JP2006505014A - 複数の投写型ディスプレイシステムのための複数の斜め配向プレート補償器 - Google Patents

Abstract

【課題】本願明細書では、複数の液晶ディスプレイ投写型システム向けの１つの補償方式のための複数の補償器の製造方法、および複数の補償器を提供すること。
【解決手段】複数のＯプレート補償要素を有する複数の投写型システムについて説明する。
複数の補償要素は、負、正、または二軸の異方性要素にしてもよく、また１つのホモジニアスチルトまたは１つのスプレイチルトを有しうる。複数の補償要素は、１つの高分子液晶から形成しうる。複数の補償要素は、方位平均コントラストが最大になるように設計される。製造をより容易にするために１つのマイクロレンズアレイを使用する場合は、複数の補償要素を１つの液晶パネルの同じ側に配置しうる。

Description

本発明は、全般的には複数の補償器に関し、より具体的には複数の液晶投写型ディスプレイシステムのための複数の斜め配向プレート補償器に関する。また、本願は、ジャンミン・チェン、マイケル・Ｇ・ロビンソン、およびゲリー・Ｄ・シャープを複数の発明者とし、本願の譲受人であるカラーリンク社を譲渡人とする「複数の補償器および複数の方法」と題する２００２年１０月３０日提出の米国特許第６０／４２２，４３７号仮出願からの優先権を主張する。あらゆる目的のために、この仮出願の内容全体を本願明細書に引用したものとする。

複数の投写型システムに対してコントラストの継続的向上が求められている一方で、投写型システム市場ではより費用効率の高い複数の構成要素および複数のシステム構成が望まれている。これら複数の投写型システムは、赤色、緑色、および青色の光（すなわち、複数の原色）または他の複数の光スペクトルを変調するために複数の液晶パネルを使用し、これら複数の液晶パネルを補償するためにパネル１枚につき１枚または２枚のリターダ膜を使用する。

より安価で低コントラストの複数の投写型システムでは、パネル１枚につき単一のリターダ膜を使用して補償を行うが、より高価で高コントラストの複数の投写型システムでは、１枚のパネルの各側に１枚ずつリターダ膜を使用して補償を行う。ただし、既存の複数の補償手法では、市場が複数の投写型システムに求めているコントラストの向上およびコストの制限に対応できない。

本願明細書では、複数の液晶ディスプレイ投写型システム向けの１つの補償方式のための複数の補償器の製造方法、および複数の補償器について説明する。一実施態様によると、この補償方式は、方位平均コントラストを向上し、また複数の非投写型システムに共通する特定の方位依存コントラスト要件による制約をほぼ受けることがない。開示されている複数の補償方式は、法線入射光の偏光状態を維持しながら、複数の法線外入射光の偏光状態を調整する。特定の複数の実施態様においては、複数の法線外入射光線の偏光状態を補正するために、正の異方性多層液晶ポリマー層を複数使用する。

開示されている複数の実施態様においては、投写型システムの製造工程を簡略化し、複数の製造コストを削減するために、複数のディスプレイパネルの一方の側に複数のスプレイ配向補償器を配置する１つの補償方式も提供される。この実施態様は、平均コントラストを維持し、かつ方位平均コントラストを向上させる。複数のマイクロレンズアレイを有する複数のシステムの性能を向上するために、複数のスプレイ配向補償器をパネルの低Ｆ値側（画像側）に配置しうる。別の実施態様においては、複数のディスプレイパネルの両側にそれぞれ補償器を配置することができる。

さらに複数の実施態様においては、スプレイ配向させた正の異方性多層構造を複数有する複数の補償器を開示する。複数の多層構造を単一の基板上に製造することも、１つまたは複数の層の面同士をさまざまな接着剤を用いて接合してそれぞれ別の基板上に製造することもできる。複数の多層構造をそれぞれ別の基板上に製造する場合は、ほぼ完成した複数の構成要素を対にすることによって、複数の反射防止被膜を複数の液晶ポリマー層に直接施す必要がなくなるので、総合的な歩留まりが向上する。

開示されている複数の実施態様は、１つのＺ成分を含む１つの光学軸を有する１つの補償器を用いた１つの補償方式をさらに提供する。この特性を有する複数の補償プレートは、複数の斜め配向プレート（「Ｏプレート」）補償器を含む。このような複数のＯプレート補償器は、ホモジニアス配向またはスプレイ配向にしてもよく、また正、負、または二軸異方性を有しうる。複数のスプレイ配向Ｏプレートは、各界面に１つの異なるプレチルト角を設けることによって得られる。あるいは、複数のＯプレートは、ツイストなど、ホモジニアス以外の１つの配向を有してもよい。たとえば、１つのツイスト配向の液晶Ｏプレート補償器にしてもよい。

複数の投写型システムのシーケンシャルコントラストの継続的向上が求められている理由の一部は、デジタル光処理技術による複数の投写型システムの高性能化による。複数の高温多結晶シリコン（ＨＴＰＳ）ツイストネマチック液晶ディスプレイなどの複数の液晶パネルは、本質的に透過性であり、１つの小さな対角寸法（１．２インチ未満、つまり３．１ｃｍ未満）を有する。これら複数のパネルは、１つのツイストネマチック液晶配向を使用し、１つのノーマリホワイトモードで動作し、偏光された光はラビング方向に並行に導入される、つまりｅモードで動作する。ただし、本補償方式はｅモードおよびｏモードの両方に有効である。ｅモードの場合はＬＣのラビング方向は偏光子の方向に並行であり、一方ｏモードの場合はＬＣのラビング方向は偏光子の方向に直角である。複数の投写型システムは、ランプの発光を効率的に利用するために、入力側のＦ値を２．５にして動作するのが一般的である。これら複数の投写型システムが複数のマイクロレンズアレイを含む場合、画像光ははるかに低いＦ値で透過される。このような複数のシステムのコントラストは、マイクロレンズアレイの有無に拘わらず、法線入射の場合は極めて高い。ただし、複数の法線外入射光線では、入射角と方位角とに応じて１つのダイレクタ分布が決まる。この分布は、小さな幾何学的ゆがみと相まって、１つの検光偏光子を透過する光の角度を決める。コントラストをランプの有効角スペクトルにわたって平均化すると、コントラストが大幅に劣化しうる。したがって、法線入射光に対しては零補正を行う一方で、法線外入射光線に対しては偏光状態を補正する複数の補償プレートを導入すると都合がよい。

