JP2007027614A - Heat treatment device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、上面の開口したチャンバ本体に蓋体を合わせてチャンバを形成し、チャンバ内で被処理基板に所望の熱処理を施す熱処理装置に関する。 The present invention relates to a heat treatment apparatus that forms a chamber by aligning a lid with a chamber body having an open top surface, and performs a desired heat treatment on a substrate to be processed in the chamber.
FPD(フラット・パネル・ディスプレイ)製造や半導体デバイス製造のフォトリソグラフィでは、被処理基板(ガラス基板、半導体ウエハ等)に対するレジスト膜の密着性を良くするために、HMDS(ヘキサメチルジシラン)により基板の被処理面を疎水化するアドヒージョン処理が行われている。 In photolithography for FPD (flat panel display) manufacturing and semiconductor device manufacturing, HMDS (hexamethyldisilane) is used to improve the adhesion of the resist film to the substrate to be processed (glass substrate, semiconductor wafer, etc.). An adhesion process is performed to make the surface to be treated hydrophobic.
従来のアドヒージョン処理装置は、たとえば特許文献1に示されるように、上面の開口したチャンバ本体に設けた熱板の上に被処理基板を載置して、その上から蓋体を被せてチャンバを閉じ、チャンバ内に蒸気状のHMDSを引き込んで基板の表面にHMDSを塗布し、所定の処理時間の経過後に蓋体をチャンバ本体から上方へ持ち上げてチャンバを開け、熱板から基板を搬出するようにしている。 A conventional adhesion processing apparatus, for example, as disclosed in Patent Document 1, places a substrate to be processed on a hot plate provided in a chamber body having an open top surface, and covers the lid from above to cover the chamber. Close and draw vapor HMDS into the chamber to apply HMDS on the surface of the substrate. After a predetermined processing time has elapsed, the lid is lifted upward from the chamber body to open the chamber and carry the substrate out of the hot plate. I have to.
このような上蓋開閉式の熱処理装置において、蓋体をチャンバ本体に対して上下に移動させる昇降機構には、往復運動の仕事に適したアクチエータとしてシリンダ、特にエアシリンダが多く用いられている。チャンバを開けるときは、エアシリンダがたとえば往動または前進運動を行って蓋体をチャンバ本体の上方の所定位置まで持ち上げる。チャンバを閉めるときは、エアシリンダが復動または後退運動を行って蓋体をチャンバ本体に合わせる。この際、チャンバ内を気密にするために、チャンバ本体の外周縁部に取り付けたシール部材に蓋体の外周縁部を適当な圧力で押し付けるようにしている。
上記のような上蓋開閉式の熱処理装置においては、チャンバ本体と蓋体との間に人間(通常は工場内の作業員)の腕や手が誤って挟まれると、シリンダの推力が強いため本人が自力で腕や手を抜くことは非常に難しい。システム稼動中にこのような事態が発生すると、挟み込みの力で怪我をするだけでなく、熱板からの熱によって火傷する危険性もある。しかも、近年における基板の大型化がこの問題に輪をかけている。すなわち、基板の大型化に併せて装置ユニットも大型化しており、腕や手を挟まれたときに蓋体から受ける押圧力は以前よりも格段に大きくなっている。また、蓋体を閉める力(蓋体を下ろすシリンダの推力)を強制的に解除するための安全ボタンを設置するにしても、一周が5mを超えるのもめずらしくない装置ユニットのどの場所で腕や手を挟まれるのか不定であり、コストパフォーマンスの面から安全ボタンの設置は実用的でない。 In the upper lid opening and closing type heat treatment apparatus as described above, if the arm or hand of a human (usually a factory worker) is accidentally pinched between the chamber body and the lid body, the thrust of the cylinder is strong and the person himself However, it is very difficult to pull out arms and hands by yourself. If such a situation occurs during system operation, there is a risk of not only being injured by the pinching force but also being burned by the heat from the hot plate. Moreover, the recent increase in the size of the substrate has caused this problem. That is, the apparatus unit is also enlarged with the increase in the size of the substrate, and the pressing force received from the lid when the arm or hand is pinched is much larger than before. In addition, even if a safety button is installed to forcibly release the force to close the lid (the thrust of the cylinder that lowers the lid), the arm or It is uncertain whether a hand will be caught, and it is not practical to install a safety button in terms of cost performance.
本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑みてなされたものであって、チャンバ本体と蓋体との間に人間の腕や手等が誤って挟まれたときの被害を簡便かつ効率的な安全機構によって確実に最小限に食い止めるようにした熱処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the problems of the prior art, and can easily and efficiently prevent damage when a human arm or hand is accidentally sandwiched between a chamber body and a lid. It is an object of the present invention to provide a heat treatment apparatus that is surely kept to a minimum by a safety mechanism.
上記の目的を達成するために、本発明の熱処理装置は、上面の開口したチャンバ本体と、前記チャンバ本体の直上で昇降可能に設けられ、被処理基板に所望の熱的処理を施す処理室を形成するために前記チャンバ本体に合わせられる蓋体と、前記蓋体を支持し、かつ前記チャンバ本体に合わさる第1の位置と前記チャンバ本体から上方に所定の距離だけ離間する第2の位置との間で昇降移動させる昇降機構と、前記チャンバ本体または前記蓋体の付近に張られた非常ワイヤと、前記非常ワイヤの任意の箇所に所定値以上の外力が加えられた時に、前記非常ワイヤの変位を通じて第1の状態から第2の状態へ切り換わる非常スイッチ機構とを有し、前記非常スイッチ機構の前記第1の状態から前記第2の状態への切り換わりに応動して前記昇降機構が前記蓋体を前記第2の位置へ強制的に移動させ、または前記第2の位置に強制的に保持する。 In order to achieve the above object, a heat treatment apparatus according to the present invention includes a chamber main body having an open top surface and a processing chamber that is provided so as to be movable up and down immediately above the chamber main body and performs a desired thermal treatment on a substrate to be processed. A lid that is fitted to the chamber body to form, a first position that supports the lid and fits the chamber body, and a second position that is spaced apart from the chamber body by a predetermined distance A lifting mechanism that moves up and down, an emergency wire stretched in the vicinity of the chamber body or the lid, and displacement of the emergency wire when an external force of a predetermined value or more is applied to any part of the emergency wire An emergency switch mechanism that switches from the first state to the second state through the first switch, and the elevation switch in response to switching of the emergency switch mechanism from the first state to the second state. Structure is forcibly moving said lid to said second position, or forcibly held in the second position.
上記の構成においては、人が誤ってチャンバ本体と蓋体の間に腕や手を挟んだときには、もう片方の手で付近を通る非常ワイヤを引っ張ると、非常ワイヤが変位して非常スイッチ機構が第1の状態から第2の状態へ切り換わり、そのスイッチングに応動して昇降機構が蓋体をチャンバ本体から上方へ離れる第2の位置へ強制的に移動させる。これにより、当人は挟まった腕や手を直ぐ抜くことができ、怪我や火傷を免れることができる。 In the above configuration, when a person accidentally puts an arm or hand between the chamber body and the lid, the emergency wire is displaced by pulling the emergency wire passing through the vicinity with the other hand. The first state is switched to the second state, and in response to the switching, the elevating mechanism forcibly moves the lid body to the second position away from the chamber body. As a result, the person can immediately pull out the caught arm and hand, and can avoid injury and burns.
