JP2007029518A - トリートメント装置 - Google Patents

Abstract

【課題】複数の種類の美容処理を身体の皮膚面に相乗的に作用させることで、優れた美容処理効果を得る。
【解決手段】トリートメント装置１は、皮膚面に接触させるヘッド部３と、このヘッド部３に設けられたイオン導入用の美容処理電極７、８と、ヘッド部３を接触させた皮膚面を叩き部５ａ、５ｂ、５ｃにより叩くタッピング機構１５とを備える。したがって、トリートメント装置１によれば、皮膚面を叩きつつイオン導入を行えることで、水溶性の有効成分を皮膚内部に効果的に浸透させることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、身体の顔や手脚などの皮膚面に美容処理を施すためのトリートメント装置に関する。

超音波振動子が内蔵された皮膚面接触用のプローブと超音波振動子に高周波のパルス電流を供給するパルス発生回路とを備え、この超音波振動させたプローブによって皮膚面を刺激することで、美容処理を実現する美容処理装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

このような美容処理装置は、顔や手脚の皮膚面に対し超音波振動を付与することで、皮膚表層の殺菌作用、毛穴に付着した皮脂や化粧液の残留物などを除去する清浄化作用、皮膚表層の血行を促進し皮膚組織を活性化させることや筋肉の緊張を解してシミ、シワを除去する作用など、各種美肌効果を発揮する。
特許第３３１２１１２号公報

しかしながら、超音波振動を利用する上記文献の装置では、身体に付与される美容処理効果が必ずしも十分ではなく、この種の装置に対して美容処理効果のさらなる向上が求められている。

そこで本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、複数の種類の美容処理を身体に相乗的に作用させることなどで、優れた美容処理効果を得ることができるトリートメント装置の提供を目的とする。

上記目的を達成するために、本発明に係るトリートメント装置は、皮膚面に接触させるヘッド部と、前記ヘッド部に設けられたイオン導入用の電極と、前記ヘッド部を接触させた皮膚面を叩くタッピング機構と、を具備することを特徴とする。

すなわち、この発明では、皮膚面を叩くタッピング機構により動的な刺激を美容処理対象の皮膚面に付与できることに加え、皮膚面を叩きつつイオン導入を行えることで、水溶性の有効成分を皮膚内部に効果的に浸透させることができる。したがって、この発明によれば、美容液などの皮膚内部への浸透作用を高めることができるとともに、複数の種類の美容処理を身体に相乗的に作用させることができるので、優れた美容処理効果を期待できる。

また、本発明に係るトリートメント装置は、前記イオン導入用の電極を、皮膚面に通電による電気的な刺激を付与する通電刺激用電極として機能させる通電刺激機構を備えることを特徴とする。
つまり、この発明によれば、皮膚面を叩くことによる機械的な刺激と、皮膚面に対しての通電による電気的な刺激との相乗的な作用によって、より高い美肌処理効果を得ることができる。

ここで、上述した発明のタッピング機構は、例えば、前記ヘッド部の先端部分に進退移動可能に保持された叩き部と、前記叩き部を駆動するソレノイド又はボイスコイルを含む磁気回路とによって実現される。

また、これに代えて、前記タッピング機構は、前記ヘッド部の先端面から突出及び埋没する叩き部を先端部分に備える進退移動可能なタッピングシャフトと、前記タッピングシャフトをその先端側に付勢する付勢部材と、前記タッピングシャフトに固定されたカムフロアと、前記カムフロアと係合して、前記付勢部材の付勢力に抗しつつ前記タッピングシャフトの進退動作を制御するカムと、を備えるものであってもよい。さらに、前記タッピング機構は、前記タッピングシャフトを複数備え、前記カムが、個々のタッピングシャフトを互いに所定の位相差をもたせて進退動作させるものであってもよい。また、前記タッピング機構として圧電振動子を適用することで、この圧電振動子から超音波を出力させ、これにより皮膚をタッピングさせることもできる。
この他、前記タッピング機構として、低周波域から高周波域まで出力できる電圧加圧手段を適用し、皮膚に振動を付与するようにしてもよい。また、例えばモータの回転軸に楕円形状のカムなどを固定し、このカムによって駆動されるカムシャフトなどを用いてタッピング機構を構成してもよいし、さらには、このようなモータ、カム、カムシャフト間の駆動力の伝達にギアなどを付加して、タッピング機構を構成することも可能である。さらには、偏心モータやシリンダなどを用いてタッピング機構を構成することもできる。

このように本発明によれば、複数の種類の美容処理を身体に相乗的に作用させることなどで、優れた美容処理効果を得ることが可能なトリートメント装置を提供することができる。

