JP2006306007A - 金属張積層板およびプリント配線板 - Google Patents
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Abstract
【課題】 電子機器の高性能化、小型化にともないフレキシブルプリント配線板への配線の微細化、高密度実装、耐屈曲性などがますます要求されてきており、さらに環境対応問題よりハロゲンフリー材の要求も高まってきている。これら要求に適したハロゲンフリーで耐熱性、耐折性および屈曲性に優れており、反りが少ない金属張積層板およびプリント配線板を提供することである。
【解決手段】 金属箔と、基材と、を層間接着剤を介して積層した金属張積層板であって、前記層間接着剤がビフェニルアラルキルエポキシ樹脂と、ビスフェノール型エポキシ樹脂と、下記一般式(1)で表される可とう性エポキシ樹脂と、硬化剤と、下記一般式(2)で表される硬化促進剤とを含む樹脂組成物で構成されることを特徴とする金属張積層板である。
【化1】
【選択図】 なし
【解決手段】 金属箔と、基材と、を層間接着剤を介して積層した金属張積層板であって、前記層間接着剤がビフェニルアラルキルエポキシ樹脂と、ビスフェノール型エポキシ樹脂と、下記一般式(1)で表される可とう性エポキシ樹脂と、硬化剤と、下記一般式(2)で表される硬化促進剤とを含む樹脂組成物で構成されることを特徴とする金属張積層板である。
【化1】
【選択図】 なし
Description
本発明は、金属張積層板およびプリント配線板に関する。
フレキシブルプリント配線板は薄く、軽く、屈曲性に優れることから、特に携帯電話、PDA、液晶ドライバーモジュールを始めとしてモバイル機器を中心に利用されているが、近年、これら電子機器の高性能化、小型化に伴いフレキシブルプリント配線板への配線の微細化、高密度実装化、耐屈曲性などがますます要求されてきている。
最近の傾向として、
環境対応問題より鉛フリーはんだの要求があり、鉛を含まないはんだの実装も増えつつあり、今後は主流となってくることが予想される。鉛フリーはんだを用いた実装で、従来のはんだと変わるのは、実装温度が通常のはんだに比べ15〜20℃高いことである。そのため、フレキシブルプリント配線板にも従来以上の高耐熱性が求められている。 耐熱性を付与する材料としては熱可塑性ポリイミド樹脂を使用する場合があるが(例えば特許文献1)、ポリイミド樹脂はまだまだ高価であり使用できる用途がコスト面で限定されてしまい、安価な材料が求められている。
環境対応問題より鉛フリーはんだの要求があり、鉛を含まないはんだの実装も増えつつあり、今後は主流となってくることが予想される。鉛フリーはんだを用いた実装で、従来のはんだと変わるのは、実装温度が通常のはんだに比べ15〜20℃高いことである。そのため、フレキシブルプリント配線板にも従来以上の高耐熱性が求められている。 耐熱性を付与する材料としては熱可塑性ポリイミド樹脂を使用する場合があるが(例えば特許文献1)、ポリイミド樹脂はまだまだ高価であり使用できる用途がコスト面で限定されてしまい、安価な材料が求められている。
また、難燃剤としてハロゲンを含まないことが要求されている。これまで難燃性を付与するために樹脂組成物としては臭素化エポキシ樹脂を使用するのが一般的であった(例えば特許文献2および3)。しかし、ハロゲン化合物は、燃焼時にダイオキシンの発生が懸念されるため、ハロゲンを含まない材料が求められている。
また、部品実装時の熱による基板の反りは、搭載した部品が反りのために位置ズレを起こし製品歩留の低下となる。フレキシブルプリント配線板は、薄くて軽いという特徴がある一方、基板が反り易い傾向がある。最近の鉛フリーはんだの普及にともない、ますます反りの少ない材料が求められている。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、耐熱性に優れ、ハロゲンフリーで、実装時の反りが少ない回路板を実現する金属張積層板を提供することにある。
本発明によれば、金属箔と、基材と、を層間接着剤を介して積層した金属張積層板であって、前記層間接着剤がビフェニルアラルキルエポキシ樹脂と、ビスフェノール型エポキシ樹脂と、下記一般式(1)で表される可とう性エポキシ樹脂と、硬化剤と、下記一般式(2)で表される硬化促進剤とを含む樹脂組成物で構成されることを特徴とする金属張積層板を提供される。