直視型フラットスクリーンディスプレイ用の場合は、補償器の最適化は極めて方位固有である。たとえば、このような用途における左右の視野角は広くかつ対称的にする必要があるが、上下の視野角はかなり狭く、かつ／またはより非対称的であってもかまわない。ただし、複数の投写型システムは、方位平均コントラストの向上への依存性がより高い。このように、複数の直視型フラットスクリーンディスプレイ用の場合と投写型用の場合との違いが認識されていることから、複数の投写型システムにおける平均コントラストの向上、または製造コストの削減、あるいはこの両方を実現するために１つの新しい自由度を開発しうる。

図１は、１つの典型的な高温多結晶シリコン投写型システム１００を示す。システム１００は、赤色画像、青色画像、および緑色画像、つまり複数の原色画像の生成、または他の複数の光スペクトルに対応する複数の画像を生成する３つの画像生成部を含む。第１の画像生成部は、１つの光源１０２と、１つの直線偏光子１０４と、１つのマイクロレンズアレイ１０６と、１つの液晶パネル１０８と、１つの補償器１１０と、１つの検光子１１２とを含み、１つのカラー画像を生成してこれを１つのＸキューブ１１４に入力する。第２の画像生成部１１６と第３の画像生成部１１８とは、詳細には図示されていないが、第１の画像生成部と同様の１つの構造を有し、それぞれ異なる色の複数の画像を生成してＸキューブ１１４に入力する。これら複数の画像生成部によって生成された３色の光はＸキューブ１１４によって組み合わされ、１つの画像生成部が存在しないＸキューブ１１４のポートに配置されている１つの投写レンズ（図示せず）に出力される。

補償器１１０はマイクロレンズアレイ１０６の低Ｆ値側にあるが、パネル１０８の光入力側または光出力側のどちらにでも配置しうる。１つの典型的実施形態においては、投写型システム１００は、複数の偏光子１０４および１１２としての複数のシート偏光子と、１つのパネル１０８と、１つの補償器１１０とを含み、この補償器は、たとえば単一の補償プレートまたは一対の補償プレートにすることができる。マイクロレンズアレイ１０６は、パネル１０８の一部にすることができる。マイクロレンズアレイ１０６をパネル１０８の一部にする場合、複数の従来型補償プレートを用いてマイクロレンズアレイ１０６とパネル１０８との間に１つまたは複数の補償プレートを含めることは難しい。ただし、液晶ポリマー層であれば、薄く、環境堅牢性が高く、製造適合性もあることから、複数の層を容易に組み込みうる。あるいは、一対の補償器１１０を使用してもよい。一対の補償器１１０は、パネル１０８の光入力側と光出力側とに配置することも、パネル１０８の一方の側だけに配置することも可能である。あるいは、パネル１０８を形成する複数の基板のうちの１枚を補償器１１０にすることもできる。このように、パネル１０８の液晶とマイクロレンズアレイ１０６との間に補償器を配置しうる。このような一実施形態は、１つの適切な液晶高分子材料から実現しうる。

一例として、第１の最小条件が５５０ｎｍである１つの９０°ねじれたネマチック（ＴＮ）セルを有する１つのシステムの方位平均コントラストは、所与の１つのＦ値に対してホメオトロピック加重した緑色光の透過のオンからオフ状態の方位平均比率から計算しうる。赤色光および青色光についても、同様の計算を行いうる。このシステムはＺＬＩ４７９２などの１つの液晶材料を含むが、ＺＬＩ４７９２はメルク社から入手可能であり、表１に示す複数のパラメータを有する１つのネマチック液晶である。この材料の黒色状態の電圧は６Ｖであり、白色状態の電圧は０Ｖである。光源は、１つの円錐角が約１０度である１つの超高圧（ＵＨＰ）ランプでもよい。

図２は、１つの典型的な光強度分布を示す。光強度の分布は、図２に示す方位対称分布でも、他の適切な分布でもよい。コントラストを計算するには、加重した強度プロファイルによって光錐からの寄与を平均化する。

従来技術のいくつかの補償方式は、黒状態におけるパネル１０８のダイレクタ分布の方位対称性に依存する。方位対称性への依存は光学軸が１つの垂直成分を有するからであり、これは１つの負のＣプレートを使用して補償を行う従来技術の複数の投写型システムにおいて観察されうる。このような一対の負のＣプレートを１枚のパネルの各側に直接隣接させて補償を行うと、水平面におけるコントラストが向上する代わりに、±４５°の面におけるコントラストが犠牲になる。この結果、漏れが円錐角にわたって平均化されるので、負のＣプレートを複数使用して１つの投写型システムの大幅な総合的向上を達成することはできない。

図３は、一対の負のＣプレートを有する従来技術の１つの投写型システムのコントラストとリタデーションとの関係を示す。この図は、パネルの法線外コントラストは、液晶の複数の残留スプレイ配向側領域近傍では損われるが、ほぼ垂直配向された中心近傍では損われないことを実証している。したがって、１つの奇対称成分を１つの補償器に設けた１つの補償方式を使用すれば、１つのプロジェクタシステムにおけるコントラストの大幅向上を達成しうる。

複数のチルト軸を有する複数の補償プレートは、Ｏプレート補償器と呼ばれる。この特性を有する複数の補償プレートは、複数の「Ｏプレート」補償器を含む。このような複数のＯプレート補償器は、ホモジニアス配向またはスプレイ配向にしてもよく、また正、負、または二軸異方性を有しうる。複数のスプレイ配向Ｏプレートは、各界面に１つの異なるプレチルト角を設けることによって得られる。あるいは、ツイストなどホモジニアス以外の１つの配向をＯプレートに設けてもよい。たとえば、１つのツイスト液晶Ｏプレート補償器にしてもよい。