本発明によれば、非常ワイヤのどの箇所を引っ張っても、その手動操作の力が非常ワイヤの全長に伝わってワイヤに所定の変位が得られ、非常スイッチ機構が作動するので、短い距離間隔で多数個の安全ボタンを装置ユニットの回りに配置するのと同等の安全機能を1本の非常ワイヤを用いて簡便に実現することができる。 According to the present invention, no matter where the emergency wire is pulled, the manual operation force is transmitted to the entire length of the emergency wire to obtain a predetermined displacement in the wire, and the emergency switch mechanism is operated. A safety function equivalent to arranging a large number of safety buttons around the device unit can be easily realized by using one emergency wire.
本発明において、非常ワイヤは、好適にはチャンバ本体または蓋体の外周に沿って張られてよく、さらに好適にはチャンバ本体または蓋体の外周に沿って実質的に一周するように張られてよい。また、非常ワイヤは、斜めに傾いていてもよいが好適にはほぼ水平に張られていると手動操作が容易であり、張設の高さ位置も任意に選定できるが好適には蓋体の第2の位置よりも高い位置に張られると手動操作に便利である。 In the present invention, the emergency wire may preferably be stretched along the outer periphery of the chamber body or lid, and more preferably stretched substantially along the outer periphery of the chamber body or lid. Good. Although the emergency wire may be inclined obliquely, it is easy to perform manual operation if it is preferably stretched almost horizontally, and the height position of the stretch can be arbitrarily selected. It is convenient for manual operation if it is stretched to a position higher than the second position.
本発明の好適な一態様によれば、非常ワイヤを所望の箇所で曲折させて支持するための1個または複数個のプーリが設けられる。たとえば四角形の装置ユニットにおいては、ユニット角部にプーリをそれぞれ配置することによって、1本の非常ワイヤをユニットの外周に沿って一周させることができる。プーリの構造は、非常ワイヤが外れ難い鍔付きのリール形が好ましい。 According to a preferred aspect of the present invention, one or more pulleys are provided for bending and supporting the emergency wire at a desired location. For example, in a square device unit, one emergency wire can be made to make one turn along the outer periphery of the unit by arranging pulleys at the corners of the unit. The pulley structure preferably has a hooked reel shape in which the emergency wire is difficult to come off.
本発明の好適な一態様によれば、非常ワイヤに定常状態の下で与える張力を調整するための張力調節部が設けられる。特に好適には、非常ワイヤの一端を固定した位置で支持する第1のワイヤ端支持部と、非常ワイヤの他端をワイヤ長さ方向で調節可能な位置で支持する第2のワイヤ端支持部が設けられる。 According to a preferred aspect of the present invention, a tension adjusting unit is provided for adjusting the tension applied to the emergency wire under a steady state. Particularly preferably, the first wire end support portion supports one end of the emergency wire at a fixed position, and the second wire end support portion supports the other end of the emergency wire at an adjustable position in the wire length direction. Is provided.
本発明の好適な一態様によれば、昇降機構が、各々のピストンロッドが蓋体に直接または間接的に結合された1つまたは2つ以上のシリンダを有する。シリンダは、エアシリンダであってもよく、油圧シリンダであってもよい。この場合、昇降機構は、蓋体を第2の位置から第1の位置へ下降移動させるために、シリンダの第1のポートに高圧を供給すると同時にシリンダの第2のポートに低圧を供給し、蓋体を第1の位置から第2の位置へ上昇移動させるために、シリンダの第1のポートに低圧を供給すると同時にシリンダの第2のポートに高圧を供給してよい。 According to a preferred aspect of the present invention, the elevating mechanism has one or more cylinders in which each piston rod is directly or indirectly coupled to the lid. The cylinder may be an air cylinder or a hydraulic cylinder. In this case, the elevating mechanism supplies high pressure to the first port of the cylinder and simultaneously supplies low pressure to the second port of the cylinder in order to move the lid down from the second position to the first position. In order to move the lid upward from the first position to the second position, low pressure may be supplied to the first port of the cylinder and simultaneously high pressure may be supplied to the second port of the cylinder.
本発明の好適な一態様においては、昇降機構が、高圧源に接続された第1の入口と、低圧源に接続された第2の入口と、シリンダの第1のポートに第1の配管を介して接続された第1の出口と、シリンダの第2のポートに第2の配管を介して接続された第2の出口とを有する第1の方向制御弁を有し、蓋体を第2の位置から第1の位置へ下降移動させるために、第1の方向制御弁内で第1の出口を第1の入口に接続するとともに第2の出口を第2の入口に接続し、蓋体を第1の位置から第2の位置へ上昇移動させるために、第1の方向制御弁内で第1の出口を第2の入口に接続するとともに第2の出口を第1の入口に接続する。この第1の方向制御弁は、定常状態で蓋の開け閉めのためにシリンダを所定のタイミングで往動動作または復動動作させるものであり、コントローラによる電気制御に適したたとえば5ポートの電磁弁で構成されてよい。 In a preferred aspect of the present invention, the elevating mechanism includes a first inlet connected to the high pressure source, a second inlet connected to the low pressure source, and a first pipe at the first port of the cylinder. A first directional control valve having a first outlet connected via a second outlet and a second outlet connected to a second port of the cylinder via a second pipe; The first outlet is connected to the first inlet and the second outlet is connected to the second inlet in the first directional control valve to move the lid downward from the first position to the first position. The first outlet is connected to the second inlet and the second outlet is connected to the first inlet in the first directional control valve in order to move the valve up from the first position to the second position. . The first directional control valve is a cylinder that moves forward or backward at a predetermined timing in order to open and close the lid in a steady state. For example, a 5-port solenoid valve suitable for electrical control by the controller May be configured.
本発明の好適な一態様によれば、非常スイッチ機構が、第1の配管の途中に設けられ、第1の方向制御弁の第1の出口に接続された第1の入口と、低圧源に接続された第2の入口と、シリンダの第1のポートに接続された出口とを有する第2の方向制御弁と、第2の配管の途中に設けられ、第1の方向制御弁の第2の出口に接続された第1の入口と、高圧源に接続された第2の入口と、シリンダの第2のポートに接続された出口とを有する第3の方向制御弁と、第2および第3の方向制御弁を切換操作するために第1の状態に対応する復動位置と第2の状態に対応する往動位置との間で変位するように非常ワイヤに連結されたアクチエータとを有し、アクチエータが復動位置に在るときは第2および第3の方向制御弁をそれぞれの出口が第1の入口と接続するように切り換え、アクチエータが往動位置に在るときは第2および第3の方向制御弁をそれぞれの出口が第2の入口と接続するように切り換える。 According to a preferred aspect of the present invention, the emergency switch mechanism is provided in the middle of the first piping, and connected to the first outlet of the first directional control valve, and the low pressure source. A second directional control valve having a connected second inlet and an outlet connected to the first port of the cylinder; and a second directional control valve provided in the middle of the second piping. A third directional control valve having a first inlet connected to the second outlet, a second inlet connected to the high pressure source, and an outlet connected to the second port of the cylinder; An actuator connected to an emergency wire so as to be displaced between a backward movement position corresponding to the first state and an forward movement position corresponding to the second state in order to switch the direction control valve 3; When the actuator is in the backward movement position, the second and third directional control valves are connected to the respective outlets at the first outlet. Switching so as to connect to the inlet, when the actuator is in the forward position switches to the second and third directional control valve is each outlet connected to the second inlet.