また、本発明によれば、上記金属張積層板の金属箔を回路加工することでプリント配線板が提供される。
本発明によれば、耐熱性に優れ、ハロゲンフリーで、実装時の反りが少ない回路板を実現する金属張積層板を提供される。
以下、本発明の金属張積層板およびプリント配線板について詳細に説明する。
本発明は、金属箔と、基材と、を層間接着剤を介して積層した金属張積層板であって、層間接着剤がビフェニルアラルキルエポキシ樹脂と、ビスフェノール型エポキシ樹脂と、下記一般式(1)で表される可とう性エポキシ樹脂と、硬化剤と、下記一般式(2)で表される硬化促進剤とを含む樹脂組成物で構成されることを特徴とする金属張積層板に関するものである。
本発明のプリント配線板は、上述の金属張積層板を化学的にエッチングすることで回路加工し、その回路上の必要な部分にカバーレイを真空熱プレスや熱ロールなどの一般的な方法で積層されたものである。
本発明の金属張積層板に用いる樹脂組成物では、ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂を用いる。ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂はそのベンゼン環の多い分子骨格上、低吸水化の効果と難燃性の効果が得られる。含有量は、特に限定されないが、樹脂組成分総量230重量部に対して、15〜100重量部が好ましく、25〜60重量部がより好ましい。含有量が前記下限値未満では低吸水化が十分でなく、また前記上限値を越えると密着性が低下し好ましくない。
ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂としては、特に限定されないが、耐熱性のあるものが好ましく、燃えにくい骨格のものがより好ましい。
ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂としては、特に限定されないが、耐熱性のあるものが好ましく、燃えにくい骨格のものがより好ましい。
本発明の金属張積層板に用いる樹脂組成物では、ビスフェノール型エポキシ樹脂を用いる。これにより、金属張積層板の樹脂組成物に柔軟性が加わり、低圧での金属積層板形成が可能になる。ビスフェノール型エポキシ樹脂の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成分総量230重量部に対して、15〜90重量部が好ましく、25〜60重量部がより好ましい。含有量が前記下限値未満では樹脂組成物に柔軟性がなく、前記上限値を越えるとプレス成形時にフローが大となり厚みの制御ができなくなる。
ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、液状のビスフェノール型エポキシ樹脂が好ましく、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂がより好ましい。
ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、液状のビスフェノール型エポキシ樹脂が好ましく、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂がより好ましい。
本発明の樹金属張積層板に用いる脂組成物では、下記一般式(1)で表される可とう性エポキシ樹脂を用いる。これによりカバーレイのソリを低減することができる。可とう性エポキシ樹脂の含有量は、特に限定されないが、5〜55重量部が好ましく、20〜35重量部がより好ましい。含有量が前記下限値未満では、ソリに対する効果が少なく、前記上限値を超えると密着性が低下し、また成形時にフローが大きくなる。
可とう性エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、そのエポキシ当量は300〜1500が好ましく、400〜1000がより好ましい。