以下、本発明を実施するための最良の形態を図面に基づき説明する。
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施形態に係るトリートメント装置を示す斜視図、図２は、このトリートメント装置を示す側面図、図３は、図１のトリートメント装置を示す背面図である。また、図４は、図１のトリートメント装置に内蔵されたカバーキャップの取り付けられた状態のタッピング機構を示す側面図、図５は、図１のトリートメント装置に内蔵されたカバーキャップの取り外された状態のタッピング機構を示す側面図である。さらに、図６は、図５のタッピング機構の主要部を詳細に示す斜視図、図７は、図１のトリートメント装置の制御系を機能的に示すブロック図である。

本実施形態のトリートメント装置１は、主に、顔や手脚などの皮膚面に美肌処理（美肌トリートメント）を施すためのハンディタイプの美容処理装置であって、皮膚面を叩くタッピング機能と、イオン導入機能と、通電刺激（低周波刺激）機能とを実現する。図１ないし図３に示すように、このトリートメント装置１は、ほぼ円柱を扁平させたかたちのケーシング２によってその筐体部分が形成されている。ケーシング２には、ユーザが手で持つハンドリング部２ａがその一端部に設けられており、さらにその最端部には、ケーシング２に内蔵された充電池又は装置本体側に商用電源からの電力を供給するための端子部６が設けられている。また、ケーシング２の他端部には、トリートメント対象の皮膚面に接触させて用いるヘッド部３が設けられている。

このヘッド部３には、イオン導入用の電極及び通電刺激用の電極を兼用する美容処理電極７、８と、当該ヘッド部３の先端面を接触させた皮膚面を叩き部５ａ、５ｂ、５ｃを通じて叩くタッピング機構１５とが設けられている。また、図３に示すように、ケーシング２のハンドリング部２ａにおける背面部分には、ユーザの手のひらと接触するグリップ（把持）電極９が設けられている。さらに、このケーシング２の背面部分には、図３及び図７に示すように、主電源のＯＮ／ＯＦＦや各種設定を行うための入力操作部３０と、この入力操作部３０によって設定されたトリートメント装置１の動作モードなどを表示する表示ランプ１０とが設けられている。この実施形態では、表示ランプ１０は、上記したタッピング機構１５の動作時に点灯し非動作時に消灯する。この入力操作部３０としては、主電源のＯＮ／ＯＦＦ及びタッピング機能のＯＮ／ＯＦＦを行うとともに、イオン導入機能と通電刺激（低周波刺激）機能とを選択的に切り替える電源・モード選択ボタン１４と、選択した動作モードでの供給電流や、またタッピング力（叩き力）のレベルを可変する調整ボタン１１、１２とが用意されている。

ここで、トリートメント装置１の制御系について主に図７に基づきその説明を行う。
すなわち、トリートメント装置１は、タッピング駆動回路３４と、イオン導入回路３３と、低周波供給回路３２と、入力操作部３０を介してのユーザからの入力操作に基づいて、各部を統括的に制御するコントローラ３１とを備える。

イオン導入回路３３は、ユーザからの入力操作によってイオン導入モードに設定されると、コントローラ３１の制御下において、美容処理電極７、８をイオン導入用の電極（水溶性の有効成分を挟んで皮膚面と接触する側の電極）として機能させる（選択する）一方、グリップ電極９をイオン導入のための主にアース電極として機能させる（選択する）。つまり、イオン導入回路３３は、美容処理電極７、８とグリップ電極９との間に電圧を印加しイオン導入機能を実現する。

さらに、低周波供給回路３２は、ユーザからの入力操作により通電刺激（低周波刺激）モードに設定された場合、コントローラ３１の制御下で、美容処理電極７と美容処理電極８とを選択して、これらの電極間に所定の電圧を印加する。この通電刺激モードでは、皮膚面にそれぞれ接触させた美容処理電極７と美容処理電極８との間に、低周波の微弱電流が供給され、各電極を接触させた皮膚面には、通電による低周波の電気的な刺激が付与され美肌処理効果が得られる。ここで、低周波供給回路３２は、例えば周波数が３０Ｈｚ〜１ｋＨｚで、さらに電流値が１ｍＡ〜１００ｍＡのパルス電流などを美容処理電極７、８を接触させた皮膚面に供給することが可能である。

また、上記したイオン導入機能について詳述すると、本実施形態のトリートメント装置１では、皮膚内部にイオン導入すべき化粧水や美容液などの水溶性の有効成分を含浸させた例えばコットン製の美肌シートなどを適用してもよい。また、美肌シートを用いずに、顔に化粧水や美容液を塗り、その上からヘッド部３を押し当てて水溶性の有効成分を顔の肌面に浸透させるようにしてもよい。ここで、有効成分とは、例えばプロビタミンＣなどが例示され、ジェル状のものなどが好適である。