この場合は、第2の方向制御弁をノーマルオープン形の3ポート弁で構成し、第3の方向制御弁をノーマルクローズ形の3ポート弁で構成することができる。定常状態では、第2および第3の方向制御弁においてそれぞれの出口が第1の方向制御弁側の第1の入口と接続しているので、第1の方向制御弁の流路切換によってシリンダ動作の切換が行われる。非常時、つまり非常ワイヤの操作によって非常スイッチ機構が第1の状態からだ2の状態に切り換わると、アクチエータが働いて第2および第3の方向制御弁のそれぞれの出口が低圧源および高圧源側の第2の入口に接続されることによって、第1の方向制御弁における流路切換は効かなくなり、シリンダの第1のポートには低圧源からの低圧が第2の方向制御弁および第1の配管を介して供給され、シリンダの第2のポートには高圧源からの高圧が第3の方向制御弁および第2の配管を介して供給される。これによって、シリンダは、強制的に蓋体を第1の位置から第2の位置へ上昇移動させる動作に切り換えられる。 In this case, the second directional control valve can be constituted by a normally open type three-port valve, and the third directional control valve can be constituted by a normally closed type three-port valve. In the steady state, since the respective outlets of the second and third directional control valves are connected to the first inlet on the first directional control valve side, the cylinder operation is performed by switching the flow path of the first directional control valve. Are switched. In an emergency, that is, when the emergency switch mechanism is switched from the first state to the second state by the operation of the emergency wire, the actuator is operated so that the respective outlets of the second and third directional control valves are connected to the low pressure source and the high pressure source The flow path switching in the first directional control valve is not effective, and the low pressure from the low pressure source is applied to the first directional control valve and the first directional control valve. High pressure from the high pressure source is supplied to the second port of the cylinder via the third directional control valve and the second pipe. As a result, the cylinder is switched to an operation for forcibly moving the lid from the first position to the second position.
本発明の好適な一態様によれば、第2および第3の方向制御弁がそれぞれパイロット作動弁からなり、アクチエータが、高圧源に接続された第1の入口と、低圧源に接続された第2の入口と、第2の方向制御弁のパイロット口に接続された第1の出口と、第3の方向制御弁のパイロット口に接続された第2の出口とを有する人力操作式の第4の方向制御弁からなる。この場合は、第4の方向制御弁をたとえばデテント付きの5ポート弁で構成することができる。このように、アクチエータも弁で構成することで、シリンダを駆動する空気圧回路または油圧回路の中に非常スイッチ機構を完全に組み込むことができる。 According to a preferred aspect of the present invention, each of the second and third directional control valves comprises a pilot operated valve, and the actuator has a first inlet connected to the high pressure source and a first inlet connected to the low pressure source. A manually operated fourth having two inlets, a first outlet connected to the pilot port of the second directional control valve, and a second outlet connected to the pilot port of the third directional control valve. Directional control valve. In this case, the fourth directional control valve can be constituted by a 5-port valve with a detent, for example. In this way, by configuring the actuator also with a valve, the emergency switch mechanism can be completely incorporated into the pneumatic circuit or hydraulic circuit that drives the cylinder.
本発明の好適な一態様によれば、非常スイッチ機構を第2の状態から第1の状態へ手動操作で復帰させるためのリセット手段が設けられる。アクチエータをデテント付きの人力操作弁で構成するときは、弁の操作部にリセット手段を結合または連結させてよい。 According to a preferred aspect of the present invention, there is provided reset means for manually returning the emergency switch mechanism from the second state to the first state. When the actuator is constituted by a manpower operated valve with a detent, a reset means may be coupled or connected to the operation portion of the valve.
本発明の好適な一態様によれば、チャンバ本体に蓋体が合わさって形成される処理室内に所定の処理ガスを供給するための処理ガス供給部と、処理室からガスを排出するための排気部とが設けられる。本発明は、任意の上蓋開閉式の熱処理装置に適用可能であるが、特にアドヒージョン装置のように気密なチャンバまたは処理室内で基板を加熱しながら、処理ガスの供給と排気を行う上蓋開閉式の熱処理装置に好適に適用可能である。 According to a preferred aspect of the present invention, a processing gas supply unit for supplying a predetermined processing gas into a processing chamber formed by joining a lid to the chamber body, and an exhaust for discharging the gas from the processing chamber. Are provided. The present invention can be applied to any upper lid opening / closing heat treatment apparatus, but in particular, an upper lid opening / closing type that supplies and exhausts a processing gas while heating a substrate in an airtight chamber or processing chamber like an adhesion apparatus. It can be suitably applied to a heat treatment apparatus.
また、本発明の熱処理装置においては、好適な一態様として、非常スイッチ機構の第1の状態から第2の状態への切り換わりに応動して、処理ガス供給部に処理ガスの供給を中止させる処置、熱板の発熱を停止させる処置、あるいはチャンバ本体に冷却空気を供給する処置をとることも可能である。 Moreover, in the heat treatment apparatus of the present invention, as a preferred embodiment, the processing gas supply unit stops the supply of the processing gas in response to the switching of the emergency switch mechanism from the first state to the second state. It is also possible to take treatment, treatment to stop the heat generation of the hot plate, or treatment to supply cooling air to the chamber body.
本発明の熱処理装置によれば、上述したような構成および作用により、チャンバ本体と蓋体との間に人間の腕や手等が誤って挟まれたときの被害を簡便・確実かつ効率的な安全機構により最小限に食い止めることができる。 According to the heat treatment apparatus of the present invention, due to the above-described configuration and operation, damage when a human arm, hand, or the like is accidentally sandwiched between the chamber body and the lid body can be easily, reliably and efficiently performed. It can be kept to a minimum by a safety mechanism.
以下、添付図を参照して本発明の好適な実施態様を説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
図1に、本発明の熱処理装置が適用可能な構成例として塗布現像処理システムを示す。この塗布現像処理システムは、クリーンルーム内に設置され、たとえばLCD基板を被処理基板とし、LCD製造プロセスにおいてフォトリソグラフィ工程の中の洗浄、レジスト塗布、プリベーク、現像およびポストベークの各処理を行うものである。露光処理は、このシステムに隣接して設置される外部の露光装置(図示せず)で行われる。 FIG. 1 shows a coating and developing treatment system as a configuration example to which the heat treatment apparatus of the present invention can be applied. This coating / development processing system is installed in a clean room and uses, for example, an LCD substrate as a substrate to be processed, and performs cleaning, resist coating, pre-baking, development, and post-baking in the photolithography process in the LCD manufacturing process. is there. The exposure process is performed by an external exposure apparatus (not shown) installed adjacent to this system.
