JP4389517B2 - Manufacturing method of optical film - Google Patents
Manufacturing method of optical film Download PDFInfo
- Publication number
- JP4389517B2 JP4389517B2 JP2003294237A JP2003294237A JP4389517B2 JP 4389517 B2 JP4389517 B2 JP 4389517B2 JP 2003294237 A JP2003294237 A JP 2003294237A JP 2003294237 A JP2003294237 A JP 2003294237A JP 4389517 B2 JP4389517 B2 JP 4389517B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- layer
- cellulose ester
- solvent
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims description 88
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 248
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 155
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 108
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 92
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 90
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 90
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 claims description 69
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 60
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 57
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 52
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 51
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 29
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 27
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 23
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 21
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 10
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 claims description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 8
- 238000011978 dissolution method Methods 0.000 claims description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 3
- -1 1,1-dichloroethylene, 1,2-dichloroethylene, 1,1,1,2-tetrachloroethane Chemical class 0.000 description 378
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 233
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 84
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 76
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 69
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 68
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 62
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 58
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 47
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 35
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 34
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 34
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 32
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 31
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 30
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 29
- 125000006367 bivalent amino carbonyl group Chemical group [H]N([*:1])C([*:2])=O 0.000 description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 28
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 28
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 27
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 26
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 26
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 25
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 25
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 25
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 24
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 24
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 23
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 22
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 21
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 20
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 18
- 235000019197 fats Nutrition 0.000 description 18
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 18
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 18
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 17
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 17
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 17
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 17
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 17
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 15
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 15
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 15
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 15
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 13
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 11
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 10
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 10
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 10
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 10
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 10
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 10
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 9
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 8
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 8
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 8
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 8
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 8
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 8
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 8
- 125000003363 1,3,5-triazinyl group Chemical group N1=C(N=CN=C1)* 0.000 description 7
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 7
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 7
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 7
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 7
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 7
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 7
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 6
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 6
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 6
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 6
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 6
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003917 carbamoyl group Chemical class [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 6
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 6
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 6
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 6
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PZBLUWVMZMXIKZ-UHFFFAOYSA-N 2-o-(2-ethoxy-2-oxoethyl) 1-o-ethyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC PZBLUWVMZMXIKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 5
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 5
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 5
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 5
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 5
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 5
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 5
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 5
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 5
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 5
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003762 3,4-dimethoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1* 0.000 description 4
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003368 amide group Chemical class 0.000 description 4
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 4
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N meso ribitol Natural products OCC(O)C(O)C(O)CO HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 4
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 4
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloroethane Chemical compound ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(C)O MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 3
- 125000004362 3,4,5-trichlorophenyl group Chemical group [H]C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C([H])=C1* 0.000 description 3
- 125000005809 3,4,5-trimethoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C(OC([H])([H])[H])C(OC([H])([H])[H])=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1* 0.000 description 3
- 125000004189 3,4-dichlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(Cl)C([H])=C1* 0.000 description 3
- 125000004179 3-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(Cl)=C1[H] 0.000 description 3
- 125000004208 3-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C([H])C(*)=C1[H] 0.000 description 3
- 125000004207 3-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C1[H] 0.000 description 3
- BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N Abietic acid Natural products CC(C)C1=CC2=CC[C@]3(C)[C@](C)(CCC[C@@]3(C)C(=O)O)[C@H]2CC1 BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N 0.000 description 3
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 3
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 3
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- FSBVERYRVPGNGG-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[[oxido(oxo)silyl]oxy]silane hydrate Chemical compound O.[Mg+2].[Mg+2].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])([O-])O[Si]([O-])=O FSBVERYRVPGNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 3
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N pentadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 125000005420 sulfonamido group Chemical class S(=O)(=O)(N*)* 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 3
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 3
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- LPSFUJXLYNJWPX-UHFFFAOYSA-N 1,1'-biphenyl;diphenyl hydrogen phosphate Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1OP(=O)(O)OC1=CC=CC=C1 LPSFUJXLYNJWPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-butanetriol Chemical compound OCCC(O)CO ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C)C(C)=CC=C21 QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanamine Chemical compound CC(C)CN KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004217 4-methoxybenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1OC([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOJCZVPJCKEBQV-UHFFFAOYSA-N Butyl phthalyl butylglycolate Chemical compound CCCCOC(=O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC GOJCZVPJCKEBQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRAUJMFFRKZIHN-UHFFFAOYSA-N CC=C.F.F.F Chemical compound CC=C.F.F.F CRAUJMFFRKZIHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMNFGCPRQHEXNB-UHFFFAOYSA-N CC=C.F.F.F.F Chemical compound CC=C.F.F.F.F YMNFGCPRQHEXNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 2
- QUUCYKKMFLJLFS-UHFFFAOYSA-N Dehydroabietan Natural products CC1(C)CCCC2(C)C3=CC=C(C(C)C)C=C3CCC21 QUUCYKKMFLJLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFWKVWVWBFBAOV-UHFFFAOYSA-N Dehydroabietic acid Natural products OC(=O)C1(C)CCCC2(C)C3=CC=C(C(C)C)C=C3CCC21 NFWKVWVWBFBAOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 2
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYXTWWCETRIEDR-UHFFFAOYSA-N Tributyrin Chemical compound CCCC(=O)OCC(OC(=O)CCC)COC(=O)CCC UYXTWWCETRIEDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N Xylitol Natural products OCCC(O)C(O)C(O)CCO TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005092 alkenyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005108 alkenylthio group Chemical class 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical class 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- YZXBAPSDXZZRGB-DOFZRALJSA-N arachidonic acid Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCC(O)=O YZXBAPSDXZZRGB-DOFZRALJSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AKGGYBADQZYZPD-UHFFFAOYSA-N benzylacetone Chemical compound CC(=O)CCC1=CC=CC=C1 AKGGYBADQZYZPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000005385 borate glass Substances 0.000 description 2
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSIFPSYPOVKYCO-UHFFFAOYSA-N butyl benzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 XSIFPSYPOVKYCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N butyl formate Chemical compound CCCCOC=O NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 2
- VZOMISXLJWYOPG-UHFFFAOYSA-N chloroform trihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.Cl.ClC(Cl)Cl VZOMISXLJWYOPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Natural products OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JBDSSBMEKXHSJF-UHFFFAOYSA-N cyclopentanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC1 JBDSSBMEKXHSJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- NFWKVWVWBFBAOV-MISYRCLQSA-N dehydroabietic acid Chemical compound OC(=O)[C@]1(C)CCC[C@]2(C)C3=CC=C(C(C)C)C=C3CC[C@H]21 NFWKVWVWBFBAOV-MISYRCLQSA-N 0.000 description 2
- 229940118781 dehydroabietic acid Drugs 0.000 description 2
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical compound FCF RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVWTZAGVNBPXHU-FOCLMDBBSA-N dioctyl (e)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)\C=C\C(=O)OCCCCCCCC TVWTZAGVNBPXHU-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- VXZBFBRLRNDJCS-UHFFFAOYSA-N heptacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VXZBFBRLRNDJCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N heptadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N heptanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZMQHOJDDMFGQX-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1,1-triol Chemical compound CCCCCC(O)(O)O TZMQHOJDDMFGQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- ISYWECDDZWTKFF-UHFFFAOYSA-N nonadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O ISYWECDDZWTKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N octacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- MDHYEMXUFSJLGV-UHFFFAOYSA-N phenethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCC1=CC=CC=C1 MDHYEMXUFSJLGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCCDLTOVEPVEJK-UHFFFAOYSA-N phenylacetone Chemical compound CC(=O)CC1=CC=CC=C1 QCCDLTOVEPVEJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N pinacol Chemical compound CC(C)(O)C(C)(C)O IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZHOJFHSIKHZHA-UHFFFAOYSA-N tridecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(O)=O SZHOJFHSIKHZHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 2
- 239000000811 xylitol Substances 0.000 description 2
- HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N xylitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N 0.000 description 2
- 235000010447 xylitol Nutrition 0.000 description 2
- 229960002675 xylitol Drugs 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- BITJPPJAVHCIOK-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-4-methoxy-5-methylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=C(C)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 BITJPPJAVHCIOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTCFGRXMJLQNBG-REOHCLBHSA-N (2S)-2-Amino-3-hydroxypropansäure Chemical compound OC[C@H](N)C(O)=O MTCFGRXMJLQNBG-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M (2r)-2-ethylhexanoate Chemical compound CCCC[C@@H](CC)C([O-])=O OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M 0.000 description 1
- DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-2-hydroxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CCl DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N (9Z,12Z)-9,10,12,13-tetratritiooctadeca-9,12-dienoic acid Chemical compound C(CCCCCCC\C(=C(/C\C(=C(/CCCCC)\[3H])\[3H])\[3H])\[3H])(=O)O OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N (n-propan-2-yloxycarbonylanilino) acetate Chemical compound CC(C)OC(=O)N(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 *Nc1nc(S*)nc(N*)n1 Chemical compound *Nc1nc(S*)nc(N*)n1 0.000 description 1
- ZXPCCXXSNUIVNK-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,3-pentachloropropane Chemical compound ClCC(Cl)C(Cl)(Cl)Cl ZXPCCXXSNUIVNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOBCVMIGRPRZBF-UHFFFAOYSA-N 1-O-benzyl 4-O-cyclohexyl benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C(C1=CC=C(C(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=C1)(=O)OC1CCCCC1 NOBCVMIGRPRZBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBSQPLPBRSHTTG-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1Cl IBSQPLPBRSHTTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 1-chlorohexane Chemical compound CCCCCCCl MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloropentane Chemical compound CCCCCCl SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUXXCHAGQCBNTI-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n,2-n,2-n-tetramethylpropane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)C(C)CN(C)C JUXXCHAGQCBNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical group C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKWFNFRXSUBSAA-UHFFFAOYSA-N 1-o-benzyl 2-o-cyclohexyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OC2CCCCC2)C=1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 MKWFNFRXSUBSAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORDLFWFBIHLAOM-UHFFFAOYSA-N 1-o-cyclohexyl 2-o-phenyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OC=2C=CC=CC=2)C=1C(=O)OC1CCCCC1 ORDLFWFBIHLAOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZXMRAGGRIUTGC-UHFFFAOYSA-N 1-o-cyclohexyl 4-o-phenyl benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=1C=C(C(=O)OC=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)OC1CCCCC1 BZXMRAGGRIUTGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxypropan-2-ol Chemical compound CC(O)COC1=CC=CC=C1 IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUBBHLUEJPLYOZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-4-(4-phenylphenyl)benzene phosphoric acid Chemical compound P(=O)(O)(O)O.C1(=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)C1=CC=CC=C1 YUBBHLUEJPLYOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 10-undecenoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC=C FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWVAEQAOZDETGQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(benzoyloxymethyl)butyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OCC(COC(=O)C=1C=CC=CC=1)(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1 OWVAEQAOZDETGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTINZFQXZLCHNS-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)butan-1-ol Chemical compound C1OC1COCC(CO)(CC)COCC1CO1 JTINZFQXZLCHNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCC(CC)(C([O-])=O)C([O-])=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001617 2,3-dimethoxy phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(OC([H])([H])[H])C(OC([H])([H])[H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005808 2,4,6-trimethoxyphenyl group Chemical group [H][#6]-1=[#6](-[#8]C([H])([H])[H])-[#6](-*)=[#6](-[#8]C([H])([H])[H])-[#6]([H])=[#6]-1-[#8]C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004201 2,4-dichlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(Cl)C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- NZOHALCQLXDJDI-UHFFFAOYSA-L 2,5-Bis[(iodomercuri)methyl]-p-dioxane Chemical compound I[Hg]CC1COC(C[Hg]I)CO1 NZOHALCQLXDJDI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethoxyphenol Chemical group COC1=CC=CC(OC)=C1O KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQROEYPMNFCJCK-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O AQROEYPMNFCJCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZXIZTKNFFYFOF-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazolidone Chemical compound O=C1NCCO1 IZXIZTKNFFYFOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APWRLAZEMYLHKZ-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5,6-dimethyl-1h-pyrimidin-4-one Chemical compound CC=1NC(N)=NC(=O)C=1C APWRLAZEMYLHKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPJGLSZLQLNZIW-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-3-(4-methyl-1h-indol-3-yl)propanoate Chemical compound CC1=CC=CC2=C1C(CC(N)C(O)=O)=CN2 FPJGLSZLQLNZIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- FEWFXBUNENSNBQ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacrylic acid Chemical compound OC(=C)C(O)=O FEWFXBUNENSNBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004204 2-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFKYDMBUMLWDA-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 WHFKYDMBUMLWDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILYSAKHOYBPSPC-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbenzoic acid Chemical group OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ILYSAKHOYBPSPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- RXHVVJULNJJOHY-UHFFFAOYSA-N 3-(1-benzylcyclohexyl)oxycarbonylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OC2(CC=3C=CC=CC=3)CCCCC2)=C1 RXHVVJULNJJOHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLVCBAMXYMWGLJ-UHFFFAOYSA-N 3-(chloromethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)CCl WLVCBAMXYMWGLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDXXIYHRSQNUHF-UHFFFAOYSA-N 3-O-cyclohexyl 1-O-phenyl benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound C(C1=CC(C(=O)OC2CCCCC2)=CC=C1)(=O)OC1=CC=CC=C1 BDXXIYHRSQNUHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAJVDSVGBWFCLW-UHFFFAOYSA-N 3-Phenyl-1-propanol Chemical compound OCCCC1=CC=CC=C1 VAJVDSVGBWFCLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical compound CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSYRISKCBOPJRG-UHFFFAOYSA-N 4,5-difluoro-2,2-bis(trifluoromethyl)-1,3-dioxole Chemical compound FC1=C(F)OC(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)O1 YSYRISKCBOPJRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 4-Chlorotoluene Chemical compound CC1=CC=C(Cl)C=C1 NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-nitro-4-(trifluoromethyl)phenyl]morpholine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1N1CCOCC1 UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 4-ethylmorpholine Chemical compound CCN1CCOCC1 HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIQIXEFWDLTDED-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-1-piperidin-4-ylpyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CC(O)CN1C1CCNCC1 HIQIXEFWDLTDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005506 ACRYPET® MD Polymers 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WWXUGNUFCNYMFK-UHFFFAOYSA-N Acetyl citrate Chemical compound CC(=O)OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O WWXUGNUFCNYMFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- VHOMAPWVLKRQAZ-UHFFFAOYSA-N Benzyl propionate Chemical group CCC(=O)OCC1=CC=CC=C1 VHOMAPWVLKRQAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDKYEUQMPZIGFN-UHFFFAOYSA-N Butyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCCC NDKYEUQMPZIGFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBYMHCSNWNVMIC-UHFFFAOYSA-N C.F.F Chemical compound C.F.F PBYMHCSNWNVMIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZATUCRIZNLIMM-UHFFFAOYSA-N C1(CCCCC1)C1(C(CCCC1)(C(=O)O)C1CCCCC1)C(=O)O Chemical compound C1(CCCCC1)C1(C(CCCC1)(C(=O)O)C1CCCCC1)C(=O)O WZATUCRIZNLIMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLYGRXIOLRLAAX-UHFFFAOYSA-N C1CCC1.Cl.Cl Chemical compound C1CCC1.Cl.Cl QLYGRXIOLRLAAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEXVGFQOXLQBLS-UHFFFAOYSA-N C1CCC1.F.F.F.F.Cl.Cl Chemical compound C1CCC1.F.F.F.F.Cl.Cl ZEXVGFQOXLQBLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDCWBDWPPAHSOR-UHFFFAOYSA-N C1CCC1.F.F.F.F.F.F.F.F Chemical compound C1CCC1.F.F.F.F.F.F.F.F YDCWBDWPPAHSOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXMXBVQUJDRABE-UHFFFAOYSA-N CC(O)=O.CC(O)=O.C(c1ccccc1)C1(Cc2ccccc2)CCCCC1 Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.C(c1ccccc1)C1(Cc2ccccc2)CCCCC1 GXMXBVQUJDRABE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KETZLZYEIWZIQE-UHFFFAOYSA-N CC.F.F.F.F Chemical compound CC.F.F.F.F KETZLZYEIWZIQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- XMOZWTZDMACVMS-UHFFFAOYSA-N Cc1cccc(Nc2nc(Nc3cccc(C)c3)nc(Nc3cc(C)ccc3)n2)c1 Chemical compound Cc1cccc(Nc2nc(Nc3cccc(C)c3)nc(Nc3cc(C)ccc3)n2)c1 XMOZWTZDMACVMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 239000004801 Chlorinated PVC Substances 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- HEBKCHPVOIAQTA-QWWZWVQMSA-N D-arabinitol Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-QWWZWVQMSA-N 0.000 description 1
- 239000004803 Di-2ethylhexylphthalate Substances 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTJFFFGAUHQWII-UHFFFAOYSA-N Dibutyl adipate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCCC(=O)OCCCC XTJFFFGAUHQWII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUXIBTJKHLUKBD-UHFFFAOYSA-N Dibutyl succinate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC(=O)OCCCC YUXIBTJKHLUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOWAEIGWURALJQ-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexyl phthalate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OC2CCCCC2)C=1C(=O)OC1CCCCC1 VOWAEIGWURALJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIZORQUEIQEFRT-UHFFFAOYSA-N Diethyl adipate Chemical compound CCOC(=O)CCCCC(=O)OCC VIZORQUEIQEFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- DKMROQRQHGEIOW-UHFFFAOYSA-N Diethyl succinate Chemical compound CCOC(=O)CCC(=O)OCC DKMROQRQHGEIOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004985 Discotic Liquid Crystal Substance Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIZCTWCPHWUPFU-UHFFFAOYSA-N Glycerol tribenzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OCC(OC(=O)C=1C=CC=CC=1)COC(=O)C1=CC=CC=C1 HIZCTWCPHWUPFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M Glycolate Chemical compound OCC([O-])=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Natural products OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000000797 Hibiscus cannabinus Species 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- AGPKZVBTJJNPAG-WHFBIAKZSA-N L-isoleucine Chemical compound CC[C@H](C)[C@H](N)C(O)=O AGPKZVBTJJNPAG-WHFBIAKZSA-N 0.000 description 1
- ROHFNLRQFUQHCH-YFKPBYRVSA-N L-leucine Chemical compound CC(C)C[C@H](N)C(O)=O ROHFNLRQFUQHCH-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- FFEARJCKVFRZRR-BYPYZUCNSA-N L-methionine Chemical compound CSCC[C@H](N)C(O)=O FFEARJCKVFRZRR-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- COLNVLDHVKWLRT-QMMMGPOBSA-N L-phenylalanine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CC=CC=C1 COLNVLDHVKWLRT-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- AYFVYJQAPQTCCC-GBXIJSLDSA-N L-threonine Chemical compound C[C@@H](O)[C@H](N)C(O)=O AYFVYJQAPQTCCC-GBXIJSLDSA-N 0.000 description 1
- KZSNJWFQEVHDMF-BYPYZUCNSA-N L-valine Chemical compound CC(C)[C@H](N)C(O)=O KZSNJWFQEVHDMF-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- ROHFNLRQFUQHCH-UHFFFAOYSA-N Leucine Natural products CC(C)CC(N)C(O)=O ROHFNLRQFUQHCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021353 Lignoceric acid Nutrition 0.000 description 1
- CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N Lignoceric acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCC1=CC=C(O)C=C1 CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWNSVVHTTQBGQB-UHFFFAOYSA-N N,N-Diethyldodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)N(CC)CC CWNSVVHTTQBGQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKNUHUCEWALCOI-UHFFFAOYSA-N N-ethyldiethanolamine Chemical compound OCCN(CC)CCO AKNUHUCEWALCOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004341 Octafluorocyclobutane Substances 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005643 Pelargonic acid Substances 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYUQAZSOFZSPHD-UHFFFAOYSA-N Phenylpropyl alcohol Natural products CCC(O)C1=CC=CC=C1 DYUQAZSOFZSPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001131 Pulp (paper) Polymers 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N Serine Natural products OCC(N)C(O)=O MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYFVYJQAPQTCCC-UHFFFAOYSA-N Threonine Natural products CC(O)C(N)C(O)=O AYFVYJQAPQTCCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004473 Threonine Substances 0.000 description 1
- 229910010303 TiOxNy Inorganic materials 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- KZSNJWFQEVHDMF-UHFFFAOYSA-N Valine Natural products CC(C)C(N)C(O)=O KZSNJWFQEVHDMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032900 absorption of visible light Effects 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 229940022663 acetate Drugs 0.000 description 1
- UGZICOVULPINFH-UHFFFAOYSA-N acetic acid;butanoic acid Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)=O UGZICOVULPINFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940022682 acetone Drugs 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- QUMXDOLUJCHOAY-UHFFFAOYSA-N alpha-methylbenzyl acetate Natural products CC(=O)OC(C)C1=CC=CC=C1 QUMXDOLUJCHOAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N alpha-methylcyclopentanone Natural products CC1CCCC1=O ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- 229940024606 amino acid Drugs 0.000 description 1
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 235000021342 arachidonic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940114079 arachidonic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N bis(2-methoxyethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound COCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVRNUDCCYWKHMV-UHFFFAOYSA-N bis(2-methoxyethyl) hexanedioate Chemical compound COCCOC(=O)CCCCC(=O)OCCOC GVRNUDCCYWKHMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N butanoyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC(=O)CCC YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFNONBGXNFCTMM-UHFFFAOYSA-N butoxybenzene Chemical compound CCCCOC1=CC=CC=C1 YFNONBGXNFCTMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- KHAVLLBUVKBTBG-UHFFFAOYSA-N caproleic acid Natural products OC(=O)CCCCCCCC=C KHAVLLBUVKBTBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229920000457 chlorinated polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N cyano prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OC#N NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URAXDCBRCGSGAT-UHFFFAOYSA-N cyclooctanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCCCC1 URAXDCBRCGSGAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- UCVPKAZCQPRWAY-UHFFFAOYSA-N dibenzyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OCC=2C=CC=CC=2)C=1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 UCVPKAZCQPRWAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIVQLSUKOZNNCT-UHFFFAOYSA-N dibenzyl benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC(C(=O)OCC=2C=CC=CC=2)=CC=1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 OIVQLSUKOZNNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCYQQSKDZQTOQG-NXEZZACHSA-N dibutyl (2r,3r)-2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(=O)OCCCC PCYQQSKDZQTOQG-NXEZZACHSA-N 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N dibutyl (z)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 1
- 229940100539 dibutyl adipate Drugs 0.000 description 1
- 229960002097 dibutylsuccinate Drugs 0.000 description 1
- AAWATKNWODAUBC-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;hydrofluoride Chemical compound F.ClCCl AAWATKNWODAUBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHKQNOFDIBYEPH-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyl benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC(C(=O)OC2CCCCC2)=CC=1C(=O)OC1CCCCC1 BHKQNOFDIBYEPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAZCDOMDAJRNDD-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyl benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=1C=C(C(=O)OC2CCCCC2)C=CC=1C(=O)OC1CCCCC1 SAZCDOMDAJRNDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKBBUZRGPULIRN-UHFFFAOYSA-N diethyl 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCOC(=O)C(CC)(CC)C(=O)OCC ZKBBUZRGPULIRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- OUWSNHWQZPEFEX-UHFFFAOYSA-N diethyl glutarate Chemical compound CCOC(=O)CCCC(=O)OCC OUWSNHWQZPEFEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N diimidazo[1,3-b:1',3'-e]pyrazine-5,10-dione Chemical compound O=C1C2=CN=CN2C(=O)C2=CN=CN12 UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004862 dioxolanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- FHESUNXRPBHDQM-UHFFFAOYSA-N diphenyl benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC(C(=O)OC=2C=CC=CC=2)=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 FHESUNXRPBHDQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPGJOUYGWKFYQW-UHFFFAOYSA-N diphenyl benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=1C=C(C(=O)OC=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 HPGJOUYGWKFYQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWNAQMUDCDVSLT-UHFFFAOYSA-N diphenyl phthalate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OC=2C=CC=CC=2)C=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 DWNAQMUDCDVSLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWIWFCDNJNZEKB-UHFFFAOYSA-N dipropyl propanedioate Chemical compound CCCOC(=O)CC(=O)OCCC LWIWFCDNJNZEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000010130 dispersion processing Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- XHMOXAJGAJFKKU-UHFFFAOYSA-N ethanol;methyl acetate Chemical compound CCO.COC(C)=O XHMOXAJGAJFKKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N ethanol;titanium Chemical compound [Ti].CCO.CCO.CCO.CCO XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N ethenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FARYTWBWLZAXNK-WAYWQWQTSA-N ethyl (z)-3-(methylamino)but-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)\C=C(\C)NC FARYTWBWLZAXNK-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- FPIQZBQZKBKLEI-UHFFFAOYSA-N ethyl 1-[[2-chloroethyl(nitroso)carbamoyl]amino]cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound ClCCN(N=O)C(=O)NC1(C(=O)OCC)CCCCC1 FPIQZBQZKBKLEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCOC(=O)CO ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical group FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-GUCUJZIJSA-N galactitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-GUCUJZIJSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 1
- 125000000291 glutamic acid group Chemical group N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)* 0.000 description 1
- 239000001087 glyceryl triacetate Substances 0.000 description 1
- 235000013773 glyceryl triacetate Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011121 hardwood Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-BJUDXGSMSA-N helium-3 atom Chemical compound [3He] SWQJXJOGLNCZEY-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- AGPKZVBTJJNPAG-UHFFFAOYSA-N isoleucine Natural products CCC(C)C(N)C(O)=O AGPKZVBTJJNPAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000310 isoleucine Drugs 0.000 description 1
- ULYZAYCEDJDHCC-UHFFFAOYSA-N isopropyl chloride Chemical compound CC(C)Cl ULYZAYCEDJDHCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L magnesium acetate Chemical compound [Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011654 magnesium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000011285 magnesium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940069446 magnesium acetate Drugs 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229930182817 methionine Natural products 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQSHMXAZFHORGY-UHFFFAOYSA-N methyl prop-2-enoate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound COC(=O)C=C.CC(=C)C(O)=O IQSHMXAZFHORGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- RCAVMXODXXMCER-ASTDGNLGSA-N n,n-dimethyl-2-[2-[(e)-2-pyridin-2-ylethenyl]phenoxy]ethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.CN(C)CCOC1=CC=CC=C1\C=C\C1=CC=CC=N1 RCAVMXODXXMCER-ASTDGNLGSA-N 0.000 description 1
- RQAQWBFHPMSXKR-UHFFFAOYSA-N n-(4-chlorophenyl)-3-(phosphonooxy)naphthalene-2-carboxamide Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC2=CC=CC=C2C=C1C(=O)NC1=CC=C(Cl)C=C1 RQAQWBFHPMSXKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZYDAVFRVJXFHS-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-2-pyrrolidone Chemical compound O=C1CCCN1C1CCCCC1 PZYDAVFRVJXFHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N n-tert-butylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)(C)NC(=O)C=C XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N o-dicarboxybenzene Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N octafluorocyclobutane Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019407 octafluorocyclobutane Nutrition 0.000 description 1
- KSCKTBJJRVPGKM-UHFFFAOYSA-N octan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-] KSCKTBJJRVPGKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 1
- YAFOVCNAQTZDQB-UHFFFAOYSA-N octyl diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)(OCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1 YAFOVCNAQTZDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N pentamethyldiethylenetriamine Chemical compound CN(C)CCN(C)CCN(C)C UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N pentane-1,1-diol Chemical compound CCCCC(O)O UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N phenetole Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1 DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- COLNVLDHVKWLRT-UHFFFAOYSA-N phenylalanine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CC=CC=C1 COLNVLDHVKWLRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940067107 phenylethyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920005670 poly(ethylene-vinyl chloride) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical group 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N propionic anhydride Chemical compound CCC(=O)OC(=O)CC WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940116423 propylene glycol diacetate Drugs 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052704 radon Inorganic materials 0.000 description 1
- SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N radon atom Chemical compound [Rn] SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- HEBKCHPVOIAQTA-ZXFHETKHSA-N ribitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-ZXFHETKHSA-N 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000003441 saturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000004334 sorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010199 sorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940075582 sorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005650 substituted phenylene group Chemical group 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- SITVSCPRJNYAGV-UHFFFAOYSA-L tellurite Chemical compound [O-][Te]([O-])=O SITVSCPRJNYAGV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N thiodiglycol Chemical compound OCCSCCO YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950006389 thiodiglycol Drugs 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBKMOPGKNJBDFA-UHFFFAOYSA-N tricyclohexyl 2-hydroxypropane-1,2,3-tricarboxylate Chemical compound C1CCCCC1OC(=O)CC(C(=O)OC1CCCCC1)(O)CC(=O)OC1CCCCC1 CBKMOPGKNJBDFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHYFQTYBJUILEZ-IUPFWZBJSA-N triolein Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PHYFQTYBJUILEZ-IUPFWZBJSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 229960002703 undecylenic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000004474 valine Substances 0.000 description 1
- LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N vanadate(3-) Chemical compound [O-][V]([O-])([O-])=O LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
本発明は、光学フィルムの製造方法に関し、より詳しくは平面性、平滑性、光学特性に優れた光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to the production how light optical film, and more particularly relates to flatness, smoothness, producing how the optical film for producing the optical film excellent in optical properties.
液晶ディスプレイ用偏光板保護フィルム、有機ELディスプレイ等に用いられる偏光板の保護フィルムなどの用途に使用される透明な樹脂フィルム(単にフィルということあり)には、セルロースエステルフィルムが用いられ、様々な機能を持たせるために幾つかの機能層が塗設されている。 Cellulose ester films are used for transparent resin films (sometimes simply referred to as “fill”) used in applications such as polarizing plate protective films for liquid crystal displays and polarizing plate protective films used in organic EL displays. Several functional layers are provided to provide functions.
例えば、帯電防止機能を持たせるための帯電防止層や、表面硬度を向上させるための硬化樹脂層、膜付き性を向上させるための下引き層、カールを防止するためのアンチカール層、或いは防眩層、反射防止層などである。 For example, an antistatic layer for providing an antistatic function, a cured resin layer for improving surface hardness, a subbing layer for improving film adhesion, an anti-curl layer for preventing curling, or an anti-curling layer. For example, a glare layer and an antireflection layer.
一方、視認性向上を目的とした技術としては、実質的にハロゲン化炭化水素を含有しない溶媒を用いて形成したセルロースエステルフィルムを用いて反射防止層を形成する技術(例えば、特許文献1参照。)が記載されている。この方法で薄膜を多層積層すると膜厚ムラが生じやすく、その改善が求められていた。 On the other hand, as a technique for improving visibility, a technique for forming an antireflection layer using a cellulose ester film formed using a solvent that does not substantially contain a halogenated hydrocarbon (see, for example, Patent Document 1). ) Is described. When thin films are laminated by this method, film thickness unevenness is likely to occur, and improvement thereof has been demanded.
また、溶融流延法により形成されたセルロースエステルフィルムを用いた光学フィルムが提案されている(例えば、特許文献2参照。)。この構成により、光学特性、物理特性、平面性、密着性に優れた光学フィルムを得ることが出来、更にフィルムの製造において有機溶媒を使用しないため、環境やコスト上有利なフィルムである。 In addition, an optical film using a cellulose ester film formed by a melt casting method has been proposed (see, for example, Patent Document 2). With this configuration, an optical film excellent in optical properties, physical properties, flatness, and adhesion can be obtained, and since an organic solvent is not used in the production of the film, the film is advantageous in terms of environment and cost.
また、溶融流延法によって生産されたセルロースエステルフィルムには、通常の製造時に有機溶媒を使用する溶液流延法のセルロースエステルフィルムと同様に、可塑剤や紫外線吸収剤といった添加剤が含まれているが、これらの添加剤は、セルロースエステルフィルムの加工性や透湿性を改善するために添加されている。 In addition, the cellulose ester film produced by the melt casting method contains additives such as a plasticizer and an ultraviolet absorber, as in the case of the cellulose ester film of the solution casting method that uses an organic solvent during normal production. However, these additives are added to improve the processability and moisture permeability of the cellulose ester film.
しかしながら、該セルロースエステルフィルムは優れた環境特性や諸性能を有しているものの、これらの添加剤を含むことにより、例えば硬化樹脂層のような樹脂層を前記セルロースエステルフィルム上に設けると、通常の溶液流延法によって製造されたフィルムより平面性や密着性は改善されるものの、十分ではないことが分かった。特に、フィルム上に有機溶媒を多量に含む樹脂層を塗設すると、有機溶媒のフィルムへの拡散に起因するものと考えられる平面性や密着性の劣化が発生することが分かった。 However, although the cellulose ester film has excellent environmental characteristics and various performances, when a resin layer such as a cured resin layer is provided on the cellulose ester film by including these additives, usually, It was found that although the flatness and adhesion were improved as compared with the film produced by the solution casting method, it was not sufficient. In particular, it has been found that when a resin layer containing a large amount of an organic solvent is coated on the film, the flatness and adhesion deteriorated due to the diffusion of the organic solvent into the film.
また、溶融流延法によって製造されたセルロースエステルフィルム基材に、有機溶媒を多量に含む硬化樹脂層を塗設した光学フィルムを巻き取った状態で高温高湿下で保存させると平面性が劣化するという特有な問題が発生した。こうなると平面性が劣化した部分を廃棄せねばならず、生産性が著しく低下する。特に表示装置の前面に用いられる偏光板或いは反射防止フィルムではその要求性能が厳しく、より平面性に優れた光学フィルムが望まれていた。 In addition, the planarity deteriorates when stored under high temperature and high humidity with the optical film coated with a cured resin layer containing a large amount of organic solvent on the cellulose ester film substrate produced by the melt casting method. A unique problem occurred. In this case, the portion where the flatness has deteriorated must be discarded, and the productivity is significantly reduced. In particular, a polarizing plate or an antireflection film used for the front surface of a display device has strict performance requirements, and an optical film having better flatness has been desired.
ハードコート層塗布組成物からできるだけ有機溶媒の使用量を減らす方法として、例えば、ハードコート被膜の形成方法及びハードコーテイング用組成物として、有機溶媒の使用量を減らした塗布組成物を開示している(例えば、特許文献3参照。)が、該特許の主目的はインクジェット法を用いてプラスチックレンズ等の光学部材へ塗布するための塗布組成物であり、薄膜、広幅のセルロースエステルフィルムへ生産性よく適用するには問題があった。 As a method for reducing the amount of organic solvent used from the hard coat layer coating composition as much as possible, for example, as a method for forming a hard coat film and a composition for hard coating, a coating composition in which the amount of organic solvent used is reduced is disclosed. (For example, see Patent Document 3) However, the main purpose of this patent is a coating composition for coating optical members such as plastic lenses using an ink jet method, and it is highly productive to thin film and wide cellulose ester films. There was a problem to apply.
上記したように、フィルム製造の環境問題と併せて、最近の傾向としては表示装置の薄型化、表示面積の大画面化の要望も大きく、このため、使用するフィルムの膜厚もますます薄く、また広幅のものが求められており、光学フィルム表面の平面性、平滑性に対する要求が更に厳しい状況にある。しかしながら、膜厚を薄くしたり広幅化にすることにより、前記フィルム表面の平面性、平滑性は更に劣る傾向にあり、上記問題の早急な改善が望まれている。
従って、本発明の目的は、製造時の環境適性に優れた薄膜、広幅のフィルムを用いた場合でも平面性、密着性、光学特性に優れた光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法を提供するものである。 Accordingly, an object of the present invention, provides a thin film excellent in environmental adaptability during manufacture, flatness even when a wide film, the adhesion, the preparation how the optical film for producing the optical film excellent in optical properties To do.
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
(請求項1)
少なくとも樹脂と、水及び有機溶媒からなる溶媒とを含有し、固形分含有量が10〜70質量%、該溶媒中の水分含有量が30質量%以上である塗布組成物を、溶液流延製膜法を用いて製膜後2軸延伸された、塩素系溶媒の残留量が0.01質量%未満であるセルロースエステルフィルム基材上に塗布し、更に活性線照射により硬化させて樹脂層を設けることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
(請求項2)
前記溶液流延製膜法を実施するにあたり、実質的に塩素系溶媒を含有しないセルロースエステル溶液を用いることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。
(請求項3)
前記セルロースエステルフィルム基材が、冷却溶解法で調製したセルロースエステル溶液を用いて溶液流延により製膜されたフィルムであることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。
(請求項4)
前記セルロースエステルフィルム基材が、前記塗布組成物を塗布する前に表面改質処理されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
(請求項5)
前記表面改質処理が、コロナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ放電処理、またはアルカリ鹸化処理であることを特徴とする請求項4に記載の光学フィルムの製造方法。
The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
(Claim 1)
A coating composition comprising at least a resin and a solvent composed of water and an organic solvent, having a solid content of 10 to 70% by mass and a water content of 30% by mass or more in the solvent. The film layer is applied to a cellulose ester film substrate that is biaxially stretched after film formation and has a residual amount of chlorinated solvent of less than 0.01% by mass, and is further cured by actinic radiation to form a resin layer. A method for producing an optical film, comprising: providing an optical film .
(Claim 2)
2. The method for producing an optical film according to claim 1, wherein a cellulose ester solution containing substantially no chlorinated solvent is used in carrying out the solution casting film forming method .
(Claim 3)
The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the cellulose ester film substrate is a film formed by solution casting using a cellulose ester solution prepared by a cooling dissolution method .
(Claim 4)
The said cellulose-ester film base material is surface-modified before apply | coating the said coating composition, The manufacturing method of the optical film of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned .
(Claim 5)
The method for producing an optical film according to claim 4, wherein the surface modification treatment is corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma discharge treatment, or alkali saponification treatment .
本発明によれば、製造時の環境適性に優れ、薄膜、広幅のフィルムを用いた場合でも平面性、密着性、光学特性に優れた光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法を提供することができる。 According to the present invention, to provide excellent environmental suitability during production, film, flatness even when a wide film, the adhesion, the preparation how the optical film for producing the optical film excellent in optical properties Can do.
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited thereto.
