JP2006349913A - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】滴下貼り合わせ法において、製造効率を低下させることなく、液晶材料を一対の基板の間に均一に封入する。
【解決手段】互いに対向して配置された一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に液晶材料40が封入された液晶パネル50の製造方法であって、一対の基板10及び20の一方に枠形状のシール材30を形成するシール材形成工程と、一対の基板10及び20の一方の表面に、液晶材料40を室温よりも冷却して配置する液晶配置工程と、シール材30及び液晶材料40を挟むように、一対の基板10及び20を室温よりも低い温度に冷却しながら貼り合わせる貼り合わせ工程と、貼り合わされた一対の基板10及び20を室温以上に昇温させる昇温工程とを備える。
【選択図】図1
【解決手段】互いに対向して配置された一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に液晶材料40が封入された液晶パネル50の製造方法であって、一対の基板10及び20の一方に枠形状のシール材30を形成するシール材形成工程と、一対の基板10及び20の一方の表面に、液晶材料40を室温よりも冷却して配置する液晶配置工程と、シール材30及び液晶材料40を挟むように、一対の基板10及び20を室温よりも低い温度に冷却しながら貼り合わせる貼り合わせ工程と、貼り合わされた一対の基板10及び20を室温以上に昇温させる昇温工程とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、液晶パネルの製造方法に関するものであり、特に、液晶パネルを構成する一対の基板の間に液晶材料を封入する方法に関する。
液晶パネルは、互いに対向するように貼り合わせられた一対の基板の間に液晶材料を封入することにより製造される。この液晶材料を封入する方法としては、ディップ注入法と滴下貼り合わせ法とが広く知られている。
上記ディップ注入法は、真空状態で容器に溜めた液晶材料に、上記一対の基板の側面に予め設けられた注入口を浸け、その後、大気圧に戻すことにより、液晶材料を封入する方法である。また、上記滴下貼り合わせ法は、上記一対の基板の一方の基板上に予め液晶材料を滴下した後、他方の基板を貼り合わせることにより、液晶材料を封入する方法である。
近年、液晶パネルは、大型化が進んでいるので、その大型の液晶パネルを構成する一対の基板の間に液晶材料を上記ディップ注入法を用いて封入するには、長時間を要してしまう。そのため、大型の液晶パネルの製造においては、上記滴下貼り合わせ法が主流になっている。
ところで、滴下貼り合わせ法では、上記一対の基板の間隔を一定に保つためのスペーサーの高さに応じて、液晶材料の滴下量及び滴下間隔を設定して、液晶材料の滴下を行っている。しかしながら、実際の液晶パネルを構成するアクティブマトリクス基板等の基板には、種々の素子や配線が多層に形成されているので、その表面が凹凸形状に形成されている。そのため、液晶材料の滴下量及び滴下間隔をそれぞれ所定値に設定したとしても、液晶材料の供給量の不足により液晶パネル内に気泡が発生したり、液晶材料の供給量の過剰によりセルギャップと呼ばれる一対の基板の間隔が局所的に大きくなったりする恐れがある。
そこで、液晶材料の供給量の過不足を防ぐために、特許文献1には、一方の基板上に一定量の液晶分子を滴下し、他方の基板を重ねた後に、低温にすることにより液晶材料を凍結させて、その余分な液晶材料を凍結した状態で取り除くという技術が開示されている。
また、液晶パネル内の気泡は、基板上に形成されたカラーフィルタから発生するガスによって大きくなるので、特許文献2には、カラーフィルタが形成された基板を予め加熱処理して脱ガスするという技術が開示されている。
特開昭59−195222号公報
特開平11−174477号公報
しかしながら、特許文献1の技術では、凍結させた液晶材料を取り除くという工程が増えるので、製造効率が低下してしまう。しかも、凍結させた液晶材料は流動性がないので、液晶材料を取り除くことは容易ではない。また、特許文献2の技術では、カラーフィルタが形成された基板を加熱するので、カラーフィルタから発生するガスを少なくすることができるが、一対の基板の間への液晶材料の均一な封入については考慮されてないので、一対の基板の間に液晶材料を均一に封入できるとは限らない。したがって、上述のような従来の液晶パネルの製造方法では、製造効率を低下させることなく、液晶材料を一対の基板の間に均一に封入することが困難であった。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、滴下貼り合わせ法において、製造効率を低下させることなく、液晶材料を一対の基板の間に均一に封入することにある。
