JP2006500409A5 - - Google Patents

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NO供与化合物の新たな製造方法を以下に記載する。
本発明の1つの実施形態は、NO供与化合物の製造方法に関する。この方法は、
工程1
酸性剤または脱水剤および溶剤を使用して反応
MLT1AT2-COOH + HO-X-OH → MLT1AT2-COO-X-OH、
(I) (II)
を行い、任意に続けて抽出または結晶化により精製する工程、と
工程2
溶剤、塩基および任意成分として触媒を使用して反応
MLT1AT2-COO-X-OH + RSO2Cl → MLT1AT2-COO-X-OSO2R
(II) (III)
を行い、続いて抽出および結晶化により精製する工程、と
工程3
溶剤および任意成分として触媒を使用して反応
MLT1AT2-COO-X-OSO2R + Y-NO 3 → MLT1AT2-COO-X-ONOm
(III) (IV)
を行い、任意に続けて式IVの化合物を実質的に結晶形態で得るための結晶化処理を行なう工程
[式中:
Mは、生理学的に活性な化合物の基であり;
Lは、O、S、(CO)O、(CO)NH、(CO)NR1、NH、NR1(式中、R1は直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基である)または
Figure 2006500409
(式中、RbはH、C112アルキルまたはC212アルケニルであり、R2は、(CO)NH、(CO)NR1、(CO)OまたはCR1であり、aおよびbは独立して0または1である)であり;
Aは、置換または未置換の直鎖または分枝鎖のアルキル鎖であり;
Xは炭素連結基であり;
Rは、C1〜C8アルキル、フェニル、フェニルメチル、C1〜C4アルキルフェニル、ハロフェニル、ニトロフェニル、アセチルアミノフェニル、ハロゲン、CF3およびn-C4F9からなる群より選択され;
Y-NO3は、硝酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸マグネシウム、硝酸カルシウム、硝酸鉄、硝酸亜鉛または硝酸テトラアルキルアンモニウム(ここで、アルキルは、C1〜C18アルキルであり、直鎖であっても分枝鎖であってもよい)であり;
mは1または2であり;そして
T1およびT2はそれぞれ独立して0、1、2または3であり;
ただし、MLT1AT2-COOHがナプロキセンである場合にはXは(CH2)4ではない]
を含む。
工程3
MLT1AT2-COO-X-OSO2R + Y-NO 3 → MLT1AT2-COO-X-ONOm
(III) (IV)
(式中、M、L、A、T1、T2、X、R、mおよびYは上記に規定のとおりである)。
製造方法の工程3において、式IVの化合物は、任意に溶剤の存在下で行なってもよい、式IIIの化合物とナイトレート供給源(Y-NO3)との反応により得られる。
この反応は、硝酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸マグネシウム、硝酸カルシウム、硝酸鉄、硝酸亜鉛および硝酸テトラアルキルアンモニウム(ここで、アルキルはC1〜C18アルキルであり、直鎖であっても分枝鎖であってもよい)からなる群より選択されるナイトレート供給源Y-NO3を用いて実施してもよい。
1つの実施形態は、工程3のナイトレート供給源Y-NO3が硝酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸マグネシウムおよび硝酸カルシウムからなる群より選択されるかまたはそれらの混合物からなる群より選択される本発明の方法に関する。

Claims (38)

  1. 以下の工程:
    工程1
    酸性剤または脱水剤および溶剤を使用して反応
    MLT1AT2-COOH + HO-X-OH → MLT1AT2-COO-X-OH
    (I) (II)
    を行い、任意に続けて抽出または結晶化により精製する工程、と
    工程2
    溶剤、塩基および任意成分として触媒を使用して反応
    MLT1AT2-COO-X-OH + RSO2Cl → MLT1AT2-COO-X-OSO2R
    (II) (III)
    を行い、続いて抽出および結晶化により精製する工程、と
    工程3
    溶剤および任意成分として触媒を使用して反応
    MLT1AT2-COO-X-OSO2R + Y-NO 3 → MLT1AT2-COO-X-ONOm
    (III) (IV)
    を行い、任意に続けて式IVの化合物を実質的に結晶形態で得るための結晶化処理を行なう工程
    [式中、
    Mは、生理学的に活性な化合物の基であり;
    Lは、O、S、(CO)O、(CO)NH、(CO)NR1、NH、NR1 (式中、R1は直鎖または分枝鎖のアルキル基である)または
    Figure 2006500409
    (式中、RbはH、C112アルキルまたはC212アルケニルであり、R2は、(CO)NH、(CO)NR1、(CO)OまたはCR1であり、aおよびbは独立して0または1である)であり;
    Aは、置換または未置換の直鎖または分枝鎖のアルキル鎖であり;
    Xは炭素連結基であり;
    Rは、C1〜C8アルキル、フェニル、フェニルメチル、C1〜C4アルキルフェニル、ハロフェニル、ニトロフェニル、アセチルアミノフェニル、ハロゲン、CF3およびn-C4F9からなる群より選択され;
    Y-NO3は、硝酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸マグネシウム、硝酸カルシウム、硝酸鉄、硝酸亜鉛または硝酸テトラアルキルアンモニウム(ここで、アルキルはC1〜C18アルキルであり、直鎖であっても分枝鎖であってもよい)であり;