図４は、複数のＯプレート補償器を有する、高温多結晶シリコン技術による１つの典型的なツイストネマチック液晶投写型ディスプレイシステム２００を示す。システム２００は、３つの画像生成部２０１、２２１、および２４１を含む。これらの画像生成部２０１、２２１、および２４１は、赤色画像、青色画像、および緑色画像を生成するように構成されている。画像生成部２０１は、１つの光源２０２と１つの直線偏光子２０４とを含む。光源２０２は、約１０度の１つの円錐角を有する１つの超高圧（ＵＨＰ）ランプでもよい。画像生成部２０１は、１つのマイクロレンズアレイ２０６とこれに隣接する１つの液晶パネル２０８とをさらに含む。マイクロレンズアレイ２０６は、液晶パネル２０８の一部にすることができる。

Ｏプレート補償器２１０は液晶パネル２０８を補償し、液晶パネル２０８から出力された光は１つの出力検光子２１２によって検光される。本例においては、Ｏプレート補償器２１０はマイクロレンズアレイ２０６の低Ｆ値側にあるが、液晶パネル２０８の光入力側または光出力側のどちらにでも配置しうる。典型的な一実施形態においては、画像生成部２０１は、複数の偏光子２０４および２１２として複数のシート偏光子を含む。いくつかの実施形態においては、補償器２１０を単一の補償プレートにすることも、一対の補償プレートにすることもできる。一対の補償プレートを使用して液晶パネル２０８を補償する場合は、これら複数の補償プレートを液晶パネル２０８の光入力側と光出力側とに分けて配置することも、液晶パネル２０８の一方の側だけに配置することもできる。あるいは、パネル２０８を形成する複数の基板のうちの１枚を補償器２１０にすることもできる。このように、補償器は、パネル２０８の液晶とマイクロレンズアレイ２０６との間に配置しうる。このような１つの実施形態は、１つの適切な液晶高分子材料から実現しうる。

いくつかの実施形態においては、複数の補償器２１０、２３０、および２５０をそれぞれ正または負の異方性補償器とすることができ、これらの補償器は１つのスプレイ配向を有する複数のネマチック液晶、複数のディスコティック液晶、または他の複数の適切な液晶材料など、１つまたは複数の適切な材料から製造することができる。一般に、１つの液晶パネルの一方の側に直接隣接する補償層は、同じ側にある液晶を補償する。スプレイの面は、一般に、補償器のスプレイと共面をなす。液晶のスプレイと近接補償プレートのスプレイとが共面をなすと、液晶とこれに隣接する１つの補償器とが補償上よく調和するので、パネルの各側に補償器を含む１つの投写型システムを容易に製造できるので都合がよい。この理由は、液晶と補償器とが１つのスプレイ配向構造を有することによる。ただし、いくつかの実施形態においては、複数の正の補償器など、１つの補償器を使用してパネルの反対側のスプレイを補償すると好都合な場合があるが、これは近傍スプレイのリターダンスが１つの偏光要素として機能するからである。

１つのツイスト液晶駆動モードに対して複数の正の一軸プレートを使用する１つの具体的な補償方式を図６に示す。図６の補償方式は、このアプローチの一般的方法論を示すために使用しうる。先ず、このツイスト液晶駆動モードは、１つの上部チルト層と、法線配向された１つの中心層と、１つの第３の下部チルト層とからなる３層の１つの正の複屈折構造として概念的に表すことができる。図６の液晶４０４の直下に１つの正の二層補償器が示されている。本例においては、この補償器のこれらの層は正の一軸であり、複数の光学軸の各チルト角は一様である。これら複数の正の複屈折補償器層は、１つの三変換方式によって複数の液晶チルト層を補償するために機能する。この補償器の上層および下層は、それぞれ上部および下部の液晶チルト層によって補償される。各液晶チルト層の補償は、チルト層および以降の複数の複屈折層のそれぞれの消偏効果を補正することによって行われる。この方式は、補償を上部および下部の液晶チルト層に分け、光を特定の２つの平面に伝搬させるので都合がよい。これら複数の平面は、液晶セル基板に対して法線をなし、複数のチルト液晶層の複数の光学軸を含む。図６に示す典型的実施形態においては、これら複数の平面は直交する。

表２は、１つの光線が１つの平面に法線外の角度で伝搬し、その平面を伝搬する光が下部チルト液晶層の光学軸を含む場合の各層の投影光学軸を示す。

下部補償層の光学軸は、下部偏光子の軸に並行しているので透過強度を損わないため、無視できる。中心および下部の液晶層はそれぞれ同じ光学軸を有するので、単一の正のリターダと見なすことができる。

したがって、上部補償層は、第１のチルトリターダの消偏と、その光学軸が伝搬方向によって規定される次の第２のリターダの消偏とを１つの第３の偏光変換によって補正するように機能する。上層の光学軸の角度と中心層のリターダンス値とは、どちらもこの平面における伝搬角度にほぼ比例する。所望の補償の角度依存性に応じたチルト角を有する１つの補償器が必要とされる。誘発された正味偏光を解消するには、この補償器のチルト角は、補償される上部液晶チルト層の角度の逆にする必要がある。チルト角およびリターダンスのそれぞれの精確な値は駆動される液晶の複数のパラメータに応じて異なるが、配向角の符号はこの正味三変換方式によって決まる。

表３は、１つの光線が１つの平面に法線外角度で伝搬し、その平面を伝搬する光が上部チルト液晶層の光学軸を含む場合の各層の投影光学軸を示す。

上部および中心の補償層の光学軸は、上部偏光子の軸に並行であるので透過強度を損わないため、無視できる。

したがって、下部補償層は、上部液晶層に対応付けられた１つのチルトリターダの消偏と、伝搬方向によってその光学軸が規定される上部補償層に対応付けられた１つのリターダの消偏とを補正するように機能する。この場合もまた、上層の光学軸の角度は伝搬角度に依存するので、１つのチルト補償器のチルト角は、補償対象の下部液晶チルト層のチルト角とは逆にする必要がある。伝搬面ごとに最適化を行うことによって、複数のツイストネマチックモードに対して有効な正の複屈折斜め配向プレートによる１つの補償方式を実現することができる。この補償方式は、回転角度が９０度の複数の偏光軸に対しても有効である。このアプローチのさらなる改良版では、上記２つのシナリオにおいて複数の偏光軸に投影されるリタデーションを加減するために、負または正の複数のＣプレート（すなわち、複数の光学軸が液晶基板に対して法線をなす複数の複屈折層）を用いることができるであろう。

