JP2006525658A - 自己整合金属被膜付き半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、次のステップを含む半導体デバイスの製造方法に係り、すなわち第1の導電型を有する不純物処理領域を半導体基板の第1の主面に形成し、少なくとも一つの窓部を作成するステップと、第1の金属被膜域を不純物処理領域上に堆積するステップと、誘電体層を少なくとも窓部と第1の金属被膜域とに堆積するステップと、少なくとも第1の開口を窓部において誘電体層内に蝕刻し、第2の導電型を有する不純物処理領域を収容し、その一方で半導体基板の非不純物処理領域を不純物処理領域間に側方配置するステップと、基板を不純物処理して第2の導電型を有する不純物処理領域を生成するステップと、第2の金属被膜域を堆積するステップとである。特に、薄肉層の太陽電池への応用分野がある。
Description
第1の導電型を有する不純物処理領域を半導体基板の第1の主面に形成し、この領域を画定する少なくとも一つの窓部を作成するステップと、
第1の金属被膜域を、第1の導電型を有する不純物処理領域上に堆積するステップと、
少なくとも窓部と第1の金属被膜域とに誘電体層を堆積するステップと、
少なくとも第1の開口を窓部にて誘電体層内に蝕刻して基板を露出させ、この基板に第2の導電型を有する不純物処理領域を収容し、その一方で前記半導体基板の非不純物処理領域を前記第2の導電型を有する前記不純物処理領域と前記第1の導電型を有する前記不純物処理領域との間に側方配置するステップと、
基板を不純物処理して第2の導電型を有する不純物処理領域を生成するステップと、
第2の金属被膜域を堆積し、誘電体層を被膜し、第2の導電型を有する不純物処理領域に当接させるステップとを含む。
3 層
4 酸化層
5,6 櫛形金属被膜
11 層
12 櫛形金属被膜
13 パターン
14 領域
15 酸化層
16 導電層
20 半導体基板
20.1 主面
20.2 第2の主面
21 不純物処理領域
22 第1の金属被膜域
23 誘電体層
24 部分
25 薄い開口
25.1 非不純物処理領域
26 第1の開口
27 不純物処理領域
28 導電層
30 第2の開口
35 太陽電池
36.1,36.2,36.3 組
37 空間
40 半導体基板
40.1 非不純物処理領域
40.2 主面
41 脆弱化層
42 ベース基板
43 薄膜層
44 不純物処理領域
44.1 不純物処理領域
45 窓部
46 金属被膜域
46.1 金属被膜片
46.2 指状部
47 誘電体層
48 第1の開口
50 不純物処理領域
51 第2の金属被膜域
52 電気絶縁支持体
55 誘電体層
55.1 誘電体
Claims (20)
- 第1の導電型を有する不純物処理領域(44.1)を半導体基板(40)の第1の主面(40.2)上に作成し、少なくとも一つの窓部(45)を作成して前記領域を画定するステップと、
第1の金属被膜域(46)を、第1の導電型を有する前記不純物処理領域(44.1)上に堆積するステップと、
誘電体層(47)を少なくとも前記窓部(45)と前記第1の金属被膜域(46)とに堆積するステップと、
少なくとも第1の開口(48)を前記窓部(45)における前記誘電体層(47)内に蝕刻し、第2の導電型を有する不純物処理領域(50)を収容し、その一方で前記半導体基板の非不純物処理領域(40.1)を前記第2の導電型を有する前記不純物処理領域(50)と前記第1の導電型を有する前記不純物処理領域(44.1)との間に側方配置するステップと、
前記基板(40)を不純物処理して前記第2の導電型を有する不純物処理領域(50)を生成するステップと、
第2の金属被膜域(51)を堆積して前記誘電体層(47)を被膜し、前記第2の導電型を有する前記不純物処理領域(50)に当接させるステップとを含む、半導体デバイスの製造方法。 - 前記第1の導電型を有する前記不純物処理領域(44.1)は、前記第1の導電型を有する不純物処理層(44)の前記基板の前記主面(40.2)への堆積と前記第1の導電型を有する前記不純物処理層内に前記基板を露出する前記窓部の蝕刻とにより作成する、請求項1に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第1の導電型を有する前記不純物処理領域(44.1)は、前記基板の前記主面(40.2)上に誘電体層(55)を形成し、スクリーン印刷により表面剥離ペースト剤を用いて前記誘電体(55)の一部を表面剥離して前記第1の導電型を有する将来の不純物処理領域の輪郭周りに表面剥離域を形成し、続いて前記表面剥離域を不純物処理し、次に前記残る誘電体(55)を表面剥離して前記窓部を形成することにより作成する、請求項1に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第1の導電型を有する前記不純物処理領域(44.1)は、前記基板の前記主面(40.2)上に誘電体層(55)を形成し、スクリーン印刷により表面剥離ペースト剤を用いて前記誘電体(55)の一部を表面剥離して第1の導電型を有する将来の不純物処理領域の輪郭周りに表面剥離域を形成し、続いて表面剥離域を不純物処理し、残る誘電体(55)が窓部(55.1)を形成することにより作成する、請求項1に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 少なくとも一つの蝕刻は、レーザ蝕刻である、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記蝕刻の少なくとも一つは、スクリーン印刷蝕刻である、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 少なくとも一つの金属被膜域は、スクリーン印刷により作成する、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第1の導電型を有する前記不純物処理領域(44.1)と前記第2の導電型を有する前記不純物処理領域(50)は、互いに入れ子状態にした、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第1の開口(48)は、前記窓部(45)よりも面積を小さくした、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第1の金属被膜域(46)は、前記窓部(45)の蝕刻ステップの前又は後に前記第1の導電型を有する前記不純物処理領域(44.1)上に堆積する、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第1の導電型を有する前記不純物処理層(44)の蝕刻が、前記半導体基板(40)を侵食する、請求項2に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第2の金属被膜域(51)用の堆積ステップは、前記第2の導電型を有する前記不純物処理領域(50)を作成する前記基板(40)の前記不純物処理に先行して、前記第2の金属被膜域(51)内の前記材料をアニール処理し、前記第1の開口(48)にて前記基板内に拡散させる、請求項1乃至11のいずれか1項に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記基板(40)は、脆弱化層(41)と薄肉層(43)とを備える積層体を備え、前記脆弱化層は深層にあり、前記第1の導電型を有する前記不純物処理層(44)を堆積する前記基板の前記主面(40.2)を前記薄肉層の面とした、請求項1乃至12のいずれか1項に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第2の金属被膜域(51)を電気絶縁支持体(52)上に固着するステップを含む、請求項13に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記脆弱化層(41)にて前記基板から前記薄肉層(43)を解離するステップを備える、請求項14に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 解離した側の前記薄肉層(43)の保護及び不動態化ステップを含む、請求項15記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第1の開口(48)の蝕刻ステップは、前記第1の金属被膜域(46)に第2の開口(49)を蝕刻し、前記第1の金属被膜域(46)内に金属被膜片(46.1)を露出させるステップを含む、請求項1乃至16のいずれか1項に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記第2の金属被膜域(51)のための前記堆積ステップは、前記第2の開口(49)を覆わない、請求項17記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記デバイスは一つ或いは幾つかの太陽電池(35)で形成される、請求項1乃至18のいずれか1項に記載の半導体デバイスの製造方法。
- 前記太陽電池は、直列及び/又は並列に接続される、請求項19に記載の半導体デバイスの製造方法。
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