JP2007026853A - 画像表示装置 - Google Patents

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重實 平澤
Masakatsu Okubo
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Abstract

【課題】 スペーサ近傍における画像歪みが生じない白色再現性の高い画像表示が得られる画像表示装置を提供する。
【課題手段】 前面基板2と背面基板1との表示領域内に配置された複数のスペーサ12は、最表面がセラミックス材料で形成され、その側壁面に二次電子放出能が2.0以下となる抵抗膜13を設けることにより、スペーサ12の表面電位が制御されるので、ビームランディングが安定化され、画像歪みのない白色均一性の高い画像表示装置が得られる。
【選択図】 図4

Description

本発明は、画像表示装置に係わり、特に蛍光面が形成された前面基板と電子放出素子が形成された背面基板との対向面間に複数の間隔保持部材を備えた画像表示装置に関し、詳細には間隔保持部材の放電対策構造に関するものである。
電子を蛍光面に衝突させて発光させて画像を表示する表示装置は、例えば、電界放出型電子源を備えた電界放出型表示装置(Field Emission Display)や表面伝導型電子源を備えた表面伝導型表示装置に代表される冷陰極を備えた薄型CRT(Thin Cathode Ray Tube)や熱陰極を備えたブラウン管などがある。
薄型CRTは、複数の電子放出素子を備えた背面基板と、蛍光面を備えた前面基板と背面基板と前面基板とを封止する支持体(支持枠またはパネル枠体とも称する)とで薄型CRTの外囲器(容器とも称する)を構成している。外囲器内部は、電子放出素子から放出された電子の移動を容易にするために高真空度に保持されている。電子放出素子から放出された電子が電子放出素子に対向して配置した蛍光面に衝突して画像が表示される。
この外囲器は、大気圧に十分に耐えられるように設計されているが、特に画面サイズが大きい画像表示装置は、前面基板または背面基板が外囲器の内側方向に凹むことから、その画像表示領域内に間隔保持部材(以下、スペーサと称する)を配置し、前面基板及び背面基板の内側方向への凹みを抑制している。
スペーサは、前面基板と背面基板との導通を防ぐため、通常、絶縁性材料で形成される。背面基板には電子放出素子に電圧を印加するための配線が形成され、前面基板には陽極が形成されているため、前面基板と背面基板との導通を防止する必要がある。
ここで、スペーサを絶縁性材料で形成すると、スペーサが帯電し、新たな課題が発生する。スペーサが帯電することにより、スペーサ近傍の電界が歪み、電子放出素子から放出された電子が所定の蛍光面に到達できず、結果としてスペーサ近傍の画像表示が歪むことになる。
下記特許文献1には、このような問題を解決する手段が開示されている。この特許文献1では、絶縁体部材により形成されたスペーサの表面にカーボンを分散させた高抵抗膜からなる帯電防止膜を形成するか、またはこの高抵抗膜の表面にカーボンを島状に堆積した帯電防止膜を形成し、この帯電防止膜を電子源及び電極に電気的に接続することにより、電子線放射による二次電子の発生を防止している。
特許第3230729号公報
しかしながら、このように構成される画像表示装置は、スペーサの表面に塗布された高抵抗膜中にはカーボンが島状に堆積した帯電防止膜で覆っていることから、電子線放射による二次電子量の発生を防止できる反面、動作時における高電圧印加時には絶縁破壊が起こり易いという課題があった。
したがって、本発明は、上述した従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、スペーサの表面電位を制御させて電子線のビームランディングを安定化させることにより、スペーサ近傍における画像歪みが生じない白色均一性の高い画像表示が得られる画像表示装置を提供することにある。