入力操作部３０を通じてイオン導入機能が選択されている場合、コントローラ３１の制御下で、イオン導入回路３３は、美容処理電極７、８がマイナス極（負極）、グリップ電極９がプラス極（正極）になるように電圧を印加するマイナスモードと、美容処理電極７、８がプラス極（正極）、グリップ電極９がマイナス極（負極）になるように電圧を印加するプラスモードとを少なくとも実行することが可能である。

ここで、マイナスモードにおいて、電圧印加の形態を美容処理電極７、８を基準に説明すると、連続的なマイナス直流電圧（負の一定電圧）の印加、マイナスパルス電圧（負側で交番する直流のパルス電圧）の印加、又はマイナス交流電圧の印加等が例示される。この他、連続的なマイナス直流電圧とマイナスパルス電圧とを重畳させた電圧供給を行ってもよい。また、上記マイナスパルス電圧は、例えば１〜２００Ｈｚの周波数範囲内で例えば−２Ｖから−３６Ｖの間を交番する矩形波である。一方、プラスモードにおいて、電圧印加の形態を美容処理電極７、８を基準に説明すると、プラスパルス電圧（正側で交番する直流のパルス電圧）の印加、又はプラス交流電圧の印加等が例示される。この他、連続的なプラス直流電圧（正の一定電圧）とプラスパルス電圧とを重畳させた電圧供給を行ってもよい。

また、上記した水溶性の有効成分、すなわち美容処理剤としては、各種のビタミンやセラミド、またコラーゲン（コラーゲンビーズなどを含む）や美白剤のような美容成分、各種化粧品として用いられている化粧成分、紫外線吸収剤や日焼け抑制剤、保湿剤、油分補給剤、炎症抑制剤のような皮膚保護成分等を含むもの、また場合によっては洗顔成分などを含むものが挙げられる。

ここで、肌の状態が、例えば乾燥肌であって、シミやシワ等を除去したい場合には、マイナスモードを実行し、マイナスイオンを皮下組織に導入することで、皮膚細胞の活性化が図られて毛穴が開き、肌に潤いが与えられる。一方、肌質が脂性であってニキビ等を除去したい場合、プラスモードを実行することで、皮膚の細胞組織の鎮静化が図られて毛穴が閉じ、ニキビ等を除去できるとともに肌のきめが整えられる。また、トリートメント装置１では、例えば水を含浸させたコットンを美容処理電極７、８と皮膚面との間に介在させ、さらにこの美容処理電極７、８をプラス極性に印加することで、皮膚内から泥やホコリ等の汚れ成分を除去するクレンジング機能を実現できる。

次に、タッピング機構１５の構造について、図１、図２に加え、図４ないし図６に基づきその説明を行う。
これらの図に示すように、タッピング機構１５は、ヘッド部３の先端面から突出及び埋没する上記した叩き部５ａ、５ｂ、５ｃと、これら叩き部５ａ、５ｂ、５ｃを先端部分に備える進退移動可能な複数のタッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃと、これらタッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃをその先端側である矢印Ｚ１方向に付勢する圧縮コイルばね（付勢部材）としての前進付勢用スプリング１８と、タッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃにそれぞれ固定されたカムフロア２５ａ、２５ｂ、２５ｃと、カムフロア２５ａ、２５ｂ、２５ｃと係合するツイストカム２４とから主に構成される。

また、タッピング機構１５は、図４及び図５に示すように、この機構自体の駆動源となるモータ２８と、ケーシング２に固定され、且つモータ２８を保持するモータホルダ２０と、矢印Ｚ１方向へ付勢されるタッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃの付勢力を緩和する圧縮コイルばねとしての叩き力緩和用スプリング２３と、モータ２８、ツイストカム２４及び叩き力緩和用スプリング２３などを覆うようにしてモータホルダ２０に固定されたカバーキャップ１９とをさらに備える。ここで、上記したタッピング駆動回路３４は、コントローラ３１の制御下でモータ２８に対してその駆動信号を出力する（図７参照）。

