JP2006323385A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 透過領域と反射領域を有する半透過型液晶表示装置用表示板であって、
   基板と、
   前記反射領域に配置されており、前記基板上に形成されている凸レンズ状の複数の突起と、
   前記突起及び前記基板上に形成されているカラーフィルタと
   を含む液晶表示装置用表示板。
2. 前記突起は透明な有機物を含む、請求項１に記載の液晶表示装置用表示板。
3. 前記突起の直径は１０μｍ〜１５μｍである、請求項１に記載の液晶表示装置用表示板。
4. 前記突起の高さは１μｍ〜２μｍである、請求項１に記載の液晶表示装置用表示板。
5. 透過領域と反射領域を有する液晶表示装置であって、
   第１基板と、
   前記第１基板上に形成されているゲート線及びデータ線と、
   前記ゲート線及びデータ線に連結されている薄膜トランジスタと、
   前記薄膜トランジスタと連結されており、透明電極及び反射電極を有する画素電極と、
   前記第１基板と対向する前記請求項１〜４にいずれかに記載の液晶表示装置用表示板と、
   を含む液晶表示装置。
6. 前記透明電極は前記透過領域及び前記反射領域に形成されており、前記反射電極は前記反射領域に形成されている、請求項５に記載の液晶表示装置。
7. 前記反射電極は前記透明電極上に形成されている、請求項６に記載の液晶表示装置。
8. 前記薄膜トランジスタと画素電極との間に形成されている上部保護膜及び下部保護膜をさらに含む、請求項５に記載の液晶表示装置。
9. 基板を備える段階と、
   前記基板上に凸レンズ状の複数の突起を形成する段階と、
   前記基板及び前記突起上にカラーフィルタを形成する段階と
   を含む液晶表示装置用表示板の製造方法。
10. 前記突起を形成する段階は、
    前記第２基板上に感光性有機膜を塗布する段階と、
    前記有機膜が塗布された前記第２基板をマスクパターンによって露光する段階と、
    前記露光された第２基板を現像する段階と、
    前記現像された第２基板をベークする段階とを含む、請求項９に記載の液晶表示装置用表示板の製造方法。