可とう性エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、そのエポキシ当量は300〜1500が好ましく、400〜1000がより好ましい。
本発明の金属張積層板に用いる樹脂組成物では、硬化促進剤を用いる。硬化促進剤の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成分総量230重量部に対して、2〜10重量部が好ましく、3〜7重量部がより好ましい。含有量が前記下限値未満では難燃性の効果が小さく、硬化促進効果も少ない。前記上限値を越えると硬化系が変わり金属張積層板の弾性率が低下する。
トリアジン基を含むことにより難燃性が向上する。トリアジン基を含むノボラック型フェノール樹脂としては、特に限定されないが、直鎖状2級アミン誘導体が好ましく、下記化学式(2)で表されるトリアジン基を含むノボラック型フェノール樹脂がより好ましい。
トリアジン基を含むことにより難燃性が向上する。トリアジン基を含むノボラック型フェノール樹脂としては、特に限定されないが、直鎖状2級アミン誘導体が好ましく、下記化学式(2)で表されるトリアジン基を含むノボラック型フェノール樹脂がより好ましい。
本発明の金属張積層板に用いる樹脂組成物では、硬化剤を含むことが好ましい。前記硬化剤は、下記一般式(3)および(4)で表されるフェノールノボラック樹脂のうち少なくとも一種類以上使用していることが望ましい。含有量は、特に限定されないが、樹脂組成分総量230重量部に対して、10〜100重量部が望ましく、20〜50重量部がより好ましい。含有量が前記下限値以下では硬化が不十分となり十分な特性を得られず、また前記上限値を越えるとプレス成形時にフローが大となり厚みの制御ができなくなる。
フェノールノボラック樹脂としては、特に限定されないが、フリーフェノールレスのものが好ましく、ダイマーレスのものがより好ましい。
本発明の金属張積層板に用いる樹脂組成物では、ポリアミドイミド樹脂を含むことが好ましい。これにより、基材として使用されるポリイミドフィルムとの密着性が向上する。
前記ポリアミドイミド樹脂は重量平均分子量が8000以上15000未満であることが望ましく、9000以上13000未満がより望ましい。重量平均分子量が前記下限値未満であると密着性が十分に得られず、前記上限値以上であると当該エポキシ樹脂と相溶性が低下する。
また、ポリアミドイミドの含有量は、特に限定されないが、樹脂組成分総量230重量部に対して、5〜40重量部が好ましく、10〜20重量部がより好ましい。含有量が前記下限値未満であると密着性が十分に得られず、前記上限値を超えると当該エポキシ樹脂と相溶性が低下する。
本発明で用いられるポリアミドイミドはその分子骨格上、耐熱性と難燃性の効果も得られる。ポリアミドイミド樹脂としては、特に限定されないが、耐熱性があるものが好ましい。
前記ポリアミドイミド樹脂は重量平均分子量が8000以上15000未満であることが望ましく、9000以上13000未満がより望ましい。重量平均分子量が前記下限値未満であると密着性が十分に得られず、前記上限値以上であると当該エポキシ樹脂と相溶性が低下する。
また、ポリアミドイミドの含有量は、特に限定されないが、樹脂組成分総量230重量部に対して、5〜40重量部が好ましく、10〜20重量部がより好ましい。含有量が前記下限値未満であると密着性が十分に得られず、前記上限値を超えると当該エポキシ樹脂と相溶性が低下する。
本発明で用いられるポリアミドイミドはその分子骨格上、耐熱性と難燃性の効果も得られる。ポリアミドイミド樹脂としては、特に限定されないが、耐熱性があるものが好ましい。
本発明の金属張積層板に用いる樹脂組成物では、合成ゴムを含むことが好ましい。これにより、絶縁フィルムに塗工したのち、金属はくを積層することで得られる金属張積層板の密着性がよくなる。
前記合成ゴムは特に限定されるものではないが、好ましくは固形のものがよい。液状タイプのものでは粘着性が増し作業性が悪くなる。また、エポキシ樹脂やポリアミドイミドとの相溶性を上げる為にカルボン酸変性、水酸基変性やエポキシ変性したものや熱劣化を防止するために水素転化型の合成ゴムなども使用可能である。具体的には、特に限定されないが、NBR、アクリルゴム、ポリブタジエン、イソプレン、カルボン酸変性NBR、水素転化型ポリブタジエン、エポキシ変性ポリブタジエンなどが具体例として挙げられる。