ツイストカム２４は、図５に示すように、モータ２８の回転軸（出力軸）２８ａに固定されており、さらに、回転軸（出力軸）２８ａの先端部分には、カムホルダ２７が係止されている。モータホルダ２０には、段付シャフトであるタッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃの基端部（細径部分）を摺動可能に支持する複数の軸受部２１が設けられている。カバーキャップ１９には、タッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃの中央部分を摺動可能に支持する複数の軸受部２２が固定されている。したがって、タッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃは、これらの軸受部２１及び軸受部２２を通じて矢印Ｚ１−Ｚ２方向に進退移動自在に支持されている。また、タッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃは、当該シャフトの先端位置を径方向に実質的に（ヘッド部３の中心位置側に）シフトするＬ字状のオフセット部材１６を介在させるかたちで、叩き部５ａ、５ｂ、５ｃをそれぞれ先端部分に保持する。叩き部５ａ、５ｂ、５ｃは、その硬度や弾性などが考慮されて構成材料が選択されている。

さらに、図４に示すように、前進付勢用スプリング１８は、オフセット部材１６の基端部と、カバーキャップ１９の先端部との間に介在されており、これにより生じる当該スプリングの伸張力によって、叩き部５ａ、５ｂ、５ｃ及びオフセット部材１６を先端部に備えるタッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃを矢印Ｚ１方向、つまりヘッド部３を接触させる皮膚面側に付勢する。

また、ツイストカム２４は、図５に示すように、前進付勢用スプリング１８の矢印Ｚ１方向の付勢力に抗しつつタッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃの矢印Ｚ１−Ｚ２方向の進退動作を制御する。詳細には、ツイストカム２４は、タッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃの進退方向の位置（矢印Ｚ１−Ｚ２方向の位置）を互いに相違させつつこれらのシャフトの進退動作を制御する。言い換えれば、ツイストカム２４は、個々のタッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃを互いに所定の位相差をもたせて進退動作させることになる。さらに詳述すると、ツイストカム２４のスパイラル面２４ａに対して、タッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃにそれぞれ固定されたカムフロア２５ａ、２５ｂ、２５ｃの係合部２６ａ，２６ｂ，２６ｃは、前進付勢用スプリング１８の付勢力によって係合する（カムフロアの係合部は、スパイラル面２４ａに押し当てられている）。すなわち、カムフロア２５ａ、２５ｂ、２５ｃが固定されたタッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃは、モータ２８の回転に伴ってツイストカム２４が回転すると、スパイラル面２４ａの傾斜に倣って、図２、図４及び図５に示すように、矢印Ｚ１−Ｚ２方向に進退動作する。すなわち、ツイストカム２４は、個々のタッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃを互いに所定の位相差をもたせて（矢印Ｚ１−Ｚ２方向へ）進退動作させる。つまり、ツイストカム２４は、イオン導入を支援する適切なタッピング周期（モータの回転数２８の１／３の周期）で、タッピングシャフト１７ａ、タッピングシャフト１７ｂ、タッピングシャフト１７ｃを、順次、ユーザの皮膚面に接触させることが可能となる。

また、図５に示すように、タッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃを摺動可能に支持するカバーキャップ１９に固定された複数の軸受部２２と、タッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃに固定されたカムフロア２５ａ、２５ｂ、２５ｃとの間には、上記した叩き力緩和用スプリング２３がそれぞれ介在されている。ここで、図６に示すように、ツイストカム２４の回転により、カムフロア２５ａ、２５ｂ、２５ｃが、ツイストカム２４の段差部２４ｂを越えてパイラル面２４ａ上の最浅部２４ｃに移動するタイミング、すなわち、タッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃがその先端側（矢印Ｚ１側）に移動を開始するタイミングにおいて、タッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃの前進力を抑制するように機能する。これにより、タッピングシャフト１７ａ、１７ｂ、１７ｃの先端側に位置する叩き部５ａ、５ｂ、５ｃを通じて、皮膚面に付与される叩き力（衝撃力）が調整（緩和）されることになる。

次に、このように構成されたトリートメント装置１により、実際に美肌トリートメントが行われる場合の動作を説明する。
この実施形態のトリートメント装置１では、例えば次の３つのステップを連続的に行う美肌トリートメントが用意されている。
つまり、第１のステップでは、図７に示すイオン導入回路３３が駆動され、美容処理電極７、８がプラス極（正極）、グリップ電極９がマイナス極（負極）になるように電圧を印加する例えば１分間のプラスモードが実行される。このステップでは、毛穴を開き、古い角質や汚れを排出して肌に潤いが与えられる。さらに、このステップでは、毛穴の黒ずみや、洗顔では落ち難い汚れも一掃され、美容液を導入し易い状態に肌を整えるクレンジング機能が実現される。

次いで、第２のステップでは、図７に示すイオン導入回路３３とタッピング駆動回路３４とが同時に駆動され、例えば２分間のトリートメントが実行される。このステップでは、美容液をイオン化して肌の奥まで効率良く有効成分が導入され、シミ、ニキビの改善、毛穴の引き締め、コラーゲンなどの生成促進が図られるとともに、タッピング機能により、美容液をより深く肌面へ浸透させることができる。

