエチレンフィルムを貼り付けてアルカリから保護しながら上記鹸化処理を行った。   On the other hand, the surface of the anti-reflection layer side of the hard coat film on which the anti-reflection layer was formed was subjected to the saponification treatment while applying a peelable polyethylene film and protecting it from alkali.

工程2:前記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。   Step 2: The polarizing film was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理したセルロースエステルフィルムの上にのせて、更にハードコートフィルムの反射防止層が外側になるように積層し、配置した。   Step 3: Gently wipe off excess adhesive adhered to the polarizing film in Step 2 and place it on the cellulose ester film treated in Step 1 so that the anti-reflection layer of the hard coat film is on the outside Laminated and placed.

工程4:ハンドローラーで工程3で積層した反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料との積層物の端から過剰の接着剤及び気泡を取り除き貼り合わせた。ハンドローラーの圧力は20〜30N/cm2、ローラースピードは約2m/分とした。 Step 4: Excess adhesive and bubbles were removed from the end of the laminate of the antireflection film, the polarizing film and the cellulose ester film sample laminated in Step 3 with a hand roller, and bonded together. The pressure of the hand roller was 20 to 30 N / cm 2 and the roller speed was about 2 m / min.

工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと反射防止フィルムとを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、偏光板を作製した。反射防止フィルムNo.1〜26をそれぞれ用いて、偏光板No.1〜26を作製した。   Process 5: The sample which bonded the polarizing film produced in the process 4, the cellulose-ester film, and the antireflection film in the 80 degreeC dryer was dried for 2 minutes, and the polarizing plate was produced. Antireflection film No. 1 to 26, respectively, polarizing plate No. 1-26 were produced.

〔液晶表示装置の作製〕
液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
[Production of liquid crystal display device]
A liquid crystal panel was produced as follows, and the characteristics as a liquid crystal display device were evaluated.

富士通製15型ディスプレイVL−150SDの予め貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板No.1〜26をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。   The polarizing plates on the both sides of the 15-inch display VL-150SD manufactured by Fujitsu were previously peeled off to remove the polarizing plate No. 1 prepared above. 1-26 were bonded to the glass surface of the liquid crystal cell, respectively.

その際、その偏光板の貼合の向きは、光学補償フィルム(位相差フィルム)の面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置No.1〜26を各々作製した。   At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is such that the surface of the optical compensation film (retardation film) is on the liquid crystal cell side and the absorption axis is in the same direction as the polarizing plate previously bonded. The liquid crystal display device no. 1-26 were produced respectively.

〔評価〕
《視認性の評価》
こうして得られた各液晶表示装置について、60℃、90%RHの条件で100時間放置した後、23℃、55%RHに戻した。その結果、表示装置の表面を観察すると本発明のハードコートフィルム上に積層した反射防止フィルムを用いたものは、平面性に優れていたのに対し、比較の偏光板は細かい波打ち状のムラが認められ、目が疲れ易かった。
[Evaluation]
<Evaluation of visibility>
Each liquid crystal display device thus obtained was allowed to stand for 100 hours at 60 ° C. and 90% RH, and then returned to 23 ° C. and 55% RH. As a result, when the surface of the display device was observed, the antireflection film laminated on the hard coat film of the present invention was excellent in flatness, whereas the comparative polarizing plate had fine wavy unevenness. It was recognized and my eyes were easy to get tired.

◎:表面に波打ち状のムラは全く認められない
○:表面にわずかに波打ち状のムラが認められる
△:表面に細かい波打ち状のムラがやや認められる
×:表面に細かい波打ち状のムラが認められる
《反射色ムラの評価》
各液晶表示装置について、画面を黒表示として、表面の反射ムラを目視で評価した。
A: No wavy unevenness is observed on the surface. O: A slight wavy unevenness is observed on the surface. Δ: A slight wavy unevenness is slightly observed on the surface. X: A fine wavy unevenness is observed on the surface. 《Evaluation of uneven reflection color》
About each liquid crystal display device, the screen was set as black display and the reflection unevenness of the surface was evaluated visually.