この塗布現像処理システムは、大きく分けて、カセットステーション(C/S)10と、プロセスステーション(P/S)12と、インタフェース部(I/F)14とで構成される。 This coating and developing system is roughly divided into a cassette station (C / S) 10, a process station (P / S) 12, and an interface unit (I / F) 14.
システムの一端部に設置されるカセットステーション(C/S)10は、複数の基板Gを収容するカセットCを所定数たとえば4個まで載置可能なカセットステージ16と、このカセットステージ16上の側方でかつカセットCの配列方向と平行に設けられた搬送路17と、この搬送路17上で移動自在でステージ16上のカセットCについて基板Gの出し入れを行う搬送機構20とを備えている。この搬送機構20は、基板Gを保持できる手段たとえば搬送アームを有し、X,Y,Z,θの4軸で動作可能であり、後述するプロセスステーション(P/S)12側の搬送装置38と基板Gの受け渡しを行えるようになっている。
A cassette station (C / S) 10 installed at one end of the system includes a
プロセスステーション(P/S)12は、上記カセットステーション(C/S)10側から順に洗浄プロセス部22と、塗布プロセス部24と、現像プロセス部26とを基板中継部23、薬液供給ユニット25およびスペース27を介して(挟んで)横一列に設けている。
The process station (P / S) 12 includes, in order from the cassette station (C / S) 10 side, a
洗浄プロセス部22は、2つのスクラバ洗浄ユニット(SCR)28と、上下2段の紫外線照射/冷却ユニット(UV/COL)30と、加熱ユニット(HP)32と、冷却ユニット(COL)34とを含んでいる。
The
塗布プロセス部24は、スピンレス方式のレジスト塗布ユニット(CT)40と、減圧乾燥ユニット(VD)42と、上下2段型アドヒージョン/冷却ユニット(AD/COL)46と、上下2段型加熱/冷却ユニット(HP/COL)48と、加熱ユニット(HP)50とを含んでいる。
The
現像プロセス部26は、3つの現像ユニット(DEV)52と、2つの上下2段型加熱/冷却ユニット(HP/COL)53と、加熱ユニット(HP)55とを含んでいる。
The
各プロセス部22,24,26の中央部には長手方向に搬送路36,51,58が設けられ、搬送装置38,54,60がそれぞれ搬送路36,51,58に沿って移動して各プロセス部内の各ユニットにアクセスし、基板Gの搬入/搬出または搬送を行うようになっている。なお、このシステムでは、各プロセス部22,24,26において、搬送路36,51,58の一方の側に液処理系のユニット(SCR,CT,DEV等)が配置され、他方の側に熱処理系のユニット(HP,COL等)が配置されている。
Conveying
システムの他端部に設置されるインタフェース部(I/F)14は、プロセスステーション12と隣接する側にイクステンション(基板受け渡し部)56およびバッファステージ57を設け、露光装置と隣接する側に搬送機構59を設けている。この搬送機構59は、Y方向に延在する搬送路19上で移動自在であり、バッファステージ57に対して基板Gの出し入れを行なうほか、イクステンション(基板受け渡し部)56や隣の露光装置と基板Gの受け渡しを行うようになっている。
The interface unit (I / F) 14 installed at the other end of the system is provided with an extension (substrate transfer unit) 56 and a
図2に、この塗布現像処理システムにおける処理の手順を示す。先ず、カセットステーション(C/S)10において、搬送機構20が、ステージ12上の所定のカセットCの中から1つの基板Gを取り出し、プロセスステーション(P/S)12の洗浄プロセス部22の搬送装置38に渡す(ステップS1)。
FIG. 2 shows a processing procedure in this coating and developing processing system. First, in the cassette station (C / S) 10, the
洗浄プロセス部22において、基板Gは、先ず紫外線照射/冷却ユニット(UV/COL)30に順次搬入され、最初の紫外線照射ユニット(UV)では紫外線照射による乾式洗浄を施され、次の冷却ユニット(COL)では所定温度まで冷却される(ステップS2)。この紫外線洗浄では主として基板表面の有機物が除去される。
In the
次に、基板Gはスクラバ洗浄ユニット(SCR)28の1つでスクラビング洗浄処理を受け、基板表面から粒子状の汚れが除去される(ステップS3)。スクラビング洗浄の後、基板Gは、加熱ユニット(HP)32で加熱による脱水処理を受け(ステップS4)、次いで冷却ユニット(COL)34で一定の基板温度まで冷却される(ステップS5)。これで洗浄プロセス部22における前処理が終了し、基板Gは、搬送装置38により基板受け渡し部23を介して塗布プロセス部24へ搬送される。
Next, the substrate G is subjected to a scrubbing cleaning process by one of the scrubber cleaning units (SCR) 28 to remove particulate dirt from the substrate surface (step S3). After the scrubbing cleaning, the substrate G is subjected to dehydration treatment by heating in the heating unit (HP) 32 (step S4), and then cooled to a constant substrate temperature by the cooling unit (COL) 34 (step S5). Thus, the pretreatment in the
塗布プロセス部24において、基板Gは、先ずアドヒージョン/冷却ユニット(AD/COL)46に順次搬入され、最初のアドヒージョンユニット(AD)では疎水化処理(HMDS)を受け(ステップS6)、次の冷却ユニット(COL)で一定の基板温度まで冷却される(ステップS7)。
In the
その後、基板Gは、レジスト塗布ユニット(CT)40でスピンレス法によりレジスト液を塗布され、次いで減圧乾燥ユニット(VD)42で減圧による乾燥処理を受ける(ステップS8)。 Thereafter, the substrate G is coated with a resist solution by a spinless method in a resist coating unit (CT) 40, and then subjected to a drying process by reduced pressure in a reduced pressure drying unit (VD) 42 (step S8).
次に、基板Gは、加熱/冷却ユニット(HP/COL)48に順次搬入され、最初の加熱ユニット(HP)では塗布後のベーキング(プリベーク)が行われ(ステップS9)、次に冷却ユニット(COL)で一定の基板温度まで冷却される(ステップS10)。なお、この塗布後のベーキングに加熱ユニット(HP)50を用いることもできる。 Next, the substrate G is sequentially carried into the heating / cooling unit (HP / COL) 48, and the first heating unit (HP) performs baking after coating (pre-baking) (step S9), and then the cooling unit ( COL) to cool to a constant substrate temperature (step S10). In addition, the heating unit (HP) 50 can also be used for baking after this application | coating.
