JP2006347014A - パターン複製装置及び剥離ローラ - Google Patents

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Abstract

【課題】 加熱された樹脂層に光回折構造を構成するパターンを複製する場合であっても、製品品質を保ちつつ複製速度の高速化を可能にするパターン複製装置を提供する。
【解決手段】 外周に光回折構造を構成するパターンが設けられたエンボスローラ12を加熱しつつ、エンボスローラ12に、熱成形性を有する樹脂層22が基材フィルム21上に設けられた光回折構造形成フィルム20を巻き付け、光回折構造形成フィルム20を剥離ローラ15−1に巻き掛けてエンボスローラ12から剥離することにより、樹脂層22にパターンを賦型するパターン複製装置であって、剥離ローラ15−1の表面温度が、樹脂層22の硬化作用が得られる温度以下になるように、剥離ローラ14の外周の少なくとも一部を冷却する冷却手段91を有する。
【選択図】 図3

Description

本発明は、光回折構造を構成するパターンを複製するパターン複製装置及びパターン複製装置に設けられた剥離ローラに関する。
熱成型性を有する樹脂層が基材フィルム上に設けられた光回折構造形成フィルムを、圧着ローラによってエンボスローラに加熱圧着し、エンボスローラの表面に設けられた凹凸パターンを樹脂層に複製するパターン複製方法は既に知られている(例えば、特許文献1参照)。この従来の複製方法では、加熱された圧着ローラによって樹脂層を軟化させ、エンボスローラによって樹脂層を冷却する。
特開昭61−156273
しかし、光回折構造形成フィルムを加熱する温度を高めて複製速度の高速化を図る場合、従来の複製方法では、加熱を光回折構造形成フィルムの基材フィルム側から行うので、基材フィルムの耐熱性が問題となる。また、樹脂層は基材フィルムを通して加熱されるので、樹脂層への加熱効率が悪く、従って、基材フィルムに大きな熱ダメージを与える場合もある。エンボスローラを加熱する方法も考えられているが、この場合は樹脂層が冷却されにくく、エンボスローラに樹脂残りが発生しやすく製品の品質が低下する問題がある。
そこで、本発明は、加熱された樹脂層に光回折構造を構成するパターンを複製する場合であっても、製品品質を保ちつつ複製速度の高速化を可能にするパターン複製装置及びパターン複製装置で使用する剥離ローラを提供することを目的とする。
本発明は、以下の方法により上述した課題を解決する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それにより本発明が図示の形態に限定されるものではない。
本発明のパターン複製装置(10)は、外周に光回折構造を構成するパターンが設けられたエンボスローラ(12)を加熱しつつ、そのエンボスローラに、熱成形性を有する樹脂層(22)が基材フィルム(21)上に設けられた光回折構造形成フィルム(20)を巻き付け、その光回折構造形成フィルムを剥離ローラ(15)に巻き掛けて前記エンボスローラから剥離することにより、前記樹脂層に前記パターンを賦型するパターン複製装置であって、前記剥離ローラの表面温度が、前記樹脂層の硬化作用が得られる温度以下になるように、前記剥離ローラの外周の少なくとも一部を冷却する冷却手段を有する、ことにより上記の課題を解決する。
本発明のパターン複製装置によれば、剥離ローラが樹脂層の硬化作用が得られる温度以下に冷却されるので、樹脂層を硬化させて樹脂層の剥離性を高めることができる。また、剥離ローラの外周を直接冷却するので、剥離ローラの内側から冷却するよりも冷却効率が高くなる。従って、本発明によれば、製品品質を維持しつつパターン複製速度の高速化を図ることができる。冷却手段によって剥離ローラの外周の全体を冷却してもよいし、一部でもよい。なお、剥離ローラの構成は従来既知の構成であればよい。
前記冷却手段は、前記剥離ローラの外周に接触するように設けられ、かつ冷却された少なくとも1つの支持ローラ(90)であってもよい。これにより、冷却された支持ローラによって剥離ローラの外周の熱を積極的に奪うことができる。支持ローラの冷却方法は例えば冷媒による冷却等、従来既知の方法でよい。
また、前記冷却手段は、前記剥離ローラの外周に冷風を吹き付ける冷風装置(92)であってもよい。この場合は、剥離ローラの外周に冷風を吹き付けることにより、剥離ローラの外周の熱を積極的に奪うことができる。
本発明の剥離ローラ(15−3、15−4)は、外周に光回折構造を構成するパターンが設けられたエンボスローラ(12)を加熱しつつ、そのエンボスローラに、熱成形性を有する樹脂層(22)が基材フィルム(21)上に設けられた光回折構造形成フィルム(20)を巻き付けることにより前記樹脂層に前記パターンを賦型するパターン複製装置(10)に設けられ、冷媒によって内側から冷却されつつ、前記光回折構造形成フィルムを巻き掛けて前記エンボスローラから剥離させる剥離ローラであって、前記冷媒の温度がその経路を凍結させない程度以上の条件下で、前記剥離ローラの表面温度が、前記樹脂層の硬化作用を得られる温度以下になるように、構成されたことにより、上記の課題を解決する。
本発明の剥離ローラによれば、内側から冷媒によって冷却されることにより、その外周が冷却され、加熱によって軟化された樹脂層に対して硬化作用を得ることができる。更に、剥離ローラを冷媒によって冷却する場合、冷媒を低温にしすぎると冷媒を通す経路が凍ったり結露したりという問題があるが、経路を凍結させない程度の温度の冷媒であっても、剥離ローラの表面温度は樹脂層の硬化作用が得られる温度以下に冷却されるので、冷媒の温度に依存することなく、製品品質を保ちつつ複製速度の高速化を図ることができる。なお、冷媒によって内側から冷却する方法は従来既知の方法でよい。