本発明の光学フィルムの製造方法は、上記課題に鑑みてなされたものであり、少なくとも樹脂と、水及び有機溶媒からなる溶媒とを含有し、固形分含有量が10〜70質量%、該溶媒中の水分含有量が30質量%以上である塗布組成物を、溶液流延製膜法を用いて製膜後2軸延伸された、塩素系溶媒の残留量が0.01質量%未満であるセルロースエステルフィルム基材上に塗布し、更に活性線照射により硬化させて樹脂層を設けることを特徴とする。 The method for producing an optical film of the present invention has been made in view of the above problems, and at least a resin, containing a solvent consisting of water and an organic solvent, solid content 10 to 70 wt%, the solvent The residual amount of the chlorinated solvent is less than 0.01% by mass , in which the coating composition having a water content of 30% by mass or more is biaxially stretched after film formation using the solution casting film forming method. It is characterized in that it is coated on a cellulose ester film substrate and further cured by actinic radiation to provide a resin layer .
本発明では、溶液流延製膜法を用いて製膜し、塩素系溶媒の残留量が0.01質量%未満であるセルロースエステルフィルム基材上に塗布される塗布組成物に使用する有機溶媒を、水と有機溶媒の混合系に代えることで、有機溶媒の拡散による平面性劣化を改善する。また、本発明では、有機溶媒の拡散により平面性に悪影響を及ぼすセルロースエステルフィルム基材中の特定な可塑剤を、該影響の少ない可塑剤に置き換えることで、更に平面性を改善できることを見出し、総合的に優れた光学フィルムの製造方法を提供するものである。 In the present invention, and a film using a solution casting film forming method, the residual amount of the chlorinated solvent is used in the coating fabric compositions that will be applied on the cellulose ester film base is less than 0.01 wt% organic By replacing the solvent with a mixed system of water and an organic solvent, planarity deterioration due to diffusion of the organic solvent is improved. Further, in the present invention, it has been found that the planarity can be further improved by replacing a specific plasticizer in the cellulose ester film base material that adversely affects the planarity by diffusion of the organic solvent with a plasticizer having a small influence. it is intended to provide a manufacturing how the overall excellent optical fill-time.
以下、本発明を更に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
〈セルロースエステルフィルム基材〉
本発明に係る塩素系溶媒の残留量が0.01質量%未満のセルロースエステルフィルムを得る方法は特に限定されないが、例えば、あらかじめセルロースエステルフィルムを加熱した水等に浸漬して吸水させ、これを乾燥させることによって塩素系溶媒を追い出すこともできる。特に好ましくは、実質的に塩素系溶媒を含有しない溶媒を用いて製膜することにより、塩素系溶媒の残留量を0.01質量%未満に調製したセルロースエステルフィルムを好ましく得ることが出きる。
<Cellulose ester film substrate>
The method for obtaining the cellulose ester film having a residual amount of the chlorinated solvent according to the present invention of less than 0.01% by mass is not particularly limited. For example, the cellulose ester film is immersed in water or the like previously heated to absorb water, The chlorinated solvent can be driven out by drying. Particularly preferably, it is possible to preferably obtain a cellulose ester film in which the residual amount of the chlorinated solvent is adjusted to less than 0.01% by mass by forming a film using a solvent that does not substantially contain the chlorinated solvent.
従来、トリアセチルセルロースフィルムはメチレンクロライドを用いた溶液流延法によってのみ製造されている。乾燥工程でメチレンクロライドやその他の溶媒が残存しないように十分に乾燥させているが、大規模な乾燥設備が必要であり、完全にゼロにすることはきわめて困難で、また実用的ではなく、乾燥装置内の短時間の乾燥では0.1質量%未満の残留溶媒を更に低減させることは困難であった。又、製造されたトリアセチルセルロースフィルムはロール状で保管されるが、ロール状では残留した溶媒の揮発は抑制されるため、溶媒が残留した状態で次工程に送られていた。このような塩素系溶媒は環境上の配慮からも使用量を低減することが求められており、実質的に塩素系溶媒を含有しない溶媒を用いてセルロースエステルフィルムを製膜する方法が提案されている。塩素系溶媒と比較するとどうしても溶解性に劣るなどの問題点も多く、いまだ実用化されていないのが現状であるが、本発明では、下記に示すような、本発明に係る、実質的に塩素系溶媒を含有しない溶媒を採用することによって、上記課題を解決することができたのである。 Conventionally, a triacetyl cellulose film is produced only by a solution casting method using methylene chloride. Although it is sufficiently dried so that methylene chloride and other solvents do not remain in the drying process, a large-scale drying facility is required, and it is extremely difficult to make it completely zero. It was difficult to further reduce the residual solvent of less than 0.1% by mass within a short time of drying in the apparatus. Moreover, although the manufactured triacetyl cellulose film is stored in a roll shape, since the volatilization of the remaining solvent is suppressed in the roll shape, it was sent to the next step in a state where the solvent remained. Such a chlorinated solvent is required to reduce the amount of use from the viewpoint of the environment, and a method for forming a cellulose ester film using a solvent that does not substantially contain a chlorinated solvent has been proposed. Yes. There are many problems such as inferior solubility as compared with chlorinated solvents, and it has not yet been put into practical use, but in the present invention, the present invention has substantially chlorine as shown below. By adopting a solvent that does not contain a system solvent, the above problem could be solved.
本発明に係る塩素系溶媒としては、アリルクロリド、2−エチルヘキシルクロリド、塩化アミル、塩化イソプロピル、塩化エチル、塩化ブチル、塩化ヘキシル、塩化メチル、塩化メチレン(メチレンクロライド)、o−クロロトルエン、p−クロロトルエン、クロロベンゼン、クロロホルム、四塩化炭素、1,1−ジクロロエタン、1.2−ジクロロエタン、1,1−ジクロロエチレン、1,2−ジクロロエチレン、1,1,1,2−テトラクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、テトラメチレンクロロブロミド、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、トリクロロエチレン等が挙げられる。 Examples of the chlorinated solvent according to the present invention include allyl chloride, 2-ethylhexyl chloride, amyl chloride, isopropyl chloride, ethyl chloride, butyl chloride, hexyl chloride, methyl chloride, methylene chloride (methylene chloride), o-chlorotoluene, p- Chlorotoluene, chlorobenzene, chloroform, carbon tetrachloride, 1,1-dichloroethane, 1.2-dichloroethane, 1,1-dichloroethylene, 1,2-dichloroethylene, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1, Examples include 2,2-tetrachloroethane, tetrachloroethylene, tetramethylene chlorobromide, 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, trichloroethylene, and the like.
実質的に塩素系溶媒を含有しない溶媒とは、メチレンクロライド等の塩素系の溶媒の含有量が全溶媒量の5%以下であることを指しており、好ましくは3%以下であり、最も好ましくは0%である。 The solvent which does not substantially contain a chlorinated solvent means that the content of a chlorinated solvent such as methylene chloride is 5 % or less, preferably 3 % or less, most preferably Is 0%.
実質的に塩素系溶媒を含有しない溶媒としては、例えば、炭素原子数が2〜12のエーテル、炭素原子数が3〜12のケトンおよび炭素原子数が2〜12のエステル等が好ましく用いられる。 As the solvent substantially not containing a chlorine-based solvent, for example, ether having 2 to 12 carbon atoms, ketone having 3 to 12 carbon atoms, ester having 2 to 12 carbon atoms, and the like are preferably used.
上記のエーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基(すなわち、−O−、−CO−および−COO−)のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。 The above ethers, ketones and esters may have a cyclic structure. A compound having two or more functional groups of ether, ketone and ester (that is, —O—, —CO— and —COO—) can also be used as the organic solvent. The organic solvent may have another functional group such as an alcoholic hydroxyl group. In the case of an organic solvent having two or more types of functional groups, the number of carbon atoms may be within the specified range of the compound having any functional group.
炭素原子数が2〜12のエーテルの例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。 Examples of the ether having 2 to 12 carbon atoms include diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole.
炭素原子数が3〜12のケトンの例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。 Examples of the ketone having 3 to 12 carbon atoms include acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone and methylcyclohexanone.
炭素原子数が2〜12のエステルの例には、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノールおよび2−ブトキシエタノールが含まれる。 Examples of the ester having 2 to 12 carbon atoms include methyl formate, ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and pentyl acetate. Examples of the organic solvent having two or more kinds of functional groups include 2-ethoxyethyl acetate, 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol.
2種類以上の有機溶媒を混合した溶媒を用いてもよい。特に好ましい有機溶媒は、互いに異なる3種類以上の混合溶媒である。3種類以上の混合溶媒では、第1の溶媒が炭素原子数が3〜4のケトンおよび炭素原子数が2〜4のエステルあるいはこれらの混合溶媒であり、第2の溶媒が炭素原子数が5〜7のケトン、エーテルまたはアセト酢酸エステルから選ばれ、そして、第3の溶媒として沸点が30℃〜170℃のアルコールまたは沸点が30℃〜170℃の炭化水素を用いることが好ましい。第1の溶媒のケトンおよびエステルとしては、アセトン、酢酸メチル、蟻酸メチルおよび蟻酸エチルが好ましい。第2の溶媒としては、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセト酢酸メチル、ジオキサンおよび1,3−ジオキソランが好ましい。 You may use the solvent which mixed 2 or more types of organic solvent. Particularly preferred organic solvents are three or more different mixed solvents. In the mixed solvent of 3 or more types, the first solvent is a ketone having 3 to 4 carbon atoms and an ester having 2 to 4 carbon atoms or a mixed solvent thereof, and the second solvent has 5 carbon atoms. It is preferable to use an alcohol having a boiling point of 30 ° C. to 170 ° C. or a hydrocarbon having a boiling point of 30 ° C. to 170 ° C. as a third solvent. As the ketone and ester of the first solvent, acetone, methyl acetate, methyl formate and ethyl formate are preferable. As the second solvent, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl acetoacetate, dioxane and 1,3-dioxolane are preferable.
第3の溶媒のアルコールは一価であることが好ましい。アルコールの炭化水素部分は、直鎖であっても、分岐を有していても環状であってもよい。炭化水素部分は、飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール(沸点:64.65℃)、エタノール(78.325℃)、1−プロパノール(97.15℃)、2−プロパノール(82.4℃)、1−ブタノール(117.9℃)、2−ブタノール(99.5℃)、t−ブタノール(82.45℃)、1−ペンタノール(137.5℃)、2−メチル−2−ブタノール(101.9℃)およびシクロヘキサノール(161℃)が含まれる。また、二種類以上のアルコールを併用してもよい。 The alcohol of the third solvent is preferably monovalent. The hydrocarbon portion of the alcohol may be linear, branched or cyclic. The hydrocarbon moiety is preferably a saturated aliphatic hydrocarbon. The hydroxyl group of the alcohol may be any of primary to tertiary. Examples of alcohols include methanol (boiling point: 64.65 ° C.), ethanol (78.325 ° C.), 1-propanol (97.15 ° C.), 2-propanol (82.4 ° C.), 1-butanol (117. 9 ° C), 2-butanol (99.5 ° C), t-butanol (82.45 ° C), 1-pentanol (137.5 ° C), 2-methyl-2-butanol (101.9 ° C) and cyclo Hexanol (161 ° C.) is included. Two or more kinds of alcohols may be used in combination.
第3の溶媒の炭化水素は、直鎖であっても、分岐を有していても、環状であってもよい。炭化水素としては芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン(沸点:80.7℃)、ヘキサン(69℃)、ベンゼン(80.1℃)、トルエン(110.6℃)およびキシレン(138.4〜144.4℃)が含まれる。 The hydrocarbon of the third solvent may be linear, branched or cyclic. As the hydrocarbon, either an aromatic hydrocarbon or an aliphatic hydrocarbon can be used. The aliphatic hydrocarbon may be saturated or unsaturated. Examples of hydrocarbons include cyclohexane (boiling point: 80.7 ° C), hexane (69 ° C), benzene (80.1 ° C), toluene (110.6 ° C) and xylene (138.4-144.4 ° C). Is included.
3種混合溶媒中には、第1の溶媒が30質量%〜95質量%含まれることが好ましく、40質量%〜90質量%含まれることがより好ましく、50質量%〜90質量%含まれることが更に好ましい。第2の溶媒及び第3の溶媒は、1質量%〜40質量%含まれることが好ましく、3質量%〜30質量%含まれることがより好ましい。溶媒の組み合わせ例には、セルロースエステル/酢酸メチル/シクロヘキサノン/メタノール/エタノール(X/(70−X)/20/5/5、質量部)、セルロースエステル/酢酸メチル/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール(X/(50−X)/20/20/5/5、質量部)、セルロースエステル/アセトン/アセト酢酸メチル/エタノール(X/(75−X)/20//5、質量部)、セルロースエステル/酢酸メチル/シクロペンタノン/メタノール/エタノール(X/(80−X)/10/5/5、質量部)、セルロースエステル/酢酸メチル/1、3ジオキソラン/メタノール/エタノール(X/(70−X)/20/5/5、質量部)、セルロースエステル/酢酸メチル/ジオキサン/アセトン/メタノール/エタノール(X/(60−X)/20/10/5/5、質量部)およびセルロースエステル/1,3−ジオキソラン/シクロヘキサノン/メチルエチルケトン/メタノール/エタノール(X/(55−X)/20/10/5/5/5、質量部)が含まれる。上記Xは、セルロースエステルの質量部であって、好ましくは10〜25、さらに好ましくは13〜25である。 In the three kinds of mixed solvents, the first solvent is preferably contained in an amount of 30% by mass to 95% by mass, more preferably 40% by mass to 90% by mass, and more preferably 50% by mass to 90% by mass. Is more preferable. The second solvent and the third solvent are preferably contained in an amount of 1% by mass to 40% by mass, and more preferably 3% by mass to 30% by mass. Examples of solvent combinations include cellulose ester / methyl acetate / cyclohexanone / methanol / ethanol (X / (70-X) / 20/5/5, parts by mass), cellulose ester / methyl acetate / methyl ethyl ketone / acetone / methanol / ethanol. (X / (50-X) / 20/20/5/5, parts by mass), cellulose ester / acetone / methyl acetoacetate / ethanol (X / (75-X) / 20 // 5, parts by mass), cellulose Ester / methyl acetate / cyclopentanone / methanol / ethanol (X / (80-X) / 10/5/5, parts by mass), cellulose ester / methyl acetate / 1, 3 dioxolane / methanol / ethanol (X / (70 -X) / 20/5/5, parts by mass), cellulose ester / methyl acetate / dioxane / acetone / meta And ethanol / ethanol (X / (60-X) / 20/10/5/5, parts by mass) and cellulose ester / 1,3-dioxolane / cyclohexanone / methyl ethyl ketone / methanol / ethanol (X / (55-X) / 20/10/5/5/5, parts by mass). Said X is a mass part of a cellulose ester, Preferably it is 10-25, More preferably, it is 13-25.
セルロースエステルの溶解では、予め室温でセルロースエステルを非ハロゲン系有機溶媒に膨潤させることが好ましい。すなわち、非ハロゲン系有機溶媒にセルロースエステル粉末を良く攪拌しつつ添加するか、あるいはその逆としてセルロースエステルに非ハロゲン系有機溶媒を添加することで、セルロースエステルの膨潤液を作製することができる。なお、非ハロゲン系有機溶媒とは、ハロゲン系有機溶媒の含有率が5質量%未満(好ましくは3質量%未満)であることを意味する。膨潤に要する時間は0.1〜24時間が好ましく、より好ましくは0.2〜6時間であり、さらに好ましくは0.5〜3時間である。 In dissolving the cellulose ester, it is preferable to swell the cellulose ester in a non-halogen organic solvent in advance at room temperature. That is, a cellulose ester swelling liquid can be prepared by adding cellulose ester powder to a non-halogen organic solvent with good stirring, or vice versa by adding a non-halogen organic solvent to the cellulose ester. The non-halogen organic solvent means that the content of the halogen organic solvent is less than 5% by mass (preferably less than 3% by mass). The time required for swelling is preferably 0.1 to 24 hours, more preferably 0.2 to 6 hours, and further preferably 0.5 to 3 hours.
また、セルロースエステルを溶解してドープの調製に用いられる有機溶媒としては、上記のような、実質的に塩素系溶剤を含有しない溶媒を用いることが好ましいが、求められる溶媒特性としては、セルロースエステルを溶解でき、且つ、適度な沸点であることが好ましく、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、アセト酢酸メチル等を挙げることができる。 In addition, as the organic solvent used for preparing the dope by dissolving the cellulose ester, it is preferable to use a solvent that does not substantially contain a chlorinated solvent as described above. And has an appropriate boiling point, for example, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 1,3- Examples thereof include dimethyl-2-imidazolidinone and methyl acetoacetate.
中でも、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセトン等が好ましい有機溶媒(即ち、良溶媒)として挙げられる。更に好ましくは、炭素数が1〜6のアルコールを添加して使用することが好ましく、溶媒中の前記アルコール類の割合は1質量%〜35質量%が好ましい。 Among them, dioxolane derivatives, methyl acetate, ethyl acetate, methyl acetoacetate, acetone and the like are preferable organic solvents (that is, good solvents). More preferably, it is preferable to add an alcohol having 1 to 6 carbon atoms, and the proportion of the alcohol in the solvent is preferably 1% by mass to 35% by mass.
ここで、本発明に用いられるセルロースエステル(セルロースアシレート)について述べる。 Here, the cellulose ester (cellulose acylate) used in the present invention will be described.
本発明の光学フィルムに用いられるセルロースエステルの重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)の比Mw/Mnが1.0〜3.0以下であることが好ましく、更に好ましくは1.4〜2.5である。 The ratio Mw / Mn of the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the cellulose ester used in the optical film of the present invention is preferably 1.0 to 3.0 or less, more preferably 1.4. ~ 2.5.
セルロースエステルの平均分子量および分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できるので、これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を算出し、その比を計算することができる。測定条件は以下の通りである。 Since the average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured using high performance liquid chromatography, the number average molecular weight and the weight average molecular weight can be calculated using this, and the ratio can be calculated. The measurement conditions are as follows.
溶媒 :メチレンクロライド
カラム :Shodex K806、K805、K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度 :0.1質量%
検出器 :RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ :L6000(日立製作所(株)製)
流量 :1.0ml/分
校正曲線 :標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=500〜1,000,000の13サンプルによる校正曲線を使用した。
Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G (Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0 ml / min Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation) Mw = 500 to 1,000,000 13 calibration curves were used.
本発明に係るセルロースエステルは、セルロースの水酸基と炭素原子数2〜22の脂肪族カルボン酸あるいは芳香族カルボン酸をエステル結合させたものであり、特に炭素原子数が2〜4のアシル基で、総アシル基置換度が2.60〜2.85であるセルロースエステルを使用したものであることが好ましい。 The cellulose ester according to the present invention is obtained by ester-bonding a hydroxyl group of cellulose and an aliphatic carboxylic acid or aromatic carboxylic acid having 2 to 22 carbon atoms, particularly an acyl group having 2 to 4 carbon atoms, It is preferable to use a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.60 to 2.85.
このようなセルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートを挙げることができ、中でもセルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。これらの好ましいセルロースエステルにおいて、アセチル基の置換度が1.6以上であることが特に好ましい。 Examples of such cellulose esters include cellulose acetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate. Among these, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate are preferable. In these preferable cellulose esters, it is particularly preferable that the substitution degree of the acetyl group is 1.6 or more.
セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ(針葉樹由来、広葉樹由来)、ケナフなどを挙げることができる。また、これらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステルは、セルロース原料をアシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて常法により反応させて得ることができる。 The cellulose used as a raw material for the cellulose ester is not particularly limited, and examples thereof include cotton linters, wood pulp (derived from coniferous trees and hardwoods), kenaf and the like. Moreover, the cellulose ester obtained from these can be mixed and used in arbitrary ratios, respectively. These cellulose esters are prepared by using an organic acid such as acetic acid or an organic solvent such as methylene chloride when sulfuric acid is used as the acylating agent (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride). It can obtain by making it react by a conventional method using a protic catalyst like.
セルロースエステルの製造法の一例を以下に示すと、セルロース原料として綿化リンター100質量部を解砕し、40質量部の酢酸を添加し、36℃で20分間前処理活性化をした。その後、硫酸8質量部、無水酢酸260質量部、酢酸350質量部を添加し、36℃で120分間エステル化を行った。24%酢酸マグネシウム水溶液11質量部で中和した後、63℃で35分間ケン化熟成し、アセチルセルロースを得た。これを10倍の酢酸水溶液(酢酸:水=1:1(質量比))を用いて、室温で160分間撹拌した後、濾過、乾燥させてアセチル置換度2.75の精製アセチルセルロースを得た。このアセチルセルロースはMnが92,000、Mwが156,400、Mw/Mnは1.7であった。同様にセルロースエステルのエステル化条件(温度、時間、撹拌)、加水分解条件を調整することによって置換度、Mw/Mn比の異なるセルロースエステルを合成することができる。 An example of a method for producing a cellulose ester is shown below: 100 parts by mass of a flocculent linter was crushed as a cellulose raw material, 40 parts by mass of acetic acid was added, and pretreatment activation was performed at 36 ° C. for 20 minutes. Thereafter, 8 parts by mass of sulfuric acid, 260 parts by mass of acetic anhydride and 350 parts by mass of acetic acid were added, and esterification was performed at 36 ° C. for 120 minutes. After neutralization with 11 parts by mass of a 24% magnesium acetate aqueous solution, saponification aging was carried out at 63 ° C. for 35 minutes to obtain acetylcellulose. This was stirred for 160 minutes at room temperature using a 10-fold acetic acid aqueous solution (acetic acid: water = 1: 1 (mass ratio)), then filtered and dried to obtain purified acetylcellulose having an acetyl substitution degree of 2.75. . This acetylcellulose had Mn of 92,000, Mw of 156,400, and Mw / Mn of 1.7. Similarly, cellulose esters having different degrees of substitution and Mw / Mn ratios can be synthesized by adjusting the esterification conditions (temperature, time, stirring) and hydrolysis conditions of the cellulose ester.
また、混酸セルロースエステルの場合には、特開平10−45804号公報に記載の方法で反応して得ることができる。アシル基の置換度の測定方法はASTM−D817−96の規定に準じて測定することができる。本発明で用いられるセルロースエステルの総アシル基置換度は2.6〜2.85であることが好ましい。 In the case of a mixed acid cellulose ester, it can be obtained by a reaction described in JP-A-10-45804. The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to the rule of ASTM-D817-96. The total acyl group substitution degree of the cellulose ester used in the present invention is preferably 2.6 to 2.85.
また、セルロースエステルの数平均分子量(Mn)は、70,000〜250,000が、成型した場合の機械的強度が強く、且つ、適度なドープ粘度となり好ましく、更に好ましくは、80,000〜150,000である。 The number average molecular weight (Mn) of the cellulose ester is preferably 70,000 to 250,000 because the mechanical strength when molded is high and an appropriate dope viscosity is preferable, and more preferably 80,000 to 150. , 000.
このようにして得られたセルロースエステルは実質的に塩素系溶媒を含有しない溶媒に溶解して、ドープと呼ばれる粘稠の液体を形成し、一般的に溶液流延製膜法と呼ばれる方法で製造(製膜)される際に好ましく用いられる。 The cellulose ester thus obtained is dissolved in a solvent that does not substantially contain a chlorinated solvent to form a viscous liquid called a dope, which is generally produced by a method called a solution casting film forming method. It is preferably used when (film formation) is performed.
本発明に係るセルロースエステルフィルムの製造について説明する。 The production of the cellulose ester film according to the present invention will be described.
本発明においては、セルロースエステルを溶媒に溶解する際、常温付近で溶解させることもできるが、製膜されたフィルムの物性や、その上に形成された金属酸化物層の良好な特性を得ることから、冷却溶解法と呼ばれる方法で溶解することが好ましい。 In the present invention, when the cellulose ester is dissolved in a solvent, it can be dissolved at around room temperature, but the physical properties of the film formed and the good characteristics of the metal oxide layer formed thereon are obtained. Therefore, it is preferable to dissolve by a method called a cooling dissolution method.
以下に、冷却溶解法について説明する。 The cooling dissolution method will be described below.
(膨潤工程)
膨潤工程においては、セルロースエステルと有機溶媒とを混合し、セルロースエステルを溶媒により膨潤させる。膨潤工程の温度は、好ましくは−10℃〜55℃である。通常は室温で実施する。セルロースエステルと有機溶媒との比率は、最終的に得られる溶液の濃度に応じて決定する。一般に、混合物中のセルロースエステルの量は、5質量%〜30質%であることが好ましく、8質量%〜20質量%であることがさらに好ましく、10質量%〜15質量%であることが最も好ましい。
(Swelling process)
In the swelling step, the cellulose ester and the organic solvent are mixed, and the cellulose ester is swollen with the solvent. The temperature of the swelling process is preferably −10 ° C. to 55 ° C. Usually performed at room temperature. The ratio between the cellulose ester and the organic solvent is determined according to the concentration of the solution finally obtained. In general, the amount of the cellulose ester in the mixture is preferably 5% by mass to 30% by mass, more preferably 8% by mass to 20% by mass, and most preferably 10% by mass to 15% by mass. preferable.
溶媒とセルロースエステルとの混合物は、セルロースエステルが充分に膨潤するまで攪拌することが好ましい。攪拌時間は、10分〜150分であることが好ましく、20分〜120分であることがさらに好ましい。膨潤工程において、溶媒とセルロースエステル以外の成分、すなわち可塑剤、劣化防止剤、染料や紫外線吸収剤を添加してもよい。 The mixture of the solvent and the cellulose ester is preferably stirred until the cellulose ester is sufficiently swollen. The stirring time is preferably 10 minutes to 150 minutes, and more preferably 20 minutes to 120 minutes. In the swelling step, components other than the solvent and the cellulose ester, that is, a plasticizer, a deterioration preventing agent, a dye, and an ultraviolet absorber may be added.
(冷却工程)
冷却工程においては、膨潤混合物を−100℃〜−10℃に冷却する。冷却温度は、膨潤混合物が固化する温度であることが好ましい。冷却速度は、1℃/分以上であることが好ましく、2℃/分以上であることがより好ましく、4℃/分以上であることがさらに好ましく、8℃/分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、100℃/秒程度が実用的である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。冷却工程においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却時に減圧すると、冷却時間を短縮することができる。減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。具体的な冷却手段としては、様々な方法または装置が採用できる。
(Cooling process)
In the cooling step, the swollen mixture is cooled to −100 ° C. to −10 ° C. The cooling temperature is preferably a temperature at which the swollen mixture is solidified. The cooling rate is preferably 1 ° C./min or more, more preferably 2 ° C./min or more, further preferably 4 ° C./min or more, and most preferably 8 ° C./min or more. . The higher the cooling rate, the better. However, about 100 ° C./second is practical. The cooling rate is a value obtained by dividing the difference between the temperature at the start of cooling and the final cooling temperature by the time from the start of cooling to the final cooling temperature. In the cooling process, it is desirable to use an airtight container in order to avoid moisture mixing due to condensation during cooling. Further, if the pressure is reduced during cooling, the cooling time can be shortened. In order to perform decompression, it is desirable to use a pressure resistant container. Various methods or apparatuses can be adopted as specific cooling means.
例えば、膨潤混合物を攪拌しながら筒状の容器内を搬送し、その容器の周囲から膨潤混合物を冷却すると、迅速に且つ均一に膨潤混合物を冷却することができる。そのためには、筒状の容器、膨潤混合物を攪拌しながら筒状の容器内を搬送するため容器内に設けられている螺旋状の搬送機構、および容器内の膨潤混合物を冷却するため容器の周囲に設けられている冷却機構からなる冷却装置が好ましく用いられる。また、−105℃〜−15℃に冷却した溶媒を膨潤混合物に添加して、より迅速に冷却することもできる。 For example, when the swollen mixture is stirred and conveyed in a cylindrical container and the swollen mixture is cooled from the periphery of the container, the swollen mixture can be cooled quickly and uniformly. For this purpose, a cylindrical container, a spiral conveyance mechanism provided in the container for conveying the inside of the cylindrical container while stirring the swollen mixture, and the periphery of the container for cooling the swollen mixture in the container A cooling device composed of a cooling mechanism provided in is preferably used. Moreover, the solvent cooled to -105 degreeC--15 degreeC can be added to a swelling mixture, and can also be cooled more rapidly.
さらに、−100℃〜−10℃に冷却された液体中へ、膨潤混合物を直径が0.1〜20.0mmの糸状に押し出すことにより膨潤混合物とすることで、さらに迅速に膨潤混合物を冷却することも可能である。 Further, the swollen mixture is further rapidly cooled by extruding the swollen mixture into a thread having a diameter of 0.1 to 20.0 mm into a liquid cooled to −100 ° C. to −10 ° C. It is also possible.
(加温工程)
加温工程においては、冷却した膨潤混合物を加温する。加温工程の最終温度は、通常は室温である。加温速度は、1℃/分以上であることが好ましく、2℃/分以上であることがより好ましく、4℃/分以上であることがさらに好ましく、8℃/分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、100℃/秒程度が実用的である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を、加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。加圧しながら加温すると、加温時間を短縮することができる。加圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。なお、溶解が不充分である場合は、冷却工程から加温工程までを繰り返して実施してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。具体的な加温手段としては、様々な方法または装置が採用できる。
(Heating process)
In the heating step, the cooled swelling mixture is heated. The final temperature of the heating step is usually room temperature. The heating rate is preferably 1 ° C./min or more, more preferably 2 ° C./min or more, further preferably 4 ° C./min or more, and most preferably 8 ° C./min or more. preferable. The heating rate is preferably as high as possible, but about 100 ° C./second is practical. The heating rate is the value obtained by dividing the difference between the temperature at the start of heating and the final heating temperature by the time from the start of heating until the final heating temperature is reached. is there. When heating is performed while applying pressure, the heating time can be shortened. In order to perform pressurization, it is desirable to use a pressure-resistant container. In addition, when the dissolution is insufficient, the cooling process to the heating process may be repeated. Whether or not the dissolution is sufficient can be determined by merely observing the appearance of the solution with the naked eye. Various methods or apparatuses can be adopted as specific heating means.
例えば、膨潤混合物を攪拌しながら筒状の容器内を搬送し、その容器の周囲から膨潤混合物を加温すると、迅速に且つ均一に膨潤混合物を加温することができる。そのためには、筒状の容器、膨潤混合物を攪拌しながら筒状の容器内を搬送するため容器内に設けられている螺旋状の搬送機構、および容器内の膨潤混合物を加温するため容器の周囲に設けられている加温機構からなる加温装置が好ましく用いられる。 For example, when the swollen mixture is stirred and conveyed in a cylindrical container, and the swollen mixture is heated from the periphery of the container, the swollen mixture can be quickly and uniformly heated. For this purpose, a cylindrical container, a spiral conveyance mechanism provided in the container for conveying the inside of the cylindrical container while stirring the swollen mixture, and a container for heating the swollen mixture in the container. A warming device comprising a warming mechanism provided around is preferably used.
また、0〜55℃に加温された液体中へ、直径が0.1〜20.0mmの糸状の膨潤混合物を入れることにより膨潤混合物を加温することで、さらに迅速に膨潤混合物を加温することも可能である。冷却工程において、膨潤混合物を糸状に押し出す方法を採用した場合は、その糸状の膨潤混合物を加温用の液体に投入すればよい。 In addition, the swollen mixture is heated by adding a thread-like swollen mixture having a diameter of 0.1 to 20.0 mm into a liquid heated to 0 to 55 ° C., so that the swollen mixture can be warmed more rapidly. It is also possible to do. In the cooling step, when a method of extruding the swollen mixture into a thread shape is adopted, the thread-like swollen mixture may be put into a heating liquid.
さらに、冷却した膨潤混合物を筒状の容器内に導入し、容器内で膨潤混合物の流れを複数に分割し、分割された混合物の流れの向きを容器内で回転させ、この分割と回転とを繰り返しながら、容器の周囲から膨潤混合物を加温することもできる。上記のように、物質の流れを分割および回転させる仕切りが設けられた容器は、一般に静止型の混合器として知られている。代表的な静止型混合器であるスタチックミキサーTM(ケニックス社)では、物質の流れを二つに分割して右回りに180度回転させる右回りエレメントと、物質の流れを二つに分割して左回りに180度回転させる左回りエレメントとが、容器内で交互に90度ずらして配列されている。さらにまた、溶媒が沸騰しないように調整された圧力下で、溶媒の沸点以上の温度まで膨潤混合物を加温してもよい。温度は、溶媒の種類に応じて決定するが一般に60〜200℃である。圧力は、温度と溶媒の沸点との関係で決定する。 Further, the cooled swollen mixture is introduced into a cylindrical container, the flow of the swollen mixture is divided into a plurality of parts in the container, and the direction of the flow of the divided mixture is rotated in the container. Repeatedly, the swollen mixture can be warmed from around the container. As described above, a container provided with a partition for dividing and rotating a substance flow is generally known as a static mixer. In the static mixer TM (Kenix), which is a typical static mixer, the substance flow is divided into two parts and rotated clockwise by 180 degrees, and the substance flow is divided into two parts. The counterclockwise elements that are rotated 180 degrees counterclockwise are alternately shifted 90 degrees in the container. Furthermore, the swollen mixture may be heated to a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent under a pressure adjusted so that the solvent does not boil. Although temperature is determined according to the kind of solvent, it is generally 60-200 degreeC. The pressure is determined by the relationship between the temperature and the boiling point of the solvent.
(溶液製造後の処理)
製造した溶液は、必要に応じて濃度の調整(濃縮または希釈)、濾過、温度調整、成分添加などの処理を実施することができる。添加する成分は、セルロースエステルフィルムの用途に応じて決定する。代表的な添加剤は、前述した可塑剤、劣化防止剤、染料および紫外線吸収剤である。添加剤の詳細については後述する。
(Process after solution production)
The produced solution can be subjected to treatment such as concentration adjustment (concentration or dilution), filtration, temperature adjustment, and component addition as necessary. The component to be added is determined according to the use of the cellulose ester film. Typical additives are the plasticizers, deterioration inhibitors, dyes and ultraviolet absorbers described above. Details of the additive will be described later.
《溶液流延製膜》
このようにして得られたドープは溶液流延製膜法と呼ばれる方法で製造(製膜)することができる。
《Solution casting film formation》
The dope thus obtained can be manufactured (film formation) by a method called a solution casting film formation method.
この方法は、無限に移送する無端の金属ベルト(例えばステンレスベルト)あるいは回転する金属ドラム(例えば鋳鉄で表面をクロムメッキしたドラム)等の流延用金属支持体(以降、単に金属支持体ともいう)上に、加圧ダイからドープ(セルロースエステル溶液のこと)を流延(キャスティング)し、該支持体上のウェブ(ドープ膜)を該支持体から剥離し、乾燥させて製造するものである。また、共流延法により2層以上の層を有するセルロースエステルを得ることができる。 This method is a metal support for casting such as an endless metal belt (for example, a stainless steel belt) that moves indefinitely or a rotating metal drum (for example, a drum whose surface is chrome-plated with cast iron) (hereinafter also simply referred to as a metal support). The dope (cellulose ester solution) is cast on a pressure die, and the web (dope film) on the support is peeled off from the support and dried. . In addition, a cellulose ester having two or more layers can be obtained by a co-casting method.
本発明においては、流延後60秒以内に剥離し、張力を掛けながら乾燥させて得られたフィルムを用いて硬化樹脂層を形成した光学フィルムは、その上に形成した金属酸化物層にクラックが入りにくく、特に好ましい。 In the present invention, an optical film in which a cured resin layer is formed using a film obtained by peeling within 60 seconds after casting and drying while applying tension is cracked in the metal oxide layer formed thereon. Is particularly preferable.
流延用金属支持体から剥離する際の剥離張力は300N/m以下であることが好ましく、搬送張力は300N/m以下であることが好ましく、更に好ましくは250N/m以下であることが好ましく、更に好ましくは100〜200N/mである。 The peel tension at the time of peeling from the casting metal support is preferably 300 N / m or less, the transport tension is preferably 300 N / m or less, more preferably 250 N / m or less, More preferably, it is 100-200 N / m.
本発明における乾燥工程では、金属支持体から剥離した後、テンターによって幅手方向または長手方向に張力を付与しながら乾燥させることが本発明の方法で形成した硬化樹脂層の上に金属酸化物層を有する光学フィルムの耐久性が優れ好ましい。幅手方向または長手方向に張力を付与するとは、一方向だけではなく、幅手方向及び長手方向に張力を付与する2軸延伸方式も好ましく用いられる。 In the drying step of the present invention, after peeling from the metal support, the metal oxide layer is formed on the cured resin layer formed by the method of the present invention by drying while applying tension in the width direction or the longitudinal direction by a tenter. Durability of the optical film having is preferable. The application of tension in the width direction or the longitudinal direction is preferably a biaxial stretching method in which tension is applied not only in one direction but also in the width direction and the longitudinal direction.
あるいはウェブの乾燥過程で10質量%以上の高い残留溶媒量のときと10質量%未満の低い残留溶媒量のときにそれぞれ1回以上延伸する方法も好ましい。2回の延伸によって、乾燥時に生じた歪が緩和されるように調整されることが好ましい。 Alternatively, it is also preferable to stretch the film once or more when it has a high residual solvent amount of 10% by mass or more and a low residual solvent amount of less than 10% by mass. It is preferable to adjust so as to relieve the strain generated during drying by stretching twice.