図５Ａは、図４のシステム４００など、１つの高温多結晶シリコンのツイストネマチック液晶投写型ディスプレイシステムの補償に２つの負のＯプレート３１０および３２０を使用した１つの典型的構成を示す。複数の負のＯプレート３１０および３２０は１つのチルト角θを有し、この２つの負のＯプレートのチルト軸は互に直交する。液晶は９０°ねじれた１つのネマチック構造を有し、基板・液晶境界に隣接する液晶の平均光学軸は、隣接するＯプレートの平均光学軸にほぼ並行である。

図５Ｂは、２つの負のＯプレートを有する１つの投写型システムのコントラストとチルト角との間の関係を示す。これらのＯプレートの厚さ値は、それぞれ１８、２０、２２、および２４ミクロンである。図５は、さまざまな厚さとチルト角に対して超ハイコントラストを達成できることを実証している。

図６は、一対の正のＯプレートを含む、１つのプロジェクタシステムのための１つの典型的な補償方式である。システム４００は、１つのツイストネマチック液晶パネル４０４と、これに隣接する４５°に配向された１つの偏光子４０２とを含む。１つの第１の正のＯプレート４０６は１つの配向θ＝４５°を有し、１つの第２の正のＯプレート４０８は１つの配向θ＝１３５°を有し、１つの偏光子４１０は１３５°に配向されている。ツイストネマチック液晶パネル４０４は、１つの左旋回ツイストを有する。あるいは、２つの正のＯプレートのチルト角をそれぞれ違えることもできる。

２つのＯプレートのチルト角がそれぞれ異なるこの典型的実施形態の一例は、１つの左旋回ツイストを有する市販のツイストネマチックセルから作成した１つのツイストネマチック液晶パネルを含み、１つの第１の正のＯプレート４０６は１つの配向３０°と、１つのΔｎ＝０．００８と、１つのｄ＝１１．５μｍとを有し、１つの第２の正のＯプレート４０８は１つの配向２４°と、１つのΔｎ＝０．００８と、１つのｄ＝１４μｍとを有する。偏光子４０２は４５°に配向されており、偏光子４１０は１３５°に配向されている。このシステムの１つのコントラストは、液晶および補償器のそれぞれの複屈折プロファイルによる消偏効果がない状態で、１１，０００：１を超える。

２つのスプレイＯプレートのチルト角がそれぞれ異なるこの典型的実施形態の一例は、１つの左旋回ツイストを有する市販のツイストネマチックセルから作成した１つのツイストネマチック液晶パネルを含み、１つの第１の正のスプレイＯプレート４０６は１つの配向０°，４５°と、１つのｏｎ軸リタデーションΓ（ｏｎ軸）＝５５ｎｍとを有し、１つの第２の正のＯプレート４０８は１つの配向０°，−３２°と、１つのｏｎ軸リタデーションΓ（ｏｎ軸）＝７２ｎｍとを有する。偏光子４０２は４５°に配向されており、偏光子４１０は１３５°に配向されている。このシステムの１つのコントラストは、液晶および補償器のそれぞれの複屈折プロファイルによる消偏効果がない状態で６０，０００：１を超えるが、その理由は、１つのスプレイセルの可変構造が、チルト角が固定された１つのホモジニアス補償器の構造より、ツイストネマチック液晶の構造に近いからである。さらに、スプレイ構造によってコントラストが十分に向上するので、この補償方式は、複数の投写型システム以外の装置、たとえば複数のフラットパネル液晶ディスプレイなどにも適用することができる。

本発明の別の典型的実施形態によると、１つの第１の補償器を使用して第１の液晶スプレイを補償し、側面の１つの第２の補償器によって第２の液晶スプレイを補償することによって、１つの二面補償方式の対称性が破られる。スプレイ用に単一層モデルを使用する場合は、ツイストネマチック液晶ディスプレイの入力スプレイに直角な平面における入力光線を考慮する。ツイストネマチックのスプレイは、１つの反時計回りのリターダとして現れる。これに続くのが固有方向に沿った１つのリターダであり、これはセルのＺリターダンスとツイストネマチック液晶ディスプレイの出力スプレイとの組み合わせによって形成される。偏光の補正は、１つの時計回りのリターダを表す第１の補償器によって行われる。第２の補償器は、固有方向に沿った１つのリタデーションを与えるが、これは偏光状態には影響しない。この平面については、補償は上記と同程度である。

１つの光線がツイストネマチック入力スプレイの平面に入射する場合は、この状況が変化する。ここで、セルのＺリターダンスとツイストスプレイとからなる固有配向リターダに最初に遭遇するが、このリターダは偏光状態に何も影響を及ぼさない。次に、１つの反時計回りのリターダを表す、液晶ディスプレイの第２の表面でのスプレイアップが続く。このとき、第１の補償器は、固有方向に沿った１つのリターダを表す。この次に、時計回りのリターダを表す第２の補償器によるスプレイダウンが続く。この平面において、両方の補償器が３つの偏光変換に関与する。

本発明による補償器によって総合的なコントラストを最適化するには、液晶ディスプレイの具体的な複数のパラメータを考慮して、複数の補償器のリタデーションおよび複数のスプレイパラメータ（各表面のプレチルト）をそれぞれ独立に選択する必要がある。入力ツイストネマチックスプレイに直交する平面においては、第１の補償器（液晶に隣接する補償器）の複数のパラメータだけが関係する。したがって、この平面は、第１の補償器に対する複数の基準を確立するために使用しうる。次に、コントラスト輪郭を最大化し、ハイコントラストの角度カバレージを法線入射角方向に沿って広げるために、第２の補償器に対する調整を中心近くで使用してもよい。この方法は、補償器パラメータの選択によってハイコントラストを生み出す効率的な方法の１つである。このように、１つまたは複数の層を追加挿入することによって、性能をさらに最適化することができる。たとえば、第１の補償器と第２の補償器との間に、１つの特定量のＺリタデーションを挿入することができる。