本発明の剥離ローラは、具体的には、外周面を金属で構成することにより、前記表面温度が前記樹脂層の硬化作用が得られる温度以下に冷却されるように構成されていてもよいし、外周を構成する樹脂の厚さを薄くすることにより、前記表面温度が前記樹脂層の硬化作用が得られる温度以下に冷却されるように構成されてもよい。従来の剥離ローラは熱伝導性の低い樹脂で構成されるが、上記構成によって、熱伝導性が高まり、剥離ローラの冷却効率を高くすることができる。
以上説明したように、本発明によれば、剥離ローラの外周を冷却することにより、又は経路を凍結させない程度の温度の冷媒であっても、剥離点にて剥離ローラの表面温度が樹脂層の硬化作用を得られる温度以下になるように構成された剥離ローラを使用することにより、加熱された樹脂層に光回折構造を構成するパターンを複製する場合であっても、製品品質を保ちつつ複製速度の高速化を可能にするパターン複製装置等を提供することができる。
(第1の形態〜第4の形態に共通の形態)
図1は、本発明のパターン複製方法を実現するパターン複製装置10の一例を示す図である。パターン複製装置10には、光回折構造形成フィルム20を所定の速度で供給する供給ローラ11と、パターンが複製された光回折構造形成フィルム20を巻き取る巻き取りローラ13との間に、複製すべき光回折構造のパターンが表面に設けられているエンボスローラ12と、光回折構造形成フィルム20をエンボスローラ12へ圧着点αにて圧着するように設けられた圧着ローラ14と、光回折構造形成フィルム20を巻き掛けてエンボスローラ12から剥離点βにて剥離するように設けられた剥離ローラ15とが設けられている。
各ローラ11…15は、供給ローラ11から供給された光回折構造形成フィルム20を巻き取りローラ13へ向けて進ませるように回転可能である。尚、光回折構造形成フィルム20の進行ガイド、又はたぐまり防止の目的で複数のガイドローラ16…16も適宜配置されている。尚、ガイドローラ16…16の数は図1に示す数に限らず適宜決めてよい。
供給ローラ11から送り出された光回折構造形成フィルム20は、ガイドローラ16、16に導かれて圧着点αへ進み、圧着点αにて圧着ローラ14によってエンボスローラ12に圧着される。圧着された光回折構造形成フィルム20はエンボスローラ12の回転に伴ってエンボスローラ12に巻き付けられた状態で剥離点βまで進み、剥離点βにて剥離ローラ15によってエンボスローラ12から剥離される。これにより、剥離ローラ15は光回折構造形成フィルム20のエンボスローラ12に対する巻き付け角θを決定する。エンボスローラ12から剥離された光回折構造形成フィルム20はガイドローラ16に導かれ、巻き取りローラ13に巻き取られる。
パターン複製装置10は更にエンボスローラ12を加熱する加熱装置17が、エンボスローラ12の軸12aに接続されている。加熱装置17としては、温水循環ユニット(サーキュレーター)がある。なお、温水循環ユニットにおいて80℃を超える場合は油を媒体に使用する。本形態では、加熱装置17によって、エンボスローラ12の表面を約60℃〜120℃になるように加熱する。
また、圧着ローラ14の表面も圧着ローラの軸に接続された加熱装置(不図示)によって、約60℃〜120℃に加熱する。エンボスローラ12と圧着ローラ14とを同じ程度の温度に加熱することにより、温度差によって発生する熱の移動による損失を抑制して加熱効率を高める事ができる。なお、本発明では剥離ローラ15を冷却するがその冷却方法については後述する。パターン複製装置10における各構成の動作は後述の剥離ローラの冷却方法も含めて不図示の制御部によって制御される。
光回折構造形成フィルム20は、図2に示すように、基材フィルム21上に熱成型性を有する樹脂で構成される樹脂層22が設けられている。本形態における基材フィルム21には厚さ6μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)を使用し、樹脂層22には軟化点が60℃以上の樹脂を使用する。樹脂層22側がエンボスローラ12の表面に圧着されることにより、樹脂層22にエンボスローラ12の表面に設けられたパターンが転写される。各層21、22の構成材料は従来既知のものでよい。
(第1の形態)
以下、第1の形態における剥離ローラ15−1の冷却方法について図3を用いて説明する。本形態では、剥離ローラ15−1の外周を冷却するため、冷却されたサポートローラ90が剥離ローラの外周に接触するように設けられている。これにより、剥離ローラ15−1の外周の熱を強制的に奪うことができる。この冷却方法は光回折構造形成フィルム20の剥離時の温度を室温以下にしなければならない場合に好適である。なお、剥離ローラ15−1及びサポートローラ90の構成は従来既知のものでよい。
サポートローラ90は、その軸90aに接続された冷却装置91によって冷却される。冷却装置91は従来既知のものでよく、例えば、ロータリージョイント、ホース、冷却水循環装置等がある。サポートローラ90の位置や大きさは、剥離ローラ15−1の剥離点βでの表面目が、樹脂層22の硬化作用が得られる程度になるように適宜設定すればよい。また、サポートローラ90は1つに限らず複数設けてもよい。
供給ローラ11から供給された光回折構造形成フィルム20は、圧着ローラ14へ送られ、圧着点αにてエンボスローラ12の表面に圧着される。この際に、加熱された圧着ローラ14によって基材フィルム21が加熱されると共に、圧着ローラ14と同じ程度に加熱されたエンボスローラ12によって樹脂層22が直接加熱される。