このような目的を達成するために本発明による画像表示装置は、前面基板と背面基板との表示領域内に配置された複数の間隔保持部材が最表面がセラミックス材料で形成された間隔保持部材の側壁面に二次電子放出能が2.0以下の抵抗膜を設けることにより、間隔保持部材の表面電位が制御されるので、背景技術の課題を解決することができる。
本発明による他の画像表示装置は、好ましくは、上記構成において、抵抗膜はその膜表面に凹凸を設けることにより、間隔保持部材の表面電位が制御される。
本発明による他の画像表示装置は、好ましくは、上記構成において、抵抗膜は酸化クロムの微粒子を含むことにより、間隔保持部材の表面電位が制御される。
本発明による他の画像表示装置は、好ましくは、上記構成において、抵抗膜は高抵抗の導電膜とすることにより、間隔保持部材の表面電位が制御される。
本発明による他の画像表示装置は、好ましくは、上記構成において、抵抗膜は、表面抵抗が109Ω/□乃至1013Ω/□の範囲とすることにより、間隔保持部材の表面電位が制御される。
なお、本発明は、上記の構成及び後述する実施例の構成に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱することなく、種々の変更が可能である。
本発明による画像表示装置によれば、間隔保持部材の側壁面に二次電子放出能が2.0以下となる抵抗膜を設けることにより、間隔保持部材の表面電位が制御されて電子線の放射による二次電子量の発生を抑制できるので、抵抗膜の剥離及び高電圧印加時における絶縁破壊等が生じ難くなり、電子線のビームランディングが安定化され、スペーサ近傍における画像歪みが生じなくなる。したがって、白色均一性の高い画像表示が得られるので、品質及び信頼性の高い画像表示装置が得られるという極めて優れた効果を有する。
以下、本発明の具体的な実施の形態について、実施例の図面を参照して詳細に説明する。
図1および図2は、本発明による画像表示装置の実施例1の構成を説明する画像表示装置の図であり、図1(a)は前面基板側から見た平面図、図1(b)は図1(a)の矢印A方向から見た側面図、図2は図1の前面基板を取り去って示す背面基板の模式平面図、図3は図2のB−B線に沿って切断した背面基板とこの背面基板と対応する部分の前面基板の模式拡大断面図、図4は図2のC−C線に沿って切断した模式拡大断面図である。
図1乃至図4において、参照符号1は背面基板、2は前面基板であり、これらの背面基板1及び前面基板2は、厚さ数mm、例えば約3mm程度のガラス板から構成されている。3は枠体(フレーム)であり、この枠体3は、厚さ数mm、例えば約3mm程度のガラス板またはフリットガラスの焼結体から構成されている。4は排気管であり、この排気管4は背面基板1の背面に固着されている。枠体3は背面基板1と前面基板2との間に配置される。また、枠体3は画像表示領域の周縁部に画像表示領域を囲んで配置される。背面基板1および前面基板2と枠体3とを例えばフリットガラス等の封着部材5を介して気密封着して外囲器が構成される。
背面基板1と前面基板2と枠体3と封着部材5とで囲まれた空間は、排気管4を介して排気され、例えば10-3〜10-5Pa程度の真空に保持されている。また、排気管4は、背面基板1の外面に取り付けられてこの背面基板1を貫通して穿設された貫通孔7に連通している。排気管4を外囲器内部のガス排気完了後にチップオフして外囲器を封止する。
また、参照符号8は画像信号配線であり、この画像信号配線8は、背面基板1の内面に一方向(Y方向)に延在し、他方向(X方向)に並設されている。9は走査信号配線であり、この走査信号配線9は、画像信号配線8と交差する他方向(X方向)に延在し、一方向(Y方向)に並設されている。走査信号配線9は画像信号配線8よりも蛍光面側に形成される。10は電子放出素子であり、この電子放出素子10は、走査信号配線9と画像信号配線8との各交差部近傍に設けられ、走査信号配線9と電子放出素子10とは接続電極11で接続されている。また、画像信号配線8と、電子放出素子10及び走査信号配線9との間には層間絶縁膜INSが配置されている。