図７は、２つの正のＯプレートを使用して補償した場合のコントラストと厚さとの関係を示す。記載の複数の実施形態においては、これらのＯプレートの厚さは、約８ｕｍから約１５ｕｍであり、最適設計での厚さは通常１０ｕｍから１２ｕｍである。これらのＯプレートのチルト角を１０°から５０°の１つの範囲にしてもよく、最適設計における１つのチルト角範囲は通常２０°から４０°であり、複屈折はΔｎ＝０．００８である。

図８は、チルト角が一様な１つの補償プレートとスプレイ配向の１つの補償プレートとを含む４つの可能な構成を示す。コントラストは、構成Ｉでは５６００：１、構成ＩＩでは８２００：１、構成ＩＩＩでは８８００：１、構成ＩＶでは６５００：１である。最上部のプレートは４５°に配向されており、最下部のプレートは１３５°に配向されている。チルト配向プレートのチルト角は２５°であり、スプレイ配向プレートは０°から５０°または５０°から０°の１つのチルト範囲を有する。これらのプレートの厚さは１２ｕｍであり、デルタ（ｎ）＝０．００８である。これらのプレートのそれぞれの配向を４５°および１３５°以外にしてもよい。たとえば、これらのプレートのそれぞれの配向を直交する２つの任意の配向角度にしてもよい。これらのスプレイプレートのチルト角は０°または５０°のどちらにしてもよく、また５０°以外の角度にしてもよい。

図９は、１つの第１の補償プレート（４５°，０〜５０°）と１つの第２の補償プレート（１３５°，５０〜０°）とを備え、９０００：１を超える１つのコントラストを有する１つの二重スプレイ配向補償方式を示す。これらのプレートのそれぞれの配向は、４５°および１３５°以外でもよい。たとえば、これらのプレートのそれぞれの配向を直交する２つの任意の配向角度にしてもよい。これらのスプレイプレートのチルト角を０°または５０°のどちらにしてもよく、また５０°以外の１つの角度差を持たせてもよい。さらに、これら２つのスプレイプレートのスプレイを同様または同一にすることも、非対称スプレイまたはそれぞれ異なるスプレイにしてもよい。

図１０は、２つのスプレイ配向Ｏプレートによる補償がある場合とない場合の、１つのＨＴＰＳの視野を示す。

複数のリターダ膜を生成するための複数の技術として、複数の延伸高分子膜、複数の研磨無機結晶、複数の斜方蒸着またはパターン化膜、複数の液晶、および複数の高分子液晶などが挙げられる。いくつかの方法は、他の複数の方法より、いくつかの用途に適していることもある。たとえば、複数の延伸リターダは、最良ケースの標準偏差が±２ｎｍである複数の１００ｎｍ超のリターダンスに適している。ただし、複数の延伸リターダは複数の超低リタデーション値での制御が難しく、またキャスティング工程の故に複数の審美的要件を満たしにくい場合がある。実際に、機械的に信頼性が高く、熱負荷の存在下で光学的によく機能し、総合的な透過波面ひずみの発生が低い１つの方法で、複数の延伸リターダ膜を搭載することは難しい場合がある。さらに、複数の延伸方法は光学軸の斜め配向を複数生成しないこともあり、結果として低歩留まりおよびコスト増をもたらしうる。

別の例は、複数の無機リターダである。原材料の適切な鋸引きとその後の１回の研磨処理とによって斜め光学軸配向を有する無機リターダを製造しうる。水晶など、複数の材料については、研磨による複数のゼロオーダの半波長リターダンスは実証されている。複数の無機リターダは、その光学的品質および光強度の処理能力の高さ故に、好都合である。

複数の液晶高分子膜は、上記の複数の基準をすべて満たす可能性を有する。各界面のプレチルト角を制御することによって、スプレイ配向膜およびホモジニアス配向膜の両方を製造することができる。多層膜の場合は、可能な複数の補償構造の種類が限定されない。たとえば、正の誘電異方性を有する複数のネマチック高分子液晶は入手しやすく、１つの流体状態にあるときに、非高分子液晶と同様の物理学を用いて配向しうる。別の例は、１つのマイクロアレイと液晶パネルとの間に１つの補償構造を配置する方式である。この高分子補償構造は、薄く、堅牢で（たとえば、複数の高輝度ランプで使用しうる）、既存の複数の製造技術に対応するものでなければならない。赤外線（ＵＶ）光または別の適切な手法を用いてこれら複数の高分子液晶を架橋することによって、１つの固体薄膜を形成する。これら複数の手法を用いて、大小のプレチルト角を基板界面および空気界面の両方または一方に複数作成しうる。従来の複数の被覆方法を使用してこのような複数の薄い補償膜を単一の基板に蒸着してもよく、または従来の製造方法で積層ガラスセルを製造してから、ＵＶ架橋によって複数の補償プレートを製造してもよい。

複数のダイレクタ分布が十分に制御され、高精度のリタデーションを有する複数の補償膜が製造されれば、複数の補償方式を容易に再現でき、性能の信頼性が高まる。たとえば、複数の液晶高分子層を使用すれば、他の複数の材料では容易に作成できなかった複数の低リターダンス膜を作成しうる。

好都合な複数のリターダ膜材料は、以下の複数の特性の多くを含むことが多い。
リタデーションの正確な再現性および一様性、
面内光学軸の再現性および一様性の超高精度制御、
再現可能で一様な１つの適切な面外光学軸プロファイルの生成可能性、
低リターダンス値（たとえば、２５〜２００ｎｍ）の複数の膜の製造の実行可能性、
低消偏度（たとえば、ヘイズ）、
高輝度下での耐久性（および、場合によっては、いくらかの耐紫外線性）、
温度変動時の性能信頼性、
審美的欠陥が少ない仕様（特にＬＣＤ平面において）、
光学性能に対する実装工程の不感性、および
実装工程の信頼性（層間はく離）。
どの材料が最適であるかは、投写型システムの意図する用途または複数の要件に応じて異なることもある。

別の代替補償方式として、１つの補償器を光源偏光子とマイクロレンズアレイとの間に配置する方式が挙げられる。このような１つの補償器のチルト角およびリターダンスは、マイクロレンズアレイのパワーに応じて調整されることになる。

本発明の複数の実施形態および複数の利点を詳述してきたが、本発明の教示内容および複数の添付請求項によって規定される本発明の精神および範囲から逸脱することなく複数の変更、複数の置換、複数の変形、複数の修正、複数の変体、複数の並べ換え、および複数の改造を行いうることを理解されるべきである。