さらに、ステップ３では、図７に示す低周波供給回路３２が駆動され、例えば２分間のトリートメント（ここでは、いわゆるリフティング）が実行される。つまり、このステップでは、顔の表情筋に刺激を与え、老化や筋肉の衰えからくるシワや、皮膚のたるみをひきしめ、肌にハリを与える。なお、このステップにおいても、タッピング駆動回路３４を同時に駆動させタッピングの作用を付与してもよい。

したがって、このように構成されたトリートメント装置１では、皮膚面を叩くタッピング機構１５により動的な刺激を美容処理対象の皮膚面に付与できることに加え、皮膚面を叩きつつイオン導入を行えることで、水溶性の有効成分を皮膚内部に効果的に浸透させることができる。これにより、トリートメント装置１によれば、美容液などの皮膚内部への浸透作用を高めることができるとともに、複数の種類の美容処理を身体に相乗的に作用させることができるので、優れた美容処理効果を期待できる。

（第２の実施の形態）
次に、本発明の第２の実施の形態を図８及び図９に基づき説明する。ここで、図８は、本発明の第２の実施形態に係るトリートメント装置５１を示す斜視図、図９は、このトリートメント装置５１を示す側面図である。

すなわち、この実施形態に係るトリートメント装置５１は、図８及び図９に示すように、第１の実施の形態のトリートメント装置１に設けられていたヘッド部３に代えて、そのケーシング５２上にヘッド部５３を備えて構成されている。このヘッド部５３には、タッピング機構５８が搭載されており、このタッピング機構５８は、ヘッド部の先端部分に設けられ且つ矢印Ａ１−Ａ２方向に進退移動可能に保持された叩き部兼用電極５７を備える。この叩き部兼用電極５７を備えるヘッド部５３の先端面は、ケーシング５２の基端部側（後述するハンドリング部５２ａ側）におじぎする姿勢で当該ケーシング５２上に形成されている。

また、このタッピング機構５８には、可動片５４を介して例えば２００Ｈｚの周波数で叩き部５７を駆動する（進退移動させる）磁気回路としてソレノイド５４が設けられている。さらに、この叩き部兼用電極５７は、トリートメント対象の皮膚面に接触させるべきイオン導入用の美容処理電極を共用する。また、ケーシング５２におけるハンドリング部５２ａの背面には、イオン導入用の美容処理電極（叩き部５７）と対のグリップ電極５９が設けられている。

したがって、本実施形態のトリートメント装置５１によれば、イオン導入用の機構とタッピング機構との相乗的作用により実現される優れた美容処理効果を比較的簡単な構成で容易に得ることができる。

（第３の実施の形態）
次に、本発明の第３の実施の形態を図１０及び図１１に基づき説明する。ここで、図１０は、本発明の第２の実施形態に係るトリートメント装置７１を示す斜視図、図１１は、このトリートメント装置７１を示す側面図、図１２は、図１０のトリートメント装置の制御系を機能的に示すブロック図である。

すなわち、この実施形態に係るトリートメント装置７１は、図１０〜図１２に示すように、第１の実施の形態のトリートメント装置１に設けられていたヘッド部３に代えて、そのケーシング７２上にヘッド部７３を備えて構成されている。このヘッド部７３には、タッピング機構８５が搭載されており、このタッピング機構８５は、ヘッド部７３の先端部分に設けられ且つ矢印Ｚ１−Ｚ２方向に進退移動可能に保持された叩き部７５を備える。また、叩き部７５の外縁部分の近傍には、第１の実施形態のトリートメント装置１に設けられていたイオン導入用の電極（通電刺激用電極を兼用）としての美容処理電極７、８に相当する美容処理電極７７、７８が設けられている。また、ケーシング７２におけるハンドリング部７２ａの背面には、トリートメント装置１のグリップ電極９に相当するグリップ電極７９が設けられている。さらに、上記した叩き部７５の少なくとも最先端部にも電イオン導入用の電極として機能する美容処理電極８８が設けられている。

また、このタッピング機構８５は、図１１に示すように、さらに、叩き部７５をヘッド部７３の先端方向Ｚ１側へ付勢する（又はヘッド部７３本体に対して叩き部７５を弾性的に支持する）板バネ８２と、板バネ８２と協働しつつ、叩き部７５を例えば周波数３０Ｈｚ〜３０００Ｈｚの範囲内で駆動するマグネット８４、ヨーク８７、コイル８３を有する磁気回路としてのボイスコイル８１と、このボイスコイル８１に対して駆動信号を出力（ボイスコイル８１側に駆動用のパルス電流などを供給）するタッピング駆動回路９０とを備える（図１２参照）。