なお、画像信号配線8は例えばAl/Nd膜などの2層膜が用いられ、走査信号配線9は例えばIr/Pt/Au膜などの3層膜が用いられる。
また、参照符号12は背面基板1及び前面基板2が外囲器内部方向への凹みを防止するスペーサである。このスペーサ12は例えばセラミックス材(ガラス材を含む)などから構成されており、長方形の薄板形状に整形されている。このスペーサ基部の側壁には後述する導電性の抵抗膜13が形成されている。また、このスペーサ12は、通常では複数の画素毎に画素の動作を妨げない位置に配置されている。この実施例ではスペーサ12は走査信号配線9上に1本おきに直立に設置されている。
このスペーサ12の寸法は、背面基板1及び前面基板2の基板寸法,枠体3の高さ,スペーサ12の配置間隔,スペーサ素材などにより設定される。一般的には高さ寸法が支持体3と略同一寸法、厚さは数十μm〜数mm以下、長さは50mm〜400mm程度、好ましくは80mm〜250mmの範囲が実用的な値となる。
また、参照符号14は接着部材である。この接着部材14は、例えば接着用フリットガラスまたはガラス化成分と例えば銀とを含有した導電性の接着材などからなり、スペーサ12を背面基板1と前面基板2とに接着固定している。この接着部材14は、その組成にもよるが、厚さは接着固定の確保の点から数μm以上、望ましくは10〜40μm程度の厚さに設定される。
一方、前面基板2の内面には、赤色,緑色,青色用の蛍光体層15が遮光用のBM(ブラックマトリクス)膜16で区画されて配置され、これらを覆うようにアルミニウムの蒸着膜からなる反射膜としてのメタルバック膜(陽極電極)17が成膜されて蛍光面を形成している。この蛍光面構成により電子放出素子10から放射される電子を加速し、対応する画素を構成する蛍光体層15に射突させる。これによって蛍光体層15が所定の色光で発色し、他の画素の蛍光体に発光色と混合されて所定の色のカラー画素を構成する。また、メタルバック膜17は面電極として示してあるが、走査信号配線9と交差して画素列毎に分割されたストライプ状電極とすることもできる。
この画像表示装置に使用するスペーサ12は、例えばセラミックス材(ガラス材を含む)などの絶縁性材料により薄板状に成形して形成され、さらにこのスペーサ12の両側壁の表面には、ゾル−ゲル法により酸化クロムの微粒子を含有させた膜厚約1μm以下の導電性抵抗膜13が被着形成されている。この導電性抵抗膜13はその膜表面に酸化クロム粒子径(数μm)からなる微細な凹凸面が形成されて成膜される。また、この導電性抵抗膜13は、膜厚が約1μmを超えると、剥離し易くなるので、数10nm〜数100nmの範囲が好ましい。
なお、この導電性抵抗膜13は、溶媒に粒径が数μmの酸化クロムの微粒子を分散させた懸濁液をスペーサ12の両側壁面に塗布し、乾燥させた後、大気中にて約150℃〜200℃で加熱し、焼結させて硬化させる所謂ゾル−ゲル法を用いて容易に成膜される。
この導電性抵抗膜13を成膜するスペーサ12の基部の比抵抗は108〜1011Ω・cm程度である。また、この導電性抵抗膜13は、スペーサ12の長辺方向の両側壁面の全域に亘って均一な膜厚有して形成され、この表面抵抗は109Ω/□〜1013Ω/□程度である。
このように構成された画像表示装置は、スペーサ12の基部の両側壁面に抵抗膜13が約1μm以下のバラツキのない均一な膜厚で成膜され、安定性の高い帯電防止膜が得られるので、抵抗膜13のクラック及び剥離等の発生を防止でき、高電圧印加時における絶縁破壊を確実に防止することできる。
また、抵抗膜13がその膜表面に微粒子径程度の微細な凹凸面が形成されているので、沿面距離が長くとれ、二次電子の放出量が大幅に低減でき、反射電子を大幅に減少させることができる。よってスペーサ12の表面電位がコントロールされるので、ビームランディングが安定化されることなる。
なお、前述した実施例においては、スペーサ12の両側壁面に抵抗膜13を成膜する金属材料として微粒子状の酸化クロムを用いたが、この他に有機塩化錫化合物,硼酸,ATO含有の珪酸塩などの微粒子を用いたゾル−ゲル法またはスプレー法などの塗布法を用いて成膜することができる。なお、有機塩化錫化合物としては、本荘ケミカル株式会社製のネスチ
