JP2007058019A - 液晶装置および電子機器 - Google Patents
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【解決手段】 少なくとも透過表示領域Tにおける液晶層50の配向状態を初期的にスプレイ配向からベンド配向へと転移させて表示を行うOCBモードの液晶装置100であって、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの間に設けられた液晶層厚調整層24の傾斜部70の形成領域に、液晶層50の初期転移構造として、切り欠きや突起等が設けられている構成とした。
【選択図】 図3
Description
また、表示品質に優れた電子機器の提供を目的とする。
一般に液晶層厚調整層の傾斜部では、液晶分子が傾斜配向し斜め電界が発生するので、平坦部に比べて配向状態が乱れやすい。すなわち、液晶層厚調整層の傾斜部は、表示動作時における表示品質の向上に寄与していない。そこで、その液晶層厚調整層の傾斜部に初期転移構造を設けることにより、その初期転移構造の周辺にディスクリネーションが残っても、表示動作時における表示品質の低下を最小限に抑えることができる。そして、そのような傾斜部に初期転移構造を設けることにより、他の部分に初期転移構造を設ける場合と比べて、ディスクリネーションを発生させることが容易になる。したがって、初期転移動作を円滑に行うことができる。
この構成によれば、反射表示領域と透過表示領域との間で液晶分子の配向膜を作り分ける必要がないので、製造コストを低減することができる。
この構成によれば、反射表示領域の初期転移動作が不要になるので、初期転移動作を円滑に行うことができる。
この構成によれば、初期転移電圧の印加により様々な方向の斜め電界を発生させることが可能になる。これにより、傾斜部の表面にディスクリネーションを発生させることが可能になり、初期転移動作を円滑に行うことができる。
この構成によれば、初期の液晶分子を様々な方向に傾斜配向させることが可能になり、また初期転移電圧の印加により様々な方向の斜め電界を発生させることが可能になる。これにより、傾斜部の表面にディスクリネーションを発生させることが可能になり、初期転移動作を円滑に行うことができる。
一般に液晶層厚調整層の傾斜部では、液晶分子の配向状態が乱れやすく、表示品質が低下しやすい。そこで、傾斜部を反射表示領域に配置することにより、透過表示を重視した液晶装置を提供することができる。
この構成によれば、反射表示を重視した液晶装置を提供することができる。
この構成によれば、初期転移構造の周辺にディスクリネーションが残っても、そのディスクリネーションに起因する光漏れを防止することができる。したがって、表示品質の低下を最小限に抑えることができる。
この構成によれば、信号線の周囲に発生した電界を傾斜部に及ぼすことが可能になり、傾斜部にディスクリネーションを発生させることが容易になる。したがって、初期転移動作を円滑に行うことができる。また、初期転移構造の周辺にディスクリネーションが残っても、そのディスクリネーションに起因する光漏れを防止することができる。したがって、表示品質の低下を最小限に抑えることができる。
上述した液晶装置は、表示品質の低下を最小限に抑えつつ、OCBモードの初期転移動作を円滑に行うことができるので、表示品質に優れた電子機器を提供することができる。
なお本明細書では、液晶装置の各構成部材における液晶層側を内側と呼び、その反対側を外側と呼ぶことにする。また、画像表示の最小単位となる表示領域を「ドット領域」と呼び、各色カラーフィルタを備えた複数のドット領域の集合を「画素領域」と呼ぶ。また、ドット領域の内部において、液晶装置の表示面側から入射する光を利用した表示が可能な領域を「反射表示領域」と呼び、液晶装置の背面側(前記表示面と反対側)から入射する光を利用した表示が可能な領域を「透過表示領域」と呼ぶ。また、「非選択電圧印加時」および「選択電圧印加時」とは、それぞれ「液晶層への印加電圧が液晶のしきい値電圧近傍である時」および「液晶層への印加電圧が液晶のしきい値電圧に比べて十分高い時」を意味しているものとする。
最初に、本発明の第1実施形態に係る液晶装置につき、図1ないし図3を用いて説明する。第1実施形態に係る液晶装置100は、図2に示すように、スイッチング素子として薄膜ダイオード(Thin Film Diode;以下「TFD」という。)素子13を採用したアクティブマトリクス型の液晶装置である。また図3に示すように、観察者側に配置されたTFDアレイ基板(以下「素子基板」という。)10と、光源側に配置された対向基板20と、素子基板10および対向基板20に挟持された液晶層50と、対向基板20側に設けられ素子基板10側から入射した光を反射する反射膜27と、その反射膜27が存在する反射表示領域Rにおける液晶層50の厚さを、反射膜27が存在しない透過表示領域Tにおける液晶層50の厚さよりも小さくするための液晶層厚調整層24とを有する、半透過反射型の液晶装置である。