セルロースエステルフィルムの好ましい延伸倍率は、一方向の延伸倍率が1.01〜2.0倍に延伸され、もう一方の延伸倍率が0.9〜1.5倍に延伸されたものが好ましく、一方向の延伸倍率が1.01〜1.5倍に延伸され、もう一方の延伸倍率が1.0〜1.4倍に延伸されたものが更に好ましく、一方向の延伸倍率が1.05〜1.4倍に延伸され、もう一方の延伸倍率が1.0〜1.3倍に延伸されたものが特に好ましい。これにより、光学的等方性に優れたセルロースエステルフィルムを好ましく得ることと共に、平面性の良好なセルロースエステルフィルムを得ることができる。製膜工程のこれらの幅規制或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよく、2軸延伸テンターが特に好ましく用いられる。 The preferred stretch ratio of the cellulose ester film is preferably one in which the stretch ratio in one direction is stretched to 1.01 to 2.0 times and the other stretch ratio is stretched to 0.9 to 1.5 times. It is more preferable that the stretching ratio in the direction is 1.01 to 1.5 times, and the other stretching ratio is 1.0 to 1.4 times, and the stretching ratio in one direction is 1.05 to 1.05. It is particularly preferred that the film is stretched 1.4 times and the other stretch ratio is stretched 1.0 to 1.3 times. Thereby, the cellulose ester film excellent in optical isotropy can be preferably obtained, and the cellulose ester film having good flatness can be obtained. These width restrictions or lateral stretching in the film forming process is preferably performed by a tenter, and a pin tenter or a clip tenter may be used, and a biaxial stretching tenter is particularly preferably used.
セルロースエステルフィルムの延伸は、硬化樹脂層を塗設する前に行うことが、優れた平面性を保持する上で好ましい。 The stretching of the cellulose ester film is preferably performed before coating the cured resin layer in order to maintain excellent flatness.
本発明のフィルムは、幅1〜4mのものが好ましく用いられる。 The film of the present invention preferably has a width of 1 to 4 m.
本発明の硬化樹脂層を塗布した場合は、平面性に優れた光学フィルムが得られるため、広幅のセルロースエステルフィルムに適用することができる。特に幅1.4〜4mのものが好ましく用いられ、特に好ましくは1.4〜2mである。4mを超えると搬送が困難となる。 When the cured resin layer of the present invention is applied, an optical film excellent in flatness can be obtained, so that it can be applied to a wide cellulose ester film. In particular, those having a width of 1.4 to 4 m are preferably used, and particularly preferably 1.4 to 2 m. If it exceeds 4 m, conveyance becomes difficult.
本発明に係るセルロースエステルフィルムの面内レターデーション値(Ro)は0〜70nm以下であることが好ましい。より好ましくは0〜30nm以下であリ、より好ましくは0〜10nm以下である。 The in-plane retardation value (Ro) of the cellulose ester film according to the present invention is preferably 0 to 70 nm or less. More preferably, it is 0-30 nm or less, More preferably, it is 0-10 nm or less.
レターデーション値(Ro)、(Rt)は以下の式によって求めることができる。 The retardation values (Ro) and (Rt) can be obtained by the following formula.
Ro=(nx−ny)×d
Rt=((nx+ny)/2−nz)×d
ここにおいて、dはフィルムの厚み(nm)、屈折率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう)、ny(フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率)、nz(厚み方向におけるフィルムの屈折率)である。
Ro = (nx−ny) × d
Rt = ((nx + ny) / 2−nz) × d
Here, d is the thickness (nm) of the film, the refractive index nx (also referred to as the maximum refractive index in the plane of the film, the refractive index in the slow axis direction), ny (in the direction perpendicular to the slow axis in the film plane). ) (Refractive index of the film in the thickness direction).
尚、レターデーション値(Ro)、(Rt)は自動複屈折率計を用いて測定することができる。例えば、KOBRA−21ADH(王子計測機器(株))を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波長590nmで求めることができる。 The retardation values (Ro) and (Rt) can be measured using an automatic birefringence meter. For example, it can be obtained at a wavelength of 590 nm using KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments) under an environment of 23 ° C. and 55% RH.
また、遅相軸はフィルムの幅手方向±1°若しくは長尺方向±1°にあることが好ましい。 The slow axis is preferably in the width direction ± 1 ° of the film or in the longitudinal direction ± 1 °.
本発明において、ウェブの残留溶媒量は下記式で定義される。 In the present invention, the residual solvent amount of the web is defined by the following formula.
残留溶媒量(%)=〔(ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量)/(ウェブの加熱処理後質量)〕×100
尚、残留溶媒量を測定する際の、加熱処理は、110℃、3時間の加熱処理を行った。
Residual solvent amount (%) = [(mass before heat treatment of web−mass after heat treatment of web) / (mass after heat treatment of web)] × 100
The heat treatment for measuring the residual solvent amount was performed at 110 ° C. for 3 hours.
また、塩素系溶媒の残留量は、下記のようにヘッドスペースサンプラーを接続したガスクロマトグラフィーにより求めることができる。 The residual amount of the chlorinated solvent can be determined by gas chromatography connected to a headspace sampler as described below.
具体的には、採取したウェブ(フィルムでもよい)を所定のバイヤル瓶に入れ、110℃、3時間の加熱処理を行って、揮発性成分を収集し、次いで、ガスクロマトグラフィーにより、前記揮発性成分中の塩素系溶媒の量を求める。 Specifically, the collected web (which may be a film) is put in a predetermined vial, and heat treatment is performed at 110 ° C. for 3 hours to collect volatile components, and then the volatile components are analyzed by gas chromatography. The amount of chlorinated solvent in the component is determined.
ここで、その量をagとして、前記ウェブ(フィルム)の熱処理後の質量をbgとすると、本発明に係る塩素系溶媒の残留量は、下記一般式で求められる。 Here, when the amount is ag and the mass after the heat treatment of the web (film) is bg, the residual amount of the chlorinated solvent according to the present invention is obtained by the following general formula.
塩素系溶媒残留量(質量%)=(a/b)×100(%)
また、ガスクロマトグラフィーの測定条件は以下の通りである。
Chlorinated solvent residual amount (% by mass) = (a / b) × 100 (%)
Moreover, the measurement conditions of gas chromatography are as follows.
本発明では、ヒューレット・パッカード社製ガスクロマトグラフィー5890型SERISIIとヘッドスペースサンプラーHP7694型を使用し、以下の測定条件で行った。 In the present invention, gas chromatography 5890 type SERISII manufactured by Hewlett-Packard Company and headspace sampler HP7694 type were used, and the measurement was performed under the following measurement conditions.
ヘッドスペースサンプラー加熱条件:120℃、20分
GC導入温度:150℃
昇温:40℃、5分保持→100℃(8℃/分)
カラム:J&W社製DB−WAX(内径0.32mm、長さ30m)
(セルロースエステルフィルムの膜厚)
本発明の光学フィルムに用いられるセルロースエステルの膜厚は特に限定はなく通常10μm〜500μmであり、好ましくは10μm〜150μmである。
Headspace sampler heating conditions: 120 ° C, 20 minutes GC introduction temperature: 150 ° C
Temperature rise: 40 ° C, hold for 5 minutes → 100 ° C (8 ° C / min)
Column: J-W DB-WAX (inner diameter 0.32 mm, length 30 m)
(Film thickness of cellulose ester film)
The film thickness of the cellulose ester used for the optical film of the present invention is not particularly limited, and is usually 10 μm to 500 μm, preferably 10 μm to 150 μm.
中でも金属酸化物薄膜層の膜厚むらが起きやすい10μm〜60μmのセルロースエステルフィルムにおいて、著しく本発明の効果が認められ特に好ましく用いられる。 Among these, a cellulose ester film having a thickness of 10 μm to 60 μm in which unevenness of the thickness of the metal oxide thin film layer easily occurs is particularly preferably used since the effect of the present invention is remarkably recognized.
本発明の光学フィルムは、セルロースエステルの他に所望により可塑剤、紫外線吸収剤、滑り剤及びマット剤等を含有させてもよい。 The optical film of the present invention may contain a plasticizer, an ultraviolet absorber, a slip agent, a matting agent and the like as desired in addition to the cellulose ester.
可塑剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルホスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート、1,4−フェニレン−テトラフェニルホスフェート等のリン酸エステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート等のフタル酸エステル系の可塑剤、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のグリコール酸エステル系の可塑剤などが挙げられる。中でも、フタル酸エステル系やグリコール酸エステル系の可塑剤は、セルロースエステルの加水分解を引き起こし難いことから好ましく、本発明の光学フィルムにおいては、2種以上の可塑剤を含有することが好ましい。 Examples of the plasticizer include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl phenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, trinaphthyl phosphate, trixyl phosphate, tris ortho-biphenyl phosphate, 1 Phosphate ester plasticizers such as 1,4-phenylene-tetraphenyl phosphate, phthalate plasticizers such as diethyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, Triacetin, tributyrin, butyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl Lil ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, etc. glycolic acid ester based plasticizers. Of these, phthalate ester and glycolate ester plasticizers are preferred because they are unlikely to cause hydrolysis of cellulose esters, and the optical film of the present invention preferably contains two or more plasticizers.
以下に本発明において好ましい可塑剤の具体例を例示する。 Specific examples of preferred plasticizers in the present invention are illustrated below.
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは、特に、少なくとも2種類の可塑剤を含有することが好ましく、少なくとも1種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが望ましい。他の可塑剤は特に限定されない。好ましくは、前記多価アルコールエステル系可塑剤と異なる種類の多価アルコールエステル、フタル酸エステル、クエン酸エステル、脂肪酸エステル、グリコレート系可塑剤等が用いられる。 In particular, the cellulose ester film used in the present invention preferably contains at least two kinds of plasticizers, and at least one kind is preferably a polyhydric alcohol ester type plasticizer. Other plasticizers are not particularly limited. Preferably, a polyhydric alcohol ester, a phthalic acid ester, a citric acid ester, a fatty acid ester, a glycolate plasticizer or the like of a different type from the polyhydric alcohol ester plasticizer is used.
多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。 The polyhydric alcohol ester plasticizer is a plasticizer comprising an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferably it is a 2-20 valent aliphatic polyhydric alcohol ester.
本発明に用いられる多価アルコールは次の一般式(1)で表される。 The polyhydric alcohol used in the present invention is represented by the following general formula (1).
一般式(1)
R1−(OH)n
ただし、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表す。
General formula (1)
R 1- (OH) n
Here, R 1 is an n-valent organic group, n is a positive integer of 2 or more, and the OH group represents an alcoholic or phenolic hydroxyl group.
好ましい多価アルコールの例としては、例えば、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these.
アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。 Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane- Examples include 1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, xylitol and the like. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.
本発明おいて、多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。 In the present invention, the monocarboxylic acid used in the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, and known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid and the like can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention.
好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。 Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto.
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。 As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. The number of carbon atoms is more preferably 1-20, and particularly preferably 1-10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。 Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanoic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid.
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。 Examples of preferred alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentane carboxylic acid, cyclohexane carboxylic acid, cyclooctane carboxylic acid, or derivatives thereof.
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。 Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, and tetralincarboxylic acid. The aromatic monocarboxylic acid which has, or those derivatives can be mentioned. Benzoic acid is particularly preferable.
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。 The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably 300 to 1500, and more preferably 350 to 750. A higher molecular weight is preferred because it is less likely to volatilize, and a smaller one is preferred in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。 The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are.
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。 Below, the specific compound of a polyhydric alcohol ester is illustrated.
セルロースエステルフィルム中の可塑剤の総含有量は、固形分総量に対し、5〜20質量%が好ましく、6〜16質量%が更に好ましく、特に好ましくは8〜13質量%である。また、2種の可塑剤の含有量は各々少なくとも1質量%以上であり、好ましくは各々2質量%以上含有することである。 The total content of the plasticizer in the cellulose ester film is preferably 5 to 20% by mass, more preferably 6 to 16% by mass, and particularly preferably 8 to 13% by mass with respect to the total solid content. The contents of the two kinds of plasticizers are each at least 1% by mass, preferably 2% by mass or more.
多価アルコールエステル系可塑剤は1〜12質量%含有することが好ましく、特に3〜11質量%含有することが好ましい。少ないと平面性の劣化が認められ、多すぎるとブリードアウトがしやすい。多価アルコールエステル系可塑剤とその他の可塑剤との質量比率は1:4〜4:1の範囲であることが好ましく、1:3〜3:1であることが更に好ましい。可塑剤の添加量が多すぎても、また少なすぎてもフィルムが変形し易く好ましくない。 The polyhydric alcohol ester plasticizer is preferably contained in an amount of 1 to 12% by mass, particularly preferably 3 to 11% by mass. If the amount is too small, deterioration of flatness is recognized, and if it is too large, bleeding out tends to occur. The mass ratio between the polyhydric alcohol ester plasticizer and the other plasticizer is preferably in the range of 1: 4 to 4: 1, more preferably 1: 3 to 3: 1. If the amount of the plasticizer added is too large or too small, the film is liable to be deformed, which is not preferable.
本発明に係るセルロースエステルフィルムには、画像表示装置として屋外に置かれた場合等の劣化防止の観点から紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものを好ましく用いることができる。例えば380nmにおける透過率が20%未満であることが好ましく、更に好ましくは10%未満であり、特に好ましくは5%未満である。 The cellulose ester film according to the present invention preferably contains an ultraviolet absorber from the viewpoint of preventing deterioration when placed outdoors as an image display device. As the ultraviolet absorber, those having excellent absorption ability of ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more can be preferably used. For example, the transmittance at 380 nm is preferably less than 20%, more preferably less than 10%, and particularly preferably less than 5%.
紫外線吸収剤としては、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物などを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されない。 Examples of ultraviolet absorbers include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, triazine compounds, and the like in the present invention. It is not limited to.
以下に紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。 Although the specific example of an ultraviolet absorber is given to the following, this invention is not limited to these.
UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171:チバ・スペシャリティケミカルズ社製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109:チバ・スペシャリティケミカルズ社製)
UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明の光学フィルムには、紫外線吸収剤として透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤またはベンゾフェノン系紫外線吸収剤を好ましく用いることができ、中でも、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。また、紫外線吸収剤は製膜工程でブリードアウトしたり、揮発しないものが好ましい。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6 (Straight and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN171: Ciba Specialty Chemicals)
UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- Mixture of 4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (TINUVIN 109: manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
In the optical film of the present invention, a benzotriazole-based UV absorber or a benzophenone-based UV absorber that is highly transparent as an UV absorber and excellent in the effect of preventing deterioration of a polarizing plate and liquid crystal can be preferably used. A benzotriazole-based ultraviolet absorber with less unnecessary coloring is particularly preferred. Further, it is preferable that the ultraviolet absorber does not bleed out or volatilize in the film forming process.
紫外線吸収剤は、0.1質量%〜10質量%添加されることが好ましく、特に0.5質量%〜5質量%添加されることが好ましい。 The ultraviolet absorber is preferably added in an amount of 0.1% by mass to 10% by mass, and particularly preferably 0.5% by mass to 5% by mass.
更に、本発明に用いられる可塑剤または紫外線吸収剤等の添加剤の更に好ましいものとして、分子内に芳香環、シクロアルキル環もしくはシクロアルケニル環を分子内に3つ以上有する添加剤を0.5〜30質量%含有することが好ましく、特に非リン酸系で、ベンゼン環、シクロヘキサン環及びシクロヘキセン環から選ばれる環を分子内に少なくとも3個を有する添加剤等を挙げることができる。更に、これらの環は置換基を有していてもよい。 Furthermore, as a more preferable additive such as a plasticizer or an ultraviolet absorber used in the present invention, an additive having three or more aromatic rings, cycloalkyl rings or cycloalkenyl rings in the molecule is 0.5. It is preferable to contain -30 mass%, and the additive etc. which are non-phosphoric acid type and have at least 3 ring in a molecule | numerator chosen from a benzene ring, a cyclohexane ring, and a cyclohexene ring can be mentioned. Furthermore, these rings may have a substituent.
非リン酸系で、ベンゼン環、シクロヘキシル環またはシクロヘキセン環を分子中に少なくとも3個有する可塑剤を含有するウェブは、その乾燥中に内部から表面へと移動することが少なく表面に集まりにくく、張力を付与しながら乾燥させて得られたセルロースエステルフィルムに局所的な残留応力が残りにくくなるのではないかと思われる。 A non-phosphate type web containing a plasticizer having at least three benzene, cyclohexyl or cyclohexene rings in the molecule hardly moves from the inside to the surface during drying and does not collect on the surface. It seems that local residual stress is less likely to remain in the cellulose ester film obtained by drying while imparting water.
また、非リン酸系で、ベンゼン環、シクロヘキシル環またはシクロヘキセン環を分子中に少なくとも3個有する添加剤を含有するセルロースエステルフィルムは透湿性を改善し、高温高湿度における安定性を増すことができる。 In addition, a cellulose ester film containing a non-phosphoric acid-based additive having at least three benzene, cyclohexyl or cyclohexene rings in the molecule can improve moisture permeability and increase stability at high temperature and high humidity. .
非リン酸系の、ベンゼン環、シクロヘキサン環及びシクロヘキセン環から選ばれる環を少なくとも3個有する添加剤は、ベンゼン環のみを3個以上でも、シクロヘキサン環を3個以上でも、シクロヘキセン環を3個以上でも、また、これらの環が縮合している縮合環であってもよく、異項環との縮合環を含有していてもよい。 Non-phosphoric acid additive having at least three rings selected from benzene, cyclohexane and cyclohexene rings may be 3 or more benzene rings, 3 or more cyclohexane rings, 3 or more cyclohexene rings However, it may be a condensed ring in which these rings are condensed, or may contain a condensed ring with a hetero ring.
本発明においては、縮合環内にあるベンゼン環、シクロヘキサン環またはシクロヘキセン環の一つずつの環数を、これらの環の数とする。例えばナフタレン環は2個と数える。これらの環には置換基を有していてもよい。本発明においては、これらの環を分子内に3〜20個あるものが好ましく、更に好ましくは3〜10個である。 In the present invention, the number of each benzene ring, cyclohexane ring or cyclohexene ring in the condensed ring is the number of these rings. For example, the naphthalene ring is counted as two. These rings may have a substituent. In the present invention, those having 3 to 20 of these rings in the molecule are preferred, and 3 to 10 are more preferred.
本発明において、より好ましく用いられるベンゼン環、シクロヘキサン環またはシクロヘキセン環を分子内に少なくとも3個有する添加剤としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。 Examples of the additive having at least three benzene rings, cyclohexane rings or cyclohexene rings in the molecule in the present invention include the following compounds.
P−1:ジベンジルフタレート
P−2:ジベンジルイソフタレート
P−3:ジベンジルテレフタレート
P−4:ジフェニルフタレート
P−5:ジフェニルイソフタレート
P−6:ジフェニルテレフタレート
P−7:ジシクロヘキシルフタレート
P−8:ジシクロヘキシルイソフタレート
P−9:ジシクロヘキシルテレフタレート
P−10:フェニルシクロヘキシルイソフタレート
P−11:フェニルシクロヘキシルテレフタレート
P−12:フェニルシクロヘキシルフタレート
P−13:ベンジルシクロヘキシルフタレート
P−14:ベンジルシクロヘキシルテレフタレート
P−15:ベンジルシクロヘキシルイソフタレート
P−16:ジベンジルシクロヘキサンジアセテート
P−17:1,3−シクロヘキサンジメチルジベンゾエート
P−18:1,3−ジベンジルシクロヘキサンジカルボキシレート
P−19:1,2−ジベンジルテトラデヒドロフタレート
P−20:1,2−ジシクロヘキシルテトラヒドロフタレート
P−21:1,3−ジシクロヘキシルシクロヘキシルジカルボキシレート
P−22:グリセリントリベンゾエート
P−23:グリセリントリフェニルアセテート
P−24:アセチルクエン酸トリベンジルアセチル
P−25:クエン酸トリシクロヘキシル
P−26:アビエチン酸メチル
P−27:アビエチン酸エチル
P−28:アビエチン酸ブチル
P−29:デヒドロアビエチン酸メチル
P−30:デヒドロアビエチン酸ブチル
P−31:パラストリン酸メチル
等、またオリゴマー的な低分子重合体として、
P−32:KE−604(荒川化学製)
P−33:KE−85(荒川化学製)
P−34:アラルダイドEPN1139(旭チバ(株)製)
P−35:アラルダイドGY260(旭チバ(株)製)
P−36:ハイラック110H(日立化成(株)製)
P−37:ハイラック111(日立化成(株)製)
等樹脂オリゴマー等を好ましく挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではなく、詳細な説明の中や、実施例で示されている他の化合物なども好ましく用いられる。
P-1: Dibenzyl phthalate P-2: Dibenzyl isophthalate P-3: Dibenzyl terephthalate P-4: Diphenyl phthalate P-5: Diphenyl isophthalate P-6: Diphenyl terephthalate P-7: Dicyclohexyl phthalate P-8 : Dicyclohexyl isophthalate P-9: Dicyclohexyl terephthalate P-10: Phenyl cyclohexyl isophthalate P-11: Phenyl cyclohexyl terephthalate P-12: Phenyl cyclohexyl phthalate P-13: Benzyl cyclohexyl phthalate P-14: Benzyl cyclohexyl terephthalate P-15: Benzylcyclohexyl isophthalate P-16: Dibenzylcyclohexane diacetate P-17: 1,3-cyclohexanedimethyldibenzo P-18: 1,3-dibenzylcyclohexanedicarboxylate P-19: 1,2-dibenzyltetradehydrophthalate P-20: 1,2-dicyclohexyltetrahydrophthalate P-21: 1,3-dicyclohexylcyclohexyldi Carboxylate P-22: Glycerin tribenzoate P-23: Glycerin triphenyl acetate P-24: Tribenzyl acetyl citrate P-25: Tricyclohexyl citrate P-26: Methyl abietic acid P-27: Ethyl abietic acid P -28: butyl abietic acid P-29: methyl dehydroabietic acid P-30: butyl dehydroabietic acid P-31: methyl parastrate, etc.
P-32: KE-604 (Arakawa Chemical)
P-33: KE-85 (Arakawa Chemical)
P-34: Araldide EPN1139 (Asahi Ciba Co., Ltd.)
P-35: Araldide GY260 (Asahi Ciba Co., Ltd.)
P-36: Hi-Luck 110H (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
P-37: Hilac 111 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
Preferred examples include resin oligomers and the like, but the present invention is not limited to these, and other compounds shown in the detailed description and examples are also preferably used.
本発明では、下記に示すような添加剤を用いることができる。 In the present invention, the following additives can be used.
また、本発明の光学フィルムに用いられる好ましい添加剤としては、1,3,5−トリアジン環を有する化合物を好ましく用いることができる。 Moreover, as a preferable additive used for the optical film of the present invention, a compound having a 1,3,5-triazine ring can be preferably used.
1,3,5−トリアジン環を有する化合物は、中でも、下記一般式(III)で表される化合物が好ましい。 Among them, the compound having a 1,3,5-triazine ring is preferably a compound represented by the following general formula (III).
一般式(III)において、X1は、単結合、−NR4−、−O−又は−S−であり;X2は単結合、−NR5−、−O−又は−S−であり;X3は単結合、−NR6−、−O−又は−S−であり;R1、R2及びR3はアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基であり;そして、R4、R5及びR6は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基である。一般式(I)で表される化合物は、メラミン化合物であることが特に好ましい。 In the general formula (III), X 1 is a single bond, —NR 4 —, —O— or —S—; X 2 is a single bond, —NR 5 —, —O— or —S—; X 3 is a single bond, —NR 6 —, —O— or —S—; R 1 , R 2 and R 3 are an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group; and R 4 , R 5 and R 6 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. The compound represented by the general formula (I) is particularly preferably a melamine compound.
メラミン化合物では、一般式(I)において、X1、X2及びX3が、それぞれ、−NR4−、−NR5−及び−NR6−であるか、あるいは、X1、X2及びX3が単結合であり、かつ、R1、R2及びR3が窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基である。−X1−R1、−X2−R2及び−X3−R3は、同一の置換基であることが好ましい。R1、R2及びR3は、アリール基であることが特に好ましい。R4、R5及びR6は、水素原子であることが特に好ましい。 In the melamine compound, in the general formula (I), X 1 , X 2 and X 3 are —NR 4 —, —NR 5 — and —NR 6 —, respectively, or X 1 , X 2 and X 3 3 is a single bond, and R 1 , R 2 and R 3 are heterocyclic groups having a free valence on the nitrogen atom. -X 1 -R 1, -X 2 -R 2 and -X 3 -R 3 are preferably the same substituents. R 1 , R 2 and R 3 are particularly preferably aryl groups. R 4 , R 5 and R 6 are particularly preferably a hydrogen atom.
上記アルキル基は、環状アルキル基よりも鎖状アルキル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基の方が好ましい。 The alkyl group is preferably a chain alkyl group rather than a cyclic alkyl group. A linear alkyl group is preferred to a branched alkyl group.
アルキル基の炭素原子数は、1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましく、1〜10であることがさらに好ましく、1〜8であることがさらにまた好ましく、1〜6であることが最も好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。 The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-30, more preferably 1-20, still more preferably 1-10, still more preferably 1-8, 6 is most preferred. The alkyl group may have a substituent.
置換基の具体例としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基)及びアシルオキシ基(例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ)等が挙げられる。上記アルケニル基は、環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基の方が好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、2〜30であることが好ましく、2〜20であることがより好ましく、2〜10であることがさらに好ましく、2〜8であることがさらにまた好ましく、2〜6であることが最も好ましい。アルケニル基は、置換基を有していてもよい。 Specific examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group (for example, each group such as methoxy, ethoxy, and epoxyethyloxy) and an acyloxy group (for example, acryloyloxy, methacryloyloxy). The alkenyl group is preferably a chain alkenyl group rather than a cyclic alkenyl group. A linear alkenyl group is preferable to a branched chain alkenyl group. The number of carbon atoms in the alkenyl group is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 20, still more preferably 2 to 10, still more preferably 2 to 8, 6 is most preferred. The alkenyl group may have a substituent.
置換基の具体例としては、ハロゲン原子、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基)又はアシルオキシ基(例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等の各基)が挙げられる。 Specific examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group (for example, each group such as methoxy, ethoxy, and epoxyethyloxy) or an acyloxy group (for example, each group such as acryloyloxy and methacryloyloxy).
上記アリール基は、フェニル基又はナフチル基であることが好ましく、フェニル基であることが特に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。 The aryl group is preferably a phenyl group or a naphthyl group, and particularly preferably a phenyl group. The aryl group may have a substituent.
置換基の具体例としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。上記アルキル基は、前述したアルキル基と同義である。 Specific examples of the substituent include, for example, a halogen atom, hydroxyl, cyano, nitro, carboxyl, alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, alkenyloxy Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, sulfamoyl, alkyl-substituted sulfamoyl group, alkenyl-substituted sulfamoyl group, aryl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, carbamoyl, alkyl-substituted carmoyl group, alkenyl-substituted carbamoyl group, aryl-substituted carbamoyl group, amide group, alkylthio Groups, alkenylthio groups, arylthio groups and acyl groups are included. The said alkyl group is synonymous with the alkyl group mentioned above.
アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルキル置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基とアシル基のアルキル部分も、前述したアルキル基と同義である。 The alkyl group of the alkoxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, alkyl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, alkyl-substituted carbamoyl group, amide group, alkylthio group and acyl group is also synonymous with the alkyl group described above.
上記アルケニル基は、前述したアルケニル基と同義である。 The said alkenyl group is synonymous with the alkenyl group mentioned above.
アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルケニルオキシカルボニル基、アルケニル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルケニル置換カルバモイル基、アミド基、アルケニルチオ基及びアシル基のアルケニル部分も、前述したアルケニル基と同義である。 The alkenyl part of the alkenyloxy group, acyloxy group, alkenyloxycarbonyl group, alkenyl-substituted sulfamoyl group, sulfonamide group, alkenyl-substituted carbamoyl group, amide group, alkenylthio group and acyl group is also synonymous with the alkenyl group described above.
上記アリール基の具体例としては、例えば、フェニル、α−ナフチル、β−ナフチル、4−メトキシフェニル、3,4−ジエトキシフェニル、4−オクチルオキシフェニル又は4−ドデシルオキシフェニル等の各基が挙げられる。 Specific examples of the aryl group include phenyl, α-naphthyl, β-naphthyl, 4-methoxyphenyl, 3,4-diethoxyphenyl, 4-octyloxyphenyl, and 4-dodecyloxyphenyl. Can be mentioned.
アリールオキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アリールチオ基およびアシル基の部分の例は、上記アリール基と同義である。 Examples of the aryloxy group, acyloxy group, aryloxycarbonyl group, aryl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, aryl-substituted carbamoyl group, amide group, arylthio group and acyl group are the same as the above aryl group.
X1、X2又はX3が−NR−、−O−又は−S−である場合の複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。 The heterocyclic group in the case where X 1 , X 2 or X 3 is —NR—, —O— or —S— preferably has aromaticity.
芳香族性を有する複素環基中の複素環としては、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましく、6員環であることが最も好ましい。 The heterocyclic ring in the heterocyclic group having aromaticity is generally an unsaturated heterocyclic ring, preferably a heterocyclic ring having the largest number of double bonds. The heterocyclic ring is preferably a 5-membered ring, a 6-membered ring or a 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, and most preferably a 6-membered ring.
複素環中のヘテロ原子は、N、S又はO等の各原子であることが好ましく、N原子であることが特に好ましい。 The hetero atom in the heterocyclic ring is preferably an atom such as N, S or O, and particularly preferably an N atom.
芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環(複素環基としては、例えば、2−ピリジル又は4−ピリジル等の各基)が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。 As the heterocyclic ring having aromaticity, a pyridine ring (as the heterocyclic group, for example, each group such as 2-pyridyl or 4-pyridyl) is particularly preferable. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the examples of the substituent of the aryl moiety.
X1、X2又はX3が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましく、5員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。 When X 1 , X 2 or X 3 is a single bond, the heterocyclic group is preferably a heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom. The heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring, and a 5-membered ring. Is most preferred. The heterocyclic group may have a plurality of nitrogen atoms.
また、複素環基中のヘテロ原子は、窒素原子以外のヘテロ原子(例えば、O原子、S原子)を有していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の具体例は、上記アリール部分の置換基の具体例と同義である。 Moreover, the hetero atom in a heterocyclic group may have hetero atoms other than a nitrogen atom (for example, O atom, S atom). The heterocyclic group may have a substituent. Specific examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the specific examples of the substituent of the aryl moiety.
以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の具体例を示す。 Specific examples of the heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom are shown below.
1,3,5−トリアジン環を有する化合物の分子量は、300〜2000であることが好ましい。該化合物の沸点は、260℃以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置(例えば、TG/DTA100、セイコー電子工業(株)製)を用いて測定できる。 The molecular weight of the compound having a 1,3,5-triazine ring is preferably 300 to 2,000. The boiling point of the compound is preferably 260 ° C. or higher. The boiling point can be measured using a commercially available measuring device (for example, TG / DTA100, manufactured by Seiko Electronics Industry Co., Ltd.).
以下に、1,3,5−トリアジン環を有する化合物の具体例を示す。 Specific examples of the compound having a 1,3,5-triazine ring are shown below.
なお、以下に示す複数のRは、同一の基を表す。 In addition, several R shown below represents the same group.