合成ゴムの含有量は、特に限定されないが、樹脂組成分総量230重量部に対して、2〜10重量部が好ましく3〜7重量部がより好ましい。含有量が前記下限値未満では期待される特性が十分に得られず、前記上限値を越えると耐熱性や難燃性が低下する。
前記合成ゴムは特に限定されるものではないが、好ましくは固形のものがよい。液状タイプのものでは粘着性が増し作業性が悪くなる。また、エポキシ樹脂やポリアミドイミドとの相溶性を上げる為にカルボン酸変性、水酸基変性やエポキシ変性したものや熱劣化を防止するために水素転化型の合成ゴムなども使用可能である。具体的には、特に限定されないが、NBR、アクリルゴム、ポリブタジエン、イソプレン、カルボン酸変性NBR、水素転化型ポリブタジエン、エポキシ変性ポリブタジエンなどが具体例として挙げられる。
合成ゴムの含有量は、特に限定されないが、樹脂組成分総量230重量部に対して、2〜10重量部が好ましく3〜7重量部がより好ましい。含有量が前記下限値未満では期待される特性が十分に得られず、前記上限値を越えると耐熱性や難燃性が低下する。
本発明の金属張積層板に用いる樹脂組成物では、無機フィラーを含むことが好ましい。これにより、耐熱性向上と弾性率向上および難燃性を向上させることが出来る。前記無機フィラーの、平均粒子径は特に限定されないが、0.1〜10μmであることが好ましい。前記無機フィラーの平均粒子径が0.1μm未満であるとワニスのチキソトロピーが高くなり扱いが難しくなる。10μmを超えると特にファインピッチ回路においては絶縁信頼性が低下する。無機フィラーとしては、絶縁性の高い材料が好まれる。例えば水酸化アルミニウム、溶融シリカ、炭酸カルシウム、アルミナ、マイカ、タルク、ホワイトカーボンなどが好ましく、その中でも水酸化アルミニウムがより好ましい。水酸化アルミウムのアスペクト比は、20〜30の鱗片状が好ましい。アスペクト比が20未満であると耐ヒンジ特性において効果が小さく、30を越えると樹脂への分散性が悪くなる。樹脂組成物中の無機フィラーの含有量は、特に限定されないが、樹脂組成分総量230重量部に対して、50〜200重量部が好ましく、75から150重量部がより好ましい。含有量が前記下限値未満であると弾性率が低下し耐屈曲性が低下する。また、前記上限値を超えると密着力が低下する。
本発明の金属張積層板に用いる樹脂組成物では、特に限定されないが、さらに、銅はくや内層回路基板との密着力の向上、耐湿性の向上のためにエポキシシラン等のシランカップリング剤あるいはチタネート系カップリング剤、消泡剤などの添加剤を含有することが好ましい。
次に、金属張積層板の製法について説明する。
本発明の金属張積層板は基材の片面または両面にワニスを塗工し乾燥後、熱圧着ロールなどによって金属箔を樹脂組成物面に積層して作製される。
前記金属箔を構成する金属としては、例えば銅および銅系合金、アルミおよびアルミ系合金、鉄および鉄系合金等が挙げられ、銅がより好ましい。
また、基材としては、絶縁性フィルムなどが挙げられ、ポリイミドフィルムがより好ましい。
本発明の金属張積層板は基材の片面または両面にワニスを塗工し乾燥後、熱圧着ロールなどによって金属箔を樹脂組成物面に積層して作製される。
前記金属箔を構成する金属としては、例えば銅および銅系合金、アルミおよびアルミ系合金、鉄および鉄系合金等が挙げられ、銅がより好ましい。
また、基材としては、絶縁性フィルムなどが挙げられ、ポリイミドフィルムがより好ましい。
前記ワニスに用いられる溶剤としては、樹脂組成物に対し良好な溶解性を持つものを選択しなければならない。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、メタノール、エタノール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを一種または二種以上の混合系を使用することが可能である。
次にプリント配線板について説明する。
プリント配線板とは、基材の少なくとも片面に第1の樹脂組成物を介して導電層を有し、前記導電層に第2の樹脂組成物付き基材を積層したものである。