    mは1または2であり;そして
    T1およびT2はそれぞれ独立して0、1、2または3であり;
    ただし、MLT1AT2-COOHがナプロキセンである場合にはXは(CH2)4ではない]
    を含むNO供与化合物の製造方法。
  2. 基Mが、NSAIDであるCOX1またはCOX2阻害剤の分子の部分である請求項1に記載の方法。
  3. Xが、直鎖の-(CH2)w1- (式中、w1は2〜6の整数である)、-(CH2)2-O-(CH2)2-および-CH2-C6H4-CH2-からなる群より選択される請求項1に記載の方法。
  4. Rが、C1〜C8アルキル、フェニル、フェニルメチル、C1〜C4アルキルフェニル、ハロフェニル、ニトロフェニル、アセチルアミノフェニルおよびハロゲンからなる群より選択される請求項1に記載の方法。
  5. 基MLT1AT2が、
    Figure 2006500409
    からなる群より選択される請求項1に記載の方法。
  6. 基MLT1AT2が、
    Figure 2006500409
    である請求項5に記載の方法。
  7. 式IVの化合物についての結晶化処理が、以下の工程:
    a)i)溶剤に式IVの化合物を溶解する工程;
    または
    ii)反応溶液から溶剤中に式IVの化合物を抽出する工程;
    または
    iii)式IVの化合物を含む反応溶液から開始する工程;
    b)溶剤を蒸発させる工程;
    c)反溶剤を加えそして/または冷却する工程;
    d)任意の工程として、生成した結晶を単離する工程;
    e)工程c)で生成した結晶または工程d)で単離した結晶を再結晶化させる工程
    を含む請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
  8. 化合物2-[2-(ニトロオキシ)-エトキシ]エチル[2-[(2,6-ジクロロフェニル)アミノ]フェニル]アセテート(IVa)のための結晶化処理が、以下の工程:
    a)反応溶液から溶剤中へ化合物を抽出する工程;
    b)溶剤を蒸発させる工程;
    c)反溶剤を加えそして/または冷却する工程;
    d)任意の工程として、生成した結晶を単離する工程;
    e)工程c)で生成した結晶または工程d)で単離した結晶を再結晶化する工程
    を含む請求項7に記載の方法。
  9. 工程1の酸性剤または脱水剤が、硫酸またはその塩、過塩素酸(例えば、70%)またはポリスチレンスルホン酸のような他の適切な酸、ゼオライト、酸性粘土、過塩素酸もしくは気状塩化水素のような強力な親水性酸と組み合せた砂、およびモンモリロナイトからなる群より選択される請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
  10. 工程1の溶剤が非極性および/または非酸性の溶剤である請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
  11. 工程2の溶剤が、トルエン、クメン、キシレン、酢酸エチル、アセトニトリル、酢酸ブチルおよび酢酸イソプロピルからなる群より選択される請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
  12. 工程2の塩基が、トリエチルアミンまたはN-メチルモルホリンである請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
  13. 工程2の触媒が4-(ジメチルアミノ)ピリジンである請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
  14. 工程2の式IIIの化合物が有機溶剤から結晶化される請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法。
  15. 工程2での式IIIの化合物の結晶化に反溶剤を使用する請求項14に記載の方法。
  16. 工程3のナイトレート供給源Y-NO3が、硝酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸マグネシウムおよび硝酸カルシウムからなる群より選択されるか、またはこれらの混合物からなる群より選択される請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法。
  17. 工程3の有機溶剤が、N-メチルピロリジノン、スルホラン、テトラメチル尿素、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、アセトニトリル、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルおよび酢酸イソプロピルからなる群より選択されるか、またはこれらの混合物からなる群より選択される請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法。
  18. 工程3の相間移動触媒が、テトラアルキルアンモニウム塩、アリールアルキルアンモニウム塩、テトラアルキルホスホニウム塩、アリールアルキルホスホニウム塩、クラウンエーテル、ペンタエチレングリコール、ヘキサエチレングリコールおよびポリエチレングリコールからなる群より選択されるか、またはこれらの混合物からなる群より選択される請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法。