(1)ブチル
(2)2−メトキシ−2−エトキシエチル
(3)5−ウンデセニル
(4)フェニル
(5)4−エトキシカルボニルフェニル
(6)4−ブトキシフェニル
(7)p−ビフェニリル
(8)4−ピリジル
(9)2−ナフチル
(10)2−メチルフェニル
(11)3,4−ジメトキシフェニル
(12)2−フリル
(1) Butyl (2) 2-Methoxy-2-ethoxyethyl (3) 5-Undecenyl (4) Phenyl (5) 4-Ethoxycarbonylphenyl (6) 4-Butoxyphenyl (7) p-Biphenylyl (8) 4 -Pyridyl (9) 2-naphthyl (10) 2-methylphenyl (11) 3,4-dimethoxyphenyl (12) 2-furyl
(14)フェニル
(15)3−エトキシカルボニルフェニル
(16)3−ブトキシフェニル
(17)m−ビフェニリル
(18)3−フェニルチオフェニル
(19)3−クロロフェニル
(20)3−ベンゾイルフェニル
(21)3−アセトキシフェニル
(22)3−ベンゾイルオキシフェニル
(23)3−フェノキシカルボニルフェニル
(24)3−メトキシフェニル
(25)3−アニリノフェニル
(26)3−イソブチリルアミノフェニル
(27)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(28)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(29)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(30)3−メチルフェニル
(31)3−フェノキシフェニル
(32)3−ヒドロキシフェニル
(33)4−エトキシカルボニルフェニル
(34)4−ブトキシフェニル
(35)p−ビフェニリル
(36)4−フェニルチオフェニル
(37)4−クロロフェニル
(38)4−ベンゾイルフェニル
(39)4−アセトキシフェニル
(40)4−ベンゾイルオキシフェニル
(41)4−フェノキシカルボニルフェニル
(42)4−メトキシフェニル
(43)4−アニリノフェニル
(44)4−イソブチリルアミノフェニル
(45)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(46)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(47)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(48)4−メチルフェニル
(49)4−フェノキシフェニル
(50)4−ヒドロキシフェニル
(51)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(52)3,4−ジブトキシフェニル
(53)3,4−ジフェニルフェニル
(54)3,4−ジフェニルチオフェニル
(55)3,4−ジクロロフェニル
(56)3,4−ジベンゾイルフェニル
(57)3,4−ジアセトキシフェニル
(58)3,4−ジベンゾイルオキシフェニル
(59)3,4−ジフェノキシカルボニルフェニル
(60)3,4−ジメトキシフェニル
(61)3,4−ジアニリノフェニル
(62)3,4−ジメチルフェニル
(63)3,4−ジフェノキシフェニル
(64)3,4−ジヒドロキシフェニル
(65)2−ナフチル
(66)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(67)3,4,5−トリブトキシフェニル
(68)3,4,5−トリフェニルフェニル
(69)3,4,5−トリフェニルチオフェニル
(70)3,4,5−トリクロロフェニル
(71)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(72)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(73)3,4,5−トリベンゾイルオキシフェニル
(74)3,4,5−トリフェノキシカルボニルフェニル
(75)3,4,5−トリメトキシフェニル
(76)3,4,5−トリアニリノフェニル
(77)3,4,5−トリメチルフェニル
(78)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(79)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(14) phenyl (15) 3-ethoxycarbonylphenyl (16) 3-butoxyphenyl (17) m-biphenylyl (18) 3-phenylthiophenyl (19) 3-chlorophenyl (20) 3-benzoylphenyl (21) 3 -Acetoxyphenyl (22) 3-benzoyloxyphenyl (23) 3-phenoxycarbonylphenyl (24) 3-methoxyphenyl (25) 3-anilinophenyl (26) 3-isobutyrylaminophenyl (27) 3-phenoxy Carbonylaminophenyl (28) 3- (3-ethylureido) phenyl (29) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (30) 3-methylphenyl (31) 3-phenoxyphenyl (32) 3-hydroxyphenyl (33) 4-Ethoxycarbonylphenyl (34) 4-butoxyphenyl (35) p-biphenylyl (36) 4-phenylthiophenyl (37) 4-chlorophenyl (38) 4-benzoylphenyl (39) 4-acetoxyphenyl (40) 4-benzoyloxyphenyl ( 41) 4-phenoxycarbonylphenyl (42) 4-methoxyphenyl (43) 4-anilinophenyl (44) 4-isobutyrylaminophenyl (45) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (46) 4- (3-ethyl (Ureido) phenyl (47) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (48) 4-methylphenyl (49) 4-phenoxyphenyl (50) 4-hydroxyphenyl (51) 3,4-diethoxycarbonylphenyl ( 52) 3,4-dibutoxyphenyl (53) 3 -Diphenylphenyl (54) 3,4-diphenylthiophenyl (55) 3,4-dichlorophenyl (56) 3,4-dibenzoylphenyl (57) 3,4-diacetoxyphenyl (58) 3,4-dibenzoyl Oxyphenyl (59) 3,4-diphenoxycarbonylphenyl (60) 3,4-dimethoxyphenyl (61) 3,4-dianilinophenyl (62) 3,4-dimethylphenyl (63) 3,4-diphenoxy Phenyl (64) 3,4-dihydroxyphenyl (65) 2-naphthyl (66) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (67) 3,4,5-tributoxyphenyl (68) 3,4,5- Triphenylphenyl (69) 3,4,5-triphenylthiophenyl (70) 3,4,5-trichlorophenyl (71) 3,4,5-tribenzoylphenyl (72) 3,4,5-triacetoxyphenyl (73) 3,4,5-tribenzoyloxyphenyl (74) 3,4,5-triphenoxycarbonylphenyl (75) 3,4,5-trimethoxyphenyl (76) 3,4,5-trianilinophenyl (77) 3,4,5-trimethylphenyl (78) 3,4,5-triphenoxyphenyl (79 ) 3,4,5-trihydroxyphenyl
(80)フェニル
(81)3−エトキシカルボニルフェニル
(82)3−ブトキシフェニル
(83)m−ビフェニリル
(84)3−フェニルチオフェニル
(85)3−クロロフェニル
(86)3−ベンゾイルフェニル
(87)3−アセトキシフェニル
(88)3−ベンゾイルオキシフェニル
(89)3−フェノキシカルボニルフェニル
(90)3−メトキシフェニル
(91)3−アニリノフェニル
(92)3−イソブチリルアミノフェニル
(93)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(94)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(95)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(96)3−メチルフェニル
(97)3−フェノキシフェニル
(98)3−ヒドロキシフェニル
(99)4−エトキシカルボニルフェニル
(100)4−ブトキシフェニル
(101)p−ビフェニリル
(102)4−フェニルチオフェニル
(103)4−クロロフェニル
(104)4−ベンゾイルフェニル
(105)4−アセトキシフェニル
(106)4−ベンゾイルオキシフェニル
(107)4−フェノキシカルボニルフェニル
(108)4−メトキシフェニル
(109)4−アニリノフェニル
(110)4−イソブチリルアミノフェニル
(111)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(112)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(113)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(114)4−メチルフェニル
(115)4−フェノキシフェニル
(116)4−ヒドロキシフェニル
(117)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(118)3,4−ジブトキシフェニル
(119)3,4−ジフェニルフェニル
(120)3,4−ジフェニルチオフェニル
(121)3,4−ジクロロフェニル
(122)3,4−ジベンゾイルフェニル
(123)3,4−ジアセトキシフェニル
(124)3,4−ジベンゾイルオキシフェニル
(125)3,4−ジフェノキシカルボニルフェニル
(126)3,4−ジメトキシフェニル
(127)3,4−ジアニリノフェニル
(128)3,4−ジメチルフェニル
(129)3,4−ジフェノキシフェニル
(130)3,4−ジヒドロキシフェニル
(131)2−ナフチル
(132)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(133)3,4,5−トリブトキシフェニル
(134)3,4,5−トリフェニルフェニル
(135)3,4,5−トリフェニルチオフェニル
(136)3,4,5−トリクロロフェニル
(137)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(138)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(139)3,4,5−トリベンゾイルオキシフェニル
(140)3,4,5−トリフェノキシカルボニルフェニル
(141)3,4,5−トリメトキシフェニル
(142)3,4,5−トリアニリノフェニル
(143)3,4,5−トリメチルフェニル
(144)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(145)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(80) phenyl (81) 3-ethoxycarbonylphenyl (82) 3-butoxyphenyl (83) m-biphenylyl (84) 3-phenylthiophenyl (85) 3-chlorophenyl (86) 3-benzoylphenyl (87) 3 -Acetoxyphenyl (88) 3-benzoyloxyphenyl (89) 3-phenoxycarbonylphenyl (90) 3-methoxyphenyl (91) 3-anilinophenyl (92) 3-isobutyrylaminophenyl (93) 3-phenoxy Carbonylaminophenyl (94) 3- (3-ethylureido) phenyl (95) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (96) 3-methylphenyl (97) 3-phenoxyphenyl (98) 3-hydroxyphenyl (99) 4-Ethoxycarbonylphenyl (100) 4-butoxyphenyl (101) p-biphenylyl (102) 4-phenylthiophenyl (103) 4-chlorophenyl (104) 4-benzoylphenyl (105) 4-acetoxyphenyl (106) 4-benzoyloxyphenyl ( 107) 4-phenoxycarbonylphenyl (108) 4-methoxyphenyl (109) 4-anilinophenyl (110) 4-isobutyrylaminophenyl (111) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (112) 4- (3-ethyl (Ureido) phenyl (113) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (114) 4-methylphenyl (115) 4-phenoxyphenyl (116) 4-hydroxyphenyl (117) 3,4-diethoxycarbonylphenyl ( 118) 3 , 4-dibutoxyphenyl (119) 3,4-diphenylphenyl (120) 3,4-diphenylthiophenyl (121) 3,4-dichlorophenyl (122) 3,4-dibenzoylphenyl (123) 3,4- Diacetoxyphenyl (124) 3,4-dibenzoyloxyphenyl (125) 3,4-diphenoxycarbonylphenyl (126) 3,4-dimethoxyphenyl (127) 3,4-dianilinophenyl (128) 3,4 -Dimethylphenyl (129) 3,4-diphenoxyphenyl (130) 3,4-dihydroxyphenyl (131) 2-naphthyl (132) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (133) 3,4,5- Tributoxyphenyl (134) 3,4,5-triphenylphenyl (135) 3 4,5-triphenylthiophenyl (136) 3,4,5-trichlorophenyl (137) 3,4,5-tribenzoylphenyl (138) 3,4,5-triacetoxyphenyl (139) 3,4 5-tribenzoyloxyphenyl (140) 3,4,5-triphenoxycarbonylphenyl (141) 3,4,5-trimethoxyphenyl (142) 3,4,5-trianilinophenyl (143) 3,4 , 5-trimethylphenyl (144) 3,4,5-triphenoxyphenyl (145) 3,4,5-trihydroxyphenyl
(146)フェニル
(147)4−エトキシカルボニルフェニル
(148)4−ブトキシフェニル
(149)p−ビフェニリル
(150)4−フェニルチオフェニル
(151)4−クロロフェニル
(152)4−ベンゾイルフェニル
(153)4−アセトキシフェニル
(154)4−ベンゾイルオキシフェニル
(155)4−フェノキシカルボニルフェニル
(156)4−メトキシフェニル
(157)4−アニリノフェニル
(158)4−イソブチリルアミノフェニル
(159)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(160)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(161)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(162)4−メチルフェニル
(163)4−フェノキシフェニル
(164)4−ヒドロキシフェニル
(146) phenyl (147) 4-ethoxycarbonylphenyl (148) 4-butoxyphenyl (149) p-biphenylyl (150) 4-phenylthiophenyl (151) 4-chlorophenyl (152) 4-benzoylphenyl (153) 4 -Acetoxyphenyl (154) 4-benzoyloxyphenyl (155) 4-phenoxycarbonylphenyl (156) 4-methoxyphenyl (157) 4-anilinophenyl (158) 4-isobutyrylaminophenyl (159) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (160) 4- (3-ethylureido) phenyl (161) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (162) 4-methylphenyl (163) 4-phenoxyphenyl (164) 4-hydroxyphenyl
(165)フェニル
(166)4−エトキシカルボニルフェニル
(167)4−ブトキシフェニル
(168)p−ビフェニリル
(169)4−フェニルチオフェニル
(170)4−クロロフェニル
(171)4−ベンゾイルフェニル
(172)4−アセトキシフェニル
(173)4−ベンゾイルオキシフェニル
(174)4−フェノキシカルボニルフェニル
(175)4−メトキシフェニル
(176)4−アニリノフェニル
(177)4−イソブチリルアミノフェニル
(178)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(179)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(180)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(181)4−メチルフェニル
(182)4−フェノキシフェニル
(183)4−ヒドロキシフェニル
(165) phenyl (166) 4-ethoxycarbonylphenyl (167) 4-butoxyphenyl (168) p-biphenylyl (169) 4-phenylthiophenyl (170) 4-chlorophenyl (171) 4-benzoylphenyl (172) 4 -Acetoxyphenyl (173) 4-benzoyloxyphenyl (174) 4-phenoxycarbonylphenyl (175) 4-methoxyphenyl (176) 4-anilinophenyl (177) 4-isobutyrylaminophenyl (178) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (179) 4- (3-ethylureido) phenyl (180) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (181) 4-methylphenyl (182) 4-phenoxyphenyl (183) 4-hydroxyphenyl
(184)フェニル
(185)4−エトキシカルボニルフェニル
(186)4−ブトキシフェニル
(187)p−ビフェニリル
(188)4−フェニルチオフェニル
(189)4−クロロフェニル
(190)4−ベンゾイルフェニル
(191)4−アセトキシフェニル
(192)4−ベンゾイルオキシフェニル
(193)4−フェノキシカルボニルフェニル
(194)4−メトキシフェニル
(195)4−アニリノフェニル
(196)4−イソブチリルアミノフェニル
(197)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(198)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(199)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(200)4−メチルフェニル
(201)4−フェノキシフェニル
(202)4−ヒドロキシフェニル
(184) phenyl (185) 4-ethoxycarbonylphenyl (186) 4-butoxyphenyl (187) p-biphenylyl (188) 4-phenylthiophenyl (189) 4-chlorophenyl (190) 4-benzoylphenyl (191) 4 -Acetoxyphenyl (192) 4-benzoyloxyphenyl (193) 4-phenoxycarbonylphenyl (194) 4-methoxyphenyl (195) 4-anilinophenyl (196) 4-isobutyrylaminophenyl (197) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (198) 4- (3-ethylureido) phenyl (199) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (200) 4-methylphenyl (201) 4-phenoxyphenyl (202) 4-hydroxyphenyl
(203)フェニル
(204)4−エトキシカルボニルフェニル
(205)4−ブトキシフェニル
(206)p−ビフェニリル
(207)4−フェニルチオフェニル
(208)4−クロロフェニル
(209)4−ベンゾイルフェニル
(210)4−アセトキシフェニル
(211)4−ベンゾイルオキシフェニル
(212)4−フェノキシカルボニルフェニル
(213)4−メトキシフェニル
(214)4−アニリノフェニル
(215)4−イソブチリルアミノフェニル
(216)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(217)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(218)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(219)4−メチルフェニル
(220)4−フェノキシフェニル
(221)4−ヒドロキシフェニル
(203) phenyl (204) 4-ethoxycarbonylphenyl (205) 4-butoxyphenyl (206) p-biphenylyl (207) 4-phenylthiophenyl (208) 4-chlorophenyl (209) 4-benzoylphenyl (210) 4 -Acetoxyphenyl (211) 4-benzoyloxyphenyl (212) 4-phenoxycarbonylphenyl (213) 4-methoxyphenyl (214) 4-anilinophenyl (215) 4-isobutyrylaminophenyl (216) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (217) 4- (3-ethylureido) phenyl (218) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (219) 4-methylphenyl (220) 4-phenoxyphenyl (221) 4-hydroxyphenyl
(222)フェニル
(223)4−ブチルフェニル
(224)4−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(225)4−(5−ノネニル)フェニル
(226)p−ビフェニリル
(227)4−エトキシカルボニルフェニル
(228)4−ブトキシフェニル
(229)4−メチルフェニル
(230)4−クロロフェニル
(231)4−フェニルチオフェニル
(232)4−ベンゾイルフェニル
(233)4−アセトキシフェニル
(234)4−ベンゾイルオキシフェニル
(235)4−フェノキシカルボニルフェニル
(236)4−メトキシフェニル
(237)4−アニリノフェニル
(238)4−イソブチリルアミノフェニル
(239)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(240)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(241)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(242)4−フェノキシフェニル
(243)4−ヒドロキシフェニル
(244)3−ブチルフェニル
(245)3−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(246)3−(5−ノネニル)フェニル
(247)m−ビフェニリル
(248)3−エトキシカルボニルフェニル
(249)3−ブトキシフェニル
(250)3−メチルフェニル
(251)3−クロロフェニル
(252)3−フェニルチオフェニル
(253)3−ベンゾイルフェニル
(254)3−アセトキシフェニル
(255)3−ベンゾイルオキシフェニル
(256)3−フェノキシカルボニルフェニル
(257)3−メトキシフェニル
(258)3−アニリノフェニル
(259)3−イソブチリルアミノフェニル
(260)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(261)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(262)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(263)3−フェノキシフェニル
(264)3−ヒドロキシフェニル
(265)2−ブチルフェニル
(266)2−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(267)2−(5−ノネニル)フェニル
(268)o−ビフェニリル
(269)2−エトキシカルボニルフェニル
(270)2−ブトキシフェニル
(271)2−メチルフェニル
(272)2−クロロフェニル
(273)2−フェニルチオフェニル
(274)2−ベンゾイルフェニル
(275)2−アセトキシフェニル
(276)2−ベンゾイルオキシフェニル
(277)2−フェノキシカルボニルフェニル
(278)2−メトキシフェニル
(279)2−アニリノフェニル
(280)2−イソブチリルアミノフェニル
(281)2−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(282)2−(3−エチルウレイド)フェニル
(283)2−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(284)2−フェノキシフェニル
(285)2−ヒドロキシフェニル
(286)3,4−ジブチルフェニル
(287)3,4−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(288)3,4−ジフェニルフェニル
(289)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(290)3,4−ジドデシルオキシフェニル
(291)3,4−ジメチルフェニル
(292)3,4−ジクロロフェニル
(293)3,4−ジベンゾイルフェニル
(294)3,4−ジアセトキシフェニル
(295)3,4−ジメトキシフェニル
(296)3,4−ジ−N−メチルアミノフェニル
(297)3,4−ジイソブチリルアミノフェニル
(298)3,4−ジフェノキシフェニル
(299)3,4−ジヒドロキシフェニル
(300)3,5−ジブチルフェニル
(301)3,5−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(302)3,5−ジフェニルフェニル
(303)3,5−ジエトキシカルボニルフェニル
(304)3,5−ジドデシルオキシフェニル
(305)3,5−ジメチルフェニル
(306)3,5−ジクロロフェニル
(307)3,5−ジベンゾイルフェニル
(308)3,5−ジアセトキシフェニル
(309)3,5−ジメトキシフェニル
(310)3,5−ジ−N−メチルアミノフェニル
(311)3,5−ジイソブチリルアミノフェニル
(312)3,5−ジフェノキシフェニル
(313)3,5−ジヒドロキシフェニル
(314)2,4−ジブチルフェニル
(315)2,4−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(316)2,4−ジフェニルフェニル
(317)2,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(318)2,4−ジドデシルオキシフェニル
(319)2,4−ジメチルフェニル
(320)2,4−ジクロロフェニル
(321)2,4−ジベンゾイルフェニル
(322)2,4−ジアセトキシフェニル
(323)2,4−ジメトキシフェニル
(324)2,4−ジ−N−メチルアミノフェニル
(325)2,4−ジイソブチリルアミノフェニル
(326)2,4−ジフェノキシフェニル
(327)2,4−ジヒドロキシフェニル
(328)2,3−ジブチルフェニル
(329)2,3−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(330)2,3−ジフェニルフェニル
(331)2,3−ジエトキシカルボニルフェニル
(332)2,3−ジドデシルオキシフェニル
(333)2,3−ジメチルフ ェニル
(334)2,3−ジクロロフェニル
(335)2,3−ジベンゾイルフェニル
(336)2,3−ジアセトキシフェニル
(337)2,3−ジメトキシフェニル
(338)2,3−ジ−N−メチルアミノフェニル
(339)2,3−ジイソブチリルアミノフェニル
(340)2,3−ジフェノキシフェニル
(341)2,3−ジヒドロキシフェニル
(342)2,6−ジブチルフェニル
(343)2,6−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(344)2,6−ジフェニルフェニル
(345)2,6−ジエトキシカルボニルフェニル
(346)2,6−ジドデシルオキシフェニル
(347)2,6−ジメチルフェニル
(348)2,6−ジクロロフェニル
(349)2,6−ジベンゾイルフェニル
(350)2,6−ジアセトキシフェニル
(351)2,6−ジメトキシフェニル
(352)2,6−ジ−N−メチルアミノフェニル
(353)2,6−ジイソブチリルアミノフェニル
(354)2,6−ジフェノキシフェニル
(355)2,6−ジヒドロキシフェニル
(356)3,4,5−トリブチルフェニル
(357)3,4,5−トリ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(358)3,4,5−トリフェニルフェニル
(359)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(360)3,4,5−トリドデシルオキシフェニル
(361)3,4,5−トリメチルフェニル
(362)3,4,5−トリクロロフェニル
(363)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(364)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(365)3,4,5−トリメトキシフェニル
(366)3,4,5−トリ−N−メチルアミノフェニル
(367)3,4,5−トリイソブチリルアミノフェニル
(368)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(369)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(370)2,4,6−トリブチルフェニル
(371)2,4,6−トリ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(372)2,4,6−トリフェニルフェニル
(373)2,4,6−トリエトキシカルボニルフェニル
(374)2,4,6−トリドデシルオキシフェニル
(375)2,4,6−トリメチルフェニル
(376)2,4,6−トリクロロフェニル
(377)2,4,6−トリベンゾイルフェニル
(378)2,4,6−トリアセトキシフェニル
(379)2,4,6−トリメトキシフェニル
(380)2,4,6−トリ−N−メチルアミノフェニル
(381)2,4,6−トリイソブチリルアミノフェニル
(382)2,4,6−トリフェノキシフェニル
(383)2,4,6−トリヒドロキシフェニル
(384)ペンタフルオロフェニル
(385)ペンタクロロフェニル
(386)ペンタメトキシフェニル
(387)6−N−メチルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(388)5−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(389)6−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(390)5−エトキシ−7−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(391)3−メトキシ−2−ナフチル
(392)1−エトキシ−2−ナフチル
(393)6−N−フェニルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(394)5−メトキシ−7−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(395)1−(4−メチルフェニル)−2−ナフチル
(396)6,8−ジ−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(397)6−N−2−アセトキシエチルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(398)5−アセトキシ−7−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(399)3−ベンゾイルオキシ−2−ナフチル
(400)5−アセチルアミノ−1−ナフチル
(401)2−メトキシ−1−ナフチル
(402)4−フェノキシ−1−ナフチル
(403)5−N−メチルスルファモイル−1−ナフチル
(404)3−N−メチルカルバモイル−4−ヒドロキシ−1−ナフチル
(405)5−メトキシ−6−N−エチルスルファモイル−1−ナフチル
(406)7−テトラデシルオキシ−1−ナフチル
(407)4−(4−メチルフェノキシ)−1−ナフチル
(408)6−N−メチルスルファモイル−1−ナフチル
(409)3−N,N−ジメチルカルバモイル−4−メトキシ−1−ナフチル
(410)5−メトキシ−6−N−ベンジルスルファモイル−1−ナフチル
(411)3,6−ジ−N−フェニルスルファモイル−1−ナフチル
(412)メチル
(413)エチル
(414)ブチル
(415)オクチル
(416)ドデシル
(417)2−ブトキシ−2−エトキシエチル
(418)ベンジル
(419)4−メトキシベンジル
(222) phenyl (223) 4-butylphenyl (224) 4- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (225) 4- (5-nonenyl) phenyl (226) p-biphenylyl (227) 4-ethoxy Carbonylphenyl (228) 4-butoxyphenyl (229) 4-methylphenyl (230) 4-chlorophenyl (231) 4-phenylthiophenyl (232) 4-benzoylphenyl (233) 4-acetoxyphenyl (234) 4-benzoyl Oxyphenyl (235) 4-phenoxycarbonylphenyl (236) 4-methoxyphenyl (237) 4-anilinophenyl (238) 4-isobutyrylaminophenyl (239) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (240) 4- ( 3-ethylureido Phenyl (241) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (242) 4-phenoxyphenyl (243) 4-hydroxyphenyl (244) 3-butylphenyl (245) 3- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) ) Phenyl (246) 3- (5-nonenyl) phenyl (247) m-biphenylyl (248) 3-ethoxycarbonylphenyl (249) 3-butoxyphenyl (250) 3-methylphenyl (251) 3-chlorophenyl (252) 3-phenylthiophenyl (253) 3-benzoylphenyl (254) 3-acetoxyphenyl (255) 3-benzoyloxyphenyl (256) 3-phenoxycarbonylphenyl (257) 3-methoxyphenyl (258) 3-anilinophenyl (259) 3-I Butyrylaminophenyl (260) 3-phenoxycarbonylaminophenyl (261) 3- (3-ethylureido) phenyl (262) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (263) 3-phenoxyphenyl (264) 3 -Hydroxyphenyl (265) 2-butylphenyl (266) 2- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (267) 2- (5-nonenyl) phenyl (268) o-biphenylyl (269) 2-ethoxycarbonyl Phenyl (270) 2-Butoxyphenyl (271) 2-Methylphenyl (272) 2-Chlorophenyl (273) 2-Phenylthiophenyl (274) 2-Benzoylphenyl (275) 2-Acetoxyphenyl (276) 2-Benzoyloxy Phenyl (277) 2 Phenoxycarbonylphenyl (278) 2-methoxyphenyl (279) 2-anilinophenyl (280) 2-isobutyrylaminophenyl (281) 2-phenoxycarbonylaminophenyl (282) 2- (3-ethylureido) phenyl ( 283) 2- (3,3-diethylureido) phenyl (284) 2-phenoxyphenyl (285) 2-hydroxyphenyl (286) 3,4-dibutylphenyl (287) 3,4-di (2-methoxy-2) -Ethoxyethyl) phenyl (288) 3,4-diphenylphenyl (289) 3,4-diethoxycarbonylphenyl (290) 3,4-didodecyloxyphenyl (291) 3,4-dimethylphenyl (292) 3, 4-dichlorophenyl (293) 3,4-dibenzoyl Enyl (294) 3,4-diacetoxyphenyl (295) 3,4-dimethoxyphenyl (296) 3,4-di-N-methylaminophenyl (297) 3,4-diisobutyrylaminophenyl (298) 3 , 4-diphenoxyphenyl (299) 3,4-dihydroxyphenyl (300) 3,5-dibutylphenyl (301) 3,5-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (302) 3,5- Diphenylphenyl (303) 3,5-diethoxycarbonylphenyl (304) 3,5-didodecyloxyphenyl (305) 3,5-dimethylphenyl (306) 3,5-dichlorophenyl (307) 3,5-dibenzoyl Phenyl (308) 3,5-diacetoxyphenyl (309) 3,5-dimethoxyphenyl (3 0) 3,5-di-N-methylaminophenyl (311) 3,5-diisobutyrylaminophenyl (312) 3,5-diphenoxyphenyl (313) 3,5-dihydroxyphenyl (314) 2,4 -Dibutylphenyl (315) 2,4-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (316) 2,4-diphenylphenyl (317) 2,4-diethoxycarbonylphenyl (318) 2,4-di Dodecyloxyphenyl (319) 2,4-dimethylphenyl (320) 2,4-dichlorophenyl (321) 2,4-dibenzoylphenyl (322) 2,4-diacetoxyphenyl (323) 2,4-dimethoxyphenyl ( 324) 2,4-di-N-methylaminophenyl (325) 2,4-diisobutyrylaminopheny (326) 2,4-diphenoxyphenyl (327) 2,4-dihydroxyphenyl (328) 2,3-dibutylphenyl (329) 2,3-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (330) 2,3-diphenylphenyl (331) 2,3-diethoxycarbonylphenyl (332) 2,3-didodecyloxyphenyl (333) 2,3-dimethylphenyl (334) 2,3-dichlorophenyl (335) 2, 3-dibenzoylphenyl (336) 2,3-diacetoxyphenyl (337) 2,3-dimethoxyphenyl (338) 2,3-di-N-methylaminophenyl (339) 2,3-diisobutyrylaminophenyl (340) 2,3-diphenoxyphenyl (341) 2,3-dihydroxyphenyl (342 ) 2,6-dibutylphenyl (343) 2,6-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (344) 2,6-diphenylphenyl (345) 2,6-diethoxycarbonylphenyl (346) 2 , 6-didodecyloxyphenyl (347) 2,6-dimethylphenyl (348) 2,6-dichlorophenyl (349) 2,6-dibenzoylphenyl (350) 2,6-diacetoxyphenyl (351) 2,6 -Dimethoxyphenyl (352) 2,6-di-N-methylaminophenyl (353) 2,6-diisobutyrylaminophenyl (354) 2,6-diphenoxyphenyl (355) 2,6-dihydroxyphenyl (356 ) 3,4,5-tributylphenyl (357) 3,4,5-tri (2-methoxy-2-ethoxy) Til) phenyl (358) 3,4,5-triphenylphenyl (359) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (360) 3,4,5-tridodecyloxyphenyl (361) 3,4,5- Trimethylphenyl (362) 3,4,5-trichlorophenyl (363) 3,4,5-tribenzoylphenyl (364) 3,4,5-triacetoxyphenyl (365) 3,4,5-trimethoxyphenyl ( 366) 3,4,5-tri-N-methylaminophenyl (367) 3,4,5-triisobutyrylaminophenyl (368) 3,4,5-triphenoxyphenyl (369) 3,4,5 -Trihydroxyphenyl (370) 2,4,6-tributylphenyl (371) 2,4,6-tri (2-methoxy-2-ethoxyethyl) B) phenyl (372) 2,4,6-triphenylphenyl (373) 2,4,6-triethoxycarbonylphenyl (374) 2,4,6-tridodecyloxyphenyl (375) 2,4,6- Trimethylphenyl (376) 2,4,6-trichlorophenyl (377) 2,4,6-tribenzoylphenyl (378) 2,4,6-triacetoxyphenyl (379) 2,4,6-trimethoxyphenyl ( 380) 2,4,6-tri-N-methylaminophenyl (381) 2,4,6-triisobutyrylaminophenyl (382) 2,4,6-triphenoxyphenyl (383) 2,4,6 -Trihydroxyphenyl (384) Pentafluorophenyl (385) Pentachlorophenyl (386) Pentamethoxyphenyl (38 7) 6-N-methylsulfamoyl-8-methoxy-2-naphthyl (388) 5-N-methylsulfamoyl-2-naphthyl (389) 6-N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (390) ) 5-Ethoxy-7-N-methylsulfamoyl-2-naphthyl (391) 3-methoxy-2-naphthyl (392) 1-ethoxy-2-naphthyl (393) 6-N-phenylsulfamoyl-8 -Methoxy-2-naphthyl (394) 5-methoxy-7-N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (395) 1- (4-methylphenyl) -2-naphthyl (396) 6,8-di-N -Methylsulfamoyl-2-naphthyl (397) 6-N-2-acetoxyethylsulfamoyl-8-methoxy-2-naphthyl (398) 5-acetoxy-7 N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (399) 3-benzoyloxy-2-naphthyl (400) 5-acetylamino-1-naphthyl (401) 2-methoxy-1-naphthyl (402) 4-phenoxy-1 -Naphtyl (403) 5-N-methylsulfamoyl-1-naphthyl (404) 3-N-methylcarbamoyl-4-hydroxy-1-naphthyl (405) 5-methoxy-6-N-ethylsulfamoyl- 1-naphthyl (406) 7-tetradecyloxy-1-naphthyl (407) 4- (4-methylphenoxy) -1-naphthyl (408) 6-N-methylsulfamoyl-1-naphthyl (409) 3- N, N-dimethylcarbamoyl-4-methoxy-1-naphthyl (410) 5-methoxy-6-N-benzylsulfamoyl -1-naphthyl (411) 3,6-di-N-phenylsulfamoyl-1-naphthyl (412) methyl (413) ethyl (414) butyl (415) octyl (416) dodecyl (417) 2-butoxy- 2-Ethoxyethyl (418) benzyl (419) 4-methoxybenzyl
(424)メチル
(425)フェニル
(426)ブチル
(424) Methyl (425) Phenyl (426) Butyl
(430)メチル
(431)エチル
(432)ブチル
(433)オクチル
(434)ドデシル
(435)2−ブトキシ2−エトキシエチル
(436)ベンジル
(437)4−メトキシベンジル
(430) methyl (431) ethyl (432) butyl (433) octyl (434) dodecyl (435) 2-butoxy-2-ethoxyethyl (436) benzyl (437) 4-methoxybenzyl
本発明においては、1,3,5−トリアジン環を有する化合物として、メラミンポリマーを用いてもよい。メラミンポリマーは、下記一般式(IV)で示すメラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応により合成することが好ましい。 In the present invention, a melamine polymer may be used as the compound having a 1,3,5-triazine ring. The melamine polymer is preferably synthesized by a polymerization reaction between a melamine compound represented by the following general formula (IV) and a carbonyl compound.
上記合成反応スキームにおいて、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基である。 In the above synthetic reaction scheme, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
上記アルキル基、アルケニル基、アリール基及び複素環基及びこれらの置換基は前記一般式(III)で説明した各基、それらの置換基と同義である。 The alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, and substituents thereof have the same meanings as the groups and substituents described in the general formula (III).
メラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応は、通常のメラミン樹脂(例えば、メラミンホルムアルデヒド樹脂等)の合成方法と同様である。また、市販のメラミンポリマー(メラミン樹脂)を用いてもよい。 The polymerization reaction between the melamine compound and the carbonyl compound is the same as the method for synthesizing a normal melamine resin (for example, melamine formaldehyde resin). Moreover, you may use a commercially available melamine polymer (melamine resin).
メラミンポリマーの分子量は、2千〜40万であることが好ましい。メラミンポリマーの繰り返し単位の具体例を以下に示す。 The molecular weight of the melamine polymer is preferably 2,000 to 400,000. Specific examples of the repeating unit of the melamine polymer are shown below.
MP−1:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−2:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−3:R13、R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−4:R13、R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−5:R13、R14、R15、R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−6:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−7:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2OCH3
MP−8:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−9:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−10:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−11:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−12:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−13:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
MP−14:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−i−C4H9
MP−15:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C4H9
MP−16:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−17:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C4H9
MP−18:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−19:R13、R14、R16:CH2O−i−C4H9;R15:CH2OH
MP−20:R13、R16:CH2O−i−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−21:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−22:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−23:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−24:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9
MP−25:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−26:R13、R14、R16:CH2O−n−C4H9;R15:CH2OH
MP−27:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−28:R13、R14:CH2OH;R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−29:R13、R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−30:R13、R16:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−31:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−32:R13:CH2OH;R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−33:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−34:R13:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−35:R13、R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−36:R13、R16:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−37:R13:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−38:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−39:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−40:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−41:R13:CH2OH;R14:CH2O−n−C4H9;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−42:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−43:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−44:R13:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−45:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−46:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−47:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−48:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−49:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−50:R13:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP-1: R 13 , R 14 , R 15 , R 16 : CH 2 OH
MP-2: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-3: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-4: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-5: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-6: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-7: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-8: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-9: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-10: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-11: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-12: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-13: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-14: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-15: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-16: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-17: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-18: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-19: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-20: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-21: R 13 , R 14 , R 15 : CH 2 OH; R 16 : CH 2 On -C 4 H 9
MP-22: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-23: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-24: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-25: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2O -n-C 4 H 9
MP-26: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-27: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-28: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-29: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-30: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-31: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-32: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-33: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-34: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-35: R 13, R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-36: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-37: R 13: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-38: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-39: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C4H9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-40: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-41: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-42: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-43: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-44: R 13: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-45: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-46: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-47: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-48: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-49: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-50: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP−51:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−52:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−53:R13、R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−54:R13、R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−55:R13、R14、R15、R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−56:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−57:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2OCH3
MP−58:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−59:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−60:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−61:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−62:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−63:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
MP−64:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−i−C4H9
MP−65:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C4H9
MP−66:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−67:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C4H9
MP−68:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−69:R13、R14、R16:CH2O−i−C4H9;R15:CH2OH
MP−70:R13、R16:CH2O−i−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−71:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−72:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−73:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−74:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9
MP−75:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−76:R13、R14、R16:CH2O−n−C4H9;R15:CH2OH
MP−77:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−78:R13、R14:CH2OH;R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−79:R13、R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−80:R13、R16:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−81:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−82:R13:CH2OH;R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−83:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−84:R13:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−85:R13、R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−86:R13、R16:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−87:R13:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−88:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−89:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−90:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−91:R13:CH2OH;R14:CH2O−n−C4H9;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−92:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−93:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−94:R13:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−95:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−96:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−97:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−98:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−99:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−100:R13:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP-51: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OH
MP-52: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-53: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-54: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-55: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-56: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-57: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-58: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-59: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-60: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-61: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-62: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-63: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-64: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-65: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-66: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-67: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-68: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-69: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-70: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-71: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-72: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-73: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-74: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-75: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-76: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-77: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-78: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-79: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-80: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-81: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-82: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-83: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-84: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-85: R 13, R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-86: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-87: R 13: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-88: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-89: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-90: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-91: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-92: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-93: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-94: R 13: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-95: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-96: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-97: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-98: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-99: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-100: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP−101:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−102:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−103:R13、R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−104:R13、R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−105:R13、R14、R15、R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−106:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−107:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2OCH3
MP−108:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−109:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−110:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−111:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−112:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−113:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
MP−114:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−i−C4H9
MP−115:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C4H9
MP−116:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−117:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C4H9
MP−118:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−119:R13、R14、R16:CH2O−i−C4H9;R15:CH2OH
MP−120:R13、R16:CH2O−i−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−121:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−122:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−123:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−124:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9
MP−125:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−126:R13、R14、R16:CH2O−n−C4H9;R15:CH2OH
MP−127:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−128:R13、R14:CH2OH;R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−129:R13、R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−130:R13、R16:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−131:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−132:R13:CH2OH;R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−133:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−134:R13:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−135:R13、R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−136:R13、R16:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−137:R13:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−138:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−139:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−140:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−141:R13:CH2OH;R14:CH2O−n−C4H9;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−142:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−143:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−144:R13:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−145:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−146:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−147:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−148:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−149:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−150:R13:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP-101: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OH
MP-102: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-103: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-104: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-105: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-106: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-107: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-108: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-109: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-110: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-111: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-112: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-113: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-114: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-115: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-116: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-117: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-118: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-119: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-120: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-121: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-122: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-123: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-124: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-125: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-126: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-127: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-128: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-129: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-130: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-131: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-132: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-133: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-134: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-135: R 13, R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-136: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-137: R 13: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-138: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-139: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-140: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-141: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-142: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-143: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-144: R 13: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-145: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-146: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-147: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-148: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-149: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-150: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP−151:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−152:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−153:R13、R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−154:R13、R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−155:R13、R14、R15、R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−156:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−157:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2OCH3
MP−158:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−159:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−160:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−161:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−162:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−163:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
MP−164:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−i−C4H9
MP−165:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C4H9
MP−166:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−167:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C4H9
MP−168:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C4H9
MP−169:R13、R14、R16:CH2O−i−C4H9;R15:CH2OH
MP−170:R13、R16:CH2O−i−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−171:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−172:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−173:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−174:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9
MP−175:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−176:R13、R14、R16:CH2O−n−C4H9;R15:CH2OH
MP−177:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14、R15:CH2OH
MP−178:R13、R14:CH2OH;R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−179:R13、R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−180:R13、R16:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−181:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C4H9
MP−182:R13:CH2OH;R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9
MP−183:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15、R16:CH2O−n−C4H9
MP−184:R13:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2OCH3
MP−185:R13、R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−186:R13、R16:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9
MP−187:R13:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C4H9
MP−188:R13、R16:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−189:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−190:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−191:R13:CH2OH;R14:CH2O−n−C4H9;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−192:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C4H9;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−193:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C4H9
MP−194:R13:CH2O−n−C4H9;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−195:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−196:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−197:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−198:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−199:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3
MP−200:R13:CH2NHCO(CH2)7CH=CH(CH2)7CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
本発明においては、上記繰り返し単位を二種類以上組み合わせたコポリマーを用いてもよい。二種類以上のホモポリマー又はコポリマーを併用してもよい。
MP-151: R 13 , R 14 , R 15 , R 16: CH 2 OH
MP-152: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-153: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-154: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-155: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-156: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-157: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-158: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-159: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-160: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-161: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-162: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-163: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-164: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-165: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-166: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-167: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-168: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-169: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-170: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-171: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-172: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-173: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-174: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-175: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-176: R 13 , R 14 , R 16 : CH 2 On -C 4 H 9 ; R 15 : CH 2 OH
MP-177: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-178: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-179: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-180: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-181: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-182: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-183: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-184: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-185: R 13, R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2O -n-C 4 H 9
MP-186: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-187: R 13: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-188: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-189: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-190: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-191: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-192: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-193: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-194: R 13: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-195: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-196: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-197: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-198: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-199: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-200: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
In the present invention, a copolymer obtained by combining two or more of the above repeating units may be used. Two or more homopolymers or copolymers may be used in combination.
また、二種類以上の1,3,5−トリアジン環を有する化合物を併用してもよい。二種類以上の円盤状化合物(例えば、1,3,5−トリアジン環を有する化合物とポルフィリン骨格を有する化合物と)を併用してもよい。 Moreover, you may use together the compound which has a 2 or more types of 1,3,5- triazine ring. Two or more kinds of discotic compounds (for example, a compound having a 1,3,5-triazine ring and a compound having a porphyrin skeleton) may be used in combination.
これらの添加剤はセルロースエステルフィルムに対して0.2〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%含有することが好ましい。 These additives are preferably contained in an amount of 0.2 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass with respect to the cellulose ester film.
(微粒子)
本発明では、セルロースエステルフィルムの動摩擦係数を調整するため、微粒子を添加することが好ましい。セルロースエステルフィルムの動摩擦係数としては0.9以下であることが好ましく、特に好ましくは、0.1〜0.8である。
(Fine particles)
In the present invention, it is preferable to add fine particles in order to adjust the dynamic friction coefficient of the cellulose ester film. The dynamic friction coefficient of the cellulose ester film is preferably 0.9 or less, and particularly preferably 0.1 to 0.8.
微粒子としては、例えば二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を挙げることができるが、特に架橋高分子微粒子が好ましいが、しかしながら、本発明では、これらに限定されない。 As fine particles, for example, inorganic fine particles such as silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, Polymethyl methacrylate methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, polyolefin resin powder, Examples thereof include polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, and polyfluorinated ethylene resin powder. Crosslinked polymer fine particles are particularly preferable. In the bright, but it is not limited to these.
上記のうちでも二酸化珪素が動摩擦係数を調整するのに特に好ましく、またフィルムのヘイズを小さくできるので好ましい。微粒子の一次粒子または二次粒子の平均粒径は0.01μm〜1μmの範囲で、その含有量はセルロースエステルフィルムに対して0.005質量%〜1質量%が好ましい。二酸化珪素のような微粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。 Among these, silicon dioxide is particularly preferable for adjusting the dynamic friction coefficient, and is preferable because the haze of the film can be reduced. The average particle diameter of the primary particles or secondary particles of the fine particles is in the range of 0.01 μm to 1 μm, and the content is preferably 0.005% by mass to 1% by mass with respect to the cellulose ester film. In many cases, fine particles such as silicon dioxide are surface-treated with an organic material, but such particles are preferable because they can reduce the haze of the film.
表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどがあげられる。 Preferred organic materials for the surface treatment include halosilanes, alkoxysilanes, silazanes, siloxanes, and the like.
微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は20nm以下が好ましく、好ましくは、5nm〜16nmであり、特に好ましくは、5nm〜12nmである。これらの微粒子をセルロースエステルフィルム中に添加して、セルロースエステルフィルム表面に0.01μm〜1.0μmの凹凸を形成させることが好ましい。 The larger the average particle size of the fine particles, the greater the sliding effect. On the other hand, the smaller the average particle size, the better the transparency. Therefore, the preferable average particle size of the primary particles is preferably 20 nm or less, preferably 5 nm to 16 nm, and particularly preferably 5 nm to 12 nm. These fine particles are preferably added to the cellulose ester film to form irregularities of 0.01 μm to 1.0 μm on the surface of the cellulose ester film.
二酸化珪素の微粒子としては日本アエロジル(株)製のアエロジル(AEROSIL)200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812、OX50、TT600等を挙げることができ、好ましくはアエロジル200V、R972、R972V、R974、R202、R812である。 Examples of the fine particles of silicon dioxide include Aerosil 200, 200V, 300, R972, R972V, R974, R202, R812, OX50, TT600 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., preferably Aerosil 200V, R972, R972V, R974, R202, and R812.