ンP−L(商品名)が好適であった。
図5は、スペーサ12の側壁面に形成される抵抗膜13の形成方法について説明するための成膜装置の構成を示す要部断面図である。図5において、この成膜装置は、軟質材から形成された一対の回転ローラ20a,20bがその両外周面を接触させて矢印A方向に回転自在設置されている。これらの一対の回転ローラ20a,20bの外周部分には溶媒に酸化クロムの微粒子を分散させた懸濁液を染み込ませてある。
そして、矢印A方向に回転する回転ローラ20aと回転ローラ20bとの間に長尺のスペーサ基材12Aを矢印B方向に通過させることにより、スペーサ基材12Aの両面に懸濁液を回転塗膜し、乾燥させた後、大気中にて約150℃〜200℃で加熱し、焼結させて硬化させた抵抗膜13を形成する。しかる後、両面に抵抗膜13が成膜されたスペーサ部材12Aを所定の寸法に切断することにより個々のスペーサ12が形成される。
図6は、スペーサ12の側壁面に形成される抵抗膜13の形成方法を説明する成膜装置の他の構成を説明する要部断面図である。図6において、この成膜装置は、上方に約500℃に加熱された一対の予熱炉21a,21bが対向して設置されている。さらにその下方には溶媒に塩化錫を分散させた懸濁液を収容した一対のスプレー22a,22bが対向して設置されている。そして、上方に設置された一対の予熱炉22aと予熱炉22bとの対向間に長尺のスペーサ基材12Aを矢印B方向に通過させることにより、スペーサ基材12Aを所定温度まで加熱させる。
ここで加熱されたスペーサ基材12Aは、下方に設置された一対のスプレー22aとスプレー22bとの対向間を通過させることによってスペーサ基材12Aの両面に懸濁液がスプレー塗布される。これによって懸濁液が加熱されたスペーサ基材12Aの表面において化学反応が促進し、溶媒が蒸発して硬化した高抵抗の抵抗膜13が形成される。しかる後、両面に高抵抗の抵抗膜13が成膜されたスペーサ基材12Aを所定の寸法に切断することにより個々のスペーサ12が形成される。なお、この成膜方法によれば、比抵抗が107〜1011Ω・cm程度の高抵抗の抵抗膜13が容易に得られる。この抵抗膜13の膜厚は、約10nm〜数100nmの範囲が良い。
このような成膜装置を用いた成膜方法によれば、スペーサ基材12Aの引き伸ばし(リードロー)工程の直後に抵抗膜13を成膜することにより、スペーサ基材12Aの予熱工程を省略することができる。また、有機錫化合物を用いて抵抗膜13を形成する場合にはスペーサ基材12Aの表面で化学反応させるので、反応槽内を定期的にクリーニングする必要がある。また、スペーサ基材12Aの表面に成膜された抵抗膜13の膜厚の管理は、この抵抗膜13の光反射率の変化によって行なうことができる。
図7は、本発明に係わる画像表示装置を構成する背面基板の内面側から見た要部平面図である。図7において、ガラスまたはセラミックス材などを好適とする背面基板1の主面(前面)には、第1の方向(y方向)に延在して第1の方向と交差する第2の方向(x方向)に並設された複数のデータ線(または陰極ラインとも称する)DLと、第2の方向(x方向)に延在して第2の方向と交差する第1の方向(y方向)に並設された複数の走査線SLとを有している。マトリクス状に配置されたこれらのデータ線DL及び走査線SLの交差部または交差部近傍には電子放出素子が形成されている。
走査線SLは、その一端が走査ドライバSDに接続されている。一方、データ線DLはその一端がデータドライバDDに接続されている。前面基板は、図中、破線部分に沿って対向して配置される。前面基板2と背面基板1とはその対向領域の外周に沿って接着され、内部ガスを排気して封止される。前述したスペーサは走査線SL上に配置される。
図8は、本発明に係わる画像表示装置を構成する前面基板の内面側から見た要部平面図である。図8において、透光性ガラス材からなる前面基板2の内面には、図7に示す複数のデータ線DLの長さ方向に沿って赤色蛍光体層PHR,緑色蛍光体層PHG及び青色蛍光体層PHBを有する蛍光面PHが形成され、さらにこの蛍光面PHには各赤色蛍光体層PHR,緑色蛍光体層PHG及び青色蛍光体層PHBを区画するブラックマトリクス膜BMが形成されている。