◎:反射光の色ムラはわからず、黒がしまって見える
○:わずかに反射光の色ムラが認識される
△:反射光の色ムラが認識されるが実用上問題ないレベル
×:反射光の色ムラがかなり気になる。
◎: Color unevenness of reflected light is not known and black appears to be dark ○: Color unevenness of reflected light is slightly recognized △: Color unevenness of reflected light is recognized but practically no problem ×: Reflected light I am worried about the uneven color.

液晶表示装置No.1〜26についての評価結果を上記表4に示した。   Liquid crystal display device no. The evaluation results for 1-26 are shown in Table 4 above.

本発明の液晶表示装置は、視認性が良好で反射色ムラが発生せず実用上問題がなかったが、比較の液晶表示装置は視認性が劣り反射色ムラが発生していた。   The liquid crystal display device of the present invention had good visibility and did not cause reflection color unevenness and had no practical problem. However, the comparative liquid crystal display device had poor visibility and caused reflection color unevenness.

〔プラズマディスプレイ表示装置の評価〕
作製した前記反射防止フィルムNo.1〜26を市販のパネル(PDP−503HD、パイオニア(株)製)の最前面に接着剤で貼り付けて、表示装置No.1〜26を作製した。得られた表示装置を、床から75cmの高さの机上に配置し、床から3mの高さの天井部にパルック蛍光灯(FL40SS・ELW/37型、37W、松下電器産業(株)製)2本を1セットとして、1.5m間隔で8セット配置した。このとき評価者が表示装置正面にいる時に、評価者の頭上より後方に向けて天井部に前記蛍光灯がくるように配置し、蛍光灯の写り込みを下記のようにランク評価した。その結果、本発明のハードコートフィルムを用いた反射防止フィルムにおいては、近くの蛍光灯の写り込みまで歪みなく、それによって長時間の鑑賞でも目が疲れないことが判った。
[Evaluation of plasma display device]
The produced antireflection film No. 1 to 26 are attached to the forefront of a commercially available panel (PDP-503HD, manufactured by Pioneer Co., Ltd.) with an adhesive. 1-26 were produced. The obtained display device was placed on a desk 75 cm high from the floor, and a Paruk fluorescent lamp (FL40SS / ELW / 37 type, 37 W, manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.) was placed on the ceiling 3 m high from the floor. Eight sets were arranged at 1.5 m intervals, with two as one set. At this time, when the evaluator is in front of the display device, the fluorescent lamp is arranged so that the fluorescent lamp comes to the ceiling part from the evaluator's overhead to the rear, and the reflection of the fluorescent lamp is ranked as follows. As a result, it was found that in the antireflection film using the hard coat film of the present invention, there was no distortion until the reflection of a nearby fluorescent lamp, and thus eyes did not get tired even during long-time viewing.

3層構成のフィルムの断面を模式的に示したものである。The cross section of the film of 3 layer structure is shown typically. 共流延ダイ及び流延して多層構成ウェブを形成したところを表した図である。It is the figure showing the place which formed the multilayer casting web by casting and a co-casting die. 逐次流延ダイ及び流延された多層構成のウェブを表した図である。It is a figure showing the web of the sequential casting die and the casted multilayer structure. 別のタイプの共流延ダイの断面を示した図である。It is the figure which showed the cross section of another type co-casting die. 本発明に係わる溶液流延製膜装置のドープ調製工程を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the dope preparation process of the solution casting film forming apparatus concerning this invention. 本発明に係わる溶液流延製膜装置の流延工程から乾燥工程までを模式的に示した図である。It is the figure which showed typically from the casting process to the drying process of the solution casting film forming apparatus concerning this invention. 本発明のハードコートフィルム上に金属酸化物層を形成するのに用いられるプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the plasma discharge treatment apparatus used in order to form a metal oxide layer on the hard coat film of this invention. 本発明のハードコートフィルム上に金属酸化物薄膜層を形成するのに有用な回転電極と固定電極を有するプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the plasma discharge processing apparatus which has a rotating electrode useful for forming a metal oxide thin film layer on the hard coat film of this invention, and a fixed electrode.