図1は、TFD素子を用いた液晶装置の等価回路図である。この液晶装置100には、走査信号駆動回路104により駆動される複数の走査線8と、データ信号駆動回路101により駆動される複数のデータ線9とが、格子状に配置されている。その各走査線8と各データ線9との交点付近には、それぞれTFD素子13および液晶表示要素(液晶層)50が配置されている。これらの各TFD素子13および各液晶層50は、各走査線8と各データ線9との間に直列接続されている。
図2は、TFD素子を用いた液晶装置の表示領域の部分斜視図である。本実施形態の液晶装置100は、観察者側に配置された素子基板10と、光源側に配置された対向基板20と、一対の基板10,20の間に挟持された図示略の液晶層とを主体として構成されている。なお観察者側に対向基板20を配置し、光源側に素子基板10を配置してもよい。
図3は第1実施形態に係る液晶装置の説明図であり、図3(a)は図3(b)のB−B線に沿う断面図であり、図3(b)は図3(a)のA−A線に沿う平面図である。
図3(a)に示すように、対向基板20の内側には、表面に凹凸を有する樹脂層26が設けられている。この樹脂層26は、画像表示単位となるドット領域の長手方向の一方端部に形成されている。その樹脂層26の表面には、AlやAg等の高反射率の金属材料からなる反射膜27が形成されている。この反射膜27の表面には凹凸が形成されるので、素子基板10側からの入射光を散乱しつつ反射しうるようになっている。その反射膜27が形成された対向基板20の内側には、ドット領域ごとに異なる色光を透過するカラーフィルタを備えたCF層22が設けられている。
上述したように、OCBモードの液晶装置の場合、電源遮断時の液晶はスプレイ配向であるため、電源投入時にある閾値電圧以上の電圧を液晶に印加することによって、図4(b)に示す初期のスプレイ配向から、図4(a)に示す表示動作時のベンド配向に液晶の配向状態を転移させる、いわゆる初期転移操作が必要となる。ここで、初期転移が十分になされないと表示不良が生じたり、所望の高速応答性が得られなかったりする。
次に、第2実施形態に係る液晶装置につき、図7ないし図9を用いて説明する。
第2実施形態に係る液晶装置は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;以下「TFT」という。)素子を採用したアクティブマトリクス型の液晶装置である点で、TFD素子を採用した第1実施形態とは異なっている。そして図9(a)に矢印19aで示すように、配向膜のラビング処理が信号線の延在方向と交差する方向に施されている点で、信号線の延在方向と平行に施されている第1実施形態と異なっている。なお第1実施形態と同様の構成となる部分については、その詳細な説明を省略する。
図7に示すように、本実施形態の液晶装置100では、TFTアレイ基板(以下「素子基板」という。)10と対向基板20とがシール材52によって貼り合わされ、このシール材52によって区画された領域内に液晶層50が封入されている。シール材52の外側の周辺回路領域には、データ信号駆動回路101および外部回路実装端子102が素子基板10の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する2辺に沿って走査信号駆動回路104が形成されている。また、対向基板20の角部においては、素子基板10と対向基板20との間で電気的導通をとるための基板間導通材106が配設されている。
図8は、TFT素子を用いた液晶装置の等価回路図である。液晶装置の画像表示領域には、データ線6aおよびゲート線3aが格子状に配置され、両者の交点付近には、画像表示単位であるドットが配置されている。マトリクス状に配置された複数のドットには、それぞれ画素電極15が形成されている。その画素電極15の側方には、当該画素電極15への通電制御を行うためのスイッチング素子であるTFT素子13が形成されている。このTFT素子13のソースには、データ線6aが電気的に接続されている。各データ線6aには画像信号S1、S2、‥、Snが供給される。
図9は第2実施形態に係る液晶装置の説明図であり、図9(a)は図9(b)のF−F線に沿う平面図であり、図9(b)は図9(a)のE−E線に沿う断面図である。図9(b)に示すように、本実施形態の液晶装置100は、光源側に配置された素子基板10と、観察者側に配置された対向基板20と、素子基板10および対向基板20に挟持された液晶層50と、素子基板10側に設けられ対向基板20側から入射した光を反射する反射膜(反射電極)15rと、その反射膜15rが存在する反射表示領域Rにおける液晶層50の厚さを、反射膜15rが存在しない透過表示領域Tにおける液晶層50の厚さよりも小さくするための液晶層厚調整層24とを有する、半透過反射型の液晶装置である。
また、液晶層50の厚さ(セルギャップ)を規制するため、フォトスペーサ59が形成されている。
