JP2007010135A - チャンバーアイソレーションバルブのrf接地 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このバルブを接地するための方法及び装置が提供される。一般に、この方法は、導電性エラストマー部材を使用してチャンバーアイソレーションバルブ及び/又はアイソレーションバルブドアを効果的に接地しながら、処理システムの可動部品間の金属対金属接触を回避する。一実施形態では、エラストマー部材は、このバルブのドアに取り付けられて電気的に連通する。エラストマー部材は、ドアが閉位置にあるときにプラズマ処理システムの接地された要素に接触させられる。別の実施形態では、導電性エラストマー部材は、アイソレーションバルブの突っ張り部材に取り付けられ、この突っ張り部材が基板処理中にアイソレーションバルブドアを位置保持するように配置されたときにプラズマ処理システムの接地された要素に接触させられる。
【選択図】図5
Description
[0001]本発明の実施形態は、一般に、電子デバイスの製造に係り、より詳細には、プラズマ処理チャンバーのアイソレーションバルブの周囲のプラズマ漏洩を防止するための方法及び装置に係る。
[0002]基板処理チャンバーは、通常、水平に向けられた基板の挿入及び除去を受け容れるために広くて且つ比較的短いシール可能な開口を通して基板移送チャンバーと連通する。このような開口をシールするために、スリットバルブとしても知られているチャンバーアイソレーションバルブを使用することが知られている。例えば、チャンバーアイソレーションバルブのドアとしても知られているシールプレートを延ばして開口をシールすると共に、これを引っ込めて開口に基板を通過するのを許容することができる。チャンバーアイソレーションバルブは、(1)運転中の擦り摩擦及び又は繰り返し金属対金属接触による粒子の発生、及び(2)弾力性シール素子の非均一な圧縮、の問題を回避する設計であるのが好ましい。
Claims (48)
- 基板のプラズマ処理中にプラズマ処理システムのチャンバーアイソレーションバルブを接地する方法であって、上記チャンバーアイソレーションバルブがドア、突っ張り部材、又はその両方と、真空シールとを含むものである方法において、
上記チャンバーアイソレーションバルブを閉位置へ移動するステップと、
少なくとも1つの導電性部材を使用して上記プラズマ処理システムの上記チャンバーアイソレーションバルブと少なくとも1つの電気的に接地された要素との間に電気的接触を確立するステップと、
を備えた方法。 - 上記少なくとも1つの導電性部材は、導電性エラストマー部材であり、ヒートエージングの後の上記エラストマー部材の体積抵抗率は、約0.200Ω−cm以下である、請求項1に記載の方法。
- 上記少なくとも1つのエラストマー部材は、上記チャンバーアイソレーションバルブのドアにしっかり取り付けられて電気的に連通される、請求項2に記載の方法。
- 上記少なくとも1つのエラストマー部材は、上記チャンバーアイソレーションバルブの突っ張り部材にしっかり取り付けられて電気的に連通される、請求項2に記載の方法。
- 上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、エラストマー押出し成形品であって、該エラストマー押出し成形品は、Oストリップ、Dストリップ又はPストリップより成るグループから選択される、請求項2に記載の方法。
- 上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、上記チャンバーアイソレーションバルブの真空シールの外周に沿って装着される、請求項2に記載の方法。
- 上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、上記チャンバーアイソレーションバルブの突っ張り部材の接触部分の周囲に沿って装着される、請求項2に記載の方法。
- 上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、上記チャンバーアイソレーションバルブの真空シールの下部外周に沿って装着される、請求項2に記載の方法。
- 上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、上記チャンバーアイソレーションバルブの突っ張り部材の接触部分の下部周囲に沿って装着される、請求項2に記載の方法。
- 上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、上記チャンバーアイソレーションバルブの突っ張り部材の1つ以上のリアクションバンパーを備えた、請求項4に記載の方法。
- 導電性エラストマー部材により上記プラズマ処理システムの上記チャンバーアイソレーションバルブと少なくとも1つの電気的に接地された要素との間に電気的接触を確立する上記ステップは、