上記塗布処理の後、基板Gは、塗布プロセス部24の搬送装置54と現像プロセス部26の搬送装置60とによってインタフェース部(I/F)14へ搬送され、そこから露光装置に渡される(ステップS11)。露光装置では基板G上のレジストに所定の回路パターンを露光される。そして、パターン露光を終えた基板Gは、露光装置からインタフェース部(I/F)14に戻される。インタフェース部(I/F)14の搬送機構59は、露光装置から受け取った基板Gをイクステンション56を介してプロセスステーション(P/S)12の現像プロセス部26に渡す(ステップS11)。
After the coating process, the substrate G is transported to the interface unit (I / F) 14 by the
現像プロセス部26において、基板Gは、現像ユニット(DEV)52のいずれか1つで現像処理を受け(ステップS12)、次いで加熱/冷却ユニット(HP/COL)53の1つに順次搬入され、最初の加熱ユニット(HP)ではポストベーキングが行われ(ステップS13)、次に冷却ユニット(COL)で一定の基板温度まで冷却される(ステップS14)。このポストベーキングに加熱ユニット(HP)55を用いることもできる。
In the
現像プロセス部26での一連の処理が済んだ基板Gは、プロセスステーション(P/S)24内の搬送装置60,54,38によりカセットステーション(C/S)10まで戻され、そこで搬送機構20によりいずれか1つのカセットCに収容される(ステップS1)。
The substrate G that has undergone a series of processing in the
この塗布現像処理システムにおいては、たとえば塗布プロセス部24のアドヒージョンユニット(AD)46に本発明を適用することができる。以下、図3〜図10につき本発明をアドヒージョンユニット(AD)46に適用した一実施形態を説明する。
In this coating and developing system, the present invention can be applied to, for example, an adhesion unit (AD) 46 of the
図3および図4に、この実施形態におけるアドヒージョンユニット(AD)46の全体構成を示す。図5〜図7に、このユニット(AD)46内の要部の構成を示す。 3 and 4 show the overall configuration of the adhesion unit (AD) 46 in this embodiment. 5 to 7 show a configuration of a main part in the unit (AD) 46. FIG.
このアドヒージョンユニット(AD)46は、四角形のベース板60の外周端部の上にたとえばステンレス製の角柱または角筒からなる複数本の柱62および梁64を組んで構成される直方体形状のフレーム66を有しており、このフレーム66の内側に固定式のチャンバ本体68と昇降可能な蓋体70を設けている。
The adhesion unit (AD) 46 has a rectangular parallelepiped shape formed by assembling a plurality of
より詳細には、チャンバ本体68は、基板Gよりもサイズ(面積)が一回り大きな上面の開口した扁平な直方体の下部容器として構成され(図5)、ジョイント金具71を介してベース板60上に固定されている(図4)。
More specifically, the
蓋体70は、チャンバ本体68とほぼ同サイズ(面積)の下面の開口した扁平な直方体の上部容器として構成され(図5)、一水平方向(X方向)に延びる複数本の第1水平支持部材72に固定されている(図3、図4)。そして、各々の第1水平支持部材72の両端部はこれと直交する水平方向(Y方向)に延びる左右一対の第2水平支持部材74に固定され、各々の第2水平支持部材74はベース板60上に垂直に立設されたエアシリンダ76のピストンロッド78に結合されている(図3、図4)。各エアシリンダ76のピストンロッド78が垂直上方に往動または前進移動すると、水平支持部材74,72と一体に蓋体70が垂直上方に移動(上昇)し、各エアシリンダ76のピストンロッド78が垂直下方に復動または後退移動すると、水平支持部材74,72と一体に蓋体70が垂直下方に移動(下降)するようになっている。各エアシリンダ76の両側には、かかる昇降運動を安定に行うために、各々の第2水平支持部材74を昇降可能に支持するガイド部80が設けられている(図3)。
The
図5に示すように、チャンバ本体68内には、基板Gに対応した形状(四角形)およびサイズの熱板82が水平に配置され、金具84によって固定されている。この熱板82は熱伝導率の高い金属たとえばアルミニウムからなり、その内部または下面にはたとえば抵抗発熱体からなるヒータ(図示せず)が設けられている。また、外部の搬送機構54(図1)と基板Gの受け渡しを行うために熱板82の貫通孔86から複数本のリフトピン88を出没させて基板Gを上げ下げするリフトピン機構90も設けられている。このリフトピン機構90においてリフトピン88を垂直に支持する水平支持板92はチャンバ本体68内で熱板82の下に配置され、水平支持板92を昇降移動させるたとえばエアシリンダからなる昇降駆動部(図示せず)はチャンバ本体68の内側または外側に配置される。
As shown in FIG. 5, a
チャンバ本体68の外周縁部(側壁上端面)には周回方向に延びる無端状のシール部材94が取り付けられている。蓋体70をチャンバ本体68に合体させるときは、蓋体70の外周縁部(側壁下端面)がシール部材94の上に載って適当な圧力で押し付けられ、蓋体70とチャンバ本体68との間に気密な処理室96が形成されるようになっている。
An
図3、図4および図5に示すように、蓋体70の一側面にはHMDSガス導入ポート98が設けられ、このHMDSガス導入ポート98と対向する他方の側面には排気ポート100が設けられている。より詳細には、HMDSガス導入ポート98は、蓋体70の一側面に適当な間隔を置いて形成された複数の貫通孔102に外側からガス供給管104の終端継手106をそれぞれ差し込み、その内側(内壁)に取り付けたバッファ室108に一定の間隔で多数のガス吐出口110を形成している。排気ポート100は、HMDSガス導入ポート98と対向する蓋体70の側面に一定間隔で多数の通気孔112を形成するとともに、その裏側(外側)に排気ダクト室114を設けている。この排気ダクト室114の底に形成された排気口116は排気管118を介して排気ポンプ(図示せず)に通じている。
As shown in FIGS. 3, 4, and 5, an HMDS
このアドヒージョンユニット(AD)46においてアドヒージョン処理を行うときは、リフトピン機構90により基板Gを熱板82上に載置した後に、エアシリンダ76の下降駆動により蓋体70を所定の退避位置から垂直に下ろしてチャンバ本体68に合わせチャンバを閉じる(図4、図5)。基板Gは熱板82によって所定温度たとえば110℃に加熱される。そして、上記排気ポンプによりチャンバまたは処理室96を排気しながら、HMDSガス供給源(図示せず)よりHMDSガスをガス供給管104およびHMDSガス導入ポート98を介して処理室96に供給する。処理室96内では、HMDSガス導入ポート98のガス吐出口110より均一な層流で噴出されたHMDSガスが、排気ポート100に向って流れ、途中で基板Gの上面(被処理面)に付着する。余ったHMDSガスは排気ポート100において通気孔112から排気ダクト室114へ送られ、そこから排気ポンプに引かれて排出される。所定の処理時間が経過すると、HMDSガス供給源および排気ポンプを停止させてから、エアシリンダ76の上昇駆動により蓋体70をチャンバ本体68から上方に引き離し、そのまま所定の退避位置まで持ち上げる。しかる後、リフトピン機構90がリフトピン88を上昇させて基板Gを熱板82の上方(図5の仮想線G'で示す位置)へ持ち上げ、搬送装置54(図1)に引き取らせる。ユニット内の各部および全体の動作はコントローラ(図示せず)の制御の下で行われる。