本発明による複数の実現方法を複数の具体的実施形態のコンテキストにおいて説明した。これら複数の実施形態は説明を目的としたものであり、制限を目的としたものではない。多くの変体、修正、追加、および改良が可能である。したがって、本願明細書では単一の具体例で説明されている複数の構成要素に対して複数の具体例がありうる。さまざまな構成要素、さまざまな操作、およびさまざまなデータストアのそれぞれの間の複数の境界はある程度自由に決められるものであり、複数の特定の操作は特定の説明のための複数の構成の下で示されている。他の複数の機能割り当てが想定され、これらは以下の特許請求の範囲に含まれうる。最後に、これら複数の典型的構成において複数の個別構成要素として提示されている複数の構造および機能は、１つの組み合わされた構造または構成要素としても実装しうる。上記および他の複数の変体、複数の修正、複数の追加、および複数の改良は、以下の特許請求の範囲に定義されている本発明の範囲に含まれうる。

本願明細書の各節の見出しは、３７ＣＦＲ１．７７に示唆されている１つの出願を構成する複数の部分との一貫性を保つために、あるいは構成上の複数の手掛かりを与えるために設けられているものである。これら複数の見出しは、本願から生じうるあらゆる特許申請に示される１つまたは複数の発明を制限するものでも特徴付けるものでもない。具体的に一例を挙げれば、これら複数の見出しは１つの「発明の分野」に言及しているが、この見出しの下でいわゆる発明の分野を説明するために選択された言語によって特許請求の範囲が制限されてはならない。さらに、「関連技術の説明」における１つの技術の１つの説明は、その技術が本願の先行技術であることを認めているものと解釈されてはならない。「発明の概要」もまた、本願の特許請求の範囲に示されている１つまたは複数の発明の１つの特徴付けと見なされるべきではない。さらに、これら複数の見出しにおいて「発明」が単数形で言及されていても、本願に主張されている新規点が１つだけであるとの主張に使われるべきではない。この特許明細書に対応付けられている複数の請求項の複数の制限に従って複数の発明を規定しうるので、したがって１つまたは複数の発明はこれら複数の請求項によって定義され、かつ保護される。あらゆる場合において、複数の請求項の範囲は、本明細書に照らしてそれ自体の価値によって考慮されるべきであり、本願明細書に含まれている複数の見出しによって制約されるべきではない。

１つの典型的な高温多結晶シリコン技術による投写型システムを示す。 １つの典型的な光強度分布である。 一対の負のＣプレートを有する従来技術の１つの投写型システムにおけるコントラストとリタデーション分布との関係を示す。 複数のＯプレート補償器を有する高温多結晶シリコン技術による１つの典型的なツイストネマチック液晶投写型ディスプレイシステムを示す。 高温多結晶シリコン技術による１つのツイストネマチック液晶ディスプレイの補償に２枚の負のＯプレートを用いた１つの典型的構成である。 ２つの負のＯプレートを有する１つの投写型システムにおけるコントラストとチルト角との関係を示す。 一対の正のＯプレートを含む、１つのプロジェクタシステムの補償のための別の典型的構成である。 ２枚の正のＯプレートによる補償方式のコントラストに対する厚さの影響を示す。 チルト角が一様な１つの補償プレートとスプレイ配向された１つの補償プレートとを含む４つの可能な構成を示す。 １つの第１の補償プレート（配向角４５°，０〜５０°）と１つの第２の補償プレート（配向角１３５°，５０〜０°）とを備えた１つの二重スプレイ配向補償方式の１つの典型的構成である。 は、２つのスプレイ配向Ｏプレートによる補償がある場合とない場合の、複数の高温多結晶シリコンディスプレイの視野を示す。

符号の説明

１００ 高温多結晶シリコン投写型システム
１０２ 光源
１０４ 直線偏光子
１０６ マイクロレンズアレイ
１０８ 液晶パネル
１１０ 補償器
１１２ 検光子
１１４ Ｘキューブ
１１６ 第２の画像生成部
１１８ 画像生成部

Claims (84)