第2実施形態における初期転移操作としては、ゲート線を線順次にONしつつ、画素電極15と共通電極25との間に15V程度のパルス電圧を印加する。この初期転移電圧の印加によりドット領域にディスクリネーションを発生させれば、初期転移動作を円滑に行うことができる。そのため第2実施形態でも、液晶層厚調整層24の傾斜部70に初期転移構造を形成する。
次に、第3実施形態に係る液晶装置につき、図10を用いて説明する。
図10(a)および図10(b)は、図9(a)のE−E線に相当する部分における側面断面図である。なお図10には、理解を容易にするため、液晶層50に近接する機能層のみを記載している。第3実施形態に係る液晶装置100は、透過表示領域TがOCBモードで動作し反射表示領域RがR−OCBモードで動作する点で、透過表示領域Tおよび反射表示領域RともにOCBモードで動作する第2実施形態とは異なっている。なお上記各実施形態と同様の構成となる部分については、その詳細な説明を省略する。
次に、第4実施形態に係る液晶装置につき、図11を用いて説明する。
図11は第4実施形態に係る液晶装置の説明図であり、図11(a)は図11(b)のN−N線に沿う平面図であり、図11(b)は図11(a)のM−M線に沿う断面図である。図11(b)に示すように、第4実施形態に係る液晶装置100は、液晶層厚調整層24の傾斜部70と平面的に重なるようにゲート線3aが配置されている点で、ドット領域の外側にゲート線が配置されている第2実施形態とは異なっている。なお上記各実施形態と同様の構成となる部分については、その詳細な説明を省略する。
図11(a)に示すように、そのゲート線3aは、画素電極15を横断するように配置されている。そのゲート線3aとデータ線6aとの交点付近に画素電極15の切り欠き部が形成され、その切り欠き部にTFT素子13が形成されている。そのTFT素子13のドレインは、コンタクトホール14を介して、画素電極15に接続されている。
図12は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。図12に示す携帯電話1300は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。本発明の液晶装置は、表示品質の低下を最小限に抑えつつ、OCBモードの初期転移動作を円滑に行うことができるので、表示品質に優れた携帯電話1300を提供することができる。
Claims (10)
- 互いに対向配置され液晶層を挟持する一対の基板と、前記一対の基板のうち一方の前記基板に設けられ他方の前記基板側から入射した光を反射する反射膜と、反射表示領域における前記液晶層の厚さを透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも小さくする液晶層厚調整層とを有し、
少なくとも前記透過表示領域における前記液晶層の動作モードがOCBモードである液晶装置であって、
前記反射表示領域と前記透過表示領域との間に設けられた前記液晶層厚調整層の傾斜部の形成領域に、前記液晶層の初期転移構造が設けられていることを特徴とする液晶装置。 - 前記反射表示領域における前記液晶層の動作モードは、OCBモードであることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
- 前記反射表示領域における前記液晶層の動作モードは、R−OCBモードであることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
- 前記初期転移構造は、前記液晶層に電圧を印加する電極に形成されたスリットおよび/または切り欠きであることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の液晶装置。
- 前記初期転移構造は、前記液晶層に電圧を印加する電極の表面、または前記電極の下に形成された突起であることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の液晶装置。
- 前記傾斜部は、前記反射表示領域に設けられていることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の液晶装置。
- 前記傾斜部は、前記透過表示領域に設けられていることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の液晶装置。
- 前記傾斜部と平面的に重なる領域に、遮光膜が形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の液晶装置。
- 前記傾斜部と平面的に重なる領域に、前記液晶層を駆動する信号線が形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の液晶装置。
- 請求項1ないし請求項9のいずれかに記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
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