上記目的を達成するために、本発明は、液晶材料を冷却して配置し、貼り合わせ工程の後に昇温させるようにしたものである。
具体的に、本発明に係る液晶パネルの製造方法は、互いに対向して配置された一対の基板の間に液晶材料が封入された液晶パネルの製造方法であって、上記一対の基板の一方に枠形状のシール材を形成するシール材形成工程と、上記一対の基板の一方の表面に、上記液晶材料を室温よりも冷却して配置する液晶配置工程と、上記シール材及び上記液晶材料を挟むように、上記一対の基板を室温よりも低い温度に冷却しながら貼り合わせる貼り合わせ工程と、上記貼り合わされた一対の基板を室温以上に昇温させる昇温工程とを備えることを特徴とする。
上記液晶配置工程は、上記液晶材料を室温よりも低く冷却しながら滴下してもよい。
上記液晶配置工程は、上記液晶材料を滴下した後に、該液晶材料を室温よりも低い温度に冷却してもよい。
上記の方法によれば、液晶配置工程において、液晶材料を冷却しながら滴下する、または、液晶材料を滴下した後に、その滴下された液晶材料を冷却するので、液晶材料は冷却されることになる。そのため、液晶配置工程及び貼り合わせ工程において、液晶材料は、冷却されて熱収縮した状態にある。そして、昇温工程において、液晶材料は、その温度が上昇するので、熱膨張して一対の基板の間に拡散されることになる。このとき、液晶配置工程及び貼り合わせ工程と昇温工程との間には、冷却しない場合よりも大きな温度勾配が形成されるので、貼り合わせ工程から昇温工程までの液晶材料の体積変化量、すなわち、液晶材料の移動量が大きくなる。そのため、液晶材料は、例えば、基板上の凹凸形状の影響が少なく拡散され、一対の基板の間に均一に封入される。しかも、液晶配置工程及び貼り合わせ工程を冷却するだけで、液晶材料が一対の基板の間に均一に封入されるので、製造効率を低下させることもない。したがって、滴下貼り合わせ法において、製造効率を低下させることなく、液晶材料を一対の基板の間に均一に封入することが可能になる。
上記シール材は、紫外線硬化性を有する樹脂により構成され、上記貼り合わせ工程と上記昇温工程との間に、上記貼り合わされた一対の基板を室温よりも低い温度に冷却しながら上記シール材に紫外線を照射することにより、該シール材を硬化させる紫外線照射工程を備えてもよい。
上記の方法によれば、昇温工程の前の紫外線照射工程において、シール材が硬化されるので、昇温工程を行う前のシール材は既に硬化状態にある。そのため、昇温工程において、拡散する液晶材料と未硬化状態のシール材とが接触することがないので、未硬化状態のシール材が液晶材料に混入することがない。したがって、滴下貼り合わせ法において、液晶材料が汚染されることなく一対の基板の間に封入される。
上記紫外線硬化性を有する樹脂は、熱硬化性を有し、上記昇温工程では、上記シール材をさらに硬化させてもよい。
上記の方法によれば、昇温工程ではシール材が硬化する温度まで加熱されることになるので、液晶配置工程及び貼り合わせ工程と昇温工程との間には、より大きな温度勾配が形成されるので、貼り合わせ工程から昇温工程までの液晶材料の体積変化量、すなわち、液晶材料の移動量が大きくなる。そのため、液晶材料が、例えば、基板上の凹凸形状の影響が少なく拡散される。しかも、紫外線照射工程においてシール材が硬化されるので、昇温工程を行う前のシール材は既に硬化状態にある。これにより、昇温工程において、拡散する液晶材料と未硬化状態のシール材とが接触することがないので、未硬化状態のシール材が液晶材料に混入することがない。したがって、滴下貼り合わせ法において、液晶材料が汚染されることなく、より確実に一対の基板の間に均一に封入される。
上記シール材は、熱硬化性を有する樹脂により構成され、上記昇温工程では、上記シール材を硬化させてもよい。
上記の方法によれば、昇温工程ではシール材が硬化する温度まで加熱されることになるので、液晶配置工程及び貼り合わせ工程と昇温工程との間には、より大きな温度勾配が形成されるので、貼り合わせ工程から昇温工程までの液晶材料の体積変化量、すなわち、液晶材料の移動量がより大きくなる。そのため、液晶材料が、例えば、基板上の凹凸形状の影響が少なく拡散され、より確実に液晶材料が一対の基板の間に封入される。
上記液晶配置工程では、上記一対の基板の一方の表面に対し、上記液晶材料を複数の点状に滴下してもよい。
上記の方法によれば、昇温工程において、一対の基板の一方の表面に滴下された各点状の液晶材料が熱膨張すると共に、互いに接触することにより、液晶材料が一対の基板の間に均一に封入される。
本発明によれば、液晶材料を冷却して配置すると共に、冷却しながら基板を貼り合わせることにより、後工程との温度勾配が形成されるので、その温度勾配を利用して液晶材料を一対の基板の間に均一に封入することができる。また、冷却するという手段を追加するだけで、液晶材料を一対の基板の間に均一に封入することができるので、製造効率を低下させることもない。したがって、滴下貼り合わせ法において、製造効率を低下させることなく、液晶材料を一対の基板の間に均一に封入することができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下に実施形態に限定されるものではない。