図9は、前面基板2の内面に形成された蛍光面PHの拡大断面図である。図9において、蛍光面PHを構成する各赤色蛍光体層PHR,緑色蛍光体層PHG及び青色蛍光体層PHBはブラックマトリクス膜BMの一部を覆って形成されている。また、この蛍光面PH上には各赤色蛍光体層PHR,緑色蛍光体層PHG及び青色蛍光体層PHBの発光光を効率的に反射させるメタルバック膜MTが形成されている。このメタルバック膜MTには陽極電圧が印加され、陽極電極として機能する。前述したスペーサはブラックマトリクス膜BM上に配置される。
また、前述した実施例においては、画像表示装置として内面に蛍光体層及びブラックマトリクス膜を有し、蛍光体層及びブラックマトリクス膜の背面にメタルバック膜(陽極電極)を有する前面基板を用いたFEDに適用した場合について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、メタル−インシュレータ−メタル型電子放出素子を有するパネル型ディスプレイに適用しても前述と全く同様の効果が得られることは勿論である。
本発明による画像表示装置の実施例1を説明する図であり、図1(a)は前面基板側から見た平面図、図1(b)は図1(a)のA方向から見た平面図である。 図1の前面基板を取り去って示す背面基板の模式平面図である。 図2のB−B線に沿って切断した背面基板及びこれと対応する前面基板の模式拡大断面図である。 図2のC−C線に沿って切断した全体構成を示す要部拡大断面図である。 本発明に係わるスペーサの側壁面に抵抗膜を成膜させる塗布装置の構成例を示す要部断面図である。 本発明に係わるスペーサの側壁面に抵抗膜を成膜させる塗布装置の他の構成例を示す要部断面図である。 本発明による画像表示装置の背面基板の構成を示す要部平面図である。 本発明による画像表示装置の前面基板の構成を示す要部平面図である。 本発明による画像表示装置の前面基板に形成される蛍光面の構成を示す要部拡大断面図である。
符号の説明
1・・・背面基板、2・・・前面基板、通孔、3・・・枠体、4・・・排気管、5・・・封着部材、7・・・貫通孔、8・・・画像信号配線、9・・・走査信号配線、10・・・電子放出素子、11・・・接続電極、12・・・スペーサ(間隔保持部材)、12A・・・スペーサ基材、13・・・抵抗膜、14・・・接着部材、15・・・蛍光体層、16・・・BM(ブラックマトリクス)膜、17・・・メタルバック膜(陽極電極)、INS・・・層間絶縁膜、20a・・・回転ローラ、20b・・・回転ローラ、21a・・・予熱炉。21b・・・予熱炉、22a・・・スプレー、22b・・・スプレー。


Claims (5)

  1. 蛍光体層及び陽極電極を有する前面基板と、電子放出素子を有して前記前面基板と対向する背面基板と、前記前面基板と前記背面基板との間に配置される枠体とを含む外囲器と、
    前記外囲器内に配置された複数の間隔保持部材と、
    を備えた画像表示装置であって、
    前記間隔保持部材は、最表面がセラミックス材料で形成された間隔保持部材の側壁面に二次電子放出能が2.0以下の抵抗膜を設けたことを特徴とする画像表示装置。
  2. 前記抵抗膜は、当該膜表面に凹凸面を有することを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。
  3. 前記抵抗膜は、酸化クロム膜の微粒子を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の画像表示装置。
  4. 前記抵抗膜は、高抵抗の導電膜とする請求項1乃至請求項3の何れかに記載の画像表示装置。
  5. 前記抵抗膜は、表面抵抗が109Ω/□乃至1013Ω/□とすることを特徴とする請求項4に記載の画像表示装置。


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