上記チャンバーアイソレーションバルブの少なくとも1つの導電性表面を上記プラズマ処理システムの接地された要素に電気的接触するように移動する段階であって、上記接地された要素が導電性エラストマー部材を含むような段階、
を備えた請求項2に記載の方法。 - 上記少なくとも1つの導電性表面は、上記チャンバーアイソレーションバルブドアの一部分である、請求項11に記載の方法。
- 上記少なくとも1つの導電性表面は、上記チャンバーアイソレーションバルブの突っ張り部材の導電性部分を含む、請求項11に記載の方法。
- 上記突っ張り部材の一部分はリアクションバンパーである、請求項13に記載の方法。
- 上記プラズマ処理システムの接地された要素は、バルブハウジングの前部プレートである、請求項11に記載の方法。
- 上記プラズマ処理システムの接地された要素は、チャンバー開口のシール面である、請求項11に記載の方法。
- 基板のプラズマ処理中にプラズマ処理システムのチャンバーアイソレーションバルブを接地する方法であって、上記チャンバーアイソレーションバルブがドア、突っ張り部材、又はその両方と、真空シールとを含むものである方法において、
上記チャンバーアイソレーションバルブを閉位置へ移動するステップと、
上記プラズマ処理システムの少なくとも1つの電気的に接地された要素を、少なくとも1つの導電性エラストマー部材に接触させるステップであって、上記エラストマー部材が上記チャンバーアイソレーションバルブにしっかり取り付けられて電気的に連通されるようにするステップと、
を備えた方法。 - ヒートエージングの後の上記少なくとも1つのエラストマー部材の体積抵抗率は、約0.200Ω−cm以下である、請求項17に記載の方法。
- 上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、エラストマー押出し成形品であって、該エラストマー押出し成形品は、Oストリップ、Dストリップ又はPストリップより成るグループから選択される、請求項17に記載の方法。
- 上記しっかり取り付けられることは、上記チャンバーアイソレーションバルブの真空シールの外周に沿って装着されることを含む、請求項17に記載の方法。
- 上記しっかり取り付けられることは、上記チャンバーアイソレーションバルブの突っ張り部材の接触部分の周囲に沿って装着されることを含む、請求項17に記載の方法。
- 上記しっかり取り付けられることは、上記チャンバーアイソレーションバルブの真空シールの下部外周に沿って装着されることを含む、請求項17に記載の方法。
- 上記しっかり取り付けられることは、上記チャンバーアイソレーションバルブの突っ張り部材の接触部分の下部周囲に沿って装着されることを含む、請求項17に記載の方法。
- 上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、上記チャンバーアイソレーションバルブの突っ張り部材の1つ以上のリアクションバンパーを備えた、請求項17に記載の方法。
- 基板のプラズマ処理中にプラズマ処理システムのチャンバーアイソレーションバルブを接地する方法であって、上記チャンバーアイソレーションバルブがドア、突っ張り部材、又はその両方を含むものである方法において、
上記チャンバーアイソレーションバルブを閉位置へ移動するステップと、
上記チャンバーアイソレーションバルブの少なくとも1つの導電性表面を、上記プラズマ処理システムの少なくとも1つの接地された要素に電気的接触させるように移動するステップであって、上記少なくとも1つの接地された要素が導電性エラストマー部材を含むようなステップと、
を備えた方法。 - 上記導電性エラストマー部材は、ヒートエージングの後の体積抵抗率が約0.200Ω−cm以下である、請求項25に記載の方法。
- 上記導電性エラストマー部材は、エラストマー押出し成形品であって、該エラストマー押出し成形品は、Oストリップ、Dストリップ又はPストリップより成るグループから選択される、請求項25に記載の方法。
- 上記少なくとも1つの導電性表面は、上記チャンバーアイソレーションバルブのドアの一部分である、請求項25に記載の方法。
- 上記少なくとも1つの導電性表面は、上記チャンバーアイソレーションバルブの突っ張り部材の導電性部分を含む、請求項25に記載の方法。
- 上記突っ張り部材の一部分はリアクションバンパーである、請求項29に記載の方法。
- 上記プラズマ処理システムの少なくとも1つの接地された要素は、バルブハウジング前部プレートである、請求項25に記載の方法。
- 上記プラズマ処理システムの少なくとも1つの接地された要素は、チャンバー開口シール面である、請求項25に記載の方法。
- プラズマ処理システム用の接地されたチャンバーアイソレーションバルブにおいて、
ドアと、
上記ドアに電気的に連通する少なくとも1つの導電性部材であって、上記ドアが閉位置にあるときに上記プラズマ処理システムの少なくとも1つの接地された要素に接触するように適応される導電性部材と、
