JP2007065277A - 光学部材の透過率向上方法と、その方法によって透過率を向上させた光学部材 - Google Patents
光学部材の透過率向上方法と、その方法によって透過率を向上させた光学部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007065277A JP2007065277A JP2005251093A JP2005251093A JP2007065277A JP 2007065277 A JP2007065277 A JP 2007065277A JP 2005251093 A JP2005251093 A JP 2005251093A JP 2005251093 A JP2005251093 A JP 2005251093A JP 2007065277 A JP2007065277 A JP 2007065277A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transmittance
- optical member
- irradiation
- dummy irradiation
- dummy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70925—Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning
Landscapes
- Epidemiology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Public Health (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
【課題】 実際のウエハへの露光の際に、紫外線の透過率をほぼ安定した状態に維持することができる、光学部材の透過率向上方法を提供する。
【解決手段】 紫外線用光学レンズをフッ素系化合物で張り合わせた光学部材に対して、一旦低下した透過率が再び増加し始めるまでダミー照射をし、その後、さらに追加的にダミー照射を続行して、透過率がほぼ直線的に増加していって増加傾向から低下傾向へ変化する時点の前後までダミー照射する。たとえば、予め紫外線を2時間以上ダミー照射して、光学部材の透過率を向上させる。そして、ダミー照射後で、かつ、実際のウエハの露光前に、光学部材の透過率を70%以上(好ましくは80%以上)とする。
【選択図】 図3
【解決手段】 紫外線用光学レンズをフッ素系化合物で張り合わせた光学部材に対して、一旦低下した透過率が再び増加し始めるまでダミー照射をし、その後、さらに追加的にダミー照射を続行して、透過率がほぼ直線的に増加していって増加傾向から低下傾向へ変化する時点の前後までダミー照射する。たとえば、予め紫外線を2時間以上ダミー照射して、光学部材の透過率を向上させる。そして、ダミー照射後で、かつ、実際のウエハの露光前に、光学部材の透過率を70%以上(好ましくは80%以上)とする。
【選択図】 図3
Description
本発明は、露光装置等の紫外線光学装置に用いるのに適した光学部材(とくに紫外線用光学レンズをフッ化化合物で貼り合わせた光学部材)の透過率向上方法と、その方法によって透過率を向上させた光学部材に関する。
従来から、露光装置に用いられる紫外線用光学レンズでは、紫外線365nmの透過率が低下していた(特許文献1参照)。
特許文献2においては、露光装置に用いられる紫外線用光学レンズの透過率が、時間の経過とともに一旦低下した後に増加する点に着目して、実際のウエハの露光に先立ち、一旦低下した透過率が再び増加し始める照射時間まで、ダミー照射を行い、その後は、実際のウエハの露光を行うことが提案されている。その実際のウエハの露光を行う際には、照射時間、記憶された透過率の時間変化特性、入射光量計測センサーで計測された光量に基づいて実際のウエハでの光量を計算し、計算した光量を用いて露光量を制御する。ダミー照射時間は、一旦低下した透過率が再び増加し始めるまでの照射時間であるので、ごく短時間で、500秒程度である。
特開平9−80207号公報
再公表WO98/48452号公報
特許文献2においては、いったん低下した透過率が増加に転じるまでダミー照射をするにすぎないので、ダミー照射をした後、実際のウエハへ露光をする際に、図5に示すように、透過率は、ほぼ直線状に増加し続ける。そのため、種々の記憶データや実測データに基いて複雑な計算をして制御しなければならなかった。
本発明の目的は、ダミー照射をした後に、紫外線の透過率が直線状に増加しないようにすることができる、光学部材の透過率向上方法を提供することである。
本発明の解決手段を例示すると、次のとおりである。
(1)紫外線用光学レンズをフッ素系化合物で貼り合わせた光学部材に対して、一旦低下した透過率が再び増加し始めるまでダミー照射をし、その後、さらに追加的にダミー照射をして、透過率がほぼ直線的に増加していった後、直線的な増加傾向を示さなくなる時点までダミー照射することを特徴とする、光学部材の透過率向上方法。
(2)前述の光学部材の透過率向上方法であって、1時間以上、好ましくは2時間以上ダミー照射することを特徴とする、光学部材の透過率向上方法。
(3)前述の光学部材の透過率向上方法であって、ダミー照射のための紫外線は、193nmより短い波長のものであることを特徴とする光学部材の透過率向上方法。
(4)前述の光学部材の透過率向上方法において、ダミー照射を透過率の増加傾向から低下傾向への転換点の前後で終了することを特徴とする光学部材の透過率向上方法。
(5)前述の光学部材の透過率向上方法によってダミー照射された後の透過率が70%以上、好ましくは80%以上であることを特徴とする光学部材。