ここで、本実施形態のトリートメント装置７１によって実現されるトリートメントのモードについて図１０〜図１２に加えて図１３、図１４に基づきその説明を行う。ここで、図１３は、イオン導入モード時にタッピング駆動回路９０からボイスコイル８１へ出力される駆動信号を示す図、図１４は、リフティングモード時にタッピング駆動回路９０からボイスコイル８１へ出力される駆動信号を示す図である。

本実施形態のトリートメント装置７１では、イオン導入モード、クレンジングモード及びリフティング（又は通電刺激若しくは低周波刺激と称する）モードの３種類のモードが用意されており、これらのモードのうちの一つを選択的に行うことが可能となっている。
すなわち、図１０に示すように、トリートメント装置７１のハンドリング部７２ａの前面には、イオン導入モードを選択するためのイオン導入ボタン８２と、クレンジングモードを選択するためのクレンジングボタン８１と、リフティングモードを選択するためのリフティングボタン８９と、主電源のＯＮ／ＯＦＦを行う電源ボタン８４とを備える入力操作部９４が設けられている。また、トリートメント装置７１は、この装置本体を統括的に制御するコントローラ９３、並びにこのコントローラ９３の制御下で、それぞれ制御される上記したタッピング駆動回路９０、リフティング回路（低周波供給回路）９１及びイオン導入回路９２を備える。

ここで、主電源がＯＮの状態でイオン導入ボタン８２が押されて、イオン導入モードが実行されると、トリートメント装置７１のコントローラ（制御部）９３は、次のような制御を行う。
つまり、コントローラ９３は、イオン導入回路９２を制御し、これにより、イオン導入回路９２は、美容処理電極７７、７８、８８がマイナス極（負極）となり、一方、グリップ電極７９がプラス極（正極）となるように電圧を印加し、第１の実施形態にて例示したマイナスモードを実行する。

さらに、コントローラ９３は、タッピング駆動回路９０を制御し、これにより、タッピング駆動回路９０は、図１２及び図１３に示すように、ボイスコイル８１に対して、大まかには、３秒の出力期間（Ｐ１）と、５秒の出力停止期間とが交互にくる間欠的な駆動信号を出力する。詳細には、この駆動信号は、３秒の出力期間（Ｐ１）においても、０．０５秒の出力期間（Ｐ２）と、０．０５秒の休止期間とから１０Ｈｚ（１００ｍｓｅｃ）サイクルの間欠的に出力される信号となる。

さらに、詳細には、この駆動信号は、上記０．０５秒の出力期間（Ｐ２）において、所定の基準電位に対して正側（プラス側）の駆動信号Ｐ３、Ｐ４と、負側（プラス側）の駆動信号Ｐ５、Ｐ６とで構成され、５０Ｈｚ（２０ｍｓｅｃ）サイクルで交番する。さらにここで、それぞれの前半の８．７ｍｓｅｃの期間の駆動信号Ｐ３、Ｐ５は、５０Ｈｚ周期でその出力が変動する信号であり、後半の１．３ｍｓｅｃの期間の駆動信号Ｐ４、Ｐ６は、１５００Ｈｚ周期でその出力が変動する信号である。

したがって、トリートメント装置７１のイオン導入モードが実行されると、マイナスモードでのイオン導入が行われるとともに、叩き部７５のタッピングの周波数が、上記のように変動（前半は５０Ｈｚ、後半１５００Ｈｚ）するトリートメントが行われる。このように、休止時間を間欠的に設けて肌面の疲労を回避しつつ、さらには、タッピングの周波数を可変させることで、イオン導入による有効成分の導入効果を高めることができる。

また、主電源がＯＮの状態でリフティングボタン８９が押されて、リフティングモードが実行されると、トリートメント装置７１のコントローラ９３は、次のような制御を行う。
つまり、コントローラ９３は、リフティング回路９１を制御し、これにより、リフティング回路９１は、美容処理電極７７及び美容処理電極７８のみを選択して、これらの電極間に所定の電圧を印加することで、皮膚面に通電による低周波の電気的な刺激を付与する。ここで、リフティング回路９１は、第１の実施形態の低周波供給回路３２と同様に例えば周波数が０．１ｋＨｚ〜１ｋＨｚで、さらに電流値が１ｍＡ〜１００ｍＡのパルス電流などを、美容処理電極７７、７８を接触させた皮膚面に供給することが可能である。