これらの微粒子は2種以上併用してもよい。2種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。 Two or more kinds of these fine particles may be used in combination. When using 2 or more types together, it can mix and use in arbitrary ratios.
この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えばアエロジル200VとR972Vを質量比で0.1:99.9〜99.9〜0.1の範囲で使用できる。酸化ジルコニウムとして、例えばアエロジルR976またはR811(日本アエロジル(株)製)等市販品も使用できる。 In this case, fine particles having different average particle sizes and materials, such as Aerosil 200V and R972V, can be used in a mass ratio of 0.1: 99.9 to 99.9 to 0.1. Commercially available products such as Aerosil R976 or R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used as zirconium oxide.
有機物微粒子として、例えば、シリコーン樹脂として、トスパール103、105、108、120、145、3120、240(東芝シリコーン(株)製)等市販品も使用できる。
As the organic fine particles, for example, commercially available products such as
本発明において、微粒子の1次平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡(倍率50万〜200万倍)で粒子を観察を行い、粒子100個を観察し、その平均値をもって、1次平均粒子径とした。 In the present invention, the primary average particle diameter of the fine particles is measured by observing the particles with a transmission electron microscope (magnification of 500,000 to 2,000,000 times), observing 100 particles, and using the average value, the primary average is obtained. The particle diameter was taken.
微粒子の、見掛比重としては、70g/リットル以上が好ましく、更に好ましくは、90g/リットル〜200g/リットルであり、特に好ましくは、100〜200g/リットルである。見掛比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましく、また、本発明のように固形分濃度の高いドープを調製する際には、特に好ましく用いられる。 The apparent specific gravity of the fine particles is preferably 70 g / liter or more, more preferably 90 g / liter to 200 g / liter, and particularly preferably 100 to 200 g / liter. A larger apparent specific gravity makes it possible to make a high-concentration dispersion, which improves haze and agglomerates, and is preferable when preparing a dope having a high solid content concentration as in the present invention. Are particularly preferably used.
1次粒子の平均径が20nm以下、見掛比重が70g/l以上の二酸化珪素微粒子は、例えば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを1000〜1200℃にて空気中で燃焼させることで得ることができる。本発明において、上記記載の見掛比重は二酸化珪素微粒子を一定量メスシリンダーに採り、この時の重さを測定し、下記式で算出した。 Silicon dioxide fine particles having an average primary particle diameter of 20 nm or less and an apparent specific gravity of 70 g / l or more are, for example, a mixture of vaporized silicon tetrachloride and hydrogen burned in air at 1000 to 1200 ° C. Can be obtained. In the present invention, the apparent specific gravity described above was calculated by the following equation by measuring a weight of silicon dioxide fine particles in a graduated cylinder and measuring the weight at that time.
見掛比重(g/L)=二酸化珪素質量(g)/二酸化珪素の容積(L)
本発明に有用な微粒子の分散液を調製する方法とそれをドープに添加する方法としては、例えば以下に示すような三つの方法を挙げることができる。
Apparent specific gravity (g / L) = silicon dioxide mass (g) / silicon dioxide volume (L)
Examples of the method for preparing a dispersion of fine particles useful in the present invention and the method for adding it to the dope include the following three methods.
《調製方法A》
有機溶媒と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。
<< Preparation Method A >>
After stirring and mixing the organic solvent and the fine particles, dispersion is performed with a disperser. This is a fine particle dispersion. The fine particle dispersion is added to the dope solution and stirred.
《調製方法B》
有機溶媒と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。別に有機溶媒に少量のセルロースエステルを加え撹拌溶解した液に微粒子分散液を加えて撹拌する。これを微粒子添加液とし、インラインミキサーでドープ液と十分混合する。
<< Preparation Method B >>
After stirring and mixing the organic solvent and the fine particles, dispersion is performed with a disperser. This is a fine particle dispersion. Separately, a fine particle dispersion is added to a solution obtained by adding a small amount of cellulose ester to an organic solvent and stirring and dissolving the mixture, followed by stirring. This is used as a fine particle addition solution and sufficiently mixed with the dope solution using an in-line mixer.
《調製方法C》
有機溶媒に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
<< Preparation Method C >>
Add a small amount of cellulose ester to the organic solvent and dissolve with stirring. Fine particles are added to this and dispersed by a disperser. This is a fine particle addition solution. The fine particle additive solution is sufficiently mixed with the dope solution using an in-line mixer.
調製方法Aは二酸化珪素微粒子の分散性に優れ、調製方法Cは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Bは二酸化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。 Preparation method A is excellent in dispersibility of silicon dioxide fine particles, and preparation method C is excellent in that silicon dioxide fine particles are difficult to re-aggregate. Among them, the preparation method B described above is a preferable preparation method that is excellent in both dispersibility of the silicon dioxide fine particles and that the silicon dioxide fine particles are less likely to reaggregate.
《分散方法》
二酸化珪素微粒子を有機溶媒などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は5〜30質量%が好ましく、10〜25質量%が更に好ましく、15〜20質量%が最も好ましい。
《Distribution method》
The concentration of silicon dioxide when the silicon dioxide fine particles are mixed and dispersed with an organic solvent is preferably 5 to 30% by mass, more preferably 10 to 25% by mass, and most preferably 15 to 20% by mass.
セルロースエステルに対する二酸化珪素微粒子の添加量はセルロースエステル100質量部に対して、二酸化珪素微粒子は0.01〜0.5質量部が好ましく、0.05〜0.2質量部が更に好ましく、0.08〜0.12質量部が最も好ましい。添加量は多い方が、セルロースエステルフィルムの動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方がヘイズが低く、凝集物も少ない点で優れている。 The amount of silicon dioxide fine particles added to cellulose ester is preferably 0.01 to 0.5 parts by mass, more preferably 0.05 to 0.2 parts by mass, and more preferably 0.0 to 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of cellulose ester. Most preferred is 08 to 0.12 parts by mass. A larger amount is superior in the dynamic friction coefficient of the cellulose ester film, and a smaller amount is superior in that the haze is low and the aggregates are also small.
分散液に使用される有機溶媒は低級アルコール類が好ましく、低級アルコールとしては、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブタノール等を挙げることができ、好ましく用いることができる。低級アルコール以外の有機溶媒としては特に限定されないが、ドープ調製時に用いられる有機溶媒が好ましい。例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、アセト酢酸メチル等がドープ調製時に用いられる。 The organic solvent used in the dispersion is preferably a lower alcohol, and examples of the lower alcohol include methanol, ethanol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butanol, and the like. Although it does not specifically limit as organic solvents other than a lower alcohol, The organic solvent used at the time of dope preparation is preferable. For example, methyl acetate, ethyl acetate, acetone, methyl acetoacetate, etc. are used at the time of dope preparation.
分散機は通常の分散機が使用できる。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散には後者がヘイズが低くなるので好ましい。 As the disperser, a normal disperser can be used. Dispersers can be broadly divided into media dispersers and medialess dispersers. The latter is preferable for dispersing silicon dioxide fine particles because the haze is lowered.
メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミル等を挙げることができる。 Examples of the media disperser include a ball mill, a sand mill, and a dyno mill.
また、メディアレス分散機として、超音波型、遠心型、高圧型等があるが、本発明においては高圧型が好ましく、高圧分散装置が好ましい。 The medialess disperser includes an ultrasonic type, a centrifugal type, and a high pressure type. In the present invention, a high pressure type is preferable, and a high pressure dispersion device is preferable.
高圧分散装置は、微粒子と有機溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作り出す装置である。高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径1〜2000μmの細管中で装置内部の最大圧力条件が9.8MPa以上であることが好ましい。更に好ましくは19.6MPa以上である。またその際、最高到達速度が100m/秒以上に達するもの、伝熱速度が420kJ/時間以上に達するものが好ましい。 The high-pressure dispersion device is a device that creates special conditions such as high shear and high pressure by passing a composition in which fine particles and an organic solvent are mixed at high speed through a narrow tube. When processing with a high-pressure dispersion apparatus, for example, the maximum pressure condition inside the apparatus is preferably 9.8 MPa or more in a thin tube having a tube diameter of 1 to 2000 μm. More preferably, it is 19.6 MPa or more. Further, at that time, those having a maximum reaching speed of 100 m / second or more and those having a heat transfer speed of 420 kJ / hour or more are preferable.
上記のような高圧分散装置にはMicrofluidics Corporation社製超高圧ホモジナイザ(商品名マイクロフルイダイザ)あるいはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械(株)社製UHN−01等がある。 The high-pressure dispersion apparatus as described above includes an ultra-high pressure homogenizer (trade name: Microfluidizer) manufactured by Microfluidics Corporation or a nanomizer manufactured by Nanomizer, and other manton gorin type high-pressure dispersion apparatuses such as a homogenizer manufactured by Izumi Food Machinery, Inc. There is UHN-01 manufactured by Wakki Co., Ltd.
本発明において、上記微粒子を含有させる際、セルロースエステルフィルムの厚さ方向に均一に分布していることが好ましいが、主に表面近傍に存在するように分布させることがより好ましく、例えば、一つのダイから共流延法により、2種以上のドープを同時に流延し、微粒子を含有するドープを表層側に配置させるようにすることが好ましい。このようにすることによって、ヘイズを減少させ、且つ、動摩擦係数を低めることができる。更に好ましくは3種のドープを使用して表層側の両面または片層に微粒子を含有するドープ配置にさせることが好ましい。 In the present invention, when the fine particles are contained, it is preferably uniformly distributed in the thickness direction of the cellulose ester film, but is more preferably distributed so as to exist mainly in the vicinity of the surface. Preferably, two or more kinds of dopes are cast simultaneously from the die by a co-casting method, and the dope containing fine particles is arranged on the surface layer side. By doing in this way, a haze can be reduced and a dynamic friction coefficient can be lowered. More preferably, it is preferable to use a dope arrangement in which fine particles are contained in both surfaces or one layer on the surface layer side using three kinds of dopes.
本発明の光学フィルムの製造方法においては、延伸の後に樹脂層を塗設することが特徴である。また、帯電防止層、反射防止層、易滑性層、接着層、防眩層、防汚層、ガスバリア層等の各種機能性層を塗設してもよい。例えば、セルロースエステルフィルムと樹脂層の間に帯電防止層、下引き層などの中間層を設けても良い。 In the method for producing an optical film of the present invention is characterized by the Coating trees fat layer after stretching. Various functional layers such as an antistatic layer, an antireflection layer, a slippery layer, an adhesive layer, an antiglare layer, an antifouling layer, and a gas barrier layer may be coated. For example, an antistatic layer between the cellulose ester film and tree fat layer, may be provided intermediate layers such as subbing layers.
本発明では、樹脂層形成用の塗布組成物と基材との密着性及び更に濡れ性を向上させる目的で、被塗布物表面を予めアルカリ鹸化処理、酸処理、界面活性剤処理、無機或いは有機物の微粒子による研磨処理、酸化剤処理、プライマー処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理、アルゴンまたは酸素雰囲気下で高周波放電によるプラズマ放電処理、アルゴン、酸素または窒素などのイオンビーム処理などによって、表面改質処理を行うことが好ましい。 In the present invention, for the purpose of improving the adhesion between the coating composition for forming the resin layer and the substrate and further improving the wettability, the surface of the coating object is previously subjected to alkali saponification treatment, acid treatment, surfactant treatment, inorganic or organic matter. Surface modification by polishing with fine particles, oxidizing agent treatment, primer treatment, corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma discharge treatment by high frequency discharge in argon or oxygen atmosphere, ion beam treatment of argon, oxygen or nitrogen, etc. It is preferable to carry out the treatment.
これら表面活性化処理の内でも特にコロナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ放電処理、またはアルカリ鹸化処理が実用上好ましい。 Among these surface activation treatments, corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma discharge treatment, or alkali saponification treatment is particularly preferred in practice.
コロナ放電処理とは、大気圧下、電極間に1kV以上の高電圧を印加し、放電することで行う処理のことであり、春日電機(株)や(株)トーヨー電機などで市販されている装置を用いて行うことができる。コロナ放電処理の強度は、電極間距離、単位面積当たりの出力、ジェネレーターの周波数に依存する。コロナ放電処理装置の一方の電極(A電極)は、市販のものを用いることができるが、材質はアルミニウム、ステンレスなどから選択ができる。もう一方はプラスチックフィルムを抱かせるための電極(B電極)であり、コロナ放電処理が、安定かつ均一に実施されるように、前記A電極に対して一定の距離に設置されるロール電極である。これも通常市販されているものを用いることが出来、材質は、アルミニウム、ステンレス、及びそれらの金属で出来たロールに、セラミック、シリコン、EPTゴム、ハイパロンゴムなどがライニングされているロールが好ましく用いられる。 The corona discharge treatment is a treatment performed by applying a high voltage of 1 kV or higher between the electrodes at atmospheric pressure and discharging it, and is commercially available from Kasuga Electric Co., Ltd. and Toyo Electric Co., Ltd. This can be done using an apparatus. The intensity of the corona discharge treatment depends on the distance between the electrodes, the output per unit area, and the generator frequency. As one electrode (A electrode) of the corona discharge treatment apparatus, a commercially available one can be used, but the material can be selected from aluminum, stainless steel and the like. The other is an electrode (B electrode) for holding a plastic film, and is a roll electrode installed at a certain distance from the A electrode so that the corona discharge treatment is carried out stably and uniformly. . A commercially available one can also be used, and the material is preferably a roll made of aluminum, stainless steel, or a metal thereof, and a roll lined with ceramic, silicon, EPT rubber, hyperon rubber, or the like. It is done.
本発明において、コロナ放電処理に用いる周波数は、20kHz以上100kHz以下の周波数であり、30kHz〜60kHzの周波数が好ましい。周波数が低下するとコロナ放電処理の均一性が劣化し、コロナ放電処理のムラが発生する。また、周波数が大きくなると、高出力のコロナ放電処理を行う場合には、特に問題ないが、低出力のコロナ放電処理を実施する場合には、安定した処理を行うことが難しくなり、結果として、処理ムラが発生する。 In the present invention, the frequency used for the corona discharge treatment is a frequency of 20 kHz to 100 kHz, and a frequency of 30 kHz to 60 kHz is preferable. When the frequency is lowered, the uniformity of the corona discharge treatment is deteriorated, and unevenness of the corona discharge treatment occurs. In addition, when the frequency is increased, there is no particular problem when performing a high output corona discharge treatment, but when performing a low output corona discharge treatment, it becomes difficult to perform a stable treatment. Processing unevenness occurs.
本発明において、コロナ放電処理の出力は、1〜5w・min./m2であるが、2〜4w・min./m2の出力が好ましい。 In the present invention, the output of the corona discharge treatment is 1 to 5 w · min. / M 2 but 2 to 4 w · min. An output of / m 2 is preferred.
本発明において、電極とフィルムとの距離は、5mm以上50mm以下であることが好ましく、より好ましくは10mm以上35mm以下である。間隙が開いてくると、一定の出力を維持するためにより高電圧が必要になり、ムラが発生し易くなる。また、間隙が狭くなりすぎると、印加する電圧が低くなりすぎ、ムラが発生し易くなる。更にまた、フィルムを搬送して連続処理する際に電極にフィルムが接触し傷が発生する。 In the present invention, the distance between the electrode and the film is preferably 5 mm or more and 50 mm or less, and more preferably 10 mm or more and 35 mm or less. When the gap is opened, a higher voltage is required to maintain a constant output, and unevenness is likely to occur. On the other hand, if the gap is too narrow, the applied voltage becomes too low and unevenness is likely to occur. Furthermore, when the film is transported and continuously processed, the film comes into contact with the electrodes and scratches are generated.
紫外線照射処理は、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯、ケミカルランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ等のランプが挙げられる。例えば、Fusion System社製のHランプ、Dランプ、Vランプ等の市販されているものを用いて行うことができる。メタルハライドランプは、高圧水銀ランプ(主波長は365nm)に比べてスペクトルが連続しており、200〜450nmの範囲で発光効率が高く、かつ長波長域が豊富である。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、例えば、低圧水銀ランプを用いて、主として185nm及び254nmの紫外線を1〜3,000mJ/cm2の光量で照射する方法や、エキシマランプを用いて、主として波長が172nmの紫外線を1〜3,000mJ/cm2の光量で照射する方法が挙げられる。このような紫外線は、活性酸素やオゾンを生成し、被塗布物表面の有機物を分解することが可能であり、また、被塗布物表面に直接作用して被塗布物表面にヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボニル基等の親水性基を生成し、密着性を向上させることができる。 Examples of the ultraviolet irradiation treatment include lamps such as metal halide lamps, xenon lamps, carbon arc lamps, chemical lamps, low pressure mercury lamps, and high pressure mercury lamps. For example, a commercially available product such as an H lamp, a D lamp, or a V lamp manufactured by Fusion System can be used. The metal halide lamp has a continuous spectrum as compared with a high-pressure mercury lamp (main wavelength is 365 nm), has high luminous efficiency in the range of 200 to 450 nm, and has a long wavelength range. Irradiation conditions vary depending on each lamp. For example, a low-pressure mercury lamp is used to irradiate mainly 185 nm and 254 nm ultraviolet rays with a light amount of 1 to 3,000 mJ / cm 2 , and an excimer lamp is used mainly for the wavelength. Can irradiate ultraviolet rays of 172 nm with a light amount of 1 to 3,000 mJ / cm 2 . Such ultraviolet rays generate active oxygen and ozone, and can decompose organic substances on the surface of the object to be coated. Also, they act directly on the surface of the object to be coated, so that hydroxyl groups and carboxyl groups are formed on the surface of the object to be coated. It is possible to generate a hydrophilic group such as a carbonyl group and improve adhesion.
プラズマ放電処理は、後述するプラズマ放電処理装置等により、アルゴンまたは酸素雰囲気下で基材を高周波放電雰囲気化に晒すことにより行うことができる。 The plasma discharge treatment can be performed by exposing the base material to a high-frequency discharge atmosphere in an argon or oxygen atmosphere with a plasma discharge treatment apparatus or the like described later.
アルカリ鹸化処理は、好ましくは室温〜60℃の0.1〜10mol/Lの水酸化ナトリウム或いは水酸化カリウム等のアルカリ性水溶液中に1〜数分浸漬した後、中和、水洗することによって行うことができる。 The alkali saponification treatment is preferably carried out by immersing in an alkaline aqueous solution such as 0.1 to 10 mol / L sodium hydroxide or potassium hydroxide at room temperature to 60 ° C. for 1 to several minutes, followed by neutralization and washing with water. Can do.
製膜過程でカットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料としてまたは異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。 After gripping the clip grips at both ends of the film cut during the film-forming process, or after performing granulation or depolymerization / repolymerization as necessary, as a raw material for film of the same type Or you may reuse as a raw material for films of a different kind.
本発明において、上記のようにして製膜されたセルロースエステルフィルムを105℃、5時間という条件下での縦及び横の寸法収縮率が±0.1%以下であることが好ましい。またセルロースエステルフィルムの80μm換算でのヘイズが0.6%以下であることが好ましく、特にそのヘイズ値が0.5%以下のものが好ましく、更に好ましくは0.1%以下である。尚、ヘイズ値の下限は特に限定されるものでは無い。また、本発明の光学フィルムの引き裂き強度は10g以上であることが好ましく12g以上であることがより好ましく、15g以上であることが更に好ましく、18g以上であることが更に好ましく、20g以上であることが更に好ましく、22g以上であることが更に好ましい。またセルロースエステルフィルムの引っ張り強度が50N/mm2以上であることが好ましく、また弾性率が3kN/mm2以上であることが好ましい。またセルロースエステルフィルムの動摩擦係数は、1以下好ましくは0.4以下であることが好ましく、更に好ましくは0.35以下である。 In the present invention, it is preferable that the vertical and horizontal dimensional shrinkage ratios of the cellulose ester film formed as described above at 105 ° C. for 5 hours are ± 0.1% or less. Moreover, it is preferable that the haze in 80 micrometer conversion of a cellulose-ester film is 0.6% or less, The thing whose haze value is 0.5% or less is especially preferable, More preferably, it is 0.1% or less. The lower limit of the haze value is not particularly limited. Further, the tear strength of the optical film of the present invention is preferably 10 g or more, more preferably 12 g or more, further preferably 15 g or more, further preferably 18 g or more, and 20 g or more. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 22 g or more. The tensile strength of the cellulose ester film is preferably 50 N / mm 2 or more, and the elastic modulus is preferably 3 kN / mm 2 or more. The coefficient of dynamic friction of the cellulose ester film is 1 or less, preferably 0.4 or less, and more preferably 0.35 or less.
本発明の光学フィルムは寸度安定性に優れ、80℃、90%RHにおける寸法収縮率が±0.5%未満であり、更に好ましくは0.3%未満であり、更に好ましくは0.1%未満であり、更に好ましくは0.08%未満であり、更に好ましくは0.06%未満であり、更に好ましくは0.04%未満である。 The optical film of the present invention is excellent in dimensional stability, and the dimensional shrinkage at 80 ° C. and 90% RH is less than ± 0.5%, more preferably less than 0.3%, and still more preferably 0.1. %, More preferably less than 0.08%, still more preferably less than 0.06%, and even more preferably less than 0.04%.
〈樹脂層〉
本発明に係る樹脂層は、セルロースエステルフィルム上に塗設された硬化性の樹脂層である。
< Resin layer>
Resin layer according to the present invention is a curable resin layer which is coated on the cellulose ester film.
更に本発明のハードコートフィルムにおいては、樹脂層として活性線硬化樹脂を含む活性線により硬化する樹脂層(以下、活性線硬化樹脂層と称する)であることが好ましい。 In yet hard coat film of the present invention, a resin layer which is cured by actinic radiation comprising an active ray curable resin as the tree fat layer is preferably that (hereinafter, referred to as the active ray curable resin layer).
本発明の光学フィルムの活性線硬化樹脂層について詳細に説明する。 The active ray curable resin layer of the optical film of the present invention will be described in detail.
本発明においては、少なくとも樹脂、水及び有機溶媒からなる溶媒を含有し、固形分含有量が10〜70質量%、該溶媒中の水分含有量が30質量%以上である塗布組成物を用いることを特徴とする。この構成により、平面性の劣化が少ない光学フィルムを得ることができる。 In the present invention , a coating composition containing at least a resin, water and an organic solvent, having a solid content of 10 to 70% by mass, and a water content of 30% by mass or more in the solvent is used. It is characterized by. With this configuration, an optical film with little deterioration in flatness can be obtained.
活性線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂(重合性化合物)としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて硬化樹脂層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。 The actinic radiation curable resin layer refers to a layer mainly composed of a resin that cures through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams. As the actinic radiation curable resin (polymerizable compound), a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and cured by irradiating an actinic radiation such as an ultraviolet ray or an electron beam. Is formed. Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and a resin curable by ultraviolet irradiation is preferable.
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。以下、本発明に用いられる重合性化合物について説明する。 As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used. Hereinafter, the polymerizable compound used in the present invention will be described.
(重合性化合物)
本発明に用いられる好ましい重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればどの様なものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用してもよい。
(Polymerizable compound)
The preferred polymerizable compound used in the present invention is a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization, and any compound having at least one ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization in the molecule. A thing with chemical forms, such as a monomer, an oligomer, and a polymer, is contained. Only one kind of radically polymerizable compound may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination at an arbitrary ratio in order to improve desired properties.
また、本発明に用いられるラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物は、併せて1分子中に少なくとも1個のカルボキシル基を有する化合物が好ましく、そのような化合物としては
(1)2塩基酸無水物とヒドロキシ基含有のアクリル酸エステル或いはメタクリル酸エステルとの反応生成物:それらの代表的な化合物としては、無水コハク酸、無水オルソフタル酸、無水マレイン酸などと、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレートとの反応物である。
In addition, the compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization used in the present invention is preferably a compound having at least one carboxyl group in one molecule, and as such a compound, (1) 2 bases Reaction product of acid anhydride and hydroxy group-containing acrylic acid ester or methacrylic acid ester: representative compounds thereof include succinic anhydride, orthophthalic anhydride, maleic anhydride, 2-hydroxyethyl methacrylate, It is a reaction product with 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate.
(2)エポキシ樹脂のアクリル酸エステルの2級水酸基に2塩基酸無水物を反応せしめた化合物:それらの代表的な化合物としては、ビスフェノール型エポキシ樹脂であるエピコート828、エピコート1001(商品名;油化シェルエポキシ製)、多価アルコール脂肪族エポキシ樹脂であるデナコール(商品名;ナガセ化成製)、例えば1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ペンタエリスルトリグリシジルエーテル、環状脂肪族エポキシ樹脂であるセロキサイド(商品名;ダイセル化学製)などにアクリル酸エステルを反応させた後、残留しているか、新たに生成した水酸基に無水コアク酸、無水マレイン酸を反応させて得られる化合物である。 (2) Compound obtained by reacting dibasic acid anhydride with secondary hydroxyl group of acrylic ester of epoxy resin: As representative compounds thereof, bisphenol type epoxy resin Epicoat 828, Epicoat 1001 (trade name; oil Deacol (trade name; manufactured by Nagase Kasei), such as 1,4-butanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, pentaerythrtriglycidyl ether, cyclic It can be obtained by reacting acrylate with aliphatic epoxy resin such as Celoxide (trade name; manufactured by Daicel Chemical Industries) and then reacting it with residual cocic anhydride or maleic anhydride. A compound.
(3)アクリル酸或いはメタクリル酸の多価アルコールエステルに2塩基酸無水物を反応せしめた化合物:これらの代表的な化合物としてはアクリル酸のグリコールないしポリエチレングリコールエステルに無水コハク酸、無水マレイン酸を反応させて得られる化合物である。ここで用いられるグリコールないしポリエチレングリコールとしては、分子量600以下程度のものがよい。 (3) A compound obtained by reacting a polybasic alcohol ester of acrylic acid or methacrylic acid with a dibasic acid anhydride: Typical examples of these compounds include succinic anhydride and maleic anhydride on glycol of acrylic acid or polyethylene glycol ester. It is a compound obtained by reacting. The glycol or polyethylene glycol used here preferably has a molecular weight of about 600 or less.
(4)分子鎖の中にカルボキシル基側鎖を有する水溶性のウレタンアクリレート及びメタクリレート:紫外線硬化樹脂としてのオリゴマーの合成は公知であるが、カルボキシル側鎖を有するオリゴマー化合物を合成するには、オリゴマー合成反応の途中で無水トリメリット酸に代表される多塩基酸、或いは、ジメチロールプロピオン酸などに代表される、1分子中に2個の水酸基と1個のカルボキシル基を有する化合物が利用される。 (4) Water-soluble urethane acrylates and methacrylates having carboxyl side chains in the molecular chain: synthesis of oligomers as UV curable resins is known, but to synthesize oligomer compounds having carboxyl side chains, oligomers In the course of the synthesis reaction, a polybasic acid typified by trimellitic anhydride, or a compound having two hydroxyl groups and one carboxyl group in one molecule typified by dimethylolpropionic acid or the like is used. .
また、以上例示した化合物(1)〜(4)は、塩基によって中和され、水に易溶の化合物となる。用いる塩基の具体例としては、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、n−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、トリメチルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、テトアエチレンペンタミン、プロピレンジアミン、エタノールアミン、ヘキシルアミン、ラウリルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルフォリン、ピペリジン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、イソブチルアミン、NaOH、LiOH、KOHなどが挙げられる。 In addition, the compounds (1) to (4) exemplified above are neutralized with a base and become easily soluble in water. Specific examples of the base used include ammonia, methylamine, ethylamine, dimethylamine, diethylamine, n-butylamine, di-n-butylamine, trimethylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetraamine, tetoaethylenepentamine, propylenediamine, and ethanol. Examples include amine, hexylamine, laurylamine, diethanolamine, triethanolamine, morpholine, piperidine, propylamine, isopropylamine, isobutylamine, NaOH, LiOH, and KOH.
また、本発明に用いられる重合性化合物として水溶性のラジカル重合性化合物が挙げられる。そのような化合物としては、例えば、以下の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Moreover, a water-soluble radically polymerizable compound is mentioned as a polymeric compound used for this invention. Examples of such compounds include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.
上記式(1)〜(4)及び(13)におけるXは水素原子またはメチル基を表す。 X in the above formulas (1) to (4) and (13) represents a hydrogen atom or a methyl group.
紫外線によってラジカル重合する重合性物質としては、例えば、下記一般式において、Rがポリオールの残基である一般式群A、或いは、Rがポリオールのエポキシエステルの残基である一般式群Bから選ばれる水溶性の重合性化合物が挙げられる。一般式群A及びBについては、後述する。 The polymerizable substance that undergoes radical polymerization by ultraviolet rays is selected from, for example, general formula group A in which R is a residue of a polyol in the following general formula, or general formula group B in which R is a residue of an epoxy ester of a polyol. And water-soluble polymerizable compounds. General formula groups A and B will be described later.
上記一般式をより明確に表現すると、下記一般式のようになる。 When the above general formula is expressed more clearly, the following general formula is obtained.
更に、一般式群Aの物質としては、以下に例示するものを使用することが好ましい。ここで、下記一般式で示される重合性物質群A1〜A11におけるA、X、Rx、Ry、Rz及びRpは、夫々独立して下記の原子団を表している。 Furthermore, as the substance of the general formula group A, it is preferable to use those exemplified below. Here, A, X, Rx, Ry, Rz, and Rp in the polymerizable substance groups A1 to A11 represented by the following general formula independently represent the following atomic groups.
尚、Rpの構造の1つを示す上記式(1−4)中のX2のハロゲン原子としては、例えば、弗素原子、塩素原子、または臭素原子等が挙げられ、また、アルコキシル基としては、炭素数1〜3のアルコキシル基等が挙げられる。 In addition, as a halogen atom of X2 in the above formula (1-4) showing one of the structures of Rp, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or the like can be mentioned, and as an alkoxyl group, a carbon atom can be used. Examples are an alkoxyl group of 1 to 3 and the like.
先ず、下記に示す一般式からなる重合性物質群A1に含まれる重合性化合物が挙げられるが、具体的には、下記式で表される重合性化合物A1−1及びA1−2を使用することができる。 First, polymerizable compounds included in the polymerizable substance group A1 having the general formula shown below are exemplified, and specifically, the polymerizable compounds A1-1 and A1-2 represented by the following formula are used. Can do.
また、下記に示す一般式からなる重合性物質群A2に含まれる重合性化合物が挙げられるが、具体的には、下記式で表される重合性化合物A2−1を使用することができる。 Moreover, although the polymeric compound contained in polymeric substance group A2 consisting of the general formula shown below is mentioned, Specifically, polymeric compound A2-1 represented by a following formula can be used.
また、下記に示す一般式からなる重合性物質群A3に含まれる重合性化合物が挙げられるが、具体的には、下記式で表される重合性化合物A3−1〜A3−4を使用することができる。 Moreover, although the polymeric compound contained in polymeric substance group A3 which consists of the general formula shown below is mentioned, Specifically, polymeric compound A3-1-A3-4 represented by a following formula should be used. Can do.
また、下記に示す一般式からなる重合性物質群A4に含まれる重合性化合物が挙げられるが、具体的には、下記式で表される重合性化合物A4−1を使用することができる。 Moreover, although the polymeric compound contained in polymeric substance group A4 which consists of a general formula shown below is mentioned, Specifically, polymeric compound A4-1 represented by a following formula can be used.
また、下記に示す一般式からなる重合性物質群A5に含まれる重合性化合物が挙げられるが、具体的には、下記式で表される重合性化合物A5−1を使用することができる。 Moreover, although the polymeric compound contained in polymeric substance group A5 which consists of the general formula shown below is mentioned, Specifically, polymeric compound A5-1 represented by a following formula can be used.
更に、下記に示す一般式からなる重合性物質群A6〜A11に含まれる各重合性化合物が挙げられる。 Furthermore, each polymeric compound contained in polymeric substance group A6-A11 which consists of a general formula shown below is mentioned.
先に例示した重合性化合物A10−1やA10−2等は、アクリル酸のビニル基に、カルボキシル基を有するアミン、即ち、広儀のアミン酸を付加させることによって製造することができる。即ち、一般的には、下記式で表される。 The previously exemplified polymerizable compounds A10-1, A10-2 and the like can be produced by adding an amine having a carboxyl group to the vinyl group of acrylic acid, that is, a broad amine acid. That is, it is generally represented by the following formula.
ここで、Rは、重合性化合物A10−1の場合はメチレン基、A10−2の場合はフェニレン基である。この方法に用いられるカルボキシル基を有するアミンとしては、例えば、パラアミノ安息香酸、グリシン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、メチオニン、フェニルアラニン、を挙げることができる。また、グルタミン酸、アスパラギン酸等の2個のカルボキシル基を有するアミノ酸からも、同等性能の物質を誘導することができる。 Here, R is a methylene group in the case of the polymerizable compound A10-1, and a phenylene group in the case of A10-2. Examples of the amine having a carboxyl group used in this method include paraaminobenzoic acid, glycine, valine, leucine, isoleucine, serine, threonine, methionine, and phenylalanine. In addition, substances having equivalent performance can be derived from amino acids having two carboxyl groups such as glutamic acid and aspartic acid.
一方、一般式群Bに属する重合性化合物としては、具体例には下記一般式で表される重合性物質群B1〜B4が挙げられる。尚、重合性物質群B1〜B4の一般式中においてA及びRpは、下記の原子団を表す。 On the other hand, examples of the polymerizable compound belonging to the general formula group B include polymerizable substance groups B1 to B4 represented by the following general formula. In the general formulas of the polymerizable substance groups B1 to B4, A and Rp represent the following atomic groups.
上記一般式で表される重合性物質群B1〜B4の具体例を、以下に示す。 Specific examples of the polymerizable substance groups B1 to B4 represented by the above general formula are shown below.
上記に挙げた多数の群の化合物の中でも、重合速度、硬化物の硬度、耐水摩擦性において特に優れているのは、分子中に、3個の重合性官能基を有する化合物である。そのような傾向となる大きな理由は、3個以上の反応基を持つ化合物を重合させた場合は架橋密度が高く、重合することによって親水性を大きく減少させる効果を持つことによると考えられる。 Among the many groups of compounds listed above, compounds having three polymerizable functional groups in the molecule are particularly excellent in the polymerization rate, the hardness of the cured product, and the water friction resistance. The main reason for this tendency is considered to be that when a compound having three or more reactive groups is polymerized, the crosslink density is high, and the polymer has an effect of greatly reducing hydrophilicity.
(光重合開始剤)
本発明に係る水性の光硬化型樹脂組成物を構成する水溶性光重合開始剤について説明する。一例としては、例えば、波長400nm前後までの触媒が挙げられる。このような触媒としては、例えば、長波長領域に官能性、即ち、紫外線を受けてラジカルを生成する感受性を持つ物質である下記一般式で表される光重合開始剤(以下、TX系と略称する)が挙げられ、本発明においては、これらの中から適宜に選択して使用することが特に好ましい。
(Photopolymerization initiator)
The water-soluble photopolymerization initiator that constitutes the aqueous photocurable resin composition according to the present invention will be described. As an example, for example, a catalyst having a wavelength of up to about 400 nm may be mentioned. As such a catalyst, for example, a photopolymerization initiator represented by the following general formula (hereinafter abbreviated as TX series) which is a substance having functionality in a long wavelength region, that is, a sensitivity to generate a radical upon receiving ultraviolet rays. In the present invention, it is particularly preferable to select and use them appropriately.
上記一般式TX−1〜TX−3中、R2は−(CH2)x−(x=0または1)、−O−(CH2)y−(y=1または2)、置換若しくは未置換のフェニレン基を表す。またR2がフェニレン基の場合には、ベンゼン環中の水素原子の少なくとも1つが、例えば、カルボキシル基若しくはその塩、スルホン酸若しくはその塩、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、ハロゲン原子(弗素、塩素、臭素等)、炭素数1〜4のアルコキシル基、フェノキシ基等のアリールオキシ基等から選ばれる1つまたは2つ以上の基や原子で置換されていてもよい。Mは、水素原子若しくはアルカリ金属(例えば、Li、Na、K等)を表す。更に、R3及びR4は各々独立に、水素原子、または置換若しくは未置換のアルキル基を表す。ここでアルキル基の例としては、例えば、炭素数1〜10程度、特には、炭素数1〜3程度の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。また、これらのアルキル基の置換基の例としては、例えば、ハロゲン原子(弗素原子、塩素原子、シュウ素原子等)、水酸基、アルコキシル基(炭素数1〜3程度)等が挙げられる。また、mは1〜10の整数を表す。 In the above general formulas TX-1 to TX-3, R 2 represents — (CH 2 ) x — (x = 0 or 1), —O— (CH 2 ) y — (y = 1 or 2), substituted or not Represents a substituted phenylene group. When R 2 is a phenylene group, at least one hydrogen atom in the benzene ring is, for example, a carboxyl group or a salt thereof, a sulfonic acid or a salt thereof, a linear or branched chain having 1 to 4 carbon atoms. Even if it is substituted with one or more groups or atoms selected from alkyl groups, halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, etc.), C1-C4 alkoxyl groups, aryloxy groups such as phenoxy groups, etc. Good. M represents a hydrogen atom or an alkali metal (for example, Li, Na, K, etc.). Furthermore, R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. Examples of the alkyl group include, for example, a linear or branched alkyl group having about 1 to 10 carbon atoms, particularly about 1 to 3 carbon atoms. Examples of substituents for these alkyl groups include halogen atoms (fluorine atoms, chlorine atoms, sulfur atoms, etc.), hydroxyl groups, alkoxyl groups (about 1 to 3 carbon atoms), and the like. Moreover, m represents the integer of 1-10.
これらの親水性原子団で置換されたチオキサントンは、水溶性、アニオン系水性顔料分散体との共溶性があり、有機顔料自身の吸収の影響が少ないので、顔料系組成物において感度の高い触媒として作用する。 Thioxanthone substituted with these hydrophilic atomic groups is water-soluble and co-soluble with an anionic aqueous pigment dispersion, and is less affected by the absorption of the organic pigment itself. Therefore, it is a highly sensitive catalyst in pigment-based compositions. Works.