本発明によれば、紫外線用の光学部材に対して、一旦低下した透過率が再び増加し始めるまでダミー照射をし、その後、さらに追加的にダミー照射をして、透過率がほぼ直線的に増加していって、直線的な増加傾向を示さなくなる時点まで(好ましくは増加傾向から低下傾向へ変化する転換時点の前後まで)ダミー照射するので、たとえば、1〜2時間以上ダミー照射するので、実際のウエハへの照射の際に、透過率が直線的に増加することはなく、その後、ほぼ安定した状態が維持される。
実際のウエハへの照射の際に、そのように透過率が安定していると、制御範囲が狭い範囲ですみ、露光量その他の制御が簡単かつ容易になる。
本願発明者は、鋭意研究した結果、1〜2時間程度ダミー照射をすれば、紫外線用光学部材の紫外線の透過率は直線的な増加傾向を示さなくなり、その後、ほぼ安定するという知見を得た。
本発明は、このような知見に基いて光学部材の透過率向上方法を改良したものである。
本発明の1つの実施形態においては、紫外線用光学レンズをフッ素系化合物で張り合わせた光学部材に対して、一旦低下した透過率が再び増加し始めるまでダミー照射をし、その後、さらに追加的にダミー照射を続行して、透過率が直線的に増加しなくなるまでダミー照射をする。
追加的なダミー照射の終了時点は、透過率が直線的な増加傾向を示さなくなる時点か、あるいは、それ以降の適当な時点とする。好ましくは、直線的な増加傾向が終了し、続いて曲線的な増加傾向を示し、やがて若干低下傾向を示すように変化する時点の前後、つまり増加傾向から低下傾向への転換点の前後に、例えば、その転換点の前後120分、好ましくは60分以内に、ダミー照射を終了する。
好ましい実施形態においては、紫外線を光学部材に1時間以上、より好ましくは2時間以上ダミー照射することにより、実際のウエハの露光前に、紫外線用光学レンズをフッ化化合物で張り合わせた光学部材の透過率を70%(好ましくは80%)に向上させる。
ダミー照射の紫外線は、193nmより短い波長のものであることが好ましい。
図1に示す第1実施例においては、フッ素系オイル1(又はフッ素系オイルと可溶性フッ素樹脂との混合物1)をセル2内に内封する。このセル2は、複数枚の合成石英(SiO2)製の光学素子を箱状に貼りあわせて作ったものである。セル2の厚みは、全体的に10mmである。
また、図2に示す第2実施例においては、板状の合成石英(SiO2)製の第1光学素子3と板状の蛍石(CaF2)製の第2光学素子4を平行に配置し、それらの光学素子3,4の間にフッ素系オイル5(又はフッ素系オイルと可溶性フッ素樹脂との混合物5)を設け、それをシール材6によって内封している。シール材6の厚みは10mmである。
前述の図1および図2の光学部材のそれぞれに紫外線領域(深紫外線領域を含む)のArFエキシマレーザを矢印の方向に照射して、所定の時間にわたってダミー照射をする。
また、図3は、図1の光学部材を用い、紫外線の照射を開始した時点から4時間後までの透過率の変化を測定した結果の光学特性を示す。
本発明の前述の第1および第2実施例においては、紫外線の照射を開始した時点から2時間後までの照射が、ダミー照射であり、それ以降は、実際のウエハへの露光である。
ダミー照射の時間が1時間くらいまでは、図3に破線で示すように、透過率はほぼ直線的に増加するが、その後は、直線的な増加傾向を示さなくなり、図3に実線で示すように、曲線的な増加傾向を示すようになる。2時間くらいダミー照射をすると、紫外線の透過率は、低下傾向を示すように変化する。このような増加傾向から低下傾向へ転ずる転換点以降は、小さな変動はあるものの、透過率は、70%以上(好ましくは80%以上)でほぼ安定した状態が維持される。
図4は、同じ図1の光学部材を用い、紫外線を75時間ダミー照射した後に透過率を測定した結果の光学特性を示す。図4には、それと対比して、紫外線のダミー照射をせずに、透過率を測定した結果の光学特性が示されている。
図4から明らかなように、紫外線を予備的に75時間ダミー照射した後の紫外線の透過率は、波長185〜290nmにおいて70%以上で安定しており、とくに波長230nm以上の領域では80%以上で安定している。
透過率が70%程度であるのは、フッ素系オイルの厚さが10mm(ミリメートル)と厚いためである。これは透過率の変化がよく分かるようにオイルの厚さを厚くすることによって、透過率の変化を検出する感度を高めるためである。
実際の貼り合せレンズでは、10μm(マイクロメータ)程度にするのが通常である。従って、実際の貼り合せレンズでの透過率は、90%以上になることは確実である。
以上からも明らかなように、2時間程度予めダミー照射をすることにより、紫外線の透過率は、少なくとも70%以上でほぼ安定した状態に保たれる。
深紫外線について述べる。
深紫外線用光学レンズの光学部材の透過率を向上させれば、深紫外線を用いた露光装置に使用しても、充分に露光に耐えうるものとなる。
対物レンズ系は、色収差の補正のために、屈折率が異なった光学材料で作製したレンズを接着する。特に、半導体マスクの欠陥を検査する装置の対物レンズなどではその検出精度から深紫外線が用いられるようになってきている。しかし、レンズを透過する光が深紫外線の場合には、その深紫外線のエネルギーにより、接着剤が劣化して、剥離や黄変が生じるために、耐久性がある接着は不可能であった。そのため、レンズを単品で組み合わせて求める光学性能を得ることとなるが、特に、レンズ間はサブミクロン精度で調整しなくてはいけないため、光学性能を満足することはかなり難しい。これに対して、仮に接着が可能となると次のような多くのメリットがある。
(1)レンズ接着面の面精度がラフで良い。
◎製造コストが安価になる。
◎歩留まりが上がる。
(2)レンズ間調整がラフで良い。
◎光学性能を得やすい。
(3)組みたて偏心精度がラフで良い。
◎光学性能が得やすい。
(4)レンズを小径で使用枚数を少なくできる。
◎小型、軽量化ができる。
さらに、光源としてのメリットは、次のとおりである。
(5)使用するレーザを極端に狭帯域化せずに良好な結像系を得ることができる。
◎光源コストが安価になる。
以上のような理由から、使用波長が深紫外線域でも経時的に耐久性がある接着方法を開発することにしたのである。