1. １つの投写型システムであって、
   １つの第１のパネルと、
   前記第１のパネルに隣接する１つの第１の光源と、
   前記第１のパネルに結合された１つの導光要素と、
   前記第１のパネルに隣接する１つの第１の斜め配向異方性補償要素と、を含み、前記第１の斜め配向異方性補償要素が法線外入射光の１つの偏光状態を変えるように構成されている投写型システム。
2. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向補償要素の前記異方性が正の異方性である投写型システム。
3. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向補償要素の前記異方性が、正の異方性、負の異方性、および二軸異方性からなる群から選択される投写型システム。
4. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、少なくとも１つの第２パネルと、前記第２パネルに隣接する少なくとも１つの第２の斜め配向異方性補償要素とをさらに含み、前記第１および第２のパネルが第１および第２の光スペクトルをそれぞれ変調するように機能する投写型システム。
5. 請求項４に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の一方が正の異方性を有し、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素のもう一方が負の異方性を有する投写型システム。
6. 請求項５に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の光スペクトルの一方が青色あり、もう一方が赤色または緑色であり、前記正の異方性を有する前記斜め配向異方性補償要素が前記第１の光スペクトルの法線外入射光の１つの偏光状態を変えるために使われ、前記負の異方性を有する前記斜め配向異方性補償要素が前記第２の光スペクトルの法線外入射光の１つの偏光状態を変えるために使われる投写型システム。
7. 請求項４に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の少なくとも一方がそれぞれの隣接パネルに対してスプレイ配向されている投写型システム。
8. 請求項７に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の両方がスプレイ配向であり、それぞれのスプレイ配向が互に対称的である投写型システム。
9. 請求項７に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の両方がスプレイ配向であり、それぞれのスプレイ配向が互に非対称的である投写型システム。
10. 請求項７に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の両方が同一の異方性を有する投写型システム。
11. 請求項７に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の両方がそれぞれ異なる異方性を有する投写型システム。
12. 請求項７に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の少なくとも一方が二軸異方性を有する投写型システム。
13. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記第１のパネルに隣接して少なくとも１つのマイクロレンズアレイをさらに含む投写型システム。
14. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記導光要素が１つのＸキューブである投写型システム。
15. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素が最大方位平均コントラストにほぼ最適化されている投写型システム。
16. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記第１のパネルが１つの液晶パネルである投写型システム。
17. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記斜め配向異方性補償要素が１つの高分子液晶材料を含む投写型システム。
18. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記斜め配向異方性補償要素が１つの多層補償要素である投写型システム。
19. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記第１のパネルに隣接して１つの第２の斜め配向異方性補償要素をさらに含む投写型システム。
20. 請求項１９に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が前記第１のパネルの同じ側にある投写型システム。
21. 請求項１９に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が前記第１のパネルの両側に分かれている投写型システム。
22. 請求項１３に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素が前記少なくとも１つのマイクロレンズアレイの低Ｆ値側にある投写型システム。
23. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記第１のパネルと前記第１の斜め配向異方性補償要素とが１つの共通基板上に形成されている投写型システム。
24. 請求項２３に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素がその上に形成されている前記基板が前記第１のパネルである投写型システム。
25. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素が約０°から約５０°にわたる１つのチルト角を有する投写型システム。
26. 請求項１に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素が前記第１のパネルに対してスプレイ配向されている投写型システム。
27. １つの投写型システムであって、
    １つの第１のパネルと、
    前記第１のパネルに結合された１つの第１の光源と、
    前記第１のパネルに結合された１つの導光要素と、
    前記第１のパネルに隣接し、法線外入射光の１つの偏光状態を変えるように構成されている１つの第１の斜め配向補償要素と、
    １つの第２の斜め配向補償要素と、
    前記第２の斜め配向補償要素に隣接する１つの第２のパネルと、
    前記第２のパネルに結合された１つの第２の光源と、
    １つの第３の斜め配向補償要素と、
    前記第３の斜め配向補償要素に隣接する１つの第３のパネルと、
    前記第３のパネルに結合された１つの第３の光源と、を含み、前記第１、第２、および第３の斜め配向補償要素が法線外入射光の１つの偏光状態を変えるように構成され、前記導光要素が前記第１、第２、および第３のパネルによって変調された光を組み合わせて１つの画像を形成するように構成されている投写型システム。
28. 請求項２７に記載の１つの投写型システムであって、前記複数の斜め配向補償要素の少なくとも１つが対応する隣接パネルに対してスプレイ配向されている投写型システム。
29. 請求項２７に記載の１つの投写型システムであって、
    前記第１のパネルに隣接する１つの第４の斜め配向補償要素と、
    前記第２のパネルに隣接する１つの第５の斜め配向補償要素と、
    前記第３のパネルに隣接する１つの第６の斜め配向補償要素と、をさらに含む投写型システム。
30. 請求項２９に記載の１つの投写型システムであって、前記複数の斜め配向補償要素の少なくとも１つが対応するパネルに対してスプレイ配向されている投写型システム。
31. 請求項２７に記載の１つの投写型システムであって、前記第１、第２、および第３のパネルの少なくとも１つに隣接して少なくとも１つのマイクロレンズアレイをさらに含む投写型システム。
32. 請求項２７に記載の１つの投写型システムであって、前記複数の斜め配向補償要素の少なくとも１つが最大方位平均コントラストにほぼ最適化されている投写型システム。
33. 請求項２７に記載の１つの投写型システムであって、前記導光要素が１つのＸキューブである投写型システム。
34. 請求項２７に記載の１つの投写型システムであって、前記第１、第２、および第３のパネルがそれぞれ液晶パネルである投写型システム。
35. 請求項２９に記載の１つの投写型システムであって、前記複数の斜め配向補償要素が高分子液晶材料を含む投写型システム。
36. 請求項２９に記載の１つの投写型システムであって、前記複数の斜め配向補償要素がそれぞれ多層補償要素である投写型システム。
37. 請求項２７に記載の１つの投写型システムであって、前記複数の斜め配向補償要素の対応する一対が対応する隣接パネルの同じ側にある投写型システム。
38. 請求項２７に記載の１つの投写型システムであって、前記複数の斜め配向補償要素の対応する一対が対応する隣接パネルの両側に分かれている投写型システム。
39. 請求項３１に記載の１つの投写型システムであって、各パネルに対応する前記複数の斜め配向補償要素が前記少なくとも１つのマイクロレンズアレイの前記低Ｆ値側にある投写型システム。
40. 請求項２９に記載の１つの投写型システムであって、前記第１、第２、および第３のパネルを形成する複数の基板が前記対応する複数の斜め配向補償要素を含む投写型システム。
41. 請求項２９に記載の１つの投写型システムであって、前記複数の斜め配向補償要素が約０°から約５０°にわたるチルト角をそれぞれ有する投写型システム。
42. １つの液晶投写デバイスであって、
    １つの第１のスプレイチルトプロファイルを有する１つの第１の斜めスプレイ配向補償要素と、
    １つの第２のスプレイチルトプロファイルを有する１つの第２の斜めスプレイ配向補償要素と、
    前記第１および第２の斜めスプレイ配向補償要素に隣接する１つの液晶パネルと、を含み、前記第１のスプレイチルトプロファイルが前記第２のスプレイチルトプロファイルとは異なり、前記複数の斜めスプレイ配向補償要素が法線外入射光の１つの偏光状態を変えるように構成されている液晶投写デバイス。
43. 請求項４３に記載の１つの液晶投写デバイスであって、前記複数の斜めスプレイ配向補償要素が最大方位平均コントラストにほぼ最適化されている液晶投写デバイス。
44. １つの投写型システムを補償する１つの方法であって、
    １つの第１の斜め配向異方性補償要素によって少なくとも１つのパネルを補償するステップと、
    前記少なくとも１つのパネルを１つの第２の斜め配向異方性補償要素によって補償するステップと、