《発明の実施形態1》
図1〜図7は、本発明に係る液晶パネルの製造方法の実施形態1を示している。
図1〜図7は、本発明に係る液晶パネルの製造方法の実施形態1を示している。
液晶パネル50は、図6に示すように、アクティブマトリクス基板10と、それに対向して配置された対向基板20と、両基板10及び20との間に挟持されるように設けられた液晶層40とを備えている。
アクティブマトリクス基板10は、互いに平行に延びる複数のゲート線と、ゲート線と直交する方向に互いに平行に延びる複数のソース線と、ゲート線及びソース線の各交差部分にスイッチング素子として設けられた薄膜トランジスタ(以下、TFTと称する)と、各TFTに対応して一対のゲート線及び一対のソース線に囲まれた領域に設けられた画素電極とを備えている。
対向基板20は、ほぼ基板全面に設けられた共通電極と、アクティブマトリクス基板10に設けられた各画素電極毎に着色層が形成されたカラーフィルタとを備えている。
液晶層40は、電気光学特性を有するネマチック液晶材料からなる液晶分子により構成されている。
このような構成の液晶パネル50は、各画素電極毎に1つの画素が構成されており、各画素において、ゲート線からゲート信号が送られてTFTがオン状態になったときに、ソース線からソース信号が送られて画素電極に所定の電荷が書き込まれることにより、各画素電極と共通電極との間で電位差が生じ、液晶層40に所定の電圧が印加されるように構成されている。そして、液晶パネル50では、その印加電圧の大きさに応じて液晶分子の配向状態が変わることを利用して、外部から入射する光の透過率を調整することにより、画像が表示される。
次に、液晶パネル50の製造方法について説明する。
液晶パネル50は、以下のアクティブマトリクス基板作製工程、対向基板作製工程、及び液晶パネル作製工程等により製造される。
最初に、アクティブマトリクス基板作製工程について、一例を挙げて説明する。
まず、ガラス基板上の基板全体に、アルミニウム等の金属膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィー技術(Photo Engraving Process、以下、「PEP技術」と称する)によりパターン形成して、ゲート線、及びTFTを構成するゲート電極等を形成する。次いで、ゲート線及びゲート電極等を覆うように基板全体に、プラズマCVD法により窒化シリコン膜等を成膜し、ゲート絶縁膜を形成する。続いて、ゲート絶縁膜上の基板全体に、プラズマCVD法により真性アモルファスシリコン膜と、リンがドープされたn+アモルファスシリコン膜とを連続して成膜し、その後、PEP技術によりゲート電極上に島状にパターン形成して、真性アモルファスシリコン層及びn+アモルファスシリコン層により構成された半導体層を形成する。その後、半導体層が形成されたゲート絶縁膜上の基板全体に、チタン等の金属膜をスパッタリング法により成膜し、その後、PEP技術によりパターン形成して、ソース線、TFTを構成するソース電極及びドレイン電極を形成する。さらに、ソース電極及びドレイン電極をマスクとして半導体層のn+アモルファスシリコン層をエッチング除去することにより、チャネル部を形成する。
次いで、ソース線、ソース電極及びドレイン電極上の基板全体に、プラズマCVD法を用いて、窒化シリコン膜等を成膜し、層間絶縁膜を形成する。続いて、層間絶縁膜のドレイン電極に対応する部分をエッチング除去して、コンタクトホールを形成する。その後、層間絶縁膜上の基板全体に、ITO(Indium Tin Oxide)膜からなる透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、その後、PEP技術によりパターン形成して、画素電極を形成する。
さらに、画素電極上の基板全体に、ドライフィルムラミネート法により、感光性樹脂膜を転写し、転写された感光性樹脂膜を、PEP技術によりパターン形成して、スペーサーを形成する。最後に、画素電極上の基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂の薄膜を成膜した後、ラビング法により、その表面に配向処理を施し配向膜を形成する。
以上のようにしてアクティブマトリクス基板10を作製することができる。
次に、対向基板作製工程について、一例を挙げて説明する。