更に、本発明に係る水性光硬化型樹脂組成物を構成する水溶性光重合開始剤としては、下記一般式からなる光重合開始剤Irgacure2959(商品名:Ciba Specialty Chemicals製)の水溶性の誘導体(以下、IC系と略称する)を使用することもできる。具体的には、下記式からなるIC−1〜IC−3を使用することができる。 Furthermore, as the water-soluble photopolymerization initiator constituting the aqueous photocurable resin composition according to the present invention, a water-soluble derivative of a photopolymerization initiator Irgacure 2959 (trade name: manufactured by Ciba Specialty Chemicals) having the following general formula ( Hereinafter, the abbreviated IC system) can also be used. Specifically, IC-1 to IC-3 having the following formulas can be used.
上記したIC−1〜IC−3は、ノニオン性であるが、紫外線に対して感受し得る波長領域が、先に挙げたTX−1〜TX−3として示した光重合開始剤よりも短波長域にある。また、IC−1〜IC−3も、前記したTX−1〜TX−3と同様、水溶性であるので、本発明の水性光硬化型樹脂組成物の構成成分として有用である。更に、既存の紫外線重合システム用の触媒物質(光重合開始剤)から水性の誘導体を製造し、本発明の水性光硬化型樹脂組成物を構成する光重合開始剤として利用することも可能と考えられる。 The above-described IC-1 to IC-3 are nonionic, but the wavelength region that can be sensitive to ultraviolet rays is shorter than the photopolymerization initiators shown as TX-1 to TX-3 mentioned above. In the area. Moreover, since IC-1 to IC-3 are water-soluble like the above-described TX-1 to TX-3, they are useful as components of the aqueous photocurable resin composition of the present invention. Furthermore, it is considered possible to produce an aqueous derivative from a catalyst material (photopolymerization initiator) for an existing ultraviolet polymerization system and use it as a photopolymerization initiator constituting the aqueous photocurable resin composition of the present invention. It is done.
このほか、下記の紫外線硬化型樹脂を適宜用いることができる。 In addition, the following ultraviolet curable resins can be used as appropriate.
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。 UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate.
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができる。 Examples of the UV curable polyester acrylate resin include those that are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyol.
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。 Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. Can be mentioned.
これら紫外線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜15質量部であり、好ましくは1〜10質量部である。 Specific examples of the photoreaction initiator of these ultraviolet curable resins include benzoin and derivatives thereof, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and the like. You may use with a photosensitizer. The photoinitiator can also be used as a photosensitizer. In addition, when using an epoxy acrylate photoinitiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photoreaction initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 15 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition.
樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また不飽和二重結合を2つ以上もつモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。 Examples of the resin monomer may include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. In addition, monomers having two or more unsaturated double bonds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, and the above-mentioned trimethylolpropane. Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.
また、屈折率調整、塗布性改良、あるいは物性改良のため、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラブトキシチタン等の金属アルコキシド及びその加水分解物等を含有させることができ、好ましくは固形分の1〜50質量%をこれらの成分とすることができる。 In addition, for the purpose of adjusting the refractive index, improving coating properties, or improving physical properties, metal alkoxides such as tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and tetrabutoxytitanium, and hydrolysates thereof can be contained. Can use 1 to 50 mass% of the solid content as these components.
塗布組成物中の紫外線硬化樹脂の含有量は、固形分として10質量%〜70質量%の範囲である。10質量%未満では、乾燥により膜厚ムラが生じ易く、70質量%を超えると塗布組成物の粘度が高くなりすぎ、すじ状の故障が生じ易くなり好ましくない。特に好ましくは20質量%〜50質量%の範囲であり、この範囲は塗布適性、乾燥適性に優れ、塗布故障が発生し難く好ましい。 Content of the ultraviolet curable resin in a coating composition is the range of 10 mass%-70 mass% as solid content. If it is less than 10% by mass, film thickness unevenness is likely to occur due to drying, and if it exceeds 70% by mass, the viscosity of the coating composition becomes too high and streak-like failures are likely to occur. Especially preferably, it is the range of 20 mass%-50 mass%, and this range is excellent in coating suitability and drying suitability, and it is preferable that a coating failure does not occur easily.
これらの活性線硬化樹脂層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等公知の方法で塗設することができる。 These actinic ray curable resin layers can be coated by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, or a die coater.
紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20〜10000mJ/cm2程度あればよく、好ましくは、40〜2000mJ/cm2であり、特に好ましくは50〜500mJ/cm2である。 As a light source for curing an ultraviolet curable resin by a photocuring reaction to form a cured film layer, any light source that generates ultraviolet rays can be used without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation light amount may be about 20 to 10000 mJ / cm 2 , preferably 40 to 2000 mJ / cm 2 , and particularly preferably 50 to 500 mJ / cm 2 .
本発明では、樹脂層の形成に用いる塗布組成物の溶媒としては、水と有機溶媒の混合溶媒が用いられ、該塗布組成物に含まれる全溶媒に対して水分比率が30質量%以上であることが特徴である。本発明者は、セルロースエステルフィルム上に有機溶媒を多量に含んだ硬化樹脂層を塗布した際の前記平面性劣化現象が、上記水分比率を上げることにより改善されることを見出したものである。塗布組成物の溶媒における水分比率は、30〜100質量%、特に好ましくは、30質量%〜80質量%であることが好ましく、更に好ましくは35質量%〜75質量%であり、特に好ましくは40質量%〜70質量%である。水分比率が30質量%未満では、本発明の平面性改良効果が得られず、30質量%〜80質量%は塗布性に優れるため好ましい。 In the present invention, as a solvent for the coating composition used for forming the resin layer, a mixed solvent of water and an organic solvent is used, and a water ratio is 30% by mass or more with respect to the total solvent contained in the coating composition. It is a feature. The present inventor has found that the flatness deterioration phenomenon when a cured resin layer containing a large amount of an organic solvent is applied onto a cellulose ester film is improved by increasing the moisture ratio. The water ratio in the solvent of the coating composition is preferably 30 to 100% by mass, particularly preferably 30 to 80% by mass, further preferably 35 to 75% by mass, and particularly preferably 40%. It is mass%-70 mass%. If the moisture ratio is less than 30% by mass, the flatness improving effect of the present invention cannot be obtained, and 30% by mass to 80% by mass is preferable because it is excellent in coatability.
本発明において水と混合する有機溶媒については、特に制限はないが、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中でもから適宜選択し、或いはこれらを混合し利用できる。 In the present invention, the organic solvent to be mixed with water is not particularly limited. For example, the organic solvent is appropriately selected from hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, glycol ethers, and other organic solvents, or these Can be mixed and used.
特に好ましい有機溶媒としては、水混和性の有機溶媒である。水混和性の有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、多価アルコールエーテル類が塗布性と平面性を両立する上で好ましい。多価アルコールエーテル類の中では、具体的にはセロソルブ類が好ましく、ブチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ等が被塗布物に対して適度な濡れ性を有するため、良好な塗布性を示し均一な塗膜形成ができる。 A particularly preferable organic solvent is a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, etc.), many Monohydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thiodiglycol, etc.), polyvalent Alcohol ethers (eg, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether) , Ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono Phenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (eg, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ethylenediamine, diethylenediamine) , Triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.), heterocyclic rings (For example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide, etc.), sulfones (for example, , Sulfolane, etc.), urea, acetonitrile, acetone and the like. Polyhydric alcohol ethers are particularly preferable in terms of achieving both coating properties and flatness. Among polyhydric alcohol ethers, specifically, cellosolves are preferable, and butyl cellosolve, isopropyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve, etc. have appropriate wettability with respect to the object to be coated, and thus show good coating properties. Uniform coating can be formed.
更に、本発明では油系溶媒も適宜使用することができる。 In the present invention, an oil-based solvent can also be used as appropriate.
油系溶媒の溶媒の例としては、上記水混和性有機溶媒として例示したものに加えて、アルコール類(例えば、ペンタノール、ヘプタノール、オクタノール、フェニルエチルアルコール、フェニルプロピルアルコール、フルフリルアルコール、アニルアルコール等)、エステル類(エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、酢酸エチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、酢酸フェニルエチル、酢酸フェノキシエチル、フェニル酢酸エチル、プロピオン酸ベンジル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、ラウリン酸ブチル、ミリスチン酸イソプロピル、リン酸トリエチル、リン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジプロピル、ジエチルマロン酸ジエチル、コハク酸ジエチル、コハク酸ジブチル、グルタル酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、アジピン酸ジプロピル、アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ(2−メトキシエチル)、セバシン酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジオクチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジオクチル、ケイ皮酸−3−ヘキセニル等)、エーテル類(例えば、ブチルフェニルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ヘキシルエーテル等)、ケトン類(例えば、ベンジルメチルケトン、ベンジルアセトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン等)、炭化水素類(例えば、石油エーテル、石油ベンジル、テトラリン、デカリン、ターシャリーアミルベンゼン、ジメチルナフタリン等)、アミド類(例えば、N,N−ジエチルドデカンアミド等)が挙げられる。 Examples of oil-based solvents include alcohols (eg, pentanol, heptanol, octanol, phenylethyl alcohol, phenylpropyl alcohol, furfuryl alcohol, anil alcohol) in addition to those exemplified as the water-miscible organic solvent. Etc.), esters (ethylene glycol diacetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol diacetate, ethyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, phenylethyl acetate, phenoxyethyl acetate, ethyl ethyl acetate, propionic acid Benzyl, ethyl benzoate, butyl benzoate, butyl laurate, isopropyl myristate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, diethyl phthalate, Dibutyl tartrate, diethyl malonate, dipropyl malonate, diethyl diethyl malonate, diethyl succinate, dibutyl succinate, diethyl glutarate, diethyl adipate, dipropyl adipate, dibutyl adipate, di (2-methoxyethyl) adipate , Diethyl sebacate, diethyl maleate, dibutyl maleate, dioctyl maleate, diethyl fumarate, dioctyl fumarate, cinnamate-3-hexenyl, etc.), ethers (for example, butyl phenyl ether, benzyl ethyl ether, hexyl ether) Etc.), ketones (eg benzyl methyl ketone, benzyl acetone, diacetone alcohol, cyclohexanone, etc.), hydrocarbons (eg petroleum ether, petroleum benzyl, tetralin, decalin, tertiary amyl) Benzene, dimethyl naphthalene, etc.), amides (e.g., N, N-diethyldodecanamide, etc.).
これらの有機溶媒は塗布組成物に対し、5質量%〜50質量%用いることが好ましく、更に好ましくは10質量%〜40質量%、更に好ましくは10質量%〜30質量%である。 These organic solvents are preferably used in an amount of 5% by mass to 50% by mass, more preferably 10% by mass to 40% by mass, and still more preferably 10% by mass to 30% by mass with respect to the coating composition.
また、紫外線硬化性の樹脂層の形成に用いる塗布組成物には、界面活性剤を含有することが好ましく、カチオン系、ノニオン系、アニオン系界面活性剤が適宜選択され、固形分当たり、0.01〜3質量%が添加される。 Further, the coating composition used for forming the ultraviolet curable resin layer preferably contains a surfactant, and a cationic, nonionic or anionic surfactant is appropriately selected, and the amount of the coating composition per unit solid content is 0.00. From 01 to 3% by weight is added.
界面活性剤としてシリコン化合物を添加することも好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1000〜100000、好ましくは、2000〜50000が適当であり、数平均分子量が1000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。 It is also preferable to add a silicon compound as a surfactant. For example, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1000 to 100000, preferably 2000 to 50000. If the number average molecular weight is less than 1000, the drying property of the coating film decreases, and conversely, the number average When the molecular weight exceeds 100,000, it tends to be difficult to bleed out to the coating surface.
シリコン化合物の市販品としては、DKQ8−779(ダウコーニング社製商品名)、SF3771、SF8410、SF8411、SF8419、SF8421、SF8428、SH200、SH510、SH1107、SH3749、SH3771、BX16−034、SH3746、SH3749、SH8400、SH3771M、SH3772M、SH3773M、SH3775M、BY−16−837、BY−16−839、BY−16−869、BY−16−870、BY−16−004、BY−16−891、BY−16−872、BY−16−874、BY22−008M、BY22−012M、FS−1265(以上、東レ・ダウコーニングシリコーン社製商品名)、KF−101、KF−100T、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、シリコーンX−22−945、X22−160AS(以上、信越化学工業社製商品名)、XF3940、XF3949(以上、東芝シリコーン社製商品名)、ディスパロンLS−009(楠本化成社製)、グラノール410(共栄社油脂化学工業(株)製)、TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコーン製)、BYK−306、BYK−330、BYK−307、BYK−341、BYK−344、BYK−361(ビックケミ−ジャパン社製)日本ユニカー(株)製のLシリーズ(例えばL7001、L−7006、L−7604、L−9000)、Yシリーズ、FZシリーズ(FZ−2203、FZ−2206、FZ−2207)等が挙げられる。 Commercially available silicon compounds include DKQ8-779 (trade name, manufactured by Dow Corning), SF3771, SF8410, SF8411, SF8419, SF8421, SF8428, SH200, SH510, SH1107, SH3749, SH3771, BX16-034, SH3746, SH3749, SH8400, SH3771M, SH3772M, SH3773M, SH3775M, BY-16-837, BY-16-839, BY-16-869, BY-16-870, BY-16-004, BY-16-891, BY-16 872, BY-16-874, BY22-008M, BY22-012M, FS-1265 (above, product names manufactured by Toray Dow Corning Silicone), KF-101, KF-100T, KF351, KF3 2, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, Silicone X-22-945, X22-160AS (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), XF3940, XF3949 (trade name, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) ), Disparon LS-009 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), Granol 410 (manufactured by Kyoeisha Oil Chemical Co., Ltd.), TSF4440, TSF4441, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicone), BYK-306, BYK- 330, BYK-307, BYK-341, BYK-344, BYK-361 (manufactured by BYK-Japan) L series (for example, L7001, L-7006, L-7604, L-9000) manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. Y Over's, FZ series (FZ-2203, FZ-2206, FZ-2207), and the like.
これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。 These components enhance the applicability to the substrate and the lower layer. When added to the outermost surface layer of the laminate, it not only improves the water repellency, oil repellency and antifouling properties of the coating film, but also exhibits an effect on the scratch resistance of the surface. These components are preferably added in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.
紫外線硬化性の樹脂層の形成に用いる塗布組成物の塗布方法としては、前述のものを用いることができる。塗布量はウェット膜厚として0.1〜30μmが適当で、好ましくは、0.5〜15μmである。また、ドライ膜厚としては0.1〜10μm、好ましくは1〜10μmである。これらは単層でも、2層以上を重層したものでもよい。 As a coating method of the coating composition used for forming the ultraviolet curable resin layer , the above-described methods can be used. The coating amount is suitably from 0.1 to 30 μm, preferably from 0.5 to 15 μm, as the wet film thickness. The dry film thickness is 0.1 to 10 μm, preferably 1 to 10 μm. These may be a single layer or a laminate of two or more layers.
塗布組成物は塗布乾燥中または後に、紫外線を照射するのがよく、前記の活性線の照射量を得るための照射時間としては、0.1秒〜5分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から0.1〜10秒がより好ましい。 The coating composition is preferably irradiated with ultraviolet rays during or after coating and the irradiation time for obtaining the irradiation amount of the active rays is preferably about 0.1 seconds to 5 minutes. From the viewpoint of curing efficiency or work efficiency, 0.1 to 10 seconds is more preferable.
こうして得た硬化樹脂層に、ブロッキングを防止するため、また対擦り傷性等を高めるため、或いは防眩性をもたせるため、また屈折率を調整するために無機化合物或いは有機化合物の微粒子を加えることもできる。 In order to prevent blocking, to improve scratch resistance, or to provide antiglare properties, or to adjust the refractive index, fine particles of an inorganic compound or an organic compound may be added to the cured resin layer thus obtained. it can.
樹脂層に使用される無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムなどが好ましく用いられる。 Inorganic fine particles used for the resin layer include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate And magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.
また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、或いはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物に加えることができる。 Organic particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder. Polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluoroethylene resin powder can be added to the ultraviolet curable resin composition.
これらの微粒子粉末の平均粒径としては、0.005〜5μmが好ましく0.01〜1μmであることが特に好ましい。樹脂組成物と微粒子粉末との割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜30質量部となるように配合することが望ましい。 The average particle diameter of these fine particle powders is preferably 0.005 to 5 μm, and particularly preferably 0.01 to 1 μm . Ratio of the dendritic fat composition and fine powder, the resin composition 100 parts by weight, it is desirable to formulate such that 0.1 to 30 parts by weight.
樹脂層は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.001〜0.1μmのクリアハードコート層であるか、若しくはRaが0.1〜1μm程度の防眩層であることが好ましい。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製RST/PLUSを用いて測定することができる。 Tree fat layer, or the center line average roughness defined in JIS B 0601 (Ra) is a clear hard coat layer 0.001~0.1Myuemu, or Ra is antiglare layer about 0.1~1μm It is preferable that The center line average roughness (Ra) is preferably measured with an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured using, for example, RST / PLUS manufactured by WYKO.
〈バックコート層〉
本発明に係る光学フィルムの樹脂層を設けた側と反対側の面にはバックコート層を設けてもよい。バックコート層はブロッキング防止するために塗設され、そのためバックコート層には微粒子が添加されることが好ましい。或いは塗布やCVDなどによって、樹脂層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するためにバックコート層を設けてもよい。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質をもたせることにより、カールの度合いをバランスさせることもできる。
<Back coat layer>
On a surface opposite to the tree fat layer provided side of the optical film according to the present invention may be provided with a back coat layer. The back coat layer is applied to prevent blocking, and therefore, it is preferable that fine particles are added to the back coat layer. Or the like coating or CVD, a backcoat layer may be provided to correct the curl caused by providing a tree fat layer and other layers. That is, the degree of curling can be balanced by imparting the property of being rounded with the surface provided with the backcoat layer inside.
バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものがヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。 As fine particles added to the back coat layer, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, and indium oxide. And zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low haze, and silicon dioxide is particularly preferable.
これらの微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。
These fine particles are commercially available under the trade names of, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, and TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). . Zirconium oxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used. Examples of the polymer include silicone resin, fluorine resin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example,
これらの中でもでアエロジル200V、アエロジルR972Vがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明の光学フィルムは、硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が0.9以下、特に0.1〜0.9であることが好ましい。 Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large anti-blocking effect while keeping haze low. In the optical film of the present invention, the dynamic friction coefficient on the back surface side of the cured resin layer is preferably 0.9 or less, particularly preferably 0.1 to 0.9.
バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して0.1〜50質量%好ましくは0.1〜10質量%であることが好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は1%以下であることが好ましく0.5%以下であることが好ましく、特に0.0〜0.1%であることが好ましい。 The fine particles contained in the backcoat layer are 0.1 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the binder. When the back coat layer is provided, the increase in haze is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.0 to 0.1%.
バックコート層は、具体的にはセルロースエステルフィルムを溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。用いる溶媒としては、溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒の混合物の他更に溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合いや樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。 Specifically, the back coat layer is formed by applying a composition containing a solvent for dissolving or swelling a cellulose ester film. The solvent used may include a solvent to be dissolved and / or a solvent to be swollen in addition to a solvent to be swelled, a composition in which these are mixed at an appropriate ratio depending on the degree of curling of the transparent resin film and the type of resin, and This is done using the coating amount.
カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この混合比率は好ましくは(溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒):(溶解させない溶媒)=10:0〜1:9で用いられる。このような混合組成物に含まれる、透明樹脂フィルムを溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどがある。溶解させない溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノール或いは炭化水素類(トルエン、キシレン、シクロヘキサノール)などがある。 In order to enhance the curl prevention function, it is effective to increase the mixing ratio of the solvent for dissolving the solvent composition to be used and / or the solvent for swelling, and to decrease the ratio of the solvent not to be dissolved. This mixing ratio is preferably (solvent to be dissolved and / or solvent to be swollen) :( solvent to be dissolved) = 10: 0 to 1: 9. Examples of the solvent for dissolving or swelling the transparent resin film contained in such a mixed composition include dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, N, N-dimethylformamide, methyl acetate, ethyl acetate, trichloroethylene, methylene chloride, and ethylene chloride. , Tetrachloroethane, trichloroethane, chloroform and the like. Examples of the solvent that does not dissolve include water, methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butanol, and hydrocarbons (toluene, xylene, cyclohexanol).
これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚1〜100μmで塗布するのが好ましいが、特に5〜30μmであることが好ましい。バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体或いは共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート(好ましくはアセチル基置換度1.8〜2.3、プロピオニル基置換度0.1〜1.0)、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び/またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、ポリビニルアルコール、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、弗素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レーヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することもできる。 These coating compositions are preferably applied to the surface of the transparent resin film with a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die coater, etc., with a wet film thickness of 1 to 100 μm, particularly 5 to 30 μm. Preferably there is. Examples of the resin used as the binder of the backcoat layer include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, partially hydrolyzed vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. Polymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc. Vinyl polymer or copolymer, nitrocellulose, cellulose acetate propionate (preferably acetyl group substitution degree 1.8-2.3, propionyl group substitution degree 0.1-1.0), diacetyl cellulose, cellulose Cellulose derivatives such as acetate butyrate resin, maleic acid and / or Or acrylic acid copolymer, acrylic acid ester copolymer, polyvinyl alcohol, acrylonitrile-styrene copolymer, chlorinated polyethylene, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene copolymer, methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer , Rubber such as acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin, amino resin, styrene-butadiene resin, butadiene-acrylonitrile resin Examples thereof include, but are not limited to, resins, silicone resins, and fluorine resins. For example, as an acrylic resin, Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M-4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001, M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR -80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105 BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) acrylic and The methacrylic monomers such as various homopolymers and copolymers were prepared as raw materials are commercially available and can also be selected preferred mono from this appropriate.
特に好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂層である。 Particularly preferred are cellulose resin layers such as diacetylcellulose and cellulose acetate propionate.
バックコート層を塗設する順番はセルロースエステルフィルムの、バックコート層とは反対側の層(硬化樹脂層或いはその他の層、例えば、帯電防止層等)を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。或いは2回以上に分けてバックコート層を重層塗布することもできる。 The order of coating the backcoat layer may be before or after coating the cellulose ester film on the opposite side of the backcoat layer (cured resin layer or other layer such as an antistatic layer). When the back coat layer also serves as an anti-blocking layer, it is desirable to coat it first. Alternatively, the back coat layer can be applied in two or more layers.
本発明の光学フィルムは、塗布或いは、プラズマCVD法、特に大気圧プラズマ処理法によって金属化合物層の薄膜を均一に形成するのに適しており、これらは反射防止層として有用である。 The optical film of the present invention is suitable for uniformly forming a thin film of a metal compound layer by coating or plasma CVD, particularly atmospheric pressure plasma treatment, and these are useful as an antireflection layer.
大気圧プラズマ処理法としては、例えば特開平11−181573号、特開2000−26632、同2002−110397等に記載の高周波パルス電圧を印加する大気圧プラズマ放電処理方法を用いることができる。或いは特開2001−337201記載の大気圧プラズマ放電処理方法により導電層を設けることができる。或いは特開2002−228803、特願2002−369679、特願2002−317883、特願2003−50823記載の方法で反射防止層を設けることができる。或いは特願2003−50823記載の方法で防汚層を設けることができる。或いは特開2003−93963、特願2002−49724記載の方法で反射防止層を塗設することができる。 As the atmospheric pressure plasma treatment method, for example, an atmospheric pressure plasma discharge treatment method for applying a high-frequency pulse voltage described in JP-A-11-181573, JP-A-2000-26632, JP-A-2002-110397, or the like can be used. Alternatively, the conductive layer can be provided by an atmospheric pressure plasma discharge processing method described in JP-A-2001-337201. Alternatively, the antireflection layer can be provided by the methods described in JP-A No. 2002-228803, Japanese Patent Application No. 2002-369679, Japanese Patent Application No. 2002-317883, and Japanese Patent Application No. 2003-50823. Alternatively, the antifouling layer can be provided by the method described in Japanese Patent Application No. 2003-50823. Alternatively, the antireflection layer can be applied by the method described in JP-A No. 2003-93963 and Japanese Patent Application No. 2002-49724.
本発明の光学フィルム上には、特に大部分が窒素ガスの雰囲気下で金属化合物(例えばSiOx、SiOxNy、TiOxNy、SiOxCz(x=1〜2、y=0.1〜1、z=0.1〜2)等の金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物)中でも金属酸化物等の薄膜を形成することが好ましい。ガス中に含まれる窒素ガスは60〜99.9体積%であり、好ましくは75〜99.9体積%であり、更に好ましくは90〜99.9体積%である。窒素ガス以外には、アルゴンやヘリウム等の希ガスを含有させてもよく、薄膜を形成するための金属化合物のガスが含有され、更に酸素、水素等の反応を促進させるためのガス(添加ガスまたは補助ガスともいう)等が含有される。これらによって金属化合物を含有する低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層、透明導電層、帯電防止層、防汚層などを形成することができる。 On the optical film of the present invention, a metal compound (for example, SiOx, SiOxNy, TiOxNy, SiOxCz (x = 1 to 2, y = 0.1 to 1, z = 0.1) is mostly obtained under an atmosphere of nitrogen gas. It is preferable to form a thin film of metal oxide or the like among metal oxides, metal nitrides, metal oxynitrides, metal carbides, etc. The nitrogen gas contained in the gas is 60 to 99.9% by volume, preferably 75 to 99.9% by volume, and more preferably 90 to 99.9% by volume. In addition to nitrogen gas, a rare gas such as argon or helium may be contained, a gas of a metal compound for forming a thin film is contained, and further a gas (addition gas) for promoting a reaction such as oxygen and hydrogen. Or an auxiliary gas). By these, a low refractive index layer, a high refractive index layer, a medium refractive index layer, a transparent conductive layer, an antistatic layer, an antifouling layer and the like containing a metal compound can be formed.
次いで、これら樹脂層上に形成する反射防止層について説明する。 Next, a description will be given anti-reflective layer formed on this RaTatsuki fat layer.
(反射防止層)
本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されず、塗布、スパッタ、蒸着、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、またはこれらを組み合わせて形成することができる。
(Antireflection layer)
In the present invention, the method for providing the antireflection layer is not particularly limited, and the antireflection layer can be formed by coating, sputtering, vapor deposition, CVD (Chemical Vapor Deposition), or a combination thereof.
反射防止層を塗布により形成する方法としては、溶剤に溶解したバインダー樹脂中に金属酸化物の粉末を分散し、塗布乾燥する方法、架橋構造を有するポリマーをバインダー樹脂として用いる方法、エチレン性不飽和モノマーと光重合開始剤を含有させ、活性光線を照射することにより層を形成する方法等の方法を挙げることができる。 As a method of forming the antireflection layer by coating, a method of dispersing metal oxide powder in a binder resin dissolved in a solvent, coating and drying, a method of using a polymer having a crosslinked structure as a binder resin, ethylenic unsaturated Examples of the method include a method of forming a layer by containing a monomer and a photopolymerization initiator and irradiating actinic rays.
本発明においては、樹脂層を付与した光学フィルムの上に反射防止層を設けることができる。光学フィルムの最上層に低屈折率層を形成し、その間に高屈折率層の金属酸化物層を形成したり、更に光学フィルムと高屈折率層との間に更に中屈折率層(金属酸化物の含有量或いは樹脂バインダーとの比率、金属の種類を変更して屈折率を調整した金属酸化物層)を設けることは、反射率の低減のために、好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、基材であるセルロースエステルフィルムの屈折率(約1.5)と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。各層の厚さは、5nm〜0.5μmであることが好ましく、10nm〜0.3μmであることが更に好ましく、30nm〜0.2μmであることが最も好ましい。金属酸化物層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。金属酸化物層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で3H以上であることが好ましく、4H以上であることが最も好ましい。金属酸化物層を塗布により形成する場合は、無機微粒子とバインダーポリマーとを含むことが好ましい。 In the present invention, it can be provided with anti-reflection layer on the optical film provided with tree fat layer. A low refractive index layer is formed on the uppermost layer of the optical film, and a metal oxide layer of a high refractive index layer is formed between them. It is preferable to provide a metal oxide layer in which the refractive index is adjusted by changing the content of the product or the ratio to the resin binder and the type of metal to reduce the reflectance. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.30, and more preferably 1.57 to 2.20. The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted so as to be an intermediate value between the refractive index (about 1.5) of the cellulose ester film as the substrate and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55-1.80. The thickness of each layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably 30 nm to 0.2 μm. The haze of the metal oxide layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the metal oxide layer is preferably 3H or more, and most preferably 4H or more, with a pencil hardness of 1 kg. When the metal oxide layer is formed by coating, it is preferable to include inorganic fine particles and a binder polymer.
中屈折率層或いは高屈折率層などの金属酸化物層に用いる無機微粒子は、屈折率が1.80〜2.80であることが好ましく、1.90〜2.80であることが更に好ましい。無機微粒子の1次粒子の重量平均径は、1〜150nmであることが好ましく、1〜100nmであることが更に好ましく、1〜80nmであることが最も好ましい。層中での無機微粒子の重量平均径は、1〜200nmであることが好ましく、5〜150nmであることがより好ましく、10〜100nmであることが更に好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。無機微粒子の平均粒径は、20〜30nm以上であれば光散乱法により、20〜30nm以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。無機微粒子の比表面積は、BET法で測定された値として、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることが更に好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The inorganic fine particles used for the metal oxide layer such as the middle refractive index layer or the high refractive index layer preferably have a refractive index of 1.80 to 2.80, more preferably 1.90 to 2.80. . The primary particles of the inorganic fine particles preferably have a weight average diameter of 1 to 150 nm, more preferably 1 to 100 nm, and most preferably 1 to 80 nm. The weight average diameter of the inorganic fine particles in the layer is preferably 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, still more preferably 10 to 100 nm, and most preferably 10 to 80 nm. . The average particle diameter of the inorganic fine particles is measured by a light scattering method if it is 20-30 nm or more and by an electron micrograph if it is 20-30 nm or less. The specific surface area of the inorganic fine particles, a measured value by the BET method, is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, a 30 to 150 m 2 / g Is most preferred.
無機微粒子は、金属の酸化物から形成された粒子である。金属の酸化物または硫化物の例として、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等が挙げられる。中でも、二酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSが挙げられる。 The inorganic fine particles are particles formed from a metal oxide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, and the like. Of these, titanium dioxide, tin oxide, and indium oxide are particularly preferable. The inorganic fine particles can contain oxides of these metals as main components and further contain other elements. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S.
無機微粒子は表面処理されていてもよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。 The inorganic fine particles may be surface-treated. The surface treatment can be performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include alumina, silica, zirconium oxide and iron oxide. Of these, alumina and silica are preferable. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, a silane coupling agent is most preferable. It may be processed by combining two or more types of surface treatments.
無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、層状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。二種類以上の無機微粒子を金属酸化物層に併用してもよい。 The shape of the inorganic fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a layer shape, a spindle shape, or an indefinite shape. Two or more kinds of inorganic fine particles may be used in combination in the metal oxide layer.
金属酸化物層中の無機微粒子の割合は、5〜90体積%であることが好ましく、より好ましくは10〜65体積%であり、更に好ましくは20〜55体積%である。 The proportion of the inorganic fine particles in the metal oxide layer is preferably 5 to 90% by volume, more preferably 10 to 65% by volume, and still more preferably 20 to 55% by volume.
無機微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、金属酸化物層を形成するための塗布液に供される。無機微粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。 The inorganic fine particles are supplied to a coating liquid for forming a metal oxide layer in a dispersion state dispersed in a medium. As the dispersion medium for the inorganic fine particles, a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. is preferably used. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ester (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, Examples include dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), and ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.
無機微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。 The inorganic fine particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.
金属酸化物層は、架橋構造を有するポリマー(以下、「架橋ポリマー」ともいう)をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー(以下「ポリオレフィン」と総称する)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。また、架橋ポリマーが、アニオン性基を有することは、更に好ましい。アニオン性基は、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋構造は、ポリマーに皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ましい。 The metal oxide layer preferably uses a polymer having a crosslinked structure (hereinafter also referred to as “crosslinked polymer”) as a binder polymer. Examples of the crosslinked polymer include polymers having a saturated hydrocarbon chain such as polyolefin (hereinafter collectively referred to as “polyolefin”), crosslinked products such as polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide and melamine resin. Among them, a crosslinked product of polyolefin, polyether and polyurethane is preferred, a crosslinked product of polyolefin and polyether is more preferred, and a crosslinked product of polyolefin is most preferred. Moreover, it is more preferable that the crosslinked polymer has an anionic group. The anionic group has a function of maintaining the dispersion state of the inorganic fine particles, and the crosslinked structure has a function of imparting a film forming ability to the polymer and strengthening the film. The anionic group may be directly bonded to the polymer chain or may be bonded to the polymer chain via a linking group, but is bonded to the main chain as a side chain via the linking group. Is preferred.
本発明の反射防止層に用いられる低屈折率層の屈折率は1.46以下が好ましく、特に1.3〜1.45であることが望ましい、塗布組成物として珪素アルコキシドを用いてゾルゲル法によって低屈折率層を形成することができる。或いは、弗素樹脂を用いて低屈折率層とすることができる。特に、熱硬化性または電離放射線硬化型の含弗素樹脂の硬化物から該硬化物と珪素の酸化物超微粒子から構成されることが好ましい。 The refractive index of the low refractive index layer used in the antireflective layer of the present invention is preferably 1.46 or less, and particularly preferably 1.3 to 1.45, by silicon alkoxide as a coating composition by a sol-gel method. A low refractive index layer can be formed. Alternatively, a low refractive index layer can be formed using a fluorine resin. In particular, it is preferably composed of a cured product of a thermosetting or ionizing radiation curable fluorine-containing resin and the cured product and silicon oxide ultrafine particles.
該硬化物の動摩擦係数は、0.02〜0.2であることが好ましく、純水接触角は90〜130°であることが好ましい。該硬化性の含弗素樹脂としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン)や、含弗素共重合体(架橋性基を有するモノマーと含弗素モノマーを構成単位とする)が挙げられる。含弗素モノマー単位の具体例としては、例えばヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、フルオロオレフィン類(例えばビニリデンフルオライドパーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール、フルオロエチレン等)、(メタ)アクリル酸の弗素化アルキルエステル誘導体(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、弗素化ビニルエーテル類等である。架橋性基を有するモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内に予め架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やアミノ基、ヒドロキシル基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。これらは共重合の後から、架橋構造を導入できることが特開平10−25388号公報及び特開平10−147739号公報に記載されている。 The dynamic friction coefficient of the cured product is preferably 0.02 to 0.2, and the pure water contact angle is preferably 90 to 130 °. Examples of the curable fluorine-containing resin include perfluoroalkyl group-containing silane compounds (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane) and fluorine-containing copolymers (crosslinkable groups). Monomer and fluorine-containing monomer as structural units). Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, tetrafluoroethylene, and fluoroolefins (for example, vinylidene fluoride perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, fluoroethylene, etc.) Fluorinated alkyl ester derivatives of (meth) acrylic acid (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fluorinated vinyl ethers, and the like. As a monomer having a crosslinkable group, a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule in advance such as glycidyl methacrylate, and a (meth) acrylate having a carboxyl group, an amino group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, etc. And monomers (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.). It has been described in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739 that a crosslinked structure can be introduced after copolymerization.
また、上記含弗素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、弗素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いることができる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばアクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等、オレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)を挙げることができる。 Further, not only a polymer having the above-mentioned fluorine-containing monomer as a structural unit but also a copolymer with a monomer not containing a fluorine atom can be used. There are no particular limitations on the monomer units that can be used in combination, for example, acrylic acid esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate), methacrylic acid esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, Butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, α-methylstyrene, vinyltoluene, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, acrylonitrile Derivatives, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinylidene chloride, vinyl chloride, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, propionic acid) Alkenyl, vinyl cinnamate) may be mentioned.
低屈折率層の形成に用いる含弗素樹脂には、耐傷性を改善するために酸化珪素微粒子を添加して用いるのが好ましい。添加量は、屈折率と耐傷性との兼ね合いで調整される。酸化珪素微粒子は、市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布組成物に添加することが出来、或いは市販の各種シリカ紛体を有機溶剤に分散して使用することもできる。 It is preferable to add silicon oxide fine particles to the fluorine-containing resin used for forming the low refractive index layer in order to improve scratch resistance. The addition amount is adjusted in consideration of the refractive index and scratch resistance. As the silicon oxide fine particles, silica sol dispersed in a commercially available organic solvent can be added to the coating composition as it is, or various commercially available silica powders can be dispersed in an organic solvent and used.
本発明の光学フィルム上に塗設される反射防止フィルムの低屈折率層形成用の塗布組成物は、主に低沸点の溶媒を含むことが好ましい。具体的には、沸点が100℃以下の溶媒が全溶媒の50質量%以上であることが好ましい。これによって、防眩層のように凹凸を有する基材表面に塗布した場合でも、速やかに乾燥させることが出来、塗布液の流動による微細な膜厚ムラが低減され、反射率の増加が抑制される。また、沸点が100℃以上の溶媒が含まれていると乾燥ムラや白濁ムラが抑制されるため好ましく、沸点が100℃以上の溶媒が0.1〜50質量%含有していることが好ましい。 The coating composition for forming the low refractive index layer of the antireflection film coated on the optical film of the present invention preferably contains mainly a low boiling point solvent. Specifically, the solvent having a boiling point of 100 ° C. or less is preferably 50% by mass or more of the total solvent. As a result, even when coated on the surface of a substrate having irregularities such as an antiglare layer, it can be dried quickly, fine film thickness unevenness due to the flow of the coating liquid is reduced, and an increase in reflectance is suppressed. The Moreover, since the drying nonuniformity and white turbidity nonuniformity are suppressed when the solvent whose boiling point is 100 degreeC or more is contained, it is preferable that the solvent whose boiling point is 100 degreeC or more contains 0.1-50 mass%.