を備えたチャンバーアイソレーションバルブ。 - 上記少なくとも1つの導電性部材は、導電性エラストマー部材であり、更に、この導電性エラストマー部材は、ヒートエージングの後の体積抵抗率が約0.200Ω−cm以下である、請求項33に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- 上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、エラストマー押出し成形品であって、該エラストマー押出し成形品は、Oストリップ、Dストリップ又はPストリップより成るグループから選択される、請求項34に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- 上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、上記チャンバーアイソレーションバルブが閉位置にあるときにチャンバー開口の下又はそばに装着される、請求項34に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- 上記チャンバーアイソレーションバルブは、更に、突っ張り部材を備え、上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、上記突っ張り部材の1つ以上のリアクションバンパーを含む、請求項34に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- 上記少なくとも1つの導電性エラストマー部材は、上記ドアのシール部材を含む、請求項34に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- プラズマ処理システム用の接地されたチャンバーアイソレーションバルブにおいて、
ドアと、
突っ張り部材と、
上記突っ張り部材に電気的に連通する少なくとも1つの導電性エラストマー部材であって、上記ドアが閉位置にあるときに上記プラズマ処理システムの少なくとも1つの接地された要素に接触するように適応される導電性エラストマー部材と、
を備えたチャンバーアイソレーションバルブ。 - プラズマ処理システム用の接地されたチャンバーアイソレーションバルブにおいて、
ドアと、
上記ドアに電気的に連通する少なくとも1つの導電性表面であって、上記ドアが閉位置にあるときに上記プラズマ処理システムの少なくとも1つの接地された要素に接触するように適応される導電性表面と、
を備え、上記少なくとも1つの接地された要素は、導電性エラストマー部材を含む、チャンバーアイソレーションバルブ。 - 上記導電性エラストマー部材は、ヒートエージングの後の体積抵抗率が約0.200Ω−cm以下のエラストマー部材を含む、請求項40に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- 上記導電性エラストマー部材は、エラストマー押出し成形品であって、該エラストマー押出し成形品は、Oストリップ、Dストリップ又はPストリップより成るグループから選択される、請求項40に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- 上記少なくとも1つの導電性表面は、上記チャンバーアイソレーションバルブが閉位置にあるときにチャンバー開口の下又はそばに装着される、請求項40に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- 上記チャンバーアイソレーションバルブは、更に、突っ張り部材を備え、上記少なくとも1つの導電性表面は、上記突っ張り部材の導電性部分を含む、請求項40に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- 上記突っ張り部材の一部分はリアクションバンパーである、請求項44に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- 上記プラズマ処理システムの少なくとも1つの接地された要素はバルブハウジング前部プレートである、請求項40に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- 上記プラズマ処理システムの少なくとも1つの接地された要素はチャンバー開口シール面である、請求項40に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
- 上記プラズマ処理システムの少なくとも1つの接地された要素はチャンバー開口シール面である、請求項40に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
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