符号の説明Explanation of symbols

F ハードコートフィルム
G 反応ガス
G′ 排ガス
10A、10B、110 回転電極
11A、11B、11C、11D Uターンロール
20、21 ガイドロール
30 反応ガス供給部
40、140 ガス排気口
50、150 放電部
51 整流板
80、180 電源
81、82、181、182 電圧供給手段
111 固定電極
120、121 ガイドロール
122、123 ニップロール
124、125 仕切板
130 給気管
131 反応ガス発生装置
190 プラズマ放電処理容器
F hard coat film G reactive gas G ′ exhaust gas 10A, 10B, 110 rotating electrode 11A, 11B, 11C, 11D U-turn roll 20, 21 guide roll 30 reactive gas supply unit 40, 140 gas exhaust port 50, 150 discharge unit 51 rectification Plate 80, 180 Power supply 81, 82, 181, 182 Voltage supply means 111 Fixed electrode 120, 121 Guide roll 122, 123 Nip roll 124, 125 Partition plate 130 Air supply pipe 131 Reactive gas generator 190 Plasma discharge treatment vessel

Claims (8)

膜厚が0.1〜15μmで、総アシル基置換度が2.7以下のセルロースエステルを有する少なくとも一層の表層と、可塑剤、紫外線吸収剤及び総アシル基置換度2.8以上のセルロースエステルを有する基層とを有する多層構成のセルロースエステルフィルムの該表層上にハードコート層を有することを特徴とするハードコートフィルム。 At least one surface layer having a cellulose ester having a film thickness of 0.1 to 15 μm and a total acyl group substitution degree of 2.7 or less, a plasticizer, an ultraviolet absorber, and a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.8 or more A hard coat film comprising a hard coat layer on the surface layer of a cellulose ester film having a multilayer structure having a base layer having a surface. 前記基層のセルロースエステルがセルローストリアセテートであり、前記表層のセルロースエステルがセルロースジアセテートまたはセルロースアセテートプロピオネートであることを特徴とする請求項1に記載のハードコートフィルム。 The hard coat film according to claim 1, wherein the cellulose ester of the base layer is cellulose triacetate, and the cellulose ester of the surface layer is cellulose diacetate or cellulose acetate propionate. 前記基層のセルロースエステルが、数平均分子量(Mn)80,000〜200,000、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値が1.4〜3.0であるセルロースエステルであることを特徴とする請求項1または2に記載のハードコートフィルム。 The cellulose ester of the base layer is a cellulose ester having a number average molecular weight (Mn) of 80,000 to 200,000 and a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) value of 1.4 to 3.0. The hard coat film according to claim 1 or 2. 前記表層が微粒子を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のハードコートフィルム。 The hard coat film according to claim 1, wherein the surface layer contains fine particles. 前記表層が可塑剤を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のハードコートフィルム。 The hard coat film according to any one of claims 1 to 4, wherein the surface layer contains a plasticizer. ハードコート層に隣接する前記表層の可塑剤含有量が、前記多層構成のセルロースエステルフィルムの平均可塑剤含有量よりも多いことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のハードコートフィルム。 6. The hard according to claim 1, wherein a plasticizer content of the surface layer adjacent to the hard coat layer is larger than an average plasticizer content of the multilayered cellulose ester film. Coat film. 前記ハードコート層の上に更に反射防止層を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のハードコートフィルム。 The hard coat film according to claim 1, further comprising an antireflection layer on the hard coat layer. 可塑剤、紫外線吸収剤及び総アシル基置換度2.8以上のセルロースエステルを有する基層を形成する為のセルロースエステル溶液Aと、総アシル基置換度が2.7以下のセルロースエステルを有する表層を形成する為のセルロースエステル溶液Bとを共流延法によって、基層と、膜厚が0.1〜15μmの表層を少なくとも一層有する多層構成のセルロースエステルフィルムを形成し、該セルロースエステルフィルムの表層の上に活性線硬化樹脂層を塗設して、次いで活性線を照射してハードコート層を形成することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。 A cellulose ester solution A for forming a base layer having a plasticizer, an ultraviolet absorber and a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.8 or more, and a surface layer having a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.7 or less. The cellulose ester solution B to be formed is formed by a co-casting method to form a cellulose ester film having a multilayer structure having at least one base layer and a surface layer having a film thickness of 0.1 to 15 μm. A method for producing a hard coat film, comprising: coating an active ray curable resin layer on the top and then irradiating with active rays to form a hard coat layer.
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