低屈折率層用の塗布組成物に用いられる低沸点の溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、メチルセロソルブ等のエーテルアルコール類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等の中から、塗布組成物中に含まれる固形分の溶解性の高いものが好ましく用いられる。沸点が100℃を越える塗布溶媒としては、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチル−イソブチルケトン等のケトン類、ジアセトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類、1−ブタノール、2−ブタノール等のアルコール類等が用いられる。 Low boiling point solvents used in coating compositions for the low refractive index layer include ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, ether alcohols such as methyl cellosolve, methanol, ethanol, and isopropanol. Among these alcohols, those having high solubility of the solid content contained in the coating composition are preferably used. Coating solvents having a boiling point exceeding 100 ° C. include ketones such as cyclohexanone, cyclopentanone and methyl-isobutyl ketone, ether alcohols such as diacetone alcohol and propylene glycol monomethyl ether, and alcohols such as 1-butanol and 2-butanol. Etc. are used.
反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法により、塗布により形成することができる。 Each layer of the antireflection film can be formed by coating by a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a micro gravure coating method or an extrusion coating method. it can.
本発明においては、プラズマ放電処理によって金属酸化物層を形成する方法が特に好ましく用いられる。 In the present invention, a method of forming a metal oxide layer by plasma discharge treatment is particularly preferably used.
以下に、プラズマ放電処理により金属酸化物層を形成する方法を図1、2を用いて説明する。 Hereinafter, a method for forming a metal oxide layer by plasma discharge treatment will be described with reference to FIGS.
本発明の光学フィルム上に金属酸化物層を形成する方法としての大気圧若しくはその近傍の圧力下のプラズマ放電処理は、下記のごときプラズマ放電処理装置を用いることによって行われる。 Plasma discharge treatment under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof as a method for forming a metal oxide layer on the optical film of the present invention is performed by using a plasma discharge treatment apparatus as described below.
図1は、光学フィルム上に表面処理もしくは金属酸化物層を形成するのに用いられるプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。 FIG. 1 is a diagram showing an example of a plasma discharge treatment apparatus used for forming a surface treatment or a metal oxide layer on an optical film.
図1においては、この装置は一対の回転電極10Aと10Bを有し、回転電極10Aと10Bには、プラズマ放電を発生させるための電圧を印加できる電源80が電圧供給手段81に接続され一方はアースに接続されており、82がアースに接続されている。
In FIG. 1, this apparatus has a pair of
回転電極10Aと10Bは光学フィルムを巻き回しながら搬送するもので、ロール電極若しくはベルト状の電極であることが好ましく、図1ではロール電極を示している。
The
これらの回転電極間の間隙(電極間隙)は放電が行われる場所であり、光学フィルムFが搬送できる間隔に設定されている。この電極間の間隙が放電部50となる。
A gap (electrode gap) between these rotating electrodes is a place where discharge is performed, and is set to an interval at which the optical film F can be conveyed. The gap between the electrodes becomes the
この電極間隙は大気圧若しくは大気圧近傍の圧力下に維持されており、ここに反応ガス供給部30より反応ガスGが供給され、光学フィルムF表面がプラズマ放電処理される。
The gap between the electrodes is maintained at atmospheric pressure or a pressure near atmospheric pressure, and the reaction gas G is supplied from the reaction
ここで、元巻きロールから巻き出された光学フィルムFまたは前工程から搬送されてくる光学フィルムFがガイドロール20を経て、先ず、移送方向に回転する回転電極10Aに接しながら移送され、放電部50を通過して、光学フィルムFの表面に薄膜が形成される。
Here, the optical film F unwound from the original winding roll or the optical film F conveyed from the previous step is first transferred through the
一旦放電部50から出た光学フィルムFは、Uターンロール11A〜11DでUターンされて、今度は、光学フィルムFは回転電極10Aと反対方向に回転している回転電極10Bに接しながら移送され、再び前記放電部50を通過して、先ほど薄膜が形成された光学フィルムFの表面に更にプラズマ放電処理され薄膜が形成される。Uターンは通常0.1秒〜1分程度で行われる。
The optical film F that has once exited from the
処理に使用された反応ガスGはガス排出口40より反応後の排ガスG′として排出される。反応ガスGは室温〜250℃、好ましくは50〜150℃、更に好ましくは80〜120℃に過熱して放電部50に送り込まれることが好ましい。
The reaction gas G used for the treatment is discharged from the
尚、放電部50には整流板51が設けられていることが好ましく、反応ガスGや排ガスG′の流れをスムーズにすると共に、放電部50が広がって電極10Aと10Bの間で不要な放電を起こさないように制御することが好ましく、整流板51は絶縁性部材で出来ていることが好ましい。
In addition, it is preferable that the
図では光学フィルムF上に形成された薄膜は省略してある。表面に薄膜が形成された光学フィルムFは、ガイドローラ21を介して次工程または巻き取りロール(図示してない)方向に搬送される。
In the figure, the thin film formed on the optical film F is omitted. The optical film F having a thin film formed on the surface is conveyed in the direction of the next process or a take-up roll (not shown) via the
従って、光学フィルムFは、回転電極10A、10Bに密着した状態で放電部50を往復してプラズマ放電処理されることとなる。
Therefore, the optical film F is subjected to plasma discharge treatment by reciprocating the
尚、図示してないが、回転電極10Aと10B、ガイドロール20、21、Uターンロール11A〜11D、反応ガス供給部30、ガス排出口40等の装置は外界と遮断するプラズマ放電処理容器内に囲まれて納められていることが好ましい。
Although not shown in the drawing, the devices such as the
また、図示してないが、必要に応じて、回転電極10Aと10Bの温度制御をするための温度制御用媒体が循環され、各々の電極表面温度を所定の値に制御するようになっている。また、回転電極10Aと10Bの直径は10〜1000mm、好ましくは50〜500mmであり、直径の異なるものを組み合わせて用いてもよい。
Although not shown, a temperature control medium for controlling the temperature of the
図2は、光学フィルム上に表面処理もしくは金属酸化物薄膜層を形成するのに有用な回転電極と固定電極を有するプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。 FIG. 2 is a view showing an example of a plasma discharge treatment apparatus having a rotating electrode and a fixed electrode useful for forming a surface treatment or a metal oxide thin film layer on an optical film.
回転電極110とそれに対向して配置された複数の固定電極111を有し、図示されていない元巻きロールまたは前工程から搬送されて来る光学フィルムFがガイドロール120、ニップロール122を経て回転電極110に導かれ、光学フィルムFは回転電極110に接した状態で回転電極110の回転と同期しながら移送され、大気圧若しくはその近傍の圧力下にある放電部150に反応ガス発生装置131で調製された反応ガスGが給気管130から供給され、固定電極111に対向している光学フィルム面に薄膜が形成される。
A
回転電極110と固定電極には、プラズマ放電を発生させるための電圧を印加できる電源180が電圧供給手段181に接続され一方はアースに接続されており、182がアースに接続されている。
A
また、回転電極110、固定電極111、放電部150はプラズマ放電処理容器190で覆われ、外界と遮断されている。処理された排ガスG′は処理室の下部にあるガス排気口140から排出される。
Further, the rotating
プラズマ放電処理された光学フィルムFはニップロール123及びガイドロール121を経て次工程または図示してない巻き取りロールへ搬送される。
The optical film F subjected to the plasma discharge treatment is conveyed to the next process or a winding roll (not shown) through the
光学フィルムFがプラズマ放電処理容器の出入り部分のニップロール122及び123のところに外界との仕切板124及び125が設けられており、外界からニップロール122と共に光学フィルムFに同伴して来る空気を遮断し、また出口においては、反応ガスGまたは排ガスG′が外界に漏れないようになっている、尚、図示してないが、必要に応じて、回転電極110及び固定電極111は温度調節のための温度制御された媒体が内部を循環するようになっている。
The optical film F is provided with
このように、本発明において、薄膜が形成される光学フィルムは回転電極上で移送しながらプラズマ放電処理されるのが好ましい。 Thus, in the present invention, the optical film on which the thin film is formed is preferably subjected to plasma discharge treatment while being transferred on the rotating electrode.
回転電極が光学フィルムと接する表面は高い平滑性が求められ、回転電極の表面の表面粗さがJIS−B−0601で規定される表面粗さの最大高さ(Rmax)が10μm以下であることが好ましく、より好ましくは8μm以下であり、特に好ましくは、7μm以下である。また、均一な製膜のため電極にゴミや異物が付着しないようにすることが必要である。 The surface where the rotating electrode is in contact with the optical film is required to have high smoothness, and the surface roughness of the surface of the rotating electrode is the maximum surface roughness (Rmax) specified by JIS-B-0601 is 10 μm or less. Is more preferably 8 μm or less, and particularly preferably 7 μm or less. In addition, it is necessary to prevent dust and foreign matter from adhering to the electrodes for uniform film formation.
プラズマ放電処理に用いられる電極の表面は固体誘電体で被覆されていることが望ましく、特に金属等の導電性母材に対し固体誘電体で被覆されていることが望ましい。固体誘電体としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック、ガラス、二酸化珪素、酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化チタン(TiO2)等の金属酸化物、チタン酸バリウム等の複酸化物等を挙げることができる。 The surface of the electrode used for the plasma discharge treatment is preferably coated with a solid dielectric, and in particular, a conductive base material such as metal is preferably coated with the solid dielectric. Examples of the solid dielectric include plastics such as polytetrafluoroethylene and polyethylene terephthalate, glass, silicon dioxide, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), metal oxides such as titanium oxide (TiO 2 ), Examples thereof include double oxides such as barium titanate.
特に好ましくは、セラミックスを溶射後、無機材料を用いて封孔処理したセラミック被覆処理誘電体であることが望ましい。ここで、金属等の導電性母材としては、銀、白金、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属等を挙げることができるが、加工の観点からステンレスが好ましい。 It is particularly preferable that the dielectric material is a ceramic-coated dielectric that has been thermally sprayed with ceramics and then sealed with an inorganic material. Here, examples of the conductive base material such as metal include metals such as silver, platinum, stainless steel, aluminum, and iron. Stainless steel is preferable from the viewpoint of processing.
また、ライニング材としては、珪酸塩系ガラス、ホウ酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマン酸塩系ガラス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩ガラス、バナジン酸塩ガラス等が好ましく用いられるが、この中でもホウ酸塩系ガラスが加工し易いので、更に好ましく用いられる。 As the lining material, silicate glass, borate glass, phosphate glass, germanate glass, tellurite glass, aluminate glass, vanadate glass and the like are preferably used. However, among these, borate glass is more preferably used because it is easy to process.
プラズマ放電処理に用いられる電極は、その裏面側(内側)から、必要に応じて、加熱或いは冷却することができるようになっている。電極がベルトの場合には、その裏面より気体で冷却することもできるが、ロールを用いた回転電極では内部に媒体を供給して電極表面の温度及び光学フィルムの温度を制御することが好ましい。 The electrode used for the plasma discharge treatment can be heated or cooled as necessary from the back side (inside). In the case where the electrode is a belt, it can be cooled with gas from the back side, but it is preferable to control the temperature of the electrode surface and the temperature of the optical film by supplying a medium to the inside of the rotating electrode using a roll.
媒体としては、蒸留水、油特にシリコンオイル等の絶縁性材料が好ましく用いられる。 As the medium, an insulating material such as distilled water, oil, particularly silicon oil is preferably used.
放電処理の際の光学フィルムの温度は処理条件によって異なるが、室温〜200℃以下が好ましく、より好ましくは室温〜120℃以下であり、更に好ましくは50〜110℃である。 The temperature of the optical film during the discharge treatment varies depending on the treatment conditions, but is preferably room temperature to 200 ° C or less, more preferably room temperature to 120 ° C or less, and further preferably 50 to 110 ° C.
また、放電によってもフィルム表面温度が上昇する等により著しいカールが発生することがあったが、本発明によれば、カールの発生を著しく低減することが出来たのである。 In addition, the curling may occur due to the rise of the film surface temperature or the like due to discharge, but according to the present invention, the curling can be remarkably reduced.
放電処理の際に光学フィルム面の特に幅手方向で温度ムラが生じないようにすることが望ましく、±5℃以内とすることが好ましく、より好ましくは±1℃以内であり、特に好ましくは±0.1℃以内である。 It is desirable to prevent temperature unevenness particularly in the width direction of the optical film surface during the discharge treatment, preferably within ± 5 ° C., more preferably within ± 1 ° C., particularly preferably ± Within 0.1 ° C.
本発明において、電極間隙は、固体誘電体の厚さ、印加電圧や周波数、プラズマを利用する目的等を考慮して決定される。上記電極の一方に固体誘電体を設置した場合の固体誘電体と電極の最短距離、上記電極の双方に固体誘電体を設置した場合の固体誘電体同士の距離としては、いずれの場合も均一な放電プラズマを発生させるという観点から0.5mm〜20mmが好ましく、特に好ましくは1mm±0.5mmである。 In the present invention, the electrode gap is determined in consideration of the thickness of the solid dielectric, the applied voltage and frequency, the purpose of using plasma, and the like. The shortest distance between the solid dielectric and the electrode when a solid dielectric is placed on one of the electrodes, and the distance between the solid dielectrics when a solid dielectric is placed on both of the electrodes is uniform in any case From the viewpoint of generating discharge plasma, 0.5 mm to 20 mm is preferable, and 1 mm ± 0.5 mm is particularly preferable.
本発明において、電極間隙の放電部には、ガス発生装置で発生させた混合ガスを流量制御して、反応ガス供給口よりプラズマ放電部に導入される。反応ガスの濃度や流量は適宜調整されるが、光学フィルムの搬送速度に対して十分な速度で処理用ガスを電極間隙に供給することが好ましい。放電部では供給した反応ガスの大部分が反応して薄膜形成に使われるように流量や放電条件が設定するのが望ましい。 In the present invention, the flow rate of the mixed gas generated by the gas generator is controlled in the discharge portion of the electrode gap and introduced into the plasma discharge portion from the reaction gas supply port. The concentration and flow rate of the reaction gas are appropriately adjusted, but it is preferable to supply the processing gas to the electrode gap at a speed sufficient for the conveyance speed of the optical film. In the discharge section, it is desirable to set the flow rate and discharge conditions so that most of the supplied reaction gas reacts and is used for thin film formation.
放電部に大気が混入したり、反応ガスが装置外に漏れ出ることを防止するために、電極及び移送中の光学フィルムは全体を囲んで外界から遮蔽することが好ましい。本発明において、放電部の気圧は大気圧若しくはその近傍の圧力に維持される。また、反応ガスが気相中で分解されて金属酸化物の微粉を発生することがあるが、その発生が少なくなるように流量や放電条件を設定することが望ましい。 In order to prevent the atmosphere from being mixed into the discharge part and the reaction gas from leaking out of the apparatus, it is preferable that the electrode and the optical film being transferred are surrounded and shielded from the outside. In the present invention, the atmospheric pressure of the discharge part is maintained at atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof. In addition, the reaction gas may be decomposed in the gas phase to generate metal oxide fine powder, and it is desirable to set the flow rate and discharge conditions so as to reduce the generation.
ここで大気圧近傍とは、20〜200kPaの圧力を表すが、本発明に記載の効果を好ましく得るためには、93〜110kPaが好ましい。装置外の大気圧力に対して、放電部がやや陽圧であることが好ましくプラズマ装置外の大気圧力+0.1kPa〜5kPaであることがより好ましい。 Here, the vicinity of atmospheric pressure represents a pressure of 20 to 200 kPa, but 93 to 110 kPa is preferable in order to preferably obtain the effects described in the present invention. The discharge part is preferably slightly positive with respect to the atmospheric pressure outside the apparatus, more preferably atmospheric pressure outside the plasma apparatus +0.1 kPa to 5 kPa.
本発明に有用なプラズマ放電処理装置では、一方の電極は電源に接続して電圧を印加し、もう一方の電極はアースに接地し放電プラズマを発生させることが安定したプラズマを発生させるために好ましい。 In the plasma discharge treatment apparatus useful for the present invention, it is preferable that one electrode is connected to a power source to apply a voltage, and the other electrode is grounded to generate a discharge plasma to generate a stable plasma. .
本発明で用いる高周波電源より電極に印加する電圧の値は適宜決定されるが、例えば、電圧が0.5〜10kV程度で、印加する周波数は1kHz〜150MHzに調整し、波形をパルス波であってもサイン波としてもよい。特に周波数を100kHzを超えて50MHz以下の高周波を印加することが、好ましい放電部(放電空間)が得られるため好ましい。或いは、1kHz〜200kHzと800kHz〜150MHzの2つの周波数の高周波電圧を同時に印加する方法も好ましく用いられる。 The value of the voltage applied to the electrode from the high frequency power source used in the present invention is appropriately determined. For example, the voltage is about 0.5 to 10 kV, the applied frequency is adjusted to 1 kHz to 150 MHz, and the waveform is a pulse wave. Or a sine wave. In particular, it is preferable to apply a high frequency of more than 100 kHz and 50 MHz or less because a preferable discharge part (discharge space) is obtained. Alternatively, a method of simultaneously applying high-frequency voltages having two frequencies of 1 kHz to 200 kHz and 800 kHz to 150 MHz is also preferably used.
放電部における放電密度は5〜1000W・min/m2であることが好ましく、特に50〜500W・min/m2であることが望ましい。 Preferably the discharge density in the discharge portion are 5~1000W · min / m 2, in particular it is desirable that 50~500W · min / m 2.
プラズマ放電処理部は、パイレックス(R)ガラス製の処理容器等で適宜囲まれていることが望ましく、電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能である。例えば、アルミまたは、ステンレスのフレームの内面にポリイミド樹脂等を貼り付けても良く、該金属フレームにセラミックス溶射を行い絶縁性をとっても良い。また、放電部や回転電極の側面部、セルロースエステルフィルム搬送部等の側面を囲むことによって、反応ガスや排ガスを適切に放電部に供給したり排気することもできる。 It is desirable that the plasma discharge processing unit is appropriately surrounded by a Pyrex (R) glass processing container or the like, and it is possible to use a metal as long as insulation from the electrode can be obtained. For example, polyimide resin or the like may be affixed to the inner surface of an aluminum or stainless steel frame, and the metal frame may be subjected to ceramic spraying to achieve insulation. In addition, the reaction gas and the exhaust gas can be appropriately supplied to the discharge unit or exhausted by surrounding the discharge unit, the side surface of the rotating electrode, the side surface of the cellulose ester film transport unit, and the like.
本発明の金属酸化物薄膜層の形成方法に用いる反応ガスについて説明する。 The reaction gas used in the method for forming a metal oxide thin film layer of the present invention will be described.
薄膜層を形成するための反応ガスは、窒素若しくは希ガスを含むことが好ましい。 The reaction gas for forming the thin film layer preferably contains nitrogen or a rare gas.
つまり、反応ガスは窒素若しくは希ガスと後述の反応性ガスの混合ガスであることが好ましい。 That is, the reactive gas is preferably a mixed gas of nitrogen or a rare gas and a reactive gas described later.
ここで、希ガスとは、周期表の第18属元素、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等であり、本発明においては、中でもヘリウム、アルゴンを好ましく用いることができる。これらは混合して用いてもよく、例えばヘリウム3:アルゴン7等の比率で用いてもよい。 Here, the noble gas is a group 18 element of the periodic table, specifically helium, neon, argon, krypton, xenon, radon, etc., and in the present invention, helium or argon is preferably used. it can. These may be used as a mixture, for example, in a ratio of helium 3: argon 7 or the like.
反応ガス中の希ガスまたは窒素の濃度は90%以上であることが安定したプラズマ放電を発生させるために好ましく、90〜99.99体積%であることが望ましい。 The concentration of the rare gas or nitrogen in the reaction gas is preferably 90% or more in order to generate a stable plasma discharge, and desirably 90 to 99.99% by volume.
希ガスまたは窒素は安定したプラズマ放電を発生させるために用いられ、該プラズマ中で反応性ガスはイオン化或いはラジカル化され、基材表面に堆積或いは付着するなどして薄膜が形成される。 A rare gas or nitrogen is used to generate a stable plasma discharge, and the reactive gas is ionized or radicalized in the plasma, and is deposited or adhered to the surface of the substrate to form a thin film.
本発明に有用な反応ガスは、様々な物質の反応性ガスを添加したものを用いることによって、様々な機能を持った薄膜を光学フィルム上に形成することができる。 As the reactive gas useful in the present invention, a thin film having various functions can be formed on an optical film by using a reactive gas added with reactive gases of various substances.
例えば、反応性ガスとして、弗素含有有機化合物、珪素化合物を用いて反射防止層の低屈折率層或いは防汚層を形成することもできる。 For example, the low refractive index layer or the antifouling layer of the antireflection layer can be formed using a fluorine-containing organic compound or a silicon compound as the reactive gas.
また、Ti、Zr、In、Sn、Zn、Ge、Si或いはその他の金属を含有する有機金属化合物、金属水素化合物、金属ハロゲン化物を用いて、これらの金属酸化物層(金属酸化物窒化物層も含む)または金属窒化物層等を形成することが出来、これらの層は反射防止層の中屈折率層または高屈折率層としたり、或いは導電層または帯電防止層とすることもできる。 Further, these metal oxide layers (metal oxide nitride layers) using organometallic compounds, metal hydrides, and metal halides containing Ti, Zr, In, Sn, Zn, Ge, Si or other metals. Or a metal nitride layer or the like, and these layers may be a middle refractive index layer or a high refractive index layer of the antireflection layer, or may be a conductive layer or an antistatic layer.
また、弗素含有有機化合物で防汚層や低屈折率層を形成することも出来、珪素化合物でガスバリア層や低屈折率層を形成することもできる。本発明は、高、中屈折率層と低屈折率層を交互に多層を積層して形成される反射防止層の形成に特に好ましく用いられる。 Further, the antifouling layer and the low refractive index layer can be formed with a fluorine-containing organic compound, and the gas barrier layer and the low refractive index layer can be formed with a silicon compound. The present invention is particularly preferably used for forming an antireflection layer formed by alternately laminating high, medium refractive index layers and low refractive index layers.
形成される金属酸化物層の膜厚としては、1nm〜1000nmの範囲のものが好ましく得られる。 The film thickness of the formed metal oxide layer is preferably in the range of 1 nm to 1000 nm.
大気圧プラズマ処理では原料ガスに弗素含有有機化合物を用いることで弗素化合物含有層を形成することもできる。 In the atmospheric pressure plasma treatment, a fluorine compound-containing layer can be formed by using a fluorine-containing organic compound as a source gas.
弗素含有有機化合物としては、フッ化炭素ガス、フッ化炭化水素ガス等が好ましい。 As the fluorine-containing organic compound, a fluorocarbon gas, a fluorinated hydrocarbon gas, or the like is preferable.
具体的には、弗素含有有機化合物としては、例えば、四フッ化炭素、六フッ化炭素、四フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、八フッ化シクロブタン等のフッ化炭素化合物;
二フッ化メタン、四フッ化エタン、四フッ化プロピレン、三フッ化プロピレン、八フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物;
更に、一塩化三フッ化メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物、アルコール、酸、ケトン等の有機化合物の弗素置換体等を挙げることができる。
Specifically, as the fluorine-containing organic compound, for example, a fluorocarbon compound such as carbon tetrafluoride, carbon hexafluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, and octafluorocyclobutane;
Fluorinated hydrocarbon compounds such as difluoromethane, tetrafluoroethane, propylene tetrafluoride, propylene trifluoride, and cyclobutane octafluoride;
Further, halides of fluorinated hydrocarbon compounds such as trichloromethane trichloride, dichloromethane monofluoride, cyclobutane dichloride, and fluorine-substituted products of organic compounds such as alcohols, acids, and ketones. Can do.
これらは単独でも混合して用いてもよい。上記のフッ化炭化水素ガスとしては、二フッ化メタン、四フッ化エタン、四フッ化プロピレン、三フッ化プロピレン等の各ガスを挙げることができる。 These may be used alone or in combination. Examples of the fluorinated hydrocarbon gas include gases such as methane difluoride, ethane tetrafluoride, propylene tetrafluoride, and propylene trifluoride.
更に、一塩化三フッ化メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物やアルコール、酸、ケトン等の有機化合物の弗素置換体を用いることができるが、本発明はこれらに限定されない。 Furthermore, it is possible to use halides of fluorinated hydrocarbon compounds such as trichloromethane trichloride, monochlorodifluoride methane, and cyclobutane dichloride tetrafluoride, and fluorine-substituted products of organic compounds such as alcohols, acids, and ketones. However, the present invention is not limited to these.
また、これらの化合物は分子内にエチレン性不飽和基を有していても良い。また、上記の化合物は混合して用いても良い。 Moreover, these compounds may have an ethylenically unsaturated group in the molecule. In addition, the above compounds may be used as a mixture.
反応性ガスとして弗素含有有機化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりセルロースエステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の反応性ガスとしての弗素含有有機化合物の含有率は、0.01〜10体積%であることが好ましく、更に好ましくは、0.1〜5体積%である。 When a fluorine-containing organic compound is used as the reactive gas, the content of the fluorine-containing organic compound as the reactive gas in the reactive gas is from the viewpoint of forming a uniform thin film on the cellulose ester film by plasma discharge treatment. It is preferable that it is 01-10 volume%, More preferably, it is 0.1-5 volume%.
また、好ましく用いられる弗素含有、有機化合物が常温常圧で気体である場合は、反応性ガスの成分としてそのまま使用できる。 Further, when the fluorine-containing organic compound that is preferably used is a gas at normal temperature and pressure, it can be used as it is as a component of the reactive gas.
また、弗素含有有機化合物が常温常圧で液体または固体である場合には、気化手段により、例えば加熱、減圧等により気化して使用すればよく、適切な有機溶媒に溶解して用いてもよい。 Further, when the fluorine-containing organic compound is liquid or solid at normal temperature and pressure, it may be vaporized by vaporization means, for example, by heating, decompression, etc., or may be dissolved in an appropriate organic solvent. .
反応性ガスとして有用な珪素化合物としては、例えば、ジメチルシラン、テトラメチルシランなどの有機金属化合物、モノシラン、ジシランなどの金属水素化合物、二塩化シラン、三塩化シラン、四フッ化珪素などの金属ハロゲン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、などのアルコキシシラン、オルガノシラン等を用いることが好ましいがこれらに限定されない。 Examples of silicon compounds useful as reactive gases include organometallic compounds such as dimethylsilane and tetramethylsilane, metal hydrides such as monosilane and disilane, metal halogens such as silane dichloride, silane trichloride, and silicon tetrafluoride. It is preferable to use a compound, an alkoxysilane such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, or the like, but is not limited thereto.
また、これらは適宜組み合わせて用いることができる。或いは別の有機化合物を添加して膜の物性を変化或いは制御することもできる。 Moreover, these can be used in combination as appropriate. Alternatively, another organic compound can be added to change or control the physical properties of the film.
反応性ガスとして珪素化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりセルロースエステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の反応性ガスとしての珪素化合物の含有率は、0.01〜10体積%であることが好ましいが、更に好ましくは、0.1〜5体積%である。 When a silicon compound is used as the reactive gas, the content of the silicon compound as the reactive gas in the reactive gas is 0.01 to 10 volumes from the viewpoint of forming a uniform thin film on the cellulose ester film by plasma discharge treatment. %, Preferably 0.1 to 5% by volume.
反応性ガスとして有用な有機金属化合物としては、特に限定されないが、Al、As、Au、B、Bi、Sb、Ca、Cd、Cr、Co、Cu、Fe、Ga、Ge、Hg、In、Li、Mg、Mn、Mo、Na、Ni、Pb、Pt、Rh、Se、Si、Sn、Ti、Zr、Y、V、W、Zn等の金属化合物を形成するための有機金属化合物を好ましく挙げることができる。 Although it does not specifically limit as an organometallic compound useful as a reactive gas, Al, As, Au, B, Bi, Sb, Ca, Cd, Cr, Co, Cu, Fe, Ga, Ge, Hg, In, Li Preferable organic metal compounds for forming metal compounds such as Mg, Mn, Mo, Na, Ni, Pb, Pt, Rh, Se, Si, Sn, Ti, Zr, Y, V, W, and Zn Can do.
例えば、反射防止層の高屈折率層を形成するには、チタン化合物が好ましく、具体的には、例えば、テトラジメチルアミノチタンなどの有機アミノ金属化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどの金属アルコキシドなどを挙げることができる。 For example, in order to form a high refractive index layer of the antireflection layer, a titanium compound is preferable. Specifically, for example, an organic amino metal compound such as tetradimethylamino titanium, a metal hydrogen compound such as monotitanium and dititanium, Examples thereof include metal halogen compounds such as titanium chloride, titanium trichloride, and titanium tetrachloride, and metal alkoxides such as tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, and tetrabutoxy titanium.
前記の珪素化合物、有機金属化合物は、取り扱い上の観点から金属水素化合物、金属アルコキシドが好ましく、腐食性、有害ガスの発生がなく、工程上の汚れなども少ないことから、中でも金属アルコキシドが好ましく用いられる。 The above silicon compounds and organometallic compounds are preferably metal hydrides and metal alkoxides from the viewpoint of handling, and are preferably used since metal alkoxides are not corrosive, do not generate harmful gases, and have little contamination in the process. It is done.
反応性ガスとして有機金属化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりセルロースエステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の反応性ガスとしての有機金属化合物の含有率は、0.01〜10体積%であることが好ましいが、更に好ましくは、0.1〜5体積%である。 When using an organometallic compound as the reactive gas, from the viewpoint of forming a uniform thin film on the cellulose ester film by plasma discharge treatment, the content of the organometallic compound as the reactive gas in the reactive gas is 0.01 to Although it is preferable that it is 10 volume%, More preferably, it is 0.1-5 volume%.
また、珪素化合物、チタン化合物等の金属化合物を放電部へ導入するには、両者は常温常圧で気体、液体または固体いずれの状態であっても使用し得る。 Further, in order to introduce a metal compound such as a silicon compound or a titanium compound into the discharge part, both can be used in a gas, liquid or solid state at normal temperature and pressure.
気体の場合は、そのまま放電部に導入できるが、液体や固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の気化手段により気化させて使用することができる。 In the case of gas, it can be introduced into the discharge part as it is, but in the case of liquid or solid, it can be used after being vaporized by vaporizing means such as heating, depressurization or ultrasonic irradiation.
珪素化合物、チタン化合物等の金属化合物を加熱により気化して用いる場合、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシチタンなどのように常温で液体で、かつ、沸点が200℃以下である金属アルコキシドが本発明の金属酸化物薄膜層の形成する方法に好適である。上記金属アルコキシドは、有機溶媒によって希釈して使用しても良く、有機溶媒としては、メタノール、エタノール、n−ヘキサンなどの有機溶媒またはこれらの混合有機溶媒を使用することができる。 When metal compounds such as silicon compounds and titanium compounds are vaporized by heating, metal alkoxides that are liquid at room temperature and have a boiling point of 200 ° C. or less, such as tetraethoxysilane and tetraisopropoxytitanium, are used in the present invention. It is suitable for a method for forming a metal oxide thin film layer. The metal alkoxide may be used after diluted with an organic solvent. As the organic solvent, an organic solvent such as methanol, ethanol, n-hexane, or a mixed organic solvent thereof can be used.
更に、反応ガス中に酸素、水素、二酸化炭素、一酸化炭素、窒素、二酸化窒素、一酸化窒素、水等を0.1〜10体積%含有させることにより薄膜層の硬度、密度等の物性を制御することができる。 Furthermore, physical properties such as hardness and density of the thin film layer can be obtained by adding 0.1 to 10% by volume of oxygen, hydrogen, carbon dioxide, carbon monoxide, nitrogen, nitrogen dioxide, nitrogen monoxide, water, etc. in the reaction gas. Can be controlled.
以上の方法により酸化珪素、酸化チタン等の非晶性の金属酸化物層を好ましく作製することができる。 By the above method, an amorphous metal oxide layer such as silicon oxide or titanium oxide can be preferably produced.
本発明の硬化樹脂層を設けたセルロースエステルフィルムは、例えば低屈折率層と高屈折率層を積層した反射防止層を有する光学フィルムまたは導電層、帯電防止層を有する光学フィルム等に好ましく用いることができる。 The cellulose ester film provided with the cured resin layer of the present invention is preferably used for, for example, an optical film having an antireflection layer obtained by laminating a low refractive index layer and a high refractive index layer, a conductive layer, an optical film having an antistatic layer, or the like. Can do.
本発明において、プラズマ放電装置を複数設けることによって、多層の薄膜を連続的に設けることが出来、薄膜のムラもなく多層の積層体を形成することができる。 In the present invention, by providing a plurality of plasma discharge devices, a multilayer thin film can be continuously provided, and a multilayer laminate can be formed without unevenness of the thin film.
例えば、本発明の硬化樹脂層を設けたセルロースエステルフィルム上に反射防止層を有する反射防止フィルムを作製する場合、屈折率1.6〜2.3の高屈折率層及び屈折率1.3〜1.5の低屈折率層をセルロースエステルフィルム表面に連続して積層し、効率的に作製することができる。 For example, when producing an antireflection film having an antireflection layer on a cellulose ester film provided with the cured resin layer of the present invention, a high refractive index layer having a refractive index of 1.6 to 2.3 and a refractive index of 1.3 to A low refractive index layer of 1.5 can be continuously laminated on the surface of the cellulose ester film to produce efficiently.
低屈折率層としては、含弗素有機化合物を含むガスをプラズマ放電処理により形成された含弗素化合物層、或いはアルコキシシラン等の有機珪素化合物を用いてプラズマ放電処理により形成された主に酸化珪素を有する層が好ましく、高屈折率層としては、有機金属化合物を含むガスをプラズマ放電処理により形成された金属酸化物層、例えば酸化チタン、酸化ジルコニウムを有する層が好ましい。 As the low refractive index layer, a fluorine-containing compound layer formed by plasma discharge treatment using a gas containing a fluorine-containing organic compound, or silicon oxide mainly formed by plasma discharge treatment using an organosilicon compound such as alkoxysilane is used. The high refractive index layer is preferably a metal oxide layer formed by plasma discharge treatment with a gas containing an organometallic compound, such as a layer having titanium oxide or zirconium oxide.
上述した薄膜化の方法があるが、本発明はこれらに限定されるものではなく、層構成もこれらに限定されるものではない。例えば、最表面に弗素含有有機化合物ガス存在下で大気圧若しくはその近傍の圧力下でのプラズマ放電処理して防汚層を設けてもよい。 Although there are thinning methods described above, the present invention is not limited to these methods, and the layer structure is not limited thereto. For example, an antifouling layer may be provided on the outermost surface by plasma discharge treatment in the presence of a fluorine-containing organic compound gas in the presence of atmospheric pressure or in the vicinity thereof.
上記の方法により、本発明においては、多層の薄膜を積層することが出来、各層の膜厚ムラもなく、均一な反射防止フィルムを得ることができる。 According to the above method, in the present invention, a multilayer thin film can be laminated, and a uniform antireflection film can be obtained without film thickness unevenness of each layer.
〈偏光板〉
本発明の偏光板について述べる。
<Polarizer>
The polarizing plate of the present invention will be described.
偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明の硬化樹脂層を設けたセルロースエステルフィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理したハードコートフィルムを、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の光学フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、Rtが100〜400nmの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957、特願2002−155395記載の方法で作製することができる。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348記載の方法で光学異方性層を形成することができる。本発明のハードコートフィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。 The polarizing plate can be produced by a general method. A completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution is formed on at least one surface of a polarizing film prepared by immersing and stretching a hard coat film having an alkali saponification treatment on the back side of the cellulose ester film provided with the cured resin layer of the present invention in iodine solution It is preferable to stick together. The film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. The polarizing plate protective film used on the other surface of the optical film of the present invention preferably has an in-plane retardation Ro of 590 nm, a phase difference of 20 to 70 nm, and Rt of 100 to 400 nm. . These can be produced, for example, by the methods described in JP-A-2002-71957 and Japanese Patent Application No. 2002-155395. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. By using in combination with the hard coat film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。 The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. On the surface of the polarizing film, one side of the optical film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.
従来のハードコートフィルムを使用した偏光板は平面性に劣り、反射像を見ると細かい波打ち状のムラが認められ、60℃、90%RHの条件での耐久性試験により、波打ち状のムラが増大したが、これに対して本発明のハードコートフィルムを用いた偏光板は、平面性に優れていた。また、60℃、90%RHの条件での耐久性試験によっても波打ち状のムラが増加することはなかった。 A conventional polarizing plate using a hard coat film is inferior in flatness, and when the reflected image is seen, fine wavy unevenness is recognized. According to a durability test at 60 ° C. and 90% RH, the wavy unevenness is observed. In contrast, the polarizing plate using the hard coat film of the present invention was excellent in flatness. Further, even in the durability test under the conditions of 60 ° C. and 90% RH, the wavy unevenness did not increase.
〈表示装置〉
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することができる。本発明の光学フィルムは反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明の光学フィルムに反射防止層を形成した反射防止フィルムは反射防止層の反射光の色ムラが著しく少なく、また、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上の大画面の表示装置では、色ムラや波打ちムラによって、蛍光灯の反射像が歪んで見えていたものが、鏡の反射のように歪みがないため、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
<Display device>
By incorporating the polarizing plate of the present invention into a display device, the display device of the present invention having various visibility can be manufactured. The optical film of the present invention is preferably used in reflective, transmissive, transflective LCDs, or LCDs of various drive systems such as TN, STN, OCB, HAN, VA, and IPS. In addition, the antireflection film in which the antireflection layer is formed on the optical film of the present invention has remarkably little color unevenness of the reflected light of the antireflection layer, and is excellent in flatness, plasma display, field emission display, organic EL display, inorganic It is also preferably used for various display devices such as EL displays and electronic paper. Especially in a large-screen display device with a 30-inch screen or more, a reflection image of a fluorescent lamp that appears to be distorted due to uneven color or undulation is not distorted like the reflection of a mirror. But there was an effect that eyes were not tired.
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these.