これにより、樹脂層22の温度は軟化点に達するので、樹脂層22は軟化し、樹脂層22にパターン12bが賦型された状態になる。パターン12bが賦型された光回折構造形成フィルム20´は、上述したようにエンボスローラ12の回転に伴ってエンボスローラ12に巻き付いた状態で剥離点βへ進む。
そして、光回折構造形成フィルム20´は、剥離点βにて剥離される際に剥離ローラ15−1によって冷却される。剥離ローラ15−1の外周は、サポートローラ90によって上述したように冷却されているので、剥離点βにて樹脂層22が硬化する。これにより、光回折構造形成フィルム20´は樹脂残りを起こさずにエンボスローラ12から剥離される。剥離された光回折構造形成フィルム20´の樹脂層22にはパターン12bが転写されている。上記要領にてパターン12bが樹脂層22に転写されることにより、光回折構造形成フィルム20へパターン12bが複製される。
(第2の形態)
第2の形態における剥離ローラ115−2の冷却方法について図4を用いて説明する。本形態では、剥離ローラ15−2の外周を冷却するため、外周の少なくとも一部に冷風を吹き付ける冷風装置92が設けられている。これにより、剥離ローラ15−2の外周の熱を強制的に奪うことができる。従って、樹脂層22の剥離時の温度を室温以下にしなければならない場合に好適である。剥離ローラ15−2及び冷風装置92の構成は、従来既知のものでよい。
エンボスローラ12のパターン12bの複製手順については、冷風装置92を使用して剥離ローラ15−2の外周を冷却する以外は第1の形態と同様である。なお、冷風装置92は複数設けられてもよく、冷風装置92の配置や冷風の温度は、剥離ローラ15−2の剥離点βでの表面温度が樹脂層22の硬化作用が得られる程度になるように適宜設定すればよい。
(第3の形態)
第3の形態における剥離ローラ15−3の冷却方法について図5を用いて説明する。本形態では、剥離ローラ冷却装置93が剥離ローラ15−3の軸15aに接続され、剥離ローラ15−3を内側から冷却する。剥離ローラ冷却装置93は、従来既知のものでよく、例えばロータリージョイント、ホース、冷却水循環装置等がある。剥離ローラ冷却装置93から軸15aに供給される冷媒は、冷媒を通す配管を凍結させない程度、例えば−10℃程度である。
また、本形態の剥離ローラ15−3の外周は金属で構成されている。従って、熱伝導率が従来よりも高くなるので、剥離ローラ冷却装置93によって内側から冷却される場合であっても、剥離ローラ15−3の外周を充分に冷却することができる。金属で構成される外周の厚さや金属の材料は、剥離ローラ15−3の剥離点βにおける表面温度が、樹脂層22の硬化作用を得られる程度になるように適宜設定すればよい。
従って、冷媒を低温にしすぎると配管が凍ったり結露したりという問題があるが、本形態の剥離ローラ15−3によれば、冷媒の温度に依存することなく、樹脂層22の剥離性を得ることができる。エンボスローラ12のパターン12bの複製手順については、剥離ローラ15−3の構成及び剥離ローラ15−3の冷却方法以外は第1の形態と同様である。
(第4の形態)
第4の形態における剥離ローラ15−4の冷却方法について図6を用いて説明する。本形態では、第3の形態と同様に、剥離ローラ冷却装置93が剥離ローラ15−4の軸15aに接続され、剥離ローラ15−4を内側から冷却する。剥離ローラ冷却装置93は、従来既知のものでよく、例えばロータリージョイント、ホース、冷却水循環装置等がある。剥離ローラ冷却装置93から軸15aに供給される冷媒は、冷媒を通す配管を凍結させない程度、例えば−10℃程度である。
また、本形態の剥離ローラ15−4は、その外周を構成する樹脂層22の厚さが従来よりも薄く設定されている。従って、剥離ローラ冷却装置93によって内側から冷却される場合であっても、剥離ローラ15−4の外周を充分に冷却することができる。樹脂層22の厚さや構成材料は、剥離ローラ15−4の表面温度が、樹脂層22の硬化作用を得られる温度になるように適宜設定すればよい。
従って、冷媒を低温にしすぎると配管が凍ったり結露したりという問題があるが、本形態の剥離ローラ15−4によれば、冷媒の温度に依存することなく、樹脂層22の剥離性を得ることができる。エンボスローラ12のパターン12bの複製手順については、剥離ローラ15−4の構成及び剥離ローラ15−4の冷却方法以外は第1の形態と同様である。
本発明は上述した形態に限定されず、種々の形態にて実施してよい。例えば、剥離ローラ15を冷却する方法として、外径を従来より大きくしてもよい。これにより、外周が1周する時間が長くなるため、剥離ローラの表面が光回折構造形成フィルム20´に接触した後、再び接触するまでの時間が長くなり、表面が外気に触れる時間が長くなるので、外周が冷却されやすくなる。また、剥離ローラの外周を冷却する冷却手段を設けた第1の形態及び第2の形態と、剥離ローラを内側から冷却する第3の形態及び第4の形態とを、それぞれ組み合わせてもよい。
本発明を実現する一例としてのパターン複製装置の構成概略図。 図1のパターン複製装置で使用する光回折構造形成フィルムを示す図。 剥離ローラを冷却するための第1の形態を示す図。 剥離ローラを冷却する第2の形態を示す図。 剥離ローラを冷却する第3の形態を示す図。 剥離ローラを冷却する第4の形態を示す図。
符号の説明
10 パターン複製装置
12 エンボスローラ
14 圧着ローラ
15、15−1、15−2、15−3、15−4 剥離ローラ
17 エンボスローラ加熱手段
93 剥離ローラ冷却装置