本発明のプリント配線板は、上記のようにして得られた金属張積層板の金属箔を化学的にエッチングすることで回路加工する。その回路上の必要な部分にあらかじめ必要としない部分を打ち抜いておいたカバーレイを真空熱プレスや熱ロールなどの一般的な方法で積層される。
プリント配線板とは、基材の少なくとも片面に第1の樹脂組成物を介して導電層を有し、前記導電層に第2の樹脂組成物付き基材を積層したものである。
本発明のプリント配線板は、上記のようにして得られた金属張積層板の金属箔を化学的にエッチングすることで回路加工する。その回路上の必要な部分にあらかじめ必要としない部分を打ち抜いておいたカバーレイを真空熱プレスや熱ロールなどの一般的な方法で積層される。
本発明においてはビフェニルアラルキルエポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、エポキシ樹脂、可とう性エポキシ樹脂および硬化促進剤として直鎖状2級アミン誘導体、さらに硬化剤およびポリアミドイミドを配合することにより耐熱性、難燃性、高弾性、低吸水性を発現し、金属張積層板成形時の流動性を制御し、耐熱性を落とさずに密着力を向上させる。
本発明の金属張積層板は、上述の樹脂組成物を基材に塗工したのち、金属はくを積層することを特徴とするものである。本発明の金属張積層板は耐屈曲性において高弾性であることが望ましく、本発明の配合物は剛直な分子骨格を三次元的に硬化するため目的に適している。また、使用するポリアミドイミドもポリイミドに比べても高弾性であり強靭でありガラス転位点も高い樹脂であるため耐屈曲性が良い。また、液状エポキシと少量の合成ゴムを配合することにより金属張積層板成形時の流動性などが良好となる。
本発明の金属張積層板は、上述の樹脂組成物を基材に塗工したのち、金属はくを積層することを特徴とするものである。本発明の金属張積層板は耐屈曲性において高弾性であることが望ましく、本発明の配合物は剛直な分子骨格を三次元的に硬化するため目的に適している。また、使用するポリアミドイミドもポリイミドに比べても高弾性であり強靭でありガラス転位点も高い樹脂であるため耐屈曲性が良い。また、液状エポキシと少量の合成ゴムを配合することにより金属張積層板成形時の流動性などが良好となる。
以下、本発明を実施例及び比較例により説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
(実施例1)
金属張積層板の樹脂組成物として、ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂(エポキシ当量280、日本化薬製NC−3000)30重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、ジャパンエポキシレジン製エピコート828)15重量部、可とう性エポキシ樹脂(エポキシ当量450、大日本インキ化学製EX−4850−150)20重量部、硬化剤にノボラック型フェノール樹脂(2核体量2.5%、フリーフェノール量0%、Mw/Mn=1.43、住友ベークライト製PR−NMD−103)13重量部、硬化促進剤に直鎖状2級アミン含有ノボラック型フェノール樹脂(OH当量135、大日本インキ化学製LA−7751)3重量部およびポリアミドイミド樹脂(分子量10000、Tg=280℃、東洋紡社製)を15重量部、ニトリルゴム(アクリロニトリル量27%、日本ゼオン製)3重量部及びシランカップリング剤0.5重量部をMEK及びブチルセルソルブとの混合溶剤に樹脂固形分が50%となるように溶解した。
この樹脂ワニスに無機フィラーとして水酸化アルミ(平均粒子径1μm、日本軽金属社製B1403)50重量部の割合で添加し、均一に分散するまで撹拌して配合物ワニスを作製した。
この配合物ワニスを厚み25μmのポリイミドフィルムの両面に各樹脂組成物の厚みが乾燥後、10μmとなるようにコンマロールコーターで塗工、80℃5分+125℃3分で乾燥し、次いで12μm厚の圧延銅はくを180℃でロールラミネーターにより積層した。185℃1時間の熱処理を行った後に、エッチングにより所定の評価用のプリント配線板を作成した。なお、難燃性評価には全面エッチングにより銅はくを除去した基板を評価用基板として得た。