さらに、コントローラ９３は、リフティング回路９１を制御し、これにより、リフティング回路９１は、図１２及び図１４に示すように、前半の５０ｍｓｅｃの出力期間（Ｐ７）と、後半の５０ｍｓｅｃの出力期間（Ｐ７）との間に７５ｍｓｅｃの出力停止期間を介在させるかたちの駆動信号が２秒のサイクルで出力される。詳細には、この駆動信号は、５０ｍｓｅｃの出力期間（Ｐ７）において、所定の基準電位に対して正側（プラス側）の駆動信号Ｐ８と、負側（マイナス側）の駆動信号Ｐ９とで構成され、（デューティ比５０％にて休止期間を５ｍｓｅｃ間隔で設けつつ５０Ｈｚ（２０ｍｓｅｃ）サイクルで交番する信号となる。ここで、リフティング回路９１からボイスコイル８１側へ送られる駆動信号の出力の絶対値は、このリフティングモード時では、イオン導入モード時と比べて、ほぼ半分の出力値となるように設定されている。

このように、トリートメント装置７１のリフティングモードが実行されると、皮膚面に通電による低周波の電気的な刺激が付与されると同時に、上記したタッピング作用が付与され、これらの相乗的な作用により、良好な肌面（毛穴など）の引き締め効果を得ることができる。

さらに、主電源がＯＮの状態でクレンジングボタン８１が押されて、クレンジングモードが実行されると、トリートメント装置７１のコントローラ９３は、次のような制御を行う。
つまり、コントローラ９３は、イオン導入回路９２を制御し、これにより、イオン導入回路９２は、美容処理電極７７、７８、８８がプラス極（正極）となり、一方、グリップ電極７９がマイナス極（負極）となるように電圧を印加し、第１の実施形態にて例示したプラスモードを実行する。このプラスモードが実行されると、例えば美容処理電極７７、７８、８８を接触させた肌面から例えば汚れ物質（毛穴に詰まった皮脂など）を除去することができる。ここで、トリートメント装置７１のヘッド部７３に、さらに赤外線を照射可能なＬＥＤなどを予め設けておいてもよい。この場合、上記クレンジングモード時に肌面に赤外線を照射して肌面を加温できるので、これにより毛穴などが開きクレンジングモード時の肌面の清浄効果を高めることができる。

ここで、このようにして行われるイオン導入モード、クレンジングモード及びリフティングモードの３種類のモードにおいては、入力操作部３０からの入力操作を通じて、コントローラ９３が所定の順序で連続的にこれらのモードを実行するものであってもよい。

次に、このように構成されたトリートメント装置７１により、実際にユーザ（４９才・女性）の皮膚面（上眼瞼部皮膚）にトリートメントを施した後の結果を図１５又は図１６に示す。
ここで、トリートメントの条件としては、イオン導入及びタッピングの併用、すなわち上記したイオン導入モード（美容処理電極７７、７８、８８とグリップ電極８９との間の印加電圧は３．８〜４Ｖ、ボイスコイル８１への３．０ｓｅｃの駆動信号の出力及び５ｓｅｃの出力休止の繰り返し）を選択してこれを８時間行い、さらに、肌面に導入させるべき有効性分（美容処理電極７７、７８、８８と肌面との間に介在）をプロビタミンＣ（ＡＰＳ）とした。また、上記駆動信号の出力期間を上記３．０ｓｅｃから１．０ｓｅｃに変更したものと、０．５ｓｅｃに変更したものとをあわせて測定した。さらに、本トリートメント装置７１による上記トリートメント（タッピング動作及びイオン導入）を行わず、プロビタミンＣ（ＡＰＳ）を皮膚面に塗布しただけの条件のものも比較例としてデータを収集する。

さらに、トリートメント後の結果の測定方法としては、上記の条件でトリートメントを行った２時間後に、上述した上眼瞼部皮膚の表皮と真皮（表面から０．１〜１．５ｍｍ）に浸透したビタミンＣを測定した。なお、イオン導入モードの実行中に美容処理電極７７、７８、８８を流れた電流値は０．４ｍＡであった。
この測定結果として還元型ビタミンＣの保持率（皮膚内で検出された還元型ビタミンＣの保持量／塗布したビタミンＣ）を図１５に示し、また、皮膚中の総ビタミンＣの量を図１６に示す。
すなわち、図１６に示すように、真皮において、単にビタミンＣを塗布した条件のものと比べ、タッピング動作及びイオン導入（上記イオン導入モード）にて３．０ｓｅｃの動作／休止間隔を設定した条件のものは、６．４倍もの多量のビタミンＣの真皮内への導入が検出された。また、当該３．０ｓｅｃの動作／休止間隔を設定した条件のものは、図１５に示すように、ビタミンＣの保持安定性にも優れていた。