Claims (6)

  1. 外周に光回折構造を構成するパターンが設けられたエンボスローラを加熱しつつ、そのエンボスローラに、熱成形性を有する樹脂層が基材フィルム上に設けられた光回折構造形成フィルムを巻き付け、その光回折構造形成フィルムを剥離ローラに巻き掛けて前記エンボスローラから剥離することにより、前記樹脂層に前記パターンを賦型するパターン複製装置であって、
    前記剥離ローラの表面温度が、前記樹脂層の硬化作用が得られる温度以下になるように、前記剥離ローラの外周の少なくとも一部を冷却する冷却手段を有する、ことを特徴とするパターン複製装置。
  2. 前記冷却手段は、前記剥離ローラの外周に接触するように設けられ、かつ冷却された少なくとも1つの支持ローラである、ことを特徴とする請求項1に記載のパターン複製装置。
  3. 前記冷却手段は、前記剥離ローラの外周に冷風を吹き付ける冷風装置である、ことを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン複製装置。
  4. 外周に光回折構造を構成するパターンが設けられたエンボスローラを加熱しつつ、そのエンボスローラに、熱成形性を有する樹脂層が基材フィルム上に設けられた光回折構造形成フィルムを巻き付けることにより前記樹脂層に前記パターンを賦型するパターン複製装置に設けられ、冷媒によって内側から冷却されつつ、前記光回折構造形成フィルムを巻き掛けて前記エンボスローラから剥離させる剥離ローラであって、
    前記冷媒の温度がその経路を凍結させない程度以上の条件下で、前記剥離ロールの表面温度が前記樹脂層の硬化作用が得られる温度以下になるように、構成されたことを特徴とする剥離ローラ。
  5. 外周面を金属で構成することにより、前記表面温度が前記樹脂層の硬化作用を得られる温度以下になるように構成されている、ことを特徴とする請求項4に記載の剥離ローラ。
  6. 外周を構成する樹脂の厚さを薄くすることにより、前記表面温度が前記樹脂層の硬化作用を得られる温度以下になるように構成されている、ことを特徴とする請求項4に記載の剥離ローラ。

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