When performing the adhesion process in the adhesion unit (AD) 46, the
なお、図3においては、アドヒージョンユニット(AD)46の片側[A]が搬送装置54の稼動する搬送路31(図1)側であり、反対側[B]が空きスペースになっている。通常の装置点検やメンテナンス等では、作業員が空きスペースの[B]側からユニット(AD)46内にアクセスする(手を入れる)ことになる。しかし、時には搬送路31の[A]側からアクセスすることもあり、さらには隣のユニット側からアクセスする可能性もある。
In FIG. 3, one side [A] of the adhesion unit (AD) 46 is the transport path 31 (FIG. 1) side on which the
このアドヒージョンユニット(AD)46においては、図3および図4に示すように、蓋体70の外周に沿ってフレーム66の内側を一周するように非常ワイヤ120がほぼ水平に張られている。より詳細には、蓋体70の外周に沿って周回方向に適当な間隔を置いて複数のリール形プーリ122が同一の高さ位置(図示の例では蓋体70の退避位置よりも少し高い位置)に設けられ、これらのプーリ122に1本の非常ワイヤ120が適度な張力で掛け渡される。各プーリ122は、フレーム66の各角部に金具124を介して取り付けられる。非常ワイヤ120は、伸び縮みし難い剛体たとえばステンレスからなり、その両端は個別のワイヤ端支持部126,128に支持される。
In this adhesion unit (AD) 46, as shown in FIGS. 3 and 4, the
図6に示すように、一方のワイヤ端支持部126は、固定ブロック130の盲孔に差し込まれたボルト132と、このボルト132を固定ブロック130に固定するナット134と、ボルト132の先端部に取り付けられたワイヤ係止用の金具136とからなり、金具136に非常ワイヤ120の一方の端部を固定した位置で係止している。他方のワイヤ端支持部128は、固定ブロック130の貫通孔に貫通して差し込まれたボルト138と、このボルト138を固定ブロック130に両側から固定する一対のナット140,142と、ボルト138の先端部に取り付けられたワイヤ係止用の金具144とからなり、ボルト138の軸方向つまり非常ワイヤ120の長さ方向に調節可能な位置でワイヤ金具144に非常ワイヤ120の他方の端部を係止している。ワイヤ端支持部128においては、両ナット140,142を緩めることで、ボルト138を軸方向に動かすことができ、非常ワイヤ120に所望の張力を与える位置で両ナット140,142を再び締めればよい。これによって、非常ワイヤ120に定常状態で与える張力を任意に調整できるようになっている。なお固定ブロック130は金具144を介してフレーム66に固定される。
As shown in FIG. 6, one wire
図3、図7および図8に示すように、非常ワイヤ120にはたとえば人力操作弁からなる切換スイッチ146が結合または連結されている。図示の例の切換スイッチ146はデテント付きの5ポート方向制御弁(エアバルブ)であり、その操作棹146aに取り付けたピン148に非常ワイヤ120を擦動可能に係止させている。
As shown in FIGS. 3, 7, and 8, the
図3および図7に示すように、定常状態では、つまり操作棹146aが復動位置にあるときは、非常ワイヤ120が切換スイッチ146付近でまっすぐではなく折れた状態で(遠回りして)ピン148に係止している。この切換スイッチ146付近で非常ワイヤ120の折れる角度を可及的に大きくするために、ピン148の両側近傍にプーリ122,150を配置している。
As shown in FIGS. 3 and 7, in a steady state, that is, when the
非常時に、非常ワイヤ120が任意の箇所で引っ張られると、たとえばユニット正面の[B]側で図3の矢印Fの方向に引っ張られると、非常ワイヤ120の全長に亘って張力が一段と増す結果、図7の仮想線(一点鎖線)120”で示すように切換スイッチ146付近で非常ワイヤ120がぴんとまっすぐ張る方向に変位し、これによって切換スイッチ146のピン148を往動させる(引く)。そうすると、切換スイッチ146内の流路が切り換わり、後述するように、このスイッチングに応動して直ちに蓋体70を強制的に退避位置へ復動させて退避位置に保持する動作が蓋体昇降機構において行われるようになっている。
In an emergency, when the
図7および図8に示すように、切換スイッチ146の操作棹146aを往動位置から復動位置へ手動で戻すためのリセット用操作棒150も設けられている。フレーム66に取り付けられた水平支持板152に垂直支持板154が固定され、この垂直支持板154に切換スイッチ146が取り付けられる。リセット用操作棒150も、ガイド156を介して垂直支持板154に取り付けられる。図3に示すように、切換スイッチ146は、メンテナンスアクセスの頻度が最も高い空きスペースの[B]側に配置されており、リセット用操作棒150が操作されやすくなっている。
As shown in FIGS. 7 and 8, there is also provided a
上記のように非常ワイヤ120が引っ張られる場面は、このアドヒージョンユニット(AD)46が稼動している時にチャンバ本体68と蓋体70の間に誤って人の腕や手が挟まれたときである。この場合、エアシリンダ76は蓋体70を下ろす方向に、つまりピストンロッド78を復動または後退移動させる方向に推力を発生しており、この力に打ち勝って当人が自ら腕や手を引き抜くのは容易ではない。しかし、通常、腕や手が挟まれるときは片方であり、もう片方の腕や手はフリーになっている。そこで、フリーになっている手を利かせて非常ワイヤ120を手前に引っ張ればよい。そうすると、上記のように、非常ワイヤ120を通じて人力操作式の切換スイッチ146を自ら手動操作することができ、蓋体昇降機構の強制動作によりエアシリンダ76の推力を逆転させて、図9に示すように蓋体70を強制的に退避位置まで復動(上昇移動)させ、挟まれた腕や手を直ぐ抜くことができる。
As described above, the
なお、図4および図9に示すように、非常ワイヤ120には適当な間隔を置いて複数の個所にこのワイヤ120の機能を示す表示“IF IT PULLS, A TOP COVER UP”を記載したラベル125が付けられる。このラベル表示により、このアドヒージョンユニット(AD)46に初めて接する人も、非常ワイヤ120の存在および機能に気づくことができる。
As shown in FIGS. 4 and 9, the
この実施形態では、切換スイッチ146をエアバルブで構成し、エアシリンダ76を駆動するエアシリンダ駆動回路(空気圧回路)の中に切換スイッチ146を組込んでいる。
In this embodiment, the
図10に、この実施形態におけるエアシリンダ駆動回路の構成を示す。各エアシリンダ76は、定常時には、電磁弁からなる5ポートの方向制御弁160によって往動動作と復動動作とを切り換えられる。より詳細には、方向制御弁160の給気口Pおよび排気口Rは、工場用力の高圧エア供給源162および排気源164にそれぞれ接続されている。方向制御弁160の一方の出口Aは配管166を介して各エアシリンダ76の上部ポート76aに接続されており、他方の出口Bは配管168を介して各エアシリンダ76の下部ポート76bに接続されている。配管166の途中には、自己保持回路170、急速排気弁172およびスピードコントローラ174が設けられている。配管168の途中には、急速排気弁176、自己保持回路172およびスピードコントローラ178が設けられている。
FIG. 10 shows the configuration of the air cylinder drive circuit in this embodiment. Each
方向制御弁160は、上記コントローラの制御の下で流路の切り換えを行う。すなわち、チャンバを閉めるため蓋体70をチャンバ本体68に合わせるときは、出口Aを給気口Pに接続し、出口Bを排気口Rに接続する。そうすると、高圧エア供給源162からの高圧エアは、方向制御弁160の給気口P→出口Bを通って配管166側に抜け、配管166を通ってエアシリンダ76の上部ポート76aに供給される。一方、エアシリンダ76の下部ポート76bから排出されるエアは、配管168を通り、方向制御弁160の出口B→排気口Rを経由して排気源164へ引かれる。
