JP2007027758A - リソグラフィ装置、照射システム、照射制御装置及び制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】二重積分器ユニット309が測定されたパルス照射量を表す照射量信号を少なくとも二回積分することにより積分器出力信号313を生成して、積分器出力信号313により照射レーザパルス源に対する駆動入力315を調整制御する負フィードバック制御ループを実装する。
【選択図】図3
Description
(一個の積分器を含む)ステップサイズ即ちスタテイック信号、
(二個の積分器を含む)勾配形状信号、及び
(三個の積分器を含む)放物線形状信号、である。
101 照射システム(照射機)
102 パターン化素子(マスク)
103 第一位置決め素子
104 マスクサポート構造(マスクテーブル)
105 基板(ウエハ)
106 第二位置決め素子
107 基板テーブル(ウエハテーブル)
108 投写システム
109 目標部位
110 照射源
111 ビーム搬送システム
112 調整器
113 積分器
114 集光器
115 位置センサ
116、117 マスクアラインメントマーク
118、119 基板アラインメントマーク
201 パルスウィンドウ
203 パルスウィンドウ
205 パルスウィンドウ
207 矢印
301 照射パルス源(パルスレーザ)
303 パルス
305 照射量センサ
307 照射量センサ出力
309 積分器ユニット
311 積分器入力
313 積分器出力
315 駆動入力
317 設定点
401 第一積分器ステージ
403 第二積分器ステージ
405 第一増幅器
407 第二増幅器
409 バイパス増幅器
411 加算器
413 第三積分器ステージ
415 遅延
501 フィードフォワードパス
503 増幅器
Claims (15)
- 照射ビームを調整する照射システムを備えたリソグラフィ装置であって、前記照射システムは、照射パルス源と前記照射パルス源の出力を制御する制御装置を備え、前記制御装置は、
(a) 前記照射パルス源のパルス照射量を測定し、前記測定されたパルス照射量を表す照射量信号を提供する照射量センサと、
(b) 前記照射量信号を少なくとも二回積分する積分器ユニットとを備え、
前記積分器ユニットの出力は前記少なくとも二回積分された照射量信号から成る積分器出力信号を提供し、前記積分器ユニットの前記出力は前記積分器出力信号により前記照射パルス源の駆動入力を駆動する、前記リソグラフィ装置。 - 前記積分器ユニットは、
前記照射量信号を積分する第一積分器ステージと、
前記二回積分された照射量信号を提供する第二積分器ステージと、
前記二回積分された照射量信号を増幅する増幅器と、
を備える、請求の範囲第1項記載のリソグラフィ装置。 - 前記増幅器はプログラム可能な増幅係数を備える、請求の範囲第2項記載のリソグラフィ装置。
- 前記積分器ユニットは、前記二個の積分器ステージと前記増幅器の内の二個の増幅器との直列接続を備え、
前記積分器ユニットは、前記二個の積分器ステージの内の第一積分器ステージと前記二個の増幅器の内の第一増幅器を迂回するバイパス増幅器を更に備える、請求の範囲第2項記載のリソグラフィ装置。 - 前記バイパス増幅器は実質1の増幅係数を有し、前記増幅器の内の前記直列接続された二個の増幅器の内の前記迂回された増幅器は実質1の増幅係数を有し、前記直列接続された二個の増幅器の内の前記他方の増幅器は実質0.5の増幅係数を有する、請求の範囲第4項記載のリソグラフィ装置。
- 前記積分器ユニットは、前記二個の積分器ステージと、前記増幅器の内の第一増幅器と、前記増幅器の内の第二増幅器との直列接続を備え、
前記第一増幅器は、前記第一積分器ステージの出力からの一回積分された照射量信号を増幅し、
前記第二増幅器は、前記第二積分器ステージの出力からの前記二回積分された照射量信号を増幅する、請求の範囲第2項記載のリソグラフィ装置。 - 前記制御装置は、前記照射パルス源の増幅係数の実質逆数である増幅係数を有する増幅器を更に備える、請求の範囲第1項記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御装置は、前記照射パルス源の増幅係数の逆数より実質的に小さい増幅係数を有する増幅器を更に備える、請求の範囲第1項記載のリソグラフィ装置。
- 前記積分器ユニットは少なくとも一個の漏洩用積分器ステージを備える、請求の範囲第1項記載のリソグラフィ装置。
- 前記積分器ユニットは第三積分器ステージを更に備え、
前記第三積分器ステージは前記二回積分された照射量信号を更に積分して三回積分された照射量信号を生成し、
前記積分器出力における前記積分器出力信号は前記三回積分された照射量信号を備える、請求の範囲第1項記載のリソグラフィ装置。 - 前記積分器ユニットはノッチフィルターを更に備える、請求の範囲の任意の先行項記載のリソグラフィ装置。
- 照射ビームを調整する照射システムであって、
照射パルス源と、
前記照射パルス源の出力を制御する制御装置とを備え、
前記制御装置は、
前記照射パルス源のパルス照射量を測定し、前記測定されたパルス照射量を表す照射量信号を提供する照射量センサと、
前記照射量信号を少なくとも二回積分する積分器ユニットとを備え、
前記積分器ユニットの出力は前記少なくとも二回積分された照射量信号から成る積分器出力信号を提供し、前記積分器ユニットの前記出力は前記積分器出力信号により前記照射パルス源の駆動入力を駆動する、前記照射システム。 - 照射パルス源の出力を制御する制御装置であって、
前記照射パルス源のパルス照射量を測定し、前記測定されたパルス照射量を表す照射量信号を提供する照射量センサと、
前記照射量信号を少なくとも二回積分する積分器ユニットとを備え、
前記積分器ユニットの出力は前記少なくとも二回積分された照射量信号から成る積分器出力信号を提供し、前記積分器ユニットの前記出力は前記積分器出力信号により前記照射パルス源の駆動入力を駆動する、前記制御装置。 - 照射パルス源の出力を制御する方法であって、
前記照射パルス源のパルス照射量を測定する段階と、
前記測定されたパルス照射量を少なくとも二回積分して、少なくとも二回積分された照射量信号から成る積分器出力信号を提供する段階と、
前記積分器出力信号により前記照射パルス源を制御する段階と、
を含む、前記方法。 - 照射ビームを出力する照射パルス源と前記照射パルス源の前記出力を制御する制御装置を備えたリソグラフィ装置であって、
前記制御装置は、
(a) 前記照射パルス源のパルス照射量を測定し、前記測定されたパルス照射量を表す照射量信号を提供する照射量センサと、
(b) 前記照射量信号を少なくとも二回積分する積分器ユニットとを備え、
前記積分器ユニットの出力は前記少なくとも二回積分された照射量信号から成る積分器出力信号を提供し、前記積分器ユニットの前記出力は前記積分器出力信号により前記照射パルス源の駆動入力を駆動し、
前記リソグラフィ装置は、
前記照射ビームを調整する照射システムと、
前記照射ビームをパターン化してパターン化された照射ビームを生成するパターン化素子を支持するサポート部材と、
前記パターン化された照射ビームを基板表面上に投写する投写システムとを更に備える、前記リソグラフィ装置。
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