    前記少なくとも１つのパネルによって変調された光を用いて少なくとも１つの導光要素によって１つの画像を形成するステップと、を含み、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が法線外入射光の１つの偏光状態を変えるように構成されており、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が最大方位平均コントラストにほぼ最適化されている方法。
45. 請求項４４に記載の１つの方法であって、少なくとも１つのマイクロレンズアレイによって前記少なくとも１つのパネルに光を集束するステップをさらに含む方法。
46. 請求項４５に記載の１つの方法であって、前記少なくとも１つのパネルが１つの液晶パネルである方法。
47. 請求項４５に記載の１つの方法であって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が高分子液晶材料を含む方法。
48. 請求項４７に記載の１つの方法であって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素がスプレイ配向されている方法。
49. 請求項４７に記載の１つの方法であって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が前記少なくとも１つのパネルの同じ側にある方法。
50. 請求項４７に記載の１つの方法であって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が前記少なくとも１つのパネルの両側に分かれている方法。
51. 請求項４７に記載の１つの方法であって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が同じ異方性符号を有する方法。
52. 請求項４７に記載の１つの方法であって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が１つの異なる異方性符号を有する方法。
53. 請求項４７に記載の１つの方法であって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が前記少なくとも１つのパネルに対してスプレイ配向されている方法。
54. １つの投写型システムであって、
    １つのパネルと、
    前記パネルの１つの第１の側に光学的に配置された１つの第１の斜め配向異方性補償要素と、
    前記第１の斜め配向異方性補償要素と前記パネルの前記第１の側との間に配置された１つの第２の斜め配向異方性補償要素と、を含み、前記第１の斜め配向異方性補償要素が、前記パネルの前記第１の側に隣接する、前記パネルの１つの第１の平面部分の前記平均チルト角に対して１つの平均チルト角を有し、また前記第２の斜め配向異方性補償要素が、前記パネルの前記第２の側に隣接する、前記パネルの１つの第２の平面部分の平均チルト角に対して１つの平均チルト角を有する投写型システム。
55. 請求項５４に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の少なくとも一方が１つのスプレイ配向構造を有する投写型システム。
56. 請求項５５に記載の１つの投写型システムであって、前記パネルの前記第１および第２の部分がそれぞれスプレイ配向構造を有し、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の両方がそれぞれスプレイ配向構造を有する投写型システム。
57. 請求項５６に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素の前記スプレイが前記パネルの前記第１の部分の前記スプレイに並行である投写型システム。
58. 請求項５６に記載の１つの投写型システムであって、前記第２の斜め配向異方性補償要素の前記スプレイが前記パネルの前記第２の部分の前記スプレイに並行である投写型システム。
59. 請求項５６に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素の前記スプレイが前記パネルの前記第１の部分の前記スプレイと共面をなし、前記パネルの前記第１の部分に対して１つの負のチルト角を有し、また前記第２の斜め配向異方性補償要素の前記スプレイが前記パネルの前記第２部分の前記スプレイと共面をなし、前記パネルの前記第２の部分に対して１つの負のチルト角を有する投写型システム。
60. １つの投写型システムであって、
    １つの第１のパネルと、
    前記第１のパネルに隣接する１つの第１の光源と、
    前記第１のパネルに結合された１つの導光要素と、
    前記第１のパネルに隣接する１つの第１の斜め配向異方性補償要素と、を含み、前記第１の斜め配向異方性補償要素が法線外入射光の１つの偏光状態を変えるように構成され、前記第１の斜め配向補償要素の前記異方性が正の異方性である投写型システム。
61. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向補償要素の前記異方性が、正の異方性と、負の異方性と、二軸異方性とからなる群から選択される投写型システム。
62. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、少なくとも１つの第２のパネルと、前記第２のパネルに隣接する少なくとも１つの第２の斜め配向異方性補償要素とをさらに含み、前記第１および第２のパネルが第１および第２の光スペクトルをそれぞれ変調するように機能する投写型システム。
63. 請求項６２に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の一方が正の異方性を有し、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素のもう一方が負の異方性を有する投写型システム。
64. 請求項６３に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の光スペクトルの一方が青色であり、他方が赤色または緑色であり、前記正の異方性を有する前記斜め配向異方性補償要素が前記第１の光スペクトルの法線外入射光の１つの偏光状態を変えるために使われ、前記負の異方性を有する前記斜め配向異方性補償要素が前記第２の光スペクトルの１つの法線外入射光の偏光状態を変えるために使われる投写型システム。
65. 請求項６２に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の少なくとも一方がそれぞれの隣接パネルに対してスプレイ配向されている投写型システム。
66. 請求項６５に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の両方がスプレイ配向され、それぞれのスプレイが互に対称的である投写型システム。
67. 請求項６５に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の両方がスプレイ配向され、それぞれのスプレイが互に非対称的である投写型システム。
68. 請求項６５に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の両方が同じ異方性を有する投写型システム。
69. 請求項６５に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の両方がそれぞれ異なる異方性を有する投写型システム。
70. 請求項６５に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素の少なくとも一方が二軸異方性を有する投写型システム。
71. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、前記第１のパネルに隣接して少なくとも１つのマイクロレンズアレイをさらに含む投写型システム。
72. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、前記導光要素が１つのＸキューブである投写型システム。
73. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素が最大方位平均コントラストにほぼ最適化されている投写型システム。
74. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、前記第１のパネルが１つの液晶パネルである投写型システム。
75. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、前記斜め配向異方性補償要素が１つの高分子液晶材料を含む投写型システム。
76. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、前記斜め配向異方性補償要素が１つの多層補償要素である投写型システム。
77. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、前記第１のパネルに隣接して１つの第２の斜め配向異方性補償要素をさらに含む投写型システム。
78. 請求項７７に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が前記第１のパネルの同じ側にある投写型システム。
79. 請求項７７に記載の１つの投写型システムであって、前記第１および第２の斜め配向異方性補償要素が前記第１のパネルの両側に分かれている投写型システム。
80. 請求項７１に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素が前記少なくとも１つのマイクロレンズアレイの低Ｆ値側にある投写型システム。
81. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、前記第１のパネルと前記第１の斜め配向異方性補償要素とが１つの共通基板上に形成されている投写型システム。
82. 請求項８１に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素がその上に形成されている前記基板が前記第１のパネルである投写型システム。
83. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素が約０°から約５０°にわたる１つのチルト角を有する投写型システム。
84. 請求項６０に記載の１つの投写型システムであって、前記第１の斜め配向異方性補償要素が前記第１のパネルに対してスプレイ配向されている投写型システム。

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