The
また、チャンバを開けるため蓋体70をチャンバ本体68から上方へ引き離すときは、方向制御弁160において、出口Aを排気口Rに接続し、出口Bを給気口Pに接続する。これにより、高圧エア供給源162からの高圧エアは、方向制御弁160の給気口P→出口Bを通って配管168側に抜け、配管168を通ってエアシリンダ76の下部ポート76bに供給される。一方、エアシリンダ76の上部ポート76aから排出されるエアは、配管166を通り、方向制御弁160の出口A→排気口Rを経由して排気源164へ引かれる。
When the
この実施形態における非常スイッチ機構は、上記した切換スイッチを構成する人力操作式の5ポート方向制御弁146に加えて、配管166,168にそれぞれ設けられるパイロット作動方式のたとえば3ポート方向制御弁180,182を有している。3ポート方向制御弁180はノーマルクローズ形であり、その一方の入口は配管166の上流側つまり方向制御弁160の出口Aに接続され、他方の入口は排気源164に接続され、出口は配管166の下流側に接続されている。3ポート方向制御弁182はノーマルオープン形であり、その一方の入口は配管168の上流側つまり方向制御弁160の出口Bに接続され、他方の入口は高圧ガス源162に接続され、出口は配管168の下流側に接続されている。
In this embodiment, the emergency switch mechanism includes, for example, a pilot-operated three-port
5ポート方向制御弁146において、一方の入口または給気口Pは高圧エア源162に接続され、他方の入口または排気口R'は排気源184に接続されている。また、一方の出口Aは方向制御弁182のパイロット口に接続され、他方の出口Bは方向制御弁180のパイロット口に接続されている。
In the 5-port
定常時は、切換スイッチ(5ポート方向制御弁)146の操作棹146aが原位置または復動位置に切り換わっており、出口Aが排気口R'に接続され、出口Bが給気口Pに接続されている。これにより、方向制御弁180,182の出口はそれぞれ上流側の配管166,168を介して方向制御弁160の出口A,Bにそれぞれ接続されている。すなわち、配管166,168上に方向制御弁180,182がない場合と同じであり、コントローラは方向制御弁160を介してエアシリンダ76の動作を任意に制御することができる。
Normally, the
非常時、すなわち上記のように非常ワイヤ120が引っ張られて切換スイッチ(5ポート方向制御弁)146の操作棹146aが往動すると、この方向制御弁146の出口A,Bがそれぞれ給気口P、排気口R'に接続され、方向制御弁180においてはその出口が排気源164に接続され、方向制御弁182においてはその出口が高圧ガス源162に接続される。このような切換スイッチ(5ポート方向制御弁)146による強制的な切り換えにより、コントローラや方向制御弁160側の制御とは関係なく、高圧ガス源162が方向制御弁182および配管168を介してエアシリンダ76の下部ポート76bに接続されるとともに、排気源164が方向制御弁180および配管166を介してエアシリンダ76の上部ポート76aに接続される。これにより、エアシリンダ76はピストンロッド78を往動または前進移動させる動作に切り換わる。この強制的な切り換えは、切換スイッチ(5ポート方向制御弁)146のデテント(自己保持)機能により手動操作棒150(図7、図8)でリセットされるまで保持される。
In an emergency, that is, when the
上記のように、この実施形態のアドヒージョンユニット(AD)46においては、人が誤ってチャンバ本体68と蓋体70の間に腕や手を挟まれたときは、もう片方の手で付近を通る非常ワイヤ120を引っ張れば、非常スイッチ機構が働いて蓋体70を強制アップ(開放)させるようにしたので、挟まれた腕や手を直ぐ抜くことができ、損傷や火傷から免れることができる。
As described above, in the adhesion unit (AD) 46 of this embodiment, when a person accidentally sandwiches an arm or hand between the chamber
さらに、非常時には、非常スイッチ機構のスイッチングと連動してコントローラが他の安全処置を執ることも可能である。たとえば、エアシリンダ76にピストンロッド78の位置を検出するセンサを取り付けた場合は、正常なシーケンスでは予期しない場面またはタイミングでピストンロッド78が往復位置まで移動したときに、該センサの出力信号を基にコントローラは非常事態を認識し、所要の安全処置を執ることができる。たとえば、熱板82の発熱を停止させたり、HMDSガス供給部からのHMDSガスの供給を停止または中止させてよい。さらには、図示省略するが、チャンバ本体68またはその付近に冷いエアを吹き込む機構を装備した場合は、この場面でその冷却エア供給機構を作動させてよい。
Furthermore, in the event of an emergency, the controller can take other safety measures in conjunction with the switching of the emergency switch mechanism. For example, when a sensor for detecting the position of the
また、上記した実施形態では、非常ワイヤ120を蓋体70よりも少し高い位置でその外周に沿って一周するように張っていた。しかし、非常ワイヤ120を張る高さ位置や範囲(領域)等は任意に選定できる。基本的には、フレーム66の内側であれば、非常ワイヤ120を任意の高さ位置、範囲、傾きで張ってもよい。また、必要に応じてフレーム66の外側に非常ワイヤ120を出してもよく、複数台のアドヒージョンユニット(AD)46を多段に重ねる場合は、複数台で1本の非常ワイヤ120を兼用させることも可能である。また、上記した実施形態においてエアシリンダを油圧シリンダや電動アクチエータに置き換えることも可能である。非常スイッチ機構も種々の変形が可能であり、たとえば切換スイッチ(5ポート方向制御弁)146を電磁弁や他の方式のアクチエータで代用することも可能である。
Further, in the above-described embodiment, the
上記した実施形態はアドヒージョンユニット(AD)46に係るものであったが、上記実施形態の塗布現像処理システムにおいては塗布プロセス部24の減圧乾燥ユニット(VD)42も上蓋開閉式の熱処理装置であるから、この減圧乾燥ユニット(VD)42にも本発明を適用することができる。その他にも、任意の上蓋開閉式の熱処理装置に本発明は適用可能である。
The above-described embodiment relates to the adhesion unit (AD) 46. However, in the coating and developing treatment system of the above-described embodiment, the vacuum drying unit (VD) 42 of the
本発明における被処理基板はLCD基板に限るものではなく、フラットパネルディスプレイ用の各種基板や、半導体ウエハ、CD基板、ガラス基板、フォトマスク、プリント基板等も可能である。 The substrate to be processed in the present invention is not limited to an LCD substrate, and various substrates for flat panel displays, semiconductor wafers, CD substrates, glass substrates, photomasks, printed substrates, and the like are also possible.