まず、ガラス基板上の基板全体に、クロム薄膜を成膜した後、PEP技術によりパターン形成してブラックマトリクスを形成する。次いで、ブラックマトリクス間のそれぞれに、赤、緑及び青の何れかの着色層をパターン形成してカラーフィルタを形成する。続いて、カラーフィルタ上の基板全体に、アクリル樹脂を塗布してオーバーコートを形成する。さらに、オーバーコート上の基板全体に、ITO膜を成膜して共通電極12を形成する。最後に、印刷法により、ポリイミド系樹脂の薄膜を成膜した後、ラビング法により、その表面に配向処理を施し配向膜を形成する。
以上のようにして、対向基板20を作製することができる。
次に、液晶パネル作製工程について、一例を挙げて説明する。
図1は、液晶パネル作製工程を示すフローチャートである。そして、図2は、図1に示すフローチャート中のステップS104の後のアクティブマトリクス基板10の平面図であり、図3は、図2中のIII−III線に沿ったアクティブマトリクス基板10の断面図である。また、図4は、図1に示すフローチャート中のステップS105の後の液晶パネル50の平面図であり、図5は、その図4中のV−V線に沿った液晶パネル50の断面図である。
まず、ステップS101において、配向処理を施したアクティブマトリクス基板10及び対向基板20を純水で洗浄した後、200℃で30分間程度、加熱して乾燥する。
次いで、ステップS102(シール材形成工程)において、例えば、図2及び図3に示すように、アクティブマトリクス基板10の周端部にシール材30を枠形状に形成する。このシール材30は、紫外線硬化性及び熱硬化性の双方を有する樹脂により構成され、スクリーン印刷等によって塗布することにより、アクティブマトリクス基板10上に形成される。
続いて、ステップS103において、シール材30が塗布されたアクティブマトリクス基板10、及び対向基板20を処理室に収容し、処理室内を脱気して1Pa程度の真空状態にする。なお、このステップS103から後述するステップS108までを、例えば、−20℃に冷却しながら行う。この冷却温度は、使用する液晶材料をメルク社製MLC6609(融点:−30℃)として、その融点(−30℃)に工程内の温度ばらつき(10℃)を加算したものである。
その後、ステップS104(液晶配置工程)において、液晶材料を滴下する。具体的には、例えば、セルギャップを3.7μmとした30インチ(64.3cm×38.5cm)用の基板の場合には、液晶材料4を滴下する際の1滴の量を1.65mgとし、図2に示すように、横方向及び縦方向の間隔がそれぞれ17mm及び17.5mmで、最外の液晶材料40の滴とシール材30との距離dが35mmとなるように、34行×20列の680滴の点状に滴下する。
次いで、ステップS105(貼り合わせ工程)において、液晶材料40が滴下されたアクティブマトリクス基板10と対向基板20とを貼り合わせる。
続いて、ステップS106において、処理室内の真空状態を解除することによる圧力差を利用してアクティブマトリクス基板10及び対向基板20に対して、外側から均等な圧力を加える。これにより、図4に示すように、滴下された各液晶材料40が互いに接触して拡散されるが、シール材50と液晶材料40の周端とは距離dが離れており、その液晶材料40が行き渡らない領域は気泡領域60となっている。
その後、ステップS107(紫外線照射工程)において、シール材30に紫外線を照射して、シール材30を予備硬化させる。
さらに、ステップS108(昇温工程)において、処理室から液晶パネル50を取り出して、130℃で70分間程度加熱して、シール材30を本硬化させる。ここで、上記ステップS103〜ステップS107において、液晶材料40は、−20℃に冷却されて熱収縮した状態にある。そして、昇温工程であるステップS108において、液晶材料40は、その温度が急激に130℃まで上昇するので、図6に示すように、熱膨張して一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に拡散されることになる。
最後に、ステップS109において、液晶パネル40をユニット毎に分断する。
以上のようにして、液晶パネル40が製造される。
以上説明したように、本実施形態の液晶パネル40の製造方法によれば、液晶配置工程及び貼り合わせ工程を含むステップS103〜ステップS107において、液晶材料40は、室温よりも低い−20℃に冷却されて熱収縮した状態にある。そして、昇温工程であるステップS108において、液晶材料40は、その温度が130℃まで上昇するので、熱膨張して一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に拡散されることになる。このとき、ステップS107とステップS108との間には、ステップS103〜ステップS107を冷却しない場合よりも大きな温度勾配が形成されるので、ステップS107からステップS108での液晶材料40の体積変化量、すなわち、液晶材料の移動量が大きくなる。そのため、液晶材料40は、アクティブマトリクス基板10上の凹凸形状の影響が少なく拡散され、一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入される。しかも、ステップS103〜ステップS107を冷却するだけで、液晶材料40が一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入されるので、製造効率を低下させることもない。したがって、滴下貼り合わせ法において、製造効率を低下させることなく、液晶材料40を一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入することができる。