実施例1
《セルロースエステルフィルムの作製》
以下に示すようにドープA1〜A6を各々調製し、次いで、各ドープを用いて表1に記載のセルロースエステルフィルム1〜9を作製した。
Example 1
<< Production of cellulose ester film >>
As shown below, dopes A1 to A6 were respectively prepared, and then cellulose ester films 1 to 9 described in Table 1 were prepared using each dope.
〔ドープの調製〕
[ドープA1の調製:冷却溶解]
下記素材を密閉容器に投入し、30℃において、20分間攪拌し、次いで混合物を−75℃まで冷却した(冷却速度:−2℃/分)後、45℃まで昇温して透明なドープを得た。このドープに下記に示す二酸化けい素微粒子分散液を添加し、再度均一混合し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して2回濾過し、ドープA1を調製した。
[Preparation of dope]
[Preparation of dope A1: cooling and dissolution]
The following materials were put into a sealed container, stirred at 30 ° C. for 20 minutes, and then the mixture was cooled to −75 ° C. (cooling rate: −2 ° C./min), and then heated to 45 ° C. to form a transparent dope. Obtained. The silicon dioxide fine particle dispersion shown below was added to this dope, mixed uniformly again, and subjected to a defoaming operation, and then the solution was added to Azumi Filter Paper No. Filtered twice using 244 to prepare Dope A1.
(ドープA1の組成)
セルロースエステル(セルロースアセテート:アセチル置換度2.8) 100kg
酢酸メチル 350kg
エタノール 100kg
添加剤A(混合物) 11.5kg
二酸化けい素微粒子分散液1 5kg
〈二酸化けい素微粒子分散液1の組成〉
二酸化珪素微粒子(アエロジルR972V 日本アエロジル社製) 0.3kg
エタノール 1kg
酢酸メチル 3.7kg
〈添加剤Aの組成〉
TPP(トリフェニルホスフェート) 8kg
BDP(ビフェニルジフェニルホスフェート) 3kg
E−4 0.5kg
[ドープA2〜A4の調製:冷却溶解]
ドープA1の調製において、セルロースエステル、添加剤、溶解方法、溶媒、残留塩素溶媒量等を表1に記載のように変更した以外は同様にして、ドープA2〜A4を得た。
(Composition of dope A1)
Cellulose ester (cellulose acetate: acetyl substitution degree 2.8) 100 kg
350 kg of methyl acetate
100 kg of ethanol
Additive A (mixture) 11.5 kg
Silicon dioxide fine particle dispersion 15 kg
<Composition of silicon dioxide fine particle dispersion 1>
Silicon dioxide fine particles (Aerosil R972V manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.3kg
1kg of ethanol
Methyl acetate 3.7kg
<Composition of additive A>
TPP (triphenyl phosphate) 8kg
BDP (biphenyl diphenyl phosphate) 3kg
E-4 0.5kg
[Preparation of dopes A2 to A4: cooling dissolution]
In the preparation of the dope A1, dopes A2 to A4 were obtained in the same manner except that the cellulose ester, additives, dissolution method, solvent, residual chlorine solvent amount and the like were changed as shown in Table 1.
上記ドープA2〜A4の作製に用いた各添加液の詳細は、以下の通りである。 The details of each additive solution used for producing the dopes A2 to A4 are as follows.
〈添加剤Bの組成〉
EPEG(エチルフタリルエチルグリコレート) 5kg
E−3 5kg
E−4 1kg
〈添加剤Cの組成〉
EPEG(エチルフタリルエチルグリコレート) 5kg
E−3 5kg
E−1 1kg
〈添加剤Dの組成〉
TPP(トリフェニルホスフェート) 10kg
BDP(ビフェニルジフェニルホスフェート) 3kg
E−2 1kg
また、各添加剤の組成を構成する素材の詳細を以下に示す。
<Composition of additive B>
EPEG (ethyl phthalyl ethyl glycolate) 5kg
E-3 5kg
E-4 1kg
<Composition of additive C>
EPEG (ethyl phthalyl ethyl glycolate) 5kg
E-3 5kg
E-1 1kg
<Composition of additive D>
TPP (triphenyl phosphate) 10kg
BDP (biphenyl diphenyl phosphate) 3kg
E-2 1kg
Moreover, the detail of the raw material which comprises the composition of each additive is shown below.
E−1:チヌビン171 (チバスペシャルティケミカルズ(株))
E−2:チヌビン326 (チバスペシャルティケミカルズ(株))
E−3:トリメチロールプロパントリベンゾエート
E-1: Tinuvin 171 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
E-2: Tinuvin 326 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
E-3: Trimethylolpropane tribenzoate
[ドープA5の調製:常温溶解]
下記素材を密閉容器に投入し、30℃において、20分間攪拌し、次いで加熱し、攪拌しながら、完全に溶解した。
[Preparation of dope A5: room temperature dissolution]
The following materials were put into a sealed container, stirred at 30 ° C. for 20 minutes, then heated and completely dissolved while stirring.
ドープを静置して30℃まで下げて、ここに前記二酸化けい素微粒子分散液5kgを添加し、再度均一混合し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して2回濾過し、ドープA5を調製した。 The dope is allowed to stand and the temperature is lowered to 30 ° C., 5 kg of the above-mentioned silicon dioxide fine particle dispersion is added thereto, mixed uniformly again, and subjected to defoaming operation. No. Filtered twice using 244 to prepare dope A5.
(ドープA5の組成)
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アセチル基置換度1.9
プロピオニル置換度0.7) 100kg
酢酸メチル 350kg
エタノール 100kg
添加剤A(混合物) 11.51kg
二酸化けい素微粒子分散液1(前出) 5kg
[ドープA6の調製:常温溶解]
下記素材を密閉容器に投入し、30℃において、20分間攪拌し、次いで加熱し、攪拌しながら、完全に溶解した。
(Composition of dope A5)
Cellulose ester (cellulose acetate propionate acetyl group substitution degree 1.9
Propionyl substitution degree 0.7) 100kg
350 kg of methyl acetate
100 kg of ethanol
Additive A (mixture) 11.51 kg
Silicon dioxide fine particle dispersion 1 (supra) 5kg
[Preparation of dope A6: room temperature dissolution]
The following materials were put into a sealed container, stirred at 30 ° C. for 20 minutes, then heated and completely dissolved while stirring.
ドープを静置して30℃まで下げて、ここに前記二酸化けい素微粒子分散液5kgを添加し、再度均一混合し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して2回濾過し、ドープA6を調製した。 The dope is allowed to stand and the temperature is lowered to 30 ° C., 5 kg of the above-mentioned silicon dioxide fine particle dispersion is added thereto, mixed uniformly again, and subjected to defoaming operation, and then the solution is Azumi filter paper manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. No. Filtered twice using 244 to prepare dope A6.
(ドープA6の組成)
セルロースエステル(アセチル基置換度2.8) 100kg
メチレンクロライド 400kg
エタノール 40kg
添加剤D(混合物) 14kg
〔セルロースエステルフィルム1の作製〕
表面温度が45℃のステンレス支持体上に上記ドープA1を流延した。60℃の乾燥風で乾燥し、流延60秒後に、10℃に冷却されたステンレス支持体からフィルムを剥離した。剥離したフィルムはテンターで横方向(TD)及び縦方向(MD)に各々1.1倍及び1.05倍に延伸し、100℃で乾燥し、残存塩素溶媒量が3%の時に幅把持を解放し、更に多数のロールで搬送させながら130℃の乾燥ゾーンで乾燥を終了させ、フィルム両端に幅10mm、高さ7μmのナーリング加工を施して、膜厚40μmのセルロースエステルフィルム1を作製した。また、フィルム幅は1.5m、巻き取り長は3000mとした。
(Composition of dope A6)
Cellulose ester (acetyl group substitution degree 2.8) 100 kg
400 kg of methylene chloride
40 kg of ethanol
Additive D (mixture) 14 kg
[Production of Cellulose Ester Film 1]
The dope A1 was cast on a stainless steel support having a surface temperature of 45 ° C. The film was dried with a drying air of 60 ° C., and after 60 seconds of casting, the film was peeled from the stainless steel support cooled to 10 ° C. The peeled film was stretched 1.1 times and 1.05 times in the transverse direction (TD) and longitudinal direction (MD) with a tenter, dried at 100 ° C., and gripped when the amount of residual chlorine solvent was 3%. The film was released and dried in a drying zone at 130 ° C. while being conveyed by a large number of rolls, and knurling was performed on both ends of the film with a width of 10 mm and a height of 7 μm to produce a cellulose ester film 1 having a thickness of 40 μm. The film width was 1.5 m and the winding length was 3000 m.
〔セルロースエステルフィルム2〜9の作製〕
セルロースエステルフィルム1の作製において、ドープA1の代わりに、表1に記載のドープを用いた以外は同様にして、セルロースエステルフィルム2〜9を各々作製した。
[Production of Cellulose Ester Films 2-9]
In producing the cellulose ester film 1, cellulose ester films 2 to 9 were produced in the same manner except that the dope shown in Table 1 was used instead of the dope A1.
なお、表1に記載の残留塩素溶媒量は、下記の方法に従って測定した。 The residual chlorine solvent amount shown in Table 1 was measured according to the following method.
塩素系溶媒の残留量は、下記のようにヘッドスペースサンプラーを接続したガスクロマトグラフィーにより求めた。 The residual amount of the chlorinated solvent was determined by gas chromatography connected to a headspace sampler as described below.
具体的には、採取した各セルロースエステルフィルムをバイヤル瓶に入れ、110℃、3時間の加熱処理を行って、揮発性成分を収集し、次いで、ガスクロマトグラフィーにより、揮発性成分中の塩素系溶媒量を求めた。 Specifically, each collected cellulose ester film is put into a vial, and heat treatment is performed at 110 ° C. for 3 hours to collect volatile components, and then the chlorine-based volatile components are analyzed by gas chromatography. The amount of solvent was determined.
ここで、揮発性成分中の塩素系溶媒量をagとして、セルロースエステルフィルムの熱処理後の質量をbgとし、塩素系溶媒の残留量を、下式で求めた。 Here, the amount of chlorine-based solvent in the volatile component was defined as ag, the mass after the heat treatment of the cellulose ester film was defined as bg, and the residual amount of the chlorine-based solvent was determined by the following equation.
塩素系溶媒残留量(質量%)=(a/b)×100(%)
なお、ガスクロマトグラフィーの測定条件は以下の通りである。
Chlorinated solvent residual amount (% by mass) = (a / b) × 100 (%)
The measurement conditions for gas chromatography are as follows.
ヒューレット・パッカード社製ガスクロマトグラフィー5890型SERISIIとヘッドスペースサンプラーHP7694型を使用し、以下の測定条件で行った。 Gas chromatography 5890 type SERISII manufactured by Hewlett-Packard Company and headspace sampler HP7694 type were used, and the measurement was performed under the following measurement conditions.
ヘッドスペースサンプラー加熱条件:120℃、20分
GC導入温度:150℃
昇温:40℃、5分保持→100℃(8℃/分)
カラム:J&W社製DB−WAX(内径0.32mm、長さ30m)
《樹脂層の塗設》
セルロースエステルフィルム1を、アルカリ鹸化処理によって表面を親水化処理した。即ち、50℃の1mol/L水酸化ナトリウムに1分間浸漬した後、中和、水洗してアルカリ鹸化処理したセルロースエステルフィルムに、下記樹脂層(紫外線硬化樹脂層)用塗布液をマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用いて、照射量0.1J/cm2で塗布層を硬化させ、厚さ6μmの樹脂層を形成し、本発明のハードコートフィルム1を得た。
Headspace sampler heating conditions: 120 ° C, 20 minutes GC introduction temperature: 150 ° C
Temperature rise: 40 ° C, hold for 5 minutes → 100 ° C (8 ° C / min)
Column: J-W DB-WAX (inner diameter 0.32 mm, length 30 m)
"Coating of tree fat layer"
The surface of the cellulose ester film 1 was hydrophilized by alkali saponification. That is, after 1 minute in 1 mol /
〈樹脂層用塗布液〉
重合性化合物:例示化合物A3−1 35質量部
光重合開始剤:下記化合物 2質量部
水 40質量部
トリエーテルアミンを適宜添加してpH8.5に調整した。塗布液は孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して樹脂層塗布液を調製した。
<Tree fat layer coating solution>
Polymerizable compound: Exemplified compound A3-1 35 parts by weight Photopolymerization initiator: The following compound 2 parts by
更に、上記ハードコートフィルムの作製において、表2に記載のように樹脂層塗布液の溶媒組成(水と有機溶媒組成)とセルロースエステルフィルムを変更した以外は同様にして、ハードコートフィルム2〜21を作製した。 Furthermore, in preparation of the said hard coat film, except changing the solvent composition (water and organic-solvent composition) of a resin layer coating liquid and a cellulose-ester film as shown in Table 2, hard coat films 2-21 Was made.
《ハードコートフィルムの評価》
以上のようにして作製した各ハードコートフィルムについて、下記の条件にて、平面性指数、平面性:目視、密着性、長期保管性を評価した。
<< Evaluation of hard coat film >>
About each hard coat film produced as mentioned above, flatness index | exponent, flatness: visual observation, adhesiveness, and long-term storage property were evaluated on condition of the following.
最初に本発明によって作製される試料の評価方法について説明する。 First, a method for evaluating a sample manufactured according to the present invention will be described.
〔平面性指数:微小な凹凸の評価〕
レーザー変位計:キーエンス(株)、型式:LT−8100、分解能:0.2μmを用いて、幅手方向にレーザー変位計で走査して、表面の細かい起伏を測定し、光学フィルムの平面性を評価した。
[Flatness index: Evaluation of minute irregularities]
Laser displacement meter: Keyence Co., Ltd., Model: LT-8100, Resolution: 0.2 μm, Scan with a laser displacement meter in the width direction, measure fine undulations on the surface, and flatness of the optical film evaluated.
測定方法は、フィルムを平坦で水平の台の上に載せ、テープで幅手の両端を台に固定し、測定カメラを該台と平行にセットしたシグマ光機社製の移動レールに、カメラレンズと試料フィルムの間隔が25mmとなるようにセットし、移動速度5cm/分で走査し測定し、得られた値について、下記の基準に則りランク分けを行った。測定で得られる値はフィルム表面の微少な凹凸の状態と大きさである。 The measuring method is that the film is placed on a flat and horizontal table, both ends of the width are fixed to the table with tape, and the measuring camera is set in parallel with the table on a moving rail made by Sigma Kogyo Co., Ltd. The sample film was set to have a distance of 25 mm, scanned at a moving speed of 5 cm / min, measured, and the obtained values were ranked according to the following criteria. The value obtained by the measurement is the state and size of minute irregularities on the film surface.
◎:フィルムの変形による凹凸が0.5μm未満
○:フィルムの変形による凹凸が0.5〜1.0μm未満
△:フィルムの変形による凹凸が1.0〜3.0μm未満
×:フィルムの変形による凹凸が3.0μm以上
〔平面性の目視評価〕
幅90cm、長さ100cmの大きさに各試料を切り出し、50W蛍光灯を5本並べて試料台に45°の角度から照らせるように高さ1.5mの高さに固定し、試料台の上に各フィルム試料を置き、光学フィルム表面に反射して見える凹凸を目視観察し、下記の基準に則り平面性の目視評価を行った。この方法によって「つれ」及び「しわ」の判定ができる。
A: Unevenness due to film deformation is less than 0.5 μm ○: Unevenness due to film deformation is less than 0.5 to 1.0 μm Δ: Unevenness due to film deformation is less than 1.0 to 3.0 μm ×: Due to film deformation Concavity and convexity are 3.0 μm or more
Cut each sample into a size of 90cm in width and 100cm in length, and arrange five 50W fluorescent lamps at a height of 1.5m so that the sample stage can be illuminated from a 45 ° angle. Each film sample was placed, the irregularities that appeared to be reflected on the optical film surface were visually observed, and the flatness was visually evaluated according to the following criteria. By this method, it is possible to determine “tsun” and “wrinkle”.
◎:蛍光灯が5本とも真っすぐに見えた
○:蛍光灯が少し曲がって見えるところがある
△:蛍光灯が全体的に少し曲がって見える
×:蛍光灯が大きくうねって見える
〔密着性の評価〕
JIS K 5400に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には樹脂層塗布面上に1mm間隔で縦、横に11本の切れ目を入れ、1mm角の碁盤目を100個作った。この上にセロハンテープを貼り付け、90度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った碁盤目の状態を目視観察し、下記の基準に則り密着性の評価を行った。
◎: All five fluorescent lamps look straight ○: Some fluorescent lamps appear to be bent slightly △: Fluorescent lamps appear to be slightly bent overall ×: Fluorescent lamps appear to swell greatly [Evaluation of adhesion]
A cross-cut test based on JIS K 5400 was performed. Vertical In specific 1mm intervals tree fat layer coated surface on the horizontal put eleven cuts were made 100 pieces of cross-cut of 1mm square. A cellophane tape was affixed on this, peeled off quickly at an angle of 90 degrees, and the state of the grids remaining without peeling was visually observed, and the adhesion was evaluated according to the following criteria.
◎:剥離がほとんど認められず、密着性が非常に優れている
○:僅かに剥離が認められるが、密着性は良好である
△:やや剥離が認められるが、実用上問題がないレベル
×:剥離が目立ち実用上問題がある
〔長期保管性の評価〕
ロール状に巻き取った光学フィルムを、埃付着防止のためポリエチレンシートで覆い、そのまま40℃、70〜80%RHの倉庫内で1ヶ月間保管後に、上記「平面性の目視評価」の評価法に従って、フィルムの長期保管後の平面性を評価した。
◎: Peeling is hardly observed and adhesion is very good. ○: Slight peeling is observed but adhesion is good. Δ: Slight peeling is observed, but there is no practical problem. Peeling is noticeable and has practical problems [Evaluation of long-term storage]
The optical film wound up in a roll is covered with a polyethylene sheet to prevent dust adhesion, and is stored as it is for one month in a warehouse at 40 ° C. and 70 to 80% RH. The flatness of the film after long-term storage was evaluated.
以上により得られた結果を、表3に示す。 The results obtained as described above are shown in Table 3.
表3の結果より明らかな様に、本発明のフィルム1〜4、6〜9、11〜16、20は、塩素系溶媒の残留量が0.01質量%未満であるセルロースエステルフィルム基材上に、全溶媒量に対し水を30質量%以上含有する樹脂層塗布組成物により樹脂層を形成することにより、比較例のフィルム5、10、17〜19、21に比較して、各特性に優れていることが分かる。 As is clear from the results in Table 3, the films 1 to 4, 6 to 9, 11 to 16, and 20 of the present invention are on the cellulose ester film substrate in which the residual amount of the chlorinated solvent is less than 0.01% by mass. In addition, by forming a resin layer with a resin layer coating composition containing 30% by mass or more of water with respect to the total amount of solvent, each characteristic is compared with Comparative Examples Films 5, 10, 17 to 19, 21 It turns out that it is excellent.
実施例2
実施例1で作製したセルロースエステルフィルム1、2を用いて、樹脂層を塗布する前に、下記条件でセルロースエステルフィルムにコロナ放電処理または紫外線照射処理を行い、樹脂層を塗設した。樹脂層の塗布組成物には溶媒組成を表4のように変更した樹脂層塗布組成物を使用して、ハードコートフィルム22〜27を作製した。
Example 2
Using cellulose ester film 1 produced in Example 1, prior to applying the tree fat layer performs corona discharge treatment or ultraviolet irradiation treatment to the cellulose ester film under the following conditions, by coating the tree fat layer. The coating compositions of the tree fat layer solvent composition using the resin layer coating composition was changed as shown in Table 4, to prepare a hard coat film 22-27.
コロナ放電処理:セルロースエステルフィルムに、特開平10−296856号公報記載のコロナ放電処理装置を用い、8W/m2・分の条件で処理を行った。 Corona discharge treatment: The cellulose ester film was treated using a corona discharge treatment apparatus described in JP-A-10-296856 under the condition of 8 W / m 2 · min.
紫外線照射処理:セルロースエステルフィルムに、低圧水銀ランプを用いて30秒照射し、300mJ/cm2の光量で処理を行った。 Ultraviolet irradiation treatment: The cellulose ester film was irradiated with a low-pressure mercury lamp for 30 seconds and treated with a light amount of 300 mJ / cm 2 .
得られたハードコートフィルム22〜27に対して、実施例1に記載の方法に準じて密着性を評価を行い、得られた結果を表4に示す。 Adhesiveness was evaluated according to the method described in Example 1 for the obtained hard coat films 22 to 27, and the results obtained are shown in Table 4.
表4に結果より明らかなように、表面活性処理を行うことにより、ハードコートフィルムと基材間での密着性がより一層向上することが分かる。 As is apparent from the results in Table 4, it can be seen that the adhesion between the hard coat film and the substrate is further improved by performing the surface activation treatment.
実施例3
《反射防止フィルムの作製》
前記で作製したハードコートフィルム1〜27上に反射防止層を形成した。
Example 3
<< Preparation of antireflection film >>
An antireflection layer was formed on the hard coat films 1 to 27 produced above.
ハードコートフィルム1〜27の上に、下記中屈折率層用塗布液をワイヤーバーコーターを用いて塗布し、70℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層(屈折率1.72、膜厚80nm)を形成した。その上に、下記高屈折率層用塗布液をワイヤーバーコーターを用いて塗布し、70℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層(屈折率1.9、膜厚70nm)を形成した。更にその上に、下記低屈折率層用塗布液をワイヤーバーコーターを用いて塗布し、70℃で乾燥させ、熱処理により硬化して低屈折率層(屈折率1.45、膜厚95nm)を形成し、可視光の反射率が0.5%以下の反射防止フィルム1〜27を作製した。
The following medium refractive index layer coating solution is applied onto the hard coat films 1 to 27 using a wire bar coater, dried at 70 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer, and the medium refractive index layer. (Refractive index 1.72 and
(中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の作製)
〈二酸化チタン分散物の調製〉
二酸化チタン(一次粒子質量平均粒径:50nm、屈折率:2.70)30質量部、アニオン性ジアクリレートモノマー(PM21、日本化薬(株)製)4.5質量部、カチオン性メタクリレートモノマー(DMAEA、興人(株)製)0.3質量部及びメチルエチルケトン65.2質量部を、サンドグラインダーにより分散し、二酸化チタン分散物を調製した。
(Preparation of medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer)
<Preparation of titanium dioxide dispersion>
Titanium dioxide (primary particle mass average particle size: 50 nm, refractive index: 2.70) 30 parts by mass, anionic diacrylate monomer (PM21, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 4.5 parts by mass, cationic methacrylate monomer ( DMAEA (manufactured by Kojin Co., Ltd.) 0.3 parts by mass and methyl ethyl ketone 65.2 parts by mass were dispersed by a sand grinder to prepare a titanium dioxide dispersion.
〈中屈折率層用塗布液の調製〉
シクロヘキサノン151.9g及びメチルエチルケトン37.0gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.14g及び光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.04gを溶解した。更に、上記の二酸化チタン分散物6.1g及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)2.4gを加え、室温で30分間攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、中屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液をセルロースエステルフィルムに塗布乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率1.72の中屈折率層が得られた。
<Preparation of coating solution for middle refractive index layer>
In 151.9 g of cyclohexanone and 37.0 g of methyl ethyl ketone, 0.14 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0.04 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were dissolved. Further, 6.1 g of the above titanium dioxide dispersion and 2.4 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added and stirred at room temperature for 30 minutes. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution for a medium refractive index layer. When this coating solution was applied to a cellulose ester film and dried and the refractive index after UV curing was measured, a medium refractive index layer having a refractive index of 1.72 was obtained.
〈高屈折率層用塗布液の調製〉
シクロヘキサノン1152.8g及びメチルエチルケトン37.2gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.06g及び光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.02gを溶解した。更に、上記の二酸化チタン分散物及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)の二酸化チタン分散物の比率を増加させ、高屈折率層の屈折率となるように量を調節して、室温で30分間攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、高屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液を、セルロースエステルフィルムに塗布、乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率1.9の高屈折率層が得られた。
<Preparation of coating solution for high refractive index layer>
In 1152.8 g of cyclohexanone and 37.2 g of methyl ethyl ketone, 0.06 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0.02 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were dissolved. Furthermore, the ratio of the above titanium dioxide dispersion and the titanium dioxide dispersion of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) is increased, and the refractive index of the high refractive index layer is increased. The amount was adjusted so as to be a ratio, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a high refractive index layer. When this coating solution was applied to a cellulose ester film, dried and the refractive index after UV curing was measured, a high refractive index layer having a refractive index of 1.9 was obtained.
〈低屈折率層用塗布液の調製〉
平均粒径15nmのシリカ微粒子のメタノール分散液(メタノールシリカゾル、日産化学(株)製)200gにシランカップリング剤(KBM−503、信越シリコーン(株)製)3g及び0.1mol/Lの塩酸2gを加え、室温で5時間攪拌した後、3日間室温で放置して、シランカップリング処理したシリカ微粒子の分散物を調製した。分散物35.04gに、イソプロピルアルコール58.35g及びジアセトンアルコール39.34gを加えた。また、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)1.02g及び光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.51gを772.85gのイソプロピルアルコールに溶解した溶液を加え、更に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)25.6gを加えて溶解した。得られた溶液67.23gを、上記分散液、イソプロピルアルコール及びジアセトンアルコールの混合液に添加した。混合物を20分間室温で攪拌し、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液をセルロースエステルフィルムに塗布、乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率は1.45であった。
<Preparation of coating solution for low refractive index layer>
200 g of methanol dispersion of silica fine particles with an average particle size of 15 nm (methanol silica sol, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), 3 g of silane coupling agent (KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) and 2 g of 0.1 mol / L hydrochloric acid After stirring at room temperature for 5 hours, the mixture was allowed to stand at room temperature for 3 days to prepare a dispersion of silica fine particles treated with silane coupling. To 35.04 g of the dispersion, 58.35 g of isopropyl alcohol and 39.34 g of diacetone alcohol were added. Further, 1.02 g of photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0.51 g of photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) in 772.85 g of isopropyl alcohol were added. Furthermore, 25.6 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was added and dissolved. 67.23 g of the resulting solution was added to the above dispersion, a mixture of isopropyl alcohol and diacetone alcohol. The mixture was stirred for 20 minutes at room temperature and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer. When this coating solution was applied to a cellulose ester film and dried, and the refractive index after UV curing was measured, the refractive index was 1.45.
《偏光板の作製》
上記作製した各反射防止フィルムを用いて、下記の手順に則り偏光板1〜27を作製した。
<Production of polarizing plate>
Polarizers 1 to 27 were prepared according to the following procedure using each of the prepared antireflection films.
厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。 A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. This was washed with water and dried to obtain a polarizing film.
次いで、下記工程1〜5に従って偏光膜と各反射防止フィルム、裏面側のセルロースエステルフィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムには位相差(590nmで測定して、面内リターデーションRo=43nm、厚み方向のリターデーションRt=135nm)を有するセルロースエステルフィルムを用いてそれぞれ偏光板とした。 Subsequently, according to the following processes 1-5, the polarizing film, each antireflection film, and the cellulose ester film of the back side were bonded together, and the polarizing plate was produced. As the polarizing plate protective film on the back surface side, a cellulose ester film having a retardation (measured at 590 nm, in-plane retardation Ro = 43 nm, retardation in the thickness direction Rt = 135 nm) was used as a polarizing plate.
工程1:60℃の2mol/Lの水酸化ナトリウム溶液に90秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。 Step 1: Soaked in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried to obtain a saponified cellulose ester film bonded to the polarizer.
一方、反射防止層を形成したハードコートフィルムの反射防止層側の面は剥離性のポリエチレンフィルムを貼り付けてアルカリから保護しながら上記鹸化処理を行った。 On the other hand, the surface of the anti-reflection layer side of the hard coat film on which the anti-reflection layer was formed was subjected to the saponification treatment while applying a peelable polyethylene film and protecting it from alkali.
工程2:前記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。 Step 2: The polarizing film was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.
工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理したセルロースエステルフィルムの上に載せて、更にハードコートフィルムの反射防止層が外側になるように積層し、配置した。 Step 3: Gently wipe off the excess adhesive adhering to the polarizing film in Step 2 and place it on the cellulose ester film treated in Step 1, so that the antireflection layer of the hard coat film is on the outside Laminated and placed.
工程4:ハンドローラーで工程3で積層した反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料との積層物の端から過剰の接着剤及び気泡を取り除き貼り合わせた。ハンドローラーの圧力は20〜30N/cm2、ローラースピードは約2m/分とした。 Step 4: Excess adhesive and bubbles were removed from the end of the laminate of the antireflection film, the polarizing film, and the cellulose ester film sample laminated in Step 3 with a hand roller and bonded together. The pressure of the hand roller was 20 to 30 N / cm 2 and the roller speed was about 2 m / min.
工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと反射防止フィルムとを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、偏光板を作製した。反射防止フィルム1〜27をそれぞれ用いて、偏光板1〜27を作製した。 Process 5: The sample which bonded the polarizing film produced in the process 4, the cellulose-ester film, and the antireflection film in the 80 degreeC dryer was dried for 2 minutes, and the polarizing plate was produced. Polarizing plates 1 to 27 were prepared using antireflection films 1 to 27, respectively.
(液晶表示装置の作製)
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
(Production of liquid crystal display device)
A liquid crystal panel for viewing angle measurement was produced as follows, and the characteristics as a liquid crystal display device were evaluated.
富士通製15型ディスプレイVL−150SDの予め貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板1〜22をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。 The polarizing plates on both sides of the 15-inch display VL-150SD manufactured by Fujitsu were previously peeled off, and the produced polarizing plates 1 to 22 were each stuck to the glass surface of the liquid crystal cell.
その際、その偏光板の貼合の向きは、光学補償フィルム(位相差フィルム)の面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置1〜27を各々作製した。 At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is such that the surface of the optical compensation film (retardation film) is on the liquid crystal cell side and the absorption axis is in the same direction as the polarizing plate previously bonded. The liquid crystal display devices 1 to 27 were respectively produced.
〔視認性の評価〕
こうして得られた各液晶表示装置について、60℃、90%RHの条件で100時間放置した後、23℃、55%RHに戻し、下記の方法に従って視認性の評価を行った。
[Evaluation of visibility]
Each liquid crystal display device thus obtained was allowed to stand for 100 hours under conditions of 60 ° C. and 90% RH, then returned to 23 ° C. and 55% RH, and visibility was evaluated according to the following method.
視認性の評価は、液晶パネル(液晶表示装置)を目視観察し、斜め方向の視認性を下記基準に則り評価した。 For the evaluation of visibility, the liquid crystal panel (liquid crystal display device) was visually observed, and the visibility in the oblique direction was evaluated according to the following criteria.
◎:反射像の色むらもなく、黒がしまって見え、鮮明であり、像の白抜けも認められない
○:反射像の色むらもなく、黒がしまって見え、鮮明であるが、わずかに像の白抜けが認められる
△:反射像の色むらがやや認められ、黒のしまりがややなく、鮮明さがやや低く、像の白抜けが認められる
×:反射像の色むらが著しく、黒のしまりがなく、鮮明さが低く、像の白抜けが気になる
本発明においては、○、◎が実用可である。
◎: Reflection image has no color irregularity, black appears to be clear and clear, and no white spots in the image are observed ○: Reflection image has no color irregularity, black appears to be crisp and clear, but slightly △: Some uneven color in the reflected image is observed, little black color is observed, the sharpness is slightly low, and there is white defect in the image ×: The color unevenness in the reflected image is remarkable, There are no black spots, the sharpness is low, and the white spots of the image are worrisome. In the present invention, ◯ and ◎ are practical.
以上により得られた結果を表5に示す。 Table 5 shows the results obtained as described above.
表5の結果より明らかなように、本発明の光学フィルムを用いた液晶表示装置は、比較例に対し視認性に優れていることが分る。 As is clear from the results in Table 5, it can be seen that the liquid crystal display device using the optical film of the present invention is superior in visibility to the comparative example.
また、別に、ELDIM社製EZ−contrastにより各液晶表示装置において、視野角を測定した。視野角は、液晶セルの白表示と黒表示時のコントラスト比が10以上を示すパネル面に対する法線方向からの傾き角の範囲で表した。その結果、本発明の光学フィルムを用いて作製した偏光板を組み込んだ本発明の液晶表示装置は、斜め45°方向から測定した時に160°以上の視野角であることが確認された。また、斜め方向から蛍光灯の写りこみがあっても黒がしまって見え、反射光の色ムラもなく、目が疲れることはなかった。それに対して、比較の液晶表示装置5、10、17〜19、21では、細かい波打ち状のムラにより斜め方向からの黒がしまって見えず、反射防止層での反射像に色むらが認められ、加えて視認性に劣り、視野角拡大による視認性改善効果が減退してしまっていた。 Separately, the viewing angle was measured in each liquid crystal display device by EZ-contrast manufactured by ELDIM. The viewing angle was expressed in the range of the tilt angle from the normal direction with respect to the panel surface where the contrast ratio at the time of white display and black display of the liquid crystal cell is 10 or more. As a result, it was confirmed that the liquid crystal display device of the present invention incorporating the polarizing plate produced using the optical film of the present invention has a viewing angle of 160 ° or more when measured from an oblique 45 ° direction. Moreover, even if there was a reflection of a fluorescent lamp from an oblique direction, the black color appeared to appear, there was no uneven color of the reflected light, and the eyes did not get tired. On the other hand, in the comparative liquid crystal display devices 5, 10, 17 to 19, and 21, black from an oblique direction does not appear due to fine wavy unevenness, and color unevenness is recognized in the reflected image in the antireflection layer. In addition, the visibility was inferior, and the effect of improving visibility by expanding the viewing angle had declined.
F 光学フィルム
G 反応ガス
G′ 排ガス
10A、10B、110 回転電極
11A、11B、11C、11D Uターンロール
20、21 ガイドロール
30 反応ガス供給部
40、140 ガス排気口
50、150 放電部
51 整流板
80、180 電源
81、82、181、182 電圧供給手段
111 固定電極
120、121 ガイドロール
122、123 ニップロール
124、125 仕切板
130 給気管
131 反応ガス発生装置
190 プラズマ放電処理容器
F Optical film G Reaction gas G '
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003294237A JP4389517B2 (en) | 2003-08-18 | 2003-08-18 | Manufacturing method of optical film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003294237A JP4389517B2 (en) | 2003-08-18 | 2003-08-18 | Manufacturing method of optical film |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005062594A JP2005062594A (en) | 2005-03-10 |
JP4389517B2 true JP4389517B2 (en) | 2009-12-24 |
Family
ID=34370854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003294237A Expired - Fee Related JP4389517B2 (en) | 2003-08-18 | 2003-08-18 | Manufacturing method of optical film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4389517B2 (en) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4734862B2 (en) * | 2003-08-11 | 2011-07-27 | コニカミノルタオプト株式会社 | Optical film, method for producing optical film, and antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display device using the same |
WO2006101251A1 (en) * | 2005-03-25 | 2006-09-28 | Fujifilm Corporation | Optical film |
JP2010277794A (en) * | 2009-05-27 | 2010-12-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Manufacturing method of organic electroluminescent element |
JP2010278157A (en) * | 2009-05-27 | 2010-12-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same |
JP5609086B2 (en) * | 2009-12-04 | 2014-10-22 | 東レ株式会社 | Polarized reflector |
WO2011114870A1 (en) * | 2010-03-16 | 2011-09-22 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | Production method for organic electroluminescent element |
-
2003
- 2003-08-18 JP JP2003294237A patent/JP4389517B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005062594A (en) | 2005-03-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5038625B2 (en) | Stretched cellulose ester film, hard coat film, antireflection film, optical compensation film, and polarizing plate and display device using them | |
US7125591B2 (en) | Hard coat film, production method of the same, polarizing plate and display | |
US7466377B2 (en) | Retardation film, manufacturing method thereof, polarizing plate and liquid crystal display apparatus | |
KR101454054B1 (en) | Optical film, polarizer and liquid crystal display | |
US20080226888A1 (en) | Cellulose Acylate Film, Polarizing Plate and Liquid Crystal Display Device Using the Same | |
JP2005104148A (en) | Cellulose acylate film and solution film forming method | |
JP2006106714A (en) | Anti-reflection film, polarizing plate and liquid crystal display device | |
JP2005104149A (en) | Cellulose acylate film, solution film forming method thereof and film product | |
JP2002265636A (en) | Cellulose acylate film and method for producing the same | |
JP2005156615A (en) | Anti-glare film, glare-proof antireflection film, method for manufacturing them, polarizing plate and display device | |
JP2005156642A (en) | Antireflection film, polarizing plate, and image display device using the same | |
JP2007091943A (en) | Cellulose acylate film, method for producing the same, optical compensation film, antireflection film, polarizing plate and image displaying device | |
JP4896368B2 (en) | Antiglare antireflection film | |
JP4734862B2 (en) | Optical film, method for producing optical film, and antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display device using the same | |
JP4686247B2 (en) | Polymer film and optical film, polarizing plate and image display device using the same | |
JP2005070744A (en) | Optical film, method for manufacturing optical film, polarizing plate, and display apparatus | |
JP4389517B2 (en) | Manufacturing method of optical film | |
JP2004258469A (en) | Anti-reflection film, manufacturing method therefor, polarizer, and display device | |
JP2005227472A (en) | Polarizing plate, liquid crystal display element, and liquid crystal display device using the same | |
JP2005201986A (en) | Antireflection film, polarizing plate and picture display device | |
JP2005134609A (en) | Antireflection film, method for manufacturing antireflection film, polarizing plate and display device | |
JP2005096095A (en) | Hard coat film and its manufacturing method | |
JP2006227253A (en) | Polarizing plate and liquid crystal display device | |
JP2005157037A (en) | Antireflection film, polarizing plate and image display apparatus | |
JP2010159421A (en) | Cellulose acylate film, polarizing plate using the same, and image display device using the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060721 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090603 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090616 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090812 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090915 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090928 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121016 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121016 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121016 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131016 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |