JP2006513961A - 選択的に可変の硬度を有するローラを備えるエレベータ - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (19)
- 磁場(20)に応じて変化する硬度を有するローラ(16)を備えることを特徴とするエレベータシステム(10)用ローラガイドアッセンブリ(14)。
- 前記ローラ(16)が前記磁場(20)に応じて変化する粘性を有する流体(22)を入れた膜(30)を含むことを特徴とする請求項1記載のアッセンブリ。
- 前記流体(22)が磁気流動性流体を含むことを特徴とする請求項2記載のアッセンブリ。
- 前記膜(30)がディスク(31)の周りで支持された略環状室(36)を画定することを特徴とする請求項2記載のアッセンブリ。
- 前記ローラ(16)の硬度を変更するように選択的に制御可能な、前記ローラ(16)に隣接する磁場発生装置(18)を含むことを特徴とする請求項1記載のアッセンブリ。
- 複数の前記ローラ(16)と、対応する複数の別個に作動可能な磁場発生装置(18)とを含むことを特徴とする請求項5記載のアッセンブリ。
- 前記磁場発生装置(18)が電磁石(21)を備えることを特徴とする請求項5記載のアッセンブリ。
- 前記磁場発生装置(18)が永久磁石(19)を備えることを特徴とする請求項5記載のアッセンブリ。
- 少なくとも一つのガイドレール(28)と、
前記ガイドレール(28)に沿って可動のエレベータかご(12)と、
前記ガイドレール(28)の表面に沿って転がり、磁場(20)に応じて変化する硬度を有する、前記エレベータかご(12)と共に移動するように支持されたローラ(16)と、
前記磁場(20)を選択的に発生する磁場発生装置(18)と、
を備えることを特徴とするエレベータシステム(10)。 - 前記ローラ(16)が前記磁場(20)に応じて変化する粘性を有する流体(22)を入れた膜(30)を含むことを特徴とする請求項9記載のシステム。
- 前記膜(30)がディスク(31)の周りで支持された略環状室(36)を画定することを特徴とする請求項10記載のシステム。
- 前記膜(30)が前記ガイドレール(28)の前記表面に転がり接触していることを特徴とする請求項10記載のシステム。
- 複数のローラ(16)と、対応する複数の磁場発生装置(18)とを含むことを特徴とする請求項9記載のシステム。
- 前記磁場発生装置(18)を選択的にかつ個々に制御する制御装置(24)を含むことを特徴とする請求項13記載のシステム。
- 前記エレベータかご(12)の向きに関する情報を提供するセンサ装置(26)と、前記センサ装置(26)から情報を受け、それに応じて、前記ローラ硬度を変更するように前記磁場(20)発生装置を制御する制御装置(24)とを含むことを特徴とする請求項9記載のシステム。
- ガイドレール(28)に沿ってエレベータかご(12)を案内するように適合されている関連する複数のローラ(16)を有するエレベータかご(12)の振動を制御する方法であって、
a) 所望の状態に対する前記エレベータかご(12)の状態を決定するステップと、
b) 前記決定された状態に応じて前記ローラ(16)の少なくとも一つの硬度を選択的に変更するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記方法は磁場に応じて変化する粘性を有する流体を前記ローラに備えることを含み、ステップ(b)が特定のローラ(16)に関連付けられた磁場を選択的に変更することを含むことを特徴とする請求項16記載の方法。
- 各ローラ(16)に対して独立に磁場(20)の強度を変更することを含むことを特徴とする請求項17記載の方法。
- ステップ(a)が、前記かごが前記ガイドレールに沿って移動しながら前記かごの振動レベルを決定することを含むことを特徴とする請求項16記載の方法。
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