10 塗布現像処理システム
24 洗浄プロセス部
46 アドヒージョンユニット(AD)
66 フレーム
68 チャンバ本体
70 蓋体
76 エアシリンダ
98 HMDSガス導入ポート
100 排気ポート
120 非常ワイヤ
122,150 プーリ
126,128 ワイヤ端支持部
146 切換スイッチ(人力操作式5ポート方向制御弁)
150 リセット用手動操作棒
160 5ポート方向制御弁(電磁弁)
162 高圧ガス源
164 排気源
166,168 配管
180,182 3ポート方向制御弁
10 Coating and
66
150 Manual operation rod for
162 High-
Claims (19)
前記チャンバ本体の直上で昇降可能に設けられ、被処理基板に所望の熱的処理を施す処理室を形成するために前記チャンバ本体に合わせられる蓋体と、
前記蓋体を支持し、かつ前記チャンバ本体に合わさる第1の位置と前記チャンバ本体から上方に所定の距離だけ離間する第2の位置との間で昇降移動させる昇降機構と、
前記チャンバ本体または前記蓋体の付近に張られた非常ワイヤと、
前記非常ワイヤの任意の箇所に所定値以上の外力が加えられた時に、前記非常ワイヤの変位を通じて第1の状態から第2の状態へ切り換わる非常スイッチ機構と
を有し、前記非常スイッチ機構の前記第1の状態から前記第2の状態への切り換わりに応動して前記昇降機構が前記蓋体を前記第2の位置へ強制的に移動させ、または前記第2の位置に強制的に保持する熱処理装置。 A chamber body with an open top;
A lid that can be moved up and down directly above the chamber body, and is fitted to the chamber body to form a processing chamber for performing a desired thermal treatment on the substrate to be processed;
A lifting mechanism that supports the lid and moves up and down between a first position that fits the chamber body and a second position that is spaced apart from the chamber body by a predetermined distance;
An emergency wire stretched in the vicinity of the chamber body or the lid;
An emergency switch mechanism that switches from a first state to a second state through displacement of the emergency wire when an external force of a predetermined value or more is applied to an arbitrary part of the emergency wire. In response to the switching from the first state to the second state, the elevating mechanism forcibly moves the lid to the second position or forcibly holds the lid in the second position. Heat treatment equipment.
前記蓋体を前記第2の位置から前記第1の位置へ下降移動させるために、前記シリンダの第1のポートに高圧を供給すると同時に前記シリンダの第2のポートに低圧を供給し、
前記蓋体を前記第1の位置から前記第2の位置へ上昇移動させるために、前記シリンダの第1のポートに低圧を供給すると同時に前記シリンダの第2のポートに高圧を供給する請求項10に記載の熱処理装置。 The elevating mechanism supplies high pressure to the first port of the cylinder and simultaneously supplies low pressure to the second port of the cylinder so that the lid moves downward from the second position to the first position. And
The high pressure is supplied to the second port of the cylinder at the same time as the low pressure is supplied to the first port of the cylinder in order to move the lid upward from the first position to the second position. The heat processing apparatus as described in.
高圧源に接続された第1の入口と、低圧源に接続された第2の入口と、前記シリンダの第1のポートに第1の配管を介して接続された第1の出口と、前記シリンダの第2のポートに第2の配管を介して接続された第2の出口とを有する第1の方向制御弁を有し、
前記蓋体を前記第2の位置から前記第1の位置へ下降移動させるために、前記第1の方向制御弁内で前記第1の出口を前記第1の入口に接続するとともに前記第2の出口を前記第2の入口に接続し、
前記蓋体を前記第1の位置から前記第2の位置へ上昇移動させるために、前記第1の方向制御弁内で前記第1の出口を前記第2の入口に接続するとともに前記第2の出口を前記第1の入口に接続する請求項11に記載の熱処理装置。 The lifting mechanism is
A first inlet connected to a high pressure source; a second inlet connected to a low pressure source; a first outlet connected to a first port of the cylinder via a first pipe; and the cylinder A first directional control valve having a second outlet connected to the second port of the second port via a second pipe,
In order to move the lid down from the second position to the first position, the first outlet is connected to the first inlet in the first directional control valve and the second Connecting an outlet to the second inlet;
In order to raise the lid from the first position to the second position, the first outlet is connected to the second inlet in the first directional control valve and the second The heat treatment apparatus according to claim 11, wherein an outlet is connected to the first inlet.
前記第1の配管の途中に設けられ、前記第1の方向制御弁の第1の出口に接続された第1の入口と、前記低圧源に接続された第2の入口と、前記シリンダの第1のポートに接続された出口とを有する第2の方向制御弁と、
前記第2の配管の途中に設けられ、前記第1の方向制御弁の第2の出口に接続された第1の入口と、前記高圧源に接続された第2の入口と、前記シリンダの第2のポートに接続された出口とを有する第3の方向制御弁と、
前記第2および第3の方向制御弁を切換操作するために前記第1の状態に対応する復動位置と前記第2の状態に対応する往動位置との間で変位するように前記非常ワイヤに連結されたアクチエータと
を有し、前記アクチエータが前記復動位置に在るときは前記第2および第3の方向制御弁をそれぞれの前記出口が前記第1の入口と接続するように切り換え、前記アクチエータが前記往動位置に在るときは前記第2および第3の方向制御弁をそれぞれの前記出口が前記第2の入口と接続するように切り換える請求項12に記載の熱処理装置。 The emergency switch mechanism is
A first inlet connected to a first outlet of the first directional control valve; a second inlet connected to the low pressure source; and a second inlet of the cylinder. A second directional control valve having an outlet connected to the one port;
A first inlet connected to a second outlet of the first directional control valve; a second inlet connected to the high pressure source; and a second of the cylinder. A third directional control valve having an outlet connected to the two ports;
In order to switch the second and third directional control valves, the emergency wire is displaced between a backward movement position corresponding to the first state and a forward movement position corresponding to the second state. And when the actuator is in the return position, the second and third directional control valves are switched so that the respective outlets are connected to the first inlet, The heat treatment apparatus according to claim 12, wherein when the actuator is in the forward movement position, the second and third directional control valves are switched so that the respective outlets are connected to the second inlet.
前記アクチエータが、前記高圧源に接続された第1の入口と、前記低圧源に接続された第2の入口と、前記第2の方向制御弁のパイロット口に接続された第1の出口と、前記第3の方向制御弁のパイロット口に接続された第2の出口とを有する人力操作式の第4の方向制御弁からなる請求項13に記載の熱処理装置。 Each of the second and third directional control valves comprises a pilot operated valve;
A first inlet connected to the high pressure source; a second inlet connected to the low pressure source; a first outlet connected to a pilot port of the second directional control valve; The heat treatment apparatus according to claim 13, comprising a manually operated fourth directional control valve having a second outlet connected to a pilot port of the third directional control valve.
前記処理室からガスを排出するための排気部と
を有する請求項1〜15のいずれか一項に記載の熱処理装置。 A processing gas supply unit for supplying a predetermined processing gas into the processing chamber formed by combining the lid body with the chamber body;
The heat processing apparatus as described in any one of Claims 1-15 which has an exhaust part for discharging | emitting gas from the said process chamber.
The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 18, wherein a cooling gas is supplied to the chamber body in response to switching of the emergency switch mechanism from the first state to the second state.
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