したがって、本実施形態のトリートメント装置７１によれば、叩き部７５の高精度な駆動制御を行えるボイスコイル８１を備えるタッピング機構８５とイオン導入用の機構とのの相乗的作用により美容処理効果の高い優れたトリートメントが実現される。

以上、本発明を第１〜第３の実施の形態により具体的に説明したが、本発明はこれらの実施形態にのみ限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。例えば、上述した実施形態では、イオン導入用の有効成分を含浸させた美肌シートをヘッド部３、５３、７３の前面に配置する点については、特に説明しなかったが、例えば、イオン導入用の美容処理電極７、８（美容処理電極５７又は美容処理電極７７、７８）と皮膚面との間に上記美肌シートが介在されたかたちでイオン導入を行えるように、ヘッド部３、５３、７３の前面（先端面）に美肌シートを保持する美肌シート保持機構を追加してもよい。

本発明の第１の実施形態に係るトリートメント装置を示す斜視図。 図１のトリートメント装置を示す側面図。 図１のトリートメント装置を示す背面図。 図１のトリートメント装置に内蔵されているカバーキャップの取り付けられた状態のタッピング機構を示す側面図。 図１のトリートメント装置に内蔵されているカバーキャップの取り外された状態のタッピング機構を示す側面図。 図５のタッピング機構の主要部を詳細に示す斜視図。 図１のトリートメント装置の制御系を機能的に示すブロック図。 本発明の第２の実施形態に係るトリートメント装置を示す斜視図。 図８のトリートメント装置を示す側面図。 本発明の第３の実施形態に係るトリートメント装置を示す斜視図。 図１０のトリートメント装置を示す側面図。 図１０のトリートメント装置の制御系を機能的に示すブロック図。 図１０のトリートメント装置によるイオン導入モード時にタッピング駆動回路からボイスコイルへ出力される駆動信号を示す図。 図１０のトリートメント装置によるリフティングモード時にタッピング駆動回路からボイスコイルへ出力される駆動信号を示す図。 図１０のトリートメント装置によるトリートメント後の皮膚中の還元型ビタミンＣの保持率を示す図。 図１０のトリートメント装置によるトリートメント後の皮膚中の総ビタミンＣの量を所定条件毎に示す図。

符号の説明

１，５１，７１…トリートメント装置、２，５２，７２…ケーシング、３，５３，７３…ヘッド部、５ａ，５ｂ，５ｃ，７５…叩き部、７，８，７７，７８，８８…美容処理電極、９，５９，７９…グリップ電極、１５，５８，８５，…タッピング機構、１７ａ，１７ｂ，１７ｃ…タッピングシャフト、１８…前進付勢用スプリング、２４…ツイストカム、２５ａ，２５ｂ，２５ｃ…カムフロア、３０，９４…入力操作部、３１，９３…コントローラ、３２…低周波供給回路、３３，９２…イオン導入回路、３４，９０…タッピング駆動回路、５４…ソレノイド、５７…叩き部兼用電極、８１…ボイスコイル、９１…リフティング回路（低周波供給回路）。

Claims (5)

1. 皮膚面に接触させるヘッド部と、
   前記ヘッド部に設けられたイオン導入用の電極と、
   前記ヘッド部を接触させた皮膚面を叩くタッピング機構と、
   を具備することを特徴とするトリートメント装置。
2. 前記イオン導入用の電極を、皮膚面に通電による電気的な刺激を付与する通電刺激用電極として機能させる通電刺激機構を備えることを特徴とする請求項１記載のトリートメント装置。
3. 前記タッピング機構は、
   前記ヘッド部の先端部分に進退移動可能に保持された叩き部と、
   前記叩き部を駆動するソレノイド又はボイスコイルを含む磁気回路と、
   を備えることを特徴とする請求項１又は２記載のトリートメント装置。
4. 前記タッピング機構は、
   前記ヘッド部の先端面から突出及び埋没する叩き部を先端部分に備える進退移動可能なタッピングシャフトと、
   前記タッピングシャフトをその先端側に付勢する付勢部材と、
   前記タッピングシャフトに固定されたカムフロアと、
   前記カムフロアと係合して、前記付勢部材の付勢力に抗しつつ前記タッピングシャフトの進退動作を制御するカムと、
   を備えることを特徴とする請求項１又は２記載のトリートメント装置。
5. 前記タッピング機構は、
   前記タッピングシャフトを複数備え、
   前記カムが、個々のタッピングシャフトを互いに所定の位相差をもたせて進退動作させることを特徴とする請求項４記載のトリートメント装置。

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