金属張積層板の樹脂組成物として、ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂(エポキシ当量280、日本化薬製NC−3000)30重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、ジャパンエポキシレジン製エピコート828)15重量部、可とう性エポキシ樹脂(エポキシ当量450、大日本インキ化学製EX−4850−150)20重量部、硬化剤にノボラック型フェノール樹脂(2核体量2.5%、フリーフェノール量0%、Mw/Mn=1.43、住友ベークライト製PR−NMD−103)13重量部、硬化促進剤に直鎖状2級アミン含有ノボラック型フェノール樹脂(OH当量135、大日本インキ化学製LA−7751)3重量部およびポリアミドイミド樹脂(分子量10000、Tg=280℃、東洋紡社製)を15重量部、ニトリルゴム(アクリロニトリル量27%、日本ゼオン製)3重量部及びシランカップリング剤0.5重量部をMEK及びブチルセルソルブとの混合溶剤に樹脂固形分が50%となるように溶解した。
この樹脂ワニスに無機フィラーとして水酸化アルミ(平均粒子径1μm、日本軽金属社製B1403)50重量部の割合で添加し、均一に分散するまで撹拌して配合物ワニスを作製した。
この配合物ワニスを厚み25μmのポリイミドフィルムの両面に各樹脂組成物の厚みが乾燥後、10μmとなるようにコンマロールコーターで塗工、80℃5分+125℃3分で乾燥し、次いで12μm厚の圧延銅はくを180℃でロールラミネーターにより積層した。185℃1時間の熱処理を行った後に、エッチングにより所定の評価用のプリント配線板を作成した。なお、難燃性評価には全面エッチングにより銅はくを除去した基板を評価用基板として得た。
(実施例2)
硬化剤にノボラック型フェノール樹脂(三井化学製ミレックスXLC−LL)にした以外実施例1と同様にしてプリント配線板を得、同様に評価した。
硬化剤にノボラック型フェノール樹脂(三井化学製ミレックスXLC−LL)にした以外実施例1と同様にしてプリント配線板を得、同様に評価した。
(実施例3)
ノボラック型フェノール樹脂の硬化剤を住友ベークライト製PR−NMD−103を13重量部と三井化学製ミレックスXLC−LLを13重量部にした以外実施例1と同様にしてプリント配線板を得、同様に評価した。
ノボラック型フェノール樹脂の硬化剤を住友ベークライト製PR−NMD−103を13重量部と三井化学製ミレックスXLC−LLを13重量部にした以外実施例1と同様にしてプリント配線板を得、同様に評価した。
(実施例4)
無機フィラーとして、水酸化アルミ(日本軽金属社製B1403)45重量部と平均粒子径が5〜10μmのマイカ(コープケミカル社製MK−200)40重量部の混合物にした以外実施例1と同様にしてプリント配線板を得、同様に評価した。
無機フィラーとして、水酸化アルミ(日本軽金属社製B1403)45重量部と平均粒子径が5〜10μmのマイカ(コープケミカル社製MK−200)40重量部の混合物にした以外実施例1と同様にしてプリント配線板を得、同様に評価した。
(比較例1)
可とう性エポキシ樹脂の替わりにビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量170、大日本インキ化学製エピクロン830S)にした以外実施例1と同様にしてフレキシブルプリント配線板を得、同様に評価した。
可とう性エポキシ樹脂の替わりにビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量170、大日本インキ化学製エピクロン830S)にした以外実施例1と同様にしてフレキシブルプリント配線板を得、同様に評価した。
このようにして得られたプリント配線板の吸湿半田耐熱性、密着力、電気絶縁性、屈曲性、難燃性、反りを評価・測定し、その結果を表1に示す。
JIS規格C5016−10.3に順ずる。フクレ、剥がれのなかったものを○とした。
*密着力
JIS規格C5016−8.1に順ずる
*電気絶縁性