また、ステップS108(昇温工程)の前のステップS107(紫外線照射工程)において、シール材30が硬化されるので、ステップS108(昇温工程)を行う前のシール材30は既に硬化状態である。そのため、昇温工程であるステップS108において、拡散する液晶材料40と未硬化状態のシール材30とが接触することがないので、未硬化状態のシール材30が液晶材料40に混入することがない。したがって、液晶材料40を汚染されることなく、より確実に一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入することができる。
また、上記のように液晶材料40が一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入されることにより、液晶パネル50内の気泡の量が減り、対向基板20側からのガスの発生を抑制することができる。
次に、具体的に行った実験について説明する。
本発明の実施形態1の実施例として、実施形態1と同じ方法で図1のフローチャートに基づいて液晶パネルを製造した。具体的には、液晶材料の最外の滴とシール材との距離dが35mmになるように、液晶材料を滴下し、昇温工程における距離dの経時変化を測定した。
また、比較例1、2及び3として、図1のステップS113〜ステップS118における−20℃の冷却を行わずに、液晶材料の最外の滴とシール材の内側との距離dが、それぞれ、45mm、40mm及び30mmになるように、液晶材料を滴下し、距離dの貼り合わせ後からの経時変化を測定した。
図7は、貼り合わせ後の経過時間tとシール材及び液晶材料の間の距離dとの相関を示したグラフである。
図7に示すように、冷却を行わなかった比較例1、2及び3のグラフでは、ほぼ同じ傾きになった。一方、実施例のグラフでは、実際に基板の昇温が始まった時点から、傾きが大きくなった。このように、実施例では、比較例よりも大きな温度勾配が形成されるので、液晶材料の移動量が大きくなった。この結果によっても、上記のような温度勾配の形成が一対の基板の間への液晶材料の均一な封入に対して有効であることが示唆された。
《発明の実施形態2》
上記実施形態1では、シール材30が紫外線硬化性及び熱硬化性の双方を有する樹脂により構成されたタイプを例示したが、本発明は、シール材30を別のタイプの樹脂により構成させてもよい。なお、以下の各実施形態では図1〜図6と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
上記実施形態1では、シール材30が紫外線硬化性及び熱硬化性の双方を有する樹脂により構成されたタイプを例示したが、本発明は、シール材30を別のタイプの樹脂により構成させてもよい。なお、以下の各実施形態では図1〜図6と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
本実施形態2におけるシール材30は、紫外線硬化性を有する樹脂により構成されている。
アクティブマトリクス基板10、対向基板20及び液晶層40の構成は、上記実施形態1と同様なので、液晶パネル40の製造方法について詳しく説明する。
図8は、本発明に係る液晶パネルの製造方法の実施形態2を示すフローチャートである。
ステップS201〜ステップS206は、上記実施形態1のステップS101〜ステップS106のそれぞれと同様であるので、その詳細な説明を省略する。
ステップS207(紫外線照射工程)において、シール材30に紫外線を照射して、シール材30を本硬化させる。
さらに、ステップS208(昇温工程)において、液晶パネル50を、処理室から取り出して室温まで昇温した後、液晶パネル50をユニット毎に分断する。
ここで、上記ステップS203〜ステップS207において、液晶材料40は、−20℃に冷却されて熱収縮した状態にある。そして、昇温工程であるステップS208において、液晶材料は、その温度が室温まで上昇するので、図6に示すように、熱膨張してアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に拡散されることになる。
以上のようにして、液晶パネル50が製造される。