フッソオイルについて述べる。
有機物質の中から、表1を考慮して、この波長域で耐久性がある物質を選定することは非常に困難であるが、強いて言うとフッソ系物質が可能であると考えられる。フッソ系物質の中から、フッソオイルを屈折率マッチング液として用い、このオイルを封止するとともにレンズを偏心調整し、固定するためにレンズ周辺にシーリング剤を使用することが好ましい。
198nmまでレーザー耐久性がある物質を選定することが好ましい。
フッソオイルの照射試験について述べる。
ArFレーザーによる照射試験において、キャピラリー付き円筒ガラス輪の両面に円板状の螢石と合成石英ガラスを金物で押さえつけてオイルセルを作製した。
短時間で照射試験を行った結果、表3のD社製フッソオイルが良好な結果を示したため、継続してArFレーザー、パワー300mw/cm2で照射した。
その結果の透過率変化を図6に示す。
初期にはフッソオイルの残留モノマーにより250nm以下に大きな吸収がある。しかし、深紫外線を照射することにより残留モノマーが分解して吸収がなくなり透過率が向上する。残留モノマーがなくなった後は、フッソオイルはσ結合からのみ形成されていること、また、密閉されているため空気つまり酸素から遮断されていることから、深紫外線を照射してもフッソオイルは分解することなく1,100時間も安定して存在するため透過率に変化はないと予想できる。
そこで、フッソオイルとレンズ材料の螢石と合成石英を脱水処理を施し、さらに、作業環境も可能な限り低湿度とした。
この対策により、石英ガラス表面がエッチングされる現象はなくなった。
1 フッ素系オイル(又は、フッ素系オイルと可溶性フッ素樹脂との混合物)
2 合成石英(SiO2)製セル
3 合成石英(SiO2)製の第1光学素子
4 蛍石(CaF2)製の第2光学素子
5 フッ素系(又はオイルと可溶性フッ素樹脂との混合物)
6 シール材
2 合成石英(SiO2)製セル
3 合成石英(SiO2)製の第1光学素子
4 蛍石(CaF2)製の第2光学素子
5 フッ素系(又はオイルと可溶性フッ素樹脂との混合物)
6 シール材
Claims (5)
- 紫外線用光学レンズをフッ素系化合物で貼り合わせた光学部材に対して、一旦低下した透過率が再び増加し始めるまでダミー照射をし、その後、さらに追加的にダミー照射をして、透過率がほぼ直線的に増加していった後、直線的な増加傾向を示さなくなる時点までダミー照射することを特徴とする、光学部材の透過率向上方法。
- 請求項1に記載の光学部材の透過率向上方法であって、1時間以上、好ましくは2時間以上ダミー照射することを特徴とする、光学部材の透過率向上方法。
- 請求項1又は2に記載の光学部材の透過率向上方法であって、ダミー照射のための紫外線は、193nmより短い波長のものであることを特徴とする光学部材の透過率向上方法。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学部材の透過率向上方法において、ダミー照射を透過率の増加傾向から低下傾向への転換点の前後で終了することを特徴とする方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学部材の透過率向上方法によってダミー照射された後の透過率が70%以上、好ましくは80%以上であることを特徴とする光学部材。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005251093A JP2007065277A (ja) | 2005-08-31 | 2005-08-31 | 光学部材の透過率向上方法と、その方法によって透過率を向上させた光学部材 |
NL1032193A NL1032193C2 (nl) | 2005-08-31 | 2006-07-18 | Werkwijze voor het verbeteren van transmissievermogen van optisch onderdeel en optisch onderdeel, waarvan het transmissievermogen daardoor wordt verbeterd. |
DE200610042634 DE102006042634A1 (de) | 2005-08-31 | 2006-08-31 | Verfahren zum Verbessern der Transmission eines optischen Elements und ein optischen Element, dessen Transmission dadurch verbessert ist |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005251093A JP2007065277A (ja) | 2005-08-31 | 2005-08-31 | 光学部材の透過率向上方法と、その方法によって透過率を向上させた光学部材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007065277A true JP2007065277A (ja) | 2007-03-15 |
Family
ID=37704544
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005251093A Pending JP2007065277A (ja) | 2005-08-31 | 2005-08-31 | 光学部材の透過率向上方法と、その方法によって透過率を向上させた光学部材 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007065277A (ja) |
DE (1) | DE102006042634A1 (ja) |