回路幅及び回路間幅をそれぞれ40μmとした櫛型パターンを用い、初期状態および65℃90%50V1000時間処理後の絶縁抵抗値を測定した。
*屈曲性
IPC法に準じる。R=2mm、1000rpm、ストローク15mmで屈曲回数が10万回以上のものを◎、7万5千回以上10万回未満のものを○、5万回以上7万5千回未満のものを△、5万回に満たなかったものを×とした。
*耐折性
MIT法に順ずる。R=0.4mm、荷重500g、裏全面エッチング、片面のみカバーレイありで基材の耐折性をみた。
*難燃性
UL法に基づき評価した。
*反り
個片に打ち抜いたフレキシブル配線板をJIS規格C6481−5.4に順じ、評価した。
最近、小型化に加えますます機能の充実が計られている携帯電話やデジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、DVDなどにはフレキシブルプリント配線板が必ず使われているといっても過言ではなく、その使用比率も増加の一途である。更には高機能化に伴ない高密度実装となっておりフレキシブルプリント配線板もファインピッチ化、多層化など進化をし続けている。本発明の金属張積層板はこのような用途のプリント配線板として利用される。また、本発明の組成物はハロゲンフリーのため、焼却時にダイオキシンの発生がなく、最近増えつつある環境対応製品に使用される。
Claims (18)
- 金属箔と、
基材と、
を層間接着剤を介して積層した金属張積層板であって、
前記層間接着剤がビフェニルアラルキルエポキシ樹脂と、ビスフェノール型エポキシ樹脂と、下記一般式(1)で表される可とう性エポキシ樹脂と、硬化剤と、下記一般式(2)で表される硬化促進剤とを含む樹脂組成物で構成されることを特徴とする金属張積層板。
- ポリアミドイミド樹脂をさらに含むものである請求項1に記載の金属張積層板。
- 前記ポリアミドイミド樹脂の分子量が、8000以上15000以下である請求項2に記載の金属張積層板。
- 合成ゴムをさらに含むものである請求項1ないし3のいずれかに記載の金属張積層板。
- 無機フィラーをさらに含む、請求項1ないし4のいずれかに記載の金属張積層板。
- 前記無機フィラーが、平均粒子径0.1μm以上10μm以下である請求項5に記載の金属張積層板。
- 前記無機フィラーが、水酸化アルミニウムである請求項5または6に記載の金属張積層板。
- 前記水酸化アルミニウムのアスペクト比が、20以上30以下の鱗片状である請求項7に記載の金属張積層板。
- 前記可とう性エポキシ樹脂のエポキシ当量が、300以上1500以下である請求項1ないし8のいずれかに記載の金属張積層板。
- 前記硬化剤は、下記一般式(3)および(4)で表されるフェノールノボラック樹脂のうち少なくとも一種類以上を含む、請求項1ないし9のいずれかに記載の金属張積層板。
- 前記ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂の含有量は、樹脂組成物230重量部に対して15重量部以上100重量部以下である請求項1ないし10のいずれかに記載の金属張積層板。
- 前記ビスフェノール型エポキシ樹脂の含有量は、樹脂組成物230重量部に対して15重量部以上90重量部以下である請求項1ないし11のいずれかに記載の金属張積層板。
- 前記可とう性エポキシ樹脂の含有量は、樹脂組成物230重量部に対して15重量部以上55重量部以下である請求項1ないし12のいずれかに記載の金属張積層板。
- 前記硬化剤の含有量は、樹脂組成物230重量部に対して10重量部以上100重量部以下である請求項1ないし13のいずれかに記載の金属張積層板。
- 前記硬化促進剤の含有量は、樹脂組成物230重量部に対して2重量部以上10重量部以下である請求項1ないし14のいずれかに記載の金属張積層板。
- 前記金属箔は、銅である請求項1ないし15のいずれかに記載の金属張積層板。
- 前記基材は、ポリイミド樹脂フィルムである請求項1ないし16のいずれかに記載の金属張積層板。
- 請求項1ないし17のいずれかに記載の金属張積層板の金属箔を回路加工することで得られるプリント配線板。
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