以上説明したように、本実施形態の液晶パネル50の製造方法によれば、液晶配置工程及び貼り合わせ工程を含むステップS203〜ステップS207において、液晶材料40は、室温よりも低い−20℃に冷却されて熱収縮した状態にある。そして、昇温工程であるステップS208において、液晶材料40は、その温度が室温まで上昇するので、熱膨張して一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に拡散されることになる。このとき、ステップS207とステップS208との間には、ステップS203〜ステップS207を冷却しない場合よりも大きな温度勾配が形成されるので、ステップS207からステップS208での液晶材料40の体積変化、すなわち、液晶材料40の移動量が大きくなる。そのため、液晶材料40は、アクティブマトリクス基板10上の凹凸形状の影響が少なく拡散され、一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入される。しかも、ステップS203〜ステップS207を冷却するだけで、液晶材料40が一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入されるので、製造効率を低下させることもない。したがって、滴下貼り合わせ法において、製造効率を低下させることなく、液晶材料40を一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入することができる。
また、ステップS208(昇温工程)の前のステップS207(紫外線照射工程)において、シール材30が硬化されるので、ステップS208(昇温工程)を行う前のシール材30は既に硬化状態である。そのため、昇温工程であるステップS208において、拡散する液晶材料40と未硬化状態のシール材30とが接触することがないので、未硬化状態のシール材30が液晶材料40に混入することがない。したがって、液晶材料40を汚染されることなく、より確実に一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入することができる。
《発明の実施形態3》
上記実施形態1では、シール材30が紫外線硬化性及び熱硬化性を有する樹脂により構成されたタイプを、上記実施形態2では、シール材30が紫外線硬化性を有する樹脂により構成されたタイプをそれぞれ例示したが、本発明は、シール材30を別のタイプの樹脂により構成させてもよい。
上記実施形態1では、シール材30が紫外線硬化性及び熱硬化性を有する樹脂により構成されたタイプを、上記実施形態2では、シール材30が紫外線硬化性を有する樹脂により構成されたタイプをそれぞれ例示したが、本発明は、シール材30を別のタイプの樹脂により構成させてもよい。
本実施形態3におけるシール材30は、熱硬化性を有する樹脂により構成されている。
アクティブマトリクス基板10、対向基板20及び液晶層40の構成を上記実施形態1と同様なので、液晶パネル50の製造方法について詳しく説明する。
図9は、本発明に係る液晶パネルの製造方法の実施形態3を示すフローチャートである。
ステップS301〜ステップS306は、上記実施形態1のステップS101〜ステップS106のそれぞれと同様であるので、その詳細な説明を省略する。
ステップS307(昇温工程)において処理室から液晶パネル50を取り出して、130℃で70分程度加熱して、シール材30を硬化させる。ここで、上記ステップS303〜ステップS306において、液晶材料40は、−20℃に冷却されて熱収縮した状態にある。そして、昇温工程であるステップS307において、液晶材料は、その温度が急激に130℃まで上昇するので、図6に示すように、熱膨張して一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に拡散されることになる。
最後に、ステップS308において、液晶パネル50をユニット毎に分断する。
以上のようにして、液晶パネル50が製造される。
以上説明したように、本実施形態の液晶パネル50の製造方法によれば、液晶配置工程及び貼り合わせ工程を含むステップS303〜ステップS306において、液晶材料40は、室温よりも低い−20℃に冷却されて熱収縮した状態にある。そして、昇温工程であるステップS307において、液晶材料40は、その温度が上昇するので、熱膨張して一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に拡散されることになる。このとき、ステップS306とステップS307との間には、ステップS303〜ステップS306を冷却しない場合よりも大きな温度勾配が形成されるので、ステップS306からステップS307での液晶材料の体積変化量、すなわち、液晶材料の移動量が大きくなる。そのため、液晶材料40は、アクティブマトリクス基板10上の凹凸形状の影響が少なく拡散され、一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入される。しかも、ステップS303〜ステップS306を冷却するだけで、液晶材料40が一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入されるので、製造効率を低下させることもない。したがって、滴下貼り合わせ法において、製造効率を低下させることなく、液晶材料40を一対のアクティブマトリクス基板10及び対向基板20の間に均一に封入することができる。