NL (1) | NL1032193C2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IL132431A0 (en) * | 1997-04-18 | 2001-03-19 | Nikon Corp | Method and device for exposure control method and device for exposure and method of manufacture of device |
JP2004331487A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-11-25 | Topcon Corp | 光学部材とその製造方法 |
JP2005064045A (ja) * | 2003-08-13 | 2005-03-10 | Nikon Corp | 光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
-
2005
- 2005-08-31 JP JP2005251093A patent/JP2007065277A/ja active Pending
-
2006
- 2006-07-18 NL NL1032193A patent/NL1032193C2/nl not_active IP Right Cessation
- 2006-08-31 DE DE200610042634 patent/DE102006042634A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL1032193A1 (nl) | 2007-03-01 |
DE102006042634A1 (de) | 2007-03-01 |
NL1032193C2 (nl) | 2007-08-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5462892B2 (ja) | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた水溶液分光測定装置 | |
Rothschild et al. | 157 nm: Deepest deep-ultraviolet yet | |
WO2014135547A1 (en) | Synthetic diamond optical elements | |
US11703634B2 (en) | Mounted hollow-core fiber arrangement | |
JP2008041740A (ja) | 反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク及び極端紫外線の露光方法 | |
JP2007250613A (ja) | 反射型マスクブランク、反射型マスク及び極端紫外線の露光方法 | |
JP4958220B2 (ja) | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた水溶液分光測定装置 | |
JP4946136B2 (ja) | 極端紫外線露光用マスクブランク及び極端紫外線露光用マスク並びにパターン転写方法 | |
EP3786701B1 (en) | End facet protection for a light source and a method for use in metrology applications | |
JP2007065277A (ja) | 光学部材の透過率向上方法と、その方法によって透過率を向上させた光学部材 | |
JP4900656B2 (ja) | 反射型マスクブランク、反射型フォトマスク、及び反射型フォトマスクの製造方法 | |
TWI788937B (zh) | 空芯光纖光源及製造空芯光纖的方法 | |
JP4352133B2 (ja) | 隣接した光学部品の接着法 | |
JP2002003227A (ja) | 光学素子の製造方法、光学素子、および該光学素子を用いた光学系、光学装置、デバイス製造方法とデバイス | |
CN103018206B (zh) | 深紫外氟化物薄膜元件污染物吸附能力的分析方法 | |
JP2009200491A (ja) | 液浸紫外線フォトリソグラフィ方法 | |
EP4001976A1 (en) | Hollow core fiber light source and a method for manufacturing a hollow core fiber | |
JP6148112B2 (ja) | 光透過度測定方法 | |
JP2005031076A (ja) | 合成石英ガラスのパルスレーザー耐性を定量的に決定する方法 | |
KR102200548B1 (ko) | 광섬유형 수소센서용 팔라듐이 도핑된 탄소박막, 이를 포함하는 광섬유형 수소센서 및 이의 제조방법 | |
ATE557390T1 (de) | Optisches speichermedium mit superauflösungsstruktur mit körnigen unreinheiten eines dielektrischen materials | |
Pawlat et al. | Photonic bandgap fibre based gas sensing: current status and future possibilities | |
US11555948B2 (en) | Synthetic diamond optical elements | |
EP3858572A1 (en) | Master plate, master plate manufacturing method, and transfer body manufacturing method | |
US20100149500A1 (en) | Projection lens for microlithography and corresponding terminal element |