  19. 工程a)の溶剤が、低級アルキルアセテート、低級アルキルアルコール、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、複素環式芳香族炭化水素、ジアルキルケトン、ジアルキルエーテル、ニトリルおよび水から構成される群より選択されるか、またはこれらの混合物から構成される群より選択される請求項7または8のいずれか1項に記載の方法。
  20. 結晶化処理の工程b)の反溶剤が、エタノールまたは2-プロパノール、トルエン、クメン、キシレン、リグロイン、石油エーテル、ハロベンゼン、ヘプタン、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサンおよびシクロヘプタンから構成される群より選択されるか、またはこれらの混合物から構成される群より選択される請求項7または8のいずれか1項に記載の方法。
  21. 工程d)の溶剤が、トルエン、クメン、キシレン、メチルイソブチルケトン、ジ-n-ブチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸n-ブチルおよびジクロロメタンからなる群より選択されるか、またはこれらの混合物からなる群より選択される請求項7または8のいずれか1項に記載の方法。
  22. 温度が−40℃〜120℃の間である請求項1〜21のいずれか1項に記載の方法。
  23. 以下の工程:
    工程1
    式Iaの化合物をHO-X-OH (式中、XはC2H4OC2H4、C4H8またはC2H4OC2H4OC2H4である)と
    反応させて、式IIa、IIbまたはIIcの化合物を得る工程、
    Figure 2006500409
    続いて
    工程2
    式IIa、IIbまたはIIcの化合物をRSO2Cl (式中、Rは上記に規定のとおりである)と反応させて、式IIIa、IIIbまたはIIIcの化合物を得る工程、
    Figure 2006500409
    続いて
    工程3
    式IIIa、IIIbまたはIIIcの化合物をナイトレート供給源Y-NO3 (式中、Yは上記に規定のとおりである)と反応させて、式IVa、IVbまたはIVcの化合物を得る工程
    Figure 2006500409
    続いて
    以下の工程を使用して式IVa、IVbまたはIVcの化合物を結晶化する工程:
    a)反応溶液から溶剤中へ式IVa、IVbまたはIVcの化合物を抽出する工程;
    b)溶剤を蒸発させる工程;
    c)反溶剤を加えそして/または冷却する工程;
    d)任意の工程として、生成した結晶を単離する工程;
    e)工程c)で生成した結晶または工程d)で単離した結晶を再結晶化させる工程
    を含む式IVa、IVbまたはIVcのNO供与ジクロフェナクの製造方法。
  24. A形態の化合物IVaの化学純度が95%を超える請求項1〜23のいずれか1項に記載の方法。
  25. 以下の工程:
    工程1
    式Idの化合物を1,3-プロパンジオールと反応させて、式IIdの化合物を得る工程、
    Figure 2006500409
    続いて
    工程2
    式IIdの化合物をRSO2Cl (式中、Rは請求項1に規定のとおりである)と反応させて、式IIIdの化合物を得る工程、
    Figure 2006500409
    工程3
    式IIIdの化合物をナイトレート供給源Y-NO3 (式中、Yは請求項1に規定のとおりである)と反応させて、式IVdの化合物を得る工程
    Figure 2006500409
    を含む式IVdのNO供与ケトプロフェンの製造方法。
  26. 式IVdのNO供与ケトプロフェンのS-エナンチオマーを製造するための請求項25に記載の方法。
  27. 実質的に結晶形態の2-[2-(ニトロオキシ)-エトキシ]エチル[2-[(2,6-ジクロロフェニル)アミノ]フェニル]アセテート(IVa)。
  28. 無水物形態の請求項27に記載の化合物。
  29. 下記の表に示したX線粉体回折像中の主要なピークによって特徴付けられる請求項27に記載の化合物。
    Figure 2006500409
  30. パラメータa=13.79Å、b=11.90Å、c=13.01Å、α=90°、β=94.0°、γ=90°の単斜晶系単位格子を有することによって特徴付けられる請求項27に記載の化合物。
  31. 2-[2-(ニトロオキシ)エトキシ]エチル[2-[(2,6-ジクロロフェニル)アミノ]フェニル]アセテートを結晶化することを含むA形態の化合物IVaの製造方法。
  32. 式IIIa、IIIb、IIIcおよびIIIdの化合物:
    Figure 2006500409
    (式中、RはC1〜C8アルキル、フェニル、フェニルメチル、C1〜C4アルキルフェニル、ハロフェニル、ニトロフェニル、アセチルアミノフェニル、ハロゲン、CF3およびn-C4F9からなる群より選択される)。
  33. 式IVa、IVb、IVcおよびIVdの化合物の大規模製造のための請求項1〜21のいずれか1項に記載の方法の使用。
  34. 薬学的に活性な化合物の製造のための中間体としての式IIIの化合物MLT1AT2-X-O-SO2R (式中、M、L、A、T1、T2、XおよびRは請求項1に規定のとおりである)の使用。
  35. 疼痛および/または炎症の処置用医薬の製造のための、請求項1の工程1および2に記載した処理工程に従って製造した請求項32に記載の式IIIa、IIIb、IIIcおよびIIIdの中間体化合物の使用。
  36. 医薬の製造のためのA形態の化合物IVaの使用。
  37. 疼痛および/または炎症の処置用医薬の製造のためのA形態の化合物IVaの使用。
  38. 治療有効量のA形態の化合物IVaを含み、任意に希釈剤、賦形剤またはキャリアが組み合わされていてもよい薬学的製剤。
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