さらに、上記各実施形態では、液晶材料40を冷却しながら滴下する方法を例示したが、室温で液晶材料40を滴下した後、その滴下された液晶材料40を−20℃に冷却すると共に、ステップS107(実施形態1の場合)、ステップS207(実施形態2の場合)やステップS306(実施形態3の場合)までの後の工程を−20℃に冷却しながら行ってもよい。
また、上記各実施形態では、シール材30の塗布、及び液晶材料40の滴下を、アクティブマトリクス基板10に対して行う方法を例示したが、シール材30の塗布、及び液晶材料40の滴下を対向基板20に対して行ってもよい。さらに、シール材30の塗布、及び液晶材料40の滴下をそれぞれ別の基板に対して行ってもよい。
以上説明したように、本発明は、滴下貼り合わせ法において、製造効率を低下させることなく、液晶材料を一対の基板の間に均一に封入することができるので、大型の液晶パネルの製造方法について有用である。
10 アクティブマトリクス基板
20 対向基板
30 シール材
40 液晶材料
50 液晶パネル
20 対向基板
30 シール材
40 液晶材料
50 液晶パネル
Claims (7)
- 互いに対向して配置された一対の基板の間に液晶材料が封入された液晶パネルの製造方法であって、
上記一対の基板の一方に枠形状のシール材を形成するシール材形成工程と、
上記一対の基板の一方の表面に、上記液晶材料を室温よりも冷却して配置する液晶配置工程と、
上記シール材及び上記液晶材料を挟むように、上記一対の基板を室温よりも低い温度に冷却しながら貼り合わせる貼り合わせ工程と、
上記貼り合わされた一対の基板を室温以上に昇温させる昇温工程とを備えることを特徴とする液晶パネルの製造方法。 - 請求項1に記載された液晶パネルの製造方法において、
上記液晶配置工程は、上記液晶材料を室温よりも低く冷却しながら滴下することを特徴とする液晶パネルの製造方法。 - 請求項1に記載された液晶パネルの製造方法において、
上記液晶配置工程は、上記液晶材料を滴下した後に、該液晶材料を室温よりも低い温度に冷却することを特徴とする液晶パネルの製造方法。 - 請求項1に記載された液晶パネルの製造方法において、
上記シール材は、紫外線硬化性を有する樹脂により構成され、
上記貼り合わせ工程と上記昇温工程との間に、上記貼り合わされた一対の基板を室温よりも低い温度に冷却しながら上記シール材に紫外線を照射することにより、該シール材を硬化させる紫外線照射工程を備えることを特徴とする液晶パネルの製造方法。 - 請求項4に記載された液晶パネルの製造方法において、
上記紫外線硬化性を有する樹脂は、熱硬化性を有し、
上記昇温工程では、上記シール材をさらに硬化させることを特徴とする液晶パネルの製造方法。 - 請求項1に記載された液晶パネルの製造方法において、
上記シール材は、熱硬化性を有する樹脂により構成され、
上記昇温工程では、上記シール材を硬化させることを特徴とする液晶パネルの製造方法。 - 請求項1に記載された液晶パネルの製造方法において、
上記液晶配置工程では、上記一対の基板の一方の表面に対し、上記液晶材料を複数の点状に滴下することを特徴とする液晶パネルの製造方法。
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---|---|---|---|
JP2005174960A JP2006349913A (ja) | 2005-06-15 | 2005-06-15 | 液晶パネルの製造方法 |
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US10254572B2 (en) | 2015-01-28 | 2019-04-09 | Sakai Display Products Corporation | Inverting device and method for manufacturing liquid crystal display panel |
-
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- 2005-06-15 JP JP2005174960A patent/JP2006349913A/ja active Pending
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